KR100468724B1 - High speed programmable ROM and memory cell structure therefor and method for writing/reading a ROM data in/from the programmable ROM - Google Patents

High speed programmable ROM and memory cell structure therefor and method for writing/reading a ROM data in/from the programmable ROM Download PDF

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KR100468724B1 KR10-2002-0020234A KR20020020234A KR100468724B1 KR 100468724 B1 KR100468724 B1 KR 100468724B1 KR 20020020234 A KR20020020234 A KR 20020020234A KR 100468724 B1 KR100468724 B1 KR 100468724B1
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Abstract

고속의 프로그래머블 롬 시스템 및 그를 위한 메모리 셀 구조와 상기 프로그래머블 롬에서의 데이터 기록 및 독출 방법이 개시된다. 본 발명에 따른 프로그래머블 롬 시스템은 각각은 게이트, 제1전극 및 제2전극을 구비하는 다수의 메모리 셀들, 각각은 다수의 메모리 셀들의 게이트와 연결되는 다수의 워드라인들, 각각은 다수의 메모리 셀들의 제1전극과 연결되며, 워드라인들과 실질적인 수직방향으로 배치되는 비트라인들 및 각각은 제어신호들에 응답하여 접지전원에 선택적으로 연결되며, 워드라인들과 실질적인 수직방향으로 배치되는 다수의 가상접지라인들을 포함하고, 다수의 메모리 셀들 각각의 제2전극을 다수의 가상접지라인들에 선택적으로 연결하여 다수의 메모리 셀들을 소정의 로직 레벨로 프로그래밍하는 것이 바람직하다. 기록하고자 하는 롬 데이터에 따라 가상접지라인에 셀 트랜지스터의 소오스를 선택적으로 연결함으로써, 비트라인의 커패시턴스가 과도하게 커지거나 또는 작아지지 않고 일정하게 유지시킬 수 있다. 이로 인해, 프로그래머블 롬의 동작속도를 빠르게 하면서 프로그래밍된 데이터의 오독을 최소화할 수 있다.A high speed programmable ROM system and a memory cell structure therefor and a method of writing and reading data in the programmable ROM are disclosed. The programmable ROM system according to the present invention includes a plurality of memory cells each having a gate, a first electrode, and a second electrode, each of a plurality of word lines connected to gates of a plurality of memory cells, and each of a plurality of memory cells. A plurality of bit lines connected to the first electrodes of the plurality of first electrodes, the bit lines disposed in a substantially vertical direction with the word lines, and selectively connected to a ground power source in response to the control signals, and a plurality of bit lines disposed substantially in the vertical direction with the word lines. It is preferable to program the plurality of memory cells to a predetermined logic level by including virtual ground lines, and selectively connecting a second electrode of each of the plurality of memory cells to the plurality of virtual ground lines. By selectively connecting the source of the cell transistor to the virtual ground line in accordance with the ROM data to be written, the capacitance of the bit line can be kept constant without being excessively large or small. This makes it possible to increase the operating speed of the programmable ROM while minimizing the misreading of programmed data.

Description

고속의 프로그래머블 롬 시스템 및 그를 위한 메모리 셀 구조와 상기 프로그래머블 롬에서의 데이터 기록 및 독출 방법{High speed programmable ROM and memory cell structure therefor and method for writing/reading a ROM data in/from the programmable ROM}High speed programmable ROM and memory cell structure therefor and method for writing / reading a ROM data in / from the programmable ROM}

본 발명은 반도체 메모리장치에 관한 것으로, 특히 고속 동작의 프로그래머블 롬 시스템에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to semiconductor memory devices, and more particularly to a programmable ROM system of high speed operation.

마스크 롬(Mask Read Only Memory)은 사용자가 필요한 데이터를 제조공정 단계에서 미리 코딩하고 코딩된 데이터를 반복하여 읽어낼 수 있도록 구성된 반도체 메모리장치이다. 마스크 롬에는 임베디드 디퓨젼 프로그래머블 롬(Embeded diffusion-programmable ROM)과 임베디드 메탈 프로그래머블 롬(Embeded metal-programmable ROM)이 있다. 임베디드 디퓨젼 프로그래머블 롬은 롬 데이터 코드가 제조공정중 디퓨젼 공정 단계에서 결정되고, 임베디드 메탈 프로그래머블 롬은 롬 데이터 코드가 제조공정중 메탈 공정 단계에서 결정된다.A mask read only memory is a semiconductor memory device configured to enable a user to pre-code necessary data in a manufacturing process step and repeatedly read the coded data. Mask ROMs include embedded diffusion-programmable ROMs and embedded metal-programmable ROMs. The embedded diffusion programmable ROM is determined by the ROM process code during the manufacturing process, and the embedded metal programmable ROM is determined by the ROM process code during the manufacturing process.

한편 임베디드 메탈 프로그래머블 롬과 거의 동일한 임베디드 콘택(Contact) 프로그래머블 롬 또는 임베디드 비아(Via) 프로그래머블 롬이 있다. 임베디드 컨택 프로그래머블 롬은 롬 데이터 코드가 제조공정중 컨택 공정 단계에서 결정되고, 임베디드 비아 프로그래머블 롬은 롬 데이터 코드가 제조공정중 비아 공정 단계에서 결정된다.On the other hand, there is an embedded contact programmable ROM or an embedded Via programmable ROM that is almost identical to an embedded metal programmable ROM. The embedded contact programmable ROM is determined by the ROM process code during the manufacturing process and the embedded via programmable ROM is determined by the via process stage during the manufacturing process.

일반적으로 임베디드 디퓨젼 프로그래머블 롬이 임베디드 메탈 프로그래머블 롬보다 선호되어 왔으며, 그 주된 이유는 전자가 후자보다 대략 25% 내지 35% 정도의 고집적화를 이룰 수 있기 때문이다.In general, embedded diffusion programmable ROMs have been preferred over embedded metal programmable ROMs, since the former can achieve approximately 25% to 35% higher integration than the latter.

그러나 임베디드 디퓨젼 프로그래머블 롬은 사용자로부터 데이터가 접수된 후 완성된 제품을 만들기까지의 시간 즉, 턴 어라운드 타임(turn-around-time)이임베디드 메탈 프로그래머블 롬에 비하여 많이 걸리는 단점이 있다. 최근에는 반도체 제조공정 기술의 발전에 따라 임베디드 메탈(또는 비아) 프로그래머블 롬의 집적도가 크게 향상되고 있으며 Time-to-Market에서 유리한 임베디드 메탈(또는 비아) 프로그래머블 롬의 중요성이 부각되고 있다.However, the embedded diffusion programmable ROM has a drawback in that the time required to make a finished product after receiving data from the user, that is, turn-around-time is longer than that of the embedded metal programmable ROM. Recently, with the development of semiconductor manufacturing process technology, the density of embedded metal (or via) programmable ROMs has been greatly improved, and the importance of embedded metal (or via) programmable ROMs, which is advantageous in time-to-market, has been highlighted.

도 1은 종래의 메탈 프로그래머블 롬의 셀 어레이 구조를 나타내는 도면이다. 설명의 편의를 위해, 도 1에는 2개의 비트 라인(BL0,BL1), 3개의 가상접지라인(VG0~VG2), 4개의 워드라인(WL0~WL3) 및 16개의 셀 트랜지스터(M1~M16)를 포함하여 구성되는 4*4 비트 셀 어레이 구조를 나타낸다. 여기서, 가상접지라인은 도시되지는 않았지만 스위치에 의해 선택적으로 접지전원에 연결되는 라인이다. 또한, 도 1에서 커패시터(C1~C4)는 실제 회로가 아니라 각 라인들 간의 커플링 커패시턴스를 표시한 것이다. 그리고, C5는 비트라인(BL0)의 총 커패시턴스를 그리고, C6는 비트라인(BL1)의 총 커패시턴스를 각각 표시한다.1 is a diagram illustrating a cell array structure of a conventional metal programmable ROM. For convenience of description, two bit lines BL0 and BL1, three virtual ground lines VG0 to VG2, four word lines WL0 to WL3, and sixteen cell transistors M1 to M16 are illustrated in FIG. 1. A 4 * 4 bit cell array structure is shown. Here, the virtual ground line is not shown, but is a line that is selectively connected to the ground power source by a switch. In addition, in FIG. 1, the capacitors C1 to C4 represent coupling capacitances between lines rather than actual circuits. C5 represents the total capacitance of the bit line BL0, and C6 represents the total capacitance of the bit line BL1.

