KR100459410B1 - Light modulator and method for producing of light modulator - Google Patents

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KR100459410B1
KR100459410B1 KR10-2002-0067244A KR20020067244A KR100459410B1 KR 100459410 B1 KR100459410 B1 KR 100459410B1 KR 20020067244 A KR20020067244 A KR 20020067244A KR 100459410 B1 KR100459410 B1 KR 100459410B1
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Abstract

본 발명은 종래의 광모듈레이터 소자에 있어서, 기판을 관통하여 형성된 광도입구를 구비한 구동판과, 상기 광도입구 상단에 걸치도록 양단이 상기 구동판에 고정되며, 상기 광도입구를 통해 입사된 빛을 반사하도록 반사막으로 구성된 고정리본과, 상기 광도입구 상단에 걸치도록 양단이 상기 구동판에 고정되며, 상기 고정리본과 일정한 간격을 두고 교대로 설치되며, 도전성막과, 상기 광도입구를 통해 입사된 빛을 반사하도록 하는 반사막으로 구성된 구동리본과, 상기 도전성막에 전기를 가할 수 있도록 상기 구동리본에 연결되어 형성된 구동리본 전극패드와, 상기 고정리본 및 상기 구동리본 상단에 일정한 간극을 두고 설치된 전극판과, 상기 전극판에 전기를 가하는 전극을 구비한 접지판과, 상기 구동판과 상기 접지판 사이에 간극을 유지하도록 설치된 스페이서를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 광모듈레이터 소자를 제공함으로써, 구동리본이 기판과 동일 평면상에 이루어져 구조적으로 안정하다. 따라서, 제조시 수율을 높일 수 있고, 대량생산이 용이하여 제조단가를 낮출 수 있다. 또한, 접지판과 구동리본 사이의 간극을 스페이서를 이용하여 원하는 높이로 조절이 가능하다.The present invention is a conventional optical modulator device, the drive plate having a light inlet formed through the substrate, and both ends are fixed to the drive plate so as to span the upper end of the light inlet, the light incident through the light inlet A fixed ribbon composed of a reflecting film to reflect, and both ends are fixed to the drive plate to cover the upper end of the light inlet, alternately installed at regular intervals with the fixed ribbon, a conductive film and the light incident through the light inlet A driving ribbon comprising a reflective film for reflecting light, a driving ribbon electrode pad connected to the driving ribbon so as to apply electricity to the conductive film, an electrode plate having a predetermined gap between the fixed ribbon and the upper end of the driving ribbon; And a ground plate having an electrode for applying electricity to the electrode plate, and maintaining a gap between the driving plate and the ground plate. By providing an optical modulator device, characterized in that configured to include a spacer is installed, the drive ribbon is made on a substrate and the same plane is structurally stable. Therefore, it is possible to increase the yield at the time of manufacture, it is easy to mass production can lower the manufacturing cost. In addition, the gap between the ground plate and the driving ribbon can be adjusted to a desired height using a spacer.

Description

광모듈레이터 소자 및 생산방법{ LIGHT MODULATOR AND METHOD FOR PRODUCING OF LIGHT MODULATOR}LIGHT MODULATOR AND METHOD FOR PRODUCING OF LIGHT MODULATOR}

본 발명은 광모듈레이터 소자에 관한 것으로서, 상세하게는 레이저 디스플레이용 광모듈레이터 소자에 관한 것이다.The present invention relates to an optical modulator element, and more particularly, to an optical modulator element for laser display.

레이저빔을 이용한 디스플레이 방식 중 최근에 개발된 GLV (Grating Light Valve) 방식은 빔의 회절 현상을 이용하여 화상을 구성하는 방법으로 명암, 색상등 여러면에서 매우 우수한 특성을 나타내고 있다. GLV 방식에 사용되는 광모듈레이터소자는 표면 미세 가공 (surface micro-machining) 기술을 이용하여 제작된 것으로 실리콘 기판 위에 형성된 마이크로 브릿지 (micro bridge) 형태를 갖는 6개의 미세리본이 하나의 픽셀(pixel)로 구성된다.Recently, the GLV (Grating Light Valve) method, which is a display method using a laser beam, is a method of composing an image using a diffraction phenomenon of a beam, and has excellent characteristics in various aspects such as contrast and color. The optical modulator device used in the GLV method is manufactured by using surface micro-machining technology. Six microribbons having a micro bridge shape formed on a silicon substrate are formed into one pixel. It is composed.

도1 내지 도5는 종래의 광모듈레이터 소자의 구성을 도시한 것으로서, 도1은 광모듈레이터 소자를 이용한 디스플레이 시스템의 개략도, 도2는 도1의 광모듈레이터 소자의 사시도, 도3은 도2의 광모듈레이터 소자의 종단면도, 도4는 도1의 디스플레이가 암흑상태가 되는 광모듈레이터 소자의 횡단면도, 도5는 도1의 디스플레이가 밝은 상태가 되는 광모듈레이터 소자의 횡단면도이다.1 to 5 show the structure of a conventional optical modulator element, FIG. 1 is a schematic view of a display system using the optical modulator element, FIG. 2 is a perspective view of the optical modulator element of FIG. 1, FIG. 4 is a cross sectional view of the optical modulator element in which the display of FIG. 1 is in a dark state, and FIG. 5 is a cross-sectional view of an optical modulator element in which the display of FIG. 1 is in a bright state.

도1에 도시된 바와 같이, 광모듈레이터 소자를 이용한 디스플레이 시스템은 레이저 다이오드와 같이 빛을 조사하는 광원(31)과 상기 광원(31)으로부터 나온 빛을 광모듈레이터(100)측으로 보내는 프리즘(31)과, 상기 프리즘(31)에서 반사된 빛을 받아서 반사하는 광모듈레이터 소자(100)와, 상기 광모듈레이터 소자(100)에서 반사된 빛을 굴절시켜 스크린(35)에 입사하는 두개의 렌즈(33, 34)로 구성된다.As shown in FIG. 1, a display system using an optical modulator element includes a light source 31 for irradiating light, such as a laser diode, and a prism 31 for transmitting light from the light source 31 to the optical modulator 100. And an optical modulator device 100 that receives and reflects the light reflected from the prism 31, and two lenses 33 and 34 that are incident on the screen 35 by refracting the light reflected by the optical modulator device 100. It is composed of

