KR100631793B1 - Electroless Plating Equipment of Mold and Its Cooling Water Line - Google Patents
Electroless Plating Equipment of Mold and Its Cooling Water Line Download PDFInfo
- Publication number
- KR100631793B1 KR100631793B1 KR1020040040844A KR20040040844A KR100631793B1 KR 100631793 B1 KR100631793 B1 KR 100631793B1 KR 1020040040844 A KR1020040040844 A KR 1020040040844A KR 20040040844 A KR20040040844 A KR 20040040844A KR 100631793 B1 KR100631793 B1 KR 100631793B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- mold
- plating
- cooling water
- water line
- liquid
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1619—Apparatus for electroless plating
- C23C18/1628—Specific elements or parts of the apparatus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1633—Process of electroless plating
- C23C18/1675—Process conditions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1633—Process of electroless plating
- C23C18/1675—Process conditions
- C23C18/1676—Heating of the solution
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1633—Process of electroless plating
- C23C18/1675—Process conditions
- C23C18/168—Control of temperature, e.g. temperature of bath, substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/1601—Process or apparatus
- C23C18/1633—Process of electroless plating
- C23C18/1675—Process conditions
- C23C18/1683—Control of electrolyte composition, e.g. measurement, adjustment
Abstract
본 발명은 금형과 그 냉각수라인의 무전해 도금장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 도금공정 중 도금될 금형의 온도를 도금액의 적정운용온도에 맞추어 도금액의 운용온도를 안정되게 유지시키는 것을 특징으로 하는 금형과 그 냉각수라인의 무전해 도금장치에 관한 것이다.The present invention relates to an electroless plating apparatus of a mold and its cooling water line, and more particularly, to stably maintain the operating temperature of the plating liquid according to the temperature of the mold to be plated during the plating process according to the appropriate operating temperature of the plating liquid. An electroless plating apparatus for a mold and its cooling water line.
본 발명은 도금액의 온도를 안정하게 유지하여 금형의 도금을 균일하게 하고, 금형의 수납을 용이하게 하며, 도금공정의 시간을 단축시키는 것을 기술적 과제로 하고 있다. The technical problem of the present invention is to stably maintain the temperature of the plating liquid, to uniformly plate the metal mold, to facilitate the storage of the metal mold, and to shorten the time of the plating process.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 금형의 냉각수라인 무전해 도금장치에 있어서, 금형의 도금액이 저장되는 도금액조와; 금형의 수세액이 저장되는 수세액조와; 금형의 산세액의 저장되는 산세액조와; 상기 도금액조의 도금액을 금형의 냉각수라인에 공급시키는 입류관과; 금형을 유통한 도금액을 상기 도금조로 환류시키는 출류관과; 도금액의 적정운용온도에 맞추어 도금될 금형의 온도를 조절하고, 상기 온도조절과 금형의 냉각수라인의 수세·산세·도금이 이루어지며, 격벽으로 구획된 부분에 히터가 설치되어 격벽에 형성되는 덕트를 통해 가열된 공기를 송풍함으로서 도금 중 도금액의 온도를 일정하게 유지시키는 항온도금조를 포함하여 구성된다. In order to solve the above problems, the present invention is a cooling water line electroless plating apparatus of a mold, the plating solution tank for storing the plating liquid of the mold; A washing liquid tank in which the washing liquid of the mold is stored; Pickling liquid tank for storing the pickling liquid of the mold; An inlet pipe for supplying the plating liquid of the plating solution tank to the cooling water line of the mold; An outlet pipe for refluxing the plating liquid in which the mold is distributed to the plating bath; The temperature of the mold to be plated is adjusted according to the proper operating temperature of the plating liquid, and the temperature control and washing, pickling, and plating of the cooling water line of the mold are performed, and a duct formed in the partition wall is provided with a heater. It is configured to include a constant temperature bath for maintaining a constant temperature of the plating liquid during plating by blowing air heated through.
이러한 본 발명은 도금 피막이 균일하게 형성되게 하고, 도금공정 시간을 현저히 줄여 주고, 금형의 내구성을 향상시켜 준다.This invention allows the plating film to be formed uniformly, significantly reducing the plating process time, and improves the durability of the mold.
도금장치, 도금공정, 금형, 무전해Plating equipment, plating process, mold, electroless
Description
도 1은 종래 기술에 따른 금형의 무전해 도금공정의 공정도1 is a process diagram of an electroless plating process of a mold according to the prior art
도 2는 종래 기술에 따른 금형의 무전해 도금장치의 구성상태도.2 is a configuration diagram of an electroless plating apparatus of a mold according to the prior art.
도 3은 도 2의 A-A'선 단면도.3 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 2.
도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 금형의 무전해 도금공정의 공정도.Figure 4 is a process of the electroless plating process of the mold according to an embodiment of the present invention.
도 5는 본 발명의 일실시예에 따른 금형의 냉각수 무전해 도금장치를 나타내는 사시도.5 is a perspective view showing a cooling water electroless plating apparatus of a mold according to an embodiment of the present invention.
도 6a는 본 발명의 일실시예에 따른 항온도금조의 사시도. Figure 6a is a perspective view of a constant temperature bath according to an embodiment of the present invention.
도 6b는 본 발명의 일실시예에 따른 항온도금조의 내부구조도.Figure 6b is an internal structure of the thermostatic bath according to an embodiment of the present invention.
도 7은 본 발명의 일실시예에 따른 항온도금조 상면도어의 동작도.7 is an operation of the constant temperature bath top door according to an embodiment of the present invention.
도 8은 본 발명의 일실시예에 따른 금형의 냉각수라인의 무전해 도금공정의 공정도. 8 is a process chart of the electroless plating process of the cooling water line of the mold according to an embodiment of the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명> <Description of the symbols for the main parts of the drawings>
2. 쳄버2. Chamber
21. 공급로 22. 배출로21.
