KR100493175B1 - Phosphor cleaning method for the back substrate and the front substrate of the field emission display device - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 전계 방출 표시소자의 배면기판 및 전면기판의 형광체 클리닝 방법은, 마이크로 팁을 구비하는 필드 에미터 어레이가 형성된 배면기판; 및 형광 물질과, 소정의 유기용제가 포함된 혼합액을 사용하여 투명 전극 상에 형광체가 도포된 전면기판;의 클리닝 방법에 있어서, (가) 진공 챔버 내에서, 상기 배면기판과 상기 형광체가 도포된 상기 전면기판에 각각 잔존하는 탄소 유기물을 클리닝 가스로 제거하는 단계; 및 (나) 상기 진공 챔버 내의 잔류가스를 배기시키는 단계;와, 상기 (나) 단계 다음으로, (다) 상기 배면기판 및 상기 전면기판을 접합하여 표시소자를 형성하는 단계; (라) 상기 진공 챔버 내에서, 상기 표시소자를 혼합가스로 흡착하는 단계; 및 (마) 상기 진공 챔버 내의 잔류가스를 배기시키는 단계;를 더 구비하여 마이크로 팁을 구비하는 필드 에미터 어레이(Field Emitter Array)가 형성된 배면기판과, 투명 양극 상에 형광체가 도포된 전면기판에 잔류했던 유기물질이 제거됨으로써 형광체의 발광 효율이 증가되고, 마이크로 팁 오염의 원인이 제거되어 표시소자의 수명을 연장시키는 이점이 있다.A phosphor cleaning method of a back substrate and a front substrate of a field emission display device according to the present invention includes a back substrate having a field emitter array having a micro tip; And a front substrate on which a phosphor is coated on a transparent electrode by using a mixed solution containing a fluorescent material and a predetermined organic solvent. (A) In the vacuum chamber, the back substrate and the phosphor are coated. Removing carbon organic substances remaining on the front substrate with a cleaning gas; And (b) exhausting residual gas in the vacuum chamber; and (b) next to (c), (c) bonding the back substrate and the front substrate to form a display element; (D) adsorbing the display element with a mixed gas in the vacuum chamber; And (e) exhausting residual gas in the vacuum chamber; further comprising: a back substrate on which a field emitter array having a micro tip is formed, and a front substrate on which a phosphor is coated on a transparent anode; By removing the remaining organic material, the luminous efficiency of the phosphor is increased, and the cause of micro tip contamination is eliminated, thereby extending the life of the display device.

Description

전계 방출 표시소자의 배면기판 및 전면기판의 형광체 클리닝 방법Phosphor cleaning method for the back and front substrates of the field emission display device

본 발명은 전계 방출 표시소자(Field Emission Display)를 제조하는데 있어서, 마이크로 팁을 구비하는 필드 에미터 어레이(Field Emitter Array)가 형성된 전계 방출 표시소자의 배면기판과 전면기판의 형광체에 잔류하는 유기물들을 제거하는 전계 방출 표시소자의 배면기판 및 전면기판의 형광체 클리닝 방법에 관한 것이다.According to the present invention, in the manufacture of a field emission display, organic materials remaining on phosphors on a back substrate and a front substrate of a field emission display device having a field emitter array having a micro tip are formed. The present invention relates to a method of cleaning phosphors on a back substrate and a front substrate of a field emission display device to be removed.

도 1은 일반적인 전계 방출 표시소자를 개략적으로 나타낸 단면도이다. 도시된 바와 같이, 전계 방출 표시소자는 일정 간격으로 이격되어 서로 대향하도록 배치된 배면 기판(11)및 전면기판(12)이 봉착되어 있는 구조를 갖는다.1 is a schematic cross-sectional view of a general field emission display device. As shown in the drawing, the field emission display device has a structure in which the rear substrate 11 and the front substrate 12 which are spaced apart at regular intervals to face each other are sealed.

상기 배면 기판(11) 위에는 음극(111), 절연층(112), 게이트(113) 및 마이크로 팁(114)이 형성되어 있다. 그리고, 전면기판(12)의 배면 기판의 대향면 상에는 양극(121)이 스트라이프 상으로 형성되어 있으며, 이 양극(121) 상에는 형광체(122)가 도포되어 있다.The cathode 111, the insulating layer 112, the gate 113, and the micro tip 114 are formed on the rear substrate 11. On the opposite surface of the back substrate of the front substrate 12, an anode 121 is formed in a stripe shape, and a phosphor 122 is coated on the anode 121.

이와 같은 구성을 갖는 전계 방출 표시소자는, 전자를 방출하기 위하여 열적 방출을 이용하는 진공관과 달리, 마이크로 팁(114)의 주위에 형성된 강한 전기장에 의해 전자들이 튀어나오는 전계 방출(field emission)을 이용한다.The field emission display device having such a configuration uses a field emission in which electrons stick out by a strong electric field formed around the micro tip 114, unlike a vacuum tube that uses thermal emission to emit electrons.

즉, 음극(111)과 게이트(113) 사이의 전압차에 의해 마이크로 팁(114)에는 강한 전기장이 형성되고, 이 전기장에 의해 마이크로 팁(114)에 집중된 전자들이 터널링 효과에 의해 외부로 방출된다. 방출된 전자들은 양극(121)에 인가된 전압에 의해 가속되어 형광체(122)에 높은 에너지를 갖고 충돌한다. 전자들이 충돌한 형광체(122)는 여기되어 소정 색상의 빛을 발한다.That is, a strong electric field is formed at the micro tip 114 by the voltage difference between the cathode 111 and the gate 113, and electrons concentrated at the micro tip 114 are emitted to the outside by the tunneling effect. . The emitted electrons are accelerated by the voltage applied to the anode 121 and collide with the phosphor 122 with high energy. The phosphor 122 having the electrons collided is excited to emit light of a predetermined color.

