KR100429355B1 - Composition including polyethylene glycol for preparing microporous polyethersulfone membrane and method for preparing microporous membrane using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 미세 다공성 폴리에테르술폰 막을 제조하기 위한 고분자 조성물 및 이를 이용한 미세 다공성 막의 제조 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는, 용매, 기본 고분자 폴리에테르술폰 및 막의 표면에 기공(pore)을 형성시키기 위한 첨가제 폴리에틸렌글리콜을 포함하는 고분자 조성물 및 이를 지지체에 캐스팅 한 후 소정의 온도 및 습도를 갖는 공기 중에 노출시키고, 비용매 침적시킴으로써 원하는 크기의 미세한 기공을 갖는 막을 제조하는 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a polymer composition for producing a microporous polyether sulfone membrane and a method for producing a microporous membrane using the same. More specifically, a polymer composition comprising a solvent, a basic polymer polyethersulfone, and an additive polyethylene glycol for forming pores on the surface of the membrane, and casting it to a support, and then exposed to air having a predetermined temperature and humidity And a method for producing a membrane having fine pores of a desired size by nonsolvent deposition.

Description

미세 다공성 폴리에테르술폰 막 제조를 위한 폴리에틸렌글리콜 함유 조성물 및 이를 이용한 미세 다공성 막의 제조방법{COMPOSITION INCLUDING POLYETHYLENE GLYCOL FOR PREPARING MICROPOROUS POLYETHERSULFONE MEMBRANE AND METHOD FOR PREPARING MICROPOROUS MEMBRANE USING THE SAME}COMPOSITION INCLUDING POLYETHYLENE GLYCOL FOR PREPARING MICROPOROUS POLYETHERSULFONE MEMBRANE AND METHOD FOR PREPARING MICROPOROUS MEMBRANE USING THE SAME

본 발명은 미세 다공성 폴리에테르술폰 막을 제조하기 위한 고분자 용액 및 이를 이용한 미세 다공성 막의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a polymer solution for producing a microporous polyether sulfone membrane and a method for producing a microporous membrane using the same.

분리막은 다양한 분야에서 널리 이용되고 있으며, 정밀여과막, 한외여과막, 기체 분리막, 투과증발막, 역삼투막 등과 같이 여러 가지 다양한 용도로 사용될 수 있다. 또한, 분리막을 제조하는 방법으로 다양한 방법들이 알려져 있다.Separation membranes are widely used in various fields, and may be used for various purposes such as microfiltration membranes, ultrafiltration membranes, gas separation membranes, pervaporation membranes, and reverse osmosis membranes. In addition, various methods are known as a method of manufacturing the separator.

본 발명은 분리막을 제조하는 여러 방법 중에서 1963년에 로에브(Loeb)와 수리라잔(Sourirajan)이 처음 시도한 비용매 유도 상전이(nonsolvent induced phase inversion; NIPI)공정에 기본하고 있다. 비용매 유도 상전이법은 고분자를 적당한 용매에 녹여 용액을 만든 후 이를 얇게 캐스팅(casting)하여 이를 비용매에 침적시킴으로써 고체상의 막을 얻는 방법이다. 로에브와 수리라잔은 셀룰로오즈 아세테이트를 소재로 상전이 공정을 이용하여 비대칭막 제조에 성공하였으며, 그 이후 케스팅(Kesting)을 비롯한 여러 과학자들에 의해 많은 연구가 진행되어 왔다. 현재에도 정밀여과에서 기체투과에 이르는 넓은 범위에 사용되는 막이 비용매 유도 상전이법으로 제조되고 있다.The present invention is based on a nonsolvent induced phase inversion (NIPI) process first attempted by Loeb and Sourirajan in 1963, among other methods of preparing a separator. Non-solvent induced phase transition method is a method of obtaining a solid film by dissolving a polymer in a suitable solvent to form a solution, then cast it thinly and deposited it in a non-solvent. Loeb and Surirajane have succeeded in producing asymmetric membranes based on cellulose acetate using a phase-transfer process, and since then, many studies have been conducted by various scientists including Kesting and others. Membranes used in a wide range from microfiltration to gas permeation are still manufactured by non-solvent induced phase transfer method.

많은 경우에 막의 성능 향상을 위해 고분자 용액에 기본 고분자와 용매 이외에 다른 물질을 첨가하여 고분자 용액을 제조한다. 이렇게 제조한 용액을 불안정 캐스팅용액(unstable casting solution)이라고 하며, 고분자 용액에 첨가한 물질의 종류와 그 양은 막의 성질과 성능을 크게 변화시키는 막 제조의 중요한 요소로 인정되고 있다. 불안정 캐스팅 용액을 이용하여 막을 제조하는 방법은 다른 특허에도 많이 제시되어 있다. (미국 특허 제 3,133,132 호, 미국 특허 제 3,133,137 호 등) 그러나, 이러한 초기의 특허에서는 셀룰로오즈 아세테이트(Cellulous Acetate) 계통을 기본 고분자로서 사용한 것으로 박테리아에 대한 저항성이나 막의 장기보관에 큰 문제점을 가지고 있다.In many cases, a polymer solution is prepared by adding a substance other than the basic polymer and a solvent to the polymer solution to improve the performance of the membrane. The solution thus prepared is referred to as an unstable casting solution, and the type and amount of the substance added to the polymer solution are recognized as an important factor in membrane production which greatly changes the properties and performance of the membrane. Many methods for producing membranes using unstable casting solutions are also presented in other patents. (US Patent No. 3,133,132, US Patent No. 3,133,137, etc.) However, these early patents use a cellulose acetate (Cellulous Acetate) system as a base polymer, which has great problems in resistance to bacteria and long-term storage of the membrane.

