KR100347763B1 - The manufacturing method of multilayer thin film using spin coating - Google Patents

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Abstract

본 발명은 다층 초박막의 제조방법에 관한 것으로, 짧은 시간동안 양질의 다층 박막을 제조할 수 있도록 한 회전코팅을 이용한 다층 초박막의 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있으며, 본 발명은 양전하 또는 음전하가 도입되거나 수소결합이 가능한 물질이 도입된 기판을 고속회전이 가능한 회전기 위에 재치한 후, 상기 기판 상단에 기판에 도입된 물질과 상호인력에 의하여 결합이 가능한 물질(A)을 도입한 다음 500rpm 내지 15000rpm의 속도로 4초 내지 60초동안 회전시켜 1차코팅하고, 상기 1차코팅이 완료된 다음 세척용매를 기판 상단 중앙부에 떨어뜨려 500rpm 에서 15000rpm 범위의 속도로 4초 내지 60초동안 회전시키는 세척하는 과정을 1내지 3회 반복하여 기판표면과 약하게 결합되어 있는 물질(A)을 제거하여 박막(A)을 제조하고, 상기 기판에 코팅된 물질(A)과 상호인력에 의하여 결합이 가능한 서로 다른 성질을 갖는 물질(B)을 기판 상단에 도입하여 1차 코팅과 동일한 조건으로 2차코팅한 다음, 상기 2차코팅이 완료된 다음 상기한 세척과정을 동일한 조건에서 1내지 3회 반복하여 기판표면과 약하게 결합되어 있는 물질(B)을 제거하여 박막(B)을 제조하고, 상기한 박막(A,B) 제조과정을 동일한 조건하에서 여러번 반복하는 것에 의한 회전코팅을 이용한 다층 초박막의 제조방법을 제공함으로써 상기한 목적을 달성할 수 있다.The present invention relates to a method of manufacturing a multilayer ultra thin film, and to provide a method of manufacturing a multilayer ultra thin film using a rotation coating that can produce a high quality multilayer thin film for a short time, the present invention is to introduce a positive charge or negative charge Or a substrate into which a hydrogen bondable material is introduced is placed on a rotor capable of rotating at high speed, and then a material (A) capable of bonding by a mutual force with the material introduced to the substrate is introduced at the top of the substrate, and then 500 rpm to 15000 rpm The first coating by rotating for 4 to 60 seconds at a speed, and after the first coating is completed, the cleaning solvent is dropped to the center of the upper end of the substrate to wash for 4 to 60 seconds at a speed ranging from 500rpm to 15000rpm Repeated 1 to 3 times to remove the material (A) that is weakly bonded to the substrate surface to produce a thin film (A), the material coated on the substrate ( A) and a material (B) having different properties that can be bonded by mutual force are introduced to the top of the substrate and subjected to secondary coating under the same conditions as the primary coating, and then the cleaning process is performed after the secondary coating is completed. By repeating one to three times under the same conditions to remove the material (B) weakly bonded to the substrate surface to produce a thin film (B), and by repeating the above-described manufacturing process of the thin film (A, B) several times under the same conditions The above object can be achieved by providing a method of manufacturing a multilayer ultra-thin film using a rotation coating.

Description

회전 코팅을 이용한 다층 초박막의 제조방법{The manufacturing method of multilayer thin film using spin coating}The manufacturing method of multilayer thin film using spin coating}

본 발명은 다층 초박막의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 회전코팅에 의한 방법으로 다층의 초박막을 제조 할 수 있도록 함으로써 제조시간을 단축하면서도 양질의 다층 초박막을 제조하여 생산성을 극대화할 수 있도록 한 회전 코팅을 이용한 다층 초박막의 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a multilayer ultra thin film, and more particularly, to manufacture a multilayer ultra thin film by a method of rotating coating, thereby shortening the manufacturing time and manufacturing a high quality multilayer ultra thin film to maximize productivity. It relates to a method for producing a multilayer ultra thin film using a rotation coating.

근래에 들어 다양한 첨단 재료, 즉 광정보 수록매체, 센서, 표면 배향막, 윤활코팅막 등에 초박막 필름이 광범위하게 이용됨으로서 초박막 필름에 대한 관심이 고조되고 있으며, 특히, 전기, 전자, 통신 및 컴퓨터 산업이 더욱 급속히 발점함에따라 앞으로는 5나노미터 내지 10나노미터 범위의 초박막 재료가 첨단 소자 개발에 중요한 기여를 하게 될 것으로 예상되어 초박막에 대한 많은 연구가 진행되고 있다.Recently, widespread use of ultra thin films in various high-tech materials such as optical information recording media, sensors, surface alignment films, lubricating coating films, etc. has increased interest in ultra thin films, especially in the electric, electronic, telecommunication and computer industries. With the rapid launch, ultra-thin materials in the range of 5 to 10 nanometers are expected to make an important contribution to the development of advanced devices.

일반적으로 상기 초박막은 기판의 표면에 유기 단분자층을 코팅하여 그 물리적, 화학적 또는 전기적 성질을 원하는 목적에 맞게 변화시켜 기판의 표면 개질을 통한 접착력의 향상이나 마모 또는 부식 방지용으로 사용하거나, 기판 고유의 전기적, 광학적 성질을 개선하는 등, 다양한 표면 개질의 방향으로 사용될 수 있다.In general, the ultra-thin film is coated with an organic monolayer on the surface of the substrate to change its physical, chemical or electrical properties to the desired purpose to improve the adhesion through the surface modification of the substrate or to prevent wear or corrosion, or to inherent electrical It can be used in various surface modification directions, such as improving optical properties.

특히 일반적으로 기판에 원하는 성질이 도입하여, 그 성질을 충분히 발현시키기 위해서는 박막의 필름 두께는 균일해야 하고 배향성이 높은 정렬된 구조를 전제로 한다. 또한, 단분자 층의 코팅으로 기판 표면의 성질이 원하는 변화를 이룩하기에 불충분할 경우 다층 초박막으로 기판을 코팅하는 것이 필요하다.In particular, in general, the desired properties are introduced into the substrate, and in order to fully express the properties, the film thickness of the thin film is assumed to be uniform, and it is based on an ordered structure having high orientation. In addition, it is necessary to coat the substrate with a multilayer ultra-thin film when the coating of the monomolecular layer is insufficient to make the desired change in the surface of the substrate.

초박막 필름이 이처럼 다양한 첨단 재료로 쓰이기 위해서는 독특한 배향성과 다양한 기능을 갖는 물질의 개발 뿐만 아니라 박막의 두께를 수 옹스트롱의 범위에서 자유롭게 조절할 수 있어야 하며 서로 이질적인 성질을 보이는 물질간의 다층 박막 형성이 가능해야 한다.In order for ultra thin films to be used as such advanced materials, not only the development of materials having unique orientation and various functions, but also the thickness of the thin films must be freely controlled in the range of several angstroms, and the formation of multilayer thin films between materials having heterogeneous properties should be possible. do.

종래 단층의 초박막을 제조하기 위한 방법으로 회전코팅방법이 공지되어 있는데, 이 회전 코팅 방법은 기판위에 코팅제를 분사시킨 후 기판을 고속 회전시킴으로서 빠른 시간에 균일한 박막을 형성할 수 있으므로 많은 산업체에서 반도체 칩을 생산하기 위한 방법으로 활용하고 있다.Conventionally, a rotation coating method is known as a method for manufacturing a single layer ultra thin film, and this rotation coating method is capable of forming a uniform thin film in a short time by spraying a coating agent on a substrate and then rotating the substrate at a high speed. It is used as a method for producing chips.

그러나, 상기 회전 코팅 방법은 10나노미터 이상의 비교적 두께가 두꺼운 단층의 박막제조는 용이하나 그 이하의 초박막 제조는 부적절하며, 특히 다층 구조를 갖는 필름을 제조하는데 있어서는 필름층의 두께 조절이 힘들뿐만 아니라, 다층 박막 사이의 특별한 인력을 이용하지 않으므로 각각의 이질적인 필름 층에 불용성을 갖는 용매 선택 등의 제한 등으로 인하여 다층구조를 갖는 초박막을 제조하기가 어렵다는 문제점을 가지고 있다.However, the rotation coating method is easy to manufacture a thin film of a relatively thick single layer of 10 nanometers or more, but the manufacture of ultra-thin films of less than that is not appropriate, in particular in the production of a film having a multi-layer structure is not only difficult to control the thickness of the film layer In addition, since there is no special attraction between the multi-layered thin films, it is difficult to manufacture an ultra-thin film having a multi-layered structure due to limitations such as solvent selection having insolubility in each heterogeneous film layer.

다층 초박막을 제작하기 위한 가장 오랜 역사를 지닌 고전적인 방법은 엘비(LB : Langmuir-Blodgett 이하 'LB'라 함) 방법이다.The oldest classical method for producing multilayer ultra-thin films is the Elby (LB) method (Langmuir-Blodgett).