도 1을 참조하여, 16개의 셀 트랜지스터(M1~M16) 각각의 게이트는 워드라인과 연결되고, 소오스는 가상 그라운드 라인과 연결된다. 그리고, 트랜지스터(M1~M16)의 드레인은 선택적으로 비트라인과 전기적 연결함으로써 프로그래밍할 수 있다. 즉, 셀 트랜지스터(M1~M16)의 드레인을 비트라인에 전기적으로 연결함으로써 셀 트랜지스터에 "0"을 프로그래밍하고, 드레인을 플로팅함으로써 트랜지스터에 "1"을 프로그래밍한다. 한편, 프로그래머블 롬의 속도는 비트 라인에 부하되는 총 커패시턴스에 좌우된다. 비트라인에 부하되는 총 커패시턴스는 해당 비트 라인이 프리챠지(pre-charge)되었다가 디스챠지(discharge)되는 시간을 결정하며, 따라서 총 커패시턴스가 큰 경우는 전체 롬의 동작 속도가 저하된다.Referring to FIG. 1, gates of each of the sixteen cell transistors M1 to M16 are connected to a word line, and a source is connected to a virtual ground line. In addition, the drains of the transistors M1 to M16 may be selectively programmed by electrically connecting the bit lines. That is, "0" is programmed to the cell transistor by electrically connecting the drains of the cell transistors M1 to M16 to the bit line, and "1" is programmed to the transistor by floating the drain. On the other hand, the speed of the programmable ROM depends on the total capacitance loaded on the bit line. The total capacitance loaded on the bit line determines the time for which the bit line is precharged and then discharged. Therefore, when the total capacitance is large, the operation speed of the entire ROM is reduced.

또한, 총 커패시턴스와, 해당 비트라인과 주변의 인접 라인간의 커플링 커패시턴스의 비도 프로그래머블 롬의 평가에 중요한 항목이다. 이 비율이 큰 경우 인접 라인의 트랜지션(transition)이 해당 비트라인을 간섭하여 프리챠지되었던 비트라인이 챠지된 상태를 유지하지 못하는 경우가 발생하며, 이로 인해 롬 데이터가 잘못 읽혀지게 된다. 이러한 오동작을 방지하기 위해, 총 커패시턴스 대비 인접 라인 사이의 커플링 커패시턴스의 비가 작아지도록 한다. 그러기 위해서는 비트라인에 부하되는 총 커패시턴스의 크기를 크게 해야 하나, 이는 전술된 바와 같이 속도가 저하된다는 문제점을 야기한다.In addition, the ratio of the total capacitance and the coupling capacitance between the corresponding bit line and the adjacent adjacent line is also an important item in the evaluation of the programmable ROM. If this ratio is large, transitions of adjacent lines may interfere with the corresponding bit lines, thereby preventing the pre-charged bit lines from being charged. As a result, ROM data may be incorrectly read. In order to prevent such a malfunction, the ratio of the coupling capacitance between adjacent lines to the total capacitance is reduced. To do this, the amount of total capacitance loaded on the bit line must be increased, but this causes a problem that the speed is lowered as described above.

도 1에 도시된 프로그래머블 롬의 경우, 비트라인(BL0)에 연결된 셀들은 모두 "0"로 프로그램되고, 비트라인(BL1)에 연결된 셀들을 모두 "1"로 프로그램되어 있다. 이 때 비트라인(BL0)에 부하되는 총 커패시턴스 C5는 최대가 되고, 비트라인(BL1)에 부하되는 총 커패시턴스 C6는 최소가 되며, 프로그래머블 롬의 동작 속도는 비트라인(BL0)에 의해 결정된다.In the programmable ROM illustrated in FIG. 1, all cells connected to the bit line BL0 are programmed to "0", and all cells connected to the bit line BL1 are programmed to "1". At this time, the total capacitance C5 loaded on the bit line BL0 becomes maximum, the total capacitance C6 loaded on the bit line BL1 becomes minimum, and the operating speed of the programmable ROM is determined by the bit line BL0.

여기서, 비트라인(BL0)의 커패시턴스에 영향을 주는 요소로는 비트라인 길이에 의한 커패시턴스, 프로그래밍 메탈 라인들(28)에 의한 커패시턴스, 비트라인에 연결되는 컨택들(CNT1)에 의한 커패시턴스, 그리고, 비트라인에 연결된 트랜지스터들(M1~M8)에 의한 커패시턴스이다. 이들 커패시턴스의 영향으로 인해 비트 라인(BL0)의 총 커패시턴스 C5는 매우 큰 값을 가지며, 이로 인해 프로그램 롬의 속도가 저하된다. 그러나, 인접 라인들(VG0,VG1)의 커플링 커패시턴스와의비율(=C1/C5 또는 C2/C5)은 작아지므로, 인접 라인과의 커플링 커패시턴스에 의해 롬 데이터가 잘못 판독되는 것은 방지될 수 있다.Here, the factors influencing the capacitance of the bit line BL0 include the capacitance by the bit line length, the capacitance by the programming metal lines 28, the capacitance by the contacts CNT1 connected to the bit line, and It is the capacitance by the transistors M1 to M8 connected to the bit line. Due to the influence of these capacitances, the total capacitance C5 of the bit line BL0 has a very large value, which slows down the program ROM. However, since the ratio (= C1 / C5 or C2 / C5) with the coupling capacitance of the adjacent lines VG0 and VG1 is small, the ROM data can be prevented from being read incorrectly by the coupling capacitance with the adjacent lines. .

한편, 비트라인(BL1)의 커패시턴스에 영향을 주는 요소로는 비트라인 길이에 의한 커패시턴스뿐이므로, 비트라인(BL1)의 총 커패시턴스 C6는 C5에 비해 매우 작은 값을 가진다. 그러므로, 인접 라인들(VG1,VG2)과의 커플링 커패시턴스의 비율(=C3/C6 또는 C4/C6)은 커져 커플링 커패시턴스에 의해 비트라인(12)에 연결된 셀들의 롬 데이터가 잘못 판독되는 오류가 발생될 수 있다. 이처럼, 커플링 커패시터에 의한 롬 데이터 오독을 방지하기 위해서는 롬 데이터 판독시 센스 앰프의 동작 시간을 늦추거나 프리 챠지와 디스챠지 시간을 알맞게 조정하여 간섭이 발생되지 않도록 해야 하는데, 이 모두 롬의 속도를 저하시키게 된다.On the other hand, since the only factor influencing the capacitance of the bit line BL1 is the capacitance by the bit line length, the total capacitance C6 of the bit line BL1 has a very small value compared to C5. Therefore, the ratio of the coupling capacitance (= C3 / C6 or C4 / C6) with the adjacent lines VG1 and VG2 is increased so that the ROM data of cells connected to the bit line 12 is incorrectly read by the coupling capacitance. May be generated. As such, in order to prevent ROM data misreading by the coupling capacitor, it is necessary to slow down the operating time of the sense amplifier when the ROM data is read or to adjust the precharge and discharge time accordingly so that interference does not occur. Is degraded.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 동작 속도를 향상시키는 고속의 프로그래머블 롬 시스템 및 그를 위한 메모리 셀 구조를 제공하는 데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in an effort to provide a high speed programmable ROM system for improving the operation speed and a memory cell structure therefor.

본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는 상기 프로그래머블 롬에서의 데이터 기록 및 독출 방법을 제공하는 데 있다.Another object of the present invention is to provide a method of recording and reading data in the programmable ROM.

본 발명이 이루고자 하는 또 다른 기술적 과제는 상기 데이터 기록 방법을 컴퓨터에서 실행 가능한 프로그램 코드로 기록된 기록 매체를 제공하는 데 있다.Another object of the present invention is to provide a recording medium in which the data recording method is recorded by program code executable on a computer.

도 1은 종래의 메탈 프로그래머블 롬의 셀 어레이 구조를 나타내는 도면이다.1 is a diagram illustrating a cell array structure of a conventional metal programmable ROM.

도 2는 본 발명에 따른 고속 프로그래머블 롬의 셀 어레이 구조의 일실시예를 나타내는 회로도이다.2 is a circuit diagram illustrating an embodiment of a cell array structure of a fast programmable ROM according to the present invention.

도 3은 도 2에 도시된 각 셀 트랜지스터의 수직방향의 단면을 나타내는 수직단면도이다.3 is a vertical cross-sectional view illustrating a vertical cross section of each cell transistor illustrated in FIG. 2.

