KR100553255B1 - 마사지 기능을 구비한 발살균 장치 - Google Patents
마사지 기능을 구비한 발살균 장치 Download PDFInfo
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Abstract
본 발명은 빛이 조사되면 광활성을 나타내는 광촉매부재(4), 상기 광촉매부재(4)에 빛을 조사하는 광원(18) 및 상기 광원(18)에 연결설치되어 상기 광원(18)에 전류를 공급하는 전원공급부재(14)를 포함하는 것을 특징으로 하는 발살균 장치에 관한 것이다.
본 발명에 따르면, 광촉매 반응을 이용하여 피부의 노폐물을 제거하고 살균할 수 있다.
광촉매, 발살균 장치, 램프, 산화력, 살균, 마사지
Description
도 1은 본 발명에 따른 투명한 기재에 광촉매가 코팅된 광촉매부재를 이용한 발살균 장치를 나타내는 사시도,
도 2는 본 발명에 따른 이산화티타늄판을 광촉매부재로 이용한 발살균 장치를 나타내는 사시도,
도 3은 본 발명에 따른 이산화티타늄판을 광촉매부재로 이용한 발살균 장치를 나타내는 분해 사시도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
2 : 발살균 장치 4 : 광촉매부재
6 : 평판 8 : 공기 배출구
10 : 하우징 12 : 덮개
14 : 전원공급부재 16 : 송풍팬
18 : 광원 20 : 마사지수단
본 발명은 광촉매를 이용한 발살균 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 광촉매가 코팅된 투명한 광촉매부재 또는 메쉬(mesh)형태의 이산화티타늄판으로 제조된 광촉매부재에 가시광선 및/또는 자외선 등의 빛 에너지를 조사하여 상기 광촉매부재의 표면에서 광활성을 발생시킴으로써 발에 존재하는 노폐물 및 유해균을 살균하는 것에 관한 것이다.
현대인들은 하루중 대부분의 시간을 바깥공간에서 활동하며 보내고 있다. 그러므로 인체의 가장 하부 구조인 발에 하루에 약 700여톤(몸무게 70kg, 10,0 00보 기준)의 부담을 주게 된다. 특히, 발은 인체의 1/4에 해당되는 52개의 뼈와 60개의 관절, 214개의 인대, 38개의 근육을 비롯하여 수많은 혈관으로 구성되어 있고, 인체에 중요한 경혈과 경락이 집중되어 있다. 때문에 중국의 의학서인 '족부반사구건강법' 에 "인체의 모든 기관은 발바닥과 연결되어 있으므로 발이라 함은 인체의 축소판이라 할 수 있다. "라 하고 있다. 따라서, 발의 건강은 곧 몸 전체의 건강과 직결되므로 현대인들은 발건강관리에 많은 관심을 보이고 있다.
이에, 근자에 들어서는 피부만을 관리해주는 피부관리센터가 성업중에 있으며, 이러한 피부관리센터는 안면 및 손, 발 또는 전신에 충분한 영양소를 공급함은 물론 피부를 지속적으로 마사지함으로써, 건강한 피부가 유지되게 하고 있다.
그러나, 발은 양말 및 신발로 보호되고 있으므로 땀 등의 분비물에 의하여 유해균번식에 좋은 여건을 제공하게 되며, 이로 인하여 무좀, 습진 등이 쉽게 발생 하여 피부 조직의 손상 등이 유발될 수 있으므로 단지 마사지 등을 하여 전술한 무좀, 습진 등을 제거하기 어려운 문제점 등이 있다.
전술한 문제점을 극복하기 위하여 발의 피부각질에 기생하는 각종 유해균 등을 제거하기 위한 방법으로 각종 무좀약, 습진제거제 등의 약품을 사용되고 있으나, 이는 사용상 불편하다는 문제점이 있다.
특히, 최근 들어 각종 마사지 기구들이 출시되고 있지만, 종래의 마사지 기구들은 일률적인 마사지에 의한 효과는 기대할 수 있으나, 피부에 기생하는 각종 박테리아 및 세균 등을 제거하지 못하므로 단순 마사지효과 외에는 다른 효과를 전혀 기대할 수 없다.
