KR100322783B1 - Method of developing a latent charge image - Google Patents

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톰슨 라이센싱 에스.에이.
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Abstract

CRT(10)의 면판 패널(12)의 내부면상에 마련되는 포토리셉터(36)상에 형성된 정전 잠재 전하 이미지를 현상하기 위한 방법에서는 바닥단부(44)에 의해 밀폐된 측벽(50) 및 다른 단부에 패널 지지대(46)를 가지는 현상 챔버(42)를 갖는 현상기(40)를 이용한다. 개구(48)는 면판 패널(12)에 대한 액세스 및 지지를 제공하기 위해 패널 지지대(46)를 통해 형성된다. 패널 그리드(74)는 상기 면판 패널(12)의 상기 내부면에 인접하게 마련되고, 잠재 전하 이미지로부터의 전기장을 제어하기 위해 제 1 전위에서 동작한다. 탱크 그리드(56)는 상기 현상기(40)내에 마련되고 측벽(50), 바닥면(44) 및 패널 그리드(74)로부터 이격되어 있다. 마찰전기총(84)은 스크린 구성 물질에 소망하는 전하 극성을 전달하고, 잠재 전하 이미지상으로 전하를 띤 스크린 구성 물질을 분배하기 위한 현상기(40)내에 마련된다. 전압계(66) 및 인 도포 모니터(90)는 잠재 전하 이미지상으로의 전하를 띤 스크린 구성 물질의 도포를 모니터링하며, 제어기(68)는 충분한 재료가 도포되었을 때 전하를 띤 스크린 구성 물질의 도포를 종결시킨다. 탱크 그리드(56)가 패널 그리드(74)상의 전위와는 상이한 전위에서 동작해서, 탱크 그리드(56)는 현상기(40)내의 정전력을 제어한다.In the method for developing the electrostatic potential charge image formed on the photoreceptor 36 provided on the inner surface of the faceplate panel 12 of the CRT 10, the side wall 50 and the other end sealed by the bottom end 44 are provided. The developing device 40 having the developing chamber 42 having the panel support 46 is used. The opening 48 is formed through the panel support 46 to provide access and support to the faceplate panel 12. The panel grid 74 is provided adjacent to the inner surface of the faceplate panel 12 and operates at a first potential to control the electric field from the latent charge image. The tank grid 56 is provided in the developer 40 and is spaced apart from the side wall 50, the bottom surface 44 and the panel grid 74. A triboelectric gun 84 is provided in the developer 40 for delivering the desired charge polarity to the screen material and for distributing the charged screen material on a latent charge image. Voltmeter 66 and phosphorus application monitor 90 monitor the application of the charged screen component onto the latent charge image, and controller 68 controls the application of the charged screen component when sufficient material is applied. Terminate The tank grid 56 operates at a potential different from that on the panel grid 74 so that the tank grid 56 controls the electrostatic force in the developer 40.

Description

잠재 전하 이미지 현상 방법{METHOD OF DEVELOPING A LATENT CHARGE IMAGE}Latent charge image development method {METHOD OF DEVELOPING A LATENT CHARGE IMAGE}

마찰전기적으로 전하를 띤 입자를 이용하여 CRT(cathode-ray tube)와 같은 표시 장치의 뷰잉 면판(viewing faceplate)의 내부면상에 마련되는 포토리셉터상의 잠재 전하 이미지를 현상하기 위한 장치가, 지. 에이치. 엔. 리들 등(G. H. N. Riddle et al.)에게 1995년 12월 19일자로 허여된 미국특허 제 5,477,285호에 개시되어 있다. 현상 장치에 대한 상기 특허의 제 1 실시예에 있어서, 절연 측벽 및 절연성 패널 지지대를 갖는 현상 챔버가 개시되어 있다. CRT 면판 패널의 내부면상에 제공된 포토리셉터상으로 전하를 띤 스크린 구성 물질을 향하게 하기 위한 마찰전기총(triboelectric gun)이 현상 챔버내에 마련되어 있다. 이 현상 챔버는 정전기적으로 전하를 띤 스크린 구성 물질이 절연 측벽상에 쌓이는 전하를 생성하는 단점을 가지고 있다. 이 측벽의 정전력은 잘 제어되지 않으며, 이 정전력은 전하의 변화에 따라 변화한다. 예를 들면, 측벽으로부터 초과 스크린 구성물질(excess screen structure materials)을 제거하기 위해서, 현상 챔버를 세정할 때, 정전 전하가 감소한다. 정전 전하는 또한 수분이 변화할 때 변화한다. 오퍼레이팅하고 있는 현상 챔버에 있어서의 측정된 정전장은, 500 내지 5000 볼트의 변동이 보고되었다. 앞서 참조한 미국특허 제 5,477,285호에 개시된 현상 챔버의 다른 실시예에 있어서, 측벽 및 바닥면을 포함하는 전도성 재료의 내부 챔버가 현상 챔버내에 마련되어 있다. 전도성 내부 챔버는 전기적으로 유동적이며 마찰전기총에 의해 내부 챔버내에 생성되는 파우더 구름(powder cloud)밖으로 초과 스크린 구성 물질을 유도함으로써, 내부 챔버내에 공간 전하(space charge)가 쌓이는 것과 챔버벽상의 고 정전 전위 양쪽 모두를 방지한다. 그러나, 내부 챔버의 전도성 측벽상에 덩어리진 입자인 '눈덩이(snow bank)' 형태로 쌓이는 스크린 구성 물질은, 덩어리진 입자가 측벽으로부터 제거되는 경우, 스크린상에 크게 덩어리진 입자를 발생시킬 수 있다고 보고하였다. 따라서, 앞서 다루어진 종래의 현상 장치의 단점을 제거하는 것이 바람직하다.E. An apparatus for developing latent charge images on a photoreceptor provided on an inner surface of a viewing faceplate of a display device such as a cathode-ray tube (CRT) using triboelectrically charged particles. H. yen. G. H. N. Riddle et al., US Pat. No. 5,477,285, issued December 19, 1995. In a first embodiment of the patent for the developing apparatus, a developing chamber having an insulating side wall and an insulating panel support is disclosed. A triboelectric gun is provided in the developing chamber for directing the charged screen component material onto the photoreceptor provided on the inner surface of the CRT faceplate panel. This developing chamber has the disadvantage of generating an electrical charge that builds up on the insulating sidewalls of the electrostatically charged screen component. The electrostatic force on this sidewall is not well controlled, and this electrostatic force changes as the charge changes. For example, when cleaning the developing chamber to remove excess screen structure materials from the sidewalls, the electrostatic charge is reduced. Electrostatic charges also change when moisture changes. The measured electrostatic field in the developing chamber operating has been reported to vary from 500 to 5000 volts. In another embodiment of the development chamber disclosed in US Pat. No. 5,477,285, referenced above, an interior chamber of conductive material comprising sidewalls and bottom surfaces is provided in the development chamber. The conductive inner chamber is electrically fluid and induces excess screen constituents out of the powder cloud created in the inner chamber by the friction stun gun, thereby accumulating space charge in the inner chamber and high electrostatic charge on the chamber wall. Prevent both potentials. However, screen components that accumulate in the form of 'snow banks', which are agglomerated particles on the conductive sidewalls of the inner chamber, may produce large agglomerated particles on the screen if the agglomerated particles are removed from the sidewall. Reported. Therefore, it is desirable to eliminate the disadvantages of the conventional developing apparatus discussed above.