도 4는 본 발명에 따른 프로그래머블 롬 시스템을 나타내는 회로도이다.4 is a circuit diagram illustrating a programmable ROM system according to the present invention.

도 5는 도 4에 도시된 회로의 동작을 제어하는 신호들의 타이밍도를 나타낸다.FIG. 5 shows a timing diagram of signals for controlling the operation of the circuit shown in FIG. 4.

도 6은 도 4에 도시된 프로그래머블 롬 시스템에서 수행되는 데이터 독출 과정을 나타내는 흐름도이다.FIG. 6 is a flowchart illustrating a data reading process performed in the programmable ROM system shown in FIG. 4.

상기 과제를 이루기 위해, 다수의 프로그래머블 메모리 셀을 포함하는 프로그래머블 롬에 있어서, 본 발명에 따른 프로그래머블 메모리 셀은 워드라인, 비트라인, 제어신호에 응답하여 접지전원에 선택적으로 연결되는 가상접지라인 및 워드라인과 연결되는 게이트, 상기 비트라인과 연결되는 제1전극 및 제2전극을 구비하고, 상기 제2전극을 가상접지라인에 선택적으로 연결하여 소정의 로직 레벨로의 프로그래밍이 가능한 셀 트랜지스터를 포함하는 것이 바람직하다.In order to achieve the above object, in a programmable ROM including a plurality of programmable memory cells, the programmable memory cell according to the present invention is a virtual ground line and word selectively connected to a ground power source in response to a word line, a bit line, and a control signal. A cell transistor having a gate connected to a line, a first electrode connected to the bit line, and a second electrode, the cell transistor being programmable to a predetermined logic level by selectively connecting the second electrode to a virtual ground line; It is preferable.

상기 과제를 이루기 위해, 본 발명에 따른 프로그래머블 롬 시스템은 각각은 게이트, 제1전극 및 제2전극을 구비하는 다수의 메모리 셀들, 각각은 다수의 메모리 셀들의 게이트와 연결되는 다수의 워드라인들, 각각은 다수의 메모리 셀들의 제1전극과 연결되며, 워드라인들과 실질적인 수직방향으로 배치되는 비트라인들 및 각각은 제어신호들에 응답하여 접지전원에 선택적으로 연결되며, 워드라인들과 실질적인 수직방향으로 배치되는 다수의 가상접지라인들을 포함하고, 다수의 메모리 셀들 각각의 제2전극을 다수의 가상접지라인들에 선택적으로 연결하여 다수의 메모리 셀들을 소정의 로직 레벨로 프로그래밍하는 것이 바람직하다.In order to achieve the above object, the programmable ROM system according to the present invention includes a plurality of memory cells each having a gate, a first electrode, and a second electrode, each of a plurality of word lines connected to gates of the plurality of memory cells, Each of the plurality of memory cells is connected to the first electrode of the plurality of memory cells, the bit lines disposed in a substantially perpendicular direction to the word lines, and each of which is selectively connected to the ground power supply in response to the control signals, and substantially perpendicular to the word lines. It is preferable to program the plurality of memory cells to a predetermined logic level by including a plurality of virtual ground lines arranged in a direction, and selectively connecting a second electrode of each of the plurality of memory cells to the plurality of virtual ground lines.

상기 과제를 이루기 위해, 본 발명에 따른 프로그래머블 롬 시스템은 각각은 게이트, 제1전극 및 제2전극을 구비하는 다수의 메모리 셀들, 각각은 다수의 메모리 셀들의 게이트와 연결되는 다수의 워드라인들, 각각은 워드라인들과 실질적인 수직방향으로 배치되며, 다수의 메모리 셀들 중 수평 방향으로 인접한 두 개의 메모리 셀들의 제1전극이 공유하여 연결되는 비트라인들 및 각각은 제어신호들에 응답하여 접지전원에 선택적으로 연결되며, 워드라인들과 실질적인 수직방향으로 배치되는 다수의 가상접지라인들을 포함하고, 다수의 메모리 셀들 각각의 제2전극을 다수의 가상접지라인들에 선택적으로 연결하여 다수의 메모리 셀들을 소정의 로직레벨로 프로그래밍하는 것이 바람직하다.In order to achieve the above object, the programmable ROM system according to the present invention includes a plurality of memory cells each having a gate, a first electrode, and a second electrode, each of a plurality of word lines connected to gates of the plurality of memory cells, Each of the plurality of memory cells is disposed in a substantially vertical direction with the word lines, and bit lines to which the first electrodes of two memory cells adjacent in the horizontal direction are shared and connected to the ground power source in response to control signals. A plurality of virtual ground lines selectively connected to the word lines and disposed substantially perpendicular to the word lines, and selectively connecting a second electrode of each of the plurality of memory cells to the plurality of virtual ground lines to connect the plurality of memory cells. It is desirable to program to a predetermined logic level.

상기 과제를 이루기 위해, 본 발명에 따른 프로그래머블 롬 시스템은 각각은 게이트, 제1전극 및 제2전극을 구비하는 다수의 메모리 셀들, 각각은 다수의 메모리 셀들의 게이트와 연결되는 다수의 워드라인들, 각각은 워드라인들과 실질적인 수직방향으로 배치되며, 다수의 메모리 셀들의 수평 및 수직방향으로 인접한 4개의 메모리 셀들의 제1전극이 공유하여 연결되는 비트라인들 및 각각은 제어신호들에 응답하여 접지전원에 선택적으로 연결되며, 워드라인들과 실질적인 수직방향으로 배치되는 다수의 가상접지라인들을 포함하고, 다수의 메모리 셀들 각각의 제2전극을 다수의 가상접지라인들에 선택적으로 연결하여 다수의 메모리 셀들을 소정의 로직 레벨로 프로그래밍하는 것이 바람직하다.In order to achieve the above object, the programmable ROM system according to the present invention includes a plurality of memory cells each having a gate, a first electrode, and a second electrode, each of a plurality of word lines connected to gates of the plurality of memory cells, Each of the bit lines is disposed in a substantially vertical direction with the word lines, and the first and second bit lines of the four memory cells adjacent in the horizontal and vertical directions of the plurality of memory cells are shared and grounded in response to the control signals. And a plurality of virtual ground lines selectively connected to a power source, the plurality of virtual ground lines disposed substantially perpendicular to the word lines, and selectively connected to a plurality of virtual ground lines, respectively, with a second electrode of each of the plurality of memory cells. It is desirable to program the cells to a certain logic level.

상기 다른 과제를 이루기 위해, 게이트, 제1전극 및 제2전극을 구비하는 다수의 셀 트랜지스터를 포함하는 프로그래머블 롬에서, 셀 트랜지스터에 2진 데이터를 기록하는 본 발명에 따른 방법은 게이트 및 제1전극을 워드라인 및 비트라인에 각각 연결하는 단계 및 제2전극을 기록하고자 하는 2진 데이터에 따라, 접지전원에 선택적으로 연결되는 가상접지라인에 제2전극을 선택적으로 연결하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.In order to achieve the above another object, in a programmable ROM including a plurality of cell transistors having a gate, a first electrode and a second electrode, the method according to the present invention for writing binary data to a cell transistor is a gate and a first electrode. Is connected to a word line and a bit line, respectively, and selectively connects the second electrode to a virtual ground line selectively connected to a ground power source according to the binary data to be recorded. Do.

다른 과제를 이루기 위해, 게이트, 제1전극 및 제2전극을 구비하는 다수의 셀 트랜지스터를 포함하는 프로그래머블 롬에서, 셀 트랜지스터에 저장된 2진 데이터를 독출하는 본 발명에 따른 방법은 셀 트랜지스터의 제1전극에 연결된 비트라인을 하이 레벨로 프리챠지하는 (a)단계, 셀 트랜지스터의 제2전극이 가상접지라인과연결되어 있으면, (a)단계에서 프리챠지된 비트라인의 전위를 비트라인의 전위를 가상접지라인을 통해 접지전원으로 디스챠지하는 (b)단계, 셀 셀 트랜지스터의 제2전극이 가상접지라인에 연결되어 있지 않으면 (a)단계에서 프리챠지된 비트라인의 전위를 유지하는 (c)단계, 비트라인의 전위를 센싱하는 (d)단계 및 센싱된 비트라인의 전위를 기준전위와 비교하고 비교 결과에 따른 2진의 롬 데이터를 독출하는 (e)단계로 이루어지는 것이 바람직하다.In order to achieve a further object, in a programmable ROM comprising a plurality of cell transistors having a gate, a first electrode and a second electrode, the method according to the invention for reading binary data stored in a cell transistor is provided. (A) precharging the bit line connected to one electrode to a high level, and if the second electrode of the cell transistor is connected to the virtual ground line, the potential of the bit line precharged in step (a) is replaced by the potential of the bit line. Is discharged to the ground power supply through the virtual ground line, and if the second electrode of the cell cell transistor is not connected to the virtual ground line, the potential of the precharged bit line is maintained in step (a) (c). Step (d) of sensing the potential of the bit line and (e) comparing the potential of the sensed bit line with the reference potential and reading binary ROM data according to the comparison result. This is preferred.

