KR100508554B1 - Distributing valve for preventing a backward flow of waste gas treating apparatus - Google Patents

Distributing valve for preventing a backward flow of waste gas treating apparatus Download PDF

Info

Publication number
KR100508554B1
KR100508554B1 KR10-2003-0016675A KR20030016675A KR100508554B1 KR 100508554 B1 KR100508554 B1 KR 100508554B1 KR 20030016675 A KR20030016675 A KR 20030016675A KR 100508554 B1 KR100508554 B1 KR 100508554B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
waste gas
valve
valve body
movable body
outlets
Prior art date
Application number
KR10-2003-0016675A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20040074885A (en
Inventor
원영식
Original Assignee
원영식
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 원영식 filed Critical 원영식
Priority to KR10-2003-0016675A priority Critical patent/KR100508554B1/en
Publication of KR20040074885A publication Critical patent/KR20040074885A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100508554B1 publication Critical patent/KR100508554B1/en

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment

Abstract

본 발명은 폐기가스 처리장치의 역류방지용 분배밸브에 관한 것으로, 종래의 분배밸브에 부착되는 실린더형 밸브는 사용하다보면 리턴스프링의 반발력이 감소되고, 또한 리턴스프링이 내장된 실린더측으로 파우더가 유입되어 실린더의 내벽에 흡착되며, 특히 폐기가스의 유입이 일시적으로 중단되면 배출되던 폐기가스가 역류되는 문제점이 있었다.The present invention relates to a distribution valve for preventing a backflow of a waste gas treatment device. When the cylindrical valve attached to a conventional distribution valve is used, the repulsive force of the return spring is reduced, and powder is introduced to the cylinder side in which the return spring is incorporated. Adsorbed on the inner wall of the cylinder, there was a problem that the waste gas discharged back when the inlet of the waste gas is temporarily stopped.

이에 본 발명은 예시도 3 내지 도 6에 표현된 바와 같이, 입구(32)와 두 개의 출구(34)(35)를 형성한 밸브몸체(30)와, 경사각을 이루며 한 쌍의 배출구 (42) (43)를 갖춘 가동체(40)와, 내측으로 가이드봉(52)(53)을 형성한 양측의 커버 (50) (51)로 이루어지되, 상기 밸브몸체(30)의 상부 중앙에는 오일포트(36)를 형성하고, 하부에는 일정 간격을 이루는 한 쌍의 공압포트(38)(39)를 형성하며, 상기 가동체 (40)의 양측에 가이드홈(44)(45)을 형성하고, 가동체(40)의 배출구(42)(43)에는 통상의 역류방지장치(70)(71)를 설치하여 폐기가스의 흐름이 역류되지 않으면서 폐기가스를 신속히 배출시킬 수 있도록 한 것이다.Accordingly, the present invention, as shown in Figures 3 to 6, the valve body 30 formed with the inlet 32 and the two outlets 34, 35, and a pair of outlets 42 forming an inclination angle A movable body 40 having a 43 and covers 50 and 51 on both sides having guide rods 52 and 53 formed therein, and an oil port at an upper center of the valve body 30. And a pair of pneumatic ports 38 and 39 formed at a predetermined interval in the lower portion thereof, and guide grooves 44 and 45 formed on both sides of the movable body 40, and movable. Discharge ports 42 and 43 of the sieve 40 are provided with conventional backflow prevention devices 70 and 71 so that the waste gas can be quickly discharged without the flow of the waste gas backflowed.

Description

폐기가스 처리장치의 역류방지용 분배밸브{Distributing valve for preventing a backward flow of waste gas treating apparatus}Distributing valve for preventing a backward flow of waste gas treating apparatus}

본 발명은 폐기가스 처리장치의 역류방지용 분배밸브에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 밸브몸체의 내부에 역류방지수단을 갖춘 가동체를 설치하여 가동체가 좌우로 이동함에 따라 입구로부터 투입하는 폐기가스가 역류하지 않으면서 양측방향의 일측 출구로 배출시킬 수 있도록 한 폐기가스 처리장치의 폐기가스 역류방지용 분배밸브에 관한 것이다.The present invention relates to a distribution valve for preventing the backflow of the waste gas treatment device, and more particularly, by installing a movable body having a backflow prevention means inside the valve body, the waste gas introduced from the inlet flows back from the inlet as the movable body moves left and right. The present invention relates to a waste gas backflow prevention distribution valve of a waste gas treatment apparatus that can be discharged to one side outlet in both directions without having to.

반도체 생산라인에서는 각종 반응가스와 크리닝가스를 사용하여 제품을 제조하게 되며, 이러한 반도체 제품의 제조공정에서 폐기가스가 배출되는 공정의 일예로는 웨이퍼 처리공정이 있으며, 이를 상세히 설명하면 챔버(진공상태)내의 웨이퍼에 다종의 반응가스를 공급 화학반응시켜 웨이퍼 상면에 산화막을 형성하는 산화막 증착 처리공정이 있다.The semiconductor production line manufactures products using various reaction gases and cleaning gases. An example of a process in which waste gas is discharged from the manufacturing process of such semiconductor products includes a wafer processing process, and the chamber (vacuum state) will be described in detail. There is an oxide film deposition treatment process in which a plurality of reaction gases are supplied to a wafer inside a wafer to chemically react to form an oxide film on the upper surface of the wafer.

