KR100645641B1 - Imprint mold for printed circuit board using ptfe and manufacturing method thereof - Google Patents

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홍명호
나승현
조재춘
곽정복
맹일상
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Abstract

An imprint mold for printed circuit board fabricated by using PTFE(polytetrafluoroethylene) is provided to embody the printed circuit board with excellent physical properties including releasing property, strength, thermal conductivity, durability, chemical-resistance, water-repellent property, self-lubrication, etc. by using electrolytic nickel plating solution dispersed with PTFE powder to form a nickel plated layer and having multiple via-holes and structure corresponding to circuit patterns. A method for fabricating imprint mold(300) comprises the steps of: (a) preparing a master mold(100) that includes multiple via-holes and patterns of a structure including circuit pattern; (b) forming a metal coating layer(200) on the master mold having the structure patterns; (c) preparing electrolytic nickel plating solution having PTFE(320) powder dispersion; (d) forming PTFE-charged nickel plating layer(310) by contacting the nickel plating solution with the master mold; (e) separating the nickel plating layer from the master mold; (f) heat-treating the separated nickel plating layer to partially decompose PTFE charged in the nickel plating layer.

Description

PTFE를 이용한 인쇄회로기판용 임프린트 몰드 및 그 제조방법 {Imprint mold for printed circuit board using PTFE and manufacturing method thereof}Imprint mold for printed circuit board using PTFE and manufacturing method

도 1a 내지 1b는 종래기술에 따른 니켈 임프린트 몰드의 이형처리과정을 설명하기 위한 도면이다.1A to 1B are views for explaining a release process of a nickel imprint mold according to the prior art.

도 2a 내지 2e는 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판용 임프린트 몰드의 제조과정을 설명하기 위한 도면이다.2a to 2e are views for explaining a manufacturing process of an imprint mold for a printed circuit board according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 인쇄회로기판용 임프린트 몰드의 제조과정 중 전해 니켈 도금과정을 설명하기 위한 도면이다.3 is a view for explaining an electrolytic nickel plating process of manufacturing an imprint mold for a printed circuit board according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 실시예 1∼3 및 비교예 1에 따라 제작된 임프린트 몰드의 패턴을 각각 현미경(×5)으로 관찰하여 나타낸 사진이다.4 is a photograph of observations of the patterns of the imprint molds produced according to Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 of the present invention, respectively, under a microscope (× 5).

도 5는 본 발명의 실시예 1∼3 및 비교예 1에 따라 제작된 임프린트 몰드의 표면을 각각 주사전자현미경(SEM: ×500∼1000)으로 관찰하여 나타낸 사진이다.5 is a photograph of the surface of the imprint mold prepared according to Examples 1 to 3 and Comparative Example 1 of the present invention observed with a scanning electron microscope (SEM: × 500 to 1000), respectively.

도 6a 및 도 6b는 각각 본 발명의 실시예 1 및 비교예 1에 따라 제작된 임프린트 몰드의 임프린트공정에의 반복사용시 몰드 표면의 변화를 관찰하여 나타낸 사진이다.6A and 6B are photographs showing changes in the mold surface during repeated use of an imprint mold manufactured according to Example 1 and Comparative Example 1 of the present invention, respectively.

도 7a 내지 도 7d는 본 발명의 실시예 1에 따라 제작된 임프린트 몰드 및 이 를 이용하여 임프린트된 필름 패턴의 3차원 측정값을 나타낸 도면이다.7A to 7D are views illustrating three-dimensional measurement values of an imprint mold manufactured according to Example 1 of the present invention and a film pattern imprinted using the same.

도 8a 내지 도 8d는 본 발명의 비교예 1에 따라 제작된 임프린트 몰드 및 이를 이용하여 임프린트된 필름 패턴의 3차원 측정값을 나타낸 도면이다.8A to 8D are diagrams illustrating three-dimensional measurement values of an imprint mold manufactured according to Comparative Example 1 of the present invention and an imprinted film pattern using the same.

※ 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ※※ Explanation of code about main part of drawing ※

10 : 임프린트용 몰드10: mold for imprint

20 : 이형층20: release layer

100 : 마스터 몰드100: master mold

200 : 금속 코팅층200: metal coating layer

300 : 임프린트용 니켈 몰드300: nickel mold for imprint

310 : 전해 니켈 도금층310: electrolytic nickel plating layer

320 : PTFE320: PTFE

311 : 니켈 전극311: nickel electrode

321 : PTFE 분말321: PTFE Powder

본 발명은 PTFE를 이용한 인쇄회로기판용 임프린트 몰드 및 그 제조방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로는 PTFE가 충전된 전해 니켈 도금층으로 이루어진 인쇄회로기판용 임프린트 몰드를 제작하여 반복사용에도 우수한 내구성 및 우수한 패턴 구현 특성을 갖는, PTFE를 이용한 인쇄회로기판용 임프린트 몰드 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to an imprint mold for a printed circuit board using PTFE and a method of manufacturing the same. More specifically, an imprint mold for a printed circuit board using PTFE and a method for manufacturing the same, which have excellent durability and excellent pattern realization characteristics even after repeated use by manufacturing an imprint mold made of PTFE-filled electrolytic nickel plating layer will be.

현재 전자 전기 기술은 21세기 고도 정보 통신 사회의 구현에 발 맞추기 위하여 더 많은 용량의 정보 저장, 더 빠른 정보 처리와 전송, 더 간편한 정보 통신망의 구축을 위해 빠르게 발전해가고 있다.Today, electronic and electric technology is rapidly evolving for more information storage, faster information processing and transmission, and simpler communication network to keep pace with the 21st century's high information and communication society.

특히, 주어진 정보 전송 속도의 유한성이라는 조건 하에서, 이러한 요구 조건을 충족시킬 수 있는 한 방법으로서 그 구성 소자들을 가능한 더욱 작게 구현하는 동시에 신뢰성을 높여 새로운 기능성을 부여하기 위한 방안이 제시되고 있다.In particular, under the condition of the finiteness of a given information transmission rate, as a method capable of meeting these requirements, a method for implementing the components as small as possible while increasing reliability and providing new functionality has been proposed.

상술한 바와 같이, 전자제품의 경박 단소화 추세에 따라 인쇄회로기판 역시 미세 패턴(fine pattern)화, 소형화 및 패키지화가 동시에 진행되고 있으며, 이에 따라 신호 처리 능력이 뛰어난 회로를 보다 좁은 면적에 구현하기 위해서 고밀도의 기판 제조에 대한 필요성이 대두되고 있다.As described above, in accordance with the trend of light and short size of electronic products, fine patterns, miniaturization, and packaging of printed circuit boards are also progressing simultaneously. Accordingly, a circuit having excellent signal processing capability in a smaller area may be implemented. To this end, the need for high-density substrate fabrication has emerged.

지금까지 가장 널리 사용되고 있는 미세 구조 제작 기술 중의 하나는 포토리소그라피(photolithography)로서, 포토 레지스트 박막이 입혀진 기판 위에 패턴을 형성시키는 방법이다.One of the most widely used microstructure fabrication techniques to date is photolithography, a method of forming a pattern on a substrate coated with a photoresist thin film.