3. 공급장치3. Feeding device
31. 도금액 탱크 32. 전처리액 탱크 33. 수세액 탱크31.
35. 밸브 36. 파이프 35.valve 36.pipe
4. 히터4. Heater
5. 금형 5. Mold
51. 냉각수라인51. Cooling water line
110. 이동관 110. Moving tube
111. 연결관111. Connector
113. 입류관 114. 입류세관113. Immigration Office 114. Immigration Customs
117. 출류관 118. 출류세관 117.
119. 플로우미터119.Flowmeter
120. 항온도금조 120. Constant Temperature
121. 연통홀 122. 콘트롤박스121.
123. 전면도어 125. 상면도어 123.
126. 상면도어개폐모터 128. 팬 126. Top door opening and closing
129. 히터 129. Heater
130. 도금액조 133. 전처리액조 135. 수세액조130.
132, 132'. 도금액조 밸브 134, 134'. 전처리액조 밸브 132, 132 '.
136, 136'. 수세액조 밸브 136, 136 '. Water Tank Valve
140. 분배기140. Splitter
P. 금형 P. Mold
P'. 냉각수라인 P '. Cooling water line
본 발명은 금형과 금형의 냉각수라인에 무전해 도금을 하는 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 도금공정 중 도금될 금형의 온도를 도금액의 적정운용온도에 맞추어 도금액의 운용온도를 안정되게 유지시키는 금형과 그 냉각수라인의 무전해 도금장치에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus for electroless plating on the mold and the cooling water line of the mold, and more particularly, a mold for stably maintaining the operating temperature of the plating liquid by adjusting the temperature of the mold to be plated during the plating process according to the appropriate operating temperature of the plating liquid. And an electroless plating apparatus of the cooling water line.
기계, 기구, 장치 등이 대형화함에 따라 이를 생산하기 위한 부품도 대형화하는 추세이며, 이러한 대형부품을 양산하기 위해서 선호되는 생산방법이 대형 프레스에 의한 가공인데, 프레스가 대형화함에 따라 이에 사용되는 금형(Die)도 대형화 및 고가(高價)화 되고 있다. As machines, mechanisms, and devices become larger, parts for producing them are also becoming larger, and the preferred production method for mass production of such large parts is processing by large presses. Dies are also becoming larger and more expensive.
이에 따라 고가의 대형금형이 부식되는 것을 방지하기위하여 금형을 표면처리(도금)를 하여 내구성을 향상시키는 것은 중요한 의미를 가지게 된다.Accordingly, in order to prevent corrosion of expensive large molds, it is important to improve the durability by surface treatment (plating) of the mold.
특히, 대형금형은 고압·고속 하에서 운전되고, 가공 경화(Work harding)에 수반하여 많은 열이 발생되므로, 금형 내에 냉각수라인의 설치가 긴요한데, 이러한 냉각수라인은 냉각수에 의한 부식이 심각하므로, 냉각수라인의 도금은 더욱 중요한 의미를 갖는다. In particular, since large molds are operated under high pressure and high speed, and a lot of heat is generated due to work harding, installation of a coolant line in the mold is critical. Since such a coolant line is severely corroded by the coolant, Plating of lines has a more important meaning.
따라서, 종래기술은 표면의 도금을 위하여, 금형을 도금조에 침지시켜 무전 해 도금을 실시하였다. 특히, 금형의 냉각수라인을 도금하기 위하여는 금형의 전면을 마스킹한 후 대형의 도금조 내에 완전히 잠기도록 하여 냉각수라인을 무전해 도금하거나, 보다 진보된 기술로서 본 출원인이 발명하여 출원하여 한국 공개특허공보에 기재된 공개번호 제10-2003-0075682호(출원번호 제10-2002-0015036호)에 기재된 방식과 같이, 파이프로 냉각수라인에만 도금액을 공급하는 방식이 있다. Therefore, in the prior art, electroless plating was performed by immersing a mold in a plating bath for surface plating. In particular, in order to plate the cooling water line of the mold, the entire surface of the mold is masked and then completely submerged in a large plating bath, thereby electroless plating the cooling water line, or the present applicant has invented and filed the application as a more advanced technology. As in the method described in Publication No. 10-2003-0075682 (Application No. 10-2002-0015036) described in the publication, there is a method of supplying a plating liquid only to the cooling water line by a pipe.
한편, 전해도금은 도금하고자 하는 피도금체에 전극을 삽입하여 통전을 함으로서 이루어지는데, 금형 냉각수라인은 다양하게 구부러지는 형상이라서 그 내부로 전극이 삽입되지 못하므로 전해도금을 하는 것은 원천적으로 불가능하다. On the other hand, electroplating is performed by inserting an electrode into the plated body to be plated to conduct electricity. Since the mold cooling water line is bent in various ways, the electrode is not inserted into the electroplating. .
종래기술을 도면에 따라 보다 상세하게 설명하기로 한다. 도 1은 종래기술에 따른 금형의 도금공정을 보여주는 공정도이다. 이에 따르면, 금형의 도금공정은 금형을 도금조(槽)내로 수납하는 단계, 금형에 부착되어 있는 이물질을 제거하기 위한 수세단계와 도금이 잘되도록 금형을 산세액에 침지시키는 산세단계와, 도금액에 침지시키는 도금단계를 포함하여 구성되며, 각 단계에서 금형의 이동은 크레인 또는 호이스트와 같은 컨베이어 시스템으로 행해진다. The prior art will be described in more detail with reference to the drawings. 1 is a process chart showing a plating process of a mold according to the prior art. According to this, the plating process of the mold includes the steps of accommodating the mold into a plating bath, a washing step for removing foreign substances adhering to the mold, a pickling step of immersing the mold in a pickling solution so that the plating is performed well, and a plating solution. It comprises a plating step to be immersed, in each step the movement of the mold is done by a conveyor system such as a crane or hoist.
