KR100555343B1 - Method for manufacturing hologram mold, hologram mold manufactured by its method, hologram goods manufactured using its mold - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 홀로그램 금형 제조방법, 이 제조방법에 의해 제조된 홀로그램 금형 및 홀로그램 금형을 통해 제조된 홀로그램 제품에 관한 것이다. 이 중, 홀로그램 금형 제조방법에 있어서는, 판상의 니켈 평금형에 레이저(Laser)에 의한 소정의 홀로그램 이미지를 형성하는 제1단계와; 상기 홀로그램 니켈 평금형을 시트에 UV액 및 자외선램프를 이용하여 홀로그램 이미지 요철을 형성하는 제2단계와; 상기 시트를 상기 홀로그램 니켈 평금형과 분리하여 상기 니켈 평금형에 형성된 홀로그램 이미지 요철을 상기 시트로 전사하는 제3단계와; 홀로그램 이미지 요철이 형성된 시트를 최종적으로 제작하고자 하는 모양의 상부 및 하부금형 사이에 넣고 열프레스 가열 및 냉각하여 상기 시트를 상기 상부 및 하부금형 중 어느 하나로 성형시키는 제4단계와; 상기 상부 및 하부금형 중 어느 하나의 성형면에 성형된 시트를 세척하여 홀로그램 금형을 제조하는 제5단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a hologram mold manufacturing method, a hologram mold manufactured by this manufacturing method, and a hologram product manufactured through the hologram mold. Among these methods, the hologram mold manufacturing method includes: a first step of forming a predetermined hologram image by a laser on a plate-shaped nickel square mold; A second step of forming the holographic image irregularities on the sheet of hologram nickel using a UV solution and an ultraviolet lamp; Separating the sheet from the holographic nickel mold and transferring holographic image irregularities formed in the nickel mold to the sheet; A fourth step of forming the sheet into any one of the upper and lower molds by inserting the sheet having the holographic image irregularities formed between the upper and lower molds of the shape to be finally manufactured by heat press heating and cooling; And a fifth step of manufacturing a hologram mold by washing the sheet formed on any one of the upper and lower molds.

이에 의하여, 한 단계 높은 소비자의 욕구를 충족시키는 한편 제품으로는 홀로그램 이미지에 의한 화려한 연출이 가능하도록 하여 제품의 디자인 혁신 및 위조방지, 브랜드 가치상승등 평면을 포함하여 곡면 및 어느 면에도 홀로그램 이미지가 형성된 홀로그램 제품을 제조할 수 있게 된다.As a result, the holographic image can be displayed on the curved surface and any surface, including the flat surface such as design innovation, anti-counterfeiting, brand value increase, etc., while satisfying the needs of the consumers up to the next level, and the product can be displayed in a colorful manner by the holographic image. It is possible to manufacture the formed hologram product.

Description

홀로그램 금형 제조방법, 이 제조방법에 의해 제조된 홀로그램 금형 및 홀로그램 금형을 통해 제조된 홀로그램 제품{Method for manufacturing hologram mold, hologram mold manufactured by its method, hologram goods manufactured using its mold}Hologram mold manufacturing method, hologram mold manufactured by this manufacturing method and hologram product manufactured by hologram mold {Method for manufacturing hologram mold, hologram mold manufactured by its method, hologram goods manufactured using its mold}

도 1a 내지 도 1h는 각각 본 발명의 제1실시예에 따른 홀로그램 금형을 제조하는 단계를 개략적으로 도시한 도면,1a to 1h schematically illustrate the steps of manufacturing a hologram mold according to the first embodiment of the present invention,

도 2는 도 1a 내지 도 1h에 의해 제조된 홀로그램 금형,Figure 2 is a hologram mold prepared by Figures 1a to 1h,

도 3은 도 2의 홀로그램 금형으로부터 제조된 홀로그램 제품,3 is a hologram product made from the hologram mold of FIG.

도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 홀로그램 금형 제조방법의 순서도,4 is a flowchart of a hologram mold manufacturing method according to a first embodiment of the present invention;

도 5는 본 발명의 도포시스템에 대한 개략적인 도면,5 is a schematic view of a coating system of the present invention;

도 6은 본 발명의 제2실시예에 따른 홀로그램 금형이다.6 is a hologram mold according to a second embodiment of the present invention.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for the main parts of the drawings

10 : 니켈 평금형 20 : 시트10: nickel square mold 20: sheet

40 : 자외선램프 50 : 상부금형40: UV lamp 50: upper mold

52 : 하부금형 60 : 경화된 UV층52: lower mold 60: cured UV layer

70 : 전도층 71 : 도포시스템70 conductive layer 71 coating system

79 : 노즐부 80 : 도금층79 nozzle part 80 plating layer

90 : 홀로그램 금형 95 : 홀로그램 제품90: hologram mold 95: hologram products

본 발명은, 홀로그램 금형 제조방법, 이 제조방법에 의해 제조된 홀로그램 금형 및 홀로그램 금형을 통해 제조된 홀로그램 제품에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 한 단계 높은 소비자의 욕구를 충족시키는 한편 제품으로는 홀로그램 이미지에 의한 화려한 연출이 가능하도록 하여 제품의 디자인 혁신 및 위조방지, 브랜드 가치상승 등 평면을 포함하여 곡면 및 어느 면에도 홀로그램 이미지가 형성된 홀로그램 제품을 제조할 수 있도록 한 홀로그램 금형 제조방법, 이 제조방법에 의해 제조된 홀로그램 금형 및 홀로그램 금형을 통해 제조된 홀로그램 제품에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a hologram mold, a hologram mold manufactured by the manufacturing method and a hologram product manufactured through the hologram mold, and more particularly, to satisfy a higher level of consumer's needs while being a hologram product. Hologram mold manufacturing method for manufacturing hologram products with holographic images formed on curved surfaces and any surface, including planes such as product design innovation, anti-counterfeiting, and brand value increase by enabling brilliant production by image. It relates to a hologram mold manufactured by and a hologram product manufactured through the hologram mold.

소위, 홀로그래피는 최초, 전자현미경의 분해능력을 향상시킬 목적으로부터 출발하였다. 종래의 사진이 물체의 밝고 어두운 면의 분포만을 기록한 데 반해서 홀로그래피는 파동으로서 빛이 가지는 모든 정보, 즉 진폭과 위상을 동시에 축적하고 재생한다는 뜻으로 생각할 수 있다.So-called holography first started with the aim of improving the resolution of electron microscopes. While conventional photographs record only the distribution of the bright and dark sides of an object, holography is a wave that can be thought of as accumulating and reproducing all the information of light, that is, amplitude and phase simultaneously.

홀로그래피의 원리는, 레이저 광원에서 나온 간섭성 빛을 빔스플리터(Beam Splitter)로 둘로 나누어 그 중 한 광선은 피사체를 비추게 하면 피사체 표면에서 난반사된 빛이 홀로그래피 감광재료에 도달한다. 이 광선을 물체광이라고 한다.The principle of holography is that the coherent light from the laser light source is divided into two beam splitters, one of which causes the subject to illuminate the subject, and the diffusely reflected light from the subject surface reaches the holographic photosensitive material. This ray is called object light.

