KR100622214B1 - Composition for low refractive layer and anti-refraction film using the same - Google Patents

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강경구
문주채
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Abstract

본 발명은 저굴절층 코팅용 조성물 및 이를 이용한 반사방지 필름에 관한 것으로, 보다 상세하게는 비정질의 함불소 수지, 알코올기를 포함하는 함불소 수지, 아크릴산 에스테르기를 포함하는 함불소 수지, 및 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 저굴절층 코팅용 조성물 및 이를 이용하여 제조한 반사방지 필름에 관한 것이다. 본 발명에 따르면 반사율은 낮고 투과율이 높으면서도 충분한 방오성을 나타내고 내구성이 향상된 반사방지 필름을 제공할 수 있다. The present invention relates to a composition for coating a low refractive index layer and an antireflection film using the same, and more particularly, to an amorphous fluorine resin, a fluorine-containing resin containing an alcohol group, a fluorine-containing resin containing an acrylic ester group, and a solvent. It relates to a composition for coating a low refractive index layer and an antireflection film prepared using the same. According to the present invention, it is possible to provide an antireflection film having a low reflectance and a high transmittance while showing sufficient antifouling properties and improved durability.

반사방지 필름, 비정질 함불소 수지, 알코올기, 아크릴산 에스테르기, 함불소 용매, 하드코트층, 고굴절층, 저굴절층, 반사율, 투과율, 경도, 밀착성 Antireflection film, amorphous fluorine-containing resin, alcohol group, acrylic acid ester group, fluorine-containing solvent, hard coat layer, high refractive index layer, low refractive layer, reflectance, transmittance, hardness, adhesion

Description

저굴절층 코팅용 조성물 및 이를 이용한 반사방지 필름{Composition for Low Refractive Layer and Anti-Refraction Film using the Same}Composition for Low Refractive Layer Coating and Anti-Reflective Film Using the Same {Composition for Low Refractive Layer and Anti-Refraction Film using the Same}

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 반사방지 필름의 단면 개략도이고;1 is a cross-sectional schematic view of an antireflective film according to an embodiment of the present invention;

도 2는 본 발명의 실시예 2에 의해 수득된 반사방지 필름의 반사율 스펙트럼을 나타낸 것이다.Figure 2 shows the reflectance spectrum of the antireflective film obtained by Example 2 of the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

1. 기재 2. 하드코트층1. Base material 2. Hard coat layer

3. 고굴절층 4. 저굴절층3. High refractive layer 4. Low refractive layer

본 발명은 저굴절층 코팅용 조성물 및 이를 이용한 반사방지 필름에 관한 것으로, 보다 상세하게는 비정질의 함불소 수지, 알코올기를 포함하는 함불소 수지, 아크릴산 에스테르기를 포함하는 함불소 수지, 및 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 저굴절층 코팅용 조성물 및 이를 이용하여 제조한 반사방지 필름에 관한 것이다. The present invention relates to a composition for coating a low refractive index layer and an antireflection film using the same, and more particularly, to an amorphous fluorine resin, a fluorine-containing resin containing an alcohol group, a fluorine-containing resin containing an acrylic ester group, and a solvent. It relates to a composition for coating a low refractive index layer and an antireflection film prepared using the same.

LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), CRT(Cathode Ray Tube) 또는 ELD(Electro Luminance Display)로 대표되는 디스플레이 장치의 사용이 일반화됨에 따라서 디스플레이 표면의 내마모성, 방오성 뿐만 아니라 이러한 디스플레이 장치를 옥외 및 밝은 조명 하에서 사용하는 경우에 태양광, 형광등 등의 외부광이 디스플레이 표면에 비치면서 반사되는 것을 방지하는 성능이 요구되고 있다.As the use of display devices such as liquid crystal displays (LCDs), plasma display panels (PDPs), cathode ray tubes (CRTs), or electroluminescent displays (ELDs) has become commonplace, these display devices have been used in addition to When used outdoors and under bright lighting, the performance of preventing external light such as sunlight or fluorescent light from being reflected on the display surface is required.

이러한 반사방지 기능을 부여하기 위하여 초기에는 플라스틱 기재상에 굴절률이 다른 1층 이상의 층을 증착법으로 형성하는 방법이 주를 이루었으나, 증착법은 그 비용이 현저하게 고가이고 대면적 코팅을 할 수 없다는 단점이 있다. 이에 굴절률이 낮은 유기계 수지인 함불소 수지를 이용하여 저굴절막을 형성하는 방법이 제안되었다. 함불소 중합체의 경우 일반적으로 용매에 불용이나, WO96/22356에서 비정질의 테트라플루오로에틸렌 공중합체를 함불소 용매에 용해하여 코팅하는 방법을 제시하였으며, 특개평 2-19801에서도 가용성의 함불소 수지를 이용하여 딥코트, 그라비아코트 등의 범용 도공방법으로 반사방지막을 형성하는 방법이 제안되고 있다. 특개평 8-22929호에서는 주고리에 함불소 지방족환 구조를 가지는 함불소 중합체를 소개하고 있는데, 이러한 중합체는 환구조의 입체효과로 인하여 비정질이고, 따라서 굴절률도 낮아 우수한 반사방지 효과를 기대할 수 있다. 또한 충분한 불소 함유량으로 인한 우수한 방오성을 기대할 수 있다. 그러나 비정질 함불소 수지 만 으로 막을 형성할 경우에는 밀착성 및 경도 등이 부족하여 내구성이 문제시된다. 따라서, 가교반응이 가능하도록 아크릴레이트기와 아크릴산기 및 알코올기를 포함하는 함불소 공중합체를 비정질 함불소 수지와 블랜딩하는 방법도 제시되고 있으나(미국 특허 제 5,139,879호) 이 방법이 내구성 향상에 미치는 효과를 뚜렷하게 기술하고 있지는 않다. 한편으로 기재 표면에 전처리를 실시하거나 (특개평 4-326965호), 방사방지층의 상층에 윤활성을 갖는 실리콘 오일 등으로 된 극 박막의 오버코트를 행하는 방법도 제안되고 있으나 이러한 방법은 코팅 공정을 추가함으로서 제조 비용을 높이고, 생산 수율을 저하시킬 수 있다.In order to provide such an antireflection function, a method of initially forming one or more layers having different refractive indices on a plastic substrate by a vapor deposition method has been mainly used. However, the vapor deposition method is extremely expensive and cannot be coated on a large area. There is this. Accordingly, a method of forming a low refractive film using a fluorine-containing resin which is an organic resin having a low refractive index has been proposed. Fluorine-containing polymers are generally insoluble in solvents, but WO96 / 22356 proposes a method for dissolving amorphous tetrafluoroethylene copolymers in fluorine-containing solvents. A method of forming an antireflection film by a general coating method such as a dip coat or a gravure coat has been proposed. Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 8-22929 introduces a fluorine-containing polymer having a fluorine-containing aliphatic ring structure in the ring, which is amorphous due to the steric effect of the ring structure, and thus, a low refractive index can be expected to provide excellent antireflection effect. In addition, excellent antifouling properties due to sufficient fluorine content can be expected. However, when the film is formed only with amorphous fluorine-containing resin, there is a lack of adhesion and hardness, so durability is a problem. Therefore, a method of blending an fluorine-containing copolymer containing an acrylate group, an acrylic acid group, and an alcohol group with an amorphous fluorine resin to enable crosslinking reaction has been proposed (US Pat. No. 5,139,879). It is not clearly stated. On the other hand, a method of pretreatment of the surface of the substrate (Japanese Patent Laid-Open No. 4-326965) or overcoat of an ultra-thin film made of a silicone oil having lubricity on the upper layer of the anti-radiation layer is also proposed. It is possible to increase the manufacturing cost and to lower the production yield.

본 발명의 목적은 상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서 반사방지 성능의 저하 없이 방오성 및 경도가 우수한 반사방지 필름을 제공하고자 하는 것이다. An object of the present invention to solve the problems of the prior art as described above is to provide an antireflection film excellent in antifouling properties and hardness without deterioration of antireflection performance.

