KR100602050B1 - Organic semiconductor device, method and composition for producing the same - Google Patents

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Abstract

습식(濕式) 공정을 사용하여 제조한 유기 반도체 소자, 및 그 제조 방법이 개시된다. 상기 유기 반도체 소자의 제조 방법은 유기 용매, 이온성 염 및 유기 반도체 화합물을 포함하는 유기 화합물 용액 조성물을 기판에 코팅하고 유기 용매를 제거하여 유기 반도체층을 형성하는 단계; 및 형성된 유기 반도체층에 대하여 열-어닐닝과 전기-어닐닝을 병행하여 수행하는 단계를 포함한다. 또한 상기 유기 반도체 소자는 양극; 음극; 및 상기 양극과 음극 사이에 개재되어 있으며, 이온성 염을 함유하는 반도체층을 포함하며, 상기 양극과 상기 반도체층의 경계면에는 상기 이온성 염의 음이온 수가 상기 이온성 염의 양이온 수보다 많으며, 상기 음극과 상기 반도체층의 경계면에는 상기 이온성 염의 양이온 수가 상기 이온성 염의 음이온 수보다 많도록 되어 있다.Disclosed are an organic semiconductor device manufactured using a wet process, and a method of manufacturing the same. The method of manufacturing an organic semiconductor device may include forming an organic semiconductor layer by coating an organic compound solution composition including an organic solvent, an ionic salt, and an organic semiconductor compound on a substrate and removing the organic solvent; And performing heat-annealing and electro-annealing in parallel with the formed organic semiconductor layer. In addition, the organic semiconductor device is an anode; cathode; And a semiconductor layer interposed between the anode and the cathode and containing an ionic salt, wherein an anion number of the ionic salt is greater than a cation number of the ionic salt at an interface between the anode and the semiconductor layer. At the interface of the semiconductor layer, the number of cations of the ionic salt is larger than the number of anions of the ionic salt.

유기 반도체 소자, 전계 발광, 열-어닐링, 전기-어닐닝, 이온성 염Organic Semiconductor Devices, Electroluminescence, Heat-Annealing, Electro-Annealing, Ionic Salts

Description

유기 반도체 소자, 그 제조 방법 및 이를 제조하기 위한 조성물 {Organic semiconductor device, method and composition for producing the same} Organic semiconductor device, method for manufacturing the same, and composition for manufacturing same {Organic semiconductor device, method and composition for producing the same}             

도 1a는 통상적인 유기 EL 소자의 구조를 설명하기 위한 도면.1A is a diagram for explaining the structure of a conventional organic EL element.

도 1b는 각 구성 성분이 균일하게 분산되어 있는, 단순 분산 단일 박막 구조의 유기 EL 소자의 구조를 설명하기 위한 도면.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1B is a view for explaining the structure of an organic EL device having a simple dispersed single thin film structure in which each component is uniformly dispersed.

도 2a는 그레이디드 졍션 형태의 단일 박막 구조 EL 소자의 구조를 설명하기 위한 도면.2A is a diagram for explaining the structure of a single thin film structure EL element in the form of a graded cushion;

도 2b는 그레이디드 졍션 형태의 박막과 별도의 박막을 포함하는 EL 소자의 구조를 설명하기 위한 도면.2B is a view for explaining the structure of an EL element including a thin film of a graded cushion form and a separate thin film;

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 반도체 소자의 구조를 설명하기 위한 도면.3 is a view for explaining the structure of an organic semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기 EL 소자 및 종래의 유기 EL 소자의 발광면을 비교하기 위한 사진.Figure 4 is a photograph for comparing the light emitting surface of the organic EL device according to an embodiment of the present invention and the conventional organic EL device.

본 발명은 유기 반도체 소자, 그 제조 방법 및 이를 제조하기 위한 조성물에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 습식(濕式) 공정을 사용하여 제조한 유기 반도체 소자, 그 제조 방법 및 이를 제조하기 위한 조성물에 관한 것이다. The present invention relates to an organic semiconductor device, a method for manufacturing the same, and a composition for manufacturing the same, and more particularly, to an organic semiconductor device manufactured using a wet process, a method for manufacturing the same, and a composition for manufacturing the same. will be.

일반적으로 유기 반도체 소자는 유기물의 전자적 에너지 준위인 HOMO (highest occupied molecular orbital) 준위와 LUMO (lowest unoccupied molecular orbital) 준위에 관련된 전기적 반도체성을 이용한 소자로서, 유기 다이오드 소자(organic diode device), 유기 트랜지스터 소자(organic transistor device) 등이 이에 포함된다. 유기 다이오드 소자의 구체적인 예로는 유기 전계발광 소자 (Organic Light Emitting Diode 또는 Organic Electroluminescent diode)가 있으며, 유기 트랜지스터 소자의 구체적인 예로는 유기 FET (Field Effect Transistor), 유기 TFT(Thin Film Transistor), 유기 SIT(Static Induction Transistor), 유기 탑 게이트 SIT(Top Gate SIT), 유기 트라이오드(Triode), 유기 그리드 트랜지스터(Grid Transistor), 유기 싸이리스터(Thyristor), 유기 바이폴라트랜지스터(Bipolar Transistor) 등이 있다. 이러한 유기 반도체 소자들은 기판 상에 형성된 유기 물질층의 박막 구조에 따라 그 전기적, 광학적 특성이 달라지므로, 효율적인 박막 구조의 개발은 새로운 유기물의 개발과 함께, 유기 반도체 소자 제조기술의 중요한 분야를 이룬다.In general, an organic semiconductor device is a device using electrical semiconductor properties related to the highest occupied molecular orbital (HOMO) level and the lowest unoccupied molecular orbital (LUMO) level, which is an electronic energy level of an organic material. Such as an organic transistor device. Specific examples of organic diode devices include organic light emitting diodes (Organic Light Emitting Diodes or organic electroluminescent diodes), and specific examples of organic transistor devices include organic field effect transistors (FETs), organic thin film transistors (TFTs), and organic SIT ( Static Induction Transistors, Organic Top Gate SITs, Organic Triodes, Organic Grid Transistors, Organic Thyristors, Organic Bipolar Transistors, and the like. Since these organic semiconductor devices have different electrical and optical properties depending on the thin film structure of the organic material layer formed on the substrate, the development of an efficient thin film structure is an important field of the organic semiconductor device manufacturing technology with the development of new organic material.

이하, 유기 전계발광 소자를 참조하여 유기 반도체 소자의 구조 및 동작을 설명한다. 흔히 "유기 EL"이라 불리는 유기 전계발광 소자는 자발광 표시 소자의 하나로서, 발광성 유기 화합물로 이루어진 박막이 전극들 사이에 개재되는 구조를 가진다. 저분자 또는 고분자 유기 화합물을 발광 물질로 사용하는 유기 EL 소자는 무기 물질을 발광 물질로 사용하는 EL 소자에 비해, 제조 방법이 단순하고 구동 전압이 낮으며, 대(大)면적 및 전체 색상(full color) 디스플레이 제조가 용이하다는 등 다수의 이점이 있다. 이와 같은 유기 EL 소자에 있어서는, 상기 발광성 유기 화합물의 LUMO 준위와 HOMO 준위로 전자 및 정공을 주입해서 재결합시킴으로써 여기자(exciton)를 생성시키고, 이 여기자가 활성을 잃으면서 광을 방출(형광 또는 인광)하게 된다.Hereinafter, the structure and operation of the organic semiconductor device will be described with reference to the organic electroluminescent device. An organic electroluminescent element, commonly referred to as "organic EL", is one of self-luminous display elements, and has a structure in which a thin film made of a luminescent organic compound is interposed between electrodes. The organic EL device using a low molecular weight or high molecular organic compound as a light emitting material has a simpler manufacturing method, a lower driving voltage, a large area and full color, compared to an EL device using an inorganic material as a light emitting material. There are many advantages, such as ease of display manufacturing. In such an organic EL device, an exciton is generated by injecting electrons and holes into the LUMO level and the HOMO level of the light-emitting organic compound and recombining them, thereby emitting light (fluorescence or phosphorescence) while the exciton loses activity. Done.

도 1a는 통상적인 유기 EL 소자의 구조를 설명하기 위한 도면이다. 도 1a에 도시된 바와 같이, 통상적인 EL 소자는 유기층의 층간 경계면이 명확히 구별되는 다중층 적층 구조를 가지며, 대표적인 다중층 적층 구조 EL 층(20)은 정공 수송층(13), 발광층(14), 및 전자 수송층(15)을 포함하고(Tang, C. 등 Appl. Phys. Lett. 1987, 51, 913-915 참조), 필요에 따라 정공 주입층(12) 및/또는 전자 주입층(16)을 더욱 포함한다. 상기 EL 층(20)은 기판(10) 상부에 형성된 양극(11) 및 음극(17) 사이에 개재되며, 전극들(11, 17)로부터 EL 층(20)에 전압이 인가되면, 상기 발광층(14)에서 전하 캐리어의 재결합이 일어나 발광이 일어나게 된다. 이와 같이 EL 소자를 형성한 후에는, EL 소자를 외부 공기로부터 차단하여 열화를 방지 하기 위하여, EL 소자가 형성된 기판(EL 패널)을 밀봉 부재 등으로 밀봉(패키징)하고, 덮개 부재를 덮어 접합한다. 다음으로, 밀봉된 EL 소자를 외부 신호 단자에 접속하기 위해 커넥터(FPC, TAB 등)를 부착하여 패시브 또는 액티브 매트릭스 발광장치를 제작할 수 있다. 이러한 적층 구조의 EL 소자는 현재 개발되는 대부분의 EL 소자에 채용되고 있다. 예를 들면, Tang 등은 일함수가 높은 투명 전극(양극), 정공 수송층, 전자 수송성의 발광 영역, 일함수가 낮은 금속 전극(음극)을 적층하여 다층 구조를 형성함으로써, 10V 이하의 인가전압으로, 1,000cd/㎡의 휘도를 나타내는 저전압 동작 및 높은 발광효율의 유기 EL을 구현하였다. 상기 EL 소자에서 발광 물질로는 트리스(8-퀴놀리노레이트) 알루미늄 착체(이하, Alq)를 이용하였으며, Alq는 높은 발광효율과, 전자 수송 성능을 겸비한 우수한 발광 물질로 알려져 있다. 또한, 정공 수송층과 전자 수송층 사이에 발광 영역을 형성한 3층 구조의 소자(Jpn. J. Appl Phys. 27(1988) L269)나, 발광 영역(Alq)에 염료(dye: 쿠마린 유도체, DCM1 등의 형광색소)를 도핑하여 발광 색상을 조절하고, 발광 강도를 증가시킨 소자(J. Appl Phys., 65(1989) 3610)도 개발되고 있다. 또한 이와 같은 저분자 발광 물질을 이용한 유기 EL 소자와는 별개로, 폴리페닐렌-비닐렌 (PPV: Poly(phenylene-vinylene))과 같은 공액 고분자를 발광 물질로 사용하는 EL 소자도 개발되었으며 (Burroughes, J. H. Nature 1990, 347, 539-541 참조), 최근 고분자 EL 소자의 안정성, 효율성 및 내구성을 개선시키는 상당한 진전이 있었다.1A is a diagram for explaining the structure of a conventional organic EL element. As shown in Fig. 1A, a typical EL element has a multilayer stack structure in which the interlayer interface of the organic layer is clearly distinguished, and the representative multilayer stack structure EL layer 20 includes a hole transport layer 13, a light emitting layer 14, And an electron transport layer 15 (see Tang, C. et al. Appl. Phys. Lett. 1987, 51, 913-915), and if necessary, the hole injection layer 12 and / or the electron injection layer 16 It includes more. The EL layer 20 is interposed between the anode 11 and the cathode 17 formed on the substrate 10, and when a voltage is applied to the EL layer 20 from the electrodes 11 and 17, the light emitting layer ( In 14), recombination of charge carriers occurs to cause light emission. After forming the EL element in this manner, in order to prevent the EL element from being deteriorated by preventing the EL element from deteriorating, the substrate (EL panel) on which the EL element is formed is sealed (packed) with a sealing member or the like, and the lid member is covered and bonded. . Next, in order to connect the sealed EL element to an external signal terminal, a connector (FPC, TAB, etc.) can be attached to produce a passive or active matrix light emitting device. The EL element of such a laminated structure is employed in most of EL elements currently developed. For example, Tang or the like forms a multilayer structure by stacking a transparent electrode (anode) having a high work function, a hole transporting layer, an electron transporting light emitting region, and a metal electrode (cathode) having a low work function, thereby applying an applied voltage of 10 V or less. , An organic EL having low voltage operation and high luminous efficiency exhibiting a luminance of 1,000 cd / m 2 was realized. In the EL device, a tris (8-quinolinorate) aluminum complex (Alq) was used as a light emitting material, and Alq is known as an excellent light emitting material having high luminous efficiency and electron transporting performance. In addition, a device having a three-layer structure (Jpn. J. Appl Phys. 27 (1988) L269) having a light emitting region formed between the hole transporting layer and the electron transporting layer, a dye (dye: coumarin derivative, DCM1, etc.) in the light emitting region (Alq) A device (J. Appl Phys., 65 (1989) 3610) that controls the color of light emitted by doping fluorescent dyes and increases the intensity of light emitted has also been developed. In addition to the organic EL device using such a low molecular weight light emitting material, an EL device using a conjugated polymer such as poly (phenylene-vinylene) (PPV) as a light emitting material has been developed (Burroughes, JH Nature 1990, 347, 539-541), recent advances have been made in improving the stability, efficiency and durability of polymer EL devices.

상기한 EL 층(20)은 다양한 방법으로 형성될 수 있다. 지금까지 제안된 방법 의 예로는 진공증착(vacuum evaporation), 스퍼터링(sputtering) 등의 건식 방법(dry process), 스핀-코팅 법(spin coating), 캐스트 방법(cast method), 잉크젯 방법(ink-jet method), 침적 방법(dipping method), 인쇄법(printing method) 등의 습식 방법(wet process)이 있으며, 기타 롤 코팅(roll coating)법, 랑뮤어-블로젯 (Langmuir-Blodgett)법, 이온 플레이팅(ion plating)법 등도 사용되고 있다. 진공증착 등의 건식 방법은 양호한 열 안정성을 갖고 박막으로 승화될 수 있는 저분자 화합물을 이용하여 도 1a에 도시한 것과 같은 다중층 EL 소자를 제작하는데 널리 사용되고 있으나, 고진공의 환경이 필요하기 때문에 제작 조건이 까다롭고, 복잡한 제조 프로세스로 인해 비용이 많이 든다는 단점이 있다. 습식 방법은 정공 수송층, 전자수송층, 및/또는 발광층을 형성하는 재료 및 고분자 바인더(binder)를 적당한 용매로 용해하고, 전극 표면에 도포하여 유기층을 형성한 후, 상대 전극을 증착법 등으로 형성하는 방법이다. 건식 방법과 비교하여, 습식 방법은 다음과 같은 이점을 가진다. (1) 증착 등의 건식 방법으로는 성막이 곤란한 재료도 다양하게 성막할 수 있으며, 저분자 뿐 만 아니라 고분자 유기 EL 물질에도 적용이 가능하다. (2) 건식 방법에서는 제어가 곤란한 미량의 도핑도 용이하게 실현할 수 있다. (3) 대면적화가 용이하다. (4) EL 층을 비교적 용이하게 형성할 수 있으며, 소자의 제조비용이 저렴하다. (5) 다수의 발광 물질을 사용함으로써, 각 발광 분자로부터의 발광을 동시에 얻을 수 있다(예를 들면 백색 발광의 실현이 용이하다). (6) 종래의 적층형 EL 소자는, 각 층이 아몰퍼스 상태인 것에 비해, 고분자 분산형 EL 소자는, 각 재료가 고분자 바인더에 분산되어 있으므로 열적으로 안정하다. The EL layer 20 described above can be formed in various ways. Examples of the proposed methods so far include dry process such as vacuum evaporation, sputtering, spin coating, cast method, and ink-jet method. Wet process such as method, dipping method, printing method, etc., other roll coating method, Langmuir-Blodgett method, ion play An ion plating method is also used. Drying methods such as vacuum deposition have been widely used to fabricate multilayer EL devices as shown in FIG. 1A using low molecular weight compounds that have good thermal stability and can be sublimated into thin films. The disadvantage is that this demanding, complex manufacturing process is expensive. In the wet method, a material for forming a hole transporting layer, an electron transporting layer, and / or a light emitting layer and a polymer binder are dissolved in a suitable solvent, coated on an electrode surface to form an organic layer, and then a counter electrode is formed by a vapor deposition method or the like. to be. Compared with the dry method, the wet method has the following advantages. (1) A dry method such as vapor deposition can be used to form a variety of materials that are difficult to form, and can be applied not only to low molecules but also to high molecular organic EL materials. (2) In the dry method, even a small amount of doping, which is difficult to control, can be easily realized. (3) Easy to large area. (4) The EL layer can be formed relatively easily, and the manufacturing cost of the device is low. (5) By using a plurality of light emitting materials, light emission from each light emitting molecule can be obtained simultaneously (for example, white light emission can be easily realized). (6) In the conventional laminated EL device, the polymer dispersed EL device is thermally stable because each material is dispersed in the polymer binder, whereas each layer is in an amorphous state.

