KR100624915B1 - Test pattern in flash memory device - Google Patents

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    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • H01L22/10Measuring as part of the manufacturing process

Abstract

본 발명은 NAND 플래쉬 메모리 소자의 테스트 패턴에 관한 것으로, NAND 플래쉬 메모리 셀의 워드라인에 디코딩 회로를 두어 적은 수의 프로빙 패드로부터 입력되는 신호를 디코딩함으로써, 하나의 워드라인을 선택하여 선택 전압을 인가하고, 나머지 워드라인에는 패스 전압을 인가할 수 있고, 디코더를 이용하여 측정할 수 있는 셀의 수를 증가시켜 주 양산시에 발생할 수 있는 결함을 방지할 수 있고, 주 양산시 불량 모드를 적시에 분석할 수 있어 제품 개발 기간을 단축할 수 있으며, 양산용 칩과 테스트 패턴간의 특성을 상호의존을 높일 수 있는 NAND 플래쉬 메모리 소자의 테스트 패턴을 제공한다.
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a test pattern of a NAND flash memory device. A decoding circuit is provided on a word line of a NAND flash memory cell to decode a signal input from a small number of probing pads, thereby selecting one word line and applying a selection voltage. The pass word can be applied to the remaining word lines, and the number of cells that can be measured using the decoder can be increased to prevent defects that may occur during the main mass production, and the failure mode during the main mass production can be analyzed in a timely manner. It can shorten the product development period and provide a test pattern of NAND flash memory device that can increase the interdependence of characteristics between the production chip and the test pattern.

테스트 패턴, 프로빙 패드, 디코더, 셀, 선택 전압Test pattern, probing pad, decoder, cell, selection voltage

Description

플래쉬 메모리 소자의 테스트 패턴{Test pattern in flash memory device} Test pattern in flash memory device             

도 1은 본 발명에 따른 NAND 플래쉬 메모리 소자의 테스트 패턴이다.
1 is a test pattern of a NAND flash memory device according to the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100 : 셀 스트링 200 : 디코딩 회로
100: cell string 200: decoding circuit

본 발명은 플래쉬 메모리 소자의 테스트 패턴에 관한 것으로, 프로빙 패드를 이용한 NAND 플래쉬의 테스트 패턴의 테스트에 있어서 측정할 수 있는 셀의 수를 증가시킬 수 있는 방법에 관한 것이다.
The present invention relates to a test pattern of a flash memory device, and to a method of increasing the number of cells that can be measured in testing a test pattern of a NAND flash using a probing pad.

NAND 플래쉬 메모리 테스트 패턴에서는 32 셀 스트링(Cell String)을 구현하는데 프로빙(Probing)하는 패드가 적어도 40개 정도가 필요하다. 이렇게 많은 패드 를 사용하여 단지 96개의 셀 특성 밖에 확인 할 수 없다. 또한, NAND 플래쉬 메모리에서는 음(Negative) 전압을 사용하지 않으므로 음의 문턱 전압을 갖는 소거 셀 특성을 확인하는데 어려움이 있다. 그래서 생산용 칩과 테스트 패턴간의 특성을 상관시키기(Correlation) 어려운 문제가 있다.
In the NAND flash memory test pattern, at least 40 pads are required to probe 32-cell strings. With so many pads, only 96 cell characteristics can be identified. In addition, since the NAND flash memory does not use a negative voltage, it is difficult to identify an erase cell characteristic having a negative threshold voltage. Therefore, there is a problem in that the correlation between the production chip and the test pattern is difficult.

따라서, 본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위하여 테스트 패턴에 코딩(Coding)할 수 있도록 디코더(Decoder)를 도입함으로써, 측정할 수 있는 셀의 수를 증가시켜 메인 양산에서 불량을 검출할 수 있는 NAND 플래쉬 메모리 소자의 테스트 패턴을 제공한다.
Accordingly, in order to solve the above problem, the present invention introduces a decoder to code a test pattern, thereby increasing the number of cells that can be measured, thereby detecting a defect in the main mass production. A test pattern of a flash memory device is provided.