즉, 상기 목적을 달성하기 위해 본 발명의 한 측면은 비정질의 함불소 수지, 알코올기를 포함하는 함불소 수지, 아크릴산 에스테르기를 포함하는 함불소 수지, 및 용매를 포함하는 저굴절층 코팅용 조성물에 관한 것이다.That is, in order to achieve the above object, an aspect of the present invention relates to an amorphous fluorine-containing resin, a fluorine-containing resin containing an alcohol group, a fluorine-containing resin containing an acrylic ester group, and a composition for coating a low refractive index layer containing a solvent. will be.

본 발명의 또 다른 한 측면은 상기 저굴절층 코팅용 조성물을 이용하여 반사방지 필름을 제조하는 방법에 관한 것이다.Another aspect of the invention relates to a method for producing an antireflection film using the composition for coating the low refractive index layer.

본 발명의 다른 한 측면은 상기 방법에 의해 제조된 반사방지 필름에 관한 것이다.Another aspect of the invention relates to an antireflective film produced by the method.

본 발명의 또 다른 측면은 상기 반사방지 필름을 이용한 화상 표시장치에 관한 것이다.Another aspect of the present invention relates to an image display apparatus using the antireflection film.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명에 관하여 보다 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail with reference to an accompanying drawing.

도 1에 본 발명의 방법에 의해 제조되는 반사방지 필름의 구조가 도시되어 있다. 본 발명의 방법에 의해 제조되는 반사방지 필름은 기재 (1) 위에 내스크래치성을 부여하는 하드코트층 (2), 반사방지 성능을 부여하는 고굴절층 (3) 및 저굴절층 (4)이 기재에 차례로 코팅되어 있는 구조의 필름이다. 1 shows the structure of an antireflective film produced by the method of the present invention. The antireflection film produced by the method of the present invention includes a hard coat layer (2) giving scratch resistance on the substrate (1), a high refractive index layer (3) and a low refractive index layer (4) giving antireflection performance. It is a film of a structure coated in order.

이하, 본 발명의 반사방지 필름의 각 층에 관하여 보다 상세하게 설명하기로 한다. Hereinafter, each layer of the antireflection film of the present invention will be described in more detail.

본 발명의 반사방지 필름의 기재 (1)로는 투명성이 있는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 가공성의 측면에서는 플라스틱 필름을 사용하는 것이 바람직하다. 기재로 통상 사용되는 재료의 예를 들면, 아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스, 프로피오닐셀룰로오스, 아세틸프로피오닐셀룰로오스, 니트로셀룰로오스 등의 셀룰로오스 에스테르류; 또는 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌 나프탈레이트, 폴리-1,4-시클로헥산 디메틸렌 테레프탈레이트, 폴리에틸렌-1,2-디페녹시에탄-4,4'-디카르복시레이트, 시클로헥산 디메틸렌 테레프탈레이트 등의 폴리에스테르류; 또는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜탄 등의 폴리 올레핀류가 사용될 수 있으며, 그 외에도 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리비닐알코올, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리아미드, 폴리에테르술폰, 폴리에테르케톤, 폴리술폰, 폴리이미드, 나일론 등을 사용할 수 있다. 이 중에서 아세틸셀룰로오스, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 또는 폴리카보네이트가 투명성이 우수하여 광학 필름의 기재로서 보다 적합하다. 또한 아세틸셀룰로오스는 알칼리 물질에 의해 감화처리 된 것을 사용할 수도 있다. The substrate 1 of the antireflection film of the present invention is not particularly limited as long as it has transparency, but it is preferable to use a plastic film from the viewpoint of processability. Examples of the material commonly used as the substrate include cellulose esters such as acetyl cellulose, diacetyl cellulose, propionyl cellulose, acetyl propionyl cellulose and nitrocellulose; Or polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, poly-1,4-cyclohexane dimethylene terephthalate, polyethylene-1,2-diphenoxyethane-4,4'-dicarboxylate, cyclohexane Polyesters such as dimethylene terephthalate; Or polyolefins such as polyethylene, polypropylene, polymethylpentane, and the like, in addition, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polystyrene, polycarbonate, polyamide, polyether Sulfone, polyether ketone, polysulfone, polyimide, nylon and the like can be used. Among these, acetyl cellulose, polyethylene terephthalate or polycarbonate is excellent in transparency and is more suitable as a substrate of an optical film. In addition, acetyl cellulose can also be used that is sensitized by an alkaline substance.

본 발명의 반사방지 필름의 하드코트층 (2)으로 사용할 수 있는 수지로는 자외선 경화형 수지로서 2개 이상의 관능기를 갖는 화합물이 바람직하다. 이러한 화합물로는 분자 중에 메타아크릴로일기, 메타아크릴로일옥시기와 같은 중합반응이 가능한 불포화 결합 또는 에폭시기와 같은 양이온성의 중합반응이 가능한 관능기를 갖는 단량체, 올리고머 또는 폴리머가 있으며 이러한 화합물을 1종 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 조성물로써 이용할 수 있다. 상기 조성물은 미경화시에는 액상이어야 하며, 경화시에는 가교를 이룰 수 있도록 에틸렌기를 분자 내에 포함하고 있는 것이 바람직하다.As resin which can be used for the hard-coat layer 2 of the antireflection film of this invention, the compound which has two or more functional groups as an ultraviolet curable resin is preferable. Such compounds include monomers, oligomers or polymers having unsaturated functional groups capable of polymerization reaction such as methacryloyl group and methacryloyloxy group or functional groups capable of cationic polymerization reaction such as epoxy group in the molecule. It can be used as a composition or by mixing two or more kinds. The composition should be a liquid at the time of uncuring, it is preferable to include an ethylene group in the molecule so as to form a crosslinking at the time of curing.

상기 단량체의 구체적인 예로서는 2-히드록시 에틸 메타크릴레이트, 2-히드록시 프로필 메타크릴레이트, 테트라 하이드로 퍼프릴 아크릴레이트, 글리시딜 메타크릴레이트, 아크릴로일 모폴린, 2-시아노 메타크릴레이트, N,N-디메틸 아크릴아미드, N-비닐 피롤리돈, N-비닐--카프로락탐, 페녹시 디에틸렌글리콜 메타크릴레이트, 펜타에리스리톨 테트라메타크릴레이트, 디펜타에리스리톨 트리메타크릴레이트, 트리메티롤프로판 트리메타크릴레이트, 트리메티롤에탄 트리메타크릴레이트, 디펜타에리스리톨 테트라메타크릴레이트, 에리스리톨 디메타크릴레이트, 펜타에리스리톨 트리메타크릴레이트(pentaerythritol trimetacrylate), 1,2,3-시클로헥산 테트라 메타크릴레이트 등이 있다.Specific examples of the monomers include 2-hydroxy ethyl methacrylate, 2-hydroxy propyl methacrylate, tetra hydroperryl acrylate, glycidyl methacrylate, acryloyl morpholine and 2-cyano methacrylate. , N, N-dimethyl acrylamide, N-vinyl pyrrolidone, N-vinyl-caprolactam, phenoxy diethylene glycol methacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol trimethacrylate, trimeme Tyrolpropane trimethacrylate, trimetholethane trimethacrylate, dipentaerythritol tetramethacrylate, erythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, 1,2,3-cyclohexane tetra Methacrylate and the like.

상기 올리고머의 구체적인 예로서는 폴리에스테르 메타크릴레이트 또는 우레탄 메타크릴레이트 등이 있다. 상기 폴리에스테르 메타크릴레이트는 폴리에스테르 폴리올과 메타크릴산의 반응에 따라 얻어질 수 있고, 상기 우레탄 메타크릴레이트는 비스페놀형 에폭시수지와 메타크릴레이트, 유기 폴리이소시아네이트와 히드록시메타크릴레이트, 또는 폴리올, 유기 폴리이소시아네이트 및 히드록시메타크릴레이트 화합물의 반응에 따라 얻어질 수 있다.Specific examples of the oligomer include polyester methacrylate or urethane methacrylate. The polyester methacrylate can be obtained according to the reaction of the polyester polyol and methacrylic acid, the urethane methacrylate is bisphenol-type epoxy resin and methacrylate, organic polyisocyanate and hydroxy methacrylate, or polyol It can be obtained according to the reaction of organic polyisocyanate and hydroxymethacrylate compound.