이에, 본 발명에 따른 발명자들은 악취성분을 탈취하는 공기청정기용 필터, 수중 또는 공기중의 항균을 위한 장치, 유리와 타일 등의 방오 분야에서 적용되어 항균 효과를 나타내는 점를 착안하여 발살균 장치에 적용함으로써 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
본 발명은 광촉매 산화반응을 갖는 투명한 재질에 광촉매를 코팅하여 광촉매부재를 구성하거나 이산화티타늄판으로 광촉매부재를 구성하고, 상기 광촉매부재에 가시광선 및/또는 자외선 등의 빛을 조사하여 광촉매에 산화력을 부여하는 동시에 상기 광촉매를 포함하는 광촉매부재를 발에 접촉시켜 피부의 노폐물을 제거하고 살균하도록 하는데 그 기술적 과제가 있다.
한가지 관점에서, 본 발명은 빛이 조사되면 광활성을 나타내는 광촉매부재, 상기 광촉매부재에 빛을 조사하는 광원 및 상기 광원에 연결설치되어 상기 광원에 전류를 공급하는 전원공급부재를 포함하는 발살균 장치를 제공한다.
다른 관점에서, 본 발명은 빛이 조사되면 광활성을 나타내는 광촉매부재, 상기 광촉매부재에 빛을 조사하는 광원 및 상기 광원에 연결설치되어 상기 광원에 전류를 공급하는 전원공급부재에 추가적으로, 마사지수단을 더 구비한 것을 포함하는 발산균 장치를 제공한다.
여기서, 본 발명에 따른 '광촉매부재'라 함은 광원으로부터 가시광선 및/또는 자외선이 조사되면 광촉매 활성을 나타내는 광촉매가 포함된 기재를 의미하는 것으로서, 투명한 기재에 광촉매가 코팅되어 얇은 판형태로 제조되거나 이산화티타늄판 등으로 제조된 것을 통칭한다.
광촉매 산화반응은 띠 간격에너지(band gap energy) 이상의 빛 에너지를 광촉매에 조사하였을 때 전자와 정공이 발생하고, 정공에 의해 생성되는 수산화라디칼(·OH)의 강력한 산화력으로 광촉매 표면에 흡착된 기상 또는 액상의 유기물이 분해되는 반응을 일컫는다.
즉, 광촉매는 빛 에너지를 흡수함으로써 촉매활성을 나타내게 되는데, 이때 발생하는 강력한 산화력으로 오염물질을 산화분해하고 세균을 살균하는 것이다.
본 발명에서 상기 광촉매 반응을 유도하는 물질로는 TiO2, ZnO2, ZnO, SrTiO3, CdS, GaP, InP, GaAs, BaTiO3, KNbO3, Fe2O3
, Ta2O5, WO3, SnO2, Bi2O3, NiO, Cu2O, SiO, SiO2, MoS2, InPb, RuO2, CeO2 등이 사용될 수 있으며, 상기 광촉매에 Pt, Rh, Ag, Cu, Sn, Ni, Fe 등의 금속 및 이들의 금속산화물을 첨가하여 사용할 수도 있으며, 추천하기로는 인체에 무해하고 광촉매활성이 탁월하며, 내광부식성이 우수하고 가격이 저렴한 이산화티타늄(TiO2)이 좋다.
상기 이산화티타늄은 388㎚ 이하의 자외선을 흡수하여 반응함으로써 전자(전도대)와 정공(가전자대)이 생성되는데, 이때 광원으로 사용되는 자외선은 태양에너지 외에 램프, 백열전등, 수은램프 등의 인공조명이 사용될 수 있다. 상기 반응에서 생성된 전자와 정공은 10-12 내지 10-9 초만에 재결합하지만, 재결합하기 전에 오염물질 등이 표면에 흡착하게 되면 상기 전자와 정공에 의해 분해된다.
최근 들어, 상기 광촉매를 사용하여 악취성분을 탈취하는 공기청정기용 필터, 수중 또는 공기중의 항균을 위한 장치, 유리와 타일 등의 방오 분야에서 실용화되고 있으며, 광촉매가 코팅된 필터는 휘발성 유기화합물을 분해하기 위한 광촉매 시스템에도 적용되고 있다.