종래의 GLV 방식을 이용한 상기 광모듈레이터 소자(100)의 구조는 도2에 도시된 바와 같이, 실리콘기판(111) 상에 Si3N4, 또는 SiO2 와 같은 유전막으로 절연층(112)이 형성되고, 상기 절연층(112) 위에 텅스텐(W)과 같은 고온용 금속막(refractory metal film)으로 된 하부전극(113)이 형성되며, 그 위에 마이크로 브릿지 형태의 리본(120)이 상기 하부전극(113)과 간극을 두고 상기 기판(111)상게 형성된다. 상기 리본(120)의 상면에는 입사된 빛을 반사시키고 전극역할을 할 수 있는 알루미늄과 같이 반사 효율이 높은 금속박막이 형성되어 있다. 상기 리본(120)은 상기 기판(111)에 고정하기 위해 양끝단에 형성된 고정부(121)와, 상기 고정부(121)에서 상향 굴곡 되어 상기 리본(120)을 상기 기판(111)에서 일정한간격으로 이격시키는 포스트부(122)와, 상기 포스트부(122)에서 상기 기판(111)에 평행하도록 굴곡 되어 형성된 반사부(123)로 구성된다.In the structure of the optical modulator device 100 using the conventional GLV method, as shown in FIG. 2, an insulating layer 112 is formed of a dielectric film such as Si 3 N 4 or SiO 2 on the silicon substrate 111, and the insulation is performed. A lower electrode 113 made of a high temperature metal film (refractory metal film) such as tungsten (W) is formed on the layer 112, and a ribbon 120 in the form of a micro bridge is formed on the gap with the lower electrode 113. The substrate 111 is formed on the substrate 111. The upper surface of the ribbon 120 is formed with a metal thin film having high reflection efficiency, such as aluminum that can reflect incident light and act as an electrode. The ribbon 120 is fixed to the end portion 121 formed at both ends to be fixed to the substrate 111, and bent upward from the fixing portion 121 is a constant distance from the substrate 111 to the ribbon 120 It is composed of a post portion 122 spaced apart from the reflection portion 123 formed to be bent in parallel to the substrate 111 in the post portion 122.

하나의 픽셀은 6개의 리본(120)으로 구성되어 있으며, 6개중 3개는 구동리본(120A)이고, 나머지 3개는 고정리본(120B)이다. 상기 구동리본(120A)과 상기 고정리본(120B)은 서로 교대로 설치된다. 상기 고정리본(120B)은 전압을 인가하더라도 상기 하부전극(113)과 전위차가 발생하지 않아 움직이지 않도록 상기 하부전극(113)과 전기적으로 연결되어 있다. 상기 구동리본(120A)은 정전기력에 의해 상하 방향으로 움직이게 된다.One pixel is composed of six ribbons 120, three of which are driving ribbons 120A, and three of which are fixed ribbons 120B. The driving ribbon 120A and the fixed ribbon 120B are alternately installed. The fixed ribbon 120B is electrically connected to the lower electrode 113 so that a potential difference does not occur with the lower electrode 113 even when a voltage is applied. The driving ribbon 120A moves in the vertical direction by the electrostatic force.

도4는 도1의 디스플레이가 암흑상태가 되는 광모듈레이터 소자의 횡단면도, 도5는 도1의 디스플레이가 밝은 상태가 되는 광모듈레이터 소자의 횡단면도이다.4 is a cross-sectional view of the optical modulator element in which the display of FIG. 1 is in a dark state, and FIG. 5 is a cross-sectional view of the optical modulator element in which the display of FIG.

전압을 인가하지 않으면 도4와 같이 6개의 리본(120)이 모두 똑같은 위치에 정렬되어 입사광(125)이 입사된 방향으로 반사광(126)이 모두 반사되어 상기 광원(31)으로 재입사되어, 상기 스크린(35)은 아무런 영상이 나타나지 않는 암흑상태(dark state)가 된다.If no voltage is applied, all six ribbons 120 are aligned at the same position as shown in FIG. 4, and the reflected light 126 is all reflected in the direction in which the incident light 125 is incident, and re-entered into the light source 31. The screen 35 is in a dark state in which no image appears.

전압을 인가하면 도5와 같이 상기 구동리본(120A)의 반사부(123)가 아래로 쳐지게 되어, 상기 구동리본(120A)의 반사광(127)은 상기 고정리본(120B) 사이를 통과하면서, 회절이 발생하여 회절각(diffraction angle)을 갖고 나오게 되며, 이 반사광(127)은 상기 렌즈(33, 34)를 거쳐 상기 스크린(35)에 비쳐진다. 여기서 회절각은 픽셀의 크기가 작을수록 크게 된다. 디스플레이 시스템을 고려하면 회절각이 클수록 좋은데 이것은 회절각이 클수록 시스템의 크기를 작게 하는데 유리하기때문이다.When the voltage is applied, the reflective portion 123 of the driving ribbon 120A is struck downward as shown in FIG. 5, while the reflected light 127 of the driving ribbon 120A passes between the fixed ribbons 120B. Diffraction occurs and exits with a diffraction angle, and the reflected light 127 is projected onto the screen 35 via the lenses 33 and 34. The diffraction angle becomes larger as the pixel size becomes smaller. Considering the display system, the larger the diffraction angle, the better, because the larger the diffraction angle, the better the size of the system.

그런데, 종래의 광모듈레이터 소자(100)는 상기 리본(120)의 상기 포스트부(122)에 응력(stress)이 집중되어 구조적으로 취약한 문제점을 가지고 있고, 상기 리본(120)이 큰 종횡비를 갖는 브릿지 형태로 응력에 의해 상기 리본(120)이 휘어지거나, 끊어질 확률이 크기 때문에 소자의 제작 공정과 신뢰성 확보에 어려움이 크다. 또한, 기준 전압 이상의 전압이 인가될 경우 상기 리본(120)이 상기 하부전극(113)에 달라붙어 떨어지지 않는 융착(stiction)이 발생할 수 있는 문제점이 있다.However, the conventional optical modulator device 100 has a problem in that the stress is concentrated on the post portion 122 of the ribbon 120 and structurally weak, and the ribbon 120 has a large aspect ratio bridge. Since the ribbon 120 has a high probability of bending or breaking due to stress in a shape, it is difficult to secure the manufacturing process and reliability of the device. In addition, when a voltage higher than a reference voltage is applied, there is a problem that fusion may occur that the ribbon 120 does not stick to the lower electrode 113.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하고자 안출된 것으로서, 구조적으로 안정한 리본을 구비함으로서, 제조시 수율을 높일 수 있으며, 대량생산이 용이하여 제조단가를 낮출 수 있으며, 구동리본과 하부전극사이에 융착을 방지한 광모듈레이터 소자를 제공함을 그 목적으로 한다.The present invention has been made to solve the above problems, by having a structurally stable ribbon, it is possible to increase the yield at the time of manufacture, to reduce the manufacturing cost by easy mass production, fusion between the drive ribbon and the lower electrode It is an object of the present invention to provide an optical modulator device that prevents the loss.

도1 내지 도5는 종래의 광모듈레이터 소자의 구성을 도시한 것으로서,1 to 5 show a configuration of a conventional optical modulator element,

도1은 광모듈레이터 소자를 이용한 디스플레이 시스템의 개략도1 is a schematic diagram of a display system using an optical modulator element

도2는 도1의 광모듈레이터 소자의 사시도FIG. 2 is a perspective view of the optical modulator element of FIG. 1

도3은 도2의 광모듈레이터 소자의 종단면도3 is a longitudinal cross-sectional view of the optical modulator element of FIG.

도4는 도1의 디스플레이가 암흑상태가 되는 광모듈레이터 소자의 횡단면도4 is a cross-sectional view of an optical modulator element in which the display of FIG. 1 is in a dark state;

도5는 도1의 디스플레이가 밝은 상태가 되는 광모듈레이터 소자의 횡단면도FIG. 5 is a cross sectional view of the optical modulator element in which the display of FIG. 1 is in a bright state; FIG.

도6 내지 도10은 본 발명의 제1실시예의 구조를 도시한 도면으로서,6 to 10 are views showing the structure of the first embodiment of the present invention.