상기 다른 과제를 이루기 위해, 게이트, 제1전극 및 제2전극을 구비하는 다수의 셀 트랜지스터를 포함하는 프로그래머블 롬에서, 셀 트랜지스터에 저장된 2진 데이터를 독출하는 본 발명에 따른 방법은 셀 트랜지스터의 제1전극에 연결된 비트라인을 공급전원 레벨로 프리챠지하는 (a)단계, 외부로부터 데이터 독출을 요청하는 클럭신호가 입력되면 내부 클럭신호를 인에이블하는 (b)단계, 내부 클럭신호에 응답하여 내부 클럭신호의 디세이블 및 센스 신호의 인에이블을 제어하는 제어신호를 디스챠지하는 (c)단계, 내부 클럭신호에 응답하여 워드라인을 인에이블하고, 비트라인의 프리챠지를 중단하는 (d)단계, 내부 클럭신호에 응답하여 인가되는 가상접지라인 선택신호 및 비트라인 선택신호에 따라 선택된 셀 트랜지스터의 제2전극이 가상접지라인과 연결되어 있으면, (a)단계에서 프리챠지된 비트라인의 전위를 가상접지라인을 통해 접지전원으로 디스챠지하는 (e)단계, 선택된 셀 트랜지스터의 제2전극이 가상접지라인에 연결되어 있지 않으면 (a)단계에서 프리챠지된 비트라인의 전위를 유지하는 (f)단계, 제어신호가 소정레벨이하로 떨어지는 것에 응답하여 내부클럭신호를 디세이블하고, 센스신호를 인에이블하는 (g)단계, 인에이블된 센스신호에 응답하여, 선택된 셀 트랜지스터의 제1전극에 연결된 비트라인의 전위를 센싱하는 (h)단계 및 (h)단계에서 센싱된 비트라인의 전위를 기준전위와 비교하고 비교 결과에 따른 2진의 롬 데이터를 독출하는 (i)단계로 이루어지는 것이 바람직하다.In order to achieve the above another object, in a programmable ROM including a plurality of cell transistors having a gate, a first electrode and a second electrode, a method according to the present invention for reading binary data stored in a cell transistor is provided. (A) precharging the bit line connected to the first electrode to a power supply level; and (b) enabling an internal clock signal when a clock signal requesting data reading from an external source is input; (C) discharging a control signal for disabling the internal clock signal and enabling the sense signal, enabling the word line in response to the internal clock signal, and stopping the precharge of the bit line (d). The second electrode of the cell transistor selected according to the virtual ground line selection signal and the bit line selection signal applied in response to the internal clock signal may be connected to the virtual ground line. (E) discharging the potential of the precharged bit line to the ground power supply through the virtual ground line, if the second electrode of the selected cell transistor is not connected to the virtual ground line ( (f) maintaining the potential of the precharged bit line in step a), disabling the internal clock signal in response to the control signal falling below a predetermined level, and enabling (g) the sense signal, In response to the enabled sense signal, in step (h) and (h) of sensing the potential of the bit line connected to the first electrode of the selected cell transistor, the potential of the sensed bit line is compared with the reference potential, and according to the comparison result. It is preferable that the step (i) be performed to read binary ROM data.

이하, 본 발명에 따른 고속 프로그래머블 롬 시스템을 첨부한 도면들을 참조하여 다음과 같이 설명한다.Hereinafter, a high speed programmable ROM system according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 따른 고속 프로그래머블 롬의 셀 어레이 구조의 일실시예를 나타내는 회로도이다. 설명의 편의를 위해, 도 2에는 2개의 비트 라인(BL0,BL1), 3개의 가상 그라운드 라인(VG0~VG2), 4개의 워드라인(WL0~WL3) 및 16개의 N형 모스 트랜지스터(M1~M16)를 포함하여 구성되는 4*4 비트 셀 어레이를 나타낸다. 여기서, 커패시터(C20~C23)는 실제 회로가 아니라 각 라인들 간의 커플링 커패시턴스를 표시한 것이다. 그리고, C24은 비트라인 BL0에 부하되는 총 커패시턴스를, 그리고, C25는 비트라인 BL1에 부하되는 총 커패시턴스를 각각 표시한다. 또한, 설명의 편의를 위해 도 2에 도시된 프로그래머블 롬은 롬 데이터 프로그래밍이 비아 공정단계에서 이루어지는 비아 프로그래머블 롬인 것으로 한다.2 is a circuit diagram illustrating an embodiment of a cell array structure of a fast programmable ROM according to the present invention. For convenience of description, two bit lines BL0 and BL1, three virtual ground lines VG0 to VG2, four word lines WL0 to WL3, and 16 N-type MOS transistors M1 to M16 are illustrated in FIG. 2. ) Represents a 4 * 4 bit cell array. Here, the capacitors C20 to C23 represent coupling capacitances between lines rather than actual circuits. C24 denotes the total capacitance loaded on the bit line BL0, and C25 denotes the total capacitance loaded on the bit line BL1. Also, for convenience of description, the programmable ROM illustrated in FIG. 2 is a via programmable ROM in which ROM data programming is performed in a via process step.

도 2를 참조하여, 셀 트랜지스터 M1~M8의 드레인은 비트라인 BL0과 연결되고, 셀 트랜지스터 M9~M10의 드레인은 BL1과 연결되어 있다. 이 때, 비트라인 BL0을 기준으로 수직 및 수평으로 인접한 4개의 셀 트랜지스터들 M1~M4 및 M5~M8은 비트라인 BL0을 공유하는 구조를 갖는다. 마찬가지로 비트라인 BL1을 기준으로 수직 및 수평으로 인접한 4개의 셀 트랜지스터들 M9~M12 및 M13~M16은 비트라인 BL1을공유하는 구조를 갖는다.Referring to FIG. 2, the drains of the cell transistors M1 to M8 are connected to the bit line BL0, and the drains of the cell transistors M9 to M10 are connected to the BL1. At this time, the four cell transistors M1 to M4 and M5 to M8 adjacent to the bit line BL0 in the vertical and horizontal directions share the bit line BL0. Similarly, four cell transistors M9 to M12 and M13 to M16 that are vertically and horizontally adjacent to the bit line BL1 have a structure sharing the bit line BL1.

설명의 편의를 위해 셀 트랜지스터 M1~M8는 "0"이 프로그램되고, 셀 트랜지스터 M9~M16는 "1"이 프로그램된 것으로 가정한다. 이처럼, 셀 트랜지스터 M1~M8에 "0"을 프로그램하기 위해 셀 트랜지스터 M1~M8의 소오스를 가상접지라인 VG0 또는 VG1에 각각 연결한다. 또한, 셀 트랜지스터 M9~M16에 "1"을 프로그램하기 위해 셀 트랜지스터 M9~M16의 소오스를 가상접지라인 VG1 또는 VG2 어느 곳에도 연결하지 않는 플로팅 상태로 한다. 도 2에서, '■'로 표시된 것은 셀 트랜지스터가 가상접지라인 또는 비트라인에 전기적으로 연결된 상태이며, '□'는 연결되지 않은 상태를 각각 나타낸다.For convenience of explanation, it is assumed that cell transistors M1 to M8 are programmed with "0", and cell transistors M9 to M16 are programmed with "1". As such, the source of the cell transistors M1 to M8 is connected to the virtual ground line VG0 or VG1 to program "0" to the cell transistors M1 to M8, respectively. Further, in order to program " 1 " to the cell transistors M9 to M16, the source of the cell transistors M9 to M16 is placed in a floating state in which neither of the virtual ground lines VG1 or VG2 is connected. In FIG. 2, denoted by '■' is a state in which a cell transistor is electrically connected to a virtual ground line or a bit line, and '□' represents a non-connected state, respectively.