본 발명에서는 전술한 광촉매가 갖는 특성을 발살균 장치에 적용한 것으로서, 광촉매를 이용하여 발에 존재하는 유기물을 분해하고, 세균을 살균하여 발을 건강하게 유지시킬 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 발살균 장치의 일양태를 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명에 따른 투명한 기재에 광촉매가 코팅된 광촉매부재를 이용한 발살균 장치를 나타내는 사시도, 도 2는 본 발명에 따른 이산화티타늄판을 광촉매부재로 이용한 발 마사지장치를 나타내는 사시도, 도 3은 본 발명에 따른 이산화티타늄판을 광촉매부재로 이용한 발살균 장치를 나타내는 분해 사시도로서 함께 설명한다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 발살균 장치(2)는 크게 가시광선 및/또는 자외선 등의 빛이 조사되면 광활성을 나타내는 광촉매부재(4)와 상기 광촉매부재(4)에 가시광선 및/또는 자외선을 조사하기 위한 광원(18) 및 상기 광원(18)에 연결설치되어 전류를 공급하는 전원공급부재(14)를 포함한다.
좀더 구체적으로, 본 발명에 따른 발살균 장치(2)는 상기 광촉매부재(4), 상기 광촉매부재(4)가 연결설치되어 있는 평판(6), 상기 평판(6)의 하단에 구비되어 상기 광촉매 부재(4)에 가시광선 및/또는 자외선 등의 빛을 조사하는 광원(18), 상기 광원(18)에 연결설치되어 전류를 공급하는 전원공급부재(14) 및 상기 광원(18)이 고정되어 있는 하우징(10)으로 구성되어 있다.
또한, 본 발명에 따른 발살균 장치(2)는 상기 광촉매부재(4), 상기 광촉매부재(4)가 연결설치되어 있는 평판(6), 상기 평판(6)의 하단에 구비되어 상기 광촉매 부재(4)에 가시광선 및/또는 자외선 등의 빛을 조사하는 광원(18), 상기 광원(18)에 연결설치되어 전류를 공급하는 전원공급부재(14) 및 상기 광원(18)이 고정되어 있는 하우징(10)에 추가적으로, 하우징(10)의 내부 일측에 발을 마사지할 수 있도록 하는 마사지수단(20)을 더 구비할 수 있다.
또한, 전술한 발살균 장치(2)는 필요에 따라 상기 하우징(10)의 일측에 공기를 유동시키는 송풍팬(16)을 구비시킬 수 있고, 상기 송풍팬(16)이 구비될 경우 상기 송풍팬(16)의 상단에 근접한 평판(6) 일측에 상기 송풍팬(16)의 작동에 의하여 공기가 유동될 수 있도록 공기 배출구(8)가 구비된다.
필요에 따라서, 본 발명에 따른 발살균 장치(2)는 발을 외부로 노출시켜 사용하기 때문에 미관상 불쾌감을 유발하지 않도록 발이 안착되는 광촉매부재(4)의 상단에 덮개(12)를 더 구비시킬 수 있다.
여기서, 상기 광촉매부재(4)는 발의 형상을 단순화시킨 형태로 구성되지만 그 형태를 이에 한정하는 것은 아니며, 상기 광원(18)으로부터 조사되는 가시광선 및/또는 자외선 등의 빛이 통과될 수 있는 기재 및/또는 형태이고, 광촉매를 함유한 물질, 예컨데 광촉매가 함유된 투명한 물질 예를 들면, 플라스틱재, 유리재 등 또는 이산화티타늄판 등이라면 어느 것을 사용하여도 무방하며, 바람직하게는 투명한 기재에 광촉매가 코팅된 플라스틱 또는 구멍을 구비한 이산화티타늄판 예를 들면, 메쉬(mesh) 형태로 제조된 이산화티타늄판이 좋고, 그 두께는 기재가 코팅된 플라스틱인 경우 파장 387nm 이하의 가시광선 및/또는 자외선 등의 빛이 통과될 수 있도록 1 내지 4nm, 바람직하게는 1.5 내지 3nm인 것이 좋다.
