KR100456186B1 - Eliminator Removing Nitrogen Oxides In Flue Gases And Method For Removing Nitrogen Oxides Thereby - Google Patents

Eliminator Removing Nitrogen Oxides In Flue Gases And Method For Removing Nitrogen Oxides Thereby Download PDF

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Abstract

본 발명은 액상(수용액), 분말 또는 슬러리를 분사하는 간단하고 편리한 단일의 공정만으로 질소산화물뿐만 아니라 염화수소 및 황산화물 등과 같은 다른 산성가스, 일산화탄소 및 다이옥신까지도 제거할 수 있는 제거제 및 이 제거제를 이용하여 배기가스 중에 포함된 질소산화물 등의 유해가스를 제거하는 방법을 제공한다. 본 발명의 제거제는 산화제 및 금속할로겐 화합물을 포함한다. 본 발명의 제거제는 제거제의 상태에 따라서 물, 무기분말 또는 물과 무기분말의 혼합 형태의 희석제를 더 포함한다. 즉, 본 발명의 제거제는 수용액, 분말 또는 슬러리의 형태를 가진다. 또한, 본 발명의 제거제는 pH의 조절을 위하여 산 또는 염기, 특히 염기, 또는 pH의 변화를 완화하기 위하여 완충용액(buffer)을 더 포함할 수 있다.The present invention uses a remover that can remove not only nitrogen oxides but also other acid gases such as hydrogen chloride and sulfur oxides, carbon monoxide and dioxins by a simple and convenient single step of spraying a liquid (aqueous solution), powder or slurry. It provides a method for removing harmful gases such as nitrogen oxide contained in the exhaust gas. The remover of the present invention includes an oxidizing agent and a metalhalogen compound. The remover of the present invention further includes a diluent in the form of water, an inorganic powder or a mixture of water and an inorganic powder, depending on the state of the remover. That is, the remover of the present invention has the form of an aqueous solution, powder or slurry. In addition, the scavenger of the present invention may further include an acid or base, particularly a base, or a buffer to mitigate the change in pH for the adjustment of pH.

Description

배기가스 중에 포함된 질소산화물을 제거하는 제거제 및 이에 의한 질소산화물 제거 방법{Eliminator Removing Nitrogen Oxides In Flue Gases And Method For Removing Nitrogen Oxides Thereby}Eliminator Removing Nitrogen Oxides In Flue Gases And Method For Removing Nitrogen Oxides Thereby

본 발명은 배기가스 중에 포함된 질소산화물, 황산화물, 염화수소 등을 동시에 제거할 수 있는 제거제 및 이에 의한 질소산화물의 제거방법에 관한 것이다. 보다 상세하게, 본 발명은 보일러, 발전소, 소각로 등 각종 연소시설로부터 배출되는 배기가스 중에 포함된 질소산화물, 염화수소 및 황산화물 등과 같은 산성가스, 일산화탄소 및 다이옥신을 포함하는 방향족 할로겐화물을 제거하는 제거제 및 이 제거제를 이용하여 배기가스 중에 포함된 이 유해가스들을 제거하는 방법을 제공한다. 본 발명의 제거제는 배기가스로부터 질소산화물뿐만 아니라 다른 유해가스를 동시에 제거할 수 있으며, 또한 본 발명의 제거제를 사용하여 간단한 방법으로 배기가스로부터 질소산화물 등과 같은 유해가스를 제거할 수 있다.The present invention relates to a removing agent capable of simultaneously removing nitrogen oxides, sulfur oxides, hydrogen chloride, and the like contained in the exhaust gas, and a method for removing nitrogen oxides thereby. More specifically, the present invention is a removal agent for removing aromatic halides including acidic gases such as nitrogen oxides, hydrogen chloride and sulfur oxides, carbon monoxide and dioxins contained in the exhaust gas discharged from various combustion facilities such as boilers, power plants, incinerators, and the like; This removal agent is used to provide a method for removing these harmful gases contained in the exhaust gas. The remover of the present invention can remove not only nitrogen oxides but also other harmful gases from the exhaust gas at the same time, and can also remove harmful gases such as nitrogen oxides from the exhaust gas by a simple method using the remover of the present invention.

배기가스중 질소산화물을 제거하기 위한 종래의 기술로는 선택적 촉매환원법(SCR)이 가장 대표적이다. 선택적 촉매환원법은 일반적으로 백금, 팔라듐, 로듐 등의 귀금속 물질 또는 바나듐, 철, 코발트, 구리, 등의 기타 전이금속 물질을 이산화티탄, 산화바나튬, 알루미나, 제올라이트 등에 반응시켜 제조한 촉매를 내구성이 강한 벌집(Honeycomb)형 코디에라이트(Cordierite) 등의 기질에 결합 시켜 반응탑에 여러 단으로 적재하거나 입자상으로 만들어 반응탑에 충진한 후, 암모니아 내지는 암모니아수를 환원제로서 이용하여 고온으로 가열된 촉매에 분사하여 질소산화물만을 선택적으로 환원시켜 질소가스로 바꾸는 것이다. 그러나 이 SCR법은 다음과 같은 문제점이 있다. 즉, 촉매탑을 설치하여야 하므로 많은 투자비가 소요되고, 배기가스의 온도가 200℃-300℃ 이상이어야 반응을 하므로 배기가스를 별도로 가열하기 위한 시설이 필요하다. 또한, 추가적인 암모니아(수)의 저장 및 주입 설비가 필요할 뿐만 아니라, 과잉 또는 미반응 암모니아 가스를 제거하기 위한 별도의 보완설비가 필요하다. 또한, 입자상 촉매를 충진하여 사용하는 경우 배기가스의 압력손실이 매우 크며, 벌집형의 촉매를 적층하여 사용하는 경우 먼지등에 의해 벌집구조가 파괴되어 촉매의 수명이 저하된다.Selective catalytic reduction (SCR) is the most representative technique for removing nitrogen oxides from exhaust gas. The selective catalytic reduction method generally makes the catalyst prepared by reacting precious metal materials such as platinum, palladium, rhodium, or other transition metal materials such as vanadium, iron, cobalt, copper, etc. with titanium dioxide, vanadium oxide, alumina, zeolite, etc. Combined with a substrate such as a strong honeycomb type Cordierrite and loaded into the reaction column in multiple stages or granulated to fill the reaction column, and then ammonia or ammonia water is used as a reducing agent to the catalyst heated to high temperature. By spraying, only nitrogen oxide is selectively reduced to change to nitrogen gas. However, this SCR method has the following problems. That is, a large amount of investment is required because a catalyst tower must be installed, and the reaction gas requires a facility for heating the exhaust gas separately because the temperature of the exhaust gas is 200 ° C.-300 ° C. or higher. In addition, additional storage and injection equipment for ammonia (water) is required, as well as a separate complement to remove excess or unreacted ammonia gas. In addition, when the particulate catalyst is packed and used, the pressure loss of the exhaust gas is very large, and when the honeycomb catalyst is laminated, the honeycomb structure is destroyed by dust and the like and the life of the catalyst is reduced.

한편, 선택적무촉매환원법 (SNCR)은 연소 부위에 직접 암모니아나 암모니아 내지는 우레아 용액을 분사하여 질소 산화물을 환원하는 것인데, 다음과 같은 문제점이 있다. 즉, 암모니아를 분사시켜 고온의 배기가스와 완전하게 혼합시키는 데 어려움이 있고, 온도를 적절하게 제어하기가 어렵다 (온도가 너무 낮으면 미반응 암모니아가 배출되고, 온도가 너무 높으면 NH3가 NO로 산화된다). 그리고, 질소산화물의 제거율에 한계가 있다 (대체로 60%가 한계선임).On the other hand, the selective non-catalytic reduction method (SNCR) is to inject ammonia or ammonia or urea solution directly to the combustion site to reduce the nitrogen oxide, there are the following problems. In other words, it is difficult to inject ammonia completely and mix it with the hot exhaust gas, and it is difficult to control the temperature properly. (If the temperature is too low, unreacted ammonia is discharged. If the temperature is too high, NH 3 becomes NO. Oxidized). In addition, there is a limit to the removal rate of nitrogen oxides (typically 60% is the limit line).

한편, 산화제를 이용하여 질소산화물 제거하기 위한 종래 기술로서 대한민국 특허출원 제1998-0027843호는 도 1에 개략적으로 도시한 바와 같이, 세 단계로 이루어진 공정을 제안하고 있다. 즉, 제1반응탑(제1살수탑)에 산화제인 NaClO2를 분사하여 NO를 NO2로 산화시키고 (산화단계), 제1반응탑에서 유입된 NO2가스를 제2반응탑(제2살수탑)에서 환원제인 Na2S를 분사하여 NO2를 N2로 환원시키며 (환원단계), 제3반응탑(제3살수탑)에서 산화환원반응이 종결된 가스를 중화시키기 위해 NaOH를 투입한다 (중화단계).Meanwhile, as a prior art for removing nitrogen oxides using an oxidant, Korean Patent Application No. 1998-0027843 proposes a three-step process, as schematically shown in FIG. 1. That is, NOCl is oxidized to NO 2 by injecting NaClO 2 as an oxidizing agent to the first reaction tower (first water tower), and the NO 2 gas introduced from the first reaction tower is converted into a second reaction tower (second). Na 2 S, which is a reducing agent, was sprayed in the spraying tower to reduce NO 2 to N 2 (reduction step), and NaOH was added to neutralize the gas in which the redox reaction was terminated in the third reaction tower (third spraying tower). (Neutralization stage).

그러나, 이 방법은 기존의 단일 반응탑을 이용한 습식 알칼리 세정방식에 비해 공정 구성이 복잡하며, 효과적으로 NO 가스를 제거하기 위해선 산화제인 NaClO2농도가 높아야 되므로 경제성이 떨어지는 문제가 있다. 또한, 제1반응탑에서 산화제인 NaClO2에 황산을 첨가하는 공정은 용액의 pH를 낮추어서 산화제 용액이 배기가스에 포함되어 있는 산성가스를 중화시키는 능력을 떨어뜨리는 문제점을 안고 있다. 또한, 산화제에 의한 NO 제거 효율을 높이기 위해 제1반응탑 전단에 산화촉매기를 설치하여 산화효율을 높이는 공정은 배기가스를 승온시키기 위해 추가적인 에너지 비용이 소요될 뿐만 아니라 고가의 촉매비용으로 인한 경제성이 떨어지는 문제가 있다.However, this method has a complicated process configuration compared to the conventional wet alkali scrubbing method using a single reaction column, and in order to effectively remove NO gas, the concentration of NaClO 2, which is an oxidizing agent, needs to be high. In addition, the process of adding sulfuric acid to NaClO 2 as an oxidant in the first reaction column has a problem of lowering the pH of the solution, thereby lowering the ability to neutralize the acid gas contained in the exhaust gas. In addition, the process of increasing the oxidation efficiency by installing an oxidation catalyst in front of the first reaction tower to increase the NO removal efficiency by the oxidant not only requires additional energy cost to raise the exhaust gas but also lowers the economic efficiency due to the expensive catalyst cost. there is a problem.

산화제를 사용한 다른 기술 (특허출원 1995-702056)에서도 질소산화물 및 황산화물을 동시에 제거하기 위하여 산화제를 이용한 산화공정과 함께 환원공정과 중화공정을 조합해서 사용하는 방법을 사용하므로 상기의 기술(특허출원 1998-0027843)에서처럼 복잡한 공정의 구성에 따른 경제성 문제, 산화제의 농도가 낮을 때의 효율 저하로 약품 비용이 증가하는 문제점이 있다.The other technique using an oxidant (Patent application 1995-702056) also uses a combination of a reduction process and a neutralization process together with an oxidation process using an oxidant to simultaneously remove nitrogen oxides and sulfur oxides. As in 1998-0027843), there is a problem in that the cost of the drug is increased due to the economical efficiency due to the configuration of a complex process, the efficiency decrease when the concentration of the oxidant is low.

