KR100340585B1 - One-dimensional light diffusion apparatus and method for controlling the same - Google Patents

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    • G01N2021/8472Investigation of composite materials

Abstract

PURPOSE: Provided are a one-dimensional light diffusion apparatus by which it is possible to analyse microstructures of new materials such as polymers, inorganic materials, metals, etc. and a method for controlling the same. CONSTITUTION: The apparatus includes a laser generator(1), a neutral density filter(2) for controlling an output intensity of laser beams from the laser generator(1) to a predetermined value; a polarizer(3) for polarizing the laser beams; a supporter(4) for supporting a heating plate(5); the heating plate(5) on which a sample film(6) is placed; a rotating plate(7) for adjusting the movement of material by heating; a micro-step-motor(8) for rotating the rotating plate(7); a temperature sensor(9); a power source(10); an analyzer(12); a photomultiplier tube(11); a computer motor drive(13); a temperature controller(14); a screw terminal(15); a direct port(16); an analogue/digital board(17); a host computer(18).

Description

1차원 광산란장치 및 그 제어방법1-dimensional light scattering device and control method

본 발명은 1차원 광산란장치 및 그 제어방법에 관한 것으로, 특히 블렌드 (Blend) 또는 복합재료(Composite)를 만들 경우에 사용되는 고분자(Polymer), 무기 재료(Inorganic material) 그리고 금속(Metal)등의 신소재(New material)에 대한 미세구조(Micro-structure)를 레이저빔(Laser beam) 및 광학부품(Optics parts)을 이용함으로써, 비파과적으로 분석이 가능하도록하는 1차원 광산란장치 및 그 제어 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a one-dimensional light scattering device and a control method thereof, and in particular, a polymer, an inorganic material, a metal, and the like, which are used when making a blend or a composite material. 1D light scattering device and a method of controlling the same for enabling non-destructive analysis of a micro-structure of a new material by using a laser beam and optics parts will be.

일반적으로, 재료의 구조(Structure)는 응용환경이 요구하는 물리적 성질 (Physical properties)에 영향을 미치는 직접적 인자이다. 따라서, 적절한 구조분석이 수반되지 않을 경우 재료의 물성 제어(Properties control)가 제대로 되지 않아서 사용하는 곳에 적합한 소재를 개발할 수 없다. 이러한 이유로 광학현미경 (Optical microscope-OM), 주사전자현미경(Scanning electron microscop-SEM), 투과전자현미경(Transmission electron microscope-TEM)등이 개발되어서 사용되고 있다.In general, the structure of a material is a direct factor influencing the physical properties required by the application environment. Therefore, if proper structural analysis is not accompanied, property control of the material is not properly performed, and thus a suitable material cannot be developed. For this reason, an optical microscope (OM), a scanning electron microscop (SEM), a transmission electron microscope (TEM), and the like have been developed and used.

그러나, 이러한 현미경들은 재료의 구조를 수 나노미터(nanometer)에서 수십 마이크로미터(micrometer)까지 관찰할 수 있으나, 대부분 재료의 구조-여기서는 입자의 크기 또는 결정의 크기를 정성적으로만 알 수 있다. 그리고, 주사전자 현미경인 경우는 재료를 저온파괴(Cryogenical fracture)하여서 사용하기 때문에 재료를 손상시키며 표면만을 관찰할 수 있다.However, these microscopes can observe the structure of a material from a few nanometers to several tens of micrometers, but most of the material's structure—here, only the qualitative knowledge of particle size or crystal size is known. In the case of a scanning electron microscope, since the material is used by cryogenical fracture, the material may be damaged and only the surface may be observed.

따라서, 비파괴적이고 정량적인 구조분석 기기들이 개발되고 있는데, 서브마이크로미터(Submicrometer) 이하의 영역에서는 X-선 산란 및 회절(X-ray scattering and diffraction) 및 중성자 산란(Neuton scatterng)이 이용되고 있다.Accordingly, non-destructive and quantitative structural analysis apparatuses are being developed, and X-ray scattering and diffraction and Neuton scatterng are used in the submicrometer region.

그러나, 서브마이크로미터(Submicrometer) 이상에서 수십 마이크로미터에 이르는 영역에서의 구조는 아직까지 정성적인 방법인 광학현미경에 거의 의존하고 있는 실정이다. 이 영역 즉, 가시광선 영역(Visible light region)에서의 구조는 결정성 재료 및 광학재료의 개발에 있어서 매우 중요함에도 불구하고, 이 정량화된 자료를 얻을 수 없었던 문제점이 있었다.However, the structure in the region of more than a submicrometer to several tens of micrometers is almost dependent on the optical microscope which is a qualitative method. Although the structure in this area, that is, the visible light region, is very important in the development of crystalline and optical materials, there was a problem that this quantified data could not be obtained.

본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위해 안출한 것이다.The present invention has been made to solve the above problems.

따라서, 본 발명의 목적은 블렌드(Blend) 또는 복합재료(Composite)를 만들 경우에 사용되는 고분자(Polymer), 무기재료(Inorganic material) 그리고 금속(Metal)등의 신소재(New material)에 대한 미세구조(Micro-structure)를 레이저빔(Laser beam) 및 광학부품(Optics parts)을 이용함으로써, 비파과적으로 분석이 가능하도록하는 1차원 광산란장치 및 그 제어방법을 제공하는데 있다.Accordingly, an object of the present invention is a microstructure for new materials such as polymers, inorganic materials, and metals used in making blends or composites. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a one-dimensional light scattering apparatus and a method of controlling the same, which can be analyzed non-destructively by using a laser (laser beam) and optical parts (Micro-structure).