나머지 다른 한 광선은 렌즈로 확산시켜 직접 홀로그래피 감광재료 전면에 비추게 한다. 이 광선을 참조광이라고 한다. 이렇게 되면 홀로그래피 감광재료 상에 물체광과 참조광이 서로 간섭(Interference) 현상을 일으켜 1 mm 당 500 내지 1,500개 정도의 매우 섬세하고 복잡한 간섭무늬를 만든다. 이 간섭무늬를 기록한 사진을 홀로그램이라고 한다.The other ray is diffused into the lens and directly shines onto the holographic photosensitive material. This light is called a reference light. In this case, the object light and the reference light interfere with each other on the holographic photosensitive material, thereby producing about 500 to 1,500 very delicate and complicated interference patterns. A picture of this interference fringe is called a hologram.

이와 같이 하여 만든 홀로그램에 참조광과 같은 광선을 쬐면 간섭무늬가 회절격자의 역할을 해서 참조광이 입사한 방향과 다른 위치에서 빛이 회절되는데, 이 같은 회절광이 모인 것이 마치 처음 물체에서 반사해서 생긴 빛과 같이 된다. 이와 같이 하여 홀로그램에서 처음의 물체광이 재생된다.When a beam such as reference light is applied to the hologram formed as described above, the interference pattern acts as a diffraction grating, and the light is diffracted at a position different from the direction in which the reference light is incident. Becomes In this way, the first object light is reproduced in the hologram.

그렇기 때문에 재생된 파면 안에서 들여다보면 처음 물체가 보이기는 하나 마치 물체가 저 안쪽에 있는 것처럼 보인다. 다시 보는 점을 옮기면 물체가 보이는 위치도 변하여 마치 입체사진을 보는 것처럼 보인다. 또 원래 물체의 파면이 재생되기 때문에 아주 약간 변형한 물체에서 나오는 파면과도 간섭시킬 수가 있다. Therefore, if you look inside the regenerated wavefront, you see the first object, but it looks as if the object is in there. If you move the point again, the position of the object changes, making it look like a stereoscopic picture. Also, because the wavefront of the original object is regenerated, it can interfere with the wavefront from a very deformed object.

이와 같은 홀로그래피의 특징에 대응한 응용분야가 대단히 광범위하다. 또한 홀로그래피는 렌즈를 사용하지 않고 광원상을 결상시킬 수 있으며, 피사체를 조명하는 방법이나 참조광을 쬐는 방법, 그리고 광원이나 감광재료에 따라서 많은 방법이 개발되어 있다.There is a wide range of applications corresponding to such holographic features. In addition, holography can form an image of a light source without using a lens, and many methods have been developed according to a method of illuminating a subject, a method of illuminating a reference light, and a light source or a photosensitive material.

한 홀로그램에 다른 화상을 다중기록하여 한꺼번에 재생할 수 있는 다중정보처리를 할 수 있는 기능이 있으며, 또 입체상을 재현시킬 수 있기 때문에, 입체 텔레비전도 가능할 것이며, 영화필름을 홀로그램으로 전환시켜 놓았다가 필요에 따라 재생시키면 필름의 손상이나 먼지가 전혀 없는 셀렉터비전이 가능하다든지, 단파장광으로 촬영한 홀로그램을 장파장광으로 쬐어 보면 상이 확대되어 보이기 때문에 X-선 현미 홀로그래피로서 생체 내부를 분자정도의 크기로 입체적으로 볼 가능성도 있다. 이와 비슷한 원리로 자외선이나 적외선 등의 불가시광선으로 촬영한 홀로그램을 가시광선으로 조명하여 볼 수도 있다. It has the function of multi-information processing for multi-recording different images on one hologram and playing them all at once, and because it can reproduce stereoscopic images, stereoscopic television will be possible, and it is necessary to convert movie film to hologram If you regenerate it, you can select the vision without any damage or dust on the film, or the hologram photographed with short wavelength light shows the magnification of the image. There is also the possibility to see in three dimensions. Similarly, a hologram taken with invisible light such as ultraviolet rays or infrared rays may be illuminated with visible light.

이처럼 다양한 분야에 응용될 수 있는 홀로그래피 기술에 의해 생산된 홀로그램 제품은 단지, 전술한 것에만 국한되지 않는다. 예를 들어, 주변에서 흔히 접할 수 있는 스티커의 경우, 판면에 홀로그램 이미지 형상을 형성하여 일정한 곳에 접착시킴으로써 전술한 간섭효과를 누려 호기심을 유발시키고 있다.Such hologram products produced by holographic technology that can be applied to various fields are not limited to the above. For example, in the case of stickers commonly encountered in the surroundings, the holographic image shape is formed on a plate surface and bonded to a predetermined place to induce curiosity by enjoying the aforementioned interference effect.

그런데, 지금까지 사용되거나 시중에 나와 있는 홀로그램 제품은 오직 평면상의 종이, 수지, 금속 및 유리 소재 등의 포일/라벨상의 인쇄형태로만 한정되어 있어, 한 단계 높은 소비자의 욕구를 충족시키지 못하는 한계를 드러내고 있다. 뿐만 아니라 현재까지 알려진 기술로는 일정한 각도로 경사진 경사면에 홀로그램 이미지 형상을 형성하기에 역부족 상태에 있다.However, the hologram products used or commercially available so far are limited to foil / label printing forms such as flat paper, resin, metal and glass materials, thus showing limitations that cannot satisfy the needs of the next higher consumer. have. In addition, techniques known to date are inadequate for forming holographic image shapes on inclined surfaces that are inclined at an angle.

본 발명의 목적은, 한 단계 높은 소비자의 욕구를 충족시키는 한편 제품으로는 홀로그램 이미지에 의한 화려한 연출이 가능하도록 평면을 포함하여 곡면 및 어느 면에도 홀로그램 이미지가 형성된 홀로그램 제품을 제조할 수 있도록 한 홀로그램 금형 제조방법, 이 제조방법에 의해 제조된 홀로그램 금형 및 홀로그램 금형을 통해 제조된 홀로그램 제품을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to produce a hologram product capable of manufacturing a hologram product in which a hologram image is formed on a curved surface and any surface, including a flat surface to satisfy a higher level of consumer's needs while allowing products to produce a colorful display by the hologram image. To provide a mold manufacturing method, a hologram mold manufactured by this manufacturing method and a hologram product manufactured through the hologram mold.

상기 목적은, 판상의 니켈 평금형에 레이저(Laser)에 의한 소정의 홀로그램 이미지를 형성하는 제1단계와; 상기 홀로그램 니켈 평금형을 시트에 UV액 및 자외선램프를 이용하여 홀로그램 이미지 요철을 형성하는 제2단계와; 상기 시트를 상기 홀로그램 니켈 평금형과 분리하여 상기 니켈 평금형에 형성된 홀로그램 이미지 요철을 상기 시트로 전사하는 제3단계와; 홀로그램 이미지 요철이 형성된 시트를 최종적으로 제작하고자 하는 모양의 상부 및 하부금형 사이에 넣고 열프레스 가열 및 냉각하여 상기 시트를 상기 상부 및 하부금형 중 어느 하나로 성형시키는 제4단계와; 상기 상부 및 하부금형 중 어느 하나의 성형면에 성형된 시트를 세척하여 홀로그램 금형을 제조하는 제5단계를 포함하는, 홀로그램 금형 제조방법에 의해 달성된다.The object is a first step of forming a predetermined hologram image by a laser on a plate-shaped nickel square mold; A second step of forming the holographic image irregularities on the sheet of hologram nickel using a UV solution and an ultraviolet lamp; Separating the sheet from the holographic nickel mold and transferring holographic image irregularities formed in the nickel mold to the sheet; A fourth step of forming the sheet into any one of the upper and lower molds by inserting the sheet having the holographic image irregularities formed between the upper and lower molds of the shape to be finally manufactured by heat press heating and cooling; And a fifth step of manufacturing a hologram mold by washing the sheet formed on any one of the upper and lower molds.