하지만, UV 리소그라피 방법을 사용하여 기판을 제조할 때에는 회로로 사용되는 동박이 두꺼워야 한다는 점과 습식 에칭법을 사용해야 한다는 두 가지 제한점이 있기 때문에 UV 리소그라피로 10㎛ 이하의 미세 선폭을 형성할 경우 제품의 신뢰성이 떨어진다는 문제점을 안고 있다.However, when manufacturing a substrate using the UV lithography method, there are two limitations that the copper foil used as the circuit must be thick and the wet etching method is used. There is a problem that the reliability of the.

한편, 최근에는 인쇄회로기판의 집적도가 더욱 높아지는 추세이며 그에 따라 미세 패턴을 형성하는 방법에 대한 연구가 더욱 활발해지고 있는 바, 상술한 UV 리소그라피의 대체 공법으로서 임프린트 방법을 이용하여 고밀도의 기판을 제조하려는 시도가 주목을 받고 있다.On the other hand, in recent years, the integration degree of printed circuit boards has become higher and accordingly researches on a method of forming a fine pattern have become more active. Thus, a high-density substrate is manufactured using an imprint method as an alternative method of the above-described UV lithography. Attempts are being made.

이러한 임프린트 공정을 이용하여 인쇄회로기판과 같은 대면적의 기판을 제조할 경우에는 양산성을 위해서 대면적 임프린트 공정을 고려해야 하는데, 이 경우에 임프린트 몰드와 기판간의 이형문제가 꼭 해결해야할 문제로 대두되고 있다.When manufacturing a large-area substrate such as a printed circuit board using this imprint process, a large area imprint process should be considered for mass production. In this case, the release problem between the imprint mold and the substrate becomes a problem to be solved. have.

현재 이러한 임프린팅용 몰드 중 하나로 내구성이 우수하고 도금이 용이한 니켈 몰드의 사용이 증가되고 있으며, 따라서 니켈 몰드의 이형성을 향상시키기 위한 연구 역시 함께 진행되고 있다. Currently, the use of a nickel mold having excellent durability and easy plating as one of the imprinting molds is increasing, and thus, researches for improving releasability of the nickel mold are also being conducted.

이와 관련하여, 도 1a 내지 1b에 종래기술에 따른 임프린트용 니켈 몰드의 이형처리과정을 개략적으로 나타내었다.In this regard, Figures 1a to 1b schematically shows the release process of the nickel mold for imprint according to the prior art.

도 1a 내지 1b를 참조하면, 형성하고자 하는 복수의 비아 및 패턴에 대응되는 구조물이 표면에 형성된 니켈 몰드(10) 상에 에폭시계, 테프론계 또는 실리콘계와 같은 통상의 이형제를 스프레이법, 플라즈마 중합법(PECVD), SAM(Self Assembly Monolayer) 코팅법 또는 DLC(Diamond-Like Carbon)법과 같은 통상의 이형층 형성방법에 따라 이형처리하여 이형층(20)을 형성시킨다.1A to 1B, a conventional mold release agent such as epoxy, teflon or silicon is sprayed on a nickel mold 10 having a structure corresponding to a plurality of vias and patterns to be formed on a surface thereof; The release layer 20 is formed by a release process according to a conventional release layer forming method such as (PECVD), SAM (Self Assembly Monolayer) coating method or Diamond-Like Carbon (DLC) method.

그러나, 상술한 종래방식에 따라 이형성이 우수한 물질을 임프린트 몰드의 표면에 직접 결합시켜 임프린트 몰드를 제작하는 경우, 이형처리된 기판 상에 잔유물이 남거나 또는 몰드와 이형층 사이의 결합력이 약하여 반복적인 사용이 어렵고 고밀도의 패턴 구현 특성이 저하되는 문제점이 있다.However, when the imprint mold is manufactured by directly bonding a material having excellent mold release property to the surface of the imprint mold according to the above-described conventional method, the residue remains on the release-treated substrate or the bonding force between the mold and the release layer is repeatedly used. There is a problem that this difficult and high-density pattern implementation characteristics are degraded.

전술한 바와 같이, 종래기술에서는 몰드 상에 이형층을 직접 형성시키기 위한 방법에 초점을 맞추어 연구개발이 이루어졌을 뿐, 임프린트용 몰드 자체의 특성 개선을 통해서 이형성 뿐 아니라 강도 등의 제반 물성을 향상시키고자 하는 방안은 아직까지 소개된 바 없었다.As described above, in the prior art, research and development has been focused on a method for directly forming a release layer on a mold, and by improving the properties of the imprint mold itself, it is possible to improve not only mold release properties but also various physical properties such as strength. The plan to do so has not been introduced yet.

이에 본 발명에서는 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 광범위한 연구를 거듭한 결과, PTFE 분말을 분산시킨 전해 니켈 도금액을 이용하여 PTFE가 충전된 전해 니켈 도금층으로 이루어진 인쇄회로기판용 임프린트 몰드를 제작할 수 있었고, 본 발명은 이에 기초하여 완성되었다.Accordingly, in the present invention, as a result of extensive research to solve the above problems, it was possible to manufacture an imprint mold for a printed circuit board consisting of an electrolytic nickel plating layer filled with PTFE using an electrolytic nickel plating solution dispersed with PTFE powder, The present invention has been completed based on this.

따라서, 본 발명의 목적은 고이형성, 고강도, 고열전도도, 고내구성, 고내열성, 내화학성, 고발수성, 자기윤활성 및 내부식성 등의 제반물성이 우수한 인쇄회로기판용 임프린트 몰드 및 그 제조방법을 제공하는데 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide an imprint mold for a printed circuit board having excellent general properties such as high release property, high strength, high thermal conductivity, high durability, high heat resistance, chemical resistance, high water repellency, self-lubrication and corrosion resistance, and a manufacturing method thereof. It is.

본 발명의 다른 목적은 대면적의 인쇄회로기판 임프린트 공정에 반복사용시에도 우수한 내구성 및 우수한 패턴 구현 특성이 장기간 유지되어 고생산성과 고효율성으로 인쇄회로기판을 제작할 수 있는 인쇄회로기판용 임프린트 몰드 및 그 제조방법을 제공하는데 있다.Another object of the present invention is a printed circuit board imprint mold for manufacturing a printed circuit board with high productivity and high efficiency since the durability and excellent pattern realization characteristics are maintained for a long time even when repeated use in a large area printed circuit board imprint process and its manufacture To provide a method.

상기 목적 및 기타 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른, PTFE를 이용한 인쇄회로기판용 임프린트 몰드의 제조방법은:According to the present invention for achieving the above and other objects, a method of manufacturing an imprint mold for a printed circuit board using PTFE:

형성하고자 하는 복수의 비아 및 회로패턴에 대응되는 구조물이 표면에 형성된 인쇄회로기판용 임프린트 몰드의 제조방법에 있어서, In the method of manufacturing an imprint mold for a printed circuit board having a structure corresponding to a plurality of vias and circuit patterns to be formed on the surface,

(a) 형성하고자 하는 복수의 비아 및 회로패턴을 포함하는 구조물의 패턴이 형성된 마스터 몰드를 준비하는 단계; (a) preparing a master mold having a pattern of a structure including a plurality of vias and circuit patterns to be formed;

(b) 상기 구조물의 패턴이 형성된 마스터 몰드 상에 금속 코팅층을 형성시키는 단계; (b) forming a metal coating layer on the master mold on which the pattern of the structure is formed;

(c) PTFE(polytetrafluoroethylene) 분말이 분산되어 있는 전해 니켈 도금액을 제조하는 단계; (c) preparing an electrolytic nickel plating solution in which a polytetrafluoroethylene (PTFE) powder is dispersed;

(d) 상기 금속 코팅층이 형성된 마스터 몰드 상에 상기 전해 니켈 도금액을 접촉시켜 PTFE가 충전된 전해 니켈 도금층을 형성시키는 단계; (d) contacting the electrolytic nickel plating solution on the master mold on which the metal coating layer is formed to form an electrolytic nickel plating layer filled with PTFE;

(e) 상기 PTFE가 충전된 전해 니켈 도금층을 상기 마스터 몰드로부터 분리하는 단계; 및(e) separating the PTFE-filled electrolytic nickel plating layer from the master mold; And

(f) 상기 분리된 니켈 도금층을 열처리하여 도금층 내에 충전된 PTFE 중 적어도 일부를 분해시키는 단계;(f) heat treating the separated nickel plating layer to decompose at least a portion of the PTFE filled in the plating layer;

를 포함하는 것을 특징으로 한다.Characterized in that it comprises a.