이와 같은 전계 방출 표시소자를 제조하는데 있어서, 상기 형광체(122)는 전기 영동법, 스핀 코팅법 또는 스크린 프린팅법 등에 의해서 양극(일반적으로, ITO 투명 전극)(121) 상에 형성된다.In manufacturing such a field emission display device, the phosphor 122 is formed on an anode (generally, an ITO transparent electrode) 121 by electrophoresis, spin coating, screen printing, or the like.

전기 영동법은 형광 물질에 표면 전하가 나타나도록 하여 전기로 증착하는 방법으로서, 도 2를 참조하여 그 과정을 설명하면 다음과 같다.Electrophoresis method is a method of depositing the surface of the fluorescent material by the electric charge, and the process will be described with reference to FIG. 2.

도 2에 도시된 바와 같이, 전원(20)의 양극 및 음극에 각각 연결된 선들이 서로 소정 거리가 이격되어 용기(21) 내에 배치되어 있다. 상기 전원의 양극에 연결된 선에는 전극판(22)이 접속되어 있으며, 음극에 연결된 선에는 투명 전극이 형성된 전면기판(23)이 접속되어 있다. 그리고, 용기(21) 내에는 소정의 혼합액(24)이 넣어져 있다.As shown in FIG. 2, the lines respectively connected to the positive electrode and the negative electrode of the power supply 20 are disposed in the container 21 at a predetermined distance from each other. An electrode plate 22 is connected to a line connected to the anode of the power supply, and a front substrate 23 having a transparent electrode is connected to a line connected to the cathode. The predetermined mixed liquid 24 is put in the container 21.

이 혼합액(24)은 형광 물질, 형광 물질에 표면 전하를 띠도록 하기 위한 금속염 및 유기 용제를 혼합함으로써 형성되며, 이 외에도 전도성 물질인 개미산이 첨가되고, 안정제로서 글리세린 등이 첨가된다.The mixed solution 24 is formed by mixing a fluorescent substance, a metal salt for causing surface charges on the fluorescent substance, and an organic solvent. In addition, formic acid, which is a conductive substance, is added, and glycerin or the like is added as a stabilizer.

상기와 같이 제조된 혼합액(24)을 용기(21) 내에 채우고, 상기 전원(20)에 소정 전압을 인가하면, 용기(21) 내의 금속염이 이온화되어, 음이온은 전극판(22)에 흡수되고, 양이온은 형광 물질의 표면으로 흡수된다. 상기 양이온을 흡수한 형광 물질들은 표면 전하를 띠게 되고, 이 표면 전하에 의해 전원(20)의 음극 쪽으로 끌려간다. 그리고, 음극에 접속된 전면기판(23)의 투명 전극에 부착되어 도포된다.When the mixed liquid 24 prepared as described above is filled in the container 21 and a predetermined voltage is applied to the power source 20, the metal salt in the container 21 is ionized, and the negative ions are absorbed by the electrode plate 22. The cation is absorbed to the surface of the fluorescent material. The fluorescent materials absorbing the cations are charged with a surface charge, which is attracted to the cathode of the power supply 20. Then, it is applied to the transparent electrode of the front substrate 23 connected to the cathode.

그런데, 상기와 같은 형광체(122)는 유기 용제, 유기물 결합제 등과 같은 유기물 성분을 형광 물질과 혼합하여 사용하므로, 형광체(122)가 양극(121) 상에 도포된 후에는 잔류 탄소 유기물이 형성되는 문제점이 발생한다.However, since the phosphor 122 is used by mixing an organic component such as an organic solvent, an organic binder, and the like with a fluorescent material, a problem that residual carbon organic material is formed after the phosphor 122 is coated on the anode 121. This happens.

또한, 전계 방출 표시소자의 동작시, 형광체의 산화반응으로 오염가스가 발생하게되는데, 이에 대한 화학식은 다음과 같다.In addition, when the field emission display device operates, pollutant gas is generated by oxidation of the phosphor, and the chemical formula thereof is as follows.

[화학식 1][Formula 1]

[화학식 2][Formula 2]

상기 화학식 1은 녹색 및 청색 형광체를 형성하기 위한 황화아연(ZnS)의 화합물을 사용하며(여기서, Zncolloid는 아연금속), 상기 화학식 2는 적색 형광체를 형성하기 위한 이트륨옥시설파이드(Y2O3)의 화합물을 사용하여 전계 방출 표시소자의 동작시 전자선의 충돌에 의해 산화반응을 일으켜 이산화황(SO2) 가스를 발생시킨다.Formula 1 uses a compound of zinc sulfide (ZnS) to form green and blue phosphors (wherein Zn colloid is zinc metal), and Formula 2 is yttrium oxysulfide (Y 2 O 3) to form a red phosphor. In the operation of the field emission display device using the compound of), an oxidation reaction is caused by the collision of electron beams to generate sulfur dioxide (SO 2 ) gas.

즉, 이러한 잔류 유기물들은 각종 오염원으로 작용하여 형광체(122)의 발광 효율을 낮추며, 특히 잔류 유기물들이 전자선이 조사되는 경로에 위치하게 되면 형광체(122)로의 에너지 입사가 방해되어 발광 효율이 낮아진다.That is, the residual organic substances act as various pollutants to lower the luminous efficiency of the phosphor 122. In particular, when the residual organic substances are positioned in the path where the electron beam is irradiated, energy incidence to the fluorescent substance 122 is disturbed, thereby lowering the luminous efficiency.

