KR100562349B1 - Semiconductor device - Google Patents

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하세에이치
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가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼
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Abstract

반도체장치(고주파 전력증폭 모듈)의 소형화를 꾀하기 위해, 복수의 증폭수단이 형성된 반도체 칩(5)을 배선기판(1)의 일주면측에 탑재하고, 반도체 칩의 전극과 배선기판의 전극을 와이어로 전기적으로 접속하는 반도체장치로서, 기준전위에 전위고정 되는 와이어(7C)가 접속된 기판측 본딩용 전극(2C)은 출력용 와이어(7B)가 접속된 기판측 출력용 전극(2B)보다도 상기 반도체 칩(5)의 한변(5X)에서 멀리 떨어진 위치에 배치되어 있다. 입력용 와이어(7A)가 접속된 기판측 입력용 전극(2A)은 상기 반도체 칩(5)의 한변(5X)에서의 거리가 상기 기판측 출력용 전극(2B)과 거의 동일하게 되는 위치, 또는 상기 기판측 본딩용 전극(2C)보다도 상기 반도체 칩(5)의 한변(5X)에서 멀리 떨어진 위치에 배치한다.In order to reduce the size of the semiconductor device (high frequency power amplification module), a semiconductor chip 5 having a plurality of amplification means is mounted on one peripheral surface side of the wiring board 1, and the electrode of the semiconductor chip and the electrode of the wiring board are wired. A semiconductor device electrically connected to each other, wherein the substrate-side bonding electrode 2C to which the wire 7C that is potential-fixed at the reference potential is connected is more than the substrate-side output electrode 2B to which the output wire 7B is connected. It is arrange | positioned at the position far from one side 5X of (5). The substrate side input electrode 2A to which the input wire 7A is connected has a position where the distance from one side 5X of the semiconductor chip 5 is substantially the same as the substrate side output electrode 2B, or the It arrange | positions farther from the one side 5X of the said semiconductor chip 5 than the board | substrate side bonding electrode 2C.

또한 배선기판상에 다단의 증폭단 트랜지스터를 가지는 반도체 칩이 설치된 고주파 전력증폭기 모듈에서 어떤 하나의 증폭단 트랜지스터(102)에 대응하는 본딩용 입력전극(102a)과 배선기판(121)을 접속하는 입력 본딩와이어(105)의 양단의 본딩부 끼리를 연결하는 제 1의 보조선과, 이 하나의 증폭단 트랜지스터의 다음단에 위치하는 증폭단 트랜지스터(103)에 대응하는 본딩용 출력전극(103b)과 배선기판(124)을 접속하는 출력 본딩와이어(108)의 양단의 본딩부 끼리를 연결하는 제 2의 보조선이 이루는 각도를 72 ~ 180°, 본딩용 입력전극(102a)과 본딩용 출력전극(103b)의 본딩부의 간력을 0.3mm이상 0.8mm미만으로 하는 것에 의해 전력증폭기 모듈의 고주파특성의 향상, 소형화를 꾀한다.In addition, in a high frequency power amplifier module in which a semiconductor chip having multiple stages of amplification stage transistors is installed on a wiring board, an input bonding wire for connecting the bonding input electrode 102a corresponding to any one amplification stage transistor 102 and the wiring board 121 ( A first auxiliary line connecting the bonding portions of both ends of the 105, a bonding output electrode 103b and a wiring board 124 corresponding to the amplifying transistor 103 positioned next to this one amplifying transistor; The angle formed by the second auxiliary line connecting the bonding portions at both ends of the output bonding wires 108 to be connected is 72 to 180 degrees, and the gap between the bonding portions of the bonding input electrode 102a and the bonding output electrode 103b is used. By setting it to 0.3mm or more and less than 0.8mm, the high frequency characteristics of the power amplifier module can be improved and miniaturized.

Description

반도체장치{SEMICONDUCTOR DEVICE}Semiconductor device {SEMICONDUCTOR DEVICE}

도 1은 본 발명의 실시형태(1)인 고주파 전력증폭기의 외관구성을 나타내는 사시도,1 is a perspective view showing an appearance configuration of a high frequency power amplifier according to an embodiment (1) of the present invention;

도 2는 상기 고주파 전력증폭기의 등가회로도,2 is an equivalent circuit diagram of the high frequency power amplifier;

도 3은 제 2도에 나타내는 일점쇄선으로 둘러 쌓인 부분과 대응하는 배선기판의 요부평면도,3 is a plan view of essential parts of a wiring board corresponding to a portion enclosed by a dashed line shown in FIG. 2;

도 4는 제 3도의 요부사시도,4 is a yabusa perspective view of FIG.

도 5는 제 3도의 요부확대평면도,5 is an enlarged plan view of the main part of FIG. 3;

도 6은 상기 고주파 전력증폭기에 편입된 반도체 칩의 트랜지스터 형성영역에서의 요부단면도,6 is a sectional view showing the principal parts of a transistor formation region of a semiconductor chip incorporated in the high frequency power amplifier;

도 7은 상기 반도체 칩의 아솔레이션(isolation) 영역에서의 요부단면도,7 is a cross-sectional view of principal parts in an isolation region of the semiconductor chip;

도 8은 본 발명의 실시형태(2)인 고주파 전력증폭기의 배선기판의 요부평면도,8 is a plan view of principal parts of a wiring board of a high frequency power amplifier according to an embodiment (2) of the present invention;

도 9는 본 발명의 실시형태(3)인 고주파 전력증폭기의 배선기판의 요부평면도,9 is a plan view of essential parts of a wiring board of the high frequency power amplifier according to the embodiment (3) of the present invention;

도 10은 본 발명의 실시형태(4)인 고주파 전력증폭기의 배선기판의 요부평면도Fig. 10 is a plan view of essential parts of a wiring board of a high frequency power amplifier according to embodiment (4) of the present invention.

도 11은 본 발명의 실시형태(5)의 2단 전력증폭기 모듈의 요부평면도,11 is a plan view of principal parts of the two-stage power amplifier module of the embodiment (5) of the present invention;

도 12는 본 발명의 실시형태(5)의 2단 전력증폭기 모듈의 등가회로도,Fig. 12 is an equivalent circuit diagram of a two stage power amplifier module of embodiment (5) of the present invention;

도 13은 본 발명의 실시형태(5)의 2단 전력증폭기 모듈의 외관구성을 나타내는 평면도,Fig. 13 is a plan view showing the external configuration of a two stage power amplifier module according to the embodiment (5) of the present invention;

도 14는 본 발명의 실시형태(5)의 2단 전력증폭기 모듈의 요부사시도,14 is a perspective view of a main part of the two-stage power amplifier module of the embodiment (5) of the present invention;

도 15는 본 발명 및 종래기술의 입출력 본딩와이어 간의 결합계수와 본딩부 간격의 관계를 나타내는 도,15 is a view showing a relationship between the coupling coefficient and the bonding portion spacing between the input and output bonding wires of the present invention and the prior art;

도 16은 본 발명자가 검토한 입출력 본딩와이어 간의 결합계수와 증폭기의 안정계수의 관계를 나타내는 도,FIG. 16 is a diagram showing the relationship between the coupling coefficient between the input and output bonding wires and the stability coefficient of the amplifier.

도 17은 본 발명자가 검토한 입출력 본딩와이어 간의 결합계수와 각도의 관계를 나타내는 도,17 is a view showing a relationship between a coupling coefficient and an angle between input and output bonding wires examined by the present inventors;

도 18은 본 발명의 실시형태(6)의 3단 전력증폭기 모듈의 요부평면도,18 is a plan view of principal parts of a three-stage power amplifier module according to the embodiment (6) of the present invention;

도 19는 본 발명의 실시형태(7)의 3단 전력증폭기 모듈의 요부평면도,19 is a plan view of main parts of the three-stage power amplifier module of the embodiment (7) of the present invention;

도 20은 본 발명의 실시형태(8)의 2단 전력증폭기 모듈의 요부평면도,20 is a plan view of principal parts of the two-stage power amplifier module of the embodiment (8) of the present invention;

도 21은 종래기술의 2단 전력증폭기 모듈의 평면도,21 is a plan view of a two stage power amplifier module of the prior art;

도 22는 종래기술의 2단 전력증폭기 모듈의 사시도 이다.22 is a perspective view of a two stage power amplifier module of the prior art.

본 발명은 반도체장치에 관한 것으로, 특히 다단식 증폭회로 구성의 반도체 장치에 적용한 유용한 기술에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to semiconductor devices, and in particular to useful techniques applied to semiconductor devices in multistage amplifier circuit configurations.

반도체장치로서, PDC(Personal Digital Cellular)방식의 자동차전화 및 휴대전화 혹은 PHS(Personal Handyphon System)방식의 휴대전화등의 휴대통신기기에 편입되는 고주파 전력증폭기(고주파 파워모듈)가 있다. 이 고주파 전력증폭기는 복수의 증폭수단을 다단으로 접속한 다단식 증폭회로 구성으로 되어있다.As a semiconductor device, there is a high frequency power amplifier (high frequency power module) incorporated in a portable communication device such as a PDC (Personal Digital Cellular) type mobile phone and a cellular phone or a PHS (Personal Handyphon System) type mobile phone. This high frequency power amplifier has a multistage amplifier circuit structure in which a plurality of amplifiers are connected in multiple stages.

상기 고주파 전력증폭기는 일주면에 증폭수단이 형성된 반도체 칩을 배선기판의 일주면측에 탑재하고, 반도체 칩의 일주면에 형성된 전극과 배선기판의 일주면에 형성된 전극을 도전성의 와이어로 전기적으로 접속하고 있다. 증폭수단은 예를 들어 복수의 전계효과 트랜지스터의 각각을 전기적으로 병렬로 접속한 구성으로 되어 있고, 증폭수단의 게이트단자(입력부)는 반도체 칩의 일주면에 형성된 칩측 입력용 전극과 전기적으로 접속되고, 증폭수단의 드레인단자(출력부)는 반도체 칩의 일주면에 형성된 칩측 출력용 전극과 전기적으로 접속되어 있다. 칩측 입력용 전극은 반도체 칩의 한변측에 배치되고, 칩측 출력용 전극은 반도체 칩의 한변과 대향하는 다른 변측에 배치되어 있다. 증폭수단의 소스단자는 반도체 칩의 일주면과 대향하는 다른 면(이면)에 형성된 이면전극과 전기적으로 접속되고, 이 이면전극은 기준전위에 전위고정 된다. 칩측 입력용 전극은 반도체 칩의 한변과 서로 마주보도록 해서 배선기판의 일주면에 형성된 기판측 입력용 전극과 입력용 와이어를 통해서 전기적으로 접속되고, 칩측 출력용 전극은 반도체 칩의 다른 변과 서로 마주보도록 해서 배선기판의 일주면에 형성된 기판측 출력용 전극과 출력용 와이어를 통해서 전기적으로 접속되어 있다.The high frequency power amplifier mounts a semiconductor chip having an amplification means on one peripheral surface on one peripheral surface side of a wiring board, and electrically connects an electrode formed on one peripheral surface of the semiconductor chip with an electrode formed on one peripheral surface of the wiring board with conductive wires. Doing. The amplifying means has, for example, a configuration in which each of the plurality of field effect transistors is electrically connected in parallel, and the gate terminal (input portion) of the amplifying means is electrically connected to a chip side input electrode formed on one surface of the semiconductor chip. The drain terminal (output section) of the amplifying means is electrically connected to the chip side output electrode formed on one circumferential surface of the semiconductor chip. The chip side input electrode is disposed on one side of the semiconductor chip, and the chip side output electrode is disposed on the other side opposite to the one side of the semiconductor chip. The source terminal of the amplifying means is electrically connected to the back electrode formed on the other surface (rear surface) facing the one peripheral surface of the semiconductor chip, and this back electrode is potential fixed at the reference potential. The chip-side input electrodes face each other with one side of the semiconductor chip, and are electrically connected to each other via a wire for input and a substrate-side input electrode formed on one surface of the wiring board, and the chip-side output electrodes face each other with the other side of the semiconductor chip. Thus, the substrate-side output electrode and the output wire formed on one peripheral surface of the wiring board are electrically connected.

그런데, 상기 고주파 전력증폭기에 있어서는 소형화 및 저가격화를 꾀하기 위해, 하나의 반도체 칩에 복수의 증폭수단을 형성하는 시도가 행하여지고 있지만, 예를 들어 하나의 반도체 칩에 두개의 증폭수단을 형성하는 경우, 전단의 증폭수단과 후단의 증폭수단과의 입출력이 반대로 되기 때문에, 입력용 와이어와 출력용 와이어가 근접할 때, 이 와이어 사이에서의 상호 유도작용에 의해 고주파 특성이 열화하는 문제가 있었다. 이 문제는 특히 흐르는 전력차(差)가 큰 전단의 입력용 와이어와 후단의 출력용 와이어와의 사이에서 현저하게 된다.In the high frequency power amplifier, attempts have been made to form a plurality of amplifying means in one semiconductor chip in order to reduce the size and cost. For example, in the case of forming two amplifying means in one semiconductor chip. Since the input and output of the amplifying means in the front stage and the amplifying means in the rear stage are reversed, when the input wire and the output wire are close to each other, there is a problem that the high frequency characteristics deteriorate due to mutual induction between the wires. This problem is particularly noticeable between the input wire of the front end and the output wire of the rear end having a large electric power difference.

그래서, 와이어 사이의 상호 유도작용에 의한 고주파특성의 열화를 방지하는 기술이, 예를 들어 특개평 9 - 260412호 공보에 기재되어 있다. 이 기술은 칩측 입력용 전극과 칩측 출력용 전극과의 사이에 칩측 본딩용 전극을 형성하고, 기판측 입력용 전극과 기판측 출력용 전극과의 사이에 기판측 본딩용 전극을 형성하여, 이 본딩용 전극 사이를 와이어로 전기적으로 접속해서, 칩측 본딩용 전극 또는 기판측 본딩용 전극을 기준준위에 전위고정하는 것에 의해서, 입력용 와이어와 출력용 와이어와의 상호 유도작용에 의한 고주파특성의 열화를 방지하고 있다.Therefore, the technique of preventing the deterioration of the high frequency characteristic by mutual induction between wires is described, for example in Unexamined-Japanese-Patent No. 9-260412. This technique forms a chip side bonding electrode between a chip side input electrode and a chip side output electrode, and forms a board side bonding electrode between a board side input electrode and a board side output electrode, and this bonding electrode The electrical connection between the wires and the potential of the chip-side bonding electrode or the substrate-side bonding electrode are fixed to the reference level prevents deterioration of high frequency characteristics due to mutual induction between the input wire and the output wire. .

또 트랜지스터를 이용한 고주파 전력증폭기 모듈은 PDC(Personal Digital Cellular)방식, GSM(Grobal System for Mobile communication)방식등의 이동체통신의 휴대전화기의 키디바이스(key device)이고, 그 수요는 근래 급속하게 늘어나고 있다. 또, 그 사양으로서는 이동체통신 시스템에 대한 고주파특성 외에 소형, 저가격인 것이 요구되고 있다.In addition, high-frequency power amplifier modules using transistors are key devices for mobile communication devices such as PDC (Personal Digital Cellular), GSM (Grobal System for Mobile communication), and the demand is increasing rapidly in recent years. . In addition, the specification is required to be small and inexpensive in addition to the high frequency characteristics of the mobile communication system.

이 요구에 응하는 하나의 방법이 특허공보 제 2755250호(특개평 9 - 260412 호)에 기재되어 있다. 도 21의 평면도, 도 22의 사시도에 나타내는 바와 같이, 하나의 반도체 칩(1000)위에 두개의 트랜지스터(2000, 3000)를 근접시켜 배치하는 것에 의해, 소형, 저가격화하고 있다. 또 초단(初段)트랜지스터(2000)의 본딩용 입력전극(2000b)과 배선기판의 본딩용 전극(7000d)은 입력 본딩와이어(9000d)로 접속되어 있다. 두번째단 트랜지스터(3000)의 본딩용 출력전극(3000c)과 배선기판(6000)의 본딩용 전극(7000a)은 출력 본딩와이어(9000a)로 접속되어 있다. 반도체 칩(1000)위의 본딩용 전극(10000a)과 배선기판(6000)의 본딩용 전극(12000a)은 실드(shield)용 본딩와이어(13000a)로 접속되어 있다. 실드용 본딩와이어(13000a)는 입력 본딩와이어(9000d)와 출력 본딩와이어(9000a)와의 사이에 설치되어 있고, 동시에 그 양단의 본딩용 전극(10000a ,12000a)은 각각 반도체 칩(1000) 및 배선기판에 형성된 비아 홀(Via Hole (도면으로 나타내지 않음))을 통해서 고주파적으로 접지되어 있다. 이 실드용 본딩와이어(13000a)를 설치하는 것에 의해, 입력 본딩와이어(9000d)와 출력 본딩와이어(9000a)와의 사이의 상호 인덕턴스에 의한 결합이 저감해서 고주파 입출력단자 사이의 아이솔레이션 열화를 개선할 수 있고, 고주파 특성이 향상한다.One method of meeting this requirement is described in Patent Publication No. 2755250 (Japanese Patent Laid-Open No. 9-260412). As shown in the plan view of FIG. 21 and the perspective view of FIG. 22, the two transistors 2000 and 3000 are placed close to each other on one semiconductor chip 1000 to reduce the size and cost. In addition, the bonding input electrode 2000b of the ultra-short transistor 2000 and the bonding electrode 7000d of the wiring board are connected by an input bonding wire 9000d. The bonding output electrode 3000c of the second stage transistor 3000 and the bonding electrode 7000a of the wiring substrate 6000 are connected by an output bonding wire 9000a. The bonding electrode 10000a on the semiconductor chip 1000 and the bonding electrode 12000a of the wiring board 6000 are connected by a shield bonding wire 13000a. The shield bonding wire 13000a is provided between the input bonding wire 9000d and the output bonding wire 9000a, and at the same time, the bonding electrodes 10000a and 12000a at both ends thereof are the semiconductor chip 1000 and the wiring board, respectively. It is grounded at a high frequency through a via hole (not shown) formed in the via hole. By providing the shield bonding wire 13000a, the coupling due to mutual inductance between the input bonding wire 9000d and the output bonding wire 9000a is reduced, and the degradation of isolation between the high frequency input / output terminals can be improved. , High frequency characteristics are improved.