여기서, 상기 제2단계에서의 시트는, 아크릴, PC, PVC 중 어느 하나 혹은 하나 이상의 조합에 의해 형성된 시트로 채용될 수 있다. 상기 제4단계에 열프레스로 가열 온도는 약 100℃ 내지 200℃이고, 냉각 온도는 약 5℃ 내지 15℃ 범위를 갖는다.Here, the sheet in the second step may be employed as a sheet formed by any one or a combination of acrylic, PC, PVC. In the fourth step, the heating temperature is about 100 ° C to 200 ° C and the cooling temperature is about 5 ° C to 15 ° C.

상기 제5단계의 세척 단계에서는, 알칼리성 탈지제 세척, 증류수 세척, 황산 탈지제 세척, 증류수 세척, 물비누 세척, 증류수 세척, 황산(H2SO4) 10cc를 증류수 1000cc로 희석시켜 세척, 증류수 세척의 순서 혹은 이들 조합에 의해 행해질 수 있다.In the washing step of the fifth step, alkaline degreasing agent washing, distilled water washing, sulfuric acid degreasing agent washing, distilled water washing, water soap washing, distilled water washing, dilute water sulfuric acid (H 2 SO 4 ) 10cc diluted to 1000cc washing, distilled water washing sequence or It can be done by these combinations.

상기 제5단계 후, 상기 상부 및 하부금형 중 어느 하나의 성형면에 형성된 홀로그램 이미지 요철면에 표면약품처리하는 제6단계를 추가로 포함할 수 있다. 그리고, 상기 제6단계에서의 표면약품은 염화제1석(SnCL4 5H2O) 20g을 증류수 700cc로 희석하여 형성된다.After the fifth step, it may further include a sixth step of the surface chemical treatment on the holographic image concave-convex surface formed on any one of the upper and lower molds. In addition, the surface chemical in the sixth step is formed by diluting 20 g of stannous chloride (SnCL 4 5H 2 O) with distilled water 700 cc.

상기 제6단계 후, 상기 상부 및 하부금형 중 어느 하나의 성형면에 형성된 홀로그램 이미지 요철면에 전기가 전도될 수 있는 전도층을 형성하는 제7단계를 더 포함할 수 있다. 이 때, 상기 전도층은 질산은층일 수 있다.After the sixth step, the method may further include a seventh step of forming a conductive layer capable of conducting electricity on the holographic image uneven surface formed on one of the upper and lower molds. In this case, the conductive layer may be a silver nitrate layer.

상기 질산은층이 상기 상부 및 하부금형 중 어느 하나의 성형면에 형성된 홀로그램 이미지 요철면에 도포시키는 도포시스템을 추가로 포함하는 것이 유리하다. 상기 도포시스템은, 질산은(AgNO3) 100g과 암모니아수(NH3) 120cc를 증류수 680cc로 희석한 제1희석액 및 수산화칼륨(KOH) 50g과 암모니아수(NH3) 80cc를 증류수 720cc로 희석한 제2희석액을 저장하는 제1탱크와; 포도당 100g과 포르말린 8cc~12cc와 황산(H2SO4) 4cc를 증류수 780cc로 희석한 제3희석액을 저장하는 제2탱크와; 압축공기공급라인을 가지고 상기 제1 및 제2탱크 내로 압축공기를 공급하는 컴프레서와; 상기 제1 및 제2탱크 내에 침지되는 한 쌍의 분기단부와, 상기 한 쌍의 분기단부로부터 하나의 라인으로 합쳐지는 분사단부를 갖는 분사관과; 상기 분사관의 분사단부에 결합되어 상기 상부 및 하부금형 중 어느 하나의 성형면에 형성된 홀로그램 이미지 요철에 상기 제1 내지 제3희석액을 일체로 도포하는 노즐부를 포함한다.Advantageously, the silver nitrate layer further comprises an application system for applying the holographic image concave-convex surface formed on one of the upper and lower molds. The coating system includes silver nitrate (AgNO 3) 100g and ammonia (NH 3) the first diluent and potassium hydroxide (KOH) was diluted to 120cc with distilled water 680cc 50g and ammonia (NH 3) a second diluent diluting 80cc of distilled water 720cc A first tank for storing the; A second tank for storing a third diluent of 100 g of glucose, 8 cc to 12 cc of formalin, and 4 cc of sulfuric acid (H 2 SO 4 ) diluted with 780 cc of distilled water; A compressor for supplying compressed air into the first and second tanks with a compressed air supply line; A spray pipe having a pair of branch ends immersed in the first and second tanks, and an injection end joined in a line from the pair of branch ends; And a nozzle unit coupled to the injection end of the injection tube to integrally apply the first to third diluents to the hologram irregularities formed on one of the upper and lower molds.

상기 전도층이 형성된 상기 상부 및 하부금형 중 어느 하나의 성형면에 형성 된 홀로그램 이미지 요철에 질산은층을 형성하는 제8단계를 추가로 포함할 수 있다. 상기 제8단계에서는, 상기 상부 및 하부금형 중 어느 하나를 무전해 니켈 도금탱크에 넣어 도금함으로써 상기 질산은층을 무전해 니켈도금층으로 형성하는 것이 유리하다.The method may further include an eighth step of forming a silver nitrate layer on the holographic image irregularities formed on one of the upper and lower molds on which the conductive layer is formed. In the eighth step, it is advantageous to form the silver nitrate layer as an electroless nickel plating layer by plating one of the upper and lower molds into an electroless nickel plating tank.

그리고, 상기 제8단계 후, 상기 도금층이 형성된 상기 상부 및 하부금형 중 어느 하나를 세척 후 가공하면서 원금형표면에 장착하는 제9단계를 추가로 포함할 수 있다.In addition, after the eighth step, the method may further include a ninth step of mounting one of the upper and lower molds on which the plating layer is formed on the surface of the mold while washing and processing the mold.

한편, 상기 목적은, 전술한 홀로그램 금형 제조방법에 의해 제조된 홀로그램 금형, 전술한 홀로그램 금형 제조방법에 의해 제조되어 상기 상부 및 하부금형 중 어느 하나의 성형면의 곡면상에 소정의 홀로그램 이미지 요철이 형성된 홀로그램 금형, 전술한 홀로그램 금형 제조방법에 의해 제조된 홀로그램 금형으로 사출 및 프레스 되어 제조된 홀로그램 제품에 의해서도 달성된다.On the other hand, the above object, the hologram mold manufactured by the above-described hologram mold manufacturing method, the hologram mold manufactured by the above-described hologram mold manufacturing method is a predetermined holographic image irregularities on the curved surface of any one of the upper and lower molds It is also achieved by the formed hologram mold, a hologram product manufactured by injection and pressing into the hologram mold manufactured by the above-described hologram mold manufacturing method.

이하에서는 첨부도면을 참조하여 본 발명의 각 실시예에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail for each embodiment of the present invention.