제조할 막이 갖추어야 할 성질을 결정하는데 있어서, 그 막의 용도가 제일 중요하다. 기존에 많은 연구가 진행되어온 역삼투압 막과 같은 경우에는 해수의 담수화 등이 가장 큰 목적이었으므로, 높은 탈염성과 고압의 운전조건을 만족할 수 있는 기계적 강도가 많이 요구되었다. 그러나, 폐수 및 오수처리, 유기용매의 정제, 고농도의 농축 등 막의 응용분야가 넓어짐에 따라 막이 갖추어야 할 성질 또한 더욱 다양해지고 특징지어 졌다. 예컨대, 폐수처리에 쓰이는 막은 내화학성을 갖추어야 하며, 막을 오수처리에 사용하려면 미생물에 대한 내성을 필요로 하게된 것이다. 이러한 막의 성질을 충족시키기 위해서는 막 제조에 사용되는 기본 고분자의 선택이 우선되어야 한다. 한편, 폴리에테르술폰은 고분자 자체가 가지는 기계적 강도와, 높은 열적 안정성 및 내화학성으로 이미 많은 특허를 통하여 막 제조용 고분자로서 소개되어 있다.(미국 특허 제 5,886,059 호, 미국 특허 제 4,968,733 호 등) 그러나, 위 특허들에서 제시한 막 제조방법은 고분자 용액에 첨가되는 첨가제의 종류가 매우 많고 그 조성도 매우 복잡하다는 단점을 지니고 있다. 고분자 용액에 첨가되는 첨가제의 종류가 많고, 또한 그 조성이 매우 복잡하면 막의 기공 크기나 기공도 등의 막의 성질을 변화시키는데 고려해야할 부분이 많다는 것을 의미하며, 이는 막을 공업적으로 생산하는데 있어서 고분자 용액의 취급이나 공정변수의 조절에 있어서 어려움이 있음을 의미하는 것이다.In determining the properties that the membrane to be prepared should have, the use of the membrane is of paramount importance. In the case of reverse osmosis membranes, which have been studied in the past, the desalination of seawater was the main purpose, and thus, a great deal of mechanical strength was required to satisfy high desalination and high pressure operating conditions. However, as the application fields of the membrane are expanded, such as wastewater and sewage treatment, purification of organic solvents, and concentration of high concentrations, the properties of the membranes are further diversified and characterized. For example, membranes used for wastewater treatment must have chemical resistance, and the membranes need to be resistant to microorganisms for use in sewage treatment. In order to meet the properties of these membranes, the selection of the basic polymer used in the membrane production must be prioritized. On the other hand, polyether sulfone has already been introduced as a polymer for membrane production through many patents due to its mechanical strength, high thermal stability and chemical resistance (US Pat. No. 5,886,059, US Pat. No. 4,968,733, etc.). The membrane production method proposed in the above patents has the disadvantage that there are many kinds of additives added to the polymer solution and its composition is very complicated. If there are many kinds of additives added to the polymer solution and the composition is very complicated, it means that there are many things to consider in changing the properties of the membrane such as the pore size and porosity of the membrane. This means that there are difficulties in the handling of and control of process variables.

본 발명은, 막의 강도나 막 기공의 크기를 원활하게 조절하기 어렵다는 선행기술의 제반 문제점을 해결하기 위하여, 공정변수에 크게 영향을 받지 않고 막 기공 크기의 원활한 조절이 가능한 다공성 고분자 분리막의 제조방법과 상기 분리막을 제조하는데 사용되는 고분자 용액을 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention, in order to solve the problems of the prior art that it is difficult to smoothly control the strength of the membrane and the size of the membrane pores, and a method for producing a porous polymer membrane capable of smoothly controlling the membrane pore size without being significantly affected by the process parameters and It is an object to provide a polymer solution used to prepare the separator.

도 1은 본 발명에서 사용한 제막장치의 개략도를 나타낸 것이다.1 shows a schematic view of a film forming apparatus used in the present invention.

도 2는 실시예 1에 따라 제조된 막 표면의 전자현미경 사진을 나타낸 것이다.Figure 2 shows an electron micrograph of the film surface prepared according to Example 1.

도 3는 실시예 2에 따라 제조된 막 표면의 전자현미경 사진을 나타낸 것이다.Figure 3 shows an electron micrograph of the film surface prepared according to Example 2.

도 4는 실시예 3에 따라 제조된 막 표면의 전자현미경 사진을 나타낸 것이다.Figure 4 shows an electron micrograph of the film surface prepared according to Example 3.

도 5는 실시예 4에 따라 제조된 막 표면의 전자현미경 사진을 나타낸 것이다.Figure 5 shows an electron micrograph of the film surface prepared according to Example 4.