이처럼, 셀 트랜지스터의 소오스를 가상접지라인으로의 연결 여부에 따라 셀 트랜지스터에 롬 데이터를 프로그램하면, 셀 트랜지스터에 "0" 또는 "1"을 프로그램하는 것에 관계없이 비트라인 BL0 및 BL1의 총 커패시턴스 C24 및 C25는 동일한 값을 가지게 된다. 다만 가상접지라인의 커패시턴스는 프로그램 데이터에 따라 가변될 수 있다. 그러나, 가상 그라운드라인은 로직 하이에서 로직 로우 또는 그 반대로 풀 스윙(full swing)하는 신호이므로, 스몰 스윙(small swing)하는 비트 라인과는 달리 라인 커패시턴스가 크거나 또는 작은 것이 롬 동작 속도에 크게 영향을 주지 않는다.As such, when ROM data is programmed into the cell transistor depending on whether the source of the cell transistor is connected to the virtual ground line, the total capacitance C24 of the bit lines BL0 and BL1 regardless of programming "0" or "1" to the cell transistor. And C25 will have the same value. However, the capacitance of the virtual ground line may vary depending on the program data. However, since the virtual ground line is a full swing signal from logic high to logic low or vice versa, a large or small line capacitance greatly affects the ROM operation speed unlike a small swing bit line. Does not give.

한편, 비트라인 BL0 및 BL1의 총 커패시턴스 C24 및 C25에 영향을 주는 요소로는 비트라인 길이에 의한 커패시턴스, 비트라인에 연결되는 컨택들(CNT)에 의한 커패시턴스, 그리고, 비트라인에 연결된 트랜지스터들(M1~M8)에 의한 커패시턴스이다. 도 1에 도시된 비트라인 BL0 및 BL1의 총 커패시턴스 C5 및 C6와 비교하면, 커패시턴스 C24 및 C25는 프로그래밍 메탈들에 의한 커패시턴스의 영향을 받지 않으므로 C5보다는 작다. 그리고, 커패시턴스 C24 및 C25는 비트라인에 연결되는 컨택(CNT)에 의한 커패시턴스와 비트라인에 연결된 트랜지스터들(M1~M8)에 의한 커패시턴스의 영향으로 C6보다는 크다. 여기서, C5보다 C24가 작다는 것은 비트라인이 디스챠지되는 속도가 빨라지는 것을 의미한다. 또한, 커패시턴스 C6보다 C25가 크므로 인접 라인과의 커플링 커패시턴스와의 비가 작아지며, 따라서 인접 라인의 간섭으로 인해 셀 트랜지스터에 프로그램된 데이터가 오독되는 것을 줄일 수 있다.On the other hand, factors affecting the total capacitances C24 and C25 of the bit lines BL0 and BL1 include the capacitance by the bit line length, the capacitance by the contacts CNT connected to the bit line, and the transistors connected to the bit line ( Capacitance due to M1 to M8). Compared to the total capacitances C5 and C6 of the bit lines BL0 and BL1 shown in FIG. 1, the capacitances C24 and C25 are smaller than C5 since they are not affected by the capacitance by the programming metals. Capacitances C24 and C25 are larger than C6 due to the influence of the capacitance caused by the contact CNT connected to the bit line and the capacitance caused by the transistors M1 to M8 connected to the bit line. Here, smaller C24 than C5 means that the bit line is discharged faster. In addition, since C25 is larger than the capacitance C6, the ratio of the coupling capacitance to the adjacent line is small, and thus, the data programmed in the cell transistor can be reduced from being misinterpreted due to the interference of the adjacent line.

결국, 롬 데이터에 따라 가상접지라인에 셀 트랜지스터의 소오스를 선택적으로 연결하는 본 발명에 따른 프로그래머블 롬은 비트라인에 셀 트랜지스터의 소오스를 선택적으로 연결하는 종래의 프로그래머블 롬보다 동작속도를 빠르게 하면서 프로그래밍된 데이터의 오독을 최소화할 수 있다.As a result, the programmable ROM according to the present invention selectively connects a source of a cell transistor to a virtual ground line according to the ROM data, and is programmed with a faster operating speed than a conventional programmable ROM that selectively connects a source of a cell transistor to a bit line. Misreading of data can be minimized.

한편, 설명의 편의를 위해, 도 2에 도시된 프로그래머블 롬은 롬 데이터 프로그래밍이 비아 공정단계에서 이루어지는 비아 프로그래머블 롬인 것으로 가정하였으나, 컨택 프로그래머블 롬 및 메탈 프로그래머블 롬에서도 동일한 결과를 얻을 수 있다.Meanwhile, for convenience of description, the programmable ROM shown in FIG. 2 assumes that the ROM data programming is a via programmable ROM in the via process step, but the same result can be obtained in the contact programmable ROM and the metal programmable ROM.

도 3은 도 2에 도시된 각 셀 트랜지스터의 수직 단면을 나타내는 도면으로, 셀 트랜지스터의 소오스와 연결되는 가상접지라인의 단면 및 드레인과 연결되는 비트라인 단면이 각각 도시된다.3 is a diagram illustrating a vertical cross section of each cell transistor illustrated in FIG. 2, and a cross section of a virtual ground line connected to a source of the cell transistor and a bit line cross section connected to a drain of the cell transistor, respectively.

도 3을 참조하여, 컨택(30), 메탈1(20), 비아1(10) 또는 메탈2(40) 형성 공정을 통해 소오스를 가상접지라인에 선택적으로 연결함으로써 롬 데이터를 셀 트랜지스터에 프로그래밍할 수 있다. 즉, 컨택(30), 메탈1(20), 비아1(10) 및 메탈2(40)를 모두 형성하여 셀 트랜지스터의 소오스를 가상접지라인에 전기적으로 연결함으로써, 셀 트랜지스터에 "0"을 프로그램한다. 또한, 컨택(30), 메탈1(20), 비아1(10) 또는 메탈2(40)중 어느 하나를 형성하지 않아 셀 트랜지스터의 소오스를 가상접지라인으로부터 플로팅시킴으로써 셀 트랜지스터에 "1"을 프로그램한다.Referring to FIG. 3, ROM data may be programmed into a cell transistor by selectively connecting a source to a virtual ground line through a process of forming a contact 30, a metal 1 20, a via 1 10, or a metal 2 40. Can be. That is, the contact 30, the metal 1 (20), the via 1 (10), and the metal 2 (40) are all formed to electrically connect the source of the cell transistor to the virtual ground line, thereby programming "0" in the cell transistor. do. Also, by forming a source of the cell transistor from the virtual ground line by not forming any of the contacts 30, the metal 1 (20), the via 1 (10), or the metal 2 (40), a "1" is programmed in the cell transistor. do.

도 4는 본 발명에 따른 프로그래머블 롬 시스템을 나타내는 회로도로서, 셀 트랜지스터 그룹(50), 프리챠지부(60a), 프리챠지 제어부(60b), 가상접지라인 선택부(80) 및 비트라인 선택부(70)를 포함하여 구성된다. 도 4에서, '■'로 표시된 것은 셀 트랜지스터가 가상접지라인 또는 비트라인에 전기적으로 연결된 상태이며, '□'는 연결되지 않은 상태를 각각 나타낸다. 즉, 셀 트랜지스터 그룹(50)에서 셀 트랜지스터 M41~M46에는 데이터 "0"이, 셀 트랜지스터 M40 및 M47에는 데이터"1"이 각각 프로그램된 상태이다.4 is a circuit diagram illustrating a programmable ROM system according to the present invention, which includes a cell transistor group 50, a precharge unit 60a, a precharge control unit 60b, a virtual ground line selector 80, and a bit line selector ( 70). In FIG. 4, denoted by '■' is a state in which a cell transistor is electrically connected to a virtual ground line or a bit line, and '□' represents a non-connected state, respectively. That is, in the cell transistor group 50, data "0" is programmed in the cell transistors M41 to M46, and data "1" is programmed in the cell transistors M40 and M47, respectively.

한편, 도 4에는 하나의 셀 트랜지스터 그룹(50)을 도시하였으나, 프로그래머블 롬 시스템은 다수의 셀 트랜지스터 그룹(50)들을 구비할 수 있으며, 셀 그룹 선택신호(SEL)는 다수의 셀 트랜지스터 그룹들 중 하나 또는 일부 셀 트랜지스터 그룹을 선택하는 신호이다.Meanwhile, although one cell transistor group 50 is illustrated in FIG. 4, the programmable ROM system may include a plurality of cell transistor groups 50, and the cell group selection signal SEL is selected from among a plurality of cell transistor groups. A signal for selecting one or some cell transistor groups.