여기서, 상기 PTFE 분말의 평균입경은 10 내지 100㎚인 것이 바람직하다.Here, it is preferable that the average particle diameter of the said PTFE powder is 10-100 nm.

상기 전해 니켈 도금액 중의 PTFE의 함유량은 5∼50㎎/L인 것이 바람직하다.It is preferable that content of PTFE in the said electrolytic nickel plating liquid is 5-50 mg / L.

상기 전해 니켈 도금층 형성단계는 분산제의 존재하에서 수행되는 것이 바람 직하다.The electrolytic nickel plating layer forming step is preferably carried out in the presence of a dispersant.

여기서, 상기 분산제는 양이온성 분산제 또는 음이온성 분산제이며, 바람직하게는 페닐기를 갖는 화합물이다.Here, the dispersant is a cationic dispersant or an anionic dispersant, preferably a compound having a phenyl group.

상기 전해 니켈 도금액 중의 분산제의 사용량은 PTFE 100중량부에 대하여 50 내지 200중량부인 것이 바람직하다.It is preferable that the usage-amount of the dispersing agent in the said electrolytic nickel plating liquid is 50-200 weight part with respect to 100 weight part of PTFE.

한편, 상기 전해 니켈 도금액 제조단계는 상기 PTFE 분말이 분산되어 있는 전해 니켈 도금액을 30분 내지 1시간 동안 초음파 처리하는 단계를 더욱 포함할 수 있다.On the other hand, the electrolytic nickel plating solution manufacturing step may further include the step of sonicating the electrolytic nickel plating solution in which the PTFE powder is dispersed for 30 minutes to 1 hour.

상기 전해 니켈 도금액 제조단계는 또한 상기 초음파 처리단계 후 전해 니켈 도금액을 필터링하여 뭉쳐 있는 PTFE를 분리, 제거하는 단계를 더욱 포함할 수 있다.The manufacturing of the electrolytic nickel plating solution may further include a step of separating and removing the PTFE that is bound by filtering the electrolytic nickel plating solution after the sonication step.

한편, 상기 분리된 니켈 도금층의 열처리단계는 300∼400℃의 온도하에서 1∼3시간동안 수행되는 것이 바람직하다.On the other hand, the heat treatment step of the separated nickel plating layer is preferably performed for 1 to 3 hours at a temperature of 300 ~ 400 ℃.

상기 목적 및 기타 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른, PTFE를 이용한 인쇄회로기판용 임프린트 몰드는:According to the present invention for achieving the above and other objects, an imprint mold for a printed circuit board using PTFE:

형성하고자 하는 복수의 비아 및 회로패턴에 대응되는 구조물이 표면에 형성된 인쇄회로기판용 임프린트 몰드에 있어서, In the imprint mold for a printed circuit board having a structure corresponding to a plurality of vias and circuit patterns to be formed on the surface,

상기 몰드가 PTFE가 충전된 전해 니켈 도금층으로 이루어지되, 상기 충전된 PTFE 중 적어도 일부가 몰드의 열처리 과정을 통해서 분해되어 몰드의 중앙 부위보다 내부 표면에서 더 높은 불소 밀도를 갖는 것을 특징으로 한다.The mold is composed of a PTFE-filled electrolytic nickel plating layer, wherein at least a portion of the filled PTFE is decomposed through the heat treatment process of the mold to have a higher fluorine density on the inner surface than the central portion of the mold.

이하, 본 발명을 첨부된 도면을 참조하여 좀 더 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

도 2a 내지 2e는 본 발명의 일 실시예에 따른 임프린트 몰드의 제조과정을 설명하기 위한 도면이다.2A to 2E are views for explaining a manufacturing process of an imprint mold according to an embodiment of the present invention.

본 발명에 따르면, 우선, 형성하고자 하는 복수의 비아 및 회로패턴을 포함하는 구조물의 패턴이 형성된 마스터 몰드(100)를 준비한다(도 2a 참조).According to the present invention, first, a master mold 100 having a pattern of a structure including a plurality of vias and circuit patterns to be formed is prepared (see FIG. 2A).

이때, 상기 마스터 몰드(100)는 얻고자 하는 임프린트용 니켈 몰드(200)의 패턴의 요철과 반대로 형성하며, 상기 마스터 몰드(100)의 재질은 실리콘 또는 다이아몬드 또는 석영 유리와 같이 재질의 강도가 높은 것으로 하는 것이 전형적이다.In this case, the master mold 100 is formed to be opposite to the irregularities of the pattern of the nickel mold 200 for imprint to be obtained, the material of the master mold 100 is high in strength, such as silicon, diamond or quartz glass It is typical to make it.

다음, 상기 구조물의 패턴이 형성된 마스터 몰드(100) 상에 금속 코팅층(200)을 형성시킨다(도 2b 참조).Next, a metal coating layer 200 is formed on the master mold 100 on which the pattern of the structure is formed (see FIG. 2B).

상기 금속 코팅층(200)은 후속 공정인 전해 니켈 도금을 수행하기 위하여 제공되는 도전층으로서, 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 알려진 방법이라면 특별히 한정되지 않고 적용될 수 있다. 그 일례로는 Cu, Ti 또는 Cr 등의 금속을 증착법 또는 물리적 기상 증착(physical vapor deposition; PVD)법을 통해서 코팅하여 수행될 수 있다. 상기 금속 코팅층(200)의 두께는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 0.01∼1㎛인 것이 효율 대비 경제적 측면에서 가장 적합하다.The metal coating layer 200 is a conductive layer provided to perform electrolytic nickel plating, which is a subsequent process, and may be applied without particular limitation as long as it is a method known by those skilled in the art. For example, the coating may be performed by coating a metal such as Cu, Ti, or Cr through a vapor deposition method or a physical vapor deposition (PVD) method. The thickness of the metal coating layer 200 is not particularly limited, but 0.01 to 1㎛ is most suitable in terms of efficiency compared to the efficiency.

다음, 테플론(teflon)이라 기술되기도 하는 PTFE(polytetrafluoroethylene) 분말이 분산되어 있는 전해 니켈 도금액을 제조한다.Next, an electrolytic nickel plating solution in which a polytetrafluoroethylene (PTFE) powder, also referred to as teflon, is dispersed is prepared.