또한, 잔류 유기물에 전자선이 조사되는 시간이 오래되면, 잔류 유기물들이 가스화되어 배면기판의 마이크로 팁(114)을 손상시킴으로서 전계 방출 표시소자의 전체 성능을 저하시키는 문제점이 있다.In addition, if the time for which the electron beam is irradiated to the remaining organic material is long, there is a problem that the remaining organic material is gasified to damage the micro tip 114 of the back substrate to reduce the overall performance of the field emission display device.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 개선하기 위하여 창출된 것으로서, 전계 방출 표시소자의 배면기판과 투명 양극 상에 형광체가 도포된 전면기판에 잔류하는 유기물들을 제거하는 전계 방출 표시소자의 배면기판 및 전면기판의 형광체 클리닝 방법을 제공하는데 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and the rear substrate and the front substrate of the field emission display device which remove organic substances remaining on the back substrate of the field emission display device and the front substrate coated with the phosphor on the transparent anode. It is an object of the present invention to provide a phosphor cleaning method.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따르면, 마이크로 팁을 구비하는 필드 에미터 어레이가 형성된 배면기판; 및 형광 물질과, 소정의 유기용제가 포함된 혼합액을 사용하여 투명 전극 상에 형광체가 도포된 전면기판;의 클리닝 방법에 있어서, (가) 진공 챔버 내에서, 상기 배면기판과 상기 형광체가 도포된 상기 전면기판에 각각 잔존하는 탄소 유기물을 클리닝 가스로 제거하는 단계; 및 (나) 상기 진공 챔버 내의 잔류가스를 배기시키는 단계;를 포함하는 전계 방출 표시소자의 배면기판 및 전면기판의 형광체 클리닝 방법이 제공된다.According to the present invention in order to achieve the above object, a back substrate having a field emitter array having a micro tip; And a front substrate on which a phosphor is coated on a transparent electrode by using a mixed solution containing a fluorescent material and a predetermined organic solvent. (A) In the vacuum chamber, the back substrate and the phosphor are coated. Removing carbon organic substances remaining on the front substrate with a cleaning gas; And (b) evacuating the residual gas in the vacuum chamber. A method of cleaning phosphors on a back substrate and a front substrate of a field emission display device is provided.

바람직하게는, 상기 (나) 단계 다음으로, (다) 상기 배면기판 및 상기 전면기판을 접합하여 표시소자를 형성하는 단계; (라) 상기 진공 챔버 내에서, 상기 표시소자를 혼합가스로 흡착하는 단계; 및 (마) 상기 진공 챔버 내의 잔류가스를 배기시키는 단계;를 더 구비한다.Preferably, after the step (b), (c) bonding the back substrate and the front substrate to form a display element; (D) adsorbing the display element with a mixed gas in the vacuum chamber; And (e) exhausting the residual gas in the vacuum chamber.

바람직하게는, 상기 (가) 단계에서, 상기 클리닝 가스는 헬륨 및 질소의 혼합가스, 아르곤 가스, 수소 및 질소의 혼합가스 중 적어도 하나로 이루어지며, 상기 (가) 단계에서, 상기 클리닝 가스는 300 내지 400℃로 가열하여 분당 30ℓ의 상기 클리닝 가스를 30분 동안 상기 진공 챔버에 주입한다.Preferably, in the step (a), the cleaning gas comprises at least one of a mixed gas of helium and nitrogen, an argon gas, a mixed gas of hydrogen and nitrogen, and in the step (a), the cleaning gas is 300 to Heating to 400 ° C. injects 30 L of the cleaning gas per minute into the vacuum chamber for 30 minutes.

바람직하게는, 상기 (라) 단계에서, 상기 혼합가스는 황화가스이며, 상기 (라) 단계에서, 상기 혼합가스는 350 내지 450℃로 가열하여 1 내지 10ppm의 상기 혼합가스를 상기 진공 챔버에 주입하는 것을 특징으로 한다.Preferably, in the step (d), the mixed gas is a sulfide gas, and in the step (d), the mixed gas is heated to 350 to 450 ° C. to inject 1 to 10 ppm of the mixed gas into the vacuum chamber. Characterized in that.

또한, 본 발명의 다른 유형에 따르면, 마이크로 팁을 구비하는 필드 에미터 어레이가 형성된 배면기판; 및 형광 물질과, 소정의 유기용제가 포함된 혼합액을 사용하여 투명 전극 상에 형광체가 도포된 전면기판;을 접합하여 형성된 전계 방출 표시소자의 배면기판 및 전면기판의 형광체 클리닝 방법에 있어서, (가) 상기 배면기판 및 상기 전면기판을 접합하여 표시소자를 형성하는 단계; (나) 상기 진공 챔버 내에서, 상기 표시소자를 혼합가스로 흡착하는 단계; 및 (다) 상기 진공 챔버 내의 잔류가스를 배기시키는 단계;를 포함하는 전계 방출 표시소자의 배면기판 및 전면기판의 형광체 클리닝 방법이 제공된다.In addition, according to another type of the invention, the back substrate is formed a field emitter array having a micro tip; And a front substrate on which a phosphor is coated on a transparent electrode by using a mixed solution containing a fluorescent material and a predetermined organic solvent. Bonding the rear substrate and the front substrate to form a display device; (B) adsorbing the display element with a mixed gas in the vacuum chamber; And (c) evacuating residual gas in the vacuum chamber. A method of cleaning phosphors on a back substrate and a front substrate of a field emission display device is provided.

바람직하게는, 상기 (나) 단계에서, 상기 혼합가스는 황화가스이며, 상기 혼합가스는 350 내지 450℃로 가열하여 1 내지 10ppm의 상기 혼합가스를 상기 진공 챔버에 주입하는 것을 특징으로 한다.Preferably, in the step (b), the mixed gas is a sulfide gas, and the mixed gas is heated to 350 to 450 ° C. to inject 1 to 10 ppm of the mixed gas into the vacuum chamber.

이하, 본 발명에 따른 전계 방출 표시소자의 배면기판 및 전면기판의 형광체 클리닝 방법을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, the phosphor cleaning method of the back substrate and the front substrate of the field emission display device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명에 따른 전계 방출 표시소자의 배면기판 및 전면기판의 형광체 클리닝 방법에 따르면, 먼저, 마이크로 팁을 구비하는 필드 에미터 어레이가 형성된 배면기판과, 앞서 설명한 바와 같은 전기 영동법에 의해 형광체가 도포된 전면기판을 형성한다.According to the phosphor cleaning method of the back substrate and the front substrate of the field emission display device according to the present invention, first, a back substrate on which a field emitter array having a micro tip is formed, and a phosphor is coated by electrophoresis as described above. Form the front substrate.

