KR100341488B1 - 원적외선 흡수 유도장치 및 이를 이용한 원적외선 흡수유도방법 - Google Patents

원적외선 흡수 유도장치 및 이를 이용한 원적외선 흡수유도방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 원적외선 방사체화 타겟이 수납된 챔버, 이 챔버 내부에 배치된 원적외선 방사체, 이 챔버의 외부에 배치된 고주파 발진기 등의 조합으로 이루어진 원적외선 흡수 유도장치에 관한 것이다.
이때, 고주파 발진기, 원적외선 방사체의 연계과정이 체계적으로 진행되는 경우, 원적외선 방사체는 고주파 발진기로부터 출력되는 고주파에 의해 일정 크기의 원적외선 웨이브를 발생시키게 되며, 이 원적외선 웨이브는 원적외선 방사체화 타겟로 흡수되고, 결국, 원적외선 방사체화 타겟은 일정 수준 이상의 원적외선 방사능력을 보유하게 된다.
이러한 본 발명의 경우, 원적외선 방사체를 특정 형상으로 가공하거나, 원적외선 방사체 분말을 제품의 외피에 코팅하는 과정을 일일이 진행시키지 않고서, 단지, 원적외선 웨이브를 원적외선 방사체화 타겟에 흡수시키는 과정에 의해 최종 생산되는 제품에 원적외선 방사능력을 부여할 수 있기 때문에, 본 발명이 달성되는 경우, 생산라인에서는 제품의 생산성이 대폭 향상되고, 제품의 대량생산을 달성할 수 있는 효과를 획득할 수 있다.

Description

원적외선 흡수 유도장치 및 이를 이용한 원적외선 흡수 유도방법{Apparatus and method for inducting the absorption of a far infrared radiation}
본 발명은 여러 종류의 대상물체에 원적외선(Far infrared radiation)을 자연스럽게 흡수시킬 수 있도록 한 원적외선 흡수 유도장치에 관한 것이다. 더욱이, 본 발명은 이러한 원적외선 흡수 유도장치를 이용한 원적외선 흡수 유도방법에 관한 것이다.
최근, 원적외선의 유용성에 관한 연구가 급진전되면서, 이 원적외선을 산업적으로 활용하기 위한 다양한 방법이 모색되고 있다.
일례로, 한국특허공개공보 제99-54104호 "원적외선을 방사하는 섬유적층제",한국특허공개공보 제99-54105호 "원적외선을 방사하는 항균성 세라믹 성형품", 한국특허공개공보 제99-78697호 "원적외선이 방사되는 바둑알", 한국특허공개공보 제99-83961호 "약리효과 원적외선 방사 미네랄 암석분 합성팬티 라이너", 한국특허공개공보 제99-83961호 "약리효과 원적외선 방사 미네랄 석분 합성 생리대 패드" 등에는 종래의 기술을 이용하여 원적외선을 제품화 할 수 있는 방안이 다양하게 제시되어 있다.
이와 같이, 종래의 기술을 이용하여 원적외선을 제품화하는 경우, 생산라인에서는 원적외선 방사체, 예컨대, 맥반석, 흑운모 등을 필요한 제품의 형상으로 가공함으로써, 최종 완성된 제품이 일정 수준 이상의 원적외선 방사능력을 보유할 수 있도록 유도하거나, 또는, 원적외선 방사체를 분말화한 후, 이를 제품의 외피에 코팅함으로써, 최종 완성된 제품이 일정 수준 이상의 원적외선 방사능력을 보유할 수 있도록 유도한다.
그러나, 이와 같이 종래의 기술을 이용하여 최종 생산되는 제품에 원적외선 방사능력을 부여하는 경우, 생산라인에서는 원적외선 방사체를 필요한 제품의 형상으로 가공하거나, 또는 원적외선 방사체를 분말화하는 과정, 코팅하는 과정 등의 물리적인 가공과정을 반드시 진행시킬 수밖에 없기 때문에, 어쩔 수 없이, 전체적인 제품 생산성이 대폭 저감되는 문제점을 감수할 수밖에 없다.
또한, 원적외선 방사체는 워낙 고가이고, 그 수량이 한정되어 있는데, 이러한 기본적인 제한성에도 불구하고, 앞서 언급한 종래의 기술을 통해 원적외선 방사제품을 생산하는 경우, 일련의 물리적인 가공과정에 의해, 원적외선 방사원료의 소비가 대량으로 이루어질 수밖에 없기 때문에, 결국, 생산라인에서는 충분한 량의 원적외선 방사원료를 확보할 수 없음으로써, 원적외선 방사제품을 대량으로 생산할 수 없는 문제점을 감수할 수밖에 없게 된다.
더욱이, 종래의 기술을 이용하는 경우, 가공, 코팅 등이 쉽지 않은 용액이나, 흙, 모래 등의 과립물에는 원적외선 방사능력을 용이하게 부여할 수 없는 문제점이 야기된다.
따라서, 본 발명의 목적은 원적외선 방사체를 가공하는 공정, 분말화하는 공정, 코팅하는 공정 등의 물리적인 가공공정 없이도, 최종 완성된 제품이 일정 수준 이상의 원적외선 방사능력을 보유할 수 있도록 함으로써, 원적외선 방사제품의 전체적인 생산성을 향상시키는데 있다.