본 발명의 바람직한 일 구체예에 따르면, 상기 전해 니켈 도금액의 제조는 Ni Watt욕에 나노크기의 PTFE 분말을 넣고 분산제의 존재하에서 30분 내지 1시간 동안 초음파 처리하여 PTFE 분말을 분산시킨 후, 필터링하여 뭉쳐 있는 PTFE를 분리, 제거하여 수행될 수 있다.According to one preferred embodiment of the present invention, the preparation of the electrolytic nickel plating solution is to put a nano-size PTFE powder in a Ni Watt bath and sonicated for 30 minutes to 1 hour in the presence of a dispersant to disperse the PTFE powder, then filtered It can be performed by separating and removing the aggregated PTFE.

여기서, 상기 PTFE 분말의 평균입경은 10 내지 100㎚인 것이 바람직하다. 상기 PTFE 분말의 평균입경이 10㎚ 미만인 경우에는 제작이 용이하지 않고, 100㎚를 초과하는 경우에는 인쇄회로기판의 패턴(∼10㎛) 구현에 영향을 미칠 수 있다.Here, it is preferable that the average particle diameter of the said PTFE powder is 10-100 nm. If the average particle diameter of the PTFE powder is less than 10nm, it is not easy to manufacture, if it exceeds 100nm may affect the implementation of the pattern (~ 10㎛) of the printed circuit board.

상기 전해 니켈 도금액 중의 PTFE의 함유량은 5∼50㎎/L인 것이 바람직하다. 상기 PTFE의 함유량이 5㎎/L 미만인 경우에는 이형특성 향상이 미미하고, 50㎎/L를 초과하는 경우에는 분산이 용이하지 않다.It is preferable that content of PTFE in the said electrolytic nickel plating liquid is 5-50 mg / L. When the content of PTFE is less than 5 mg / L, the release property improvement is insignificant, and when it exceeds 50 mg / L, dispersion is not easy.

한편, 상기 분산제로는 양이온성 분산제 또는 음이온성 분산제를 사용할 수 있는데, 보다 바람직하게는 페닐기를 갖는 분산제로서, 그 일례로는 BKC(Benzalkonium Chloride), NaDDBS(Sodium Dodecylbenzene Sulfonate), TritonX(ACROS organics) 등을 들 수 있으나, 특별히 이에 한정되는 것은 아니다.On the other hand, the dispersant may be a cationic dispersant or an anionic dispersant, more preferably as a dispersant having a phenyl group, for example, Benzalkonium Chloride (BKC), Sodium Dodecylbenzene Sulfonate (NaDDBS), TritonX (ACROS organics) Etc., but is not particularly limited thereto.

여기서, 상기 전해 니켈 도금액 중의 분산제의 사용량은 PTFE 100중량부에 대하여 50 내지 200중량부인 것이 바람직하다. 상기 분산제의 사용량이 50중량부 미만인 경우에는 상기 PTFE 분말을 균일하게 분산시킬 수 없고, 200중량부를 초과하는 경우에는 분산제의 양이 과도하여 오히려 분산이 잘 되지 않고 전해 도금과정에 악영향을 미칠 수 있다.Here, it is preferable that the usage-amount of the dispersing agent in the said electrolytic nickel plating liquid is 50-200 weight part with respect to 100 weight part of PTFE. If the amount of the dispersant is less than 50 parts by weight, the PTFE powder may not be uniformly dispersed. If the amount of the dispersant is more than 200 parts by weight, the amount of the dispersant may be excessive, resulting in poor dispersion and adversely affect the electroplating process. .

다음, 상술한 바에 따라 PTFE 분말(321)이 분산된 전해 니켈 도금욕에서 니 켈전극(311)을 양극에 연결하고 마스터 몰드(100)를 음극에 연결하여(도 3 참조), 상기 금속 코팅층(200)이 형성된 마스터 몰드(100) 상에 상기 전해 니켈 도금액을 접촉시켜 PTFE(320)가 충전된 전해 니켈 도금층(310)을 형성시킨다(도 2c 참조).Next, in the electrolytic nickel plating bath in which the PTFE powder 321 is dispersed as described above, the nickel electrode 311 is connected to the anode and the master mold 100 is connected to the cathode (see FIG. 3). The electrolytic nickel plating solution is contacted on the master mold 100 having the 200 formed thereon to form an electrolytic nickel plating layer 310 filled with PTFE 320 (see FIG. 2C).

여기서, 상기 전해 니켈 도금과정은 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 알려진 방법이라면 특별히 한정되지 않고 적용될 수 있다.Here, the electrolytic nickel plating process may be applied without particular limitation as long as it is a method known by those skilled in the art.

다음, 상기 PTFE(320)가 충전된 전해 니켈 도금층(310)으로 이루어진 니켈 몰드(300)를 상기 마스터 몰드(100)로부터 분리한다(도 2d 참조).Next, the nickel mold 300 composed of the electrolytic nickel plating layer 310 filled with the PTFE 320 is separated from the master mold 100 (see FIG. 2D).

마지막으로, 상기 분리된 니켈 몰드(300)를 열처리하여 도금층(310) 내에 충전된 PTFE(320) 중 적어도 일부를 분해시켜 중앙 부위보다 내부 표면에서 더 높은 불소 밀도를 갖는 니켈 몰드(300)를 완성한다(도 2e 참조).Finally, the separated nickel mold 300 is heat-treated to decompose at least a part of the PTFE 320 filled in the plating layer 310 to complete the nickel mold 300 having a higher fluorine density on the inner surface than the central portion. (See FIG. 2E).

여기서, 상기 분리된 니켈 몰드(300)의 열처리 과정은 300∼400℃의 온도하에서 1∼3시간동안 수행되는 것이 Ni과 PTFE 간의 충분한 상호작용을 가능하도록 하여 PTFE를 분해시키는데 가장 적합하다.Here, the heat treatment process of the separated nickel mold 300 is most suitable to decompose PTFE by performing a sufficient time between Ni and PTFE to be performed for 1 to 3 hours at a temperature of 300 to 400 ° C.

이와 같이 제조된 본 발명에 따른 니켈 임프린트 몰드는 그 내표면의 불소 밀도가 높기 때문에 소수성을 나타내어 좋은 이형특성을 보인다. 뿐만 아니라, 니켈 금속 자체의 특성과 그 내부에 충전제가 채워짐에 따른 상승 효과에 기인하여 고강도, 고열전도도, 고내구성, 고내열성, 내화학성, 고발수성, 자기윤활성 및 내부식성 등의 제반물성이 우수하다.The nickel imprint mold according to the present invention prepared as described above has high fluorine density on the inner surface thereof, and thus shows hydrophobicity and shows good release characteristics. In addition, due to the properties of the nickel metal itself and the synergistic effect of filling the filler therein, excellent physical properties such as high strength, high thermal conductivity, high durability, high heat resistance, chemical resistance, high water repellency, self-lubrication and corrosion resistance Do.

또한, 이러한 우수한 특성에 기인하여, 통상의 증착법을 통해서 몰드 표면에 형성된 이형제층을 갖는 니켈 몰드에 비하여 인쇄회로기판과 같은 대면적에 반복사 용시에도 우수한 내구성 및 고밀도의 패턴 구현 특성을 나타낸다.In addition, due to such excellent characteristics, it exhibits excellent durability and high-density pattern implementation characteristics even when repeated use in a large area such as a printed circuit board compared to the nickel mold having a release agent layer formed on the mold surface through a conventional deposition method.

아울러, 몰드 자체의 내구성이 우수하고, 고밀도, 고신뢰성의 패턴 구현 특성이 장기간 유지되어 고생산성과 고효율성으로 인쇄회로기판을 제작할 수 있는 이점이 있다.In addition, the mold itself is excellent in durability, high density, high reliability pattern implementation characteristics are maintained for a long time there is an advantage that can be produced a printed circuit board with high productivity and high efficiency.

