KR100571276B1 - Sense amplifier having pull-up driver made up of nonvolatile memory cell - Google Patents

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KR100571276B1
KR100571276B1 KR1020050025123A KR20050025123A KR100571276B1 KR 100571276 B1 KR100571276 B1 KR 100571276B1 KR 1020050025123 A KR1020050025123 A KR 1020050025123A KR 20050025123 A KR20050025123 A KR 20050025123A KR 100571276 B1 KR100571276 B1 KR 100571276B1
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Abstract

본 발명은 모든 칩에 동일한 센싱 마진을 확보하여 동작특성을 개선시킬 수 있는 메모리 셀로 이루어진 풀-업 드라이버를 구비한 센스 앰프를 제공하기 위한 것으로, 이를 위해, 본 발명에서는 독출, 프로그램 검증 및 소거 검증시 메인 메모리 셀로부터 데이터를 센싱하는 센싱부와, 상기 독출, 상기 프로그램 검증 및 상기 소거 검증시 서로 다른 센싱 마진을 확보하기 위하여 프로그램 동작과 소거 동작을 통해 서로 다른 문턱전압을 갖는 복수의 풀-업 메모리 셀로 이루어지며, 상기 센싱부의 출력단을 풀-업 드라이빙하는 풀-업 드라이버와, 상기 풀-업 메모리 셀에 대해 프로그램 및 소거 동작을 수행하는 프로그램 및 소거 동작 제어부와, 상기 독출, 상기 프로그램 검증 및 상기 소거 검증시 상기 풀-업 메모리 셀 전류를 상기 센싱부의 출력단으로 제공하여 상기 센싱부의 출력단을 풀-업 드라이빙하는 스위칭부와, 상기 풀-업 드라이빙된 상기 센싱부의 출력신호를 출력하는 출력 드라이버를 포함하는 센스 앰프를 제공한다. The present invention is to provide a sense amplifier having a pull-up driver consisting of a memory cell that can improve the operating characteristics by ensuring the same sensing margin on all chips, to this end, in the present invention, the read, program verification and erase verification A plurality of pull-ups having different threshold voltages through a program operation and an erase operation to secure different sensing margins during the read, the program verification, and the erase verification during sensing of the data from the main memory cell; A pull-up driver configured to pull-up driving the output terminal of the sensing unit, a program and erase operation controller which performs a program and erase operation on the pull-up memory cell, the read, the program verification, During the erase verification, the pull-up memory cell current is reset to an output terminal of the sensing unit. Providing a sense amplifier comprising an output driver to output a driving up the parts of the sensing output signal and the up-switch driving unit for the pull-in the output of the sensing parts of the pool.

비휘발성 메모리 셀, 플래시 메모리 셀, 센스 앰프, 독출, 프로그램 검증, 소거 검증 Nonvolatile Memory Cells, Flash Memory Cells, Sense Amplifiers, Read, Program Verification, Erase Verification

Description

비휘발성 메모리 셀로 이루어진 풀-업 드라이버를 구비한 센스 앰프{SENSE AMPLIFIER HAVING PULL-UP DRIVER MADE UP OF NONVOLATILE MEMORY CELL}SENSE AMPLIFIER HAVING PULL-UP DRIVER MADE UP OF NONVOLATILE MEMORY CELL}

도 1은 일반적인 메모리 셀의 프로그램 및 소거 동작 후 문턱전압의 분포도.1 is a distribution diagram of threshold voltages after program and erase operations of a typical memory cell.

도 2는 종래기술에 따른 센스 앰프를 도시한 구성도.2 is a block diagram showing a sense amplifier according to the prior art.

도 3은 도 2에 도시된 센스 앰프의 동작 파형도.3 is an operational waveform diagram of the sense amplifier shown in FIG. 2;

도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 센스 앰프를 도시한 구성도. 4 is a block diagram showing a sense amplifier according to a preferred embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

21, 44 : 센싱부21, 44: sensing unit

22, 42 : 풀-업 드라이버22, 42: pull-up driver

23, 43 : 스위칭부23, 43: switching unit

24, 45 : 출력 드라이버24, 45: output driver

41 : 프로그램 및 소거 동작 제어부41: program and erase operation control unit

411 : 소거 스위칭부411: erasing switching unit

412 : 워드라인 스위칭부412: word line switching unit

413 내지 415 : 비트라인 스위칭부413 to 415: bit line switching unit

416 : 소오스 전압 스위칭부416: source voltage switching unit

본 발명은 비휘발성 메모리 셀(nonvolatile memory device)로 이루어진 풀-업 드라이버(full-up driver)를 구비한 센스 앰프(sense amplifier)에 관한 것으로, 특히 플래시 메모리 소자의 독출(read), 프로그램 검증(program verify) 및 소거 검증(erase verify) 동작시 데이터(data)를 센싱(sensing)하기 위한 센스 앰프에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sense amplifier having a full-up driver consisting of nonvolatile memory cells, and more particularly, to reading and program verification of flash memory devices. The present invention relates to a sense amplifier for sensing data during program verify and erase verify operations.

반도체 메모리 장치는 DRAM(Dynamic Random Access Memory) 및 SRAM(Static Random Access Memory) 장치와 같이 시간이 지남에 따라 데이터를 잃어버리는 휘발성(volatile)이면서 데이터의 입/출력이 빠른 RAM 제품과, 한번 데이터를 입력하면 그 상태를 유지하는 비휘발성(nonvolatile)이면서 데이터의 입/출력이 느린 ROM(Read Only Memory) 제품으로 크게 구분된다. ROM 제품으로는 ROM, PROM(Programmable ROM), EPROM(Erasable PROM) 및 EEPROM(Electrically EPROM)으로 분류할 수 있는데, 이러한 ROM 제품 중에서 전기적 방법으로 데이터를 프로그램(program) 및 소거(erase)할 수 있는 EEPROM에 대한 수요가 증가하고 있는 추세에 있다. Semiconductor memory devices, such as DRAM (Dynamic Random Access Memory) and SRAM (Static Random Access Memory) devices, are volatile and fast data input / output that loses data over time. Input is largely classified into non-volatile (Read Only Memory) products that maintain their state and are slow in input / output of data. ROM products can be classified into ROM, PROM (Programmable ROM), EPROM (Erasable PROM) and EEPROM (Electrically EPROM). Among these ROM products, data can be programmed and erased by electric method. The demand for EEPROM is on the rise.

일반적으로, EEPROM이나 일괄 소거 기능을 갖는 플래시 EEPROM은 플로팅 게 이트(floating gate)와 컨트롤 게이트(control gate)가 적층된 스택형(stack type) 게이트 구조를 갖는다. 플래시 메모리 셀은 노트북(notebook), PDAs, 셀룰러 폰(cellular phone) 등의 이동형 전자소자(portable electronics)와 컴퓨터 BIOS 및 프린터(printer) 등에 널리 사용된다. 회로적 관점에서 살펴보면, 플래시 메모리 셀은 n개의 셀 트랜지스터(transistor)들이 직렬로 연결되어 단위 스트링(string)을 이루고, 이러한 단위 스트링들이 비트라인(bit line)과 접지라인(ground line) 사이에 병렬로 연결되어 고집적화에 유리한 난드형(NAND type)과 각각의 셀 트랜지스터들이 비트라인과 접지라인 사이에 병렬로 연결되어 고속 동작에 유리한 노아형으로 구분된다. In general, an EEPROM or a flash EEPROM having a batch erase function has a stack type gate structure in which a floating gate and a control gate are stacked. Flash memory cells are widely used in portable electronics such as notebooks, PDAs, cellular phones, computer BIOS, and printers. From a circuit point of view, a flash memory cell is a unit string in which n cell transistors are connected in series to form a unit string, and these unit strings are paralleled between a bit line and a ground line. NAND type and each cell transistor are connected in parallel between the bit line and the ground line in parallel to the NAND type, which is advantageous for high integration.

도 1은 일반적인 플래시 메모리 소자의 프로그램 및 소거동작 상태에 따른 임계전압 분포도이다. 1 is a threshold voltage distribution diagram according to program and erase operation states of a general flash memory device.

도 1에 도시된 바와 같이, 플래시 메모리 소자의 프로그램 및 소거동작 상태의 임계전압은 플래시 메모리 소자의 용량이 증가할 수록 넓게 분포하게 된다. 따라서, 플래시 메모리 소자를 독출하면 임계전압 분포에 의하여 마진(margin)이 부족한 경우 불량이 발생하게 된다. 이에 따라, 센스 앰프를 이용하여 플래시 메모리 소자를 센싱할 때 독출뿐 만 아니라, 프로그램 검증 및 소거 검증 동작을 수행하여 플래시 메모리 소자의 센싱 마진을 확보한다. 이러한 센싱 마진은 독출, 프로그램 검증 및 소거 검증동작시 크기(Width/Length)가 서로 다른 트랜지스터를 구동시켜 확보한다.As shown in FIG. 1, the threshold voltages of the program and erase operation states of the flash memory device are widely distributed as the capacity of the flash memory device increases. Therefore, when the flash memory device is read, a defect occurs when the margin is insufficient due to the threshold voltage distribution. Accordingly, when sensing the flash memory device using the sense amplifier, not only read but also program verify and erase verify operations are performed to secure a sensing margin of the flash memory device. This sensing margin is secured by driving transistors of different sizes (Width / Length) during read, program verify, and erase verify operations.

도 2는 플래시 메모리 소자의 독출, 프로그램 검증 및 소거 검증 동작을 수 행하기 위한 종래기술에 따른 센스 앰프의 구성을 도시한 회로도이고, 도 2는 독출 동작 파형도이다. FIG. 2 is a circuit diagram showing a configuration of a sense amplifier according to the prior art for performing read, program verify and erase verify operations of a flash memory device, and FIG. 2 is a read operation waveform diagram.

도 2에 도시된 바와 같이, 종래기술에 따른 센스 앰프는 독출, 프로그램 검증 및 소거 검증동작시 메모리 셀(Memory Cell, MC)로부터 데이터를 독출하는 센싱부(21)와, 독출, 프로그램 검증 및 소거 검증동작시 서로 다른 센싱 마진을 확보하기 위하여 상기 센싱부(21)의 출력단을 풀-업 드라이빙하기 위한 풀-업 드라이버(22)와, 독출, 프로그램 검증 및 소거 검증동작시 풀-업 드라이버(22)와 센싱부(21)의 출력단을 접속시켜주는 스위칭부(23)와, 센싱부(21)의 출력을 출력하는 출력 드라이버(24)로 이루어진다. As shown in FIG. 2, a sense amplifier according to the related art includes a sensing unit 21 for reading data from a memory cell MC during read, program verify, and erase verify operations, and read, program verify, and the like. A pull-up driver 22 for pull-up driving the output terminal of the sensing unit 21 to secure different sensing margins during an erase verify operation, and a pull-up driver during read, program verify, and erase verify operations. And a switching unit 23 for connecting the output terminal of the sensing unit 21 and an output driver 24 for outputting the output of the sensing unit 21.

이하, 이러한 구성을 갖는 종래기술에 따른 센스 앰프의 동작특성을 설명하기로 한다. Hereinafter, the operating characteristics of the sense amplifier according to the prior art having such a configuration will be described.