본 발명에 따라 투명한 기재에 광촉매를 코팅하여 광촉매부재(4)를 제조하는 방법은 상기 투명한 기재에 광촉매를 코팅할 수 있는 방법이라면 어느 것을 사용하여도 무방하며, 대표적으로 많이 사용되고 있는 액상을 경유한 광촉매 코팅방법인 티탄 알콕사이드를 출발물질로 하여 졸을 만든 다음 담체에 코팅하는 방법(일본특허공개공보 평5-253544호)이 있으며, 상기 방법은 코팅한 후 담체 상에서의 광촉매 입자를 생성시키는 단계, 광촉매 활성이 큰 아나타스(anatase)형 결정화 단계 및 담체와의 접착성을 부여하기 위하여 400 내지 600℃에서 소성시키는 단계로 이루어져 있다.
또 다른 광촉매 코팅방법으로 광촉매 코팅용 졸을 사용하지 않고 기상을 경유한 광촉매 코팅방법으로는 일본특허공개공보 소60-44053호에 개시된 스패터링법 또는 화학적 증착법이 있다. 그러나, 이 경우에도 초기투자비, 즉 제조설비가 고가라는 단점이 있으며 코팅두께를 증가시킬 경우 막대한 전력 및 시간 소모가 뒤따른다는 문제점이 있으므로 용도에 따라 코팅방법을 다양하게 선택할 수 있다.
한편, 본 발명에 따른 광촉매부재(4)를 제조함에 있어서, 상기 코팅과정에서 발생할 수 있는 부착력의 감소, 백탁현상 및 코팅된 표면의 부식 등을 감소시키기 위하여 상기 광촉매부재(4)를 메쉬형태의 이산화티타늄판으로 제조할 수 있다.
이때, 상기 이산화티타늄판은 티타늄 금속판을 산화처리하여 수득할 수 있는데, 상기 티타늄 금속판은 보통 이산화티타늄이 94%정도 함유되어 있는 루틸 또는 60%정도 함유되어 있는 티타늄철석 등을 원료로 사용하여 제조할 수 있다.
상기 티타늄 금속판의 제조방법으로는 크롤법(Kroll's Methods), 헌터법(Hunter's Methods) 또는 열분해 방법 등을 이용할 수 있는데, 본 발명에서는 당업계에서 통상적으로 사용되는 크롤법을 사용할 수 있다. 크롤법을 설명하면 다음과 같다.
상기 티타늄철석 등의 원료들을 제련하여 티타늄슬래그 분말로 제조하고, 목탄 또는 코크스를 가하여 소결한 후 염소화로속에서 약 900℃ 정도로 하여 사염화티타늄(TiCl4)을 수득할 수 있다. 사염화티타늄을 수득하는 과정을 나타내는 화학 반응식은 하기와 같다.
상기 과정에 의해 생성된 사염화티타늄에는 철, 규소, 바다듐 등의 염화물이 불순물로 함유되어 있으므로, 이들을 증류시켜 정제하여야 한다. 상기 정제된 사염화티타늄은 1기압의 아르곤가스 속에서 융해한 마그네슘에 적하하여 금속티타늄으로 분리시킬 수 있다. 금속티타늄의 분리과정을 나타내는 화학 반응식은 하기와 같다.
상기 반응물을 가열하여 불순물을 증발시켜 티타늄 스펀지로 제조할 수 있는데, 이때 티타늄 스폰지의 순도는 99.6 내지 99.85%인 것이 바람직하다.
상기 고순도의 티타늄 스폰지를 본 발명에서 사용하기 위해서는 티타늄 금속판으로 제조하여야 하는데, 상기 티타늄 스폰지에서 티타늄 금속판을 제조하는 방법은 용융 티타늄이 공기 중에서 산소 및 질소와의 반응성이 크므로, 이러한 문제점을 해소하기 위한 방법으로는 소모 전극식 진공 아크 용해법(Consumable Vacuum Arc Remelting)을 이용할 수 있다. 이 방법은 티타늄 스폰지를 다져서 소모용 전극(양극)으로 만든 다음, 수냉되고 있는 구리 도가니(음극)사이에서 아크를 발생시켜 그 발열로 전극이 용해되어 도가니 속에 덩어리, 즉 잉곳(ingot)이 생성되게 하는 방법이다. 상기 도가니 속의 잉곳은 압연 등의 성형가공 과정을 통해 티타늄 금속판으로 최종 완성된다.
본 발명에서 사용되는 티타늄 금속판은 티타늄 순도가 90 내지 95%이상, 두께는 1 내지 10mm이상, 표면적은 1.30 내지 1.40㎠/g인 것이 바람직하다.