본 발명은 수상관(CRT)의 면판의 내부면에 마련되는 포토리셉터(photoreceptor)상의 잠재 전하 이미지(latent charge image)를 현상하는 방법에 관한 것으로, 특히, 현상 장치(developing apparatus)내의 정전력을 제어하기 위해 탱크 그리드(tank grid)를 오퍼레이팅하는 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of developing a latent charge image on a photoreceptor provided on an inner surface of a face plate of a water tube (CRT). A method of operating a tank grid to control it.

도 1은 본 발명에 따라서 제조된 컬러 CRT의 축방향을 따른 부분 평면도,1 is a partial plan view along an axial direction of a color CRT manufactured according to the present invention;

도 2는 제조 프로세스의 일단계동안에 있어서의, 내부면상에 매트릭스를 갖는 CRT 면판 패널의 부분도,2 is a partial view of a CRT faceplate panel having a matrix on its inner surface during one stage of the manufacturing process;

도 3은 도 1에 도시한 수상관(tube)의 완성된 스크린 어셈블리의 부분도,3 is a partial view of the completed screen assembly of the tube shown in FIG. 1, FIG.

도 4는 제조 프로세스의 다른 단계동안에 있어서의, 매트릭스를 덮은 포토리셉터를 도시하는 CRT 면판 패널의 부분도,4 is a partial view of a CRT faceplate panel showing a photoreceptor covering a matrix during another stage of the manufacturing process

도 5는 본 발명의 방법에 있어서 이용되는 현상 장치의 정면도.5 is a front view of a developing apparatus used in the method of the present invention.

본 발명에 따르면, CRT의 면판 패널의 내부면상에 마련된 포토리셉터상에 형성되는 정전기적인 잠재 전하 이미지를 현상하는 방법이 개시되어 있다. 본 발명에서는, 일단부가 바닥면부에 의해, 타단부가 면판 패널에 대해 액세스를 제공하기 위해 패널 지지대를 통해 개구(opening)를 갖는 패널 지지대에 의해 밀폐된 측벽을 가지는 현상기 탱크(developer tank)를 이용한다. 패널 그리드는 면판 패널의 내부면에 근접하게 마련되며, 잠재 전하 이미지의 정전장을 제어하기 위해 제1 전위에서 동작한다. 탱크 그리드는 현상기 탱크내에 마련되며, 측벽, 바닥면 및 패널 그리드로부터 이격되어 있다. 마찰전기총 어셈블리는 스크린 구성 물질에 소망하는 전하 극성을 전달하고, 잠재 전하 이미지상으로 전하를 띤 스크린 구성 물질을 분배하기 위한 현상기 탱크내에 마련된다. 본 발명에 따르면, 잠재 전하 이미지상으로의 전하를 띤 스크린 구성 물질의 도포를 모니터링하는 수단 및 전하를 띤 스크린 구성 물질의 도포를 종결시키는 수단이 제공된다. 본 발명의 새로운 점은 패널 그리드상의 전위와는 상이한 전위에서 탱크 그리드를 오퍼레이팅하여, 탱크 그리드가 현상기 탱크내의 정전력을 제어하는 것이다.According to the present invention, a method of developing an electrostatic latent charge image formed on a photoreceptor provided on an inner surface of a faceplate panel of a CRT is disclosed. In the present invention, a developer tank having one end portion closed by a bottom surface portion and the other end portion closed by a panel support having openings through the panel support for providing access to the faceplate panel is used. . The panel grid is provided proximate to the inner surface of the faceplate panel and operates at a first potential to control the electrostatic field of the latent charge image. The tank grid is provided in the developer tank and is spaced apart from the side walls, the bottom surface and the panel grid. The trickle gun assembly is provided in a developer tank for delivering the desired charge polarity to the screen material and for distributing the charged screen material onto the latent charge image. According to the present invention, means are provided for monitoring the application of the charged screen component on a latent charge image and a means for terminating the application of the charged screen component. A novel aspect of the present invention is that the tank grid controls the electrostatic force in the developer tank by operating the tank grid at a potential different from that on the panel grid.