프리챠지 제어부(60b)는 셀 그룹 선택신호(SEL)와 프리챠지 신호를 논리조합하여 프리챠지 제어신호를 생성한다. 프리챠지 회로(60a)는 프리챠지 제어신호에 응답하여 가상접지라인들(VG0~VG2) 및 비트라인들(BL0,BL1)에 연결된 트랜지스터들을 온/오프함으로써, 가상접지라인들(VG0~VG2) 및 비트라인들(BL0,BL1)을 프리챠지한다.The precharge control unit 60b logically combines the cell group selection signal SEL and the precharge signal to generate a precharge control signal. The precharge circuit 60a turns on / off the transistors connected to the virtual ground lines VG0 to VG2 and the bit lines BL0 and BL1 in response to the precharge control signal, thereby providing the virtual ground lines VG0 to VG2. And precharge the bit lines BL0 and BL1.

가상접지라인 선택부(80)는 셀 그룹 선택신호(SEL)와 가상접지라인 선택신호들(AD_VG0,AD_VG1,AD_VG2)을 조합하여 가상접지라인들(VG0~VG2)중 어느 하나가 접지전원에 연결되도록 스위치들(SW0~SW2)의 온/오프를 제어한다.The virtual ground line selector 80 combines the cell group selection signal SEL and the virtual ground line selection signals AD_VG0, AD_VG1 and AD_VG2 to connect any one of the virtual ground lines VG0 to VG2 to a ground power source. The on / off of the switches SW0 to SW2 is controlled.

비트라인 선택부(70)는 비트라인 선택신호(AD_BL)에 응답하여 비트라인들(BL0,BL1)중 어느 하나를 선택하고, 선택된 비트라인에 연결된 셀 트랜지스터에 프로그래밍된 데이터를 데이터 출력포트(DQ)를 통해 출력한다.The bit line selector 70 selects any one of the bit lines BL0 and BL1 in response to the bit line select signal AD_BL, and transmits data programmed to a cell transistor connected to the selected bit line. )

도 5는 도 4에 도시된 회로의 동작을 제어하는 신호들의 타이밍도를 나타낸다.FIG. 5 shows a timing diagram of signals for controlling the operation of the circuit shown in FIG. 4.

도 6은 도 4에 도시된 프로그래머블 롬 시스템에서 수행되는 데이터 독출 과정을 나타내는 흐름도이다.FIG. 6 is a flowchart illustrating a data reading process performed in the programmable ROM system shown in FIG. 4.

도 4 내지 도 6을 참조하여, 외부로부터 데이터 독출 요청이 있기 전까지, 프리챠지 신호는 '로우'레벨로 유지되며, '로우'레벨의 프리챠지 신호에 의해 프리챠지부(60a)의 트랜지스터들은 온되어 비트라인들(BL0,BL1) 및 가상접지라인들(VG0~VG2)은 프리챠지된다(제95단계).4 to 6, the precharge signal is maintained at the 'low' level until the data read request is received from the outside, and the transistors of the precharge unit 60a are turned on by the 'low' level precharge signal. The bit lines BL0 and BL1 and the virtual ground lines VG0 to VG2 are precharged (step 95).

그러다, 도 5(a)에 도시된 바와 같이, 외부로부터 데이터 독출 요청하는 클럭신호(CLK)가 발생하면, 이에 응답하여 도 5(b)에 도시된 바와 같이 내부 클럭신호(IN_CLK)가 인에이블된다(제100단계). 내부 클럭신호(IN_CLK)에 응답하여 도 5(c) 및 (d)에 도시된 바와 같이, 워드라인(WL) 및 프리챠지 신호가 차례로 인에이블된다(제105단계). 도 4를 참조하여, 프리챠지 신호가 '하이'레벨로 인에이블되면 프리챠지 제어부(60b)에 의해 프리챠지부(60a)를 이루는 트랜지스터들이 오프되어 더 이상 프리챠지되지 않는다.However, as shown in FIG. 5 (a), when the clock signal CLK requesting data reading from the outside occurs, in response thereto, the internal clock signal IN_CLK is enabled as shown in FIG. 5 (b). (Step 100). In response to the internal clock signal IN_CLK, as illustrated in FIGS. 5C and 5D, the word line WL and the precharge signal are sequentially enabled (step 105). Referring to FIG. 4, when the precharge signal is enabled at the 'high' level, the transistors constituting the precharge unit 60a are turned off by the precharge controller 60b and no longer precharged.

그리고, 내부 클럭신호(IN_CLK)가 인에이블되면서 가상접지라인 선택신호(AD_VG0~AD_VG2)가 입력되며, 이에 따라 선택된 가상접지라인은 도 5(f)에 도시된 바와 같이 접지전원 레벨로 디스챠지된다. 이 때, 도시되지는 않았지만 그 전위에 응답하여 내부 클럭신호(IN_CLK)의 디세이블 및 센스 신호의 인에이블을 제어하는 제어신호가 도 5(e)에 도시된 바와 같이 내부클럭신호(IN_CLK)에 응답하여 디스챠지된다. 즉, 도 5(e)에 도시된 제어신호는 내부 클럭신호(IN_CLK)에 응답하여 디스챠지를 시작하며, 제어신호가 특정레벨이하로 떨어지는 것에 응답하여 내부 클럭신호(IN_CLK)가 디세이블되고, 센스 신호가 인에이블된다(제115단계).As the internal clock signal IN_CLK is enabled, the virtual ground line selection signals AD_VG0 to AD_VG2 are input. Accordingly, the selected virtual ground line is discharged to the ground power level as shown in FIG. 5 (f). . At this time, although not shown, a control signal for controlling the disable of the internal clock signal IN_CLK and the enable of the sense signal in response to the potential is applied to the internal clock signal IN_CLK as shown in FIG. It is discharged in response. That is, the control signal shown in FIG. 5E starts discharge in response to the internal clock signal IN_CLK, and the internal clock signal IN_CLK is disabled in response to the control signal falling below a specific level. The sense signal is enabled (step 115).

이처럼 센스신호가 인에이블될 때, 가상접지라인 선택신호(AD_VG0~AD_VG2) 및 비트라인 선택신호(AD_BL)에 의해 선택된 셀 트랜지스터의 소오스가 가상접지라인에 연결되어 있는가에 따라(제120단계) 선택된 셀 트랜지스터의 드레인과 연결된 비트라인의 전위가 기준전압보다 낮거나 또는 높은 전위를 갖게 된다.As such, when the sense signal is enabled, the selected source signal is selected depending on whether the source of the cell transistor selected by the virtual ground line selection signals AD_VG0 to AD_VG2 and the bit line selection signal AD_BL is connected to the virtual ground line (step 120). The potential of the bit line connected to the drain of the cell transistor is lower than or higher than the reference voltage.

예를 들어, 가상접지라인 선택신호(AD_VG0~AD_VG2) 및 비트라인 선택신호(AD_BL)에 의해 비트라인 BL0에 연결된 셀 트랜지스터 M40 및 M44의 데이터에 프로그램된 데이터를 독출한다고 가정한다. 먼저, 셀 트랜지스터 M40에 프로그램된 데이터를 독출되기 위해, 먼저 가상접지라인 선택신호 AD_VG0에 의해 스위치 SW0가 온되어 가상접지라인 VG0이 접지전원에 연결된다. 이 때, 소오스가 가상접지라인에 연결되어 있지 않으므로, 셀 트랜지스터 M40의 드레인에 연결된 비트라인에 프리챠지된 전위는 접지전원으로 디스챠지되지 못하고 프리챠지 전위를 그대로 유지한다(제140단계). 반면, 셀 트랜지스터 M44의 경우 소오스가 가상접지라인에 연결되어 있으므로, 셀 트랜지스터 M44의 드레인에 연결된 비트라인에 프리챠지된 전위는 가상접지라인 VG0를 통해 접지전원으로 디스챠지된다(제125단계).For example, it is assumed that data programmed in the data of the cell transistors M40 and M44 connected to the bit line BL0 is read by the virtual ground line selection signals AD_VG0 to AD_VG2 and the bit line selection signals AD_BL. First, in order to read the data programmed in the cell transistor M40, the switch SW0 is first turned on by the virtual ground line selection signal AD_VG0 so that the virtual ground line VG0 is connected to the ground power source. At this time, since the source is not connected to the virtual ground line, the potential precharged in the bit line connected to the drain of the cell transistor M40 is not discharged to the ground power source and maintains the precharge potential as it is (step 140). On the other hand, in the case of the cell transistor M44, since the source is connected to the virtual ground line, the potential precharged to the bit line connected to the drain of the cell transistor M44 is discharged to the ground power supply through the virtual ground line VG0 (step 125).