본 발명에서 상기 티타늄 금속판을 이산화티타늄판으로 제조하기 위해서는 산화처리하는 과정이 필요하다. 본 발명에서 용어 "산화처리"란 티타늄 금속판의 표면을 산소 존재하에 연소시키는 것을 의미한다. 따라서, 티타늄 금속판을 산화시키기 위해서는 연소과정이 필요하며, 이러한 연소과정은 플라즈마(plasma) 장치 또는 토치(torch) 등을 이용할 수 있다.
본 발명에 따른 이산화티타늄판은 가시광선 및/또는 빛이 통과할 수 있는 구멍을 구비하는 것이 바람직하므로, 상기 빛이 통과할 수 있는 구멍을 적어도 하나 이상 구비하는 것이 좋다.
이에, 상기 이산화티타늄판에 구멍을 구비시키는 방법으로는 상기 티타늄 금속판을 타공하여 구멍을 제조한 후 산화처리하여 구멍이 구비된 이산화티타늄판을 제조하거나, 상기 티타늄 금속판을 메쉬형태로 제조한 후 산화처리하여 메쉬 형태의 이산화티타늄판을 제조할 수 있다.
본 발명의 이산화티타늄판을 메쉬형태로 제작하는 방법을 일예로 설명하면 다음과 같다. 먼저 이산화티타늄판을 타공하거나 흠집을 낸 후 좌우로 늘리거나 이산화티타늄판을 신선 및 열처리 한 후 제직하여 메쉬형태의 이산화티타늄판을 제조한다.
한편, 용어 "플라즈마"란 일반적으로 음전기를 띤 전자가 원자나 분자로부터 분리되어 양전기를 띤 이온과 혼돈상태로 섞여있는 것을 의미한다. 본 발명에 있어서, 티타늄 금속판을 산화처리하기 위해 산소를 이온화하여 플라즈마를 만들면, 대량의 산소분자 이온이 생기는데 이 산소분자 이온은 플라즈마 속에 섞여있는 전자를 만나서 재결합하려고 한다. 그러나 이때 전기적으로 중성인 산소분자로 되는 것이 아니고 두개의 산소원자로 되는 것이다. 그러므로 산화시키려는 물질이 갓 생성된 산소원자들 주위에 있게 되면 급속히 산화되는 것이다. 이러한 원리를 이용한 플라즈마 장치로는 일반적으로 전자파를 이용한 플라즈마 장치를 이용한다. 전자파를 이용하여 플라즈마를 대기 중에서 발생시키면, 플라즈마 속의 전자들은 중성입자들과 상호 작용하여 중성입자들을 들뜬 에너지 상태로 만들기도 하고 때로는 산소원자와 같은 활성입자를 만들어 내기도 한다. 따라서, 본 발명에서 사용되는 플라즈마 장치를 이용하여 티타늄 금속판을 산화시켜 광촉매 활성을 나타내는 이산화티타늄판을 제조할 수 있다.
또한, 본 발명은 티타늄 금속판을 산화시키기 위한 연소과정에서 토치를 사용할 수 있다. 토치는 발염 방사 장치로서 산소가 존재하는 상태에 있어서, 높은 온도의 불꽃을 방사하여 주변의 산소분자를 활성화시켜 티타늄 금속판을 산화시킬 수 있다. 본 발명에서 사용되는 토치는 이에 한정되지는 않으나 사용되는 연료에 따라 부탄가스 토치, 아르곤 토치, 이산화탄소/아르곤 토치 및 수소 토치 등이 있는데, 본 발명에서는 부탄가스 토치를 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 광원(18)은 상기 광촉매가 코팅되어 있는 광촉매부재(4)에 빛을 조사하기 위한 것으로, 가시광선 및/또는 자외선 등의 빛을 방출하는 것 예컨대, 램프, 백열전등, 수은램프, 발광다이오드 등의 인공조명이라면 어느 것을 사용하여도 무방하며, 바람직하게는 350 내지 400nm의 파장을 갖는 자외선 램프가 좋다.