입력 본딩와이어(9000d)와 출력 본딩와이어(9000a)와의 사이의 상호 인덕턴스에 의한 결합의 문제는 초단 트랜지스터(2000)와 두번째단 트랜지스터(3000)가 입출력의 위치를 반대로 해서 병치되어 있기 때문에, 양자가 근접하는 결과 생긴다. 이 문제는 특히 초단 트랜지스터(2000)의 입력 본딩와이어(9000d)와, 두번째단 트랜지스터(3000)의 출력 본딩와이어(9000a)의 사이에서 현저하다. 이것은 초 단 트랜지스터(2000)에 입력되는 고주파 신호출력에 비해, 두번째단 트랜지스터(3000)에서 출력되는 고주파 신호전력 쪽이 20dB ~ 30dB (100 ~ 1000배)크고, 출력에서 입력에의 정귀환이 작용하는 것에 의한다. 한편, 초단 트랜지스터(2000)의 출력 본딩와이어(9000c)와 두번째단 트랜지스터(3000)의 입력 본딩와이어(9000b)도 근접해 있지만, 양자에 흐르는 고주파 신호전력의 비(比)는 0dB (1배)이하로 작고, 고주파특성 열화의 문제는 생기지 않는다.The problem of coupling due to mutual inductance between the input bonding wire 9000d and the output bonding wire 9000a is that the first and second transistors 2000 and 3000 are arranged in reverse with the positions of the input and output, so that both Resulting in proximity. This problem is particularly noticeable between the input bonding wire 9000d of the first stage transistor 2000 and the output bonding wire 9000a of the second stage transistor 3000. Compared to the high frequency signal output input to the first transistor 2000, the high frequency signal power output from the second transistor 3000 is 20 dB to 30 dB (100 to 1000 times), and the positive feedback from the output to the input is applied. By On the other hand, although the output bonding wire 9000c of the first stage transistor 2000 and the input bonding wire 9000b of the second stage transistor 3000 are close to each other, the ratio of the high frequency signal power flowing to both is less than 0 dB (1 times). It is small and does not cause a problem of deterioration of high frequency characteristics.

또한 도 21, 도 22에서, 2000a, 3000a는 트랜지스터의 본체부분, 2000d, 3000d는 트랜지스터의 소스전극, 2000c는 초단 트랜지스터(2000)의 본딩용 출력전극, 3000b는 두번째단 트랜지스터(3000)의 본딩용 입력전극, 4000은 접지전극, 7000b,7000c는 배선기판(6000)의 본딩용 전극, 8000a, 8000d는 리드전극, 104는 공동(空洞)(cavity)이다. 21 and 22, 2000a and 3000a are main body portions of transistors, 2000d and 3000d are source electrodes of transistors, 2000c are output electrodes for bonding the first stage transistor 2000, and 3000b are for bonding second transistors 3000, respectively. The input electrode, 4000 is a ground electrode, 7000b and 7000c are bonding electrodes of the wiring substrate 6000, 8000a and 8000d are lead electrodes, and 104 is a cavity.

그러나 본 발명자등은 상술의 기술을 검토한 결과, 이하의 문제점을 발견했다.However, the present inventors have found the following problems as a result of examining the above description.

기판측 본딩용 전극은 기판측 입력용 전극과 기판측 출력용 전극과의 사이에 배치되어 있다. 즉, 기판측 입력용 전극, 기판측 본딩용 전극, 기판측 출력용 전극의 각각은 반도체 칩의 한변에 따라서 일직선상에 배치되어 있다.The substrate side bonding electrode is disposed between the substrate side input electrode and the substrate side output electrode. That is, each of the board | substrate side input electrode, the board | substrate side bonding electrode, and the board | substrate side output electrode is arrange | positioned in line with one side of a semiconductor chip.

기판측 전극은 일반적으로 스크린 인쇄법에 의해서 형성되기 때문에, 포토리소그래픽 기술에 의해서 형성되는 칩측 전극보다도 점유면적이 크게된다. 또 전반경로를 단축하기 위해 기판측 전극의 바로 밑에서 쓰루홀(through hole)배선이 형성된다. 이 쓰루홀 배선의 평면방향의 면적(외형사이즈)은 저(低)저항화를 꾀하기 위해 어느 정도 크게하지 않으면 안되기 때문에, 기판측 전극의 점유면적이 크게된다. 또한 쓰루홀의 가공정도 자체도 적기 때문에, 기판측 전극의 점유면적이 크게된다. 따라서, 기판측 입력용 전극, 기판측 본딩용 전극, 기판측 출력용 전극의 각각을 반도체 칩의 한변에 따라서 일직선상에 배치한 경우, 이들의 전극 배열길이가 길게되고, 칩측 입력용 전극과 기판측 입력용 전극이 서로 마주보지 않게됨과 동시에, 칩측 출력용 전극과 기판측 출력용 전극이 서로 마주보지 않게 되기 때문에, 입력용 와이어 및 출력용 와이어의 길이가 길게된다. 입력용 와이어 및 출력용 와이어의 길이가 길게되면, 인덕턴스가 증가하고 고주파특성이 열화하기 때문에, 전단의 증폭수단과 후단의 증폭수단과의 간격을 넓혀서 와이어길이를 짧게 하지 않으면 안되고, 반도체 칩의 점유면적이 증가하여, 고주파 전력증폭기의 소형화를 저해하는 요인이 된다.Since the substrate side electrode is generally formed by the screen printing method, the occupied area is larger than that of the chip side electrode formed by the photolithographic technique. In addition, through hole wiring is formed directly under the electrode on the substrate side to shorten the overall path. Since the area (outer size) of the through-hole wiring in the planar direction must be made somewhat large in order to achieve low resistance, the occupied area of the substrate-side electrode becomes large. In addition, since the processing accuracy of the through-holes is small, the area occupied by the substrate-side electrode is increased. Therefore, when each of the substrate-side input electrode, the substrate-side bonding electrode, and the substrate-side output electrode is disposed in a straight line along one side of the semiconductor chip, the electrode array length thereof becomes long, and the chip-side input electrode and the substrate side Since the input electrodes do not face each other, and the chip side output electrode and the substrate side output electrode do not face each other, the length of the input wire and the output wire becomes long. If the length of the input wire and the output wire is increased, the inductance increases and the high frequency characteristic deteriorates. Therefore, the distance between the front amplification means and the rear amplification means must be shortened to shorten the wire length. This increase is a factor that hinders the miniaturization of the high frequency power amplifier.

또 상기 종래기술의 실드용 본딩와이어(13000a)의 효과를 도 15에 의해 설명한다. 도 15는 증폭기의 입출력 본딩와이어 사이의 결합계수(상호 인덕턴스 (단위: nH))를 길이 1mm(실물에 가까운 길이)의 평행한 2개의 입출력 본딩와이어의 본딩부의 간격(d)에 대해서 산출한 것이다. 여기서, 결합계수 0.12의 개소(個所)를 나타내는 파선은 결합계수가 0.12이하일 때 증폭기가 안정하게 동작하는 것을 나타낸다. 이 0.12라는 값은 결합계수와 증폭기의 안정계수의 관계를 나타내는 도 16에서 구했다. 안정계수가 1이상에서 증폭기는 안정하게 동작한다. 여기서, 본딩부의 간격(d)은 가장 근접한 2개의 본딩와이어의 본딩부의 중심간의 거리로 정의된다.In addition, the effect of the above-mentioned shield bonding wire 13000a of the prior art is explained with reference to FIG. Fig. 15 shows the coupling coefficient (mutual inductance (unit: nH)) between the input and output bonding wires of the amplifier with respect to the spacing d of the bonding portions of two parallel input and output bonding wires having a length of 1 mm (close to real). . Here, the broken line showing the location of the coupling coefficient 0.12 indicates that the amplifier operates stably when the coupling coefficient is 0.12 or less. This value of 0.12 was obtained from Fig. 16 showing the relationship between the coupling coefficient and the stability coefficient of the amplifier. If the stability factor is greater than 1, the amplifier operates stably. Here, the spacing d of the bonding portions is defined as the distance between the centers of the bonding portions of the two nearest bonding wires.

도 15에 나타내는 바와 같이 실드용 본딩와이어를 설치하다 라는 대책을 실시하고 있는 상기 종래기술의 경우는 그렇지 않은 경우(도면중 「대책없음」라고 표시)에 비교해서 결합계수가 작게되어 있고, 고주파특성이 향상해 있다. 또 결합계수가 0.12이하의 본딩부의 간격(d)의 범위가 넓어지며, 설계의 자유도가 증가하고 있다. 또한 본딩부의 간격(d)을 0.55mm까지 작게 하는 것이 가능하기 때문에 칩면적을 작게할 수 있고, 모듈의 소형화, 코스트의 저감이 가능하게 된다.As shown in Fig. 15, in the case of the prior art in which the shielding wire is provided, the coupling coefficient is smaller than that in the case of the prior art, which is indicated as "no measures" in the drawing, and the high frequency characteristics are high. This is improving. Moreover, the range of the space | interval d of the bonding part whose coupling coefficient is 0.12 or less becomes wider, and the freedom of design increases. Moreover, since the space | interval d of a bonding part can be made small to 0.55 mm, chip area can be made small, a module can be reduced, and cost can be reduced.

그러나 현실에서는 실드용 본딩와이어(13000a)의 양단에 비아 홀에 의한 인덕턴스가 직렬로 가해지기 때문에 상기 종래기술에서는 충분한 고주파특성의 향상을 얻을 수 없다. In reality, however, inductance caused by via holes is applied in series to both ends of the shield bonding wire 13000a, and thus, the conventional high frequency characteristic cannot be sufficiently improved.

본 발명의 목적은 반도체 장치의 소형화를 꾀하는 것이 가능한 기술을 제공하는 것에 있다.It is an object of the present invention to provide a technique capable of miniaturizing a semiconductor device.

본 발명의 목적은 보다 고주파특성을 향상시킬 수 있는 고주파 전력증폭기 모듈을 제공하는 것에 있다. An object of the present invention is to provide a high frequency power amplifier module that can further improve the high frequency characteristics.

본 발명의 상기 및 그 밖의 목적과 신규한 특징은 본 명세서의 기술 및 첨부 도면에 의해서 명백하게 될 것이다.The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

본원에서 개시되는 발명 중, 대표적인 것의 개요를 간단하게 설명하면 하기와 같다.Among the inventions disclosed herein, an outline of representative ones will be briefly described as follows.

평면이 사각형 모양으로 형성된 반도체 칩과, 일주면측에 상기 반도체 칩이 탑재된 배선기판과, 상기 반도체 칩의 일주면의 제 1영역에 형성되고 상기 반도체 칩의 일변측에 배치된 제 1전극과, 상기 반도체 칩의 일주면의 제 1영역에 형성되고 입력부가 상기 제 1전극과 전기적으로 접속된 제 1증폭수단과, 상기 반도체 칩의 일주면의 제 2영역에 형성되고 상기 반도체 칩의 일변측에 배치된 제 2전극과, 상기 반도체 칩의 일주면의 제 2영역에 형성되고 출력부가 상기 제 2전극과 전기적으로 접속된 제 2증폭수단과, 상기 반도체 칩의 일주면의 제 1영역과 제 2영역과의 사이의 제 3영역에 형성된 제 3 전극과, 상기 반도체 칩의 한변과 서로 마주보도록 해서 상기 배선기판의 일주면에 형성되고 제 1와이어를 통해서 상기 제 1전극과 전기적으로 접속된 제 4 전극과, 상기 반도체 칩의 한변과 서로 마주보도록 해서 상기 배선기판의 일주면에 형성되고 제 2와이어를 통해서 상기 제 2전극과 전기적으로 접속된 제 5전극과, 상기 반도체 칩의 한변과 서로 마주보도록 해서 상기 배선기판의 일주면에 형성되고 기준전위에 전위고정 되는 제 3와이어를 통해서 상기 제 3 전극과 전기적으로 접속된 제 6 전극을 가지는 반도체 장치로서, 상기 제 6 전극은 상기 제 5 전극보다도 상기 반도체 칩의 한변에서 멀리 떨어진 위치에 배치되어 있다. 상기 제 4전극은 상기 반도체 칩의 한변에서의 거리가 상기 제 5 전극과 거의 동일하게 되는 위치 또는 상기 제 6 전극보다도 상기 반도체 칩의 한변에서 멀리 떨어진 위치에 배치되어 있다.A semiconductor chip having a planar quadrangular shape, a wiring board on which the semiconductor chip is mounted on one peripheral surface thereof, a first electrode formed on a first region of the peripheral surface of the semiconductor chip and disposed on one side of the semiconductor chip; First amplification means formed in a first region of one circumferential surface of the semiconductor chip and having an input portion electrically connected to the first electrode, and formed in a second region of the circumferential surface of the semiconductor chip, A second amplification means formed in the second electrode disposed in the second region of the circumferential surface of the semiconductor chip, the output unit being electrically connected to the second electrode, the first region and the first region of the circumferential surface of the semiconductor chip. A third electrode formed in a third region between the two regions, and a first electrode formed on one circumferential surface of the wiring substrate so as to face each other with one side of the semiconductor chip and electrically connected to the first electrode through a first wire; 4 A fifth electrode formed on one surface of the wiring board so as to face the pole and one side of the semiconductor chip and electrically connected to the second electrode through a second wire, and to face one side of the semiconductor chip. And a sixth electrode formed on one surface of the wiring board and electrically connected to the third electrode through a third wire which is fixed at a reference potential, wherein the sixth electrode is more than the fifth electrode. It is located at a position far from one side of the semiconductor chip. The fourth electrode is disposed at a position where the distance from one side of the semiconductor chip is substantially equal to the fifth electrode, or at a position farther from one side of the semiconductor chip than the sixth electrode.

상술한 수단에 의하면, 제 6전극의 점유면적에 상당하는 분만큼, 제 4전극과 제 5전극과의 간격을 좁게 할 수 있기 때문에, 반도체 칩의 제 1영역과 제 2영역과의 간격을 좁게 할 수 있다. 이 결과 반도체 칩의 점유면적을 축소할 수 있기 때문 에 반도체 장치의 소형화를 꾀할 수 있다.According to the above means, the interval between the fourth electrode and the fifth electrode can be narrowed by the amount corresponding to the occupied area of the sixth electrode, so that the interval between the first region and the second region of the semiconductor chip is narrowed. can do. As a result, since the footprint of the semiconductor chip can be reduced, the semiconductor device can be miniaturized.

또 상기 목적은 유전체 재료를 기체(基體)로 하는 배선기판 위에 반도체 칩이 설치된 고주파 전력증폭기 모듈에서, 반도체 칩에 2단 이상의 증폭단 트랜지스터, 이들 증폭단 트랜지스터에 고주파 전력을 입력하기 위한 본딩용 입력전극 및 이들 증폭단 트랜지스터에서 고주파 전력을 출력하기 위한 본딩용 출력전극을 설치하여, 어느 하나의 증폭단 트랜지스터에 대응하는 본딩용 입력전극과 배선기판을 접속하는 입력 본딩와이어의 양단의 본딩부 끼리를 연결하는 제 1의 보조선과, 그 하나의 증폭단 트랜지스터의 다음단에 위치하는 증폭단 트랜지스터에 대응하는 본딩용 출력전극과 배선기판을 접속하는 출력 본딩와이어의 양단의 본딩부(그 중심부)끼리를 연결하는 제 2의 보조선이 이루는 각도가 72 ~ 180°의 범위에 들어가도록, 동시에 본딩용 입력전극과 본딩용 출력전극의 본딩부의 간격이 0.3mm이상 0.8mm미만의 범위에 들어가도록 고주파 전력증폭기 모듈을 설계하는 것에 의해 달성할 수 있다.In addition, the above object is to provide a high-frequency power amplifier module in which a semiconductor chip is provided on a wiring board using a dielectric material as a base, the two or more amplifier stage transistors on the semiconductor chip, a bonding input electrode for inputting high-frequency power to these amplifier transistors; Bonding output electrodes for outputting high-frequency power from these amplifying transistors, and a bonding first electrode for bonding one of both ends of an input bonding wire for connecting a wiring input and a bonding input electrode corresponding to any one of the amplifying transistors. A second beam that connects the bonding lines (central portions) of both ends of the output bonding wires connecting the auxiliary line of the output electrode and the bonding output electrode corresponding to the amplifier stage transistor located next to the one amplifier stage transistor and the wiring board. Bonding input at the same time so that shipbuilding angle falls within the range of 72 ~ 180 ° The bonding portion of the pole gap and the bonding output electrode can be achieved by designing the high-frequency power amplifier module to fit within the range of 0.3mm to less than 0.8mm.