상기한 목적을 달성하기 위한 기술적인 수단으로써, 본 발명의 1차원 광산란장치는 입시광원인 레이저빔을 발생시키는 레이저장치;As a technical means for achieving the above object, the one-dimensional light scattering device of the present invention comprises a laser device for generating a laser beam as a visual light source;

상기 레이저장치로부터의 레이저빔의 소정의 출력강도를 조절하는 뉴트럴 덴시티 필터;A neutral density filter for adjusting a predetermined output intensity of the laser beam from the laser device;

상기 뉴트럴 덴시티 필터를 통한 레이저빔을 편광시키는 편광자;A polarizer for polarizing the laser beam through the neutral density filter;

가열판를 소정의 자세 및 위치로 지지하는 지지대;A support for supporting the heating plate in a predetermined posture and position;

상기 지지대에 의해 지지되면서 샘플필름이 놓이는 가열판;A heating plate on which the sample film is placed while being supported by the support;

재료의 온도에 따른 거동을 조절하기 위한 회전판;Rotating plate for adjusting the behavior of the material according to the temperature;

호스트컴퓨터)의 제어에 따라 회전판을 회전시키는 마이크로스텝모터;A microstep motor for rotating the rotating plate under control of the host computer;

상기 가열판의 온도를 감지한 온도정보를 스쿠류터미날로 출력시키는 온도감지기;A temperature sensor for outputting temperature information of sensing the temperature of the heating plate to a screw terminal;

각 장치에 필요한 전원을 각각 공급하는 전원공급기;A power supply for supplying power to each device respectively;

상기 샘플필름을 통한 산란광의 편광형태를 제어하는 분석기;An analyzer for controlling the polarization form of the scattered light through the sample film;

상기 분석기에서 제어된 산란광을 검출하여 스쿠류터미날로 출력시키는 포토멀티플라이어튜브;A photo multiplier tube for detecting the scattered light controlled by the analyzer and outputting the scattered light to a slew terminal;

호스트컴퓨터의 제어에 따라 상기 포토멀티플라이어튜브의 자세 및 위치를 조절하는 컴퓨모터 드라이브;A computer drive controlling an attitude and a position of the photomultiplier tube under the control of a host computer;

상기 호스트컴퓨터의 제어에 따라 상기 가열판의 온도를 조절하는 은도조절기;A silver controller for controlling the temperature of the heating plate according to the control of the host computer;

상기 온도감지기와 포토멀티플라이어튜브로부터의 미약한 신호를 소정의 레벨로 증폭시켜서 상기 호스트컴퓨터로 출력시키는 스쿠류터미날;A screw terminal for amplifying the weak signal from the temperature sensor and the photomultiplier tube to a predetermined level and outputting the weak signal to the host computer;

상기 컴퓨모터 드라이브 또는 온도조절기와 호스트컴퓨터간에 데이타를 직렬통신을 위한 직렬포트;A serial port for serial communication of data between the computer drive or the thermostat and a host computer;

상기 스쿠류터미날로부터의 아날로그신호를 디지탈신호로 변환시키는 아날로그/디지탈보드;An analog / digital board for converting an analog signal from the screw terminal into a digital signal;

상기 직렬포트를 통해서 컴퓨모터 드라이브와 온도조절기등을 제어하고, 아날로그/디지탈보드로부터의 데이타를 입력받아서 내장프로그램에 따라서 처리 및 분석하는 호스트컴퓨터를 구비함을 특징으로한다.It is characterized in that it comprises a host computer that controls the computer drive and temperature controller through the serial port, receives data from the analog / digital board, and processes and analyzes the data according to the embedded program.

상기 레이저빔을 발생시키는 레이저장치와, 샘플필름이 놓이는 가열판과, 산란광을 검출하는 포토멀티플라이어튜브와, 다수의 부대 주변장치 및 호스트컴퓨터을 포함하는 1차원 광산란장치의 제어방법은The method of controlling a one-dimensional light scattering device comprising a laser device for generating the laser beam, a heating plate on which a sample film is placed, a photomultiplier tube for detecting scattered light, a plurality of accessory peripherals, and a host computer

상기 1차광원장치를 가동시킴과 동시에 각각의 장치에 대한 상태를 체크하는 제1단계;A first step of operating the primary light source device and checking a state of each device;

상기 제1단계후, 흐름점측정모드와 입자크기측정모드중에 하나의 모드에 대한 선택을 받아들이는 제2단계;A second step of accepting a selection of one of the flow point measuring mode and the particle size measuring mode after the first step;

상기 선택된 모드에 해당하는 내장프로그램에 따라서, 샘플에 대한 정보와 측정조건을 입력받고, 또한 상기 선택된 모드내에서 등온실험과 승온실험중 하나의 실험 선택을 받아들이는 제3단계;A third step of receiving information about a sample and a measurement condition according to a built-in program corresponding to the selected mode, and accepting an experiment selection of an isothermal experiment and an elevated temperature experiment in the selected mode;

상기 제3단계에서 특정실험이 선택된 다음에, 온도조절기를 초기화시키고 특정실험시작을 위한 적정온도를 입력받은후에 실험시작에 해당하는 온도일 경우에 마이크로스텝모터를 최기화시키는 제4단계;A fourth step of initializing the temperature controller after the specific experiment is selected in the third step, and initializing the microstep motor at a temperature corresponding to the start of the experiment after receiving a proper temperature for starting the specific experiment;

상기 제4단계후, 희망산란각도를 입력받아서 핫스테이지에 샘플필름을 장착하고, 감지기를 측정위치로 이동시켜서 장착된 샘플에 대한 데이타를 설정된 시간동안에 수집하는 제5단계;A fifth step of receiving a desired scattering angle, mounting a sample film on a hot stage, moving a detector to a measurement position, and collecting data on the mounted sample for a predetermined time;

제6단계에서 설정시간이 경과한 다음에, 수집된 데이타를 저장하고 이 데이타를 내장된 해당모드의 프로그램에 따라서 데이타분석을 수행하는 제6단계로 이루어짐을 특징으로한다.In the sixth step, after the set time has elapsed, the sixth step of storing the collected data and performing data analysis according to a built-in program of the corresponding mode is performed.