본 발명에 따른 플래쉬 메모리 소자의 테스트 패턴은 다수의 셀이 직렬 접속된 다수의 셀 스트링과, 상기 셀 스트링 내의 셀을 선택하기 위한 다수의 워드라인 및 비트라인과, 상기 셀 스트링의 드레인 단자와 상기 비트라인 사이에 접속되어 드레인 선택 신호에 따라 구동하는 드레인 선택 트렌지스터와, 상기 셀 스트링의 소오스 단자와 공통 소오스 라인 사이에 접속되어 소오스 선택 신호에 따라 구동하는 소오스 선택 트랜지스터 및 외부 신호에 따라 선택된 워드라인에는 선택 전압을 인가하고, 선택되지 않은 워드라인에는 패스 전압을 인가하는 디코딩 회로를 포함한다. The test pattern of the flash memory device according to the present invention includes a plurality of cell strings in which a plurality of cells are connected in series, a plurality of word lines and bit lines for selecting a cell in the cell string, a drain terminal of the cell string and the A drain select transistor connected between the bit lines and driven according to a drain select signal, a source select transistor connected between a source terminal of the cell string and a common source line and driven according to a source select signal and a word line selected according to an external signal And a decoding circuit for applying a selection voltage and applying a pass voltage to unselected word lines.                     

상기 디코딩 회로는 프로빙 패드로부터 소정의 제어 신호를 입력받아 하나의 상기 선택 전압과 31개의 상기 패스 전압을 생성할 수 있다. The decoding circuit may receive a predetermined control signal from a probing pad and generate one of the selected voltage and 31 of the pass voltages.

제 1 프로빙 패드를 통해 상기 드레인 선택 트랜지스터의 게이트 단자에 상기 드레인 선택 신호를 인가하고, 제 2 프로빙 패드를 통해 상기 소오스 선택 트랜지스터의 게이트 단자에 상기 소오스 선택 신호를 인가하고, 제 3 프로빙 패드를 통해 상기 공통 소오스 라인에 공통 소오스 전압을 인가하고, 제 4 프로빙 패드를 통해 상기 비트라인에 차징 전압을 인가할 수 있다.
The drain selection signal is applied to the gate terminal of the drain selection transistor through a first probing pad, and the source selection signal is applied to the gate terminal of the source selection transistor through a second probing pad, and through the third probing pad. A common source voltage may be applied to the common source line, and a charging voltage may be applied to the bit line through a fourth probing pad.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예를 더욱 상세히 설명하기로 한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described an embodiment of the present invention in more detail.

도 1은 본 발명에 따른 NAND 플래쉬 메모리 소자의 테스트 패턴이다. 1 is a test pattern of a NAND flash memory device according to the present invention.

도 1을 참조하면, 다수의 셀이 직렬 접속된 다수의 셀 스트링(100)과, 상기 셀 스트링(100) 내의 셀을 선택하기 위한 다수의 워드라인(W/L) 및 비트라인(B/L)과, 상기 셀 스트링(100)의 드레인 단자와 상기 비트라인(B/L) 사이에 접속되어 드레인 선택 신호(DSL)에 따라 구동하는 드레인 선택 트렌지스터(T1)와, 상기 셀 스트링(100)의 소오스 단자와 공통 소오스 라인(CSL) 사이에 접속되어 소오스 선택 신호(SSL)에 따라 구동하는 소오스 선택 트랜지스터(T2)와, 외부 신호에 따라 선택된 워드라인(W/L)에는 선택 전압(Bias1)을 인가하고, 선택되지 않은 워드라인(W/L)에는 패스 전압(Bias2)을 인가하는 디코딩 회로(200)를 포함한다. Referring to FIG. 1, a plurality of cell strings 100 in which a plurality of cells are connected in series, and a plurality of word lines W / L and bit lines B / L for selecting cells in the cell string 100 are illustrated. ), A drain select transistor T1 connected between the drain terminal of the cell string 100 and the bit line B / L and driven according to the drain select signal DSL, and the cell string 100 of the cell string 100. A source selection transistor T2 connected between the source terminal and the common source line CSL and driven according to the source selection signal SSL and a word line W / L selected according to an external signal are provided with a selection voltage Vias. And a decoding circuit 200 for applying a pass voltage Bis2 to the unselected word line W / L.