도6은 광모듈레이터 소자의 횡단면도6 is a cross sectional view of an optical modulator element;

도7은 도6의 구동판의 평면도7 is a plan view of the driving plate of FIG.

도8은 도7의 구동판의 횡단면도8 is a cross-sectional view of the drive plate of FIG.

도9는 도6의 접지판의 저면도Figure 9 is a bottom view of the ground plate of Figure 6

도10은 도9의 접지판의 횡단면도10 is a cross sectional view of the ground plate of FIG.

도11 내지 도13은 본 발명의 제2실시예의 구조를 도시한 것으로서,11 to 13 show the structure of a second embodiment of the present invention.

도11은 광모듈레이터 소자의 횡단면도11 is a cross-sectional view of an optical modulator element

도12는 도11의 접지판의 저면도Figure 12 is a bottom view of the ground plate of Figure 11

도13은 도12의 접지판의 횡단면도Figure 13 is a cross sectional view of the ground plate of Figure 12

**도면의 주요부분에 대한 부호의 설명**** Description of the symbols for the main parts of the drawings **

210: 구동판 211: 구동판 기판210: driving plate 211: driving plate substrate

213: 제1절연막 216: 고정리본213: first insulating film 216: fixed ribbon

217: 구동리본 218: 구동리본 전극패드217: driving ribbon 218: driving ribbon electrode pad

227: 반사막, 도전성막 221: 광도입구227: reflecting film, conductive film 221: light inlet

226: 고정리본 접지패드 250: 접지판226: fixed ribbon ground pad 250: ground plate

251: 접지판 기판, 전극판 252: 전극251: ground plate substrate, electrode plate 252: electrode

253: 접지판 하면 절연막 254: 스페이서253: ground plane bottom insulating film 254 spacer

260: 절연성 접착제 274: 고착방지돌부260: insulating adhesive 274: anti-stick protrusions

본 발명은 상술한 바와 같은 목적을 달성하기 위하여, 기판을 관통하여 형성된 광도입구를 구비한 구동판과; 상기 광도입구 상단에 걸치도록 양단이 상기 구동판에 고정되며, 상기 광도입구를 통해 입사된 빛을 반사하도록 반사막으로 구성된 고정리본과; 상기 광도입구 상단에 걸치도록 양단이 상기 구동판에 고정되며, 상기 고정리본과 일정한 간격을 두고 교대로 설치되며, 도전성막과, 상기 광도입구를 통해 입사된 빛을 반사하도록 하는 반사막으로 구성된 구동리본과; 상기 도전성막에전기를 가할 수 있도록 상기 구동리본에 연결되어 형성된 구동리본 전극패드와; 상기 고정리본 및 상기 구동리본 상단에 일정한 간극을 두고 설치된 전극판과, 상기 전극판에 전기를 가하는 전극을 구비한 접지판과; 상기 구동판과 상기 접지판 사이에 간극을 유지하도록 설치된 스페이서를; 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 광모듈레이터 소자를 제공한다.The present invention provides a drive plate having a light inlet formed through the substrate to achieve the above object; A fixed ribbon fixed at both ends to the driving plate so as to extend over the light inlet, and having a reflective film to reflect light incident through the light inlet; Both ends are fixed to the driving plate so as to span the upper end of the light inlet, alternately installed at regular intervals from the fixed ribbon, and a drive ribbon including a conductive film and a reflecting film reflecting light incident through the light inlet. and; A driving ribbon electrode pad connected to the driving ribbon so as to apply electricity to the conductive film; An electrode plate provided at an upper end of the fixed ribbon and the driving ribbon with a predetermined gap, and a ground plate having an electrode for applying electricity to the electrode plate; A spacer provided to maintain a gap between the driving plate and the ground plate; It provides an optical modulator device comprising a.

또한, 상기 접지판은 상기 구동판에 절연성 접착제로 고정되는 것이 바람직하다.In addition, the ground plate is preferably fixed to the drive plate with an insulating adhesive.

또한, 상기 구동리본과, 상기 접지판이 직접 접촉하여 고착되는 것을 방지하기 위해 상기 접지판이 상기 구동리본과 접리되는 부분에 다수개 돌출 되어 형성된 고착방지돌부를 더 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the driving ribbon and the ground plate further comprises a fixing preventing protrusion formed by protruding a plurality of the ground plate in a portion which is folded with the driving ribbon in order to prevent the contact.

한편, 본 발명은 전극판을 포함하는 접지판구비단계와; 도전성 반사막으로 형성된 구동리본과 고정리본과 상기 반사막에 빛이 도입될 수 있도록 형성된 광도입구를 포함하는 구동판을 구비하는 구동판 구비단계와; 상기 접지판을 상기 구동판에 절연성 접착제로 고정하는 단계를; 포함하여 구성된 광모듈레이터 소자 생산방법으로도 구현될 수 있다.On the other hand, the present invention comprises a grounding plate including the electrode plate step; A driving plate having a driving plate including a driving ribbon and a fixed ribbon formed of a conductive reflective film, and a light introduction port formed to introduce light into the reflective film; Securing the ground plate to the drive plate with an insulating adhesive; It can also be implemented as a method for producing an optical modulator device including.

또한, 상기 구동판구비단계는 구동판 기판상에 제1절연막을 박막증착하는 제1절연막증착단계와; 상기 제1절연막상에 금속 박막을 증착한후 패터닝하여 접지패드와 상기 접지패드에 연결된 접지선을 형성하는 접지패드 접지선 형성단계와; 상기 접지선상에 제2절연막을 박막증착하는 제2절연막증착단계와; 상기 제2절연막의 일부를 식각하여 상기 접지선이 노출되도록 비아홀을 형성하는 비아홀 형성단계와; 상기 제2절연막상에 반사막 및 도전성막을 형성하기 위해 금속박막증착단계와; 상기 금속박막을 패터닝하여 상호 교차되어 형성된 구동리본과 고정리본과, 상기 고정리본에 연장 형성된 고정리본 접지패드와, 상기 구동리본에 연장 형성된 구동리본 전극패드를 형성하는 단계와; 상기 기판의 하면에 하면절연막을 형성하는 하면절연막 형성단계와; 상기 하면 절연막을 패터닝하여 일부 제거한 다음 상기 기판을 경사지게 이방성 식각을 하여 제1절연막이 드러나도록 광도입구를 형성하는 광도입구 형성단계와; 상기 광도입구 상면에 위치한 상기 제1절연막 중 상기 고정리본과 상기 구동리본이 증착된 이외의 부분을 식각하여 고정리본과 구동리본을 형성하는 리본형성단계를; 포함하여 구성되는 것이 바람직하다.The driving plate preparation step may include: a first insulating film deposition step of depositing a thin film of the first insulating film on the driving plate substrate; A ground pad ground line forming step of depositing and patterning a metal thin film on the first insulating layer to form a ground pad and a ground line connected to the ground pad; A second insulating film deposition step of depositing a thin film of a second insulating film on the ground line; Forming a via hole by etching a portion of the second insulating layer to expose the ground line; Depositing a metal thin film to form a reflective film and a conductive film on the second insulating film; Patterning the metal thin film to form a driving ribbon and a fixed ribbon formed to cross each other, a fixed ribbon ground pad extending to the fixed ribbon, and a driving ribbon electrode pad extending to the driving ribbon; Forming a lower surface insulating film on the lower surface of the substrate; A light inlet forming step of forming a light inlet so that the first insulating film is exposed by anisotropically etching the substrate by patterning the bottom insulating film and removing a portion thereof; A ribbon forming step of forming a fixed ribbon and a driving ribbon by etching portions of the first insulating layer on the light inlet, other than where the fixed ribbon and the driving ribbon are deposited; It is preferable to comprise.