이하, 본 발명에 따른 1차원 광산란장치의 바람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings a preferred embodiment of the one-dimensional light scattering apparatus according to the present invention will be described.

제3도는 본 발명에 따른 1차원 광산란장치의 전체구성도로서, 본 발명의 1차원 광산란장치는 입시광원인 레이저빔을 발생시키는 레이저장치(1)와, 상기 레이저장치(1)로부터의 레이저빔의 소정의 출력강도를 조절하는 뉴트럴 덴시티 필터(2)와, 상기 뉴트럴 덴시티 필터(2)를 통한 레이저빔을 편광시키는 편광자(3)와, 가열판(5)를 소정의 자세 및 위치로 지지하는 지지대(4)와, 상기 지지대(4)에 의해 지지되면서 샘플필름(6)이 놓이는 가열판(5)와, 재료의 온도에 따른 거동을 조절하기 위한 회전판(7)와, 호스트컴퓨터(18)의 제어에 따라 회전판(7)을 회전시키는 마이크로스텝모터(8)와, 상기 가열판(5)의 온도를 감지한 온도정보를 스쿠류터미날(15)로 출력시키는 온도감지기(9)와, 각 장치에 필요한 전원을 각각 공급하는 전원공급기(10)로 구성한다.3 is an overall configuration diagram of the one-dimensional light scattering device according to the present invention, wherein the one-dimensional light scattering device of the present invention comprises a laser device 1 for generating a laser beam as a light source for the entrance, and a laser beam from the laser device 1 A neutral density filter 2 for adjusting a predetermined output intensity of the light source, a polarizer 3 for polarizing a laser beam through the neutral density filter 2, and a heating plate 5 in a predetermined posture and position A support plate 4, a heating plate 5 on which the sample film 6 is placed while being supported by the support unit 4, a rotating plate 7 for adjusting the behavior according to the temperature of the material, and a host computer 18. To the microstep motor 8 for rotating the rotating plate 7 according to the control of the controller, a temperature sensor 9 for outputting temperature information of the temperature of the heating plate 5 to the screw terminal 15, and to each device. It consists of a power supply 10 for supplying each of the necessary power.

또한, 상기 샘플필름을 통한 산란광의 편광형태를 제어하는 분석기(12)와, 상기 분석기(12)에서 제어된 산란광을 검출하여 스쿠류터미날(15)로 출력시키는 포토멀티플라이어튜브(11)와, 호스트컴퓨터(18)의 제어에 따라 상기 포토멀티플라이어튜브(11)의 자세 및 위치를 조절하는 컴퓨모터 드라이브(13)와, 상기 호스트컴퓨터(18)의 제어에 따라 상기 가열판(5)의 온도를 조절하는 온도조절기(14)와, 온도감지기(9)와 포토멀티플라이어튜브(11)로부터의 미약한 신호를 소정의 레벨로 증폭시켜서 상기 호스트컴퓨터(18)로 출력시키는 스쿠류터미날(15)와, 상기 컴퓨모터 드라이브(13) 또는 온도조절기(14)와 호스트컴퓨터(18)간에 데이타를 직렬통신을 위한 직렬포트(15)와, 상기 스쿠류터미날(15)로부터의 아날로그신호를 디지탈신호로 변환시키는 아날로그/디지탈보드(17)와, 상기 직렬포트(16)를 통해서 컴퓨모터 드라이브(13)와 온도조절기(14)등을 제어하고, 아날로그/디지탈보드(17)로부터의 데이타를 입력받아서 내장프로그램에 따라서 처리 및 분석하는 호스트컴퓨터(18)로 구성한다.In addition, the analyzer 12 for controlling the polarization of the scattered light through the sample film, the photomultiplier tube 11 for detecting the scattered light controlled by the analyzer 12 and outputting to the screw terminal 15, and the host The computer 13 drives the position and position of the photomultiplier tube 11 under the control of the computer 18, and the temperature of the heating plate 5 under the control of the host computer 18. And a screw terminal 15 for amplifying a weak signal from the temperature controller 14, the temperature sensor 9 and the photomultiplier tube 11 to a predetermined level, and outputting the amplified signal to the host computer 18. A serial port 15 for serial communication between the computer drive 13 or the temperature controller 14 and the host computer 18, and an analog / digital signal for converting an analog signal from the screw terminal 15 into a digital signal. Digital Board ( 17) and control the computer drive 13 and the temperature controller 14 through the serial port 16, and receives data from the analog / digital board 17 to process and analyze according to the built-in program It comprises a host computer 18.

제4도는 본 발명에 따른 흐름점 측정을 위한 1차원 광산란장치의 제어방법을 보이는 플로우챠트이고, 제5도는 본 발명에 따른 입자크기측정을 위한 1차원 광산란장치의 제어방법을 보이는 플로우챠트이며, 제6도는 본 발명에 따른 흐름점 측정결과를 보이는 예시그래프이다. 또한 제7도는 본 발명에 따라 입자크기측정결과를 보이는 예시그래프이다.4 is a flow chart showing a control method of the one-dimensional light scattering device for measuring the flow point according to the present invention, Figure 5 is a flow chart showing a control method of the one-dimensional light scattering device for measuring the particle size according to the present invention, 6 is an exemplary graph showing a flow point measurement result according to the present invention. 7 is an exemplary graph showing particle size measurement results according to the present invention.