본 발명의 다른 목적은 제품 생산 과정에서 소비되는 원적외선 방사체의 소비량을 최소화함으로써, 원적외선 방사제품의 대량생산을 유도하는데 있다.
본 발명의 또 다른 목적은 가공, 코팅 등이 쉽지 않은 용액이나, 흙, 모래 등의 과립물에도, 원적외선 방사능력을 원활하게 부여할 수 있도록 하는데 있다.
본 발명의 또 다른 목적들은 다음의 상세한 설명과 첨부된 도면으로부터 보다 명확해질 것이다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 원적외선 흡수 유도장치의 측면도.
도 2는 도 1의 상부면도.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 고주파 발진기를 도시한 예시도.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 원적외선 흡수장치의 측면도.
도 5는 도 4의 상부면도.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에서는 원적외선 방사체화 타겟이 수납된 챔버, 이 챔버의 내부에 배치된 원적외선 방사체, 이 챔버의 외부에배치된 고주파 발진기 등의 조합으로 이루어진 원적외선 흡수 유도장치를 개시한다.
이때, 원적외선 방사체는 예컨대, 챔버의 사방 모서리에 세워져 배치되며, 이 경우, 원적외선 방사체는 외부조건, 예컨대, 고주파 발진기로부터 일련의 고주파가 발진되고 있는가의 여부에 따라, 원적외선 웨이브(Far infrared radiation wave)를 선택적으로 방사시키는 역할을 수행한다.
또한, 고주파 발진기는 변성기(Transformer)와 전기적으로 연결된 상태에서, 변성기로부터 출력되는 전기에너지에 의해 고주파를 발진시키며, 이 고주파를 챔버의 내부로 출력함으로써, 원적외선 방사체가 일정 크기의 원적외선 웨이브를 방사시키도록 유도하는 역할을 수행한다.
상술한 바와 같이, 고주파 발진기, 원적외선 방사체의 연계과정이 체계적으로 진행되는 경우, 원적외선 방사체는 고주파 발진기로부터 출력되는 고주파에 의해 일정 크기의 원적외선 웨이브를 방사시키게 되며, 이 원적외선 웨이브는 원적외선 방사체화 타겟로 흡수되고, 결국, 본 발명이 완료되는 경우, 원적외선 방사체화 타겟은 일정 수준 이상의 원적외선 방사능력을 보유할 수 있게 된다.
이러한 본 발명의 경우, 원적외선 방사체를 특정 형상으로 가공하거나, 원적외선 방사체 분말을 제품의 외피에 코팅하는 과정을 일일이 진행시키지 않고서, 단지, 원적외선 웨이브를 원적외선 방사체화 타겟에 흡수시키는 과정에 의해 최종 생산되는 제품에 원적외선 방사능력을 부여할 수 있기 때문에, 본 발명이 달성되는 경우, 생산라인에서는 제품의 전체적인 생산성이 대폭 향상되는 효과를 획득할 수있다.
또한, 본 발명의 경우, 원적외선 방사체화 타겟에 원적외선 방사능력을 부여시키는 과정이 단지, 원적외선 웨이브 발생을 유도하는 과정에 의해 손쉽게 달성될 수 있기 때문에, 본 발명이 실시되는 경우, 생산라인에서는 원적외선 방사체화 타겟의 물리적인 가공과정을 배제시킬 수 있으며, 이에 따라, 원적외선 방사체의 불필요한 소비를 억제시킬 수 있고, 결국, 생산라인에서는 원적외선 방사체의 소비량을 최소화할 수 있음으로써, 원적외선 방사제품의 대량생산을 실현할 수 있다.
더욱이, 본 발명의 경우, 원적외선 방사체의 물리적인 가공과정이 생략되기 때문에, 본 발명이 실시되는 경우, 생산라인에서는 가공, 코팅 등이 쉽지 않은 용액이나, 흙, 모래 등의 과립물에도, 원적외선 방사능력을 원활하게 부여할 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 원적외선 흡수 유도장치를 좀더 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시예에 따른 원적외선 흡수 유도장치(100)는 예컨대, 일정 크기의 수납공간을 갖는 사각형상의 챔버(101)와, 이 챔버(101)의 수납공간 내부에 수납된 원적외선 방사체, 예컨대, 원적외선 방사기둥들(10)과, 챔버(101)의 수납공간 외부에 배치된 고주파 발진기(50)의 조합으로 이루어진다. 이 경우, 챔버(101)는 예컨대, 스테인레스 강판으로 이루어진다.
이때, 챔버(101)는 진공펌프(70)와 연결되는데, 이 진공펌프(70)는 챔버(101)의 내부로부터 에어를 흡입함으로써, 챔버(101)의 내부가 저압의 고진공상태를 이룰 수 있도록 유도하는 역할을 수행한다.
여기서, 챔버(101)의 수납공간 내부에는 상술한 원적외선 방사기둥들(10)과 함께, 원적외선 방사체화 타겟(1), 예컨대, 모래가 용기(40)에 담겨진 상태로 놓여진다. 이 경우, 용기(40)는 지지대(30)에 의해 지지된다.