여기서, 상기 전면기판의 형광체는 녹색 형광 물질인 황화 아연(ZnS):구리(Cu), 알루미늄(Al)과, 청색 형광 물질인 황화 아연(ZnS):은(Ag)과, 적색 형광 물질인 이트륨옥시설파이트(Y2O2S):유로피움(Eu)의 형광 물질들을 각각 다음과 같은 조성으로 혼합액을 제조한다.Here, the phosphor of the front substrate is zinc sulfide (ZnS): copper (Cu), aluminum (Al), which is a green phosphor, zinc sulfide (ZnS): silver (Ag), which is a blue phosphor, and yttrium, which is a red phosphor. Oxisophite (Y 2 O 2 S): Europium (Eu) fluorescent materials are prepared in the following composition, respectively.

먼저, 상기와 같은 적·녹·청색 각각의 형광 물질 35g에 대전제로서 금속염인 알루미늄 나이트레이트(Al(NO3)3) 10㎖, 유기 용제인 이소프로필 알코올(IPA) 500㎖ 및 안정제의 역할을 하는 글리세린 6㎖ 등을 혼합한다. 다음으로, 2개의 원형 플라스크에 분리하여 넣고, 이것을 초음파 용기에 채운 다음 40분간 교반하고, 도전성 보조제로 개미산(CH2O2)을 5∼6 방울 넣어 용액의 도전성을 조절하고 용기에 따른다. 그리고, 전술한 바와 같은 공정을 한번 더 수행하여 1ℓ의 혼합액을 제조하여 용기에 따른다. 다음에, 상기와 같이 준비된 도금 용액을 초음파 용기에 넣어 전기 영동법에 의한 형광막 도포 공정을 실시하기 전에 교반을 실시한다.First, 10 ml of aluminum nitrate (Al (NO 3 ) 3 ), which is a metal salt, 500 ml of isopropyl alcohol (IPA), and a stabilizer, as a charging agent, were applied to 35 g of the red, green, and blue fluorescent materials described above. 6 ml of glycerin and the like are mixed. Next, it is separated into two round flasks, filled into an ultrasonic container and stirred for 40 minutes, and 5-6 drops of formic acid (CH 2 O 2 ) are added with a conductive aid to adjust the conductivity of the solution and pour into the container. Then, the process as described above is performed once more to prepare a mixed solution of 1 L to pour the container. Next, the plating solution prepared as above is put into an ultrasonic container, and stirring is performed before performing the fluorescent film coating process by electrophoresis.

이후의 형광체 코팅 공정은 도 2에 도시된 바와 같은 전기 영동법의 종래 기술 공정과 동일하므로 생략하기로 한다.Since the phosphor coating process is the same as the prior art process of the electrophoresis method shown in Figure 2 will be omitted.

이렇게 형광체가 도포된 전면기판과, 상기 배면기판을 진공 챔버로 이동시키고, 고온을 유지하면서 상기 진공 챔버에 클리닝 가스를 주입하여 배면기판과 상기 전면기판의 형광체에 각각 잔존하는 탄소 유기물을 제거하게 된다. 그러면, 이 과정을 도 3에 도시된 진공 챔버를 참조하면서 보다 상세히 설명하기로 한다.In this way, the front substrate coated with the phosphor and the back substrate are moved to a vacuum chamber, and a cleaning gas is injected into the vacuum chamber while maintaining a high temperature to remove carbon organic substances remaining in the phosphors of the back substrate and the front substrate, respectively. . This process will then be described in more detail with reference to the vacuum chamber shown in FIG. 3.

도 3에 도시된 바와 같이, 진공 챔버(40) 내에서, 지지대(41)가 전원(42)의 음극 단자에 접속되어 있으며, 가스 발생부(43)는 전원(42)의 양극 단자에 접속되어 있다. 그리고, 챔버(40)에는 내부를 고진공 상태로 유지하기 위한 진공 펌프(44)가 연결되어 있다.As shown in FIG. 3, in the vacuum chamber 40, the support 41 is connected to the negative terminal of the power source 42, and the gas generator 43 is connected to the positive terminal of the power source 42. have. The chamber 40 is connected with a vacuum pump 44 for maintaining the interior in a high vacuum state.

이와 같은 챔버(40) 내의 지지대(41) 위에 형광체가 도포된 전면기판(45)과 배면기판(45a)을 접합하지 않은 상태에서 위치시키고, 전원에 소정 전압을 인가한다. 그러면, 가스 발생부(43)로부터 가스의 양이온들이 음극 쪽으로 가속되어 전면기판(45) 및 배면기판(45a)을 스퍼터링한다. 그러면, 상기 배면기판(45a)과, 전면기판(45)의 형광체에 잔류한 유기물 즉, 잔류 탄소 오염물들은 가스의 양이온에 의해 가스화되어 제거된다.The front substrate 45 coated with the phosphor and the rear substrate 45a are placed on the support 41 in the chamber 40 without bonding, and a predetermined voltage is applied to the power supply. Then, the positive ions of the gas from the gas generating unit 43 is accelerated toward the cathode to sputter the front substrate 45 and the rear substrate 45a. Then, the organic material remaining on the back substrate 45a and the phosphor of the front substrate 45, that is, residual carbon contaminants, is gasified and removed by the cation of the gas.