한편, 다이옥신을 포함하는 방향족 할로겐화합물 제거기술의 경우에는 고압방전시설, 플라즈마, 산화촉매탑 등을 이용하여 분해하는 기술이 개발되고 있으나 모두 높은 설치비 및 유지비와 운전기술 및 효율의 문제를 안고 있어 국내의 경우 활성탄을 이용하여 흡착하는 방법을 추가하여 많이 사용하고 있다.On the other hand, in the case of the aromatic halogen compound removal technology including dioxin, a technology for decomposing using a high-pressure discharge facility, a plasma, an oxidation catalyst tower, etc. has been developed, but all have high installation cost, maintenance cost, operation technology, and efficiency. In the case of using activated carbon to add a lot of adsorption.

따라서, 본 발명의 목적은 액상(수용액), 분말 또는 슬러리를 분사하는 간단하고 편리한 단일의 공정만으로 질소산화물뿐만 아니라 염화수소 및 황산화물 등과 같은 다른 산성가스, 일산화탄소 및 다이옥신까지도 제거할 수 있는 제거제 및 이제거제를 이용하여 배기가스 중에 포함된 질소산화물 등의 유해가스를 제거하는 방법을 제공하는 것이다.Accordingly, it is an object of the present invention to remove nitrogen oxides as well as other acid gases, such as hydrogen chloride and sulfur oxides, carbon monoxide and dioxins, in a simple and convenient single process of spraying liquid (aqueous solutions), powders or slurries, and now It is to provide a method for removing harmful gases such as nitrogen oxides contained in the exhaust gas using a geoagent.

또한, 본 발명의 목적은 기존의 산화제를 이용하여 배기가스 중에 포함된 질소산화물을 제거하는 공정에 비해 공정이 간단하면서도 산화효율이 향상되어 고가의 산화제의 사용량을 줄여서 비용을 절감시킬 뿐만 아니라, 거의 모든 pH 구간에서도 산화력 및 질소산화물의 흡수력이 뛰어난 제품(배기가스 중의 질소산화물 제거제)을 제공하는 것이다. 이러한 제거제는 적용 pH에 대한 제약을 크게 받지 않으므로 적용분야에 대한 유연성이 매우 높다.In addition, the object of the present invention is to simplify the process compared to the process of removing nitrogen oxides contained in the exhaust gas by using an existing oxidant, but the oxidation efficiency is improved, reducing the amount of expensive oxidants and reducing costs, It is to provide a product (nitrogen oxide remover in exhaust gas) with excellent oxidation and absorption ability of nitrogen oxides in all pH ranges. These removers are not very constrained by the applied pH and therefore have very high flexibility for the application.

또한, 본 발명의 목적은 고가의 촉매탑이나 배기가스 승온비용 (에너지 비용)을 들이지 않고도 효과적으로 배기가스로부터 질소산화물을 제거할 수 있는 제거제 및 이를 이용한 제거방법을 제공하는 것이다.It is also an object of the present invention to provide a remover capable of effectively removing nitrogen oxides from exhaust gas without incurring expensive catalyst towers or exhaust gas heating costs (energy costs) and a removal method using the same.

또한, 본 발명의 목적은 기존의 습식, (반)건식의 알카리 흡수탑이나 백필터, 전기집진기, 싸이클론 등의 공정을 그대로 이용하므로 추가공정이 필요 없는 적용성이 뛰어난 기술을 제공하는 것이다.In addition, an object of the present invention is to provide an excellent application technology that does not require additional processes because the existing wet, (semi) dry alkali absorption tower, bag filter, electrostatic precipitator, cyclone or the like process is used as it is.

또한, 본 발명의 목적은 상온에서부터 500℃의 고온까지의 넓은 온도 범위에서 적용이 가능한 배기가스 중의 질소산화물을 제거하는 제거제를 제공하는 것이다.It is also an object of the present invention to provide a remover for removing nitrogen oxides in the exhaust gas applicable in a wide temperature range from room temperature to a high temperature of 500 ℃.

본 발명의 다른 목적 및 이점은 본 발명의 상세한 설명 및 구체적인 실시예로부터 충분히 이해될 것이다.Other objects and advantages of the invention will be fully understood from the description and the specific examples thereof.

도 1은 종래기술에 따른 배기가스 중의 질소산화물을 처리하기 위한 공정의 개략도를 나타낸 것이다.1 shows a schematic diagram of a process for treating nitrogen oxides in exhaust gases according to the prior art.

도 2는 본 발명에 따른 액상 또는 저농도 슬러리 형태의 제거제를 적용하는 공정의 개념도를 나타낸다.2 shows a conceptual diagram of a process for applying a remover in the form of a liquid or low concentration slurry according to the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 분말 또는 슬러리 형태의 제거제를 적용하는 공정의 개념도를 나타낸다.3 shows a conceptual diagram of a process for applying a remover in powder or slurry form according to the invention.

도 4는 본 발명의 액상, 슬러리 및 분말 형태의 제거제의 성능을 평가하기 위한 장치의 개념도를 나타낸다.4 shows a conceptual diagram of an apparatus for evaluating the performance of the remover in liquid, slurry and powder form of the present invention.

본 발명은 배기가스 중에 포함된 질소산화물, 황산화물, 및 염화수소와 같은 산성가스, 일산화탄소 및 다이옥신을 포함하는 방향족 할로겐화물을, 특히 질소산화물을 제거할 수 있는 제거제를 제공한다. 본 발명의 제거제는 산화제 및 금속할로겐 화합물을 포함한다. 본 발명의 제거제는 제거제의 상태에 따라서 배기가스로부터 질소산화물 등을 제거하기 위하여 분사할 수 있다면 산화제 및 금속할로겐 화합물만을 가질 수 있으나 통상적으로는 희석제를 더 포함하며, 희석제는 물, 무기분말 또는 물과 무기분말의 혼합 형태이다. 따라서, 본 발명의 제거제는 수용액, 분말 또는 슬러리의 형태를 가진다.The present invention provides an aromatic halide including nitrogen oxides, sulfur oxides, and acid gases such as hydrogen chloride, carbon monoxide and dioxins contained in the exhaust gas, in particular, a removal agent capable of removing nitrogen oxides. The remover of the present invention includes an oxidizing agent and a metalhalogen compound. If the remover of the present invention can be injected to remove nitrogen oxides from the exhaust gas according to the state of the remover, it may have only an oxidizing agent and a metal halogen compound, but usually further includes a diluent, and the diluent is water, inorganic powder or water. And a mixture of inorganic powders. Thus, the remover of the present invention has the form of an aqueous solution, powder or slurry.

본 발명의 제거제에서, 산화제의 양은 0.02 중량% 이상이고, 금속할로겐 화합물의 양은 산화제의 0.5 ∼ 40 중량% 범위일 수 있다.In the remover of the present invention, the amount of the oxidant is at least 0.02% by weight, and the amount of the metalhalogen compound may range from 0.5 to 40% by weight of the oxidant.

또한, 본 발명의 제거제는 pH의 조절을 위하여 산 또는 염기, 특히 염기, 또는 pH의 변화를 완화하기 위하여 완충용액(buffer)을 더 포함할 수 있다. 통상적으로 pH는 2~14의 범위, 바람직하게는 4~14의 범위 내에서 조절되는 것이 좋다.In addition, the scavenger of the present invention may further include an acid or base, particularly a base, or a buffer to mitigate the change in pH for the adjustment of pH. Usually pH is adjusted in the range of 2-14, Preferably it is 4-14.

또한, 본 발명은 상기와 같은 제거제를 사용하여 배기가스로부터 질소산화물 등의 유해가스를 제거하는 방법을 제공한다. 본 발명의 제거방법은 제거제가 액상(수용액)인 경우에, 질소산화물 등을 포함하는 배기가스를 습식 스크루버(scrubber)인입시키는 단계, 상기와 같은 액상 제거제를 습식 스크루버에서 인입되는 배기가스에 분사시킴으로써 배기가스 중에 포함된 질소산화물 등을 산화시켜 액상 제거제에 질소산화물 등을 안정한 형태로 흡수시키는 단계, 및 질소산화물 등이 제거된 배기가스를 배출시킴과 아울러 질소산화물 등을 흡수한 액상 제거제를 습식 스크루버로부터 회수하는 단계를 포함한다. 추가적으로 습식 스크루버에서 배기가스 중에 포함된 질소산화물 등을 흡수한 액상 제거제를 환원제로 처리하여 질소산화물(NOx) 가스를 질소(N2)로 환원시킬 수도 있다.In addition, the present invention provides a method for removing harmful gases such as nitrogen oxides from the exhaust gas by using the above remover. In the removal method of the present invention, when the removal agent is a liquid (aqueous solution), introducing an exhaust gas containing nitrogen oxide or the like into a wet scrubber, and the liquid removal agent as described above is introduced into the exhaust gas introduced from the wet scrubber. The step of oxidizing nitrogen oxides contained in the exhaust gas by spraying to absorb nitrogen oxides in a stable form into the liquid remover, and exhausting the exhaust gas from which nitrogen oxides are removed, and absorbing the nitrogen oxides. Recovering from the wet scrubber. In addition, the liquid scrubbing agent absorbing nitrogen oxides contained in the exhaust gas in a wet scrubber may be treated with a reducing agent to reduce nitrogen oxide (NO x ) gas to nitrogen (N 2 ).

또한, 본 발명의 배기가스로부터 질소산화물 등을 제거하는 방법은 상기의 제거제가 분말 또는 슬러리 형태인 경우에, 질소산화물을 포함하는 배기가스를 (반)건식 반응기, 백필터, 건식 또는 습식 전기집진기 또는 싸이클론을 통과시키는 단계, 분말 상태의 제거제 또는 슬러리 상태의 제거제를 또는 무기물 분말과 액상제거제를 다른 노즐을 통하여 동시에 (반)건식 반응기, (반)건식 반응기의 전단, 백필터의 전단, 건식 또는 습식 전기집진기의 전단 또는 싸이클론의 전단에 분사시킴으로써 배기가스 중의 질소산화물 등을 산화시켜 상기의 제거제에 질소산화물 등을 안정한 형태로 흡수 또는 흡착시키는 단계, 및 질소산화물 등이 제거된 배기가스를 배출함과 아울러 질소산화물 등을 흡수 또는 흡착한 제거제를 회수하는 단계를 포함한다.In addition, the method for removing nitrogen oxides and the like from the exhaust gas of the present invention is a (semi) dry reactor, bag filter, dry or wet electrostatic precipitator when the exhaust gas containing nitrogen oxide when the remover is in the form of powder or slurry. Or through a cyclone, powder or slurry remover, or inorganic powder and liquid remover simultaneously through different nozzles (semi) dry reactor, (semi) dry reactor shear, bag filter shear, dry Or oxidizing nitrogen oxides in the exhaust gas by injecting them at the front end of the wet electrostatic precipitator or the cyclone to absorb or adsorb nitrogen oxides in a stable form to the remover, and exhaust gas from which nitrogen oxides are removed. In addition to the discharge, and recovering the adsorbent that absorbed or adsorbed nitrogen oxides and the like.

이하에서는 본 발명을 보다 상세하게 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명의 목적을 달성하기 위하여, 본 발명자는 별도로 고가의 설비와 운영비가 요구되는 촉매탑을 사용하지 않고, 기존 배기가스 처리설비에 공통적으로 설치되어 있는 최소한의 공정을 이용하여 효율이 높으면서도 저렴한 비용으로 배기가스중의 질소산화물을 환원하는 방법을 모색하던 중, 거의 모든 연소 시설의 배기가스 처리시설에 황산화물 제거를 위한 습식, 반건식, 또는 건식반응기와 같은 알카리 흡수 설비와 미세입자 제거를 위한 집진설비가 있다는 점에 착안하여, 배기가스 스트림에 분사하는 간단한 방법으로 질소산화물, 염화수소 및 황산화물 등의 산성가스 및 일산화탄소를 제거함과 동시에 방향족 할로겐화합물 등을 제거할 수 있는 제거제 및 이 제거제를 이용한 질소산화물 등의 유해가스를 제거하는 방법을 개발하였다.In order to achieve the object of the present invention, the present inventors use high efficiency and low cost by using a minimal process that is commonly installed in the existing exhaust gas treatment facility, without using a catalyst tower requiring a separate expensive facility and operation cost. While exploring ways to reduce nitrogen oxides in exhaust gases at a cost, almost all combustion plant exhaust gases have been used for the removal of fine particles and alkali absorption systems such as wet, semi-dry or dry reactors for the removal of sulfur oxides. In view of the fact that there is a dust collection system, a simple method of spraying the exhaust gas stream is used to remove acidic gases such as nitrogen oxides, hydrogen chloride and sulfur oxides and carbon monoxide, and to remove aromatic halogen compounds and the like. A method for removing noxious gases such as nitrogen oxides has been developed.