상기 LB 방법은 양쪽 친매성분자 단분자막을 공기와 물 계면에 형성시키고, 이를 고체 기판의 표면으로 전달하여 초박막을 형성시는 것으로, 상기한 과정을 반복하여 다층의 초박막을 제조하는 것이다.The LB method forms both ultra-molecular monolayers at the interface between air and water and transfers them to the surface of the solid substrate to form an ultra-thin film. The above-described process is repeated to produce a multilayer ultra-thin film.

그러나 상기 LB방법은 제조된 필름의 안정성이 떨어지고 분자의 특별한 구조적 조건이나 제작 조건이 매우 까다로우므로 자동화 공정이나 대형화 공정에 도입하기가 어렵다는 문제점이 있다.However, the LB method has a problem in that it is difficult to be introduced into an automated process or an enlargement process because the stability of the produced film is inferior and special structural conditions or manufacturing conditions of molecules are very difficult.

상기한 문제점을 해결하기 위한 방법으로 미국 특허 제5,208,111호에서는 정전기적 인력을 기초로 하고 있는 일종의 분자 자기 조립법(molecular self-assembly method)을 도입하여 초박막 또는 다층의 박막을 제조하는 기술을 개시하고 있다.As a method for solving the above problems, US Patent No. 5,208, 111 discloses a technique for preparing ultra-thin or multilayer thin films by introducing a kind of molecular self-assembly method based on electrostatic attraction. .

상기 방법은 이온 또는 이온화 가능한 화합물로 치환된 기판을 상기 기판과 반대 이온을 갖는 폴리전해질 수용액에 담가둠으로써 폴리이온들이 정전기적 인력에 의해 기판의 표면으로 흡착되어 단분자막을 형성시켜 기판의 표면 전하를 양이온에서 음이온으로 또는 음이온에서 양이온으로 전환시킴으로써 초박막을 형성시키게 된다.The method involves immersing a substrate substituted with an ion or an ionizable compound in an aqueous polyelectrolyte solution having a counter ion opposite to the substrate, whereby polyions are adsorbed onto the surface of the substrate by electrostatic attraction to form a monomolecular film, thereby reducing the surface charge of the substrate. Ultra-thin films are formed by the conversion of cations to anions or from anions to cations.

이때 다층의 초박막을 생성하기 위해서는 상기 초박막 기판을 다시 그 표면에 형성된 전하와 반대되는 전하를 갖는 폴리전해질 수용액 안에 담가두어 정전기적 인력에 의한 폴리이온의 흡착과정을 반복시키게 되면 다층의 초박막을 형성할 수 있게 되는 것이다.In this case, in order to create a multilayer ultra thin film, the ultra thin substrate is immersed again in an aqueous polyelectrolyte solution having a charge opposite to that formed on the surface thereof, and repeated adsorption of poly ions by electrostatic attraction results in formation of a multilayer ultra thin film. It will be possible.

도1은 상기 종래 분자자기 조립법에 의한 다층박막의 제조과정을 나타낸 것으로, 상기 도1에서 보는 바와 같이 규소 또는 유리 기판에 양전하를 갖는 물질을 도입하여 기판 표면을 양전하로 치환한 다음(1), 다시 음전하를 갖는 물질을 도입하여(2) 초박막을 형성하게 된다.Figure 1 shows the manufacturing process of the multilayer thin film by the conventional molecular magnetic assembly method, as shown in Figure 1 by introducing a material having a positive charge on the silicon or glass substrate to replace the substrate surface with a positive charge (1), A negatively charged material is introduced again (2) to form an ultra thin film.

특히 상기와 같이 음전하를 갖는 물질 도입 후 양전하를 갖는 물질을 도입하고, 다시 음전하를 갖는 물질을 도입하는 과정을 여러번 반복함으로써 다층의 초박막을 제조할 수 있는 것이다.In particular, by introducing a material having a positive charge after the introduction of a material having a negative charge as described above, it is possible to manufacture a multi-layer ultra-thin film by repeating the process of introducing a material having a negative charge again several times.

상기에서 적층되는 각각의 층 두께와 구조는 적층 용액의 물리적, 화학적 성질에 의해 결정되는데, 예를 들어 비교적 폴리전해질의 농도가 진하거나 이온염이 첨가된 폴리전해질 용액을 이용하면 확산되는 속도의 증가와 고분자 사슬의 구조적 변형으로 흡착되는 폴리전해질 층의 두께가 두꺼워지는 반면에 매우 묽은 용액을 이용할 경우 흡착되는 층의 두께가 얇게 된다.The layer thickness and structure of each layer deposited above are determined by the physical and chemical properties of the stacking solution, for example, by increasing the diffusion rate using a polyelectrolyte solution having a relatively high concentration of polyelectrolyte or an ion salt added thereto. Due to the structural deformation of the polymer chain, the thickness of the polyelectrolyte layer to be adsorbed becomes thick, whereas when the solution is very thin, the thickness of the adsorbed layer becomes thin.

상기한 방법에 기초하여 공액 구조를 갖는 폴리이온들을 포함하는 다양한 종류의 폴리이온들에 대해서 폭 넓게 적용시킬 수 있으며, 나노 사이즈의 금 입자와머캅토(mercapto) 화합물과의 다층 박막, 단백질의 도입, 양자 입자로 알려진 CdS, CdSe 와 ZnS등 다양한 무기 물질들을 유기 물질과 결합시킨 혼성 구조 박막 제조에도 응용하는 등 그 적용 범위가 계속 증가하는 추세이며, 이에 대한 다양한 연구가 진행중이다.Based on the above method, it can be widely applied to various kinds of polyions including polyions having a conjugated structure, and the introduction of multi-layered thin films and proteins with nano-sized gold particles and mercapto compounds In addition, the range of application is increasing, such as the application of various inorganic materials, such as CdS, CdSe, and ZnS, which are known as quantum particles, to a hybrid structure thin film combined with organic materials.

상기한 방법은 주로 이온 또는 이온화가 가능한 화합물의 정전기적 인력을 이용하여 초박막을 형성하는 것이나, 미국 특허 제5,518,767호에는 이온화에 의하지 않고 부분적으로 양전하를 갖는 전도성고분자와 음전하를 갖는 폴리이온의 인력에 의해 초박막을 형성하는 기술을 공개하고 있다.The above method mainly forms an ultra-thin film using the electrostatic attraction of ions or ionizable compounds, but US Pat. No. 5,518,767 does not apply ionization to the attraction of partially positively conductive conductive polymers and negatively charged polyions. The technique for forming an ultra-thin film is disclosed.

또한 미국 특허 제 5,536,573호에서는 상기 미국 특허 제5,518,767호를 개선하여 고정된 이온화 그룹을 갖는 기존의 폴리전해질과는 달리 도핑된 정도에 따라서 전하량을 조절할 수 있는 폴리아닐린 같은 전도성 고분자와 여러 가지 다른 폴리음이온을 이용하여 정전기적 인력 또는 수소 결합을 통한 다층 박막을 제조함으로써 소형 전기소자, 화학용 또는 생물용 센서, 부식 방지용 코팅 그리고 정전기 방지용 코팅 등의 응용하는 기술을 공개하고 있다.In addition, US Pat. No. 5,536,573 improves the US Pat. No. 5,518,767, unlike a conventional polyelectrolyte having a fixed ionization group, a conductive polymer such as polyaniline and various other polyanions can be controlled according to the degree of doping. By manufacturing a multi-layered thin film through electrostatic attraction or hydrogen bonding using the technology to disclose applications such as small electrical devices, chemical or biological sensors, anti-corrosion coating and anti-static coating.

그러나, 상기한 방법들은 모두 폴리전해질 등을 포함하는 다양한 코팅 용액 안에 기판을 담가둔 상태에서 코팅 물질들의 상호간의 인력 즉, 정전기적 인력, 수소결합, 또는 화학적 결합 등을 통한 자발적 확산에 의한 흡착을 유도하여 박막을 형성하는 것으로 일정한 배향성을 갖는 안정된 박막 층 형성을 위해 5분 내지 30분 정도의 비교적 긴 흡착 시간이 요구되어 진다.However, all of the above methods absorb adsorption by spontaneous diffusion through mutual attraction, that is, electrostatic attraction, hydrogen bonding, or chemical bonding, while the substrates are immersed in various coating solutions including polyelectrolytes. Forming a thin film by induction requires a relatively long adsorption time of about 5 to 30 minutes to form a stable thin film layer having a constant orientation.

이것은 결국 다층 박막 필름 제작시 제조 시간이 매우 길어지게 되어 생산성이 저하되는 치명적인 단점을 가지고 있으며, 특히 다층 박막 필름의 두께 및 표면거칠기를 균일하게 하기 위해서 엄격한 세척 조건과 세척에 다량의 용매를 필요로 하고 있다.This results in a fatal drawback in that the production time becomes very long when manufacturing the multilayer thin film, and the productivity is deteriorated. In particular, in order to make the thickness and surface roughness of the multilayer thin film uniform, strict washing conditions and a large amount of solvent are required for washing. Doing.

이에 본 발명자들은 상기와 같은 여러 가지 문제점을 보완하고 초박막 제작공정을 정밀하고 자동화하여 양질의 초박막 또는 다층 초박막을 개발하고자 예의 연구 노력한 결과 본 발명을 완성하게 되었다.Accordingly, the present inventors have completed the present invention as a result of earnest research efforts to supplement various problems as described above and to develop high quality ultra thin films or multilayer ultra thin films by precisely and automating the ultra thin film manufacturing process.