또한, 상기 접지판 구비단계는 접지판 기판으로서 도핑된 실리콘 기판을 구비하는 단계와; 상기 접지판 기판의 하면에 절연막을 증착하여 접지판 하면 절연막 형성하는 단계와; 상기 접지판 하면 절연막의 하면에 막대형상으로 나란히 형성된 스페이서 형성단계와; 상기 접지판 기판에 접지 신호를 인가하기 위하여 상기 접지판 기판의 상면에 금속을 증착하여 전극을 형성하는 전극형성단계를; 포함하여 구성된 것이 바람직하다.In addition, the step of providing a ground plate comprises the steps of: providing a doped silicon substrate as a ground plate substrate; Depositing an insulating film on the bottom surface of the ground plate substrate to form a ground plate bottom insulating film; A spacer forming step formed side by side in a bar shape on the bottom surface of the bottom surface insulating film; Forming an electrode by depositing a metal on an upper surface of the ground plate substrate to apply a ground signal to the ground plate substrate; It is preferable to comprise.

이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 관하여 상세히 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

다만, 본 발명을 설명함에 있어서, 공지된 기능 혹은 구성에 대해 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흩트리지 않도록 하기 위하여 생략하기로 한다.However, in describing the present invention, a detailed description of known functions or configurations will be omitted in order not to disturb the gist of the present invention.

또한, 전술한 구성과 동일 및 동일 상당부분에 대해서는 동일한 참조부호를 부여하고, 그에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.In addition, the same reference numerals are given to the same and the same components as those described above, and detailed description thereof will be omitted.

도6 내지 도10은 본 발명의 제1실시예의 구조를 도시한 도면으로서, 도6은 광모듈레이터 소자의 횡단면도, 도7은 도6의 구동판의 평면도, 도8은 도7의 구동판의 횡단면도, 도9는 도6의 접지판의 저면도, 도10은 도9의 접지판의 횡단면도이다.6 to 10 show the structure of the first embodiment of the present invention, FIG. 6 is a cross sectional view of an optical modulator element, FIG. 7 is a plan view of the drive plate of FIG. 6, and FIG. 8 is a cross sectional view of the drive plate of FIG. 9 is a bottom view of the ground plate of FIG. 6, and FIG. 10 is a cross sectional view of the ground plate of FIG.

본 발명의 제1실시예의 광모듈레이터 소자(200)는 광도입구(221)를 구비한 구동판(210)과 상기 구동판(210)의 상부에 일정한 간극을 두고 설치된 접지판(250)으로 구성된다.The optical modulator element 200 according to the first embodiment of the present invention includes a driving plate 210 having a light introduction hole 221 and a ground plate 250 provided with a predetermined gap on the driving plate 210. .

상기 구동판(210)은 기판(211)에 삼각형형상으로 식각되어 상기 기판(211)을 관통하도록 형성된 광도입구(221)와, 상기 기판의 상면에 형성된 제1절연막(213)과, 상기 기판의 하면에 형성된 하부절연막(212)과, 상기 제1절연막(213)상에 상기 광도입구(221)의 둘레에 형성된 접지선(214)과, 상기 접지선(214)을 접지하기 위해 형성된 접지패드(219)와, 상기 접지선(214)상에 형성된 제2절연막(220)과, 상기 제1절연막(213)과 상기 제2절연막(213)상에 형성된 반사막(227)으로 이루어진다.The driving plate 210 is etched in a triangular shape on the substrate 211 to penetrate the substrate 211, the first insulating layer 213 formed on the upper surface of the substrate, and the substrate A lower insulating film 212 formed on a lower surface, a ground wire 214 formed around the light inlet 221 on the first insulating film 213, and a ground pad 219 formed to ground the ground wire 214. And a second insulating film 220 formed on the ground line 214, and a reflective film 227 formed on the first insulating film 213 and the second insulating film 213.

상기 광도입구(221)의 상면에는 상기 반사막(227)과, 상기 제1절연막(213)이 식각되어 얇은 스트립형상의 고정리본(216)과, 구동리본(217)이 상호 교대로 형성된다. 상기 고정리본(216)과 상기 구동리본(217)은 상기 광도입구(221)를 가로질러 양단이 상기 제1절연막(213)에 고정된다. 또한, 상기 고정리본(216)을 상기 접지패드(219)에 접지하기 위해 상기 접지선(214)과 상기 고정리본(216)을 연결하는 고정리본 접지패드(226)가 형성되며, 상기 구동리본(216)에 전기를 가하기 위해 상기 구동리본(216)과 연결된 구동리본 전극패드(218)가 상기 제1절연막(213)상에 형성된다. 상기 구동리본 전극패드(218)와 상기 고정리본 접지패드(226)는 모두 상기반사막(227)을 패터닝하여 형성된다. 또한, 상기 고정리본 접지패드(226)와 상기 접지선(214)이 도전이 가능하도록 하기 위해, 상기 제2절연막(213)을 일부 식각하여 상기 접지선(214)이 노출되도록 비아홀(215)을 형성한 후 상기 비아홀(215)상에 상기 고정리본 접지패드(226)를 형성한다.The reflective film 227 and the first insulating film 213 are etched on the upper surface of the light inlet 221 so that the thin fixed ribbon 216 and the driving ribbon 217 are alternately formed. Both ends of the fixed ribbon 216 and the driving ribbon 217 are fixed to the first insulating layer 213 across the light inlet 221. In addition, a fixed ribbon ground pad 226 connecting the ground line 214 and the fixed ribbon 216 to ground the fixed ribbon 216 to the ground pad 219 is formed, the driving ribbon 216 The driving ribbon electrode pad 218 connected to the driving ribbon 216 is formed on the first insulating layer 213 to apply electricity to the first insulating layer 213. The driving ribbon electrode pad 218 and the fixed ribbon ground pad 226 are both formed by patterning the reflective film 227. In addition, in order to enable the fixed ribbon ground pad 226 and the ground line 214 to be electrically conductive, the via hole 215 is formed to partially expose the second insulating layer 213 to expose the ground line 214. Afterwards, the fixed ribbon ground pad 226 is formed on the via hole 215.