제1실시예First embodiment

도 1a 내지 도 1h는 각각 본 발명의 제1실시예에 따른 홀로그램 금형을 제조하는 단계를 개략적으로 도시한 도면이고, 도 2는 도 1a 내지 도 1h에 의해 제조된 홀로그램 금형이며, 도 3은 도 2의 홀로그램 금형으로부터 제조된 홀로그램 제품이 고, 도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 홀로그램 금형 제조방법의 순서도이다.1A to 1H are diagrams schematically illustrating steps of manufacturing a hologram mold according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a hologram mold manufactured by FIGS. 1A to 1H, and FIG. 4 is a hologram product manufactured from the hologram mold 2, and FIG. 4 is a flowchart of a hologram mold manufacturing method according to a first embodiment of the present invention.

성형면의 곡면에도 홀로그램 이미지 요철(P)이 형성되도록 하여 최종적으로 양산되는 홀로그램 제품(95, 도 3 참조)의 곡면상에도 홀로그램 이미지 요철(P)이 형성될 수 있도록 한 홀로그램 금형(90, 도 2 참조)을 제조하기 위해서는 도 1a 내지 1h, 그리고 도 4에 도시된 바와 같은 홀로그램 금형 제조방법이 채용된다.Hologram mold 90 (Fig. 3) to form hologram image irregularities (P) on the curved surface of the molding surface so that hologram image irregularities (P) can also be formed on the curved surface of the final mass-produced hologram product (95, Fig. 3). 2), a hologram mold manufacturing method as shown in Figs. 1A to 1H and Fig. 4 is employed.

단, 참조부호 90b와 52는 같은 금형으로 채택될 수 있으며, 50은 홀로그램 곡면 금형 모형 제작단계의 보조금형으로 국한될 수 도 있다.However, reference numerals 90b and 52 may be adopted as the same mold, and 50 may be limited to the auxiliary mold in the hologram curved mold model manufacturing step.

홀로그램 금형 제조방법은, 도 4에 도시된 바와 같이, 크게 제1단계로부터 제9단계로의 과정을 거친다.Hologram mold manufacturing method, as shown in Figure 4, is largely subjected to the process from the first step to the ninth step.

제1단계에서는 판상의 니켈 평금형(10, 홀로그램평금형)에 레이저(Laser)에 의한 소정의 홀로그램 이미지 요철(P)을 형성한다(ST1, 도 4 참조). 판상의 니켈 평금형(10)에 홀로그램 이미지 요철(P)을 형성하는 기술은 전술한 바와 같이, 공지된 홀로그래피의 기술에 기인한다.In the first step, a predetermined holographic image irregularity P is formed by a laser on a plate-shaped nickel flat mold 10 (hologram flat mold) (ST1, see Fig. 4). The technique of forming the holographic image irregularities P in the plate-shaped nickel flat die 10 is due to the known holographic technique, as described above.

제1단계에서 판상의 니켈 평금형(10)에 홀로그램 이미지 요철(P)을 형성하고 나면, 제2단계에서 홀로그램 니켈 평금형(10)을 시트(20)에 UV액을 이용하여 홀로그램 요철면을 형성시킨다. 이 때, 채용될 수 있는 시트(20)는 아크릴, PC, PVC 중 어느 하나 혹은 하나 이상의 조합에 의해 형성될 수 있다.After the holographic image irregularities P are formed in the plate-shaped nickel flat mold 10 in the first step, the holographic uneven surface is formed by using the UV liquid in the sheet 20 with the holographic nickel flat mold 10 in the second step. To form. At this time, the sheet 20 that can be employed may be formed by any one or a combination of acrylic, PC, PVC.

홀로그램 니켈 평금형(10)을 시트(20)에 UV액으로 코팅(30)처리하고 나면, 이를 자외선램프(40)로 소정 시간 노광한다(ST2, 도 4 참조). 자외선램프(40)로 시트(20)를 노광하는 이유는, 최초 판상의 니켈 평금형(10)에 홀로그램 이미지요철(P)이 시트(20)로 전사될 수 있도록 하기 위함이다.After the holographic nickel flat die 10 is coated on the sheet 20 with the UV liquid 30, it is exposed to the ultraviolet lamp 40 for a predetermined time (ST2, see FIG. 4). The reason for exposing the sheet 20 to the ultraviolet lamp 40 is to allow the holographic image irregularities P to be transferred to the sheet 20 in the nickel plate mold 10 of the first plate.

제2단계에서 자외선램프(40)의 노광이 완료되면, 제3단계에서 시트(20)를 홀로그램 니켈 평금형(10)과 분리한다(ST3, 도 4 참조). 그러면, 최초 니켈 평금형(10)에 형성된 홀로그램 이미지 요철(P)이 시트(20)로 전사된다.When the exposure of the ultraviolet lamp 40 is completed in the second step, the sheet 20 is separated from the holographic nickel square mold 10 in the third step (ST3, see FIG. 4). Then, the holographic image irregularities P formed on the initial nickel flat die 10 are transferred to the sheet 20.

이처럼 시트(20)에 홀로그램 이미지 요철(P)이 전사되면, 제4단계에서 제조하고자 하는 홀로그램 제품(95)의 형상에 맞는 상부 및 하부성형면(50a,52a)이 형성된 상부 및 하부금형(50,52)을 준비한다. 본 실시예에서는, 렌즈형상의 홀로그램 제품(95) 제조를 위해 상부 및 하부성형면(50a,52a)이 렌즈형상으로 된 상부 및 하부금형(50,52)을 채용하고 있으며, 하부금형(52)의 하부성형면(52a)에만 홀로그램 이미지 요철(P)이 형성되도록 하고 있다.When the holographic image irregularities P are transferred to the sheet 20 as described above, the upper and lower molds 50 having upper and lower mold faces 50a and 52a formed in the shape of the hologram product 95 to be manufactured in the fourth step are formed. 52). In the present embodiment, the upper and lower molds 50 and 52 in which the upper and lower molding surfaces 50a and 52a are in the form of lenses for the manufacture of the lens-shaped hologram product 95 are employed, and the lower mold 52 The holographic image irregularities P are formed only on the lower molding surface 52a.

그리고는, 홀로그램 이미지 요철(P)이 형성된 시트(20)를 상부 및 하부금형(50,52) 사이에 넣고 열프레스로 가열한다. 이 때, 시트(20)는 상부 및 하부금형(50,52)에 부착되지는 않으며, 상부 및 하부금형(50,52) 사이에서 성형이 되는 것이다. 이 후, 다시 냉각하여 시트(20)를 하부금형(52)의 하부성형면(52a)에 성형시킨다(ST4, 도 4 참조). 이 때, 열프레스에 의한 가열 온도는 약 100℃ 내지 200℃이고, 냉각 온도는 약 5℃ 내지 15℃일 수 있지만, 가열 온도는 대략적으로 약 100℃에서 이루어진다.Then, the sheet 20 on which the hologram image irregularities P are formed is inserted between the upper and lower molds 50 and 52 and heated by a hot press. At this time, the sheet 20 is not attached to the upper and lower molds (50, 52), it is to be molded between the upper and lower molds (50, 52). Thereafter, the sheet 20 is cooled again to be molded on the lower molding surface 52a of the lower mold 52 (ST4, see FIG. 4). At this time, the heating temperature by the heat press may be about 100 ° C to 200 ° C, and the cooling temperature may be about 5 ° C to 15 ° C, but the heating temperature is at about 100 ° C.