도 1은 각형 펀넬(funnel)(15)에 의해 연결되는 각형 면판 패널(12) 및 관상 네크(14)를 포함하는 유리 외피(glass envelope)(11)를 갖는 컬러 CRT(10)를 도시한다. 펀넬(15)은 애노드 버튼(16)과 접촉하고 관형 네크(14)에까지 연장하는 내부 전도성 피복(도시하지 않음)을 갖는다. 패널(12)은 유리 플릿(19)에 의해 펀넬(15)에 밀봉되는, 뷰잉 면판(17) 및 수직 플랜지 또는 측벽(18)을 포함한다. 도 2에 도시하는 바와 같이, 다수의 개구(21)를 갖는, 비교적 얇은 광 흡수 매트릭스(20)가 뷰잉 면판(17)의 내부면상에 제공된다. 형광 3색 인 스크린(22)은 면판(17)의 내부면상에까지 이르며, 매트릭스(20)를 덮는다. 도 3에 도시하는 스크린(22)은, 바람직하게는, 매트릭스 개구(21) 중 상이한 하나의 개구의 중앙에 위치하고, 세개의 스트립의 컬러 그룹 혹은 화소 또는 세개 한벌로, 원형순으로 배열되는, 적-, 청-, 및 녹-에미팅 인 스트립, R, B, G로 구성되는 다중 스크린 요소를 포함하는 라인 스크린이다. 이 스트립은 발생되는 전자빔의 평면에 일반적으로 법선 방향으로 연장한다. 본 실시예에서의 법선의 뷰잉 위치에 있어서, 인 스트립은 수직한 방향으로 연장한다. 바람직하게는, 인 스트립 부분은 개구(21)를 둘러싸는 광 흡수 매트릭스(20)의 적어도 일부를 덮는다. 이에 대해서, 또한 돗트 스크린을 이용할 수도 있다. 얇은 전도성 층(24)(바람직하게는, 알루미늄)은 스크린(22)을 덮으며, 스크린에 균일한 전위를 인가할 뿐만 아니라 면판(17)을 통해 인 요소로부터 방출된 광을 반사하기 위한 수단을 제공한다. 스크린(22) 및 덮고 있는 알루미늄층(24)은 스크린 어셈블리를 포함한다. 도 1을 재차 참조하면, 쉐도우 마스크 또는 포커스 마스크와 같은, 다중-개구 컬러 선택 전극(25)은 스크린 어셈블리에 사전결정된 이격 비율로 종래의 수단에 의해 제거가능하게 탑재된다. 컬러 선택 전극(25)은 패널(12)의 측벽(18)에 내장된 다수의 스터드(26)에 분리가능하게 부착되어 있다.1 shows a color CRT 10 having a glass envelope 11 comprising a rectangular faceplate panel 12 connected by a rectangular funnel 15 and a tubular neck 14. Funnel 15 has an internal conductive coating (not shown) that contacts anode button 16 and extends to tubular neck 14. The panel 12 includes a viewing faceplate 17 and a vertical flange or sidewall 18, which are sealed to the funnel 15 by a glass fleet 19. As shown in FIG. 2, a relatively thin light absorbing matrix 20 having a plurality of openings 21 is provided on the inner surface of the viewing face plate 17. The fluorescent tricolor screen 22 reaches the inner surface of the faceplate 17 and covers the matrix 20. The screen 22 shown in FIG. 3 is preferably located in the center of one of the different ones of the matrix openings 21 and arranged in a circular order, in color groups or pixels or three sets of three strips. A line screen comprising multiple screen elements consisting of strips R, B, G, blue, and green-emitting. This strip extends generally in the normal direction to the plane of the electron beam being generated. In the viewing position of the normal in the present embodiment, the in strip extends in the vertical direction. Preferably, the phosphor strip portion covers at least a portion of the light absorbing matrix 20 surrounding the opening 21. In this regard, a dot screen may also be used. The thin conductive layer 24 (preferably aluminum) covers the screen 22 and provides a means for reflecting light emitted from the phosphorus element through the faceplate 17 as well as applying a uniform potential to the screen. to provide. Screen 22 and covering aluminum layer 24 comprise a screen assembly. Referring again to FIG. 1, a multi-opening color selection electrode 25, such as a shadow mask or a focus mask, is removably mounted to the screen assembly by conventional means at a predetermined spacing ratio. The color selection electrode 25 is detachably attached to a plurality of studs 26 embedded in the side wall 18 of the panel 12.

전자총(점선으로 대략적으로 도시함)(27)은 3개의 전자빔(28)을 발생시켜 컬러 선택 전극(25)의 개구를 통해 스크린(22)으로 수렴 경로를 따라 향하도록 네크(14)의 중앙에 탑재된다. 전자총은 종래의 것으로, 종래기술에 있어서 알려진 소정의 적절한 총일 수 있다.An electron gun (shown roughly in dashed lines) 27 generates three electron beams 28 and directs them along the converging path to the screen 22 through the opening of the color selection electrode 25 to the center of the neck 14. Mounted. The electron gun is conventional and may be any suitable gun known in the art.