결국, 셀 트랜지스터의 소오스가 가상접지라인에 연결되었는가에 따라 비트라인의 전위는 디스챠지되거나 또는 프리챠지된 전위를 그대로 유지하며, 비트라인의 전위는 데이터 판별의 기준이 되는 기준전위(REF)와 비교된다(제130단계). 비트라인의 전위가 가상접지라인을 통해 디스챠지되어, 도 5(h)에 도시된 바와 같이, 센스 신호가 인에이블되는 시점에서 비트라인의 전위가 도 5(g)에 도시된 바와 같이 기준전위(REF)보다 낮으면 도 5(i)에 도시된 바와 같이 "0"의 데이터가 독출된다(제135단계). 반면, 비트라인의 전위가 프리챠지 전위를 그대로 유지하게 되어, 도 5(h)에 도시된 바와 같이 센스 신호가 인에이블되는 시점에서 비트라인의 전위가 기준전위(REF)보다 높으면 "1"의 데이터가 독출된다(제135단계).After all, depending on whether the source of the cell transistor is connected to the virtual ground line, the potential of the bit line is maintained as it is discharged or precharged, and the potential of the bit line is equal to the reference potential REF as a reference for data discrimination. The comparison is made (step 130). As the potential of the bit line is discharged through the virtual ground line, as shown in FIG. 5 (h), the potential of the bit line is the reference potential as shown in FIG. 5 (g) when the sense signal is enabled. If it is lower than REF, data of "0" is read as shown in FIG. 5 (i) (step 135). On the other hand, when the potential of the bit line is higher than the reference potential REF at the time when the sense signal is enabled, as shown in FIG. Data is read (step 135).

본 발명은 또한 컴퓨터로 읽을 수 있는 기록매체에 컴퓨터가 읽을 수 있는 코드로서 구현하는 것이 가능하다. 컴퓨터가 읽을 수 있는 기록매체는 컴퓨터 시스템에 의하여 읽혀질 수 있는 데이터가 저장되는 모든 종류의 기록장치를 포함한다. 컴퓨터가 읽을 수 있는 기록매체의 예로는 ROM, RAM, CD-ROM, 자기 테이프, 플라피디스크, 광데이터 저장장치 등이 있으며, 또한 캐리어 웨이브(예를 들어 인터넷을 통한 전송)의 형태로 구현되는 것도 포함한다. 또한 컴퓨터가 읽을 수 있는 기록매체는 네트워크로 연결된 컴퓨터 시스템에 분산되어, 분산방식으로 컴퓨터가 읽을 수 있는 코드가 저장되고 실행될 수 있다.The invention can also be embodied as computer readable code on a computer readable recording medium. The computer-readable recording medium includes all kinds of recording devices in which data that can be read by a computer system is stored. Examples of computer-readable recording media include ROM, RAM, CD-ROM, magnetic tape, floppy disk, optical data storage, and the like, which are also implemented in the form of a carrier wave (for example, transmission over the Internet). It also includes. The computer readable recording medium can also be distributed over network coupled computer systems so that the computer readable code is stored and executed in a distributed fashion.

이상 도면과 명세서에서 최적 실시예들이 개시되었다. 여기서 특정한 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미 한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.The best embodiments have been disclosed in the drawings and specification above. Although specific terms have been used herein, they are used only for the purpose of describing the present invention and are not used to limit the scope of the present invention as defined in the meaning or claims. Therefore, those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible from this. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

상술된 바와 같이, 본 발명에 따른 고속 프로그래머블 롬 시스템은 기록하고자 하는 롬 데이터에 따라 가상접지라인에 셀 트랜지스터의 소오스를 선택적으로 연결함으로써, 비트라인의 커패시턴스가 과도하게 커지거나 또는 작아지지 않고 일정하게 유지시킬 수 있다. 이로 인해, 프로그래머블 롬의 동작속도를 빠르게 하면서 프로그래밍된 데이터의 오독을 최소화할 수 있다.As described above, the high-speed programmable ROM system according to the present invention selectively connects the source of the cell transistor to the virtual ground line in accordance with the ROM data to be written, so that the capacitance of the bit line does not become excessively large or small. It can be maintained. This makes it possible to increase the operating speed of the programmable ROM while minimizing the misreading of programmed data.

Claims (23)