또한, 금형을 침지시켜 냉각수라인을 무전해 도금하는 공정인 경우에는 그 도금 전에 금형의 전면을 마스킹하는 단계가 선행되는 것이 바람직하다. 즉, 금형의 냉각수라인 도금공정은 금형의 전면을 마스킹하는 단계, 금형에 부착되어 있는 이물질을 제거하기 위한 수세단계와 도금이 잘되도록 금형을 산세액에 침지시키는 산세단계와, 그리고 금형을 도금액에 침지시키는 도금단계를 포함하여 구성된다. In addition, in the case of electroless plating the cooling water line by immersing the mold, it is preferable to mask the entire surface of the mold before the plating. That is, the plating process of the coolant line of the mold may include masking the entire surface of the mold, washing with water to remove foreign substances adhering to the mold, and pickling to immerse the mold in a pickling solution so that plating is performed well, and the mold may be applied to the plating solution. It is configured to include a plating step to immerse.
한편, 금형의 냉각수라인에 파이프를 연결하여 냉각수라인을 도금하는 공정 및 장치인 도 2 및 도 3은 각각 상기 공보에 기재된 금형의 냉각수라인 무전해 도금장치의 구성상태도 및 그 A-A' 선의 단면도이다. 이에 따르면, 수납되는 금형(5)의 냉각수라인(51)의 양단에 각각 연결되는 공급로(21)와 배출로(22)를 구비하고 개폐가 가능하게 밀폐되는 쳄버(2)와 도금액 탱크(31), 전처리액 탱크(32), 수세액 탱크(33)와 상기 공급로(21) 및 배출로(22)간을 각각 연결하는 파이프(36)에 펌프와 밸브(35)가 설치되는 공급장치와 상기 쳄버(2)에 수납된 금형(5)의 외부에 부착되어 설치되는 히터(4)로 구성되어, 상기 쳄버(2)를 개방하여 금형(5)을 수납하고, 냉각수라인(51)의 입구에 상기 쳄버(2)에 설치된 공급로(21)와 배출로(22)를 설치한 후, 펌프를 가동하면서 전처리액 탱크(32)를 열어 냉각수라인(51)을 전처리(산세)하고, 전처리액 탱크(32)를 잠그고 수세액 탱크(33)의 밸브(35)를 열어 냉각수라인(51)에 남아 있는 전처리액을 씻은 후 수세액 탱크(33)를 닫고 도금액 탱크(31)의 밸브(35)를 열어 소정시간 도금액을 냉각수라인(51)에 환류시키면서 무전해 도금을 행할 수 있게 하였다.On the other hand, Figures 2 and 3, which is a process and apparatus for connecting a pipe to a cooling water line of a mold and plating the cooling water line, are sectional views of the structure of the cooling water line electroless plating apparatus of the mold and the AA 'line, respectively. . According to this, the
이와 같은 종래기술은 금형(5) 및 금형의 냉각수라인의 도금을 행함으로써 금형(5)의 수명을 연장시키는 장점이 있기는 하지만, 대형금형을 온도가 낮은 상태에서 도금조내로 침지시킬 경우, 무전해 도금에서 가장 크게 요구되는 고온의 도금온도를 안정되게 유지할 수 없다는 문제점을 가지고 있다. This conventional technique has the advantage of extending the life of the
즉, 무전해 도금에 있어 도금액은 표 1(표 1은 알칼리성 무전해 니켈도금액인 경우이나, 다른 성질의 도금액의 경우에도 마찬가지이다)에서 보는 바와 같이 주로 고온에서 운용되는데, 이는 고온상태를 유지하지 못할 경우에는 도금액의 석 출속도가 현저히 떨어지고 도금액의 균형이 파괴되기 때문이다. 이에 대한 실험데이터로서 표 2에는 무전해 도금액의 온도에 따른 반응상태 및 두께측정 실험결과표가 제시되어 있다. That is, in electroless plating, the plating solution is mainly operated at a high temperature, as shown in Table 1 (Table 1 is the same as that of an alkaline electroless nickel plating solution or a plating solution of a different property), which maintains a high temperature state. If this is not possible, the deposition rate of the plating solution is significantly reduced and the balance of the plating solution is broken. As experimental data for this, Table 2 shows the results of reaction and thickness measurement according to the temperature of the electroless plating solution.
이에 따르면, 온도가 고온일 경우에는 도금이 짧은 시간에 또한 도금의 두께도 양호하게 이루어지지만, 온도가 낮을수록 시간이 많이 걸릴 뿐만 아니라 도금의 두께도 양호하지 못하게 됨을 알 수 있어, 금형의 무전해 도금에 있어 고온 상에서 일정한 온도를 유지하는 것이 아주 중요하다는 것을 알 수 있다.According to this, when the temperature is high, the plating is performed in a short time and the thickness of the plating is good. However, the lower the temperature, the more time is required and the thickness of the plating is not good. It can be seen that it is very important to maintain a constant temperature at high temperatures in the plating.