본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로 기존의 다층 박막 필름 제조방법은 흡착, 세척, 건조과정 등으로 구분되고 균일한 박막 형성을 위해 상대적으로 긴 시간이 소요된다는 단점을 지니고 있기 때문에 짧은 시간동안 양질의 다층 박막을 제조할 수 있도록 한 회전코팅을 이용한 다층 초박막의 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention is to solve the above-mentioned problems, the conventional multilayer thin film manufacturing method is divided into adsorption, washing, drying process, etc. and has a disadvantage that it takes a relatively long time to form a uniform thin film is short It is an object of the present invention to provide a method for producing a multilayer ultra thin film using a rotational coating, which enables the production of a high quality multilayer thin film for a time.

도 1은 종래 분자자기 조립법에 의한 다층박막의 제조과정을 나타낸 공정도.1 is a process chart showing a manufacturing process of a multilayer thin film by a conventional molecular magnetic assembly method.

도 2는 본 발명의 일실시예로 회전 코팅을 이용한 다층 초박막의 제조과정을 나타낸 공정도.Figure 2 is a process diagram showing the manufacturing process of a multi-layer ultra-thin film using a rotary coating in one embodiment of the present invention.

도 3는 폴리아릴아민하이드로클로라이드와 폴리스틸렌술포네이트 복합층의 적층수 증가에 따른 흡광도 변화를 나타낸 그래프.Figure 3 is a graph showing the change in absorbance with increasing the number of laminated polyarylamine hydrochloride and polystyrenesulfonate composite layer.

도 4은 폴리아릴아민하이드로클로라이드와 폴리스틸렌술포네이트를 이용한 초박막 제조시 종래 분자 자기 조립법과 본 발명에 의한 다층 초박막의 적층수별 흡광도를 나타낸 그래프.Figure 4 is a graph showing the absorbance according to the number of stacked layers of the multi-layer ultra-thin film according to the conventional molecular self-assembly method and the present invention in the production of ultra-thin film using polyarylamine hydrochloride and polystyrenesulfonate.

도 5은 폴리아릴아민하이드로클로라이드와 폴리스틸렌술포네이트 용액의 농도 변화에 따른 적층수 별 흡광도를 나타낸 그래프.5 is a graph showing the absorbance for each stacking number according to the concentration change of the polyarylamine hydrochloride and the polystyrenesulfonate solution.

도 6은 폴리아릴아민하이드로클로라이드와 폴리스틸렌술포네이트를 이용한 다층 초박막 제조시 회전속도 변화에 따른 적층수 별 흡광도를 나타낸 그래프.Figure 6 is a graph showing the absorbance by stacking number according to the rotational speed change in the production of multi-layer ultra-thin film using polyarylamine hydrochloride and polystyrenesulfonate.

도 7은 폴리아릴아민하이드로클로라이드와 폴리스틸렌술포네이트를 이용한 다층 초박막 제조시 폴리스틸렌술포네이트에 첨가한 염화나트륨의 농도변화 별 흡광도를 나타낸 그래프.Figure 7 is a graph showing the absorbance according to the concentration change of sodium chloride added to the polystyrene sulfonate in the production of a multi-layer ultra-thin film using polyarylamine hydrochloride and polystyrene sulfonate.

도 8은 폴리아릴아민하이드로클로라이드와 폴리스틸렌술포네이트를 이용한 다층 초박막 제조시 폴리전해질의 산도변화 별 흡광도를 나타탠 그래프.8 is a graph showing the absorbance according to the acidity change of the polyelectrolyte when preparing a multi-layer ultra-thin film using polyarylamine hydrochloride and polystyrenesulfonate.

도 9는 폴리아릴아민하이드로클로라이드와 폴리스틸렌술포네이트를 이용하여 제조된 다층 초박막을 증류수에 보관하면서 단위시간당 흡광도 변화를 나타낸 그래프.Figure 9 is a graph showing the change in absorbance per unit time while storing a multi-layer ultrathin film prepared using polyarylamine hydrochloride and polystyrenesulfonate in distilled water.

도 10은 폴리아릴아민하이드로클로라이드와 황화카드뮴을 이용한 다층 초박막 제조시 폴리아릴아민하이드로클로라이드의 몰농도 변화에 따른 적층수 별 흡광도를 나타낸 그래프.10 is a graph showing the absorbance for each stacking number according to the change in molarity of polyarylamine hydrochloride in preparing a multi-layer ultra-thin film using polyarylamine hydrochloride and cadmium sulfide.

도 11은 폴리아닐린과 폴리비닐피릴리돈 사이의 수소결합을 이용한 다층 초박막제조시 흡광 스펙트럼과 적층수 별 흡광도를 나타낸 그래프.FIG. 11 is a graph showing absorbance spectra and absorbances according to the number of stacked layers in the production of multilayer ultra-thin films using hydrogen bonding between polyaniline and polyvinylpyridone. FIG.

상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 기판상에 초박막 또는 다층의 박막을 제조하는 다층 초박막의 제조방법에 있어서,In order to achieve the above object, the present invention provides a method of manufacturing a multilayer ultra thin film for producing an ultra thin film or a multilayer thin film on a substrate,

양전하 또는 음전하가 도입되거나 수소결합이 가능한 물질이 도입된 기판을 고속회전이 가능한 회전기 위에 재치한 후, 상기 기판 상단에 기판에 도입된 물질과 상호인력에 의하여 결합이 가능한 물질(A)을 도입한 다음 500rpm 내지 15000rpm의 속도로 4초 내지 60초동안 회전시켜 1차코팅하고,After placing a substrate on which a positive or negative charge is introduced or a substance capable of hydrogen bonding is placed on a rotor capable of high-speed rotation, a material (A) capable of bonding by interpulsion with a material introduced to the substrate is introduced on the substrate. Next, the primary coating by rotating for 4 to 60 seconds at a speed of 500rpm to 15000rpm,

상기 1차코팅이 완료된 다음 세척용매를 기판 상단 중앙부에 떨어뜨려500rpm 에서 15000rpm 범위의 속도로 4초 내지 60초동안 회전시키는 세척하는 과정을 1내지 3회 반복하여 기판표면과 약하게 결합되어 있는 물질(A)을 제거하여 박막(A)을 제조하고,After the first coating is completed, the cleaning solvent is dropped to the center of the upper end of the substrate, and the washing process is repeated 1 to 3 times at a speed ranging from 500 rpm to 15000 rpm for 1 to 3 times to weakly bind the material to the substrate ( Remove A) to prepare a thin film (A),

상기 기판에 코팅된 물질(A)과 상호인력에 의하여 결합이 가능한 서로 다른 성질을 갖는 물질(B)을 기판 상단에 도입하여 1차 코팅과 동일한 조건으로 2차코팅한 다음,After the material (A) coated on the substrate and the material (B) having different properties that can be bonded by mutual force is introduced to the top of the substrate and subjected to secondary coating under the same conditions as the primary coating,

상기 2차코팅이 완료된 다음 세척용매를 기판 상단 중앙부에 떨어뜨려 500rpm 내지 15000rpm의 속도로 4초 내지 60초동안 회전시키는 세척하는 과정을 1내지 3회 반복하여 기판표면과 약하게 결합되어 있는 물질(B)을 제거하여 박막(B)을 제조하고, 상기한 박막(A,B) 제조과정을 동일한 조건하에서 여러번 반복하는 것에 의한 회전코팅을 이용한 다층 초박막의 제조방법을 제공함으로써 달성할 수 있다.After the secondary coating is completed, the cleaning solvent is dropped to the center of the upper end of the substrate and rotates for 4 seconds to 60 seconds at a speed of 500 rpm to 15000 rpm. It is possible to achieve by manufacturing a thin film (B) by removing the), and to provide a method for producing a multilayer ultra thin film using a rotation coating by repeating the above-described thin film (A, B) manufacturing process several times under the same conditions.

본 발명에서는 회전코팅을 이용하여 다층구조를 갖는 초박막을 제조하기 위하여 먼저 양전하 또는 음전하가 도입되거나 수소결합이 가능한 물질이 도입된 기판을 고속회전이 가능한 회전기 위에 재치하게 된다.In the present invention, in order to manufacture an ultra-thin film having a multi-layer structure using a rotation coating, a substrate in which positive or negative charges are introduced or a substance capable of hydrogen bonding is first placed on a rotor capable of high speed rotation.

이때 기판은 유기물이나 무기물질 모두 사용가능하며, 무기물질의 일예로서는 금, 팔라듐, 플라티늄, 유리, 세라믹 물질, 게르마늄, 실리콘 등과 같은 금속, 전도성 물질, 반도체물질, 절연성 물질이 사용될 수 있으며, 상기 기판에 양전하 또는 음전하를 도입하는 과정과 수소결합을 가능하게하는 과정은 통상의 방법에 따라 도입된 것을 사용할 수 있다.At this time, the substrate may be used both organic and inorganic materials, and examples of the inorganic materials may be metals such as gold, palladium, platinum, glass, ceramic materials, germanium, silicon, conductive materials, semiconductor materials, and insulating materials. The process of introducing a positive charge or a negative charge into and a process of enabling hydrogen bonding can be used according to a conventional method.