한편, 자외선을 이용하여 상기 액상의 조성물을 경화시키기 위해서는 광중합 개시제가 필요하다. 광중합 개시제의 예로는 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 크산톤, 플루로레톤, 4,4'-디메톡시벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 미히라케톤, 벤조인프로필에테르, 벤조인에틸에테르, 벤질디메틸케탈, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 티오크산톤, 디에틸티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-프로판-1-온, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥시드 중에서 1종 또는 2종 이상의 조합을 들 수 있다. On the other hand, in order to harden the said liquid composition using ultraviolet-ray, a photoinitiator is needed. Examples of the photopolymerization initiator include 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, xanthone, fluorerotone, 4,4'-dimethoxybenzophenone, 4,4'-dia Minobenzophenone, mihiraketone, benzoin propylether, benzoin ethyl ether, benzyl dimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy 2-methyl-1-phenylpropan-1-one, thioxanthone, diethyl thioxanthone, 2-isopropyl thioxanthone, 2-chloro thioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methyl Thio) phenyl] -2-morpholino-propane-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphineoxide, bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethyl 1 type, or 2 or more types of combination is mentioned among pentyl phosphine oxide.

상기 광중합 개시제의 첨가량은 0.5 내지 10 중량%인 것이 바람직하고, 0.5 내지 5 중량%인 것이 보다 바람직하다. 첨가량이 0.5 중량% 미만이면, 경화성 조성물을 경화하였을 때 경도가 충분하지 못하며 첨가량이 10 중량%을 초과하면 광중합 개시제 자체가 라디칼과 반응하여 중합을 억제하는 기능을 하는 경우가 있기 때문이다. It is preferable that it is 0.5-10 weight%, and, as for the addition amount of the said photoinitiator, it is more preferable that it is 0.5-5 weight%. If the amount is less than 0.5% by weight, the hardness is insufficient when the curable composition is cured. If the amount is more than 10% by weight, the photopolymerization initiator itself may react with radicals to inhibit polymerization.

또한 하드코트층에는 굴절율을 조절하거나 막의 경화 강도를 높이기 위해 무기 미립자를 첨가할 수도 있다. 무기 미립자로서는 평균 입자 사이즈가 0.5 마이크로미터 이하인 것이 바람직하다. 무기 미립자로서 이산화규소, 이산화티탄, 산화 알루미늄, 산화 주석, 탄산칼슘, 황산 바륨, 활석, 카올린 또는 유산 칼슘 입자를 사용할 수 있다. 무기 미립자의 첨가량은 하드코트 형성용 코팅액 전 중량에 대하여 10 내지 90 중량%인 것이 바람직하고 30 내지 60 중량%인 것이 더욱 바람직하다.In addition, inorganic fine particles may be added to the hard coat layer in order to adjust the refractive index or increase the curing strength of the film. As the inorganic fine particles, the average particle size is preferably 0.5 micrometer or less. As the inorganic fine particles, silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, tin oxide, calcium carbonate, barium sulfate, talc, kaolin or calcium lactate particles can be used. The amount of the inorganic fine particles added is preferably 10 to 90% by weight and more preferably 30 to 60% by weight based on the total weight of the coating liquid for hard coat formation.

용매는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 메틸 알코올, 에틸 알코올, 프로판올, 이소 프로판올 등의 알코올; 또는 메틸 이소부틸 케톤, 메틸에틸케톤 등의 케톤; 또는 초산 메틸, 초산 에틸 등의 에스테르; 또는 톨루엔, 크실렌, 벤젠 등의 방향족 화합물; 또는 디에틸 에테르 등의 에테르를 사용할 수 있다. 용매의 함량이 20 중량% 미만인 경우는 고점도로 인하여 균일하게 도포가 어려우며, 90 중량%을 초과하는 경우는 원하는 두께의 코팅층을 형성하기 어려우므로 그 함량을 20~90 중량%로 하는 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 50~90 중량%로 한다.The solvent is not particularly limited, but alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, propanol and isopropanol; Or ketones such as methyl isobutyl ketone and methyl ethyl ketone; Or esters such as methyl acetate and ethyl acetate; Or aromatic compounds such as toluene, xylene, benzene; Or ethers such as diethyl ether can be used. When the content of the solvent is less than 20% by weight, it is difficult to uniformly apply due to the high viscosity, and when the content of the solvent exceeds 90% by weight, it is difficult to form a coating layer of a desired thickness, so the content is preferably 20 to 90% by weight, More preferably, you may be 50 to 90 weight%.

본 발명에서 하드코트층 (2)의 두께는 0.5 내지 15 마이크로미터인 것이 바람직하다. 하드코트층의 두께가 너무 얇으면 경도가 충분하지 않으며, 두께가 너무 두꺼우면 필름에 컬이 발생하기 쉽고 투과율이 낮아진다. In the present invention, the thickness of the hard coat layer 2 is preferably 0.5 to 15 micrometers. If the thickness of the hard coat layer is too thin, the hardness is not sufficient, and if the thickness is too thick, curling is likely to occur in the film and the transmittance is low.

코팅 방법은 특별히 한정되지 않으며 롤 코팅, 다이 코팅, 바 코팅, 스핀 코팅법 등 일반적인 습식 코팅(wet coating)을 모두 사용할 수 있으며, 코팅 후 50 ~ 130 ℃에서 용매를 건조하고 에너지 100 ~ 700 mJ/cm2로 자외선 경화한다.The coating method is not particularly limited, and general wet coating such as roll coating, die coating, bar coating, and spin coating can be used. After coating, the solvent is dried at 50 to 130 ° C. and energy is 100 to 700 mJ / UV curing at cm 2 .

본 발명의 고굴절층을 (3)형성하기 위한 코팅액은 유기 용매 중에 분산되어 있는 금속 산화물 미립자(a)를 자외선 경화가 가능한 관능기 2 이상의 수지(b) 및 유기 용매(c) 중에 분산하여 제조한다. The coating liquid for forming the high refractive layer (3) of the present invention is prepared by dispersing the metal oxide fine particles (a) dispersed in an organic solvent in a resin (b) and an organic solvent (c) having at least two functional groups capable of ultraviolet curing.

상기 금속 산화물 미립자(a)로는 특별히 제한되는 것은 아니지만, 산화 아연, 산화 주석, 안티몬 함유 산화 주석, 인듐 함유 산화 주석, 산화 인듐, 산화 안티몬, 산화 지르코늄, 산화 티탄, 산화 텅스텐, 안티몬산 아연, 산화 바나듐 등을 사용할 수 있으며 입자의 분산성과 굴절률 조정의 용이함을 고려하여 선택하는 것이 바람직하다. 상기 금속 산화물 미립자는 그 입경이 필요 이상으로 미세한 경우 분산이 어려우며, 입경이 큰 경우 헤이즈가 증가할 가능성이 있으므로, 본 발명의 목적을 달성하기에 평균 입경이 0.01 내지 0.5 마이크로미터의 범위인 경우가 바람직하다. 이들 금속 산화 미립자의 표면을 커플링제를 이용하여 처리하면 미립자의 분산성이 향상되고 고굴절층 형성용 코팅액의 분산안정성도 높아진다. 커플링제의 예로는 이소프로필 트리이소스테아로일 티타네이트, 티탄 n-부톡시드, 티탄 에톡시드, 티탄 2-에틸헥시옥시드, 티탄 이소부톡시드, 티탄 스테아릴옥시드, 트리이 소프로폭시 헵타데시네이트 티탄 등을 들 수 있다. The metal oxide fine particles (a) are not particularly limited, but zinc oxide, tin oxide, antimony-containing tin oxide, indium-containing tin oxide, indium oxide, antimony oxide, zirconium oxide, titanium oxide, tungsten oxide, zinc antimonate, and oxidation Vanadium and the like can be used, and it is preferable to select in consideration of the dispersibility of the particles and the ease of adjusting the refractive index. The metal oxide fine particles are difficult to disperse when the particle size is finer than necessary, and the haze may increase when the particle size is large, so that the average particle size may be in the range of 0.01 to 0.5 micrometer to achieve the object of the present invention. desirable. When the surfaces of these metal oxide fine particles are treated with a coupling agent, the dispersibility of the fine particles is improved and the dispersion stability of the coating liquid for forming the high refractive index is also increased. Examples of coupling agents include isopropyl triisostearoyl titanate, titanium n-butoxide, titanium ethoxide, titanium 2-ethylhexoxide, titanium isobutoxide, titanium stearyloxide, triisopropoxy hepta Desiccated titanium etc. are mentioned.