다수의 프로그래머블 메모리 셀을 포함하는 프로그래머블 롬에 있어서, 상기 프로그래머블 메모리 셀에 있어서,In a programmable ROM comprising a plurality of programmable memory cells, In the programmable memory cell, 워드라인;Wordline; 비트라인;Bitline; 제어신호에 응답하여 접지전원에 선택적으로 연결되는 가상접지라인; 및A virtual ground line selectively connected to a ground power source in response to a control signal; And 상기 워드라인과 연결되는 게이트, 상기 비트라인과 연결되는 제1전극 및 제2전극을 구비하고, 상기 제2전극을 상기 가상접지라인에 선택적으로 연결하여 소정의 로직 레벨로의 프로그래밍이 가능한 셀 트랜지스터를 포함하는 것을 특징으로 하는 프로그래머블 메모리 셀.A cell transistor having a gate connected to the word line, a first electrode and a second electrode connected to the bit line, and selectively programmable to a predetermined logic level by selectively connecting the second electrode to the virtual ground line Programmable memory cell comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 셀 트랜지스터는 엔(N)형 모스트랜지스터인 것을 특징으로 하는 프로그래머블 메모리 셀.And the cell transistor is an N-type MOS transistor. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제어신호에 응답하여 상기 가상접지라인을 상기 접지전원에 선택적으로 연결하는 스위치를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 프로그래머블 메모리 셀.And a switch for selectively connecting the virtual ground line to the ground power source in response to the control signal. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제2전극을 상기 가상접지라인으로의 선택적 연결은 제조공정 중 콘택홀 형성 단계에서 결정되는 것을 특징으로 하는 프로그래머블 메모리 셀.And the selective connection of the second electrode to the virtual ground line is determined at a contact hole forming step of a manufacturing process. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제2전극을 상기 가상접지라인으로의 선택적 연결은 제조공정 중 메탈라인 형성 단계에서 결정하는 것을 특징으로 하는 프로그래머블 메모리 셀.And selectively connecting the second electrode to the virtual ground line at a metal line forming step of a manufacturing process. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제2전극을 상기 가상접지라인으로의 선택적 연결은 제조공정 중 비아홀 형성 단계에서 결정하는 것을 특징으로 하는 프로그래머블 메모리 셀.And selectively connecting the second electrode to the virtual ground line at a via hole forming step of a manufacturing process. 각각은 게이트, 제1전극 및 제2전극을 구비하는 다수의 메모리 셀들;Each of the plurality of memory cells having a gate, a first electrode and a second electrode; 각각은 상기 다수의 메모리 셀들의 게이트와 연결되는 다수의 워드라인들;Each of a plurality of word lines connected to gates of the plurality of memory cells; 각각은 상기 다수의 메모리 셀들의 제1전극과 연결되며, 상기 워드라인들과 실질적인 수직방향으로 배치되는 비트라인들; 및Bit lines connected to the first electrodes of the plurality of memory cells, the bit lines being substantially perpendicular to the word lines; And 각각은 제어신호들에 응답하여 접지전원에 선택적으로 연결되며, 상기 워드라인들과 실질적인 수직방향으로 배치되는 다수의 가상접지라인들을 포함하고,Each of which comprises a plurality of virtual ground lines selectively connected to ground power in response to control signals, the plurality of virtual ground lines disposed substantially perpendicular to the word lines; 상기 다수의 메모리 셀들 각각의 제2전극을 상기 다수의 가상접지라인들에 선택적으로 연결하여 상기 다수의 메모리 셀들을 소정의 로직 레벨로 프로그래밍하는 것을 특징으로 하는 프로그래머블 롬.And a second electrode of each of the plurality of memory cells is selectively connected to the plurality of virtual ground lines to program the plurality of memory cells to a predetermined logic level. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 메모리 셀 각각은 엔(N)형 모스트랜지스터인 것을 특징으로 하는 프로그래머블 롬.Each of the memory cells is an N-type MOS transistor. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제어신호들 각각에 응답하여 상기 다수의 가상접지라인들을 상기 접지전원에 선택적으로 연결하는 다수의 스위치들을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 프로그래머블 롬.And a plurality of switches for selectively connecting the plurality of virtual ground lines to the ground power source in response to each of the control signals. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 프리차지 신호와 메모리 셀 그룹을 선택하는 셀 그룹 선택신호에 응답하여 상기 다수의 가상접지라인들 및 상기 다수의 비트라인들을 프리차지하는 프리챠징부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 프로그래머블 롬.And a precharge unit configured to precharge the plurality of virtual ground lines and the plurality of bit lines in response to a precharge signal and a cell group selection signal for selecting a memory cell group. 제10항에 있어서,The method of claim 10, 상기 셀 그룹 선택신호와 가상접지라인 선택신호에 응답하여 상기 메모리 셀 그룹에 포함된 가상접지라인들 중 하나의 가상접지라인을 선택하는 가상접지라인 선택부; 및A virtual ground line selection unit for selecting one virtual ground line among the virtual ground lines included in the memory cell group in response to the cell group selection signal and the virtual ground line selection signal; And 상기 셀 그룹 선택신호와 비트라인 선택신호에 응답하여 상기 메모리 셀 그룹에 포함된 비트라인들 중 하나의 비트라인을 선택하는 비트라인 선택부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 프로그래머블 롬.And a bit line selector configured to select one bit line from among the bit lines included in the memory cell group in response to the cell group selection signal and the bit line selection signal. 각각은 게이트, 제1전극 및 제2전극을 구비하는 다수의 메모리 셀들;Each of the plurality of memory cells having a gate, a first electrode and a second electrode; 각각은 상기 다수의 메모리 셀들의 게이트와 연결되는 다수의 워드라인들;Each of a plurality of word lines connected to gates of the plurality of memory cells; 각각은 상기 워드라인들과 실질적인 수직방향으로 배치되며, 상기 다수의 메모리 셀들 중 수평 방향으로 인접한 두 개의 메모리 셀들의 제1전극이 공유하여 연결되는 비트라인들; 및Each of the bit lines disposed in a substantially vertical direction with the word lines, wherein the first electrodes of two memory cells adjacent in a horizontal direction of the plurality of memory cells are shared and connected; And 각각은 제어신호들에 응답하여 접지전원에 선택적으로 연결되며, 상기 워드라인들과 실질적인 수직방향으로 배치되는 다수의 가상접지라인들을 포함하고,Each of which comprises a plurality of virtual ground lines selectively connected to ground power in response to control signals, the plurality of virtual ground lines disposed substantially perpendicular to the word lines; 상기 다수의 메모리 셀들 각각의 제2전극을 상기 다수의 가상접지라인들에 선택적으로 연결하여 상기 다수의 메모리 셀들을 소정의 로직 레벨로 프로그래밍하는 것을 특징으로 하는 프로그래머블 롬.And a second electrode of each of the plurality of memory cells is selectively connected to the plurality of virtual ground lines to program the plurality of memory cells to a predetermined logic level. 각각은 게이트, 제1전극 및 제2전극을 구비하는 다수의 메모리 셀들;Each of the plurality of memory cells having a gate, a first electrode and a second electrode; 각각은 상기 다수의 메모리 셀들의 게이트와 연결되는 다수의 워드라인들;Each of a plurality of word lines connected to gates of the plurality of memory cells; 각각은 상기 워드라인들과 실질적인 수직방향으로 배치되며, 상기 다수의 메모리 셀들의 수평 및 수직방향으로 인접한 4개의 메모리 셀들의 제1전극이 공유하여 연결되는 비트라인들; 및Each of the bit lines disposed in a substantially vertical direction with the word lines, wherein the first electrodes of four memory cells adjacent in the horizontal and vertical directions of the plurality of memory cells are shared and connected; And 각각은 제어신호들에 응답하여 접지전원에 선택적으로 연결되며, 상기 워드라인들과 실질적인 수직방향으로 배치되는 다수의 가상접지라인들을 포함하고,Each of which comprises a plurality of virtual ground lines selectively connected to ground power in response to control signals, the plurality of virtual ground lines disposed substantially perpendicular to the word lines; 상기 다수의 메모리 셀들 각각의 제2전극을 상기 다수의 가상접지라인들에 선택적으로 연결하여 상기 다수의 메모리 셀들을 소정의 로직 레벨로 프로그래밍하는 것을 특징으로 하는 프로그래머블 롬.And a second electrode of each of the plurality of memory cells is selectively connected to the plurality of virtual ground lines to program the plurality of memory cells to a predetermined logic level. 게이트, 제1전극 및 제2전극을 구비하는 다수의 셀 트랜지스터를 포함하는 프로그래머블 롬에서, 상기 셀 트랜지스터에 2진 데이터를 기록하는 방법에 있어서,In a programmable ROM comprising a plurality of cell transistors having a gate, a first electrode and a second electrode, the method of writing binary data in the cell transistors, 상기 게이트 및 상기 제1전극을 워드라인 및 비트라인에 각각 연결하는 단계; 및Coupling the gate and the first electrode to a word line and a bit line, respectively; And 상기 제2전극을 기록하고자 하는 2진 데이터에 따라, 상기 접지전원에 선택적으로 연결되는 가상접지라인에 상기 제2전극을 선택적으로 연결하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 데이터 기록 방법.And selectively connecting the second electrode to a virtual ground line selectively connected to the ground power source according to the binary data to which the second electrode is to be recorded. 제14항에 있어서,The method of claim 14, 상기 셀 트랜지스터에 2진 데이터 "0"을 기록하기 위해 상기 제2전극을 상기 가상접지라인에 연결하고, 2진 데이터 "1"을 기록하기 위해 상기 제2전극을 상기 가상접지라인으로부터 플로팅시키는 것을 특징으로 하는 데이터 기록 방법.Connecting the second electrode to the virtual ground line to write binary data " 0 " to the cell transistor, and floating the second electrode from the virtual ground line to write binary data " 1 ". A data recording method characterized by the above-mentioned. 제14항에 있어서,The method of claim 14, 상기 제2전극을 상기 가상접지라인으로의 선택적 연결은 제조공정 중 콘택홀 형성 단계에서 결정하는 것을 특징으로 하는 데이터 기록 방법.And selectively connecting the second electrode to the virtual ground line at the step of forming a contact hole during the manufacturing process. 제14항에 있어서,The method of claim 14, 상기 제2전극을 상기 가상접지라인으로의 선택적 연결은 제조공정 중 메탈라인 형성 단계에서 결정하는 것을 특징으로 하는 데이터 기록 방법.The selective connection of the second electrode to the virtual ground line is determined in the metal line forming step of the manufacturing process. 제14항에 있어서,The method of claim 14, 상기 제2전극을 상기 가상접지라인으로의 선택적 연결은 제조공정 중 비아홀 형성 단계에서 결정하는 것을 특징으로 하는 데이터 기록 방법.The selective connection of the second electrode to the virtual ground line is determined in the via hole forming step of the manufacturing process. 제14항의 데이터 기록 방법을 컴퓨터에서 실행 가능한 프로그램 코드로 기록한 기록 매체.A recording medium in which the data recording method of claim 14 is recorded in a program code executable on a computer. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100470971B1 (en) * 2002-08-01 2005-03-10 삼성전자주식회사 Read only memory cell, program and layout method of the cell, and read only memory device comprising the cell
KR100663902B1 (en) * 2005-03-21 2007-01-03 화인칩스 주식회사 Apparatus for controlling a read only memory code option using program read only memory
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06196661A (en) * 1992-12-24 1994-07-15 Nippon Steel Corp Diffused layer rewriting type nor-x type mask rom
JPH0773689A (en) * 1993-09-03 1995-03-17 Nec Kyushu Ltd Semiconductor storage circuit
KR19980076698A (en) * 1997-04-12 1998-11-16 윤종용 NOR-TYPE MASK ROM
KR20000003871A (en) * 1998-06-29 2000-01-25 윤종용 Nonvolatile semiconductor memory device
KR20000062527A (en) * 1999-02-08 2000-10-25 카네코 히사시 Multivalued mask read-only memory

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06196661A (en) * 1992-12-24 1994-07-15 Nippon Steel Corp Diffused layer rewriting type nor-x type mask rom
JPH0773689A (en) * 1993-09-03 1995-03-17 Nec Kyushu Ltd Semiconductor storage circuit
KR19980076698A (en) * 1997-04-12 1998-11-16 윤종용 NOR-TYPE MASK ROM
KR20000003871A (en) * 1998-06-29 2000-01-25 윤종용 Nonvolatile semiconductor memory device
KR20000062527A (en) * 1999-02-08 2000-10-25 카네코 히사시 Multivalued mask read-only memory

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