도 6은 실시예 5에 따라 제조된 막 표면의 전자현미경 사진을 나타낸 것이다.Figure 6 shows an electron micrograph of the film surface prepared according to Example 5.

도 7은 실시예 6에 따라 제조된 막 표면의 전자현미경 사진을 나타낸 것이다.Figure 7 shows an electron micrograph of the film surface prepared according to Example 6.

도 8은 실시 예 4에 따라 제조된 막 표면의 기공 분포도를 나타낸 그래프이다.8 is a graph showing the pore distribution of the membrane surface prepared according to Example 4.

본 발명은 미세 다공성 폴리에테르술폰 막을 제조하기 위한 고분자 조성물 및 이를 이용한 미세 다공성 막의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a polymer composition for producing a microporous polyether sulfone membrane and a method for producing a microporous membrane using the same.

보다 상세하게, 본 발명은 용매로서 N,N-디메틸포름아마이드를 함유하고, 상기 용매 100 중량부 당 기본 고분자로서 폴리에테르술폰 15 내지 25 중량부 및 첨가제로서 폴리에틸렌글리콜 0.5 내지 40 중량부를 함유하는 미세 다공성 폴리에테르술폰 막 제조용 조성물을 제공한다.More specifically, the present invention is fine containing N, N-dimethylformamide as a solvent, and containing 15 to 25 parts by weight of polyethersulfone as a basic polymer and 0.5 to 40 parts by weight of polyethylene glycol as an additive per 100 parts by weight of the solvent. Provided is a composition for preparing a porous polyether sulfone membrane.

또한, 본 발명은In addition, the present invention

(1) 용매에 용매 100 중량부 당 15 내지 25 중량부의 폴리에테르술폰과 0.5 내지 40 중량부의 폴리에틸렌글리콜을 용해시킨 고분자 용액을 제조하는 단계,(1) preparing a polymer solution in which 15 to 25 parts by weight of polyether sulfone and 0.5 to 40 parts by weight of polyethylene glycol are dissolved in 100 parts by weight of a solvent,

(2) 상기 고분자 용액을 지지체에 캐스팅하는 단계,(2) casting the polymer solution on a support;

(3) 상기 고분자 용액이 캐스팅된 지지체를 일정 온도 하에서 일정 습도의 공기 중에 노출시킨 후, 이를 비용매에 침적시키는 단계, 및(3) exposing the support on which the polymer solution is cast to air at a constant humidity under a certain temperature, and then depositing it in a non-solvent, and

(4) 상기 침적된 막을 세척하고 건조시켜서 잔류하는 용매와 첨가제를 제거하는 단계를 포함하는 막 표면에 미세한 기공이 형성된 고체질의 미세 다공성 폴리에테르술폰 막을 제조하는 방법을 제공한다.(4) providing a method for producing a solid microporous polyether sulfone membrane having fine pores formed on the surface of the membrane, the method including washing and drying the deposited membrane to remove residual solvents and additives.

본 발명에 따른 미세 다공성 폴리에테르술폰 막 제조용 조성물과 막 제조방법의 제 (1) 단계에 있어서, 상기 용매로서 N,N-디메틸포름아마이드를 사용하는 것이 바람직하며, 그 외에도 N-메틸-2-피롤리돈(N-methyl-2-pyrrolidone, NMP) 또는 디메틸 아세트아마이드(N,N-Dimethyl Acetamide, DMAc)를 사용할 수 있다. 상기 기본 고분자로서 분자량이 최소한 50,000 이상인 폴리에테르술폰을 사용하는 것이 바람직하다. 이는 기본 고분자로서 폴리에테르술폰의 분자량이 50,000 이상이어야만 만족할 만한 막의 기계적 강도와 막 제조 시 용이한 정도의 고분자 용액의 점도를 얻을 수 있기 때문이다. 또한, 첨가제로서 사용되는 폴리에틸렌글리콜은 분자량이 6,000 내지 20,000 정도인 것이 바람직하다. 그 이유는, 폴리에틸렌글리콜의 분자량이 20.000 보다 큰 경우에는 상온에서 고분자 용액을 얻기 어렵고, 최종적 막 형성 시 폴리에틸렌글리콜을 추출하는 것이 용이하지 않기 때문이며, 분자량이 6,000 보다 낮을 경우에는 충분한 정도의 기공도를 얻을 수 없고, 점도가 너무 낮아져서 지지체에 캐스팅하는 데에 어려움이 있기 때문이다.In step (1) of the composition for preparing a microporous polyether sulfone membrane and the method for preparing a membrane according to the present invention, it is preferable to use N, N-dimethylformamide as the solvent, in addition to N-methyl-2- Pyrrolidone (N-methyl-2-pyrrolidone, NMP) or dimethyl acetamide (N, N-Dimethyl Acetamide, DMAc) can be used. It is preferable to use polyethersulfone having a molecular weight of at least 50,000 or more as the basic polymer. This is because satisfactory mechanical strength of the membrane and viscosity of the polymer solution of the membrane can be easily obtained when the molecular weight of the polyether sulfone as the basic polymer is 50,000 or more. Moreover, it is preferable that the polyethyleneglycol used as an additive has a molecular weight about 6,000-20,000. The reason is that when the molecular weight of polyethylene glycol is greater than 20.000, it is difficult to obtain a polymer solution at room temperature, and it is not easy to extract the polyethylene glycol at the time of final film formation, and when the molecular weight is lower than 6,000, sufficient porosity is achieved. This is because it cannot be obtained and the viscosity is so low that it is difficult to cast on the support.