이때, 챔버내에서는 웨이퍼의 산화막 성장에 관여하면서 유독가스, 수분, 잔류가스와 분진형태의 산화규소 등의 잔류물질이 형성된다. At this time, in the chamber, toxic gases, moisture, residual gases, and dusty silicon oxide in the form of dust are formed while being involved in the oxide film growth of the wafer.

특히, 반도체 제조공정에서는 다종의 반응가스(프로세싱 가스)와 크리닝 가스를 사용되는데, 상기 가스들은 대개가 독성이 매우 강해서 인체에 치명적이고, 또한 서로 다른 성분의 가스가 혼합되거나 공기와 혼합되면 폭발할 수도 있어서 사용한 반응가스와 크리닝가스는 별개의 배출관을 통해 폐기가스 정화장치로 배출되어 인체에 무해한 가스로 정화된 후 대기 중으로 배출되고 있다.In particular, the semiconductor manufacturing process uses a variety of reaction gases (processing gas) and cleaning gas, which is usually very toxic to the human body, and may explode when gas of different components are mixed or mixed with air. The reaction gas and the cleaning gas used in the tap water are discharged to a waste gas purification device through separate discharge pipes, and are purified into gases that are harmless to humans and discharged to the atmosphere.

상기 반도체 제조공정상에서 사용되는 프로세싱 가스와 크리닝 가스의 처리과정을 간단하게 설명하면 도 1에 표현된 바와 같이, 프로세싱 가스 흡인라인과 크리닝 가스 흡입라인을 갖춘 챔버(1)에 프로세싱 가스 흡입라인을 통해 프로세싱 가스가 흡입되어 챔버(1)에 들어있는 다량의 웨이퍼는 산화막처리가 된다.The processing of the processing gas and the cleaning gas used in the semiconductor manufacturing process will be briefly described. As shown in FIG. 1, the processing gas suction line is provided to the chamber 1 having the processing gas suction line and the cleaning gas suction line. Processing gas is sucked in and a large amount of wafers contained in the chamber 1 is subjected to an oxide film treatment.

상기 웨이퍼에 산화막처리를 한 챔버에 들어 있는 프로세싱가스는 배출라인에 설치되어 있는 진공펌프(2)의 부압에 의해 배출되어지되, 상기 프로세싱가스는 분할개폐식의 분배밸브(5)를 통해 정화장치인 스크로버(3)로 보내어 정화된다.The processing gas contained in the chamber subjected to the oxide film treatment on the wafer is discharged by the negative pressure of the vacuum pump 2 installed in the discharge line, and the processing gas is purged through a split-opening distribution valve 5. It is sent to the scrubber 3 and it is purified.

이어서 크리닝가스 흡입라인을 통해 세정용 크리닝가스를 주입하여 잔여 프로 세싱 가스를 배출하게 되고 이렇게 배출되는 크리닝가스와 잔여 프로세싱가스는 분할개폐식의 분배밸브(5)를 통해 또 다른 정화장치인 스크로버(4)로 보내어 정화된다.Subsequently, the cleaning gas is injected through the cleaning gas suction line to discharge the remaining processing gas, and the cleaning gas and the processing gas discharged through the cleaning gas suction line are further removed through a scrubber (Spurber). 4) sent to cleanse.

상기 각종 프로세싱가스를 분할 개폐하는 분배밸브(5)는 도 2에 표현된 바와 같이, 1개소의 흡입구(6)와 2개소의 배출구(7) 및 세정용 질소가스 유입구(8)가 형성된 금속경통(9)으로 이루어진 밸브몸체(10)와, 상기 금속경통(9)의 양측에 형성된 배출구(7)를 개폐시키도록 설치된 공압제어식의 실린더밸브(20)로 이루어져 있다. 여기서, 금속경통(9)의 양측에 설치되는 실린더밸브(20)는 동일한 구조를 이루고 있어 일측의 실린더밸브(20)의 구조를 예를 들어 설명하기로 한다. As shown in FIG. 2, the distribution valve 5 which opens and closes the various processing gases has a metal barrel including one inlet port 6, two outlet ports 7, and a nitrogen gas inlet port 8 for cleaning. It consists of a valve body (10) consisting of (9) and a pneumatically controlled cylinder valve (20) installed to open and close the outlet (7) formed on both sides of the metal barrel (9). Here, the cylinder valve 20 provided on both sides of the metal barrel 9 has the same structure and will be described by taking an example of the structure of the cylinder valve 20 on one side.

상기 실린더밸브(20)는 리턴스브링(11)이 안치된 스프링실린더(12)와, 공압이 주입되는 구동포트(13)를 갖춘 부싱플랜지(14)와, 상기 스프링실린더(12)와 부싱플랜지(14)를 보울트로 금속경통(9)에 함께 장착시키는 실린더플랜지(15)와, 양측으로 패킹(16)과 개폐패킹(18)이 갖춰진 샤프트(17), 그리고 부싱플랜지(14)와 샤프트(17)의 사이틈을 밀폐하기 위한 0-링(19)으로 이루어져 있다. The cylinder valve 20 is a bushing flange (14) having a spring cylinder (12) with a return spring (11) seated therein, a driving port (13) through which air pressure is injected, and the spring cylinder (12) and a bushing flange. A cylinder flange 15 for attaching the 14 to the metal barrel 9 with a bowl; a shaft 17 provided with a packing 16 and an opening / closing packing 18 on both sides; and a bushing flange 14 and a shaft ( It consists of a 0-ring (19) for sealing the gap between 17).