여기서, 상기 가스 발생부(43)로부터 주입되는 클리닝 가스는 헬륨/질소의 혼합가스, 아르곤 가스, 또는, 수소/질소의 혼합가스로 이루어지며, 이러한 클리닝 가스를, 300∼400℃의 열로 가열하여 분당 30ℓ의 클리닝 가스를 30분 동안 상기 진공 챔버(40)에 주입한다. 본 발명에서는 350℃의 온도를 적용하는 것이 바람직하다.Here, the cleaning gas injected from the gas generator 43 is composed of a helium / nitrogen mixed gas, an argon gas, or a hydrogen / nitrogen mixed gas, and the cleaning gas is heated by heat of 300 to 400 ° C. 30 l of cleaning gas per minute is injected into the vacuum chamber 40 for 30 minutes. In this invention, it is preferable to apply the temperature of 350 degreeC.

이렇게 가스 클리닝을 실시하면 배면기판과 전면기판의 형광체에 잔류하는 잔류 탄소 오염원이 클리닝 가스에 의해 가스화되어 진공 배출됨으로써, 형광체의 발광 효율이 증가된다.When gas cleaning is performed, residual carbon pollutants remaining in the phosphors on the back substrate and the front substrate are gasified by the cleaning gas and discharged under vacuum, thereby increasing the luminous efficiency of the phosphor.

즉, 배면기판의 형성시 잔존하는 유기물과, 형광체 형성시 첨가하는 유기물이 탄화되어 코크화되는 것을 줄여 전자선 방출이 안정화 되고, 형광체의 표면에 탄소의 침적이 줄어 발광 특성 또한 장시간 안정된다.That is, the organic material remaining during formation of the back substrate and the organic material added during phosphor formation are reduced in carbonization and coking, and the emission of electron beams is stabilized.

다음으로, 상기 진공 챔버(40) 내의 잔류가스를 배기시키고, 상술한 바와 같은 방법으로 마이크로 팁을 구비하는 필드 에미터 어레이가 형성된 배면기판과 형광체가 도포된 전면기판이 접합된 표시소자(46)를 상기 진공 챔버(40) 안에 넣고, 혼합가스를 350∼450℃의 열로 가열하면서 1∼10ppm의 황화가스(H2S)를 주입하여 접합된 배면기판과 형광체가 형성된 전면기판의 표시소자(46)에 흡착시킨다. 본 발명에서는 450℃의 가열 온도와, 1ppm의 황화가스를 적용하는 것이 바람직하다.Next, the display element 46 in which the residual gas in the vacuum chamber 40 is exhausted and the back substrate on which the field emitter array having the micro tip is formed and the front substrate on which the phosphor is applied are bonded are bonded in the same manner as described above. Is placed in the vacuum chamber 40, and 1 to 10 ppm of sulfide gas (H 2 S) is injected while heating the mixed gas with heat of 350 to 450 ° C., and the display element 46 of the front substrate on which the back substrate is bonded and the phosphor is formed. ). In this invention, it is preferable to apply the heating temperature of 450 degreeC, and 1 ppm of sulfide gas.

다음으로, 상기 진공 챔버(40) 내의 사전 피독된 배면기판(45a)과 전면기판(45)이 접합된 표시소자(46)에 흡착시키고 남은 진공 챔버(40) 내의 잔류가스를 배기시킨다.Next, the pre-poisoned back substrate 45a and the front substrate 45 in the vacuum chamber 40 are adsorbed to the bonded display element 46 and the remaining gas in the remaining vacuum chamber 40 is exhausted.

이러한 황화가스(H2S)의 피독에 의해 필드 에미터 어레이가 형성된 배면기판의 표면에 소량의 황원소가 흡착되어 표시소자의 동작시, 전자선 충돌에 의해 형광체와의 산화반응으로 발생하는 이산화황 가스에 의한 마이크로 팁의 오염을 방지함으로써, 마이크로 팁의 활성화를 안정시켜 전자선 방출이 장시간 안정화되고, 휘도가 높아진다.Sulfur dioxide gas generated by oxidation reaction with a phosphor by electron beam collision when a small amount of elemental sulfur is adsorbed on the surface of the back substrate on which the field emitter array is formed by poisoning of sulfide gas (H 2 S). By preventing contamination of the microtip by the microparticles, the activation of the microtips is stabilized, the electron beam emission is stabilized for a long time, and the luminance is increased.

이하, 본 발명을 실시예를 들어 상세히 설명하기로 하되, 본 발명이 후술되는 실시예로만 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited only to the Examples described below.

<실시예1>Example 1

녹색 형광 물질인 황화 아연(ZnS):구리(Cu), 알루미늄(Al)과, 청색 형광 물질인 황화 아연(ZnS):은(Ag)과, 적색 형광 물질인 이트륨옥시설파이드(Y2O2S):유로피움(Eu)의 세가지 형광 물질 각각의 35g에 ⅢA족 금속염인 알루미늄 나이트레이트(Al(NO3)3) 10㎖, 안정제로서 글리세린 6㎖를 유기 용제인 이소프로필 알코올(IPA) 500㎖에 혼합하여 2개의 원형 플라스크에 분리하여 넣고, 이것을 초음파 용기에 채운 다음 40분간 교반하고, 도전성 보조제로 개미산(CH2O2)을 5∼6 방울 넣어 용액의 도전성을 조절하고 용기에 따른다. 그리고, 전술한 바와 같은 공정을 한번 더 수행하여 1ℓ의 혼합액을 제조하여 용기에 따른다. 다음에, 상기와 같이 준비된 도금 용액을 초음파 용기에 넣어 전기 영동법에 의한 형광막 도포 공정을 실시하기 전에 교반을 실시한다. 그리고, 소정 전압을 인가하여 형광체를 투명 전극에 도포시키는 전기 영동법에 의하여 전면기판의 투명 전극 상에 형광체를 도포하였다. 다음으로, 본 발명에 따른 클리닝 방법에 의해 마이크로 팁을 구비하는 필드 에미터 어레이(Field Emitter Array)가 형성된 배면기판과, 형광체가 도포된 상기의 전면기판을 접합하지 않은 상태에서 진공 챔버에 넣고, 헬륨/질소의 혼합가스, 아르곤 가스, 또는 수소/질소의 혼합가스를 주입하여 클리닝하였다. 그리고, 녹색 형광체만을 선별하여 형광체의 각 성분량들을 조사하였다.Zinc sulfide (ZnS): green fluorescent substance (Cu), aluminum (Al), zinc sulfide (ZnS): blue fluorescent substance (silver), and yttrium oxysulfide (Y 2 O 2 S) which is red fluorescent substance ): 10 ml of aluminum nitrate (Al (NO 3 ) 3 ), a Group IIIA metal salt, and 6 ml of glycerin as an organic solvent, 500 ml of isopropyl alcohol (IPA) in 35 g of each of the three fluorescent materials of Europium (Eu) After mixing into two round flasks, filling them in an ultrasonic container, stirring them for 40 minutes, and adding 5-6 drops of formic acid (CH 2 O 2 ) as a conductive aid to adjust the conductivity of the solution and pour into the container. Then, the process as described above is performed once more to prepare a mixed solution of 1 L to pour the container. Next, the plating solution prepared as above is put into an ultrasonic container, and stirring is performed before performing the fluorescent film coating process by electrophoresis. Then, the phosphor was coated on the transparent electrode of the front substrate by an electrophoresis method in which a phosphor was applied to the transparent electrode by applying a predetermined voltage. Next, the back substrate on which the field emitter array having a micro tip is formed by the cleaning method according to the present invention and the front substrate on which the phosphor is applied are placed in a vacuum chamber without bonding. Helium / nitrogen mixed gas, argon gas, or hydrogen / nitrogen mixed gas was injected and cleaned. Then, only the green phosphor was selected and the amounts of each component of the phosphor were examined.

