KR100551433B1 - illumination system in stepper for exposing wafer to light - Google Patents

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Abstract

본 발명은 DUV 스텝퍼의 조명계 구조개선을 통해 노광시의 조도(照度) 저하를 미연에 방지할 수 있도록 한 것이다.The present invention is to improve the illumination system structure of the DUV stepper to prevent the lowering of the illuminance during exposure.

이를 위해, 본 발명은 레이저빔을 스텝퍼에서 노광용으로 사용할 수 있는 형태로 만들어 주는 빔 세이핑 가이드 유니트(1)(beam shaping guide unit)와, 레이저빔이 스텝퍼까지 제대로 오고 있는 지를 확인할 수 있는 창 역할을 하는 빔 모니터(4)(beam monitor)와, 레이저빔의 광축 확인시 공압실린더의 구동으로 빛의 경로를 변경시켜 빔 모니터(4)에서 빔을 확인할 수 있도록 하는 미러 스위칭 유니트(2)(mirror switching unit)와, 광축 확인 및 조정시에 공압실린더의 구동으로 핀홀을 이동시켜 빔이 핀홀로 통과하도록 하여 빔 모니터(4) 상에서 빔을 관찰 가능하도록 하는 핀홀 플레이트 스위칭 유니트(3)(pinhole plate switching unit)와, 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 외부 일측에 구비되며 미러 스위칭 유니트(2) 및 핀홀 플레이트 스위칭 유니트(3)를 구동시킬 수 있는 구동원인 에어를 공압실린더 측으로 공급하는 에어챔버(6)와, 상기 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 외부 타측에 구비되어 레이저(8)로부터 나온 빔을 정렬하는 레이저빔 정렬 유니트(12)가 구비된 웨이퍼 노광용 스텝퍼의 조명계에 있어서; 상기 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 내에 상기 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 내의 산소 농도를 검출하는 검출기(5)가 구비되고, 상기 에어챔버(6)와 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 일측에는 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 내부를 정화시키기 위한 퍼지라인(7)이 구비되고, 상기 에어챔버(6) 내 에 저장되어 공압실린더 측으로 공급되는 구동원인 기체가 질소가스로 됨을 특징으로 하는 웨이퍼 노광용 스텝퍼의 조명계가 제공된다.To this end, the present invention serves as a window shaping guide unit (1) for making the laser beam in a form that can be used for exposure in the stepper, and a window for confirming whether the laser beam is properly coming to the stepper. And a mirror switching unit 2 (mirror) for changing the path of the light by driving the pneumatic cylinder when checking the optical axis of the laser beam so as to check the beam in the beam monitor 4. switching unit) and pinhole plate switching unit (3) for moving the pinhole by driving the pneumatic cylinder to check and adjust the optical axis so that the beam passes through the pinhole so that the beam can be observed on the beam monitor (4) unit), which is provided on one side of the beam shaping guide unit (1) and which can drive the mirror switching unit (2) and the pinhole plate switching unit (3). Stepper for wafer exposure provided with an air chamber (6) for supplying air to the pneumatic cylinder side and a laser beam alignment unit (12) arranged on the other outside of the beam shaping guide unit (1) to align the beam from the laser (8) In the illumination system of; A detector 5 for detecting an oxygen concentration in the beam shaping guide unit 1 is provided in the beam shaping guide unit 1, and at one side of the air chamber 6 and the beam shaping guide unit 1. A purge line 7 is provided for purifying the inside of the beam shaping guide unit 1, and the gas serving as the driving source stored in the air chamber 6 and supplied to the pneumatic cylinder is nitrogen gas. An illumination system of a stepper is provided.