이와같이 구성원 본 발명에 따른 작용 및 효과를 첨부도면에 의거하여 하기에 상세히 설명한다.Thus, the operation and effect according to the present invention will be described in detail below based on the accompanying drawings.

제1도는 상분리된 재료(a) 및 결정화된 재료(b)의 2차원적인 산란이미지와 1차원적으로 슬라이싱(Slicing)한 경우의 산란각-산란강도에 대한 모식도를 나타내었다. 상분리된 재료를 광산란시키면 산란이미지(Scattered image)는 산란관(scattered light)이 입사광(Incident light)과 동일한 방향으로 편광(Polarization)되어서 나타난다.FIG. 1 shows a schematic diagram of scattering angle-scattering intensity when two-dimensional scattering images of phase-separated material (a) and crystallized material (b) and one-dimensional slicing are performed. When scattering the phase-separated material, the scattered image (Scattered image) appears because the scattered light (Scattered light) is polarized in the same direction as the incident light (Incident light).

그러나, 결정화된 재료를 광산란 시키면 사란되는 이미지는 사란광이 입사광과 편광상태가 동일한 경우(Vv pattern) 또는 결정 배향면에 의한 편광작용이 생겨서 편광상태가 다르게 나타나는데 대체적으로 수직평광의 경우(Hv pattern)를 자료해석에 적용하고 있다.However, when scattering the crystallized material, the scattered image has the same polarization state as the incident light (Vv pattern) or polarization action due to the crystal alignment plane, resulting in a different polarization state. ) Is applied to data analysis.

ㄸ라서 슬라이싱을 하는 1차원 광산란 장치로 각각의 재료에 대한 산란각-산란강도 데이터를 얻을 수 있으며, 궁극적으로 최대 산란강도를 나타내는 산란각으로 부터 재료를 구성하고 있는 입자 또는 결정의 크기를 알아낼 수 있다.Slicing is a one-dimensional light scattering device that provides scattering angle-scattering intensity data for each material and ultimately determines the size of the particles or crystals that make up the material from the scattering angle that represents the maximum scattering intensity. have.

식(1)과 (2)에서 q 는 산란벡터, θ는 산란각, λ는 입사광의 파장, 그리고 d 는 평균입자의 크기이다.In equations (1) and (2), q is the scattering vector, θ is the scattering angle, λ is the wavelength of incident light, and d is the size of the average particle.

제2도는 재료의 구조가 처음에는 균일하지만 시간, 조성(Composition) 그리고 온도의 변호에 따라서 상(Phase)의 변화가 생겨서 불균일해지는 과정과 산란강도의 변화에 대한 모식도를 나타내었다. 따라서, 1차원 광산란 장치를 이용해서 특정산란각에서이 산란강도 변화로 부터 재료를 불균일 구조의 시작점(일반점으로 흐림점(Cloud point))을 조사할 수 있다. 대체적으로 재료의 입자크기나 결정크기를 제어할 필요가 있을 경우, 광산란으로 얻은 구조분석 자료로 부터 적절한 조건을 찾을 수 있다.2 shows a schematic diagram of the process of nonuniformity and change of scattering intensity due to the change of phase due to the change of time, composition and temperature. Therefore, one-dimensional light scattering devices can be used to investigate the starting point of a non-uniform structure (cloud point to normal point) from this scattering intensity change at a specific scattering angle. In general, when it is necessary to control the particle size or crystal size of the material, appropriate conditions can be found from the structural analysis data obtained by light scattering.

제3도는 1차원 광산란 장치의 하드웨어(Hardware) 조립도면을 나타내었다. 입사광원은 주로 파장이 632.8mm 인 헬륨-네온 레이저(1)를 사용하며, 레이저의 출력이 강한 경우는 검출기(Detector)의 보호 및 산란광의 포화(Saturation)를 막기 위해서 뉴트럴 덴시티 필터(Neutral Density Filter)(2)를 이용한다. 입사광을 편광시키기 위해서 편광자(Polarizer)(3)를, 산란광의 편광형태를 제어하기 위해서 분석기(Analyzer)(12)를 각각 부착하고 원하는 각도로 편광을 조절한다.3 shows a hardware assembly drawing of the one-dimensional light scattering device. The incident light source mainly uses a helium-neon laser (1) having a wavelength of 632.8 mm, and when the laser output is strong, a neutral density filter is used to protect the detector and to prevent saturation of the scattered light. Filter) 2 is used. A polarizer 3 is attached to polarize the incident light, and an analyzer 12 is attached to control the polarization pattern of the scattered light, and the polarization is adjusted at a desired angle.

한편, 재료의 온도에 따른 거동을 조상하기 위해서는 가열판(Heating Stage)(5) 및 지지대(Supporting Plate)(4)를 장치해야 되며, 온도감지기 (Thermocouple)(9)을 가열판(Heating Stage)에 꼽고 온도조절기 (Temperature Controller)(14)를 이용하여 원하는 온도 및 스온고정을 프로그램한다. 이 가열판 (Heating Stage)에 샘플필름(6)을 각각의 모드에 맞게 적절히 위치시킨다. 그리고 마이크로스텝 모터(Microstep Motor)(8), 회전판(Rotary Table)(7) 및 제어장치인 컴퓨모터 드라이버/인덱서(Compumotor Driver/Indexer)(113)를 이용해서 원하는 산란각으로의 이동 및 산란각 "스윕(Sweep)"을 하게 한다.On the other hand, in order to establish the behavior according to the temperature of the material, the heating stage 5 and the supporting plate 4 should be installed, and the thermocouple 9 is attached to the heating stage. Program the desired temperature and snooze using a Temperature Controller (14). In this heating stage, the sample film 6 is properly positioned for each mode. The microstep motor (8), rotary table (7) and the control device Compumotor Driver / Indexer (113) to the desired scattering angle and scattering angle Let's "sweep".

