KR100327251B1 - Inkjet printhead actuator and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
본 발명은 박판의 진동판과 챔버판의 사이에 보호박막이 일체로 적층되도록 한 후 챔버판의 후가공에 의해서 보다 정밀하게 챔버가 형성될 수 있도록 하는 잉크젯 프린트헤드의 액츄에이터와 그의 제조방법에 관한 것으로서, 본 발명은 금속재의 박판으로 구비되는 챔버판과 진동판을 에칭 정지층인 보호박막과 일체로 결합되도록 한 후 챔버판을 리소그라피 공정과 에칭공정에 의해 패터닝하여 챔버판에는 다수의 챔버가 균일한 크기와 간격으로 형성되도록 하는 것으로서, 이때 챔버판과 진동판의 사이에 개입시키게 되는 보호박막은 챔버를 형성시 에칭 정지층으로 이용되며, 제품에 적용되어서는 잉크와의 접촉에 의한 진동판의 부식등이 방지되게 하므로서 제작성과 제품성능이 향상될 수 있도록 하는 것이다.The present invention relates to an actuator of an inkjet printhead and a method of manufacturing the same, wherein a protective thin film is integrally laminated between a diaphragm of a thin plate and a chamber plate, and thus a chamber can be formed more precisely by post-processing of a chamber plate. According to the present invention, a chamber plate and a vibration plate provided with a thin metal plate are integrally combined with a protective thin film, which is an etch stop layer, and then the chamber plate is patterned by a lithography process and an etching process to form a plurality of chambers in the chamber plate. In this case, the protective thin film interposed between the chamber plate and the diaphragm is used as an etch stop layer when forming the chamber, and applied to the product to prevent corrosion of the diaphragm due to contact with ink. By doing so, the production and product performance can be improved.
Description
본 발명은 잉크젯 프린트헤드 액츄에이터와 그의 제조방법에 관한 것으로서, 상세하게는 금속재인 박판의 진동판과 챔버판의 사이로 에칭 정지층인 보호박막이 일체로 증착되게 하므로서 챔버판에서의 에칭에 의한 챔버형성이 보다 정밀하면서경제적으로 수행되며, 잉크에 의한 진동판의 부식이 방지되게 하여 헤드의 기계적인 강성이 향상되도록 하는 잉크젯 프린트헤드 액츄에이터와 그의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an inkjet printhead actuator and a method of manufacturing the inkjet printhead actuator, and in particular, a chamber formed by etching on a chamber plate is formed by allowing a protective thin film, which is an etch stop layer, to be integrally deposited between a vibrating plate of a thin plate made of metal and a chamber plate. The present invention relates to an inkjet printhead actuator and a method of manufacturing the same, which are performed more precisely and economically, thereby preventing corrosion of the diaphragm by ink, thereby improving mechanical rigidity of the head.
일반적으로 잉크젯 프린터의 헤드에서 잉크를 분사시키는 방식은 크게 서몰·버블 젯방식(Thermal·bubble jet type)과 압전방식(Piezo transducer type)이 주로 사용된다.In general, a method of ejecting ink from the head of an inkjet printer is mainly a thermal bubble jet type and a piezoelectric transducer type.
이중 서몰·버블 젯방식(thermal·bubble jet type)은 전기적으로 챔버를 가열하여 챔버내 잉크가 열팽창에 의해서 노즐을 통해 분사되도록 하는 것이며, 압전방식은 압전 액츄에이터에 의해서 진동판을 구동시켜 그 진동력으로 챔버내 잉크가 노즐을 통해 분사되도록 하는 것이다.The dual thermal bubble jet type electrically heats the chamber so that ink in the chamber is injected through the nozzle by thermal expansion, and the piezoelectric method uses a piezoelectric actuator to drive the diaphragm to generate the vibration force. Ink in the chamber is to be ejected through the nozzle.
이와같은 방식으로 분사되는 잉크는 그 입자가 수십㎛(약 40㎛)의 크기를 가지면서 대단히 많은 수의 입자가 동시 다발적으로 분사되므로 무엇보다도 정밀한 작동성이 요구된다.Ink sprayed in this way is required to have precise operability above all because the particles have a size of several tens of micrometers (about 40 micrometers) and a large number of particles are simultaneously sprayed simultaneously.
도 1은 전기한 분사방식들 중 현재 가장 보편적으로 사용되고 있는 압전방식의 일실시예를 도시한 것으로서, 이때의 압전소자는 PZT를 사용하였다.1 illustrates an embodiment of a piezoelectric method which is the most commonly used among the above-described injection methods, and the piezoelectric element at this time used PZT.
이러한 압전 분사 방식에서의 잉크젯 프린트 헤드는 크게 노즐판(110, nozzle plate)과 리저버판(120, reservoir plate)과 리스트릭터판(130, restrictor plate)과 챔버판(140, chamber plate)과 진동판(150, vibration plate)을 차례로 적층하고, 진동판(150)에는 다시 하부전극(161)과 압전체(163)와 상부전극(162)이 차례로 적층되어 압전 액츄에이터(160)를 구성한다.The inkjet print head of the piezoelectric injection method is largely divided into a nozzle plate 110, a reservoir plate 120, a reservoir plate 130, a restrictor plate 130, a restrictor plate, a chamber plate 140, and a vibration plate ( 150, vibration plates are sequentially stacked, and the lower electrode 161, the piezoelectric body 163, and the upper electrode 162 are sequentially stacked on the vibration plate 150 to form a piezoelectric actuator 160.
위의 구성에서 노즐판(110)은 작은 직경의 노즐(111, nozzle)이 일측으로 형성되게 하여 실질적으로 잉크가 분사되는 토출구이다.In the above configuration, the nozzle plate 110 is a discharge port through which ink is ejected substantially by forming a nozzle 111 having a small diameter to one side.
그리고 노즐판(110)의 상부로 적층되는 리저버판(120)은 적정량의 잉크를 저장하는 공간인 리저버(121, reservoir)가 일측으로 형성되고, 타측에는 노즐판(110)의 노즐(111)과 연통되므로서 노즐(111)로 잉크를 유도하는 관통공(122, through hole)이 형성되도록 한 부분이다.The reservoir plate 120 stacked on the nozzle plate 110 has a reservoir 121, which is a space for storing an appropriate amount of ink, formed at one side thereof, and the nozzle 111 of the nozzle plate 110 is formed at the other side thereof. The through hole 122 is formed so as to communicate with the ink to guide the nozzle 111 is formed.