스텝퍼, 노광, 웨이퍼, 산소농도, Stepper, exposure, wafer, oxygen concentration,

Description

웨이퍼 노광용 스텝퍼의 조명계{illumination system in stepper for exposing wafer to light}Illumination system in stepper for exposing wafer to light}

도 1은 종래 스텝퍼의 조명계를 나타낸 구성도1 is a configuration diagram showing an illumination system of a conventional stepper

도 2는 본 발명에 따른 스텝퍼의 조명계를 나타낸 구성도2 is a block diagram showing an illumination system of a stepper according to the present invention

도 3은 본 발명에 따른 산소농도 검출 시스템 구성도3 is a block diagram of the oxygen concentration detection system according to the present invention

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

1:빔 세이핑 가이드 유니트 2:미러 스위칭 유니트1: Beam shaping guide unit 2: Mirror switching unit

3:핀홀 플레이트 스위칭 유니트3: pinhole plate switching unit

4:빔 모니터 5:산소농도 검출기4: Beam monitor 5: Oxygen concentration detector

6:에어챔버 7:퍼지라인6: Air chamber 7: Purge line

8:레이저 9:미러8: Laser 9: mirror

10:제어반 11:메인 컨트롤러10: control panel 11: Main controller

12:레이저빔 정렬 유니트12: laser beam alignment unit

본 발명은 웨이퍼 노광용 스텝퍼의 조명계에 관한 것으로서, 더욱 상세하게 는 DUV(Deep Ultra Violet; 이하, "DUV"이라 한다) 스텝퍼의 조명계의 구조 개선을 통해 조명계 내에 존재하는 산소 농도의 허용 농도 초과시 발생하는 조도(照度) 저하를 미연에 방지할 수 있도록 한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an illumination system of a wafer exposure stepper, and more particularly, to improve the structure of an illumination system of a deep ultra violet (DUV) stepper. It is to prevent the fall of roughness in advance.

일반적으로, DUV 스텝퍼의 경우에는, 10W 정도의 강한 KrF 레이저(8)를 광원으로 사용하게 된다.In general, in the case of a DUV stepper, a strong KrF laser 8 of about 10 W is used as the light source.

도 1을 참조하여 종래 DUV 스텝퍼의 조명계에 대해 설명하면 다음과 같다.A lighting system of a conventional DUV stepper will be described with reference to FIG. 1.

종래의 DUV 스텝퍼의 조명계에는, 레이저빔을 스텝퍼에서 노광용으로 사용할 수 있는 형태의 빛으로 빔형상을 만들어 주는 역할을 하는 빔 세이핑 가이드 유니트(1)(beam shaping guide unit)와, 레이저(8)에서 나오는 빛이 스텝퍼까지 제대로 오고 있는 지를 확인할 수 있는 창 역할을 하는 빔 모니터(4)(beam monitor)와, 레이저빔의 광축 확인시 공압실린더의 구동으로 빛의 경로를 변경하여 빔 모니터(4) 쪽으로 빛을 볼 수 있게 해주는 역할을 하는 미러 스위칭 유니트(2)(mirror switching unit)와, 광축 확인 및 조정시에 공압실린더의 구동으로 핀홀을 이동시켜 빔이 핀홀로 통과하도록 하여 빔 모니터(4) 상에서 빔을 관찰가능하도록 하는 핀홀 플레이트 스위칭 유니트(3)(pinhole plate switching unit)와, 레이저(8)에서 나온 빛의 광축이 틀어졌을 경우 이를 조정하는 유니트로서 광축을 상·하, 좌·우로 변경할 수 있는 여러개의 놉이 구비된 광축 조정박스(도시는 생략함)등이 구비된다.The conventional DUV stepper illumination system includes a beam shaping guide unit (1) and a laser (8), which serve to form a beam shape with light of a form that can be used for exposure at the stepper. Beam monitor (4) which acts as a window to check whether the light from the light is coming to the stepper properly, and by changing the path of the light by driving the pneumatic cylinder when checking the optical axis of the laser beam (4) A mirror switching unit (2), which serves to see light toward the light, and a beam monitor (4) by moving a pinhole by driving a pneumatic cylinder to check and adjust an optical axis so that the beam passes through the pinhole. A pinhole plate switching unit (3) for observing beams on the light and a unit for adjusting the optical axis of the light emitted from the laser 8 when the beam is distorted. Axis, upper and lower, left and right of the optical axis adjustment box having a number of knobs is provided for changing the light (shown are omitted).