먼저, 도 3을 참조하여 독출동작에 대해 설명하기로 한다. 독출 모드시, 독출 인에이블 바신호(RDENB)는 로우레벨(LOW level, 'O')로 스위칭부(23)의 PMOS 트랜지스터(P4)의 게이트로 입력된다. 이에 따라, PMOS 트랜지스터(P4)가 턴-온(turn-ON)되어 풀-업 드라이버(22)의 PMOS 트랜지스터(P1)를 통해 유입되는 전류는 센싱부(21)의 출력단으로 공급된다. 이런 상태에서, 센스 앰프 인에이블 신호(SAEN)가 하이레벨(HIGH level, '1')로 센싱부(21)의 NMOS 트랜지스터(N3)의 게이트로 입력되고, 센스 앰프 인에이블 바신호(SAENB)가 인버터(INV1)를 통해 반전되어 하이레벨로 PMOS 트랜지스터(P7) 및 NMOS 트랜지스터(N2)의 게이트로 각각 입력되면, NMOS 트랜지스터(N2, N3)는 턴-온되고, PMOS 트랜지스터(P7)는 턴-오프 (turn-OFF)되어 비트라인(BL)과 풀-업 트랜지스터인 PMOS 트랜지스터(P1) 사이에는 전류 경로가 형성된다. First, a read operation will be described with reference to FIG. 3. In the read mode, the read enable bar signal RDENB is input to the gate of the PMOS transistor P4 of the switching unit 23 at a low level 'O'. Accordingly, the PMOS transistor P4 is turned on and the current flowing through the PMOS transistor P1 of the pull-up driver 22 is supplied to the output terminal of the sensing unit 21. In this state, the sense amplifier enable signal SAEN is input to the gate of the NMOS transistor N3 of the sensing unit 21 at a high level '1' and the sense amplifier enable bar signal SAENB. Is inverted through the inverter INV1 and input to the gates of the PMOS transistor P7 and the NMOS transistor N2 at a high level, respectively, the NMOS transistors N2 and N3 are turned on, and the PMOS transistor P7 is turned on. It is turned off and a current path is formed between the bit line BL and the PMOS transistor P1 which is a pull-up transistor.

이런 상태에서, 메모리 셀(MC)이 프로그램 상태인 경우 풀-업 트랜지스터인 PMOS 트랜지스터(P1)를 통해 제공되는 전류는 메모리 셀(MC)을 통해 접지단으로 유입되지 않고, 센싱부(21)의 출력단을 하이레벨로 풀-업 드라이빙시킨다. 하이레벨로 풀-업 드라이빙된 전압은 출력 드라이버(24)의 인버터(INV2)를 통해 로우레벨로 반전되어 출력된다. 결국, 메모리 셀(MC)이 프로그램 셀인 경우 출력신호(SAOUT)는 로우레벨이 된다. 한편, 메모리 셀(MC)이 소거 상태인 경우 PMOS 트랜지스터(P1)를 통해 제공되는 전류는 PMOS 트랜지스터(P4), NMOS 트랜지스터(N2, N3) 및 메모리 셀(MC)을 경유하여 접지단으로 흐르게 된다. 이에 따라, 센싱부(21)의 출력단은 로우레벨로 유지된다. 로우레벨을 갖는 출력단의 전압은 인버터(INV2)를 통해 하이레벨로 반전되어 출력된다. 결국, 메모리 셀(MC)이 소거셀인 경우 출력신호(SAOUT)는 하이레벨로 출력된다. In this state, when the memory cell MC is in the program state, the current provided through the PMOS transistor P1, which is a pull-up transistor, does not flow into the ground terminal through the memory cell MC, but instead of the sensing unit 21. Drive the output stage high-up. The voltage pulled up to the high level is inverted to the low level through the inverter INV2 of the output driver 24 and output. As a result, when the memory cell MC is a program cell, the output signal SAOUT becomes low. Meanwhile, when the memory cell MC is in an erased state, current provided through the PMOS transistor P1 flows to the ground terminal via the PMOS transistor P4, the NMOS transistors N2 and N3, and the memory cell MC. . Accordingly, the output terminal of the sensing unit 21 is maintained at a low level. The voltage at the output terminal having the low level is output inverted to the high level through the inverter INV2. As a result, when the memory cell MC is an erase cell, the output signal SAOUT is output at a high level.

소거 검증동작에 대해 설명한다. 소거 검증 모드시, 소거 검증 인에이블 바신호(EVENB)가 로우레벨로 스위칭부(23)의 PMOS 트랜지스터(P5)의 게이트로 입력된다. 이에 따라, PMOS 트랜지스터(P5)는 턴-온되어 풀-업 트랜지스터인 PMOS 트랜지스터(P2)를 통해 공급되는 전류는 센싱부(21)의 출력단으로 공급된다. 이런 상태에서 센스 앰프 인에이블 신호(SAEN)가 하이레벨로 NMOS 트랜지스터(N3)의 게이트로 입력되고, 센스 앰프 인에이블 바신호(SAENB)가 인버터(INV1)를 통해 반전되어 하이레벨로 PMOS 트랜지스터(P7) 및 NMOS 트랜지스터(N2)의 게이트로 각각 입력되면, NMOS 트랜지스터(N2, N3)는 턴-온되고, PMOS 트랜지스터(P7)는 턴-오프되어 비트라인(BL)과 풀-업 트랜지스터인 PMOS 트랜지스터(P2) 사이에는 전류 경로가 형성된다. The erase verification operation will be described. In the erase verify mode, the erase verify enable bar signal EVENB is input to the gate of the PMOS transistor P5 of the switching unit 23 at a low level. Accordingly, the PMOS transistor P5 is turned on and the current supplied through the PMOS transistor P2 which is a pull-up transistor is supplied to the output terminal of the sensing unit 21. In this state, the sense amplifier enable signal SAEN is input to the gate of the NMOS transistor N3 at a high level, and the sense amplifier enable bar signal SAENB is inverted through the inverter INV1, and the PMOS transistor ( When input to the gates of the P7 and the NMOS transistor N2, respectively, the NMOS transistors N2 and N3 are turned on, and the PMOS transistor P7 is turned off to PMOS, which is a bit line BL and a pull-up transistor. A current path is formed between the transistors P2.

이런 상태에서, 메모리 셀(MC)이 프로그램 상태인 경우 풀-업 트랜지스터인 PMOS 트랜지스터(P2)를 통해 제공되는 전류는 메모리 셀(MC)을 통해 접지단으로 유입되지 않고, 센싱부(21)의 출력단을 하이레벨로 풀-업 드라이빙시킨다. 하이레벨로 풀-업 드라이빙된 전압은 출력 드라이버(24)의 인버터(INV2)를 통해 로우레벨로 반전되어 출력된다. 결국, 메모리 셀(MC)이 프로그램 셀인 경우 출력신호(SAOUT)는 로우레벨이 된다. 한편, 메모리 셀(MC)이 소거 상태인 경우 PMOS 트랜지스터(P2)를 통해 제공되는 전류는 PMOS 트랜지스터(P5), NMOS 트랜지스터(N2, N3) 및 메모리 셀(MC)을 경유하여 접지단으로 흐르게 된다. 이에 따라, 센싱부(21)의 출력단은 로우레벨로 유지된다. 로우레벨을 갖는 출력단의 전압은 인버터(INV2)를 통해 하이레벨로 반전되어 출력된다. 결국, 메모리 셀(MC)이 소거셀인 경우 출력신호(SAOUT)는 하이레벨로 출력된다. In this state, when the memory cell MC is in the program state, the current provided through the PMOS transistor P2, which is a pull-up transistor, does not flow into the ground terminal through the memory cell MC, but instead of the sensing unit 21. Drive the output stage high-up. The voltage pulled up to the high level is inverted to the low level through the inverter INV2 of the output driver 24 and output. As a result, when the memory cell MC is a program cell, the output signal SAOUT becomes low. Meanwhile, when the memory cell MC is in an erased state, current provided through the PMOS transistor P2 flows to the ground terminal via the PMOS transistor P5, the NMOS transistors N2 and N3, and the memory cell MC. . Accordingly, the output terminal of the sensing unit 21 is maintained at a low level. The voltage at the output terminal having the low level is output inverted to the high level through the inverter INV2. As a result, when the memory cell MC is an erase cell, the output signal SAOUT is output at a high level.

프로그램 검증동작에 대해 설명한다. 프로그램 검증 모드시, 프로그램 검증인에이블 바신호(PVENB)가 로우레벨로 스위칭부(23)의 PMOS 트랜지스터(P6)의 게이트로 입력된다. 이에 따라, PMOS 트랜지스터(P6)는 턴-온되어 풀-업 트랜지스터인 PMOS 트랜지스터(P3)를 통해 공급되는 전류는 센싱부(21)의 출력단으로 공급된다. 이런 상태에서 센스 앰프 인에이블 신호(SAEN)가 하이레벨로 NMOS 트랜지스터(N3)의 게이트로 입력되고, 센스 앰프 인에이블 바신호(SAENB)가 인버터(INV1)를 통해 반전되어 하이레벨로 PMOS 트랜지스터(P7) 및 NMOS 트랜지스터(N2)의 게이트로 각각 입력되면, NMOS 트랜지스터(N2, N3)는 턴-온되고, PMOS 트랜지스터(P7)는 턴-오프되어 비트라인(BL)과 풀-업 트랜지스터인 PMOS 트랜지스터(P3) 사이에는 전류 경로가 형성된다. The program verification operation will be described. In the program verify mode, the program verify enable bar signal PVENB is input to the gate of the PMOS transistor P6 of the switching unit 23 at a low level. Accordingly, the PMOS transistor P6 is turned on and the current supplied through the PMOS transistor P3, which is a pull-up transistor, is supplied to the output terminal of the sensing unit 21. In this state, the sense amplifier enable signal SAEN is input to the gate of the NMOS transistor N3 at a high level, and the sense amplifier enable bar signal SAENB is inverted through the inverter INV1, and the PMOS transistor ( When input to the gates of the P7 and the NMOS transistor N2, respectively, the NMOS transistors N2 and N3 are turned on, and the PMOS transistor P7 is turned off to PMOS, which is a bit line BL and a pull-up transistor. A current path is formed between the transistors P3.

이런 상태에서, 메모리 셀(MC)이 프로그램 상태인 경우 풀-업 트랜지스터인 PMOS 트랜지스터(P3)를 통해 제공되는 전류는 메모리 셀(MC)을 통해 접지단으로 유입되지 않고, 센싱부(21)의 출력단을 하이레벨로 풀-업 드라이빙시킨다. 하이레벨로 풀-업 드라이빙된 전압은 출력 드라이버(24)의 인버터(INV2)를 통해 로우레벨로 반전되어 출력된다. 결국, 메모리 셀(MC)이 프로그램 셀인 경우 출력신호(SAOUT)는 로우레벨이 된다. 한편, 메모리 셀(MC)이 소거 상태인 경우 PMOS 트랜지스터(P3)를 통해 제공되는 전류는 PMOS 트랜지스터(P6), NMOS 트랜지스터(N2, N3) 및 메모리 셀(MC)을 경유하여 접지단으로 흐르게 된다. 이에 따라, 센싱부(21)의 출력단은 로우레벨로 유지된다. 로우레벨을 갖는 출력단의 전압은 인버터(INV2)를 통해 하이레벨로 반전되어 출력된다. 결국, 메모리 셀(MC)이 소거셀인 경우 출력신호(SAOUT)는 하이레벨로 출력된다. In this state, when the memory cell MC is in the program state, the current provided through the PMOS transistor P3, which is a pull-up transistor, does not flow into the ground terminal through the memory cell MC, but instead of the sensing unit 21. Drive the output stage high-up. The voltage pulled up to the high level is inverted to the low level through the inverter INV2 of the output driver 24 and output. As a result, when the memory cell MC is a program cell, the output signal SAOUT becomes low. Meanwhile, when the memory cell MC is in an erased state, current provided through the PMOS transistor P3 flows to the ground terminal via the PMOS transistor P6, the NMOS transistors N2 and N3, and the memory cell MC. . Accordingly, the output terminal of the sensing unit 21 is maintained at a low level. The voltage at the output terminal having the low level is output inverted to the high level through the inverter INV2. As a result, when the memory cell MC is an erase cell, the output signal SAOUT is output at a high level.

상기에서 설명한 종래기술에 따른 센스 앰프에서는 도 1에 도시된 바와 같은 독출, 소거 검증 및 프로그램 검증 마진을 얻기 위해서 풀-업 드라이버(22)의 각 풀-업 트랜지스터(P1 내지 P3)의 폭/길이를 다르게 하여 전류의 양을 조절하고 있다. 그러나, 이처럼 풀-업 트랜지스터(P1 내지 P3)의 폭/길이를 다르게 형성할 경우 공정 간에 발생하는 상이한 특성으로 인하여 센싱 마진에 의한 불량이 유발된 다. In the above-described sense amplifier according to the related art, the width / length of each pull-up transistor P1 to P3 of the pull-up driver 22 in order to obtain the read, erase verify and program verify margins as shown in FIG. 1. To adjust the amount of current. However, when the widths / lengths of the pull-up transistors P1 to P3 are differently formed, defects due to sensing margins are caused due to different characteristics occurring between processes.