이하 하기 실시예를 통하여 본 발명을 좀 더 구체적으로 설명하지만 이에 본 발명의 범주가 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the scope of the present invention is not limited thereto.

실시예 1Example 1

미세 패턴이 형성되어 있는 실리콘 마스터 몰드 상에 스퍼터링법을 이용하여 0.1㎛의 두께를 갖는 알루미늄층을 형성시켰다.An aluminum layer having a thickness of 0.1 μm was formed on the silicon master mold on which the fine patterns were formed by the sputtering method.

다음, 약 50㎚의 평균입경을 갖는 테프론(듀폰사) 분말 15㎎/L와 분산제로서 BKC(Benzalkonium Chloride, ALDRICH) 약 15㎎/L를 전해 니켈 도금액인 Ni Watt 4L에 넣고 약 30분 동안 초음파 처리한 후, 필터링하여 분산되지 않고 뭉쳐 있는 테프론을 분리, 제거하여 테프론이 분산된 전해 니켈 도금액을 제조하였다.Next, 15 mg / L of Teflon (Dupont) powder having an average particle diameter of about 50 nm and about 15 mg / L of BKC (Benzalkonium Chloride, ALDRICH) as a dispersant were added to Ni Watt 4L, an electrolytic nickel plating solution, and ultrasonic for about 30 minutes. After the treatment, the Teflon, which was not dispersed and separated by filtering, was separated and removed to prepare an electrolytic nickel plating solution in which Teflon was dispersed.

다음, 도 3에 나타낸 바와 같은 전해 니켈 도금 장치를 이용하여, 상기 알루미늄층이 형성된 마스터 몰드 상에 약 40∼50℃의 온도에서 상기 전해 니켈 도금액을 60∼120분 동안 접촉시켜 테프론이 충전된 전해 니켈도금층을 형성하였다.Next, using the electrolytic nickel plating apparatus as shown in FIG. 3, the electrolytic nickel plating solution was contacted for 60 to 120 minutes at a temperature of about 40 to 50 ° C. on the master mold on which the aluminum layer was formed to be filled with Teflon-filled electrolysis. A nickel plated layer was formed.

다음, 상기 테프론이 충전된 전해 니켈 도금층을 상기 마스터 몰드로부터 분리한 후, 약 300℃의 온도에서 약 2시간 동안 열처리하여 본 발명에 따른 임프린트 용 니켈 몰드를 제작하였다.Next, the electrolytic nickel plated layer filled with the Teflon was separated from the master mold, and then heat-treated at a temperature of about 300 ° C. for about 2 hours to prepare a nickel mold for imprint according to the present invention.

실시예 2Example 2

미세 패턴이 형성되어 있는 실리콘 마스터 몰드 상에 스퍼터링법을 이용하여 0.1㎛의 두께를 갖는 티타늄층을 형성시켰다.A titanium layer having a thickness of 0.1 μm was formed on the silicon master mold on which the fine patterns were formed by the sputtering method.

다음, 약 50㎚의 평균입경을 갖는 테프론(듀폰사) 분말 15㎎/L와 분산제로서 BKC(Benzalkonium Chloride, ALDRICH) 약 15㎎/L를 전해 니켈 도금액인 Ni Watt 4L에 넣고 약 30분 동안 초음파 처리한 후, 필터링하여 분산되지 않고 뭉쳐 있는 테프론을 분리, 제거하여 테프론이 분산된 전해 니켈 도금액을 제조하였다.Next, 15 mg / L of Teflon (Dupont) powder having an average particle diameter of about 50 nm and about 15 mg / L of BKC (Benzalkonium Chloride, ALDRICH) as a dispersant were added to Ni Watt 4L, an electrolytic nickel plating solution, and ultrasonic for about 30 minutes. After the treatment, the Teflon, which was not dispersed and separated by filtering, was separated and removed to prepare an electrolytic nickel plating solution in which Teflon was dispersed.

다음, 도 3에 나타낸 바와 같은 전해 니켈 도금 장치를 이용하여, 상기 알루미늄층이 형성된 마스터 몰드 상에 약 40∼50℃의 온도에서 상기 전해 니켈 도금액을 60∼120분 동안 접촉시켜 테프론이 충전된 전해 니켈도금층을 형성하였다.Next, using the electrolytic nickel plating apparatus as shown in FIG. 3, the electrolytic nickel plating solution was contacted for 60 to 120 minutes at a temperature of about 40 to 50 ° C. on the master mold on which the aluminum layer was formed to be filled with Teflon-filled electrolysis. A nickel plated layer was formed.

다음, 상기 테프론이 충전된 전해 니켈 도금층을 상기 마스터 몰드로부터 분리한 후, 약 350℃의 온도에서 약 2시간 동안 열처리하여 본 발명에 따른 임프린트용 니켈 몰드를 제작하였다.Next, the electrolytic nickel plated layer filled with the Teflon was separated from the master mold, and then heat-treated at a temperature of about 350 ° C. for about 2 hours to prepare a nickel mold for imprint according to the present invention.

실시예 3Example 3

미세 패턴이 형성되어 있는 실리콘 마스터 몰드 상에 스퍼터링법을 이용하여 0.1㎛의 두께를 갖는 알루미늄층을 형성시켰다.An aluminum layer having a thickness of 0.1 μm was formed on the silicon master mold on which the fine patterns were formed by the sputtering method.

다음, 50㎚의 평균입경을 갖는 테프론(듀폰사) 분말 20㎎/L와 분산제로서 NaDDBS 30㎎/L를 전해 니켈 도금액인 Ni Watt 4L에 넣고 약 30분 동안 초음파 처리한 후, 필터링하여 분산되지 않고 뭉쳐 있는 테프론을 분리, 제거하여 테프론이 분산된 전해 니켈 도금액을 제조하였다.Next, 20 mg / L of Teflon (Dupont) powder having an average particle diameter of 50 nm and NaDDBS 30 mg / L as a dispersant were placed in Ni Watt 4L, which is an electrolytic nickel plating solution, sonicated for about 30 minutes, and then filtered and dispersed. Teflon was separated and removed to prepare an electrolytic nickel plating solution in which Teflon was dispersed.

다음, 도 3에 나타낸 바와 같은 전해 니켈 도금 장치를 이용하여, 상기 알루미늄층이 형성된 마스터 몰드 상에 약 40∼50℃의 온도에서 상기 전해 니켈 도금액을 60∼120분 동안 접촉시켜 테프론이 충전된 전해 니켈도금층을 형성하였다.Next, using the electrolytic nickel plating apparatus as shown in FIG. 3, the electrolytic nickel plating solution was contacted for 60 to 120 minutes at a temperature of about 40 to 50 ° C. on the master mold on which the aluminum layer was formed to be filled with Teflon-filled electrolysis. A nickel plated layer was formed.

다음, 상기 테프론이 충전된 전해 니켈 도금층을 상기 마스터 몰드로부터 분리한 후, 약 300℃의 온도에서 약 2시간 동안 열처리하여 본 발명에 따른 임프린트용 니켈 몰드를 제작하였다.Next, the electrolytic nickel plated layer filled with the Teflon was separated from the master mold, and then heat-treated at a temperature of about 300 ° C. for about 2 hours to prepare a nickel mold for imprint according to the present invention.