여기서, 0.3mm 이상 0.8mm 미만이라는 본딩부 간격의 조건에 구애되지 않고, 상기 2개의 증폭단 트랜지스터의 안정계수가 1이상이 되도록 고주파 전력증폭기 모듈을 설계하면 상기 목적을 달성할 수 있다.The above object can be achieved by designing a high frequency power amplifier module such that the stability coefficients of the two amplifier stage transistors are not less than 0.3 mm or more and less than 0.8 mm, and the stability coefficients of the two amplifier stage transistors are 1 or more.

이하, 본 발명의 구성에 대해서 자동차전화, 휴대전화등의 휴대통신기기에 편입되는 고주파 전력증폭기(고주파 파워 모듈)에 본 발명을 적용한 실시형태와 함께 설명한다.Hereinafter, the configuration of the present invention will be described together with an embodiment in which the present invention is applied to a high frequency power amplifier (high frequency power module) incorporated in a portable communication device such as an automobile telephone or a mobile telephone.

(실시형태 1)(Embodiment 1)

도 1은 본 발명의 실시형태(1)인 고주파 전력증폭기의 외관구성을 나타내는 사시도이고, 도 2는 상기 고주파 전력증폭기의 등가회로도이고, 도 3은 도2에 나타내는 일점쇄선으로 둘러 쌓인 부분과 대응하는 배선기판의 요부평면도이고, 도 4는 도 3의 요부사시도이고, 도 5는 도 3의 요부확대 평면도이고, 도 6은 상기 고주파 전력증폭기에 편입된 반도체 칩의 트랜지스터 형성영역에 대한 요부단면도 이고, 도 7은 상기 반도체 칩의 아이솔레이션 영역에 대한 요부단면도이다.FIG. 1 is a perspective view showing an external configuration of a high frequency power amplifier according to an embodiment (1) of the present invention, FIG. 2 is an equivalent circuit diagram of the high frequency power amplifier, and FIG. 3 is a part enclosed by a dashed line shown in FIG. 4 is a perspective view of the main part of FIG. 3, FIG. 5 is an enlarged plan view of the main part of FIG. 3, and FIG. 6 is a sectional view of the main part of the transistor forming region of the semiconductor chip incorporated in the high frequency power amplifier. 7 is a cross-sectional view illustrating main parts of an isolation region of the semiconductor chip.

본 실시형태의 고주파 전력증폭기는 도 1에 나타내는 바와 같이, 판 모양의 배선기판(1)의 일주면상에 캡(cap)(8)이 포개져 외관적으로는 편평한 구형체 구조로 되어 있다. 배선기판(1)은 평면이 사각형 모양(본 실시형태에 있어서는 직사각형 모양)으로 형성되고, 다층 배선구조의 세라믹 기판으로 형성되어 있다. 캡(8)은 평면이 사각형 모양(본 실시형태에 있어서는 직사각형 모양)으로 형성되고, 도전성의 금속재료로 형성되어 있다. 이 캡(8)은 실드효과를 가지게 하기 때문에 기준전위(예를 들어 0[V])로 전위고정 된다.As shown in FIG. 1, the high frequency power amplifier of this embodiment has a cap 8 superimposed on one peripheral surface of the plate-shaped wiring board 1, and has a flat spherical structure in appearance. The wiring board 1 is formed in a rectangular shape (a rectangular shape in this embodiment) in a plane, and is formed of a ceramic substrate having a multilayer wiring structure. The cap 8 is formed in a rectangular shape (in the present embodiment, a rectangular shape) and formed of a conductive metal material. Since the cap 8 has a shielding effect, it is potential fixed at a reference potential (for example, 0 [V]).

상기 고주파 전력증폭기는 도 2에 나타내는 바와 같이, 다단식 증폭회로로 구성되어 있다. 이 다단식 증폭회로는 주로 용량소자(C1 ~ C11), 저항소자(R1 ~ R4), 마이크로스트립 선로(STL1 ~ STL3), 증폭수단(PW1) ~ 증폭수단(PW3) 등으로 구성되어 있다.As shown in Fig. 2, the high frequency power amplifier is composed of a multistage amplifier circuit. This multi-stage amplifying circuit mainly consists of capacitor elements C1 to C11, resistance elements R1 to R4, microstrip lines STL1 to STL3, amplifying means PW1 to amplifying means PW3, and the like.

증폭수단(PW1, PW2, PW3)의 각각은 복수의 전계효과 트랜지스터의 각각을 전기적으로 병렬로 접속한 구성으로 되어 있다. 증폭수단(PW1)은 게이트의 총연장이 4000[㎛]정도로 형성되고, 증폭수단(PW2)은 게이트의 총연장이 3200[㎛]정도로 형 성되며, 증폭수단(PW3)은 게이트의 총연장이 8000[㎛]정도로 형성되어 있다.Each of the amplifying means PW1, PW2, PW3 has a structure in which each of the plurality of field effect transistors is electrically connected in parallel. The amplifying means PW1 is formed with a total length of a gate of about 4000 [µm], the amplifying means PW2 is formed with a total length of a gate of about 3200 [µm], and the amplifying means PW3 has a total length of a gate of about 8000 [µm]. ] Is formed about.

증폭수단(PW1)의 게이트단자(입력부)는 고주파 전력(예를 들면 1[mW])이 인가되는 입력용 외부단자(Pin)와 전기적으로 접속되고, 증폭수단 (PW1)의 드레인단자(출력부)는 후단의 증폭수단(PW2)의 게이트단자(입력부) 및 마이크로스트립 선로(STL1)의 일단측과 전기적으로 접속되어 있다. 증폭수단(PW2)의 드레인단자(출력부)는 후단의 증폭수단(PW3)의 게이트단자(입력부) 및 마이크로스트립 선로(STL2)의 일단측과 전기적 접속되어 있다. 증폭수단(PW3)의 드레인단자(출력부)는 출력용 외부단자(Pout)와 전기적으로 접속되어 있다.The gate terminal (input section) of the amplifying means PW1 is electrically connected to the input external terminal P in to which high frequency power (for example, 1 [mW]) is applied, and the drain terminal (output of the amplifying means PW1). Section) is electrically connected to the gate terminal (input section) of the rear end amplifying means PW2 and one end side of the microstrip line STL1. The drain terminal (output section) of the amplifying means PW2 is electrically connected to the gate terminal (input section) of the amplifying means PW3 at the rear end and one end side of the microstrip line STL2. The drain terminal (output part) of the amplifying means PW3 is electrically connected to the output external terminal P out .

증폭수단(PW1, PW2, PW3)의 각각의 소스단자는 기준전위(예를 들어 0[V])에 전위고정 되는 기준전위용 외부단자와 전기적으로 접속되어 있다. 마이크로스트립 선로(STL1, STL2, STL3)의 각각의 타단측은 전원전위(예를 들어 3.5[V])가 인가되는 전원전위용 외부단자(VDD)와 전기적으로 접속되어 있다. 또한 증폭수단(PW1, PW2, PW3)의 각각의 게이트단자에는 외부단자(VG)가 전기적으로 접속되고 이 외부단자(VG)에는 출력전력을 조정하기 위한 접압(APC신호, 오토매틱 ·파워 ·컨트롤 ·시그널)이 인가된다.Each source terminal of the amplifying means PW1, PW2, PW3 is electrically connected to an external terminal for reference potential which is fixed to the reference potential (for example, 0 [V]). The other end of each of the microstrip lines STL1, STL2, and STL3 is electrically connected to an external terminal V DD for a power source potential to which a power source potential (for example, 3.5 [V]) is applied. In addition, an external terminal (V G ) is electrically connected to each gate terminal of the amplifying means (PW1, PW2, PW3), and a contact voltage (APC signal, automatic power) for adjusting the output power is connected to the external terminal (V G ). Control signal) is applied.

증폭수단(PW1, PW2)의 각각은 도 3에 나타내는 반도체 칩(5)에 형성되고, 증폭수단(PW3)은 도면으로 표시되어 있지 않지만, 반도체 칩(5)과 다른 그 외의 반도체 칩에 형성되어 있다. 반도체 칩(5)은 배선기판(1)의 일주면에 형성된 요(凹)부 (1A)내에 탑재되고, 그 외의 반도체 칩은 배선기판(1)의 일주면에 형성된 그 외의 요(凹)부 내에 탑재되어 있다. 즉, 증폭수단이 형성된 반도체 칩은 배선기판(1)의 일주면측에 탑재되어 있다. 반도체 칩(5), 그 외의 반도체 칩의 각각은 평면이 사각형 모양(본 실시형태에서는 직사각형 모양)으로 형성되어 있다. 또한 증폭수단(PW3)이 형성된 그 외의 반도체 칩에 대해서는 이하의 설명을 생략한다.Each of the amplifying means PW1 and PW2 is formed in the semiconductor chip 5 shown in FIG. 3, and the amplifying means PW3 is formed in the semiconductor chip 5 and other semiconductor chips other than the figure. have. The semiconductor chip 5 is mounted in the concave portion 1A formed on one circumferential surface of the wiring board 1, and the other semiconductor chip is formed on the other circumferential surface of the one wiring surface 1. It is mounted inside. That is, the semiconductor chip in which the amplification means is formed is mounted on the one peripheral surface side of the wiring board 1. Each of the semiconductor chips 5 and the other semiconductor chips is formed in a rectangular shape (a rectangular shape in this embodiment). In addition, the following description is abbreviate | omitted about the other semiconductor chip in which the amplifying means PW3 was formed.

반도체 칩(5)이 탑재된 요(凹)부(1A)의 바닥면에는 도 4에 나타내는 바와 같이, 도전플레이트(1B)가 형성되어 있다. 도전플레이트(1B)는 그 바로 밑에 형성된 쓰루홀 배선(3)을 통해서, 배선기판(1)의 일주면과 대향하는 다른 주면(이면)에 형성된 기준전위용 외부단자(4)와 전기적으로 접속되어 있다. 이 기준전위용 외부단자(4)는 예를 들어 0[V]전위로 전위고정 된다. 또한, 상술의 입력용 외부단자(Pin), 출력용 외부단자(Pout), 전원전위용 외부단자(VDD), 외부단자(VG)의 각각도 배선기판(1)의 이면에 형성되어 있다.A conductive plate 1B is formed on the bottom surface of the concave portion 1A on which the semiconductor chip 5 is mounted, as shown in FIG. 4. The conductive plate 1B is electrically connected to the reference potential external terminal 4 formed on the other main surface (rear surface) opposite the one main surface of the wiring board 1 through the through hole wiring 3 formed directly below it. have. This reference potential external terminal 4 is potential fixed at 0 [V] potential, for example. In addition, the above-described input external terminal P in , output external terminal P out , power potential external terminal V DD , and external terminal V G are also formed on the back surface of the wiring board 1. have.

도 5에 나타내는 바와 같이, 증폭수단(PW1)은 반도체 칩(5)의 일주면의 제 1영역(5A)에 형성되어 있다. 증폭수단(PW1)의 게이트단자는 반도체 칩(5)의 일주면의 제 1영역(5A)에 형성되고, 반도체 칩(5)의 한변(5X)측(본 실시형태에 있어서는 한쪽 긴변측)에 배치된 칩측 입력용 전극(6A)과 전기적으로 접속되어 있다. 또, 증폭수단(PW1)의 드레인단자는 반도체 칩(5)의 일주면의 제 1영역(5A)에 형성되고, 반도체 칩(5)의 한변(5X)과 대향하는 다른 변(5Y)측(본 실시형태에 있어서는 다른쪽 긴변측)에 배치된 칩측 출력용 전극(6D)과 전기적으로 접속되어 있다.As shown in FIG. 5, the amplifying means PW1 is formed in the first region 5A of the main surface of the semiconductor chip 5. The gate terminal of the amplifying means PW1 is formed in the first region 5A of the one main surface of the semiconductor chip 5, and is disposed on one side 5X side (in this embodiment, one long side side) of the semiconductor chip 5. It is electrically connected with the chip | tip side input electrode 6A arrange | positioned. Further, the drain terminal of the amplifying means PW1 is formed in the first region 5A of the main surface of the semiconductor chip 5, and the other side 5Y side (which is opposite to one side 5X) of the semiconductor chip 5 ( In this embodiment, it is electrically connected with the chip | tip output electrode 6D arrange | positioned at the other long side side.

증폭수단(PW2)은 반도체 칩(5)의 일주면의 제 2영역(5B)에 형성되어 있다. 증폭수단(PW2)의 드레인단자는 반도체 칩(5)의 일주면의 제 2영역(5B)에 형성되고, 반도체 칩(5)의 한변(5X)측에 배치된 칩측 출력용 전극(6B)과 전기적으로 접속되어 있다. 또 증폭수단(PW2)의 게이트단자는 반도체 칩(5)의 일주면의 제 2영역(5B)에 형성되고, 반도체 칩(5)의 다른 변(5Y)측에 배치된 칩측 입력용 전극(6E)과 전기적으로 접속되어 있다. The amplifying means PW2 is formed in the second region 5B of the one main surface of the semiconductor chip 5. The drain terminal of the amplifying means PW2 is formed in the second region 5B on one circumferential surface of the semiconductor chip 5, and electrically connected to the chip-side output electrode 6B disposed on one side 5X side of the semiconductor chip 5. Is connected. In addition, the gate terminal of the amplifying means PW2 is formed in the second region 5B on one circumferential surface of the semiconductor chip 5, and the chip-side input electrode 6E is disposed on the other side 5Y side of the semiconductor chip 5. ) Is electrically connected.

증폭수단(PW1, PW2)의 각각의 소스단자는 나중에 상세하게 설명을 하지만, 반도체 칩(5)의 일주면과 대향하는 다른 주면(이면)에 형성된 이면전극과 전기적으로 접속되어 있다. Each of the source terminals of the amplifying means PW1 and PW2 will be described later in detail, but is electrically connected to the back electrode formed on the other main surface (rear surface) opposite to the main surface of the semiconductor chip 5.

반도체 칩(5)의 일주면의 제 1영역(5A)과 제 2영역(5B)과의 사이에는 이들 영역간을 전기적으로 분리하기 위한 제 3영역(아이솔레이션 영역)(5C)이 형성되어 있다. 이 제 3영역(5C)에는 반도체 칩(5)의 한변(5X)측에 배치된 칩측 본딩용 전극(6C) 및 반도체 칩(5)의 다른 변(5Y)측에 배치된 칩측 본딩용 전극(6F)이 형성되어 있다. A third region (isolation region) 5C is formed between the first region 5A and the second region 5B on one circumferential surface of the semiconductor chip 5 for electrically separating these regions. In the third region 5C, the chip side bonding electrode 6C disposed on one side 5X side of the semiconductor chip 5 and the chip side bonding electrode disposed on the other side 5Y side of the semiconductor chip 5 ( 6F) is formed.

칩측 입력용 전극(6A)은 반도체 칩(5)의 한변(5X)과 서로 마주보도록 해서 배선기판(1)의 일주면에 형성된 기판측 입력용 전극(2A)과 입력용 와이어(7A)를 통해서 전기적으로 접속되어 있다. 기판측 입력용 전극(2A)은 그 바로 밑에 형성된 쓰루홀 배선(3) 및 내부배선을 통해서 배선기판(1)의 이면에 형성된 입력용 외부단자(Pin)와 전기적으로 접속되어 있다. The chip-side input electrode 6A faces each other 5X of the semiconductor chip 5 so as to face each other through the board-side input electrode 2A and the input wire 7A formed on one circumferential surface of the wiring board 1. It is electrically connected. 2 A of board | substrate side input electrodes are electrically connected with the input external terminal P in formed in the back surface of the wiring board 1 through the through-hole wiring 3 and inner wiring which were formed directly under it.

칩측 출력용 전극(6B)은 반도체 칩(5)의 한변(5X)과 서로 마주보도록 해서 배선기판(1)의 일주면에 형성된 기판측 출력용 전극(2B)과 출력용 와이어(7B)를 통해서 전기적으로 접속되어 있다. 기판측 출력용 전극(2B)은 그 바로 밑에 형성된 쓰루홀 배선(3) 및 내부배선을 통해서 증폭수단(PW3)이 형성된 다른 반도체 칩의 한변과 서로 마주보도록 해서 배선기판(1)의 일주면에 형성된 기판입력용 전극과 전기적으로 접속되어 있다. The chip-side output electrode 6B is electrically connected via the output-side wire 7B and the substrate-side output electrode 2B formed on one peripheral surface of the wiring board 1 so as to face each other 5X of the semiconductor chip 5. It is. The substrate-side output electrode 2B is formed on one circumferential surface of the wiring board 1 so as to face each other with one side of the other semiconductor chip on which the amplifying means PW3 is formed through the through hole wiring 3 formed underneath and the internal wiring. It is electrically connected with the board | substrate input electrode.