이와 같은 습식 공정으로 발광 영역을 형성하는 예로는 폴리비닐카바졸 (PVK: poly N-vinylcarbazole)에 발광분자로서 펠리논 유도체 또는 Alq을 분산한 것, 폴리카보네이트에 발광분자로서 Alq 및 테트라페닐벤디진을 분산한 것(일본 특개평 3-790호 공보, 일본 특개평 3-171590호 공보 등) 등이 알려져 있으나, 상기 소자 구조에서는, 발광 영역 전체에 발광 화합물이 균일하게 분산하여 존재하므로, 정공과 전자의 주입 및 수송의 밸런스를 잡기 어렵고, 그 결과, 재결합 확률이 저하되어 충분한 발광 효율을 얻기 어렵다. 또한 필요에 따라서는 습식법과 건식법을 조합함으로써 EL 층을 형성할 수도 있으나, 이 경우에도 제조된 EL 소자의 발광효율이 충분히 높지 않거나, 작동 전압이 높다는 단점이 있다. Examples of forming a light emitting region by such a wet process include dispersing a pellin derivative or Alq as a light emitting molecule in polyvinylcarbazole (PVK), Alq and tetraphenylbendiazine as a light emitting molecule in polycarbonate. (Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-790, Japanese Patent Laid-Open No. 3-171590, etc.) and the like are known, but in the device structure, since the light-emitting compound is uniformly dispersed throughout the light emitting region, holes and It is difficult to balance the injection and transport of electrons, and as a result, the probability of recombination is lowered, so that sufficient light emission efficiency is hard to be obtained. In addition, although the EL layer may be formed by combining the wet method and the dry method, if necessary, there are disadvantages in that the luminous efficiency of the manufactured EL element is not high enough or the operating voltage is high.

이러한 단점을 극복하기 위한 하나의 방안으로 양이온과 음이온으로 형성된 이온성 염(ionic salt)을 유기층에 도핑하는 방법이 고려될 수 있다. 예를 들어, PPV와 같은 고분자와 poly(ethylene-oxide) (PEO) 등 이온성 전도 물질 혼합체에 LiCF3SO3 등의 염을 도핑한 발광 전기 화학셀에 일정 시간 바이어스 전압을 인가하여, 전기 어닐닝 (electric annealing)을 실시하면 발광 세기가 증가한다는 보고가 있다 (Y. Yang and Q. Pei, J. Appl. Phys. vol(81), page 3294, 1997). 또한 이온이 도핑된 고분자 EL에서도 비슷한 현상들이 관찰된 바 있고 (D. B. Romero 등, Appl Phys. Lett. vol(67) page 1659 1995, A. G. MacDiamid and F. Huang, Synth. Met. vol(102) page 1026, 1999), 합성 중에서 비의도적으로 도입된 이온들이 고분자 EL의 특성을 개선하는데 중요한 역할을 하는 것이 보고된 바도 있다 (H. Aziz and G. Xu, J. Phys. Chem. B vol(101) page 4009, 1997). 즉, 이온들이 전극 영역(vicinity)에 쌓여서 공간 전하를 형성하면, 발광 효율이 향상되며 동작 개시 전압이 감소된다. 이러한 효과는 일종의 전기장에 의한 이온들의 배열 과정으로 설명될 수 있다. 구체적으로, 고분자 박막에 이온들이 존재하면, 전기-어닐링 과정에서 음이온들은 양극으로 양이온들은 음극으로 이동하며 이온 분극을 유도하며, 이온의 이동은 전극들 부근에서 공간 전하를 형성한다. 전극 부근에 이러한 공간 전하들이 쌓이면, 전극 부근에서 큰 전기장이 형성되며, 이 전기장은 에너지 장벽(barrier)을 줄여 전하 캐리어의 주입을 용이하게 한다. 따라서, 정공과 전자의 주입 확률이 크게 증가되어, 이극성 재결합(bipolar recombination)이 증가하고, 소자의 효율이 향상된다. 또한, 전극이나 발광층의 경계면에서 전하 주입장벽의 변화에 의하여 소자의 동작 개시 전압이 감소하는 현상이 덴드리마(dendrima) EL의 경우에도 보고되었다(D. Ma 등, J. Phys. D, vol(35) page 520, 2002). 또한, 유기 저분자와 암모늄 염(tetra-n-butylammonium tetrafluoroborate, Bu4NBF4)이 도핑된 PVK 단일 박막 구조 발광층에 20볼트 이상의 전장을 인가하여 전기-어닐닝을 실행하면, 전극 주변에서 PVK + BF4 ----> PVK + BF4+ + e- 반응을 일어나 전하주입을 용이하게 한다는 보고(Y. Sakuratani, T. Watanabe, S. Miyata; Thin Solid Films V388 (2001) 256-259, Y. Sakuratani, M. Asai, M. Tokita, S. Miyata; Synthetic Metals V123 (2001) 207-210, S. Miyata, Y. Sakuratani, X.T. Tao; Optical Materials 21(2002) 99-107)가 있었으나, 상기 방법으로 제작된 소자의 최대 발광 휘도는 약 1000 cd/m2 (at ~17 V) 정도로서, 충분한 발광 휘도를 얻을 수 없었으며, 전기-어닐닝 전압이 비교적 높아 (> 20 V) 소자에 전기적인 손상이 쉽게 일어나며 발광면의 균일성이 떨어진다는 단점이 있다.As one way to overcome this disadvantage, a method of doping an organic layer with an ionic salt formed of a cation and an anion may be considered. For example, a bias voltage is applied to a light emitting electrochemical cell doped with a salt such as LiCF 3 SO 3 to a mixture of a polymer such as PPV and an ionic conductive material such as poly (ethylene-oxide) (PEO), It has been reported that electric annealing increases the luminescence intensity (Y. Yang and Q. Pei, J. Appl. Phys. Vol (81), page 3294, 1997). Similar phenomena have also been observed in ion-doped polymer ELs (DB Romero et al., Appl Phys. Lett. Vol (67) page 1659 1995, AG MacDiamid and F. Huang, Synth. Met. Vol (102) page 1026). , 1999), it has been reported that ions unintentionally introduced during synthesis play an important role in improving the properties of polymer EL (H. Aziz and G. Xu, J. Phys. Chem. B vol (101) page 4009, 1997). That is, when ions accumulate in the electrode region to form a space charge, the light emission efficiency is improved and the operation start voltage is reduced. This effect can be explained by the arrangement of ions by a kind of electric field. Specifically, when ions are present in the polymer thin film, the anions move to the anode and the cations move to the cathode in the electro-annealing process, and the ions are polarized, and the movement of the ions forms a space charge in the vicinity of the electrodes. When these space charges accumulate near the electrode, a large electric field is formed near the electrode, which reduces the energy barrier and facilitates the injection of charge carriers. Therefore, the probability of injecting holes and electrons is greatly increased, thereby increasing bipolar recombination and improving the efficiency of the device. In addition, a phenomenon in which the operation start voltage of the device decreases due to the change of the charge injection barrier at the interface between the electrode and the light emitting layer has also been reported in the case of dendrima EL (D. Ma et al., J. Phys. D, vol ( 35) page 520, 2002). In addition, when electro-annealing is performed by applying an electric field of 20 volts or more to the PVK single thin film structured light emitting layer doped with organic low molecular weight and ammonium salt (tetra-n-butylammonium tetrafluoroborate, Bu 4 NBF 4 ), PVK + BF 4 ----> PVK + BF 4+ + e - Reports of reactions that facilitate charge injection (Y. Sakuratani, T. Watanabe, S. Miyata; Thin Solid Films V388 (2001) 256-259, Y. Sakuratani, M. Asai, M. Tokita, S. Miyata; Synthetic Metals V123 (2001) 207-210, S. Miyata, Y. Sakuratani, XT Tao; Optical Materials 21 (2002) 99-107). The maximum luminous intensity of the device fabricated by the light emitting device was about 1000 cd / m 2 (at ~ 17 V), and sufficient light emitting brightness could not be obtained, and the electrical damage to the device was relatively high (> 20 V). This easily occurs and has a disadvantage in that the uniformity of the light emitting surface is inferior.

따라서, 본 발명의 목적은 통상적인 습식법에 의하여 제조된 유기 반도체 박막의 단점을 해소한 유기 EL 소자를 포함하는 유기 반도체 소자, 그 제조 방법 및 이를 제조하기 위한 조성물을 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to provide an organic semiconductor device comprising an organic EL device which solves the disadvantages of the organic semiconductor thin film produced by a conventional wet method, a method of manufacturing the same, and a composition for manufacturing the same.

본 발명의 다른 목적은 발광면의 균일성, 발광 휘도 및 발광 효율이 우수한 유기 반도체 소자를 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 목적은 동작 전압이 낮고, 표시화상의 품위가 우수하며, 작동의 신뢰성이 향상된 유기 반도체 소자를 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 목적은 제작이 용이하며, 제조비용이 저렴한 유기 반도체 소자를 제공하는 것이다.
Another object of the present invention is to provide an organic semiconductor device which is excellent in uniformity of light emitting surface, light emission luminance and light emission efficiency. Another object of the present invention is to provide an organic semiconductor device having a low operating voltage, excellent display image quality, and improved operation reliability. Still another object of the present invention is to provide an organic semiconductor device which is easy to manufacture and low in manufacturing cost.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 유기 용매, 이온성 염 및 유기 반도체 화합물을 포함하는 유기 화합물 용액 조성물을 기판에 코팅하고 유기 용매를 제거하여 유기 반도체층을 형성하는 단계; 및 형성된 유기 반도체층에 대하여 열-어닐닝과 전기-어닐닝을 병행하여 수행하는 단계를 포함하는 유기 반도체 소자의 제조 방법 및 상기 방법에 의하여 제조된 유기 반도체 소자를 제공한다. 본 발명은 또한 유기 용매, 이온성 염 및 유기 반도체 화합물을 포함하는 유기 반도체 박막 제조용 조성물을 제공한다. In order to achieve the above object, the present invention comprises the steps of coating an organic compound solution composition comprising an organic solvent, an ionic salt and an organic semiconductor compound on a substrate and removing the organic solvent to form an organic semiconductor layer; And it provides a method for producing an organic semiconductor device comprising the step of performing heat-annealing and electro-annealing in parallel to the organic semiconductor layer formed and an organic semiconductor device manufactured by the method. The present invention also provides a composition for producing an organic semiconductor thin film comprising an organic solvent, an ionic salt and an organic semiconductor compound.

본 발명은 또한 양극; 음극; 및 상기 양극과 음극 사이에 개재되어 있으며, 이온성 염을 함유하는 반도체층을 포함하며, 상기 양극과 상기 반도체층의 경계면에는 상기 이온성 염의 음이온 수가 상기 이온성 염의 양이온 수보다 많으며, 상기 음극과 상기 반도체층의 경계면에는 상기 이온성 염의 양이온 수가 상기 이온성 염의 음이온 수보다 많은 반도체 소자를 제공한다. 본 발명은 또한 양극; 음극; 및 상기 양극과 음극 사이에 개재되어 있는 반도체층을 포함하며, 상기 양극과 상기 반도체층의 경계면 및 상기 음극과 상기 반도체층의 경계면 중 어느 하나 이상에는 이온성 염을 포함하는 유기 박막이 형성되어 있는 반도체 소자를 제공한다.The invention also provides a positive electrode; cathode; And a semiconductor layer interposed between the anode and the cathode and containing an ionic salt, wherein an anion number of the ionic salt is greater than a cation number of the ionic salt at an interface between the anode and the semiconductor layer. The interface of the semiconductor layer provides a semiconductor device having a larger number of cations of the ionic salt than that of the ionic salt. The invention also provides a positive electrode; cathode; And a semiconductor layer interposed between the anode and the cathode, wherein an organic thin film including an ionic salt is formed on at least one of an interface between the anode and the semiconductor layer and an interface between the cathode and the semiconductor layer. Provided is a semiconductor device.

여기서, 상기 유기 용매는 단일 용매 구성될 수 있다. 또한 상기 유기 화합물 용액은 2종 이상의 유기 반도체 화합물 및 휘발성이 상이한 2종 이상의 유기 용매를 포함하여, 상기 유기 용매가 제거됨에 따라, 상기 2종 이상의 유기 반도체 화합물이 그 적층 방향을 따라 농도 그래디언트를 가지도록 순차적으로 적층될 수 있다.Here, the organic solvent may be composed of a single solvent. In addition, the organic compound solution includes two or more organic semiconductor compounds and two or more organic solvents having different volatility, and as the organic solvent is removed, the two or more organic semiconductor compounds have a concentration gradient along the stacking direction thereof. May be sequentially stacked.

이하, 첨부된 도면을 참조로 하여 본 발명을 상세히 설명한다. 첨부된 도면 에서 동일, 유사한 기능을 하는 부재에는 종래 기술에서 부여한 것과 동일한 도면 부호를 부여하였다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the accompanying drawings, members having the same and similar functions are given the same reference numerals as those given in the prior art.

본 발명은 유기 반도체 소자를 제조할 때, 먼저, 이온성 염이 도핑된 유기층을 형성한 후, 열-어닐닝(annealing) 과정 중에 전기-어닐닝을 병행하여 수행함으로써, 제조된 EL 소자의 발광 휘도를 향상시키고, 균일하고 안정한 발광 특성을 얻을 수 있다는 발견에 기초한 것이다. 따라서 본 발명에 따른 유기 반도체 소자의 제조 방법은 이온성 염을 함유한 유기 화합물 용액을 사용하여 습식 방법으로 유기 반도체층을 형성하고, 형성된 유기 반도체층에 열-어닐닝과 전기-어닐닝을 병행하여 수행하는 과정을 포함한다. 기존의 EL 박막 제조 방법, 예를 들면, 상술한 Y. Sakuratani, T. Watanabe, S. Miyata ; Thin Solid Films V388 (2001) 256-259, Y. Sakuratani, M. Asai, M. Tokita, S. Miyata ; Synthetic Metals V123 (2001) 207-210, S. Miyata, Y. Sakuratani, X.T. Tao ; Optical Materials 21(2002) 99-107 등에서는, PVK 고분자에 암모늄염을 도핑하고 전기-어닐닝을 처리하는 방법을 기재하고 있으나, 상기 보고 중 어느 것에서도 본 발명에서 제안하는 바와 같은 이온성 염을 도핑하고 열-어닐닝과 전기-어닐닝을 병행하여 처리하는 방법은 개시되어 있지 않다.When manufacturing an organic semiconductor device, the present invention firstly forms an organic layer doped with an ionic salt, and then emits light of an EL device manufactured by performing electro-anneal in parallel during a heat-annealing process. It is based on the discovery that the luminance can be improved and uniform and stable light emission characteristics can be obtained. Therefore, in the method of manufacturing an organic semiconductor device according to the present invention, an organic semiconductor layer is formed by a wet method using an organic compound solution containing an ionic salt, and heat-annealing and electro-annealing are performed on the formed organic semiconductor layer. It includes the process to perform. Existing EL thin film production methods, for example, Y. Sakuratani, T. Watanabe, S. Miyata; Thin Solid Films V388 (2001) 256-259, Y. Sakuratani, M. Asai, M. Tokita, S. Miyata; Synthetic Metals V123 (2001) 207-210, S. Miyata, Y. Sakuratani, X.T. Tao; Optical Materials 21 (2002) 99-107 et al. Disclose a method of doping an ammonium salt to an PVK polymer and subjecting it to electro-annealing, but any of the above reports doped an ionic salt as proposed in the present invention. And a method of treating heat-annealing and electro-annealing in parallel is not disclosed.

본 발명에 따른 유기 반도체 소자의 제조 방법을, 유기 반도체 소자 중 가장 간단한 구조를 가지는 유기 전계발광(electroluminescent: EL) 소자를 참조하여 설명한다. 본 발명에 따른 유기 반도체 소자의 제조 방법은 도 1b에 도시된 바와 같 이 각 성분이 균일하게 분산되어 있는, 단순 분산 단일 박막 구조의 반도체 소자 뿐 만 아니라, 유기 반도체 소자를 구성하는 2 이상의 유기물이 소정의 농도 그래디언트를 가지고 순차적으로 적층되어 있는 그레이디드 졍션(graded junction) 형태의 단일 박막 구조 반도체 소자(국제특허공개 WO 03/069959, 대한민국 특허출원 제10-2003-8854호 참조)에도 적용될 수 있으며, 상기 특허 문헌의 내용은 본 명세서에 참조로 모두 포함된다. 또한 본 발명의 방법은 상기 층 외에 별도의 층을 더욱 포함하는 EL 소자에도 적용될 수 있으며, 이들 층의 구조를 예시하면 다음과 같다. 하기 구조에서 "/"는 인접하는 층과의 경계면이 명확한 별개의 층을 나타내고, "~"으로 연결된 층은 각 층의 경계면이 불명확한 그레이디드 졍션(graded junction) 형태의 단일 박막을 나타낸다.The manufacturing method of the organic semiconductor element which concerns on this invention is demonstrated with reference to the organic electroluminescent (EL) element which has the simplest structure among organic semiconductor elements. In the method of manufacturing an organic semiconductor device according to the present invention, as shown in FIG. 1B, not only a semiconductor device having a simple dispersed single thin film structure in which each component is uniformly dispersed, but also two or more organic substances constituting the organic semiconductor device are included. It can also be applied to a single thin film structure semiconductor device in the form of a graded junction that is sequentially stacked with a predetermined concentration gradient (see International Patent Publication WO 03/069959, Korean Patent Application No. 10-2003-8854) The contents of the patent document are all incorporated herein by reference. In addition, the method of the present invention can be applied to an EL element further comprising a separate layer in addition to the above layer, and the structures of these layers are as follows. In the following structure, " / " represents a separate layer having a clear interface with an adjacent layer, and layers connected by " ~ " represent a single thin film in the form of a graded junction in which the interface of each layer is unclear.