상기 자외선 경화가 가능한 관능기 2 이상의 수지(b)는 하드코팅에 사용되는 수지와 동일한 종류이며 분자 중에 메타아크릴로일기, 메타아크릴로일옥시기와 같은 중합반응이 가능한 불포화 결합 또는 에폭시기와 같은 양이온성의 중합반응이 가능한 관능기를 갖는 단량체, 올리고머 또는 폴리머이다.The resin (b) having at least two functional groups capable of ultraviolet curing is the same kind as the resin used for hard coating and cationic polymerization such as unsaturated bonds or epoxy groups capable of polymerization reaction such as methacryloyl group and methacryloyloxy group in the molecule. It is a monomer, oligomer, or polymer which has a functional group which can react.

고굴절층 형성용 코팅액에 사용되는 유기 용매(c) 또한 하드코팅에 사용하는 용매와 동일하며, 코팅시 박막을 균일하게 형성하기 위하여 고형분은 1 내지 20 중량%가 바람직하다. The organic solvent (c) used in the coating liquid for forming the high refractive index is also the same as the solvent used for the hard coating, and the solid content is preferably 1 to 20% by weight in order to form a thin film during coating.

고굴절 코팅액의 코팅 방법은 특별히 한정되지 않으며 롤 코팅, 다이 코팅, 바 코팅, 스핀 코팅법 등 일반적인 습식 코팅(wet coating)을 모두 사용할 수 있으며 코팅 후 50 ~ 130 ℃에서 용매를 건조하고 300 ~ 1000 mJ/cm2의 자외선 경화로 코팅층을 형성한다.The coating method of the high refractive coating liquid is not particularly limited, and general wet coating such as roll coating, die coating, bar coating, and spin coating can be used. After coating, the solvent is dried at 50 to 130 ° C. and 300 to 1000 mJ. Ultraviolet curing at / cm 2 to form a coating layer.

필요에 따라 고굴절층은 그 굴절률을 조절하여 중굴절층, 고굴절층의 순서의 2층 형태로 부여할 수 있다. 이때 굴절률은 금속 산화 미립자의 함유량으로 조절하게 된다. If necessary, the high refractive index layer can be provided in a two-layer form in the order of the medium refractive layer and the high refractive layer by adjusting its refractive index. At this time, the refractive index is controlled by the content of the metal oxide fine particles.

본 발명의 특징적인 저굴절층 (4) 코팅용 조성물은 비정질의 함불소 수지(d), 알코올기를 포함하는 함불소 수지(e), 및 아크릴산 에스테르기를 포함하는 함불소 수지(f)를 용매(g)에 용해하여 제조한다.Characteristic of the low refractive index layer (4) coating composition of the present invention is an amorphous fluorine-containing resin (d), a fluorine-containing resin (e) containing an alcohol group, and a fluorine-containing resin (f) containing an acrylic acid ester group as a solvent ( It is prepared by dissolving in g).

상기 비정질의 함불소 수지(d)는 일반적으로 테트라플루오로에틸렌과 불소를 함유하는 다른 코모노머와의 공중합체 형태이다. 테트라플루오로에틸렌과 반응하는 불소 함유 모노머의 예로는 CH2=CHF, CH2=CF2, CF2=CHF, CH2=CF-O-CnF2n+1 (n은 1~10 의 정수); CF2=CF-CF3; CF2=CF-O-CF2CF2COOCH3; 또는 하기의 화학식 1을 갖는 2,2-비스트리플루오로메틸-4,5-디플루오로-1,3-다이옥솔 등이 있다. The amorphous fluorine-containing resin (d) is generally in the form of a copolymer of tetrafluoroethylene with another comonomer containing fluorine. Examples of the fluorine-containing monomer reacting with tetrafluoroethylene include CH 2 = CHF, CH 2 = CF 2 , CF 2 = CHF, CH 2 = CF-OC n F 2n + 1 ( n is an integer of 1 to 10); CF 2 = CF-CF 3 ; CF 2 = CF-O-CF 2 CF 2 COOCH 3 ; Or 2,2-bistrifluoromethyl-4,5-difluoro-1,3-dioxol having the formula (1) below.

Figure 112005020199763-pat00001
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상기와 같은 비정질 함불소 수지 중 코모노머로써 2,2-비스트리플루오로메틸-4,5-디플루오로-1,3-다이옥솔을 사용하여 중합한 비정질 함불소 수지는 듀폰에서 Teflon-AF 라는 상품명으로 판매되고 있다. Among the amorphous fluorine-containing resins described above, amorphous fluorine-containing resins polymerized using 2,2-bistrifluoromethyl-4,5-difluoro-1,3-diosol as comonomer are Teflon-AF in DuPont. It is sold under the brand name.

상기 알코올기를 포함하는 함불소 수지(e)는 불소 원자를 함유하는 단량체(A 성분)와 알코올기 또는 에폭시기를 함유하는 단량체(B 성분)를 공중합하여 얻을 수 있다. 상기 불소 원자를 함유하는 단량체(A 성분)로는 테트라플루오르에틸렌, 헥사플루오르프로필렌, 불화비닐리덴, 클로로트리플루오르에틸렌, 트리플루오르에틸렌, 테트라플루오르에틸렌, (플루오르알킬)비닐에테르, (플루오르알콕시알킬)비닐에테르, 퍼플루오르(알킬비닐에테르), 퍼플루오르(알콕시비닐에테르), 불소 함유 메타크릴산에스테르 등이 있다. 상기 알코올기 또는 에폭시기를 함유하는 단량체(B 성분)로는 히드록시에틸비닐에테르, 히드록시프로필비닐에테르, 히드록시부틸알릴에테르, 알릴클리시딜에테르, 메타크릴산글리시딜에스테르, 크로톤산글리시딜에스테르, 말레인산메틸글리시딜에스테르 등의 1종 단독 또는 2종 이상의 조합이 사용될 수 있다. 상기 A 성분과 B 성분은 라디칼 중합 개시제를 사용한 용액 중합법, 현탁 중합법, 유화 중합법, 괴상 중합법 등을 이용하여 공중합체로의 중합이 가능하다. 알코올기를 포함하는 함불소 수지의 바람직한 함량 범위는 전체 고형분에 대하여 20 ~ 50 중량부이며, 20 중량부 미만일 경우 제조된 반사 방지막의 경도 및 밀착성이 떨어질 수 있고, 50 중량부를 초과하면 본 발명에서 목적으로 하는 반사방지 성능 구현이 어려울 수 있다.The fluorine-containing resin (e) containing the alcohol group can be obtained by copolymerizing a monomer (component A) containing a fluorine atom with a monomer (component B) containing an alcohol group or an epoxy group. As the monomer (component A) containing the fluorine atom, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, vinylidene fluoride, chlorotrifluoroethylene, trifluoroethylene, tetrafluoroethylene, (fluoroalkyl) vinyl ether, (fluoroalkoxyalkyl) vinyl Ether, perfluoro (alkyl vinyl ether), perfluoro (alkoxy vinyl ether), fluorine-containing methacrylic acid ester and the like. As the monomer (component B) containing the alcohol group or the epoxy group, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxypropyl vinyl ether, hydroxybutyl allyl ether, allyl glycidyl ether, methacrylic acid glycidyl ester, and crotonic acid glycine One kind or a combination of two or more kinds of diester, methylglycidyl ester and the like can be used. The said A component and B component can be superposed | polymerized into a copolymer using the solution polymerization method, suspension polymerization method, emulsion polymerization method, block polymerization method, etc. using a radical polymerization initiator. The preferred content range of the fluorine-containing resin containing an alcohol group is 20 to 50 parts by weight with respect to the total solids, when less than 20 parts by weight may reduce the hardness and adhesion of the anti-reflection film produced, if it exceeds 50 parts by weight Implementing anti-reflection performance can be difficult.