상기 고분자 용액의 제조에 있어서, 폴리에테르술폰과 폴리에틸렌글리콜의완전 혼합 및 완전 용해를 위하여, 상기 용매, 고분자 및 첨가제를 45℃ 내지 60℃에서 교반하여 고분자 용액을 제조하는 것이 바람직하다. 이는 45 ℃ 이하에서는 완전 용해에 많은 시간을 필요로 하며, 60 ℃ 이상의 온도는 온도에 비해 효과가 그리 크지 않기 때문이다. 이와 같이 제조된 고분자 용액은 상온 내지 35 ℃ 정도에서 보관 가능하다.In the preparation of the polymer solution, in order to completely mix and dissolve the polyether sulfone and polyethylene glycol, it is preferable to prepare the polymer solution by stirring the solvent, the polymer and the additive at 45 ° C to 60 ° C. This is because below 45 ° C requires a lot of time for complete dissolution, and the temperature above 60 ° C is not very effective compared to the temperature. The polymer solution thus prepared may be stored at room temperature to about 35 ° C.

상기 제 (2) 단계에 있어서, 고분자 용액을 지지체에 캐스팅하는 두께는 약 50 ㎛내지 400 ㎛정도가 바람직하다. 이 때, 상기 지지체의 종류는 본 발명에 영향을 미치지 않으며, 폴리에스테르 또는 PET 재질의 부직포와 같이 통상적으로 사용되는 지지체 중에서 원하는 표면특성을 갖는 것을 선택하여 사용할 수 있다. 또한, 캐스팅 시의 온도는 본 발명에 영향을 미치니 않으며, 본 발명의 구체예에서는 상온에서 캐스팅을 수행하였다. 캐스팅을 수행하는 방법 또한 제한이 없으며, 소정의 범위의 나이프 간격을 갖는 캐스팅 나이프을 사용할 수 있고, 그 외에도 롤 캐스팅(roll coating) 또는 원 사이드 딥-코팅(one side dip-coating) 등과 같이 통상적으로 사용되는 방법을 사용할 수 있다.In step (2), the thickness of casting the polymer solution on the support is preferably about 50 μm to 400 μm. At this time, the type of the support does not affect the present invention, it can be used by selecting the one having a desired surface properties from the support commonly used, such as nonwoven fabric of polyester or PET material. In addition, the temperature at the time of casting does not affect the present invention, in the embodiment of the present invention was carried out at room temperature. The method of performing casting is also not limited, and casting knives having a predetermined range of knife spacings can be used, in addition to conventional use such as roll coating or one side dip-coating. Can be used.

상기 제 (3) 단계의 상기 고분자 용액이 캐스팅된 지지체를 공기중에 노출시켜 막 표면에 미세한 기공을 형성시키는 데 있어서, 20 내지 60℃ 의 일정 온도 하에서 30% 이상의 일정 습도의 공기 중에 약 5초 내지 약 3 분 정도 노출시키는 것이 바람직하다. 또한, 상기 미세 기공이 형성된 막을 겔화시키기 위하여 비용매조 침적과정을 수행시, 20 내지 60 ℃의 온도 하에서 비용매로서 물 또는 알코올을 사용하여, 제 1차 침적 및 제 2차 침적에서 각 각 5분 이상 수행하는 것이 바람직하다.In forming the fine pores on the surface of the membrane by exposing the support on which the polymer solution of step (3) is cast in the air, at about 5 seconds in a constant humidity of 30% or more under a constant temperature of 20 to 60 ℃ It is preferable to expose about 3 minutes. In addition, when performing the non-solvent deposition process to gel the microporous formed film, using water or alcohol as a non-solvent under a temperature of 20 to 60 ℃, each 5 minutes in the first deposition and the second deposition It is preferable to perform the above.

또한, 상기 제 (4) 단계에 있어서, 상기 침적된 막의 세척 시 물 또는 알코올에 하루이상 담가두어 세척할 수 있으며, 이 때, 세척액으로서 물을 사용하는 것이 비용적인 측면에서 유리하다. 이와 같인 세척된 막을 상온의 대기에서 자연 건조시켜서 잔류하는 용매, 첨가제 및 물이 제거된 미세 다공성 폴리에테르술폰 막을 제조할 수 있다.In addition, in the step (4), it is possible to wash by soaking in water or alcohol for more than one day when washing the deposited film, and in this case, it is advantageous in terms of cost in using water as a washing liquid. Such washed membrane may be naturally dried in an air at room temperature to prepare a microporous polyether sulfone membrane from which residual solvent, additives, and water are removed.