따라서, 본 발명은 상기한 종래기술의 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로서, 모든 칩에 동일한 센싱 마진을 확보하여 동작특성을 개선시킬 수 있는 플래시 메모리 셀로 이루어진 풀-업 드라이버를 구비한 센스 앰프를 제공하는데 그 목적이 있다. Accordingly, the present invention has been proposed to solve the above problems of the prior art, and provides a sense amplifier having a pull-up driver composed of a flash memory cell which can improve operating characteristics by securing the same sensing margin on all chips. Its purpose is to.

상기한 목적을 달성하기 위한 일측면에 따른 본 발명은, 독출, 프로그램 검증 및 소거 검증시 메인 메모리 셀로부터 데이터를 센싱하는 센싱부와, 상기 독출, 상기 프로그램 검증 및 상기 소거 검증시 서로 다른 센싱 마진을 확보하기 위하여 프로그램 동작과 소거 동작을 통해 서로 다른 문턱전압을 갖는 복수의 풀-업 메모리 셀로 이루어지며, 상기 센싱부의 출력단을 풀-업 드라이빙하는 풀-업 드라이버와, 상기 풀-업 메모리 셀에 대해 프로그램 및 소거 동작을 수행하는 프로그램 및 소거 동작 제어부와, 상기 독출, 상기 프로그램 검증 및 상기 소거 검증시 상기 풀-업 메모리 셀 전류를 상기 센싱부의 출력단으로 제공하여 상기 센싱부의 출력단을 풀-업 드라이빙하는 스위칭부와, 상기 풀-업 드라이빙된 상기 센싱부의 출력신호를 출력하는 출력 드라이버를 포함하는 센스 앰프를 제공한다. According to an aspect of the present invention, there is provided a sensing unit configured to sense data from a main memory cell during read, program verify, and erase verify, and different sensing margins during read, program verify, and erase verify. A pull-up driver comprising a plurality of pull-up memory cells having different threshold voltages through a program operation and an erase operation to secure a voltage, and a pull-up driver for pull-up driving an output terminal of the sensing unit. A program and erase operation control unit for performing a program and erase operation with respect to the output unit of the sensing unit by providing a pull-up memory cell current to the sensing unit during the read, program verify, and erase verify operations. An output drive for outputting an output signal of the switching unit and the sensing unit of the pull-up driving unit Provide a sense amplifier that includes the server.

이하, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세히 설명하기 위하여, 본 발명의 가장 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the technical idea of the present invention.

실시예Example

도 4는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 센스 앰프를 설명하기 위하여 도시한 블록도이다. 4 is a block diagram illustrating a sense amplifier in accordance with a preferred embodiment of the present invention.

도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 센스 앰프는 도 1에 도시된 바와 같은 독출, 소거 검증 및 프로그램 검증 마진을 확보하기 위하여 프로그램 및 소거 동작을 통해 문턱전압의 제어가 가능한 플래시 메모리 셀(FC1 내지 FC3)로 이루어진 풀-업 드라이버(42)를 포함한다. 이때, 각 플래시 메모리 셀(FC1 내지 FC3)은 채널 열전자(channel hot electron) 주입방식을 통해 프로그램 동작을 수행하고, F-N 터널링(Fouler Nordheim Tunneling) 방식을 이용하여 소거 동작을 수행한다. As shown in FIG. 4, the sense amplifier according to the preferred embodiment of the present invention can control threshold voltages through program and erase operations to secure read, erase verify, and program verify margins as shown in FIG. 1. And a pull-up driver 42 composed of flash memory cells FC1 to FC3. In this case, each of the flash memory cells FC1 to FC3 performs a program operation through a channel hot electron injection method, and performs an erase operation by using an F-N tunneling (Fouler Nordheim Tunneling) method.

우선, 플래시 메모리 셀(FC1 내지 FC3)의 독출, 프로그램 및 소거 동작을 수행하기 위한 바이어스 전압에 대해 간략하게 설명하기로 한다. 바이어스 전압은 하기 표1과 같다. First, the bias voltages for performing the read, program and erase operations of the flash memory cells FC1 to FC3 will be briefly described. The bias voltage is shown in Table 1 below.

게이트 전압(VG)Gate voltage (VG) 드레이 전압(VD)Dray Voltage (VD) 소오스 전압(VS)Source voltage (VS) 벌크전압(VB)Bulk voltage (VB) 프로그램program 9V9 V 5V5 V 0V0 V 0V0 V 소거elimination -7.5V-7.5V 플로팅Floating 플로팅Floating 9V9 V 독출Reading 4V4V 0.8V0.8 V 0V0 V 0V0 V

예컨대, 본 발명의 바람직한 실시예에서는 플래시 메모리 셀(FC1 내지 FC3)은 서로 다른 센싱 마진을 갖도록 하기 위하여 플래시 메모리 셀(FC2)에 대해서는 소거 동작을 수행하고, 플래시 메모리 셀(FC1, FC3)에 대해서는 프로그램 동작을 수행한다. 이때, 플래시 메모리 셀(FC1)은 플래시 메모리 셀(FC3)의 문턱전압보다 낮도록 프로그램 동작을 수행한다. 이를 위해, 플래시 메모리 셀(FC1)의 프로그램 동작시 플래시 메모리 셀(FC1)의 드레인 바이어스 전압(VD1)을 플래시 메모리 셀(FC3)의 드레인 전압(VD3)보다 낮추워서 실시한다. 이에 대한 상세한 설명은 후술하기로 한다. For example, in the preferred embodiment of the present invention, the flash memory cells FC1 to FC3 perform erase operations on the flash memory cells FC2 and the flash memory cells FC1 and FC3 to have different sensing margins. Perform the program operation. At this time, the flash memory cell FC1 performs a program operation to be lower than the threshold voltage of the flash memory cell FC3. To this end, the drain bias voltage VD1 of the flash memory cell FC1 is lower than the drain voltage VD3 of the flash memory cell FC3 during the program operation of the flash memory cell FC1. Detailed description thereof will be described later.

이와 같이, 플래시 메모리 셀(FC1 내지 FC3)에 대하여 프로그램 및 소거 동작을 수행하여 플래시 메모리 셀(FC1 내지 FC3)의 문턱전압을 각각 제어하기 위하여 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 센스 앰프는 프로그램 및 소거동작 제어부(41)를 포함한다. 이러한 프로그램 및 소거동작 제어부(51)는 소거 스위칭부(411)와, 워드라인 스위칭부(412)와, 제1 내지 제3 비트라인 스위칭부(413 내지 415)와, 소오스 전압 스위칭부(413)로 이루어진다.As described above, in order to control the threshold voltages of the flash memory cells FC1 to FC3 by performing program and erase operations on the flash memory cells FC1 to FC3, the sense amplifiers according to the preferred embodiment of the present invention may be programmed and erased. An operation control unit 41 is included. The program and erase operation controller 51 may include an erase switch 411, a word line switch 412, first to third bit line switches 413 to 415, and a source voltage switch 413. Is done.

소거 스위칭부(411)는 독출 인에이블 신호(CVTRDEN)와 소거 인에이블 신호(EREN)에 따라 네가티브(negative) 고전압(VEEI), 포지티브(positive) 고전압(VPPI) 및 내부전압(VDD)을 출력한다. 여기서, 네가티브 고전압(VEEI)은 대략 -7.5V이고, 포지티브 고전압(VPPI)은 대략 9V이며, 내부전압(VDD)은 전원전압(VCC)보다 높은 전압으로서 대략 4V이다. The erase switching unit 411 outputs a negative high voltage VEEI, a positive high voltage VPPI, and an internal voltage VDD according to the read enable signal CVTRDEN and the erase enable signal EREN. . Here, the negative high voltage VEEI is approximately -7.5V, the positive high voltage VPPI is approximately 9V, and the internal voltage VDD is approximately 4V, which is higher than the power supply voltage VCC.

워드라인 스위칭부(412)는 독출 인에이블 신호(CVTRDEN), 소거 인에이블 신호(EREN) 및 프로그램 인에이블 신호(PGMEN)에 따라 플래시 메모리 셀(FC1 내지 FC3)의 각 게이트로 동시에 게이트 전압(VG)을 공급한다. 이때, 게이트 전압(VG)은 네가티브 고전압(VEEI), 포지티브 고전압(VPPI) 및 내부전압(VDD) 중 어느 하나가 된다. The word line switching unit 412 simultaneously transmits the gate voltage VG to each gate of the flash memory cells FC1 to FC3 according to the read enable signal CVTRDEN, the erase enable signal EREN, and the program enable signal PGMEN. ). In this case, the gate voltage VG becomes one of a negative high voltage VEEI, a positive high voltage VPPI, and an internal voltage VDD.

제1 비트라인 스위칭부(413)는 제1 인에이블 신호(EN1)에 따라 동작되어 플래시 메모리 셀(FC1)의 드레인으로 독출 신호(CVTRD)를 공급하거나, 드레인으로부터 드레인 전류를 검출한다. 이때, 독출 신호(CVTRD)는 플래시 메모리 셀(FC1)의 프로그램 동작시 플래시 메모리 셀(FC1)의 드레인 전압(VD1)으로서, 외부에서 공급되며, 그 크기는 동작에 따라 적절히 변경된다. 한편, 드레인 전압(VD1)은 프로그램 동작시 플래시 메모리 셀(FC3)의 드레인 전압(VD3)보다 낮으며, 독출 동작시에는 대략 0.8V가 된다. The first bit line switching unit 413 is operated according to the first enable signal EN1 to supply the read signal CVTRD to the drain of the flash memory cell FC1 or to detect the drain current from the drain. At this time, the read signal CVTRD is supplied from the outside as the drain voltage VD1 of the flash memory cell FC1 during the program operation of the flash memory cell FC1, and its size is appropriately changed according to the operation. On the other hand, the drain voltage VD1 is lower than the drain voltage VD3 of the flash memory cell FC3 during the program operation, and becomes about 0.8 V during the read operation.

제2 비트라인 스위칭부(414)는 제2 인에이블 신호(EN2)에 따라 동작되어 플래시 메모리 셀(FC2)의 드레인으로 독출 신호(CVTRD)를 공급하거나, 드레인으로부터 드레인 전류를 검출한다. 이때, 독출 신호(CVTRD)은 플래시 메모리 셀(FC2)의 드레인 전압(VD2)이 된다. The second bit line switching unit 414 is operated according to the second enable signal EN2 to supply the read signal CVTRD to the drain of the flash memory cell FC2 or to detect the drain current from the drain. At this time, the read signal CVTRD becomes the drain voltage VD2 of the flash memory cell FC2.

제3 비트라인 스위칭부(415)는 제3 인에이블 신호(EN3)에 따라 동작되어 플래시 메모리 셀(FC3)의 드레인으로 독출 신호(CVTRD)를 공급하거나, 드레인으로부터 드레인 전류를 검출한다. 이때, 독출 신호(CVTRD)는 플래시 메모리 셀(FC3)의 프로그램 동작시 플래시 메모리 셀(FC3)의 드레인 전압(VD3)으로서, 외부에서 공급되며, 그 크기는 동작에 따라 적절히 변경된다. 한편, 드레인 전압(VD3)은 프로그램 동작시 플래시 메모리 셀(FC1)의 드레인 전압(VD1)보다 높으며, 독출 동작시에는 대략 0.8V가 된다. The third bit line switching unit 415 is operated according to the third enable signal EN3 to supply the read signal CVTRD to the drain of the flash memory cell FC3 or to detect the drain current from the drain. At this time, the read signal CVTRD is externally supplied as the drain voltage VD3 of the flash memory cell FC3 during the program operation of the flash memory cell FC3, and its size is appropriately changed according to the operation. On the other hand, the drain voltage VD3 is higher than the drain voltage VD1 of the flash memory cell FC1 during the program operation, and becomes about 0.8 V during the read operation.