칩측 본딩용 전극(6C)은 반도체 칩(5)의 한변(5X)과 서로 마주보도록 해서 배선기판(1)의 일주면에 형성된 기판측 본딩용 전극(2C)과 와이어(7C)를 통해서 전기적으로 접속되어 있다. 기판측 본딩용 전극(2C)은 그 바로 밑에 형성된 쓰루홀 배선(3) 및 내부배선을 통해서 배선기판(1)의 이면에 형성된 기준전위용 외부단자(4)와 전기적으로 접속되어 있다. 즉, 와이어(7C)는 기준전위로 전위고정 된다.The chip-side bonding electrode 6C is electrically connected to the one side 5X of the semiconductor chip 5 via the wire-side 7C and the board-side bonding electrode 2C formed on one circumferential surface of the wiring board 1. Connected. The substrate-side bonding electrode 2C is electrically connected to the reference potential external terminal 4 formed on the rear surface of the wiring board 1 through the through hole wiring 3 and the inner wiring formed thereunder. That is, the wire 7C is potential fixed at the reference potential.

칩측 출력용 전극(6D)은 반도체 칩(5)의 다른 변(5Y)과 서로 마주보도록 해서 배선기판(1)의 일주면에 형성된 기판측 출력용 전극(2D)과 출력용 와이어(7D)를 통해서 전기적으로 접속되어 있다. 기판측 출력용 전극(2D)은 그 바로 밑에 쓰루홀 배선(3)이 형성되어 있다.The chip-side output electrode 6D is electrically connected to the other side 5Y of the semiconductor chip 5 via the substrate-side output electrode 2D and the output wire 7D formed on one circumferential surface of the wiring board 1. Connected. Through-hole wiring 3 is formed directly under the substrate-side output electrode 2D.

칩측 입력용 전극(6E)은 반도체 칩(5)의 다른 변(5Y)과 서로 마주보도록 해서 배선기판(1)의 일주면에 형성된 기판측 입력용 전극(2E)과 입력용 와이어(7E)를 통해서 전기적으로 접속되어 있다. 기판측 입력용 전극(2E)은 쓰루홀 배선(3) 및 내부배선을 통해서, 기판측 출력용 전극(2D)과 전기적으로 접속되어 있다.The chip-side input electrode 6E faces the other side 5Y of the semiconductor chip 5 so that the board-side input electrode 2E and the input wire 7E formed on one peripheral surface of the wiring board 1 face each other. It is electrically connected through. The substrate-side input electrode 2E is electrically connected to the substrate-side output electrode 2D through the through hole wiring 3 and the internal wiring.

칩측 본딩용 전극(6F)은 반도체 칩(5)의 다른 변(5Y)과 서로 마주보도록 해서 배선기판(1)의 일주면에 형성된 기판측 본딩용 전극(2F)과 와이어(7F)를 통해서 전기적으로 접속되어 있다. 기판측 본딩용 전극(2F)은 그 바로 밑에 형성된 쓰루홀 배선(3) 및 내부배선을 통해서, 배선기판(1)의 이면에 형성된 기준전위용 외부단자(4)와 전기적으로 접속되어 있다. 즉, 와이어(7F)는 기준전위로 전위고정 된다.The chip-side bonding electrode 6F faces the other side 5Y of the semiconductor chip 5 so as to be electrically connected to each other via the wire-side 7F and the substrate-side bonding electrode 2F formed on one circumferential surface of the wiring board 1. Is connected. The substrate-side bonding electrode 2F is electrically connected to the reference potential external terminal 4 formed on the rear surface of the wiring board 1 through the through-hole wiring 3 and the inner wiring formed thereunder. That is, the wire 7F is potential fixed at the reference potential.

칩측 출력용 전극(6D)과 반도체 칩(5)의 다른 변(5Y)과의 거리는 칩측 입력용 전극(6A)과 반도체 칩(5)의 한변(5X)과의 거리보다도 짧게 되어 있다. 또, 칩측 출력용 전극(6B)과 반도체 칩(5)의 한변(5X)과의 거리는 칩측 입력용 전극(6E)과 반도체 칩(5)의 다른 변(5Y)과의 거리보다도 짧게 되어 있다. 이것은 출력용 와이어의 길이를 짧게 하여, 출력저항은 낮게 하고 있다.The distance between the chip-side output electrode 6D and the other side 5Y of the semiconductor chip 5 is shorter than the distance between the chip-side input electrode 6A and the one side 5X of the semiconductor chip 5. The distance between the chip side output electrode 6B and one side 5X of the semiconductor chip 5 is shorter than the distance between the chip side input electrode 6E and the other side 5Y of the semiconductor chip 5. This shortens the length of the output wire and lowers the output resistance.

반도체 칩(5)의 일주면의 제 1영역(5A)에는 증폭수단(PW1)의 소스단자와 전기적으로 접속된 소스전극(6S)이 형성되어 있다. 이 소스전극(6S)은 칩측 입력용 전극(6A)보다도 반도체 칩(5)의 한변(5X)측에 배치되어 있다. 또, 반도체 칩(5)의 일주면의 제 2영역(5B)에는 증폭수단(PW2)의 소스단자와 전기적으로 접속된 소스전극(6S)이 배치되어 있다. 이들의 소스전극(6S)은 프로브검사 할 때 사용된다.A source electrode 6S electrically connected to the source terminal of the amplifying means PW1 is formed in the first region 5A of the main surface of the semiconductor chip 5. This source electrode 6S is disposed on the one side 5X side of the semiconductor chip 5 rather than the chip side input electrode 6A. In addition, a source electrode 6S electrically connected to the source terminal of the amplifying means PW2 is disposed in the second region 5B of the main surface of the semiconductor chip 5. These source electrodes 6S are used for probe inspection.

본 실시형태의 고주파 전력증폭기에서, 입력용 와이어(7A)는 출력용 와이어(7B)와 근접해서 배치되어 있다. 입력 와이어(7A)는 전단의 증폭수단(PW1)의 게이트단자(입력부)에 전기적으로 접속되고, 출력용 와이어(7B)는 후단의 증폭수단(PW2)의 드레인단자(출력부)에 전기적으로 접속되어 있기 때문에, 입력용 와이어(7A)를 흐르는 전력과 출력용 와이어(7B)를 흐르는 전력의 차(差)는 크지만, 기준전위로 전위고정 되는 와이어(7C)가 입력용 와이어(7A)와 출력용 와이어(7B)와의 사이에 배치되어 있기 때문에 입력용 와이어(7A)와 출력용 와이어(7B)와의 상호 유도작용에 의한 고주파특성의 열화를 방지할 수 있다.In the high frequency power amplifier of the present embodiment, the input wire 7A is disposed close to the output wire 7B. The input wire 7A is electrically connected to the gate terminal (input section) of the amplification means PW1 at the front end, and the output wire 7B is electrically connected to the drain terminal (output part) of the amplification means PW2 at the rear end. Therefore, although the difference between the electric power flowing through the input wire 7A and the electric power flowing through the output wire 7B is large, the wire 7C which is potential-fixed at the reference potential is the input wire 7A and the output wire. Since it is arrange | positioned between 7B, deterioration of the high frequency characteristic by the mutual inductive action of the input wire 7A and the output wire 7B can be prevented.

또, 출력용 와이어(7D)는 입력용 와이어(7E)와 근접해서 배치되어 있다. 출력용 와이어(7D)는 전단의 증폭수단(PW1)의 드레인단자(출력부)와 전기적으로 접속되고, 입력용 와이어(7E)는 후단의 증폭수단(PW2)의 게이트단자(입력부)와 전기적으로 접속되어 있기 때문에 출력용 와이어(7D)를 흐르는 전력과 입력용 와이어(7E)를 흐르는 전력은 거의 동일하고, 이 와이어 사이에서의 상호 유도작용에 의한 고주파특성의 열화는 작지만, 기준전위로 전위고정 되는 와이어(7F)가 출력용 와이어(7D)와 입력용 와이어(7E)와의 사이에 배치되어 있기 때문에 출력용 와이어(7D)와 입력용 와이어(7E)와의 상호 유도작용에 의한 고주파특성의 열화를 방지할 수 있다.Moreover, the output wire 7D is arrange | positioned near the input wire 7E. The output wire 7D is electrically connected to the drain terminal (output part) of the amplification means PW1 at the front end, and the input wire 7E is electrically connected to the gate terminal (input part) of the amplification means PW2 at the rear end. Since the power flowing through the output wire 7D and the power flowing through the input wire 7E are almost the same, the deterioration of the high frequency characteristics due to mutual induction between the wires is small, but the potential is fixed at the reference potential. Since 7F is disposed between the output wire 7D and the input wire 7E, it is possible to prevent deterioration of high frequency characteristics due to mutual induction action between the output wire 7D and the input wire 7E. .

기판측 본딩용 전극(2C)은 기판측 출력용 전극(2B)보다도 반도체 칩(5)의 한변(5X)에서 멀리 떨어진 위치에 배치되어 있다. 기판측 입력용 전극(2A)은 반도체 칩(5)의 한변(5X)에서의 거리가 기판측 출력용 전극(2B)과 거의 동일하게 되는 위치에 배치되어 있다. 즉, 기판측 본딩용 전극(2C)은 기판측 입력용 전극(2A)과 기판측 출력용 전극(2B)과의 사이에 배치되어 있지 않고, 기판측 입력용 전극(2A) 및 기판측 출력용 전극(2B)보다도 반도체 칩(5)의 한변(5X)에서 멀리 떨어진 위치에 배치되어 있다. 따라서, 기판측 본딩용 전극(2C)의 점유면적에 상당하는 분만큼, 기판측 입력용 전극(2A)과 기판측 출력용 전극(2B)과의 간격을 좁게 할 수 있고, 이것에 따라서 반도체 칩(5)의 제 1영역(5A)과 제 2영역(5B)과의 간격도 좁게 할 수 있기 때문에, 반도체 칩(5)의 점유면적을 축소할 수 있다.The substrate side bonding electrode 2C is disposed at a position farther from one side 5X of the semiconductor chip 5 than the substrate side output electrode 2B. 2 A of board | substrate side input electrodes are arrange | positioned in the position where the distance from one side 5X of the semiconductor chip 5 becomes substantially the same as the board | substrate side output electrode 2B. That is, the substrate-side bonding electrode 2C is not disposed between the substrate-side input electrode 2A and the substrate-side output electrode 2B, and the substrate-side input electrode 2A and the substrate-side output electrode ( It is arranged at a position farther from one side 5X of the semiconductor chip 5 than from 2B). Accordingly, the distance between the substrate-side input electrode 2A and the substrate-side output electrode 2B can be narrowed by the amount corresponding to the occupied area of the substrate-side bonding electrode 2C, and accordingly the semiconductor chip ( Since the interval between the first region 5A and the second region 5B in 5) can also be narrowed, the occupied area of the semiconductor chip 5 can be reduced.

기판측 본딩용 전극(2F)은 기판측 출력용 전극(2D)보다도 반도체 칩(5)의 다른 변(5Y)에서 멀리 떨어진 위치에 배치되어 있다. 기판측 입력용 전극(2E)은 반도체 칩(5)의 다른 변(5Y)에서의 거리가 기판측 출력용 전극(2D)과 거의 동일하게 되는 위치에 배치되어 있다. 즉, 기판측 본딩용 전극(2F)은 기판측 입력용 전극(2E)과 기판측 출력용 전극(2D)과의 사이에 배치되어 있지 않고, 기판측 입력용 전극(2E) 및 기판측 출력용 전극(2D)보다도 반도체 칩(5)의 다른 변(5Y)에서 멀리 떨어진 위치에 배치되어 있다. 따라서 기판측 본딩용 전극(2F)의 점유면적에 상당하는 분만큼, 기판측 입력용 전극(2E)과 기판측 출력용 전극(2D)과의 간격을 좁게 할 수 있고, 이것에 따라서 반도체 칩(5)의 제 1영역(5A)과 제 2영역(5B)과의 간격도 좁게 할 수 있기 때문에 반도체 칩(5)의 점유면적을 축소할 수 있다.The substrate side bonding electrode 2F is disposed at a position farther from the other side 5Y of the semiconductor chip 5 than the substrate side output electrode 2D. The substrate-side input electrode 2E is disposed at a position at which the distance from the other side 5Y of the semiconductor chip 5 is substantially the same as the substrate-side output electrode 2D. That is, the substrate-side bonding electrode 2F is not disposed between the substrate-side input electrode 2E and the substrate-side output electrode 2D, but the substrate-side input electrode 2E and the substrate-side output electrode ( It is arrange | positioned far from the other side 5Y of the semiconductor chip 5 rather than 2D). Therefore, the space | interval of the board | substrate side input electrode 2E and the board | substrate side output electrode 2D can be narrowed only by the thing corresponded to the occupation area of the board | substrate side bonding electrode 2F, and accordingly, the semiconductor chip 5 Since the distance between the first region 5A and the second region 5B of the () can be narrowed, the occupied area of the semiconductor chip 5 can be reduced.

반도체 칩(5)은 도 6에 나타내는 바와 같이, 예를 들어 단결정 규소로 이루어지는 P+형 반도체 기판(10A)의 일주면상에 P-형 에피택셜(epitaxial)층(10B)이 형성된 반도체 기체(10)를 주체로 하는 구성으로 되어 있다.As shown in FIG. 6, the semiconductor chip 5 includes a semiconductor substrate 10 in which a P type epitaxial layer 10B is formed on one peripheral surface of a P + type semiconductor substrate 10A made of, for example, single crystal silicon. Is mainly composed of).

증폭수단(PW1 및 PW2)을 구성하는 전계효과 트랜지스터는 반도체 기체(10)의 일주면의 트랜지스터 형성 영역에 형성되어 있다. 이 전계효과 트랜지스터는 주로 채널 형성영역인 P형 웰영역(12), 게이트 절연막(14), 게이트 전극(15), 소스영역 및 드레인 영역인 한쌍의 n-형 반도체영역(16) 및 한쌍의 n+형 반도체영역(17)으로 구성되어 있다.The field effect transistors constituting the amplifying means PW1 and PW2 are formed in the transistor formation region on one main surface of the semiconductor substrate 10. The field effect transistor is mainly composed of a P-type well region 12, a gate insulating film 14, a gate electrode 15, a source region and a drain region, a pair of n type semiconductor regions 16 and a pair of n, which are channel formation regions. It consists of the + type semiconductor region 17.

드레인영역인 n+형 반도체영역(17)에는 층간 절연막(18)에 형성된 접속공을 통해서, 첫번째층의 배선층에 형성된 배선(19A)이 전기적으로 접속되어 있다. 소스영역인 n+형 반도체영역(17)에는 층간 절연막(18)에 형성된 접속공을 통해서, 첫번째층의 배선층에 형성된 배선(19B)이 전기적으로 접속되어 있다. 배선(19B)은, 층간 절연막(18)에 형성된 접속공을 통해서 p-형 에피택셜층(13)에 형성된 p+형 반도체영역(13)에 전기적으로 접속되어 있다. p+형 반도체영역(13)은 p+형 반도체 기판(10A)에 전기적으로 접속되어 있다. 게이트전극(15)에는 상세하게 도면에 나타내고 있지 않지만, 층간 절연막(18)에 형성된 접속공을 통해서, 첫번째층의 배선층에 형성된 배선(19C)이 전기적으로 접속되어 있다.The wiring 19A formed in the wiring layer of the first layer is electrically connected to the n + type semiconductor region 17 as the drain region through the connection hole formed in the interlayer insulating film 18. The wiring 19B formed in the wiring layer of the first layer is electrically connected to the n + type semiconductor region 17 as the source region through the connection hole formed in the interlayer insulating film 18. The wiring 19B is electrically connected to the p + type semiconductor region 13 formed in the p type epitaxial layer 13 through the connection hole formed in the interlayer insulating film 18. The p + type semiconductor region 13 is electrically connected to the p + type semiconductor substrate 10A. Although not shown in detail in the drawing, the wiring 19C formed in the wiring layer of the first layer is electrically connected to the gate electrode 15 through the connection hole formed in the interlayer insulating film 18.

배선(19A)에는 층간 절연막(20)에 형성된 접속공을 통해서, 두번째층의 배선층에 형성된 배선(21A)이 전기적으로 접속되어 있다. 이 배선(21A)의 일부에서 칩측 출력용 전극(6D) 및 칩측 출력용 전극(6B)이 형성되어 있다. 배선(19B)에는 층간 절연막(20)에 형성된 접속공을 통해서, 두번째층의 배선층에 형성된 배선(21B)이 전기적으로 접속되어 있다. 이 배선(21B)의 일부에서 프로부 검사용의 전극이 형성되어 있다. 배선(19C)에는 도면에 나타나 있지 않지만, 층간 절연막(20)에 형성된 접속공을 통해서, 두번째층의 배선층에 형성된 배선이 전기적으로 접속되어 있다. 이 배선의 일부에서 칩측 입력용 전극(6A) 및 칩측 입력용 전극(6E)이 형성되어 있다.The wiring 21A formed in the wiring layer of the second layer is electrically connected to the wiring 19A through the connection hole formed in the interlayer insulating film 20. The chip side output electrode 6D and the chip side output electrode 6B are formed in a part of this wiring 21A. The wiring 21B formed in the wiring layer of the second layer is electrically connected to the wiring 19B through the connection hole formed in the interlayer insulating film 20. A part for pro-part inspection is formed in a part of this wiring 21B. Although not shown in the drawing, the wiring formed in the wiring layer of the second layer is electrically connected to the wiring 19C through the connection hole formed in the interlayer insulating film 20. A chip side input electrode 6A and a chip side input electrode 6E are formed in a part of this wiring.