상기 아크릴산 에스테르기를 포함하는 함불소 수지(f)는 분자쇄에 알코올기를 갖고 있는 함불소 수지와 분자쇄에 카르복실기를 갖고 있는 함불소 수지의 축합 중합으로 제조할 수 있다. The fluorine-containing resin (f) containing the acrylic acid ester group can be produced by condensation polymerization of a fluorine-containing resin having an alcohol group in the molecular chain and a fluorine-containing resin having a carboxyl group in the molecular chain.

분자쇄에 카르복실기를 도입하는 방법으로는, 1) 분자내에 카르복실기 또는 이러한 전구체기(예를 들면 아실기)를 갖는 개시제 또는 연쇄 이동제의 존재 하에서 중합을 수행하여 함불소 중합체의 말단기에 카르복실기를 도입하는 방법, 2) 산소 존재 하에서 함불소 중합체를 고온 처리하여 함불소 중합체의 측쇄 또는 말단을 산화 분해하고, 이것을 물 또는 알코올 처리하여 카르복실기를 도입하는 방법, 또는 3) 메틸 펠플루오르 등의 카르본산 유도체기를 갖는 모노머를 공중합시켜 함불소 중합체의 측쇄에 관능기를 도입하는 방법 등을 예로 들 수 있다.As a method of introducing a carboxyl group into the molecular chain, 1) polymerization is carried out in the presence of an carboxyl group or an initiator or chain transfer agent having such a precursor group (for example, an acyl group) in the molecule to introduce a carboxyl group to the terminal of the fluorinated polymer. 2) a method of oxidatively decomposing side chains or ends of the fluorine-containing polymer by heating the fluorine-containing polymer at high temperature in the presence of oxygen and introducing a carboxyl group by treating it with water or alcohol, or 3) a carboxylic acid derivative such as methyl felfluor The method etc. which introduce | transduce a functional group into the side chain of a fluorine-containing polymer by copolymerizing the monomer which has a group are mentioned.

상기 아크릴산 에스테르기를 포함하는 불소 함유 공중합체의 바람직한 함량 범위는 전체 고형분에 대하여 10 ~ 35 중량부이며, 10 중량부 미만일 경우 반사 방지막의 밀착성이 충분치 못하게 되며, 35 중량부를 초과할 경우 아크릴산 에스테르기를 포함하는 함불소 수지의 미반응물이 코팅막 중 포함되어 반사 방지막의 경도를 저하시킬 수 있다. The preferred content range of the fluorine-containing copolymer including the acrylic ester group is 10 to 35 parts by weight based on the total solids, when less than 10 parts by weight, the adhesion of the antireflection film is not sufficient, and when more than 35 parts by weight includes an acrylic ester group An unreacted material of the fluorine-containing resin may be included in the coating film to decrease the hardness of the anti-reflection film.

본 발명의 저굴절층 코팅용 조성물에 사용되는 용매로서는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 비정질의 함불소 수지(d), 알코올기를 포함하는 함불소 수지(e) 및 아크릴산 에스테르기를 포함하는 함불소 수지(f)의 용해가 가능한 함불소 용매를 사용하는 것이 보다 바람직하다. 상기 용매의 구체적인 예로는 F(CF2)6OCH3, F(CF2)7OCH3, F(CF2)8OCH3, F(CF2)9OCH3 또는 F(CF2)10OCH3 등이 있다. 3M에서는 상업용 함불소 용매를 시판하고 있으며, 그 예로는 FC-40, FC-43, FC-75, FC-77, FC-84, FC-87, FC-104, FC-3283, FC-5312, FC-5320, HFE-7200, HFE-7100 등이 있다. 상기와 같은 함불소 용매는 1종 단독으로 사용할 수 있으며, 적절한 2종 이상을 혼합하여 사용하는 것도 가능하다. The solvent used in the composition for coating the low refractive index layer of the present invention is not particularly limited, but includes an amorphous fluorine-containing resin (d), a fluorine-containing resin (e) containing an alcohol group, and a fluorine-containing resin (f) containing an acrylic ester group (f). It is more preferable to use the fluorine-containing solvent which can melt | dissolve (). Specific examples of the solvent include F (CF 2 ) 6 OCH 3 , F (CF 2 ) 7 OCH 3 , F (CF 2 ) 8 OCH 3 , F (CF 2 ) 9 OCH 3 or F (CF 2 ) 10 OCH 3 Etc. 3M markets commercial fluorine-containing solvents, such as FC-40, FC-43, FC-75, FC-77, FC-84, FC-87, FC-104, FC-3283, FC-5312, FC-5320, HFE-7200, HFE-7100 and the like. The fluorine-containing solvent as described above may be used alone or in combination of two or more kinds.

상기 저굴절층 코팅용 조성물에 용해되는 상기 알코올기를 포함하는 함불소 수지(e)는 아크릴산 에스테르기를 포함하는 함불소 수지(f)에 대하여 동등량 또는 그 이상인 것이 바람직하다. 또한 상기 비정질 함불소 수지(d)는 전체 고형분 에 대하여 30 중량부 이상인 것이 바람직하다. 비정질 함불소 수지(i)의 바람직한 함량 범위는 전체 고형분에 대하여 30 ~ 70 중량부이며, 30중량부 미만일 경우 제조된 반사방지막의 방오성이 충분하지 않을 수 있으며, 70 중량부를 초과하면 제조된 반사 방지막의 경도가 저하될 수 있다.It is preferable that the fluorine-containing resin (e) containing the alcohol group dissolved in the composition for coating the low refractive index layer is equivalent to or greater than the fluorine-containing resin (f) containing an acrylic ester group. In addition, the amorphous fluorine-containing resin (d) is a total solid It is preferable that it is 30 weight part or more with respect to. A preferable content range of the amorphous fluorine-containing resin (i) is 30 to 70 parts by weight based on the total solids, if less than 30 parts by weight may not be sufficient antifouling properties of the prepared antireflection film, if it exceeds 70 parts by weight The hardness of can be lowered.

한편, 상기 저굴절층 코팅용 조성물의 고형분은 전체 조성물 대비 0.5 ~ 5 중량%가 바람직하다. 고형분 함량이 너무 적으면 충분한 반사방지 성능을 얻을 수 있는 두께의 코팅막을 형성할 수 없으며, 고형분 함량이 5 중량%를 초과할 경우에는 함불소 수지가 균일하게 용해되기 어렵다. On the other hand, the solid content of the low refractive index layer coating composition is preferably 0.5 to 5% by weight relative to the total composition. If the solid content is too small, it is impossible to form a coating film having a thickness capable of obtaining sufficient anti-reflection performance, and when the solid content exceeds 5% by weight, the fluorine-containing resin is difficult to dissolve uniformly.