일예로 기판에 음전하를 도입하는 과정은 기판을 물, 암모니아수, 과산화수소 등으로 구성된 블렌드 용액에 일정시간 담가두어 기판 표면에 음전하를 도입시킬 수 있게 된다.For example, the process of introducing a negative charge to the substrate is to immerse the substrate in a blend solution consisting of water, ammonia water, hydrogen peroxide for a certain time to introduce a negative charge on the surface of the substrate.

상기와 같이 통상의 방법으로 전하를 도입한 기판에 초박막을 형성하기 위하여 양전하 또는 음전하가 도입된 기판을 고속회전이 가능한 회전기 위에 재치한 후, 상기 기판 상단에 기판에 도입된 물질과 상호인력에 의하여 결합이 가능한 물질(A)을 도입한 다음 500rpm 내지 15000rpm의 속도로 4초 내지 60초동안 회전시켜 1차코팅하게 된다.As described above, in order to form an ultra-thin film on a substrate into which charge is introduced, a substrate in which positive or negative charge is introduced is placed on a rotator capable of rotating at a high speed, and then by mutual attraction with a material introduced into the substrate on the substrate. Introducing the bondable material (A) and then the first coating by rotating for 4 to 60 seconds at a speed of 500rpm to 15000rpm.

이때 상기 상호인력에 의하여 결합이 가능하다라 함은 정전기적 이온 결합 및 수소결합, 화학적 결합 등과 같은 분자간의 상호작용에 의하여 결합 가능한 인력을 말하는 것이며 코팅시간과 회전수는 용매가 충분히 제거되는 시간과 폴리전해질의 농도를 고려한 것으로서 상기와 같이 제시된 회전수와 코팅시간에 반드시 국한되지 않는다.In this case, the bond is possible by the mutual attraction means the attraction force that can be bonded by the interaction between molecules such as electrostatic ionic bonds, hydrogen bonds, chemical bonds, etc. Considering the concentration of the polyelectrolyte, it is not necessarily limited to the number of revolutions and the coating time presented above.

일예로 정전기적 인력이 가능한 물질중 폴리전해질로는 하기한 화학식1에 나타낸 폴리아릴아민하이드로클로라이드 또는 화학식2에 나타낸 폴리스틸렌술포네이트 등이 있으며, 무기물 나노입자로는 화학식3에 나타낸 황화카드뮴 나노입자가 가능하다.For example, polyelectrolyte among the materials capable of electrostatic attraction include polyarylamine hydrochloride represented by the following Chemical Formula 1 or polystyrenesulfonate represented by Chemical Formula 2, and the inorganic nanoparticles include cadmium sulfide nanoparticles represented by Chemical Formula 3. It is possible.

또한 상호간의 수소결합이 가능한 고분자로는 화학식4에 나타낸 폴리아닐린 또는 화학식5에 나타낸 폴리피롤리돈이 사용가능하다.In addition, polyaniline represented by the formula (4) or polypyrrolidone represented by the formula (5) can be used as a polymer capable of hydrogen bonding with each other.

이때 기판에 도입된 물질과 상호인력에 의하여 결합이 가능한 물질(A)을 도입하는 과정은 다양한 방법으로 도입시킬 수 있으나 가장 간단한 방법으로는 기판상에 물질(A)을 떨어뜨리거나 분사시키는 방법이 있으며, 그 외에도 도입하고자 하는 물질(A)용액에 기판을 순간적으로 담갔다 빼내는 방법을 통해 도입을 시킬 수 있게 된다.At this time, the process of introducing the material (A) which can be combined by the mutual force with the material introduced into the substrate can be introduced in various ways, but the simplest method is to drop or spray the material (A) on the substrate In addition, it can be introduced through a method of immersing and removing the substrate in the material (A) solution to be introduced.

상기와 같이 상호인력에 의하여 결합 가능한 물질(A)을 기판에 도입한 다음 회전시켜 박막을 형성하게 되는데, 이때 회전속도가 500rpm 미만일 경우 약하게 흡착되는 폴리이온의 양이 많아지고 용매가 완전히 제거되는 코팅 시간이 길어지게 되는 문제점이 발생하며, 또한 회전속도는 15000rpm을 초과할 필요는 없으며 오히려 흡착력보다 원심력이 커지게 되어 박막에 흡착되는 양보다 외부로 제거되는 양이 많아지는 문제점이 발생하게 되므로 용액의 농도와 코팅 시간을 고려하여 회전속도는 500rpm 내지 150000rpm으로 하는 것이 바람직하다.As described above, the bondable material (A) is introduced into the substrate and then rotated to form a thin film. When the rotational speed is less than 500 rpm, the amount of polyion that is weakly adsorbed increases and the solvent is completely removed. The longer the problem occurs, and the rotational speed does not have to exceed 15000rpm, but rather the centrifugal force becomes larger than the adsorption force, so that the amount of removal to the outside becomes larger than the amount adsorbed on the thin film. Considering the concentration and the coating time, the rotation speed is preferably set to 500rpm to 150000rpm.

또한 상기와 같은 회전속도로 고속회전시 4초 내지 60초 정도면 기판의 표면에 코팅이 완료되게 되는데, 기존의 분자 자기 조립법은 상반된 전하를 갖는 각각의 폴리전해질 수용액 안에 기판을 교대로 담가둠으로써 폴리이온들의 자발적 확산 현상에 근거한 흡착과정을 거치나, 본 발명에 의한 회전 코팅 자기 조립법은 정전기적 인력에 의한 자발적 확산 뿐만 아니라 수평 방향으로 가해지는 원심력과 폴리전해질이 기판에 부여하는 전단 응력에 의해 폴리이온들의 확산 속도를 인위적으로 가속화시키고 흡착되는 가능성을 크게 증가시켜 빠른시간내에 코팅이 가능하게 되는 것이다.In addition, the coating is completed on the surface of the substrate in about 4 to 60 seconds at high speed at the rotational speed as described above. In the conventional molecular self-assembly method, the substrates are alternately immersed in each polyelectrolyte solution having opposite charges. After the adsorption process based on spontaneous diffusion of polyions, the rotary coating self-assembly method according to the present invention is not only spontaneous diffusion due to electrostatic attraction but also due to the centrifugal force applied in the horizontal direction and the shear stress applied to the substrate by the polyelectrolyte. By accelerating the diffusion rate of polyions artificially and greatly increasing the likelihood of adsorption, coating is possible in a short time.

상기와 같이 고속회전하여 1차코팅이 완료된 다음 세척용매를 기판 상단 중앙부에 떨어뜨려 500rpm 에서 15000rpm 범위의 속도로 4초 내지 60초동안 회전시키는 세척하는 과정을 1내지 3회 반복하여 기판표면과 약하게 결합되어 있는 물질(A)을 제거하여 박막(A)을 제조하게 된다.After the first coating is completed by rotating at a high speed as described above, the washing solvent is dropped on the upper center of the substrate, and the washing process is repeated one to three times at a speed ranging from 500 rpm to 15000 rpm for 1 to 3 times to weaken the surface of the substrate. By removing the combined material (A) to prepare a thin film (A).

상기한 과정을 통해 단층의 박막(A)을 형성시킨 다음 그 박막 표면에 1차 코팅된 물질(A)과 상호인력에 의하여 결합이 가능한 서로 다른 성질을 갖는 물질(B)을 기판 상단에 도입하여 1차 코팅과 동일한 조건 하에서 2차코팅을 한 다음, 다시 세척과정을 1내지 3회 반복하여 박막표면에 약하게 결합되어 있는 물질(B)를 제거하여 박막(B)를 제조하게 된다.After forming a single layer of thin film (A) through the above process, by introducing a material (B) having a different property that can be bonded to the first coated material (A) on the surface of the thin film by mutual gravitation to the top of the substrate After the second coating under the same conditions as the primary coating, the washing process is repeated once or three times to remove the material (B) weakly bonded to the thin film surface to prepare a thin film (B).

상기와 같은 박막도입과정을 실시하게 되면 본 발명에 의한 다층 초박막을 제조할 수 있게 되는데, 이때 상기한 코팅방법은 단순히 두가지 물질로 이루어진 다층 초박막(ABAB......)뿐만아니라 상호 결합이 가능한 여러 가지 물질로 구성된 다층 초박막을 제조할 수가 있다.When the above-described thin film introduction process is carried out, the multilayer ultra thin film according to the present invention can be manufactured. In this case, the above-described coating method is not only a multi-layer ultra thin film (ABAB ......) but also mutual bonding. It is possible to produce multilayer ultrathin films composed of as many different materials as possible.

예를 들어, A와 C가 같은 전하를 가지고 B와 D가 같은 전하를 갖는다면 ABCABCABC...., ABCDABCD....., CBADCBAD....와 같은 여러 물질간의 복잡한 다층 초박막이 제조가능하다.For example, if A and C have the same charge and B and D have the same charge, complex multilayer ultra-thin films between several materials such as ABCABCABC ...., ABCDABCD ....., CBADCBAD .... can be produced. Do.