이 때, 상기 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 외부 일측에는 미러 스위칭 유니트(2) 및 핀홀 플레이트 스위칭 유니트(3)를 구동시킬 수 있는 구동원인 에어 를 공압실린더 측으로 공급하는 에어챔버(6)가 구비되고, 상기 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 외부 타측에는 레이저(8)로부터 나온 빔을 정렬하는 레이저빔 정렬 유니트(12)가 구비된다.At this time, an air chamber 6 for supplying air, which is a driving source capable of driving the mirror switching unit 2 and the pinhole plate switching unit 3, to the pneumatic cylinder, is provided at one outside of the beam shaping guide unit 1. The laser beam alignment unit 12 is arranged at the other outside of the beam shaping guide unit 1 to align the beam emitted from the laser 8.

이와 같이 구성된 종래의 스텝퍼 조명계는 기존의 I-라인 스텝퍼와는 달리 광원으로서 외부에 KrF 레이저(8)가 독자적으로 구성된다.Unlike the conventional I-line stepper, the conventional stepper illumination system configured as described above has KrF laser 8 independently configured as a light source.

또한, 상기 레이저(8)에서 나온 빛은 레이저빔 정렬 유니트(12)를 거쳐 광원으로 사용될 수 있도록 빔 프로파일(beam profile)이 최적화된 상태에서 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 내로 들어가게 된다.In addition, the light from the laser 8 enters the beam shaping guide unit 1 in a state where the beam profile is optimized so that it can be used as a light source via the laser beam alignment unit 12.

이때, 외력에 의한 레이저빔 정렬 유니트(12)의 변형이나 레이저 소모품 교체로 인해 빔 프로파일의 변화가 발생할 우려가 있으므로, 광축을 확인 및 조정할 경우가 발생하게 된다.At this time, the beam profile may change due to the deformation of the laser beam alignment unit 12 due to external force or the replacement of the laser consumable.

즉, 광축 확인 및 조정시, 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 내에 구비된 미러 스위칭 유니트(2)에 에어가 공급되어 공압실린더(도시는 생략함)가 구동하면, 공압실린더의 구동력을 받아, 도 1에 나타낸 바와 같이 미러(9)가 가상선 상태에서 실선 상태로 움직여 빛의 경로를 스텝퍼 본체가 아닌 빔 모니터 쪽으로 바꿔주게 된다.That is, when checking and adjusting the optical axis, if air is supplied to the mirror switching unit 2 provided in the beam shaping guide unit 1 and the pneumatic cylinder (not shown) is driven, the pneumatic cylinder receives the driving force. As shown in Fig. 1, the mirror 9 moves from the virtual line state to the solid line state to change the light path toward the beam monitor instead of the stepper body.

또한, 광축을 정확히 센터에 맞추기 위하여 핀홀을 사용하는데 핀홀의 구동은 광축 조정박스(도시는 생략함)상의 핀홀 선택 스위치를 온/오프 시켜서 행한다.In addition, pinholes are used to accurately center the optical axis, and the pinholes are driven by turning on / off the pinhole selection switch on the optical axis adjustment box (not shown).

즉, 핀홀 선택 스위치를 온시키므로써 에어가 공급되어 핀홀 플레이트 스위칭 유니트(3)의 핀홀이 도 1에 나타낸 바와 같이, 가상선 상태에서 실선 상태로 이동하게 된다.That is, air is supplied by turning on the pinhole selection switch so that the pinhole of the pinhole plate switching unit 3 moves from the virtual line state to the solid line state as shown in FIG.

그러나, 이와 같은 종래 DUV(Deep Ultra Violet) 스텝퍼의 조명계에 있어서는, 10W 정도의 강한 KrF 레이저(8)를 광원으로 사용하기 때문에 많은 렌즈들로 구성된 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 내에 산소가 허용 농도(0.1%) 이상 존재할 경우, 산소와 강한 빛의 반응으로 렌즈면이 산화되어 렌즈 표면의 오염으로 인한 조도 저하 현상이 일어나게 되는 문제점이 있었다.However, in such a conventional DUV (Deep Ultra Violet) stepper illumination system, since the strong KrF laser 8 of about 10 W is used as a light source, oxygen is allowed in the beam shaping guide unit 1 composed of many lenses. If present (0.1%) or more, the lens surface is oxidized by the reaction of oxygen and strong light, there is a problem that the degradation of roughness occurs due to contamination of the lens surface.