본 발명은 산화제 및 금속할로겐 화합물을 포함하는 질소산화물 등의 제거제 (흡수 안정화제)를 다양한 형태, 즉 액상, 슬러리 및 분말 형태로 제조하고 이것을 간단하게 단일의 공정에서 적용하여 질소산화물, 황산화물 및 염화수소 등의 산성가스, 일산화탄소 및 다이옥신의 방향족 할로겐화합물을 동시에 제거하는 하는 것이다.The present invention prepares scavengers (absorption stabilizers), such as nitrogen oxides, including oxidizing agents and metal halide compounds in various forms, i.e., liquid, slurry and powder forms and simply applies them in a single process to provide nitrogen oxides, sulfur oxides and This is to simultaneously remove aromatic halogen compounds of acidic gases such as hydrogen chloride, carbon monoxide and dioxins.

본 발명에서는 먼저 산화제와 금속할로겐 화합물 (MX)을 물에 혼합하여 액상 혼합물을 제조한다. 이때, 산화제는 0.02 중량% 이상, 금속할로겐 화합물은 0.0002 중량% 이상을 혼합하는 것이 바람직하다. 그러나, 산화제 및 금속할로겐 화합물의 첨가량의 상한은 본 발명의 제거제가 배기가스 중의 유해가스를 제거하기 위하여 분사할 수 있는 정도라면 특별히 제한되지 않지만, 통상적으로는 산화제는 0.02-40 중량%의 범위의 양을, 금속할로겐 화합물은 산화제 대비 1 ∼ 40 중량%의 범위의 양을 첨가할 수 있다.In the present invention, first, an oxidizing agent and a metal halogen compound (MX) are mixed with water to prepare a liquid mixture. At this time, the oxidizing agent is preferably at least 0.02% by weight, and the metal halide compound is mixed at least 0.0002% by weight. However, the upper limit of the addition amount of the oxidizing agent and the metal halide compound is not particularly limited as long as the remover of the present invention can be injected to remove harmful gas in the exhaust gas, but the oxidizing agent is usually in the range of 0.02-40% by weight. The amount of the metal halide compound may be added in an amount ranging from 1 to 40% by weight relative to the oxidizing agent.

본 발명의 제거제에 첨가되는 산화제로는 염소산 또는 그의 염, 차염소산 또는 그의 염, 차아염소산 또는 그의 염, 또는 그 밖의 강산화제를 사용할 수 있다.예를 들면, NaClO, NaClO2, NaClO3, KBrO3, KClO3, Ca(ClO)2, KMnO4등을 들 수 있으며, 이러한 산화제들 중 1종 또는 2종 이상을 함께 사용할 수 있다.As the oxidizing agent added to the remover of the present invention, chloric acid or salt thereof, hypochloric acid or salt thereof, hypochlorous acid or salt thereof, or other strong oxidizing agent can be used. For example, NaClO, NaClO 2 , NaClO 3 , KBrO. 3 , KClO 3 , Ca (ClO) 2 , KMnO 4 , and the like, and one or two or more of these oxidants may be used together.

본 발명의 제거제에 첨가되는 금속할로겐화합물 (MX)에서 M은 알칼리금속, 알칼리토금속 및 전이금속을 포함한다. 예를 들면, Li, Na, K, Be, Mg, Ca, Ba, Sr, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn 등을 들 수 있다. 그리고 X는 할로겐 원소로서, F, Cl, Br, 및 I를 포함한다. 이러한 금속할로겐 화합물은 1종 또는 2종 이상을 함께 사용할 수 있다.In the metal halide compound (MX) added to the remover of the present invention, M includes alkali metal, alkaline earth metal and transition metal. For example, Li, Na, K, Be, Mg, Ca, Ba, Sr, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn and the like can be mentioned. And X is a halogen element, and includes F, Cl, Br, and I. These metal halogen compounds can be used together 1 type (s) or 2 or more types.

이러한 액상 혼합물은 그 자체로 사용할 수 있으며, 경우에 따라서는 상기의 조성비를 만족하는 범위 내에서 희석하여 사용할 수 있다. 또한, 액상 혼합물에는 적용 공정에 따라 필요한 경우에는, 염기 또는 완충용액이 더 첨가될 수 있다. 이러한 염기 또는 완충용액으로는 통상적으로 사용하는 것을 사용할 수 있으며, 예를 들어, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘, 탄산나트륨, 탄산수소나트륨, 중탄산나트륨, 붕산과 그의 염, 포름산과 그의 염, 프탈산과 그의 염, 락트산과 그의 염, 말산과 그의 염, 타르타르산과 그의 염, 글리콜산과 그의 염, 숙신산과 그의 염, 옥살산과 그의 염, 인산과 그의 염, 초산과 그의 염, 시트르산과 그의 염 등을 들 수 있다. 이러한 염기 또는 완충용액은 필요에 따라 1종 또는 2종 이상을 함께 사용할 수 있다.Such liquid mixture may be used by itself, and in some cases, may be diluted and used within a range satisfying the above composition ratio. In addition, a base or buffer solution may be further added to the liquid mixture, if necessary according to the application process. As such a base or a buffer solution, those commonly used may be used, for example, sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, sodium carbonate, sodium bicarbonate, sodium bicarbonate, boric acid and its salts, formic acid and its salts, phthalic acid and its Salts, lactic acid and its salts, malic acid and its salts, tartaric acid and its salts, glycolic acid and its salts, succinic acid and its salts, oxalic acid and its salts, phosphoric acid and its salts, acetic acid and its salts, citric acid and its salts, and the like. have. These bases or buffers may be used together with one kind or two or more kinds as necessary.

다음으로, 본 발명의 제거제는 분말 형태로 제조될 수 있다. 본 발명의 제거제를 분말 형태로 제조하기 위해서는, 상기에서 액상 혼합물 형태로 제조한제거제, 즉 산화제 및 금속할로겐 화합물을 포함하고 필요에 따라 염기 또는 완충용액을 포함하는 수용성 액상 혼합물에 무기 분말을 첨가하여 상기의 성분들이 무기 분말에 균일하게 담지되게 한다. 그런 후, 200℃ 이하의 온도, 바람직하게는 20~180℃의 온도 범위에서 증발 건조, 감압 건조 또는 진공 건조하여 분말 형태의 제거제를 얻는다.Next, the remover of the present invention may be prepared in powder form. In order to prepare the remover of the present invention in powder form, the inorganic powder is added to the water-soluble liquid mixture containing the remover prepared in the form of a liquid mixture, that is, an oxidizing agent and a metal halide compound and, if necessary, a base or a buffer solution. The above ingredients are uniformly supported on the inorganic powder. Thereafter, evaporative drying, reduced pressure drying or vacuum drying is carried out at a temperature of 200 ° C. or lower, preferably 20 to 180 ° C., to obtain a powder form remover.

따라서, 액상 혼합물 형태의 본 발명의 제거제에서는 물이 용매로 사용되는 반면에, 분말 형태의 본 발명의 제거제에서는 무기 분말이 담체로 사용된다. 이러한 용매와 담체는 대상 성분을 용해 또는 담지시키는 역할 이외에 대상 성분의 농도를 묽게 한다는 측면에서 희석제의 역할을 한다고 할 수 있다. 따라서, 본 발명에서는 희석제라는 용어를 본 발명에서 사용되는 용매(물) 및 무기 분말 담체를 포괄하는 의미로 사용된다.Thus, water is used as solvent in the remover of the present invention in the form of a liquid mixture, while inorganic powder is used as the carrier in the remover of the present invention in powder form. Such a solvent and a carrier may serve as a diluent in terms of diluting the concentration of the target component in addition to dissolving or supporting the target component. Therefore, in the present invention, the term diluent is used to encompass the solvent (water) and inorganic powder carrier used in the present invention.

본 발명에서 사용할 수 있는 무기 분말은 예를 들어, CaCO3, CaO, Ca(OH)2, CaCl2, 천연 또는 인공 벤토나이트, 활성알루미나, 활성실리카, 비산재, 슬래그, 이산화티탄, 점토, 화산재, 천연 또는 인공 제올라이트, 활성탄, 펄라이트 (Perlite), 난석 분말을 포함하며, 이러한 무기 분말은 1종 또는 2종 이상 함께 사용될 수 있다.Inorganic powders that can be used in the present invention are, for example, CaCO 3 , CaO, Ca (OH) 2 , CaCl 2 , natural or artificial bentonite, activated alumina, activated silica, fly ash, slag, titanium dioxide, clay, volcanic ash, natural Or artificial zeolite, activated carbon, perlite, or turbulent powder, and these inorganic powders may be used together with one kind or two or more kinds.

또한, 본 발명의 제거제를 슬러리 형태로 제조할 수 있다. 슬러리 형태의 제거제는 액상 형태의 제거제에 적당량의 무기 분말을 분산시킴으로써 제조될 수 있다. 본 발명의 슬러리 형태의 제거제에서는 고형분이 0.5~50 중량%의 범위로 되도록 하는 것이 바람직하다. 또한, 상기의 슬러리 제품은 보관 또는 운반시 침전되어 딱딱하게 굳거나 서로 결합하여 사용시 분산성이 떨어질 수 있는 데, 이러한 문제점은 분말의 특성에 맞는 고분자 분산제를 첨가하여 슬러리의 분산성을 더욱 향상시킬 수 있다.In addition, the remover of the present invention may be prepared in the form of a slurry. Slurries in the form of slurries can be prepared by dispersing an appropriate amount of inorganic powder in the form of scavenger. In the slurry form remover of the present invention, the solid content is preferably in the range of 0.5 to 50% by weight. In addition, the above slurry products may be precipitated during storage or transport to harden or bind to each other to reduce the dispersibility when used, this problem is to improve the dispersibility of the slurry by adding a polymer dispersant suitable for the characteristics of the powder Can be.

본 발명에서 명시된 산화제와 염기 또는 완충용액만으로된 산화제 수용액도 pH 4 근처의 산성영역과 고농도 영역에서 질소산화물을 제거하는 활성을 어느 정도 보이지만, 금속할로겐화합물을 첨가할 경우 그 활성과 활성 지속시간이 크게 높아진다. 산화제 및 금속할로겐 화합물을 포함하는 본 발명의 제거제는 특히, 0.1 중량% 미만의 저농도에서도 산화제를 단독으로 사용할 경우에서는 나타나지 않는 우수한 NOx제거 효율을 나타낸다. 이것은 상기의 금속할로겐화합물이 촉매작용을 하여 산화능력을 증대시키는 것에 기인하는 것으로 판단된다.Although the oxidizing agent solution composed of only the oxidizing agent and the base or the buffer solution specified in the present invention shows some degree of activity to remove nitrogen oxides in the acidic region and the high concentration region near pH 4, the activity and duration of activity are increased when the metal halide compound is added. It is greatly increased. The remover of the present invention comprising an oxidant and a metalhalogen compound exhibits good NO x removal efficiencies that do not appear, especially when the oxidant alone is used, even at low concentrations of less than 0.1% by weight. This is considered to be due to the above-mentioned metal halide compound acting as a catalyst to increase the oxidation capacity.

본 발명의 제거제에서의 염기 또는 완충용액의 사용은 염화수소나 SOx등의 산성가스를 포함하는 배기가스에 의해서 반응액이 급속히 낮은 pH 영역으로 감에 따라 산성가스 흡수, 제거 능력 저하와 산화제가 급속히 분해됨에 따른 산화제 소모가 촉진되는 것을 방지한다.The use of a base or a buffer solution in the remover of the present invention is such that as the reaction solution moves rapidly to a low pH region by an exhaust gas containing an acid gas such as hydrogen chloride or SO x , acid gas absorption and removal ability decrease rapidly and the oxidant rapidly increases. It prevents the oxidant consumption from being accelerated as it is decomposed.