튜브(10)는 펀넬과 네크의 접합 영역에 위치하는 요크(30)와 같은 외부 자기 편향 요크에 의해 이용되도록 설계되었다. 동작을 개시했을 때, 요크(30)는 스크린(22)위에 사각 래스터로 수평 및 수직으로 빔을 스캐닝하도록 자기장으로 세개의 빔(28)을 통제한다. 첫번째 편향 평면(편향이 0일 때)은 도 1에 있어서 요크(30)의 대략 중앙에 P-P선으로 도시되어 있다. 간략화하기 위해서, 편향존에 있어서, 편향 빔 경로의 실제적인 곡률은 도시하지 않았다.Tube 10 is designed for use by an external magnetic deflection yoke, such as yoke 30 located at the junction of the funnel and neck. When initiating operation, yoke 30 controls the three beams 28 with a magnetic field to scan the beam horizontally and vertically on the screen 22 with a square raster. The first deflection plane (when deflection is zero) is shown by the P-P line at approximately the center of the yoke 30 in FIG. 1. For simplicity, in the deflection zone, the actual curvature of the deflection beam path is not shown.

스크린(22)은 1990년 5월 1일자로 닷타 등(Datta et al.)에게 허여된 미국특허 제 4,921,767에 개시된 EPS(electrophotographic screening) 프로세스에 의해 제조되었다. 우선적으로, 패널(12)은 종래기술에서 알려져 있는 바와 같이, 부식용액으로 씻어냄으로써 세정한 후, 물로 헹구고, 그후, 버퍼링된 불소산으로 에칭하고, 재차 물로 헹군다. 그후, 뷰잉 면판(17)의 내부면은, 바람직하게는, 1971년 1월 26일자로 매이요드(Mayaud)에게 허여된 미국특허 제 3,558,310호에 개시되어 있는 종래의 습식 매트릭스 프로세스를 이용하여 광 흡수 매트릭스(20)에 제공된다. 이 습식 매트릭스 프로세스에 있어서, 적절한 포토레지스트 용액은, 예를 들어, 스핀코팅에 의해 내부면에 인가되고, 이 포토레지스트 용액은 포토레지스트 층을 형성하도록 건조된다. 그후, 컬러 선택 전극(25)은 패널(12)내로 삽입되고, 패널은 컬러 선택 전극의 개구를 통해 광을 투사하는 광원으로부터 화학적 방사선을 포토레지스트 층에 노출하는 쓰리-인-원 라이트하우스(three-in-one lighthouse)(도시하지 않음)상에 위치한다. 노출은 세개의 전자총으로부터의 전자빔의 경로를 모방하여 위치하는 광원에 의해 두번이상 반복된다. 광은 포토레지스트 층의 노출된 영역의 용해도를 선택적으로 변경한다. 세번 노출한 후, 이 패널이 라이트하우스로부터 제거되고, 컬러 선택 전극이 패널로부터 제거된다. 포토레지스트 층은 뷰잉 면판의 기본 내부면을 노출함으로써 포토레지스트층 중 보다 용해도가 높은 영역을 제거하기 위해 물을 이용하여 현상되고, 포토레지스트 층 중 노출되었지만 보다 용해도가 낮은 영역은 남겨둔다. 그후, 광 흡수 물질 중 적절한 용액이 뷰잉 면판의 노출된 부분 및 포토레지스트 층 중 노출되었지만 보다 용해도가 낮은 영역이 유지되도록 면판 패널의 내부면상으로 균일하게 제공된다. 건조되고 적절한 용액을 이용하여 현상된 광 흡수 물질층은, 포토레지스트 층 중 유지된 부분 및 뷰잉 면판의 내부면에 부착된 매트릭스(20)에서 개구(21)를 형성하는 기본 광 흡수 물질을 용해하여 제거할 것이다. 대각선 지름 51cm(20인치)를 갖는 패널(12)에 대해서, 매트릭스(20)에서 형성되는 개구(21)는 약 0.13 내지 0.18mm의 폭을 갖고, 불투명한 매트릭스 라인은 약 0.1 내지 0.15mm의 폭을 갖는다. 그후, 뷰잉 면판(17)의 내부면은 피복한 휘발가능한 OPC(organic photoconductive)층에 대한 전극(도시하지 않음)을 제공하는 휘발가능한 OC(organic conductive) 물질의 적절한 층(도시하지 않음)으로 피복된다. 결합에 있어서, OC층 및 OPC층은 도 4에 도시한 포토리셉터(36)를 포함한다.Screen 22 was manufactured by an electrophotographic screening (EPS) process disclosed in US Pat. No. 4,921,767, issued May 1, 1990 to Datta et al. Initially, the panel 12 is washed by rinsing with a corrosive solution, as is known in the art, then rinsed with water, then etched with buffered hydrofluoric acid and again rinsed with water. The inner surface of the viewing faceplate 17 is then light, preferably using a conventional wet matrix process disclosed in US Pat. No. 3,558,310, issued Mayaud, January 26, 1971. Provided to the absorbent matrix 20. In this wet matrix process, a suitable photoresist solution is applied to the inner surface, for example by spin coating, and the photoresist solution is dried to form a photoresist layer. Thereafter, the color selection electrode 25 is inserted into the panel 12, and the panel is a three-in-one lighthouse that exposes the chemical radiation to the photoresist layer from a light source that projects light through the opening of the color selection electrode. -in-one lighthouse (not shown). The exposure is repeated two or more times by a light source positioned to mimic the path of the electron beam from the three electron guns. Light selectively changes the solubility of the exposed areas of the photoresist layer. After three exposures, the panel is removed from the lighthouse and the color selection electrode is removed from the panel. The photoresist layer is developed using water to remove the higher solubility region in the photoresist layer by exposing the basic inner surface of the viewing faceplate, leaving the exposed but lower solubility region in the photoresist layer. Thereafter, a suitable solution of the light absorbing material is uniformly provided on the inner surface of the faceplate panel so that the exposed portion of the viewing faceplate and the exposed but less soluble region of the photoresist layer are maintained. The layer of light absorbing material that has been dried and developed using a suitable solution dissolves the basic light absorbing material that forms the opening 21 in the retained portion of the photoresist layer and the matrix 20 attached to the inner surface of the viewing faceplate. Will be removed. For panel 12 having a diagonal diameter of 51 cm (20 inches), openings 21 formed in matrix 20 have a width of about 0.13 to 0.18 mm, and opaque matrix lines have a width of about 0.1 to 0.15 mm. Has The inner surface of the viewing faceplate 17 is then covered with a suitable layer of volatile organic conductive (OC) material (not shown) that provides an electrode (not shown) for the coated volatile organic photoconductive (OPC) layer. do. In bonding, the OC layer and the OPC layer include the photoreceptor 36 shown in FIG.