상기 기판(211)은 실리콘기판을 사용하는 것이 바람직하며, 상기 제1절연막과 하부절연막(212)은 절연막의 역할과, 상기 구동리본(217)의 역할을 동시에 수행하므로, 절연성과 기계적 탄성이 우수한 실리콘나이트라이드(SixNy)박막을 저압화학기상증착법(LPCVD:Low Pressure Chemical Vapor Deposition)법과 같은 박막 증착 방법으로 형성하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 접지패드(219)와 상기 접지선(214)은 고온공정에서 안정하도록 텅스텐(W) 또는 텅스텐 실리사이드(WSi)와 같은 고온용 금속 박막 (refractory metal film)을 스퍼터링(sputtering) 법과 같은 박막 증착 방법으로 증착한 후 패터닝(patterning) 하여 형성하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 제2절연막은 SiO2 또는 Si3N4를 화학기상증착법(CVD: chemical vapor deposition) 등으로 증착한 후 패터닝 하여 상기 접지선(214)상에 형성하는 것이 바람직하다. 그리고, 상기 반사막(227)은 알루미늄(Al)또는 금(Au) 박막을 스퍼터링 방법으로 형성하고 패터닝하여 상기 고정리본(216)과 상기 구동리본(217)과 상기 고정리본 패드(226)과, 상기 구동리본 패드(218)를 형성하는 것이 바람직하다. 상기 반사막(227)은 전도성이 있으므로 도전성막으로도 기능을 한다.Preferably, the substrate 211 uses a silicon substrate, and the first insulating layer and the lower insulating layer 212 simultaneously perform the role of an insulating layer and the driving ribbon 217, thereby providing excellent insulation and mechanical elasticity. It is preferable to form a silicon nitride (SixNy) thin film by a thin film deposition method such as low pressure chemical vapor deposition (LPCVD). In addition, the ground pad 219 and the ground wire 214 are deposited on a thin film such as sputtering a high-temperature refractory metal film such as tungsten (W) or tungsten silicide (WSi) to be stable in a high temperature process. It is preferable to form by depositing by patterning and patterning. In addition, the second insulating layer is preferably formed on the ground line 214 by depositing SiO 2 or Si 3 N 4 by chemical vapor deposition (CVD) or the like. In addition, the reflective film 227 is formed of aluminum (Al) or gold (Au) thin film by the sputtering method and patterned by the fixed ribbon 216, the driving ribbon 217 and the fixed ribbon pad 226, and It is preferable to form the drive ribbon pad 218. Since the reflective film 227 is conductive, it functions as a conductive film.

상기 접지판(250)은 접지판 기판(251)과, 상기 기판(251)의 상면에 형성된 전극(252)과, 상기 기판(251)의 하면에 형성된 접지판 하면 절연막(253)과, 상기하면 절연막(253)의 하면에 막대형상을 하며 2개가 서로 마주보며 평행하게 형성된 스페이서(254)를 포함하여 구성된다.The ground plate 250 may include a ground plate substrate 251, an electrode 252 formed on an upper surface of the substrate 251, a ground plate lower surface insulating layer 253 formed on a lower surface of the substrate 251, and the lower surface thereof. The spacer 254 is formed on the lower surface of the insulating film 253 and is formed in parallel with each other in a bar shape.

상기 접지판 기판(251)은 도핑된 실리콘 기판을 사용하여 기판 자체를 전극판으로 사용할 수 있도록 한다. 또한, 상기 하면 절연막(253)은 실리콘 나이트라이드 박막을 저압화학기상증착법방법으로 상기 접지판 기판(252)상에 형성하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 전극(252)은 상기 접지판 기판(251)에 접지신호를 인가하기 위하여 Au등을 스퍼터링 방법으로 증착하여 형성하는 것이 바람직하다.The ground plate substrate 251 allows the substrate itself to be used as an electrode plate using a doped silicon substrate. In addition, the lower insulating film 253 is preferably formed on the ground plate substrate 252 by a low pressure chemical vapor deposition method. In addition, the electrode 252 is preferably formed by depositing Au or the like by a sputtering method in order to apply a ground signal to the ground plate substrate 251.

도6에 도시된 바와 같이 상기 접지판(250)은 상기 구동판(210)상에 상기 광도입구(221)을 사이에 두고 상기 스페이서(254)가 위치하도록 절연성 접착제(260)에 의해 고정되며, 상기 접지판(250)과 상기 접지패드(219)는 전기적으로 연결된다. 상기 절연성 접착제(260)는 에폭시(epoxy)를 사용할 수도 있다.As shown in FIG. 6, the ground plate 250 is fixed by an insulating adhesive 260 such that the spacer 254 is positioned on the driving plate 210 with the light inlet 221 interposed therebetween. The ground plate 250 and the ground pad 219 are electrically connected to each other. The insulating adhesive 260 may use epoxy.

이하, 본 발명의 제1실시예의 제조방법에 관하여 설명한다.Hereinafter, the manufacturing method of the first embodiment of the present invention will be described.

상기 구동판(210)의 제조방법은 다음과 같다.The manufacturing method of the driving plate 210 is as follows.

실리콘기판(211)상에 실리콘 나이트라이드(SixNy) 박막을 저압화학기상증착법 (Low Pressure Chemical Vapor Deposition)법과 같은 박막 증착 방법으로 증착하여 상기 제1절연막(213)을 형성하고, 그 위에 텅스텐(W) 또는 텅스텐 실리사이드(WSi)와 같은 고온용 금속 박막(refractory metal film)을 스퍼터링(sputtering) 법과 같은 박막 증착 방법으로 증착한 후 패터닝하여 상기 접지패드(219)와, 상기 접지선(214)을 형성한다. 다음으로 SiO2 또는 Si3N4와 같은 절연막을 화학기상증착법법 등으로 증착한 후 패터닝 하여 상기 접지선(214)상에제2절연막(220)을 형성한다. 그리고 상기 고정리본 접지패드(226)와 상기 구동리본 전극패드(218)를 분리하기 위해 비아홀(215)을 패터닝 한다. 그 위에 반사막으로 사용할 수 있는 알루미늄(Al)또는 금(Au) 박막을 스퍼터링 방법으로 형성하고 패터닝하여 상기 고정리본(216)과 상기 고정리본 접지패드(226)와 상기 구동리본(217)과 상기 구동리본 전극패드(218)를 형성한다. 다음으로 상기 기판(211)의 하면에 실리콘 나이트라이드를 박막 정착하여 상기 하면 절연막(212)을 형성하고, 이를 패터닝하여 일부 제거한 다음 KOH 용액(potassium hydroxide-water)으로 경사지게 이방성 식각을 하여 실리콘 기판의 일부를 제거하여 제1절연막(213)이 드러나도록 광도입구(221)를 형성한다. 끝으로 전면에 패터닝된 상기 고정리본(216)과 상기 구동리본(217)의 상기 반사막(227)을 하드마스크(hard mask)를 이용하여 상기 제1절연막(213)의 노출된 부분을 건식 식각하여 관통되게 제거함으로써 상기 고정리본(216)과 상기 구동리본(217)을 형성한다.A silicon nitride (SixNy) thin film is deposited on the silicon substrate 211 by a thin film deposition method such as a low pressure chemical vapor deposition method to form the first insulating layer 213 and thereon tungsten (W). ) Or a high temperature metal thin film (refractory metal film) such as tungsten silicide (WSi) is deposited by a thin film deposition method such as sputtering method and then patterned to form the ground pad 219 and the ground line 214. . Next, an insulating film such as SiO 2 or Si 3 N 4 is deposited by chemical vapor deposition, or the like, to be patterned to form a second insulating film 220 on the ground line 214. The via hole 215 is patterned to separate the fixed ribbon ground pad 226 and the driving ribbon electrode pad 218. An aluminum (Al) or gold (Au) thin film, which can be used as a reflective film, is formed on the sputtering method and patterned to form the fixed ribbon 216, the fixed ribbon ground pad 226, the driving ribbon 217, and the driving pattern. The ribbon electrode pad 218 is formed. Next, a thin film of silicon nitride is fixed on the lower surface of the substrate 211 to form the lower insulating film 212, and then partially removed by patterning the silicon nitride. The silicon substrate is then anisotropically etched with a KOH solution (potassium hydroxide-water) to form a silicon substrate. A portion of the light guide hole 221 is formed to expose the first insulating layer 213. Finally, the exposed portions of the first insulating layer 213 are dry-etched by using a hard mask on the fixed ribbon 216 and the reflective film 227 of the driving ribbon 217 on the front surface by using a hard mask. The fixed ribbon 216 and the driving ribbon 217 are formed by removing the penetrating ribbon.