디코딩 회로(200)는 외부 패드로부터 소정의 제어 신호를 입력받아 선택된 워드라인(W/L)에는 선택 전압(Bias1)을 인가하고, 선택되지 않은 워드라인(W/L)에는 패스 전압을 인가한다. 디코딩 회로(200)는 5개의 프로빙 패드(미도시)로부터 소정의 테스트 신호를 입력받아 32개의 신호를 생성하되, 입력된 신호에 따라 선택된 워드라인에 인가될 하나의 선택 전압(Bias1)을 생성한다. 입력된 신호에 따라 선택되지 않은 워드라인에 인가될 31개의 패스 전압(Bias2)을 생성한다. 디코딩 회로(200)를 통해 워드라인에 인가되는 전압은 0 내지 18V가 된다. The decoding circuit 200 receives a predetermined control signal from an external pad, applies a selection voltage Bis1 to the selected word line W / L, and applies a pass voltage to the unselected word line W / L. . The decoding circuit 200 receives a predetermined test signal from five probing pads (not shown) to generate 32 signals, and generates one selection voltage Bis1 to be applied to a selected word line according to the input signal. . 31 pass voltages Bias2 to be applied to unselected word lines are generated according to the input signal. The voltage applied to the word line through the decoding circuit 200 is 0 to 18V.

디코딩 회로(200)는 도면 1에서 보는 바와 같이 제 1 및 제 2 바이어스(Bias1 및 Bias2) 출력 노드를 두어 프로그램 동작일 경우는 제 1 바이어스(Bias1) 출력 노드중 어느 하나의 노드에 18V의 전압을 인가한다. 한편 프로그램 동작일 경우, 제 2 바이어스(Bias2) 출력 노드는 18V의 전압이 인가된 제 1 바이어스(Bias1) 출력 노드와 중첩되는 제 2 바이어스(Bias2) 출력 노드를 제외한 나머지 노드에 10V의 전압을 인가한다. As shown in FIG. 1, the decoding circuit 200 has the first and second bias (Bias1 and Bias2) output nodes so that a voltage of 18 V may be applied to any one of the first bias (Bias1) output nodes in a program operation. Is authorized. In the case of a program operation, the second bias Bias2 output node applies a voltage of 10 V to the remaining nodes except for the second bias Bias2 output node overlapping the first bias Bias1 output node to which the voltage of 18 V is applied. do.

독출 동작일 경우, 제 1 바이어스(Bias1) 출력 노드중 어느 하나의 노드에 접지 전압을 인가하고, 제 2 바이어스 출력 노드는 접지 전압이 인가된 제 1 바이어스(Bias1) 출력 노드와 중첩되는 제 2 바이어스(Bias2) 출력 노드를 제외한 나머지 노드에 4.5V의 전압을 인가한다. In a read operation, a ground voltage is applied to any one of the first bias (Bias1) output nodes, and the second bias output node has a second bias overlapping the first bias (Bias1) output node to which the ground voltage is applied. (Bias2) Apply a voltage of 4.5V to all nodes except the output node.

소거 동작일 경우는 제 1 및 제 2 바이어스(Bias1 및 Bias2) 출력 노드 각각에 접지 전압을 인가한다. In the erase operation, a ground voltage is applied to each of the first and second bias bias signals Bias1 and Bias2.

본 발명은 이를 통해 선택된 셀을 테스트하기 위해 필요한 프로빙 패드(Probing Pad)의 수를 줄일 수 있고, 양산시의 셀 패턴과의 차이를 줄일 수 있 다. 즉, 종래에는 32개의 프로빙 패드로 제 1 내지 제 32 개의 워드라인중 선택된 워드라인에 선택 전압(Bias1)을 인가하고, 나머지 워드라인에는 패스 전압(Bias2)을 인가하였다. 하지만 본 발명은 최소 5개의 프로빙 패드만 사용하여 선택된 워드라인에 선택 전압(Bias1)을 인가하고, 선택되지 않은 워드라인에는 패스 전압(Bias2)을 인가할 수 있다. According to the present invention, it is possible to reduce the number of probing pads required for testing the selected cell and to reduce the difference between the cell patterns during mass production. That is, in the related art, the selection voltage Bis1 is applied to the selected word lines among the first to 32 word lines with 32 probing pads, and the pass voltage Bis2 is applied to the remaining word lines. However, the present invention may apply the selection voltage Vias to the selected word line using only at least five probing pads, and apply the pass voltage Vias to the unselected word lines.

예를 들어, 드레인 선택 트랜지스터와 인접한 셀을 제 1 셀로 하여 순차적으로 증가시켰을 경우, 제 3 셀을 선택하기 위해서는 종래에는 제 3 프로빙 패드에 선택 전압을 인가하였고, 나머지 프로빙 패드에는 패스 전압을 인가하였다. 하지만, 본 발명은 5개의 프로빙 패드 값으로 00010을 디코딩 회로에 인가하면, 제 3 셀에 선택 전압을 인가하게 되고, 나머지 셀들에는 패스 전압을 인가하게 된다. For example, when the cells adjacent to the drain select transistor are sequentially increased as the first cell, a selection voltage is conventionally applied to the third probing pad to select the third cell, and a pass voltage is applied to the remaining probing pads. . However, in the present invention, when 00010 is applied to the decoding circuit with five probing pad values, the selection voltage is applied to the third cell and the pass voltage is applied to the remaining cells.