상기 산란광의 검출은 아주 민감한 포토멀티플라이어 튜브(Photomultiplier Tube)(11)를 스위핑 라드(Sweeping Rod)에 고정시켜서 각각의 산란각에서의 산란광을 검출한 후에 검출된 산란광에 해당하는 전압(10 Volt 이내)을 아날로그/디지탈보드(A/D Conversion Board)(17) 및 스크류 터미널(Screw Terminal)(15)을 이용해서 수치화시킨다. 온도조절기(Temperature Controller)(14) 및 컴퓨터 드라이버 (Compumotor Driver/Indexer)(13)는 컴퓨터내에 내장된 직렬 포트인 알에스 232씨 (RS 232C)를 이용해서 제어를 한다. 모든 제어 및 데이터의 저장, 해석은 터보 씨 (Turbo C) 언어를 이용해서 짠 프로그램(1DLS CON)으로 하도록 구성하였다.Detection of the scattered light is to fix the highly sensitive Photomultiplier Tube (11) to the sweeping rod (sweeping rod) to detect the scattered light at each scattering angle (voltage within 10 Volt) ) Are digitized using an analog / digital board (17) and screw terminal (15). The Temperature Controller 14 and the Compumotor Driver / Indexer 13 control using RS 232C, a serial port built into the computer. All control and data storage and interpretation were configured to be a program (1DLS CON) written using the Turbo C language.

제4도는 흐림점 측정을 하는 경우의 1차원 광산란장치 제어 및 측정고정을 알고리듬을 나타내었다. 먼저 주컴퓨터(Host Computer), 검출기(Detector), 레이저 (Laser)등을 안정화가 되도록 먼저 켜서 예열시킨다. 여기서 안정화는 구성된 프로그램중 "Check!, c" 를 실행시켜서, 어두운 상태에서의 검출디 신호(Detector Signal)의 변화여부를 조사하면 쉽게, 적당한 안정화 시간을 알아낼 수 있다.4 shows an algorithm for controlling and fixing a one-dimensional light scattering device in the case of cloud point measurement. First, preheat the host computer, detector, laser, etc. by turning it on to stabilize. Here, stabilization is performed by executing "Check !, c" in the configured program, and it is easy to find out the proper stabilization time by checking whether the Detect signal in the dark state changes.

상기와 같은 시스템의 예열이 끝나면 "측정모드선택"에서 "흐름점측정"을 선택한다. 그리고, 측정하고자 하는 샘플에 대한 간단한 정보 및 "측정조건(Test Condition)"을 입력한 후, 승온 또는 등온 실행모드중에서 실험할 실행모드를 선택한다.After preheating the system, select "flow point measurement" in "measurement mode selection". Then, after inputting simple information about the sample to be measured and "Test Condition", the execution mode to be experimented is selected from the temperature rising or isothermal running mode.

이어서 "온도조절기(Temperature Controller)"를 초기화 시키고 선택한 실행(RUN)에 해당하는 온도변수의 값들을 입력시킨다. 등온실험의 경우는 원하는 일정한 온도가 될때까지 승온실험의 경우는 시작온도("Start" 온도)가 될때까지 기다린다. 앞의 온도에 이르면 "마이크로스텝 모터(Microstep Motor)"를 초기화시킨 후, 원하는 산란각을 입력시키고 검출기를 이동시킨다.Then initialize the "Temperature Controller" and enter the values of the temperature variables corresponding to the selected run. In the case of isothermal experiments, wait until the desired temperature is reached. In the case of elevated temperature experiments, wait until the start temperature ("Start" temperature) is reached. When the temperature is reached, the "Microstep Motor" is initialized, the desired scattering angle is input and the detector is moved.

상기 샘플필름을 가열판(Heating Stage)에 위치시키고 데이터를 받기 시작한다. 이때 그래픽 디스플레이(Graphic Display)가 되어서 산란광의 변화를 모니터할 수 있다. 계산된 시간(등온실험의 경우) 또는 최종온도(승온실험의 경우)가 되면 데이터 입력 및 그래프가 정지하며, 실험의 종결을 알리는 메시지가 나타난다. 이어서 특정 산란각으로 이동하였던 검출기(Detector)가 원점(산란각 = 0도)으로 돌아가게 된다.The sample film is placed on a heating stage and starts receiving data. In this case, a graphic display may be used to monitor changes in scattered light. When the calculated time (in case of isothermal experiment) or final temperature (in case of elevated temperature experiment), data input and graph stop, and a message indicating the end of the experiment appears. Subsequently, the detector, which has moved to a specific scattering angle, returns to the origin (scattering angle = 0 degrees).

상기 저장된 "아스키 데이타/넘버 데이타(ASC11 TEXT/NUMBER DATA)"들은 오프-라인 분석(Off-line Analysis)를 거쳐서 최종적인 "흐림점(Cloud point)"를 구하게 된다.The stored "ASC11 TEXT / NUMBER DATA" is obtained through an off-line analysis to obtain a final "Cloud point".

제5도는 입자크기를 측정하는 경우의 1차원 광산단장치 제어 및 측정과정 알고리듬을 나타내었다. 예열 및 안정화는 제4도를 참조한 설명과 동일하다.5 shows the algorithm for controlling and measuring the one-dimensional light end device in the case of measuring the particle size. Preheating and stabilization are the same as the description with reference to FIG.