상기 접지판(250)의 제조방법은 아래와 같다.The manufacturing method of the ground plate 250 is as follows.

상기 접지판 기판(251)은 도핑된 실리콘 기판을 사용한다. 상기 접지판 기판(251)의 하면에 실리콘 나이트라이드 박막을 저압화학기상증착법방법으로 증착하여 상기 접지판 하면 절연막(253)을 형성한다. 상기 접지판 하면 절연막(253)의 하면에 상기 스페이서(254)를 형성한다. 접지판에 접지 신호를 인가하기 위하여 상기 접지판 기판의 상면에 Au등을 스퍼터링 방법으로 증착하여 전극(252)을 형성한다.The ground plate substrate 251 uses a doped silicon substrate. A silicon nitride thin film is deposited on the lower surface of the ground plate substrate 251 by a low pressure chemical vapor deposition method to form the ground plate lower insulating film 253. The spacer 254 is formed on a bottom surface of the bottom surface insulating layer 253. In order to apply a ground signal to the ground plate, Au and the like are deposited on the upper surface of the ground plate substrate by sputtering to form an electrode 252.

이하, 본 발명의 제1실시예의 동작에 관하여 설명한다. 디스플레이 시스템의동작은 전술한 종래기술과 동일하며, 따라서 광모듈레이터 소자의 동작에 관하여 설명한다.The operation of the first embodiment of the present invention will be described below. The operation of the display system is the same as the above-described prior art, and therefore the operation of the optical modulator element will be described.

상기 고정리본(216)은 상기 접지선(214)에 상기 비아홀(215)을 통해 전기적으로 연결되며, 상기 접지선(214)은 상기 접지패드(219)를 통해 상기 접지판(250)에 접지 되므로, 상기 고정리본(216)과 상기 접지판(250)사이에는 전위차가 없다. 다만, 상기 구동리본(216)은 상기 접지판(250)과 전기적으로 개방되어 있는 상태이므로, 상기 구동리본 전극 패드(218)에 전기를 가함으로서, 상기 접지판(250)과 인력이 발생한다. 따라서, 상기 구동리본 전극 패드(218)에 가하는 전기량에 따라 상기 구동리본(217)의 휨정도를 조절할 수 있다.The fixed ribbon 216 is electrically connected to the ground line 214 through the via hole 215, and the ground line 214 is grounded to the ground plate 250 through the ground pad 219. There is no potential difference between the fixed ribbon 216 and the ground plate 250. However, since the driving ribbon 216 is electrically open to the ground plate 250, by applying electricity to the driving ribbon electrode pad 218, the driving plate 216 is attracted to the ground plate 250. Therefore, the degree of bending of the driving ribbon 217 may be adjusted according to the amount of electricity applied to the driving ribbon electrode pad 218.

상기 광원(31)에서 입사된 빛은 상기 광도입구(221)를 통해서 입사되어 상기 반사막(227)이 형성된 상기 고정리본(216)과, 상기 구동리본(217)에 의해 반사 및 회절되어 상기 스크린(35)에 입사된다.Light incident from the light source 31 is incident through the light inlet 221 to be reflected and diffracted by the fixed ribbon 216 and the driving ribbon 217 on which the reflective film 227 is formed, and thus the screen ( 35).

상기와 같이 본 발명의 제1실시예의 광모듈레이터 소자는 구동리본이 기판과 동일 평면상에 이루어져 구조적으로 안정하다. 따라서, 제조시 수율을 높일 수 있고, 대량생산이 용이하여 제조단가를 낮출 수 있다.As described above, the optical modulator element of the first embodiment of the present invention is structurally stable because the driving ribbon is coplanar with the substrate. Therefore, it is possible to increase the yield at the time of manufacture, it is easy to mass production can lower the manufacturing cost.

또한, 접지판과 구동리본 사이의 간극을 스페이서를 이용하여 원하는 높이로 조절이 가능하다.In addition, the gap between the ground plate and the driving ribbon can be adjusted to a desired height using a spacer.

도11 내지 도13은 본 발명의 제2실시예의 구조를 도시한 것으로서, 도11은 광모듈레이터 소자의 횡단면도, 도12는 도11의 접지판의 저면도, 도13은 도12의 접지판의 횡단면도이다.11 to 13 show a structure of a second embodiment of the present invention, FIG. 11 is a cross sectional view of an optical modulator element, FIG. 12 is a bottom view of the ground plate of FIG. 11, and FIG. 13 is a cross sectional view of the ground plate of FIG. to be.

제2실시예의 광모듈레이터 소자의 구조는 상기 접지판(250)의 구조에 있어서 차이가 있을 뿐, 그 이외의 구성의 제1실시예의 광모듈레이터 소자의 구조와 동일하다. 따라서, 이하에서는 상기 접지판(250)의 구조를 중심으로 설명한다.The structure of the optical modulator element of the second embodiment differs only in the structure of the ground plate 250, and is the same as that of the optical modulator element of the first embodiment of the other configuration. Therefore, hereinafter, the structure of the ground plate 250 will be described.

상기 접지판(250)은 접지판 기판(251)과, 상기 기판(251)의 상면에 형성된 전극(252)과, 상기 기판(251)의 하면에 형성된 접지판 하면 절연막(273)과, 상기 하면 절연막(273)의 하면에 막대형상을 하며 2개가 서로 마주보며 평행하게 형성된 스페이서(254)와, 상기 스페이서(254)사이의 상기 절연막(273)을 일부 식각하여 형성된 고착방지돌부(274)를 포함하여 구성된다.The ground plate 250 includes a ground plate substrate 251, an electrode 252 formed on an upper surface of the substrate 251, a ground plate lower surface insulating layer 273 formed on a lower surface of the substrate 251, and the lower surface thereof. A spacer 254 formed in a bar shape on the bottom surface of the insulating film 273 and facing each other in parallel, and an adhesion preventing protrusion 274 formed by partially etching the insulating film 273 between the spacers 254. It is configured by.