물론, 해당 원적외선 방사체화 타겟(1)이 별도의 용기를 필요로하지 않는 경우, 원적외선 방사체화 타겟(1)은 별도의 용기 없이 지지대(30)에 직접 놓여질 수도 있다.
이때, 원적외선 방사체화 타겟(1)의 주변에 배치된 원적외선 방사기둥들(10)은 예컨대, 옥, 숯, 황토, 맥반석, 세레사이트, 제오라이트, 흑운모 등과 같은 물질 중의 어느 하나로 이루어진다. 통상, 이러한 물질들은 우수한 원적외선 방사능력을 보유하고 있는 것으로 알려져 있기 때문에, 후술하는 일련의 고주파 발진과정에 의해 특정 환경이 조성되는 경우, 본 발명에 채용되는 원적외선 방사기둥들(10)은 충분한 양의 원적외선 웨이브를 원활하게 방사시킬 수 있다.
여기서, 본 발명에 따른 원적외선 방사기둥들은(10) 앞서 언급한 바와 같이, 옥, 숯, 황토, 맥반석, 세레사이트, 제오라이트, 흑운모 등과 같은 물질 중의 어느 하나로 이루어질 수 있을 뿐만아니라, 이들의 조합에 의해서도 이루어질 수 있다.
앞서 언급한 옥, 숯, 황토, 맥반석, 세레사이트, 흑운모 등과 같은 물질들은 단독으로 사용되는 경우 뿐만아니라, 혼합되어 사용되는 경우에도 우수한 원적외선 방사능력을 나타내기 때문에, 원적외선 방사기둥들(10)을 옥, 숯, 황토, 맥반석, 세레라이트, 흑운모 등과 같은 물질의 혼합재질로 형성하는 경우에도, 생산라인에서는 고주파 발진과정에 의한 특정 환경만 갖추어지면, 각 원적외선 방사기둥들(10)로부터 충분한 양의 원적외선 웨이브가 방사되는 효과를 원활하게 획득할 수 있다.
이때, 앞서 언급한 원적외선 방사체화 타겟(1)은 원적외선 방사기둥들(10)로부터 방사되는 원적외선을 신속하게 흡수하게 되는데, 이러한 원적외선 방사체화 타겟(1)을 목적물로하여 본 발명이 실시되고, 이 원적외선 방사체화 타겟(1)이 최종의 제품으로 출하되는 경우, 이 제품은 양호한 원적외선 방사능력을 보유할 수 있게 된다. 일례로, 원적외선 방사체화 타겟(1)이 모래인 경우, 이 모래는 건축자재로 출하되어, 양호한 원적외선 방사능력을 보유할 수 있게 된다. 이의 상세한 내용은 후술한다.
한편, 도면에 도시된 바와 같이, 챔버(101)의 천장면(Ceiling face) 및 바닥면(Bottom face)에는 한쌍의 회전펜들(21,22)이 더 장착된다. 이 회전펜들(21,22)은 외력에 의해 일정 속도로 회전하여, 수납공간 내부의 공기흐름을 유동시킴으로써, 고주파 발진과정에 의해 원적외선 방사기둥들(10)로부터 일정 량의 원적외선 웨이브가 방사되는 경우, 이 원적외선 웨이브를 수납공간 내부에 균일하게 분포시키는 역할을 수행한다.
이러한 회전펜들(21,22)은 챔버(101)의 천장면, 바닥면 뿐만아니라, 챔버(101)의 다른 곳, 예컨대, 챔버(101)의 좌·우 측벽에 더 장착될 수도 있다. 이 경우, 챔버(101)의 좌·우 측벽에 더 장착된 회전펜들의 작용에 의해 수납공간 내부의 공기흐름 유동이 더욱 격화되기 때문에, 생산라인에서는 회전펜들을 단지,챔버(101)의 천장면, 바닥면에 장착한 경우보다 원적외선 웨이브의 균일화가 좀더 쉽게 달성되는 효과를 획득할 수 있다.
이때, 챔버(101)의 바닥면에는 급수관(80)이 매설되는데, 이 경우, 급수관(80)으로는 일정량의 수분이 규칙적으로 공급되어 빠르게 순환된다. 이러한 수분의 흐름은 챔버(101) 바닥면의 온도분포를 교란시키는 작용을 수행하게 되며, 이러한 온도분포의 교란과정이 지속적으로 진행되는 경우, 원적외선 방사기둥들(10)로부터 출력되는 원적외선 웨이브는 최적의 조건으로 활성화된다.
여기서, 도 2에 도시된 바와 같이, 상술한 지지대(30)의 용기 지지면(31)은 다수개의 천공이 형성된 체(Sieve) 형상의 판으로 이루어진다. 이 경우, 지지대(30) 하부의 공기 및 지지대(30) 상부의 공기는 자유로운 소통상태를 이룰 수 있으며, 그 결과, 회전펜들(21,22)의 회전에 의한 원적외선 웨이브의 균일화 과정은 최적의 상태를 유지할 수 있다.