소오스 전압 스위칭부(416)는 소거 스위칭부(411)의 소오스 전압 제어신호(VSC1, VSC2)에 따라 동작하여 플래시 메모리 셀(FC1 내지 FC3)의 소오스에 소오스 전압(VS1 내지 VS3)을 공급한다. 이를 위해, 제어신호(VSC1)에 의해 동작하는 NMOS 트랜지스터(N1 내지 N3)와, 제어신호(VSC2)에 의해 동작하는 PMOS 트랜지스터(P1 내지 P3)로 이루어진다. NMOS 트랜지스터(N1 내지 N3)는 각각 플래시 메모리 셀(FC1 내지 FC3)의 소오스단과 접속되어 제어신호(VSC1)에 따라 플래시 메모리 셀(FC1 내지 FC3)의 소오스단으로 접지전압(VSS)을 공급한다. PMOS 트랜지스터(P1 내지 P3)는 각각 플래시 메모리 셀(FC1 내지 FC3)의 소오소단과 접속되어 제어신호(VSC2)에 따라 플래시 메모리 셀(FC1 내지 FC3)의 소오스단으로 전원전압(VCC)을 공급한다. The source voltage switching unit 416 operates according to the source voltage control signals VSC1 and VSC2 of the erase switching unit 411 to supply the source voltages VS1 to VS3 to the sources of the flash memory cells FC1 to FC3. To this end, it consists of NMOS transistors N1 to N3 operated by the control signal VSC1 and PMOS transistors P1 to P3 operated by the control signal VSC2. The NMOS transistors N1 to N3 are connected to the source terminals of the flash memory cells FC1 to FC3, respectively, and supply the ground voltage VSS to the source terminals of the flash memory cells FC1 to FC3 according to the control signal VSC1. The PMOS transistors P1 through P3 are connected to the source ends of the flash memory cells FC1 through FC3, respectively, and supply the power supply voltage VCC to the source ends of the flash memory cells FC1 through FC3 according to the control signal VSC2. .

이 외에, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 센스 앰프는 독출, 프로그램 검증 및 소거 검증동작시 메모리 셀(MC)로부터 데이터를 독출하는 센싱부(44)와, 독출, 프로그램 검증 및 소거 검증동작시 풀-업 드라이버(42)와 센싱부(44)의 출력단을 접속시켜주는 스위칭부(43)와, 센싱부(44)의 출력을 출력하는 출력 드라이버(45)를 포함한다. In addition, the sense amplifier according to the preferred embodiment of the present invention includes a sensing unit 44 for reading data from the memory cell MC during read, program verify and erase verify operations, and at the time of read, program verify and erase verify operations. And a switching unit 43 for connecting the pull-up driver 42 and the output terminal of the sensing unit 44, and an output driver 45 for outputting the output of the sensing unit 44.

센싱부(44)는 센스 앰프 인에이블 신호(SAEN)에 따라 메모리 셀(MC)로부터 데이터를 센싱하여 출력한다. 이를 위해, 센싱부(44)는 NMOS 트랜지스터(N4 내지 N6)와, PMOS 트랜지스터(P7)와, 인버터(INV1)로 이루어진다. 예컨대, 센스 앰프 인에이블 신호(SAEN)가 하이레벨로 인에이블되면, NMOS 트랜지스터(N6)와 NMOS 트랜지스터(N4)가 턴-온되어, 비트라인(BL)과 출력 드라이버(45), 그리고 스위칭부(43) 간에는 전류 경로가 형성된다. 이런 상태에서, 메모리 셀(MC)이 프로그램 상태인 경우 비트라인(BL)으로 인가된 전압(대략, 0.8V)은 그대로 출력 드라이버(45)로 공급되고, 소거 상태인 경우 비트라인(BL)으로 인가된 전압은 메모리 셀(MC)을 통해 접지단으로 빠져 나가게 된다. 따라서, 메모리 셀(MC)이 프로그램 상태인 경우 센싱부(44)는 하이레벨의 출력신호를 출력하고, 소거 상태인 경우에는 로우레벨의 출력신호를 출력한다. The sensing unit 44 senses data from the memory cell MC according to the sense amplifier enable signal SAEN and outputs the data. To this end, the sensing unit 44 includes NMOS transistors N4 to N6, a PMOS transistor P7, and an inverter INV1. For example, when the sense amplifier enable signal SAEN is enabled at a high level, the NMOS transistor N6 and the NMOS transistor N4 are turned on to turn on the bit line BL, the output driver 45, and the switching unit. A current path is formed between the 43. In this state, when the memory cell MC is in the program state, the voltage (approximately 0.8 V) applied to the bit line BL is supplied to the output driver 45 as it is, and in the erase state to the bit line BL. The applied voltage exits to the ground terminal through the memory cell MC. Accordingly, the sensing unit 44 outputs a high level output signal when the memory cell MC is in a program state, and outputs a low level output signal when the memory cell MC is in a program state.

스위칭부(43)은 독출 인에이블 바신호(RDENB), 소거 검증 인에이블 바신호(EVENB) 및 프로그램 검증 인에이블 바신호(PVENB)에 따라 플래시 메모리 셀(FC1 내지 FC3)과 센싱부(44)의 출력단을 접속시킨다. 예컨대, 독출 모드시에는 독출 인에이블 신호(RDENB)에 의해 턴-온되는 PMOS 트랜지스터(P4)에 의해 플래시 메모리 셀(FC1)의 드레인단과 센싱부(44)의 출력단을 접속시킨다. 소거 검증 모드시에는 소거 검증 인에이블 바신호(EVENB)에 의해 턴-온되는 PMOS 트랜지스터(P5)에 의해 플래시 메모리 셀(FC2)의 드레인단과 센싱부(44)의 출력단을 접속시킨다. 프로그램 검증 모드시에는 프로그램 검증 인에이블 바신호(PVENB)에 의해 턴-온되는 PMOS 트랜지스터(P6)에 의해 플래시 메모리 셀(FC3)과 센싱부(44)의 출력단을 서로 접속시킨다. The switching unit 43 includes the flash memory cells FC1 to FC3 and the sensing unit 44 according to the read enable bar signal RDENB, the erase verify enable bar signal EVENB, and the program verify enable bar signal PVENB. Connect the output terminal of. For example, in the read mode, the drain terminal of the flash memory cell FC1 and the output terminal of the sensing unit 44 are connected by the PMOS transistor P4 turned on by the read enable signal RDENB. In the erase verify mode, the drain terminal of the flash memory cell FC2 and the output terminal of the sensing unit 44 are connected by the PMOS transistor P5 turned on by the erase verify enable bar signal EVENB. In the program verify mode, the output terminal of the flash memory cell FC3 and the sensing unit 44 is connected to each other by the PMOS transistor P6 turned on by the program verify enable bar signal PVENB.

출력 드라이버(45)는 센싱부(44)로부터 출력된 출력신호 또는 스위칭부(43)를 통해 공급된 드라이빙 신호를 반전시켜 출력하기 위하여 인버터(INV2)로 이루어진다. The output driver 45 includes an inverter INV2 to invert and output the output signal output from the sensing unit 44 or the driving signal supplied through the switching unit 43.

이하에서는 상기에서 설명한 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 센스 앰프의 동작특성을 설명하기로 한다. 여기서는, 설명의 편의를 위해 플래시 메모리 셀(FC1 내지 FC3)의 프로그램 및 소거, 그리고 트리밍(trimming) 동작을 위주로 설명하기로 한다. Hereinafter, the operating characteristics of the sense amplifier according to the preferred embodiment of the present invention described above will be described. For convenience of explanation, the program, erase, and trimming operations of the flash memory cells FC1 to FC3 will be described below.

먼저, 소거 검증모드시 소거 검증 센싱 마진을 확보하기 위한 플래시 메모리 셀(FC2)의 소거 동작에 대해 설명하기로 한다. 소거 인에이블 신호(EREN)가 하이레벨로 인에이블되면, 소거 스위칭부(411)는 인에이블되어 로우레벨의 제어신호(VSC1)를 출력하고, 하이레벨의 제어신호(VSC2)를 출력한다. 또한, 하이레벨의 벌크전압(VB)을 출력한다. 이때, 로우레벨의 제어신호(VSC1)는 접지전압(VSS)이고, 하이레벨의 제어신호(VSC2)는 내부전압(VDD)이고, 하이레벨의 벌크전압(VB)은 포지티브 고전압(VPPI)이다. 한편, 소거 인에이블 신호(EREN)에 의해 워드라인 스위칭부(412)는 인에이블되어 네가티브 고전압(VEEI)을 갖는 게이트 전압(VG)을 출력한다. 이에 따라, 플래시 메모리 셀(FC2)의 게이트에는 대략 -7.5V의 네가티브 고전압(VEEI)이 인가되고, 소오스는 NMOS 트랜지스터(N2) 및 PMOS 트랜지스터(P2)가 턴-오프되어 플로팅 상태가 되며, 벌크에는 대략 9V의 포지티브 고전압(VPPI)이 인가된다. 또한, 플래시 메모리 셀(FC2)의 드레인은 제2 비트라인 스위칭부(414)와 스위칭부(43)에 의해 플로팅 상태로 유지된다. 따라서, 플래시 메모리 셀(FC2)은 소거된다. First, an erase operation of the flash memory cell FC2 for securing an erase verify sensing margin in the erase verify mode will be described. When the erase enable signal EREN is enabled at the high level, the erase switching unit 411 is enabled to output the low level control signal VSC1 and to output the high level control signal VSC2. In addition, a high level bulk voltage VB is output. At this time, the low level control signal VSC1 is the ground voltage VSS, the high level control signal VSC2 is the internal voltage VDD, and the high level bulk voltage VB is the positive high voltage VPPI. Meanwhile, the word line switching unit 412 is enabled by the erase enable signal EREN to output a gate voltage VG having a negative high voltage VEEI. Accordingly, a negative high voltage VEEI of approximately -7.5 V is applied to the gate of the flash memory cell FC2, and the source is in a floating state by turning off the NMOS transistor N2 and the PMOS transistor P2, and in bulk. A positive high voltage (VPPI) of approximately 9V is applied. In addition, the drain of the flash memory cell FC2 is maintained in a floating state by the second bit line switching unit 414 and the switching unit 43. Thus, the flash memory cell FC2 is erased.