이러한 종래의 분배밸브(5)의 동작을 설명하면, 공정후 폐기가스를 지정된 배출구(7)로 배출하기 위해서는 일측 부싱플랜지(14)의 구동보트(13)로 공압을 주입하면 패킹(16)이 리턴스프링(11)을 압축시키면서 샤프트(17)가 스프링실린더(12)측으로 이동함으로 개폐패킹(18)이 통로를 열어주게 되어 흡입구(6)를 통해 유입된 폐기가스는 지정된 배출구(7)로 빠져나가게 된다.Referring to the operation of the conventional distribution valve (5), in order to discharge the waste gas after the process to the designated outlet (7) by injecting air into the drive boat 13 of the one side bushing flange 14, the packing 16 is As the shaft 17 moves toward the spring cylinder 12 while compressing the return spring 11, the opening / closing packing 18 opens the passage so that the waste gas introduced through the inlet 6 exits to the designated outlet 7. Will go out.

이때, 타측 통로는 도면에 표현된 바와 같이 구동포트(13))에 공압이 가해지지 않은 상태에서는 리턴스프링(11)에 의해 샤프트(17)의 일측에 형성된 개폐패킹(18)이 통로를 폐쇄시킨 상태를 이루게 됨으로서, 유입된 폐기가스는 지정된 배출구(7)만으로 배출되어 정화장치로 이송되고, 정화장치로 이송된 폐기가스는 정화되어 대기중으로 배출되는 것이다.At this time, the other passage is the opening and closing packing 18 formed on one side of the shaft 17 by the return spring 11 in the state that the pneumatic pressure is not applied to the drive port 13, as shown in the figure By achieving the state, the introduced waste gas is discharged only to the designated discharge port 7 and transferred to the purification apparatus, and the waste gas transferred to the purification apparatus is purified and discharged to the atmosphere.

그러나, 상기와 같은 종래의 분배밸브(5)는 흡입구(6)와 양측의 배출구(7)가 설치되는 위치가 직각을 이루고 있고, 또한 실린더밸브(20) 자체의 구조가 매우 복잡하여 여러 가지 문제점이 있었다.However, in the conventional distribution valve 5 as described above, the inlet 6 and the outlet 7 on both sides are formed at right angles, and the structure of the cylinder valve 20 itself is very complicated, which leads to various problems. There was this.

상기 분배밸브(5)의 여러 가지 문제점을 상세히 설명하면, 챔버(1)에서 배출되는 폐기가스는 정화장치(4)로 이송중 온도변화로 인해 자연적으로 파우더가 생성되는데, 이렇게 생성된 파우더는 분배밸브(5)의 내부벽에 흡착되며, 특히 직각을 이루는 곡관부분에 파우더가 집중적으로 흡착되어 곡관부분의 통로가 협소해지면서 폐기가스가 원활하게 이송되지 못하는 문제점이 있었다. When the various problems of the distribution valve 5 will be described in detail, the waste gas discharged from the chamber 1 is naturally produced powder due to the temperature change during the transfer to the purification device 4, the powder thus produced is distributed Adsorbed on the inner wall of the valve (5), in particular powder is concentrated on the curved portion formed at right angles, there is a problem that the waste gas is not smoothly transported as the passage of the curved portion narrows.

또한, 밸브몸체(10)의 양측으로 돌출되도록 실린더밸브(20)가 부착됨으로 해서 분배밸브(5)의 전체적인 부피가 늘어나게 되어 설비라인의 공간활용이 효율적이지 못하며, 특히 구조적으로 실린더밸브(20)는 장시간 사용하다보면 리턴스프링 (11)의 반발력이 감소되어 제기능을 다하지 못하고, 또한 리턴스프링(11)이 내장된 스프링실린더 (12)측으로 파우더가 유입되어 스프링실린더(12)의 내벽에 흡착되면서 일정한 공압이 가해져도 패킹(16)이 리턴스프링(11)을 압축시키지 못해 실린더밸브(20)의 기능을 다하지 못하는 문제점이 있었다.In addition, since the cylinder valve 20 is attached to protrude to both sides of the valve body 10, the overall volume of the distribution valve 5 is increased, so the space utilization of the equipment line is not efficient, and in particular, the cylinder valve 20 When the long time use, the repulsive force of the return spring 11 is reduced and does not function properly, and the powder is introduced into the spring cylinder 12 in which the return spring 11 is built in and adsorbed onto the inner wall of the spring cylinder 12. Even if a constant pneumatic pressure was applied, the packing 16 did not compress the return spring 11, and thus there was a problem in that the cylinder valve 20 did not function.

특히, 분배밸브(5)의 흡입구(6)를 흡입되던 폐기가스가 차단되면 분배밸브 (5)에 있던 폐기가스가 역류되는 문제점이 있었다.In particular, when the waste gas that was sucked into the inlet 6 of the distribution valve 5 is blocked, there was a problem that the waste gas in the distribution valve 5 flows back.