한편, 도면에 도시된 바와 같이, 챔버(101)의 인접부에는 앞서 언급한 고주파 발진기(50)를 수납하는 수납박스(102)가 배치된다. 이 경우, 고주파 발진기(50)는 수납박스(102)에 수납되어 외기와 격리됨으로써, 고주파를 원활하게 발진시킬 수 있는 최적의 조건을 형성한다. 이때, 본 발명에 따른 고주파 발진기(50)로는 예컨대, 마그네트론(Magnetron), 자이로트론(Gyrotron), 가상음극 발진기(Virtual cathode oscillator), 자유전자 레이저(Free electron laser) 등이 선택적으로 사용될 수 있다.
여기서, 고주파 발진기(50)는 변성기(60)와 전기적으로 연결된다. 이변성기(60)에는 공동의 자로(Magnetic road)를 가진 2개 이상의 인풋코일/아웃풋코일(Input coil/Output coil:도시안됨)이 내장된다.
이 상태에서, 변성기(60)의 인풋코일로 일정 크기의 정격전압이 공급되는 경우, 변성기(60)의 내부에는 일정 크기의 기전력이 발생하며, 이 기전력에 의해 변성기(60)의 아웃풋코일은 예컨대, 1800V~2400V의 고전압을 출력시킨다.
이때, 앞서 언급한 바와 같이, 고주파 발진기(50)는 변성기(60)와 전기적으로 연결되어 있기 때문에, 상술한 과정을 통해 변성기(60)가 고전압을 출력하는 경우, 고주파 발진기(50)는 이 고전압에 의해 신속하게 구동되어, 일정 크기의 고주파를 발진시키게 된다.
여기서, 도 3에 도시된 바와 같이, 고주파 발진기(50)는 예컨대, 원통형상으로 배열된 애노드(51)와, 이 애노드(51)의 가운데에 세워져 배치된 캐소드(52)의 조합으로 이루어진다. 이 경우, 애노드(51)와 캐소드(52) 사이에는 이른바, "교차계(Intersection field)"라 명명되는 전계가 형성된다.
이러한 교차계가 형성된 상태에서, 변성기(60)의 아웃풋코일로부터 1800V~2400V에 해당하는 고전압이 인가되는 경우, 고주파 발진기(50)의 캐소드(52)는 일정량의 전자들을 방출시키게 된다.
이때, 상술한 바와 같이, 애노드(51)와 캐소드(52) 사이에는 교차계가 형성되어 있기 때문에, 캐소드(52)로부터 방출된 전자들은 교차계의 영향을 받을 수밖에 없으며, 결국, 캐소드(52)로부터 방출된 전자는 루프형상(loop form)의 곡선궤적을 그리면서 캐소드(52)의 주위를 빠르게 회전하는 전자다발(Spoke)을 형성한다.
이러한 전자다발은 애노드(51)의 내벽을 따라 흐르면서 전자를 하적(Accumulation)하게 되며, 하적된 전자는 애노드(51)의 내측공간 주위로 빠르게 방향이 바뀌면서 이에 해당하는 변위전류 펄스를 생성하게 되고, 결국, 이 변위전류 펄스는 예컨대, 2300MHz~2700MHz에 해당하는 고주파를 안테나(53)쪽으로 출력한다.
여기서, 앞서 언급한 도 1, 도 2 등에 도시된 바와 같이, 고주파 발진기(50)를 수납하고 있는 수납박스(102)는 링크튜브(103)를 통해 챔버(101)와 연결되어 있고, 고주파 발진기(50)의 안테나(53)는 링크튜브(103)쪽으로 노출되어 있기 때문에, 상술한 과정을 통해 고주파 발진기(50)가 예컨대, 2300MHz~2700MHz에 해당하는 고주파를 발진시키는 경우, 이 고주파는 링크튜브(103)를 경유하여 챔버(101)쪽으로 출력될 수 있다.
이때, 상술한 바와 같이, 챔버(101)의 모서리에는 원적외선 웨이브 방사능력을 보유한 원적외선 방사기둥들(10)이 배치되어 있기 때문에, 고주파 발진기(50)로부터 발진되는 고주파가 챔버(101)쪽으로 출력되는 경우, 원적외선 방사기둥들(10)은 이 고주파에 의해 활성화되어, 일정량의 원적외선 웨이브를 방사시킬 수 있으며, 결국, 생산라인에서는 챔버(101)의 내부에 수납된 원적외선 방사체화 타겟(1)에 충분한 량의 원적외선 웨이브를 흡수시킬 수 있다.
이하, 상술한 설명 및 도면들을 토대로 본 발명에 따른 원적외선 흡수 유도장치를 이용한 원적외선 흡수 유도방법을 좀더 상세히 설명한다.
먼저, 생산라인에서는 챔버(101)의 내부에 진공을 형성시키는 단계를 진행한다. 이 경우, 생산라인에서는 앞서 언급한 진공펌프(70)를 핸들링하여 챔버(101) 내부의 에어를 흡입한다. 이에 따라, 챔버(101)의 내부를 채우고 있던 에어는 전량 진공펌프를 통해 흡입되며, 그 결과, 챔버(101)의 내부에는 예컨대, 2x10-1mmHg~2x10-3mmHg 정도의 크기를 갖는 저압의 진공이 형성된다. 물론, 이러한 진공 형성과정이 이루어지기 이전부터 원적외선 방사기둥(10), 원적외선 방사체화 타겟(1) 등은 챔버(101)의 수납공간에 안정적으로 배치된 상태를 유지한다.