(1) 양극/정공 주입, 수송층, 발광층 등이 단순 분산 혼합된 유기층/음극(1) Organic layer / cathode in which anode / hole injection, transport layer, light emitting layer, etc. are simply dispersed and mixed

(2) 양극/정공 주입 및 수송층 ~ 발광층/음극(2) Anode / hole injection and transport layer ~ light emitting layer / cathode

(3) 양극/발광층 ~ 전자 수송 및 주입층/음극(3) anode / light emitting layer ~ electron transport and injection layer / cathode

(4) 양극/정공 주입 및 수송층~발광층~전자 수송 및 주입층/음극(4) Anode / hole injection and transport layer ~ light emitting layer ~ electron transport and injection layer / cathode

(5) 양극/정공 주입층 / 수송층~발광층~전자 수송 및 주입층/음극(5) Anode / hole injection layer / transport layer ~ light emitting layer ~ electron transport and injection layer / cathode

(6) 양극/정공 주입 및 수송층~발광층~전자 수송층 / 전자 주입층/음극(6) Anode / hole injection and transport layer ~ light emitting layer ~ electron transport layer / electron injection layer / cathode

이하의 설명에서, 유기 반도체 화합물은 일반적으로 정공 주입 또는 수송, 발광 또는 형광, 전자 수송 또는 주입 등의 전기 및/또는 광학적 특성을 갖는 유기 화합물을 지칭한다. 도 2a는 그레이디드 졍션(graded junction) 형태의 단일 박막 구조 EL 소자의 구조를 설명하기 위한 도면으로서, 도 2a에 도시한 바와 같이, 그레이디드 졍션 형태의 단일 박막 구조 EL 소자에서는 정공 주입재(12), 정공 수송재(13), 발광재(14), 전자 수송재(15), 전자 주입재(16) 등 EL 층(20)을 구성하는 2종 이상의 유기 반도체 화합물이 적층 방향을 따라 소정의 농도 그래디언트(gradient)를 가지도록 순차적으로 적층되어 있고, 상기 EL 층(20)이 양극 및 음극(11, 17) 사이에 개재된 구조를 가진다. 상기 그레이디드 졍션 형태의 단일 박막 구조 EL 소자는 휘발성이 상이한 2종 이상의 유기 용매에, 상기 유기 용매에 대한 용해도가 상이한 2종 이상의 유기 반도체 화합물을 용해시킨 복합 용액을 양극(11)이 형성된 기판(10)의 상부에 도포하여 유기층을 형성한 후, 유기층으로부터 유기 용매를 순차적으로 제거하여, 상기 2종 이상의 유기 화합물을 순차적으로 석출시킴으로서 제조될 수 있다. 또한, 도 2b는 정공 주입재(12), 정공 수송재(13), 발광재(14) 및 전자 수송재(15)를 그레이디드 졍션 형태의 단일 박막으로 형성하고, 전자 주입층(16)을 기존 습식 방법이나 진공 증착 등의 건식 방법으로 형성한 유기 EL 소자의 구조를 나타낸 도면이다.In the following description, organic semiconductor compounds generally refer to organic compounds having electrical and / or optical properties such as hole injection or transport, luminescence or fluorescence, electron transport or injection. FIG. 2A is a view for explaining the structure of a single thin film structure EL element in the form of a graded junction. As shown in FIG. 2A, the hole injection material 12 is illustrated in the single thin film structure EL element in the form of a graded junction. Two or more organic semiconductor compounds constituting the EL layer 20, such as the hole transport material 13, the light emitting material 14, the electron transport material 15, and the electron injection material 16, have a predetermined concentration gradient along the stacking direction. Laminated in order to have a (gradient), the EL layer 20 has a structure interposed between the anode and the cathode (11, 17). The single thin film structure EL device of the graded section is formed of a substrate having an anode 11 formed of a composite solution in which two or more organic semiconductor compounds having different solubility in the organic solvent are dissolved in two or more organic solvents having different volatility. After coating on the top of 10) to form an organic layer, by sequentially removing the organic solvent from the organic layer, it can be prepared by sequentially depositing the two or more organic compounds. In addition, FIG. 2B shows that the hole injection material 12, the hole transport material 13, the light emitting material 14, and the electron transport material 15 are formed in a single thin film having a graded section, and the electron injection layer 16 is formed. It is a figure which shows the structure of the organic electroluminescent element formed by dry methods, such as a wet method and a vacuum deposition.

본 발명에 따른 유기 EL 소자의 제조에 사용되는 습식 공정용 유기 화합물 용액은 유기 반도체 화합물, 예를 들면, 적색, 녹색 또는 청색 빛을 발광하는 하나 이상의 유기 발광 화합물을 포함하며, 이때 제조된 EL 소자가 넓은 색 범위를 표현할 수 있도록 색도를 최적화(예를 들어, 청색, 녹색 및 적색에 대해 각각 460, 520 및 650 nm의 협라인)하여 상기 발광 화합물을 선택하는 것이 바람직하다. 본 발명 에 사용될 수 있는 발광 화합물에 대해서는 특별한 제한이 없으므로, 유기 EL 소자의 제조에 통상적으로 사용되는 것으로서, 전공-전자 재결합에 의하여 발광하는 형광(螢光) 물질 또는 인광(燐光) 물질을 광범위하게 사용할 수 있다. 바람직하게는 발광성을 가지는 저분자 또는 고분자 형광 물질을 사용할 수 있고, 저분자 물질과 고분자 물질을 혼합하여 사용할 수도 있으며, 특히 강한 형광 혹은 인광을 나타내는 물질인, 시아닌 색소, 메롤시아닌 색소, 스티릴계 색소, 안트라센 유도체, 폴피린 유도체, 프탈로시아닌 유도체, 쿠마린, DCM, 나일렛 등의 색소 및 레이저 색소를 이용할 수도 있다.The wet process organic compound solution used in the manufacture of the organic EL device according to the present invention comprises an organic semiconductor compound, for example, one or more organic light emitting compounds that emit red, green or blue light, wherein the EL device produced It is desirable to select the luminescent compound by optimizing the chromaticity (e.g., narrow lines of 460, 520 and 650 nm for blue, green and red, respectively) so that can represent a wide color range. Since there is no particular limitation on the light emitting compound that can be used in the present invention, it is commonly used in the manufacture of the organic EL device, a wide range of fluorescent materials or phosphorescent materials that emit light by electro-electron recombination. Can be used. Preferably, a low molecular weight or high molecular fluorescent material having luminescence may be used, and a low molecular weight material and a high molecular material may be mixed and used, and particularly, a cyanine dye, a merocyanine dye, a styryl dye, Pigments such as anthracene derivatives, polpyrin derivatives, phthalocyanine derivatives, coumarins, DCM, and Nile and laser dyes may also be used.

본 발명에 사용될 수 있는 유기 화합물의 구체적인 예로서, 정공 주입 및 정공 수송 화합물로는, 가용성의 프탈로시아닌(phthalocyanine) 화합물, TPD ((N,N'-diphenyl-N,N'-bis(3-methylphenyl) -[1,1'-biphenyl]-4,4'-diamine: 트리페닐아민 유도체) 등의 방향족 디아민(diamine)계 화합물, 트리페닐아민(Triphenylamine), MTDATA (4,4',4"-tris[3-methylphenyl (phenyl)amino]triphenylamine), 퀴나크리돈(Quinacridone), 비스스틸 안트라센(bisstil anthracen) 유도체, 5,10,15,20-테트라페닐-21H,23H-포루핀동, PVK (polyvinyl carbazole), 포르핀계 화합물, α-NPD (N,N'-diphenyl-N,N'-bis(1-naphthylphenyl)-1,1'-biphenyl-4,4'-diamine), NPB (N,N'-Bis(naphthalen-1-yl)-N,N'-bis(phenyl)benzidine), Spiro-NPB, Spiro-TAD, 폴리아닐린(polyaniline), PEDOT/PSS (Poly(3,4-oxyethyleneoxythiophene)/ poly(styrene sulfonate)) 등의 도전성 고분자 등을 예시할 수 있으나, 이들로 한정되는 것은 아니다.As a specific example of the organic compound that can be used in the present invention, as the hole injection and hole transport compound, a soluble phthalocyanine compound, TPD ((N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl) )-Aromatic diamine compounds such as [1,1'-biphenyl] -4,4'-diamine: triphenylamine derivatives), triphenylamine, MTDATA (4,4 ', 4 "- tris [3-methylphenyl (phenyl) amino] triphenylamine), quinacridone, bisstil anthracen derivatives, 5,10,15,20-tetraphenyl-21H, 23H-phosphorine, PVK ( polyvinyl carbazole), porphine compounds, α-NPD (N, N'-diphenyl-N, N'-bis (1-naphthylphenyl) -1,1'-biphenyl-4,4'-diamine), NPB (N, N'-Bis (naphthalen-1-yl) -N, N'-bis (phenyl) benzidine), Spiro-NPB, Spiro-TAD, polyaniline, PEDOT / PSS (Poly (3,4-oxyethyleneoxythiophene) / conductive polymers such as poly (styrene sulfonate)) may be exemplified, but are not limited thereto.

본 발명에 사용될 수 있는 전자 주입 및 전자 수송 화합물로는, 알루미늄 원자에 하이드록시퀴놀린 3분자가 배위해서 형성된 알루미늄 착체인 Alq3 및 Zn 착체인 ZnNBTZ, ZnBTZ, Zn(tOc-BTAZ), 디스티릴비페닐 유도체, 디리튬프탈로시아닌, 디소듐프탈로시아닌, 마그네슘포루핀, 4,4,8,8-테트라키스(1H-피라졸-1-일) 피라자볼 등의 전자 부족 화합물, 3-(2'-벤조티아졸)-7-디에틸아미녹마린, BND (2,5-bis (1-naphthyl)-1,3,4-oxadiazole), PBD (2-(4-tert-butylphenyl)-5-(4-biphenylyl) -1,3,4-oxadiazole) 등을 사용할 수 있고, 또한 바소크프로인 BCP (2,9-dimethyl- 4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline), 트리아졸 유도체 [예: 3,4,5-Triphenyl- 1,2,4-triazole, 3-(biphenyl-4-yl)-4-phenyl-5-tert-butylphenyl-1,2,4-triazole, 3,5-bis(4-tert-butylphenyl)-4-phenyl-[1,2,4]triazole] 등의 정공 차단(hole block) 기능을 가지는 재료 등을 들 수 있으나, 이들로 한정되는 것은 아니다. Examples of the electron injection and electron transport compound that can be used in the present invention include Alq3 and Zn complexes, ZnNBTZ, ZnBTZ, Zn (tOc-BTAZ), and distyrylbiphenyl derivatives, which are aluminum complexes formed by coordinating hydroxyquinoline three molecules to aluminum atoms. , Electron deficient compounds such as dilithium phthalocyanine, disodium phthalocyanine, magnesium porupin, 4,4,8,8-tetrakis (1H-pyrazol-1-yl) pyrazabol, 3- (2'-benzothiazole ) -7-diethylaminomarin, BND (2,5-bis (1-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole), PBD (2- (4-tert-butylphenyl) -5- (4-biphenylyl ), 1,3,4-oxadiazole) and the like, but also vasoprophine BCP (2,9-dimethyl-4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline), triazole derivatives [eg, 3, 4,5-Triphenyl- 1,2,4-triazole, 3- (biphenyl-4-yl) -4-phenyl-5-tert-butylphenyl-1,2,4-triazole, 3,5-bis (4- materials having a hole block function such as tert-butylphenyl) -4-phenyl- [1,2,4] triazole], but are not limited thereto. It is not.

또한, 상기 유기 발광 화합물로서는, 이온화 포텐셜이 상기 정공 수송 화합물 보다 작고, 전자 친화력이 상기 전자 수송 화합물 보다 큰 물질을 사용하는 것이 바람직하다. 본 발명에 사용될 수 있는 발광 저분자 유기 화합물로는 비제한적으로, 녹색 발광재의 경우, 초록색 영역(520 nm)에서 빛을 발하는 알루미나 퀴논(Alq3, Tris(8-hydroxyquinolato) aluminum) 또는 트리스-(5-클로로-8-히드록시-퀴놀리나토)-알루미늄 (Tris-(5-chloro-8-hydroxy-quinolinato)-aluminium), 트리스(4-메틸-8-히드록시퀴놀린)알루미늄 (Tris(4-methyl-8-hydroxyquinoline) aluminum), 트리스(5,7-디클로로-8-히드록시퀴놀리나토)알루미늄 (Tris(5,7- dichloro-8-hydroxyquinolinato)-aluminium), Gaq3 등의 변형 Alq3, BeBq2 (10- benzo[h]quinolinol -beryllium complex) 등이나 인광성 단분자인 트리스(1-페닐-3-메틸-4-(2,2-디메톡시프로판-1-오일)-피라졸린-5-온)터비윰(III) (Tris(1-phenyl-3-methyl-4-(2,2-dimethylpropan-1-oyl)-pyrazolin-5-one) terbium (III)) 등이 사용될 수 있다. 또한, 전형적으로, 퀴나크리돈(quinacridone), 쿠마린(coumarin), 쿠마린 6, C545T (10-(2-Benzothiazolyl)-2,3,6,7-tetrahydro -1,1,7,7-tetramethyl-1H,5H,11H-[1]benzopyrano[6,7,8-ij]quinolizin-11-one), Ir-복합체(complex) 등을 수 mol%의 농도로 첨가함(도핑)으로써 발광 효율과 내구성을 향상시킬 수도 있다. 또한, 전형적으로, 적색 발광 화합물 및 도핑제로는 인디고(Indigo), 나일 레드(Nile Red), DCJTI (Propanedinitrile,[2-(2-propyl)-6- [2-(2,3,6,7-tetrahydro-2,2,7,7-tetramethyl-1H,5H-benzo[ij]quinolizin-9-yl) ethenyl]-4H-pyran], DCM2 (4-(Dicyanomethylene)-2-methyl-6-(julolidin-4-yl- vinyl)-4H-pyran), DCM (4-(dicyanomethylene)-2-methyl-6-(p-dimethyl aminostyryl)-4H-pyran), DCJTB (Eastman Kodk Co.), 트리스(헥사플로로아세틸아세토네이트) 모노(1,10-페난트롤린)에르븀(III) (Tris(hexafluoroacetylacetonate) mono(1,10-phenanthroline) erbium (III)), 트리스(벤조일트릴플로로아세토네이트) 모노(1,10-페난트롤린)에르븀(III) (Tris(benzoyltrifluoroacetonate)mono(1,10 -phenanthroline) erbium (III)), 비스(3-(2-(2-피리딜)벤조테노일)모노-아세틸아세토네이트 이리듐 III (Bis(3-(2-(2-pyridyl)benzothenoyl) mono-acetylacetonate iridium III) 및 Pt-복합체(complex), 루브렌(Rubrene), N,N'-디메틸쿠나크리돈(N,N'-Dimethylquinacridone), 트리스(디(4-브로모벤조일)메 탄) 모노(페나트롤린)유로퓸 (III) (Tris(di(4-bromobenzoyl)methane) mono(phenathroline)europium (III)), 트리스(디벤조일메탄)모노(4,7-디메틸페나트로린)유로퓸 (III) (Tris(dibenzoylmethane) mono(4,7-dimethylphenathroline)europium (III)), 트리스(1,10-페난트롤렌) 루테늄 (II) 클로라이드 (Tris(1,10-Phenanthrolene) ruthenium (II) chloride), 2,3,7,8,12,13,17,18-옥타에틸-21H,23H-포르핀 플래튬(II) (2,3,7,8,12,13,17,18-Octaethyl-21H,23H-porphine platinum (II)), Ru(dpp) (Tris(4,7-diphenyl-1,10-phenanthroline) ruthenium (II) chloride) 등이 사용될 수 있다. 또한 청색 발광 화합물로는 ZnPBO ((Bis[2-(2-benzoxazolyl) phenolato]Zinc(II)), Balq (Bis(2-methyl-8-quinolinolato)(para-phenyl -phenolato)aluminum), 비스-(2-메틸-8-퀴놀리노라토)-4-(페닐-페놀라토)-알루미늄(III) (Bis-(2-methyl-8-quinolinolato)-4-(phenyl-phenolato)-aluminium-(III)) 등의 금속 착체 화합물을 사용할 수 있으며, 스티릴 아리렌(strylarylene)계 유도체인 DPVBi (4,4'-bis(2,2'-biphenylvinyl)-1,1'-biphenyl), 옥사디아졸(oxadiazole) 유도체, 비스스티릴 안트라센 유도체, 비스스티릴 아릴렌 유도체로서 BczVBi(4,4'-Bis((2-carbazole)vinylene)biphenyl) 및 리튬 테트라(8-히드록시퀴놀리나토)보론 (Lithium tetra(8-hydroxyquinolinato) boron), 리튬염을 포함한 테트라(2-메틸-8-히드록시퀴놀라토)보론 (Tetra(2-methyl-8-hydroxyquinolato)boron with lithium salt) 등의 비금속 착체 화합물, 인광성 단분자로서 비스(3,5-디플로로-2-(2-피리딜)페닐-(2-카복시피리딜)이리듐 III (bis(3,5-difluoro-2-(2-pyridyl)phenyl-(2-carboxypyridyl) iridium III), 고 분자로서 폴리[(9,9-디헥실)플로렌-2,7-디일]-알트-코-(9,9-디-(5-펜테닐)-플로레닐-2,7-디일)) (Poly[(9,9-dihexyl)fluoren-2,7-diyl]-alt-co-(9,9-di-(5-pentenyl)-fluorenyl-2,7-diyl))) 등을 사용할 수 있으며, 청색 발광 도판트로는 인광성 단분자 Ir(ppy)3 (Tris[2-(2-pyridinyl)phenyl-C,N]iridium(III); Tris(2-phenylpyridine)iridium(III)), 형광성 단분자로서 비스(2-(2-히드록시페닐)-벤즈-1,3-티아졸라토)징크 콤플렉스 (Bis(2-(2-hydroxyphenyl)-benz-1,3-thiazolato) zinc complex), 페릴렌(perylene), 쿠마린47 등을 사용할 수 있으나, 이들로 한정되는 것은 아니다. 본 발명에 따른 유기 EL 소자의 발광 재료에 대해서 특별한 제한이 없으므로 상기 단분자 또는 저분자들로 구성된 덴드리마도 사용될 수도 있다.As the organic light emitting compound, it is preferable to use a substance having an ionization potential smaller than that of the hole transport compound and an electron affinity larger than the electron transport compound. The light emitting low molecular weight organic compounds that can be used in the present invention include, but are not limited to, alumina quinone (Alq3, Tris (8-hydroxyquinolato) aluminum) or tris- (5- which emits light in the green region (520 nm) in the case of green light emitting materials. Tri- (5-chloro-8-hydroxy-quinolinato) -aluminium, tris (4-methyl-8-hydroxyquinoline) aluminum (Tris (4-methyl -8-hydroxyquinoline) aluminum), tris (5,7-dichloro-8-hydroxyquinolinato) aluminum (Tris (5,7-dichloro-8-hydroxyquinolinato) -aluminium), Gaq3 and other modified Alq3, BeBq2 ( Tris (1-phenyl-3-methyl-4- (2,2-dimethoxypropane-1-oil) -pyrazolin-5-one, such as 10-benzo [h] quinolinol -beryllium complex) ) Terbi 윰 (III) (Tris (1-phenyl-3-methyl-4- (2,2-dimethylpropan-1-oyl) -pyrazolin-5-one) terbium (III)) and the like can be used. Also typically, quinacridone, coumarin, coumarin 6, C545T (10- (2-Benzothiazolyl) -2,3,6,7-tetrahydro-1,1,7,7-tetramethyl- Luminous efficiency and durability by adding (doping) 1H, 5H, 11H- [1] benzopyrano [6,7,8-ij] quinolizin-11-one), Ir-complex at a concentration of several mol% You can also improve. Also typically, red light emitting compounds and dopants include Indigo, Nile Red, DCJTI (Propanedinitrile, [2- (2-propyl) -6- [2- (2,3,6,7). -tetrahydro-2,2,7,7-tetramethyl-1H, 5H-benzo [ij] quinolizin-9-yl) ethenyl] -4H-pyran], DCM2 (4- (Dicyanomethylene) -2-methyl-6- ( julolidin-4-yl-vinyl) -4H-pyran), DCM (4- (dicyanomethylene) -2-methyl-6- (p-dimethyl aminostyryl) -4H-pyran), DCJTB (Eastman Kodk Co.), Tris ( Hexafluoroacetylacetonate) mono (1,10-phenanthroline) erbium (III) (tris (hexafluoroacetylacetonate) mono (1,10-phenanthroline) erbium (III)), tris (benzoyltrifluoroacetonate) mono (1,10-phenanthroline) erbium (III) (Tris (benzoyltrifluoroacetonate) mono (1,10-phenanthroline) erbium (III)), bis (3- (2- (2-pyridyl) benzotenoyl) mono Acetylacetonate iridium III (Bis (3- (2- (2-pyridyl) benzothenoyl) mono-acetylacetonate iridium III) and Pt-complex, Rubrene, N, N'-dimethylkunacridone ( N, N'-Dimethylquinacridone), tris (di (4-bromobenzoyl) methane) mono (phenathroline) uropium (III) (Tris (di (4-bromobenzoyl) methane) mono (phenathroline) europium (III) ), Tris (dibenzoylmethane) mono (4,7-dimethylphenathroline) europium (III) (Tris (dibenzoylmethane) mono (4,7-dimethylphenathroline) europium (III)), tris (1,10-phenanthrol) Tri) (1,10-Phenanthrolene) ruthenium (II) chloride), 2,3,7,8,12,13,17,18-octaethyl-21H, 23H-phosphine platinum (II) (2,3,7,8,12,13,17,18-Octaethyl-21H, 23H-porphine platinum (II)), Ru (dpp) (Tris (4,7-diphenyl-1,10- phenanthroline) ruthenium (II) chloride) may be used. In addition, as the blue light-emitting compound, ZnPBO ((Bis [2- (2-benzoxazolyl) phenolato] Zinc (II)), Balq (Bis (2-methyl-8-quinolinolato) (para-phenyl -phenolato) aluminum), bis- (2-Methyl-8-quinolinolato) -4- (phenyl-phenolato) -aluminum (III) (Bis- (2-methyl-8-quinolinolato) -4- (phenyl-phenolato) -aluminium- ( III)), and metal complex compounds such as DPVBi (4,4'-bis (2,2'-biphenylvinyl) -1,1'-biphenyl) and oxiadia, which are styryl arylene derivatives, may be used. BczVBi (4,4'-Bis ((2-carbazole) vinylene) biphenyl) and lithium tetra (8-hydroxyquinolinato) boron as oxadiazole derivatives, bisstyryl anthracene derivatives, bisstyryl arylene derivatives Nonmetallic complexes such as Lithium tetra (8-hydroxyquinolinato) boron, Tetra (2-methyl-8-hydroxyquinolato) boron with lithium salt Compound, bis (3,5-difluoro-2- (2-pyridyl) phenyl- (2-carboxy) as phosphorescent monomolecule Ridyl) iridium III (bis (3,5-difluoro-2- (2-pyridyl) phenyl- (2-carboxypyridyl) iridium III), poly [(9,9-dihexyl) florene-2,7 as high molecule -Diyl] -alt-co- (9,9-di- (5-pentenyl) -florenyl-2,7-diyl)) (Poly [(9,9-dihexyl) fluoren-2,7-diyl] -alt-co- (9,9-di- (5-pentenyl) -fluorenyl-2,7-diyl))), and the blue light emitting dopant is phosphorescent monomolecular Ir (ppy) 3 (Tris). [2- (2-pyridinyl) phenyl-C, N] iridium (III); Tris (2-phenylpyridine) iridium (III)), bis (2- (2-hydroxyphenyl) -benz-1 as fluorescent monomolecule , 3-thiazolato) zinc complex (Bis (2- (2-hydroxyphenyl) -benz-1,3-thiazolato) zinc complex), perylene, coumarin 47 and the like can be used, but is not limited thereto. It is not. Since there is no particular limitation on the light emitting material of the organic EL device according to the present invention, a dendrima composed of the above-mentioned single molecule or low molecule may also be used.