임의의 4염화 폴리전해질이온를 포함하는 OC층에 대한 적절한 물질은 1994년 12월 6일자로 피. 닷타 등(P. Datta et al.)에게 허여된 미국특허 제 5,370,952호에 개시되어 있다. 바람직하게는, OPC층은 폴리스틸렌; 1,4-다이(2,4-메틸 펜닐)-1,4 다이펜닐부타트리엔(2,4-DMPBT)과 같은 전자 도너 물질; 2,4,7-트리니트로-9-플루오레논(TNF) 및 2-에틸란스로퀴논(2-EAQ)과 같은 전자 억셉터 물질; 및 톨루엔, 실렌, 또는 톨루엔과 실렌의 혼합물과 같은 적절한 용매를 포함하는 용액으로 OC층을 피복함으로써 형성된다. 실리콘 U-7602와 같은 계면활성제 및 다이옥틸 프탈레이트(DOP)와 같은 가소제가 또한 용액에 첨가될 수 있다. 계면활성제 U-7602는 유니온 카바이드, 댄버리, CT로부터 입수가능하다. 포토리셉터(36)는 1996년 5월 21일자로 윌버 등(Wilbur et al.)에게 허여된 미국특허 제 5,519,217호에 개시되었지만, 대략 +200 내지 +700 볼트 범위이내의 전압으로 포토리셉터(36)를 전하를 띠게 하는 코로나 방전 장치(도시하지 않음)를 이용하여 균일하게 정전기적으로 전하를 띠게 된다. 그후, 컬러 선택 전극(25)은 라이트하우스(도시하지 않음)상에 위치하는 패널(12)내로 삽입되고, 포토리셉터(36)의 포지티브하게 전하를 띠는 OPC층이 컬러 선택 전극(25)을 통해 라이트하우스내에 마련된 제논 플래쉬 램프 혹은 수은아크와 같은 충분한 강도의 다른 광원으로부터의 광에 노출된다. 컬러 선택 전극(25)에 있어서의 개구를 튜브의 전자총으로부터의 전자빔 중 하나의 빔과 동일한 각으로 통과하는 광은, 포토리셉터(36)상의 조명된 영역을 방전하고, 잠재 전하 이미지(도시하지 않음)를 형성한다. 컬러 선택 전극(25)은 패널(12)로부터 제거되고, 패널은 도 5에 도시하는 바와 같이 제 1 인 현상기(40)상에 위치한다.Suitable materials for the OC layer containing any tetrachloride polyelectrolyte are described by December 6, 1994. US Pat. No. 5,370,952 to P. Datta et al. Preferably, the OPC layer is made of polystyrene; Electron donor materials such as 1,4-di (2,4-methylphenyl) -1,4 diphenylbutatriene (2,4-DMPBT); Electron acceptor materials such as 2,4,7-trinitro-9-fluorenone (TNF) and 2-ethyllanthroquinone (2-EAQ); And a layer of OC with a solution containing a suitable solvent such as toluene, silane, or a mixture of toluene and silylene. Surfactants such as silicone U-7602 and plasticizers such as dioctyl phthalate (DOP) may also be added to the solution. Surfactant U-7602 is available from Union Carbide, Danbury, CT. Photoreceptor 36 was disclosed in US Pat. No. 5,519,217 issued to Wilbur et al. On May 21, 1996, but the photoreceptor 36 has a voltage in the range of approximately +200 to +700 volts. By using a corona discharge device (not shown) that charges, the charge is uniformly electrostatically charged. Thereafter, the color selection electrode 25 is inserted into the panel 12 located on the lighthouse (not shown), and the positively charged OPC layer of the photoreceptor 36 forms the color selection electrode 25. It is exposed to light from other light sources of sufficient intensity, such as xenon flash lamps or mercury arcs provided in the lighthouse. The light passing through the opening in the color selection electrode 25 at the same angle as one of the beams of electrons from the electron gun of the tube discharges the illuminated area on the photoreceptor 36 and causes a latent charge image (not shown). ). The color selection electrode 25 is removed from the panel 12, and the panel is located on the first phosphor developer 40 as shown in FIG.