이러한 진공형성과정이 완료되면, 생산라인에서는 진공이 형성된 챔버(101)의 내부에 고주파를 출력시키는 공정을 진행한다.
이를 위하여, 먼저, 생산라인에서는 변성기(60)를 외부의 전원단자에 연결한 후, 이 변성기(60)로 일정 크기의 정격전압을 공급한다. 이때, 상술한 바와 같이, 변성기(60)에는 공동의 자로를 갖는 2개 이상의 인풋코일/아웃풋코일이 내장되어 있기 때문에, 외부의 전원단자로부터 일정 크기의 정격전압이 공급되는 경우, 변성기(60)는 자신의 인풋코일로 이 정격전압을 받아들여 일정 크기의 기전력을 발생시키게 되며, 이 기전력에 의해 아웃풋코일로 1800V~2400V에 해당하는 고전압을 출력시키게 된다.
상술한 과정을 통해 변성기(60)의 아웃풋코일로부터 1800V~2400V에 해당하는 고전압이 인가되는 경우, 고주파 발진기(50)는 예컨대, 2300MHz~2700MHz에 해당하는 고주파를 생성하고, 결국, 이 고주파는 링크튜브(103)를 경유하여 챔버(101)쪽으로 출력된다.
계속해서, 상술한 고주파 출력과정이 마무리되면, 곧이어, 원적외선 방사기둥들(10)로부터 원적외선 웨이브의 출력을 유도하는 단계가 진행된다.
먼저, 챔버(101)의 내부로 발진된 고주파는 챔버(101)의 내벽에 랜덤(Random)하게 충돌한다. 이때, 상술한 바와 같이, 챔버(101)의 모서리에는 원적외선 방사기둥들(10)이 배치되어 있기 때문에, 챔버(101)의 내부로 발진된 고주파는 챔버(101)의 내벽 뿐만아니라, 원적외선 방사기둥들(10)과도 랜덤한 충돌을 일으킨다.
이러한 충돌과정이 지속적으로 이루어지면, 원적외선 방사기둥들(10)을 구성하는 분자는 고주파 발진기(50)로부터 발진된 고주파의 주파수에 따라 급격한 방향전환을 이루게 되며, 결국, 2300MHz~2700MHz에 대응되는 크기로 공진(Resonance)한다.
여기서, 앞서 언급한 바와 같이, 원적외선 방사기둥들(10)은 우수한 원적외선 방사능력을 보유하고 있는 물질, 예컨대, 옥, 숯, 황토, 맥반석, 세레사이트, 제오라이트, 흑운모 등으로 이루어져 있기 때문에, 상술한 고주파에 의한 공진과정이 지속적으로 이루어지는 경우, 각 원적외선 방사기둥들(10)은 2300MHz~2700MHz에 대응되는 크기의 원적외선 웨이브를 방사한다.
이후, 원적외선 방사기둥들(10)로부터 방사된 원적외선 웨이브는 챔버(101)의 수납공간을 랜덤하게 이동하는데, 이때, 앞서 언급한 바와 같이, 챔버(101)의 수납공간 내부에는 원적외선 방사체화 타겟(1)이 예컨대, 용기(40)에 담겨진 상태로 놓여지기 때문에, 챔버(101)의 수납공간을 떠돌아다니던 원적외선 웨이브는 결국, 원적외선 방사체화 타겟(1)에 흡수되며, 그 결과, 본 발명이 모두 완료되는 경우, 최종의 제품으로 출하된 원적외선 방사체화 타겟(1)은 원적외선 방사기둥들(10)로부터 출력되는 원적외선 웨이브를 자신의 분자구조내에 흡수함으로써, 양호한 원적외선 방사능력을 보유할 수 있게 된다.
이와 같이, 본 발명의 경우, 원적외선 방사체를 특정 형상으로 가공하거나, 원적외선 방사체 분말을 제품의 외피에 코팅하는 과정을 일일이 진행시키지 않고 서, 단지, 원적외선 웨이브를 원적외선 방사체화 타겟에 흡수시키는 과정에 의해 최종 생산되는 제품에 원적외선 방사능력을 부여할 수 있기 때문에, 본 발명이 달성되는 경우, 생산라인에서는 제품의 전체적인 생산성이 대폭 향상되는 효과를 획득할 수 있다.
또한, 본 발명의 경우, 원적외선 방사체화 타겟에 원적외선 방사능력을 부여시키는 과정이 단지, 원적외선 방사기둥들의 원적외선 웨이브 발생을 유도하는 과정에 의해 손쉽게 달성될 수 있기 때문에, 본 발명이 실시되는 경우, 생산라인에서는 원적외선 방사체화 타겟의 물리적인 가공과정을 배제시킬 수 있으며, 이에 따라, 원적외선의 불필요한 소비를 억제시킬 수 있고, 결국, 생산라인에서는 원적외선 방사체의 소비량을 최소화할 수 있음으로써, 원적외선 방사제품의 대량생산을 실현할 수 있다.
더욱이, 본 발명의 경우, 원적외선 방사체의 물리적인 가공과정이 생략되기 때문에, 본 발명이 실시되는 경우, 생산라인에서는 가공, 코팅 등이 쉽지 않은 용액이나, 흙, 모래 등의 과립물에도, 원적외선 방사능력을 원활하게 부여할 수 있다.