기존의 다층 박막 제조에 사용된 분자자기 조립법은 상호간의 인력을 갖는다른 물질의 용액 안에 기판을 일정시간 담가두어 자발적인 흡착을 유도하여 박막을 형성하고, 다시 상기한 과정을 반복하여 다층 박막을 제조하게 되는데, 상기 자발적인 흡착에 의해 하나의 균일한 단분자막을 제작하는 데는 5분 내지 30분 정도의 비교적 긴 시간이 필요하고, 또한 다층 박막의 제조하는 과정에서는 상당히 많은 흡착시간과 엄격한 세척과정을 가져야만 했다.The conventional molecular self-assembly method used in the manufacture of multilayer thin films induces spontaneous adsorption by immersing the substrate in a solution of different materials with mutual attraction for a period of time to form a thin film. The spontaneous adsorption requires a relatively long time of about 5 to 30 minutes to produce a single monolayer, and also requires a lot of adsorption time and a strict cleaning process in the manufacture of the multilayer thin film. .

그러나 본 발명에서는 회전 코팅을 이용하여 4초 내지 60초의 빠른 시간내에 초박막 형성이 가능하고, 이러한 과정을 반복하여 다층 박막을 제조할 수 있게 되므로 생산성을 크게 향상시킬 수 있다는 장점이 있다.However, in the present invention, it is possible to form an ultra-thin film in a fast time of 4 seconds to 60 seconds by using the rotational coating, and thus it is possible to manufacture a multilayer thin film by repeating this process, and thus there is an advantage in that productivity can be greatly improved.

또한 분자 자기 조립법은 자발적 흡착과정에 의하여 결함이 없고 균일한 박막 형성을 위해 충분한 흡착시간을 가져야 하나, 회전 코팅 자기 조립법은 고속 회전에 의한 원심력하에서 흡착과정이 일어나므로 빠른 시간에 표면조도가 잘 조절되어진 균일한 박막이 형성된다.In addition, molecular self-assembly should have sufficient adsorption time for defect-free and uniform thin film formation by spontaneous adsorption process. However, spin coating self-assembly can control surface roughness quickly because the adsorption process takes place under centrifugal force by high speed rotation. A uniform thin film is formed.

뿐만 아니라 기존의 분자 자기 조립법은 다층 박막 제조시 균일한 박막 표면을 가지기 위해서 용액상에서 흡착된 기판을 건조시키는 과정없이 바로 용매 등으로 세척하여 약하게 흡착된 층을 제거해야 하나 회전 코팅 조립법은 흡착과정에서 약하게 흡착되는 고분자 전해질은 원심력에 의해 상당부분 제거되고 동시에 용매가 제거되므로 흡착과 건조 과정이 동시에 진행된다는 장점이 있다.In addition, the conventional molecular self-assembly method should remove the weakly adsorbed layer by immediately washing it with a solvent, etc. without drying the adsorbed substrate in the solution in order to have a uniform thin film surface when manufacturing the multilayer thin film. The weakly adsorbed polymer electrolyte is substantially removed by centrifugal force and at the same time the solvent is removed, there is an advantage that the adsorption and drying process proceeds simultaneously.

특히 본 발명의 회전코팅을 이용한 다층 초박막을 제조하는 과정에서는 박막의 두께를 4옹스트롱(Å) 내지 100옹스트롱(Å)의 범위내에서 자유롭게 조절할 수 있는데, 상기와 같이 두께를 조절하기 위해서는 용매의 농도, 이온염의 첨가,산도(pH)와 회전속도를 적절하게 조절함으로써 가능하게 되는 것이다.In particular, in the process of manufacturing a multilayer ultra thin film using the rotation coating of the present invention, the thickness of the thin film can be freely controlled within the range of 4 angstroms to 100 angstroms, in order to control the thickness as described above. This can be achieved by appropriately adjusting the concentration of ions, the addition of ionic salts, the acidity (pH) and the rotational speed.

이하 본 발명을 첨부한 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명하기로 하나, 첨부한 도면은 본 발명의 이해를 돕기위해 제시되는 것일 뿐 본 발명이 제기한 설명에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings, but the accompanying drawings are presented to aid the understanding of the present invention, but are not limited to the descriptions raised by the present invention.

도2은 본 발명의 일실시예로 회전 코팅을 이용한 다층 초박막의 제조과정을 나타낸 도면으로, 상기 도2에서 보는 바와 같이 본 발명은 음전하가 도입된 기판을 고속회전기에 재치한 다음, 상기 기판 상단에 양전하를 갖는 물질을 도입(1)하면서 500rpm 에서 15000rpm 범위의 속도로 4초 내지 60초동안 회전시켜 코팅하고(2), 상기 코팅된 표면 중앙부에 다시 음전하를 갖는 물질을 떨어뜨려 음전하를 갖는 물질(3)을 도입하면서 500rpm 에서 15000rpm범위의 속도로 4초 내지 60초동안 회전시켜 코팅하고(4), 상기 음전하 도입과 양전하 도입을 반복하면서 코팅하면(5) 다층박막을 제조할 수 있게 되는 것이다.Figure 2 is a view showing a manufacturing process of a multi-layer ultra-thin film using a rotary coating as an embodiment of the present invention, as shown in FIG. (1) while introducing a material having a positive charge to the coating by rotating for 4 seconds to 60 seconds at a speed in the range of 500rpm to 15000rpm (2), the negatively charged material by dropping the negatively charged material in the center of the coated surface again (3) while coating is rotated for 4 seconds to 60 seconds at a speed in the range of 500rpm to 15000rpm (4), and coating while repeating the introduction of the negative charge and positive charge (5) will be able to manufacture a multilayer thin film .

이때 상기와 같이 코팅한 직후(3, 5)에는 세척용매를 기판 상단 중앙부에 떨어뜨리고 500rpm 내지 15000rpm의 속도로 8초 내지 60초동안 회전시켜 세척하는 과정을 1내지 3회 반복하면 비교적 약하게 결합되어 있는 물질이 제거되어 박막의 두께가 일정하면서 표면거칠기가 일정한 초박막을 제조할 수 있게 되는 것이다.At this time, immediately after the coating as described above (3, 5) drop the washing solvent in the center of the upper substrate and rotates for 8 seconds to 60 seconds at a speed of 500rpm to 15000rpm and repeats the cleaning process 1 to 3 times relatively weakly coupled Substances are removed so that the thickness of the thin film is constant and the surface roughness is able to produce a very thin film.

이하 본 발명을 하기한 실시예를 통하여 보다 상세하게 설명하기로 하나 본 발명은 하기한 설명에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to the following description.

<실시예 1><Example 1>

음전하로 치환된 석영 유리 기판 (1.3cm x 4.5cm)을 고속회전기 위에 재치한다음, 상기 기판 위에 0.01M 폴리아릴아민하이드로클로라이드(이하 'PAH'라 함)를 2 ml 떨어뜨리고, 3000rpm의 속도로 15초동안 회전하여 코팅하고, 상기 코팅이 완료된 다음 증류수를 2 ml 떨어뜨려 다시 3000rpm의 속도로 15초동안 회전시켜 세척하는 과정을 2회 반복하고, 상기 코팅된 기판 표면에 0.01M 폴리스틸렌술포네이트(이하 'PSS'라 함)를 2 ml 떨어뜨리고, 3000rpm의 속도로 15초동안 회전하여 코팅하고, 상기 코팅이 완료된 다음 증류수를 2 ml 떨어뜨려 다시 3000rpm의 속도로 15초동안 회전시켜 세척하는 과정을 2회 반복하고, 상기 PAH와 PSS를 코팅하는 과정을 여러번 반복하여 적층수가 6, 10, 14, 20, 26, 30, 34, 40인 다층 박막을 제조한 다음, 상기 제조된 박막의 흡광도를 흡광광도계(Perkin-Elmer Lambda 4B UV/visible spectrophotometer)로 190nm 내지 400nm 범위에서 측정하여 도3에 나타내었으며, 225nm의 흡광도만을 취하여 그래프로 나타내었다. 상기에서 225nm는 PSS의 흡광 영역이다.A negatively charged quartz glass substrate (1.3 cm x 4.5 cm) was placed on a high speed rotor, followed by dropping 2 ml of 0.01 M polyarylamine hydrochloride (hereinafter referred to as 'PAH') on the substrate at a speed of 3000 rpm. The coating was rotated for 15 seconds, and after the coating was completed, 2 ml of distilled water was dropped and again rotated for 15 seconds at a speed of 3000 rpm, followed by washing twice, and 0.01M polystyrenesulfonate ( 2 ml of 'PSS') is then dropped and coated by rotating at a speed of 3000 rpm for 15 seconds, and after the coating is completed, 2 ml of distilled water is dropped and then rotated at a speed of 3000 rpm for 15 seconds to wash. Repeat twice, and repeat the process of coating the PAH and PSS several times to produce a multilayer thin film having a stack number of 6, 10, 14, 20, 26, 30, 34, 40, and then absorb the absorbance of the prepared thin film Photometer (Perkin-Elmer Lamb da 4B UV / visible spectrophotometer) measured in the range from 190nm to 400nm is shown in Figure 3, and taken only the absorbance of 225nm is shown in the graph. 225 nm is the light absorption area of PSS.