리저버판(120)의 상부에 적층되는 리스트릭터판(130)은 리저버판(120)의 리저버(121)로부터 일정량의 잉크가 유도되도록 하는 작은 직경의 리스트릭터(131)가 리저버(121)와 연통되도록 일측으로 형성되고, 타측에는 리저버판(120)의 관통공(122)과 연통되어 유로를 이루는 관통공(132)이 형성되도록 한 부분이다.In the restrictor plate 130 stacked on the reservoir plate 120, a restrictor 131 having a small diameter in which a predetermined amount of ink is guided from the reservoir 121 of the reservoir plate 120 communicates with the reservoir 121. It is formed to one side so as to communicate with the through hole 122 of the reservoir plate 120 to the other side is a portion to form a through hole 132 forming a flow path.
리스트릭터판(130)의 상부에 적층되는 챔버판(140)은 리스트릭터판(130)의 양측에 형성되는 리스트릭터(131)와 관통공(132)에 동시에 연통되는 챔버(141)가 형성되도록 하여 리스트릭터(131)를 통해서는 잉크가 유입되고, 관통공(132)을 통해서는 잉크가 유출되면서 리저버판(120)의 관통공(122)과 노즐판(110)의 노즐(111)을 통해서 외부로 잉크가 분사될 수 있도록 하는 부분이다.The chamber plate 140 stacked on the top of the restrictor plate 130 is formed such that the chamber 141 communicating with the restrictor 131 and the through hole 132 formed on both sides of the restrictor plate 130 is formed at the same time. The ink flows through the restrictor 131 and the ink flows out through the through hole 132 through the through hole 122 of the reservoir plate 120 and the nozzle 111 of the nozzle plate 110. It is a part to inject ink to the outside.
한편 챔버판(140)의 상부에 적층되는 진동판(150)은 챔버판(140)의 상부로 개방된 챔버(141)의 상부를 커버하므로서 챔버(141)내로 유도되는 잉크가 리스트릭터판(130)의 관통공(132)을 통해 유출되도록 하면서 휨변형에 의해 실질적으로 챔버(141)의 체적을 변화시키므로서 챔버(141)내의 압력을 변화시켜 잉크가 유동할 수 있도록 하는 작동부이다.On the other hand, the diaphragm 150 stacked on the chamber plate 140 covers the upper portion of the chamber 141 opened to the upper portion of the chamber plate 140, so that the ink guided into the chamber 141 is the restrictor plate 130. While operating through the through hole 132 of the operation by substantially changing the volume of the chamber 141 by bending deformation while changing the pressure in the chamber 141 to allow the ink flow.
그리고 진동판(150)의 휨변형은 자연적으로 발생될 수가 없으므로 이러한 진동판(150)의 휨변형을 위해 진동판(150)에 구비되는 것이 압전 액츄에이터(160)이다.Since the bending deformation of the diaphragm 150 cannot be naturally generated, the piezoelectric actuator 160 is provided in the diaphragm 150 for the bending deformation of the diaphragm 150.
압전 액츄에이터(160)는 하부전극(161)과 상부전극(162), 그리고 이들 사이로 압전체(163)를 구비하여 결합시킨 구성으로서, 외부로부터 공급되는 전원의 단속에 의해 압전체(163)의 변형을 발생시키게 되는 구동수단이다.The piezoelectric actuator 160 includes a lower electrode 161, an upper electrode 162, and a piezoelectric member 163 coupled therebetween. The piezoelectric actuator 160 generates deformation of the piezoelectric member 163 by interrupting power supplied from the outside. It is a driving means to be made.
즉 상부전극(162)과 하부전극(161)간의 통전상태에 따라서 압전체(163)가 수축 및 팽창하게 되며, 이러한 압전체(163)의 변형력이 진동판(150)에 그대로 전달되면서 진동판(150)의 휨변형을 유발하게 된다.That is, the piezoelectric member 163 contracts and expands according to the energized state between the upper electrode 162 and the lower electrode 161, and the deformation force of the piezoelectric member 163 is transmitted to the diaphragm 150 as it is, and the bending of the diaphragm 150 is performed. Will cause deformation.
따라서 전기적으로 압전 액츄에이터(160)를 구동시키게 되면 진동판(150)이 휨변형되면서 챔버판(140)의 챔버(141)내 체적을 변화시켜 체적이 팽창하면 리저버(121)와 리스트릭터(131)를 통해 잉크가 챔버(141)내로 유입되고, 체적이 수축하면 리스트릭터판(130)과 리저버판(120)의 각각의 관통홀(132)(122)을 거쳐 노즐판(110)의 노즐(111)을 통해 잉크를 외부로 분사시키게 된다.Therefore, when the piezoelectric actuator 160 is electrically driven, the diaphragm 150 is deflected while changing the volume in the chamber 141 of the chamber plate 140 to expand the reservoir 121 and the restrictor 131. Ink is introduced into the chamber 141 through the nozzle 141, and when the volume shrinks, the nozzle 111 of the nozzle plate 110 passes through the through holes 132 and 122 of the restrictor plate 130 and the reservoir plate 120, respectively. The ink is ejected to the outside through.
한편 종전의 압전체는 그 제조 특성상 대단히 높은 온도(통상 800℃∼1200℃)가 요구되므로 그 저부로 구비되는 하부전극(161)과 진동판(150)은 그보다 높은 온도에서도 변형이 되지 않는 고온의 재질(백금, 지르코늄 등)을 사용하여야만 하였으나 최근에는 저온의 압전체 제조방법이 소개되기도 하면서 진동판(150)의 재질 또한 다양화할 수 있게 되었다.On the other hand, the conventional piezoelectric material requires a very high temperature (usually 800 ° C. to 1200 ° C.) due to its manufacturing characteristics, so that the lower electrode 161 and the diaphragm 150 provided at the bottom thereof are made of a high temperature material that is not deformed even at a higher temperature. Platinum, zirconium, etc.) had to be used, but in recent years, a method of manufacturing a low-temperature piezoelectric material has been introduced, and thus the material of the diaphragm 150 may be diversified.