상기 접지판 기판(251)은 도핑된 실리콘 기판을 사용하여 기판 자체를 전극판으로 사용할 수 있도록 한다. 또한, 상기 하면 절연막(253)은 실리콘 나이트라이드 박막을 저압화학기상증착법방법으로 상기 접지판 기판(252)상에 형성하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 전극(252)은 상기 접지판 기판(251)에 접지신호를 인가하기 위하여 Au등을 스퍼터링 방법으로 증착하여 형성하는 것이 바람직하다. 또한 상기 고착방지돌부(274)는 상기 절연막(253)을 패터닝하여 건식 식각하여 형성하는 것이 바람직하다.The ground plate substrate 251 allows the substrate itself to be used as an electrode plate using a doped silicon substrate. In addition, the lower insulating film 253 is preferably formed on the ground plate substrate 252 by a low pressure chemical vapor deposition method. In addition, the electrode 252 is preferably formed by depositing Au or the like by a sputtering method in order to apply a ground signal to the ground plate substrate 251. In addition, the adhesion preventing protrusion 274 is preferably formed by patterning the insulating film 253 by dry etching.

상기와 같이 본 발명의 제2실시예의 광모듈레이터 소자는 고착방지돌부를 구비함으로서, 상기 구동리본이 상기 접지판에 접리하는 경우 발생하는 융착을 방지할 수 있다.As described above, the optical modulator device according to the second embodiment of the present invention includes an anti-sticking protrusion, thereby preventing fusion caused when the driving ribbon is folded to the ground plate.

이상에서 살펴본 바와 같은 본 발명의 실시예에 의하면 다음과 같은 사항을포함하는 다양한 효과를 기대할 수 있다. 다만, 본 발명이 하기와 같은 효과를 모두 발휘해야 성립되는 것은 아니다.According to the embodiment of the present invention as described above it can be expected a variety of effects including the following matters. However, the present invention is not achieved by exerting all of the following effects.

먼저, 구동리본이 기판과 동일 평면상에 이루어져 구조적으로 안정하다. 따라서, 제조시 수율을 높일 수 있고, 대량생산이 용이하여 제조단가를 낮출 수 있다.First, the drive ribbon is structurally stable by being coplanar with the substrate. Therefore, it is possible to increase the yield at the time of manufacture, it is easy to mass production can lower the manufacturing cost.

또한, 접지판과 구동리본 사이의 간극을 스페이서를 이용하여 원하는 높이로 조절이 가능하다.In addition, the gap between the ground plate and the driving ribbon can be adjusted to a desired height using a spacer.

또한, 고착방지돌부를 구비함으로서, 상기 구동리본이 상기 접지판에 접리하는 경우 발생하는 융착을 방지할 수 있다.In addition, by providing the anti-stick protrusion, it is possible to prevent the fusion generated when the driving ribbon is folded to the ground plate.

Claims (12)