본 발명의 저굴절층 코팅용 조성물을 이용하여 반사방지 필름을 제조함에 있어서,In manufacturing the antireflection film using the composition for coating a low refractive index layer of the present invention,

상기 저굴절층 코팅용 조성물은 일반적인 습식 코팅 방법으로 기재상에 도포하고, 상기 코팅용 조성물을 건조시키는 방법으로 코팅막 형성이 가능하다. 코팅용조성물의 건조 온도는 50 ~ 150 ℃가 바람직하고, 70 ~ 140 ℃가 보다 바람직하며 건조 시간은 15 분에서 120 분이 바람직하다. 건조 온도가 50 ℃ 미만일 경우에는 용매가 충분히 휘발되지 않아 우수한 경도를 갖는 코팅막을 형성할 수 없으며, 건조 온도가 150 ℃ 를 초과할 경우에는 기재 필름의 변형 및 하드코트 층의 황변이 나타날 수 있다. The low refractive index coating composition is applied on a substrate by a general wet coating method, it is possible to form a coating film by drying the coating composition. The drying temperature of the coating composition is preferably 50 to 150 ° C, more preferably 70 to 140 ° C, and the drying time is preferably 15 to 120 minutes. If the drying temperature is less than 50 ° C, the solvent may not be sufficiently volatilized to form a coating film having excellent hardness. If the drying temperature exceeds 150 ° C, deformation of the base film and yellowing of the hard coat layer may occur.

필요에 따라서는 저굴절 코팅액 중에 자외선 경화를 유도할 수 있는 광중합 개시제를 첨가하여 자외선을 조사하는 방법으로 코팅막의 내구성을 향상시킬 수 있다. 이때 광중합 개시제는 하드코팅에 사용되는 광중합 개시제와 동일한 종류로 함불소 용매에 가용인 것이 바람직하다.If necessary, the durability of the coating film may be improved by adding a photopolymerization initiator capable of inducing ultraviolet curing to the low refractive coating solution by irradiating ultraviolet rays. In this case, the photopolymerization initiator is preferably soluble in the fluorine-containing solvent in the same kind as the photopolymerization initiator used for hard coating.

본 발명의 다른 하나의 양상은 상기 제조방법에 의해 수득되는 반사방지 필름과 관련된다. 본 발명에 따른 반사방지 필름은 도 1에 나타나는 바와 같이 기재 (1) 상에 하드코트층 (2)이 형성되고 그 위에 고굴절층 (3) 및 저굴절층 (4)이 형 성된 구조이다. 상기 방법에 의해 고굴절층 형성용 코팅액으로 고굴절층을 형성하였을 때, 굴절율이 1.6 이상, 바람직하게는 1.6 ~ 2의 값이고, 그 두께는 60 nm 내지 600 nm로 하는 것이 보다 바람직하다. 빛의 간섭을 이용하여 반사 방지 성능을 나타내도록 하기 위해서는 코팅막의 굴절률에 따라 층 두께를 미세하게 조절할 필요가 있기 때문이다. 또한 저굴절층의 굴절률은 1.5 이하, 바람직하게는 1.3 ~ 1.5이며 그 두께는 고굴절층과 마찬가지로 60nm 내지 600nm인 것이 보다 바람직하다. 상기 고굴절층의 굴절률과 저굴절층의 굴절률과의 차이가 0.05 내지 0.7이 되는 것이 본 발명의 목적을 달성하는데 보다 바람직하다. Another aspect of the invention relates to an antireflective film obtained by the above production method. As shown in FIG. 1, the antireflection film according to the present invention has a structure in which a hard coat layer 2 is formed on a substrate 1 and a high refractive index layer 3 and a low refractive index layer 4 are formed thereon. When the high refractive layer is formed from the coating liquid for forming the high refractive layer by the above method, the refractive index is 1.6 or more, preferably 1.6 to 2, and the thickness thereof is more preferably 60 nm to 600 nm. This is because it is necessary to finely adjust the layer thickness according to the refractive index of the coating film in order to exhibit anti-reflection performance by using the interference of light. The refractive index of the low refractive index layer is 1.5 or less, preferably 1.3 to 1.5, and the thickness thereof is more preferably 60 nm to 600 nm similarly to the high refractive layer. It is more preferable to achieve the object of the present invention that the difference between the refractive index of the high refractive index layer and the refractive index of the low refractive layer is 0.05 to 0.7.

상기 제조방법으로 형성된 반사방지 필름은 투과율이 92% 이상, 가시광 영역즉, 380 ~ 750nm 에서의 평균 반사율이 3% 미만이며 또한 연필 경도 3H 이상, 물에 대한 접촉각은 100o이상이다. The antireflection film formed by the manufacturing method has a transmittance of 92% or more, that is, a visible light region, that is, 380 to 750 nm. The average reflectance at is less than 3% and the pencil hardness is at least 3H and the contact angle to water is at least 100 ° .

본 발명의 또 다른 하나의 양상은 상기 반사방지 필름을 이용하여 제작된 화상 표시장치로서, PDP, LCD, 터치패널 등을 예로 들 수 있다. Yet another aspect of the present invention is an image display device manufactured using the anti-reflection film, and examples thereof include a PDP, an LCD, a touch panel, and the like.

이하 실시예를 통해 본 발명을 보다 상세히 설명하고자 하나, 본 발명이 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to the following examples.

실시예 1Example 1

1) 기재1) description

기재로서 100 ㎛ 두께의 PET 필름 (A4300, 도요보)을 사용하였다. A 100 μm thick PET film (A4300, Toyobo) was used as the substrate.

2) 하드코트층의 형성2) Formation of Hard Coat Layer

우레탄 아크릴레이트 올리고머(Ebecryl 5129, SK-UCB) 30 중량%와 지펜타에리스리톨아크릴레이트 (A-400, 일본 화약) 20 중량%, 용매로는 메틸에틸케톤과 톨루엔을 각각 25 중량%로 혼합하여 사용하였다.개시제로는 Igacure 184(Ciba-geigy)를 고형분 함량에 대하여 1 중량부 사용하였다.30% by weight of urethane acrylate oligomer (Ebecryl 5129, SK-UCB), 20% by weight of zipa erythritol acrylate (A-400, Gunpowder) and 25% by weight of methyl ethyl ketone and toluene as solvent As an initiator, 1 part by weight of Igacure 184 (Ciba-geigy) was used based on the solid content.

바코터 #12 bar를 이용하여 코팅막 형성 후 80 ℃에서 2 분 동안 용매를 건조하고 300 mJ/cm2의 자외선을 조사하여 코팅막을 경화하였다.After the coating film was formed using the bar coater # 12 bar, the solvent was dried at 80 ° C. for 2 minutes, and the coating film was cured by irradiating with UV light of 300 mJ / cm 2 .

3) 고굴절층의 형성3) Formation of High Refractive Layer

평균 입경이 25 nm인 산화주석 미립자가 자외선 경화형 수지와 에탄올 및 이소프로판올에 분산되어 있는 산화주석 분산액(촉매화성)을 이소프로판올을 이용하여 8 중량%로 희석하였다.Tin oxide fine particles having an average particle diameter of 25 nm were dispersed in an ultraviolet curable resin and ethanol and isopropanol in a tin oxide dispersion (catalyzed) to 8% by weight using isopropanol.

바코터 #4 bar를 이용하여 코팅막 형성 후 80 ℃에서 2 분 동안 건조하여 용매를 휘발시키고, 500 mJ/cm2의 자외선을 조사하여 코팅막을 경화하였다.After the coating film was formed using the bar coater # 4 bar, the solvent was evaporated by drying at 80 ° C. for 2 minutes, and the coating film was cured by irradiating with UV light of 500 mJ / cm 2 .

4) 저굴절층의 형성4) Formation of Low Refractive Layer

비정질 함불소 수지 (Teflon-AF 1600) 100 중량부, 퍼플루오르폴리에틸렌 다이올(FC-2202, 3M) 15 중량부, 함불소 다관능아크릴산 에스테르 (ART-4, 공영사) 15 중량부를 함불소 용매(FC-77)에 고형분 2 중량%가 되도록 용해하였다. 100 parts by weight of amorphous fluorine-containing resin (Teflon-AF 1600), 15 parts by weight of perfluoropolyethylene diol (FC-2202, 3M), 15 parts by weight of fluorinated polyfunctional acrylic acid ester (ART-4, Co., Ltd.) fluorine-containing solvent It melt | dissolved in (FC-77) so that it might become 2 weight% of solid content.