하지만 진동판(150)은 챔버(141)내로 잉크를 유입하고, 이를 다시 노즐(111)을 통해 분사시키는 작용을 하는 실제적인 작동수단으로서 휨변형을 하게 되므로 이때 가장 문제가 되는 것이 진동판(150)과 챔버판(140)간의 결합력 저하다.However, the diaphragm 150 is deflected as the actual operating means that injects ink into the chamber 141 and injects it again through the nozzle 111, so that the most problematic is the diaphragm 150 and The coupling force between the chamber plates 140 is lowered.
즉 진동판(150)에 챔버판(140)을 결합시키기 위해서는 진동판(150)과 챔버판(140)이 각각 세라믹소재로 성형되는 종전의 구조에서는 우선 제작된 챔버판(140)에 진동판(150)을 페이스트상태로 도포되게 한 뒤 이를 열처리하는 방법에 의해서 결합시키기도 하고, 이와는 달리 챔버판(140)과 진동판(150)을 각각 제작하여 이들을 간단히 접착제로서 접합시키기도 하였다.In other words, in order to couple the chamber plate 140 to the diaphragm 150, the diaphragm 150 and the chamber plate 140 are each formed of a ceramic material. After being applied in a paste state, it may be bonded by a method of heat treatment. Alternatively, the chamber plate 140 and the diaphragm 150 may be manufactured, respectively, and then simply bonded to each other as an adhesive.
특히 도 2에서와 같이 진동판(150)에 챔버(141)가 형성되는 부분으로 비금속의 몰드(200, mold)를 부착하고, 일렉트로 포밍에 의해서 상기 몰드(200)의 외측으로 챔버판(140)을 성형 후 상기의 몰드(200)를 제거시키는 방법으로 결합된 구조를 제작하기도 하였다.Particularly, as shown in FIG. 2, the non-metal mold 200 is attached to the diaphragm 150 to form the chamber 141, and the chamber plate 140 is moved out of the mold 200 by electroforming. After molding, the combined structure was manufactured by removing the mold 200.
그러나 전술한 바와같은 열처리 또는 접합에 의한 진동판(150)과 챔버판(140)간의 결합방법으로는 진동판(150)이 휨변형시 기계적인 강성을 유지하기가 어려울 뿐만 아니라 챔버판(140)에 수백 ㎛(약 200㎛)의 챔버(141)를 그보다 작은 간격(약 100㎛)으로 복수개로서 형성시키기가 대단히 난해하며, 특히 이같은 미세한 챔버(141)의 형성을 위해서는 별도로 고가의 가공장비가 필요로 되므로 프린트 헤드의 제조비용이 과다해지게 되는 문제점이 있다.However, as the coupling method between the diaphragm 150 and the chamber plate 140 by heat treatment or bonding as described above, it is difficult to maintain the mechanical rigidity when the diaphragm 150 is deflected as well as hundreds of the chamber plate 140. It is very difficult to form a plurality of chambers 141 having a thickness of about 200 µm (about 100 µm) at smaller intervals (about 100 µm), and in particular, expensive processing equipment is required for the formation of such a fine chamber 141. There is a problem that the manufacturing cost of the print head becomes excessive.
또한 도 2에서와 같은 일렉트로 포밍에 의한 챔버(141)의 형성은 진동판(150)에서 비금속의 몰드(200)가 부착되는 형상에 따라서 미세한 차이가 있게 되므로 결국 도 3에서 보는바와 같이 챔버판(140)의 외주연부(t1)와 챔버(141)들 사이의 간격(t2)을 항상 일정하게 유지시키기가 어려우며, 특히 챔버(141)들 사이의 간격(t2)보다 폭이 넓게 형성되는 부분(t1)의 두께가 과도하게 커지는 경향이 있으므로 결국 그 저부에서 결합되는 리스트릭터판(130)과의 밀착면간 밀착강도가 제품에 따라서 차이가 나는 문제점이 있다.In addition, since the formation of the chamber 141 by the electroforming as shown in FIG. 2 has a slight difference depending on the shape in which the non-metal mold 200 is attached to the diaphragm 150, the chamber plate 140 is as shown in FIG. 3. It is difficult to always maintain a constant distance t2 between the outer periphery (t1) and the chamber 141 of the), in particular, the portion (t1) is formed wider than the interval t2 between the chambers (141) Since the thickness tends to be excessively large, there is a problem in that the adhesion strength between the contact surfaces with the restrictive plate 130 coupled at the bottom is different depending on the product.
본 발명은 상기한 문제점을 시정 보완하기 위한 것으로서, 본 발명은 진동판과 챔버판을 금속재의 박판으로 제작하면서 이들 사이에는 에칭 정지층인 보호박막이 일체로 형성되게 하므로서 보다 간단하면서 균일한 간격과 크기로 챔버판에서의 챔버 형성이 가능토록 하는데 주된 목적이 있다.The present invention is to compensate for the above problems, the present invention is to make the diaphragm and the chamber plate of a thin metal plate while the protective thin film, which is an etch stop layer is formed integrally therebetween, more simple and uniform spacing and size The main purpose is to enable chamber formation in the furnace chamber plate.
본 발명은 동일한 금속재질인 챔버판과 일체로 진동판을 형성되게 하므로서 진동판의 기계적인 강성을 보다 증강되도록 하는 동시에 균일한 작동성이 유지될 수 있도록 하는데 다른 목적이 있다.Another object of the present invention is to allow the vibration plate to be integrally formed with the chamber plate, which is made of the same metal material, so that the mechanical rigidity of the vibration plate can be further enhanced, while maintaining uniform operability.
본 발명은 제품에 적용시 내산화성을 갖는 보호박막에 의해서 진동판으로의 직접적인 잉크 접촉이 방지되게 하므로서 진동판의 산화방지로 내구력이 향상되도록 하는데 또 다른 목적이 있다.The present invention has another object to improve durability by preventing oxidation of the diaphragm by preventing direct ink contact with the diaphragm by the protective thin film having oxidation resistance when applied to a product.
도 1 은 일반적인 잉크젯 프린터 헤드의 단면 구조도,1 is a cross-sectional structural view of a typical inkjet printer head,
도 2 는 도 1에서의 챔버판과 진동판의 결합 공정도,2 is a coupling process diagram of the chamber plate and the vibration plate in FIG.
도 3 은 도 2에 의해서 제작되는 챔버판의 평면 구조도,3 is a plan view of the chamber plate produced by FIG.