도3에서 보는 바와 같이 적층수가 증가함에 따라 흡광도가 선형적으로 증가하고 있음을 확인할 수 있는데, 이것은 회전 코팅에 의해서 적층되는 PSS의 흡착량이 매우 균일함을 보여 준다.As shown in FIG. 3, it can be seen that the absorbance increases linearly as the number of stacked layers increases, which shows that the adsorption amount of PSS deposited by the rotating coating is very uniform.

<실시예 2><Example 2>

상기 실시예1과 동일하게 실시하되, 회전수를 4000rpm으로 하여 적층수가 4, 8, 12, 16, 20인 다층박막을 제조한 다음, 상기 제조된 박막의 흡광도를 흡광광도계로 225nm에서 측정하고, 그 결과를 도4에 나타내었다.In the same manner as in Example 1 except that the number of revolutions to 4000rpm to produce a multilayer thin film of 4, 8, 12, 16, 20, and then measured the absorbance of the prepared thin film at 225 nm with an absorbance meter, The results are shown in FIG.

<비교예 1>Comparative Example 1

음전하로 치환된 석영 유리 기판(1.3cm x 4.5cm)을 0.01M PAH 용액에 20분간 담구어 코팅하고, 상기 코팅이 완료된 다음 증류수로 2분간 2회 반복 세척하고, 상기 코팅된 기판을 0.01M PSS용액에 20분간 담구어 코팅하고, 상기 코팅이 완료된 다음 증류수로 2분간 2회 반복세척하고, 상기 PAH와 PSS를 코팅하는 과정을 여러번 반복하여 적층수가 4, 8, 12, 16, 20인 다층박막을 제조한 다음, 상기 제조된 박막의 흡광도를 흡광광도계로 225nm에서 측정하여 그 결과를 도4에 나타내었다.A negatively charged quartz glass substrate (1.3 cm x 4.5 cm) was immersed in a 0.01 M PAH solution for 20 minutes, coated, and then washed twice with distilled water for 2 minutes, and the coated substrate was 0.01 M PSS. After soaking in solution for 20 minutes, and after the coating is completed, repeat washing twice with distilled water for 2 minutes, and repeating the process of coating the PAH and PSS several times to stack 4, 8, 12, 16, and 20 multilayer films. Next, the absorbance of the prepared thin film was measured at 225 nm with an absorbance spectrometer, and the results are shown in FIG. 4.

도4 에서 보는 바와 같이 회전 코팅에 의해 제조된 박막의 흡광도가 높아 흡착량이 월등히 많다는 것을 알 수 있는데, 이것은 고속회전으로 인한 용질보다 용매의 더 빠른 제거로 인하여 폴리이온들의 농도가 회전시간 동안 계속 증가할 뿐만 아니라 수평방향으로 가해지는 전단 응력과 원심력이 폴리이온들의 밀집된 박막을 형성하는 것으로 판단된다.As shown in FIG. 4, it can be seen that the absorbance of the thin film prepared by the rotation coating is high, so that the adsorption amount is much higher. This is because the concentration of the polyions continues to increase during the rotation time due to the faster removal of the solvent than the solute due to the high speed rotation. In addition, the shear stress and centrifugal force applied in the horizontal direction are considered to form a dense thin film of polyions.

<실시예 3><Example 3>

PSS 용액의 농도를 1mM, 2.5mM, 5mM, 10mM, 12.5mM, 16mM, 20mM, 24mM, 50mM로 변화시키면서 실시예1과 동일한 방법으로 실시하여 다층박막을 제조하되, 회전수를 4000rpm으로 하여 적층수가 4, 8, 12, 16, 20인 다층박막을 제조한 다음, 상기 제조된 박막의 흡광도를 흡광광도계로 225nm에서 측정하여 도5에 나타내었으며, 이때 PSS 용액의 농도에 따른 단층의 초박막 두께를 표1에 나타내었다.The multilayer film was prepared in the same manner as in Example 1 while changing the concentration of the PSS solution to 1mM, 2.5mM, 5mM, 10mM, 12.5mM, 16mM, 20mM, 24mM, and 50mM, but the rotation speed was 4000rpm. 4, 8, 12, 16, and 20 were prepared, and then the absorbance of the thin film was measured at 225 nm with an absorbance spectrophotometer, and is shown in FIG. 5, where the ultra-thin thickness of the monolayer according to the concentration of the PSS solution was 1 is shown.

도5에서 보는 바와 같이 용액의 농도가 0.001M에서 부터 0.016M 까지는 흡광도가 증가하고 있음을 확인할 수 있으나, 그 이후의 농도에서는 흡광도가 일정하게 유지되었다. 이러한 결과는 농도의 증가에 따라 폴리이온들의 확산 속도가 크게 증가하여 흡착량이 증가되나 일정량 만큼 충분히 흡착이 이루어지면 같은 전하사이의 반발력으로 인해 흡착이 방해를 받기 때문이다.As shown in Figure 5 it can be seen that the absorbance is increased from 0.001M to 0.016M concentration of the solution, but at a subsequent concentration the absorbance was kept constant. This result is that the adsorption amount is increased by increasing the diffusion rate of poly ions with increasing concentration, but if adsorption is sufficiently made by a certain amount, the adsorption is disturbed due to the repulsive force between the same charges.

몰농도 (mM)Molarity (mM) 1One 2.52.5 55 1010 12.512.5 1616 2020 2424 5050 층당 두께 (nm)Thickness per layer (nm) 0.40.4 0.840.84 1.631.63 2.502.50 3.373.37 3.723.72 3.763.76 3.933.93 3.973.97

따라서, 표1에서 보는 바와 같이 용액의 농도를 적절히 조절하여 흡착되는 양을 조절할 수 있으므로 (PAH/PSS)의 한 층당 두께를 정해진 범위내에서 다양하게 변화시킬 수 있음을 상기 표1을 통해 확인할 수 있다.Therefore, as shown in Table 1, it is possible to control the amount of adsorption by appropriately adjusting the concentration of the solution, so it can be confirmed through Table 1 that the thickness per layer of (PAH / PSS) can be varied within a predetermined range. have.

<실시예 4><Example 4>

회전속도를 2000rpm, 3000rpm, 4000rpm, 5000rpm, 6000rpm 으로 변화시키면서 실시예1과 동일한 방법으로 실시하여 다층박막을 제조하되, 적층수가 4, 8, 12, 16, 20인 다층박막을 제조한 다음, 상기 제조된 35개 박막의 흡광도를 흡광광도계로 225nm에서 측정하여 도6에 나타내었다.In the same manner as in Example 1 while varying the rotational speed to 2000rpm, 3000rpm, 4000rpm, 5000rpm, 6000rpm to produce a multilayer thin film, the number of laminated 4, 8, 12, 16, 20 to produce a multilayer thin film, then The absorbance of the 35 thin films thus prepared was measured at 225 nm with an absorbance spectrometer and is shown in FIG. 6.

도6에서 보는 바와 같이 회전수가 증가함에 따라서 흡착량이 초기에 비교적 많이 줄어들지만 4000rpm 이상에서부터는 그 감소폭이 줄어드는 것을 볼 수 있는데, 이것은 회전속도 증가에 의한 강한 원심력에 의하여 약하게 흡착되는 층이 더 많이 제거되기 때문이다.As shown in Figure 6, as the rotational speed increases, the amount of adsorption initially decreases relatively much, but the decrease decreases from 4000 rpm or more, which means that the weakly adsorbed layer is removed more by the strong centrifugal force due to the increase of the rotational speed. Because it becomes.

<실시예 5>Example 5

0.01M PSS 내에 염화나트륨의 농도가 각각 0M, 0.1M, 0.5M, 1.0M이 되도록 한 다음 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여 다층박막을 제조하되, 적층수가 2,4, 8, 12, 16, 20인 다층박막을 제조한 다음, 상기 제조된 24개 박막의 흡광도를 흡광광도계로 225nm에서 측정하여 도7에 나타내었다.The concentration of sodium chloride in 0.01M PSS was 0M, 0.1M, 0.5M, and 1.0M, respectively, followed by the same method as in Example 1 to prepare a multilayer thin film, with the number of laminations 2, 4, 8, 12, 16, After preparing a multilayer thin film of 20 people, the absorbance of the 24 thin films prepared above was measured at 225 nm with an absorbance spectrometer and is shown in FIG. 7.

도7에서 보는 바와 같이 염화나트륨의 첨가량이 증가됨에 따라 흡착량이 증가됨을 알 수 있는데, 이것은 염화나트륨을 첨가함에 의해 용액의 이온화도를 증가되었기 때문이다.As shown in FIG. 7, it can be seen that as the amount of sodium chloride is increased, the amount of adsorption increases because the degree of ionization of the solution is increased by adding sodium chloride.