특히, 종래에는 공압실린더의 구동원으로서 산소를 사용하므로 인해, 공압실린더의 연결부 및 기타 부위에서 산소의 누설이 발생할 경우, 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 내의 산소농도가 허용 농도를 초과하므로써 렌즈면의 산화를 유발시켜 조도 저하 현상이 일어날 우려가 높았으며, 옵틱 파트들의 수명이 단축되는 등 많은 문제점이 있었다.In particular, conventionally, since oxygen is used as a driving source of the pneumatic cylinder, when oxygen leaks at the connection portion and other parts of the pneumatic cylinder, the oxygen concentration in the beam shaping guide unit 1 exceeds the allowable concentration of the lens surface. There was a high possibility that the degradation of illumination caused by oxidation, and there were many problems such as shortening the life of the optical parts.

본 발명은 상기한 제반 문제점을 해결하기 위한 것으로서, DUV 스텝퍼의 조명계 내부에 구비되는 공압실린더의 구동원을 산소가 아닌 질소로 대체하므로써 렌즈면의 산화로 인한 조도 저하를 미연에 방지할 수 있도록 함과 더불어, 산소 농도의 허용농도 초과시 이를 자동적으로 검출할 수 있도록 하여 알릴 수 있도록 한 웨이퍼 노광용 스텝퍼의 조명계를 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention is to solve the above problems, by replacing the drive source of the pneumatic cylinder provided in the illumination system of the DUV stepper with nitrogen instead of oxygen to prevent the degradation of roughness due to oxidation of the lens surface in advance. In addition, it is an object of the present invention to provide an illumination system of a wafer exposure stepper that can be notified by automatically detecting when the oxygen concentration exceeds the allowable concentration.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 레이저빔을 스텝퍼에서 노광용으로 사용할 수 있는 형태로 만들어 주는 빔 세이핑 가이드 유니트(beam shaping guide unit)와, 레이저빔이 스텝퍼까지 제대로 오고 있는지를 확인할 수 있는 창 역할을 하는 빔 모니터(beam monitor)와, 레이저빔의 광축 확인시 공압실린더의 구동으로 빛의 경로를 변경시켜 빔 모니터에서 빔을 확인할 수 있도록 하는 미러 스위칭 유니트(mirror switching unit)와, 광축 확인 및 조정시에 공압실린더의 구동으로 핀홀을 이동시켜 빔이 핀홀로 통과하도록 하여 빔 모니터 상에서 빔을 관찰 가능하도록 하는 핀홀 플레이트 스위칭 유니트(pinhole plate switching unit)와, 빔 세이핑 가이드 유니트 외부 일측에 구비되며 미러 스위칭 유니트 및 핀홀 플레이트 스위칭 유니트를 구동시킬 수 있는 구동원인 에어를 공압실린더 측으로 공급하는 에어챔버와, 상기 빔 세이핑 가이드 유니트 외부 타측에 구비되어 레이저로부터 나온 빔을 정렬하는 레이저빔 정렬 유니트가 구비된 웨이퍼 노광용 스텝퍼의 조명계에 있어서; 상기 빔 세이핑 가이드 유니트 내에 상기 빔 세이핑 가이드 유니트 내의 산소 농도를 검출하는 검출기가 구비되고, 상기 에어챔버와 빔 세이핑 가이드 유니트 일측에는 상기 빔 세이핑 가이드 유니트 내부를 정화시키기 위한 퍼지라인이 구비되고, 상기 에어챔버 내에 저장되어 공압실린더 측으로 공급되는 구동원인 기체가 질소가스로 됨을 특징으로 하는 웨이퍼 노광용 스텝퍼의 조명계가 제공된다.In order to achieve the above object, the present invention provides a beam shaping guide unit (beam shaping guide unit) for making the laser beam in a form that can be used for exposure in the stepper, and can check whether the laser beam is properly coming to the stepper A beam monitor that acts as a window, a mirror switching unit that changes the path of the light by driving a pneumatic cylinder when checking the optical axis of the laser beam, and a beam switching unit that allows the beam monitor to check the beam. And a pinhole plate switching unit for moving the pinhole by the pneumatic cylinder during adjustment to allow the beam to pass through the pinhole so that the beam can be observed on the beam monitor, and on the outside of the beam shaping guide unit. Air that is a driving source for driving the mirror switching unit and the pinhole plate switching unit An illumination system of a wafer exposure stepper having an air chamber for supplying the air to the pneumatic cylinder side, and a laser beam alignment unit provided on the other outside of the beam shaping guide unit to align the beam from the laser; A detector for detecting oxygen concentration in the beam shaping guide unit is provided in the beam shaping guide unit, and a purge line is provided at one side of the air chamber and the beam shaping guide unit to purify the inside of the beam shaping guide unit. And a gas serving as a driving source stored in the air chamber and supplied to the pneumatic cylinder is nitrogen gas.