이에 본 발명은 밸브몸체의 내부에 경사각을 이루는 한 쌍의 출구를 갖춘 가동체를 설치하여 가동체가 좌우로 이동함에 따라 배출방향을 전환시켜 폐기가스를 배출시킬 수 있도록 한 폐기가스 처리장치의 분배밸브를 제공하는데 그 목적이 있는 것이다.Accordingly, the present invention is to install a movable body having a pair of outlets forming an inclination angle inside the valve body to switch the discharge direction as the movable body moves left and right to discharge the waste gas discharging valve of the waste gas processing apparatus The purpose is to provide.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 입구와 두 개의 출구를 형성한 밸브몸체와, 경사각을 이루며 한 쌍의 배출구를 갖춘 가동체와, 내측으로 가이드봉을 형성한 양측의 커버로 이루어지되, 상기 밸브몸체의 상부 중앙에는 통상의 오일포트를 형성하고, 하부에는 일정 간격을 이루는 한 쌍의 공압포트를 형성하며, 상기 가동체의 양측에 가이드홈을 형성하고, 가동체의 배출구에는 통상의 역류방지장치를 설치하여 일방향으로 배출되게 하며, 배출구에는 수직하방향의 주입홀을 형성하여 어 일측으로 이동했을 때 밸브몸체의 하부에 형성한 어느 하나의 공압포트와 일치하도록 하고, 상기 커버의 중앙에는 공압 또는 유압을 가할 수 있는 투입구를 형성함으로서, 입구관을 통해 유입되는 폐기가스는 경사각을 이루며 한쌍을 이루는 배출구를 갖춘 가동체가 이동함에 따라 어는 일측의 배출관으로 배출하여 폐기가스 정화장치로 이송하도록 한 것이다.In order to achieve the above object, the present invention consists of a valve body formed with an inlet and two outlets, a movable body having a pair of outlets forming an inclination angle, and covers of both sides formed with a guide rod inward, A normal oil port is formed in the upper center of the valve body, a pair of pneumatic ports are formed at a predetermined interval in the lower part, guide grooves are formed on both sides of the movable body, and a normal counter flow is provided at the outlet of the movable body. by installing a protection device and discharged in one direction, the outlet is to form the injection hole in the vertical downward direction, and to match any one of the pneumatic ports formed in the lower portion of the valve body when the user moves to a side air slow, the center of the cover By forming an inlet for applying pneumatic or hydraulic pressure, the waste gas flowing through the inlet pipe forms an inclined angle and paired outlets With one that is transferred to a waste gas purification unit to discharge the discharge pipe of the freezing side as the movable body moves.

이하, 본 발명을 첨부된 예시도면을 참고로 하여 그 구성과 작용을 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the configuration and operation in detail with reference to the accompanying drawings, the present invention will be described.

예시도 3 은 본 발명에 따른 분배밸브의 분해사시도이고, 도 4 는 본 발명에 따른 분배밸브의 사시도이며, 도 5 의 (a)와 (b)는 본 발명에 따른 분배밸브의 작동상태를 나타낸 단면도이고, 도 6 의 (a)와 (b)는 본 발명에 따른 다른 예의 분배밸브 작동상태 단면도이며, 도 7 은 본 발명에 따른 분배밸브의 다른 예의 사시도이다.3 is an exploded perspective view of a distribution valve according to the present invention, Figure 4 is a perspective view of the distribution valve according to the present invention, Figure 5 (a) and (b) shows the operating state of the distribution valve according to the present invention 6 (a) and 6 (b) are cross-sectional views of another example of a distribution valve operating state according to the present invention, and FIG. 7 is a perspective view of another example of a distribution valve according to the present invention.

상기 예시도에 표현된 바와 같이, 본 발명은 입구(32)와 두 개의 출구 (34)(35)를 형성한 밸브몸체(30)와, 상기 밸브몸체(30)내에서 좌우로 이동하며 두개의 배출구(42)(43)을 갖춘 가동체(40)와, 내측으로 가이드봉(52)(53)을 형성한 양측의 커버(50)(51)로 이루어지되, 상기 밸브몸체(30)의 상부 중앙에는 통상의 오일포트 (36)를 형성하고, 하부에는 일정 간격을 이루는 한 쌍의 공압포트(38)(39)를 형성하며, 상기 가동체(40)의 양측에 가이드홈(44)(45)을 형성하고, 가동체(40)의 배출구(42)(43)에는 통상의 역류방지장치(70)(71)를 설치하여 일방향으로 배출되게 하며, 배출구(42)(43)에는 수직하방향의 주입홀(46)(47)을 형성하여 어 일측으로 이동했을 때 밸브몸체(30)의 하부에 형성한 어느 하나의 공압포트(38)(39)와 일치하도록 하고, 상기 커버(50)(51)의 중앙에는 공압 또는 유압을 가할 수 있는 투입구(54)(55)를 형성하여 이루어진 것이다.As shown in the exemplary diagram, the present invention provides a valve body 30 that forms an inlet 32 and two outlets 34 and 35, and moves left and right within the valve body 30. A movable body 40 having outlets 42 and 43, and covers 50 and 51 on both sides having guide rods 52 and 53 formed therein, and having an upper portion of the valve body 30. A general oil port 36 is formed in the center, and a pair of pneumatic ports 38 and 39 are formed at a predetermined interval in the lower portion thereof, and guide grooves 44 and 45 are provided at both sides of the movable body 40. ), The outlets 42 and 43 of the movable body 40 are installed with a conventional backflow prevention device 70 and 71 so as to be discharged in one direction, and the outlets 42 and 43 in the vertical downward direction. the injection holes 46, 47 a formed when the user moves to a side air slow and to match any one of the pneumatic ports 38, 39 formed in the lower portion of the valve body 30, the cover 50 At the center of 51 is pneumatic or hydraulic It is made by forming the inlet (54, 55) that can be applied.