본 발명은 기존에 알려진 산화제를 사용하여 배기가스 중의 질소산화물과 산성가스를 제거하는 방법 (대한민국 특허출원 제1998-0027843호)과는 공정 상에서 많은 차이가 있다.The present invention has many differences in the process from the method of removing nitrogen oxides and acid gases in the exhaust gas using known oxidants (Korean Patent Application No. 1998-0027843).

기존의 공정은 먼저 1차 산화공정에서 산화제 용액을 사용하여 NO를 NO2로바꾼 후, 가스 상태로 2차 환원공정으로 보내서 환원제 용액을 사용하여 NO2를 N2로 환원시키고, 배기가스에 남아 있는 산성가스는 3차 중화공정에서 알칼리를 사용하여 흡수시키는 복잡한 공정을 사용하고 있다. 이에 반하여, 본 발명은 산화능력 및 흡수능력이 증대된 제거제를 사용하여 단일 공정에서 NO를 NO2로 바꾼 후, 액상 또는 분말상의 제거제에 흡착, 안정화시키고, 동시에 산성가스도 액상 또는 분말상의 제거제에 흡착, 안정화시키는 것이다.The existing process first converts NO into NO 2 using an oxidant solution in the first oxidation process, then sends it to the secondary reduction process in gaseous state to reduce NO 2 to N 2 using a reducing agent solution, and remains in the exhaust gas. The acidic gas present is using a complex process of absorbing with alkali in the tertiary neutralization process. On the contrary, the present invention converts NO into NO 2 in a single process using an oxidizer and an absorbent having an increased ability to absorb, and then adsorbs and stabilizes the liquid or powdered remover, and at the same time, acidic gas is applied to the liquid or powdered remover. Adsorption and stabilization.

다시 말하면, 기존 공정에서는 산화제 용액이 NO를 NO2로 산화는 시키지만 산화제 용액이 NO2가스를 용해시키는 능력은 떨어지기 때문에, 용액 속으로 흡수되어 안정화되기 보다는 배기 가스 중으로 대부분의 NO2가 다시 혼합되는 문제점을 가지고 있다. 그래서 2차적인 환원공정이 추가적으로 필요하게 된다. 또한 높은 pH 영역에선 산화능력이 떨어지기 때문에 3차적으로 강알카리를 사용하는 중화공정을 환원공정 후단에 추가하여 산성가스를 제거하는 방법을 사용하였다. 따라서, 본 발명자는 이러한 종래 기술의 한계점을 인식하고, 배기가스 중에 포함된 질소산화물 및 산성가스를 단일의 공정에서 효율적으로 제거하기 위하여, NO를 산화시키는 능력과 NO2및 다른 산성가스를 흡수(또는 용해) 및 안정화시키는 능력이 우수한 물질 또는 조성물, 바람직하게는, 그러한 능력이 넓은 pH 범위에서 발휘될 수 있는 물질 또는 조성물을 얻고자 노력하였다. 그 결과, 통상적으로 사용되는 산화제에 금속할로겐화합물을 혼합하여 액상 형태, 분말상 형태 또는 슬러리 형태의 제거제를 제조함으로써 산화제의 산화능력이 극대화되고, 산성 영역 및 알칼리 영역을 포함한 거의 모든 pH 영역에서 배기가스 중의 질소산화물 등에 대하여 높은 반응성을 발휘할 수 있는 본 발명의 제거제를 얻을 수 있었다.In other words, in the existing process, the oxidant solution oxidizes NO to NO 2 , but the oxidant solution has a poor ability to dissolve NO 2 gas, so most of the NO 2 is mixed back into the exhaust gas rather than absorbed into the solution and stabilized. I have a problem. Thus, a secondary reduction process is additionally needed. In addition, in the high pH region, since the oxidation capacity is lowered, a neutralization process using strong alkali is added to the end of the reduction process to remove acid gas. Accordingly, the inventors have recognized the limitations of this prior art and have the ability to oxidize NO and absorb NO 2 and other acid gases in order to efficiently remove nitrogen oxides and acid gases contained in exhaust gases in a single process. Or a material or composition having a good ability to dissolve) and stabilize, preferably a material or composition that can be exerted over a wide pH range. As a result, the oxidizing ability of the oxidizing agent is maximized by mixing the metal halide compound with the oxidizing agent used in the conventional manner to prepare a remover in liquid form, powder form or slurry form, and exhaust gas in almost all pH regions including the acidic and alkaline regions. The removal agent of this invention which can exhibit high reactivity with nitrogen oxide in etc. was obtained.

본 발명의 제거제는 액상의 제품의 경우뿐만 아니라 분말 또는 슬러리 제품의 경우에도 마찬가지로 우수한 반응성을 나타낸다. 분말 또는 슬러리를 분사하여 배기가스를 처리하는 경우 10초 내외의 짧은 반응시간 동안에 배기가스를 충분히 처리할 수 있을 정도의 높은 반응성을 나타내기 위해서는 강력한 산화능력이 필수적인데, 본 발명의 제거제는 그러한 산화능력을 가지고 있다. 그리하여, 본 발명의 제거제는 분말 또는 슬러리 형태로도 우수한 반응성을 나타낼 수 있는 것이다.The remover of the present invention likewise exhibits excellent reactivity not only for liquid products but also for powder or slurry products. In the case of treating the exhaust gas by spraying powder or slurry, a strong oxidizing capacity is necessary to exhibit high reactivity enough to process the exhaust gas sufficiently for a short reaction time of about 10 seconds. Have the ability. Thus, the remover of the present invention can exhibit excellent reactivity even in powder or slurry form.

본 발명의 분말 또는 슬러리 형태의 제거제를 사용할 경우에는, 배기가스의 특성에 맞게 분말 표면의 산점(Acid Site)을 고려하여 종류를 선택하면 더욱 더 효과적인 효율을 얻을 수 있을 것이다. 그리고, 활성탄 등과 같이, 표면적이 넓고 기공이 큰 비극성 물질을 혼합해서 사용하면 질소산화물, 염화수소 및 황산화물 등의 산성가스, 일산화탄소뿐만 아니라 다이옥신까지도 효과적으로 제거할 수 있다.In the case of using the powder or slurry form remover of the present invention, if the type is selected in consideration of the acid site of the powder surface according to the characteristics of the exhaust gas it will be able to obtain more effective efficiency. In addition, when a non-polar material having a large surface area and a large pore, such as activated carbon, is mixed, it is possible to effectively remove not only acidic gases such as nitrogen oxides, hydrogen chloride and sulfur oxides, but also carbon monoxide and dioxins.

다음으로, 본 발명의 제거제를 적용하여 배기가스 중에 포함된 질소산화물, 황산화물, 염화수소 등의 산성가스, 일산화탄소 및 다이옥신을 제거하는 방법을 도면을 참조하여 설명한다.Next, a method for removing acid gases such as nitrogen oxides, sulfur oxides, hydrogen chloride, carbon monoxide and dioxins contained in the exhaust gas by applying the remover of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 2는 본 발명에 따른 액상 또는 저농도 슬러리 형태의 제거제를 적용하는 공정의 개념도를 나타내고, 도 3은 본 발명에 따른 분말 또는 슬러리 형태의 제거제를 적용하는 공정의 개념도를 나타낸다.Figure 2 shows a conceptual diagram of a process for applying a remover in the form of a liquid or low concentration slurry according to the present invention, Figure 3 shows a conceptual diagram of a process for applying a remover in the form of a powder or slurry according to the present invention.

본 발명은 고가의 촉매탑을 설치하지 않고, 연소시설의 배기가스 처리 공정에 대부분 설치되어 있는 산성가스 및 미세입자를 처리하기 위한 습식, (반)건식 알칼리 흡수탑 및 집진설비 전단에 본 발명에서 제조된 액상, 슬러리, 또는 분말 제품을 분사하여 배기가스 중의 질소산화물, SOx및 HCl 등의 산성가스, 일산화탄소 및 다이옥신을 동시에 제거할 수 있다.The present invention is not provided with an expensive catalyst tower, but in the present invention in front of the wet, (semi) dry alkali absorption tower and the dust collector for treating the acid gas and the fine particles that are mostly installed in the exhaust gas treatment process of the combustion facility. The prepared liquid, slurry, or powder product may be sprayed to simultaneously remove nitrogen oxides, acid gases such as SO x and HCl, carbon monoxide and dioxins in the exhaust gas.

먼저, 도 2를 참조하여, 본 발명에 따른 액상 또는 저농도 슬러리 형태의 제거제를 적용하는 공정을 설명한다. 통상적으로, 기존의 배기가스의 정화시설에는 황산화물 등과 같은 산성가스를 흡수, 제거하기 위하여 습식 알칼리 흡수탑을 두고 있다. 본 발명의 액상 또는 저농도 슬러리 형태의 제거제는 이러한 습식 알칼리 흡수탑 (습식 스크루버(scrubber))에 분사되어 이 습식 스크루버로 인입되는 배기가스 중의 질소산화물(NO 형태)을 NO2로 산화시키고 또한 NO2를 안정한 형태로 흡수시킨다. 이 때, 본 발명의 제거제는 동시에 황산화물 및 염화수소와 같은 다른 산성가스를 안정한 형태로 용해시킬 수 있다. 또한, 일산화탄소를 이산화탄소로 산화시킨 후 안정한 형태로 배출시킬 수 있다. 본 발명의 제거제를 적용하는 습식 스크루버는 배치(batch)식으로 운전할 수도 있고, 연속식으로 운전할 수도 있다. 배치식으로 운전할 경우에는, 본 발명의 제거제를 일정 회수만큼 순환시킨 후 폐액으로서 폐기시킨다. 연속식으로 운전할 경우에는, 본 발명의 액상 제거제는 분사된 후 스크루버의 아래쪽에 모이고, 이를 순환 펌프를 사용하여 순환시켜 스크루버의 위쪽에서 분사시킨다. 이 때, 연속적으로 순환시킴에 따라 pH의 변화, 물의 증발에 의한 손실 및 질소산화물 등의 산성가스의 농축이 발생한다. 먼저, pH의 변화에 대응하기 위하여, pH 미터를 설치하여 측정된 pH가 콘트롤러가 설정한 하한값에서 액상 제거제를 투입하고 상한값에서 액상 제거제의 투입을 중지하여 pH가 설정값 사이에서 유지되도록 한다. 물의 증발에 의한 손실을 보충하기 위하여, 그 손실량을 수위조절 스위치 (Level Switch)와 연동시켜 증발분 만큼의 보충수를 투입한다. 또한 질소산화물 등의 산성가스의 농축에 대응하기 위하여, 오버플로우(Overflow) 배관을 설치하여 일정량의 액상 제거제를 폐액으로서 순환으로부터 배출시킨다.First, referring to Figure 2, the process of applying the remover in the form of a liquid or low concentration slurry according to the present invention. In general, existing exhaust gas purification facilities have a wet alkali absorption tower to absorb and remove acid gases such as sulfur oxides. The removal agent in the form of a liquid or low concentration slurry of the present invention is injected into such a wet alkali absorption tower (wet scrubber) to oxidize nitrogen oxides (NO form) in the exhaust gas introduced into the wet scrubber to NO 2 , and Absorbs NO 2 in a stable form. At this time, the remover of the present invention can simultaneously dissolve other acid gases such as sulfur oxides and hydrogen chloride in a stable form. In addition, the carbon monoxide may be oxidized to carbon dioxide and then discharged in a stable form. The wet scrubber to which the remover of the present invention is applied may be operated in a batch manner or continuously. In the case of batch operation, the remover of the present invention is circulated for a predetermined number of times and then disposed of as waste liquid. In the case of continuous operation, the liquid phase remover of the present invention is sprayed and collected at the bottom of the scrubber, which is circulated using a circulation pump and sprayed at the top of the scrubber. At this time, as it continuously circulates, changes in pH, loss due to evaporation of water, and concentration of acid gases such as nitrogen oxides occur. First, in order to respond to a change in pH, a pH meter is installed so that the measured pH is injected with the liquid remover at the lower limit set by the controller, and stops the addition of the liquid remover at the upper limit so that the pH is maintained between the set values. To compensate for the loss due to evaporation of water, add the amount of make-up water as much as the evaporation amount by linking the loss amount with the level switch. In addition, in order to cope with the concentration of acid gases such as nitrogen oxides, an overflow pipe is provided to discharge a certain amount of the liquid remover from the circulation as a waste liquid.