한편, 본 발명의 구조상, 챔버(101)의 내부로 발진되는 고주파는 원적외선 방사기둥들(10)로부터 출력되는 원적외선 웨이브와 서로 중첩될 수밖에 없다.
이때, 만약, 고주파 및 원적외선 웨이브가 동일위상(Synchronous phase)으로 중첩되는 경우, 원적외선 웨이브의 크기가 필요 이상으로 극대화되는 결과가 초래됨으로써, 원적외선 방사체화 타겟(1)에 예측하지 못한 가열 응어리가 생성되는 문제점이 야기될 수 있다. 반대로, 고주파 및 원적외선 웨이브가 역위상(Antiphase)으로 중첩되는 경우, 원적외선 웨이브의 크기가 최소화되는 결과가 초래됨으로써, 원적외선 방사체화 타겟(1)이 원적외선 웨이브를 제대로 흡수하지 못하는 문제점이 야기될 수 있다.
본 발명에서는 이러한 문제점들을 미리 감안하여, 상술한 바와 같이, 챔버(101)의 천장면 및 바닥면에 회전펜들(21,22)을 더 장착한다. 이 경우, 회전펜들(21,22)의 작용에 의해 수납공간 내부의 공기흐름이 랜덤하게 유동되기 때문에, 고주파 및 원적외선 웨이브가 중첩되는 문제점이 대폭 완화될 수 있으며, 결국, 생산라인에서는 원적외선 방사체화 타겟(1)에 가열 응어리가 생성되거나, 원적외선 방사체화 타겟이 원적외선 웨이브를 제대로 흡수하지 못하는 등의 문제점을 미리 방지할 수 있다.
한편, 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 따른 원적외선 흡수 유도장치(200)에서는 앞서 언급한 원적외선 방사기둥들(10)을 제거하는 대신, 챔버(101)의 내부에 이 원적외선 방사기둥들(10)의 역할을 대체할 수 있는 원적외선 방사박스(90)를 배치한다. 이 경우, 원적외선 방사박스(90)는 지지대(30)에 의해 지지되며, 이 원적외선 방사박스(90)의 내부에는 원적외선 방사체화 타겟(1)이 수납된다.
이러한 본 발명의 다른 실시예의 경우, 원적외선 방사체화 타겟(1)이 원적외선 방사박스(90) 내부에 수납되기 때문에, 본 발명의 다른 실시예가 적용되는 경우, 생산라인에서는 원적외선 방사체화 타겟(1)을 담기위한 별도의 용기를 마련할 필요성이 전혀 없다.
이때, 원적외선 방사박스(90)는 앞서 언급한 원적외선 방사기둥들(10)과 유사하게, 예컨대, 옥, 숯, 황토, 맥반석, 세레라이트, 제오라이트, 흑운모 중의 어느 하나로 이루어지거나 또는 이들의 조합으로 이루어짐으로써, 상술한 일련의 고주파 발진과정이 일정 시간 진행되는 경우, 충분한 양의 원적외선 웨이브를 원활하게 방사시킬 수 있는 능력을 보유한다.
물론, 이러한 본 발명의 다른 실시예의 경우에도, 챔버(101)의 천장면 및 바닥면 등에는 회전펜들(21,22)이 장착되고, 챔버(101)의 바닥면에는 급수관(80)이 매설되는데, 이 경우, 회전펜(21,22), 급수관(80) 등은 상술한 실시예와 달리, 원적외선 방사박스(90)에 충돌하는 고주파를 최적의 조건으로 활성화시키는 역할을 수행한다.
한편, 도 5에 도시된 바와 같이, 앞서 언급한 과정을 통해 챔버(101)의 내부에 진공이 형성되고, 변성기(60) 및 고주파 발진기(50)의 연계작용에 의해 예컨대, 2300MHz~2700MHz에 해당하는 고주파가 챔버(101)쪽으로 출력되는 경우, 이 고주파는 챔버(101)의 내벽에 랜덤하게 충돌하는 과정을 진행한다.
이때, 상술한 바와 같이, 챔버(101)의 내부에는 원적외선 방사박스(90)가 수납되어 있기 때문에, 챔버(101)의 내부로 발진된 고주파는 챔버(101)의 내벽 뿐만아니라, 원적외선 방사박스들(90)과도 랜덤한 충돌을 일으킨다.
이러한 충돌과정이 지속적으로 이루어지면, 원적외선 방사박스(90)를 구성하는 분자는 고주파 발진기(50)로부터 발진된 고주파에 따라 급격한 방향전환을 이루게 되며, 결국, 2300MHz~2700MHz에 대응되는 크기로 공진한다.
여기서, 앞서 언급한 바와 같이, 원적외선 방사박스(90)는 우수한 원적외선 방사능력을 보유하고 있는 물질, 예컨대, 옥, 숯, 황토, 맥반석, 세레사이트, 제오라이트, 흑운모 등으로 이루어져 있기 때문에, 상술한 고주파에 의한 공진과정이 지속적적으로 이루어지는 경우, 원적외선 방사박스(90)는 2300MHz~2700MHz에 대응되는 크기의 원적외선 웨이브를 방사한다.