상기 밸브몸체(30)의 출구(34)(35)와 가동체(40)의 배출구(42)(43)는 입구 (32)를 중심으로 단면상 일정한 경사각을 형성하여 가동체(40)가 이동함에 따라 밸브몸체(30)의 입구(32)와 연통되도록 되어 있다. The outlets 34 and 35 of the valve body 30 and the outlets 42 and 43 of the movable body 40 form a constant inclination angle in cross section about the inlet 32 so that the movable body 40 moves. Accordingly, the inlet 32 of the valve body 30 is communicated.

또한 상기 밸브몸체(30)의 출구(34)(35)와 가동체(40)의 배출구(42)(43)는 입구를 중심으로 단면상 하나는 수직선을 이루고 하나는 경사각으로 형성하여 가동체(40)가 이동함에 따라 밸브몸체(30)의 입구(32)와 연통되도록 되어 있다. In addition, the outlets 34 and 35 of the valve body 30 and the outlets 42 and 43 of the movable body 40 form one vertical line in cross section with one inclined angle at the center of the inlet and the movable body 40. ) Is in communication with the inlet 32 of the valve body 30 as it moves.

상기 통상의 역류방지장치(70)(71)는 가동체(40)의 통로인 배출구(42)(43)측에 형성된 단차면에 설치되는 것으로서 본인이 선출원한 실용신안등록 제293095호에 상세히 설명한바 있으나, 본 발명의 구성과 연계하여 간략하게 설명하면, 환형을 이루는 암환부와 수환부가 배출구(42)(43)의 단차면에 끼워지고 이어서 지지환이 끼워져 내측으로 노즐부를 갖추고 있다.The conventional backflow prevention device (70) (71) is installed on the step surface formed on the discharge port (42) 43 side, which is a passage of the movable body 40, and will be described in detail in Utility Model Registration No. 293095. However, briefly described in connection with the configuration of the present invention, the annular female ring portion and the receiver portion is fitted to the stepped surface of the discharge port 42, 43, and then the support ring is fitted to have a nozzle portion inward.

상기 노즐부는 암환부와 수환부의 내측면이 만곡부와 곡면부로 형성되어 이격된 상태로 이루어져 있으며, 상기 암환부의 외주면에는 등간격을 이루는 주입공이 다수 형성되어 있어 밸브몸체(30)의 하부에 형성된 공압포트(38)(39)로부터 공급되는 공압(N2가스)은 가동체(40)의 주입홀(46)(47)을 통해 주입공으로 유입되어 노즐부를 통해 분사됨으로 배출되는 폐기가스는 역류되지 않고 일방향으로 흐르게 된다.The nozzle portion is formed in a state in which the inner surface of the female ring portion and the receiving portion is formed by the curved portion and the curved portion spaced apart, the pneumatic pressure formed in the lower portion of the valve body 30 is formed with a plurality of injection holes forming equal intervals on the outer peripheral surface of the female ring portion The pneumatic pressure (N 2 gas) supplied from the ports 38 and 39 flows into the injection hole through the injection holes 46 and 47 of the movable body 40 and is injected through the nozzle portion, and the waste gas discharged is not flowed back. It flows in one direction.

도면중 미 설명부호 80은 밸브몸체(30)와 커버(50)(51)를 결합시키는 보울트이고, 82는 밸브몸체(30)와 커버(50)(51)사이에 설치되어 기밀성을 갖추기 위한 O-링이다.In the figure, reference numeral 80 is a bolt for coupling the valve body 30 and the cover 50, 51, and 82 is provided between the valve body 30 and the cover 50, 51 to provide airtightness. -Ring.

상기와 같이 이루어진 본 발명은 도 3 내지 도 5에 표현된 바와 같이 밸브몸체(30)에는 입구(32)과 출구(34)(35)가 형성되어 있고, 내부에 설치되는 가동체 (40)의 작동을 원활히 하면서 폐기가스에서 생성되는 파우더의 유출을 방지하기 위해 오일포트(36)이 상부에 형성되며, 가동체(40)의 배출구(42)(43)에 설치된 역류방지장치(70)(71)에 N2가스(공압)를 공급하기 위해 공압포트(38)(39)가 하부에 형성되어 있다.3 to 5, the present invention made as described above has an inlet 32 and an outlet 34, 35 formed in the valve body 30, and the movable body 40 installed therein. The oil port 36 is formed on the upper portion to prevent the outflow of powder generated from the waste gas while smoothly operating, and the backflow preventing device 70, 71 installed at the outlets 42, 43 of the movable body 40. In order to supply N 2 gas (pneumatic) to the pneumatic ports 38, 39 are formed in the lower portion.