본 발명에 따른 평판(6)은 상기 광촉매부재(4)가 연결설치될 수 있도록 하는 것으로서, 상기 광촉매부재(4)가 고정될 수 있는 것, 예를 들면 플라스틱재, 금속재 등이라면 어느 것을 사용하여도 무방지만, 발살균 장치(2)의 무게 및 제조비용을 고려하여 볼 때, 플라스틱재를 사용하는 것이 좋다.
한편, 상기 평판(6)은 필요에 따라, 상기 광촉매부재(4)와 동일한 재질로 구 성할 수 있으며, 상기 평판(6)을 광촉매부재(4)와 동일한 재질로 구성할 경우 본 발명에 따른 광촉매부재(4)는 평판(6)을 함께 포함하여 지칭된다.
본 발명에 따른 마사지수단(20)은 통상적인 피부미용기 및 피부마사지기 등에 적용되어 사용되는 마사지수단(20)을 의미하는 것으로서, 갈바닉 이온전류, 원적외선, 초음파 진동, 오존 또는 스팀 등을 발생시켜 피부미용을 하거나 마사지하는 것이라면 어느 것을 사용하여도 무방하지만 그 적용에 있어서, 초음파 진동, 오존 또는 스팀 발생장치를 사용하는 것이 좋다.
이와 같은 구성을 갖는 발살균 장치의 작동기작을 살펴보면 다음과 같다.
먼저 전원을 공급해주는 전원공급부재(14)에 전류가 인가하여 광원(18)에 전류를 공급하면 상기 광원(18)으로부터 가시광선 및/또는 자외선 등의 빛이 방출되고, 방출된 빛은 광촉매부재(4)로 조사되어 상기 광촉매부재(4)를 구성하는 광촉매에 강력한 산화력을 부여하게 되고, 이와 동시에 상기 광촉매부재(4)에 발 등의 마사지 또는 미용하고자 하는 부분을 접촉시켜 피부에 존재하는 노폐물을 제거하고 유해균을 살균하게 된다.
아울러, 상기 전원공급부재(14)에서 인가되는 전류의 일부를 갈바닉 이온전류, 원적외선 또는 초음파 진동, 오존 또는 스팀 등을 발생시키는 마사지수단(20)으로 공급하여 상기 광촉매부재(4)와 접촉하고 있는 발 등을 마사지할 수 있다.
특히, 본 발명에 따른 발살균 장치(2)를 땀 등의 분비에 의하여 무좀, 습진 등이 발생하는 발에 적용할 경우 발에 기생하는 무좀 및 습진 등의 유해균을 살균 할 수 있을 뿐만 아니라 마사지효과를 함께 제공할 수 있다.
한편, 본 발명에 따른 발살균 장치(2)의 일양태는 간편하게 사용 가능하도록 제작된 미용기로서 그 크기, 모양 및 형태는 목적 및 방법에 따라서 상이한 양태로 제조될 수 있다.
이상의 설명으로부터, 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 이와 관련하여, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 한다. 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
본 발명에 따른 발살균 장치는 광촉매 산화반응을 갖는 광촉매를 투명한 기재에 코팅하거나 이산화티타늄판으로 광촉매부재를 구성하고, 상기 광촉매가 포함된 광촉매부재에 가시광선 및/또는 자외선 등의 빛 에너지를 조사하여 피부의 노폐물 제거하고 살균하는 동시에 마사지를 함께 할 수 있는 효과가 있다.
Claims (7)
- 빛이 조사되면 광활성을 나타내는 광촉매부재(4), 상기 광촉매부재(4)의 하단에 구비되어 광촉매부재(4)에 빛을 조사하는 광원(18) 및 상기 광원(18)에 연결설치되어 상기 광원(18)에 전류를 공급하는 전원공급부재(14)를 포함하는 발살균 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 광촉매부재(4)가 투명한 기재에 광촉매가 코팅된 것을 특징으로 하는 발살균 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 광촉매부재(4)가 이산화티타늄판인 것을 특징으로 하는 발살균 장치.
- 제 3항에 있어서,상기 이산화티타늄판이 메쉬 형태인 것을 특징으로 하는 발살균 장치.
- 제 1항에 있어서,상기 광원(18)이 램프, 백열전등, 수은램프, 발광다이오드 또는 자외선램프인 것을 특징으로 하는 발살균 장치.
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| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
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Payment date: 20120210 Year of fee payment: 7 |
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| FPAY | Annual fee payment |
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