바코터 #4 bar를 이용하여 코팅막 형성 후 130 ℃에서 30 분 동안 건조하여 용매를 휘발시키는 방법으로 코팅막을 형성하였다. After the coating film was formed using the bar coater # 4 bar, the coating film was formed by drying at 130 ° C. for 30 minutes to volatilize the solvent.

형성된 코팅막에 대하여 평균 반사율, 투과율, 연필 경도, Cross-cut 시험, 접촉각을 측정하여 그 결과를 표 1에 나타내었다.The average reflectance, transmittance, pencil hardness, cross-cut test, and contact angle of the formed coating film were measured, and the results are shown in Table 1.

코팅 필름의 물성 평가 방법은 다음과 같다. The physical property evaluation method of a coating film is as follows.

·평균 반사율: 반사율은 UV/VIS/NIR 스펙트로미터(Lambda 950, Perkin-Elmer)를 이용하여 측정하였다. 샘플의 이면은 사포로 문지르고, 무광 페인트(CL440F-1999, 고려페인트)를 칠하여 필름 이면에서의 반사광을 제거하였다. 반사율 측정시 적분구를 사용하여 스펙귤라 반사율 값과 디퓨즈 반사율 값의 합을 측정하였다. 입사각 8 도로 지정하였으며 380 ∼ 750 nm의 범위에서의 반사율 평균을 계산하였다.Average reflectance: The reflectance was measured using a UV / VIS / NIR spectrometer (Lambda 950, Perkin-Elmer). The back side of the sample was rubbed with sandpaper and coated with matt paint (CL440F-1999, Goryeo Paint) to remove the reflected light from the back side of the film. In the reflectance measurement, the sum of the specular reflectance value and the diffuse reflectance value was measured using an integrating sphere. The incident angle was set at 8 degrees and the reflectance average in the range of 380 to 750 nm was calculated.

·투과율: 헤이즈 및 투과도 측정기 (Nippon Denshoku Kogyo Co.)를 이용해 측정하였다.Permeability: Measured using a haze and permeability meter (Nippon Denshoku Kogyo Co.).

·연필경도: 45의 기울기로 1 kg/cm2의 하중을 주어 연필 경도를 측정하였다.Pencil hardness: The pencil hardness was measured by applying a load of 1 kg / cm 2 with a slope of 45.

·Cross-cut 시험: 칼로 100개의 바둑판 무늬 (1 mm × 1 mm)의 흠집을 낸 후 셀로판 테이프를 이용하여 박리 실험을 하였다. 무늬가 전혀 박리 되지 않은 것을 ○로 표시 하고, 1~10 개의 박리가 된 것은 Δ로 표시하였으며 10 개 이상의 무늬가 박리된 것은 ×로 표시하였다.Cross-cut test: 100 checkers (1 mm × 1 mm) were scratched with a knife and then peeled off using cellophane tape. The pattern was not peeled off at all, and the 1-10 peeled off was indicated by Δ, and the peeling off of 10 or more peeled off was marked with x.

·접촉각 : 접촉각 측정기 (Phoenix300, SEO)를 이용하여 물에 대한 접촉각 을 측정하였다. Contact angle: The contact angle to water was measured using a contact angle measuring instrument (Phoenix300, SEO).

실시예 2Example 2

저굴절층 코팅용 조성물을 코팅한 후 건조 온도를 80 ℃ 로 한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 반사방지 필름을 제조하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 물성을 평가하여 그 결과를 하기 표 1에 함께 나타내었다. 또한, 본 실시예에 따른 반사방지 필름의 반사율 스펙트럼을 도 2에 나타내었다.After coating the composition for coating the low refractive index coating to produce an antireflection film in the same manner as in Example 1, except that the drying temperature was 80 ℃, the physical properties were evaluated in the same manner as in Example 1 to the results It is shown together in Table 1. In addition, the reflectance spectrum of the antireflection film according to the present embodiment is shown in FIG. 2.

실시예 3Example 3

저굴절층 코팅용 조성물로서 비정질 함불소 수지 (Teflon-AF 2400) 100 중량부, 퍼플루오르폴리에틸렌 다이올(FC-2202, 3M) 15 중량부, 함불소 다관능아크릴산 에스테르 (ART-4, 공영사) 15 중량부를 함불소 용매(FC-77)에 고형분 1.8 중량%가 되도록 용해하였다. 100 parts by weight of amorphous fluorine-containing resin (Teflon-AF 2400), 15 parts by weight of perfluoropolyethylene diol (FC-2202, 3M), a fluorine-containing polyfunctional acrylic acid ester (ART-4, Co., Ltd.) 15 parts by weight was dissolved in a fluorine-containing solvent (FC-77) so as to have a solid content of 1.8% by weight.

코팅막의 형성 및 물성 평가는 실시예 1과 동일하게 하고, 물성 평가 결과는 표 1에 함께 나타내었다.The formation of the coating film and the evaluation of physical properties were the same as in Example 1, and the results of the physical properties were shown in Table 1 together.

비교예 1Comparative Example 1

저굴절층 코팅용 조성물로서 비정질 함불소 수지 (Teflon-AF 1600)를 함불소용매(FC-77)에 고형분 2 중량%가 되도록 용해한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 반사방지 필름을 제조하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 물성을 평가 하여 그 결과를 하기 표 1에 함께 나타내었다.A low-reflection layer coating composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amorphous fluorine-containing resin (Teflon-AF 1600) was dissolved in the fluorine-containing solvent (FC-77) to 2% by weight of solids. And the physical properties were evaluated in the same manner as in Example 1 and the results are shown in Table 1 together.

비교예 2Comparative Example 2

저굴절층 코팅용 조성물로서 비정질 함불소 수지 (Teflon-AF 1600) 100 중량부와 퍼플루오르폴리에틸렌 다이올(FC-2202, 3M) 30 중량부를 함불소 용매(FC-77)에 고형분 2 중량%가 되도록 용해한 것을 제외하고는 실시예1과 동일한 방법으로 반사방지 필름을 제조하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 물성을 평가하여 그 결과를 하기 표 1에 함께 나타내었다.As a composition for coating the low refractive index layer, 100 parts by weight of amorphous fluorine-containing resin (Teflon-AF 1600) and 30 parts by weight of perfluoropolyethylene diol (FC-2202, 3M) were added in a fluorine-containing solvent (FC-77). Except for dissolving as much as possible, an antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1, and the physical properties were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1 together.

비교예 3Comparative Example 3

저굴절층 코팅용 조성물로서 비정질 함불소 수지(Teflon-AF 1600) 100 중량부와 함불소 다관능 아크릴산 에스테르(ART-4, 공영사) 15 중량부를 함불소 용매(FC-77)에 고형분 2 중량%가 되도록 용해한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 반사방지 필름을 제조하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 물성을 평가하여 그 결과를 하기 표 1에 함께 나타내었다.100 parts by weight of amorphous fluorine-containing resin (Teflon-AF 1600) and 15 parts by weight of fluorine-containing polyfunctional acrylic acid ester (ART-4, Co., Ltd.) as a composition for coating the low refractive index layer 2 weights of solids in fluorine-containing solvent (FC-77) Except for dissolving to a%, an antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1, and the physical properties were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1 together.

비교예 4Comparative Example 4

저굴절층 코팅용 조성물을 코팅한 후 건조 온도를 155℃로 한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 반사방지 필름을 제조하였다. 제조된 반사방지 필름의 하드코팅이 황변된 것을 확인할 수 있었다.An antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the drying temperature was coated at 155 ° C. after coating the composition for coating the low refractive index layer. It was confirmed that the hard coating of the prepared antireflection film was yellowed.

비교예 5Comparative Example 5

저굴절층 코팅용 조성물을 코팅한 후 건조 온도를 40℃로 한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 반사방지 필름을 제조하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 물성을 평가하여 그 결과를 하기 표 1에 함께 나타내었다.After coating the composition for coating the low refractive index coating except that the drying temperature was 40 ℃ to prepare an antireflection film in the same manner as in Example 1, and the physical properties in the same manner as in Example 1 to evaluate the results It is shown together in Table 1.