이처럼 열프레스로 가열하면, 시트(20)가 상부 및 하부금형(52)의 모양에 따라 변형되면서 성형되는데, 변형 도중 시트(20)에 형성된 홀로그램 이미지 요철(P)은 파괴나 변형이 발생하지 않는 장점이 있다.As such, when heated by a hot press, the sheet 20 is molded while being deformed according to the shape of the upper and lower molds 52, and the holographic image irregularities P formed in the sheet 20 during deformation are not broken or deformed. There is an advantage.

시트(20)가 하부금형(52)의 하부성형면(52a)에 성형되면, 제5단계에서 이를 표면약품처리한다(ST5, 도 4 참조). 여기까지의 단계에서 형성된 홀로그램 이미지 요철(P)은 아직 완성이 되지 않은 상태로써 홀로그램 이미지 요철면(P)에 이물이 달라붙을 수도 있다.When the sheet 20 is molded on the lower molding surface 52a of the lower mold 52, the sheet 20 is subjected to surface chemical treatment (ST5, see FIG. 4). The hologram image irregularities P formed in the steps up to this point are not yet completed, and foreign materials may adhere to the holographic image irregularities P.

만일, 미세한 이물이 달라붙은 상태에서 나머지 단계를 수행하고 나면, 양산되는 홀로그램 제품(95)의 표면에 스크래치가 발생할 수 있다. 따라서, 제5단계에서 시트(20)가 성형된 하부금형(52)의 하부성형면(52a)을 표면약품처리하는 단계 역시 상당히 중요하다 할 수 있다.If the remaining steps are performed while the fine foreign matter is stuck, scratches may occur on the surface of the mass-produced hologram product 95. Therefore, the step of surface chemical treatment of the lower molding surface 52a of the lower mold 52 in which the sheet 20 is formed in the fifth step may also be very important.

제5단계의 표면약품처리 단계에서는, 알칼리성 탈지제 세척, 증류수 세척, 황산 탈지제 세척, 증류수 세척, 물비누 세척, 증류수 세척, 황산(H2SO4) 10cc를 증류수 1000cc로 희석시켜 세척, 증류수 세척의 순서로 행해진다.In the surface chemical treatment step of step 5, alkaline degreasing agent washing, distilled water washing, sulfuric acid degreasing agent washing, distilled water washing, water soap washing, distilled water washing, distilled water (H 2 SO 4 ) 10cc diluted with 1000cc of distilled water, the sequence of washing Is done.

세척 단계가 마무리되면, 제6단계에서 하부금형(52)의 하부성형면(52a)에 융착된 시트(20)의 홀로그램 이미지 요철(P)에 표면약품(60)처리한다(ST6, 도 4 참조). 표면약품(60)은 염화제1석(SnCL4 5H2O) 20g을 증류수 700cc로 희석하여 형성된 것으로 채용될 수 있다.When the cleaning step is finished, the surface chemical 60 is treated on the hologram image irregularities P of the sheet 20 fused to the lower molding surface 52a of the lower mold 52 in the sixth step (ST6, see FIG. 4). ). The surface chemical 60 may be formed by diluting 20 g of stannous chloride (SnCL 4 5H 2 O) with 700 cc of distilled water.

표면약품(60)처리가 완료되면, 제7단계에서 표면약품(60)처리된 홀로그램 패턴(P)에 전기가 전도될 수 있는 전도층(70)을 형성하는데(ST7, 도 4 참조), 본 실시예에서는 전도층(70)을 질산은층으로 하고 있다.When the surface chemical 60 treatment is completed, in the seventh step to form a conductive layer 70 that can conduct electricity to the hologram pattern (P) treated with the surface chemical 60 (ST7, see Fig. 4), In the embodiment, the conductive layer 70 is a silver nitrate layer.

이 때, 표면약품(60)처리된 홀로그램 이미지 요철(P)에 전기가 전도될 수 있는 질산은층을 마련하려면 다음의 도포시스템(71)이 갖춰져야 한다. 도포시스템(71)은, 도 5에 도시된 바와 같이, 질산은(AgNO3) 100g과 암모니아수(NH3) 120cc를 증류수 680cc로 희석한 제1희석액(72) 및 수산화칼륨(KOH) 50g과 암모니아수(NH3) 80cc를 증류수 720cc로 희석한 제2희석액(73)을 저장하는 제1탱크(75)와, 포도당 100g과 포르말린 8cc~12cc와 황산(H2SO4) 4cc를 증류수 780cc로 희석한 제3희석액(74)을 저장하는 제2탱크(76)와, 압축공기공급라인(77a)을 가지고 제1 및 제2탱크(75,76) 내로 압축공기를 공급하는 컴프레서(77)와, 제1 및 제2탱크(75,76) 내에 침지되는 한 쌍의 분기단부(78a)와, 한 쌍의 분기단부(78a)로부터 하나의 라인으로 합쳐지는 분사단부(78b)를 갖는 분사관(78)과, 분사관(78)의 분사단부(78b)에 결합되어 하부금형(52)의 하부성형면(52a)에 형성된 홀로그램 이미지 요철(P)에 제1 내지 제3희석액(72~74)을 일체로 도포하는 노즐부(79)를 포함한다.At this time, in order to provide a silver nitrate layer capable of conducting electricity to the surface chemicals 60 treated hologram image irregularities P, the following coating system 71 should be provided. As shown in FIG. 5, the coating system 71 includes a first diluent 72 diluted with 100 g of silver nitrate (AgNO 3 ) and 120 cc of ammonia water (NH 3 ) with 680 cc of distilled water, 50 g of potassium hydroxide (KOH), and ammonia water ( NH 3 ) The first tank (75) for storing the second diluent (73) diluted with 80cc distilled water 720cc, 100g of glucose, 8cc ~ 12cc formalin and 4cc sulfuric acid (H 2 SO 4 ) dilution water 780cc A second tank 76 for storing the dilution liquid 74, a compressor 77 for supplying compressed air into the first and second tanks 75, 76 with a compressed air supply line 77a, and a first And a spray pipe 78 having a pair of branching ends 78a immersed in the second tanks 75 and 76, and a spraying end 78b joined together in a line from the pair of branching ends 78a, and The first to third diluents 72 to 74 are integrally formed on the holographic image irregularities P formed on the lower molding surface 52a of the lower mold 52 by being coupled to the injection end 78b of the injection tube 78. Nozzle part 79 to apply It includes.

이에, 제1 및 제2희석액(72,73)을 각각 제조하여 제1탱크(75)에 넣고, 제3희석액(74)은 제2탱크(76)에 넣어둔다. 그런 다음, 컴프레서(77)의 작동을 온(ON)시키면, 컴프레서(77)로부터의 압축공기는 압축공기공급라인(77a)을 통해 각각 제1 및 제2탱크(75,76)로 유입된다.Thus, the first and second diluents 72 and 73 are prepared and placed in the first tank 75, and the third diluent 74 is placed in the second tank 76. Then, when the operation of the compressor 77 is turned ON, the compressed air from the compressor 77 flows into the first and second tanks 75 and 76 through the compressed air supply line 77a, respectively.