도 4 는 본 발명에 따른 잉크젯 프린트 헤드의 액츄에이터를 도시한 단면도,4 is a sectional view showing an actuator of the inkjet print head according to the present invention;
도 5 는 본 발명에 따른 챔버의 다른 예시도,5 is another illustration of a chamber in accordance with the present invention;
도 6 은 내지 도 14 는 본 발명의 제1실시예의 제조공정을 도시한 것으로서,6 to 14 show the manufacturing process of the first embodiment of the present invention,
도 6 은 기판에 진동판을 형성하는 단계를 도시한 것이고,6 illustrates a step of forming a diaphragm on a substrate,
도 7 은 도 6의 진동판에 보호박막이 증착되는 단계를 도시한 것이며,7 illustrates a step of depositing a protective film on the diaphragm of FIG.
도 8 은 도 7의 보호박막에 챔버판을 증착하는 단계를 도시한 것이고,FIG. 8 illustrates depositing a chamber plate on the protective film of FIG. 7;
도 9 는 도 8의 챔버판에 포토 레지스트막을 형성한 단계를 도시한 것이며,FIG. 9 illustrates a step of forming a photoresist film on the chamber plate of FIG. 8;
도 10 은 도 9의 단계에서 포토 레지스트막을 노광하는 단계를 도시한 것이고,FIG. 10 illustrates a step of exposing the photoresist film in the step of FIG. 9;
도 11 은 도 10에 의해 포토 레지스트막의 노광부위를 제거한 단계를 도시한 것이며,FIG. 11 illustrates a step of removing an exposed portion of the photoresist film by FIG. 10.
도 12 는 도 11의 단계에서 제거된 포토 레지스트막의 노광부위에 에칭용액을 공급하는 단계를 도시한 것이고,FIG. 12 illustrates a step of supplying an etching solution to an exposed portion of the photoresist film removed in the step of FIG. 11;
도 13 은 도 12의 단계에서 에칭에 의해 챔버가 형성되는 단계를 도시한 것이며,FIG. 13 illustrates a step in which a chamber is formed by etching in the step of FIG. 12.
도 14 는 도 13의 단계에 의해서 챔버를 형성하고, 남아있던 포토 레지스트막을 제거한 단계를 도시한 것이고,FIG. 14 illustrates a step of forming a chamber by removing the remaining photoresist film by the step of FIG. 13;
도 15 는 도 11에 의한 포토 레지스트막이 노광되는 상태를 도시한 확대도,15 is an enlarged view showing a state in which the photoresist film shown in FIG. 11 is exposed;
도 16 내지 도 18은 본 발명의 제2실시예의 제조공정을 도시한 것으로서,16 to 18 show the manufacturing process of the second embodiment of the present invention,
도 16 은 기판에 챔버판을 형성하는 단계를 도시한 것이고,16 illustrates a step of forming a chamber plate on a substrate,
도 17 은 도 16의 챔버판에 보호박막을 증착시키는 단계를 도시한 것이며,17 illustrates depositing a protective thin film on the chamber plate of FIG.
도 18 은 도 17의 보호박막에 진동판을 증착하는 단계를 도시한 것이다.FIG. 18 illustrates a step of depositing a diaphragm on the protective thin film of FIG. 17.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
10 : 진동판 20 : 보호박막10: diaphragm 20: protective film
30 : 챔버판 31 : 챔버30 chamber plate 31 chamber
40 : 압전체 50 : 전극40: piezoelectric 50: electrode
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 금속의 박판으로 구비되는 챔버판과 진동판을 에칭 정지층인 보호박막과 일체로 결합된 후 챔버판을 리소그라피 공정과 에칭공정에 의해 패터닝하여 챔버판에는 다수의 챔버가 균일한 크기와 간격으로 형성되도록 하는 것으로서, 이때 챔버판과 진동판의 사이에 개입시키게 되는 보호박막은 챔버를 형성시키게 될 때에는 에칭 정지층으로 이용되며, 제품에 적용되어서는 잉크와의 접촉에 의한 진동판의 부식등이 방지되게 하므로서 제작성과 제품성능이 향상될 수 있도록 하는데 특징이 있다.In order to achieve the above object, the present invention combines a chamber plate and a diaphragm with a thin plate of metal integrally with a protective thin film, which is an etch stop layer, and then patternes the chamber plate by a lithography process and an etching process. Is formed at a uniform size and spacing, wherein the protective thin film intervening between the chamber plate and the diaphragm is used as an etch stop layer when forming the chamber, and is applied to the product by contact with ink. It is characterized in that the production and product performance can be improved by preventing corrosion of the diaphragm.
이하 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부 도면에 따라 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
일반적으로 잉크젯 프린트 헤드에서 압전 액츄에이터와 이 압전 액츄에이터에 의해서 연동하게 되는 진동판과 그 진동판에 결합되는 챔버판을 포함하는 실질적인 작동 구성을 잉크젯 프린트 헤드에서의 마이크로 액츄에이터라고 한다.In general, a practical operating configuration including a piezoelectric actuator in an inkjet print head, a diaphragm interlocked by the piezoelectric actuator, and a chamber plate coupled to the diaphragm is called a micro actuator in the inkjet print head.
이러한 마이크로 액츄에이터에서 본 발명은 판면의 일부가 기계적인 변형을 하는 진동판과 이 진동판보다는 두꺼운 두께로 형성되는 챔버판을 각각 금속재의 박판으로 형성하면서 이들의 사이로는 미세한 두께로 에칭 정지층인 보호박막이 일체로 증착되게 하므로서 챔버판에 챔버를 형성시키기 위한 에칭시 보호박막의 에칭방지기능에 의해 챔버판에만 챔버가 보다 정밀하고 용이하게 형성될 수 있도록 하는 것이다.In the micro-actuator, the present invention provides a diaphragm in which a part of a plate surface is mechanically deformed and a chamber plate formed of a thicker thickness than the diaphragm, respectively. By being integrally deposited, the chamber can be more precisely and easily formed only on the chamber plate by the etching prevention function of the protective thin film during the etching for forming the chamber on the chamber plate.