이와 같이 소거된 플래시 메모리 셀(FC2)에 대하여 제2 비트라인 스위칭부(414)를 이용하여 트리밍 동작을 수행한다. 우선, 트리밍 동작은 플래시 메모리 셀(FC2)을 소거시킨 후 센싱 마진이 가장 낮은 문턱전압을 갖도록 설정된 문턱전압이 될 때까지 소거 동작과 독출 동작을 반복적으로 수행하는 동작이다. 예컨대, 소거된 플래시 메모리 셀(FC2)의 전류를 독출하기 위하여 독출 인에이블 신호(CVTRDEN)가 하이레벨로 인에이블되면, 소거 스위칭부(411)는 하이레벨의 제어신호(VSC1)를 출력하고, 로우레벨의 제어신호(VSC2) 및 벌크전압(VB)을 출력한다. 이때, 하이레벨의 제어신호(VSC1)는 내부전압(VDD)이고, 로우레벨의 제어신호(VSC2) 및 벌크전압(VB)은 접지전압(VSS)이다. 한편, 독출 인에이블 신호(CVTRDEN)에 의해 인에이블된 워드라인 스위칭부(412)는 내부전압(VDD)을 플래시 메모리 셀(FC2)의 게이트로 출력한다. 이때, 내부전압(VDD)은 4V가 된다. 이런 상태에서, 제2 인에이블 신호(EN2)가 하이레벨로 인에이블되면, 제2 비트라인 스위칭부(414)가 인에이블되어 독출 전압(CVTRD)을 플래시 메모리 셀(FC2)의 드레인으로 공급한다. 이때, 독출 전압(CVTRD)은 대략 0.8V가 된다. 이에 따라, 플래시 메모리 셀(FC2)의 게이트에는 대략 4V의 내부전압(VDD)이 인가되고, 소오스에는 NMOS 트랜지스터(N2)가 턴-온되어 접지전압(VSS)이 인가되고, 벌크에는 접지전압(VSS)이 인가되며, 드레인에는 0.8V의 드레인 전압(VD2)가 인가된다. 따라서, 플래시 메모리 셀(FC2)에 대한 독출동작이 이루어진다. 이렇게 독출된 셀(FC2) 전류는 제2 비트라인 스위칭부(414)를 통해 출력된다. The trimming operation is performed on the erased flash memory cell FC2 by using the second bit line switching unit 414. First, the trimming operation is an operation of repeatedly erasing and reading the flash memory cell FC2 until the sensing margin reaches a threshold voltage set to have the lowest threshold voltage. For example, when the read enable signal CVTRDEN is enabled at a high level in order to read the current of the erased flash memory cell FC2, the erase switching unit 411 outputs a high level control signal VSC1. The low level control signal VSC2 and the bulk voltage VB are output. At this time, the high level control signal VSC1 is the internal voltage VDD, and the low level control signal VSC2 and the bulk voltage VB are the ground voltage VSS. Meanwhile, the word line switching unit 412 enabled by the read enable signal CVTRDEN outputs the internal voltage VDD to the gate of the flash memory cell FC2. At this time, the internal voltage VDD is 4V. In this state, when the second enable signal EN2 is enabled at the high level, the second bit line switching unit 414 is enabled to supply the read voltage CVTRD to the drain of the flash memory cell FC2. . At this time, the read voltage CVTRD is approximately 0.8V. Accordingly, the internal voltage VDD of approximately 4 V is applied to the gate of the flash memory cell FC2, the NMOS transistor N2 is turned on to apply the ground voltage VSS to the source, and the ground voltage V is applied to the bulk. VSS) is applied, and a drain voltage VD2 of 0.8V is applied to the drain. Thus, a read operation to the flash memory cell FC2 is performed. The cell FC2 current thus read is output through the second bit line switching unit 414.

이러한 플래시 메모리 셀(FC2)에 대한 트리밍 동작(즉, 소거 및 독출 동작)은 플래시 메모리 셀(FC2)의 문턱전압이 설정된 문턱전압과 동일할 때까지 반복적으로 실시한다. The trimming operation (ie, erase and read operation) for the flash memory cell FC2 is repeatedly performed until the threshold voltage of the flash memory cell FC2 is equal to the set threshold voltage.

한편, 독출 모드시 독출 센싱 마진을 확보하기 위한 플래시 메모리 셀(FC1)의 프로그램 동작에 대해 설명하기로 한다. 우선 독출 인에이블 신호(CVTRDEN)가 인에이블되면, 소거 스위칭부(411)는 하이레벨의 제어신호(VSC1)를 출력하고, 로우레벨의 제어신호(VSC2) 및 벌크전압(VB)을 출력한다. 한편, 프로그램 인에이블 신호(PGMEN)에 의해 워드라인 스위칭부(412)는 포지티브 고전압(VPPI)의 게이트 전압(VG)을 출력한다. 이런 상태에서, 제1 인에이블 신호(EN1)가 인에이블되면, 제1 비트라인 스위칭부(413)는 대략 5V을 갖는 드레인 전압(VD1)을 출력한다. 이때, 드레인 전압(VD1)은 독출 전압(CVTRD)으로부터 제공된다. 이에 따라, 플래시 메모리 셀(FC1)의 게이트에는 대략 9V의 포지티브 고전압(VPPI)이 인가되고, 소오스에는 NMOS 트랜지스터(N1)가 턴-온되어 접지전압(VSS)이 인가되고, 벌크에는 접지전압(VSS)이 인가되며, 드레인에는 5V의 드레인 전압(VD1)이 인가된다. 따라서, 플래시 메모리 셀(FC1)은 프로그램되어 소거 상태의 문턱전압보다 높게 문턱전압이 상승하게 된다.Meanwhile, a program operation of the flash memory cell FC1 for securing the read sensing margin in the read mode will be described. First, when the read enable signal CVTRDEN is enabled, the erase switching unit 411 outputs a high level control signal VSC1 and a low level control signal VSC2 and a bulk voltage VB. The word line switching unit 412 outputs the gate voltage VG of the positive high voltage VPPI by the program enable signal PGMEN. In this state, when the first enable signal EN1 is enabled, the first bit line switching unit 413 outputs a drain voltage VD1 having approximately 5V. At this time, the drain voltage VD1 is provided from the read voltage CVTRD. Accordingly, a positive high voltage VPPI of about 9 V is applied to the gate of the flash memory cell FC1, the NMOS transistor N1 is turned on to apply a ground voltage VSS to the source, and a ground voltage (VSS) to the bulk. VSS is applied, and a drain voltage VD1 of 5V is applied to the drain. Therefore, the flash memory cell FC1 is programmed to raise the threshold voltage higher than the threshold voltage of the erase state.

이와 같이 프로그램된 플래시 메모리 셀(FC1)에 대하여 제1 비트라인 스위칭부(413)를 이용하여 트리밍 동작을 수행한다. 우선, 트리밍 동작은 플래시 메모리 셀(FC1)을 프로그램한 후 설정된 문턱전압이 될 때까지 프로그램 동작과 독출 동작을 반복적으로 수행하는 동작이다. 예컨대, 프로그램된 플래시 메모리 셀(FC1)의 전류를 독출하기 위하여 독출 인에이블 신호(CVTRDEN)가 하이레벨로 인에이블되면, 소거 스위칭부(411)는 하이레벨의 제어신호(VSC1)를 출력하고, 로우레벨의 제어신호(VSC2) 및 벌크전압(VB)을 출력한다. 이때, 하이레벨의 제어신호(VSC1)는 내부전압(VDD)이고, 로우레벨의 제어신호(VSC2) 및 벌크전압(VB)은 접지전압(VSS)이다. 한편, 독출 인에이블 신호(CVTRDEN)에 의해 인에이블된 워드라인 스위칭부(412)는 내부전압(VDD)을 플래시 메모리 셀(FC1)의 게이트로 출력한다. 이때, 내부전압(VDD)은 4V가 된다. 이런 상태에서, 제1 인에이블 신호(EN1)가 하이레벨로 인에이블되면, 제1 비트라인 스위칭부(413)가 인에이블되어 독출 전압(CVTRD)을 플래시 메모리 셀(FC1)의 드레인으로 공급한다. 이때, 독출 전압(CVTRD)은 대략 0.8V가 된다. 이에 따라, 플래시 메모리 셀(FC1)의 게이트에는 대략 4V의 내부전압(VDD)이 인가되고, 소오스에는 NMOS 트랜지스터(N1)가 턴-온되어 접지전압(VSS)이 인가되고, 벌크에는 접지전압(VSS)이 인가되며, 드레인에는 0.8V의 드레인 전압(VD1)이 인가된다. 따라서, 플래시 메모리 셀(FC1)에 대한 독출동작이 이루어진다. 이렇게 독출된 셀(FC1) 전류는 제1 비트라인 스위칭부(413)를 통해 출력된다. The trimming operation is performed on the flash memory cell FC1 programmed as described above using the first bit line switching unit 413. First, the trimming operation is an operation of repeatedly performing a program operation and a read operation until the threshold voltage is set after programming the flash memory cell FC1. For example, when the read enable signal CVTRDEN is enabled at a high level in order to read the current of the programmed flash memory cell FC1, the erase switching unit 411 outputs a high level control signal VSC1. The low level control signal VSC2 and the bulk voltage VB are output. At this time, the high level control signal VSC1 is the internal voltage VDD, and the low level control signal VSC2 and the bulk voltage VB are the ground voltage VSS. Meanwhile, the word line switching unit 412 enabled by the read enable signal CVTRDEN outputs the internal voltage VDD to the gate of the flash memory cell FC1. At this time, the internal voltage VDD is 4V. In this state, when the first enable signal EN1 is enabled at a high level, the first bit line switching unit 413 is enabled to supply the read voltage CVTRD to the drain of the flash memory cell FC1. . At this time, the read voltage CVTRD is approximately 0.8V. Accordingly, the internal voltage VDD of approximately 4 V is applied to the gate of the flash memory cell FC1, the NMOS transistor N1 is turned on to apply the ground voltage VSS to the source, and the ground voltage V is applied to the bulk. VSS) is applied, and a drain voltage VD1 of 0.8V is applied to the drain. Thus, a read operation to the flash memory cell FC1 is performed. The cell FC1 current read in this way is output through the first bit line switching unit 413.

이러한 플래시 메모리 셀(FC1)에 대한 트리밍 동작(즉, 프로그램 및 독출 동작)은 플래시 메모리 셀(FC1)의 문턱전압이 설정된 문턱전압과 동일할 때까지 반복적으로 실시한다. The trimming operation (ie, program and read operation) for the flash memory cell FC1 is repeatedly performed until the threshold voltage of the flash memory cell FC1 is equal to the set threshold voltage.

마지막으로, 프로그램 검증 모드시 프로그램 검증 센싱 마진을 확보하기 위한 플래시 메모리 셀(FC3)의 프로그램 동작에 대해 설명하기로 한다. 플래시 메모리 셀(FC3)의 프로그램 동작은 전술한 플래시 메모리 셀(FC1)의 프로그램 동작과 동일한 방법으로 이루어진다. 단, 프로그램된 플래시 메모리 셀(FC3)의 문턱전압이 플래시 메모리 셀(FC1)의 문턱전압보다 높도록 프로그램하는데 그 차이가 있다. 이러한 문턱전압의 차이를 발생시키기 위해서는 드레인 전압(VD1, VD3)의 크기를 서로 다르게 설정하면 된다. 즉, 드레인 전압(VD3)을 드레인 전압(VD1)보다 높게 설정한다. 물론, 이러한 드레인 전압(VD3)은 외부에서 공급되는 독출 전압(CVTRD)에 의해 결정된다.Finally, a program operation of the flash memory cell FC3 for securing a program verification sensing margin in the program verify mode will be described. The program operation of the flash memory cell FC3 is performed in the same manner as the program operation of the flash memory cell FC1 described above. However, there is a difference in programming the threshold voltage of the programmed flash memory cell FC3 to be higher than the threshold voltage of the flash memory cell FC1. In order to generate such a difference in threshold voltage, the sizes of the drain voltages VD1 and VD3 may be set differently. That is, the drain voltage VD3 is set higher than the drain voltage VD1. Of course, the drain voltage VD3 is determined by the read voltage CVTRD supplied from the outside.

우선 독출 인에이블 신호(CVTRDEN)가 인에이블되면, 소거 스위칭부(411)는 하이레벨의 제어신호(VSC1)를 출력하고, 로우레벨의 제어신호(VSC2) 및 벌크전압(VB)을 출력한다. 한편, 프로그램 인에이블 신호(PGMEN)에 의해 워드라인 스위칭부(412)는 포지티브 고전압(VPPI)의 게이트 전압(VG)을 출력한다. 이런 상태에서, 제3 인에이블 신호(EN3)가 인에이블되면, 제3 비트라인 스위칭부(415)는 대략 6V 내지 7V를 갖는 드레인 전압(VD3)을 출력한다. 이때, 드레인 전압(VD3)은 독출 전압(CVTRD)으로부터 제공된다. 이에 따라, 플래시 메모리 셀(FC3)의 게이트에는 대략 9V의 포지티브 고전압(VPPI)이 인가되고, 소오스에는 NMOS 트랜지스터(N3)가 턴-온되어 접지전압(VSS)이 인가되고, 벌크에는 접지전압(VSS)이 인가되며, 드레인에는 6V 내지 7V의 드레인 전압(VD3)이 인가된다. 따라서, 플래시 메모리 셀(FC3)은 프로그램되어 소거 상태의 문턱전압보다 높게 문턱전압이 상승하게 된다. First, when the read enable signal CVTRDEN is enabled, the erase switching unit 411 outputs a high level control signal VSC1 and a low level control signal VSC2 and a bulk voltage VB. The word line switching unit 412 outputs the gate voltage VG of the positive high voltage VPPI by the program enable signal PGMEN. In this state, when the third enable signal EN3 is enabled, the third bit line switching unit 415 outputs the drain voltage VD3 having approximately 6V to 7V. At this time, the drain voltage VD3 is provided from the read voltage CVTRD. Accordingly, a positive high voltage VPPI of about 9 V is applied to the gate of the flash memory cell FC3, the NMOS transistor N3 is turned on to apply a ground voltage VSS to the source, and a ground voltage (VSS) to the bulk. VSS) is applied, and a drain voltage VD3 of 6V to 7V is applied to the drain. Therefore, the flash memory cell FC3 is programmed to raise the threshold voltage higher than the threshold voltage of the erase state.