현상기(40)는 바닥단부(44) 및 상부단부 혹은 패널 지지대(46)를 갖는 현상 챔버(42)를 포함한다. 패널 지지대(46)는, 바람직하게는, 절연물질로 형성되며, CRT 면판 패널(12)보다 약간 큰 치수의 개구(48)를 포함한다. 패널(12)은 패널 지지대(46)상에 지지된다. 현상 챔버(42)는 바닥단부(44) 및 패널 지지대(46) 사이를 연장하는 외부측벽(50)을 더 포함한다. 전도성 내부측벽(52)은 외부측벽(50)으로부터 이격되어 있고, 전도성 내부바닥단부(54)로부터 패널 지지대(46)에 인접하는 평면 A-A에까지 연장한다. 전도성 내부측벽(52) 및 바닥단부(54)는 고전압원(55)에 접속하고, 적어도 2V의 전위에서 바이어싱되지만, 바람직하게는, 챔버(42)내의 인 입자의 포지티브하게 전하를 띤 구름에 반발하도록 3 내지 15kV 범위내이며, 구름의 제어를 제공하는 탱크 그리드(56)를 형성한다. 챔버(42)의 상부 주변에 위치하는 간격(57)(외부 및 내부 측벽(50 및 52) 사이)은 포토리셉터(36)상에 형성된 잠재 전하 이미지상에 도포되지 않은 초과 인 입자를 제거하는 경로를 제공한다. 배기포트(58)는 현상기(40)로부터 초과 인 입자를 제거하는 펌프(도시하지 않음)와 접속한다.The developer 40 includes a developing chamber 42 having a bottom end 44 and an upper end or panel support 46. The panel support 46 is preferably formed of an insulating material and includes an opening 48 with dimensions slightly larger than the CRT faceplate panel 12. The panel 12 is supported on the panel support 46. The developing chamber 42 further includes an outer side wall 50 extending between the bottom end 44 and the panel support 46. The conductive inner side wall 52 is spaced apart from the outer side wall 50 and extends from the conductive inner bottom end 54 to the plane A-A adjacent the panel support 46. The conductive inner side wall 52 and the bottom end 54 are connected to the high voltage source 55 and biased at a potential of at least 2V, but preferably to a positively charged cloud of phosphorus particles in the chamber 42. It forms a tank grid 56 that is in the range of 3 to 15 kV to provide repulsion and provides control of the clouds. The spacing 57 (between the outer and inner sidewalls 50 and 52) located around the top of the chamber 42 removes excess phosphorus particles that are not applied on the latent charge image formed on the photoreceptor 36. To provide. The exhaust port 58 is connected to a pump (not shown) which removes excess phosphorus from the developer 40.

스터드 콘택트 스프링과 같은 전기적인 콘택트(60)가 면판 패널(12)의 측벽(18)에 내장된 스터드(26) 중 하나의 스터드에 접속하도록 제공된다. 포토리셉터(36)의 전도성 피복은 스터드(26)에 콘택트 패치(도시하지 않음)에 의해 전기적으로 접속된다. 미국특허 제 5,156,770호에 개시된 콘택트 패치는 1990년 10월 20일자로 엣첼 등(Wetzel et al.)에게 허여되었다. 전기적인 콘택트(60)는 포토리셉터(36)상의 잠재 전하 이미지에 도포된 마찰전기적으로 전하를 띤 인 입자의 전하에 비례하는 전압을 발전하는 캐패시터(64)에 접속되어, 접지된다. 캐패시터(64)상에서 발전된 전압은 전압계(66)에 의해 모니터링되며, 발전된 전압이 필요로하는 인의 두께에 대응하는 사전결정된 값에 도달하였을 때, 인 도포를 종결하도록 프로그램되어 있는 제어기(68)에 접속되어 있다. 종래의 각각의 발전 사이클에 있어서, 캐패시터(64)상의 전압은 제어기(68)의 동작에 의해 콘택트(70)를 통해 접지되어 방전된다. 고 전압원(72)은 포토리셉터(36)상에 형성된 잠재 전하 이미지 부근의 전기장을 제거하기 위해 패널 그리드(74)에 접속된다. 패널 그리드(74)의 구조 및 기능이 닷타 등에게 1992년 3월 3일자로 허여된 미국특허 제 5,093,217호에 개시되어 있다. 그리드(74)는 약 2 내지 3kV에서 포지티브하게 바이어싱되고, 잠재 전하 이미지상에 도포되는 마찰전기적으로 전하를 띤 인 입자와 동일한 극성을 갖는다.Electrical contacts 60, such as stud contact springs, are provided to connect to one of the studs 26 embedded in the sidewall 18 of the faceplate panel 12. The conductive sheath of the photoreceptor 36 is electrically connected to the stud 26 by a contact patch (not shown). The contact patch disclosed in US Pat. No. 5,156,770 was issued to Wetzel et al. On October 20, 1990. The electrical contact 60 is connected to and grounded to a capacitor 64 that develops a voltage proportional to the charge of the triboelectrically charged phosphorus particles applied to the latent charge image on the photoreceptor 36. The voltage developed on capacitor 64 is monitored by voltmeter 66 and connected to a controller 68 that is programmed to terminate phosphorus application when the generated voltage reaches a predetermined value corresponding to the thickness of phosphorus required. It is. In each conventional power generation cycle, the voltage on capacitor 64 is grounded and discharged through contact 70 by the operation of controller 68. The high voltage source 72 is connected to the panel grid 74 to remove the electric field near the latent charge image formed on the photoreceptor 36. The structure and function of the panel grid 74 is disclosed in US Pat. No. 5,093,217, issued March 3, 1992 to Datta et al. Grid 74 is positively biased at about 2-3 kV and has the same polarity as the triboelectrically charged phosphor particles applied on the latent charge image.

분리형 현상기(40)는 이종 혼합 오염(cross contamination)을 방지하기 위해 각각의 세개의 컬러 방사 인에 대해 필요한 반면에, 단일형 현상기가 이용되고 상기한 컬러 방출 인 재료가 공통 챔버내로 공급되면, 이종 혼합 오염이 발생한다. 현상 챔버(42)에 대한 외부 장치는 건조된 파우더형 인 입자의 공급을 포함하는 인 저장소(76)이다.Separate developer 40 is required for each of the three color emitters to prevent cross contamination, while a single developer is used and the color emitter material described above is fed into a common chamber, heterogeneous mixing. Pollution occurs. The external device for the development chamber 42 is a phosphorus reservoir 76 which includes a supply of dried powdered phosphorus particles.