이렇게 유입되는 압축공기에 의해 제1 및 제2탱크(75,76)의 내부는 고압의 상태가 유지되며, 자연적으로 제1 및 제2탱크(75,76) 내의 제1 내지 제3희석액(72~74)은 각 분기단부(78a)를 통해 하나의 분사단부(78b)로 합쳐진 후, 노즐부(79)를 통해 분사된다. 이를 통상적으로 스프레이식 분사방법이라 할 수 있으며, 이러한 방식에 의해 표면약품(60)처리된 홀로그램 이미지 요철(P)에 전기가 전도될 수 있는 질산은층인 전도층(70)을 형성할 수 있다.The compressed air introduced in this way maintains a high pressure in the interior of the first and second tanks 75 and 76, and naturally the first to third diluents 72 in the first and second tanks 75 and 76. ˜74 are combined through one branch end 78a into one injection end 78b and then sprayed through the nozzle unit 79. This may be generally referred to as a spray method, and may form a conductive layer 70 which is a silver nitrate layer capable of conducting electricity to the holographic image irregularities P treated with the surface chemical 60.

전도층(70)이 형성되고 나면, 제8단계에서, 하부금형(52)의 하부성형면(52a)에 형성된 홀로그램 이미지 요철(P)에 도금층(80)을 형성한다(ST8, 도 4 참조). 도금층(80) 역시 홀로그램 이미지 요철(P)을 보호하기 위한 수단으로써, 니켈도금층이 채용될 수 있다. 즉, 도금하고자 하는 하부금형(52)을 도시 않은 무전해 니켈 도금탱크에 넣어 일정 시간 방치하면, 하부금형(52)의 하부성형면(52a)에 니켈도금층이 형성된다.After the conductive layer 70 is formed, in the eighth step, the plating layer 80 is formed on the holographic image irregularities P formed on the lower molding surface 52a of the lower mold 52 (ST8, see FIG. 4). . The plating layer 80 may also employ a nickel plating layer as a means for protecting the holographic image irregularities (P). That is, when the lower mold 52 to be plated is placed in an electroless nickel plating tank and is left for a predetermined time, a nickel plating layer is formed on the lower molding surface 52a of the lower mold 52.

제8단계에서 도금층(80)을 형성하고 나면 최종적인 제9단계에서, 도금층(80)이 형성된 하부금형(52)의 하부성형면(52a)을 포함하여 하부금형(52)을 가공 및 세척한다(ST9, 도 4 참조). 이로써, 도 2에 도시된 바와 같은 홀로그램 금형(90)이 제조완료된다. 도 2에 도시된 홀로그램 금형(90)은 최초의 상부 및 하부금형(50,52)과는 다른 참조부호 90a,90b를 각각 부여하였다.After the plating layer 80 is formed in the eighth step, in the final ninth step, the lower mold 52 is processed and cleaned, including the lower molding surface 52a of the lower mold 52 on which the plating layer 80 is formed. (ST9, see FIG. 4). Thus, the hologram mold 90 as shown in FIG. 2 is completed. The hologram mold 90 shown in FIG. 2 has been given different reference numerals 90a, 90b than the first upper and lower molds 50,52, respectively.

상기의 방식으로 제조된 홀로그램 금형(90)을 이용하여 홀로그램 제품(95)을 제조하고자 할 경우, 하부금형(52)의 하부성형면(52a)에 형성된 하부성형면(52a)으로 플라스틱이나 유리, 금속 재질의 원료를 넣는다. 그런 다음, 상부금형(50)이 하부금형(52)을 향해 가압되도록 한 후, 상부금형(50)을 하부금형(52)으로부터 이격시키면 상부 및 하부성형면(50a,52a)과 동일한 형상의 홀로그램 제품(95)이 제조될 수 있게 된다.When the hologram product 95 is to be manufactured using the hologram mold 90 manufactured in the above-described manner, plastic or glass may be used as the lower molding surface 52a formed on the lower molding surface 52a of the lower mold 52. Add metal raw materials. Thereafter, the upper mold 50 is pressed toward the lower mold 52, and then the upper mold 50 is spaced apart from the lower mold 52, and the hologram having the same shape as the upper and lower molding surfaces 50a and 52a. The product 95 can be manufactured.

이와 같이, 본 발명에 의하면, 한 단계 높은 소비자의 욕구를 충족시키는 한편 홀로그램 이미지(P)에 의한 화려한 연출이 가능하도록 그 곡면부 및 일측면에 홀로그램 이미지(P)가 형성된 렌즈형상의 홀로그램 제품(95)을 제조할 수 있게 되는 것이다.As described above, according to the present invention, the lens-shaped hologram product having the hologram image P formed on the curved portion and one side thereof so as to satisfy the needs of the consumers up to the next level and to enable the colorful display by the hologram image P ( 95) can be manufactured.

특히, 본 발명의 제1실시예에 의한 홀로그램 금형(90)은, 그 형상이 곡면 형상을 갖는 소위, 곡면금형인 바, 이에 따라 제조되는 홀로그램 제품(95) 역시, 곡면제품으로 완성되므로 종래와 같이 차별화 된 제품을 생산할 수 있는 장점을 가진다.In particular, the hologram mold 90 according to the first embodiment of the present invention is a so-called curved mold having a curved shape, and thus the hologram product 95 manufactured according to the present invention is also finished as a curved product. It has the advantage of being able to produce differentiated products as

제2실시예Second embodiment

전술한 제1실시예에서는 렌즈형상의 홀로그램 제품(95) 제조를 위해 하부금형(52)의 하부성형면(52a)을 렌즈형상으로 형성하였다.In the above-described first embodiment, the lower molding surface 52a of the lower mold 52 is formed in the lens shape to manufacture the lens-shaped hologram product 95.

그러나, 도 6에 도시된 바와 같이, 상부 및 하부성형면(50'a,52'a)이 모두 평평한 상부 및 하부금형(50',52')을 적용하여 제1실시예의 순서를 그대로 적용하고, 사출 및 프레스 방식 등으로 생산한다면, 최종적으로 양산되는 홀로그램 제품(미도시)은 썬캡, 책받침 등 홀로그램이 적용된 판상체가 될 수 있다.However, as shown in FIG. 6, the upper and lower molding surfaces 50'a and 52'a have both flat upper and lower molds 50 'and 52' to apply the order of the first embodiment as it is. If produced by injection, press, etc., the final mass-produced hologram product (not shown) may be a plate-like body with a hologram, such as a sun cap, book support.

이상 도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세히 설명하였으나, 본 발명은 이에 제한되는 것은 아니다.Although the present invention has been described in detail with reference to the drawings, the present invention is not limited thereto.

전술한 실시예에서 보면, 렌즈형상의 홀로그램 제품(95) 제조를 위해 상부 및 하부성형면(50a,52a)이 렌즈형상으로 된 상부 및 하부금형(50,52)을 채용하였으나, 최종적으로 양산될 수 있는 홀로그램 제품의 형상은 렌즈형상을 포함하여, 막 대형상, 별형상 등 어떠한 디자인이던지 소비자가 원하는 제품을 생산할 수 있다.In the above-described embodiment, the upper and lower molds 50 and 52 in which the upper and lower molding surfaces 50a and 52a are lens-shaped for the manufacture of the lens-shaped hologram product 95 are adopted, but finally, The shape of the hologram product can include a lens shape, and can produce a product desired by the consumer in any design such as a large sized image or a star shape.