상기와 같은 방법으로 제조되는 미세 다공성 폴리에테르술폰 막은 도 1에 나타난 제막장치를 이용하여 제조할 수 있다. 도 1에 따르면, 지지체로 사용된 부직포 롤에서 일정속도로 부직포가 풀려 나오면서 코팅나이프를 지나면서 고분자 용액으로 캐스팅 되고, 습도 조절조에서 항온 항습 구간을 지난 후, 제1차 응집조 및 제 2차 응집조를 차례로 거치면서 침적되어, 대부분의 용매 및 첨가제가 제거된 미세 다공성 폴리에테르술폰 막을 롤 형태로 얻게 된다.The microporous polyether sulfone membrane prepared by the above method can be prepared using the film forming apparatus shown in FIG. According to Figure 1, the nonwoven fabric is released from the nonwoven roll used as a support at a constant speed while passing through the coating knife is cast as a polymer solution, after the constant temperature and humidity section in the humidity control tank, the first flocculation tank and the second The microporous polyethersulfone membrane is removed in the form of a roll in which most solvents and additives have been removed by being deposited while passing through a coagulation bath.

본 발명에 따른 방법은 사용되는 고분자 용액의 조성에 따라 제조되는 막의 기공 크기, 기공도 및 막의 강도를 조절할 수 있다는데 특징이 있다. 즉, 본 발명에 따른 소정의 조성을 갖는 고분자 용액을 지지체에 캐스팅한 후, 소정의 온도 및 습도를 갖는 공기 중에 노출시켜 막을 제조함으로써, 막의 기공 크기와 기공도를 조절할 수 있다. 이는 지지체 위에 캐스팅된 고분자 용액이 일정온도 및 일정습도의 대기를 지나면서 각 조건 특유의 기공 크기와 특유의 기공도가 형성되기 때문이다.The method according to the invention is characterized by being able to control the pore size, porosity and membrane strength of the membrane prepared according to the composition of the polymer solution used. That is, the pore size and porosity of the membrane can be controlled by casting a polymer solution having a predetermined composition according to the present invention on a support and then exposing the membrane to air having a predetermined temperature and humidity to prepare the membrane. This is because the polymer solution cast on the support passes through the air at a constant temperature and a constant humidity, and thus the pore size and porosity unique to each condition are formed.

하기의 실시예에 의하여 알 수 있는 바와 같이, 폴리에틸렌글리콜의 함량,습도 또는 노출시간을 조절함으로써 원하는 기공 크기를 가지는 폴리에테르술폰 막을 제조할 수 있다. 특히, 고분자 용액 내 폴리에틸렌글리콜의 함량이 낮을수록, 고분자 용액이 도포된 지지체가 노출되는 공기의 습도가 낮을수록, 일정 습도의 공기 중에 노출되는 시간이 짧을수록 더욱 작은 크기의 미세한 기공을 갖는 막을 제조할 수 있다. 따라서, 본 발명의 조성물 및 방법에 미세 다공성 폴리에테르술폰 막을 제조하는 경우, 0.05 내지 1 ㎛ 범위에서 막 기공의 크기를 다양하게 조절할 수 있다.As can be seen by the following examples, it is possible to prepare a polyether sulfone membrane having a desired pore size by adjusting the content, humidity or exposure time of polyethylene glycol. In particular, the lower the content of polyethylene glycol in the polymer solution, the lower the humidity of the air to which the support on which the polymer solution is applied is exposed, and the shorter the time of exposure to the air at a constant humidity, the smaller the size of the fine pores. can do. Therefore, when preparing the microporous polyether sulfone membrane in the composition and method of the present invention, it is possible to control the size of the membrane pores in the range of 0.05 to 1 ㎛.

또한, 본 발명은 상기의 방법에 의하여 제조되고, 막 표면에 균일한 크기의 기공을 갖는 미세 다공성 폴리에테르술폰 막을 제공한다. 제조 공정 중 폴리에틸렌글리콜의 함량, 습도 및 노출시간을 조절함으로써, 막 표면에 0.05 내지 1 ㎛ 범위에서 다양하게 조절된 기공을 갖는 폴리에테르술폰 막을 얻을 수 있다.In addition, the present invention provides a microporous polyether sulfone membrane prepared by the above method and having pores of uniform size on the membrane surface. By controlling the content, humidity and exposure time of the polyethylene glycol in the manufacturing process, it is possible to obtain a polyether sulfone membrane having variously controlled pores in the range of 0.05 to 1 ㎛ on the membrane surface.

< 실시예 ><Example>

실시예 1Example 1

용매로서 N,N-디메틸포름아마이드 100g과 기본 고분자로서 폴리에테르술폰 17g, 첨가제로서 폴리에틸렌글리콜 35g을 유리로 제조한 반응기에 넣고 60℃에서 24시간 이상 교반하여 고분자 용액을 얻었다.100 g of N, N-dimethylformamide as a solvent, 17 g of polyethersulfone as a basic polymer, and 35 g of polyethylene glycol as an additive were placed in a glass reactor and stirred at 60 ° C. for at least 24 hours to obtain a polymer solution.