이와 같이 프로그램된 플래시 메모리 셀(FC3)에 대하여 제3 비트라인 스위칭부(415)를 이용하여 트리밍 동작을 수행한다. 우선, 트리밍 동작은 플래시 메모리 셀(FC3)을 프로그램한 후 설정된 문턱전압이 될 때까지 프로그램 동작과 독출 동작을 반복적으로 수행하는 동작이다. 예컨대, 프로그램된 플래시 메모리 셀(FC3)의 전류를 독출하기 위하여 독출 인에이블 신호(CVTRDEN)가 하이레벨로 인에이블되면, 소거 스위칭부(411)는 하이레벨의 제어신호(VSC1)를 출력하고, 로우레벨의 제어신호(VSC2) 및 벌크전압(VB)을 출력한다. 이때, 하이레벨의 제어신호(VSC1)는 내부전압(VDD)이고, 로우레벨의 제어신호(VSC2) 및 벌크전압(VB)은 접지전압(VSS)이다. 한편, 독출 인에이블 신호(CVTRDEN)에 의해 인에이블된 워드라인 스위칭부(412)는 내부전압(VDD)을 플래시 메모리 셀(FC3)의 게이트로 출력한다. 이때, 내부전압(VDD)은 4V가 된다. 이런 상태에서, 제3 인에이블 신호(EN3)가 하이레벨로 인에이블되면, 제3 비트라인 스위칭부(415)가 인에이블되어 독출 전압(CVTRD)을 플래시 메모리 셀(FC3)의 드레인으로 공급한다. 이때, 독출 전압(CVTRD)은 대략 0.8V가 된다. 이에 따라, 플래시 메모리 셀(FC3)의 게이트에는 대략 4V의 내부전압(VDD)이 인가되고, 소오스에는 NMOS 트랜지스터(N3)가 턴-온되어 접지전압(VSS)이 인가되고, 벌크에는 접지전압(VSS)이 인가되며, 드레인에는 0.8V의 드레인 전압(VD1)이 인가된다. 따라서, 플래시 메모리 셀(FC3)에 대한 독출동작이 이루어진다. 이렇게 독출된 플래시 메모리 셀(FC3) 전류는 제3 비트라인 스위칭부(415)를 통해 출력된다. The trimming operation is performed on the flash memory cell FC3 programmed as described above using the third bit line switching unit 415. First, the trimming operation is an operation of repeatedly performing a program operation and a read operation until the threshold voltage is set after programming the flash memory cell FC3. For example, when the read enable signal CVTRDEN is enabled at a high level to read the programmed current of the flash memory cell FC3, the erase switching unit 411 outputs a high level control signal VSC1. The low level control signal VSC2 and the bulk voltage VB are output. At this time, the high level control signal VSC1 is the internal voltage VDD, and the low level control signal VSC2 and the bulk voltage VB are the ground voltage VSS. Meanwhile, the word line switching unit 412 enabled by the read enable signal CVTRDEN outputs the internal voltage VDD to the gate of the flash memory cell FC3. At this time, the internal voltage VDD is 4V. In this state, when the third enable signal EN3 is enabled at the high level, the third bit line switching unit 415 is enabled to supply the read voltage CVTRD to the drain of the flash memory cell FC3. . At this time, the read voltage CVTRD is approximately 0.8V. Accordingly, the internal voltage VDD of approximately 4V is applied to the gate of the flash memory cell FC3, the NMOS transistor N3 is turned on to apply the ground voltage VSS to the source, and the ground voltage V is applied to the bulk. VSS) is applied, and a drain voltage VD1 of 0.8V is applied to the drain. Therefore, a read operation to the flash memory cell FC3 is performed. The read flash memory cell FC3 current is output through the third bit line switching unit 415.

이러한 플래시 메모리 셀(FC3)에 대한 트리밍 동작(즉, 프로그램 및 독출 동작)은 플래시 메모리 셀(FC3)의 문턱전압이 설정된 문턱전압과 동일할 때까지 반복적으로 실시한다.The trimming operation (ie, program and read operation) for the flash memory cell FC3 is repeatedly performed until the threshold voltage of the flash memory cell FC3 is equal to the set threshold voltage.

이하, 상기에서 설명한 바와 같은 소거 및 프로그램 동작, 그리고 트리밍 동작을 통해 풀-업 드라이버(42)를 구성하는 플래시 메모리 셀(FC1 내지 FC3)의 문턱전압을 설정한다. 이렇게 설정된 풀-업 드라이버(42)를 이용하여 메모리 셀의 센싱동작을 설명하기로 한다. Hereinafter, the threshold voltages of the flash memory cells FC1 to FC3 constituting the pull-up driver 42 are set through the erase and program operations and the trimming operation as described above. The sensing operation of the memory cell using the pull-up driver 42 configured as described above will be described.

먼저, 플래시 메모리 셀(FC1 내지 FC3)이 문턱전압이 모두 설정되면, 플래시 메모리 셀 독출 인에이블 신호(CVTRDEN) 및 소거 인에이블 신호(EREN)는 로우레벨로 디스에이블(disable)되어 소거 스위칭부(411)는 로우레벨의 제어신호(VSC1, VSC2)와 벌크전압(VB)을 출력한다. 이에 따라, PMOS 트랜지스터(P1 내지 P3)는 모두 턴-온된다. 이때, 워드라인 스위칭부(412)는 내부전압(VDD)을 출력한다. 이런 상태에서 제1 및 제3 인에이블 신호(EN1 내지 EN3)가 모두 디스에이블되면, 제1 내지 제3 비트라인 스위칭부(413 내지 415)는 모두 플래시 메모리 셀(FC1 내지 FC3)의 드레인단과 접속이 차단된다. First, when all threshold voltages of the flash memory cells FC1 to FC3 are set, the flash memory cell read enable signal CVTRDEN and the erase enable signal EREN are disabled at a low level to erase the switching unit. 411 outputs low-level control signals VSC1 and VSC2 and bulk voltage VB. Accordingly, the PMOS transistors P1 to P3 are all turned on. In this case, the word line switching unit 412 outputs the internal voltage VDD. In this state, when both of the first and third enable signals EN1 to EN3 are disabled, the first to third bit line switching units 413 to 415 are all connected to the drain terminals of the flash memory cells FC1 to FC3. Is blocked.

이런 상태에서, 독출모드로 들어가면, 독출 인에이블 바신호(RDENB)가 로우레벨로 스위칭부(43)의 PMOS 트랜지스터(P4)의 게이트로 입력된다. 이에 따라, PMOS 트랜지스터(P4)가 턴-온되어 풀-업 드라이버(22)의 플래시 메모리 셀(FC1)의 전류는 PMOS 트랜지스터(P4)를 통해 센싱부(44)의 출력단으로 전송되어 출력단을 드라이빙한다. 이런 상태에서, 센스 앰프 인에이블 신호(SAEN)가 하이레벨로 인에이블되어 센싱부(44)의 NMOS 트랜지스터(N6)의 게이트로 입력되고, 센스 앰프 인에이블 바신호(SAENB)가 인버터(INV1)를 통해 반전되어 하이레벨로 PMOS 트랜지스터(P7) 및 NMOS 트랜지스터(N4)의 게이트로 각각 입력되면, NMOS 트랜지스터(N4, N6)는 턴-온되고, PMOS 트랜지스터(P7)는 턴-오프되어 비트라인(BL)과 센싱부(44)의 출력단 사이에는 전류 경로가 형성된다. 즉, 비트라인(BL)과 풀-업 플래시 메모리 셀(FC1) 간에는 전류 경로가 형성된다. In this state, when entering the read mode, the read enable bar signal RDENB is input to the gate of the PMOS transistor P4 of the switching section 43 at a low level. Accordingly, the PMOS transistor P4 is turned on so that the current of the flash memory cell FC1 of the pull-up driver 22 is transmitted to the output terminal of the sensing unit 44 through the PMOS transistor P4 to drive the output terminal. do. In this state, the sense amplifier enable signal SAEN is enabled at a high level to be input to the gate of the NMOS transistor N6 of the sensing unit 44, and the sense amplifier enable bar signal SAENB is input to the inverter INV1. When inverted through and input to the gates of the PMOS transistor P7 and the NMOS transistor N4 at a high level, respectively, the NMOS transistors N4 and N6 are turned on, and the PMOS transistor P7 is turned off to the bit line. A current path is formed between the BL and the output terminal of the sensing unit 44. That is, a current path is formed between the bit line BL and the pull-up flash memory cell FC1.

이런 상태에서, 메모리 셀(MC)이 프로그램 상태인 경우 풀-업 플래시 메모리 셀(FC1)을 통해 제공되는 전류는 메모리 셀(MC)을 통해 접지단으로 유입되지 않고, 센싱부(44)의 출력단을 하이레벨로 풀-업 드라이빙시킨다. 하이레벨로 풀-업 드라이빙된 전압은 출력 드라이버(45)의 인버터(INV2)를 통해 로우레벨로 반전되어 출력된다. 결국, 메모리 셀(MC)이 프로그램 셀인 경우 출력신호(SAOUT)는 로우레벨이 된다. 한편, 메모리 셀(MC)이 소거 상태인 경우 플래시 메모리 셀(FC1)을 통해 제공되는 전류는 PMOS 트랜지스터(P4), NMOS 트랜지스터(N4, N6) 및 메모리 셀(MC)을 경유하여 접지단으로 흐르게 된다. 이에 따라, 센싱부(44)의 출력단은 로우레벨로 유지된다. 로우레벨을 갖는 출력단의 전압은 인버터(INV2)를 통해 하이레벨로 반전되어 출력된다. 결국, 메모리 셀(MC)이 소거셀인 경우 출력신호(SAOUT)는 하이레벨로 출력된다. In this state, when the memory cell MC is in a program state, current provided through the pull-up flash memory cell FC1 is not introduced into the ground terminal through the memory cell MC, and the output terminal of the sensing unit 44 is not present. Drive to a high level. The voltage pulled up to the high level is inverted to the low level through the inverter INV2 of the output driver 45 and output. As a result, when the memory cell MC is a program cell, the output signal SAOUT becomes low. Meanwhile, when the memory cell MC is in an erased state, current provided through the flash memory cell FC1 flows to the ground terminal via the PMOS transistor P4, the NMOS transistors N4 and N6, and the memory cell MC. do. Accordingly, the output terminal of the sensing unit 44 is maintained at a low level. The voltage at the output terminal having the low level is output inverted to the high level through the inverter INV2. As a result, when the memory cell MC is an erase cell, the output signal SAOUT is output at a high level.