반도체 칩(5)의 제 3영역(5C)에서 도 7에 나타내는 바와 같이, 필드 절연막(11)상에는 첫번째층의 배선층에 형성된 배선(19D)이 형성되어 있다. 이 배선(19D)은 반도체 칩(5)의 한변(5X)과 직행하는 방향으로 향해서 연재하고 있다. 배선(19D)에는 층간 절연막(20)에 형성된 접속공을 통해서, 두번째층의 배선층에 형성된 배선(21D)이 형성되어 있다. 이 배선(21D)은 배선(19D)과 동일하게, 반도체 칩(5)의 한변(5X)과 직행하는 방향으로 향해서 연재하고 있다. 이 배선(21D)의 일부에서 칩측 본딩용 전극(6C 및 6F)이 형성되어 있다.As shown in FIG. 7 in the third region 5C of the semiconductor chip 5, the wiring 19D formed in the wiring layer of the first layer is formed on the field insulating film 11. The wiring 19D extends in the direction that goes straight to the one side 5X of the semiconductor chip 5. In the wiring 19D, the wiring 21D formed in the wiring layer of the second layer is formed through the connection hole formed in the interlayer insulating film 20. This wiring 21D is extended toward the direction which goes directly to one side 5X of the semiconductor chip 5 similarly to the wiring 19D. The chip side bonding electrodes 6C and 6F are formed in a part of this wiring 21D.

반도체 기체(10)의 일주면과 대향하는 다른 주면(이면)에는 이면전극(21)이 형성되어 있다. 이 이면전극(21)은 도전성의 접착재를 개재해서 배선기판(1)의 요(凹)부(1A)의 바닥면에 형성된 도전플레이트(1B)와 전기적으로 동시에 기계적으로 접속되어 있다. 즉 증폭수단(PW1, PW2)의 각각의 소스단자는 기준전위로 전위고정 된다.The back electrode 21 is formed on the other main surface (rear surface) facing the one main surface of the semiconductor substrate 10. The back electrode 21 is electrically and mechanically connected to the conductive plate 1B formed on the bottom surface of the recessed portion 1A of the wiring board 1 via a conductive adhesive. In other words, the source terminals of the amplifying means PW1 and PW2 are potential fixed at the reference potential.

본 실시형태의 고주파 전력증폭기에서 반도체 칩(5)의 제 1영역(5A)과 제 2영역(5B)과의 사이의 제 3영역(아이솔레이션 영역)(5C)에는 기준전위로 전위고정 되는 배선(19D) 및 배선(21D)이 반도체 칩(5)의 한변(5X)과 직행하는 방향으로 향해서 연재하고 있다. 또 제 3영역(5C)에는 기준전위에 전위고정 되는 P+형 반도체영역(13)이 반도체 칩(5)의 한변(5X)과 직행하는 방향으로 향해서 연재하고, 게다가 반도체 기체(10)가 기준전위로 전위고정 된다. 따라서, 반도체 칩(5)에 있어서는 자속의 간섭을 억제하는 구성으로 되어 있기 때문에 고주파특성이 열화하는 것은 없다.In the high-frequency power amplifier of the present embodiment, a wiring in which the potential is fixed at the reference potential in the third region (isolation region) 5C between the first region 5A and the second region 5B of the semiconductor chip 5 ( 19D and the wiring 21D extend in the direction that goes straight to one side 5X of the semiconductor chip 5. In addition, in the third region 5C, the P + type semiconductor region 13, which is fixed at the reference potential, extends in a direction that is directly parallel to the one side 5X of the semiconductor chip 5, and the semiconductor substrate 10 is also referred to as a reference. The potential is fixed to the potential. Therefore, in the semiconductor chip 5, since the interference of magnetic flux is suppressed, the high frequency characteristic does not deteriorate.

이와 같이 본 실시형태에 의하면 이하의 효과를 얻을 수 있다.Thus, according to this embodiment, the following effects can be acquired.

(1) 기판측 본딩용 전극(2C)은 기판측 입력용 전극(2A) 및 기판측 출력용 전극(2B)보다도 반도체 칩(5)의 한변(5X)에서 멀리 떨어진 위치에 배치되고, 기판측 본딩용 전극(2F)은 기판측 입력용 전극(2E) 및 기판측 출력용 전극(2D)보다도 반도체 칩(5)의 다른 변(5Y)에서 멀리 떨어진 위치에 배치되어 있는 것으로부터, 기판측 본딩용 전극(2C)의 점유면적에 상당하는 분만큼, 기판측 입력용 전극(2A)과 기판측 출력용 전극(2B)과의 간격을 좁게 할 수 있고, 또 기판측 본딩용 전극(2F)의 점유면적에 상당하는 분만큼, 기판측 입력용 전극(2E)과 기판측 출력용 전극(2D)과의 간격을 좁게 할 수 있기 때문에 반도체 칩(5)의 제 1영역(5A)과 제 2영역(5B)과의 간격을 좁게 할 수 있다. 이 결과 반도체 칩(5)의 점유면적을 축소할 수 있기 때문에 고주파 전력증폭기의 소형화를 꾀할 수 있다.(1) The substrate side bonding electrode 2C is disposed at a position farther from one side 5X of the semiconductor chip 5 than the substrate side input electrode 2A and the substrate side output electrode 2B, and the substrate side bonding is performed. The electrode 2F for substrate-side bonding is disposed at a position farther from the other side 5Y of the semiconductor chip 5 than the substrate-side input electrode 2E and the substrate-side output electrode 2D. The distance between the substrate-side input electrode 2A and the substrate-side output electrode 2B can be narrowed by the amount corresponding to the occupied area of (2C), and the area occupied by the substrate-side bonding electrode 2F is reduced. Since the distance between the board | substrate side input electrode 2E and the board | substrate side output electrode 2D can be narrowed by correspondence, the 1st area | region 5A and the 2nd area | region 5B of the semiconductor chip 5, It can narrow the interval of. As a result, since the occupied area of the semiconductor chip 5 can be reduced, miniaturization of the high frequency power amplifier can be achieved.

(2) 기판측 입력용 전극(2A)은 반도체 칩(5)의 한변(5X)에서의 거리가 기판측 출력용 전극(2B)과 거의 동일하게 되는 위치에 배치되고, 기판측 본딩용 전극(2C)은 기판측 입력용 전극(2A) 및 기판측 출력용 전극(2B)보다도 반도체 칩(5)의 한변(5X)에서 멀리 떨어진 위치에 배치되어 있는 것으로부터, 기준전위에 전위고정 되는 와이어(7C)가 기판측 입력용 전극(2A)과 기판측 출력용 전극(2B)과의 사이를 가로지르기 때문에, 기판측 입력용 전극(2A)과 기판측 출력용 전극(2B) 과의 사이에 기판측 본딩용 전극(2C)을 배치한 경우에 비교해서 자속의 간섭을 더욱 억제할 수 있다.(2) The substrate-side input electrode 2A is disposed at a position where the distance from one side 5X of the semiconductor chip 5 is substantially the same as the substrate-side output electrode 2B, and the substrate-side bonding electrode 2C is provided. ) Is disposed at a position farther from one side 5X of the semiconductor chip 5 than the substrate-side input electrode 2A and the substrate-side output electrode 2B, so that the wire 7C is potential-fixed at the reference potential. Intersects between the substrate-side input electrode 2A and the substrate-side output electrode 2B, so that the substrate-side bonding electrode is between the substrate-side input electrode 2A and the substrate-side output electrode 2B. The interference of the magnetic flux can be further suppressed as compared with the case where 2C is disposed.

또한, 본 실시형태에서는 기준전위에 전위고정 되는 와이어(7C) 및 와이어(7F)를 배치한 예에 관해서 설명했지만. 입력용 와이어(7E)를 흐르는 전력과 출력용 와이어(7D)를 흐르는 전력은 거의 동일하기 때문에 전단의 증폭수단(PW1)의 드레인단자(출력부)에 접속된 출력용 와이어(7D)와 후단의 증폭수단(PW2)의 게이트단자(입력부)에 접속된 입력용 와이어(7E)와의 사이에 기준전위에 전위고정 되는 와이어를 특별히 배치하지 않아도 된다. 이 경우 칩측 본딩용 전극(6F) 및 기판측 본딩용 전극(2F)은 불필요하게 된다.In addition, in this embodiment, the example which arrange | positioned the wire 7C and the wire 7F which are electric potential fixed at the reference potential was demonstrated. Since the power flowing through the input wire 7E and the power flowing through the output wire 7D are almost the same, the output wire 7D connected to the drain terminal (output part) of the amplification means PW1 at the front end and the amplification means at the rear end are provided. It is not necessary to specifically arrange the wire which is fixed in the reference potential between the input wire 7E connected to the gate terminal (input portion) of (PW2). In this case, the chip side bonding electrode 6F and the substrate side bonding electrode 2F are unnecessary.

또, 본 실시형태에서는 기판측 입력용 전극(2A)을 반도체 칩(5)의 한변(5X)에서의 거리가 기판측 출력용 전극(2B)과 거의 동일하게 되는 위치에 배치한 예에 대해서 설명했지만, 기판측 입력용 전극(2A)은 기판측 본딩용 전극(2C)보다도 반도체 칩(5)의 한변(5X)에서 멀리 떨어진 위치에 배치해도 좋다. 이 경우에 있어서도, 상술의 실시형태와 동일한 효과을 얻을 수 있지만, 입력용 와이어(7A)의 길이가 길게 되기 때문에 고주파특성이 약간 열화 한다.In addition, in this embodiment, the example which arrange | positioned the board | substrate side input electrode 2A in the position where the distance from the one side 5X of the semiconductor chip 5 becomes substantially the same as the board | substrate side output electrode 2B was demonstrated. 2 A of board | substrate side input electrodes may be arrange | positioned far from the one side 5X of the semiconductor chip 5 rather than 2 C of board | substrate side bonding electrodes. Also in this case, although the same effect as the above-mentioned embodiment can be obtained, since the length of the input wire 7A becomes long, a high frequency characteristic deteriorates slightly.

(실시형태 2)(Embodiment 2)

도 8은 본 발명의 실시형태(2)인 고주파 전력증폭기의 배선기판의 요부평면도 이다. Fig. 8 is a plan view of main parts of a wiring board of the high frequency power amplifier according to the embodiment (2) of the present invention.

본 실시형태의 고주파 전력증폭기는 상술의 실시형태(1)와 기본적으로 동일한 구성으로 되어 있고, 이하의 구성이 다르게 되어있다.The high frequency power amplifier of this embodiment is basically the same as that of Embodiment 1 mentioned above, and the following structures are different.

즉 도 8에 나타내는 바와 같이, 기판측 본딩용 전극(2C)에 반도체 칩(5)의 제 3영역(5C)위를 연재하는 와이어(7G)의 일단측이 전기적으로 동시에 기계적으로 접속되고, 기판측 본딩용 전극(2F)에 와이어(7G)의 타단측이 전기적으로 동시에 기계적으로 접속되어 있다. 기판측 본딩용 전극(2C) 및 기판측 본딩용 전극(2F)은 기준전위용 외부단자(4)와 전기적으로 접속되어 있기 때문에, 와이어(7G)는 기준전위로 전위고정 된다.That is, as shown in FIG. 8, the one end side of the wire 7G extending on the third region 5C of the semiconductor chip 5 is electrically and mechanically connected to the substrate side bonding electrode 2C. The other end side of the wire 7G is electrically and mechanically connected to the side bonding electrode 2F. Since the substrate-side bonding electrode 2C and the substrate-side bonding electrode 2F are electrically connected to the reference potential external terminal 4, the wire 7G is potential fixed at the reference potential.

이와 같이, 기판측 본딩용 전극(2C)에 와이어(7G)의 일단측을 접속하고, 기판측 본딩용 전극(2F)에 와이어(7G)의 타단측을 접속하는 것에 의해, 입력용 와이어(7A)와 출력용 와이어(7B)와의 상호 유도작용에 의한 고주파특성의 열화, 및 출력용 와이어(7D)와 입력용 와이어(7E)와의 상호 유도작용에 의한 고주파특성의 열화를 방지할 수 있다.In this manner, one end of the wire 7G is connected to the substrate-side bonding electrode 2C, and the other end side of the wire 7G is connected to the substrate-side bonding electrode 2F, thereby providing the input wire 7A. ) And the deterioration of the high frequency characteristic due to the mutual induction action of the output wire 7B and the mutual induction effect between the output wire 7D and the input wire 7E can be prevented.

(실시형태 3)(Embodiment 3)

도 9는 본 발명의 실시형태(3)인 고주파 전력증폭기의 배선기판의 요부평면도 이다.Fig. 9 is a plan view of main parts of a wiring board of the high frequency power amplifier according to the embodiment (3) of the present invention.

본 실시형태의 고주파 전극 증폭기는 상술의 실시형태(1)와 기본적으로 동일한 구성으로 되어 있고, 이하의 구성이 다르게되어 있다.The high frequency electrode amplifier of this embodiment is basically the same as that of Embodiment 1 mentioned above, and the following structures are different.

즉 도 9에 나타내는 바와 같이, 증폭수단(PW1, PW2 및 PW3)이 하나의 반도체 칩(5)에 형성되어 있다. PW3은 반도체 칩(5)의 일주면의 제 4영역(5D)에 형성되어 있다.That is, as shown in FIG. 9, amplification means PW1, PW2, and PW3 are formed in one semiconductor chip 5. As shown in FIG. PW3 is formed in the fourth region 5D of one circumferential surface of the semiconductor chip 5.

증폭수단(PW3)의 게이트단자(입력부)는 반도체 칩(5)의 일주면의 제 4영역(5D)에 형성되고, 반도체 칩(5)의 한변(5X)측(본 실시형태에 있어서는 한쪽 긴변측)에 배치된 칩측 입력용 전극(6H)과 전기적으로 접속되어 있다. 또, 증폭수단(PW3)의 드레인단자(출력부)는 반도체 칩(5)의 일부면의 제 4영역(5D)에 형성되고, 반도체 칩(5)의 한변(5X)과 대향하는 다른 변(5Y)측(본 실시형태에 있어서는 다른쪽 긴변측)에 배치된 칩측 출력용 전극(6K)과 전기적으로 접속되어 있다. 또 증폭수단(PW3)의 소스단자는 증폭수단(PW1)과 동일하게 반도체 칩(5)의 이면에 형성된 이면전극(21)과 전기적으로 접속되어 있다. The gate terminal (input section) of the amplifying means PW3 is formed in the fourth region 5D of the one main surface of the semiconductor chip 5, and is formed on one side 5X side of the semiconductor chip 5 (one long side in the present embodiment). It is electrically connected with the chip | tip side input electrode 6H arrange | positioned at the side). The drain terminal (output part) of the amplifying means PW3 is formed in the fourth region 5D of a part of the surface of the semiconductor chip 5, and has the other side opposite to one side 5X of the semiconductor chip 5 ( It is electrically connected with the chip | tip output electrode 6K arrange | positioned at the 5Y) side (other long side in this embodiment). The source terminal of the amplifying means PW3 is electrically connected to the back electrode 21 formed on the back surface of the semiconductor chip 5 in the same manner as the amplifying means PW1.

반도체 칩(5)의 일주면의 제 2영역(5B)과 제 4영역(5D)과의 사이에는 이들 영역간을 전기적으로 분리하기 위한 제 5영역(아이솔레이션 영역)(5E)이 형성되어 있다.A fifth region (isolation region) 5E for electrically separating these regions is formed between the second region 5B and the fourth region 5D on one circumferential surface of the semiconductor chip 5.

칩측 입력용 전극(6H)은 반도체 칩(5)의 한변(5X)과 서로 마주보도록 해서 배선기판(1)의 일주면에 형성된 기판측 입력용 전극(2H)과 입력용 와이어(7H)를 통해서 전기적으로 접속되어 있다. 기판측 입력용 전극(2H)은 그 바로 밑에 형성된 쓰루홀 배선(3) 및 내부배선을 통해서, 기판측 출력용 전극(2B)과 전기적으로 접속되어 있다.The chip-side input electrode 6H faces each other 5X of the semiconductor chip 5 so as to face each other through the board-side input electrode 2H and the input wire 7H formed on one circumferential surface of the wiring board 1. It is electrically connected. The substrate-side input electrode 2H is electrically connected to the substrate-side output electrode 2B through the through-hole wiring 3 and the internal wiring formed just below it.