여기서 얻은 고분자 용액을 나이프를 150 ㎛의 틈새를 갖도록 조절한 캐스팅 나이프를 사용하여 폴리에스테르 부직포에 캐스팅 하였다. 부직포에 캐스팅 된 용액을 습도가 80%로 유지된 습도 조절조 내에서 40초 동안 통과시킨 후, 50 ℃의 물이 채워져 있는 1차 응집조에 침적시켰다. 응집조 내의 여러 개의 롤러를 이용하여약 5 분간 머무르게 한 후, 다시 30 ℃로 유지된 2차 응집조에 약 5 분간 침적시켜 막을 얻었다.The polymer solution obtained here was cast on a polyester nonwoven fabric using a casting knife adjusted to have a gap of 150 μm. The solution cast on the nonwoven fabric was passed for 40 seconds in a humidity control tank maintained at 80% humidity, and then deposited in a primary coagulation bath filled with water at 50 ° C. It was allowed to stay for about 5 minutes by using several rollers in the coagulation tank, and was then deposited for about 5 minutes in the secondary coagulation tank maintained at 30 ° C to obtain a membrane.

이렇게 얻은 막을 상온의 물에 하루정도 담가두어 막 내부의 용매 및 비용매를 완전히 제거되도록 한 다음, 상온에서 자연건조 시켰다.The membrane thus obtained was soaked in water at room temperature for one day to completely remove the solvent and nonsolvent in the membrane, and then dried at room temperature.

이와 같이 얻어진 막의 전자현미경 사진을 도 2에 나타내었다. 도 2는 막의 표면을 8000배 확대한 그림으로 0.5 ㎛정도의 미세한 기공이 매우 고르게 분포되어 있음을 확인할 수 있다.An electron micrograph of the film thus obtained is shown in FIG. 2. 2 is an enlarged 8000 times the surface of the film, it can be seen that the fine pores of about 0.5 ㎛ evenly distributed.

얻어진 막의 정확한 기공크기와 분포도는 버블 포인트법을 이용한 모세관류 포로시미터(Capillary Flow Porosimeter, CFP-1200AEL)를 이용하여 측정하였다. 측정 결과 최대 기공 크기는 0.89 ㎛이었으며, 평균 기공 크기는 0.63 ㎛이었다.The precise pore size and distribution of the obtained membrane were measured using a capillary flow porosimeter (CFP-1200AEL) using the bubble point method. The maximum pore size was 0.89 μm and the average pore size was 0.63 μm.

실시예 2Example 2

상기 실시예 1의 고분자 용액 조성에서 폴리에틸렌 글리콜을 15g으로 줄여 60℃에서 교반하여 고분자 용액을 제조한 후, 부직포에 150 ㎛로 캐스팅 하여 80%로 유지된 습도 조절조를 40 초간 통과시킨 다음, 1차 응집조와 2차 응집조에서 각각 5분간 침적시켜 막을 제조한 후 실시예 1과 같이 세척 후 건조 시켰다.After reducing the polyethylene glycol to 15g in the polymer solution composition of Example 1 to prepare a polymer solution by stirring at 60 ℃, and then cast to 150 ㎛ on a nonwoven fabric passed through the humidity control tank maintained at 80% for 40 seconds, 1 The membrane was prepared by dipping for 5 minutes in the secondary flocculation tank and the secondary flocculation tank, and then washed and dried as in Example 1.

이 실시예에서 제조한 막의 전자현미경 사진을 도 3에 나타내었다. 머세관류 포로시미터로 측정한 막의 최대 기공 크기는 0.88 ㎛이었으며, 평균 기공 크기는 0.38 ㎛이었다.An electron micrograph of the membrane prepared in this example is shown in FIG. 3. The maximum pore size of the membrane was 0.88 μm, and the average pore size was 0.38 μm, measured by Mercury perfusion meter.

실시예 3Example 3

상기 실시예 1의 고분자 용액 조성에서 폴리에틸렌 글리콜을 5g으로 줄여 60℃에서 교반하여 고분자 용액을 제조한 후 실시예 1과 같은 조건으로 막을 제조하였다.After reducing the polyethylene glycol to 5g in the polymer solution composition of Example 1 to prepare a polymer solution by stirring at 60 ℃ to prepare a membrane under the same conditions as in Example 1.

제조한 막의 전자현미경 사진은 도 4에 나타내었으며, 막의 최대 기공 크기는 0.66 ㎛, 평균 기공 크기는 0.28 ㎛이었다.An electron micrograph of the prepared membrane is shown in FIG. 4, and the maximum pore size of the membrane was 0.66 μm and the average pore size was 0.28 μm.

실시예 4Example 4

상기 실시예 2와 같은 조성의 고분자 용액을 이용하여 습도가 80%인 습도 조절조의 통과 시간을 20초로 하여 막을 제조하였다. 그 결과로 얻어진 막의 전자현미경 사진은 도 5와 같으며, 최대 기공 크기와 평균 기공 크기는 각 각 0.21 ㎛, 0.18 ㎛이었다. 이는 제조된 막이 매우 좁은 범위의 기공분포를 가지고 있음을 의미한다. 이와 같은 방법으로 제조된 막 표면의 전자현미경 사진을 도5에 나타내었으며, 제조된 막의 기공 분포도를 도 8에 나타내었다. 도 8에서 알 수 있는 바와 같이, 상기의 막은 0.18 ㎛와 0.19 ㎛의 부분에서 날카로운 기공 분포도를 나타냄을 알 수 있다.Using the polymer solution of the same composition as in Example 2, a membrane was prepared with a pass time of a humidity control tank having a humidity of 80% as 20 seconds. Electron micrographs of the resulting membrane are shown in FIG. 5, and the maximum pore size and average pore size were 0.21 μm and 0.18 μm, respectively. This means that the membrane produced has a very narrow range of pore distribution. An electron micrograph of the surface of the membrane prepared in this manner is shown in FIG. 5, and the pore distribution of the prepared membrane is shown in FIG. 8. As can be seen in FIG. 8, it can be seen that the membrane exhibits a sharp pore distribution at portions of 0.18 μm and 0.19 μm.