이때, 앞서 언급한 바와 같이, 원적외선 방사박스(90)의 내부에는 원적외선 방사체화 타겟(1)이 수납되기 때문에, 원적외선 방사박스(90)로부터 방사되는 원적외선 웨이브는 원적외선 방사체화 타겟(1)에 손쉽게 흡수되며, 결국, 본 발명의 다른 실시예가 모두 완료되는 경우, 상술한 실시예와 마찬가지로, 최종의 제품으로 출하된 원적외선 방사체화 타겟은 원적외선 방사박스로부터 출력되는 원적외선 웨이브를 자신의 분자구조내에 흡수함으로써, 양호한 원적외선 방사능력을 보유할 수 있게 된다.
특히, 이러한 본 발명의 다른 실시예의 경우, 상술한 실시예와 달리, 원적외선 방사체화 타겟(1) 및 원적외선 방사박스(90)의 거리가 매우 가깝기 때문에, 본 발명의 다른 실시예가 적용되는 경우, 생산라인에서는 원적외선 웨이브의 흡수율을 상술한 실시예보다 좀더 극대화시킬 수 있는 이점을 획득할 수 있다.
후술하는 <표 1>에는 본 발명의 각 실시예가 완료된 원적외선 방사체화 타겟을 수거하여, 이들이 나타내는 원적외선 방사율을 측정한 결과가 제시된다(측정기관:한국건자재 시험연구원 원적외선 응용평가 센터).
이때, 본 출원인은 측정시료가 되는 원적외선 방사체화 타겟(1)으로 예컨대, 백토, 생리대(유한킴벌리, 상품명;위스퍼), 솔방울을 선택하였으며, 40℃의 온도조건에서, 먼저, 1차 측정을 진행하고, 이 1차 측정이 진행되고 나서, 24시간 후에 2차 측정을 진행하였다.
원적외선 방사체화 타겟 원적외선 방사율(흑체를 1로 할 경우) 원적외선 방사 에너지(W/m2)
백토 1차 측정 0.921 3.72×102
2차 측정 0.920 3.70×102
생리대 1차 측정 0.865 3.48×102
2차 측정 0.861 3.47×102
솔방울 1차 측정 0.910 3.67×102
2차 측정 0.910 3.67×102
이 <표 1>에 제시된 바와 같이, 매우 미미한 원적외선 방사율을 나타내던 백토, 생리대, 솔방울 등은 본 발명의 실시 직후 시행한 1차 측정결과, 각각 0.921, 0.865, 0.910 등의 높은 원적외선 방사율을 나타내었다.
또한, 이 백토, 생리대, 솔방울 등은 본 발명이 시행되고 나서, 24시간이 경과한 후 진행한 2차 측정결과에서도, 0.929, 0.861, 0.910 등의 높은 원적외선 방사율을 나타냄으로써, "본 발명을 시행받은 원적외선 방사체화 타겟이 일정 시간이 경과하여도 높은 원적외선 방사율을 유지할 수 있음"을 증명하였다.
종래에서는 일정 시간이 경과하여, 원적외선 방사제품의 원적외선 방사율이 쇠퇴하는 경우, 이 원적외선 방사제품을 폐기할 수밖에 없었다.
그러나, 본 발명에서는 일정 시간이 경과하여 원적외선 방사제품의 원적외선 방사율이 쇠퇴하는 경우, 해당 원적외선 방사제품을 챔버에 재투입하여, 앞서 언급한 원적외선 웨이브 흡수과정을 반복적으로 시행함으로써, 원적외선 방사제품의 원적외선 방사율을 다시 높일 수 있으며, 결국, 본 발명이 달성되는 경우, 생산라인에서는 원적외선 방사제품을 반영구적으로 재사용할 수 있는 이점을 획득할 수 있다.
이러한 본 발명은 다양한 분야에 응용될 수 있는데, 일례로, 본 발명이 악취제거제 분야에 응용되는 경우, 생산라인에서는 부직포, 왕겨, 흙 등을 챔버에 투입하여, 각 원적외선 흡수대상 목절물에 원적외선 방사능력을 부여함으로써, 이들이 밀폐된 장소에서 뛰어난 악취제거 효과를 발휘하도록 한다.
다른 예로, 본 발명이 건자재 분야에 응용되는 경우, 생산라인에서는 천장재, 석고보드, 벽지, 바닥재, 벽돌, 타일, 페인트 등을 챔버에 투입하여, 각 원적외선 방사체화 타겟에 원적외선 방사능력을 부여함으로써, 이들이 건자재로 사용될 때, 일정 수준 이상의 원적외선 방사율을 나타낼 수 있도록 한다.
또 다른 예로, 본 발명이 섬유제품에 응용되는 경우, 생산라인에서는 양말, 내의류, 이불, 요, 베게, 시트 등을 챔버에 투입하여, 각 원적외선 방사체화 타겟에 원적외선 방사능력을 부여함으로써, 이들이 섬유제품으로 사용될 때, 일정 수준 이상의 원적외선 방사율을 나타낼 수 있도록 한다.
상술한 예 이외에도, 본 발명은 사료 분야, 건강의료 분야, 미생물 분야 등의 여러 분야에서 다양한 응용을 이룰 수 있다.
그리고, 본 발명의 특정한 실시예가 설명되고 도시되었지만 본 발명이 당업자에 의해 다양하게 변형되어 실시될 가능성이 있는 것은 자명한 일이다.