칩측 출력용 전극(6K)은 반도체 칩(5)의 다른 변(5Y)과 서로 마주보도록 해서 배선기판(1)의 일주면에 형성된 기판측 출력용 전극(2K)과 출력용 와이어(7K)를 통해서 전기적으로 접속되어 있다. 기판측 출력용 전극(2K)은 그 바로 밑에 형성된 쓰루홀 배선(3) 및 내부배선을 통해서, 배선기판(1)의 이면에 형성된 출력용 외부단자와 전기적으로 접속되어 있다.The chip-side output electrode 6K is electrically connected to the other side 5Y of the semiconductor chip 5 via the substrate-side output electrode 2K and the output wire 7K formed on one circumferential surface of the wiring board 1. Connected. The substrate-side output electrode 2K is electrically connected to an output external terminal formed on the rear surface of the wiring board 1 through the through-hole wiring 3 and the inner wiring formed thereunder.

배선기판(1)의 일주면에는 반도체 칩(5)의 한변(5X)과 서로 마주보도록 해서 기판측 본딩용 전극(2J)이 형성되고, 반도체 칩(5)의 다른 변(5Y)과 서로 마주보도록 해서 기판측 본딩용 전극(2L)이 형성되어 있다. 기판측 본딩용 전극(2J 및 2L)은 기판측 본딩용 전극(2C)과 동일하게, 배선기판(1)의 이면에 형성된 기준전위용 단자(4)와 전기적으로 접속되어 있다.On one circumferential surface of the wiring board 1, a substrate side bonding electrode 2J is formed so as to face each other 5X of the semiconductor chip 5, and faces the other side 5Y of the semiconductor chip 5. 2L of board | substrate side bonding electrodes are formed. The substrate side bonding electrodes 2J and 2L are electrically connected to the reference potential terminal 4 formed on the back surface of the wiring board 1 in the same manner as the substrate side bonding electrodes 2C.

기판측 본딩용 전극(2J)은 반도체 칩(5)의 한변(5X)에서의 거리가 기판측 본딩용 전극(2C)과 거의 동일하게 되는 위치에 배치되고, 기판측 본딩용 전극(2L)은 반도체 칩(5)의 다른 변(5Y)에서의 거리가 기판측 본딩용 전극(2F)과 거의 동일하게 되는 위치에 배치되어 있다.The substrate-side bonding electrode 2J is disposed at a position at which the distance from one side 5X of the semiconductor chip 5 is substantially the same as the substrate-side bonding electrode 2C, and the substrate-side bonding electrode 2L is The distance from the other side 5Y of the semiconductor chip 5 is disposed at a position substantially equal to the substrate-side bonding electrode 2F.

기판측 본딩용 전극(2J)에는 반도체 칩(5)의 제 5영역(5E)위를 연재하는 와이어(7L)의 일단측이 전기적으로, 동시에 기계적으로 접속되고, 기판측 본딩용 전극(2L)에는 와이어(7L)의 타단측이 전기적으로 동시에 기계적으로 접속되어 있다.One end side of the wire 7L extending on the fifth region 5E of the semiconductor chip 5 is electrically and mechanically connected to the substrate side bonding electrode 2J, and the substrate side bonding electrode 2L is connected to the substrate 2 bonding electrode 2J. The other end side of the wire 7L is electrically and mechanically connected to each other.

본 실시형태의 고주파 전력증폭기에서 와이어(7L)는 2개 배치되어 있다. 입력용 와이어(7E)를 흐르는 전력과 출력용 와이어(7K)를 흐르는 전력의 차(差)는 입력용 와이어(7A)를 흐르는 전력과 출력용 와이어(7B)를 흐르는 전력과의 차(差)보다도 크다. 따라서 본 실시형태와 같이, 전력차에 따라서 기준전위에 전위고정 되는 와이어의 개수를 증가하는 것에 의해, 입력용 와이어와 출력용 와이어와의 상호 유도작용에 의한 고주파특성의 열화를 보다 안정한 상태로 방지할 수 있다.In the high frequency power amplifier of the present embodiment, two wires 7L are arranged. The difference between the power flowing through the input wire 7E and the power flowing through the output wire 7K is greater than the difference between the power flowing through the input wire 7A and the power flowing through the output wire 7B. . Therefore, as in the present embodiment, by increasing the number of wires that are fixed to the reference potential in accordance with the electric power difference, deterioration of high frequency characteristics due to mutual induction between the input wire and the output wire can be prevented in a more stable state. Can be.

(실시형태 4)(Embodiment 4)

도 10은 본 발명의 실시형태(4)인 고주파 전력증폭기의 배선기판의 요부평면 도 이다.Fig. 10 is a plan view of main parts of a wiring board of the high frequency power amplifier according to the embodiment (4) of the present invention.

본 실시형태의 고주파 전력증폭기는 상술의 실시형태(1)와 기본적으로 동일한 구성으로 되어 있고, 이하의 구성이 다르게 되어 있다.The high frequency power amplifier of this embodiment is basically the same as that of Embodiment 1 mentioned above, and the following structures are different.

즉 도 10에 나타내는 바와 같이, 기판측 출력용 전극(2B)이 반도체 칩(5)의 한변(5X)과 서로 마주보는 위치에 배치되고, 기판측 입력용 전극(2A)이 반도체 칩(5)의 한변(5X)에 대해서 만나는 다른 변(5P)과 서로 마주보는 위치에 배치되어 있다.That is, as shown in FIG. 10, the board | substrate side output electrode 2B is arrange | positioned in the position which opposes each other 5X of the semiconductor chip 5, and the board | substrate side input electrode 2A of the semiconductor chip 5 It is arrange | positioned in the position which opposes the other side 5P which meets about one side 5X.

이와 같이, 기판측 출력용 전극(2B)을 반도체 칩(5)의 한변(5X)과 서로 마주보는 위치에 배치하고, 기판측 입력용 전극(2A)이 반도체 칩(5)의 한변(5X)에 대해서 만나는 다른 변(5P)과 서로 마주보는 위치에 배치하는 것에 의해, 입력용 와이어(7A)와 출력용 와이어(7B)와의 자속이 직교하는 상태로 되기 때문에 이 와이어 사이에서의 상호 유도작용을 억제할 수 있다.Thus, the board | substrate side output electrode 2B is arrange | positioned in the position which mutually faces the one side 5X of the semiconductor chip 5, and the board | substrate side input electrode 2A is placed on the one side 5X of the semiconductor chip 5, and so on. By arrange | positioning in the position which opposes the other edge | side 5P which meets with respect to each other, the magnetic flux of the input wire 7A and the output wire 7B becomes orthogonal, and the mutual induction effect between these wires can be suppressed. Can be.

또 기준전위에 전위고정 되는 와이어를 접속하기 위한 기판측 본딩용 전극을 설치할 필요가 없기 때문에 반도체 칩(5)의 제 1영역(5A)과 제 2영역(5B)과의 간격을 좁게 할 수 있고, 반도체 칩(5)의 점유면적을 축소할 수 있다. 이 결과 고주파 전력증폭기의 소형화를 꾀할 수 있다.In addition, since there is no need to provide a substrate-side bonding electrode for connecting the wires that are fixed at the reference potential, the distance between the first region 5A and the second region 5B of the semiconductor chip 5 can be narrowed. The area occupied by the semiconductor chip 5 can be reduced. As a result, miniaturization of the high frequency power amplifier can be achieved.

(실시형태 5)(Embodiment 5)

도 15에 나타내는 바와 같이, 본 발명의 경우는 상기 종래기술의 경우 보다 더욱 결합계수가 작게되어 있고, 고주파특성이 향상해 있다. 또, 결합계수가 0.12 이하(안정계수가 1이상)의 본딩부의 간격(d)의 범위도 더욱 넓어지며, 설계의 자유 도가 증가하고 있다. 또한 본딩부의 간격(d)을 0.3mm까지 작게 하는 것이 가능하기 때문에 칩 면적을 더욱 작게 할 수 있고, 또한 모듈의 소형화, 코스트의 저감이 가능하게 된다.As shown in Fig. 15, in the case of the present invention, the coupling coefficient is smaller than in the case of the prior art, and the high frequency characteristics are improved. Moreover, the range of the space | interval d of the bonding part whose coupling coefficient is 0.12 or less (stable coefficient 1 or more) becomes wider further, and the freedom of design increases. In addition, since the distance d of the bonding portion can be reduced to 0.3 mm, the chip area can be further reduced, and the module size can be reduced and the cost can be reduced.

또, 도 15는 입출력 본딩와이어 사이에서 이루는 각도(φ)가 90°의 경우이지만, 도 7에 나타내는 바와 같이, 이 각도(φ)는 72 ~ 180°의 범위에 있으면 좋다. 또, 각도(φ)가 140°일때 결합계수가 최소로 되고, 극소점이 존재하는 것을 알 수 있다.In addition, although FIG. 15 shows the case where the angle (phi) formed between input / output bonding wires is 90 degrees, as shown in FIG. 7, this angle (phi) should just be in the range of 72-180 degrees. Moreover, when the angle (phi) is 140 degrees, a coupling coefficient becomes minimum and it turns out that a minimum point exists.

본 발명의 고주파 전력증폭기 모듈의 구체적 설계에 있어서는 이상의 것을 근거로 해서 본딩부 간격(d)과 각도(φ)를 선택하게 된다.In the specific design of the high frequency power amplifier module of the present invention, the bonding portion spacing d and the angle φ are selected on the basis of the above.

또한 이상의 설명에서 명백해진 바와 같이, 본 발명은 각도(φ)를 종래와 같이 0°로 하지 않는 것이 그 근거이다. 따라서 각도(φ)가 72 ~ 180°의 범위이고, 입출력 본딩와이어에 대응하는 2개의 증폭단 트랜지스터의 안정계수가 1 이상이 되도록 고주파 전력증폭기 모듈을 설계해도 좋다.In addition, as apparent from the above description, the present invention is based on the fact that the angle? Is not set to 0 degrees as in the prior art. Therefore, the high frequency power amplifier module may be designed such that the angle φ is in the range of 72 to 180 degrees, and the stability coefficient of the two amplifying transistors corresponding to the input / output bonding wires is 1 or more.

본 발명의 실시형태(5)의 2단 전력증폭기 모듈을 도 11 ~ 도 14에 의해 설명한다. 도 11은 요부평면도, 도 12는 등가회로도, 도 13은 외관구성을 나타내는 평면도, 도 14는 요부사시도 이다.The two-stage power amplifier module of Embodiment (5) of this invention is demonstrated with reference to FIGS. Fig. 11 is a plan view of a main part, Fig. 12 is an equivalent circuit diagram, Fig. 13 is a plan view showing an appearance configuration, and Fig. 14 is a major part perspective view.

도 11에 나타내는 바와 같이, 초단과 두번째단의 MOSFET로 구성된 트랜지스터(102, 103)를 하나의 실리콘 칩(101)위에 근접해서 형성한다. 초단 트랜지스터(102)의 게이트전극(102a)에서 드레인전극(102b)에의 고주파신호의 흐르는 방향과, 두번째단 트랜지스터(103)의 게이트전극(103a)에서 드레인전극(103b)에 의 고주파신호의 흐르는 방향이 반대가 되도록 이들 트랜지스터를 배치한다.As shown in Fig. 11, transistors 102 and 103 composed of MOSFETs of the first and second stages are formed in close proximity to one silicon chip 101. As shown in Figs. Flow direction of the high frequency signal from the gate electrode 102a of the first transistor 102 to the drain electrode 102b and flow direction of the high frequency signal from the gate electrode 103a of the second transistor 103 to the drain electrode 103b. These transistors are arranged so as to be reversed.

고주파 입력단자인 게이트전극(102a)은 1개의 입력 본딩와이어(105)에 의해, 배선기판(113)위의 입력 정합회로(125)의 단부(121)에 접속되어 있다. 고주파 출력단자인 드레인전극(103b)은 4개의 출력 본딩와이어(108)에 의해, 배선기판(113)위의 출력 정합회로(127)의 단부(124)에 접속되어 있다. 게이트전극(102a)은 실리콘 칩(101)의 좌측의 한변에 따라 배치하고, 드레인전극(103b)은 실리콘 칩(101)의 상측의 한변에 따라 배치한다. 입력 본딩와이어(105)와 출력 본딩와이어(108)의 이루는 각도는 약 90°로 한다. 본딩와이어(106, 107)는 드레인전극(102b), 게이트전극(103b)을 배선기판(113)위의 단간 정합회로(126)의 양단부(122 및 123)에 각각 접속되어 있다. 초단 트랜지스터(102)의 게이트전극(102a)(본딩용 입력전극)과 두번째단 트랜지스터(103)의 드레인전극(103b)(본딩와이어용 출력전극)의 본딩부의 간격(d)은 약 0.6mm로 한다.The gate electrode 102a, which is a high frequency input terminal, is connected to the end 121 of the input matching circuit 125 on the wiring board 113 by one input bonding wire 105. The drain electrode 103b, which is a high frequency output terminal, is connected to the end 124 of the output matching circuit 127 on the wiring board 113 by four output bonding wires 108. The gate electrode 102a is disposed along one side of the left side of the silicon chip 101, and the drain electrode 103b is disposed along one side of the upper side of the silicon chip 101. The angle formed between the input bonding wire 105 and the output bonding wire 108 is about 90 °. The bonding wires 106 and 107 are connected to both ends 122 and 123 of the inter-level matching circuit 126 on the wiring board 113 by connecting the drain electrode 102b and the gate electrode 103b, respectively. The distance d between the gate electrode 102a (bonding input electrode) of the first transistor 102 and the drain electrode 103b (output wire for bonding wire) of the second transistor 103 is approximately 0.6 mm. .

실리콘 칩(101)은 배선기판(113)에 형성된 공동(104) 안에 탑재한다. 실리콘 칩(101)의 이면에는 초단 트랜지스터(102)의 소스전극 및 두번째단 트랜지스터(103)의 소스전극으로서 금속막을 피착하고, 공동(104)내의 배선을 통해서 접지전위에 접속한다. 배선기판(113)의 재료로서는 유리 세라믹이나 알루미나등의 유전체 기판을 이용한다. 또, 그 배선에는 동이나 은, 은백금 등을 이용한다.The silicon chip 101 is mounted in the cavity 104 formed in the wiring board 113. On the back surface of the silicon chip 101, a metal film is deposited as the source electrode of the first transistor 102 and the source electrode of the second transistor 103, and is connected to the ground potential through the wiring in the cavity 104. As a material of the wiring substrate 113, a dielectric substrate such as glass ceramic or alumina is used. Moreover, copper, silver, silver platinum, etc. are used for the wiring.

도 12 및 도 13에서 기호(Pin, Pout, Vgg, Vdd)는 각각 고주파신호 입력단자, 고주파신호 출력단자, 게이트전압 인가단자, 드레인전압 인가단자이고, 이들은 전 력증폭기 모듈의 외부 접속단자이다. 도 13에서 입력 정합회로(125), 단간 정합회로(126) 및 출력 정합회로(127)의 영역의 경계를 보조선으로 나타낸다. 또, 도 14에 공동(104) 근변의 입체적 모양을 본 실시예에서 입력 본딩와이어(105)와 출력 본딩와이어(108)의 이루는 각도를 약 90°로 했지만, 이 각도는 72 ~ 180°의 범위에서 선택할 수 있다.12 and 13, symbols P in , P out , V gg , and V dd are high frequency signal input terminals, high frequency signal output terminals, gate voltage application terminals, and drain voltage application terminals, respectively, which are external to the power amplifier module. Connection terminal. In FIG. 13, boundaries between regions of the input matching circuit 125, the end-to-end matching circuit 126, and the output matching circuit 127 are indicated by auxiliary lines. Incidentally, in Fig. 14, the three-dimensional shape of the vicinity of the cavity 104 is set to about 90 degrees between the input bonding wire 105 and the output bonding wire 108, but the angle is in the range of 72 to 180 degrees. You can choose from.

(실시형태 6)Embodiment 6

본 발명의 실시형태(6)의 3단 전력증폭기 모듈을 도 18의 요부평면도에 의해 설명한다. 초단, 두번째단, 출력단의 MOSFET로 구성된 트랜지스터(102, 103, 114)를 하나의 실리콘 칩(101)위에 근접해서 형성한다. 초단 트랜지스터(102)의 게이트전극(102a)에서 드레인전극(102b)에의 고주파신호의 흐르는 방향과, 두번째단 트랜지스터(103)의 게이트전극(103a)에서 드레인전극(103b)에의 고주파신호의 흐르는 방향이 반대가 되도록 이들 트랜지스터를 배치한다. 또, 출력단 트랜지스터(114)를 그 게이트전극(114a)에서 드레인전극(114b)에의 고주파신호의 흐르는 방향이 두번째단 트랜지스터(103)와 반대 방향이 되도록 배치한다.The three-stage power amplifier module of Embodiment (6) of the present invention will be described with reference to the principal plane view of FIG. Transistors 102, 103, and 114 composed of MOSFETs of the first stage, the second stage, and the output stage are formed in close proximity to one silicon chip 101. The flow direction of the high frequency signal from the gate electrode 102a of the first transistor 102 to the drain electrode 102b and the flow direction of the high frequency signal from the gate electrode 103a of the second transistor 103 to the drain electrode 103b These transistors are placed in reverse. The output terminal transistor 114 is arranged so that the direction of flowing the high frequency signal from the gate electrode 114a to the drain electrode 114b is opposite to that of the second transistor 103.