<비교예1>Comparative Example 1

실시예1과 동일한 방법에 의해 마이크로 팁을 구비하는 필드 에미터 어레이(Field Emitter Array)가 형성된 배면기판과, 투명 전극 위에 형광체가 도포된 전면기판을 형성한 후, 클리닝 작업을 수행하지 않고 녹색 형광체 만을 선별하여 형광체의 각 성분량을 조사하였다.After forming a back substrate having a field emitter array having a micro tip and a front substrate coated with a phosphor on a transparent electrode by the same method as in Example 1, the green phosphor was not cleaned. Only bays were selected and the amount of each component of the phosphor was examined.

[표 1]TABLE 1

상기 표 1로부터 알 수 있는 바와 같이, 탄소 성분이 클리닝 작업을 수행하기 전보다 크게 감소하였으며, 황과 아연의 농도는 증가되었다.As can be seen from Table 1, the carbon component was significantly reduced than before the cleaning operation, and the concentrations of sulfur and zinc were increased.

즉, 본 발명에 따른 전계 방출 표시소자의 배면기판 및 전면기판의 형광체 클리닝 방법을 수행함으로써, 코팅된 형광체의 잔류 오염원인 탄소가 감소되었고, 상대적으로 형광체 표면이 깨끗해져서 황과 아연의 농도가 증가되었다는 사실을 알수 있다.That is, by performing the phosphor cleaning method of the back substrate and the front substrate of the field emission display device according to the present invention, carbon, which is a residual pollutant of the coated phosphor, was reduced, and the surface of the phosphor was relatively clean, thereby increasing the concentration of sulfur and zinc. You can see that.

<실시예2>Example 2

실시예1과 동일한 방법으로 녹색 형광 물질인 황화 아연(ZnS):구리(Cu), 알루미늄(Al)과, 청색 형광 물질인 황화 아연(ZnS):은(Ag)과, 적색 형광 물질인 이트륨옥시설파이드(Y2O2S):유로피움(EU)의 세가지 형광 물질 각각의 35g에 ⅢA족 금속염인 알루미늄 나이트레이트(Al(NO3)3) 10㎖, 안정제로서 글리세린 6㎖를 유기 용제인 이소프로필 알코올(IPA) 500㎖에 혼합하여 2개의 원형 플라스크에 분리하여 넣고, 이것을 초음파 용기에 채운 다음 40분간 교반하고, 도전성 보조제로 개미산(CH2O2)을 5∼6 방울 넣어 용액의 도전성을 조절하고 용기에 따른다. 그리고, 전술한 바와 같은 공정을 한번 더 수행하여 1ℓ의 혼합액을 제조하여 용기에 따른다. 다음에, 상기와 같이 준비된 도금 용액을 초음파 용기에 넣어 전기 영동법에 의한 형광막 도포 공정을 실시하기 전에 교반을 실시한다. 그리고, 소정 전압을 인가하여 형광체를 투명 전극에 도포시키는 전기 영동법에 의하여 투명 전극 상에 형광체가 도포된 전면기판을 형성하고, 마이크로 팁을 구비하는 필드 에미터 어레이(Field Emitter Array)가 형성된 배면기판을 접합하여 표시소자를 형성한다. 그 후, 표시소자를 진공 챔버에 넣어 황화가스(H2S)를 흡착시킨 후의 에미션 전류의 변화와 1000 시간 발광 실험 후, 발광 휘도를 조사하였다.Zinc sulfide (ZnS): copper (Cu), aluminum (Al), a green fluorescent substance, zinc sulfide (ZnS): silver (Ag), a blue fluorescent substance, and yttrium oxy, a red fluorescent substance, in the same manner as in Example 1. Sulphide (Y 2 O 2 S): 10 ml of aluminum nitrate (Al (NO 3 ) 3 ), a Group IIIA metal salt, and 6 ml of glycerin as a stabilizer in 35 g of each of the three fluorescent materials of Europium (EU) 500 ml of propyl alcohol (IPA) was mixed, separated into two round flasks, filled into an ultrasonic container, stirred for 40 minutes, and 5-6 drops of formic acid (CH 2 O 2 ) was added as a conductive aid to improve the conductivity of the solution. Adjust and courage. Then, the process as described above is performed once more to prepare a mixed solution of 1 L to pour the container. Next, the plating solution prepared as above is put into an ultrasonic container, and stirring is performed before performing the fluorescent film coating process by electrophoresis. Then, a front substrate on which the phosphor is coated is formed on the transparent electrode by an electrophoresis method in which a phosphor is applied to the transparent electrode by applying a predetermined voltage, and a back substrate on which a field emitter array having a micro tip is formed. Are bonded to form a display element. After that, the display element was placed in a vacuum chamber, and the emission current after the sulfide gas (H 2 S) was adsorbed and the light emission luminance were examined after 1000 hours of light emission experiment.

<비교예2>Comparative Example 2

실시예2와 동일한 방법에 의해 형성된 전면기판의 형광체와 배면기판을 접합시켜 표시소자를 형성한 후, 황화가스를 흡착시키지 않고 에미션 전류의 변화와 1000 시간 발광 실험 후, 발광 휘도를 조사하였다.After the phosphors on the front substrate and the back substrate formed by the same method as in Example 2 were bonded to form a display element, the emission current was examined after a change in emission current and a 1000-hour light emission experiment without adsorption of sulfide gas.

[표 2]TABLE 2

상기 표 2로부터 알 수 있는 바와 같이, 전면기판의 형광체와 배면기판을 접합시켜 표시소자를 형성한 후, 표시소자에 황화가스를 흡착시켜 에미션 전류의 변화와 1000 시간 발광 실험 후, 발광 휘도를 조사하였을 때, 초기 1 시간 후의 에미션 전류는 표시소자에 황화가스를 흡착시키지 않았을 때보다 감소 하였다. 그러나, 점점 시간이 지날수록 황화가스의 흡착에 의해 에미션 전류가 증가함을 알 수 있다.As can be seen from Table 2, after the phosphor on the front substrate and the back substrate are bonded to form a display element, sulfide gas is adsorbed on the display element to change the emission current and emit light after 1000 hours of light emission experiment. When irradiated, the emission current after 1 hour of initial stage decreased compared with the case where no sulfide gas was adsorbed to a display element. However, it can be seen that as time passes, the emission current increases by adsorption of sulfide gas.

이것은 배면기판의 표면에 소량의 황원소를 흡착하여 형광체의 산화반응으로 발생하는 이산화황 가스에 의한 오염을 방지함으로써, 동작시 전자선 방출이 장시간 안정화된다는 것을 알 수 있다. 그리고, 표시소자의 장시간 발광 후, 휘도 또한 높아진 것을 알 수 있다.It can be seen that the electron beam emission is stabilized for a long time during operation by adsorbing a small amount of sulfur element on the surface of the back substrate to prevent contamination by sulfur dioxide gas generated by the oxidation reaction of the phosphor. After the long time light emission of the display element, the brightness is also increased.

본 발명에 따른 전계 방출 표시소자의 배면기판 및 전면기판의 형광체 클리닝 방법에 의하면, 마이크로 팁을 구비하는 필드 에미터 어레이(Field Emitter Array)가 형성된 배면기판과, 투명 양극 상에 형광체가 도포된 전면기판에 잔류했던 유기물질이 제거됨으로써 형광체의 발광 효율이 증가되고, 마이크로 팁 오염의 원인이 제거되어 표시소자의 수명을 연장시키는 이점이 있다.According to the phosphor cleaning method of the back substrate and the front substrate of the field emission display device according to the present invention, a back substrate on which a field emitter array having a micro tip is formed, and a front surface coated with phosphor on a transparent anode By removing the organic material remaining on the substrate, the luminous efficiency of the phosphor is increased, and the cause of micro tip contamination is eliminated, thereby extending the life of the display device.

도 1은 일반적인 전계 방출 표시소자를 개략적으로 나타낸 단면도,1 is a cross-sectional view schematically showing a general field emission display device;

도 2는 전기 영동법에 의해 형광체를 도포하는 과정을 설명하기 위한 도면,2 is a view for explaining a process of applying a phosphor by electrophoresis;

그리고 도 3 및 도 4는 본 발명에 따른 전계 방출 표시소자의 배면기판 및 전면기판의 형광체 클리닝 방법에 사용되는 진공 챔버를 개략적으로 나타낸 도면이다.3 and 4 schematically illustrate a vacuum chamber used in the phosphor cleaning method of the back substrate and the front substrate of the field emission display device according to the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

20... 전원 21... 용기20 ... Power 21 ... Container

22... 전극판 24... 형광체 혼합액22 ... electrode plate 24 ... phosphor mixture

23... 투명 전극이 형성된 전면기판23. Front substrate with transparent electrode

40... 진공 챔버 41... 지지대40 ... vacuum chamber 41 ... support

43... 가스 발생부 44... 진공 펌프43 ... gas generator 44 ... vacuum pump

45... 투명 전극 위에 형광체가 도포된 전면기판45. Front substrate coated with phosphor on transparent electrode

45a... 배면기판45a ... backplane

46... 필드 에미터 어레이와 전면기판을 접합한 표시소자46 ... Display element bonded field emitter array and front board

Claims (8)

마이크로 팁을 구비하는 필드 에미터 어레이가 형성된 배면기판; 및 형광 물질과, 소정의 유기용제가 포함된 혼합액을 사용하여 투명 전극 상에 형광체가 도포된 전면기판;의 클리닝 방법에 있어서,A back substrate having a field emitter array having a micro tip; And a front substrate on which a phosphor is coated on a transparent electrode by using a mixed solution containing a fluorescent material and a predetermined organic solvent. (가) 진공 챔버 내에서, 상기 배면기판과 상기 형광체가 도포된 상기 전면기판에 각각 잔존하는 탄소 유기물을 클리닝 가스로 제거하는 단계;(A) removing, in a vacuum chamber, carbon organic substances remaining on the rear substrate and the front substrate to which the phosphor is applied, as a cleaning gas; (나) 상기 진공 챔버 내의 잔류가스를 배기시키는 단계;(B) evacuating the residual gas in the vacuum chamber; (다) 상기 배면기판 및 상기 전면기판을 접합하여 표시소자를 형성하는 단계;(C) bonding the rear substrate and the front substrate to form a display element; (라) 상기 진공 챔버 내에서, 상기 표시소자에 혼합가스를 흡착하는 단계; 및(D) adsorbing a mixed gas to the display device in the vacuum chamber; And (마) 상기 진공 챔버 내의 잔류가스를 배기시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 표시소자의 배면기판 및 전면기판의 형광체 클리닝 방법.(E) exhausting the residual gas in the vacuum chamber; and a method of cleaning the phosphor of the back substrate and the front substrate of the field emission display device. 제 1 항에 있어서, 상기 (가) 단계에서,The method of claim 1, wherein in step (a), 상기 클리닝 가스는 헬륨 및 질소의 혼합가스, 아르곤 가스, 수소 및 질소의 혼합가스 중 적어도 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 전계 방출 표시소자의 배면기판 및 전면기판의 형광체 클리닝 방법.The cleaning gas may include at least one of a mixed gas of helium and nitrogen, an argon gas, a mixed gas of hydrogen and nitrogen, and the phosphor cleaning method of the back substrate and the front substrate of the field emission display device. 제 1 항에 있어서, 상기 (가) 단계에서,The method of claim 1, wherein in step (a), 상기 클리닝 가스는 300 내지 400℃로 가열하여 분당 30ℓ의 상기 클리닝 가스를 30분 동안 상기 진공 챔버에 주입하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 표시소자의 배면기판 및 전면기판의 형광체 클리닝 방법.The cleaning gas is heated to 300 to 400 ℃ the cleaning gas of the back substrate and the front substrate of the field emission display device, characterized in that for 30 minutes injecting the cleaning gas 30 minutes per minute into the vacuum chamber. 제 1 항에 있어서, 상기 (라) 단계에서,The method of claim 1, wherein in the step (d), 상기 혼합가스는 황화가스인 것을 특징으로 하는 전계 방출 표시소자의 배면기판 및 전면기판의 형광체 클리닝 방법.The mixed gas is a sulfide gas, the method of cleaning the phosphor of the back substrate and the front substrate of the field emission display device. 제 1 항에 있어서, 상기 (라) 단계에서,The method of claim 1, wherein in the step (d), 상기 혼합가스는 350 내지 450℃로 가열하여 1 내지 10ppm의 상기 혼합가스를 상기 진공 챔버에 주입하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 표시소자의 배면기판 및 전면기판의 형광체 클리닝 방법.The mixed gas is heated to 350 to 450 ℃ to inject the mixed gas of 1 to 10ppm into the vacuum chamber phosphor cleaning method of the back substrate and the front substrate of the field emission display device. 마이크로 팁을 구비하는 필드 에미터 어레이가 형성된 배면기판; 및 형광 물질과, 소정의 유기용제가 포함된 혼합액을 사용하여 투명 전극 상에 형광체가 도포된 전면기판;을 접합하여 형성된 전계 방출 표시소자의 배면기판 및 전면기판의 형광체 클리닝 방법에 있어서,A back substrate having a field emitter array having a micro tip; And a front substrate on which a phosphor is coated on a transparent electrode by using a mixed solution containing a fluorescent material and a predetermined organic solvent. (가) 상기 배면기판 및 상기 전면기판을 접합하여 표시소자를 형성하는 단계;(A) bonding the back substrate and the front substrate to form a display device; (나) 상기 진공 챔버 내에서, 상기 표시소자에 혼합가스를 흡착하는 단계; 및(B) adsorbing a mixed gas to the display element in the vacuum chamber; And (다) 상기 진공 챔버 내의 잔류가스를 배기시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 표시소자의 배면기판 및 전면기판의 형광체 클리닝 방법.(C) exhausting the residual gas in the vacuum chamber; phosphor cleaning method of the back substrate and the front substrate of the field emission display device. 제 6 항에 있어서, 상기 (나) 단계에서,The method of claim 6, wherein in the step (b), 상기 혼합가스는 황화가스인 것을 특징으로 하는 전계 방출 표시소자의 배면기판 및 전면기판의 형광체 클리닝 방법.The mixed gas is a sulfide gas, the method of cleaning the phosphor of the back substrate and the front substrate of the field emission display device. 제 6 항에 있어서, 상기 (나) 단계에서,The method of claim 6, wherein in the step (b), 상기 혼합가스는 350 내지 450℃로 가열하여 1 내지 10ppm의 상기 혼합가스를 상기 진공 챔버에 주입하는 것을 특징으로 하는 전계 방출 표시소자의 배면기판 및 전면기판의 형광체 클리닝 방법.The mixed gas is heated to 350 to 450 ℃ to inject the mixed gas of 1 to 10ppm into the vacuum chamber phosphor cleaning method of the back substrate and the front substrate of the field emission display device.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61135037A (en) * 1984-12-06 1986-06-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd Device and method for ion irradiation
JPH03108234A (en) * 1989-09-20 1991-05-08 Toshiba Lighting & Technol Corp Manufacture of tubular bulb
JPH06252066A (en) * 1993-02-23 1994-09-09 Toshiba Corp Semiconductor manufacturing apparatus and manufacture of semiconductor device
KR960035706A (en) * 1995-03-31 1996-10-24 김준성 Gas removal method inside the cold cathode field emission display device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61135037A (en) * 1984-12-06 1986-06-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd Device and method for ion irradiation
JPH03108234A (en) * 1989-09-20 1991-05-08 Toshiba Lighting & Technol Corp Manufacture of tubular bulb
JPH06252066A (en) * 1993-02-23 1994-09-09 Toshiba Corp Semiconductor manufacturing apparatus and manufacture of semiconductor device
KR960035706A (en) * 1995-03-31 1996-10-24 김준성 Gas removal method inside the cold cathode field emission display device

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