<실시예 6><Example 6>

PAH와 PSS의 산도(pH)을 5.8, 4.5, 3.2, 2.5로 변화시키면서 실시예1과 동일한 방법으로 실시하여 다증박막을 제조하되, 회전수를 4000rpm으로 하여 적층수가 2, 4, 8, 12, 16, 20인 다층박막을 제조한 다음, 상기 제조된 24개 박막의 흡광도를 흡광광도계로 225nm에서 측정하여 도8에 나타내었다.PAH and PSS acidity (pH) was changed to 5.8, 4.5, 3.2, 2.5 in the same manner as in Example 1 to prepare a multi-film thin film, the number of revolutions to 4000rpm laminated number of 2, 4, 8, 12, After preparing the multilayer thin films of 16 and 20, the absorbance of the 24 thin films prepared above was measured at 225 nm with an absorbance spectrometer and is shown in FIG. 8.

도8에서 보는 바와 같이 pH가 감소함에 따라 흡착량이 증가됨을 알 수 있다.As shown in Figure 8 it can be seen that the amount of adsorption increases as the pH decreases.

<실시예 7><Example 7>

PSS 용액의 농도를 1mM, 2.5mM, 5mM, 10mM, 12.5mM, 16mM, 20mM, 24mM, 50mM로 변화시키면서 실시예1과 동일한 방법으로 실시하여 다층박막을 제조하되, 회전수를 4000rpm으로 하여 적층수가 20인 다층박막을 제조한 다음, 상기 제조된 9개의 박막을 증류수내에 담구어 두고 시간에 따른 흡광도를 흡광광도계로 225nm에서 측정하여 도9에 나타내었다.The multilayer film was prepared in the same manner as in Example 1 while changing the concentration of the PSS solution to 1mM, 2.5mM, 5mM, 10mM, 12.5mM, 16mM, 20mM, 24mM, and 50mM, but the rotation speed was 4000rpm. After preparing a multilayer thin film of 20, the nine thin films prepared above were immersed in distilled water, and the absorbance with time was measured at 225 nm with an absorbance spectrometer, and is shown in FIG. 9.

상기 도9에서 보는 바와 같이 적층수가 20인 다층박막 필름을 이루는 각각의 층은 수용성임에도 불구하고 장시간 증류수내에 담구어 놓아도 흡광도의 변화가 없음을 확인할 수 있는데, 이것은 각각의 복합층이 견고한 다층 박막을 이루고 있기때문이다.As shown in FIG. 9, even though each of the layers forming the multilayer thin film having the number of stacked layers of 20 is water soluble, there is no change in absorbance even after immersing in distilled water for a long time. Because it is achieved.

<실시예 8><Example 8>

음전하로 치환된 석영 유리 기판 (1.3cm x 4.5cm)을 고속회전기 위에 재치한 다음, 상기 기판 위에 0.01M PAH를 약 2ml 떨어뜨리고, 3000rpm의 속도로 15초동안 회전하여 코팅하고, 상기 코팅이 완료된 다음 증류수를 2ml 떨어뜨려 다시 3000rpm의 속도로 15초동안 회전시켜 세척하는 과정을 2회 반복하고, 상기 코팅된 기판 표면에 황화카드뮴(CdS) 나노입자 수용액을 2ml 떨어뜨리고, 3000rpm의 속도로 15초동안 회전하여 코팅하고, 상기 코팅이 완료된 다음 증류수를 2ml 떨어뜨려 다시 3000rpm의 속도로 15초동안 회전시켜 세척하는 과정을 2회 반복하고, 상기 PAH와 CdS를 코팅하는 과정을 여러번 반복하여 적층수가 1, 2, 4, 6, 8, 10, 12, 14, 16, 18, 20인 다층 박막을 제조하였다. 이때 CdS의 농도를 각각 0.25mM, 0.5mM, 1.0mM, 3.0mM, 5.0mM, 10mM, 12mM, 20mM로 변화시키면서 상기 과정을 반복하여 다층박박을 제조한 다음, 상기 제조된 88개 박막의 흡광도를 흡광광도계로 360nm에서 측정하여 도10에 나타내었다. 상기에서 360nm는 황화카드뮴의 흡광 영역이다.A negatively charged quartz glass substrate (1.3 cm x 4.5 cm) was placed on a high speed rotor, followed by dropping about 2 ml of 0.01 M PAH on the substrate, rotating at a speed of 3000 rpm for 15 seconds to coat, and completing the coating. Then, 2 ml of distilled water is dropped again and rotated for 15 seconds at a speed of 3000 rpm, and the washing process is repeated twice, and 2 ml of a solution of cadmium sulfide (CdS) nanoparticles is dropped on the coated substrate surface, and 15 seconds at a speed of 3000 rpm. Rotate for a while, and after the coating is completed, 2 ml of distilled water is dropped and rotated again for 15 seconds at a speed of 3000 rpm, and the washing process is repeated twice, and the coating process of PAH and CdS is repeated several times. , 2, 4, 6, 8, 10, 12, 14, 16, 18, 20 to prepare a multilayer thin film. At this time, the concentration of CdS was changed to 0.25mM, 0.5mM, 1.0mM, 3.0mM, 5.0mM, 10mM, 12mM, and 20mM, respectively, to prepare a multilayer foil, and then absorbance of the 88 thin films. 10 was measured at 360 nm with an absorbance spectrometer. In the above, 360 nm is an absorption region of cadmium sulfide.

상기에서 사용된 황화카드뮴 나노입자는 40mg 의 카드뮤퍼클로레이트 (Cd(ClO4)2) 와 2ml 의 싸이오래틱엑시드 (CH3CH(SH)CO2H) 를 증류수에 투입하여 250㎖로 만든 용액에 1M의 수산화나트륨을 첨가하여 pH8 내지 pH10으로 조절한 다음 황화나트륨 10mg 를 첨가하여 음전하를 갖는 황화카드뮴 나노입자를 제조하였다.The cadmium sulfide nanoparticles used in the above solution was prepared by adding 40 mg of cadmium perchlorate (Cd (ClO 4 ) 2 ) and 2 ml of thoramatic acid (CH 3 CH (SH) CO 2 H) into distilled water to make 250 ml. 1M sodium hydroxide was added to adjust pH to pH10, and then 10 mg of sodium sulfide was added to prepare cadmium sulfide nanoparticles having a negative charge.

상기 도10에서 보는 바와 같이 적층수가 증가함에 따라 흡광도가 선형적으로증가하고 있음을 확인할 수 있는데, 이것은 회전 코팅에 의해서 적층되는 황화카드뮴의 흡착량이 매우 균일함을 보여 준다.As shown in FIG. 10, it can be seen that the absorbance increases linearly as the number of stacked layers increases, which shows that the adsorption amount of cadmium sulfide deposited by the rotating coating is very uniform.

또한 용액의 농도가 증가함에 따라 일정정도 흡광도가 증가하고 있음을 확인할 수 있으나, 그 이후의 농도에서는 흡광도가 일정하게 유지되었다. 이러한 결과는 농도의 증가에 따라 확산 속도가 크게 증가하여 흡착량이 증가되나 일정량 만큼 충분히 흡착이 이루어지면 같은 전하사이의 반발력으로 인해 흡착이 방해를 받기 때문이다.In addition, as the concentration of the solution increases, it was confirmed that the absorbance was increased to a certain degree, but the concentration was kept constant at the concentration after that. This result is because the adsorption amount is increased by increasing the diffusion rate significantly with increasing concentration, but if the adsorption is sufficiently made by a certain amount, the adsorption is disturbed due to the repulsive force between the same charges.

<실시예 9>Example 9

음전하로 치환된 석영 유리 기판 (1.3cm x 4.5cm)을 고속 회전기 위에 재치한 다음, 상기 기판위에 폴리 양이온인 PAH와 폴리 음이온 PSS를 교대로 1층씩 실시예1과 동일한 방법으로 적층하여 코팅하고, 상기 코팅된 기판 표면에 폴리아닐린 수용액을 2ml 떨어뜨리고, 4000rpm의 속도로 15초동안 회전시킨후, pH2.5로 조절된 증류수 2ml 떨어뜨려 다시 4000rpm의 속도로 15초동안 회전시켜 세척하는 과정을 2회 반복하고, 0.01M의 폴리비닐피롤리돈 수용액 2ml를 떨어뜨려 4000rpm의 속도로 15초동안 회전시킨후, pH5.5의 증류수로 4000rpm의 속도로 15초동안 2회 회전시키고, 상기 폴리아닐린과 폴리비닐피롤리돈을 코팅하는 과정을 여러번 반복하여 적층수가 2, 4, 6, 8, 10인 다층 박막을 제조하였다. 상기 제조된 5개 박막의 흡광 스펙트럼을 흡광광도계로 측정하였고 630nm에서 흡수된 흡광도와 적층수와의 관계를 도11에 나타내었다. 상기에서 500nm와 800nm에서 보여주는 넓은 흡광 스펙트럼 영역은 폴리아닐린의 전형적인 흡광영역이다.A negatively charged quartz glass substrate (1.3 cm x 4.5 cm) was placed on a high speed rotor, and then the polycation PAH and poly anion PSS were alternately stacked and coated in the same manner as in Example 1 on the substrate, 2 ml of polyaniline aqueous solution was dropped on the surface of the coated substrate, rotated for 15 seconds at a speed of 4000 rpm, and then 2 ml of distilled water adjusted to pH2.5 was dropped for 2 seconds at a speed of 4000 rpm, and then washed twice. The solution was repeated, and 2 ml of 0.01 M aqueous polyvinylpyrrolidone solution was rotated for 15 seconds at a speed of 4000 rpm, and then rotated twice for 15 seconds at a speed of 4000 rpm with distilled water of pH 5.5. The polyaniline and polyvinyl The coating process of the pyrrolidone was repeated several times to prepare a multilayer thin film having 2, 4, 6, 8, and 10 stacked layers. The absorbance spectra of the five thin films thus prepared were measured with an absorbance spectrometer, and the relationship between the absorbance absorbed at 630 nm and the number of stacked layers is shown in FIG. 11. The broad absorption spectrum region shown above at 500 nm and 800 nm is a typical absorption region of polyaniline.