한편, 소거 검증모드시, 소거 검증 인에이블 바신호(EVENB)가 로우레벨로 스위칭부(43)의 PMOS 트랜지스터(P5)의 게이트로 입력된다. 이에 따라, PMOS 트랜지스터(P5)는 턴-온되어 풀-업 플래시 메모리 셀(FC2)를 통해 공급되는 전류는 센싱부(44)의 출력단으로 공급된다. 이런 상태에서 센스 앰프 인에이블 신호(SAEN)가 하이레벨로 NMOS 트랜지스터(N6)의 게이트로 입력되고, 센스 앰프 인에이블 바신호(SAENB)가 인버터(INV1)를 통해 반전되어 하이레벨로 PMOS 트랜지스터(P7) 및 NMOS 트랜지스터(N4)의 게이트로 각각 입력되면, NMOS 트랜지스터(N4, N6)는 턴-온되고, PMOS 트랜지스터(P7)는 턴-오프되어 비트라인(BL)과 풀-업 플래시 메모리 셀(FC2) 사이에는 전류 경로가 형성된다. In the erase verify mode, the erase verify enable bar signal EVENB is input to the gate of the PMOS transistor P5 of the switching unit 43 at a low level. Accordingly, the PMOS transistor P5 is turned on and the current supplied through the pull-up flash memory cell FC2 is supplied to the output terminal of the sensing unit 44. In this state, the sense amplifier enable signal SAEN is input to the gate of the NMOS transistor N6 at a high level, and the sense amplifier enable bar signal SAENB is inverted through the inverter INV1 and the PMOS transistor ( When input to the gates of P7 and NMOS transistor N4, respectively, the NMOS transistors N4 and N6 are turned on, and the PMOS transistor P7 is turned off to turn on the bit line BL and the pull-up flash memory cell. A current path is formed between FC2.

이런 상태에서, 메모리 셀(MC)이 프로그램 상태인 경우 풀-업 플래시 메모리 셀(FC2)를 통해 공급되는 전류는 메모리 셀(MC)을 통해 접지단으로 유입되지 않고, 센싱부(44)의 출력단을 하이레벨로 풀-업 드라이빙시킨다. 하이레벨로 풀-업 드라이빙된 전압은 출력 드라이버(45)의 인버터(INV2)를 통해 로우레벨로 반전되어 출력된다. 결국, 메모리 셀(MC)이 프로그램 셀인 경우 출력신호(SAOUT)는 로우레벨이 된다. 한편, 메모리 셀(MC)이 소거 상태인 경우 플래시 메모리 셀(FC2)를 통해 공급되는 전류는 PMOS 트랜지스터(P5), NMOS 트랜지스터(N4, N6) 및 메모리 셀(MC)을 경유하여 접지단으로 흐르게 된다. 이에 따라, 센싱부(44)의 출력단은 로우레벨로 유지된다. 로우레벨을 갖는 출력단의 전압은 인버터(INV2)를 통해 하이레벨로 반전되어 출력된다. 결국, 메모리 셀(MC)이 소거셀인 경우 출력신호(SAOUT)는 하이레벨로 출력된다. In this state, when the memory cell MC is in the program state, the current supplied through the pull-up flash memory cell FC2 does not flow into the ground terminal through the memory cell MC, but is output from the sensing unit 44. Drive to a high level. The voltage pulled up to the high level is inverted to the low level through the inverter INV2 of the output driver 45 and output. As a result, when the memory cell MC is a program cell, the output signal SAOUT becomes low. Meanwhile, when the memory cell MC is in an erased state, current supplied through the flash memory cell FC2 flows to the ground terminal via the PMOS transistor P5, the NMOS transistors N4 and N6, and the memory cell MC. do. Accordingly, the output terminal of the sensing unit 44 is maintained at a low level. The voltage at the output terminal having the low level is output inverted to the high level through the inverter INV2. As a result, when the memory cell MC is an erase cell, the output signal SAOUT is output at a high level.

마지막으로, 프로그램 검증모드시, 프로그램 검증인에이블 바신호(PVENB)가 로우레벨로 스위칭부(43)의 PMOS 트랜지스터(P6)의 게이트로 입력된다. 이에 따라, PMOS 트랜지스터(P6)는 턴-온되어 풀-업 플래시 메모리 셀(FC3)를 통해 공급되는 전류는 센싱부(44)의 출력단으로 공급된다. 이런 상태에서 센스 앰프 인에이블 신호(SAEN)가 하이레벨로 NMOS 트랜지스터(N6)의 게이트로 입력되고, 센스 앰프 인에이블 바신호(SAENB)가 인버터(INV1)를 통해 반전되어 하이레벨로 PMOS 트랜지스터(P7) 및 NMOS 트랜지스터(N4)의 게이트로 각각 입력되면, NMOS 트랜지스터(N4, N6)는 턴-온되고, PMOS 트랜지스터(P7)는 턴-오프되어 비트라인(BL)과 풀-업 플래시 메모리 셀(FC3) 사이에는 전류 경로가 형성된다. Finally, in the program verify mode, the program verify enable bar signal PVENB is input to the gate of the PMOS transistor P6 of the switching unit 43 at a low level. Accordingly, the PMOS transistor P6 is turned on and the current supplied through the pull-up flash memory cell FC3 is supplied to the output terminal of the sensing unit 44. In this state, the sense amplifier enable signal SAEN is input to the gate of the NMOS transistor N6 at a high level, and the sense amplifier enable bar signal SAENB is inverted through the inverter INV1 and the PMOS transistor ( When input to the gates of P7 and NMOS transistor N4, respectively, the NMOS transistors N4 and N6 are turned on, and the PMOS transistor P7 is turned off to turn on the bit line BL and the pull-up flash memory cell. A current path is formed between the FC3s.

이런 상태에서, 메모리 셀(MC)이 프로그램 상태인 경우 풀-업 플래시 메모리 셀(FC3)을 공급되는 전류는 메모리 셀(MC)을 통해 접지단으로 유입되지 않고, 센싱부(44)의 출력단을 하이레벨로 풀-업 드라이빙시킨다. 하이레벨로 풀-업 드라이빙된 전압은 출력 드라이버(45)의 인버터(INV2)를 통해 로우레벨로 반전되어 출력된다. 결국, 메모리 셀(MC)이 프로그램 셀인 경우 출력신호(SAOUT)는 로우레벨이 된다. 한편, 메모리 셀(MC)이 소거 상태인 경우 플래시 메모리 셀(FC3)을 통해 제공되는 전류는 PMOS 트랜지스터(P6), NMOS 트랜지스터(N4, N6) 및 메모리 셀(MC)을 경유하여 접지단으로 흐르게 된다. 이에 따라, 센싱부(44)의 출력단은 로우레벨로 유지된다. 로우레벨을 갖는 출력단의 전압은 인버터(INV2)를 통해 하이레벨로 반전되어 출력된다. 결국, 메모리 셀(MC)이 소거셀인 경우 출력신호(SAOUT)는 하이레벨로 출력된다. In this state, when the memory cell MC is in the program state, the current supplied to the pull-up flash memory cell FC3 does not flow into the ground terminal through the memory cell MC, and the output terminal of the sensing unit 44 is closed. Pull-up driving to a high level. The voltage pulled up to the high level is inverted to the low level through the inverter INV2 of the output driver 45 and output. As a result, when the memory cell MC is a program cell, the output signal SAOUT becomes low. Meanwhile, when the memory cell MC is in an erased state, current provided through the flash memory cell FC3 flows to the ground terminal via the PMOS transistor P6, the NMOS transistors N4 and N6, and the memory cell MC. do. Accordingly, the output terminal of the sensing unit 44 is maintained at a low level. The voltage at the output terminal having the low level is output inverted to the high level through the inverter INV2. As a result, when the memory cell MC is an erase cell, the output signal SAOUT is output at a high level.

한편, 상기에서 풀-업 드라이버(42)는 플래시 메모리 셀로 구성하는 실시예에 대해서만 설명되어 있으나, 이는 일례로서 프로그램 및 소거 동작이 가능한 비휘발성 메모리 셀은 모두 적용 가능하다. On the other hand, the above-described pull-up driver 42 is described only for the embodiment of the configuration of the flash memory cell, this is an example, all non-volatile memory cells capable of program and erase operation is applicable.

본 발명의 기술 사상은 바람직한 실시예에서 구체적으로 기술되었으나, 상기한 실시예는 그 설명을 위한 것이며, 그 제한을 위한 것이 아님을 주의하여야 한다. 또한, 본 발명은 이 기술 분야의 통상의 전문가라면 본 발명의 기술 사상의 범위 내에서 다양한 실시예들이 가능함을 이해할 수 있을 것이다.Although the technical spirit of the present invention has been described in detail in the preferred embodiments, it should be noted that the above-described embodiments are for the purpose of description and not of limitation. In addition, it will be understood by those skilled in the art that various embodiments are possible within the scope of the technical idea of the present invention.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 의하면, 풀-업 드라이버를 프로그램 및 소거 동작을 통해 문턱전압 조정이 가능한 플래시 메모리 셀을 이용하여 구현함으로써 공정(예컨대, 제조공정)의 변화에도 무관하게 모든 칩에 동일한 센싱 마진을 확보할 수 있다. 이를 통해, 공정의 영향을 받지 않는 일관된 동작특성을 갖는 센스 앰프를 구현할 수 있다. As described above, according to the present invention, a pull-up driver may be implemented using a flash memory cell capable of adjusting a threshold voltage through a program and erase operation, and thus, the chip may be applied to all chips regardless of process (eg, manufacturing) changes. The same sensing margin can be secured. This allows a sense amplifier to have a consistent operating characteristic that is not affected by the process.

Claims (27)