이하, 본 발명의 일실시예를 첨부도면 도 2 및 도 3을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 2 and 3.

도 2은 본 발명에 따른 스텝퍼의 조명계를 나타낸 구성도이고, 도 3은 본 발명에 따른 산소농도 검출 시스템 구성도로서, 본 발명은 레이저빔을 스텝퍼에서 노광용으로 사용할 수 있는 형태의 빛으로 빔형상을 만들어 주는 역할을 하는 빔 세이핑 가이드 유니트(1)(beam shaping guide unit)와, 레이저(8)에서 나오는 빛이 스텝퍼까지 제대로 오고 있는지를 확인할 수 있는 창 역할을 하는 빔 모니터(4)(beam monitor)와, 레이저빔의 광축 확인시 공압실린더의 구동으로 빛의 경로를 변경하여 빔 모니터(4) 쪽으로 빛을 볼 수 있게 해주는 역할을 하는 미러 스위칭 유니트(2)(mirror switching unit)와, 광축 확인 및 조정시에 공압실린더의 구동으로 핀홀을 이동시켜 빔이 핀홀로 통과하도록 하여 빔 모니터(4) 상에서 빔을 관찰가능하도록 하는 핀홀 플레이트 스위칭 유니트(3)(pinhole plate switching unit)와, 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 외부 일측에 구비되며 미러 스위칭 유니트(2) 및 핀홀 플레이트 스위칭 유니트(3)를 구동시킬 수 있는 구동원인 에어를 공압실린더 측으로 공급하는 에어챔버(6)와, 상기 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 외부 타측에 구비되어 레이저(8)로부터 나온 빔을 정렬하는 레이저빔 정렬 유니트(12)가 구비된 웨이퍼 노광용 스텝퍼의 조명계에 있어서; 상기 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 내에 상기 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 내의 산소 농도를 검출하는 검출기(5)가 구비되고, 상기 에어챔버(6)와 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 일측에는 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 내부를 정화시키기 위한 퍼지라인(7)이 구비되고, 상기 에어챔버(6) 내에 저장되어 공압실린더 측으로 공급되는 구동원인 기체가 산소 대신 질소가스로 대체되어 구성된 것이다.Figure 2 is a block diagram showing the illumination system of the stepper according to the present invention, Figure 3 is a configuration diagram of the oxygen concentration detection system according to the present invention, the present invention is a beam shape in the form of light that can be used for exposure in the stepper laser beam Beam shaping guide unit (1), which serves to make a beam, and a beam monitor (4), which acts as a window to check whether the light from the laser (8) is coming to the stepper properly (beam monitor, and a mirror switching unit (2) which acts to change the light path by driving the pneumatic cylinder when viewing the optical axis of the laser beam so that the light can be seen toward the beam monitor (4), and the optical axis Pinhole plate switching unit 3 (pinh) which moves the pinhole with the drive of the pneumatic cylinder during check and adjustment so that the beam passes through the pinhole so that the beam can be observed on the beam monitor 4 an air chamber provided at one side of the ole plate switching unit and the beam shaping guide unit 1 and supplying air, which is a driving source capable of driving the mirror switching unit 2 and the pinhole plate switching unit 3, to the pneumatic cylinder side. (6) and an illumination system of a stepper for wafer exposure provided with a laser beam alignment unit (12) which is provided on the other outside of the beam shaping guide unit (1) to align beams emitted from the laser (8); A detector 5 for detecting an oxygen concentration in the beam shaping guide unit 1 is provided in the beam shaping guide unit 1, and at one side of the air chamber 6 and the beam shaping guide unit 1. A purge line 7 for purifying the inside of the beam shaping guide unit 1 is provided, and a gas which is a driving source stored in the air chamber 6 and supplied to the pneumatic cylinder is replaced with nitrogen gas instead of oxygen.