실시예 5Example 5

상기 실시예 2와 같은 조성의 고분자 용액을 이용하여 습도 조절조의 습도를 60%로 낮추고 40초 동안 통과시켜 막을 제조하였다. 제조한 막의 전자현미경 사진은 도 6과 같으며, 최대 기공 크기와 평균 기공 크기는 각 각 0.13 ㎛및 0.08 ㎛이었다.Using the polymer solution of the composition as in Example 2 to lower the humidity of the humidity control tank to 60% and passed through for 40 seconds to prepare a membrane. Electron micrographs of the prepared membrane are shown in FIG. 6, and the maximum pore size and average pore size were 0.13 μm and 0.08 μm, respectively.

실시예 6Example 6

상기 실시예 2와 같은 조성의 고분자 용액을 이용하여 습도 조절조의 습도를60%로 조절하고 통과시간을 20초로 하여 막을 제조하였다.Using the polymer solution of the same composition as in Example 2 to adjust the humidity of the humidity control tank to 60% and to prepare a membrane with a passage time of 20 seconds.

전자현미경 사진은 도 7에 나타내었으며 최대 기공 크기와 평균 기공 크기는 각 각 0.06 ㎛, 0.05 ㎛이었다.Electron micrographs are shown in FIG. 7, and the maximum pore size and average pore size were 0.06 μm and 0.05 μm, respectively.

실시예 7Example 7

용매로서 N,N-디메틸아세트아마이드 100g과 기본 고분자로서 폴리에테르술폰 17g, 첨가제로서 폴리에틸렌글리콜 15g을 혼합하여 상기 실시예 1과 같은 방법으로 고분자 용액을 얻었다. 그 후 상기 실시예 4와 같은 방법으로 막을 제조하였다.100 g of N, N-dimethylacetamide as a solvent, 17 g of polyether sulfone as a basic polymer, and 15 g of polyethylene glycol as an additive were mixed to obtain a polymer solution in the same manner as in Example 1. Thereafter, a membrane was prepared in the same manner as in Example 4.

이 실시예에서 얻은 막의 최대 기공크기는 0.18㎛이고 평균 기공크기는 0.12㎛이었다.The maximum pore size of the membrane obtained in this example was 0.18 mu m and the average pore size was 0.12 mu m.

실시예 8Example 8

용매로서 N-메틸-2-피롤리돈 100g과 기본 고분자로서 폴리에테르술폰 17g, 첨가제로서 폴리에틸렌글리콜 15g을 혼합하여 상기 실시예 1과 같은 방법으로 고분자 용액을 얻었고, 그 후 상기 실시예 4와 같은 방법으로 막을 제조하였다.100 g of N-methyl-2-pyrrolidone as a solvent, 17 g of polyether sulfone as a basic polymer, and 15 g of polyethylene glycol as an additive were mixed to obtain a polymer solution in the same manner as in Example 1, and then as in Example 4 The membrane was prepared by the method.

최대기공크기와 평균기공크기는 각 각 0.16㎛, 0.10㎛이었다.The maximum pore size and average pore size were 0.16 μm and 0.10 μm, respectively.

상기 실시예들의 결과로부터, 폴리에틸렌글리콜의 함량, 습도 또는 노출시간을 조절함으로써 원하고자 하는 기공 크기를 가지는 폴리에테르술폰 막을 제조할 수 있음을 알 수 있다. 특히, 폴리에틸렌글리콜의 함량이 낮을수록, 습도가 낮을수록, 습도 조절조에서의 노출 시간이 짧을수록 더욱 작은 크기의 미세한 기공을 갖는 막을 제조할 수 있었다.From the results of the above examples, it can be seen that the polyether sulfone membrane having the desired pore size can be prepared by controlling the content of polyethylene glycol, humidity or exposure time. In particular, the lower the content of polyethylene glycol, the lower the humidity, the shorter the exposure time in the humidity control tank was able to produce a membrane having fine pores of a smaller size.

본 발명에서 제공하는 고분자 용액을 이용하여 본 발명에서 제시한 공정으로 막을 제조하면 균일한 분포의 기공을 갖는 막을 얻을 수 있다. 또한 크게는 1 ㎛에서부터 작게는 0.05 ㎛까지 기공의 크기를 다양하게 조절할 수 있다. 본 발명으로 얻을 수 있는 막은 정밀 여과 및 한외 여과에 사용될 수 있다. 더 나아가서는 초정밀 여과에도 사용할 수 있다.When the membrane is prepared by the process according to the present invention using the polymer solution provided in the present invention, a membrane having a uniform distribution of pores can be obtained. In addition, the size of the pores can be variously controlled from 1 μm to 0.05 μm. Membranes obtainable by the present invention can be used for microfiltration and ultrafiltration. Furthermore, it can be used for ultra-precision filtration.