상기 시스템의 예열이 끝나면 "측정모드 선택"에서 "입자크기 측정"을 선택한다. 그리고, 측정하고자 하는 샘플에 대한 간단한 정보 및 "측정조건(Test Condition)"을 입력한 후, 승온 또는 등온 실행모드중에서 실험할 실행모드 선택한다.After the preheating of the system is completed, select "particle size measurement" in "selection of measurement mode". After inputting simple information about the sample to be measured and "Test Condition", the execution mode to be experimented is selected from the temperature rising or isothermal running mode.

이어서 "온도조절기(Temperature Controller)"를 초기화시키고 선택한 RUN 에 해당하는 온도 변수의 값들을 입력시킨다. 등온 실험의 경우는 원하는 일정한 온도가 될때까지, 승온실험의 경우는 "Start" 온도가 될때까지 기다린다.Then initialize the "Temperature Controller" and enter the values of the temperature variables corresponding to the selected RUN. In the case of isothermal experiments, wait until the desired temperature is reached, and in the case of elevated temperature experiments, until the temperature reaches "Start".

앞의 온도에 이르면 "마이크로 스텝 모터(Microstep Motor)"를 초기화시킨 후, 원하는 산란각을 입력시키고 샘플을 "가열판(Heating Stage)"에 위치시키고 검출기(Detector)의 이동과 함께 산란각에 따른 산란광 데이터를 받기 시작한다.When the temperature is reached, the "Microstep Motor" is initialized, the desired scattering angle is input, the sample is placed on the "Heating Stage", and the scattering light according to the scattering angle along with the movement of the detector. Start receiving data.

검출기(Detector)가 입력된 산란각에 도달하게 되면 데이터의 저장이 정지되록 처음의 위치(산란각=0도)로 돌아가게 된다. 이러한 검출기(Detector)의 "무빙-호밍(Moving-Homing)"의 "스위핑(Sweeping)" 과정은 프로그램된 시간 간격에 따라서 실행되며, 산란각에 따른 산란광의 데이터는 그래픽 디스플레이(Graphic Disply)로 되어서 모니터된다.When the detector reaches the input scattering angle, it returns to the initial position (scattering angle = 0 degrees) to stop storing data. This detector's "sweeping" process of "Moving-Homing" is performed according to the programmed time interval, and the scattered light data according to the scattering angle is a graphic display (Graphic Disply) Is monitored.

상기 계산된 시간(등온실험의 경우) 또는 최종온도(승온실험의 경우)가 되면 데이터 및 그래프가 정지하며, 실험의 종결을 알리는 메시지가 나타난다. 저장된 "아스키 텍스트/넘버 데이타(ASC11 TEXT/NUMBER DATA)"들을 오프-라인 분석(Off-line Analysis)를 하여서 최종적인 "입자 크기(Particle size)"를 구하게 된다.When the calculated time (in the case of isothermal experiment) or the final temperature (in the case of elevated temperature experiment), the data and graphs stop, and a message indicating the end of the experiment appears. The stored "ASC11 TEXT / NUMBER DATA" is off-line analyzed to obtain the final "Particle size".

제6도는 1차원 광산란 장치를 이용한 흐림점 측정을 실시한 예를 나타내었다. 등온과 승온 실험의 경우 그래프의 형태는 유사하기 때문에 승온 실험의 예를 나타내었다.6 shows an example of performing a cloud point measurement using a one-dimensional light scattering device. In the case of isothermal and elevated temperature experiments, the graphs are similar in form, so an example of elevated temperature experiments is shown.

그래픽 디스플레이(Graphic Display)에서 Y 축은 산란광의 세기를, X축은 온도변화를 나타낸다.In the graphic display, the Y axis represents scattered light intensity and the X axis represents temperature change.

그리고 실험에 대한 정보들은 그래프 밖의 왼쪽 아래 부분에 나타나 있으며, 그래프 내부의 오른쪽 위에 현재 측정온도와 프로그램으로 계산된 온도가 나타나서 온도가 잘 조절되는지의 여부를 확인할 수 있다. 데이터의 수 및 흐른시간, 산란광의 수치가 그래프 위에 수치로 표시된다.The information about the experiment is displayed in the lower left part of the graph, and the current measured temperature and the calculated temperature are displayed on the upper right side of the graph to check whether the temperature is well controlled. The number and duration of data, and the value of scattered light, are displayed numerically on the graph.

한편, 실험의 안전 및 돌발사태에 대비하여서 "F1" Key 를 "핫 브레이크(Hot Break)" 기능으로 설정했다. 궁극적으로 알고자 하는 "흐림점(Cloud Point)"는 산란광 세기의 변화가 없다가 값이 증가되는 부분이다.On the other hand, the "F1" key was set to "Hot Break" function in preparation for the safety and the accident of the experiment. Ultimately, the "Cloud Point" you want to know is the part where the value increases without the change of the scattered light intensity.

제7도는 1차원 광산란 장치를 이용한 입자 크기 측정을 실시한 예를 나타내었다. 등온과 승온실험의 경우 그래프의 형태는 유사하기 때문에 등온실험의 예를 나타내었다.7 shows an example of measuring the particle size using a one-dimensional light scattering device. In the case of isothermal and elevated temperature experiments, the graphs are similar in form.