본 발명은 다른 하나의 프로빙 패드를 통해 드레인 선택 트랜지스터(T1)의 게이트 단자에 드레인 선택 신호(DSL)를 인가하고, 다른 하나의 프로빙 패드를 통해 소오스 선택 트랜지스터(T2)의 게이트 단자에 소오스 선택 신호(SSL)를 인가하고, 다른 하나의 프로빙 패드를 통해 공통 소오스 라인(CSL)에 공통 소오스 전압을 인가하고, 다른 하나의 프로빙 패드를 통해 비트라인(B/L)에 차징 전압을 인가한다. 이때, 각기 다른 프로빙 패드를 통해 선택된 비트라인에 제 1 차징 전압을 인가하고, 다른 하나의 프로빙 패드를 통해 선택되지 않은 비트라인에 제 2 차징 전압을 인가할 수 있다. 또한, 다른 하나의 프로빙 패드를 통해 웰에 벌크 전압을 인가할 수 있다. 본 발명은 10개 내지 13개의 프로빙 패드만을 사용하여 선택된 셀을 테스트 할 수 있다. 또한, 양산을 위한 셀 패턴의 앞단에 디코딩 회로만을 첨가하 면 되기 때문에 노멀 셀 스트링과 테스트 패턴간의 측정 차이를 해결할 수 있다. 또한, 프로그램과 프로그램 디스터브(Disturb) 측정시 펄스 페일링(Pulse Failing)과 라이징 타입(Riseing Time) 설정에서 미스매치(Mismatch)를 없앨 수 있다. The present invention applies the drain select signal DSL to the gate terminal of the drain select transistor T1 through another probing pad, and the source select signal to the gate terminal of the source select transistor T2 through the other probing pad. (SSL) is applied, a common source voltage is applied to the common source line CSL through another probing pad, and a charging voltage is applied to the bit line B / L through the other probing pad. In this case, the first charging voltage may be applied to the bit lines selected through the different probing pads, and the second charging voltage may be applied to the bit lines not selected through the other probing pads. In addition, a bulk voltage may be applied to the well through the other probing pad. The present invention can test selected cells using only 10 to 13 probing pads. In addition, since only the decoding circuit needs to be added to the front of the cell pattern for mass production, the measurement difference between the normal cell string and the test pattern can be resolved. In addition, the mismatch can be eliminated in setting pulse failing and rising time when measuring programs and program disturbs.

표 1은 본 발명에 따른 테스트 패턴의 동작을 설명하기 위한 전압표이다. Table 1 is a voltage table for explaining the operation of the test pattern according to the present invention.

조건Condition 선택된 워드라인Selected wordline 선택되지 않은 워드라인Unselected wordline 선택된 비트라인Selected bitline 선택되지 않은 비트라인Unselected Bitline DSLDSL SSLSSL Well 리드 (Read)Read 0V0 V 4.5V4.5V 1V1 V 0V0 V 4.5V4.5V 4.5V4.5V 0V0 V 프로그램 (Program)Program 18V18V 10V10 V 0V0 V 0V0 V 4.5V4.5V 0V0 V 0V0 V 프로그램방지 (Inhibit Program)Inhibit Program 18V18V 10V10 V VccVcc VccVcc 4.5V4.5V 0V0 V 0V0 V 소거 (Erase)Erase 0V0 V 0V0 V FF FF FF FF 20V20 V

표 1을 참조하면, NAND 플래쉬 메모리 소자의 테스트 패턴에 각각의 동작에 따라 프로빙 패드를 통해 표와 같은 전압을 인가하되, 워드라인에는 디코딩 회로에 의한 프로빙 패드 신호의 조합을 통해 선택된 워드라인과 선택되지 않은 워드라인을 분할하여 각기 다른 전압을 인가한다. 'F'는 플로팅됨을 지칭한다. 셀 워드라인 앞에 고전압 트렌지스터를 접합시켜 셀이 코딩할 수 있도록 만들 수 있다. 워드라인에 필요한 바이어스를 인가하기 위해 워드라인에 뒤에 인버터를 삽입하여 선택된 워드라인에 선택 전압이 인가되면 자동으로 선택되지 않은 워드라인들에는 패스 전압이 인가될 수 있다.
Referring to Table 1, the voltages shown in the table are applied to the test pattern of the NAND flash memory device through the probing pads according to the respective operations, and the word lines and the selected word lines are selected through the combination of the probing pad signals by the decoding circuit. Different voltages are applied by dividing the unresolved word lines. 'F' refers to being floated. A high-voltage transistor can be bonded in front of the cell wordline to make the cell codeable. When a select voltage is applied to a selected word line by inserting an inverter behind the word line to apply a bias to the word line, a pass voltage may be applied to word lines that are not automatically selected.