본 발명에 따른 유기 EL 소자의 발광 화합물로 사용할 수 있는 고분자 유기 화합물은 비제한적으로 폴리(p-페닐렌) (poly(phenylene)) [예: poly(2,5-dialkyl- 1,4-phenylene), poly(p-phenylene)], 폴리페닐렌-비닐렌 (Poly(phenylene- vinylene)) [예: poly(1,4 phenylene vinylene), poly-(2,5-dialkoxy-1,4 phenylene vinylene), poly(2,5-dialkyl-1,4 phenylene vinylene)], 폴리알릴렌, 폴리알킬티오펜, 폴리플루오렌 (Poly(fluorene)) [예: poly(9,9-dialkyl fluorene)], 폴리(티오펜) (poly(thiophene)) [예: poly(3-alkylthiophene)], 이들의 유도체 등을 포함한다. 전도성 고분자 물질을 본 발명에 따른 유기 EL 소자의 발광재로서 사용할 경우, 블럭 공중합체의 특성을 부분적으로 나타내는 랜덤 공중합체, 임의의 중간 구조체를 갖는 랜덤, 블럭, 또는 그래프트 공중합체 또는 중합체가 사용될 수 있으나, 이들로 한정되는 것은 아니다.The polymer organic compound that can be used as the light emitting compound of the organic EL device according to the present invention includes, but is not limited to, poly (p-phenylene) (poly (phenylene)) [eg, poly (2,5-dialkyl-1,4-phenylene). ), poly (p-phenylene)], Poly (phenylene- vinylene) [e.g. poly (1,4 phenylene vinylene), poly- (2,5-dialkoxy-1,4 phenylene vinylene ), poly (2,5-dialkyl-1,4 phenylene vinylene)], polyallylene, polyalkylthiophene, poly (fluorene) [e.g. poly (9,9-dialkyl fluorene)], Poly (thiophene) [eg, poly (3-alkylthiophene)], derivatives thereof, and the like. When the conductive polymer material is used as the light emitting material of the organic EL device according to the present invention, a random copolymer partially exhibiting the properties of the block copolymer, a random, block, or graft copolymer or polymer having any intermediate structure can be used. However, it is not limited to these.

본 발명에 따른 유기 EL 소자에서, 유기 반도체 화합물은 적합한 전도성 또는 절연성 바인더 고분자와 함께 박막을 형성할 수 있으며, 필요에 따라 적절한 도판트를 포함할 수 있다. 상기 바인더 고분자로는 PPV, PVK, PMMA, 폴리플루오린 등과 그 유도체, 폴리카보네이트 (polycarbonate), 폴리에스테르 (polyester), 폴리알릴레이트 (polyallylate), 부틸알 (butyral) 고분자, 폴리비닐아세탈 (polyvinylacetal), 디알릴프탈레이트 (diallyphthalate) 고분자, 아크릴 (acrylic) 고분자, 메타크릴릭 (methacrylic) 고분자, 페놀 (phenol) 고분자, 에폭시 (epoxy) 고분자, 실리콘 (silicone) 고분자, 폴리술폰 (polysulfone) 고분자, 요소(urea) 고분자 등을 예시할 수 있다. 그러한 소정의 고분자는 단독, 혼합 또는 공중합체 형태로 이용될 수 있으나, 이들로 한정되는 것은 아니다. 또한, 전하 수송 특성을 향상시키기 위하여, 전자 또는 정공 수송 화합물을 혼합할 수도 있다. 또한 상기 바인더 고분자는 배열성이 없는 고분자 뿐 만 아니라, 배향성(ordering) 또는 액정 특성을 가지는 고분자를 사용할 수도 있다. 바인더 고분자가 액정성(liquid crystallinity)을 가지는 경우, 편광된 EL 발광이 가능하므로 EL 소자 외부에 원편광 폴라라이저(circular polarizer)를 장착하여, 대비비(contrast) 및 발광 출력을 증강시킬 수 있다. 상기 유기화합물 및 바인더 고분자의 사용량은 목적하는 EL층의 용도, 성분, 두께 등에 따라 달라질 수 있으며, 각 성분 화합물이 원하는 기능을 발휘할 수 있는 양을 실험에 의하여 결정할 수 있다.In the organic EL device according to the present invention, the organic semiconductor compound may form a thin film together with a suitable conductive or insulating binder polymer, and may include a suitable dopant as necessary. The binder polymer may be PPV, PVK, PMMA, polyfluorine or the like, derivatives thereof, polycarbonate, polyester, polyallylate, butyral polymer, polyvinylacetal , Diallylphthalate polymer, acrylic polymer, methacrylic polymer, phenol polymer, epoxy polymer, silicone polymer, polysulfone polymer, urea ( urea) polymers and the like. Such predetermined polymers may be used alone, in a mixed or copolymer form, but are not limited thereto. In addition, in order to improve charge transport characteristics, an electron or a hole transport compound may be mixed. In addition, the binder polymer may be a polymer having alignment or liquid crystal properties as well as a polymer having no arrangement. When the binder polymer has liquid crystallinity, polarized EL light emission is possible, and thus a circular polarizer may be mounted outside the EL device to enhance contrast and light emission output. The amount of the organic compound and the binder polymer may vary depending on the purpose, component, thickness, etc. of the desired EL layer, and the amount of each component compound that can exhibit a desired function can be determined by experiment.

본 발명에 따라 상기 유기 화합물 용액에 포함되어 유기층에 도핑되는 이온성 염으로는 대표적으로 LiClO4, LiPF6, LiBF4, LiN(CF3SO 2)2, 리튬트리플로로메탄 트리설포네이트(lithium trifluoromethane sulfonate) 등의 Li 양이온 함유 무기염(inorganic salts) 및 TEA-BF4 (tetraethylammonium tetrafluoroborate), Bu4N-BF4 (tetra-n-butylammonium tetrafluoroborate), 테트라 알킬, 아릴(aryl) 또는 헤테로아릴 쿼터너리 암모늄염 [예: tetra-n-alkylammonium toluenesulfonate, tetra-n-alkylammonium tetrafluoroborate, tetra-n-alkyl ammonium tetraphenylborate, tetra-n-alkyl ammonium toluenesulfonate, tetraalkylammonium tetrafluoro borate, tetra-n-alkyl ammonium tetraphenylborate] 등의 유기염, 폴리스티렌설포네이트 (Polystyrenesulfonate: PSS) 등의 고분자염 (polymeric salt) 등이 단독 또는 2종 이상 사용될 수 있다. 그러나, 상기 염들은 단지 본 발명의 이온성 염으로 사용될 수 있는 예에 불과하고, 양이온과 음이온으로 구성되는 다양한 염들이 본 발명에 사용될 수 있다. 상기 이온성 염의 사용량은 제조하는 EL층의 용도, 성분, 두께 등에 따라 달라질 수 있으나, 상기 유기 반도체 화합물 및 바인더 고분자 수지 100중량부에 대하여 0.02 내지 30 중량부인 것이 바람직하며, 만일 상기 이온성 염의 사용량이 0.02 중량부 미만일 경우에는 EL 소자의 발광 효율 향상 및 동작 개시전압 감소 효과가 불충분하며, 30 중량부를 초과하면 과도한 이온의 농도로 인해 소자의 작동이 불량해지는 문제가 있다.According to the present invention, the ionic salts contained in the organic compound solution and doped into the organic layer are typically LiClO 4 , LiPF 6 , LiBF 4 , LiN (CF 3 SO 2 ) 2 , and lithium trifluoromethane trisulfonate (lithium). Inorganic salts containing Li cations such as trifluoromethane sulfonate) and TEA-BF 4 (tetraethylammonium tetrafluoroborate), Bu 4 N-BF 4 (tetra-n-butylammonium tetrafluoroborate), tetraalkyl, aryl or heteroaryl quarters Organic ammonium salts such as tetra-n-alkylammonium toluenesulfonate, tetra-n-alkylammonium tetrafluoroborate, tetra-n-alkyl ammonium tetraphenylborate, tetra-n-alkyl ammonium toluenesulfonate, tetraalkylammonium tetrafluoro borate, tetra-n-alkyl ammonium tetraphenylborate Salts, polymeric salts such as polystyrenesulfonate (PSS), and the like may be used alone or in combination of two or more. However, the salts are merely examples that can be used as the ionic salt of the present invention, and various salts composed of cations and anions can be used in the present invention. The amount of the ionic salt may vary depending on the use, component, thickness, etc. of the EL layer to be manufactured, but is preferably 0.02 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the organic semiconductor compound and the binder polymer resin. If the amount is less than 0.02 part by weight, the effect of improving the luminous efficiency of the EL element and reducing the operation start voltage is insufficient. If the amount is more than 30 part by weight, the operation of the element is poor due to the excessive concentration of ions.

상기 유기 화합물 용액의 제조에 사용되는 용매로는 대표적으로, 메틸 알콜, 에틸 알콜, n-프로필 알콜, 이소프로필 알콜, n-부틸 알콜, 섹-부틸 알콜(sec-butyl alcohol), 터트-부틸 알콜(tert-butyl alcohol), 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, 케톤, 아세톤, 디아세톤 알콜, 케토-알콜, 디옥산, 에테르, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리알킬렌글리콜, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 헥실렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 글리세롤, 에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜 메틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 2-피롤리돈, 톨루엔, 크실렌, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 클로로포름, 디클로로메탄, 디클로로에탄, 감마부틸락톤, 부틸셀로졸브, 시클로헥산, NMP(N-메틸-2-피롤리돈), 시클로헥사논, THF(테트라히드로푸란), 사염화탄소, 테트라클로로에탄, 옥틸벤젠, 도데실벤젠, 퀴놀린, 트리클로로벤젠, 니트로벤즈알데하이드, 니트로벤젠, 2황화탄소, 2-헵타논, 벤젠, 테르피네올, 부틸카르비톨아세테이트, 이온 교환수(순수), 이들의 혼합물 등을 사용할 수 있다. 그러나, 전술된 예들은 단지 사용 가능한 용매를 예시하는 것으로서, 본 발명이 이에 한정되지는 않는다. 또한, 본 발명에 있어서, 단일 용매를 사용하거나, 휘발성이 상이한 2종 이상의 유기 용매를 혼합하여 사용함으로서, 각 용매의 휘발성과 용해도의 차이를 이용하여 농도 그래디언트를 가지는 유기 반도체층을 형성할 수도 있다. 상기 유기 화합물 용액의 점도는 적절한 용매의 선택에 의하여, 형성될 EL 층의 최종 두께 및 발광 강도를 최적화하기 위해 조절될 수 있다. 바람직한 용액의 점도는 5000cp 이하이고, 상기 점도의 하한은 본 발명에 있어서 큰 의미는 없으나, 예를 들면 100cp 이상, 더욱 바람직하게는 1000cp 이상이다. 상기 유기 화합물 용액의 농도는 통상적으로 습식 공정에 적합한 점도가 되도록 선택되어야 하고 바람직하게는 0.005 내지 30중량%, 더욱 바람직하게는 0.01 내지 10중량%이다. 상기 점도 및 농도가 상기 범위 미만이거나 초과할 경우에는 습식 공정에 의한 막형성 공정이 효율적으로 수행되지 못할 우려가 있다.Typical solvents used in the preparation of the organic compound solution include methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, sec-butyl alcohol and tert-butyl alcohol. (tert-butyl alcohol), dimethylformamide, dimethylacetamide, ketone, acetone, diacetone alcohol, keto-alcohol, dioxane, ether, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyalkylene glycol, ethylene glycol, propylene glycol, Butylene glycol, triethylene glycol, hexylene glycol, diethylene glycol, glycerol, ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol methyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, 2-pyrrolidone, toluene, xylene, chlorobenzene, Dichlorobenzene, chloroform, dichloromethane, dichloroethane, gammabutyllactone, butyl cellosolve, cyclohexane, NMP (N-methyl-2-pyrrolidone), cyclohexanone, THF (tetra Drofuran), carbon tetrachloride, tetrachloroethane, octylbenzene, dodecylbenzene, quinoline, trichlorobenzene, nitrobenzaldehyde, nitrobenzene, carbon disulfide, 2-heptanone, benzene, terpineol, butylcarbitol acetate, Ion-exchanged water (pure water), mixtures thereof and the like can be used. However, the above examples merely illustrate usable solvents, and the present invention is not limited thereto. In addition, in the present invention, by using a single solvent or by mixing two or more organic solvents having different volatility, an organic semiconductor layer having a concentration gradient may be formed using a difference in volatility and solubility of each solvent. . The viscosity of the organic compound solution can be adjusted to optimize the final thickness and luminescence intensity of the EL layer to be formed, by selection of a suitable solvent. The viscosity of a preferable solution is 5000cp or less, and the minimum of the said viscosity does not have a big meaning in this invention, For example, it is 100cp or more, More preferably, it is 1000cp or more. The concentration of the organic compound solution should usually be chosen to be a viscosity suitable for the wet process and is preferably 0.005 to 30% by weight, more preferably 0.01 to 10% by weight. If the viscosity and concentration are less than or above the above range, there is a concern that the film forming process by the wet process may not be efficiently performed.