만일, 운동화나 점퍼 등에 부착되는 공지된 소위, 나이키, 아디다스, 아식스 등의 상표에 홀로그램 이미지 요철(P)영상을 형성하고자 한다면, 이들 상표의 형상이 홀로그램 제품(미도시)이 될 수 있다. 이러한 경우, 이들 상표의 형상에 해당하는 상부 및 하부성형면(미도시)이 형성된 상부 및 하부금형(50,52)을 채용해야 할 것이다.If a hologram image irregularities (P) image is to be formed on a known brand of so-called Nike, Adidas, Asics, etc. attached to sneakers or jumpers, the shape of these brands may be a hologram product (not shown). In this case, it would be necessary to employ upper and lower molds 50 and 52 having upper and lower forming surfaces (not shown) corresponding to the shapes of these brands.

전술한 실시예에서는, 하부금형(52)의 하부성형면(52a)에만 홀로그램 이미지(P)가 형성되도록 하고 있으며, 이러한 경우, 양산되는 홀로그램 제품(95)은 그 일측에만 홀로그램 이미지 요철(P)이 형성된다. 그러나, 상기와 동일한 방법을 이용하여 상부 및 하부금형(50,52)의 상부 및 하부성형면(50a,52a) 모두에 홀로그램 이미지 요철(P)을 형성한다면 양산되는 홀로그램 제품(미도시)의 양면에 모두 홀로그램 이미지 요철(P)이 형성될 수 있을 것이다.In the above-described embodiment, the hologram image P is formed only on the lower molding surface 52a of the lower mold 52. In this case, the mass-produced hologram product 95 has only one hologram image unevenness P on one side thereof. Is formed. However, if the holographic image irregularities P are formed on both the upper and lower forming surfaces 50a and 52a of the upper and lower molds 50 and 52 using the same method as described above, both sides of the holographic product (not shown) produced Hologram image irregularities P may be formed in both.

전술한 제5단계의 세척시, 알칼리성 탈지제 세척, 증류수 세척, 황산 탈지제 세척, 증류수 세척, 물비누 세척, 증류수 세척, 황산(H2SO4) 10cc를 증류수 1000cc로 희석시켜 세척, 증류수 세척의 순서로 행해진다고 설명하였지만, 경우에 따라 이들을 순서적으로 적용하지 않고 몇몇의 조합에 의해 세척이 행해질 수도 있는 것이다.In the washing of the above-mentioned fifth step, alkaline degreasing agent washing, distilled water washing, sulfuric acid degreasing agent washing, distilled water washing, water soap washing, distilled water washing, dilute water sulfuric acid (H 2 SO 4 ) 10cc diluted to 1000cc washing, distilled water washing in the order Although described above, the cleaning may be performed by some combinations without applying them in some cases.

전술한 실시예에서는, 전도층(70)을 질산은층으로 하고 있으나, 전기가 전도될 수 있는 다른 재료, 예를 들어, 백금, 알루미늄 및 동을 포함한 모든 전도성 금 속 재료 및 복합재료를 이용하여 전도층(70)을 형성할 수도 있을 것이다.In the above-described embodiment, the conductive layer 70 is made of silver nitrate, but is conductive using all other conductive metal materials and composite materials, including platinum, aluminum, and copper, to which electricity can be conducted. Layer 70 may be formed.

전술한 실시예에서 홀로그램 금형(90)에 도금층(80)을 형성할 경우, 사용처의 용도에 따라 도금 시간을 조절하여 도금 두께를 결정할 수 있음은 매우 당연한 것이다.When the plating layer 80 is formed on the hologram mold 90 in the above-described embodiment, it is very natural that the plating thickness can be determined by adjusting the plating time according to the purpose of use.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 한 단계 높은 소비자의 욕구를 충족시키는 한편 제품으로는 홀로그램 이미지에 의한 화려한 연출이 가능하도록 평면을 포함하여 곡면 및 어느 면에도 홀로그램 이미지가 형성된 홀로그램 제품을 제조할 수 있도록 한 홀로그램 금형 제조방법, 이 제조방법에 의해 제조된 홀로그램 금형 및 홀로그램 금형을 통해 제조된 홀로그램 제품이 제공된다.As described above, according to the present invention, a hologram product in which a hologram image is formed on a curved surface and any surface, including a flat surface, may be manufactured to satisfy a user's desire to a higher level and as a product, to enable a colorful presentation by the hologram image. A hologram mold manufacturing method, a hologram mold manufactured by the manufacturing method, and a hologram product manufactured through the hologram mold are provided.

Claims (16)