즉 본 발명은 도 4에서 보는바와 같이 진동판(10)과 챔버판(30)을 금속재로서 형성하면서 이들의 사이에는 에칭 방지 기능을 갖는 귀금속재의 보호박막(20)이 증착되게 한 후 에칭에 의해 필요로 하는 형상과 크기로 진동판의 작동에 의해 잉크를 유입 및 유출하게 되는 챔버(31)가 형성되도록 하고, 진동판(10)의 상부로는 챔버판(30)의 챔버(31)와 수직으로 동일선상에서 동일한 갯수로 부착되어 전기적인 통전에 의해서 길이방향으로 변형되면서 진동판(10)을 연동시키게 되는 압전체(40)와 최소한 압전체(40)의 상부로 적층되어 외부로부터 입력되는 전원이 통전되도록 전극(50)이 증착되도록 하는 구성이다.That is, the present invention is required by etching after forming the diaphragm 10 and the chamber plate 30 as a metal material as shown in Figure 4 while the protective thin film 20 of the precious metal material having an etching preventing function is deposited therebetween. The chamber 31 is formed so that ink flows in and out by the operation of the diaphragm in the shape and size of the diaphragm, and the upper portion of the diaphragm 10 is in the same line perpendicular to the chamber 31 of the chamber plate 30. The electrode 50 is stacked on the piezoelectric body 40 and at least the upper portion of the piezoelectric body 40, which is attached to the same number and is deformed in the longitudinal direction by the electric current, thereby interlocking the diaphragm 10, and is energized from the outside. This is a configuration to be deposited.
이때 진동판(10)과 챔버판(30)들 중 하나는 별도로 압연 가공등에 의해서 제작되게 할 수도 있고, 일렉트로 포밍에 의해 증착되는 구조로도 형성이 가능하다.In this case, one of the diaphragm 10 and the chamber plate 30 may be manufactured by a rolling process or the like, or may be formed as a structure deposited by electroforming.
그리고 챔버판(30)에는 에칭에 의해 형성되는 챔버(31)가 일정한 크기와 간격으로 형성되는데 특히 챔버(31)에는 도 5에서와 같이 일측이 안쪽으로 요입되면서 폭이 좁아지게 하여 잉크의 유동속도가 조절될 수 있도록 하는 리스트릭터(32)가 형성되게 할 수도 있다.In addition, the chamber plate 30 is formed in the chamber plate 30 by etching at a predetermined size and intervals. In particular, the chamber 31 has a width narrowed while one side is recessed inward as shown in FIG. It is also possible to have the restrictor 32 formed so that can be adjusted.
한편 진동판(10)에 증착시키게 되는 압전체(40)와 전극(50)에서 특히 전극(50)은 통상 상부 전극과 하부 전극을 모두 구비하게 되나 본 발명에서의 진동판(10)은 도전체인 금속재로 이루어지므로 진동판(10)을 공통 전극으로서 사용하게 되면 하부 전극을 생략할 수가 있게 되고, 따라서 압전체(40)의 상부로는 상부 전극만이 형성되는 구조로도 제작이 가능하다.In the piezoelectric body 40 and the electrode 50 to be deposited on the diaphragm 10, in particular, the electrode 50 usually includes both an upper electrode and a lower electrode, but the diaphragm 10 in the present invention is made of a metal material as a conductor. Therefore, when the diaphragm 10 is used as the common electrode, the lower electrode can be omitted, and thus the upper electrode of the piezoelectric body 40 can be manufactured even in a structure in which only the upper electrode is formed.
이와같은 구성의 마이크로 액츄에이터는 다음과 같은 방법에 의해서 제작된다.The micro actuator of such a structure is manufactured by the following method.
도 6 내지 도 14는 본 발명의 제1실시예에 따른 액츄에이터 제조과정을 도시한 것으로서, 우선 다층판 구조를 제작하기 위한 별도의 기판(60)을 구비한다.6 to 14 illustrate the manufacturing process of the actuator according to the first embodiment of the present invention. First, a separate substrate 60 for manufacturing a multilayer plate structure is provided.
그리고 이 기판(60)에 도 6에서와 같이 진동판(10)을 소정의 두께로 형성한다. 이때의 진동판(10)은 기판(60)과는 별도로 압연 제작되는 금속판으로 형성되어 기판(60)에 분리가 용이하게 접합되는 구조로 형성할 수도 있고, 기판(60)에 일렉트로 포밍에 의해서 증착되는 구조로서도 형성할 수가 있으며, 이와는 달리 기판(60)에 스퍼터링(sputtering) 또는 이배포레이션(evaporation)과 같은 진공증착에 의해서도 형성할 수가 있다.And the diaphragm 10 is formed in this board | substrate 60 as shown in FIG. In this case, the diaphragm 10 may be formed of a metal plate which is rolled and manufactured separately from the substrate 60, and may be formed in a structure in which the diaphragm 10 is easily bonded to the substrate 60, and is deposited by electroforming on the substrate 60. It can also be formed as a structure, and alternatively, it can also be formed on the substrate 60 by vacuum deposition such as sputtering or evaporation.
이렇게 형성되는 진동판(10)은 주요성분이 니켈(Ni)이나 구리(Cu) 또는 크롬(Cr) 또는 주석(Sn) 또는 철(Fe)로서 이루어지도록 하며, 이중에서도 니켈(Ni)을 주된 성분으로 하는 것이 가장 바람직하고, 이러한 진동판(10)의 두께는 3㎛ ~ 50㎛가 가장 적당하다.The diaphragm 10 thus formed is made of nickel (Ni) or copper (Cu) or chromium (Cr) or tin (Sn) or iron (Fe), and among them, nickel (Ni) as a main component. Most preferably, the thickness of the diaphragm 10 is most suitably 3 μm to 50 μm.
기판(60)에 형성시킨 진동판(10)에는 미세한 두께로 귀금속재의 에칭 정지층인 보호박막(20)이 증착되도록 한다. 이때의 보호박막(20)은 일렉트로 포밍에 의한 증착과 스퍼터링 또는 이배포레이션과 같은 진공증착에 의해서 형성되도록 하며, 이러한 보호박막(20)의 주요성분은 진동판(10)과 동일한 재질로서도 가능하나 금(Au) 또는 백금(Pt)이나 팔라듐(Pd)과 같은 귀금속의 재질이나 스테인레스강판을 사용하는 것이 보다 바람직하고, 그 두께는 0.05㎛ ~ 2㎛가 가장 적당하다.On the diaphragm 10 formed on the substrate 60, the protective thin film 20, which is an etch stop layer of a noble metal material, is deposited to a minute thickness. At this time, the protective film 20 is formed by deposition by electroforming and vacuum deposition such as sputtering or evaporation. The main component of the protective film 20 may be formed of the same material as the diaphragm 10 but may be formed of gold. More preferably, (Au) or a material of a noble metal such as platinum (Pt) or palladium (Pd) or a stainless steel sheet is used, and the thickness thereof is most preferably 0.05 µm to 2 µm.