표 1Table 1
표 2TABLE 2
특히, 금형의 냉각수라인을 도금하기위한 파이프로 냉각수라인만을 도금하는 상기 종래기술은 상기 선형 히터(4)가 수납된 금형(5)에 착설하여 고온 유지라는 과제를 해결하려고 하나, 종래기술과 같은 구성에서 도금액의 온도를 일정온도 이 상으로 유지하기 위해서는 히터(4)가 접촉하는 부분이 고온으로 국부 가열되어야 하므로, 금형 내의 온도가 균일하게 유지되지 않을 뿐만 아니라 금형 내에 부착되어 있는 고무패킹 등이 열에 의해 손상을 입게 되는 문제점을 야기한다.In particular, the prior art of plating only the coolant line with a pipe for plating the coolant line of the mold is intended to solve the problem of maintaining a high temperature by installing in the mold (5) in which the linear heater (4) is accommodated, In order to maintain the temperature of the plating liquid above a certain temperature, the part contacted by the
또한, 도시된 바와 같이, 하나의 공급로(21)와 배출로(22)가 금형의 냉각수라인(51)에 연결되어, 금형(5)에 형성되어 있는 모든 냉각수라인(51)을 도금하기 위해서는 도금작업을 반복적으로 수행해야 하고, 이로 인해 작업시간이 길어지는 문제점이 있다. In addition, as shown, one
본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 도금액이 안정된 온도에서 유지되어 도금막의 균일도를 향상시키는 금형과 그 냉각수라인의 무전해 도금장치를 제공하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention is to provide an electroless plating apparatus of a mold and its cooling water line to maintain the plating solution at a stable temperature to improve the uniformity of the plating film.
본 발명의 다른 목적은 대형금형의 항온도금조 내로의 수납을 용이하게 하는 금형의 냉각수라인 무전해 도금장치를 제공하는 것이다.It is another object of the present invention to provide a cooling water line electroless plating apparatus of a mold that facilitates the storage of a large mold into a constant temperature bath.
본 발명의 또 다른 목적은 도금액이 냉각수라인구간에서 일정한 온도가 유지되도록 하는 금형의 냉각수라인 무전해 도금장치를 제공하는 것이다.Still another object of the present invention is to provide a cooling water line electroless plating apparatus of a mold in which a plating solution is maintained at a constant temperature in a cooling water line section.
본 발명의 또 다른 목적은 도금공정의 작업시간을 단축시키고, 효율을 향상시키는 금형의 냉각수라인 무전해 도금장치를 제공하는 것이다. Still another object of the present invention is to provide an electroless plating apparatus for a cooling water line of a mold, which shortens the working time of the plating process and improves efficiency.
본 발명에 따른 금형의 무전해 도금공정은 사용되는 도금액의 적정운용온도에 맞추어 도금될 금형의 온도를 조절하는 단계를 포함하여 구성된다. The electroless plating process of the mold according to the present invention comprises the step of adjusting the temperature of the mold to be plated in accordance with the appropriate operating temperature of the plating liquid used.
이 때, 도금될 상기 금형의 온도는 70~100℃로 조절하는 것이 바람직하다. At this time, the temperature of the mold to be plated is preferably adjusted to 70 ~ 100 ℃.
또한, 본 발명에 따른 금형의 냉각수라인 무전해 도금공정은 사용되는 도금액의 적정운용온도에 맞추어 도금될 금형의 온도를 조절하는 공정을 포함하여 구성된다. In addition, the electroless plating process of the cooling water line of the mold according to the present invention comprises a process of adjusting the temperature of the mold to be plated in accordance with the appropriate operating temperature of the plating liquid used.
이 때, 도금될 상기 금형의 온도는 70~100℃로 조절하는 것이 바람직하다. At this time, the temperature of the mold to be plated is preferably adjusted to 70 ~ 100 ℃.
또한, 본 발명에 따른 금형의 냉각수라인 무전해 도금공정은 사용되는 도금액의 적정운용온도에 맞추어 도금될 금형의 온도를 조절하는 공정을 포함하고, 상기 온도조절과 금형의 냉각수라인의 수세·산세·도금단계가 같은 조(槽)내에서 이루어지며, 상기 도금공정 중 도금액의 온도가 일정하게 유지되도록 하는 것을 특징으로 하여 구성된다.In addition, the electrolytic plating process of the cooling water line of the mold according to the present invention includes a step of adjusting the temperature of the mold to be plated in accordance with the appropriate operating temperature of the plating liquid used, the temperature control and washing, pickling, washing, etc. of the cooling water line of the mold The plating step is performed in the same bath, and is characterized in that the temperature of the plating liquid is kept constant during the plating process.
이 때, 도금될 상기 금형의 온도는 도금액의 종류에 따라 70~100℃로 조절하는 것이 바람직하다. At this time, the temperature of the mold to be plated is preferably adjusted to 70 ~ 100 ℃ according to the type of plating solution.
또한, 본 발명에 따른 금형의 냉각수라인 무전해 도금장치는 금형의 도금액이 저장되는 도금액조와, 금형의 수세액이 저장되는 수세액조와; 금형의 산세액의 저장되는 산세액조와, 상기 도금액조의 도금액을 금형의 냉각수라인에 공급시키는 입류관과, 금형을 유통한 도금액을 상기 도금조로 환류시키는 출류관과, 도금액의 적정운용온도에 맞추어 도금될 금형의 온도를 조절하고, 상기 온도조절과 금형의 냉각수라인의 수세·산세·도금공정이 이루어지며, 도금공정 중 도금액의 온도를 일정하게 유지시키는 항온도금조를 포함하여 구성된다. In addition, the cooling water line electroless plating apparatus of the mold according to the present invention includes a plating solution tank in which the plating liquid of the mold is stored, and a washing solution tank in which the washing liquid of the mold is stored; A pickling tank for storing the pickling liquid of the mold, an inflow pipe for supplying the plating liquid of the plating solution to the cooling water line of the mold, an outlet pipe for refluxing the plating liquid for distributing the mold into the plating tank, and plating according to an appropriate operating temperature of the plating liquid. Adjusting the temperature of the mold to be, and the temperature control and washing, pickling, plating process of the cooling water line of the mold is performed, it is configured to include a constant temperature bath for maintaining a constant temperature of the plating liquid during the plating process.