특히 밸브몸체(30)에 형성된 출구(34)(35)와 입구(32)는 필요에 따라 보울트결합을 이루도록 하여 탈착가능 하도록 형성할 수 있으며, 경우에 따라서는 용접에 의해 일체를 이루게 형성할 수도 있다.In particular, the outlets 34 and 35 and the inlet 32 formed in the valve body 30 may be formed to be detachable by forming a bolt coupling, if necessary, may be formed integrally by welding in some cases. have.

상기와 같은 밸브몸체(30)는 원통형을 이루게 할 수도 있으나 이것은 하나의 예를 든 것으로 직사각육면체를 이루고 있어도 무방하다.(예시도 7 참조)The valve body 30 as described above may be formed in a cylindrical shape, but this may be a rectangular hexahedron as an example (see Example 7).

상기 밸브몸체(30)내에 설치되는 가동체(40)는 양측면에 가이드홈(44)(45)이 형성되어 있어 밸브몸체(30)의 양측에 부착되는 커버의 가이드봉(52)(53)이 끼워져 좌우로 이동시 원활하게 이동할 수 있다.The movable body 40 installed in the valve body 30 has guide grooves 44 and 45 formed on both sides thereof so that the guide rods 52 and 53 of the cover attached to both sides of the valve body 30 are provided. When inserted, it can move smoothly when moving from side to side.

여기서 커버(50)(51)의 중앙에 형성된 투입홀(54)(55)에는 솔레로이드를 이용한 밸브가 설치되며, 상기 솔레로이드를 이용한 밸브는 전기적 신호에 의해 공압이나 유압을 주입하거나 배출시키는 작용을 병행하는 일반적인 밸브인 관계로 상세한 설명과 도면은 생략한다.Here, a valve using a solenoid is installed in the input holes 54 and 55 formed in the center of the covers 50 and 51, and the valve using the solenoid injects or discharges pneumatic or hydraulic pressure by an electrical signal. Since it is a general valve in parallel with the detailed description and drawings will be omitted.

상기와 같은 통상의 솔레로이드를 이용한 밸브가 설치된 좌측 커버(50)의 투입홀(54)에 공압 또는 유압이 가해지면 가동체(40)는 예시도 5의 (a) 또는 예시도 6의 (a)와 같이 우측으로 이동하게 되면서 가동체(40)의 주입홀(46)이 밸브몸체 (30)의 공압포트(38)와 일치되면서 N2가스가 유입되어 배출구(42)에 설치된 역류방지장치(70)를 통해 배출되어 밸브몸체(30)의 입구(32)를 통해 유입되는 폐기가스는 출구(34)를 통해 폐기가스 정화장치로 원활하게 이송된다.When pneumatic or hydraulic pressure is applied to the input hole 54 of the left cover 50 in which the valve using the conventional solenoid as described above is applied, the movable body 40 is illustrated in FIG. 5 (a) or FIG. 6 (a). As the injection hole 46 of the movable body 40 coincides with the pneumatic port 38 of the valve body 30 while moving to the right side, N 2 gas is introduced to the reverse flow prevention device installed at the outlet 42 ( The waste gas discharged through 70 and introduced through the inlet 32 of the valve body 30 is smoothly transferred to the waste gas purification device through the outlet 34.

이때, 밸브몸체(30)의 입구에 유입되는 폐기가스의 배출방향을 전환하고자 할 경우에는 예시도 5의 (b) 또는 예시도 6의 (b)에 표현된 바와 같이 커버(51)의 투입홀(55)에 공압 또는 유압을 가하게 되면 가동체(40)는 가이드봉(52)(53)을 따라 원활하게 좌측으로 이동하게 되고, 밸브롬체(30)의 공압포트(38)와 일치하고 있던 배출구(42)의 주입홀(46)은 이격되면서 가동체(40)의 배출구(43)에 형성된 주입홀(47)이 밸브몸체(30)의 공압포트(39)와 일치되어 역류방지장치(71)에 N2가스가 공급된다.At this time, in order to switch the discharge direction of the waste gas flowing into the inlet of the valve body 30, the injection hole of the cover 51 as shown in (b) of FIG. 5 or (b) of FIG. When pneumatic or hydraulic pressure is applied to the 55, the movable body 40 smoothly moves to the left along the guide rods 52 and 53, and the discharge port coincides with the pneumatic port 38 of the valve body 30. The injection hole 46 of the 42 is spaced apart and the injection hole 47 formed in the outlet 43 of the movable body 40 coincides with the pneumatic port 39 of the valve body 30 so that the backflow prevention device 71 Is supplied with N 2 gas.

이와 동시에 밸브몸체(30)의 입구(32)는 가동체(40)의 배출구(43)와 일치되면서 밸브몸체(30)의 또 다른 출구(35)와 일치되어 폐기가스의 흐르는 방향이 전환된다.At the same time, the inlet 32 of the valve body 30 coincides with the outlet 43 of the movable body 40 and coincides with another outlet 35 of the valve body 30 so that the flow direction of the waste gas is switched.