※ 물성 측정 ※※ Physical property measurement ※

상기 실시예 1∼3에서 제작된 테프론이 충전된 니켈 몰드와, 테프론이 충전되지 않은 통상의 니켈 몰드(비교예 1)를 사용하여 다음과 같은 방법을 통해서 이형성, 내구성 및 패턴 구현 특성을 각각 평가하였고, 이로부터 얻어진 결과를 하기 표 1에 나타내었다.Evaluation of mold release properties, durability, and pattern implementation characteristics using the following method using the Teflon-filled nickel molds prepared in Examples 1 to 3 and a conventional nickel mold (Comparative Example 1) not filled with Teflon, respectively, were as follows. The results obtained therefrom are shown in Table 1 below.

(1) 이형성 평가방법 : 표면에 잔류물 확인(현미경, SEM, EDS, 질량측정) (1) Evaluation method of release property: Confirmation of residue on the surface (microscope, SEM, EDS, mass measurement)

→ 현미경을 통한 표면관찰(×5)(도 4), SEM을 통한 표면관찰(실시예 1: ×500, 실시예 2∼3 및 비교예 1 : ×1000)(도 5), EDS를 통한 표면잔류물질 분석, 이형전과 이형후의 몰드 무게특정을 통한 잔류물 확인≧ surface observation through a microscope (× 5) (FIG. 4), surface observation through an SEM (Example 1: × 500, Examples 2-3 and Comparative Example 1: × 1000) (FIG. 5), surface via EDS Residual material analysis, residue identification through mold release before and after release

(2) 내구성 평가방법 : 이형반복실험(2) Evaluation Method of Durability: Release Repeat Test

→ 동일 몰드로 이형반복성 측정(도 6)→ release repeatability measurement with the same mold (FIG. 6)

(3) 패턴 구현 특성 평가방법 : SEM, 3D 측정기(3) Evaluation method of pattern implementation characteristics: SEM, 3D measuring machine

→ SEM을 통한 전사패턴확인(도 5), 3D 측정기를 통한 패턴전사확인(도 7)→ Transfer pattern confirmation through SEM (Fig. 5), pattern transfer confirmation through 3D measuring machine (Fig. 7)

실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 비교예 1Comparative Example 1 현미경 관찰Microscopic observation 양호Good 양호Good 양호Good 불량Bad 3D 측정기3D Measuring Machine 양호Good 양호Good 양호Good 불량Bad SEMSEM 양호Good 양호Good 양호Good 불량Bad 질량측정 1) Mass measurement 1) 1.25㎎1.25mg 2.4㎎2.4mg 1.04㎎1.04 mg 48㎎48mg

1) 이형전과 이형후의 몰드의 무게 차 측정 1) Measurement of weight difference between mold before and after mold release

도 6a 및 도 6b는 각각 본 발명의 실시예 1 및 비교예 1에 따라 제작된 임프린트 몰드의 인쇄회로기판 임프린트공정에의 3회 반복사용시 몰드 표면의 변화를 관찰하여 나타낸 사진으로서, 이를 참조하면, 본 발명의 실시예 1에 따른 몰드의 경우 반복 사용에도 별다른 변화가 없으나, 비교예 1에 따른 몰드의 경우 1회 사용 후 2회 사용시부터 몰드에 필름이 접착되는 현상이 발생됨을 확인할 수 있었다.6A and 6B are photographs showing observations of changes in the mold surface during repeated use of an imprint mold manufactured according to Example 1 and Comparative Example 1 of the present invention in a printed circuit board imprint process, respectively. In the case of the mold according to Example 1 of the present invention, there was no change in repeated use, but in the case of the mold according to Comparative Example 1, it was confirmed that a phenomenon in which the film adhered to the mold occurred after two uses.

도 7a 내지 도 7d는 본 발명의 실시예 1에 따라 제작된 임프린트 몰드(도 7a 및 7b) 및 이를 이용한 임프린트 공정을 통해서 형성된 필름 패턴(도 7c 및 7d)의 3차원 측정값을 나타낸 도면으로서, 이를 참조하여 본 발명의 실시예 1에 따라 제작된 임프린트 몰드의 패턴 구현 특성을 설명하면 다음과 같다.7A to 7D are diagrams illustrating three-dimensional measurement values of an imprint mold (FIGS. 7A and 7B) manufactured according to Example 1 of the present invention and a film pattern (FIGS. 7C and 7D) formed through an imprint process using the same. Referring to this, the pattern implementation characteristics of the imprint mold manufactured according to the first embodiment of the present invention are as follows.

도 7a는 레이저 프로파일러(laser profiler)를 이용하여 측정된 몰드의 두께 측정치로서, 마스터 몰드의 디자인(13∼17㎛)하고 약간의 차이를 보이나 균일하게 제작되었음을 알 수 있다.FIG. 7A is a thickness measurement of a mold measured using a laser profiler, which shows that the design of the master mold (13 to 17 μm) is slightly different but uniformly manufactured.

도 7b는 레이저를 이용하여 몰드의 형상을 3D로 나타낸 도면으로서, 몰드의 패턴이 균일하게 제작되었음을 보여준다. Figure 7b is a 3D view of the shape of the mold using a laser, showing that the pattern of the mold is produced uniformly.

도 7c는 레이저 프로파일러를 이용하여 측정된, 상기 임프린트 몰드를 이용한 임프린트 공정을 통해서 실제 형성된 필름 패턴의 두께 측정치로서, 몰드의 측정치(11㎛)하고 약간의 차이를 보이나 절연 필름에 패턴이 잘 전사 되었음을 알 수 있다(약 10㎛ 정도의 패턴 깊이가 형성됨).7C is a thickness measurement of a film pattern actually formed through an imprint process using the imprint mold, measured using a laser profiler, and shows a slight difference from the measurement of the mold (11 μm), but the pattern is well transferred to the insulating film. It can be seen that (depth of about 10㎛ pattern is formed).

도 7d는 레이저를 이용하여 상기 임프린트 몰드를 이용한 임프린트 공정을 통해서 실제 형성된 필름 패턴의 형상을 3D로 나타낸 도면으로서, 전사패턴이 균일하게 형성되었음을 알 수 있다.FIG. 7D illustrates the shape of the film pattern actually formed through the imprint process using the imprint mold using a laser in 3D. It can be seen that the transfer pattern is uniformly formed.

도 8a 내지 도 8d는 본 발명의 비교예 1에 따라 제작된 임프린트 몰드(도 8a 및 8b) 및 이를 이용한 임프린트 공정을 통해서 형성된 필름 패턴(도 8c 및 8d)의 3차원 측정값을 나타낸 도면으로서, 이를 참조하여 비교예 1에 따라 제작된 임프린트 몰드의 패턴 구현 특성을 설명하면 다음과 같다.8A to 8D illustrate three-dimensional measurement values of an imprint mold (FIGS. 8A and 8B) manufactured according to Comparative Example 1 of the present invention and a film pattern (FIGS. 8C and 8D) formed through an imprint process using the same. Referring to this, the pattern implementation characteristics of the imprint mold manufactured according to Comparative Example 1 are as follows.

도 8a는 레이저 프로파일러를 이용하여 측정된 몰드의 두께 측정치로서, 마스터 몰드의 디자인(13∼17㎛)하고 많은 차이(∼9㎛)를 보이며 불균일하게 제작되었음을 알 수 있다.FIG. 8A is a thickness measurement of a mold measured using a laser profiler, and it can be seen that the design of the master mold (13 to 17 μm) and a large difference (˜9 μm) are produced unevenly.

도 8b는 레이저를 이용하여 몰드의 형상을 3D로 나타낸 도면으로서, 몰드의 패턴이 불균일하게 제작되었음을 보여준다(색상이 불균일함).8B is a 3D view of the shape of the mold using a laser, showing that the pattern of the mold is produced unevenly (the color is uneven).

도 8c는 레이저 프로파일러를 이용하여 측정된, 상기 임프린트 몰드를 이용한 임프린트 공정을 통해서 실제 형성된 필름 패턴의 두께 측정치로서, 몰드의 측정치(11㎛)하고 많은 차이를 보이며, 절연 필름에 패턴이 잘 형성되지 않았음을 알 수 있다(약 6㎛ 정도로 전사됨).FIG. 8C is a thickness measurement value of a film pattern actually formed through an imprint process using the imprint mold measured using a laser profiler, and shows a large difference from the measurement value of the mold (11 μm), and a pattern is well formed on an insulating film. It can be seen that it is not (transferred about 6㎛).

도 8d는 레이저를 이용하여 상기 임프린트 몰드를 이용한 임프린트 공정을 통해서 실제 형성된 필름 패턴의 형상을 3D로 나타낸 도면으로서, 전사패턴이 균일하지 않음을 알 수 있다(색상이 불균일함).FIG. 8D illustrates the shape of the film pattern actually formed through the imprint process using the imprint mold using a laser in 3D, and it can be seen that the transfer pattern is not uniform (color is not uniform).

상술한 바와 같은 결과 데이타로부터, 본 발명에 따른 PTFE가 충전된 전해 니켈 도금층으로 이루어진 임프린트용 몰드의 경우, PTFE가 충전되지 않은 통상의 니켈 몰드에 비하여 이형성, 내구성 및 패턴 구현 특성이 우수함을 알 수 있었다. From the result data as described above, it can be seen that the imprint mold composed of the electrolytic nickel plating layer filled with PTFE according to the present invention has superior releasability, durability, and pattern realization characteristics as compared with a conventional nickel mold without PTFE filled. there was.

이상 본 발명을 구체적인 실시예를 통하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명을 구체적으로 설명하기 위한 것으로, 본 발명에 따른 PTFE를 이용한 인쇄회로기판용 임프린트 몰드 및 그 제조방법은 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의해 그 변형이나 개량이 가능함이 명백하다.Although the present invention has been described in detail with reference to specific examples, this is for explaining the present invention in detail, and the imprint mold for a printed circuit board using the PTFE according to the present invention and a manufacturing method thereof are not limited thereto. It is apparent that modifications and improvements are possible by those skilled in the art within the technical idea.

전술한 바와 같이, 본 발명에 따르면, PTFE 분말을 분산시킨 전해 니켈 도금액을 이용하여 PTFE가 충전된 전해 니켈 도금층으로 이루어진 임프린트용 니켈 몰드를 제작한 후, 열처리과정을 통해서 몰드 내부에 충전된 PTFE 중 적어도 일부를 열분해시켜 그 내표면에 고밀도의 불소가 배치된 인쇄회로기판용 니켈 임프린트 몰드를 제공한다. As described above, according to the present invention, an imprint nickel mold made of an electrolytic nickel plating layer filled with PTFE is prepared using an electrolytic nickel plating solution in which PTFE powder is dispersed, and then, among the PTFE filled in the mold through a heat treatment process. Pyrolysis of at least a portion thereof provides a nickel imprint mold for a printed circuit board having a high density of fluorine disposed on an inner surface thereof.

상기 인쇄회로기판용 니켈 임프린트 몰드는 내표면의 고밀도 불소에 의해 나타나는 소수성 특징에 따라 이형특성이 우수할 뿐 아니라, 니켈 금속 자체의 특성과 그 내부에 충전제가 채워짐에 따른 상승 효과에 의하여 고강도, 고열전도도, 고내구성, 고내열성, 내화학성, 고발수성, 자기윤활성 및 내부식성 등의 제반물성이 우수하다.The printed circuit board nickel imprint mold has excellent release characteristics according to the hydrophobic characteristics exhibited by high density fluorine on the inner surface, and also has high strength and high temperature due to the synergistic effect of the nickel metal itself and the filling of the filler therein. Excellent physical properties such as conductivity, high durability, high heat resistance, chemical resistance, high water repellency, self-lubrication and corrosion resistance.

또한, 이러한 우수한 물성적 특성에 기인하여, 통상의 증착법을 통해서 형성된 이형제층을 갖는 니켈 몰드에 비하여 인쇄회로기판과 같은 대면적에 반복사용시에도 고밀도의 패턴을 구현할 수 있는 장점이 있다.In addition, due to such excellent physical properties, there is an advantage that a high density pattern can be realized even when repeated use in a large area such as a printed circuit board compared to the nickel mold having a release agent layer formed through a conventional deposition method.

아울러, 몰드 자체의 내구성이 우수하고, 고밀도, 고신뢰성의 패턴 구현 특성이 장기간 유지되어 고생산성과 고효율성으로 인쇄회로기판을 제작할 수 있는 이점이 있다.In addition, the mold itself is excellent in durability, high density, high reliability pattern implementation characteristics are maintained for a long time there is an advantage that can be produced a printed circuit board with high productivity and high efficiency.

이에 따라, 본 발명의 임프린트용 니켈 몰드는, 통상의 나노 임프린트 방법에 적용하는 경우와는 달리, 형성하고자 하는 복수의 비아 및 패턴에 대응되는 구조물의 크기가 마이크론(㎛) 차수(예를 들어, line/space≤10㎛/10㎛, Microvia≤ 30㎛)이고 대면적에의 적용이 요구되는 인쇄회로기판에 적용하는 경우에도 우수한 이형 특성 및 내구성을 가질 뿐 아니라, 몰드의 이형성이 장기간 유지되어 공정에 필요한 이형 처리 시간 및 비용을 획기적으로 줄일 수 있다.Accordingly, unlike the case where the imprint nickel mold of the present invention is applied to a conventional nanoimprint method, the size of a structure corresponding to a plurality of vias and patterns to be formed has a micron order (for example, line / space≤10㎛ / 10㎛, Microvia≤30㎛) and it has excellent release characteristics and durability even when applied to a printed circuit board that requires application to a large area, and the mold release property is maintained for a long time Dramatically reduce release processing time and costs.

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 모두 본 발명의 영역에 속하는 것으로 본 발명의 구체적인 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의하여 명확해질 것이다.All modifications and variations of the present invention fall within the scope of the present invention, and the specific scope of protection of the present invention will be apparent from the appended claims.