상술한 바와 같이, 본 발명은 NAND 플래쉬 메모리 셀의 워드라인에 디코딩 회로를 두어 적은 수의 프로빙 패드로부터 입력되는 신호를 디코딩함으로써, 하나의 워드라인을 선택하여 선택전압을 인가하고, 나머지 워드라인에는 패스 전압을 인가할 수 있다. 또한, 디코더를 이용하여 측정할 수 있는 셀의 수를 증가시켜 주 양산시에 발생할 수 있는 결함을 방지할 수 있고, 주 양산시 불량 모드를 적시에 분석할 수 있어 제품 개발 기간을 단축할 수 있다. 그리고, 양산용 칩과 테스트 패턴간의 특성을 상호의존을 높일 수 있다.As described above, the present invention places a decoding circuit on a word line of a NAND flash memory cell to decode a signal input from a small number of probing pads, thereby selecting one word line and applying a selection voltage to the remaining word lines. A pass voltage can be applied. In addition, by increasing the number of cells that can be measured using a decoder, defects that may occur during main mass production can be prevented, and failure modes during main mass production can be analyzed in a timely manner, thereby shortening the product development period. In addition, the interdependence of the characteristics of the production chip and the test pattern can be increased.

Claims (3)

다수의 셀이 직렬 접속된 다수의 셀 스트링;A plurality of cell strings in which a plurality of cells are connected in series; 상기 셀 스트링 내의 셀을 선택하기 위한 다수의 워드라인 및 비트라인;A plurality of word lines and bit lines for selecting cells in the cell string; 상기 셀 스트링의 드레인 단자와 상기 비트라인 사이에 접속되어 드레인 선택 신호에 따라 구동하는 드레인 선택 트렌지스터;A drain select transistor connected between the drain terminal of the cell string and the bit line and driven according to a drain select signal; 상기 셀 스트링의 소오스 단자와 공통 소오스라인 사이에 접속되어 소오스 선택 신호에 따라 구동하는 소오스 선택 트랜지스터; 및A source select transistor connected between a source terminal of the cell string and a common source line and driven according to a source select signal; And 외부 신호에 따라 선택된 워드라인에는 선택 전압을 인가하고, 선택되지 않은 워드라인에는 패스 전압을 인가하는 디코딩 회로를 포함하는 플래쉬 메모리 소자의 테스트 패턴.And a decoding circuit configured to apply a selection voltage to a word line selected according to an external signal and apply a pass voltage to the unselected word lines. 제 1 항에 있어서, 상기 디코딩 회로는 프로빙 패드로부터 소정의 제어 신호를 입력받아 하나의 상기 선택 전압과 31개의 상기 패스 전압을 생성하는 플래쉬 메모리 소자의 테스트 패턴. The test pattern of claim 1, wherein the decoding circuit receives a predetermined control signal from a probing pad and generates one selected voltage and 31 pass voltages. 제 1 항에 있어서, 제 1 프로빙 패드를 통해 상기 드레인 선택 트랜지스터의 게이트 단자에 상기 드레인 선택 신호를 인가하고, 제 2 프로빙 패드를 통해 상기 소오스 선택 트랜지스터의 게이트 단자에 상기 소오스 선택 신호를 인가하고, 제 3 프로빙 패드를 통해 상기 공통 소오스 라인에 공통 소오스 전압을 인가하고, 제 4 프로빙 패드를 통해 상기 비트라인에 차징 전압을 인가하는 플래쉬 메모리 소자의 테스트 패턴.The method of claim 1, wherein the drain selection signal is applied to a gate terminal of the drain selection transistor through a first probing pad, and the source selection signal is applied to a gate terminal of the source selection transistor through a second probing pad. The test pattern of the flash memory device to apply a common source voltage to the common source line through a third probing pad, and to apply a charging voltage to the bit line through a fourth probing pad.
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