그리고 보호박막(20)에는 진동판(10)보다 두꺼운 두께로 금속재인 챔버판(30)이 증착되도록 하며, 이때의 챔버판(30)은 일렉트로 포밍이나 스퍼터링 또는 이배포레이션과 같은 진공증착에 의해서 형성되도록 하고, 이러한 챔버판(30)은 진동판(10)과 동일한 재질인 니켈(Ni)이나 구리(Cu) 또는 크롬(Cr) 또는 주석(Sn) 또는 철(Fe)을 주요성분으로 하되 이중에서도 니켈(Ni)을 주된 성분으로 하는 것이 가장 바람직하며, 그 두께는 10㎛ ~ 500㎛가 가장 적당하다.In addition, the protective film 20 is deposited with a metal plate 30 thicker than the diaphragm 10, and the chamber plate 30 is formed by vacuum deposition such as electroforming, sputtering, or evaporation. The chamber plate 30 is made of nickel (Ni) or copper (Cu) or chromium (Cr) or tin (Sn) or iron (Fe), which are the same materials as the diaphragm 10, but also nickel It is most preferable to use (Ni) as a main component, and the thickness is 10 micrometers-500 micrometers most suitably.
이와같이 기판(60)에 진동판(10)과 보호박막(20)과 챔버판(30)이 차례로 적층되도록 하여 다층판을 형성시키고 나면 다층판으로부터 기판(60)을 분리시키고, 챔버판(30)에 도 9 내지 도 14의 순으로 챔버(31)를 형성한다.In this manner, the diaphragm 10, the protective thin film 20, and the chamber plate 30 are sequentially stacked on the substrate 60 to form a multilayer plate. Then, the substrate 60 is separated from the multilayer plate, and the chamber plate 30 is separated from the substrate 60. The chamber 31 is formed in the order of FIGS. 9 to 14.
챔버(31)는 챔버판(30)의 보호박막(20)이 증착되는 면과 대응되는 이면으로 포토 레지스터를 일정하게 도포하여 포토 레지스트막(70)을 형성하고, 이 포토 레지스트막(70)을 소정의 시간동안 열처리(soft baking)하여 경화시킨 후 도 10에 도시한 바와같이 면상에 다수의 구멍(81)이 일정한 간격으로 형성된 섀도우 마스크(80, shadow mask)를 이용하여 노광과 현상이 수행되도록 하며, 포토 레지스트막(70)의 노광된 부위는 세척액을 사용하여 세척하므로서 포토 레지스트막(70)의 불필요한 부분은 제거되도록 한다.The chamber 31 forms a photoresist film 70 by uniformly applying a photoresist to a back surface corresponding to the surface on which the protective thin film 20 of the chamber plate 30 is deposited, and forms the photoresist film 70. After curing by soft baking for a predetermined time, exposure and development are performed using a shadow mask 80 having a plurality of holes 81 formed on the surface at regular intervals as shown in FIG. 10. The exposed portion of the photoresist film 70 is cleaned using a cleaning solution so that unnecessary portions of the photoresist film 70 are removed.
이렇게 셰도우 마스크(80)에 의해서 노광되는 포토 레지스트막(70)에서의 노광면 면적(M)은 도 15에 도시한 바와같이 챔버판에 형성시키고자 하는 챔버의 면적을 W라 할 때 M ≤ W 가 되도록 하는 것이 가장 바람직하다.As described above, the exposure surface area M of the photoresist film 70 exposed by the shadow mask 80 is defined as W when the area of the chamber to be formed on the chamber plate is W. Most preferably.
한편 도 11은 포토 레지스트막(70)의 노광부위가 세척액에 의해서 완전 제거된 상태를 도시한 것이며, 이 상태에서 재차 열처리(hard baking)한 후 제거된 노광부위에서 일부 노출되는 챔버판(30)에 에칭용액을 공급하여 챔버판(30)을 에칭하게 된다.FIG. 11 illustrates a state in which an exposed portion of the photoresist film 70 is completely removed by the cleaning liquid. In this state, the chamber plate 30 is partially exposed at the removed exposed region after hard baking. The etching solution is supplied to the chamber plate 30 to be etched.
챔버판(30)의 에칭시 특히 에칭용액은 챔버판(30)의 두께 높이로 에칭이 수행되다 에칭 정지층인 보호박막(20)에 이르게 되면 더이상의 에칭이 이루어지지 않게 되며, 일정 시간이 지나게 되면 측면 에칭이 자동으로 정지되면서 필요로 하는 크기의 챔버(31)가 형성된다.During the etching of the chamber plate 30, the etching solution is etched to the thickness of the chamber plate 30, and when the protective film 20 reaches the etch stop layer, the etching is no longer performed. Then, the side etching is automatically stopped to form a chamber 31 of a required size.
특히 에칭시 보호박막(20)에 이르기까지의 에칭에 필요한 시간(H)보다 실제로 에칭을 하는 시간을 더욱 장시간동안 수행시키게 되면 챔버의 측벽 각도는 거의 수직에 가까운 직선형으로 형성시킬 수가 있다.In particular, when the etching time is actually performed for a longer time than the time H required for the etching up to the protective thin film 20 during etching, the sidewall angle of the chamber can be formed in a straight line that is almost vertical.
에칭에 의해서 도 12와 같은 형상으로 챔버(31)가 형성되면 스트립퍼(stripper)를 이용하여 스트립핑(stripping)을 수행하므로서 에칭된 챔버(31)의 단면들이 보다 정련되도록 하고, 마지막으로 챔버판(30) 상부의 포토 레지스터막(50)을 화학적으로 제거시키므로서 도 14와 같은 다층판이 만들어지게 된다.When the chamber 31 is formed in the shape as shown in FIG. 12 by etching, the end surfaces of the etched chamber 31 are refined by stripping using a stripper, and finally, the chamber plate ( 30) By removing the upper photoresist film 50 chemically, a multilayer plate as shown in FIG.