사용 pH 구간의 조절을 제거제의 반응성이 나타나는 구간인 pH 2 ∼14의 범위에서, 바람직하게는 pH 4 ∼ 14의 범위에서 수행하면 질소산화물, 염화수소 및 황산화물 등의 산성가스, 일산화탄소 및 다이옥신의 우수한 제거 효율을 얻을 수 있다.When the pH range is adjusted in the range of pH 2 to 14, preferably in the range of pH 4 to 14, in which the reactivity of the scavenger appears, it is excellent in acidic gases such as nitrogen oxides, hydrogen chloride and sulfur oxides, carbon monoxide and dioxins. Removal efficiency can be obtained.

배기가스 정화처리 후, 폐액은 필요에 따라서 액중에 녹아있는 NOx가스를 N2로 환원하는 수처리 공정을 추가 할 수 있다. 습식 세정탑 순환수로부터 오버플로우를 통해 배출되어진 폐액은 환원제로 처리될 수 있다. 환원제는 구체적으로, 알칼리금속황화물, 알칼리토금속황화물, NaHSO3, Na2SO3, Na2SO4, Na2S2O3, Na2S, K2S, K2SO3, K2S2O3, Na2C2O4, H2C2O4등을 포함한다.After the exhaust gas purification treatment, the waste liquid may be added with a water treatment step of reducing the NO x gas dissolved in the liquid to N 2 as needed. The waste liquid discharged through the overflow from the wet scrubber circulating water may be treated with a reducing agent. The reducing agent is specifically an alkali metal sulfide, alkaline earth metal sulfide, NaHSO 3 , Na 2 SO 3 , Na 2 SO 4 , Na 2 S 2 O 3 , Na 2 S, K 2 S, K 2 SO 3 , K 2 S 2 O 3 , Na 2 C 2 O 4 , H 2 C 2 O 4 , and the like.

한편, 분말 또는 슬러리 형태의 본 발명의 제거제는 도 3에서 보는 바와 같이, (반)건식 반응탑에 또는 그 전단에 분사하여 사용할 수 있다. 이 경우 제거제와 배기가스가 (반)건식 반응탑 내에 형성된 난류를 따라 유동하면서 배기가스 중에 포함된 질소산화물, 염화수소 및 황산화물 등의 산성가스 및 다이옥신과 접촉하여 이들 유해물을 산화 및 흡수 또는 흡착하여 제거한다.Meanwhile, the remover of the present invention in powder or slurry form may be sprayed onto (semi) dry reaction tower or at its front end as shown in FIG. 3. In this case, the remover and the exhaust gas flow along the turbulence formed in the (semi) dry reaction tower, and come into contact with acid gases such as nitrogen oxides, hydrogen chloride and sulfur oxides and dioxins to oxidize and absorb or adsorb these harmful substances. Remove

(반)건식 반응기가 없을 경우에는 백필터, 사이클론, 습식 또는 건식 전기집진기 전단에서 분사하여도 상기의 반응기에서 처럼, 질소산화물, 염화수소 및 황산화물 등의 산성가스, 일산화탄소 및 다이옥신을 제거할 수 있다. 하지만 배기가스와 슬러리 및 분말 제품과의 접촉시간이 적기 때문에 접촉시간을 크게 하기 위하여 배관의 형태나 길이를 조절하거나 배기가스와 혼합이 잘 되게 분사하는 것이 매우 중요하다.If there is no (semi) dry reactor, spraying from the front of a bag filter, cyclone, wet or dry electrostatic precipitator can remove acid gases, such as nitrogen oxides, hydrogen chloride and sulfur oxides, carbon monoxide and dioxins, as in the above reactors. . However, since the contact time between the exhaust gas and the slurry and powder products is small, it is very important to control the shape or length of the pipe or to spray the mixture well with the exhaust gas in order to increase the contact time.

또한, 슬러리 형태의 제거제를 분사하는 대신에, 액상 제거제를 무기물 분말과 따로따로 분사할 수도 있다. 슬러리 형태의 제거제는 액상 제거제에 무기물 분말을 혼합한 것이기 때문에, 미리 혼합하지 않고 분사시에 따로 분사하더라도 분사에 의하여 혼합되므로 대등한 효과를 나타낼 수 있다.Alternatively, instead of spraying the slurry form of remover, the liquid remover may be sprayed separately from the inorganic powder. Since the slurry-type remover is a mixture of the inorganic powder with the liquid remover, even if separately sprayed at the time of spraying without mixing beforehand can be mixed by the injection can have a similar effect.

상기와 같은 제진설비, 즉, 습식, (반)건식 반응기와 백필터, 건식 또는 습식 집진기, 사이클론 전단의 온도는 300 ∼ 500℃ 이하의 온도에서 운전되는 것을 특징으로 하는데, 습식의 경우에는 순환수의 온도가 대개 90℃ 미만이며, 건식의 경우는 배기가스 배출 온도가 대개 120 ∼ 250 범위로 운전되는 것이 대부분이고, 전기집진기의 경우는 400∼500℃ 정도의 고온에서 운전하기도 한다. 본 발명의 제거제는 이들 다양한 온도범위 모두에서 적용될 수 있지만, 더욱 좋게는 50 ∼ 400℃ 범위에서 사용되는 것이 좋다. 또한, 본 발명의 제거제는 앞에서도 언급한 바와 같이, 일산화탄소도 이산화탄소로 산화시켜 무해화시킬 수 있다.The temperature of the above vibration suppression equipment, that is, wet, (semi) dry reactor and bag filter, dry or wet dust collector, cyclone shear is characterized in that the operation at a temperature of 300 ~ 500 ℃ or less, in the case of wet The temperature of is usually less than 90 ℃, in the case of dry, the exhaust gas discharge temperature is usually operating in the range of 120 to 250, and in the case of an electrostatic precipitator may be operated at a high temperature of about 400 to 500 ℃. The remover of the present invention can be applied in all of these various temperature ranges, but more preferably it is used in the range of 50 to 400 ° C. In addition, the remover of the present invention, as mentioned above, can also be harmless by oxidizing carbon monoxide to carbon dioxide.

이하에서는 실시예를 통하여 본 발명의 구체적인 예를 제시한다. 그러나 아래의 실시예는 본 발명의 구체적인 예를 보여주기 위한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 실시예에 한정되는 것으로 이해되어선 안된다.Hereinafter, specific examples of the present invention will be presented through examples. However, the following examples are only intended to show specific examples of the present invention, it should not be understood that the scope of the present invention is limited to the embodiments.

도 4는 본 발명의 액상, 슬러리 및 분말 형태의 제거제의 성능을 평가하기 위한 장치의 개념도를 나타내는 것으로서, 하기의 실시예에서는 이 장치들을 사용하여 본 발명의 제거제의 성능을 평가하였다.FIG. 4 shows a conceptual diagram of an apparatus for evaluating the performance of the liquid, slurry and powder form of the present invention. In the following examples, the performance of the present invention was evaluated using these devices.

[실시예 1]Example 1

NaClO 20%, LiBr 3%, NiI21%, NaOH 1% 조성의 반응액 20㎖를 제조하여 이를 도 4의 액상반응기에 넣은 후, 70℃의 일정한 온도를 유지하면서 질소산화물과 황산화물을 포함한 배기가스를 통과시켜 질소산화물 및 황산화물의 제거능력을 측정하였다. 상기한 배기가스 조성은 NO 1,000ppm, SO2600ppm, O2는 4%, H2O 7%를 포함하는 헬륨가스이며, 이들 혼합가스를 100cc/min의 유속으로 반응액을 통과시켰다. 질소산화물의 제거능력을 측정하기 위하여서는 반응액을 통과한 가스의 NO농도를 화학발광식 NOx분석계를 이용하여 측정한 후, 다음 식에 의해 제거능력을 산출하였다.20 ml of NaClO 20%, LiBr 3%, NiI 2 1%, NaOH 1% were prepared and placed in the liquid phase reactor of FIG. 4, and the nitrogen and sulfur oxides were maintained while maintaining a constant temperature of 70 ℃. The removal ability of nitrogen oxide and sulfur oxide was measured by passing through the exhaust gas. The exhaust gas composition described above was helium gas containing 1000 ppm of NO, 600 ppm of SO 2 , 4% of O 2 , and 7% of H 2 O, and the mixed gas was passed through the reaction solution at a flow rate of 100 cc / min. In order to measure the removal ability of the nitrogen oxides, the NO concentration of the gas passing through the reaction solution was measured using a chemiluminescence type NO x analyzer, and then the removal capacity was calculated by the following equation.

질소산화물 제거율(%) = (입구 NO 농도 - 출구 NO 농도)/(입구 NO 농도) X 100 (%)NOx removal rate (%) = (inlet NO concentration-outlet NO concentration) / (inlet NO concentration) X 100 (%)

황산화물의 제거능력을 측정하기 위하여서는 반응액을 통과한 가스 200㎕를 분취하여 불꽃광도검출기가 부착된 기체 크로마토그래프 시스템을 이용하여 황산화물의 농도를 측정한 후, 다음 식에 의해 제거능력을 산출하였다.In order to measure the ability to remove sulfur oxides, 200 μl of gas that passed through the reaction solution was collected and the concentration of sulfur oxides was measured using a gas chromatograph system equipped with a flame photodetector. Calculated.

황산화물 제거율(%) = (입구 SO2농도 - 출구 SO2농도)/(입구 SO2농도) X 100 (%)Sulfur oxide removal rate (%) = (inlet SO 2 concentration-outlet SO 2 concentration) / (inlet SO 2 concentration) X 100 (%)

상기 측정 결과를 표1에 표시하였다.The measurement results are shown in Table 1.

[실시예 2]Example 2

KClO30.2%, KClO 0.1%, MgF20.005%, 아세트산 0.2g과 아세트산나트륨 0.2g이 포함된 반응액 20㎖를 제조한 후, 이를 실시예 1과 동일한 방법으로 성능을 실험하여 그 결과를 표1에 표시였다.20 ml of a reaction solution containing 0.2% KClO 3 , 0.1% KClO, 0.005% MgF 2 , 0.2 g of acetic acid and 0.2 g of sodium acetate were prepared, and the results were tested in the same manner as in Example 1. It was a sign on 1.

[실시예 3]Example 3

Ca(ClO)25%, BaI20.5%, VF 0.1%, 시트르산 0.5g과 시트르산칼륨 2g이 포함된 반응액 20㎖를 제조한 후, 이를 실시예 1과 동일한 방법으로 성능을 실험하여 그 결과를 표1에 표시하였다. 또한 질소산화물이 80% 이상 제거되는 시간이 얼마나 오랫동안 지속되는지를 측정한 결과, 45분 동안 질소산화물이 80% 이상 제거되는 시간이 지속됨을 확인하였다.20 ml of a reaction solution containing Ca (ClO) 2 5%, BaI 2 0.5%, VF 0.1%, 0.5 g citric acid and 2 g potassium citrate was prepared, and the results were tested in the same manner as in Example 1 Is shown in Table 1. In addition, as a result of measuring how long the time to remove more than 80% nitrogen oxides, it was confirmed that the time to remove more than 80% nitrogen oxides for 45 minutes.