여기서 폐기가스의 흐름을 변경시키는 가동체(40)의 이동은 공압이나 유압에 의해 작동시키는 것에 한정하는 것은 아니며, 경우에 따라서는 가동체(40)의 측면에 커버(50)(51)를 관통하면서 외부로 노출되는 노부를 형성하여 인의적으로 당겨주거나 밀어주는 것으로 폐기가스의 흐름을 변경할 수도 있다. Here, the movement of the movable body 40 for changing the flow of the waste gas is not limited to operating by pneumatic or hydraulic pressure, and in some cases penetrates the cover 50, 51 to the side of the movable body 40 While forming a furnace exposed to the outside, the flow of waste gas may be changed by artificially pulling or pushing.

이상과 같이 본 발명은 입구(32)와 두 개의 출구(34)(35)를 형성한 밸브몸체 (30)와, 경사각을 이루며 한 쌍의 배출구(42)(43)를 갖춘 가동체(40)와, 내측으로 가이드봉(52)(53)을 형성한 양측의 커버(50)(51)로 이루어지되, 상기 밸브몸체(30)의 상부 중앙에는 통상의 오일포트(36)를 형성하고, 하부에는 일정 간격을 이루는 한 쌍의 공압포트(38)(39)를 형성하며, 상기 가동체(40)의 양측에 가이드홈(44)(45)을 형성하고, 가동체(40)의 배출구(42)(43)에는 통상의 역류방지장치(70)(71)를 설치하여 폐기가스의 흐름이 역류되지 않으면서 폐기가스를 신속히 배출시킬 수 있는 효과가 있다.As described above, the present invention includes a valve body 30 having an inlet 32 and two outlets 34 and 35 and a movable body 40 having a pair of outlets 42 and 43 at an inclination angle. And, it consists of the cover 50, 51 on both sides of the guide rods 52, 53 formed inward, the upper center of the valve body 30 forms a normal oil port 36, and There is formed a pair of pneumatic ports (38) and (39) at regular intervals, and guide grooves (44) and (45) are formed on both sides of the movable body (40), and the outlet (42) of the movable body (40). In (43), a conventional backflow prevention device (70) (71) is installed to have an effect of quickly discharging the waste gas without the flow of the waste gas backflowing.

도 1 은 반도체 생산라인의 공정도,1 is a process diagram of a semiconductor production line,

도 2 는 반도체 생산라인에 설치되는 종래의 분배밸브를 나타낸 종단면도,Figure 2 is a longitudinal sectional view showing a conventional distribution valve installed in a semiconductor production line,

도 3 은 본 발명에 따른 분배밸브의 사시도,3 is a perspective view of a distribution valve according to the present invention,

도 4 는 본 발명에 따른 분배밸브의 분해사시도,4 is an exploded perspective view of a distribution valve according to the present invention;

도 5 의 (a)와 (b)는 본 발명에 따른 분배밸브의 작동상태를 나타낸 단면도, Figure 5 (a) and (b) is a cross-sectional view showing the operating state of the distribution valve according to the present invention,

도 6 의 (a)와 (b)는 본 발명에 따른 다른 예의 분배밸브 작동상태 단면도, Figure 6 (a) and (b) is a cross-sectional view of the distribution valve operating state of another example according to the present invention,

도 7 은 본 발명에 따른 분배밸브의 다른 예의 사시도이다.7 is a perspective view of another example of a distribution valve according to the present invention.

- 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 --Explanation of symbols for the main parts of the drawings-

30 - 밸브몸체, 32 - 입구,30-valve body, 32-inlet,

34·35 - 출구, 36 - 오일포트,34-35-outlet, 36-oil pot,

38·39 - 공압포트,38/39-pneumatic port,

40 - 가동체, 42·43 - 배출구,40-movable body, 42, 43-outlet,

44·45 - 가이드홈, 46·47 - 주입홀,44 45-Guide groove, 46 47-Injection hole,

50·51 - 커버, 52·53 - 가이드봉,50/51-cover, 52/53-guide rod,

54·55 - 투입홀. 54-55-Input hole.

Claims (3)