Claims (11)

형성하고자 하는 복수의 비아 및 회로패턴에 대응되는 구조물이 표면에 형성된 인쇄회로기판용 임프린트 몰드의 제조방법에 있어서, In the method of manufacturing an imprint mold for a printed circuit board having a structure corresponding to a plurality of vias and circuit patterns to be formed on the surface, (a) 형성하고자 하는 복수의 비아 및 회로패턴을 포함하는 구조물의 패턴이 형성된 마스터 몰드를 준비하는 단계; (a) preparing a master mold having a pattern of a structure including a plurality of vias and circuit patterns to be formed; (b) 상기 구조물의 패턴이 형성된 마스터 몰드 상에 금속 코팅층을 형성시키는 단계; (b) forming a metal coating layer on the master mold on which the pattern of the structure is formed; (c) PTFE(polytetrafluoroethylene) 분말이 분산되어 있는 전해 니켈 도금액을 제조하는 단계; (c) preparing an electrolytic nickel plating solution in which a polytetrafluoroethylene (PTFE) powder is dispersed; (d) 상기 금속 코팅층이 형성된 마스터 몰드 상에 상기 전해 니켈 도금액을 접촉시켜 PTFE가 충전된 전해 니켈 도금층을 형성시키는 단계; (d) contacting the electrolytic nickel plating solution on the master mold on which the metal coating layer is formed to form an electrolytic nickel plating layer filled with PTFE; (e) 상기 PTFE가 충전된 전해 니켈 도금층을 상기 마스터 몰드로부터 분리하는 단계; 및(e) separating the PTFE-filled electrolytic nickel plating layer from the master mold; And (f) 상기 분리된 니켈 도금층을 열처리하여 도금층 내에 충전된 PTFE 중 적어도 일부를 분해시키는 단계;(f) heat treating the separated nickel plating layer to decompose at least a portion of the PTFE filled in the plating layer; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 PTFE를 이용한 인쇄회로기판용 임프린트 몰드의 제조방법.Method of manufacturing an imprint mold for a printed circuit board using PTFE comprising a. 제1항에 있어서, 상기 PTFE 분말의 평균입경은 10 내지 100㎚인 것을 특징으 로 하는 PTFE를 이용한 인쇄회로기판용 임프린트 몰드의 제조방법.The method of manufacturing an imprint mold for a printed circuit board using PTFE according to claim 1, wherein the average particle diameter of the PTFE powder is 10 to 100 nm. 제1항에 있어서, 상기 전해 니켈 도금액 중의 PTFE의 함유량은 5∼50㎎/L인 것을 특징으로 하는 PTFE를 이용한 인쇄회로기판용 임프린트 몰드의 제조방법.The method of manufacturing an imprint mold for a printed circuit board using PTFE according to claim 1, wherein the content of PTFE in the electrolytic nickel plating solution is 5 to 50 mg / L. 제1항에 있어서, 상기 전해 니켈 도금층 형성단계는 분산제의 존재하에서 수행되는 것을 특징으로 하는 PTFE를 이용한 인쇄회로기판용 임프린트 몰드의 제조방법.The method of claim 1, wherein the electrolytic nickel plating layer forming step is performed in the presence of a dispersant. 제4항에 있어서, 상기 분산제는 양이온성 분산제 또는 음이온성 분산제인 것을 특징으로 하는 PTFE를 이용한 인쇄회로기판용 임프린트 몰드의 제조방법.The method of claim 4, wherein the dispersing agent is a cationic dispersing agent or an anionic dispersing agent. 제5항에 있어서, 상기 분산제는 페닐기를 갖는 화합물인 것을 특징으로 하는 PTFE를 이용한 인쇄회로기판용 임프린트 몰드의 제조방법.The method of claim 5, wherein the dispersing agent is a compound having a phenyl group. 제4항에 있어서, 상기 전해 니켈 도금액 중의 분산제의 사용량은 PTFE 100중량부에 대하여 50 내지 200중량부인 것을 특징으로 하는 PTFE를 이용한 인쇄회로기판용 임프린트 몰드의 제조방법.The method of manufacturing an imprint mold for a printed circuit board using PTFE according to claim 4, wherein the amount of the dispersant in the electrolytic nickel plating solution is 50 to 200 parts by weight based on 100 parts by weight of PTFE. 제1항에 있어서, 상기 전해 니켈 도금액 제조단계는 상기 PTFE 분말이 분산 되어 있는 전해 니켈 도금액을 30분 내지 1시간 동안 초음파 처리하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 PTFE를 이용한 인쇄회로기판용 임프린트 몰드의 제조방법.The imprint of claim 1, wherein the manufacturing of the electrolytic nickel plating solution further comprises ultrasonicating the electrolytic nickel plating solution in which the PTFE powder is dispersed for 30 minutes to 1 hour. Method for producing a mold. 제8항에 있어서, 상기 전해 니켈 도금액 제조단계는 상기 초음파 처리단계 후 전해 니켈 도금액을 필터링하여 뭉쳐 있는 PTFE를 분리, 제거하는 단계를 더욱 포함하는 것을 특징으로 하는 PTFE를 이용한 인쇄회로기판용 임프린트 몰드의 제조방법.The method of claim 8, wherein the electrolytic nickel plating solution manufacturing step further comprises the step of separating and removing the PTFE bound by filtering the electrolytic nickel plating solution after the ultrasonic treatment step using a PTFE printed circuit board imprint mold Manufacturing method. 제1항에 있어서, 상기 분리된 니켈 도금층의 열처리단계는 300∼400℃의 온도하에서 1∼3시간동안 수행되는 것을 특징으로 하는 PTFE를 이용한 인쇄회로기판용 임프린트 몰드의 제조방법.The method of claim 1, wherein the heat treatment of the separated nickel plating layer is performed at a temperature of 300 to 400 ° C. for 1 to 3 hours. 형성하고자 하는 복수의 비아 및 회로패턴에 대응되는 구조물이 표면에 형성된 인쇄회로기판용 임프린트 몰드에 있어서, In the imprint mold for a printed circuit board having a structure corresponding to a plurality of vias and circuit patterns to be formed on the surface, 상기 몰드가 PTFE가 충전된 전해 니켈 도금층으로 이루어지되, 상기 충전된 PTFE 중 적어도 일부가 몰드의 열처리 과정을 통해서 분해되어 몰드의 중앙 부위보다 내부 표면에서 더 높은 불소 밀도를 갖는 것을 특징으로 하는 PTFE를 이용한 인쇄회로기판용 임프린트 몰드.Wherein the mold is made of PTFE-filled electrolytic nickel plating layer, wherein at least a portion of the filled PTFE is decomposed through the heat treatment process of the mold has a higher fluorine density on the inner surface than the central portion of the mold Imprint mold for printed circuit board using.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100868954B1 (en) 2008-07-17 2008-11-17 (주)세명 Method for manufacturing extruding materials using ptff in use of a cable
US11786930B2 (en) 2016-12-13 2023-10-17 Hzo, Inc. Protective coating

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040043030A (en) * 2002-11-15 2004-05-22 주식회사 미뉴타텍 Mold using amorphous fluorine resin and fabrication method thereof
US6808646B1 (en) 2003-04-29 2004-10-26 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Method of replicating a high resolution three-dimensional imprint pattern on a compliant media of arbitrary size
US20050074697A1 (en) 2003-10-04 2005-04-07 Massimo De Vittorio Method for fabricating masters for imprint lithography and related imprint process

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040043030A (en) * 2002-11-15 2004-05-22 주식회사 미뉴타텍 Mold using amorphous fluorine resin and fabrication method thereof
US6808646B1 (en) 2003-04-29 2004-10-26 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Method of replicating a high resolution three-dimensional imprint pattern on a compliant media of arbitrary size
US20050074697A1 (en) 2003-10-04 2005-04-07 Massimo De Vittorio Method for fabricating masters for imprint lithography and related imprint process

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100868954B1 (en) 2008-07-17 2008-11-17 (주)세명 Method for manufacturing extruding materials using ptff in use of a cable
US11786930B2 (en) 2016-12-13 2023-10-17 Hzo, Inc. Protective coating

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