또한, 그래픽 디스플레이(Graphic Display)에서 Y 축은 산란광의 세기를, X 축은 온도변화를 나타낸다. 그리고 실험에 대한 정보들은 그래프 밖의 왼쪽 아래 부분에 나타나 있으며, 그래프 내부의 오른쪽 위에 스윕(Sweep)으로 인해서 변화하는 산란각 및 산란광의 세기를 수치로 알 수 있게 하였다. 실험의 형태(등온실험), 데이터의 수, 경과 시간 그리고 온도가 그래프 위에 수치로 표시가 된다. 입자의 평균 크기는 산란광의 세기가 최대인 산란각을 앞의 식(1)과 (2)에 넣어서 구할 수 있다.In addition, in the graphic display, the Y axis represents scattered light intensity and the X axis represents temperature change. The information about the experiment is shown in the lower left part of the graph, and the scattering angle and the intensity of the scattered light due to the sweep in the upper right part of the graph can be known numerically. The type of experiment (isothermal experiment), number of data, elapsed time and temperature are displayed numerically on the graph. The average size of the particles can be obtained by inserting the scattering angle at which the intensity of the scattered light is maximum into Equations (1) and (2).

상술한 바와같은 본 발명은 블렌드(Blend) 또는 복합재료(Composite)를 만들 경우에 사용되는 고분자(Polymer), 무기재료(Inorganic material) 그리고 금속(Metal)등의 신소재(New material)에 대한 미세구조(Micro-structure)를 레이저빔(Laser beam) 및 광학부품(Optics parts)을 이용함으로써, 비파과적으로 분석이 가능하게 되는 특별한 효과가 있는 것이다.As described above, the present invention provides a microstructure for new materials such as polymer, inorganic material, and metal used in making a blend or a composite material. By using (Micro-structure) laser beam and optical parts, there is a special effect that can be analyzed non-destructively.

이상의 설명은 본 발명의 일실시예에 대한 설명에 불과하며, 본 발명은 그 구성의 범위내에서 다양한 변경 및 개조가 가능하다.The above description is only a description of one embodiment of the present invention, the present invention is capable of various changes and modifications within the scope of the configuration.

제1도는 산란광의 2차원적인 이미지 및 이 이미지를 1차원적으로 슬라이싱( Slicing)하였을 경우의 산란각에 따른 산란강도를 보이는 설명도.1 is an explanatory diagram showing scattering intensity according to scattering angle when two-dimensional image of scattered light and one-dimensional slicing of the image.

제2도는 시간, 온도 그리고 조성등 외부환경의 변화에 따른 재료의 구조변화와 산란강도의 변화를 보이는 설명도.2 is an explanatory diagram showing the change of material structure and the scattering strength according to the change of external environment such as time, temperature and composition.

제3도는 본 발명에 따른 1차원 광산란장치의 전체구성도.3 is an overall configuration diagram of a one-dimensional light scattering device according to the present invention.

제4도는 본 발명에 따른 흐름점 측정을 위한 1차원 광산란장치의 제어방법을 보이는 플로우챠트.Figure 4 is a flow chart showing a control method of the one-dimensional light scattering device for measuring the flow point in accordance with the present invention.

제5도는 본 발명에 따른 입자크기측정을 위한 1차원 광산란장치의 제어방법을 보이는 플로우챠트.5 is a flowchart showing a control method of the one-dimensional light scattering device for measuring the particle size according to the present invention.

제6도는 본 발명에 따른 흐름점 측정결과를 보이는 예시그래프.6 is an exemplary graph showing a flow point measurement result according to the present invention.

제7도는 본 발명에 따라 입자크기측정결과를 보이는 예시그래프.7 is an exemplary graph showing a particle size measurement results according to the present invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

1 : 레이저장치 2 : 뉴트럴 덴시티 필터1: laser device 2: neutral density filter

3 : 편광자 4 : 지지대3: polarizer 4: support

5 : 가열판 6 : 샘플필름5: heating plate 6: sample film

7 : 회전판 8 : 마이크로스텝모터7: rotating plate 8: microstep motor

9 : 온도감지기 10 : 전원공급기9: temperature sensor 10: power supply

11 : 포토멀티플라이어튜브 12 : 분석기11 Photomultiplier tube 12 Analyzer

13 : 컴퓨모터 드라이브 14 : 온도조절기13 computer drive 14 temperature controller

15 : 스쿠류터미날 16 : 직렬포트15 SCURU terminal 16: Serial port

17 : 아날로그/디지탈보드 18 : 호스트컴퓨터17: analog / digital board 18: host computer

19 : 소제방향19: Cleaning direction

Claims (2)