상기 유기 화합물 용액을 이용하여 유기층을 형성하는 방법으로는 스핀-코팅 법, 캐스트 방법, 잉크제트 방법, 침적 방법, 인쇄 방법 등과 같은 습식 방법을 사용하는 것이 바람직하다. 습식 방법을 사용하여 전극(양극 또는 음극) 상부에 유기층을 형성하는 경우, 대기의 수분 및 산소에 의하여 유기층이 열화되기 쉽다. 따라서, 수분 및 산소를 제거하기 위해, 반응성이 낮은 가스, 예를 들면 아르곤, 헬륨, 질소 등의 희가스 또는 불활성 기체로 채워진 청결한 부스에 배치된 습식 성막 장치에서 상기 유기 화합물 용액을 이용하여 유기층을 형성하는 것이 바람직하다. 그 후, 유기층을 열처리하여 유기층에 함유된 용매를 순차적으로 완전히 제거하여 EL 층(20)을 형성한다. 따라서, 사용되는 용매는 유기층에 사용되는 유기 화합물 또는 고분자의 유리 전이 온도(Tg)보다 낮은 온도에서 증발되는 것이 바람직하다. 또한, 유기층을 고분자 선구 물질로 형성한 후, 가열하여 그 선구 물질을 EL 재료로서의 고분자 화합물로 변환시킬 수도 있다. 또한 상기 유기층이 적색, 녹색 및 청색 발광 화합물을 포함하는 경우, 상기 유기 용매를 제거하여 유기 반도체층을 형성하는 단계는 적색, 녹색 및 청색 발광 화합물을 포함하는 유기층에 대하여 각각 별개로 수행되는 것이 바람직하다. 형성된 EL 층(20)의 막두께는 10 내지 1000 ㎚인 것이 바람직하며, 만일 상기 막두께가 10㎚ 미만이면, 전압을 인가했을 때에 쇼트의 가능성이 있고, 1000㎚를 초과하면, 높은 인가전압이 필요하고, 발광효율이 저하될 우려가 있다.As a method of forming the organic layer using the organic compound solution, it is preferable to use a wet method such as a spin-coating method, a casting method, an ink jet method, a deposition method, a printing method, or the like. When the organic layer is formed on the electrode (anode or cathode) using the wet method, the organic layer is likely to be deteriorated by moisture and oxygen in the atmosphere. Therefore, in order to remove moisture and oxygen, an organic layer is formed using the organic compound solution in a wet film forming apparatus disposed in a clean booth filled with a less reactive gas such as rare gas such as argon, helium, nitrogen, or an inert gas. It is desirable to. Thereafter, the organic layer is heat-treated to completely remove the solvent contained in the organic layer sequentially to form the EL layer 20. Therefore, the solvent used is preferably evaporated at a temperature lower than the glass transition temperature (Tg) of the organic compound or polymer used in the organic layer. The organic layer may also be formed of a polymeric precursor, and then heated to convert the precursor into a polymeric compound as an EL material. In addition, when the organic layer includes a red, green, and blue light emitting compound, the forming of the organic semiconductor layer by removing the organic solvent is preferably performed separately for each of the organic layers including the red, green, and blue light emitting compounds. Do. It is preferable that the film thickness of the formed EL layer 20 is 10-1000 nm. If the film thickness is less than 10 nm, there is a possibility of shorting when a voltage is applied, and if it exceeds 1000 nm, a high applied voltage It is necessary, and there exists a possibility that luminous efficiency may fall.

이와 같이 EL 층(20)을 형성한 후, EL 층(20) 상부에 음극(17)(또는 양극(11))을 형성한다. 통상적으로, 양극(11)(또는 애노드)은 일함수(work function)가 큰 물질로 이루어지는 것이 바람직하며, 예를 들면, 은, 니켈, 금, 백금, 팔라듐, 셀레늄(slenium), 레늄(rhenium), 이리듐, 이들의 합금, 산화주석(tin oxide), 인듐-주석-산화물(indium-tin-oxide, ITO), 인듐-아연-산화물(indium-zinc-oxide, IZO), 요오드화 구리(copper iodide) 등으로 이루어질 수 있다. 또한 폴리아닐린, 폴리(3-메틸티오펜) (poly(3-methythiophene)), 폴리페닐렌술파이드 (polyphenylenesulfide), 폴리피롤(polypyrrole), PEDOT/PSS 등과 같은 도전성 중합체가 상기 양극(11) 재료로 사용될 수 있다. 반면, 상기 음극(17)(또는 캐소드)은 일함수가 작은 물질로 이루어지는 것이 바람직하며, 예를 들면, 알루미늄(Al), 마그네슘(Mg), 리튬(Li), 세슘(Cs), 바륨(Ba), 칼륨(K), 베릴륨(Be), 칼슘(Ca), 이들의 혼합물 등으로 이루어질 수 있고, 구체적으로는 MgAg 전극(Mg : Ag = 10 : 1), MgAgAl 전극, LiAl 전극, LiFAl 전극이나, Li/Al, LiF/Al과 같은 적층 전극으로 형성될 수도 있다. 또한 통상의 유기 EL 소자에서와 같이, 음극(17)을 외부 수 분 등으로부터 보호하기 위한 보호 전극(미도시)이 더욱 형성될 수 있으며, 상기 보호 전극은 알루미늄(Al) 또는 은(Ag)을 함유한 재료로 형성될 수 있다. 상기 음극(17)은 증착법 또는 스퍼터법에 의하여 형성될 수 있다. 만일, 전자 주입 화합물(16)로서 디리튬프탈로시아닌, 디소듐프탈로시아닌, 마그네슘 포루핀, 4,4,8,8-테트라키스(1H-피라졸-1-일) 피라자볼 등을 사용한 경우에는, 일함수가 크고 안정한 금속만으로 음극(17)을 형성할 수 있으므로, 음극(17)의 산화 반응을 억제하고, EL 소자의 수명 특성을 향상시킬 수 있다. 본 발명에 따른 유기 EL 소자에 사용되는 기판(10)으로는, 유기 EL 소자의 제조에 통상적으로 사용되는 기판을 광범위하게 사용할 수 있다. 예를 들면, 상기 기판(10)은 코닝1737 등의 유리, 폴리에스테르 폴리카보네이트, 폴리메틸메타클리레이트(PMMA), 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 고분자 필름 등으로 이루어진 투명기판, 또는 실리콘, 갈륨 알세나이드(gallium arsenide) 등과 같은 무기 반도체 기판일 수 있으나, 본 발명이 이에 한정되지는 않는다. 상기 양극(11) 및 음극(17)은, 서로 직교하는 스트라이프 모양으로 형성될 수 있으며, 선택된 양극(11) 및 음극(17)에 순방향으로 전압을 인가함으로써, 양전극(11, 17)의 교점의 발광영역에 전압이 인가되어 발광한다. 도 2a에서는 하부로부터 기판(10)/양극(11)/EL 층(20)/음극(17)이 순차적으로 적층되어 있으나, 반드시 이 순서로 적층될 필요는 없고, 하부로부터 기판/제 1전극/EL 층/제2 전극 또는 기판/제2 전극/EL 층/제1 전극의 순서로 적층될 수도 있다. 또한, 기판(10) 측의 전극, 즉 양극(11)만이 투명하고, 음극(17)이 불투명한 경우, 발광을 외부로 추출하기 위해서는 기판(10)도 투명 기판일 필요가 있다. 또한, 필요에 따라 음극(17)이 형성된 EL 소자를 산소와 수분으로부터 보호하기 위해, 유리, 세라믹, 플라스틱, 금속 등의 밀봉 부재를 사용하여 불활성 가스 분위기에서 상기 EL 소자를 봉지하거나, 열 또는 자외선 경화 수지를 사용하여 상기 EL 소자를 봉지할 수 있다. 또한, 봉지된 기밀 공간 내부에 흡습성 재료를 넣어 두는 것이 효과적인데, 그러한 흡습성 재료의 대표적인 예로는 산화바륨이 있다.After the EL layer 20 is formed in this manner, the cathode 17 (or the anode 11) is formed on the EL layer 20. Typically, the anode 11 (or anode) is preferably made of a material having a large work function, for example, silver, nickel, gold, platinum, palladium, selenium, or rhenium. , Iridium, alloys thereof, tin oxide, indium-tin-oxide (ITO), indium-zinc-oxide (IZO), copper iodide Or the like. In addition, conductive polymers such as polyaniline, poly (3-methythiophene), polyphenylenesulfide, polypyrrole, PEDOT / PSS, etc. may be used as the anode 11 material. have. On the other hand, the cathode 17 (or the cathode) is preferably made of a material having a small work function, for example, aluminum (Al), magnesium (Mg), lithium (Li), cesium (Cs), barium (Ba ), Potassium (K), beryllium (Be), calcium (Ca), mixtures thereof, and the like, specifically MgAg electrodes (Mg: Ag = 10: 1), MgAgAl electrodes, LiAl electrodes, LiFAl electrodes, Or a stacked electrode such as Li / Al or LiF / Al. In addition, as in a conventional organic EL device, a protection electrode (not shown) for protecting the cathode 17 from external moisture or the like may be further formed, and the protection electrode may be formed of aluminum (Al) or silver (Ag). It may be formed of a material that contains. The cathode 17 may be formed by a deposition method or a sputtering method. If dilithium phthalocyanine, disodium phthalocyanine, magnesium porupin, 4,4,8,8-tetrakis (1H-pyrazol-1-yl) pyrazabol, etc. are used as the electron injection compound (16), Since the cathode 17 can be formed only by a large and stable metal, the oxidation reaction of the cathode 17 can be suppressed and the lifespan characteristics of the EL element can be improved. As the board | substrate 10 used for the organic electroluminescent element which concerns on this invention, the board | substrate normally used for manufacture of organic electroluminescent element can be used widely. For example, the substrate 10 may be a transparent substrate made of glass such as Corning 1737, a polymer film such as polyester polycarbonate, polymethyl methacrylate (PMMA), polyethylene terephthalate, or silicon, gallium arsenide ( inorganic semiconductor substrates such as gallium arsenide), but the present invention is not limited thereto. The positive electrode 11 and the negative electrode 17 may be formed in a stripe shape orthogonal to each other, and by applying a voltage in a forward direction to the selected positive electrode 11 and the negative electrode 17, the intersections of the positive electrodes 11 and 17 may be formed. Voltage is applied to the light emitting area to emit light. In FIG. 2A, the substrate 10 / anode 11 / EL layer 20 / cathode 17 are sequentially stacked from the bottom, but need not be stacked in this order, and the substrate / first electrode / It may be laminated in the order of the EL layer / second electrode or the substrate / second electrode / EL layer / first electrode. In addition, when only the electrode 11 on the substrate 10 side, that is, the anode 11 is transparent, and the cathode 17 is opaque, the substrate 10 also needs to be a transparent substrate in order to extract light emission to the outside. In addition, in order to protect the EL element on which the cathode 17 is formed from oxygen and moisture, if necessary, a sealing member such as glass, ceramic, plastic, or metal is used to seal the EL element in an inert gas atmosphere, or to heat or ultraviolet rays. The said EL element can be sealed using cured resin. In addition, it is effective to put a hygroscopic material inside the sealed hermetic space, and a representative example of such hygroscopic material is barium oxide.

이와 같이 이온성 염을 포함하는 EL 층(20)의 상부에 음극(17)을 형성한 후, 섭씨온도 조절장치 등을 이용하여 가열함으로서 열-어닐닝 공정을 수행한다. 상기 열-어닐닝 온도는 섭씨 35 내지 200 도인 것이 바람직하고, 유기 EL 층(20)을 구성하는 화합물의 유리화 온도와 대략 동일하도록 설정하면 더욱 바람직하다. 상기 열-어닐닝 시간은 가열 온도에 따라 달라질 수 있으나, 통상 10초 내지 5 분 이내이다. 만일 상기 열-어닐닝 온도 및 시간이 상기 범위 미만이면 소자가 충분히 가열되지 않아 열-어닐닝 효과를 얻을 수 없는 문제가 있고, 상기 범위를 초과하면 소자의 과도한 가열로 인해 소자가 손상될 우려가 있다. 이와 같이 열-어닐닝 처리되는 EL 층(20)에 소정의 바이어스 전압을, 예를 들면 양극(11) 및 음극(17)으로부터, 인가하여 전기-어닐닝 처리를 병행하여 수행한다. 상기 전기-어닐닝 처리 전압은 3 내지 20 볼트인 것이 바람직하고, 전기-어닐닝 처리 시간은 인가되는 전압의 세기에 따라 달라질 수 있으나, 1초 내지 5분인 것이 바람직하다. 만일 상기 전기-어닐닝 전압 및 시간이 상기 범위 미만이면 이온성 염의 이온들이 전극쪽으로 충분히 이동하지 못할 우려가 있고, 상기 범위를 초과하면 이온의 이동이 완료된 후에도, 지속적으로 인가되는 바이어스 전압에 의하여 소자에 전기적인 열화가 초래될 우려가 있다. 이와 같이 전기-어닐닝 처리를 수행한 후, EL 소자를 상온으로 냉각하거나, EL 소자를 상온으로 냉각한 후 전기-어닐닝을 종료한다. 이와 같이 열-어닐닝과 전기-어닐닝을 병행하여 수행하면, 염의 이온 분포가 EL 층(20)과 전극(11, 17)의 경계면에 한정된다. 즉, 발광 영역 전면에 걸쳐 이온들이 전극(11, 17) 영역(vicinity)에 균일하게 쌓여서, 균일한 공간 전하를 형성하고, 전극(11, 17) 부근에서 전기장을 형성한다. 이 전기장이 에너지 장벽(barrier)을 줄여 전하 캐리어의 주입을 용이하게 하고, 이에 따라 전극(11, 17)에서 EL 층(20)으로의 정공, 전자 주입 확률이 증가하므로, 이극성 재결합(bipolar recombination)이 증가하여, EL 소자의 발광 효율을 향상시키고, 동작 개시전압을 감소시킨다. 상기 전기-어닐링의 단계에서 사용되는 바이어스 전압의 형태는 이온들이 전극의 영역에 쌓여서 균일한 공간 전하를 형성하기만 한다면 직류형, 교류형, 펄스형 등 다양한 형태를 가질 수 있으며, 그 파형의 형태에 제한되지는 않는다. As described above, after the cathode 17 is formed on the EL layer 20 including the ionic salt, a heat-annealing process is performed by heating using a Celsius temperature controller or the like. The heat-annealing temperature is preferably 35 to 200 degrees Celsius, and more preferably set to approximately the same vitrification temperature of the compound constituting the organic EL layer 20. The heat-annealing time may vary depending on the heating temperature, but is usually within 10 seconds to 5 minutes. If the heat-annealing temperature and time is less than the range, there is a problem that the device is not sufficiently heated to obtain a heat-annealing effect, and if the heat-annealing temperature and time is exceeded, the device may be damaged due to excessive heating of the device. have. Thus, a predetermined bias voltage is applied to the EL layer 20 to be heat-annealed, for example, from the anode 11 and the cathode 17, and the electro-annealing treatment is performed in parallel. The electro-annealing treatment voltage is preferably 3 to 20 volts, and the electro-annealing treatment time may vary depending on the intensity of the applied voltage, but preferably 1 second to 5 minutes. If the electro-annealing voltage and time are less than the above range, there is a fear that the ions of the ionic salt may not move sufficiently toward the electrode. There is a risk of causing electrical deterioration. After the electro-annealing treatment is performed in this manner, the EL element is cooled to room temperature, or after the EL element is cooled to room temperature, the electro-annealing is finished. When heat-annealing and electro-annealing are performed in this manner, the ion distribution of the salt is limited to the interface between the EL layer 20 and the electrodes 11 and 17. That is, ions are uniformly accumulated in the regions of the electrodes 11 and 17 over the entire emission region, thereby forming a uniform space charge, and forming an electric field in the vicinity of the electrodes 11 and 17. This electric field reduces the energy barrier to facilitate the injection of charge carriers, thereby increasing the probability of hole and electron injection from the electrodes 11 and 17 to the EL layer 20, thus resulting in bipolar recombination. ) Increases, improving the luminous efficiency of the EL element and reducing the operation start voltage. The bias voltage used in the step of electro-annealing may have various forms such as direct current, alternating current, and pulse as long as ions are accumulated in the electrode to form a uniform space charge. It is not limited to.