이와 같이 구성된 본 발명의 작용은 다음과 같다.The operation of the present invention configured as described above is as follows.

KrF 레이저(8)의 소모품 교환 후, 또는 스텝퍼의 옵틱 파트(optic part)들의 교환이나, 외력 작용등 여러 가지 이유에 의해 레이저빔의 빔 프로파일이 변화되어 이를 확인할 경우, 레이저빔을 조사하여 광축의 확인을 행하게 된다.If the beam profile of the laser beam is changed due to various reasons such as replacement of the consumables of the KrF laser 8 or replacement of the optical parts of the stepper or external force action, the laser beam is irradiated to determine the optical axis. Confirmation will be performed.

이때, 본 발명에서는 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 내의 미러 스위칭 유니트(2)의 공압실린더로 질소가 공급되어, 도 2에 나타낸 바와 같이, 공압실린더의 구동력에 의해 미러(9)가 가상선 상태에서 실선 상태로 움직여 빛의 경로를 바꿔 빔 모니터(4)를 통해 광축을 확인하게 된다.At this time, in the present invention, nitrogen is supplied to the pneumatic cylinder of the mirror switching unit 2 in the beam shaping guide unit 1, and as shown in FIG. 2, the mirror 9 is in an imaginary line state by the driving force of the pneumatic cylinder. In the state of moving in the solid line to change the path of the light through the beam monitor (4) to check the optical axis.

이와 같이 광축 확인시 보이는 빛 상태로는 정확히 광축을 조정할 수 없어, 광축 조정박스 위에 있는 핀홀 선택 스위치를 온/오프하여 조정하게 되는데, 이때에도 핀홀 플레이트 스위칭 유니트(3)에도 질소가 공급되어, 핀홀이 도 2에 나타낸 바와 같이, 가상선 상태에서 실선 상태로 이동하면 빛이 핀홀을 통과하여 광축 확인을 위한 조정을 정밀하게 수행할 수 있게 된다.In this way, the optical axis cannot be accurately adjusted in the light state seen when checking the optical axis. Thus, the pinhole selection switch on the optical axis adjusting box is turned on / off to adjust the temperature. In this case, the pinhole plate switching unit 3 is supplied with nitrogen to provide a pinhole. As shown in FIG. 2, when moving from the virtual line state to the solid line state, the light passes through the pinhole to precisely perform adjustment for checking the optical axis.

또한, 빔 세이핑 가이드 내에는 산소 농도 검출기(5)가 설치되어 있어, 계속적으로 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 내의 산소농도를 검출하여 이 데이터값을 지속적으로 디스플레이하게 된다.In addition, an oxygen concentration detector 5 is provided in the beam shaping guide to continuously detect the oxygen concentration in the beam shaping guide unit 1 to continuously display this data value.

이에 따라, 작업자는 손쉽게 조명계 내부의 산소 농도를 확인할 수 있으며, 산소 농도가 허용 농도를 초과하면 메인 컨트롤러(11)의 제어에 의해 제어반(10)에 설치된 경고등 또는 경고부저등을 통해 경고신호가 발생되므로 인해, 작업자가 이에 대한 조치를 신속히 취할 수 있게 된다.Accordingly, the operator can easily check the oxygen concentration inside the lighting system, and when the oxygen concentration exceeds the allowable concentration, a warning signal is generated through a warning light or a warning buzzer installed in the control panel 10 by the control of the main controller 11. This allows the operator to take action quickly.

한편, 본 발명에서는 상기 에어챔버(6)와 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 일측을 연결하는 퍼지라인(7)을 통해 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 내부에 질소를 주입시켜 상기 빔 세이핑 가이드 유니트(1) 내부에 잔류하는 산소를 퍼지시킬 수 있게 된다.Meanwhile, in the present invention, nitrogen is injected into the beam shaping guide unit 1 through a purge line 7 connecting one side of the air chamber 6 and the beam shaping guide unit 1 to the beam shaping guide. The oxygen remaining in the unit 1 can be purged.