기판을 관통하여 형성된 광도입구를 구비한 구동판과;A driving plate having a light inlet formed through the substrate; 상기 광도입구 상단에 걸치도록 양단이 상기 구동판에 고정되며, 상기 광도입구를 통해 입사된 빛을 반사하도록 반사막으로 구성된 고정리본과;A fixed ribbon fixed at both ends to the driving plate so as to extend over the light inlet, and having a reflective film to reflect light incident through the light inlet; 상기 광도입구 상단에 걸치도록 양단이 상기 구동판에 고정되며, 상기 고정리본과 일정한 간격을 두고 교대로 설치되며, 도전성막과, 상기 광도입구를 통해 입사된 빛을 반사하도록 하는 반사막으로 구성된 구동리본과;Both ends are fixed to the driving plate so as to span the upper end of the light inlet, alternately installed at regular intervals from the fixed ribbon, and a drive ribbon including a conductive film and a reflecting film reflecting light incident through the light inlet. and; 상기 도전성막에 전기를 가할 수 있도록 상기 구동리본에 연결되어 형성된 구동리본 전극패드와;A driving ribbon electrode pad connected to the driving ribbon so as to apply electricity to the conductive film; 상기 고정리본 및 상기 구동리본 상단에 일정한 간극을 두고 설치된 전극판과, 상기 전극판에 전기를 가하는 전극을 구비한 접지판과;An electrode plate provided at an upper end of the fixed ribbon and the driving ribbon with a predetermined gap, and a ground plate having an electrode for applying electricity to the electrode plate; 상기 구동판과 상기 접지판 사이에 간극을 유지하도록 설치된 스페이서를;A spacer provided to maintain a gap between the driving plate and the ground plate; 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 광모듈레이터 소자.Optical modulator device comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 접지판은 상기 구동판에 절연성 접착제로 고정되는 것을 특징으로 하는 광모듈레이터 소자.And the ground plate is fixed to the drive plate with an insulating adhesive. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 구동리본과, 상기 접지판이 직접 접촉하여 고착되는 것을 방지하기 위해 상기 접지판이 상기 구동리본과 접리되는 부분에 다수개 돌출 되어 형성된 고착방지돌부를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 광모듈레이터 소자.The driving modulator and the ground plate is in contact with the ground plate in order to prevent the fixing further comprises a plurality of protruding prevention protrusions formed in the ground portion is folded with the driving ribbon optical modulator device. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 구동리본은According to any one of claims 1 to 3, wherein the drive ribbon 탄성을 가지는 실리콘나이트라이드로 구성된 절연막으로 구성되며,It consists of an insulating film composed of silicon nitride having elasticity, 상기 반사막과, 상기 도전성막은 상기 절연막상에 알리미늄박 혹은 금박이 일체로 형성된 것을 특징으로 하는 광모듈레이터 소자.And the reflecting film and the conductive film are integrally formed of aluminum foil or gold foil on the insulating film. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 고정리본은 실리콘나이트라이드로 구성된 절연막으로 구성되며, 상기 반사막은 상기 절연막상에 형성된 알리미늄박 혹은 금박이며,The fixed ribbon is composed of an insulating film made of silicon nitride, the reflective film is an aluminum foil or gold foil formed on the insulating film, 상기 고정리본을 상기 접지판의 전극과 연결하기 위해 상기 고정리본의 상기 반사막이 연장되어 형성된 고정리본 접지패드를 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 광모듈레이터 소자.And a fixed ribbon ground pad formed by extending the reflective film of the fixed ribbon to connect the fixed ribbon to an electrode of the ground plate. 제5항에 있어서, 상기 고착방지돌부는The method of claim 5, wherein the anti-stick protrusions 상기 접지판상에 절연막을 형성한 후, 상기 절연막의 일부를 식각하여 형성된 다수개의 리브로 구성된 것을 특징으로 하는 광모듈레이터 소자.And forming a plurality of ribs by etching a portion of the insulating film after forming an insulating film on the ground plate. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 고정리본 접지패드를 상기 접지판의 전극과 연결하기 위해 상기 접지패드에 연결된 접지선과;A ground wire connected to the ground pad to connect the fixed ribbon ground pad to an electrode of the ground plate; 일단은 상기 접지선에 연결되며, 타단은 상기 접지판의 전극과 전기적으로 연결되는 접지패드를;A ground pad having one end connected to the ground line and the other end electrically connected to an electrode of the ground plate; 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 광모듈레이터 소자.An optical modulator device characterized in that it further comprises. 전극판을 포함하는 접지판구비단계와;A ground plate assembling step including an electrode plate; 도전성 반사막으로 형성된 구동리본과 고정리본과 상기 반사막에 빛이 도입될 수 있도록 형성된 광도입구를 포함하는 구동판을 구비하는 구동판 구비단계와;A driving plate having a driving plate including a driving ribbon and a fixed ribbon formed of a conductive reflective film, and a light introduction port formed to introduce light into the reflective film; 상기 접지판을 상기 구동판에 절연성 접착제로 고정하는 단계를;Securing the ground plate to the drive plate with an insulating adhesive; 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 광모듈레이터 소자 생산방법.Optical modulator device production method characterized in that it comprises a. 제8항에 있어서, 상기 구동판구비단계는The method of claim 8, wherein the driving plate preparing step 구동판 기판상에 제1절연막을 박막 증착하는 제1절연막증착단계와;Depositing a first insulating film on the driving plate substrate; 상기 제1절연막상에 금속 박막을 증착한 후 패터닝하여 접지패드와 상기 접지패드에 연결된 접지선을 형성하는 접지패드 접지선 형성단계와;A ground pad ground line forming step of depositing and patterning a metal thin film on the first insulating layer to form a ground pad and a ground line connected to the ground pad; 상기 접지선상에 제2절연막을 박막 증착하는 제2절연막증착단계와;A second insulating film deposition step of depositing a thin film of a second insulating film on the ground line; 상기 제2절연막의 일부를 식각하여 상기 접지선이 노출되도록 비아홀을 형성하는 비아홀 형성단계와;Forming a via hole by etching a portion of the second insulating layer to expose the ground line; 상기 제2절연막상에 반사막 및 도전성막을 형성하기 위해 금속박막증착단계와;Depositing a metal thin film to form a reflective film and a conductive film on the second insulating film; 상기 금속박막을 패터닝하여 상호 교차되어 형성된 구동리본과 고정리본과, 상기 고정리본에 연장 형성된 고정리본 접지패드와, 상기 구동리본에 연장 형성된 구동리본 전극패드를 형성하는 단계와;Patterning the metal thin film to form a driving ribbon and a fixed ribbon formed to cross each other, a fixed ribbon ground pad extending to the fixed ribbon, and a driving ribbon electrode pad extending to the driving ribbon; 상기 기판의 하면에 하면절연막을 형성하는 하면절연막 형성단계와;Forming a lower surface insulating film on the lower surface of the substrate; 상기 하면 절연막을 패터닝하여 일부 제거한 다음 상기 기판을 경사지게 이방성 식각을 하여 제1절연막이 드러나도록 광도입구를 형성하는 광도입구 형성단계와;A light inlet forming step of forming a light inlet so that the first insulating film is exposed by anisotropically etching the substrate by patterning the bottom insulating film and removing a portion thereof; 상기 광도입구 상면에 위치한 상기 제1절연막 중 상기 고정리본과 상기 구동리본이 증착된 이외의 부분을 식각하여 고정리본과 구동리본을 형성하는 리본형성단계를;A ribbon forming step of forming a fixed ribbon and a driving ribbon by etching portions of the first insulating layer on the light inlet, other than where the fixed ribbon and the driving ribbon are deposited; 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 광모듈레이터 소자 생산방법.Optical modulator device production method characterized in that it comprises a. 제9항에 있어서,The method of claim 9, 제1절연막증착단계는 상기 구동판 기판상에 실리콘 나이트라이드(SixNy) 박막을 저압화학기상증착법(LPCVD)을 사용하는 것을 특징으로 하며,In the first insulating film deposition step, a low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) method is performed on a silicon nitride (SixNy) thin film on the driving plate substrate. 상기 접지패드 접지선 형성단계는 상기 제1절연막상에 텅스텐(W) 또는 텅스텐 실리사이드(WSi)와 같은 고온용 금속 박막을 스퍼터링법으로 증착한 후 패터닝하여 상기 접지패드와 상기 접지선을 형성하는 것을 특징으로 하며,In the forming of the ground pad ground line, a high temperature metal thin film such as tungsten (W) or tungsten silicide (WSi) is deposited on the first insulating layer by sputtering and then patterned to form the ground pad and the ground line. , 상기 제2절연막증착단계는 SiO2 또는 Si3N4와 같은 절연막을 화학기상증착(CVD)법으로 증착한 후 패터닝하여 상기 접지선상에 제2절연막(220)을 형성하는 것을 특징으로 하며,In the deposition of the second insulating film, an insulating film such as SiO 2 or Si 3 N 4 is deposited by chemical vapor deposition (CVD) and then patterned to form a second insulating film 220 on the ground line. 상기 금속박막증착단계는 알루미늄(Al)또는 금(Au) 박막을 스퍼터링 방법으로 증착하는 것을 특징으로 하며,The metal thin film deposition step is characterized in that the aluminum (Al) or gold (Au) thin film is deposited by a sputtering method, 상기 하면절연막 형성단계는 실리콘 나이트라이드를 박막 증착하는 것을 특징으로 하며,The lower surface insulating film forming step is characterized in that to deposit a thin film of silicon nitride, 상기 광도입구 형성단계는 KOH용액을 식각액으로 사용하는 것을 특징으로 하며,The light inlet forming step is characterized in that using the KOH solution as an etchant, 상기 리본 형성단계는 상기 고정리본과 상기 구동리본의 상기 반사막을 하드마스크를 이용하여 상기 제1절연막의 노출된 부분을 건식 식각하여 관통되게 제거하는 것을,The ribbon forming step may include removing the reflective portions of the fixed ribbon and the driving ribbon by dry etching the exposed portions of the first insulating layer using a hard mask. 특징으로 하는 광모듈레이터 소자 생산방법.An optical modulator device production method characterized by the above-mentioned. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접지판 구비단계는The method of any one of claims 8 to 10, wherein the ground plate providing step 접지판 기판으로서 도핑된 실리콘 기판을 구비하는 단계와;Providing a doped silicon substrate as a ground plane substrate; 상기 접지판 기판의 하면에 절연막을 증착하여 접지판 하면 절연막 형성하는 단계와;Depositing an insulating film on the bottom surface of the ground plate substrate to form a ground plate bottom insulating film; 상기 접지판 하면 절연막의 하면에 막대형상으로 나란히 형성된 스페이서 형성단계와;A spacer forming step formed side by side in a bar shape on the bottom surface of the bottom surface insulating film; 상기 접지판 기판에 접지 신호를 인가하기 위하여 상기 접지판 기판의 상면에 금속을 증착하여 전극을 형성하는 전극형성단계를;Forming an electrode by depositing a metal on an upper surface of the ground plate substrate to apply a ground signal to the ground plate substrate; 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 광모듈레이터 소자 생산방법.Optical modulator device production method characterized in that it comprises a. 제11항에 있어서,The method of claim 11, 상기 접지판 하면 절연막 형성하는 단계는 실리콘 나이트라이드 박막을 저압화학기상증착법(LPCVD)으로 증착하는 것을 특징으로 하며,The forming of the insulating layer on the bottom surface of the ground plate may include depositing a silicon nitride thin film by low pressure chemical vapor deposition (LPCVD). 상기 전극형성단계는 상기 접지판 기판의 상면에 Au을 스퍼터링 방법으로 증착하는 것을 특징으로 하는 광모듈레이터 소자 생산방법.The electrode forming step of the optical modulator device production method characterized in that the deposition of Au on the upper surface of the ground plate substrate by a sputtering method.
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