이러한 다층판에서 진동판(10)에 압전체(40)와 전극(50)을 형성하게 되면 원하는 잉크젯 프린트헤드의 액츄에이터를 얻을 수가 있게 된다.When the piezoelectric body 40 and the electrode 50 are formed on the diaphragm 10 in such a multilayer plate, an actuator of a desired inkjet printhead can be obtained.
한편 진동판(10)에 형성되는 압전체(40)와 전극(50)은 종전과 같이 압전체의 경우는 스크린 프린팅이나 몰딩 또는 코팅에 의해서 증착되도록 하고, 전극(50)의 경우는 일렉트로 포밍 또는 진공증착에 의해서 증착될 수가 있으므로 다양한 방법으로의 구현이 가능하다.On the other hand, the piezoelectric body 40 and the electrode 50 formed on the diaphragm 10 are to be deposited by screen printing, molding or coating in the case of the piezoelectric body as before, and in the case of the electrode 50 by electroforming or vacuum deposition. It can be deposited by a variety of methods can be implemented.
특히 본 실시예에서의 진동판(10)은 금속재이므로 하부 전극과 상부 전극으로 구비되는 전극(50)은 상부 전극만을 사용하고, 하부 전극은 진동판(10)을 공통전극으로 사용하는 것도 가능하다.In particular, since the diaphragm 10 is a metal material, the electrode 50 provided as the lower electrode and the upper electrode may use only the upper electrode, and the lower electrode may use the diaphragm 10 as the common electrode.
이와같이 진동판(10)과 챔버판(30)을 주요성분이 니켈(Ni)이나 구리(Cu) 또는 크롬(Cr) 또는 주석(Sn) 또는 철(Fe)로서 이루어지도록 하게 되면 제작이 매우 용이하다.In this way, the diaphragm 10 and the chamber plate 30 is made of nickel (Ni), copper (Cu) or chromium (Cr) or tin (Sn) or iron (Fe) if the main component is very easy to manufacture.
그리고 보호박막(20)을 금(Au) 또는 백금(Pt)이나 팔라듐(Pd)과 같은 귀금속의 재질이나 스테인레스강판을 주요성분으로 하는 재질로서 형성시키게 되면 챔버판(30)을 에칭시 챔버판(30) 이외의 구성에는 더이상 에칭이 이루어지지 않도록 하면서 제품에 적용시 잉크와의 접촉에 의한 부식등을 방지하게 된다.If the protective thin film 20 is formed of gold (Au), a precious metal such as platinum (Pt) or palladium (Pd), or a material containing stainless steel as a main component, the chamber plate 30 may be etched when the chamber plate 30 is etched. 30) It prevents corrosion by contact with ink when applied to products while preventing etching anymore.
한편 도 16 내지 도 18은 본 발명의 제2실시예를 도시한 것으로서, 본 실시예는 다층판의 적층 순서가 제1실시예와 다르게 수행되도록 하는데 특징이 있다.Meanwhile, FIGS. 16 to 18 show a second embodiment of the present invention, which is characterized in that the stacking order of the multilayer board is performed differently from the first embodiment.
즉 제1실시예에서는 최초 기판(60)에 진동판(10)을 형성시키는데 반해 본 실시예에서는 기판(60)에 우선 챔버판(30)이 형성되도록 하는 것이다.That is, in the first embodiment, the diaphragm 10 is formed on the first substrate 60, whereas in the present embodiment, the chamber plate 30 is first formed on the substrate 60.
이때의 챔버판(30)은 기판(60)과는 별도로 압연 제작되는 금속판으로 형성되어 기판(60)에 분리가 용이하게 접합되는 구조로 형성할 수도 있고, 기판(60)에 일렉트로 포밍에 의해서 증착되는 구조로서도 형성할 수가 있으며, 이와는 달리 기판(60)에 스퍼터링(sputtering) 또는 이배포레이션(evaporation)과 같은 진공증착에 의해서도 형성할 수가 있다.At this time, the chamber plate 30 may be formed of a metal plate which is rolled and manufactured separately from the substrate 60, and may be formed in a structure in which the chamber plate 30 is easily bonded to the substrate 60, and is deposited by electroforming on the substrate 60. It can also be formed as a structure, or alternatively, it can be formed on the substrate 60 by vacuum deposition such as sputtering or evaporation.
이렇게 형성되는 챔버판(30)은 주요성분이 니켈(Ni)이나 구리(Cu) 또는 크롬(Cr) 또는 주석(Sn) 또는 철(Fe)로서 이루어지도록 하며, 이중에서도 니켈(Ni)을 주된 성분으로 하는 것이 가장 바람직하고, 이러한 챔버판(10)의 두께는 10㎛ ~ 500㎛가 가장 적당하다.The chamber plate 30 thus formed is made of nickel (Ni) or copper (Cu) or chromium (Cr) or tin (Sn) or iron (Fe). Most preferably, the thickness of the chamber plate 10 is most suitably 10 µm to 500 µm.
기판(60)에 형성시킨 챔버판(30)에는 미세한 두께로 귀금속재의 에칭 정지층인 보호박막(20)이 증착되도록 한다. 이때의 보호박막(20)은 일렉트로 포밍에 의한 증착과 스퍼터링 또는 이배포레이션과 같은 진공증착에 의해서 형성되도록 하며,이러한 보호박막(20)의 주요성분은 챔버판(30)과 동일한 니켈(Ni)이나 구리(Cu) 또는 크롬(Cr) 또는 주석(Sn) 또는 철(Fe) 또는 은(Au)인 재질로서도 가능하나 금(Au) 또는 백금(Pt)이나 팔라듐(Pd)과 같은 귀금속의 재질이나 스테인레스강판을 사용하는 것이 보다 바람직하고, 그 두께는 0.05㎛ ~ 2㎛가 가장 적당하다.In the chamber plate 30 formed on the substrate 60, the protective thin film 20, which is an etch stop layer of a noble metal material, is deposited to a minute thickness. In this case, the protective thin film 20 is formed by deposition by electroforming and vacuum deposition such as sputtering or evaporation. The main component of the protective thin film 20 is the same nickel (Ni) as the chamber plate 30. Or copper (Cu) or chromium (Cr) or tin (Sn) or iron (Fe) or silver (Au), but may be made of gold (Au) or precious metals such as platinum (Pt) or palladium (Pd) It is more preferable to use a stainless steel sheet, and its thickness is most suitably 0.05 µm to 2 µm.