독출, 프로그램 검증 및 소거 검증시 메인 메모리 셀로부터 데이터를 센싱하는 센싱부;A sensing unit configured to sense data from the main memory cell during read, program verify, and erase verify; 상기 독출, 상기 프로그램 검증 및 상기 소거 검증시 서로 다른 센싱 마진을 확보하기 위하여 프로그램 동작과 소거 동작을 통해 서로 다른 문턱전압을 갖는 복수의 풀-업 메모리 셀로 이루어지며, 상기 센싱부의 출력단을 풀-업 드라이빙하는 풀-업 드라이버;Comprising a plurality of pull-up memory cells having different threshold voltages through a program operation and an erase operation to ensure different sensing margins in the read, the program verification and the erase verification, pull-up the output terminal of the sensing unit A pull-up driver for driving; 상기 풀-업 메모리 셀에 대해 프로그램 및 소거 동작을 수행하는 프로그램 및 소거 동작 제어부;A program and erase operation controller configured to perform program and erase operations on the pull-up memory cells; 상기 독출, 상기 프로그램 검증 및 상기 소거 검증시 상기 풀-업 메모리 셀 전류를 상기 센싱부의 출력단으로 제공하여 상기 센싱부의 출력단을 풀-업 드라이빙하는 스위칭부; 및A switching unit configured to provide the pull-up memory cell current to the output terminal of the sensing unit during pull-up driving of the output unit of the sensing unit during the read, the program verify, and the erase verify; And 상기 풀-업 드라이빙된 상기 센싱부의 출력신호를 출력하는 출력 드라이버;An output driver configured to output an output signal of the sensing unit of the pull-up driver; 를 포함하는 센스 앰프.Sense amplifier comprising a. 제 1 항에 있어서, 상기 프로그램 및 소거 동작 제어부는, The method of claim 1, wherein the program and erase operation control unit, 상기 풀-업 메모리 셀의 제1 독출 인에이블 신호와 소거 인에이블 신호에 따라 상기 풀-업 메모리 셀의 소오스로 공급되는 소오스 전압의 공급을 제어하기 위 한 제1 및 제2 소오스 제어신호를 출력하고, 상기 풀-업 메모리 셀의 벌크에 벌크전압을 공급하는 소거 스위칭부;Outputting first and second source control signals for controlling supply of a source voltage supplied to a source of the pull-up memory cell according to a first read enable signal and an erase enable signal of the pull-up memory cell; An erase switching unit supplying a bulk voltage to the bulk of the pull-up memory cell; 제1 및 제2 소오스 제어신호에 따라 동작하여 상기 소오스 전압을 상기 풀-업 메모리 셀의 소오스로 공급하는 소오스 전압 스위칭부;A source voltage switching unit configured to supply the source voltage to a source of the pull-up memory cell by operating according to first and second source control signals; 상기 제1 독출 인에이블 신호와 상기 소거 인에이블 신호에 따라 상기 풀-업 메모리 셀의 게이트에 게이트 전압을 공급하기 위한 워드라인 스위칭부; 및A word line switching unit configured to supply a gate voltage to a gate of the pull-up memory cell according to the first read enable signal and the erase enable signal; And 상기 소거 인에이블 신호에 따라 풀-업 메모리 셀의 드레인으로 드레인 전압을 공급하기 위한 비트라인 스위칭부;A bit line switching unit configured to supply a drain voltage to a drain of a pull-up memory cell according to the erase enable signal; 를 포함하는 센스 앰프.Sense amplifier comprising a. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 풀-업 메모리 셀은 비휘발성 메모리 셀로 이루어진 센스 앰프.The pull-up memory cell is a sense amplifier consisting of a nonvolatile memory cell. 제 3 항에 있어서, The method of claim 3, wherein 상기 비휘발성 메모리 셀은 채널 열전자 주입방식으로 프로그램되고, F-N 터널링 방식으로 소거되는 센스 앰프.And the nonvolatile memory cell is programmed by channel hot electron injection and erased by F-N tunneling. 제 4 항에 있어서, The method of claim 4, wherein 상기 비휘발성 메모리 셀은 플래시 메모리 셀로 이루어진 센스 앰프.And the nonvolatile memory cell is a flash memory cell. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 풀-업 메모리 셀은 세개로 이루어지고, 세개 중 하나는 소거셀이고, 다른 하나는 상기 소거셀보다 높은 문턱전압을 갖도록 프로그램된 제1 프로그램 셀이며, 나머지 하나는 상기 제1 프로그램 셀보다 높은 문턱전압을 갖도록 프로그램된 제2 프로그램 셀인 센스 앰프.The pull-up memory cell includes three, one of three is an erase cell, the other is a first program cell programmed to have a higher threshold voltage than the erase cell, and the other is higher than the first program cell. A sense amplifier, which is a second program cell programmed to have a threshold voltage. 제 2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 풀-업 메모리 셀 소거시, 상기 소거 스위칭부는 상기 소거 인에이블 신호에 의해 인에이블되어 상기 제1 소오스 제어신호를 로우레벨로 출력하고, 상기 제2 소오스 제어신호를 하이레벨로 출력하며, 상기 벌크전압을 포지티브 고전압으로 출력하는 센스 앰프.When the pull-up memory cell is erased, the erase switching unit is enabled by the erase enable signal to output the first source control signal at a low level, and output the second source control signal at a high level. A sense amplifier that outputs a bulk voltage at a positive high voltage. 제 7 항에 있어서, The method of claim 7, wherein 상기 풀-업 메모리 셀 소거 트리밍시, 상기 소거 스위칭부는 상기 제1 독출 인에이블 신호에 의해 인에이블되어 상기 제1 및 제2 소오스 제어신호를 하이레벨로 출력하고, 상기 벌크 전압을 로우레벨로 출력하는 센스 앰프.During the pull-up memory cell erase trimming, the erase switch is enabled by the first read enable signal to output the first and second source control signals to a high level, and to output the bulk voltage to a low level. Sense amplifier. 제 8 항에 있어서, The method of claim 8, 상기 풀-업 메모리 셀 소거시, 상기 워드라인 스위칭부는 상기 소오스 인에이블 신호에 의해 인에이블되어 상기 풀-업 메모리 셀의 게이트로 네가티브 고전압을 출력하는 센스 앰프.And the word line switching unit is enabled by the source enable signal to output a negative high voltage to the gate of the pull-up memory cell when the pull-up memory cell is erased. 제 9 항에 있어서, The method of claim 9, 상기 풀-업 메모리 셀 소거 트리밍시, 상기 워드라인 스위칭부는 상기 제1 독출 인에이블 신호에 의해 인에이블되어 상기 풀-업 메모리 셀의 게이트로 내부전압을 공급하는 센스 앰프.And the word line switching unit is enabled by the first read enable signal and supplies an internal voltage to a gate of the pull-up memory cell during trimming of the pull-up memory cell. 제 8 항에 있어서, The method of claim 8, 상기 풀-업 메모리 셀 소거시, 상기 비트라인 스위칭부는 디스인에이블되어 상기 풀-업 메모리 셀의 드레인을 플로팅시키는 센스 앰프.And the bit line switching unit is disabled to float the drain of the pull-up memory cell when the pull-up memory cell is erased. 제 11 항에 있어서, The method of claim 11, 상기 풀-업 메모리 셀 소거 트리밍시, 상기 비트라인 스위칭부는 상기 풀-업 메모리 셀의 드레인으로 독출전압을 공급하는 센스 앰프.And the bit line switching unit supplies a read voltage to the drain of the pull-up memory cell during trimming of the pull-up memory cell. 제 8 항에 있어서, The method of claim 8, 상기 풀-업 메모리 셀 소거시, 상기 소오스 전압 스위칭부는 상기 제1 및 제2 소오스 제어신호에 따라 상기 풀-업 메모리 셀의 소오스를 플로팅시키는 센스 앰프.And the source voltage switching unit plots a source of the pull-up memory cell according to the first and second source control signals when the pull-up memory cell is erased. 제 13 항에 있어서,The method of claim 13, 상기 풀-업 메모리 셀 소거 트리밍시, 상기 소오스 전압 스위칭부는 상기 제1 및 제2 제어신호에 따라 상기 풀-업 메모리 셀의 소오스로 로우레벨의 소오스 전압을 공급하는 센스 앰프.And a source voltage switching unit to supply a low level source voltage to a source of the pull-up memory cell according to the first and second control signals when trimming the pull-up memory cell. 제 2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 풀-업 메모리 셀 프로그램시, 상기 소거 스위칭부는 상기 제1 독출 인 에이블 신호에 의해 인에이블되어 상기 제1 소오스 제어신호를 하이레벨로 출력하고, 상기 제2 소오스 제어신호를 로우레벨로 출력하며, 상기 벌크전압을 로우레벨로 출력하는 센스 앰프.When the pull-up memory cell is programmed, the erase switching unit is enabled by the first read enable signal to output the first source control signal to a high level, and to output the second source control signal to a low level. And a sense amplifier for outputting the bulk voltage at a low level. 제 15 항에 있어서, The method of claim 15, 상기 풀-업 메모리 셀 프로그램 트리밍시, 상기 소거 스위칭부는 상기 제1 독출 인에이블 신호에 의해 인에이블되어 상기 제1 및 제2 소오스 제어신호를 하이레벨로 출력하고, 상기 벌크 전압을 로우레벨로 출력하는 센스 앰프.When trimming the pull-up memory cell program, the erase switching unit is enabled by the first read enable signal to output the first and second source control signals to a high level and to output the bulk voltage to a low level. Sense amplifier. 제 8 항에 있어서, The method of claim 8, 상기 풀-업 메모리 셀 프로그램시, 상기 워드라인 스위칭부는 프로그램 인에이블 신호에 의해 인에이블되어 상기 풀-업 메모리 셀의 게이트로 포지티브 고전압을 출력하는 센스 앰프.And the word line switching unit is enabled by a program enable signal to output a positive high voltage to a gate of the pull-up memory cell when the pull-up memory cell is programmed. 제 17 항에 있어서, The method of claim 17, 상기 풀-업 메모리 셀 프로그램 트리밍시, 상기 워드라인 스위칭부는 상기 제1 독출 인에이블 신호에 의해 인에이블되어 상기 풀-업 메모리 셀의 게이트로 내 부전압을 공급하는 센스 앰프.And the word line switching unit is enabled by the first read enable signal to supply an internal voltage to a gate of the pull-up memory cell when the pull-up memory cell program is trimmed. 제 8 항에 있어서, The method of claim 8, 상기 풀-업 메모리 셀 프로그램시, 상기 비트라인 스위칭부는 인에이블 신호에 의해 인에이블되어 상기 풀-업 메모리 셀의 드레인으로 내부전압을 공급하는 센스 앰프.And the bit line switching unit is enabled by an enable signal to supply an internal voltage to the drain of the pull-up memory cell when the pull-up memory cell is programmed. 제 19 항에 있어서, The method of claim 19, 상기 풀-업 메모리 셀 프로그램 트리밍시, 상기 비트라인 스위칭부는 상기 풀-업 메모리 셀의 드레인으로 독출전압을 공급하는 센스 앰프. And the bit line switching unit supplies a read voltage to the drain of the pull-up memory cell when trimming the pull-up memory cell program. 제 8 항에 있어서, The method of claim 8, 상기 풀-업 메모리 셀 프로그램시, 상기 소오스 전압 스위칭부는 상기 제1 및 제2 소오스 제어신호에 따라 상기 풀-업 메모리 셀의 소오스로 로우레벨을 공급하는 센스 앰프.And a source voltage switching unit to supply a low level to a source of the pull-up memory cell according to the first and second source control signals when the pull-up memory cell is programmed. 제 21 항에 있어서,The method of claim 21, 상기 풀-업 메모리 셀 프로그램 트리밍시, 상기 소오스 전압 스위칭부는 상기 제1 및 제2 제어신호에 따라 상기 풀-업 메모리 셀의 소오스로 로우레벨의 소오스 전압을 공급하는 센스 앰프.And a source voltage switching unit to supply a low level source voltage to a source of the pull-up memory cell according to the first and second control signals when trimming the pull-up memory cell program. 제 2 항에 있어서, The method of claim 2, 상기 비트라인 스위칭부는 상기 풀-업 메모리 셀의 수만큼 구성되어 상기 풀-업 메모리 셀의 드레인과 일대일 접속되고, 인에이블 신호에 따라 각각 상기 풀-업 메모리 셀의 각 드레인으로 드레인 전압을 공급하거나, 상기 드레인으로부터 전류를 독출하는 센스 앰프. The bit line switching unit is configured as many as the number of the pull-up memory cells and is connected one-to-one with the drain of the pull-up memory cell, and supplies drain voltage to each drain of the pull-up memory cell according to an enable signal. And a sense amplifier for reading a current from the drain. 제 23 항에 있어서, The method of claim 23, 상기 풀-옵 메모리 셀은 프로그램 동작시 상기 비트라인 스위칭부로부터 공급되는 상기 드레인 전압에 의해 문턱전압이 결정되는 센스 앰프. And a threshold voltage of the full-op memory cell determined by the drain voltage supplied from the bit line switching unit during a program operation. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 센싱부는 상기 메인 메모리 셀이 프로그램 상태인 경우 하이레벨의 출 력신호를 출력하고, 상기 메모리 메모리 셀이 소거 상태인 경우 로우레벨의 출력신호를 출력하는 센스 앰프. The sensing unit outputs a high level output signal when the main memory cell is in a program state, and outputs a low level output signal when the memory memory cell is in an erased state. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 스위칭부는 상기 독출, 상기 프로그램 검증 및 상기 소거 검증시 각각 메인 메모리 셀의 제2 독출 인에이블 신호의 바신호, 소거 검증 인에이블 신호의 바신호 및 프로그램 인에이블 신호의 바신호에 의해 인에이블되어 상기 센싱부의 출력단을 풀-업 드라이빙하는 센스 앰프.The switching unit is enabled by the bar signal of the second read enable signal of the main memory cell, the bar signal of the erase verify enable signal, and the bar signal of the program enable signal during the read, the program verify, and the erase verify, respectively. And a sense amplifier for pull-up driving the output terminal of the sensing unit. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, The method according to claim 1 or 2, 상기 출력 드라이버는 상기 센싱부의 출력신호를 반전시켜 출력하는 센스 앰프.The output driver is a sense amplifier for outputting by inverting the output signal of the sensing unit.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR970060238A (en) * 1996-01-26 1997-08-12 김주용 Flash memory device
JP2000268593A (en) 1999-03-18 2000-09-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Non-volatile semiconductor memory
JP2003178592A (en) 1994-06-28 2003-06-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor device
KR20050101834A (en) * 2004-04-20 2005-10-25 매그나칩 반도체 유한회사 Flash memory device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003178592A (en) 1994-06-28 2003-06-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor device
KR970060238A (en) * 1996-01-26 1997-08-12 김주용 Flash memory device
JP2000268593A (en) 1999-03-18 2000-09-29 Matsushita Electric Ind Co Ltd Non-volatile semiconductor memory
KR20050101834A (en) * 2004-04-20 2005-10-25 매그나칩 반도체 유한회사 Flash memory device

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