입시광원인 레이저빔을 발생시키는 레이저장치(1);A laser device 1 for generating a laser beam as a light source of entrance; 상기 레이저장치(1)로부터의 레이저빔의 소정의 출력강도를 조절하는 뉴트럴 덴시티 필터(2);A neutral density filter (2) for adjusting a predetermined output intensity of the laser beam from the laser device (1); 상기 뉴트럴 덴시티 필터(2)를 통한 레이저빔을 편광시키는 편광자(3);A polarizer (3) for polarizing the laser beam through the neutral density filter (2); 가열판(5)를 소정의 자세 및 위치로 지지하는 지지대(4);A support (4) for supporting the heating plate (5) in a predetermined posture and position; 상기 지지대(4)에 의해 지지되면서 샘플필름(6)이 놓이는 가열판(5);A heating plate 5 supported by the support 4 on which the sample film 6 is placed; 재료의 온도에 따른 거동을 조절하기 위한 회전판(7);A rotating plate 7 for adjusting the behavior according to the temperature of the material; 호스트컴퓨터(18)의 제어에 따라 회전판(7)을 회전시키는 마이크로스텝모터(8);A microstep motor 8 for rotating the rotating plate 7 under the control of the host computer 18; 상기 가열판(5)의 온도를 감지한 온도정보를 스쿠류터미날(15)로 출력시키는 온도감지기(9);A temperature sensor 9 for outputting temperature information of the temperature of the heating plate 5 to the screw terminal 15; 각 장치에 필요한 전원을 각각 공급하는 전원공급기(10);A power supply 10 for supplying power to each device respectively; 상기 샘플필름을 통한 산란광의 편광형태를 제어하는 분석기(12);An analyzer 12 for controlling the polarization pattern of the scattered light through the sample film; 상기 분석기(12)에서 제어된 산란광을 검출하여 스쿠류터미날(15)로 출력시키는 포토멀티플라이어튜브(11);A photomultiplier tube 11 for detecting the scattered light controlled by the analyzer 12 and outputting the scattered light to the screw terminal 15; 호스트컴퓨터(18)의 제어에 따라 상기 포토멀티플라이어튜브(11)의 자세 및 위치를 조절하는 컴퓨모터 드라이브(13);A computer drive 13 for adjusting the posture and the position of the photomultiplier tube 11 under the control of a host computer 18; 상기 호스트컴퓨터(18)의 제어에 따라 상기 가열판(5)의 온도를 조절하는 온도조절기(14);A temperature controller (14) for controlling the temperature of the heating plate (5) under the control of the host computer (18); 상기 온도감지기(9)와 포토멀티플라이어튜브(11)로부터의 미약한 신호를 소정의 레벨로 증폭시켜서 상기 호스트컴퓨터(18)로 출력시키는 스쿠류터미날(15);A screw terminal (15) for amplifying a weak signal from the temperature sensor (9) and the photomultiplier tube (11) to a predetermined level and outputting the signal to the host computer (18); 상기 컴퓨모터 드라이브(13) 또는 온도조절기(14)와 호스트컴퓨터(18)간에 데이타를 직렬통신을 위한 직렬포트(16);A serial port 16 for serial communication of data between the computer drive 13 or the temperature controller 14 and the host computer 18; 상기 스쿠류터미날(15)로부터의 아날로그신호를 디지탈신호로 변환시키는 아날로그/디지탈보드(17);An analog / digital board 17 for converting an analog signal from the screw terminal 15 into a digital signal; 상기 직렬포트(16)를 통해서 컴퓨모터 드라이브(13)와 온도조절기(14)등을 제어하고, 아날로그/디지탈보드(17)로부터의 데이타를 입력받아서 내장프로그램에 따라서 처리 및 분석하는 호스트컴퓨터(18)를 구비함을 특징으로 하는 1차원 광산란장치.The host computer 18 controls the computer drive 13 and the temperature controller 14 through the serial port 16, receives data from the analog / digital board 17, and processes and analyzes the data according to an embedded program. 1D light scattering device characterized in that it comprises a). 레이저빔을 발생시키는 레이저장치(1)와, 샘플필름(6)이 놓이는 가열판(5)과, 산란광을 검출하는 포토멀티플라이어튜브(11)와, 다수의 부대 주변장치 및 호스트컴퓨터(18)을 포함하는 1차원 광산란장치의 제어방법은A laser device 1 for generating a laser beam, a heating plate 5 on which the sample film 6 is placed, a photomultiplier tube 11 for detecting scattered light, a plurality of accessory peripherals and a host computer 18 The control method of the one-dimensional light scattering apparatus comprising 상기 1차광원장치를 가동시킴과 동시에 각각의 장치에 대한 상태를 체크하는 제1단계;A first step of operating the primary light source device and checking a state of each device; 상기 제1단계후, 흐름점측정모드와 입자크기측정모드중에 하나의 모드에 대한 선택을 받아들이는 제2단계;A second step of accepting a selection of one of the flow point measuring mode and the particle size measuring mode after the first step; 상기 선택된 모드에 해당하는 내장프로그램에 따라서, 샘플에 대한 정보와측정조건을 입력받고, 또한 상기 선택된 모드내에서 등온실험과 승온실험중 하나의 실험 선택을 받아들이는 제3단계;A third step of receiving information about a sample and a measurement condition according to a built-in program corresponding to the selected mode, and accepting an experiment selection of an isothermal experiment and an elevated temperature experiment in the selected mode; 상기 제3단계에서 특정실험이 선택된 다음에, 온도조절기를 초기화시키고 특정실험시작을 위한 적정온도를 입력받은후에 실험시작에 해당하는 온도일 경우에 마이크로스텝모터를 최기화시키는 제4단계;A fourth step of initializing the temperature controller after the specific experiment is selected in the third step, and initializing the microstep motor at a temperature corresponding to the start of the experiment after receiving a proper temperature for starting the specific experiment; 상기 제4단계후, 희망산란각도를 입력받아서 핫스테이지에 샘플필름을 장착하고, 감지기를 측정위치로 이동시켜서 장착된 샘플에 대한 데이타를 설정된 시간동안에 수집하는 제5단계;A fifth step of receiving a desired scattering angle, mounting a sample film on a hot stage, moving a detector to a measurement position, and collecting data on the mounted sample for a predetermined time; 제6단계에서 설정시간이 경과한 다음에, 수집된 데이타를 저장하고 이 데이타를 내장된 해당모드의 프로그램에 따라서 데이타분석을 수행하는 제6단계로 이루어짐을 특징으로하는 1차원 광산란장치 제어방법.And a sixth step of storing the collected data and performing data analysis according to a program of a corresponding mode embedded therein after the set time has elapsed in the sixth step.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN108982374A (en) * 2018-06-27 2018-12-11 北京大学 A kind of device and method measuring one-dimensional material multipole rate
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