현상 동작동안, 인 입자는 저장소(76)로부터 인 입자가 적절한 양의 공기에 의해 혼합되는 벤튜리 챔버(78)로 운반된다. 공기 공급에 의한 발동 작용은 제어기(68)에 의해 제어되는 밸브(80)를 개방함으로써 달성된다. 공기압은 압력 조절기(82)에 의해 설정된다. 인 입자는 마찰전기총(84)을 통해 챔버(42)내로 운반되고, 이 인 입자는 포지티브하게 마찰전기적인 전하를 띠며, 포토리셉터(36)상의 잠재 전하 이미지쪽으로 향한다. 포지티브하게 전하를 띠는 제 1 컬러 방출 인 입자는 포토리셉터(36)상의 포지티브하게 전하를 띠는 영역에 의해 반발되고, '리버스(reverse)' 현상과 같은 기술로 알려져 있는 프로세스에 의해 포지티브하게 전하를 띠는 영역상에 도포된다. 리버스 현상에 있어서, 스크린 구성 물질 중 마찰전기적으로 전하를 띤 입자는 포토리셉터(36)의 유사한 전하를 띠는 영역에 의해 반발되고, 포토리셉터의 방전된 영역상에 도포된다. 제 1 컬러 방출 인의 인 라인은 매트릭스(20)내의 개구(21) 중 선택된 개구내에 도포되고, 개구(21)의 중앙에서부터 주변 매트릭스의 가장자리에까지 폭 및 높이를 만든다. 도포가 완료되었을 때, 도 3에 도시하는 바와 같이, 각각의 개구를 완전히 매립하고, 개구 주변의 광 흡수 매트릭스를 약간 덮도록 광 흡수 매트릭스(20)에 있어서의 개구(21)의 크기보다 약간 큰 인 라인이 필요하다.During the development operation, phosphor particles are transported from reservoir 76 to venturi chamber 78 where phosphor particles are mixed by the appropriate amount of air. Actuation by air supply is achieved by opening the valve 80 controlled by the controller 68. The air pressure is set by the pressure regulator 82. Phosphorus particles are transported into the chamber 42 through the triboelectric gun 84, which is positively triboelectrically charged and directed towards the latent charge image on the photoreceptor 36. The positively charged first colored emission particles are repelled by the positively charged region on photoreceptor 36 and positively charged by a process known as technology such as 'reverse' phenomenon. It is applied on the area covered with. In the reverse phenomenon, triboelectrically charged particles in the screen construction material are repelled by similarly charged regions of the photoreceptor 36 and applied onto the discharged regions of the photoreceptor. The in-line of the first color emitting phosphorus is applied in a selected one of the openings 21 in the matrix 20, making the width and height from the center of the opening 21 to the edge of the surrounding matrix. When the application is complete, as shown in Fig. 3, each opening is completely larger than the size of the opening 21 in the light absorption matrix 20 so as to completely fill each opening and slightly cover the light absorption matrix around the opening. In line is required.

도 5를 참조하면, PDM(phosphor deposition monitor) 장치(90)는 개구(48)에 인접하는, 현상기(40)의 지지면(46)에 탑재된 한쌍의 측면레일(side rail)(92 및 93)을 갖는 지지대 어셈블리를 포함한다. 측면레일(92 및 93)은 측면레일로부터의 방해없이 지지면(46)상에 위치된 면판 패널(12)을 허가하도록 충분하게 이격되어 있다. 제 1 쌍의 크로스레일(단지 한쌍만을 도시함)이 측면레일(92 및 93)에 미끄러지게 부착되어 있고, 크로스레일(94)에 미끄러지게 부착되어 있는 제 1 이미지 장치(96)를 지지한다. 제 2 이미지 장치(99)는 또한 크로스레일(94)에 미끄러지게 부착되어 있다. 이미지 장치(96 및 99)는 뷰잉 면판(17)의 15cm(6인치) 위에 탑재된다. 각각의 이미지 장치(96 및 99)는 x-y면으로 이동가능하며, 뷰잉 면판(17)의 곡률에 실질적으로 평행하게 틸트될 수 있다. 이미지 장치(96 및 99)는 뷰잉 면판(17)위 어디에든지 위치될 수 있으며, 인 스크린 구성 물질의 도포를 가시적으로 모니터링하는 수단을 제공한다. PDM 장치(90)는 로버트 쥬니어 등(Roberts Jr., et al.)에 의해 1996년 10월 9일자로 출원된 공동출원중인 미국특허출원 제 728,010호에 개시되어 있다.Referring to FIG. 5, a phosphor deposition monitor (PDM) device 90 is a pair of side rails 92 and 93 mounted to the support surface 46 of the developer 40 adjacent to the opening 48. And a support assembly having a). The side rails 92 and 93 are sufficiently spaced to permit the faceplate panel 12 located on the support surface 46 without interference from the side rails. A first pair of crossrails (only one pair is shown) is slidably attached to the side rails 92 and 93 and supports the first image device 96 that is slidably attached to the crossrail 94. The second image device 99 is also attached to the crossrail 94 in a sliding manner. Imaging devices 96 and 99 are mounted on 15 cm (6 inches) of viewing faceplate 17. Each imaging device 96 and 99 is movable in the x-y plane and can be tilted substantially parallel to the curvature of the viewing faceplate 17. Imaging devices 96 and 99 may be located anywhere on viewing faceplate 17 and provide a means for visually monitoring the application of the in-screen construction material. PDM apparatus 90 is disclosed in co-pending US patent application 728,010, filed Oct. 9, 1996 by Robert Junior Jr., et al.