이와 같은 변형된 실시예들은 본 발명의 기술적사상이나 관점으로부터 개별적으로 이해되어서는 안되며 이와 같은 변형된 실시예들은 본 발명의 첨부된 특허청구의 범위안에 속한다 해야 할 것이다.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명에서는 원적외선 방사체화 타겟이 수납된 챔버, 이 챔버 내부에 배치된 원적외선 방사체, 이 챔버의 외부에 배치된 고주파 발진기 등의 조합으로 이루어진 원적외선 흡수 유도장치를 개시한다.
이때, 고주파 발진기, 원적외선 방사체 등의 연계과정이 체계적으로 진행되는 경우, 원적외선 방사체는 고주파 발진기로부터 출력되는 고주파에 의해 일정 크기의 원적외선 웨이브를 발생시키게 되며, 이 원적외선 웨이브는 원적외선 방사체화 타겟로 흡수되고, 결국, 원적외선 방사체화 타겟은 일정 수준 이상의 원적외선 방사능력을 보유하게 된다.
이러한 본 발명의 경우, 원적외선 방사체를 특정 형상으로 가공하거나, 원적외선 방사체 분말을 제품의 외피에 코팅하는 과정을 일일이 진행시키지 않고서, 단지, 원적외선 웨이브를 원적외선 방사체화 타겟에 흡수시키는 과정에 의해 최종 생산되는 제품에 원적외선 방사능력을 부여할 수 있기 때문에, 본 발명이 달성되는 경우, 생산라인에서는 제품의 생산성이 대폭 향상되고, 제품의 대량생산을 달성할 수 있는 효과를 획득할 수 있다.

Claims (6)

  1. 원적외선 방사체화 타겟이 수납되는 챔버와;
    상기 챔버의 외부에 배치되며, 변성기와 전기적으로 연결되고, 상기 변성기로부터 출력되는 전기에너지에 의해 고주파를 발생시켜 상기 챔버 내부로 인가하는 고주파 발진기와;
    상기 챔버의 내부에 수납되며, 상기 인가된 고주파에 의해 원적외선 웨이브를 발생시켜 상기 타겟으로 출력시키는 원적외선 방사체를 포함하는 것을 특징으로 하는 원적외선 흡수 유도장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 원적외선 방사체는 상기 챔버의 모서리에 세워져 배치된 다수개의 원적외선 방사기둥들인 것을 특징으로 하는 원적외선 흡수 유도장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 원적외선 방사체는 상기 원적외선 방사체화 타겟을 수납한 원적외선 방사박스인 것을 특징으로 하는 원적외선 흡수 유도장치.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 원적외선 방사체는 옥, 숯, 황토, 맥반석, 세레사이트, 제오라이트, 흑운모로 이루어진 그룹으로부터 선택된 어느 하나 이거나, 둘 이상의 혼합체인 것을 특징으로 하는 원적외선 흡수 유도장치.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 타겟의 상·하부에는 상기 원적외선 웨이브의 균일한 분포를 유도하기 위한 한쌍의 회전팬이 더 장착되는 것을 특징으로 하는 원적외선 흡수 유도장치.
  6. 원적외선 방사체화 타겟 및 원적외선 방사체가 함께 수납된 챔버 내부에 진공을 형성시키는 단계와;
    상기 진공이 형성된 챔버 내부에 고주파를 출력시키는 단계와;
    상기 고주파에 의해 상기 원적외선 방사체를 공진시켜, 상기 원적외선 방사체로부터 원적외선 웨이브를 출력시키는 단계와;
    상기 원적외선 방사체로부터 출력되는 원적외선 웨이브를 상기 원적외선 방사체화 타겟에 흡수시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 원적외선 흡수 유도방법.
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KR20020018921A (ko) * 2000-09-04 2002-03-09 임춘봉 원적외선을 발산하는 물질을 함유하는 황토흙의 제조방법및 그 황토흙으로 시공하는 방법.
KR101327699B1 (ko) * 2013-01-16 2013-11-11 이재희 원적외선 및 음이온을 방사하는 기능성 제품을 제조하기 위한 장치
CN113729819A (zh) * 2020-05-28 2021-12-03 林载钐 包括缝合线的远红外线辐射产品制造设备

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09320742A (ja) * 1996-05-24 1997-12-12 Dairin Shoji:Kk 遠赤外線輻射体および遠赤外線輻射方法
KR20010056701A (ko) * 1999-12-16 2001-07-04 노춘희 토션 기처리 장치 및 그를 이용한 기 처리 방법
JP2001259053A (ja) * 2000-03-21 2001-09-25 Yoshizo Nakamura 気のエネルギーを放射する物体と気のエネルギーを強化する方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09320742A (ja) * 1996-05-24 1997-12-12 Dairin Shoji:Kk 遠赤外線輻射体および遠赤外線輻射方法
KR20010056701A (ko) * 1999-12-16 2001-07-04 노춘희 토션 기처리 장치 및 그를 이용한 기 처리 방법
JP2001259053A (ja) * 2000-03-21 2001-09-25 Yoshizo Nakamura 気のエネルギーを放射する物体と気のエネルギーを強化する方法

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