비교예 6Comparative Example 6

저굴절층 코팅용 조성물로서 비정질 함불소 수지 (Teflon-AF 2400) 100 중량부와 퍼플루오르폴리에틸렌 다이올(FC-2202, 3M) 30 중량부를 함불소 용매(FC-77)에 고형분 1.8 중량%가 되도록 용해한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 반사방지 필름을 제조하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 물성을 평가하여 그 결과를 하기 표 1에 함께 나타내었다.As the composition for coating the low refractive index layer, 1.8 parts by weight of 100 parts by weight of amorphous fluorine-containing resin (Teflon-AF 2400) and 30 parts by weight of perfluoropolyethylene diol (FC-2202, 3M) were added to the fluorine-containing solvent (FC-77). Except for dissolving, the antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1, and the physical properties were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1 together.

비교예 7Comparative Example 7

저굴절층 코팅용 조성물로서 비정질 함불소 수지(Teflon-AF 2400) 100 중량부와 함불소 다관능아크릴산 에스테르(ART-4, 공영사) 30 중량부를 함불소 용매(FC-77)에 고형분 1.8 중량%가 되도록 용해한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 반사방지 필름을 제조하고, 실시예 1과 동일한 방법으로 물성을 평가하여 그 결과를 하기 표 1에 함께 나타내었다.As a composition for coating the low refractive index layer, 100 parts by weight of amorphous fluorine-containing resin (Teflon-AF 2400) and 30 parts by weight of fluorine-containing polyfunctional acrylic acid ester (ART-4, Co., Ltd.), 1.8 parts by weight of solids in fluorine-containing solvent (FC-77). Except for dissolving to a%, an antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1, and the physical properties were evaluated in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1 together.

평균 반사율 (%)Average reflectance (%) 투과율 (%)Transmittance (%) 연필경도Pencil hardness Cross-cut 시험Cross-cut Exam 접촉각 (degree)Contact angle 실시예 1Example 1 1.91.9 94.394.3 5H5H 105105 실시예 2Example 2 2.12.1 94.394.3 5H5H 105105 실시예 3Example 3 2.02.0 94.294.2 4H4H 107107 비교예 1Comparative Example 1 1.91.9 94.594.5 HH 116116 비교예 2Comparative Example 2 2.02.0 94.294.2 3H3H ΔΔ 115115 비교예 3Comparative Example 3 1.81.8 94.194.1 3H3H ×× 109109 비교예 5Comparative Example 5 2.02.0 94.394.3 2B2B ×× 100100 비교예 6Comparative Example 6 1.81.8 93.993.9 HH ×× 107107 비교예 7Comparative Example 7 1.91.9 94.294.2 3H3H ×× 110110

상기 표 1의 결과로부터, 본 발명의 제조 방법에 따른 실시예 1,2 및 3의 반사방지 필름의 평균 반사율은 1.9% 내지 2.1%이고, 연필 경도는 4H 내지 5H로써, 비교예 1 내지 7의 반사방지 필름과 비교하였을 때, 실시예 1,2 및 3의 필름 모두 반사방지 성능의 저하없이 우수한 경도를 보임을 알 수 있다. From the results of Table 1, the average reflectance of the antireflection films of Examples 1,2 and 3 according to the production method of the present invention is 1.9% to 2.1%, the pencil hardness of 4H to 5H, of Comparative Examples 1 to 7 Compared with the antireflection film, it can be seen that the films of Examples 1 and 2 show excellent hardness without deterioration of the antireflection performance.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명의 저굴절층 코팅용 조성물을 이용하여 제조된 반사방지 필름은 반사율이 낮고 투과율은 높으면서도, 내구성이 우수한 반사방지 필름을 제조할 수 있다.As described above, the antireflective film prepared by using the composition for coating the low refractive index layer of the present invention can produce an antireflection film having low reflectivity and high transmittance and excellent durability.

Claims (11)

비정질 함불소 수지(ⅰ) 전체 고형분 대비 30-70 중량부; 알코올기를 포함하는 함불소 수지(ii) 전체 고형분 대비 20-50 중량부; 아크릴산 에스테르기를 포함하는 함불소 수지(iii) 전체 고형분 대비 10-35 중량부; 및 용매를 포함하는 저굴절층 코팅용 조성물.Amorphous fluorine-containing resin (30) 30-70 parts by weight relative to the total solids; Fluorine-containing resin containing an alcohol group (ii) 20-50 parts by weight relative to the total solids; Fluorine-containing resin containing an acrylic ester group (iii) 10-35 parts by weight based on the total solids; And a low refractive index coating composition comprising a solvent. 제 1항에 있어서, 상기 용매가 F(CF2)6OCH3, F(CF2)7OCH3, F(CF2)8OCH3, F(CF2)9OCH3 및 F(CF2)10OCH3로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상의 함불소 용매인 것을 특징으로 하는 저굴절층 코팅용 조성물.The method of claim 1, wherein the solvent is F (CF 2 ) 6 OCH 3 , F (CF 2 ) 7 OCH 3 , F (CF 2 ) 8 OCH 3 , F (CF 2 ) 9 OCH 3 and F (CF 2 ) A composition for coating a low refractive index layer, characterized in that at least one fluorine-containing solvent selected from the group consisting of 10 OCH 3 . 삭제delete 기재, 하드코트층, 고굴절층 및 저굴절층이 순서대로 적층된 반사방지 필름을 제조함에 있어서, Base material, hard coat layer, high refractive index layer, and In manufacturing the antireflection film in which the low refractive layers are laminated in order, 상기 저굴절층이 제 1항에 따른 코팅액을 도포한 후 건조시키는 단계로 형성 되는 것을 특징으로 하는 반사방지 필름의 제조방법. The method of manufacturing an anti-reflection film, characterized in that the low refractive layer is formed by applying a coating solution according to claim 1 and drying. 제 4항에 있어서, 상기 저굴절층 코팅용 조성물의 건조 온도가 50 내지 150℃인 것을 특징으로 하는 반사방지 필름의 제조방법.The method of claim 4, wherein the drying temperature of the composition for coating the low refractive index layer is 50 to 150 ℃. 제 4항 또는 제 5항의 방법에 따라 제조된 방사방지 필름.Anti-radiation film prepared according to the method of claim 4 or 5. 제 6항에 있어서, 상기 반사방지 필름의 고굴절층 또는 저굴절층의 두께가 60nm 내지 600nm인 것을 특징으로 하는 반사방지 필름.The antireflection film according to claim 6, wherein a thickness of the high refractive index layer or the low refractive index layer of the antireflection film is 60 nm to 600 nm. 제 6항에 있어서, 상기 고굴절층의 굴절율이 1.6 내지 2이고, 상기 저굴절층의 굴절율이 1.3 내지 1.5인 것을 특징으로 하는 반사방지 필름.The antireflection film according to claim 6, wherein the high refractive index layer has a refractive index of 1.6 to 2 and the low refractive layer has a refractive index of 1.3 to 1.5. 제 6항에 있어서, 상기 저굴절층의 굴절율과 고굴절층의 굴절율과의 차이가 0.05 내지 0.7인 것을 특징으로 하는 반사방지 필름.The antireflection film according to claim 6, wherein a difference between the refractive index of the low refractive index layer and the refractive index of the high refractive layer is 0.05 to 0.7. 제 6항에 있어서, 상기 반사방지 필름의 투과율이 92%이상이고, 380nm 내지 750nm에서의 평균 반사율이 3%이하인 것을 특징으로 하는 반사방지 필름.The antireflection film according to claim 6, wherein the antireflection film has a transmittance of 92% or more and an average reflectance of 380 nm to 750 nm of 3% or less. 상기 제 6항의 반사방지 필름을 포함하여 제조된 것을 특징으로 하는 화상 표시장치.An image display device comprising the antireflection film of claim 6.
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