본 프로세스에 있어서, 전하를 띤 인 구름에 가해지는 전위는 탱크 그리드(56) 및 패널 그리드(74)상의 전위에 의해 조절된다. 탱크 그리드는 현상 챔버(42)내의 정전력을 제어하기 위해, 현상 프로세스 및 파우더 구름에 있어서의 인의 플럭스의 균일화를 최적화함으로써, 3-15kV 범위내에서 조정할 수 있다.In this process, the potential applied to the charged phosphorus cloud is controlled by the potentials on tank grid 56 and panel grid 74. The tank grid can be adjusted within the range of 3-15 kV by optimizing the uniformity of the flux of phosphorus in the developing process and powder cloud to control the electrostatic force in the developing chamber 42.

탱크 그리드(56)의 다른 이점은, 이 탱크 그리드가 네가티브 전압으로 두개의 그리드를 '리버스' 바이어싱(즉, 그리드(56 및 74)를 바이어싱)함으로써 패널 그리드로부터 축적된 인을 제거하기 위해 이용될 수 있어, 인 입자는 패널 그리드(74)에서부터 인 입자가 배출 포트(58)를 통해 제거되어질 수 있는 현상기 탱크(40)내로 인출될 수 있다는 것이다.Another advantage of the tank grid 56 is that the tank grid eliminates phosphorus accumulated from the panel grid by 'reverse' biasing the two grids with negative voltage (i.e., biasing the grids 56 and 74). As such, phosphor particles may be withdrawn from panel grid 74 into developer tank 40 where phosphor particles may be removed through discharge port 58.

인 현상기의 실시예에 대해서 개시되어 있기는 하지만, 본 발명은 또한, 기본 포토리셉터에 대한 인의 응집을 개선하고, 매트릭스층상에 도포되는 포토컨덕터를 포함하는 층과 같은 막을 평탄화하기 위해 EPS 도포된 인 스크린상에 스프레잉되는 고정 물질(fixant material)과 같은, 에어러졸(aerosol)의 정전 스프레이 응용에 이용될 수도 있다.Although disclosed with respect to embodiments of phosphorus developers, the present invention also relates to EPS coated phosphorus to improve the cohesion of phosphorus to the basic photoreceptor and to planarize a film such as a layer comprising a photoconductor applied onto the matrix layer. It may also be used in electrostatic spray applications of aerosols, such as fixed materials sprayed onto the screen.

Claims (4)

일단부가 바닥부(44)에 의해 밀폐되고, 타단부가 상기 면판 패널(12)로의 액세스를 제공하기 위해 패널 지지대를 통해 개구(48)를 갖는 패널 지지대(46)에 의해 밀폐된 측벽(50)을 갖는 현상 챔버(42)와; 상기 면판 패널(12)의 내부면에 인접한 패널 그리드(74)와; 상기 현상 챔버(42)내에 마련되고, 상기 측벽(50), 상기 바닥면(44) 및 상기 패널 그리드(74)로부터 이격된 탱크 그리드(56)와; 스크린 구성 물질에 대해 소망하는 전하 극성을 전달하고, 상기 스크린 구성 물질을 상기 잠재 전하 이미지상으로 배분하기 위한 마찰전기총(84)과; 상기 전하를 띤 스크린 구성 물질의 상기 잠재 전하 이미지상으로의 도포를 모니터링하기 위한 수단(66, 90)과; 상기 전하를 띤 스크린 구성 물질의 도포를 종결시키기 위한 수단(68)을 포함하는 현상 장치(40)를 이용하여, CRT(10)의 면판 패널(12)의 내부면상에 마련되는 포토리셉터(36)상에 형성된 정전 잠재 전하 이미지를, 적절하게 마찰전기적으로 전하를 띠고 건조된 파우더형인 스크린 구성 물질로 현상하는 방법에 있어서,One side is closed by the bottom 44 and the other end is closed by the panel support 46 having an opening 48 through the panel support to provide access to the faceplate panel 12. A developing chamber 42 having a; A panel grid (74) adjacent the inner surface of the faceplate panel (12); A tank grid (56) provided in said developing chamber (42) and spaced apart from said side wall (50), said bottom surface (44) and said panel grid (74); A triboelectric gun (84) for delivering a desired charge polarity for the screen construction material and for distributing the screen construction material onto the latent charge image; Means (66, 90) for monitoring the application of the charged screen component material onto the latent charge image; Photoreceptor 36 provided on the inner surface of the faceplate panel 12 of the CRT 10 using a developing device 40 comprising means 68 for terminating the application of the charged screen constituent material. A method of developing an electrostatic latent charge image formed on a screen component material that is suitably triboelectrically charged and dried powder form, 상기 잠재 전하 이미지로부터의 전기장을 제어하기 위해 제1 전위에서 상기 패널 그리드(74)를 오퍼레이팅하는 단계와,Operating the panel grid 74 at a first potential to control an electric field from the latent charge image; 상기 현상기 탱크내의 정전력을 제어하기 위해 상기 제1 전위와는 상이한 제2 전위에서 상기 탱크 그리드(56)를 오퍼레이팅하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 현상 방법.Operating the tank grid (56) at a second potential different from the first potential to control the electrostatic force in the developer tank. 제1항에 있어서, 상기 제2 전위는 상기 제1 전위보다 높은 것인 현상 방법.The developing method according to claim 1, wherein the second potential is higher than the first potential. 제2항에 있어서, 상기 제1 전위는 약 2kV인 것인 현상 방법.The method of claim 2, wherein the first potential is about 2 kV. 제2항에 있어서, 상기 제2 전위는 약 3 내지 15kV이내의 범위인 것인 현상 방법.The method of claim 2, wherein the second potential is in the range of about 3 to 15 kV.
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