그리고 보호박막(20)에는 진동판(10)이 증착되도록 하며, 이때의 진동판(10)은 일렉트로 포밍이나 스퍼터링 또는 이배포레이션과 같은 진공증착에 의해서 형성되도록 하고, 이러한 진동판(10)은 챔버판(30)과 동일한 재질인 니켈(Ni)이나 구리(Cu) 또는 크롬(Cr) 또는 주석(Sn) 또는 철(Fe)을 주요성분으로 하되 이중에서도 니켈(Ni)을 주된 성분으로 하는 것이 가장 바람직하며, 그 두께는 3㎛ ~ 50㎛가 가장 적당하다.In addition, the diaphragm 10 is deposited on the protective thin film 20, and the diaphragm 10 may be formed by vacuum deposition such as electroforming, sputtering, or evaporation, and the diaphragm 10 may include a chamber plate ( It is most preferable to use nickel (Ni), copper (Cu), chromium (Cr), tin (Sn), or iron (Fe) as the main components, and nickel (Ni) as the main component. 3 micrometers-50 micrometers are the most suitable thickness.
이와같이 기판(60)에 챔버판(30)과 보호박막(20)과 진동판(10)을 차례로 적층시켜 다층판을 형성시키고 나면 다층판으로부터 기판(60)을 분리시키고, 챔버판(30)에는 제1실시예에서와 동일한 방법으로 도 9 내지 도 14의 순으로 챔버(31)를 형성한다.As described above, after the chamber plate 30, the protective thin film 20, and the vibration plate 10 are laminated on the substrate 60 to form a multilayer plate, the substrate 60 is separated from the multilayer plate. The chamber 31 is formed in the order of FIGS. 9 to 14 in the same manner as in the first embodiment.
챔버(31)를 형성한 다층판에서 진동판(10)에 압전체(40)와 전극(50)을 적층시키게 되면 필요로 하는 도 4와 같은 형상의 액츄에이터를 얻을 수가 있게 되며, 이때에도 제1실시예에서와 마찬가지로 진동판(10)에 형성되는 압전체(40)와 전극(50)을 압전체(40)의 경우에는 스크린 프린팅이나 몰딩 또는 코팅에 의해서 증착하고, 전극(50)의 경우에는 일렉트로 포밍 또는 진공증착에 의해서 증착되도록 한다.When the piezoelectric body 40 and the electrode 50 are laminated on the diaphragm 10 in the multilayer plate on which the chamber 31 is formed, an actuator having a shape as shown in FIG. 4 required can be obtained. In this case, the first embodiment The piezoelectric body 40 and the electrode 50 formed on the diaphragm 10 are deposited by screen printing, molding or coating in the case of the piezoelectric body 40, and in the case of the electrode 50, electroforming or vacuum deposition. To be deposited by.
상술한 바와같이 본 발명은 진동판(10)과 챔버판(30)을 각각 금속재의 박판으로 형성되게 하므로서 원하는 최소한의 두께로서의 액츄에이터 형성을 가능케한다.As described above, the present invention allows the diaphragm 10 and the chamber plate 30 to be formed of thin metal plates, respectively, thereby enabling the formation of an actuator with a desired minimum thickness.
또한 챔버(31)를 형성시 일측이 요입되는 형상으로 에칭을 하게 되면 챔버판(30)에 직접 리스트릭터(32)가 일체로 형성될 수가 있어 별도의 리스트릭터판을 생략할 수가 있는 부품 절감의 효과도 기대된다.In addition, when etching to form a shape that one side is recessed when forming the chamber 31, the restrictor 32 can be directly formed integrally on the chamber plate 30, so that the separate restrictor plate can be omitted. The effect is also expected.
이와 같은 리스트릭터판의 생략은 결과적으로 프린터 헤드의 제작비용과 소형화 및 레이아웃 공간의 확장에도 매우 유리하다.This omission of the restrictor plate is consequently advantageous for the production cost of the print head, miniaturization, and expansion of the layout space.
그리고 진동판(10)과 보호박막(20)과 챔버판(30)을 일체로 적층시킨 상태에서 챔버판(30)을 리소그라피 공정과 에칭공정에 의해 후가공하여 챔버(31)를 형성시키게 되므로 각 챔버(31)간의 위치공차가 거의 제거되므로 보다 균일한 잉크 분사 효율을 제공할 수가 있게 되는 동시에 챔버판(30)의 타부재와의 결합력 즉 리스트릭터판이나 리저버판 또는 노즐판과의 밀착이 균일해지면서 보다 견고한 밀착력을 유지할 수가 있게 된다.In the state in which the diaphragm 10, the protective film 20, and the chamber plate 30 are integrally stacked, the chamber plate 30 is post-processed by a lithography process and an etching process to form the chamber 31. Since the positional tolerance between 31 is almost eliminated, more uniform ink jetting efficiency can be provided, and the bonding force with other members of the chamber plate 30, that is, the tight contact with the restrictor plate, the reservoir plate, or the nozzle plate becomes uniform. It is possible to maintain a more firm adhesion.
이와 더불어 종전과 같은 고정밀 천공기와 같은 에칭에 필요한 고가의 장비가 불필요해지면서 프린터 헤드의 제조원가를 대폭적으로 낮출 수가 있게 되는 동시에 대량생산이 보다 용이하다.In addition, the expensive manufacturing equipment required for etching, such as a high-precision puncher, has been eliminated, and the manufacturing cost of the print head can be drastically reduced, while mass production is easier.
그러므로 본 발명은 금속재의 진동판과 챔버판의 사이에 귀금속재의 보호박막을 일체로 형성되게 하므로서 진동판의 기계적인 강성을 증강시키게 되고, 후가공에 의한 챔버의 형성이 용이할 뿐만 아니라 그에따른 설비 및 재료비와 같은 제작비를 절감시키게 되는 동시에 차후 제품에 적용시 챔버내 잉크에 의한 진동판의 부식등을 방지하게 되므로서 액츄에이터의 내구력을 증강시키게 되는 효과가 있다.Therefore, the present invention increases the mechanical rigidity of the diaphragm by allowing the protective thin film of the precious metal to be integrally formed between the diaphragm and the chamber plate of the metal material, and facilitates the formation of the chamber by post-processing, as well as the equipment and material costs. The same manufacturing cost is reduced and at the same time, it is possible to prevent corrosion of the diaphragm due to ink in the chamber when it is applied to the product, thereby increasing the durability of the actuator.
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