한편, 상술한 바와 같이 염의 이온 분포가 EL 층(20)과 전극의 경계면(11, 17)에 한정되는 유기 EL 소자는 상기 EL 층(20)의 하나 이상의 면에 이온성 염을 포함하는 유기 박막을 형성함으로서 제조할 수도 있다. 즉, 도 3에 도시된 바와 같이, EL 층(20)과 전극(11, 17) 사이에 이온성 염이 첨가된 유기 박막(30, 32)을 형성하면, 상술한 바와 같은 열 및 전기-어닐닝 동시 처리효과를 얻을 수 있다. 상기 이온성 염을 포함하는 유기 박막(30, 32)으로는 이온성 염이 도핑된 전도성 고분자, 또는 절연성 고분자를 사용할 수 있으며, 특히 이온성 염이 도핑된 전도성 고분자는 EL 소자의 양극으로 활용될 수 있으므로 더욱 바람직하다. 상기 전도성 고분자의 구체적인 예로는 폴리아닐린, 폴리(3-메틸티오펜), 폴리페닐렌술파이드, 폴리피롤, PEDOT/PSS 등을 예시할 수 있으며, 상기 유기 박막(30, 32)에 포함되는 이온성 염으로는 유기 화합물 용액 제조에 사용된 것과 동일한 이온성 염을 사용할 수 있다. 상기 유기 박막(30, 32)은 습식법, 건식법 등 통상의 막형성 공정에 의하여 형성될 수 있으며, 이와 같이 이온 염이 첨가된 유기 박막(30, 32)을 형성할 경우, 이온성 염의 함량은 전체 유기 박막(30, 32)에 대하여 0.02 내지 30 중량%인 것이 바람직하다. 만일 상기 이온성 염의 함량이 0.02 중량% 미만이면, EL 소자의 발광 효율 향상 및 동작 개시전압 감소 효과가 불충분하며, 30 중량%를 초과하면 과도한 이온의 농도로 인해 소자의 작동이 불량해지는 문제가 있다. 상기 방법은 유기 박막(30, 32)을 더욱 형성하여야 하는 단점이 있으나, 열-어닐닝 및 전기-어닐닝 단계를 생략할 수 있는 장점이 있다. 상기 유기 박막(30, 32)의 두께는 10 내지 1000 ㎚인 것이 바람직하고, 약 100nm이면 더욱 바람직하고, 만일 상기 유기 박막(30, 32)의 두께가 상기 범위 미만이거나 상기 범위를 초과하면 EL 소자의 발광 효율 향상 및 동작 개시전압 감소 효과가 불충분하게 될 우려가 있다.On the other hand, as described above, the organic EL device in which the ion distribution of the salt is defined at the interface 11 and 17 of the EL layer 20 and the electrode includes an organic thin film including an ionic salt on at least one surface of the EL layer 20. It can also be prepared by forming a. That is, as shown in Fig. 3, when the organic thin films 30 and 32 to which the ionic salt is added are formed between the EL layer 20 and the electrodes 11 and 17, thermal and electric-air as described above. Simultaneous processing of nining can be obtained. As the organic thin films 30 and 32 including the ionic salt, a conductive polymer doped with an ionic salt or an insulating polymer may be used. In particular, the conductive polymer doped with an ionic salt may be used as an anode of an EL device. It is more preferable as it can. Specific examples of the conductive polymer may include polyaniline, poly (3-methylthiophene), polyphenylene sulfide, polypyrrole, PEDOT / PSS, and the like, and include ionic salts included in the organic thin films 30 and 32. The same ionic salts used for preparing the organic compound solution can be used. The organic thin films 30 and 32 may be formed by a conventional film forming process such as a wet method or a dry method. When forming the organic thin films 30 and 32 to which the ionic salts are added, the content of the ionic salts is It is preferable that it is 0.02-30 weight% with respect to the organic thin films 30 and 32. If the content of the ionic salt is less than 0.02% by weight, the effect of improving the luminous efficiency of the EL device and reducing the operation starting voltage is insufficient. If the content of the ionic salt exceeds 30% by weight, the operation of the device is poor due to the excessive concentration of ions. . The method has a disadvantage in that the organic thin films 30 and 32 must be further formed, but the heat-annealing and electro-annealing steps can be omitted. The thickness of the organic thin films 30 and 32 is preferably 10 to 1000 nm, more preferably about 100 nm, and more preferably if the thickness of the organic thin films 30 and 32 is less than or above the range. There is a fear that the effect of improving the luminous efficiency and reducing the operation start voltage will be insufficient.

본 발명에 따른 유기 반도체 소자의 제조 방법은 유기 박막 증착용 진공 증착기와 같은 고가의 장치를 필요로 하지 않으므로, 전체 제조 공정이 단순하고, 유기 반도체 소자의 제조비용을 감소시킬 수 있다. 본 발명에 따라 제조된 유기 EL 소자는 최대 발광 휘도가 약 10000 cd/m2 (at ~ 17 V) 이고, 전기-어닐닝 단계의 바이어스 인가 전압이 낮으므로, 전기-어닐링에 의한 소자의 전기적인 손상이 방지되고, 발광면의 균일성을 향상시킬 수 있다. 본 발명에 따른 유기 반도체 소자의 제조 방법은, 고분자 박막 또는 전하 수송재를 분산시킨 고분자 박막에 발광 분자나 도핑재 혹은 전하 수송재를 더욱 적하, 침투시켜 유기 발광 소자를 형성하는데 있어서(T. R. Hebner and J. C. Sturma, Applied Phisics Letters Vol 73, Num 13, p1775, 또는 대한민국 특허 출원 제10-2001-7006372호 참조), 이온성 염을 고분자 박막 또는 적하 잉크에 더욱 첨가하고, 열-어닐닝 및 전기-어닐닝 단계를 병행함으로서 실시할 수도 있다.Since the method of manufacturing the organic semiconductor device according to the present invention does not require an expensive device such as a vacuum evaporator for organic thin film deposition, the entire manufacturing process is simple and the manufacturing cost of the organic semiconductor device can be reduced. The organic EL device fabricated according to the present invention has a maximum emission luminance of about 10000 cd / m 2 (at 17 V) and a low bias applied voltage in the electro-annealing step, so that the device is subjected to electro-annealing. Damage can be prevented and the uniformity of the light emitting surface can be improved. In the method of manufacturing an organic semiconductor device according to the present invention, in order to form an organic light emitting device by further dropping and penetrating a light emitting molecule, a doping material or a charge transporting material into a polymer thin film or a polymer thin film in which a charge transporting material is dispersed (TR Hebner and JC Sturma, Applied Phisics Letters Vol 73, Num 13, p1775, or Korean Patent Application No. 10-2001-7006372), further adds an ionic salt to the polymer thin film or the dropping ink, heat-annealing and electro-er It may also be carried out by performing the niling step in parallel.

본 발명은 상술한 제조 방법으로 제조된 반도체 소자 및 이를 포함하는 발광 장치를 제공한다. 따라서 본 발명에 따른 반도체 소자는 양극, 음극 및 상기 양극과 음극 사이에 개재되어 있으며, 이온성 염을 함유하는 반도체층, 바람직하게는 유기 반도체층을 포함하며, 상기 양극과 상기 반도체층의 경계면에는 상기 이온성 염의 음이온 수가 상기 이온성 염의 양이온 수보다 많으며, 상기 음극과 상기 반도체층의 경계면에는 상기 이온성 염의 양이온 수가 상기 이온성 염의 음이온 수보다 많도록 되어 있다. 또한 본 발명에 따른 반도체 소자는 양극, 음극 및 상기 양극과 음극 사이에 개재되어 있는 반도체층을 포함하며, 상기 양극과 상기 반도체층의 경계면 및 상기 음극과 상기 반도체층의 경계면 중 어느 하나 이상에는 이온성 염 을 포함하는 유기 박막이 형성되어 있다. 여기서, 반도체 소자는 무기 또는 유기 반도체 재료로 이루어지고 스위칭 기능이 있는 단일 또는 다수의 소자를 지칭하는 것으로서, 유기 EL 소자를 비롯하여, 종래 기술에서 상술한 바와 같은 다양한 반도체 소자를 모두 포함한다. 또한 상기 발광 장치는 유기 EL 소자 등 반도체 소자를 사용한 화상 표시 장치를 지칭하며, 비한정적으로 이방성 도전막, FPC (flexible printed circuit; 가용성 인쇄 회로), TAB (tape automated bonding; 테이프 자동화 실장) 테이프, 또는 TCP (tape carrier package; 테이프 캐리어 패키지)와 같은 커넥터를 반도체 소자에 부착함으로써 얻어진 모듈, 인쇄 배선 기판이 상기 TAB 테이프 또는 TCP의 단부에 마련된 모듈, IC(집적 회로)가 COG(chip on glass) 방법에 의해 반도체 소자에 직접 장착된 모듈 등이 상기 발광장치에 포함된다.The present invention provides a semiconductor device manufactured by the above-described manufacturing method and a light emitting device including the same. Accordingly, the semiconductor device according to the present invention includes a semiconductor layer, preferably an organic semiconductor layer, which is interposed between an anode, a cathode, and the anode and the cathode, and contains an ionic salt, and at the interface between the anode and the semiconductor layer The number of anions of the ionic salt is larger than the number of cations of the ionic salt, and the number of cations of the ionic salt is larger than the number of anions of the ionic salt at the interface between the cathode and the semiconductor layer. In addition, the semiconductor device according to the present invention includes an anode, a cathode, and a semiconductor layer interposed between the anode and the cathode, wherein at least one of the interface between the anode and the semiconductor layer and the interface between the cathode and the semiconductor layer is ionized. An organic thin film containing a salt is formed. Here, the semiconductor element refers to a single or multiple elements made of an inorganic or organic semiconductor material and having a switching function, and include all of the various semiconductor elements as described above in the related art, including an organic EL element. In addition, the light emitting device refers to an image display device using a semiconductor element such as an organic EL element, without being limited to an anisotropic conductive film, FPC (flexible printed circuit), TAB (tape automated bonding) tape, Or a module obtained by attaching a connector such as a tape carrier package (TCP) to a semiconductor device, a module having a printed wiring board provided at an end of the TAB tape or TCP, and an integrated circuit (IC) having a chip on glass (COG). Modules and the like mounted directly on the semiconductor elements by the method are included in the light emitting device.

첨부한 도면 및 본 명세서에서는 한 픽셀의 소자만을 참조하여 본 발명을 설명하였으나, 동일한 구조를 가지는 다수의 픽셀이 매트릭스 형태로 배열될 수 있으며, 서로 다른 색상의 발광 반도체 소자가 다수 배열되어 칼라 디스플레이 EL 소자를 형성할 수도 있다. 또한 본 발명은 백색 발광의 EL 소자와 칼라 필터가 조합된 시스템, 청색 또는 청녹색 발광의 EL 소자와 형광 물질 (CCM: fluorescent color converting layer)이 조합된 시스템, 투명 전극이 음극으로 사용되고 R, G, B에 대응하는 EL 소자가 적층되는 칼라 디스플레이 소자 등을 비롯하여, 백색 발광 EL 층이 형성된 흑백 디스플레이 소자에도 적용할 수 있다. 본 발명에 따른 유기 반도체 소자는 패시브 또는 액티브 매트릭스 전극 구조를 가질 수 있으므로, 본 발명은 패시브 매트릭스 EL 발광장치는 물론, 스위칭 소자로서 박막 트랜지스터를 이용하는 액티브 매트릭스 EL 발광장치에도 적용될 수 있다. 상기 스위칭 소자로는 박막 트랜지스터 뿐만 아니라, 2단자 소자, 예컨대 MIM 등의 다른 스위칭 소자를 이용할 수도 있다. 상기 반도체 소자는 패시브(passive) 구동, 스태틱 (static image) 구동, 세그먼트 표시(segment display) 구동 등 다양한 방법으로 구동될 수 있으며, 1 화소당 스위칭 소자는 1개로 한정되지 않으며, 1화소에 복수의 스위칭 소자를 구비할 수도 있다.In the accompanying drawings and the present specification, the present invention has been described with reference to only one pixel element, but a plurality of pixels having the same structure may be arranged in a matrix form, and a plurality of light emitting semiconductor elements having different colors are arranged so that the color display EL An element can also be formed. In addition, the present invention is a system in which a white light-emitting EL element and a color filter are combined, a system in which a blue or blue-green light-emitting EL element is combined with a fluorescent material (CCM), a transparent electrode is used as a cathode, and R, G, The present invention can be applied to black and white display elements in which a white light emitting EL layer is formed, as well as color display elements in which EL elements corresponding to B are stacked. Since the organic semiconductor element according to the present invention can have a passive or active matrix electrode structure, the present invention can be applied not only to a passive matrix EL light emitting device but also to an active matrix EL light emitting device using a thin film transistor as a switching element. As the switching element, not only a thin film transistor but also another switching element such as a two-terminal element such as MIM may be used. The semiconductor device may be driven in various ways such as passive driving, static image driving, segment display driving, and the like. The switching element per pixel is not limited to one, and a plurality of pixels may be provided in one pixel. It may be provided with a switching element.

이하, 실시예 및 비교예를 이용하여 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 하기 실시예는 본 발명의 이해를 돕기 위한 것으로서, 본 발명이 하기 실시예에 의하여 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples. The following examples are provided to aid the understanding of the present invention, and the present invention is not limited to the following examples.

[실시예 1] 유기 염을 포함하는 그레이디드 졍션 형태의 단일 박막 구조 EL 소자의 제조 Example 1 Fabrication of Single Thin Film Structure EL Device in Graded Cushion Form Containing Organic Salt

저항이 15Ω인 인듐-주석-옥사이드(ITO)가 도포된 유리 기판(0.7 mm)을 시판중인 세정제에서 순차적으로 초음파 처리하고, 탈이온수로 세척하였다. 전하 캐리어 바인더 고분자로서 PVK (폴리-N-비닐카르바졸) 6.5 mg, 정공 수송 화합물로서 α-NPD 6.5 mg, 녹색 발광 및 전자 주입 화합물로서 Alq3 6.5 mg, 녹색 발광 도판트로서 C545T 0.2 mg 및 유기 염으로서 Bu4N-BF4 0.5 mg을 함유하는 유기물들을 클 로로포름(chloroform, 비등점: 섭씨 62도) : 디클로로에탄 (dichloroethane, ClCH2CH2Cl, 비등점: 섭씨 82도)의 1 : 3(질량비) 혼합 용액 6.0 g 에 용해시켜 유기 화합물 용액을 제조하고, 이를 0.2㎛ 테플론(Teflon) 필터로 여과한 다음, 1000 rpm의 스핀 속도로 1분간 상기 ITO가 도포된 유리 기판에 스핀 코팅하였다. 코팅된 유기층을 섭씨 80도에서 30분간 열처리하여 유기 용매를 완전히 증발시킴으로서, 두께 50 내지 70 nm 및 그레이디드 졍션 형태의 α-NPD~Alq3 (정공 주입, 수송층 ~ 발광층) 단일 박막 구조 EL 층을 형성하였다. 형성된 EL 층의 상부에 진공 증착 방법으로 Al : Li 음극을 200 nm 두께로 증착하고, EL 소자를 주변 환경으로부터 보호하기 위해 건조 글로브 상자 내에 밀폐하여 포장하였다. 상기 진공 증착 공정의 진공도는 5 x 10-6torr, 증착속도는 1 nm /초였으며, 제조된 유기 EL 소자의 발광 면적은 1 x 3 mm2 였다. 상기 EL 소자를 섭씨 80도의 온도에서 3 분간 열-어닐닝을 실시하면서, 약 30 초간 9V의 바이어스 전압을 EL 소자의 양극과 음극에 인가하여 전기-어닐닝을 병행 처리한 후, 상온으로 냉각하여 최종 EL 소자를 제조하였다. 표 1에 나타낸 바와 같이, 상기 EL 소자의 EL 발광 개시 전압(Vonset)은 약 3.5V 이고, 10V의 전압에서 소자를 흐르는 전류와 발광 휘도는 각각 8.5mA 및 약 3200 cd/㎡였으며, 10V 정전압에서 장시간에 걸쳐 안정적이고 균일하게 녹색광(530 nm)을 방출하였다. A glass substrate (0.7 mm) coated with indium-tin-oxide (ITO) with a resistance of 15 Ω was sequentially sonicated in a commercially available detergent and washed with deionized water. PVK (poly-N-vinylcarbazole) 6.5 mg as charge carrier binder polymer, α-NPD 6.5 mg as hole transport compound, 6.5 mg Alq3 as green luminescent and electron injection compound, 0.2 mg C545T as green luminescent dopant and organic salt Organic matter containing 0.5 mg of Bu 4 N-BF 4 as chloroform (boiling point: 62 degrees Celsius): dichloroethane (dichloroethane, ClCH 2 CH 2 Cl, boiling point: 82 degrees Celsius) 1: 3 (mass ratio ) Dissolved in 6.0 g of a mixed solution to prepare an organic compound solution, which was filtered through a 0.2 μm Teflon filter, and then spin coated onto the ITO-coated glass substrate for 1 minute at a spin speed of 1000 rpm. The coated organic layer was heat-treated at 80 degrees Celsius for 30 minutes to completely evaporate the organic solvent, thereby forming a single thin film EL layer of α-NPD to Alq3 (hole injection, transport layer to light emitting layer) having a thickness of 50 to 70 nm and a graded section. It was. An Al: Li cathode was deposited to a thickness of 200 nm on the formed EL layer by a vacuum deposition method, and sealed in a dry glove box to protect the EL element from the surrounding environment. The vacuum degree of the vacuum deposition process was 5 × 10 −6 torr, the deposition rate was 1 nm / sec, and the emission area of the manufactured organic EL device was 1 × 3 mm 2 . Heat-annealing the EL element at a temperature of 80 degrees Celsius for 3 minutes, applying a bias voltage of 9V to the anode and cathode of the EL element for about 30 seconds and performing electro-annealing in parallel, then cooling to room temperature The final EL device was produced. As shown in Table 1, the EL light emission start voltage V onset of the EL device was about 3.5V, and the current and the light emission luminance of the device at a voltage of 10V were 8.5 mA and about 3200 cd / m 2, respectively. Emitted green light (530 nm) stably and uniformly over a long period of time.