이상에서와 같이, 본 발명은 스텝퍼의 조명계에 있어서, 광축 확인 및 조정을 위해 사용되는 미러 스위칭 유니트나 핀홀 플레이트 스위칭 유니트의 구동시 공급되는 구동원을 산소에서 질소로 변경하므로써 누설 산소로 인한 급격한 조도저하 및 옵틱 파트들의 수명 단축을 방지할 수 있게 된다.As described above, in the illumination system of the stepper, the present invention suddenly decreases the roughness due to leakage oxygen by changing the driving source supplied when driving the mirror switching unit or the pinhole plate switching unit used for optical axis checking and adjustment. And it is possible to prevent the shortening of the life of the optical parts.

한편, 조명계 내에 산소농도 검출기를 설치함으로써 다른 부분의 문제로 인한 산소 유입을 자동적으로 검출하여 작업자가 이를 인지할 수 있도록 경고하므로써 산소 농도의 한계범위 초과로 인한 조도저하를 미연에 방지할 수 있게 된다.On the other hand, by installing the oxygen concentration detector in the illumination system to automatically detect the oxygen inflow due to the problem of other parts and warn the operator to recognize it, it is possible to prevent the degradation of the illumination caused by exceeding the limit range of the oxygen concentration in advance. .

Claims (1)

레이저빔을 스텝퍼에서 노광용으로 사용할 수 있는 형태로 만들어 주는 빔 세이핑 가이드 유니트(beam shaping guide unit)와, 레이저빔이 스텝퍼까지 제대로 오고 있는 지를 확인할 수 있는 창 역할을 하는 빔 모니터(beam monitor)와, 레이저빔의 광축 확인시 공압실린더의 구동으로 빛의 경로를 변경시켜 빔 모니터에서 빔을 확인할 수 있도록 하는 미러 스위칭 유니트(mirror switching unit)와, 광축 확인 및 조정시에 공압실린더의 구동으로 핀홀을 이동시켜 빔이 핀홀로 통과하도록 하여 빔 모니터 상에서 빔을 관찰 가능하도록 하는 핀홀 플레이트 스위칭 유니트(pinhole plate switching unit)와, 빔 세이핑 가이드 유니트 외부 일측에 구비되며 미러 스위칭 유니트 및 핀홀 플레이트 스위칭 유니트를 구동시킬 수 있는 구동원인 에어를 공압실린더 측으로 공급하는 에어챔버와, 상기 빔 세이핑 가이드 유니트 외부 타측에 구비되어 레이저로부터 나온 빔을 정렬하는 레이저빔 정렬 유니트가 구비된 웨이퍼 노광용 스텝퍼의 조명계에 있어서; A beam shaping guide unit that makes the laser beam into a form that can be used for exposure from the stepper, and a beam monitor that acts as a window to see if the laser beam is properly directed to the stepper. The mirror switching unit allows you to check the beam on the beam monitor by changing the path of light by driving the pneumatic cylinder when checking the optical axis of the laser beam, and the pinhole by driving the pneumatic cylinder when checking and adjusting the optical axis. A pinhole plate switching unit for moving the beam through the pinhole to observe the beam on the beam monitor, and one side of the beam shaping guide unit to drive the mirror switching unit and the pinhole plate switching unit. Air chamber that supplies air, which can be driven, to the pneumatic cylinder And an illumination system of a wafer exposure stepper provided with a laser beam alignment unit arranged on the other outside of the beam shaping guide unit to align beams emitted from a laser; 상기 빔 세이핑 가이드 유니트 내에 상기 빔 세이핑 가이드 유니트 내의 산소 농도를 검출하는 검출기가 구비되고, 상기 에어챔버와 빔 세이핑 가이드 유니트 일측에는 빔 세이핑 가이드 유니트 내부를 정화시키기 위한 퍼지라인이 구비되고, 상기 에어챔버 내에 저장되어 공압실린더 측으로 공급되는 구동원인 기체가 질소가스로 됨을 특징으로 하는 웨이퍼 노광용 스텝퍼의 조명계.A detector for detecting an oxygen concentration in the beam shaping guide unit is provided in the beam shaping guide unit, and a purge line is provided at one side of the air chamber and the beam shaping guide unit to purify the inside of the beam shaping guide unit. And a gas, which is a driving source stored in the air chamber and supplied to the pneumatic cylinder, is nitrogen gas.
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