이 때, 상기 항온도금조는 금형이 출입되는 도어와, 내부를 가열할 수 있는 히터와, 단열재가 구비된 벽면과, 내부를 일정한 온도로 유지하는 자동온도조절장치가 구비되어, 상기 항온도금조 내에서 도금이 진행되도록 하는 것으로 구성될 수 있다. At this time, the constant temperature bath is provided with a door into which the mold enters, a heater capable of heating the inside, a wall surface provided with a heat insulator, and a thermostat for maintaining the inside at a constant temperature. It can be configured to allow the plating to proceed in.
이 때, 상기 항온도금조 도어는 전면 및 상면, 또는 측면 및 상면 모두에 설치되는 것으로 구성될 수 있다.At this time, the constant temperature bath door may be configured to be installed on both the front and top, or both the side and top.
또한, 상기 항온도금조의 벽면의 한 부분에는 상기 입류관과 출류관이 통과하기 위한 연통홀이 형성되는 것으로 구성될 수 있다.In addition, a portion of the wall surface of the constant temperature bath can be configured to form a communication hole for passing through the inlet and outlet pipes.
또한, 상기 항온도금조의 히터는 격벽에 의해서, 금형이 수납되는 구역과 구획되며, 상기 히터로부터 발생하는 고온의 공기를 순환시키는 팬이 구비되는 것으로 구성될 수 있다. In addition, the heater of the constant temperature bath tank may be partitioned by a partition, the area in which the mold is accommodated, and may be configured to be provided with a fan for circulating the hot air generated from the heater.
또한, 상기 입류관 및 출류관의 금형의 냉각수라인측으로 연결되는 단부는 각각 다수의 입류 및 출류세관으로 분지되는 것으로 구성될 수 있다. In addition, the end portion connected to the cooling water line side of the mold of the inlet pipe and the outlet pipe may be configured to be branched into a plurality of inlet and outlet pipes, respectively.
또한, 상기 수세액조, 산세액조 및 도금액조는 상기 입류관 및 출류관을 공유하는 것으로 구성될 수 있다. In addition, the washing tank, pickling tank and the plating solution tank may be configured to share the inlet and outlet pipe.
이하에서는 도면에 의한 실시예들을 참조하면서 본 발명을 보다 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 이하의 실시예들에 국한되지 않고 다양하게 실시될 수 있을 것이다. Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the embodiments shown in the drawings. However, the present invention may be variously implemented without being limited to the following embodiments.
도 4에는 본 발명의 일실시예에 따른 금형의 무전해 도금공정의 공정도가 도시되어 있다. 이에 따르면, 금형의 도금공정은 금형을 수납시키는 단계, 금형의 온도를 조절하는 단계, 금형에 부착되어 있는 이물질을 제거하기 위한 수세단계와 도 금이 잘되도록 금형을 산세액에 침지시키는 산세단계와, 그리고 금형을 도금액에 침지시키는 도금단계를 포함하여 구성된다. 이때도, 수세·탈지·산세 공정은 필요에 따라 통상적인 방법으로 적절한 단계에서 실시될 수 있을 것이다. 4 is a process diagram of an electroless plating process of a mold according to an embodiment of the present invention. According to this, the plating process of the mold includes the steps of accommodating the mold, adjusting the temperature of the mold, washing with water to remove the foreign matter adhering to the mold, and pickling to immerse the mold in the pickling solution so that plating is well performed. And a plating step of immersing the mold in the plating liquid. In this case, the washing, degreasing and pickling processes may be carried out at appropriate stages in a conventional manner as necessary.
또한, 금형을 침지시켜 냉각수라인을 무전해 도금하는 공정인 경우에는 그 도금 전에 금형의 전면을 마스킹하는 단계가 선행되어야 할 것이다. 즉, 금형의 냉각수라인도금공정은 금형의 전면을 마스킹하는 단계, 금형의 온도를 조절하는 단계, 금형에 부착되어 있는 이물질을 제거하기 위한 수세단계와 도금이 잘되도록 금형을 산세액에 침지시키는 산세단계와, 그리고 금형을 도금액에 침지시키는 도금단계를 포함하여 구성된다. 이때도, 수세·탈지·산세 공정은 필요에 따라 통상적인 방법으로 적절한 단계에서 실시될 수 있을 것이다. In addition, in the case of electroless plating the cooling water line by immersing the mold, the step of masking the entire surface of the mold should be preceded before the plating. That is, in the cooling water line plating process of the mold, masking the entire surface of the mold, adjusting the temperature of the mold, washing with water to remove foreign substances adhering to the mold, and pickling to immerse the mold in the pickling solution so that plating is performed well. And a plating step of immersing the mold in the plating liquid. In this case, the washing, degreasing and pickling processes may be carried out at appropriate stages in a conventional manner as necessary.
한편, 금형의 냉각수라인에 파이프를 연결하여 냉각수라인을 도금하는 공정은 상기 공정을 위한 도금장치에 대한 설명이후에 설명하기로 한다.On the other hand, the process of plating the cooling water line by connecting a pipe to the cooling water line of the mold will be described after the description of the plating apparatus for the process.
도 5에는 본 발명에 따른 금형의 냉각수라인 무전해 도금장치의 일실시예가 도시되어있다. 이에 따르면, 본 발명에 따른 금형의 냉각수라인 무전해 도금장치는 크게 금형(P)이 수납되어 도금이 이루어지는 항온도금조(120)와, 상기 항온도금조(120)내에 수납된 금형의 냉각수라인(P')에 도금액을 공급하는 입류관(113) 및 금형의 냉각수라인(P')으로부터 도금액을 배출시키는 출류관(117), 그리고 상기 입류관(113) 및 출류관(117)을 순환하는 도금액이 저장 및 가열되는 도금액조(130)를 포함하여 구성된다.Figure 5 shows an embodiment of a cooling water line electroless plating apparatus of a mold according to the present invention. According to the present invention, the electroless plating apparatus of the mold according to the present invention includes a constant
도 6a는 본 발명의 일실시예에 따른 항온도금조의 사시도로서 항온도금조가 보다 상세하게 도시되어 있다. Figure 6a is a perspective view of the thermostatic bath according to an embodiment of the present invention is shown in more detail the thermostatic bath.