[비교예 1] 이온성 염을 포함하지 않는 기준 EL 소자의 제조 [Comparative Example 1] Fabrication of reference EL device containing no ionic salt

유기 염을 도핑하지 않은 것을 제외하고는, 실시예 1과 실질적으로 동일한 방법으로 기준 EL 소자를 제조하였으며, 제조된 기준 EL 소자는 10V의 전압에서 소자를 흐르는 전류와 발광 휘도가 각각 1.3 mA 및 약 38 cd/㎡ 였다. 따라서 실시예 1의 EL 소자는 비교예 1의 기준 EL 소자에 비해, 10V의 전압에서 84배 증강된 발광 휘도를 보인다. A reference EL device was fabricated in substantially the same manner as in Example 1 except that the organic salt was not doped, and the manufactured reference EL device was 1.3 mA and about luminescent brightness, respectively, and the current flowing through the device at a voltage of 10V. 38 cd / m 2. Therefore, the EL element of Example 1 exhibits 84 times enhanced emission luminance at a voltage of 10V, compared to the reference EL element of Comparative Example 1.

[비교예 2] 열-어닐닝을 실시하지 않은 EL 소자의 제조 Comparative Example 2 Fabrication of EL Devices Without Heat-Annealing

열-어닐닝과 전기-어닐닝을 병행하는 과정 대신, 상온에서 20 V의 전압으로 전기-어닐닝만을 실시한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 EL 소자를 제조하였다. 표 1에 나타낸 바와 같이, 제조된 EL 소자의 EL 발광 개시 전압(Vonset)은 약 3.5V였고, 10V의 전압에서 소자를 흐르는 전류와 발광 휘도는 각각 4.4 mA 및 약 1000 cd/㎡으로서, 녹색광(520 nm)을 비교적 높은 발광 휘도로 방출하였으나, 발광면의 균일성은 우수하지 못하였다. 도 4는 상기 실시예 1 및 비교예 2에 따라 제조한 유기 EL 소자의 발광면을 나타낸 사진이다. 도 4의 좌측에는 종래의 유기 EL 소자의 발광면 (면적: 3 x 3 mm2)이 도시되어 있고, 도 4의 우측에는 본 발명에 따른 유기 EL 소자의 발광면 (면적: 3 x 3 mm2)이 도시되어 있다. 도 4로부터, 종래의 유기 EL 소자는 본 발명에 따른 유기 EL 소자와 비교하여 발광면이 불균일하고, 발광 휘도가 낮음을 알 수 있다.An EL device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that only electro-annealing was performed at a voltage of 20 V at room temperature, instead of performing heat-annealing and electro-annealing in parallel. As shown in Table 1, the EL light emission start voltage V onset of the manufactured EL device was about 3.5V, and the current and the light emission luminance of the device at a voltage of 10V were 4.4 mA and about 1000 cd / m 2, respectively. (520 nm) was emitted at a relatively high emission luminance, but the uniformity of the emission surface was not good. 4 is a photograph showing a light emitting surface of the organic EL device manufactured according to Example 1 and Comparative Example 2. The left is a light-emitting surface of the conventional organic EL device shown in Fig. 4 (area: 3 x 3 mm 2) the emission surface (the area of the organic EL device according to the invention, this is shown, the right side of Fig. 4: 3 x 3 mm 2 ) Is shown. It can be seen from FIG. 4 that the conventional organic EL device has a nonuniform emission surface and low emission luminance as compared with the organic EL device of the present invention.

[실시예 2] 무기염을 포함하는 그레이디드 졍션 형태의 단일 박막 구조 EL 소자의 제조 Example 2 Fabrication of Single Thin Film Structure EL Device of Graded Section Type Containing Inorganic Salt

Bu4N-BF4 유기염 대신 LiF 무기염을 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 EL 소자를 제조하였다. 표 1에 나타낸 바와 같이, 상기 EL 소자의 EL 발광 개시 전압(Vonset)은 약 5V 이고, 10V의 전압에서 소자를 흐르는 전류와 발광 강도는 각각 7.4mA 및 약 114 cd/㎡였으며, 10V 정전압에서 장시간에 걸쳐 안정적이고 균일하게 녹색광(520 nm)을 방출하였다. 따라서, 상기 EL 소자는 비교예 1의 기준 EL 소자에 비해, 10V의 전압에서 3배 증강된 발광 휘도를 보인다.An EL device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that LiF inorganic salt was used instead of Bu 4 N-BF 4 organic salt. As shown in Table 1, the EL emission start voltage V onset of the EL element was about 5 V, and the current and the emission intensity flowing through the element at a voltage of 10 V were 7.4 mA and about 114 cd / m 2, respectively. It emits green light (520 nm) stably and uniformly over a long time. Therefore, the EL element exhibits a three times enhanced emission luminance at a voltage of 10 V, compared with the reference EL element of Comparative Example 1.

[실시예 3] 유기 염을 포함하는 단순 분산 단일 박막 구조 EL 소자의 제조 Example 3 Fabrication of Simple Dispersed Single Thin Film Structure EL Device Containing Organic Salt

클로로포름 및 디클로로에탄 혼합 용액 대신, 클로로포름 단일 용매를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 EL 소자를 제조하였다. 표 1에 나타낸 바와 같이, 상기 EL 소자의 EL 발광 개시 전압(Vonset)은 약 5V 이고, 10V의 전압에서 소자를 흐르는 전류와 발광 강도는 각각 2.5mA 및 약 260 cd/㎡였으며, 10V 정전압에서 장시간에 걸쳐 안정적이고 균일하게 녹색광을 방출하였다. 따라서, 상기 EL 소자는 비교예 1의 기준 EL 소자에 비해, 10V의 전압에서 6.8배 증강된 발광 휘도를 보인다.An EL device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that a chloroform single solvent was used instead of the chloroform and dichloroethane mixed solution. As shown in Table 1, the EL emission start voltage V onset of the EL element was about 5 V, and the current and the emission intensity flowing through the element at a voltage of 10 V were 2.5 mA and about 260 cd / m 2, respectively. It emits green light stably and uniformly over a long time. Therefore, the EL element exhibits a luminescence brightness enhanced 6.8 times at a voltage of 10 V, compared to the reference EL element of Comparative Example 1.

[실시예 4] 유기 염을 포함하는 단순 분산 단일 박막 구조 EL 소자의 제조 Example 4 Fabrication of Simple Dispersed Single Thin Film Structure EL Device Containing Organic Salt

클로로포름 및 디클로로에탄 혼합 용액 대신, 디클로로에탄 단일 용매를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 EL 소자를 제조하였다. 표 1에 나타낸 바와 같이, 상기 EL 소자의 EL 발광 개시 전압(Vonset)은 약 5V 이고, 10V의 전압에서 소자를 흐르는 전류와 발광 강도는 각각 12mA 및 약 45 cd/㎡였으며, 10V 정전압에서 녹색광을 방출하였다. 따라서, 상기 EL 소자는 비교예 1의 기준 EL 소자에 비해, 10V의 전압에서 1.2배 증강된 발광 휘도를 보였으나 균일성은 상대적으로 떨어져, 용매 선택이 중요함을 알 수 있다.An EL device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that a dichloroethane single solvent was used instead of the chloroform and dichloroethane mixed solution. As shown in Table 1, the EL light emission start voltage (V onset ) of the EL device was about 5V, and the current and the light emission intensity flowing through the device at a voltage of 10V were 12 mA and about 45 cd / m 2, respectively. Was released. Therefore, the EL device showed a luminescence brightness increased 1.2 times at a voltage of 10V, compared to the reference EL device of Comparative Example 1, but the uniformity was relatively low, indicating that solvent selection was important.

[실시예 5] PMMA 고분자 바인더를 사용한 EL 소자의 제조 Example 5 Fabrication of EL Device Using PMMA Polymer Binder

PVK 고분자 대신 PMMA를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 EL 소자를 제조하였다. 표 1에 나타낸 바와 같이, 상기 EL 소자의 EL 발광 개시 전압(Vonset)은 약 4V 이고, 10V의 전압에서 소자를 흐르는 전류와 발광 강도는 각각 1.6mA 및 약 500 cd/㎡였으며, 10V 정전압에서 장시간에 걸쳐 안정적이고 균일하게 녹색광을 방출하였다. 따라서, 상기 EL 소자는 비교예 1의 기준 EL 소자에 비해, 10V의 전압에서 13배 증강된 발광 휘도를 보인다.An EL device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that PMMA was used instead of the PVK polymer. As shown in Table 1, the EL light emission starting voltage (V onset ) of the EL device was about 4 V, and the current and the light emission intensity flowing through the device at a voltage of 10 V were 1.6 mA and about 500 cd / m 2, respectively. It emits green light stably and uniformly over a long time. Therefore, the EL element exhibits a light emission luminance enhanced by 13 times at a voltage of 10 V, compared to the reference EL element of Comparative Example 1.

[실시예 6] PPV 고분자 바인더를 사용한 EL 소자의 제조 Example 6 Fabrication of EL Device Using PPV Polymer Binder

PVK 고분자 대신 PPV를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으 로 EL 소자를 제조하였다. 표 1에 나타낸 바와 같이, 상기 EL 소자의 EL 발광 개시 전압(Vonset)은 약 4V 이고, 10V의 전압에서 소자를 흐르는 전류와 발광 휘도는 각각 2.7mA 및 약 307 cd/㎡였으며, 10V 정전압에서 장시간에 걸쳐 안정적이고 균일하게 녹색광을 방출하였다. 따라서, 상기 EL 소자는 비교예 1의 기준 EL 소자에 비해, 10V의 전압에서 8배 증강된 발광 휘도를 보인다.An EL device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that PPV was used instead of the PVK polymer. As shown in Table 1, the EL emission start voltage V onset of the EL element was about 4 V, and the current and the emission luminance of the element at a voltage of 10 V were 2.7 mA and about 307 cd / m 2, respectively. It emits green light stably and uniformly over a long time. Therefore, the EL element exhibits 8 times enhanced emission luminance at a voltage of 10 V, compared to the reference EL element of Comparative Example 1.

[실시예 7] PVK, PMMA 혼합 고분자 바인더를 사용한 EL 소자의 제조 Example 7 Fabrication of EL Devices Using PVK and PMMA Mixed Polymer Binders

PVK 고분자 대신 PVK:PMMA = 3:1의 중량 비율로 혼합된 고분자계를 바인더를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 EL 소자를 제조하였다. 표 1에 나타낸 바와 같이, 상기 EL 소자의 EL 발광 개시 전압(Vonset)은 약 4V 이고, 10V의 전압에서 소자를 흐르는 전류와 발광 휘도는 각각 1.96mA 및 약 760 cd/㎡였으며, 10V 정전압에서 장시간에 걸쳐 안정적이고 균일하게 녹색광을 방출하였다. 따라서, 상기 EL 소자는 비교예 1의 기준 EL 소자에 비해, 10V의 전압에서 20배 증강된 발광 휘도를 보인다.An EL device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that a binder was used as a polymer based on a weight ratio of PVK: PMMA = 3: 1 instead of a PVK polymer. As shown in Table 1, the EL light emission starting voltage (V onset ) of the EL device was about 4V, and the current flowing through the device and the light emission luminance at the voltage of 10V were 1.96 mA and about 760 cd / m 2, respectively. It emits green light stably and uniformly over a long time. Therefore, the EL element exhibits 20 times enhanced light emission luminance at a voltage of 10 V, compared to the reference EL element of Comparative Example 1.

[실시예 8] PVK, PPV 혼합 고분자 바인더를 사용한 EL 소자의 제조 Example 8 Fabrication of EL Device Using PVK and PPV Mixed Polymer Binder

PVK 고분자 대신 PVK:PPV = 3:1의 중량 비율로 혼합된 고분자 바인더를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 EL 소자를 제조하였다. 표 1에 나타낸 바와 같이, 상기 EL 소자의 EL 발광 개시 전압(Vonset)은 약 4V 이고, 10V의 전압에서 소자를 흐르는 전류와 발광 휘도는 각각 2.4mA 및 약 693 cd/㎡였으며, 10V 정전압에서 장시간에 걸쳐 안정적이고 균일하게 녹색광을 방출하였다. 따라서, 상기 EL 소자는 비교예 1의 기준 EL 소자에 비해, 10V의 전압에서 18배 증강된 발광 휘도를 보인다.An EL device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that a polymer binder mixed in a weight ratio of PVK: PPV = 3: 1 was used instead of the PVK polymer. As shown in Table 1, the EL light emission starting voltage (V onset ) of the EL device was about 4V, and the current flowing through the device and the light emission luminance at the voltage of 10V were 2.4 mA and about 693 cd / m 2, respectively. It emits green light stably and uniformly over a long time. Thus, the EL element exhibits an emission luminance enhanced by 18 times at a voltage of 10 V, compared to the reference EL element of Comparative Example 1.

[실시예 9] 적색 EL 소자의 제조 Example 9 Fabrication of Red EL Device

발광 도판트로서 C545T 대신 DCJTB를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 EL 소자를 제조하였다. 표 1에 나타낸 바와 같이, 상기 EL 소자의 EL 발광 개시 전압(Vonset)은 약 4V 이고, 10V의 전압에서 소자를 흐르는 전류와 발광 휘도는 각각 3.6mA 및 약 213 cd/㎡였으며, 10V 정전압에서 장시간에 걸쳐 안정적이고 균일하게 적색광(585 nm)을 방출하였다.An EL device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that DCJTB was used instead of C545T as the light emitting dopant. As shown in Table 1, the EL light emission start voltage (V onset ) of the EL device was about 4V, and the current flowing through the device and the light emission luminance at the voltage of 10V were 3.6 mA and about 213 cd / m 2, respectively. It emitted red light (585 nm) stably and uniformly over a long time.

[실시예 10] 청색 EL 소자의 제조 Example 10 Fabrication of Blue EL Device

Alq3 및 C545T 대신 시판되는 DPVBi와 TBT를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 EL 소자를 제조하였다. 표 1에 나타낸 바와 같이, 상기 EL 소자의 EL 발광 개시 전압(Vonset)은 약 4V 이고, 10V의 전압에서 소자를 흐르는 전류와 발광 휘도는 각각 3.5mA 및 약 66 cd/㎡였으며, 10V 정전압에서 장시간에 걸쳐 안정적이고 균일하게 청색광(490 nm)을 방출하였다.An EL device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that DPVBi and TBT which were commercially available instead of Alq3 and C545T were used. As shown in Table 1, the EL light emission start voltage V onset of the EL device was about 4V, and the current and the light emission luminance of the device at a voltage of 10V were 3.5 mA and about 66 cd / m 2, respectively. It emitted blue light (490 nm) stably and uniformly over a long time.

[실시예 11] Al 음극을 포함하는 EL 소자의 제조 Example 11 Fabrication of EL Device Containing Al Cathode

Al : Li 음극 대신에 Al을 사용하여 음극을 형성한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 EL 소자를 제조하였다. 표 1에 나타낸 바와 같이, 상기 EL 소자의 EL 발광 개시 전압(Vonset)은 약 5V 이고, 10V의 전압에서 소자를 흐르는 전류와 발광 휘도는 각각 2.3mA 및 약 892 cd/㎡였으며, 10V 정전압에서 장시간에 걸쳐 안정적이고 균일하게 녹색광(540 nm)을 방출하였다. 따라서, 상기 EL 소자는 비교예 1의 기준 EL 소자에 비해, 10V의 전압에서 23배 증강된 발광 휘도를 보인다.An EL device was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Al was used instead of Al: Li. As shown in Table 1, the EL light emission starting voltage (V onset ) of the EL device was about 5V, and the current flowing through the device and the light emission luminance at the voltage of 10V were 2.3 mA and about 892 cd / m 2, respectively. It emits green light (540 nm) stably and uniformly over a long time. Therefore, the EL element exhibits 23 times enhanced light emission luminance at a voltage of 10 V, compared to the reference EL element of Comparative Example 1.

[실시예 12] 이온성 염을 포함하는 유기 박막이 형성된 EL 소자의 제조 Example 12 Fabrication of EL Device with Organic Thin Film Containing Ionic Salt

단일 박막 구조 EL 층을 형성하기 전에, ITO가 도포된 기판에 PSS 고분자염 을 함유하는 전도성 고분자 PEDOT 수용액(2.7 중량% 수용액, Aldrich) : 물 = 1 : 3의 중량 비율로 혼합된 용액을 상온에서 2000rpm의 회전속도로 60초 동안 스핀 코팅한 후, 섭씨 150 도에서 2시간 동안 열처리하여, 두께 100 nm의 PEDOT/PSS 박막을 형성하고, Bu4N-BF4 유기염을 사용하지 않은 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 EL 소자를 제조하였다. 표 1에 나타낸 바와 같이, 상기 EL 소자의 EL 발광 개시 전압(Vonset)은 약 4V 이고, 10V의 전압에서 소자를 흐르는 전류와 발광 휘도는 각각 2.8mA 및 약 886 cd/㎡였으며, 10V 정전압에서 장시간에 걸쳐 안정적이고 균일하게 녹색광을 방출하였다.Before forming a single thin film EL layer, a solution of a conductive polymer PEDOT aqueous solution (2.7 wt% aqueous solution, Aldrich) containing water (1 wt. After spin coating for 60 seconds at a rotational speed of 2000 rpm, heat treatment was performed at 150 degrees Celsius for 2 hours to form a 100 nm thick PEDOT / PSS thin film, except that Bu 4 N-BF 4 organic salt was not used. Manufactured EL devices in the same manner as in Example 1. As shown in Table 1, the EL light emission start voltage (V onset ) of the EL device was about 4V, and the current flowing through the device and the light emission luminance at the voltage of 10V were 2.8 mA and about 886 cd / m 2, respectively. It emits green light stably and uniformly over a long time.