[실시예 4]Example 4

KMnO45%, NaClO25%, NaI 3.5%, NaOH 0.4% 조성의 반응액 20㎖를 제조한 후, 이를 실시예 1과 동일한 방법으로 성능을 실험하여 그 결과를 표1에 표시하였다.20 ml of a reaction solution having a composition of 5% KMnO 4, 5% NaClO 2 , 3.5% NaI, and 0.4% NaOH were prepared, and the results were tested in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

[실시예 5]Example 5

KBrO31%, KClO 0.1%, KBr 0.02%, CuF20.01%, NaOH 0.04%, H3PO40.01% 조성의 반응액 20㎖를 제조한 후, 이를 실시예 1과 동일한 방법으로 성능을 실험하여 그 결과를 표1에 표시하였다.20 ml of a reaction mixture of KBrO 3 1%, KClO 0.1%, KBr 0.02%, CuF 2 0.01%, NaOH 0.04%, H 3 PO 4 0.01% was prepared, and the performance was tested in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

[실시예 6]Example 6

NaClO 0.05%, NaI 0.01% 조성의 반응액을 20㎖에 H2SO4를 이용하여 pH를 2로 조정한 후, 이를 실시예 1과 동일한 방법으로 성능을 실험하여 그 결과를 표1에 표시하였다.The reaction solution of 0.05% NaClO, 0.01% NaI composition was adjusted to pH 2 using H 2 SO 4 in 20 ml, and the results were tested in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1. .

[실시예 7]Example 7

NaClO 0.05%, NaI 0.01% 조성의 반응액을 20㎖에 H2SO4를 이용하여 pH를 5로 조정한 후, 이를 실시예 1과 동일한 방법으로 성능을 실험하여 그 결과를 표1에 표시하였다.The reaction solution of 0.05% NaClO, 0.01% NaI composition was adjusted to pH 5 using H 2 SO 4 in 20 ml, and the results were tested in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1. .

[실시예 8]Example 8

NaClO 0.05%, NaI 0.01% 조성의 반응액 20㎖에 H2SO4를 이용하여 pH를 8로 조정한 후, 이를 실시예 1과 동일한 방법으로 성능을 실험하여 그 결과를 표1에 표시하였다.The pH was adjusted to 8 using H 2 SO 4 in 20 ml of NaClO 0.05%, NaI 0.01% composition, and the results were tested in the same manner as in Example 1 and the results are shown in Table 1.

[실시예 9]Example 9

NaClO 0.05%, NaI 0.01% 조성의 반응액 20㎖에 NaOH를 이용하여 pH를 10으로 조정한 후, 이를 실시예 1과 동일한 방법으로 성능을 실험하여 그 결과를 표1에 표시하였다.After adjusting the pH to 10 using NaOH in a reaction solution of NaClO 0.05%, NaI 0.01% composition using NaOH, the performance was tested in the same manner as in Example 1 and the results are shown in Table 1.

[실시예 10]Example 10

NaClO 0.05%, NaI 0.01% 조성의 반응액 20㎖에 NaOH를 이용하여 pH를 13으로 조정한 후, 이를 실시예 1과 동일한 방법으로 성능을 실험하여 그 결과를 표1에 표시하였다.PH 20 was adjusted to 13 using NaOH in a reaction solution of NaClO 0.05% and NaI 0.01%, and the performance was tested in the same manner as in Example 1, and the results are shown in Table 1.

[실시예 11]Example 11

활성탄((주)삼천리,SG100) 0.2g에 Ca(ClO)25%, BaI20.2%, VF 0.05%, 인산 0.2g과 인산수소이나트륨 2g 조성의 용액을 첨가하여 20㎖의 용액을 70℃로 유지하면서, 질소산화물 1000ppm, 황산화물 600ppm, 방향족 할로켄화합물 (1,2-Dichlorobenzene) 0.1ng/㎖, O2질량비로서 4%를 포함한 배기가스를 100cc/min의 유속으로 통과시켜 실시예 1과 동일한 방법으로 질소산화물과 황산화물의 제거능력을 측정하였으며, 반응 슬러리를 통과한 가스 200㎕를 분취하여 전자포획감지기가 부착된 기체 크로마토그래피 시스템을 이용하여 방향족 할로겐 화합물 농도를 측정한 후, 다음 식에 의해 제거능력을 산출하였다.20 ml of solution was added to 0.2 g of activated carbon (Samcheonli, SG100) by adding a solution of Ca (ClO) 2 5%, BaI 2 0.2%, VF 0.05%, phosphoric acid 0.2g and disodium hydrogen phosphate 2g. Exhaust gas containing 1000 ppm of nitrogen oxide, 600 ppm of sulfur oxide, 0.1 ng / ml of aromatic halokene compound (1,2-Dichlorobenzene), and 4% in O 2 mass ratio was passed through at a flow rate of 100 cc / min. The removal capacity of nitrogen oxide and sulfur oxide was measured by the same method as described above, and the concentration of the aromatic halogen compound was measured by using a gas chromatography system equipped with an electron trap detector by collecting 200 µl of the gas that passed through the reaction slurry. The removal capacity was calculated by the equation.

방향족할로겐화합물 제거율(%)Aromatic halogen compound removal rate (%)

= (입구 방향족할로겐화합물 농도 - 출구 방향족할로겐화합물 농도)/(입구 방향족할로겐화합물 농도) X 100 (%)= (Inlet Aromatic Halogen Compound Concentration-Outlet Aromatic Halogen Compound Concentration) / (Inlet Aromatic Halogen Compound Concentration) X 100 (%)

결과를 표1에 표시하였다.The results are shown in Table 1.

[실시예 12]Example 12

난석분말 3g, 천연 제올라이트(왕표화학 CLINOPTILOLITE) 4g의 혼합분말에 NaClO 20%, LiBr 0.5%, NiI20.25%, NaOH 9% 조성의 용액을 첨가하여 20㎖의 슬러리 용액을 제조하였다. 이를 실시예 1과 동일한 방법으로 성능을 실험하여 그 결과를 표1에 표시하였다.A solution of 20 ml of NaClO 20%, LiBr 0.5%, NiI 2 0.25%, NaOH 9% was added to a mixed powder of 3 g of ovarian powder and 4 g of natural zeolite (Changno Chemical CLINOPTILOLITE). This was tested in the same manner as in Example 1 and the results are shown in Table 1.

[실시예 13]Example 13

펄라이트 0.5g((주)삼손, SB403) 인공 벤토나이트 (와이오밍 HYG2000) 0.5g의 혼합분말에 KClO30.05%, KClO 0.05%, MgF20.01%, 중탄산나트륨 0.2g과 탄산나트륨 0.2g, 고분자분산제 0.01%(세기유화, C) 조성의 용액을 첨가하여 20㎖의 슬러리 용액을 제조하였다. 이를 실시예 1과 동일한 방법으로 성능을 실험하여 그 결과를 표1에 표시하였다.0.5 g of pearlite (Samson Co., Ltd., SB403) artificial bentonite (WG HYG2000) 0.5 g of KClO 3 0.05%, KClO 0.05%, MgF 2 0.01%, sodium bicarbonate 0.2g, sodium carbonate 0.2g, polymer dispersant 0.01% A 20 ml slurry solution was prepared by adding a solution of (strength emulsification, C) composition. This was tested in the same manner as in Example 1 and the results are shown in Table 1.

[실시예 14]Example 14

NaClO 0.3%, KMnO40.1%, KI 0.05%, KOH 0.02%, 포름산 0.01% 조성액 10g을 제강슬래그 분말 50g, 이산화티탄분말 (듀폰) 50g의 혼합분말에 담지 담지 시킨 후, 이를 100℃, 1torr에서 감압건조 시켜 반응시료를 제조하였다. 제조된 반응시료 중 100㎎을 취하여 이를 도 4와 같은 분말반응기 내에 충진하고, 200℃의 일정한 온도를 유지하면서 실시예 1에서와 같은 혼합가스 농도와 유속으로 질소산화물 및 황산화물의 제거능력을 측정하여 그 결과를 표1에 표시하였다.10 g of NaClO 0.3%, KMnO 4 0.1%, KI 0.05%, KOH 0.02%, and formic acid 0.01% were immersed in a mixed powder of 50 g of steelmaking slag powder and 50 g of titanium dioxide powder (Dupont), and then at 100 ° C. and 1 torr. The sample was dried under reduced pressure. 100 mg of the prepared reaction sample was taken and filled into the powder reactor as shown in FIG. 4, and the nitrogen gas and sulfur oxide removal capability was measured at the mixed gas concentration and flow rate as in Example 1 while maintaining a constant temperature of 200 ° C. FIG. The results are shown in Table 1.

[실시예 15]Example 15

KClO330%, LiBr 0.5%, KI 0.5%, NaOH 20% 조성의 용액 1g을 100배 희석하여 CaCO3(한국오미야) 500g, 카올린(국산) 500g의 혼합분말에 혼합한 후, 이를 0.1torr의 압력으로 진공 건조시켜 분말시료를 제거하였다. 이를 실시예 14와 동일한 방법으로 성능을 실험하여 그 결과를 표1에 표시하였다.After diluting 100 g of a solution of 30% KClO 3 , 0.5% LiBr, 0.5% KI, and 20% NaOH, the mixture was mixed with a mixed powder of 500 g of CaCO 3 (Omiya) and 500 g of kaolin (domestic). The powder sample was removed by vacuum drying under pressure. This was tested in the same manner as in Example 14 and the results are shown in Table 1.

[실시예 16]Example 16

NaClO 20%, LiBr 1%, NiI20.5%, NaOH 9% 조성의 용액 1g을 취하여, 난석분말 1g, 비산재 0.5g, 천연제올라이트(왕표화학 CLINOPTILOLITE) 1g에 담지 시킨 후, 40℃에서 30분간 증발 건조시켰다. 이를 실시예 14와 동일한 방법으로 성능을 실험하여 그 결과를 표1에 표시하였다.1 g of a solution of 20% NaClO, 1% LiBr, 0.5% NiI 2 , and 9% NaOH was taken, immersed in 1 g of ovarian powder, 0.5 g of fly ash, 1 g of natural zeolite, and evaporated at 40 ° C. for 30 minutes. Dried. This was tested in the same manner as in Example 14 and the results are shown in Table 1.

[실시예 17]Example 17

KClO330%, LiI 3% 조성의 용액 2g을 취하여, Ca(OH)2(동양벤토나이트 SP) 1.5g과 난석분말 0.5g의 혼합 분말에 혼합한 후 200℃에서 순간 건조 시킨 시료를 실시예 14와 동일한 방법으로 성능을 실험하여 그 결과를 표1에 표시하였다.2 g of a solution of 30% KClO 3 and 3% LiI, mixed with 1.5 g of Ca (OH) 2 (Dongyang Bentonite SP) and 0.5 g of the ovarian powder, and dried at 200 ° C. Experimental performance in the same manner as in and the results are shown in Table 1.

[실시예 18]Example 18

KClO35%, KClO 5%, MgBr20.01%, 초산1%, 초산나트륨1% 조성액 100kg을 물 10㎥이 순환되는 습식 스크루버에 넣고 분사시켜, 5,000N㎥/hr의 속도로 배출되는 배기가스와 반응시켰으며, 이 때 순환되는 순환수의 온도는 60℃, 배기가스의 온도는 150℃이고, 배기가스 조성은 NO 300(±50)ppm, SO2200(±30)ppm, HCl 100(±20)ppm, CO 300(±60)ppm O27.5(±1)%이었다. 배출가스 내에서의 질소산화물과황산화물, 그리고 일산화탄소의 농도는 배기가스 분석기(Flue Gas Analyser) ((독)Testo사, testo350)를 이용하여 측정하였고, 다음 식에 의해 제거능력을 산출하였다.100 kg of KClO 3, 5% KClO, 0.01% MgBr 2 , 1% Acetate, 1% Sodium Acetate is injected into a wet scrubber where 10㎥ of water is circulated and injected, and exhausted at a rate of 5,000N㎥ / hr. At this time, the temperature of the circulating water circulated was 60 ° C., the temperature of the exhaust gas was 150 ° C., and the exhaust gas composition was NO 300 (± 50) ppm, SO 2 200 (± 30) ppm, HCl 100 (± 20) ppm and CO 300 (± 60) ppm O 2 7.5 (± 1)%. The concentrations of nitrogen oxides, sulfur oxides and carbon monoxide in the exhaust gas were measured using a flue gas analyzer (Testo 350, Testo, Germany), and the removal capacity was calculated by the following equation.