상기 항온도금조(120)의 내부에는 금형(P)이 수납되고, 금형(P)이 출입되도록 하기 위해서 상기 항온도금조(120)는 도어(123, 125)를 구비하고 있다. 상기 도어(123, 125)는 전면 및 상면 또는 측면 및 상면 모두에 설치되며(이하, 전면도어는 측면도어를 포함하는 개념으로 사용), 전면도어(123)는 지게차등으로 운반할 수 있는 소형 금형을 출입시킬 때 사용되며, 상면도어(125)는 호이스트 등으로 대형 금형을 출입시킬 때 추가로 사용된다. 상면도어(125)에는 이를 자동으로 개폐시키기 위한 상면도어개폐모터(126)가 설치된다. The mold P is housed in the
상기 항온도금조(120)의 일측 벽에는 히터작동, 내부온도조절, 상면도어 개폐등을 위한 콘트롤박스(140)가 설치되며, 또한 상기 입류세관(114) 및 출류세관(118)이 통과하는 다수의 연통홀(121)이 형성된다. One side wall of the
상기 항온도금조의 내부구조의 일 실시예는 도6b에 도시되어 있다. 상기 항온도금조(120)의 내부 후면에는 항온도금조(120)의 온도를 높이기 위한 히터(129)가 구비되어 있다. 상기 히터(129)에 의해 가열된 공기는 격벽(124)을 타고 상승하여 팬(128)에 의해 덕트(124)를 통하여 전방으로 송풍됨으로써 상기 항온도금조(120) 내부의 온도를 상승시킨다. 이는 내부의 온도를 보다 균일하게 유지시키기 위함이나 이러한 방식에 국한되는 것은 아니고 통상의 변형 가능한 형태로 설치될 수 있다. One embodiment of the internal structure of the constant temperature bath is shown in Fig. 6B. The inner rear of the
그리고 상기 항온도금조(120)의 벽면은 단열재(미도시)로 처리되어 있어 내부의 온도가 외부에 영향을 받지 않고 일정하게 유지될 수 있도록 도와준다. And the wall surface of the
또한 항온도금조(120)의 온도를 보다 일정하게 유지하게 하기 위하여 자동온도조절장치(미도시)를 관용적인 기술로서 설치할 수 있다. 상기 자동온도조절장치(미도시)는 항온도금조(120)내의 온도가 정해진 수준이상으로 올라가면 히터(129)의 가동을 중단시키고, 정해진 수준 이하로 떨어지면 가동을 개시하여 항상 일정한 온도로 유지되게 하며, 이와 더불어 온도조절장치는 제습장치를 겸하도록 하여도 바람직하다. In addition, in order to keep the temperature of the
상기 항온도금조(120)내에 수납된 금형의 냉각수라인(P')에는 도금액이 공급되는 입류관(113)과 공급된 도금액을 배출하는 출류관(117)이 연결된다. 상기 입류관(113) 및 출류관(117)은 금형의 냉각수라인(P')측으로 연결되는 단부가 각각 다수의 입류세관(114) 및 출류세관(118)으로 분지되어 냉각수라인(P')에 연결되는데, 이는 금형(P)내에 성형되는 냉각수라인(P')은 통상 하나의 라인으로 형성되지 않고, 다수의 냉각수라인(P')으로 형성되는 경우에 대비하기 위함이다. 이 경우 분지는 분배기(140)에 의해 이루어진다. 도면에서와는 달리 항온도금조(120) 내에서 분지되는 구성도 가능하다. The
상기와 같은 구성은 하나의 입류관(113) 및 출류관(117)으로 구성할 때 다수의 냉각수라인(P')을 도금하기 위해서 냉각수라인(P')마다 입류관(113) 및 출류관(117)을 반복적으로 연결하여 작업하는 번거로움을 막아 준다. When the configuration as described above consists of one
한편, 도금이 균일하게 이루어지기 위해서는 일정농도 이상의 도금액이 일정 시간 냉각수라인(P')에 접촉되어야 하므로, 도금액의 환류속도를 측정하기 위해 상기 입류관(113) 또는 출류관(117)에는 플로우미터(119)가 설치될 수 있다. 또한, 냉각수라인(P')이 짧은 길이로 다수 형성되어 있는 금형(P)인 경우 냉각수라인(P')을 서로 연결하는 연결관(111)을 이용하여 도금액이 2이상의 냉각수라인(P')을 흐르게 할 수 있다. On the other hand, in order for the plating to be uniform, a plating liquid having a predetermined concentration or more must be in contact with the cooling water line P 'for a predetermined time, so that a flow meter is provided in the
금형의 냉각수라인(P')에 연결된 상기 입류관(113) 및 출류관(117)의 타단부는 도금액조(130)에 연결된다. 이 때 상기 입류관(113)은 상부에, 상기 출류관(117)은 하부에 연결하면 순환에 유리하여 바람직하다. 상기 도금액조(130)는 도금액이 보관, 저장, 가열되는 곳으로 상기 도금액조(130)로부터(130) 펌핑을 통해 저장된 도금액이 상기 입류관(113)으로 보내지고, 도금후 배출되는 도금액이 출류관(117)을 통해서 상기 도금액조(130)로 환류된다. The other end of the
한편, 상기 도금액조(130) 외에 도금공정상 필요한 수세 및 전처리를 위해 수세액조(135) 및 전처리액(산세액)조(133)가 더 구비된다. 상기 수세액조(135) 및 전처리액조(133)는 별도의 입류관(113) 및 출류관(117)을 가지도록 구성될 수 있으나 도금액조(130)의 입류관(113) 및 출류관(117)을 공유하고, 필요한 만큼 연장하여 밸브로써 제어하는 것이 바람직하다. 즉, 각 액을 공유하는 입류관(113) 및 출류관(117)으로 하여 유통시키고, 수세가 필요한 경우에는 전처리액조 및 도금액조 밸브(134, 134', 132, 132')를 잠그고 수세액조 밸브(136, 136')만을 개방하여 수세액만이 유통되도록 하면, 입출류관(113, 117)에 잔존하는 각종 액이 씻기게 되어 각 액조를 별개의 입류관(113) 및 출류관(117)으로 구성하지 않는 것도 가능하다. On the other hand, in addition to the
다음에는 본 발명의 실시예에 따른 금형의 냉각수라인 도금장치의 작용 및 도금공정의 실시예를 설명하기로 한다.Next, an embodiment of the action and plating process of the cooling water line plating apparatus of the mold according to the embodiment of the present invention will be described.