실시형태(5)와의 차이점은 초단 트랜지스터(102)의 입력 본딩와이어(105)와 두번째단 트랜지스터(103)의 출력 본딩와이어(108)와의 이루는 각도를 140°로한점, 및 출력단 트랜지스터(114)를 동일 칩상에 설치하고, 이 트랜지스터의 출력 본딩와이어(110)와 두번째단 트랜지스터(103)의 입력 본딩와이어(107)와의 이루는 각도를 약 90°, 두번째단 트랜지스터(103)의 게이트전극(103a)(본딩용 입력전극)과 출력단 트랜지스터(114)의 드레인전극(114b)(본딩용 출력전극)의 본딩부의 간격(d) 을 약 0.7mm로 하고, 여기에서도 본 발명을 적용한 점이다.The difference from the embodiment (5) is that the angle between the input bonding wire 105 of the first stage transistor 102 and the output bonding wire 108 of the second stage transistor 103 is 140 °, and the output terminal transistor 114 is On the same chip, the angle formed between the output bonding wire 110 of this transistor and the input bonding wire 107 of the second transistor 103 is about 90 ° and the gate electrode 103a of the second transistor 103 ( The distance d of the bonding portion between the bonding input electrode) and the drain electrode 114b (bonding output electrode) of the output terminal transistor 114 is approximately 0.7 mm, and the present invention is also applied here.

본 실시예에 의하면 도 17에 나타내는 바와 같이, 초단과 두번째단의 입출력 본딩와이어 사이의 결합계수를 최소로 할 수 있고, 아이솔레이션을 더욱 개선할 수 있다. 또, 본 발명을 적용했기 때문에, 두번째단과 출력단의 입출력 본딩와이어 사이도 충분한 아이솔레이션을 확보할 수 있다. 따라서, 반도체 칩 면적의 축소 때문에 동일 칩위에 3단의 트랜지스터를 형성한 본 실시예 경우에서도, 이들 트랜지스터 사이의 거리가 짧아지는 데도 불구하고 고주파특성을 개선할 수 있다.According to this embodiment, as shown in Fig. 17, the coupling coefficient between the first and second stage input / output bonding wires can be minimized, and the isolation can be further improved. In addition, since the present invention is applied, sufficient isolation between the second stage and the input / output bonding wires of the output stage can be ensured. Therefore, even in the present embodiment in which three transistors are formed on the same chip due to the reduction of the semiconductor chip area, the high frequency characteristics can be improved despite the shortening of the distance between these transistors.

(실시형태 7)(Embodiment 7)

본 발명의 실시형태(7)의 3단 전력증폭기 모듈을 도 19의 요부평면도에 의해 설명한다. 실시형태(6)와의 차이점은 두번째단 트랜지스터(103)와 출력단 트랜지스터(114)와의 사이에, 실드 기술을 응용해서 실드용 본딩와이어(201)와 실드 배선(204)을 설치하고, 이들의 양단을 배선기판위의 전극(202) 및 비아 홀(203)을 통해서 접지전위에 접속한 점에 있다.The three-stage power amplifier module of Embodiment (7) of the present invention will be described with reference to the main part plan view of FIG. The difference from the embodiment (6) is that the shield bonding wire 201 and the shield wiring 204 are provided between the second stage transistor 103 and the output terminal transistor 114 by applying a shielding technique, and both ends thereof are provided. It is at the point connected to the ground potential via the electrode 202 and via-hole 203 on a wiring board.

본 실시예에서는 초단과 두번째단의 사이에 종래기술인 실드 기술을 적용했지만, 이들 트랜지스터영역은 원래 면적이 넓고, 고주파특성을 개선할 수 있다.In the present embodiment, the conventional shielding technique is applied between the first stage and the second stage, but these transistor regions have a large original area and can improve high frequency characteristics.

(실시형태 8)Embodiment 8

본 발명의 실시형태(8)의 2단 전력증폭기 모듈을 도 20의 요부평면도에 의해 설명한다.The two-stage power amplifier module of Embodiment 8 of the present invention will be described with reference to the principal plane view of FIG.

실시형태(5)와의 차이점은 초단 트랜지스터(102) 자체의 방향을 90°회전한 점에 있다.The difference from the embodiment (5) lies in that the direction of the ultrashort transistor 102 itself is rotated by 90 degrees.

본 실시예는 초단과 두번째단과의 입출력 본딩와이어의 본딩부의 위치를 칩의 변 중앙부에 이동할 수 있기 때문에, 본딩부 간격을 더욱 넓히는 것이 가능하게 되고(실시예(1)에서 0.6mm 이었던 것이 0.75mm로 된다.), 입출력간의 아이솔레이션을 더욱 개선할 수 있다.In this embodiment, since the position of the bonding section of the input / output bonding wire between the first and second stages can be moved to the center of the side of the chip, the bonding section spacing can be further increased (0.65 in Example (1) was 0.75 mm). Can further improve the isolation between the input and output.

이상, 본 발명을 실시예를 기준으로 설명 했지만, 본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것이 아니고, 트랜지스터의 전극수, 본딩와이어의 개수등은 그 주지를 벗어나지 않는 범위에서 여러가지 변경가능 하다. 또, 트랜지스터는 MOSFET에 제한되지 않고, 다른 전계효과 트랜지스터, 헤테로(hetero)결합 바이폴라 트랜지스터(HBT)등의 트랜지스터를 이용해도 좋다. As mentioned above, although this invention was demonstrated based on an Example, this invention is not limited to the said Example, The number of electrodes of a transistor, the number of bonding wires, etc. can be variously changed in the range which does not deviate from the well-known. In addition, the transistor is not limited to the MOSFET, and other field effect transistors, or a transistor such as a heterocoupled bipolar transistor (HBT), may be used.

본 발명에 의하면, 고주파 전력증폭기 모듈의 고주파특성을 보다 향상시킬 수 있고, 이것에 따라 전력증폭기 모듈의 소형화, 또는 이것을 이용한 휴대단말의 소형·박형화가 가능하게 된다.According to the present invention, the high frequency characteristics of the high frequency power amplifier module can be further improved, and accordingly, the power amplifier module can be miniaturized, or the portable terminal using the same can be miniaturized and thinned.

Claims (35)