질소산화물 제거율(%) = (반응전 NO 농도 - 반응후 NO 농도)/(반응전 NO 농도) X 100 (%)NOx removal rate (%) = (NO concentration before reaction-NO concentration after reaction) / (NO concentration before reaction) X 100 (%)

황산화물 제거율(%) = (반응전 SO2농도 - 반응후 SO2농도)/(반응전 SO2농도) X 100 (%)Sulfur oxides removal efficiency (%) = (SO 2 concentration before reaction After reaction concentration of SO 2) / (SO 2 concentration before reaction) X 100 (%)

일산화탄소 제거율(%) = (반응전 CO 농도 - 반응후 CO 농도)/(반응전 CO 농도) X 100 (%)% Removal of carbon monoxide = (CO concentration before reaction-CO concentration after reaction) / (CO concentration before reaction) X 100 (%)

또한 HCl은 대기오염공정시험법의 티오시안제이수은법으로 광전분광광도계를 사용하여 460㎚ 부근에서의 흡광도를 측정하여 다음 식에 의해 반응후 농도를 산출하였다.In addition, HCl was measured by absorbing light at around 460 nm using a photospectrophotometer using a thiocyanate mercury method in an air pollution process test method.

상기식에 의해 구해진 염화수소 농도로부터 다음식에 의해 제거능력을 산출하였다.From the hydrogen chloride concentration determined by the above formula, the removal capacity was calculated by the following formula.

염화수소 제거율(%) = (반응전 HCl 농도 - 반응후 HCl 농도)/(반응전 HCl 농도) X 100 (%)Hydrogen chloride removal rate (%) = (HCl concentration before reaction-HCl concentration after reaction) / (HCl concentration before reaction) X 100 (%)

그 결과를 표1에 표시하였다.The results are shown in Table 1.

[실시예 19]Example 19

Ca(ClO)23%, KI 0.5%, 시트르산0.05%과 시트르산칼륨 0.1%, Ca(OH)220%, 인공 벤토나이트 (와이오밍 HYG2000) 5%, 고분자분산제 0.1% (세기유화, C)가 포함되어 있는 액상 슬러리 100kg을 200℃의 반건식 반응기에 분사하여 10,000N㎥/hr의 속도로 배출되는 배기가스와 반응시켰으며, 이 때 배기가스 조성은 NO 250(±50)ppm, SO2150(±30)ppm, HCl 120(±20) ppm, CO 200(±60)ppm O211(±2)%이었으며, 이를 실시예 18와 동일한 방법으로 성능을 실험하여 그 결과를 표1에 표시하였다.Ca (ClO) 2 3%, KI 0.5%, Citric Acid 0.05% and Potassium Citrate 0.1%, Ca (OH) 2 20%, Artificial Bentonite (Wyoming HYG2000) 5%, Polymer Dispersant 0.1% (Centrifuge, C) 100 kg of the liquid slurry was injected into a semi-dry reactor at 200 ° C. and reacted with the exhaust gas discharged at a rate of 10,000 Nm 3 / hr, where the exhaust gas composition was NO 250 (± 50) ppm and SO 2 150 (± 30) ppm, HCl 120 (± 20) ppm, CO 200 (± 60) ppm O 2 11 (± 2)%, the performance was tested in the same manner as in Example 18 and the results are shown in Table 1.

[실시예 20]Example 20

비산재 및 활성실리카 1:1 중량비로 혼합한 분말에 NaClO 5%, LiBr 0.05%, NiI20.1%, NaOH 0.9%가 담지된 분말을 50kg/hr로 170℃의 백 필터(Bag Filter) 전단에서 분사하여 10,000N㎥/hr의 속도로 배출되는 배기가스와 반응시켰으며, 이 때 배기가스 조성은 NO 150(±50)ppm, SO2300(±30)ppm, HCl 70(±20) ppm, CO 350(±60)ppm O29(±2)%이었으며, 이를 실시예 18와 동일한 방법으로 성능을 실험하여 그 결과를 표1에 표시하였다.A powder mixed with fly ash and activated silica in a 1: 1 weight ratio was sprayed with a powder containing 5% NaClO, 0.05% LiBr, 0.1% NiI 2 , and 0.9% NaOH at 50 kg / hr in front of a bag filter at 170 ° C. And reacted with the exhaust gas discharged at a rate of 10,000 Nm3 / hr, at which time the composition of the exhaust gas was NO 150 (± 50) ppm, SO 2 300 (± 30) ppm, HCl 70 (± 20) ppm, CO 350 (± 60) ppm O 2 9 (± 2)%, and the performance was tested in the same manner as in Example 18 and the results are shown in Table 1.

[실시예 21]Example 21

KClO35%, MgBr20.04%, NaOH 0.4% 조성의 용액과 합성 제올라이트 (제올라이트 Y), 펄라이트 ((주)삼손 SB403)를 중량비 1 : 6 : 6 으로 혼합하여 제조된 분말을 50kg/hr로 10,000N㎥/hr의 속도로 배출되는 배기가스와 190℃의 건식반응기에서반응시켰으며, 이 때 배기가스 조성은 NO 150(±50)ppm, SO2300(±30)ppm, HCl 70(±20) ppm, CO 350(±60)ppm O29(±2)%이었으며, 이를 실시예 18와 동일한 방법으로 성능을 실험하여 그 결과를 표1에 표시하였다.Powder prepared by mixing KClO 3 5%, MgBr 2 0.04%, NaOH 0.4% solution, synthetic zeolite (zeolite Y), and pearlite (Samson SB403) at a weight ratio of 1: 6: 6 to 50 kg / hr. The exhaust gas was discharged at a rate of 10,000 Nm3 / hr in a dry reactor at 190 ° C. At this time, the composition of the exhaust gas was NO 150 (± 50) ppm, SO 2 300 (± 30) ppm, and HCl 70 (± 20) ppm, CO (350 (± 60) ppm O 2 9 (± 2)%), the performance was tested in the same manner as in Example 18 and the results are shown in Table 1.

[실시예 22]Example 22

실시예4의 용액 5kg과 제올라이트(Y), 펄라이트 및 Ca(OH)2가1 : 1 : 1 중량비로 혼합된 분말 50kg을 1시간 동안 300℃의 전기집진기 전단에서 각각 다른 노즐을 통하여 동시에 분사하여 10,000N㎥/hr의 속도로 배출되는 배기가스와 반응시켰으며, 이 때 배기가스 조성은 NO 250(±50)ppm, SO2150(±30)ppm, HCl 120(±20) ppm, CO 200(±60)ppm O211(±2)%이었으며, 이를 실시예 18와 동일한 방법으로 성능을 실험하여 그 결과를 표1에 표시하였다.5 kg of the solution of Example 4 and 50 kg of powder mixed with zeolite (Y), pearlite and Ca (OH) 2 : 1: 1 by weight were sprayed simultaneously through different nozzles at the front of the electrostatic precipitator at 300 ° C. for 1 hour. It reacted with the exhaust gas discharged at 10,000Nm3 / hr, and the exhaust gas composition was NO 250 (± 50) ppm, SO 2 150 (± 30) ppm, HCl 120 (± 20) ppm, CO 200 It was (± 60) ppm O 2 11 (± 2)%, the performance was tested in the same manner as in Example 18 and the results are shown in Table 1.

[비교예 1]Comparative Example 1

NaClO 0.05%인 반응액 20㎖에 묽은 H2SO4용액을 가하여 pH8로 조정한 후, 이를 실시예 1과 동일한 방법으로 성능을 측정하여 실시예 8과 비교하였으며, 그 결과를 표1에 표시하였다.Dilute H 2 SO 4 solution was added to 20 ml of the reaction solution of 0.05% NaClO, and the pH was adjusted to 8. The results were measured in the same manner as in Example 1 and compared with Example 8. The results are shown in Table 1. .

[비교예 2]Comparative Example 2

NaClO 0.3%, KMnO40.1%, KOH 0.02%, 포름산 0.01% 조성액 10g을 제강슬래그 분말 50g, 이산화티탄분말 (듀폰) 50g의 혼합분말에 담지 담지 시킨 후, 이를 100℃, 1torr에서 감압건조 시켜 반응시료를 제조하였다. 이 반응시료를 실시예 14와 동일한 방법으로 성능을 실험하여 실시예 14와 비교하였으며, 그 결과를 표1에 표시하였다.10 g of NaClO 0.3%, KMnO 4 0.1%, KOH 0.02%, and formic acid 0.01% were loaded on a mixed powder of 50 g of steelmaking slag powder and 50 g of titanium dioxide powder (DuPont), and then dried under reduced pressure at 100 ° C and 1 torr. Samples were prepared. The reaction sample was tested in the same manner as in Example 14 to compare with Example 14, and the results are shown in Table 1.

[비교예 3]Comparative Example 3

Ca(ClO)25%, BaI20.2%, VF 0.05%, 인산 0.2g과 인산수소이나트륨 2g 조성의 용액 20㎖를 제조한 후, 실시예 11과 동일한 방법으로 성능을 측정하여 특히, 실시예 11의 제품 (동일한 조성의 용액에 활성탄이 분산된 슬러리)의 다이옥신 제거율과 비교하였으며, 그 결과를 표1에 표시하였다.After preparing 20 ml of a solution of Ca (ClO) 2 5%, BaI 2 0.2%, VF 0.05%, 0.2 g phosphoric acid and 2 g disodium phosphate, the performance was measured in the same manner as in Example 11, and in particular, Example Comparison was made with the dioxin removal rate of 11 products (slurry in which activated carbon was dispersed in a solution of the same composition), and the results are shown in Table 1.

[비교예 4][Comparative Example 4]

Ca(ClO)25%, BaI20.5%, VF40.1% 조성의 반응액 20㎖를 제조한 후, 실시예 1과 동일한 방법으로 질소산화물의 제거율을 측정하였으며, 또한 질소산화물이 80% 이상 제거되는 지속시간을 측정하여 실시예3과 비교하였으며, 그 결과를 표1에 표시하였다.20 mL of a reaction solution of 5% Ca (ClO) 2 , 0.5% BaI 2 , and 0.1% VF 4 was prepared, and the removal rate of nitrogen oxide was measured in the same manner as in Example 1, and the nitrogen oxide was 80% or more. The duration to be removed was measured and compared with Example 3, and the results are shown in Table 1.