먼저 도금이 실시되기 전의 단계로서, 금형(P)을 항온도금조(120)에 수납시킨다. 소형 내지 중형 금형(P)인 경우에는 지게차를 이용하여 항온도금조(120)의 전면도어(123)를 전면으로 당겨 개방하여 수납하고, 대형 금형인 경우에는 전면도어(123)를 개방한 상태에서 상면도어(125)도 개방하여 호이스트나 크레인 등과 같은 적절한 운반수단을 이용하여 항온도금조(120)내에 수납한다. 상면도어(125)는 상면도어개폐모터(126)를 구비하여 컨트롤박스(122)에서 제어할 수 있다. 도 5에는 상면도어의 동작도를 도시하고 있다.First, as a step before plating is performed, the mold P is accommodated in the
다음은 수납된 금형(P)에 상기 입류관(113) 및 출류관(117)을 연결하는 단계이다. 입류관(113) 및 출류관(117)의 연결단부는 냉각수라인(P')에 맞게 니플(nipple)이 장착되어 있어 용이하게 연결된다. Next is the step of connecting the
금형의 냉각수라인(P')이 입류관(113) 및 출류관(117)에 연결되면 수세액조(135)에 저장된 수세액을 환류시켜 상기 금형(P)에 있는 이물질 및 기름때를 제거하는 수세 및 탈지 단계를 진행한다. 수세액을 환류시킬 때에는 전처리액조 및 도금액조의 밸브(134, 134', 132, 132')는 폐쇄하고 수세액조의 밸브(136, 136')만 개방시켜 물을 환류시킴으로서 먼지나 이물질 등을 제거시킨다. 다음으로, 도금이 용이하게 되게 하기위해 산세(전처리)액을 통과시키는 산세단계로서, 피도금체에 기름 등이 묻어 있으면, 전리가 되어 도금이 제대로 이루어지지 않으므로 이를 제거하는 단계이다. 이 경우에는 전처리액조의 밸브(134, 134')만을 개방시키고 수세액조 및 도금액조의 밸브(136, 136', 132, 132')를 폐쇄시킨다. When the cooling water line P 'of the mold is connected to the
다음은 도금액을 통과시키기 전에 히터(129)를 가동시켜 항온도금조(120)의 온도를 조절하는 단계이다. 이때 온도를 상승시키는데 도금액의 성질에 따라 70℃ 내지 100℃로 상승시킨다. 상기 히터(129)가 가동되면 가열된 공기는 팬(128)에 의해 격벽(124)을 타고 상승하여 덕트(124')를 통해 상기 항온도금조(120) 전체에 고루 퍼지게 된다. 그리고, 금형이 대형이라면 가온시간이 약 10시간가량 소요된다. Next, a step of controlling the temperature of the
이후는 자동온도조절장치(127) 및 히터에 의해 계속 항온도금조(120)의 온도를 일정하게 유지하면서, 도금액을 입류관(113) 및 출류관(117)으로 환류시켜 도금을 실시하는 단계이다. 이때 환류속도는 플로우미터(119)로 측정하여 가장 도금이 적절히 이루어지는 온도로 유지한다. 도금 실시 중에는 도금액의 통상 pH를 4.5 내지 4.7에서 유지하는데 pH를 올릴 때에는 10%수산화나트륨 또는 암모니아수를 pH를 내릴 때에는 10%황산용액을 사용한다. 또한 도금액 성분인 Ni 및 P의 농도도 일정하게 유지하고, 항온도금조(120)도 80℃로 일정하게 유지한다. 마무리단계로서 상기 금형(P)을 다시 수세하여 도금 후의 이물질 등을 제거하고, 검사하면 모든 단계가 끝나게 된다. Thereafter, the plating solution is refluxed to the
도 6에는 금형의 냉각수라인 무전해 도금공정의 일실시예에 대한 공정도가 도시되어 있으며, 본 발명은 이러한 실시예에 국한되지 않고 다양하게 변형실시 될 수 있다. 특히, 수세, 탈지, 산세 단계는 필요에 따라 통상적인 방법으로 적절한 단계에서 실시될 수 있으며, 게다가, 도금을 최적화하기 위해서는 이물질의 완전한 제거가 바람직함으로 이들을 반복하여 사용하는 것도 고려되며 이러한 것이라도 본 발명의 기술적 범위를 벗어나지 않음은 당연하다.Figure 6 is a process diagram for one embodiment of a cooling water line electroless plating process of the mold, the present invention is not limited to this embodiment can be variously modified. In particular, the washing, degreasing, and pickling steps may be carried out at appropriate stages in a conventional manner as necessary, and in addition, it is also contemplated to use them repeatedly, since complete removal of foreign matter is desirable to optimize plating. It is natural that the technical scope of the invention should not be exceeded.