제1 및 제2의 전극을 가지는 기판과,A substrate having first and second electrodes, 상기 기판의 1개의 면상에 탑재되고, 제1 및 제2의 대향변 쌍을 가지며, 입력단자 및 출력단자를 가지는 증폭회로를 가지고 이루어지는 4변형 모양의 반도체 칩과,A quadrilateral semiconductor chip mounted on one surface of the substrate, the semiconductor chip having a first and second opposing pairs and having an amplifier circuit having an input terminal and an output terminal; 상기 기판의 상기 제1의 전극과 상기 반도체 칩의 상기 증폭회로의 상기 입력단자를 전기적으로 접속하는 제1의 접속도체와,A first connection conductor electrically connecting the first electrode of the substrate and the input terminal of the amplification circuit of the semiconductor chip; 상기 기판의 상기 제2의 전극과 상기 반도체 칩의 상기 증폭회로의 상기 출력단자를 전기적으로 접속하는 제2의 접속도체를 구비해서 이루어지며,And a second connection conductor electrically connecting the second electrode of the substrate and the output terminal of the amplification circuit of the semiconductor chip, 상기 제1 및 제2의 전극은 상기 1개의 면상에 형성되고,The first and second electrodes are formed on the one surface; 상기 증폭회로는 제1 및 제2의 트랜지스터를 가지고, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터는 입력단자 및 출력단자를 가지며, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 출력단자는 상기 제2의 트랜지스터의 상기 입력단자와 접속되고, 상기 증폭회로의 상기 입력단자는 상기 제1의 트랜지스터의 상기 입력단자와 접속되며, 상기 증폭회로의 상기 출력단자는 상기 제2의 트랜지스터의 상기 출력단자와 접속되고, The amplifying circuit has first and second transistors, the first and second transistors having an input terminal and an output terminal, and the output terminal of the first transistor is connected to the input terminal of the second transistor. The input terminal of the amplifying circuit is connected to the input terminal of the first transistor, the output terminal of the amplifying circuit is connected to the output terminal of the second transistor, 상기 제1의 접속도체는 상기 제1의 접속도체와 상기 반도체 칩의 상기 제1의 대향변 쌍의 한쪽의 변이 서로 교차하도록, 상기 증폭회로의 상기 입력단자에서 상기 기판의 상기 제1의 전극까지 연장하며,The first connection conductor extends from the input terminal of the amplifier circuit to the first electrode of the substrate such that one side of the first pair of opposing sides of the semiconductor chip intersects with the first connection conductor. Extends, 상기 제2의 접속도체는, 상기 제2의 접속도체와 상기 반도체 칩의 상기 제2의 대향변 쌍의 한쪽의 변이 서로 교차하도록, 상기 증폭회로의 상기 출력단자에서 상기 기판의 상기 제2의 전극까지 연장하는 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.The second connection conductor may be configured such that the second connection conductor and the second electrode of the substrate are connected at the output terminal of the amplifying circuit so that one side of the pair of second opposing sides of the semiconductor chip intersects each other. High frequency power amplifier module, characterized in that extending to. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 출력단자와 상기 제2의 트랜지스터의 상기 입력단자는 정합회로를 통해서 서로 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.And the output terminal of the first transistor and the input terminal of the second transistor are connected to each other via a matching circuit. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터의 각각은 게이트, 소스 및 드레인을 가지는 전계효과 트랜지스터를 포함해 이루어지며,Each of the first and second transistors includes a field effect transistor having a gate, a source, and a drain, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 입력단자는, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 전계효과 트랜지스터의 상기 게이트이며,The input terminal of the first transistor is the gate of the field effect transistor of the first transistor, 상기 제2의 트랜지스터의 상기 출력단자는, 상기 제2의 트랜지스터의 상기 전계효과 트랜지스터의 상기 드레인인 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.And said output terminal of said second transistor is said drain of said field effect transistor of said second transistor. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터의 각각은, 바이폴라 트랜지스터인 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.Each of the first and second transistors is a bipolar transistor. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 증폭회로의 상기 입력단자와 상기 출력단자와의 거리는 0.3㎜ 이상이며, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터의 안정계수는 1 이상인 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.And a distance between the input terminal and the output terminal of the amplifying circuit is 0.3 mm or more, and the stability coefficients of the first and second transistors are 1 or more. 제1 및 제2의 전극을 가지는 기판과,A substrate having first and second electrodes, 상기 기판의 1개의 면상에 탑재되며, 제1 및 제2의 대향변 쌍을 가지며, 입력단자 및 출력단자를 가지는 증폭회로를 가지고 이루어지는 4변형 모양의 반도체 칩과,A quadrilateral semiconductor chip mounted on one surface of the substrate, the semiconductor chip having a first and a second opposing pair and having an amplifying circuit having an input terminal and an output terminal; 상기 기판의 상기 제1의 전극과 상기 반도체 칩의 상기 증폭회로의 상기 입력단자를 전기적으로 접속하는 제1의 접속도체와,A first connection conductor electrically connecting the first electrode of the substrate and the input terminal of the amplification circuit of the semiconductor chip; 상기 기판의 상기 제2의 전극과 상기 반도체 칩의 상기 증폭회로의 상기 출력단자를 전기적으로 접속하는 복수의 제2의 접속도체를 구비해서 이루어지며,And a plurality of second connection conductors electrically connecting the second electrode of the substrate and the output terminal of the amplification circuit of the semiconductor chip, 상기 제1 및 제2의 전극은 상기 1개의 면상에 형성되고,The first and second electrodes are formed on the one surface; 상기 증폭회로는 제1 및 제2의 트랜지스터를 가지며, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터는 입력단자 및 출력단자를 가지고, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 출력단자는 상기 제2의 트랜지스터의 상기 입력단자와 접속되며, 상기 증폭회로의 상기 입력단자는 상기 제1의 트랜지스터의 상기 입력단자와 접속되고, 상기 증폭회로의 상기 출력단자는 상기 제2의 트랜지스터의 상기 출력단자와 접속되며, The amplifying circuit has first and second transistors, the first and second transistors having an input terminal and an output terminal, and the output terminal of the first transistor is connected to the input terminal of the second transistor. The input terminal of the amplifying circuit is connected with the input terminal of the first transistor, the output terminal of the amplifying circuit is connected with the output terminal of the second transistor, 상기 제1의 접속도체는 상기 제1의 접속도체와 상기 반도체 칩의 상기 제1의 대향변 쌍의 한쪽의 변이 서로 교차하도록, 상기 증폭회로의 상기 입력단자에서 상기 기판의 상기 제1의 전극까지 연장하고,The first connection conductor extends from the input terminal of the amplifier circuit to the first electrode of the substrate such that one side of the first pair of opposing sides of the semiconductor chip intersects with the first connection conductor. Extend, 상기 복수의 제2의 접속도체의 각각은, 상기 복수의 제2의 접속도체의 각각과 상기 반도체 칩의 상기 제2의 대향변 쌍의 한쪽의 변이 서로 교차하도록 상기 증폭회로의 상기 출력단자에서 상기 기판의 상기 제2의 전극까지 연장하는 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.Each of the plurality of second connection conductors may be formed at the output terminal of the amplifying circuit such that each of the plurality of second connection conductors and one side of the pair of the second opposing sides of the semiconductor chip cross each other. A high frequency power amplifier module, characterized in that extending to the second electrode of the substrate. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 출력단자와 상기 제2의 트랜지스터의 상기 입력단자는 정합회로를 통해서 서로 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.And the output terminal of the first transistor and the input terminal of the second transistor are connected to each other via a matching circuit. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터의 각각은 게이트, 소스 및 드레인을 가지는 전계효과 트랜지스터를 포함해 이루어지며,Each of the first and second transistors includes a field effect transistor having a gate, a source, and a drain, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 입력단자는, 상기 제1의 트의 상기 전계효과 트랜지스터의 상기 게이트이며,The input terminal of the first transistor is the gate of the field effect transistor of the first transistor, 상기 제2의 트랜지스터의 상기 출력단자는, 상기 제2의 트랜지스터의 상기 전계효과 트랜지스터의 상기 드레인인 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.And said output terminal of said second transistor is said drain of said field effect transistor of said second transistor. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터의 각각은, 바이폴라 트랜지스터인 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.Each of the first and second transistors is a bipolar transistor. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 증폭회로의 상기 입력단자와 상기 출력단자와의 거리는 0.3㎜ 이상이며, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터의 안정계수는 1 이상인 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.And a distance between the input terminal and the output terminal of the amplifying circuit is 0.3 mm or more, and the stability coefficients of the first and second transistors are 1 or more. 제1 및 제2의 전극을 가지는 기판과,A substrate having first and second electrodes, 상기 기판의 1개의 면상에 탑재되고, 제1 및 제2의 대향변 쌍을 가지며, 입력단자 및 출력단자를 가지는 증폭회로를 가지고 이루어지는 4변형 모양의 반도체 칩과,A quadrilateral semiconductor chip mounted on one surface of the substrate, the semiconductor chip having a first and second opposing pairs and having an amplifier circuit having an input terminal and an output terminal; 상기 기판의 상기 제1의 전극과 상기 반도체 칩의 상기 증폭회로의 상기 입력단자를 전기적으로 접속하는 제1의 접속도체와,A first connection conductor electrically connecting the first electrode of the substrate and the input terminal of the amplification circuit of the semiconductor chip; 상기 기판의 상기 제2의 전극과 상기 반도체 칩의 상기 증폭회로의 상기 출력단자를 전기적으로 접속하는 제2의 접속도체를 구비해서 이루어지며,And a second connection conductor electrically connecting the second electrode of the substrate and the output terminal of the amplification circuit of the semiconductor chip, 상기 제1 및 제2의 전극은 상기 1개의 면상에 형성되고,The first and second electrodes are formed on the one surface; 상기 증폭회로는 제1 및 제2의 트랜지스터를 가지며, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터는 입력단자 및 출력단자를 가지고, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 출력단자는 상기 제2의 트랜지스터의 상기 입력단자와 접속되며, 상기 증폭회로의 상기 입력단자는 상기 제1의 트랜지스터의 상기 입력단자와 접속되고, 상기 증폭회로의 상기 출력단자는 상기 제2의 트랜지스터의 상기 출력단자와 접속되며, The amplifying circuit has first and second transistors, the first and second transistors having an input terminal and an output terminal, and the output terminal of the first transistor is connected to the input terminal of the second transistor. The input terminal of the amplifying circuit is connected with the input terminal of the first transistor, the output terminal of the amplifying circuit is connected with the output terminal of the second transistor, 상기 제1의 접속도체는 제1의 방향으로 연장하고, 상기 제2의 접속도체는 상기 제1의 방향과는 다른 제2의 방향으로 연장하며,The first connecting conductor extends in a first direction, and the second connecting conductor extends in a second direction different from the first direction, 상기 제1의 방향과 상기 제2의 방향이 이루는 각도는, 상기 기판의 상기 1개의 면을 평면도로 하여 본 경우에 72~180도의 범위 내에 있는 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.An angle formed between the first direction and the second direction is in a range of 72 to 180 degrees when the one surface of the substrate is viewed in plan view. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 출력단자와 상기 제2의 트랜지스터의 상기 입력단자는 정합회로를 통해서 서로 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.And the output terminal of the first transistor and the input terminal of the second transistor are connected to each other via a matching circuit. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터의 각각은, 게이트, 소스 및 드레인을 가지는 전계효과 트랜지스터를 포함해 이루어지며,Each of the first and second transistors includes a field effect transistor having a gate, a source, and a drain, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 입력단자는, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 전계효과 트랜지스터의 상기 게이트이며,The input terminal of the first transistor is the gate of the field effect transistor of the first transistor, 상기 제2의 트랜지스터의 상기 출력단자는, 상기 제2의 트랜지스터의 상기 전계효과 트랜지스터의 상기 드레인인 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.And said output terminal of said second transistor is said drain of said field effect transistor of said second transistor. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터의 각각은, 바이폴라 트랜지스터인 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.Each of the first and second transistors is a bipolar transistor. 제 11 항에 있어서,The method of claim 11, 상기 증폭회로의 상기 입력단자와 상기 출력단자와의 거리는 0.3㎜ 이상이며, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터의 안정계수는 1 이상인 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.And a distance between the input terminal and the output terminal of the amplifying circuit is 0.3 mm or more, and the stability coefficients of the first and second transistors are 1 or more. 제1 및 제2의 전극을 가지는 기판과,A substrate having first and second electrodes, 상기 기판의 1개의 면상에 탑재되고, 제1 및 제2의 대향변 쌍을 가지며, 입력단자 및 출력단자를 가지는 증폭회로를 가지고 이루어지는 4변형 모양의 반도체 칩과,A quadrilateral semiconductor chip mounted on one surface of the substrate, the semiconductor chip having a first and second opposing pairs and having an amplifier circuit having an input terminal and an output terminal; 상기 기판의 상기 제1의 전극과 상기 반도체 칩의 상기 증폭회로의 상기 입력단자를 전기적으로 접속하는 제1의 접속도체와,A first connection conductor electrically connecting the first electrode of the substrate and the input terminal of the amplification circuit of the semiconductor chip; 상기 기판의 상기 제2의 전극과 상기 반도체 칩의 상기 증폭회로의 상기 출력단자를 전기적으로 접속하는 제2의 접속도체를 구비해서 이루어지며,And a second connection conductor electrically connecting the second electrode of the substrate and the output terminal of the amplification circuit of the semiconductor chip, 상기 제1 및 제2의 전극은 상기 1개의 면상에 형성되고,The first and second electrodes are formed on the one surface; 상기 증폭회로는 제1 및 제2의 트랜지스터를 가지며, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터는 입력단자 및 출력단자를 가지고, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 출력단자는 상기 제2의 트랜지스터의 상기 입력단자와 접속되며, 상기 증폭회로의 상기 입력단자는 상기 제1의 트랜지스터의 상기 입력단자와 접속되고, 상기 증폭회로의 상기 출력단자는 상기 제2의 트랜지스터의 상기 출력단자와 접속되며, The amplifying circuit has first and second transistors, the first and second transistors having an input terminal and an output terminal, and the output terminal of the first transistor is connected to the input terminal of the second transistor. The input terminal of the amplifying circuit is connected with the input terminal of the first transistor, the output terminal of the amplifying circuit is connected with the output terminal of the second transistor, 상기 제1의 전극에서 상기 증폭회로의 상기 입력단자까지의 연장선분으로 정의되는 제1의 방향과, 상기 제2의 전극에서 상기 증폭회로의 상기 출력단자까지의 연장선분으로 정의되는 제2의 방향이 이루는 각도는, 72~180도의 범위 내에 있는 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.A first direction defined by an extension line from the first electrode to the input terminal of the amplification circuit and a second direction defined by an extension line from the second electrode to the output terminal of the amplification circuit The angle formed is in the range of 72 to 180 degrees high frequency power amplifier module. 제 16 항에 있어서,The method of claim 16, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 출력단자와 상기 제2의 트랜지스터의 상기 입력단자는 정합회로를 통해서 서로 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.And the output terminal of the first transistor and the input terminal of the second transistor are connected to each other via a matching circuit. 제 16 항에 있어서,The method of claim 16, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터의 각각은, 게이트, 소스 및 드레인을 가지는 전계효과 트랜지스터를 포함해 이루어지며,Each of the first and second transistors includes a field effect transistor having a gate, a source, and a drain, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 입력단자는, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 전계효과 트랜지스터의 상기 게이트이고,The input terminal of the first transistor is the gate of the field effect transistor of the first transistor, 상기 제2의 트랜지스터의 상기 출력단자는, 상기 제2의 트랜지스터의 상기 전계효과 트랜지스터의 상기 드레인인 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.And said output terminal of said second transistor is said drain of said field effect transistor of said second transistor. 제 16 항에 있어서,The method of claim 16, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터의 각각은, 바이폴라 트랜지스터인 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.Each of the first and second transistors is a bipolar transistor. 제 16 항에 있어서,The method of claim 16, 상기 증폭회로의 상기 입력단자와 상기 출력단자와의 거리는 0.3㎜ 이상이며, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터의 안정계수는 1 이상인 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.And a distance between the input terminal and the output terminal of the amplifying circuit is 0.3 mm or more, and the stability coefficients of the first and second transistors are 1 or more. 제1 및 제2의 전극을 가지는 기판과,A substrate having first and second electrodes, 상기 기판의 1개의 면상에 탑재되고, 제1 및 제2의 대향변 쌍을 가지며, 입력단자 및 출력단자를 가지는 증폭회로를 가지고 이루어지는 4변형 모양의 반도체 칩과,A quadrilateral semiconductor chip mounted on one surface of the substrate, the semiconductor chip having a first and second opposing pairs and having an amplifier circuit having an input terminal and an output terminal; 상기 기판의 상기 제1의 전극과 상기 반도체 칩의 상기 증폭회로의 상기 입력단자를 전기적으로 접속하는 제1의 접속도체와,A first connection conductor electrically connecting the first electrode of the substrate and the input terminal of the amplification circuit of the semiconductor chip; 상기 기판의 상기 제2의 전극과 상기 반도체 칩의 상기 증폭회로의 상기 출력단자를 전기적으로 접속하는 제2의 접속도체를 구비해서 이루어지며,And a second connection conductor electrically connecting the second electrode of the substrate and the output terminal of the amplification circuit of the semiconductor chip, 상기 제1 및 제2의 전극은 상기 1개의 면상에 형성되고,The first and second electrodes are formed on the one surface; 상기 증폭회로는 제1 및 제2의 트랜지스터를 가지며, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터는 입력단자 및 출력단자를 가지며, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 출력단자는 상기 제2의 트랜지스터의 상기 입력단자와 접속되고, 상기 증폭회로의 상기 입력단자는 상기 제1의 트랜지스터의 상기 입력단자와 접속되고, 상기 증폭회로의 상기 출력단자는 상기 제2의 트랜지스터의 상기 출력단자와 접속되며,The amplifying circuit has first and second transistors, the first and second transistors having an input terminal and an output terminal, and the output terminal of the first transistor is connected to the input terminal of the second transistor. The input terminal of the amplifying circuit is connected with the input terminal of the first transistor, the output terminal of the amplifying circuit is connected with the output terminal of the second transistor, 상기 제1의 접속도체는 제1의 방향으로 연장하고, 상기 제2의 접속도체는 상기 제1의 방향과는 다른 제2의 방향으로 연장하며, The first connecting conductor extends in a first direction, and the second connecting conductor extends in a second direction different from the first direction, 상기 제1의 방향과 상기 제2의 방향이 이루는 각도는, 상기 기판의 상기 1개의 면을 평면도로 하여 본 경우에는 약 90도인 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.The angle formed between the first direction and the second direction is about 90 degrees when the one surface of the substrate is viewed in plan view. 제 21 항에 있어서,The method of claim 21, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 출력단자와 상기 제2의 트랜지스터의 상기 입력단자는 정합회로를 통해서 서로 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.And the output terminal of the first transistor and the input terminal of the second transistor are connected to each other via a matching circuit. 제 21 항에 있어서,The method of claim 21, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터의 각각은, 게이트, 소스 및 드레인을 가지는 전계효과 트랜지스터를 포함해 이루어지며,Each of the first and second transistors includes a field effect transistor having a gate, a source, and a drain, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 입력단자는, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 전계효과 트랜지스터의 상기 게이트이며,The input terminal of the first transistor is the gate of the field effect transistor of the first transistor, 상기 제2의 트랜지스터의 상기 출력단자는, 상기 제2의 트랜지스터의 상기 전계효과 트랜지스터의 상기 드레인인 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.And said output terminal of said second transistor is said drain of said field effect transistor of said second transistor. 제 21 항에 있어서,The method of claim 21, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터의 각각은, 바이폴라 트랜지스터인 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.Each of the first and second transistors is a bipolar transistor. 제 21 항에 있어서,The method of claim 21, 상기 증폭회로의 상기 입력단자와 상기 출력단자와의 거리는 0.3㎜ 이상이며, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터의 안정계수는 1 이상인 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.And a distance between the input terminal and the output terminal of the amplifying circuit is 0.3 mm or more, and the stability coefficients of the first and second transistors are 1 or more. 제1 및 제2의 전극을 가지는 기판과,A substrate having first and second electrodes, 상기 기판의 1개의 면상에 탑재되고, 제1 및 제2의 대향변 쌍을 가지며, 입력단자 및 출력단자를 가지는 증폭회로를 가지고 이루어지는 4변형 모양의 반도체 칩과,A quadrilateral semiconductor chip mounted on one surface of the substrate, the semiconductor chip having a first and second opposing pairs and having an amplifier circuit having an input terminal and an output terminal; 상기 기판의 상기 제1의 전극과 상기 반도체 칩의 상기 증폭회로의 상기 입력단자를 전기적으로 접속하는 제1의 접속도체와,A first connection conductor electrically connecting the first electrode of the substrate and the input terminal of the amplification circuit of the semiconductor chip; 상기 기판의 상기 제2의 전극과 상기 반도체 칩의 상기 증폭회로의 상기 출력단자를 전기적으로 접속하는 제2의 접속도체를 구비해서 이루어지며,And a second connection conductor electrically connecting the second electrode of the substrate and the output terminal of the amplification circuit of the semiconductor chip, 상기 제1 및 제2의 전극은 상기 1개의 면상에 형성되고,The first and second electrodes are formed on the one surface; 상기 증폭회로는 제1 및 제2의 트랜지스터를 가지고, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터는 입력단자 및 출력단자를 가지며, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 출력단자는 상기 제2의 트랜지스터의 상기 입력단자와 접속되고, 상기 증폭회로의 상기 입력단자는 상기 제1의 트랜지스터의 상기 입력단자와 접속되며, 상기 증폭회로의 상기 출력단자는 상기 제2의 트랜지스터의 상기 출력단자와 접속되고,The amplifying circuit has first and second transistors, the first and second transistors having an input terminal and an output terminal, and the output terminal of the first transistor is connected to the input terminal of the second transistor. The input terminal of the amplifying circuit is connected to the input terminal of the first transistor, the output terminal of the amplifying circuit is connected to the output terminal of the second transistor, 상기 제1의 전극과 상기 증폭회로의 상기 입력단자와의 거리는, 상기 제2의 전극과 상기 증폭회로의 상기 출력단자와의 거리보다도 긴 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.And the distance between the first electrode and the input terminal of the amplifying circuit is longer than the distance between the second electrode and the output terminal of the amplifying circuit. 제 26 항에 있어서,The method of claim 26, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 출력단자와 상기 제2의 트랜지스터의 상기 입력단자는 정합회로를 통해서 서로 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.And the output terminal of the first transistor and the input terminal of the second transistor are connected to each other via a matching circuit. 제 26 항에 있어서,The method of claim 26, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터의 각각은 게이트, 소스 및 드레인을 가지는 전계효과 트랜지스터를 포함해서 이루어지고,Each of the first and second transistors comprises a field effect transistor having a gate, a source and a drain, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 입력단자는, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 전계효과 트랜지스터의 상기 게이트이며,The input terminal of the first transistor is the gate of the field effect transistor of the first transistor, 상기 제2의 트랜지스터의 상기 출력단자는, 상기 제2의 트랜지스터의 상기 전계효과 트랜지스터의 상기 드레인인 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.And said output terminal of said second transistor is said drain of said field effect transistor of said second transistor. 제 26 항에 있어서,The method of claim 26, 제1 및 제2의 트랜지스터의 각각은, 바이폴라 트랜지스터인 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.Each of the first and second transistors is a bipolar transistor. 제 26 항에 있어서,The method of claim 26, 상기 증폭회로의 상기 입력단자와 상기 출력단자와의 거리는 0.3㎜ 이상이고, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터의 안정계수는 1 이상인 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.And a distance between the input terminal and the output terminal of the amplifier circuit is 0.3 mm or more, and the stability coefficients of the first and second transistors are 1 or more. 제1 및 제2의 전극을 가지는 기판과,A substrate having first and second electrodes, 상기 기판의 1개의 면상에 탑재되고, 제1 및 제2의 대향변 쌍을 가지며, 입력단자 및 출력단자를 가지는 증폭회로를 가지고 이루어지는 4변형 모양의 반도체 칩과,A quadrilateral semiconductor chip mounted on one surface of the substrate, the semiconductor chip having a first and second opposing pairs and having an amplifier circuit having an input terminal and an output terminal; 상기 기판의 상기 제1의 전극과 상기 반도체 칩의 상기 증폭회로의 상기 입력단자를 전기적으로 접속하는 제1의 접속도체와,A first connection conductor electrically connecting the first electrode of the substrate and the input terminal of the amplification circuit of the semiconductor chip; 상기 기판의 상기 제2의 전극과 상기 반도체 칩의 상기 증폭회로의 상기 출력단자를 전기적으로 접속하는 제2의 접속도체를 구비해서 이루어지며,And a second connection conductor electrically connecting the second electrode of the substrate and the output terminal of the amplification circuit of the semiconductor chip, 상기 제1 및 제2의 전극은 상기 1개의 면상에 형성되고,The first and second electrodes are formed on the one surface; 상기 증폭회로는 제1 및 제2의 트랜지스터를 가지고, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터는 입력단자 및 출력단자를 가지며, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 출력단자는 상기 제2의 트랜지스터의 상기 입력단자와 접속되고, 상기 증폭회로의 상기 입력단자는 상기 제1의 트랜지스터의 상기 입력단자와 접속되며, 상기 증폭회로의 상기 출력단자는 상기 제2의 트랜지스터의 상기 출력단자와 접속되고,The amplifying circuit has first and second transistors, the first and second transistors having an input terminal and an output terminal, and the output terminal of the first transistor is connected to the input terminal of the second transistor. The input terminal of the amplifying circuit is connected to the input terminal of the first transistor, the output terminal of the amplifying circuit is connected to the output terminal of the second transistor, 상기 제1의 전극에서 상기 증폭회로의 상기 입력단자까지 연장하는 상기 제1의 접속도체는, 상기 제2의 전극에서 상기 증폭회로의 상기 출력단자까지 연장하는 제2의 접속도체보다도 긴 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.The first connecting conductor extending from the first electrode to the input terminal of the amplifying circuit is longer than the second connecting conductor extending from the second electrode to the output terminal of the amplifying circuit. High frequency power amplifier module. 제 31 항에 있어서,The method of claim 31, wherein 상기 제1의 트랜지스터의 상기 출력단자와 상기 제2의 트랜지스터의 상기 입력단자는 정합회로를 통해서 서로 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.And the output terminal of the first transistor and the input terminal of the second transistor are connected to each other via a matching circuit. 제 31 항에 있어서,The method of claim 31, wherein 상기 제1 및 제2의 트랜지스터의 각각은 게이트, 소스 및 드레인을 가지는 전계효과 트랜지스터를 포함해 이루어지며,Each of the first and second transistors includes a field effect transistor having a gate, a source, and a drain, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 입력단자는, 상기 제1의 트랜지스터의 상기 전계효과 트랜지스터의 상기 게이트이며,The input terminal of the first transistor is the gate of the field effect transistor of the first transistor, 상기 제2의 트랜지스터의 상기 출력단자는, 상기 제2의 트랜지스터의 상기 전계효과 트랜지스터의 상기 드레인인 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.And said output terminal of said second transistor is said drain of said field effect transistor of said second transistor. 제 31 항에 있어서,The method of claim 31, wherein 제1 및 제2의 트랜지스터의 각각은, 바이폴라 트랜지스터인 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.Each of the first and second transistors is a bipolar transistor. 제 31 항에 있어서,The method of claim 31, wherein 상기 증폭회로의 상기 입력단자와 상기 출력단자와의 거리는 0.3㎜ 이상이고, 상기 제1 및 제2의 트랜지스터의 안정계수는 1 이상인 것을 특징으로 하는 고주파 전력 증폭기 모듈.And a distance between the input terminal and the output terminal of the amplifier circuit is 0.3 mm or more, and the stability coefficients of the first and second transistors are 1 or more.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH08222657A (en) * 1995-02-17 1996-08-30 Hitachi Ltd Semiconductor integrated circuit
JPH0927507A (en) * 1995-07-07 1997-01-28 Hitachi Ltd Semiconductor device
KR0156334B1 (en) * 1995-10-14 1998-10-15 김광호 Semiconductor chip package having shield bonding wire for high frequency and high density
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