본 발명에 따른 방법은 고분자 용액에 첨가되는 성분의 종류와 양이 작아 경제적인 막 제조방법이 될 수 있으며, 막을 제조하는 공정 또한 매우 간단하여 막의 제조비용의 감소를 유발하여 여과공정의 유지비용 절감과 막의 보편화에 큰 도움이 될 것이다.The method according to the present invention can be an economical membrane production method because the type and amount of components added to the polymer solution is small, and the membrane manufacturing process is also very simple, which leads to a reduction of the membrane manufacturing cost, thereby reducing the maintenance cost of the filtration process. It will be a great help to the generalization of the film.

Claims (13)

삭제delete 삭제delete 삭제delete (1) 용매로서 N,N-디메틸포름아마이드, N-메틸-2-피롤리돈 또는 디메틸아세트아마이드를 사용하여, 상기 용매에 용매 100 중량부 당 15 내지 25 중량부의 폴리에테르술폰과 0.5 내지 40 중량부의 폴리에틸렌글리콜을 용해시킨 고분자 용액을 제조하는 단계,(1) 15 to 25 parts by weight of polyethersulfone and 0.5 to 40 parts by weight of 100 parts by weight of solvent in the solvent, using N, N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone or dimethylacetamide as a solvent. Preparing a polymer solution in which parts of polyethylene glycol are dissolved, (2) 상기 고분자 용액을 지지체에 캐스팅하는 단계,(2) casting the polymer solution on a support; (3) 상기 고분자 용액이 캐스팅된 지지체를, 20 내지 60 ℃ 범위의 온도 하에서 습도가 30 % 이상으로 일정하게 유지된 공기 중에 약 5 초 내지 약 3분 동안 노출시킨 후, 비용매에 침적시키는 단계, 및(3) exposing the support on which the polymer solution is cast to non-solvent after exposing it to air for about 5 seconds to about 3 minutes in a constant humidity of at least 30% at a temperature in the range of 20 to 60 ° C. , And (4) 상기 침적된 막을 세척하고 건조시켜서 잔류하는 용매와 첨가제를 완전히 제거하는 단계를 포함하고,(4) washing and drying the deposited film to completely remove residual solvents and additives, 상기 폴리에테르술폰의 분자량은 50,000 이상이며, 상기 폴리에틸렌글리콜의 분자량은 6,000 내지 20,000인, 수처리 정밀여과용 미세 다공성 폴리에테르술폰 막 제조방법.The molecular weight of the polyether sulfone is 50,000 or more, the molecular weight of the polyethylene glycol is 6,000 to 20,000, the method for producing microporous polyether sulfone membrane for water treatment microfiltration. 삭제delete 삭제delete 제 4 항에 있어서, 용매, 고분자 및 첨가제의 완전 혼합 및 완전 용해를 위하여, 상기 고분자 용액을 45℃ 내지 60℃에서 제조하여 수행하는 미세 다공성 폴리에테르술폰 막 제조방법.The method of claim 4, wherein the polymer solution is prepared at 45 ° C. to 60 ° C. for complete mixing and complete dissolution of a solvent, a polymer, and an additive. 제 4 항에 있어서, 상기 고분자 용액을 지지체에 약 50 내지 400 ㎛ 두께로 캐스팅하여 수행하는 미세 다공성 폴리에테르술폰 막 제조방법.The method of claim 4, wherein the polymer solution is cast to a support having a thickness of about 50 to 400 μm. 삭제delete 제 4 항에 있어서, 제 (3) 단계의 침적공정을 1차 응집조와 2차 응집조에서 각각 5분 이상 수행하는 미세 다공성 폴리에테르술폰 막 제조방법.5. The method of claim 4, wherein the deposition process of step (3) is performed in the primary and secondary flocculation tanks for at least 5 minutes, respectively. 제 4 항에 있어서, 상기 범위에서 폴리에틸렌글리콜의 함량, 고분자 용액이 캐스팅된 지지체를 공기 중에 노출시키는 시간 또는 고분자 용액이 캐스팅된 지지체가 노출되는 공기 중의 습도를 조절함으로써, 원하는 크기의 기공을 막 표면에 균일하게 형성시킬 수 있는 미세 다공성 폴리에테르술폰 막 제조방법5. The membrane surface of claim 4, wherein the pore of the desired size is controlled by controlling the content of polyethylene glycol in the above range, the time for exposing the support on which the polymer solution is cast in air, or the humidity in the air during which the support on which the polymer solution is cast is exposed. Method for producing microporous polyether sulfone membrane that can be formed uniformly on 제 11 항에 있어서, 막 표면에 생성되는 기공의 크기를 0.05 내지 1 ㎛ 범위 내에서 조절하여 수행하는 미세 다공성 폴리에테르술폰 막 제조방법.12. The method of claim 11, wherein the size of the pores formed on the surface of the membrane is controlled by controlling the size of the pores within the range of 0.05 to 1 [mu] m. 제 4 항, 제 7 항, 제 8 항 및 제 10 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항의 방법에 따라서 제조된 미세 다공성 폴리에테르술폰 막.A microporous polyethersulfone membrane prepared according to the method of any one of claims 4, 7, 8 and 10-12.
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