No 제거율(%)No removal rate (%) SO2제거율(%)SO 2 removal rate (%) Dioxin 제거율(%)(1.2-Dichloro benzen)Dioxin removal rate (%) (1.2-Dichloro benzen) HCl 제거율(%)HCl removal rate (%) CO 제거율(%)CO removal rate (%) 지속시간 **(분)Duration ** (minutes) 실시예 1Example 1 100.0%100.0% 100%100% -- -- -- 실시예 2Example 2 95.0%95.0% 90%90% -- -- -- 실시예 3Example 3 99.0%99.0% 93%93% -- -- -- 45분45 minutes 실시예 4Example 4 97.0%97.0% 99%99% -- -- -- 실시예 5Example 5 90.0%90.0% 90%90% -- -- -- 실시예 6Example 6 95.0%95.0% 70%70% -- -- -- 실시예 7Example 7 99.0%99.0% 90%90% -- -- -- 실시예 8Example 8 95.0%95.0% 99%99% -- -- -- 실시예 9Example 9 85.0%85.0% 99%99% -- -- -- 실시예 10Example 10 75.0%75.0% 99%99% -- -- -- 실시예 11Example 11 99.0%99.0% 90%90% 99.9%99.9% -- -- 실시예 12Example 12 99.0%99.0% 99%99% -- -- -- 실시예 13Example 13 85.0%85.0% 95%95% -- -- -- 실시예 14Example 14 93.0%93.0% 95%95% -- -- -- 실시예 15Example 15 85.0%85.0% 99%99% -- -- -- 실시예 16Example 16 99.0%99.0% 98%98% -- -- -- 실시예 17Example 17 100.0%100.0% 99%99% -- -- -- 실시예 18Example 18 90.0%90.0% 99%99% -- 99%99% 60%60% 실시예 19Example 19 92.0%92.0% 97%97% -- 99%99% 55%55%

표 1 계속Table 1 continued

실시예 20 84.0% 87% - 92% 50% 실시예 21 87.0% 85% - 90% 30% 실시예 22 85.0% 90% - 93% 40% 비교예 1 30.0% 99% - - - 비교예 2 40.0% 97% - - - 비교예 3 99.0% 90% 50.0% - - 비교예 4 90.0% 95% 15분 **질소산화물(NO)의 제거율이 80% 이상 지속적으로 제거되는 제거효율의 지속시간 상기에서 본 바와 같이, 본 발명의 제거제는 배기가스 중에 포함된 질소산화물, 황산화물, 염화수소 등의 유해가스를 동시에 제거할 수 있는 능력을 가지고 있다는 것을 알 수 있으며, 그래서 본 발명의 제거제는 질소산화물을 제거하기 위하여 사용될 수 있을 뿐만 아니라 황산화물, 염화수소 등의 다른 산성가스 및 다이옥신을 제거하기 위해서도 유용하게 사용될 수 있다. Example 20 84.0% 87% - 92% 50% Example 21 87.0% 85% - 90% 30% Example 22 85.0% 90% - 93% 40% Comparative Example 1 30.0% 99% - - - Comparative Example 2 40.0% 97% - - - Comparative Example 3 99.0% 90% 50.0% - - Comparative Example 4 90.0% 95% 15 minutes ** Duration of removal efficiency that removes nitrogen oxide (NO) continuously over 80% As seen above, it can be seen that the remover of the present invention has the ability to simultaneously remove harmful gases such as nitrogen oxides, sulfur oxides and hydrogen chloride contained in the exhaust gas, so the remover of the present invention is nitrogen oxide. Not only can be used to remove the sulfuric acid, but also useful to remove other acid gases such as sulfur oxides, hydrogen chloride and dioxins.

본 발명은 액상(수용액), 분말 또는 슬러리를 분사하는 간단하고 편리한 단일의 공정만으로 질소산화물뿐만 아니라 염화수소 및 황산화물 등과 같은 다른 산성가스, 일산화탄소 및 다이옥신까지도 제거할 수 있는 제거제를 제공한다. 또한,본 발명은 이 제거제를 이용하여 배기가스 중에 포함된 질소산화물 등의 유해가스를 제거하는 방법을 제공한다.The present invention provides a remover capable of removing not only nitrogen oxides but also other acid gases, such as hydrogen chloride and sulfur oxides, carbon monoxide and dioxins, in a simple and convenient single process of spraying a liquid (aqueous solution), powder or slurry. In addition, the present invention provides a method for removing harmful gases such as nitrogen oxide contained in the exhaust gas by using the remover.

본 발명의 제거제는 기존의 산화제를 이용하여 배기가스 중에 포함된 질소산화물을 제거하는 공정에 비해 간단한 공정에 적용할 수 있으며, 산화효율이 향상되어 고가의 산화제의 사용량을 줄여서 비용을 절감시킬 수 있고, 거의 모든 pH 구간에서도 산화력 및 질소산화물의 흡수력이 뛰어나다. 따라서, 이러한 제거제는 적용 pH에 대한 제약을 크게 받지 않으므로 적용분야에 대한 유연성이 매우 높다. 또한, 본 발명의 제거제를 사용함으로써 고가의 촉매탑이나 배기가스 승온비용 (에너지 비용)을 들이지 않고도 효과적으로 배기가스로부터 질소산화물을 제거할 수 있고, 기존의 습식, (반)건식의 알카리 흡수탑이나 백필터, 전기집진기, 싸이클론 등의 공정을 그대로 이용하므로 추가공정이 필요 없다. 즉, 적용성이 뛰어나다. 또한, 본 발명의 제거제는 상온에서부터 500℃의 고온까지의 넓은 온도 범위에서 적용이 가능하다.The removal agent of the present invention can be applied to a simple process compared to the process of removing nitrogen oxides contained in the exhaust gas by using a conventional oxidant, the oxidation efficiency is improved to reduce the amount of expensive oxidant to reduce the cost It is excellent in oxidizing power and absorption of nitrogen oxides in almost all pH ranges. Therefore, these removers are not very constrained by the applied pH and therefore have very high flexibility for the application. In addition, by using the remover of the present invention, it is possible to effectively remove nitrogen oxides from the exhaust gas without incurring an expensive catalyst tower or exhaust gas heating cost (energy cost), and the conventional wet and (half) dry alkali absorption tower Since the process such as bag filter, electrostatic precipitator and cyclone is used as it is, no additional process is required. That is, the applicability is excellent. In addition, the remover of the present invention is applicable to a wide temperature range from room temperature to a high temperature of 500 ℃.

Claims (17)

산화제 및 금속할로겐 화합물을 필수적 구성요소로 하고, 상기 산화제의 양은 0.02중량%이고, 상기 금속할로겐 화합물의 양은 산화제 대비 1 내지 40중량% 범위인 것을 특징으로 하며, 상기 산화제는 NaClO, NaClO2, NaClO3, KBrO3, KClO3, Ca(ClO)2, 및 KMnO4로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 하나이며, 상기 금속할로겐 화합물(MX)은 M이 알칼리금속, 알칼리토금속 또는 전이금속으로서, Li, Na, K, Be, Mg, Ca, Ba, Sr, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, 및 Zn으로 구성되는 그룹으로부터 선택되고, X가 F, Cl, Br, 및 I로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 1종 이상의 금속할로겐 화합물인 것을 특징으로 하는 배기가스에서 유해가스를 제거하기위한 제거제.An oxidizing agent and a metal halogen compound are essential components, and the amount of the oxidizing agent is 0.02% by weight, and the amount of the metal halogen compound is 1-40% by weight relative to the oxidizing agent, and the oxidizing agent is NaClO, NaClO 2 , NaClO At least one selected from the group consisting of 3 , KBrO 3 , KClO 3 , Ca (ClO) 2 , and KMnO 4 , wherein the metalhalogen compound (MX) is an alkali metal, alkaline earth metal, or transition metal, wherein Selected from the group consisting of Na, K, Be, Mg, Ca, Ba, Sr, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, and Zn, and X consists of F, Cl, Br, and I A remover for removing toxic gases from exhaust gases, characterized in that at least one metal halide compound selected from the group consisting of: 제1항에 있어서, 물, 무기분말 또는 물과 무기분말의 혼합 형태인 희석제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 제거제.2. The remover of claim 1, further comprising a diluent in the form of water, inorganic powder or a mixture of water and inorganic powder. 제1항에 있어서, 상기 제거제는 수용액, 분말 또는 슬러리의 형태인 것을 특징으로 하는 제거제.The remover of claim 1, wherein the remover is in the form of an aqueous solution, powder or slurry. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 제거제는 염기 또는 완충용액(buffer)을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 제거제.The remover of claim 1, wherein the remover further comprises a base or a buffer. 제5항에 있어서, 상기 염기 또는 완충용액은 수산화나트륨, 수산화칼륨, 수산화칼슘, 탄산나트륨, 탄산수소나트륨, 중탄산나트륨, 붕산과 그의 염, 포름산과 그의 염, 프탈산과 그의 염, 락트산과 그의 염, 말산과 그의 염, 타르타르산과 그의 염, 글리콜산과 그의 염, 숙신산과 그의 염, 옥살산과 그의 염, 인산과 그의 염, 초산과 그의 염, 및 시트르산과 그의 염으로 구성되는 그룹으로부터 선택되는 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 제거제.The method of claim 5, wherein the base or buffer solution is sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, sodium carbonate, sodium bicarbonate, sodium bicarbonate, boric acid and salts thereof, formic acid and salts thereof, phthalic acid and salts thereof, lactic acid and salts thereof, malic acid At least one selected from the group consisting of salts thereof, tartaric acid salts thereof, glycolic acid salts thereof, succinic acid salts thereof, oxalic acid salts thereof, phosphoric acid salts thereof, acetic acid salts thereof, and citric acid salts thereof. Remover characterized by. 제2항에 있어서, 상기 무기분말은 CaCO3, CaO, Ca(OH)2, CaCl2, 천연 또는 인공 벤토나이트, 활성알루미나, 활성실리카, 비산재, 슬래그, 이산화티탄, 점토, 화산재, 천연 또는 인공 제올라이트, 활성탄, 펄라이트, 및 난석 분말로 이루어지는 그룹으로부터 선택되는 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 제거제.The method of claim 2, wherein the inorganic powder is CaCO 3 , CaO, Ca (OH) 2 , CaCl 2 , natural or artificial bentonite, activated alumina, activated silica, fly ash, slag, titanium dioxide, clay, volcanic ash, natural or artificial zeolite And at least one selected from the group consisting of activated carbon, pearlite, and turbulent powder. 제1항에 있어서, 상기 제거제는 pH 4 ~ pH 14의 범위 내에 있는 것을 특징으로 하는 제거제.The remover of claim 1, wherein the remover is in a range of pH 4 to pH 14. 제3항에 있어서, 상기 제거제가 슬러리 상태인 경우에, 상기 제거제 중의 고형분의 함량은 0.5~50 중량%의 범위인 것을 특징으로 하는 제거제.The remover according to claim 3, wherein when the remover is in a slurry state, the content of solids in the remover is in a range of 0.5 to 50 wt%. 제3항에 있어서, 상기 제거제가 슬러리 상태인 경우에, 상기 제거제는 슬러리의 침전을 방지하고 분산을 좋게 하기 위한 고분자 분산제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 제거제.4. The remover of claim 3, wherein when the remover is in a slurry state, the remover further comprises a polymer dispersant to prevent precipitation of the slurry and to improve dispersion. 제3항에 있어서, 상기 제거제가 분말 상태인 경우, 상기 제거제에 포함되는 상기 무기분말은 상기 산화제 및 상기 금속할로겐 화합물을 담지하거나 단순히 희석제로서 혼합되며, 200℃ 이하의 온도에서 증발 건조 또는 진공 건조된 후 분쇄된 것임을 특징으로 하는 제거제.4. The method of claim 3, wherein when the remover is in a powder state, the inorganic powder included in the remover supports the oxidizing agent and the metal halide compound or is simply mixed as a diluent and evaporated or vacuum dried at a temperature of 200 ° C or lower. Remover characterized in that it is ground and then ground. 삭제delete 삭제delete 제1항 내지 제11항 중 임의의 한 항에 따른 제거제를 습식 스쿠루버, (반)건식 반응기, (반)건식 반응기의 전단, 백필터의 전단, 건식 또는 습식 전기집진기의 전단 또는 싸이클론의 전단에 분사시킴으로써 배기가스 중의 유해가스를 안정한 형태로 흡수 또는 흡착시키는 단계를 포함하는 배기가스로부터 유해가스를 제거하는 방법.The removal agent according to any one of claims 1 to 11 is applied to a wet scubar, (semi) dry reactor, (semi) dry reactor, shear of bag filter, shear of dry or wet electrostatic precipitator or cyclone. A method for removing noxious gas from exhaust gas, comprising the step of absorbing or adsorbing the noxious gas in the exhaust gas in a stable form by injecting into a front end. 제14항에 있어서, 상기 유해가스가 제거된 배기가스를 배출함과 아울러 상기 유해가스를 흡수 또는 흡착한 제거제를 회수하는 단계를 추가로 포함하는 배기가스로부터 유해가스를 제거하는 방법.15. The method of claim 14, further comprising the step of exhausting the exhaust gas from which the noxious gas has been removed and recovering the remover that absorbed or adsorbed the noxious gas. 삭제delete 제14항에 있어서, 상기 습식 스크루버, (반)건식 반응기, 백필터의 전단, 건식 또는 습식 전기집진기의 전단 또는 싸이클론의 전단의 온도는 50~400℃의 범위인 것을 특징으로 하는 배기가스로부터 유해가스를 제거하는 방법.15. The exhaust gas according to claim 14, wherein the temperature of the wet scrubber, the (semi) dry reactor, the front end of the bag filter, the front end of the dry or wet electrostatic precipitator, or the front end of the cyclone is in the range of 50 to 400 ° C. How to remove harmful gases from
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