판상의 니켈 평금형에 레이저(Laser)에 의한 소정의 홀로그램 이미지를 형성하는 제1단계와;A first step of forming a predetermined hologram image by a laser on the plate-shaped nickel square mold; 상기 홀로그램 니켈 평금형을 시트에 UV액 및 자외선램프를 이용하여 홀로그램 이미지 요철을 형성하는 제2단계와;A second step of forming the holographic image irregularities on the sheet of hologram nickel using a UV solution and an ultraviolet lamp; 상기 시트를 상기 홀로그램 니켈 평금형과 분리하여 상기 니켈 평금형에 형성된 홀로그램 이미지 요철을 상기 시트로 전사하는 제3단계와;Separating the sheet from the holographic nickel mold and transferring holographic image irregularities formed in the nickel mold to the sheet; 홀로그램 이미지 요철이 형성된 시트를 최종적으로 제작하고자 하는 모양의 상부 및 하부금형 사이에 넣고 열프레스 가열 및 냉각하여 상기 시트를 상기 상부 및 하부금형 중 어느 하나로 성형시키는 제4단계와;A fourth step of forming the sheet into any one of the upper and lower molds by inserting the sheet having the holographic image irregularities formed between the upper and lower molds of the shape to be finally manufactured by heat press heating and cooling; 상기 상부 및 하부금형 중 어느 하나의 성형면에 성형된 시트를 세척하여 홀로그램 금형을 제조하는 제5단계와;A fifth step of manufacturing a hologram mold by washing the sheet formed on any one of the upper and lower molds; 상기 제5단계 후, 상기 상부 및 하부금형 중 어느 하나의 성형면에 형성된 홀로그램 이미지 요철에 표면약품처리하는 제6단계와;A sixth step of subjecting the surface chemical to the holographic image irregularities formed on one of the upper and lower molds after the fifth step; 상기 제6단계 후, 상기 상부 및 하부금형 중 어느 하나의 성형면에 형성된 홀로그램 이미지 요철에 전기가 전도될 수 있는 전도층을 형성하는 제7단계를 포함하는, 홀로그램 금형 제조방법.After the sixth step, comprising a seventh step of forming a conductive layer capable of conducting electricity in the holographic image irregularities formed on any one of the upper and lower mold forming surface. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제2단계에서의 시트는, 아크릴, PC, PVC 중 어느 하나 혹은 하나 이상의 조합에 의해 형성된 시트인 것을 특징으로 하는, 홀로그램 금형 제조방법.The sheet in the second step is a sheet formed by any one or a combination of acrylic, PC, PVC, hologram mold manufacturing method. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제4단계에 열프레스로 가열 온도는 약 100℃ 내지 200℃이고, 냉각 온 도는 약 5℃ 내지 15℃인 것을 특징으로 하는, 홀로그램 금형 제조방법.In the fourth step, the heating temperature by the hot press is about 100 ℃ to 200 ℃, the cooling temperature is about 5 ℃ to 15 ℃, characterized in that the hologram mold manufacturing method. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제5단계의 세척 단계에서는, 알칼리성 탈지제 세척, 증류수 세척, 황산 탈지제 세척, 증류수 세척, 물비누 세척, 증류수 세척, 황산(H2SO4) 10cc를 증류수 1000cc로 희석시켜 세척, 증류수 세척의 순서 혹은 이들 조합에 의해 행해지는 것을 특징으로 하는, 홀로그램 금형의 제조방법.In the washing step of the fifth step, alkaline degreasing agent washing, distilled water washing, sulfuric acid degreasing agent washing, distilled water washing, water soap washing, distilled water washing, dilute water sulfuric acid (H 2 SO 4 ) 10cc diluted to 1000cc washing, distilled water washing sequence or It is performed by these combinations, The manufacturing method of the hologram metal mold | die. 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제6단계에서의 표면약품은 염화제1석(SnCL4 5H2O) 20g을 증류수 700cc로 희석하여 형성된 것을 특징으로 하는, 홀로그램 금형 제조방법.The surface chemical in the sixth step is characterized in that formed by diluting 20 g of chlorite (SnCL 4 5H 2 O) with distilled water 700cc, hologram mold manufacturing method. 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 전도층은 질산은층인 것을 특징으로 하는, 홀로그램 금형 제조방법.The conductive layer is a silver nitrate layer, characterized in that the hologram mold manufacturing method. 제8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 질산은층이 상기 상부 및 하부금형 중 어느 하나의 성형면에 형성된 홀로그램 이미지 요철에 분사시키는 도포시스템을 추가로 포함하는, 홀로그램 금형 제조방법.And a coating system in which the silver nitrate layer is sprayed onto the holographic image irregularities formed on the forming surface of any one of the upper and lower molds. 제9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 도포시스템은,The coating system, 질산은(AgNO3) 100g과 암모니아수(NH3) 120cc를 증류수 680cc로 희석한 제1희석액 및 수산화칼륨(KOH) 50g과 암모니아수(NH3) 80cc를 증류수 720cc로 희석한 제2희석액을 저장하는 제1탱크와;A first diluent containing 100 g of silver nitrate (AgNO 3 ) and 120 cc of ammonia water (NH 3 ) diluted with 680 cc of distilled water and a second diluent diluted with 50 cc of potassium hydroxide (KOH) and 80 cc of ammonia water (NH 3 ) diluted with 720 cc of distilled water. A tank; 포도당 100g과 포르말린 8cc~12cc와 황산(H2SO4) 4cc를 증류수 780cc로 희석한 제3희석액을 저장하는 제2탱크와;A second tank for storing a third diluent of 100 g of glucose, 8 cc to 12 cc of formalin, and 4 cc of sulfuric acid (H 2 SO 4 ) diluted with 780 cc of distilled water; 압축공기공급라인을 가지고 상기 제1 및 제2탱크 내로 압축공기를 공급하는 컴프레서와;A compressor for supplying compressed air into the first and second tanks with a compressed air supply line; 상기 제1 및 제2탱크 내에 침지되는 한 쌍의 분기단부와, 상기 한 쌍의 분기단부로부터 하나의 라인으로 합쳐지는 분사단부를 갖는 분사관과;A spray pipe having a pair of branch ends immersed in the first and second tanks, and an injection end joined in a line from the pair of branch ends; 상기 분사관의 분사단부에 결합되어 상기 상부 및 하부금형 중 어느 하나의 성형면에 형성된 홀로그램 이미지 요철에 상기 제1 내지 제3희석액을 일체로 도포하는 노즐부를 포함하는, 홀로그램 금형 제조방법.And a nozzle unit coupled to the injection end of the injection tube to integrally apply the first to third diluents to the holographic image irregularities formed on any one of the upper and lower molds. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 전도층이 형성된 상기 상부 및 하부금형 중 어느 하나의 성형면에 형성된 홀로그램 이미지 요철에 도금층을 형성하는 제8단계를 추가로 포함하는, 홀로그램 금형 제조방법.And an eighth step of forming a plating layer on the holographic image irregularities formed on any one of the upper and lower molds on which the conductive layer is formed. 제11항에 있어서,The method of claim 11, 상기 제8단계에서는, 상기 상부 및 하부금형 중 어느 하나를 무전해 니켈 도금탱크에 넣어 도금함으로써 상기 질산은층을 니켈도금층으로 형성하는 것을 특징으로 하는, 홀로그램 금형 제조방법.In the eighth step, the silver nitrate layer is formed as a nickel plated layer by plating one of the upper and lower molds in an electroless nickel plating tank, characterized in that the hologram mold manufacturing method. 제11항에 있어서,The method of claim 11, 상기 제8단계 후, 상기 도금층이 형성된 상기 상부 및 하부금형 중 어느 하나를 세척 후 가공하는 제9단계를 추가로 포함하는, 홀로그램 금형 제조방법.After the eighth step, further comprising a ninth step of processing after washing any one of the upper and lower molds with the plating layer formed, hologram mold manufacturing method. 제1항 내지 제4항, 제6항, 제8항 내지 제13항 중 어느 한 항의 홀로그램 금형 제조방법에 의해 제조된 홀로그램 금형.The hologram mold manufactured by the hologram mold manufacturing method of any one of Claims 1-4, 6, 8-13. 제1항 내지 제4항, 제6항, 제8항 내지 제13항 중 어느 한 항의 홀로그램 금형 제조방법에 의해 제조되어 상기 상부 및 하부금형 중 어느 하나의 성형면의 곡면상에 소정의 홀로그램 이미지 요철이 형성된 홀로그램 금형.Claim 1 to 4, 6, 8 to 13 of the hologram mold manufacturing method of any one of the predetermined hologram image on the curved surface of any one of the upper and lower molds Hologram mold with irregularities formed. 제1항 내지 제4항, 제6항, 제8항 내지 제13항 중 어느 한 항의 홀로그램 금형 제조방법에 의해 제조된 홀로그램 금형으로 사출 및 프레스 되어 제조된 홀로그램 제품.A hologram product manufactured by injection and pressing into a hologram mold manufactured by the hologram mold manufacturing method of any one of claims 1 to 4, 6 and 8 to 13.
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KR100949940B1 (en) 2009-10-08 2010-03-30 장한인프라 주식회사 Method for transposing hologram into molded material using micro unevenness hologram, hologram goods manufactured using its method
KR101131516B1 (en) * 2009-06-24 2012-04-16 주영록 Method of manufacturing a hologram metal plate of a curved surface
KR101176465B1 (en) 2010-03-05 2012-08-30 장한인프라 주식회사 Method for transposing hologram into molded material using micro unevenness hologram
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100607246B1 (en) * 2004-11-08 2006-08-02 장두정 Manufacture system of rainbow color coating film
KR100702104B1 (en) * 2005-08-16 2007-04-06 김경연 Gusset plate of hologram mold
KR100773787B1 (en) * 2005-11-24 2007-11-19 (주) 태양기전 Method of forming a hologram on an object and method of manufacturing the hologram on the object

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101131516B1 (en) * 2009-06-24 2012-04-16 주영록 Method of manufacturing a hologram metal plate of a curved surface
KR100949940B1 (en) 2009-10-08 2010-03-30 장한인프라 주식회사 Method for transposing hologram into molded material using micro unevenness hologram, hologram goods manufactured using its method
KR101176465B1 (en) 2010-03-05 2012-08-30 장한인프라 주식회사 Method for transposing hologram into molded material using micro unevenness hologram
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