박막 형태Thin film form Vonset (V)Vonset (V) 발광 휘도(cd/㎡)Luminance Luminance (cd / ㎡) 전류(mA)Current (mA) 실시예 1Example 1 그레이디드 졍션형Graded cushion type 3.53.5 32003200 8.58.5 비교예 1Comparative Example 1 그레이디드 졍션형Graded cushion type -- 3838 1.31.3 비교예 2Comparative Example 2 그레이디드 졍션형Graded cushion type 3.53.5 10001000 4.44.4 실시예 2Example 2 그레이디드 졍션형Graded cushion type 5.05.0 114114 7.47.4 실시예 3Example 3 단순 분산형Simple distributed 5.05.0 260260 2.52.5 실시예 4Example 4 단순 분산형Simple distributed 5.05.0 4545 1212 실시예 5Example 5 그레이디드 졍션형Graded cushion type 4.04.0 500500 1.61.6 실시예 6Example 6 그레이디드 졍션형Graded cushion type 4.04.0 307307 2.72.7 실시예 7Example 7 그레이디드 졍션형Graded cushion type 4.04.0 760760 2.02.0 실시예 8Example 8 그레이디드 졍션형Graded cushion type 4.04.0 693693 2.42.4 실시예 9Example 9 그레이디드 졍션형Graded cushion type 4.04.0 213213 3.63.6 실시예 10Example 10 그레이디드 졍션형Graded cushion type 4.04.0 6666 3.53.5 실시예 11Example 11 그레이디드 졍션형Graded cushion type 5.05.0 892892 2.32.3 실시예 12Example 12 그레이디드 졍션형Graded cushion type 4.04.0 886886 2.82.8

상기 실시예 1 및 2로부터, 이온성 염이 첨가된 PVK 분산 그레이디드 졍선형(graded junction) 유기 박막에 대하여, 열-어닐닝 및 전기-어닐닝 단계를 동시에 수행하면, EL 소자의 발광 휘도를 향상시키고, 구동 전압을 감소시킬 수 있으며, 실시예 3 및 4로부터 단순 분산 구조의 유기 EL 소자에서도 동일한 효과를 얻을 수 있음을 알 수 있다. 또한, 고분자 바인더의 종류(실시예 5 내지 8) 및 발광 색상(실시예 9 및 10)이 변경되거나, 일함수가 커서 구동 전압이 높은 음극 재료를 사용하는(실시예 11) 경우에도, 동일한 효과를 얻을 수 있다. 이와 같은 효과는 이온성 염이 포함된 유기 박막을 EL 층과 인접하여 별도로 형성함으로서(실시예 12) 달성할 수도 있다.From Examples 1 and 2, when the heat-annealing and electro-annealing steps are simultaneously performed on the PVK dispersed graded junction organic thin film to which the ionic salt is added, the luminescence brightness of the EL element is increased. It is possible to improve and to reduce the driving voltage, and it can be seen from Examples 3 and 4 that the same effect can be obtained even in the organic EL device having a simple dispersion structure. The same effect is also obtained when the type of the polymer binder (Examples 5 to 8) and the emission color (Examples 9 and 10) are changed, or when a cathode material having a high work function is used (Example 11) due to a large work function. Can be obtained. Such an effect can also be achieved by separately forming an organic thin film containing an ionic salt adjacent to the EL layer (Example 12).

이상 상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 유기 반도체 소자는 발광면의 균일성, 발광 휘도 및 발광 효율이 우수할 뿐 만 아니라, 동작 전압이 낮고, 표시화상 의 품위가 우수하며, 작동의 신뢰성이 높다. 또한 본 발명에 따른 유기 반도체 소자의 제조 방법에 의하면, 유기 반도체 소자를 간단하고, 저렴하게 제조할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 유기 반도체 박막은 전압 - 발광 세기 (Applied Voltage - Emitting Intensity) 특성 및 전압 - 전류(Applied Voltage - Current) 특성이 우수하며, 전기적인 스위치 소자 등에 적용되는 전형적인 다이오드 소자의 비선형 전류 특성을 가지므로, 유기 EL 소자의 제조 뿐 만 아니라, 유기 다이오드 소자를 비롯한 다양한 유기 반도체 소자의 제조에 응용될 수도 있다. 본 발명에 따른 유기 반도체 소자, 특히 유기 EL 소자는 비한정적으로 각종 표시장치, 텔레비전, 디지털 카메라, 컴퓨터, 노트북 컴퓨터, 이동 컴퓨터, 녹화 매체를 구비한 휴대용 재생 장치, 스크린, 게시판, 광고판, 고글형 표시장치, 자동차 표시장치, 비디오카메라, 프린터 표시장치, 원격 통신 장치, 전화기 표시장치, 이동 전화 등에 적용될 수 있다. 이상 본 발명을 바람직한 특정 실시예들을 참조하여 설명하였으나, 본 발명의 정신과 범주 내에서 다양한 변형 및 수정이 이루어질 수 있음을 이해해야 할 것이다.As described above, the organic semiconductor device according to the present invention not only has excellent uniformity, light emission brightness and light emission efficiency of the light emitting surface, but also has low operating voltage, excellent display image quality, and high reliability of operation. . Moreover, according to the manufacturing method of the organic semiconductor element which concerns on this invention, an organic semiconductor element can be manufactured simply and inexpensively. In addition, the organic semiconductor thin film according to the present invention is excellent in voltage-emitting intensity and applied voltage-current characteristics, and is a non-linear current of a typical diode device applied to an electrical switch device. Because of its characteristics, it can be applied not only to the production of organic EL devices but also to the production of various organic semiconductor devices including organic diode devices. The organic semiconductor device, in particular, the organic EL device according to the present invention is not limited to various display devices, televisions, digital cameras, computers, notebook computers, mobile computers, portable playback devices equipped with recording media, screens, billboards, billboards, and goggles. It can be applied to a display device, an automobile display device, a video camera, a printer display device, a telecommunication device, a phone display device, a mobile phone, and the like. While the invention has been described above with reference to certain preferred embodiments, it will be understood that various modifications and changes can be made within the spirit and scope of the invention.

Claims (38)

유기 용매, 이온성 염 및 유기 반도체 화합물을 포함하는 유기 화합물 용액을 기판에 코팅한 후 유기 용매를 제거하여 유기 반도체층을 형성하는 단계; 및 Coating an organic compound solution including an organic solvent, an ionic salt, and an organic semiconductor compound on a substrate, and then removing the organic solvent to form an organic semiconductor layer; And 형성된 유기 반도체층에 대하여 열-어닐닝과 전기-어닐닝을 병행하여 수행하는 단계를 포함하는 유기 반도체 소자의 제조 방법.A method of manufacturing an organic semiconductor device comprising the step of performing heat-annealing and electro-annealing in parallel to the formed organic semiconductor layer. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 유기 화합물 용액은 2종 이상의 유기 반도체 화합물 및 휘발성이 상이한 2종 이상의 유기 용매를 포함하는 것인 유기 반도체 소자의 제조 방법.The method of claim 1, wherein the organic compound solution comprises two or more organic semiconductor compounds and two or more organic solvents different in volatility. 청구항 4은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 4 was abandoned when the registration fee was paid. 제3항에 있어서, 상기 유기 용매가 제거됨에 따라, 상기 2종 이상의 유기 반도체 화합물이 그 적층 방향을 따라 농도 그래디언트를 가지도록 순차적으로 적층되는 것인 유기 반도체 소자의 제조 방법.The method of claim 3, wherein the two or more organic semiconductor compounds are sequentially stacked to have a concentration gradient along the stacking direction as the organic solvent is removed. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 열-어닐닝 온도는 섭씨 35도 내지 섭씨 200도인 것인 유기 반도체 소자의 제조 방법.The method of claim 1, wherein the heat-annealing temperature is 35 degrees Celsius to 200 degrees Celsius. 제1항에 있어서, 상기 전기-어닐닝 과정의 바이어스 전압은 3 내지 20볼트인 것인 유기 반도체 소자의 제조 방법.The method of claim 1, wherein the bias voltage of the electro-annealing process is 3 to 20 volts. 제1항에 있어서, 상기 이온성 염은 무기염, 유기염, 고분자염 및 이들의 혼합물로 이루어진 군 중에서 선택되는 어느 하나인 유기 반도체 소자의 제조 방법.The method of claim 1, wherein the ionic salt is any one selected from the group consisting of inorganic salts, organic salts, polymer salts, and mixtures thereof. 청구항 10은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 10 was abandoned upon payment of a setup registration fee. 제9항에 있어서, 상기 무기염은 LiClO4, LiPF6, LiBF4, LiN(CF3SO2)2, 리튬트리플로로메탄 트리설포네이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군 중에서 선택되는 어느 하나인 것인 유기 반도체 소자의 제조 방법.The inorganic salt of claim 9, wherein the inorganic salt is any one selected from the group consisting of LiClO 4 , LiPF 6 , LiBF 4 , LiN (CF 3 SO 2 ) 2 , lithium trifluoromethane trisulfonate, and mixtures thereof. The manufacturing method of phosphorus organic semiconductor element. 청구항 11은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 11 was abandoned upon payment of a setup registration fee. 제9항에 있어서, 상기 유기염은 테트라 알킬, 아릴 헤테로아릴 쿼터너리 암모늄염 중에서 선택된 어느 하나인 것인 유기 반도체 소자의 제조 방법.The method of claim 9, wherein the organic salt is any one selected from tetra alkyl, aryl, and heteroaryl quaternary ammonium salts. 청구항 12은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 12 was abandoned upon payment of a registration fee. 제9항에 있어서, 상기 고분자염은 폴리스티렌설포네이트인 것인 유기 반도체 소자의 제조 방법.The method of claim 9, wherein the polymer salt is polystyrenesulfonate. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 유기 반도체 화합물은 정공 주입 화합물, 정공 수송 화합물, 발광 화합물, 전자 수송 화합물, 및 전자 주입 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 화합물을 가지는 것인 유기 반도체 소자의 제조 방법.The method of claim 1, wherein the organic semiconductor compound has at least one compound selected from the group consisting of a hole injection compound, a hole transport compound, a light emitting compound, an electron transport compound, and an electron injection compound. . 제1항에 있어서, 상기 유기 화합물 용액은 바인더 고분자와 도판트 중의 적어도 하나를 더욱 포함하는 것인 유기 반도체 소자의 제조 방법.The method of claim 1, wherein the organic compound solution further comprises at least one of a binder polymer and a dopant. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 청구항 20은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 20 was abandoned upon payment of a registration fee. 제1항에 있어서, 상기 유기 반도체 화합물은 적색, 녹색 및 청색 발광 화합물을 포함하며, 상기 유기 용매를 제거하여 유기 반도체층을 형성하는 단계는 적색, 녹색 및 청색 발광 화합물에 대하여 각각 별개로 수행되는 것인 유기 반도체 소자의 제조 방법. The method of claim 1, wherein the organic semiconductor compound includes red, green, and blue light emitting compounds, and the forming of the organic semiconductor layer by removing the organic solvent is performed separately for the red, green, and blue light emitting compounds. The manufacturing method of the organic semiconductor element. 청구항 21은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 21 was abandoned upon payment of a registration fee. 제1항에 있어서, 상기 유기 화합물 용액은 스핀-코팅 법, 캐스트 방법, 잉크제트 방법, 침적 방법, 및 인쇄 방법으로 이루어진 군 중에서 선택되는 어느 하나의 습식 방법에 의하여 기판상에 도포되는 것인 유기 반도체 소자의 제조 방법.The method of claim 1, wherein the organic compound solution is applied to the substrate by any one of a wet method selected from the group consisting of spin-coating method, cast method, inkjet method, deposition method, and printing method Method of manufacturing a semiconductor device. 유기 용매, 이온성 염 및 유기 반도체 화합물을 포함하는 유기 반도체 박막 제조용 조성물.An organic semiconductor thin film composition comprising an organic solvent, an ionic salt and an organic semiconductor compound. 제22항에 있어서, 상기 조성물은 2종 이상의 유기 반도체 화합물 및 휘발성이 상이한 2종 이상의 유기 용매를 포함하는 것인 유기 반도체 박막 제조용 조성물.The composition of claim 22, wherein the composition comprises at least two organic semiconductor compounds and at least two organic solvents having different volatility. 제22항에 있어서, 상기 조성물은 바인더 고분자와 도판트 중의 적어도 하나를 더욱 포함하는 것인 유기 반도체 박막 제조용 조성물.The composition of claim 22, wherein the composition further comprises at least one of a binder polymer and a dopant . 제22항에 있어서, 상기 조성물의 농도는 0.005 내지 30중량%인 것인 유기 반도체 박막 제조용 조성물. The composition of claim 22, wherein the concentration of the composition is 0.005 to 30% by weight. 제22항에 있어서, 상기 조성물의 점도는 100cp 내지 5000cp 인 것인 유기 반도체 박막 제조용 조성물.The composition of claim 22, wherein the composition has a viscosity of 100 cps to 5000 cps. 청구항 27은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 27 was abandoned upon payment of a registration fee. 제1항에 따른 방법에 의하여 제조된 유기 반도체 소자.An organic semiconductor device manufactured by the method according to claim 1. 양극; 음극; 및 상기 양극과 음극 사이에 개재되어 있으며, 이온성 염을 함유하는 반도체층을 포함하며, anode; cathode; And a semiconductor layer interposed between the anode and the cathode and containing an ionic salt. 상기 양극과 상기 반도체층의 경계면에는 상기 이온성 염의 음이온 수가 상기 이온성 염의 양이온 수보다 많으며, 상기 음극과 상기 반도체층의 경계면에는 상기 이온성 염의 양이온 수가 상기 이온성 염의 음이온 수보다 많은 반도체 소자.And anion number of the ionic salt is greater than the cation number of the ionic salt at the interface between the anode and the semiconductor layer, and a cation number of the ionic salt is more than the anion number of the ionic salt at the interface between the cathode and the semiconductor layer. 삭제delete 제28항에 있어서, 상기 반도체층은 2종 이상의 유기 화합물이 균일하게 분산 되어 있는 것인 반도체 소자.The semiconductor device according to claim 28, wherein the semiconductor layer is formed by uniformly dispersing two or more organic compounds. 제28항에 있어서, 상기 반도체층은 2종 이상의 유기 화합물이 그 적층 방향을 따라 농도 그래디언트를 가지도록 순차적으로 적층되어 있는 것인 반도체 소자.29. The semiconductor device according to claim 28, wherein the semiconductor layer is sequentially stacked such that two or more organic compounds have a concentration gradient along their stacking direction. 제28항에 있어서, 상기 반도체층의 두께는 10 내지 1000 ㎚인 반도체 소자.The semiconductor device according to claim 28, wherein the semiconductor layer has a thickness of 10 to 1000 nm. 청구항 33은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 33 was abandoned upon payment of a registration fee. 제28항에 있어서, 상기 양극 및 음극은 패시브 또는 액티브 매트릭스 전극 구조를 가지는 것인 반도체 소자.29. The semiconductor device of claim 28, wherein the anode and cathode have a passive or active matrix electrode structure. 삭제delete 양극; 음극; 및 상기 양극과 음극 사이에 개재되어 있는 반도체층을 포함하며, anode; cathode; And a semiconductor layer interposed between the anode and the cathode. 상기 양극과 상기 반도체층의 경계면 및 상기 음극과 상기 반도체층의 경계 면 중 어느 하나 이상에는 이온성 염을 포함하는 유기 박막이 형성되어 있는 반도체 소자.An organic thin film including an ionic salt is formed on at least one of the interface between the anode and the semiconductor layer and the interface between the cathode and the semiconductor layer. 제35항에 있어서, 상기 유기 박막은 이온성 염이 도핑된 전도성 고분자, 또는 절연성 고분자로 이루어진 것인 반도체 소자.36. The semiconductor device of claim 35, wherein the organic thin film is made of a conductive polymer doped with an ionic salt, or an insulating polymer. 청구항 37은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.Claim 37 was abandoned upon payment of a registration fee. 제36항에 있어서, 상기 전도성 고분자는 폴리아닐린, 폴리(3-메틸티오펜), 폴리페닐렌술파이드, 폴리피롤 및 폴리(3,4-옥시에틸렌옥시티오펜)/폴리(스티렌술포네이트)로 이루어지는 군 중에서 선택된 어느 하나인 것인 반도체 소자.37. The group of claim 36, wherein the conductive polymer is comprised of polyaniline, poly (3-methylthiophene), polyphenylenesulphide, polypyrrole, and poly (3,4-oxyethyleneoxythiophene) / poly (styrenesulfonate) The semiconductor device is any one selected from. 제35항에 있어서, 상기 이온성 염의 함량은 전체 유기 박막에 대하여 0.02 내지 30 중량%이고, 상기 유기 박막의 두께는 10 내지 1000 nm 인 것인 반도체 소자.36. The semiconductor device according to claim 35, wherein the content of the ionic salt is 0.02 to 30 wt% based on the total organic thin film, and the thickness of the organic thin film is 10 to 1000 nm.
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