상기에서 사용된 폴리아닐린 수용액은 에머랄드 베이스 형태의 폴리아닐린을 디메틸아세트아마이드 용액에 20mg/ml 의 농도로 8시간 내지 10시간 동안 녹인 후, 0.45μm 필터로 정제를 한다음, 상기 필터로 걸러진 폴리아닐린 10ml를 취하여 메탄술포닉엑시드로 pH3.0 내지 pH3.5로 조절된 증류수 90ml에 첨가시킨 후, 다시 메틴술포닉엑시드로 pH2.5 내지 pH2.6으로 조절하였다. 이때 상기에서 사용된 폴리비닐피롤리돈 수용액은 알드리치(Aldrich) 회사에서 구입한 폴리비닐피롤리돈을 증류수에 0.01M 의 농도로 조절하여 사용하였다.The polyaniline aqueous solution used above was dissolved in an emerald-based polyaniline in a dimethylacetamide solution at a concentration of 20 mg / ml for 8 hours to 10 hours, and then purified with a 0.45 μm filter. Then, 10 ml of the polyaniline filtered by the filter was taken It was added to 90 ml of distilled water adjusted to pH3.0 to pH3.5 with methanesulphonic acid, and then adjusted to pH2.5 to pH2.6 with methinesulphonic acid. At this time, the polyvinylpyrrolidone aqueous solution used in the above was used by adjusting the polyvinylpyrrolidone purchased from Aldrich company in distilled water at a concentration of 0.01M.

도11에서 보는 바와 같이 적층수가 증가함에 따라 흡광도가 선형적으로 증가하고 있음을 확인할 수 있는데, 이것은 회전 코팅에 의해서 적층되는 폴리아닐린의 흡착량이 매우 균일함을 보여 주는 것이므로 수소결합이 가능한 물질을 이용하여도 다층의 초박막 제조가 가능하다는 것을 나타낸다.As shown in FIG. 11, it can be seen that the absorbance increases linearly as the number of stacked layers increases. This shows that the adsorption amount of the polyaniline deposited by the rotary coating is very uniform. It also shows that multilayer ultra-thin film production is possible.

상기에서 설명한 바와 같이 본 발명은 회전코팅에 의한 방법으로 다층의 초박막을 제조함으로써 제조시간을 단축하면서도 양질의 다층 초박막을 제조하여 생산성을 극대화할 수 있도록 한 회전 코팅을 이용한 다층 초박막의 제조방법을 제공하는 유용한 발명인 것이다.As described above, the present invention provides a method of manufacturing a multilayer ultra thin film using a rotating coating that maximizes productivity by manufacturing a high quality multilayer ultra thin film by shortening the manufacturing time by manufacturing a multilayer ultra thin film by a method of rotating coating. It is a useful invention to.

Claims (6)

기판상에 초박막 또는 다층의 박막을 제조하는 다층 초박막의 제조방법에 있어서,In the manufacturing method of the multilayer ultra thin film which manufactures an ultra thin film or a multilayer thin film on a board | substrate, 양전하 또는 음전하가 도입되거나 수소결합이 가능한 물질이 도입된 기판을 고속회전이 가능한 회전기 위에 재치한 후, 상기 기판 상단에 기판에 도입된 물질과 상호인력에 의하여 결합이 가능한 물질(A)을 도입한 다음 500rpm 내지 15000rpm의 속도로 4초 내지 60초동안 회전시켜 1차코팅하고,After placing a substrate on which a positive or negative charge is introduced or a substance capable of hydrogen bonding is placed on a rotor capable of high-speed rotation, a material (A) capable of bonding by interpulsion with a material introduced to the substrate is introduced on the substrate. Next, the primary coating by rotating for 4 to 60 seconds at a speed of 500rpm to 15000rpm, 상기 1차코팅이 완료된 다음 세척용매를 기판 상단 중앙부에 떨어뜨려 500rpm 에서 15000rpm 범위의 속도로 4초 내지 60초동안 회전시키는 세척하는 과정을 1내지 3회 반복하여 기판표면과 약하게 결합되어 있는 물질(A)을 제거하여 박막(A)을 제조하고,After the first coating is completed, the cleaning solvent is dropped to the center of the upper end of the substrate, and the washing process is repeated one to three times at a speed ranging from 500 rpm to 15000 rpm for one to three times to weakly bind the material to the substrate ( Remove A) to prepare a thin film (A), 상기 기판에 코팅된 물질(A)과 상호인력에 의하여 결합이 가능한 서로 다른 성질을 갖는 물질(B)을 기판 상단에 도입하여 1차 코팅과 동일한 조건으로 2차코팅한 다음,After the material (A) coated on the substrate and the material (B) having different properties that can be bonded by mutual force is introduced to the top of the substrate and subjected to secondary coating under the same conditions as the primary coating, 상기 2차코팅이 완료된 다음 세척용매를 기판 상단 중앙부에 떨어뜨려 500rpm 내지 15000rpm의 속도로 4초 내지 60초동안 회전시키는 세척하는 과정을 1내지 3회 반복하여 기판표면과 약하게 결합되어 있는 물질(B)을 제거하여 박막(B)을 제조하고, 상기한 박막(A,B) 제조과정을 동일한 조건하에서 여러번 반복하는 것을 특징으로 하는 회전코팅을 이용한 다층 초박막의 제조방법.After the secondary coating is completed, the cleaning solvent is dropped to the center of the upper end of the substrate and rotates for 4 seconds to 60 seconds at a speed of 500 rpm to 15000 rpm. ) To prepare a thin film (B), and to repeat the above-described manufacturing process of the thin film (A, B) several times under the same conditions, the method of manufacturing a multilayer ultra thin film using a rotation coating. 제 1항에 있어서, 기판에 도입된 물질과 상호인력에 의하여 결합이 가능한 물질(A)을 도입하는 과정이 기판상에 회전하는 과정에서 도입물질(A)을 떨어뜨리거나 분사시켜 도입하는 것을 특징으로 하는 회전코팅을 이용한 다층 초박막의 제조방법.According to claim 1, wherein the introduction of the material (A) which can be combined by the mutual attraction with the material introduced into the substrate is introduced by dropping or spraying the introduction material (A) in the process of rotating on the substrate Method for producing a multilayer ultra thin film using a rotation coating. 제 1항에 있어서, 기판에 도입된 물질과 상호인력에 의하여 결합이 가능한 물질(A)을 도입하는 과정이 기판을 도입물질(A)용액에 순간적으로 담갔다 빼내어 도입하는 것을 특징으로 하는 회전코팅을 이용한 다층 초박막의 제조방법.The method of claim 1, wherein the step of introducing the material (A) which can be bonded by mutual attraction with the material introduced to the substrate is a rotary coating, characterized in that the substrate is instantaneously immersed in the solution (A) solution and introduced to it. Method for producing a multilayer ultra thin film used. 제 1항 내지 3항중 어느 한 항에 있어서, 상기 상호인력에 의하여 결합이 가능한 서로 다른 성질을 갖는 물질로 정전기적 이온 결합 및 수소결합, 화학적 결합에 의하여 결합 가능한 물질을 이용하는 것을 특징으로 하는 회전코팅을 이용한 다층 초박막의 제조방법.The rotating coating according to any one of claims 1 to 3, wherein a material having a different property capable of bonding by the mutual attraction is used as a material capable of bonding by electrostatic ionic bonds, hydrogen bonds, or chemical bonds. Method for producing a multilayer ultra thin film using. 제 1항 내지 3항중 어느 한 항에 있어서, 각각의 박막은 그 두께를 용매의 농도, 이온염의 첨가, pH 조절, 회전속도 조절로 조절하는 것을 특징으로 하는 회전코팅을 이용한 다층 초박막의 제조방법.The method according to any one of claims 1 to 3, wherein the thickness of each thin film is controlled by adjusting the concentration of the solvent, the addition of the ionic salt, the pH control, and the rotational speed. 제 4항에 있어서, 각각의 박막은 그 두께를 용매의 농도, 이온염의 첨가, pH조절과 회전속도 조절로 조절하는 것을 특징으로 하는 회전코팅을 이용한 다층 초박막의 제조방법.5. The method of claim 4, wherein each of the thin films is adjusted by the thickness of the solvent, the addition of the ionic salt, the pH adjustment, and the rotational speed.
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