입구(32)와 두 개의 출구(34)(35)를 형성한 밸브몸체(30)와, 상기 밸브몸체 (30)내에서 좌우로 이동하며 두개의 배출구(42)(43)을 갖춘 가동체(40)와, 내측으로 가이드봉(52)(53)을 형성한 양측의 커버(50)(51)로 이루어지되, 상기 밸브몸체 (30)의 상부 중앙에는 통상의 오일포트(36)를 형성하고, 하부에는 일정 간격을 이루는 한 쌍의 공압포트(38)(39)를 형성하며, 상기 가동체(40)의 양측에 가이드홈(44)(45)을 형성하고, 가동체(40)의 배출구(42)(43)에는 통상의 역류방지장치(70)(71)를 설치하여 일방향으로 배출되게 하며, 배출구(42)(43)에는 수직하방향의 주입홀(46)(47)을 형성하여 어는 일측으로 이동했을 때 밸브몸체(30)의 하부에 형성한 어느 하나의 공압포트(38)(39)와 일치하도록 하고, 상기 커버(50)(51)의 중앙에는 공압 또는 유압을 가할 수 있는 투입구(54)(55)를 형성하여 이루어진 것을 특징으로 하는 폐기가스 처리장치의 역류방지용 분배밸브.A valve body 30 having an inlet 32 and two outlets 34, 35 and a movable body having two outlets 42, 43 moving left and right within the valve body 30 ( 40, and covers 50 and 51 on both sides of the guide rods 52 and 53 formed therein, and a normal oil port 36 is formed at the upper center of the valve body 30. The lower portion forms a pair of pneumatic ports 38 and 39 at regular intervals, and forms guide grooves 44 and 45 on both sides of the movable body 40, and discharge ports of the movable body 40. (42) and (43) are provided with normal backflow prevention devices (70) and (71) to discharge in one direction, and discharge holes (42) and (43) are formed with injection holes (46) and (47) in the vertical direction. When moving to one side, so as to coincide with any one of the pneumatic ports 38, 39 formed in the lower portion of the valve body 30, it is possible to apply pneumatic or hydraulic pressure to the center of the cover (50, 51) Input holes 54, 55 are formed to Back-flow preventing valve for dispensing the waste gas processing apparatus, characterized in that eojin. 제 1 항에 있어서, 밸브몸체(30)의 출구(34)(35)와 가동체(40)의 배출구 (42)(43)는 입구(32)를 중심으로 단면상 일정한 경사각을 이루어 가동체(40)가 이동됨에 따라 밸브몸체(30)의 입구(32)와 연통되는 것을 특징으로 하는 폐기가스 처리장치의 역류방지용 분배밸브. The movable body 40 according to claim 1, wherein the outlets 34 and 35 of the valve body 30 and the outlets 42 and 43 of the movable body 40 have a constant inclination angle in cross section about the inlet 32. The distribution valve for preventing the backflow of the waste gas treatment device, characterized in that the communication with the inlet 32 of the valve body 30 as the) moves. 제 1 항에 있어서, 밸브몸체(30)의 출구(34)(35)와 가동체(40)의 배출구 (42)(43)는 입구를 중심으로 단면상 하나는 수직선을 이루고 하나는 경사각으로 형성하여 가동체(40)가 이동함에 따라 밸브몸체(30)의 입구(32)와 연통되는 것을 특징으로 하는 폐기가스 처리장치의 역류방지용 분배밸브.According to claim 1, the outlets 34 and 35 of the valve body 30 and the outlets 42 and 43 of the movable body 40 form one vertical line in cross-section and one inclined angle with respect to the inlet. Backflow prevention distribution valve of the waste gas treatment device, characterized in that the movable body 40 is in communication with the inlet 32 of the valve body 30 as it moves.
KR10-2003-0016675A 2003-03-18 2003-03-18 Distributing valve for preventing a backward flow of waste gas treating apparatus KR100508554B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2003-0016675A KR100508554B1 (en) 2003-03-18 2003-03-18 Distributing valve for preventing a backward flow of waste gas treating apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2003-0016675A KR100508554B1 (en) 2003-03-18 2003-03-18 Distributing valve for preventing a backward flow of waste gas treating apparatus

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR20-2003-0004534U Division KR200314337Y1 (en) 2003-02-17 2003-02-17 Distributing valve for preventing a backward flow of waste gas treating apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20040074885A KR20040074885A (en) 2004-08-26
KR100508554B1 true KR100508554B1 (en) 2005-08-17

Family

ID=37361499

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR10-2003-0016675A KR100508554B1 (en) 2003-03-18 2003-03-18 Distributing valve for preventing a backward flow of waste gas treating apparatus

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100508554B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100859627B1 (en) * 2006-12-27 2008-09-23 동부일렉트로닉스 주식회사 Valve for prevention of deposition

Also Published As

Publication number Publication date
KR20040074885A (en) 2004-08-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100481773B1 (en) Shutoff-opentng device
EP1437115A4 (en) Chemical feeding port and chemical container with the port
US20070148009A1 (en) Vacuum ejector pumps
CA2520324A1 (en) Double slider valve fitment
CN105189880A (en) Hand-held shower holding device
US11820683B1 (en) Ozone injector device
JP2005133944A (en) Hose end injector assembly
US8393350B2 (en) Methods and apparatus for introducing additives into a fluid flow
KR100508554B1 (en) Distributing valve for preventing a backward flow of waste gas treating apparatus
KR200314337Y1 (en) Distributing valve for preventing a backward flow of waste gas treating apparatus
WO2000044433A3 (en) Apparatus for reducing fluid drawback through a medical valve
KR100594493B1 (en) Distributing valve of waste gas treating apparatus for preventing backward flow
KR200367620Y1 (en) Distributing valve of waste gas treating apparatus for preventing backward flow
KR100563459B1 (en) Distributing valve of waste gas treating apparatus for preventing backward flow
EP1293712A3 (en) Switching assembly having an inlet way and five oulet ways for faucet components
KR101663675B1 (en) fluid flow guide device
KR200355252Y1 (en) Distributing valve of waste gas treating apparatus for preventing backward flow
KR200293095Y1 (en) Distributing valve of waste gas treating apparatus for preventing backward flow
KR102250595B1 (en) Pipe washing device
KR200276766Y1 (en) Distributing valve of waste gas treating apparatus
KR200186740Y1 (en) Cylinder trans valve
IL159608A0 (en) Valve for a fluid treatment system
KR200192373Y1 (en) Air slide valve device for a fountain
KR100253299B1 (en) Method for cleaning pump of nitride film depositing equipment in semiconductor
KR100367880B1 (en) Escape prevention body of a closed ring for cock valve

Legal Events

Date Code Title Description
A108 Dual application of patent
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20100810

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee