KR100473652B1 - The process for preparing 4-chloropyridine derivatives - Google Patents

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KR100473652B1
KR100473652B1 KR10-2002-0059310A KR20020059310A KR100473652B1 KR 100473652 B1 KR100473652 B1 KR 100473652B1 KR 20020059310 A KR20020059310 A KR 20020059310A KR 100473652 B1 KR100473652 B1 KR 100473652B1
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Abstract

본 발명은 피리딘 유도체의 신규한 제조 방법에 관한 것으로서, 위산분비 억제 특성을 갖는 벤즈이미다졸 유도체의 제조 공정에 유용한 중간체 화합물인 피리딘 유도체를 알칼리 존재하에서 경제성이 높은 염소 가스를 주입하여 제조하는 것을 특징으로 하여, 종래의 니트로피리딘 산화물을 대체하여 인체 유해성 및 저수율 등의 비경제성을 극복할 수 있고, 고순도 및 고수율의 신규 제조 및 단순화된 유용한 공정을 제공할 수 있다. The present invention relates to a novel method for preparing a pyridine derivative, characterized in that a pyridine derivative, which is an intermediate compound useful in the process for producing benzimidazole derivatives having gastric acid secretion properties, is prepared by injecting high-efficiency chlorine gas in the presence of alkali. As a result, it is possible to replace conventional nitropyridine oxide to overcome economic hazards such as human hazards and low yield, and to provide new processes of high purity and high yield and simplified useful processes.

Description

4-클로로피리딘 유도체의 제조방법{The process for preparing 4-chloropyridine derivatives}The process for preparing 4-chloropyridine derivatives}

본 발명은 위산분비 억제 특성을 갖는 벤즈이미다졸 유도체의 제조에 사용되는 중간체인 피리딘 유도체를 제조함에 있어서, 경제성이 높은 염소 기체를 사용하여 고순도 및 고수율로 제조할 수 있는 신규 제조 방법을 제공하는 것이다.The present invention provides a novel production method that can be produced in high purity and high yield using chlorine gas having high economical efficiency in the production of pyridine derivatives which are intermediates used in the preparation of benzimidazole derivatives having gastric acid secretion inhibitory properties. will be.

하기의 일반식 (Ⅳ)로 표기된 피리딘 모핵을 갖는 벤즈이미다졸 유도체는 여러 문헌에 제조방법이 공지되어 있으며(영국특허 제 1,500,043호, 영국특허 제 1,525,989호, 미국특허 제 4,182,766호, 미국특허 제 4,255,431호), 포유류 및 인간에서의 위산 분비 억제뿐만 아니라 위장관의 세포보호 목적으로 사용되는 화합물로 위궤양, 십이지장궤양 등의 위장관 계통의 염증을 치료하는 데 탁월한 효과가 있는 것으로 알려져 있다. Benzimidazole derivatives having a pyridine parent nucleus represented by the following general formula (IV) are known in various literatures (British patent 1,500,043, UK patent 1,525,989, US patent 4,182,766, US patent 4,255,431). (H), a compound used for gastric acid protection as well as gastric acid secretion in mammals and humans is known to have an excellent effect in treating inflammation of the gastrointestinal system such as gastric ulcer and duodenal ulcer.

(Ⅳ) (Ⅳ)

상기의 일반식 (Ⅳ)에서, R2 및 R3이 메틸기이고, R4와 X가 메톡시기인 오메프라졸은 벤즈이미다졸 유도체중에서 가장 대표적인 화합물로서, 일반적으로 위산 분비를 산 분비 경로의 최종 단계에서 조절함으로써 포유동물과 인간의 위산 분비를 억제하는데 유용하다고 알려져 있다. 보다 일반적인 의미에서, 오메프라졸은 역류성 식도염, 위염, 십이지장염, 위궤양 및 십이지장궤양을 포함하는, 포유동물과 인간의 위산 관련 질병의 예방 및 치료에 사용할 수 있고, 또한 위산 억제 효과가 요구되는 다른 위장관 장애, 예를 들어, 비스테로이드계 소염제(Non-Steroidal Anti-Inflammatory Drugs; NSAID) 치료 환자, 비궤양성 소화불량 환자, 증후성 위식도 역류성 질환 환자 및 과산증에 의한 난치성 소화궤양을 일으키는 가스트리노마(gastrinomas) 환자의 치료에 사용할 수 있으며, 집중적인 치료가 필요한 환자, 급성 상부 위장 출혈 환자에서 위산 흡인을 예방하고 스트레스 궤양형성을 예방하고 치료하기 위하여 수술전 및 수술후에 사용할 수도 있다. 또한, 건선 치료뿐만 아니라 헬리코박터(Helicobacter) 감염과 이와 관련된 질병의 치료 및 인간을 포함한 포유동물의 염증성 질환의 치료 또는 예방에 유용하게 사용할 수 있으며, 여러 논문 및 특허 문헌에 제조방법이 기재되어 있다(한국특허공보 제 88-91호, 한국특허공개 제1995-0014070호, 한국특허등록 제1997-0008316호).In general formula (IV), omeprazole wherein R 2 and R 3 are methyl groups and R 4 and X are methoxy groups is the most representative compound among benzimidazole derivatives, and in general, gastric acid secretion is released at the final stage of the acid secretion pathway. By regulating it is known to be useful in suppressing gastric acid secretion in mammals and humans. In a more general sense, omeprazole can be used for the prevention and treatment of gastric acid-related diseases in mammals and humans, including reflux esophagitis, gastritis, duodenitis, gastric ulcer and duodenal ulcer, and also requires gastric acid inhibitory effects. For example, gastrinoma causing non-steroidal anti-inflammatory drugs (NSAIDs), non-ulcer dyspepsia, patients with symptomatic gastroesophageal reflux disease, and refractory digestive ulcers caused by hyperacidosis. It can be used for the treatment of gastrinomas, and it can be used preoperatively and postoperatively to prevent gastric aspiration and to prevent and treat stress ulceration in patients requiring intensive treatment and patients with acute upper gastrointestinal bleeding. Also, the treatment of psoriasis as well as Helicobacter pylori (Helicobacter) may be useful in the treatment or prevention of inflammatory diseases in a mammal, including the treatment and human infection and related diseases, a method is described in various patents and publications ( Korean Patent Publication No. 88-91, Korean Patent Publication No. 1995-0014070, and Korean Patent Registration No. 1997-0008316).

또한, 상기 일반식 (Ⅳ)에서 R2가 메틸기이고, R3 및 R4가 수소원자이고, X가 2,2,2-트리플루오로에톡시기인 란소프라졸은 위산 분비 억제 및 위점막 보호에 우수한 효과를 나타내는 항궤양제로서, 여러 논문 및 특허 문헌에 제조방법이 기재되어 있다(한국특허공고 제 92-2128호, 한국특허공고 제 96-0047호, 한국특허공고 제 97-6299호, 유럽특허 제0,174,726호, 유럽특허 제0,446,961호, 미국특허 제4,689,333호, 미국특허 제5,374,730호, 국제특허공개 제95/12590호, 국제특허공개 제 97/29103호).In addition, in the general formula (IV), lansoprazole wherein R 2 is a methyl group, R 3 and R 4 are hydrogen atoms, and X is a 2,2,2-trifluoroethoxy group is used for gastric acid secretion inhibition and gastric mucosal protection. As anti-ulcer agents exhibiting excellent effects, a number of papers and patent documents have described manufacturing methods (Korean Patent Publication No. 92-2128, Korean Patent Publication No. 96-0047, Korean Patent Publication No. 97-6299, Europe Patent Nos. 0,174,726, European Patent No. 0,446,961, US Patent No. 4,689,333, US Patent No. 5,374,730, International Patent Publication No. 95/12590, and International Patent Publication No. 97/29103.

또한, 상기 일반식 (Ⅳ)에서 R2가 메톡시기이고, R3이 수소원자이고, R4가 2,2-디플루오로메톡시기이고, X가 메톡시기인 판토프라졸이나 R2가 메틸기이고, R3 및 R4가 수소원자이고, X가 2-메톡시프로폭시기인 라베프라졸은 위산 분비 증가로 인한 질환 치료에 효과적인 화합물들이며, 마찬가지로 제조방법이 특허 문헌에 기재되어 있다(국제특허출원 제97/41114호).In addition, in said general formula (IV), pantoprazole or R <2> is a methyl group, R <2> is a methoxy group, R <3> is a hydrogen atom, R <4> is a 2 , 2- difluoromethoxy group, and X is a methoxy group. , R 3 and R 4 are hydrogen atoms, X is 2-methoxypropoxy group, rabeprazole are effective compounds for the treatment of diseases caused by increased gastric acid secretion, the preparation method is described in the patent literature (international patent) Application 97/41114).

이들 벤즈이미다졸 유도체는 벤즈이미다졸 유도체 부분과 피리딘 메틸부분이 설피드 또는 설폭시드 결합하여 이루어진 것으로서, 미국 특허 제 4,255,431호(유럽 특허 제1005-129호)에서도 제조공정이 개시되었으나, 마지막 단계에서 1종 이상의 용매를 이용하였고, 최종 생성물을 얻기 위한 중간체의 단리를 요구하였으며, 생성된 생성물이 출발 물질 및 부산물로 오염되어 있어서, 순수한 화합물을 얻기 어려울 뿐만 아니라 분리 공정이 포함되어야 하는 단점이 존재했다. These benzimidazole derivatives are formed by combining a benzimidazole derivative portion and a pyridine methyl moiety with sulfide or sulfoxide, and a manufacturing process has been disclosed in US Patent No. 4,255,431 (European Patent No. 1005-129). One or more solvents were used, the isolation of intermediates to obtain the final product was required, and the resulting product was contaminated with starting materials and by-products, which made it difficult to obtain pure compounds as well as the need for separation processes to be involved. .

또한, 미국 특허 제 5,391,752호에서는 마그네슘 모노퍼녹시프탈레이트를 산화제로 이용하는 산화단계만 기재되어 있는데, 마찬가지로 생성물이 출발물질과 부산물로 오염되어 있어서 낮은 수율 및 순도를 보여주었다.In addition, US Pat. No. 5,391,752 describes only an oxidation step using magnesium monoperoxyphthalate as the oxidant, which likewise shows low yield and purity because the product is contaminated with starting materials and by-products.

한편 벤즈이미다졸 유도체 화합물을 제조함에 있어서, 핵심적인 중간체인 4-메톡시-3,5-디메틸피리딘-N-옥사이드를 제조하는 공지의 방법은 한국특허공보 제 88-91호에 기술되어 있는데, 이들 제조방법을 살펴보면 다음과 같다. Meanwhile, a known method for preparing 4-methoxy-3,5-dimethylpyridine-N-oxide, which is a key intermediate in preparing benzimidazole derivative compounds, is described in Korean Patent Publication No. 88-91, Looking at these manufacturing methods are as follows.

3,5-디메틸피리딘 (1)을 과산화수소와 반응시켜 3,5-디메틸피리딘-N-옥사이드 (2)를 얻은 다음, 이를 질산과 같은 니트로화제와 반응시키고 연이어 알칼리와 반응시켜 목적생성물인 메톡시기가 도입된 3,5-디메틸-4-메톡시피리딘-N-옥사이드 (4)를 얻는 것이었다.3,5-dimethylpyridine (1) is reacted with hydrogen peroxide to obtain 3,5-dimethylpyridine-N-oxide (2), which is then reacted with a nitrating agent such as nitric acid and subsequently with an alkali to produce the desired methoxy group. Was introduced to obtain 3,5-dimethyl-4-methoxypyridine-N-oxide (4).

그러나, 이와 같이 공지된 제조법은 전체 합성 공정이 피리딘 고리의 각 위치에 적당한 기를 선택적으로 도입하기 위해 산화, 환원, 도입, 치환반응 등의 연속 조작이 필요하므로, 반응조작이 복잡하고 효과적이지 못하여 전체 수율이 65% 정도로 저조한 문제점을 지니고 있었으며, 반응경로에 있어서 합성 중간체로 생성되는 니트로피리딘의 N-옥사이드 화합물 (3)의 발암성 및 돌연변이 성질로 인해 인체에 유해한 단점이 있으므로(Acta Chemica Scandinavica, B48, pp524-525, 1988), 독성 없이 효율적이면서 고수율인 제조방법이 요구되어졌다.However, such a known production method requires a continuous operation such as oxidation, reduction, introduction, and substitution reaction to selectively introduce an appropriate group at each position of the pyridine ring, so that the reaction operation is complicated and ineffective. The yield was poor at about 65%, and due to the carcinogenic and mutant properties of the N-oxide compound (3) of nitropyridine, which is produced as a synthetic intermediate in the reaction pathway, it is harmful to humans ( Acta Chemica Scandinavica , B48 , pp524-525, 1988), an efficient and high yield method without toxicity is required.

상술한 공지방법의 단점을 보완하기 위해, 한국특허공고 제1991-0009816호에서는 다음과 같은 제조방법이 개시되었다.In order to make up for the shortcomings of the above-mentioned known method, Korean Patent Publication No. 1991-0009816 discloses the following manufacturing method.

그러나, 반응 공정이 3단계로 길뿐만 아니라 클로로화제로 값비싼 포스포릴클로라이드를 사용함으로 인해 인체에 유독하고 과다한 생산비가 들었으며, 반응온도가 매우 높아 대량 생산에 부적합하고, 또한 4-클로로피리딘-N-옥사이드 (4) 제조시에 1단계의 산화 공정이 추가되므로, 개선의 여지가 많았다(전공정 수율:65%).However, the reaction process is not only long in three stages, but also expensive phosphoryl chloride as a chloroating agent, which is toxic and excessive production cost to the human body, and the reaction temperature is very high and unsuitable for mass production, and also 4-chloropyridine- Since the one-step oxidation process was added at the time of manufacture of N-oxide (4), there was much room for improvement (pre-process yield: 65%).

상기에 비추어, 상기 공지방법의 단점이 배제된 효율적이면서 공정이 간단하고 경제적인 벤즈이미다졸 유도체의 중간체를 제조하기 위한 신규의 제조 방법이 여전히 요구되고 있으며, 이에 유기 용매 및 알칼리 존재하에서 염소 기체를 주입함으로서 기존의 3단계 공정을 2단계로 단순화하고, 클로로화제로 이용하기 위해 포스포릴클로라이드 대신 값이 저렴한 염소 기체를 사용하여 고순도 및 고수율로 제조할 수 있는 신규 방법을 개발하여 본 발명을 완성하였다.In view of the above, there is still a need for a new production method for preparing intermediates of benzimidazole derivatives which are efficient, simple and economical, which eliminates the disadvantages of the known methods, thereby providing chlorine gas in the presence of organic solvents and alkalis. By injecting, the existing three-step process is simplified to two stages, and a new method can be prepared in high purity and high yield using inexpensive chlorine gas instead of phosphoryl chloride to use as a chloroating agent. It was.

본 발명의 목적은 위산분비 억제 특성을 갖는 벤즈이미다졸 유도체의 제조에 사용되는 중간체 화합물인 4-클로로피리딘 유도체 화합물의 신규 제조 방법을 제공하는 것이다. It is an object of the present invention to provide a novel process for the preparation of 4-chloropyridine derivative compounds which are intermediate compounds used in the preparation of benzimidazole derivatives having gastric acid secretion inhibitory properties.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 하기 일반식 (Ⅱ)의 피리딘을 산화제로 산화시켜 일반식 (Ⅲ)의 피리딘-N-옥사이드를 얻은 후, 용매와 알칼리 존재하에서 클로로화제로서 염소 가스를 주입함을 특징으로 하는 벤즈이미다졸 유도체의 제조에 사용되는 중간체인 하기 구조식(Ⅰ)로 표기되는 4-클로로피리딘 유도체 제조 방법을 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention oxidizes the pyridine of general formula (II) with an oxidizing agent to obtain pyridine-N-oxide of general formula (III), and then chlorine gas is injected as a chloroating agent in the presence of a solvent and an alkali. It provides a method for producing 4-chloropyridine derivative represented by the following structural formula (I) which is an intermediate used in the preparation of benzimidazole derivatives characterized in that.

(Ⅰ) (Ⅰ)

(Ⅱ) (Ⅱ)

(Ⅲ) (Ⅲ)

상기의 식에서, In the above formula,

R1, R2 및 R3은 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 4의 알킬기 또는 탄소수 1 내지 4의 알콕시기를 나타내며, 서로 상이하거나 동일하다.R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, which are different from or the same as each other.

상기의 제조 공정에서 사용될 수 있는 산화제는 과산, 소듐 브로마이드, 소듐 히포클로라이트, 바람직하게는 과산화수소이며, 반응용매는 할로겐화 탄화수소, 에테르, 아미드, 알콜, 물, 바람직하게는 빙초산으로 선택된 용매이다.The oxidizing agent which can be used in the above production process is peracid, sodium bromide, sodium hypochlorite, preferably hydrogen peroxide, and the reaction solvent is a solvent selected from halogenated hydrocarbons, ethers, amides, alcohols, water, preferably glacial acetic acid.

또한, 상기의 공정에서 사용될 수 있는 클로로화제는 염소 기체이며, 유기용매로는 메틸렌클로라이드, 사염화탄소, 바람직하게는 클로로포름이고, 알칼리로는 수산화나트륨, 수산화칼륨 분말 또는 그 수용액, 바람직하게는 탄산나트륨 분말을 사용할 수 있다.In addition, the chloroating agent that can be used in the above process is chlorine gas, methylene chloride, carbon tetrachloride, preferably chloroform as the organic solvent, sodium hydroxide, potassium hydroxide powder or aqueous solution thereof, preferably sodium carbonate powder Can be used.

마찬가지로, 상기 공정에서의 알칼리 사용량은 일반식 (Ⅲ)의 1몰 당 0.5 내지 5 당량, 바람직하게는 1 내지 2 당량이며, 반응온도는 0 내지 40℃, 바람직하게는 0 내지 30℃이고, 반응 시간은 30분 내지 10시간, 바람직하게는 1시간 내지 6시간이다.Likewise, the amount of alkali used in the process is 0.5 to 5 equivalents, preferably 1 to 2 equivalents, per mole of formula (III), the reaction temperature is 0 to 40 ° C, preferably 0 to 30 ° C, and the reaction The time is 30 minutes to 10 hours, preferably 1 hour to 6 hours.

이하, 본 발명의 제조 공정을 하기의 반응 도식으로 상세히 표시하면 다음과 같다.Hereinafter, the manufacturing process of the present invention will be described in detail with the following reaction scheme.

본 발명의 제조 공정은 하기의 반응식에 도시된 방법에 의해 화학적으로 합성될 수 있지만, 이 예로만 한정되는 것은 아니며, 당업자들에 의해 숙지된 시약 및 출발물질의 적당한 변화에 의해 제조될 수 있다. The preparation process of the present invention can be chemically synthesized by the method shown in the following scheme, but is not limited to this example, it can be prepared by appropriate changes in the reagents and starting materials known to those skilled in the art.

상기 반응식 1에서와 같이, 일반식 (Ⅱ)의 피리딘을 과산화수소수와 빙초산을 사용하여 산화시켜 일반식 (Ⅲ)의 피리딘-N-옥사이드를 얻은 후, 용매와 알칼리 존재하에서 클로로화제로서 염소 기체를 주입하여 벤즈이미다졸 중간체인 일반식 (Ⅰ)의 4-클로로피리딘-N-옥사이드 유도체를 제조할 수 있다.As in Scheme 1, pyridine of formula (II) is oxidized using hydrogen peroxide and glacial acetic acid to obtain pyridine-N-oxide of formula (III), and then chlorine gas is used as a chloroating agent in the presence of a solvent and an alkali. By injection, 4-chloropyridine-N-oxide derivative of general formula (I) which is a benzimidazole intermediate can be prepared.

상기 1단계는 일반식 (Ⅱ)의 피리딘을 공지의 방법으로 산화시켜 일반식 (Ⅲ) 화합물인 피리딘-N-옥사이드를 제조하는 것으로, 상기의 공정에서 사용한 산화제인 과산화수소는 20 내지 50% 정도의 수용액을 사용하는 것이 일반적이지만 상기 범위에 한정되는 것은 아니다.The first step is to prepare a pyridine-N-oxide which is a compound of the general formula (III) by oxidizing the pyridine of the general formula (II) by a known method, the hydrogen peroxide of the oxidizing agent used in the above process is about 20 to 50% It is common to use aqueous solution, but it is not limited to the said range.

과산화수소의 사용량은 일반식 (Ⅱ)의 화합물에 대해 0.95 ~ 2.0 당량, 바람직하게는 0.95 ~ 1.4 당량이고, 더욱 바람직하게는 1.0 ~ 1.1 당량이다. 반응용매는 할로겐화 탄화수소, 예를 들어 디클로로메탄, 클로로포름, 카르본 테트라클로라이드; 에테르, 예를 들어 테트라하이드로퓨란, 디옥산; 아미드, 알콜, 물 또는 빙초산이다.The amount of hydrogen peroxide used is 0.95 to 2.0 equivalents, preferably 0.95 to 1.4 equivalents, more preferably 1.0 to 1.1 equivalents based on the compound of formula (II). Reaction solvents include halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride; Ethers such as tetrahydrofuran, dioxane; Amide, alcohol, water or glacial acetic acid.

이어서, 상기 제 2단계는 일반식 (Ⅲ)의 피리딘-N-옥사이드를 알칼리 존재하에서 클로로화제를 이용하여 일반식 (Ⅰ)의 화합물인 4-클로로피리딘 옥사이드 화합물을 제조하는 것이다.Subsequently, the second step is to prepare a pyridine-N-oxide of the general formula (III) using a chloroating agent in the presence of alkali to prepare a 4-chloropyridine oxide compound of the general formula (I).

상기의 공정에서 사용될 수 있는 클로로화제는 염소 기체이며, 유기용매로는 메틸렌클로라이드, 사염화탄소, 클로로포름이고, 알칼리로는 수산화나트륨, 수산화칼륨 또는 탄산나트륨의 분말 또는 그 수용액을 의미한다.The chloroating agent that can be used in the above process is chlorine gas, the organic solvent is methylene chloride, carbon tetrachloride, chloroform, the alkali means a powder of sodium hydroxide, potassium hydroxide or sodium carbonate or an aqueous solution thereof.

또한, 상기 공정에서의 알칼리 사용량은 일반식 (Ⅲ) 화합물의 1몰 당 1 내지 2 당량이며, 반응온도는 0 내지 30℃이다.In addition, the usage-amount of alkali in the said process is 1-2 equivalent per mole of general formula (III) compound, and reaction temperature is 0-30 degreeC.

상술한 바와 같이, 본 발명은 공지의 방법에서 사용되는 유해한 니트로피리딘-N-옥사이드 유도체 대신에 클로로피리딘-N-옥사이드를 사용함으로 제조공정에 있어서 인체에 무해한 효과적인 방법일 뿐만 아니라, 2단계 공정을 거치는 종래의 반응 공정과는 달리 별도의 산화 공정이 필요없는 1단계 공정만으로 공지의 방법보다 높은 수율로 일반식 (Ⅰ)의 화합물을 제조할 수 있으며, 클로로화제로 포스포릴클로라이드 대신에 염소 기체를 사용함으로 경제성 및 수율 또한 공지의 방법보다 뛰어난 제조방법이다.As described above, the present invention is not only an effective method harmless to the human body in the manufacturing process by using chloropyridine-N-oxide in place of the harmful nitropyridine-N-oxide derivative used in the known method, but also a two-step process. Unlike conventional reaction processes, the compound of general formula (I) can be prepared in a higher yield than a known method by using only one step, which does not require a separate oxidation process, and chlorine gas is used instead of phosphoryl chloride as a chloroating agent. Economical use and yield are also superior to known methods by use.

본 발명은 하기의 실시예들에 의해 보다 더 잘 이해될 수 있으며, 하기의 실시예는 본 발명을 예시하기 위한 것이며 한정되는 보호범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.The invention can be better understood by the following examples, which are intended to illustrate the invention and are not intended to limit the scope of protection.

실시예 1. 3,5-디메틸피리딘-N-옥사이드의 제조 (1)Example 1. Preparation of 3,5-dimethylpyridine-N-oxide (1)

3,5-디메틸피리딘 7.80g(72.8mM)과 톨루엔 4㎖를 반응기에 넣은 후, 0∼10℃를 유지하며 빙초산 14㎖와 반응하고 연이어 30% 과산화수소수 9.4㎖를 적가하여 4시간동안 환류시켰다. 실온으로 온도를 낮춘 뒤 10M 수산화나트륨 수용액으로 pH 8∼9로 조절하고, 메틸렌클로라이드 40 ㎖로 2회 추출하고 무수황산마그네슘으로 건조하여 여과하고, 감압증류하여 3,5-디메틸피리딘-N-옥사이드 화합물 8.51g (수율 95.0%)을 얻었다(표 1 참조). 7.80 g (72.8 mM) of 3,5-dimethylpyridine and 4 ml of toluene were added to the reactor, followed by reacting with 14 ml of glacial acetic acid while maintaining 0 to 10 DEG C, followed by dropwise addition of 9.4 ml of 30% hydrogen peroxide solution for 4 hours. . After the temperature was lowered to room temperature, the mixture was adjusted to pH 8-9 with 10M aqueous sodium hydroxide solution, extracted twice with 40 ml of methylene chloride, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and distilled under reduced pressure to obtain 3,5-dimethylpyridine-N-oxide. Compound 8.51 g (yield 95.0%) was obtained (see Table 1).

실시예 2. 2,3-디메틸피리딘-N-옥사이드의 제조 (2)Example 2. Preparation of 2,3-dimethylpyridine-N-oxide (2)

2,3-디메틸피리딘 7.80g(72.8mM)과 톨루엔 4㎖를 반응기에 넣은 후, 0∼10℃를 유지하며 빙초산 14㎖와 반응하고 연이어 30% 과산화수소수 9.4㎖를 적가하여 4시간동안 환류시켰다. 실온으로 온도를 낮춘 뒤 10M 수산화나트륨 수용액으로 pH 8∼9로 조절하고, 메틸렌클로라이드 40㎖로 2회 추출하고 무수황산마그네슘으로 건조하여 여과하고, 감압증류하여 2,3-디메틸피리딘-N-옥사이드 화합물 8.11g (수율 90.0%)을 얻었다(표 1 참조).7.80 g (72.8 mM) of 2,3-dimethylpyridine and 4 ml of toluene were placed in a reactor, followed by reacting with 14 ml of glacial acetic acid while maintaining 0 to 10 DEG C, followed by dropwise addition of 9.4 ml of 30% hydrogen peroxide solution for 4 hours. . After the temperature was lowered to room temperature, the mixture was adjusted to pH 8-9 with 10M aqueous sodium hydroxide solution, extracted twice with 40 ml of methylene chloride, dried over anhydrous magnesium sulfate, filtered, and distilled under reduced pressure to give 2,3-dimethylpyridine-N-oxide. 8.11 g (yield 90.0%) of compound was obtained (see Table 1).

(Ⅲ) (Ⅲ)

화합물compound R1 R 1 R2 R 2 R3 R 3 수율 (%)Yield (%) 1One HH CH3 CH 3 CH3 CH 3 95.095.0 22 CH3 CH 3 CH3 CH 3 HH 90.090.0

실시예 3. 4-클로로-3,5-디메틸피리딘-N-옥사이드의 제조 (3) Example 3. Preparation of 4-chloro-3,5-dimethylpyridine-N-oxide (3)

본원의 실시예 1에서 제조한 3,5-디메틸피리딘-N-옥사이드 1.23g (9.99mM)를 클로로포름 40㎖에 용해시킨 후, 탄산나트륨 분말 1.06g (10.00mM)을 가하고 0∼5℃를 유지하면서 염소 기체를 3.5시간 동안 주입하였다. 반응 후 질소 기체를 흘려주어 용매에 용해되어있는 염소 기체를 제거한 후, 여과하여 불용물을 제거하고 포화된 중탄산나트륨 수용액으로 2회 세척하였다. 세척 후 건조, 증발시켜 얻은 잔사물에 에틸아세테이트 6㎖를 넣어 교반하고, 헥산 18㎖를 1시간동안 적가하여 결정화한 후, 여과하여 4-클로로-3,5-디메틸피리딘-N-옥사이드 화합물 (1.31g)을 얻었다(표 2 참조).1.23 g (9.99 mM) of 3,5-dimethylpyridine-N-oxide prepared in Example 1 of the present application was dissolved in 40 ml of chloroform, followed by adding 1.06 g (10.00 mM) of sodium carbonate powder and maintaining 0 to 5 ° C. Chlorine gas was injected for 3.5 hours. After the reaction, nitrogen gas was flowed to remove the chlorine gas dissolved in the solvent, and then filtered to remove the insoluble matters and washed twice with saturated aqueous sodium bicarbonate solution. 6 ml of ethyl acetate was added to the residue obtained by washing, drying and evaporation. After stirring, 18 ml of hexane was added dropwise for 1 hour to crystallize, followed by filtration to give 4-chloro-3,5-dimethylpyridine-N-oxide compound ( 1.31 g) was obtained (see Table 2).

실시예 4. 4-클로로-2,3-디메틸피리딘-N-옥사이드의 제조 (4) Example 4. Preparation of 4-chloro-2,3-dimethylpyridine-N-oxide (4)

본원의 실시예 2에서 제조한 2,3-디메틸피리딘-N-옥사이드 1.23g (9.99mM)을 클로로포름 40㎖에 용해시킨 후, 탄산나트륨 분말 1.06g (10.00mM)을 가하고 실온에서 염소 기체를 30시간 동안 주입하였다. 반응 후 질소 기체를 주입하여 용매에 용해되어 있는 염소 기체를 제거한 후, 여과하여 불용물을 제거하고 포화된 중탄산나트륨 수용액으로 2회 세척하였다. 세척 후 건조, 증발시켜 얻은 잔사물을 전개용매(EtoAc:MeOH = 6:1)를 사용하여 실리카겔 컬럼을 수행하였고 4-클로로-2,3-디메틸피리딘-N-옥사이드 화합물 1.02g(수율 65.0 %)를 얻었다(표 2 참조).1.23 g (9.99 mM) of 2,3-dimethylpyridine-N-oxide prepared in Example 2 of the present application was dissolved in 40 ml of chloroform, followed by addition of 1.06 g (10.00 mM) of sodium carbonate powder and chlorine gas at room temperature for 30 hours. Was injected during. After the reaction, nitrogen gas was injected to remove the chlorine gas dissolved in the solvent, followed by filtration to remove the insolubles, and washed twice with saturated aqueous sodium bicarbonate solution. The residue obtained by washing, drying and evaporating was subjected to a silica gel column using a developing solvent (EtoAc: MeOH = 6: 1), and 1.02 g of 4-chloro-2,3-dimethylpyridine-N-oxide compound (yield 65.0%). ) Was obtained (see Table 2).

(Ⅰ) (Ⅰ)

화합물compound R1 R 1 R2 R 2 R3 R 3 수율 (%)Yield (%) 1H-NMR (CDCl3) δ: 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ: 33 HH CH3 CH 3 CH3 CH 3 83.083.0 2.32 (s, 6H),8.00 (s, 2H)2.32 (s, 6H), 8.00 (s, 2H) 44 CH3 CH 3 CH3 CH 3 HH 65.065.0 2.66 (s, 3H), 2.85 (s, 3H),7.66 (d, 1H),8.85 (d, 1H)2.66 (s, 3H), 2.85 (s, 3H), 7.62 (d, 1H), 8.85 (d, 1H)

결과적으로, 본원의 위산분비 억제 특성을 갖는 벤즈이미다졸 유도체의 제조에 사용되는 중간체 화합물인 4-클로로피리딘 유도체 화합물의 신규 제조 방법은 기존의 3단계 반응에서 2단계로 공정을 단순화하였으며, 공지의 방법을 이용한 수율(기존 방법: 65%)과 비교시, 현저한 효과(신규 방법: 79%)를 보이므로 경제적 및 산업적으로 유용한 발명임을 확인할 수 있었다. As a result, the novel preparation method of the 4-chloropyridine derivative compound, which is an intermediate compound used in the preparation of benzimidazole derivatives having gastric acid secretion inhibitory properties, simplifies the process from the existing three-step reaction to two steps. Compared with the yield using the method (old method: 65%), it showed a significant effect (new method: 79%), it was confirmed that the invention is economically and industrially useful.

본 발명의 4-클로로피리딘 유도체 제조 방법에 있어서, 유기용매 및 알칼리 존재하에서 염소 기체를 주입하는 것을 특징으로 하여 기존의 공정을 단순화하고, 맹독성이 있고 상대적으로 값이 비싼 포스포릴클로라이드를 염소 기체로 대체함으로써 공정의 단순화 및 고순도, 고수율의 화합물을 경제적으로 생산할 수 있다. In the method for preparing 4-chloropyridine derivative of the present invention, chlorine gas is injected in the presence of an organic solvent and an alkali to simplify the existing process, and to convert chlorine gas into a highly toxic and relatively expensive phosphoryl chloride. Substitution can simplify the process and economically produce high purity, high yield compounds.

Claims (4)

하기 일반식 (Ⅱ)의 피리딘을 과산화수소, 소듐 브로마이드 및 소듐 히포클로라이트로부터 선택된 산화제로 산화시켜 일반식 (Ⅲ)의 피리딘-N-옥사이드를 얻은 후, 메틸렌 클로라이드, 클로로포름 및 사염화탄소로부터 선택된 용매와 수산화나트륨, 수산화칼륨 및 탄산나트륨으로부터 선택된 알칼리 존재하에서 0 내지 30℃의 온도에서 클로로화제로서 염소 가스를 주입함을 특징으로 하는 일반식 (Ⅰ)의 4-클로로피리딘-N-옥사이드 유도체 제조방법:The pyridine of the general formula (II) is oxidized with an oxidizing agent selected from hydrogen peroxide, sodium bromide and sodium hypochlorite to obtain pyridine- N -oxide of the general formula (III), followed by a solvent and hydroxide selected from methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride. A process for preparing 4-chloropyridine- N -oxide derivative of general formula (I) characterized by injecting chlorine gas as a chloroating agent at a temperature of 0 to 30 ° C in the presence of an alkali selected from sodium, potassium hydroxide and sodium carbonate: 상기의 식에서, In the above formula, R1, R2 및 R3은 각각 독립적으로 수소원자, 탄소수 1 내지 4의 알킬기 또는 탄소수 1 내지 4의 알콕시기를 나타내며, 서로 상이하거나 동일하다.R 1 , R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, which are different from or the same as each other. 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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