상기한 바와 같이 이루어진 본 발명에 따른 금형의 냉각수라인 무전해 도금공정 및 장치에 대한 효과는 다음과 같다. Effects on the cooling water line electroless plating process and apparatus of the mold according to the present invention made as described above are as follows.
첫째, 무전해도금액은 고온으로 유지되어야 반응이 정상적으로 이루어지므로, 본 발명을 실시함에 따라 금형의 온도를 미리 조절함으로써 도금을 안정적으로 실시할 수 있게 되어, 도금 피막이 균일하게 형성된다.First, since the electroless solution is maintained at a high temperature so that the reaction is normally performed, according to the present invention, plating can be stably performed by adjusting the temperature of the mold in advance, thereby forming a uniform coating film.
둘째, 금형의 냉각수라인에 파이프를 연결하여 냉각수라인을 도금하는 도금공정 및 장치의 경우, Second, in the plating process and apparatus for connecting the pipe to the cooling water line of the mold to plate the cooling water line,
① 항온도금조 내에서 금형이 가열됨으로써 금형의 모든 냉각수라인 구간에서 일정한 온도가 유지되어, 금형 전체가 도금조 내에 잠긴 것과 같은 효과를 얻을 수 있을 뿐만 아니라, 수세·산세·도금이 하나의 조내에서 일어나므로 작업효율이 현저히 증대된다. ① The mold is heated in the constant temperature bath, so that a constant temperature is maintained in all the coolant line sections of the mold, so that the entire mold is immersed in the plating bath, and water washing, pickling and plating are performed in one tank. As a result, the work efficiency is significantly increased.
② 다수의 입류세관 및 출류세관이 제공되어 금형의 냉각수라인 전체를 동시에 도금하여 도금시간을 현저히 줄여 도금작업의 효율을 높일 수 있게 된다. ② A large number of inflow and outflow customs are provided to plate the entire cooling water line of the mold at the same time, significantly reducing the plating time, thereby increasing the efficiency of plating.
③ 대형금형의 경우라도 손쉽게 항온도금조 내에 수납될 수 있게 한다. ③ Even in the case of large molds, it can be easily stored in constant temperature molds.
나아가 본 발명으로 유용한 효과로서 금형의 내구성을 향상시켜 고가 장비인 금형의 잦은 교체로 인한 비용의 손실을 줄일 수 있다.Furthermore, as a useful effect of the present invention, it is possible to improve the durability of the mold to reduce the loss of cost due to frequent replacement of the mold, which is expensive equipment.
Claims (11)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040040844A KR100631793B1 (en) | 2004-06-04 | 2004-06-04 | Electroless Plating Equipment of Mold and Its Cooling Water Line |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040040844A KR100631793B1 (en) | 2004-06-04 | 2004-06-04 | Electroless Plating Equipment of Mold and Its Cooling Water Line |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20050115646A KR20050115646A (en) | 2005-12-08 |
KR100631793B1 true KR100631793B1 (en) | 2006-10-09 |
Family
ID=37289537
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020040040844A KR100631793B1 (en) | 2004-06-04 | 2004-06-04 | Electroless Plating Equipment of Mold and Its Cooling Water Line |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100631793B1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101346251B1 (en) * | 2012-06-24 | 2014-01-02 | 주식회사 현성오토텍 | Mold cooling line electroplating device |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100838729B1 (en) * | 2006-11-09 | 2008-06-17 | 주식회사 포스코 | Temperature maintenance apparatus of plating solution |
CN110295360B (en) * | 2019-08-02 | 2024-04-26 | 湖州胜僖电子科技有限公司 | Multi-azimuth improved coating device based on quality, cost and convenient operation |
-
2004
- 2004-06-04 KR KR1020040040844A patent/KR100631793B1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101346251B1 (en) * | 2012-06-24 | 2014-01-02 | 주식회사 현성오토텍 | Mold cooling line electroplating device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20050115646A (en) | 2005-12-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US2706175A (en) | Apparatus for electroplating the inner surface of a tubular article | |
KR100792017B1 (en) | Unit for plating process | |
KR970052714A (en) | Substrate Cleaning Method, Substrate Cleaning / Drying Method, Substrate Cleaning Device and Substrate Cleaning / Drying Device | |
KR101391533B1 (en) | electroless plating apparatus and electroless plating method | |
JP2001023952A (en) | Etching method and device | |
US6200452B1 (en) | Method and apparatus for the continuous chromium-plating of elongated members | |
JP2002363788A5 (en) | ||
KR100631793B1 (en) | Electroless Plating Equipment of Mold and Its Cooling Water Line | |
CN114173943B (en) | Applying a coating to an inner surface of a heat exchanger | |
KR100741475B1 (en) | In-line heater of etching and cleaning solutions for semiconductor wafer | |
US3824137A (en) | Solution agitation process | |
CN109023458A (en) | A kind of electroplanting device and method of PCB circuit board | |
KR100633043B1 (en) | Copper plating apparatus | |
JP2015178661A (en) | electroless plating method | |
TW202324622A (en) | Surface treatment apparatus | |
KR20050016854A (en) | Continuous Automatic Facilities for Electrochemical Indirect Etching of Aluminium Plate | |
JP5167983B2 (en) | Plating pretreatment method and surface treatment apparatus | |
JP2000160349A5 (en) | ||
KR100454475B1 (en) | Electroless plating method for the cooling line of injection molding | |
JP2000160349A (en) | Electroless plating device | |
KR20100107616A (en) | The plating tool | |
CN115821357A (en) | Environment-friendly electroplating production line and electroplating process thereof | |
KR20200050076A (en) | Method for pretreatment of metal surface | |
JPH093687A (en) | Method and equipment for pre-treatment of plating | |
JPH0375378A (en) | Circulating device for plating solution in electroless plating bath |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20110711 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |