KR100308199B1

KR100308199B1 - Air Knife of Chemical Vapor Deposition Facility

Info

Publication number: KR100308199B1
Application number: KR1019980041623A
Authority: KR
Inventors: 이락기; 신동일
Original assignee: 윤종용; 삼성전자 주식회사
Priority date: 1998-10-02
Filing date: 1998-10-02
Publication date: 2001-11-30
Also published as: KR20000024859A

Abstract

목적: 웨이퍼의 증착 공정에서 웨이퍼 이송용 벨트로 인한 웨이퍼의 오염을 방지할 수 있는 화학기상증착 설비의 에어 나이프를 제공한다.PURPOSE: To provide an air knife of a chemical vapor deposition apparatus that can prevent contamination of a wafer due to a wafer transfer belt in a wafer deposition process.

구성: 화학기상증착 공정 중, 웨이퍼 이송용 벨트에 침적되는 이물질을 제거하는 과정에서 벨트에 묻게 되는 수분을 제거하는데 사용되는 에어 나이프로서, 에어를 공급받아 분배하는 두 개의 매니폴드와, 상기 두 개의 매니폴드의 사이에 개재되며 상기 벨트로 에어를 분사시키기 위한 노즐들이 형성된 튜브로 구성된다.Composition: An air knife used to remove moisture from the belt during the chemical vapor deposition process to remove foreign matter deposited on the belt for wafer transfer, two manifolds for supplying and distributing air, and the two Interposed between the manifolds and consists of a tube formed with nozzles for injecting air to the belt.

상기 튜브는 상기 두 개의 매니폴드와 각각 하나씩 연통되는 두 개를 구비하며, 이들이 벨트의 상부 및 하부에 각각 하나씩 배치되게 하여 구성하거나, 상기 두 개의 매니폴드와 각각 하나씩 연통되는 네 개를 구비시키며, 이들이 상기 벨트의상부 및 하부에서 각각 연통 구조상 서로 엇갈리게 배치되게 하여 구성한다.The tube is provided with two communicating with each of the two manifolds, one by one, and configured so that they are arranged one each on the top and bottom of the belt, or having four communicating with each of the two manifolds one by one, The upper and lower portions of the belt are arranged so as to be alternated with each other in communication structure.

상기 튜브는 일측이 개방되어 노즐로 연통되고, 타측이 폐쇄되게 하며, 상기 두개의 매니폴드는 각각 하나의 튜브로만연통되는 구조로 형성되게 한다.The tube is open at one side to communicate with the nozzle, the other side to be closed, and the two manifolds are each formed to have a structure in communication with only one tube.

효과: 화학기상증착시에 벨트로 침적된 막을 제거하는 과정에서 묻게 되는 벨트상의 수분을 효과적으로 제거함으로써 웨이퍼의 오염 방지에 의한 수율 향상 효과가 있고, 튜브가 유동되지 않는 고정된 구조이므로 벨트와의 마찰로 인한 튜브의마모를 방지하여 에어 나이프의 수명을 연장할 수 있다.Effect: Effective removal of moisture on the belt, which is caused by removing the film deposited by the belt during chemical vapor deposition, improves the yield by preventing wafer contamination, and is a fixed structure in which the tube does not flow. The life of the air knife can be extended by preventing the wear of the tube.

Description

Air Knives of Chemical Vapor Deposition Equipment

본 발명은 웨이퍼 증착 공정에서의 웨이퍼 이송용 벨트로 인한 웨이퍼의 오염을 방지할 수 있는 화학기상증착 설비의 에어 나이프에 관한 것으로, 특히 인라인 방식으로 처리되는 웨이퍼의 박막 형성 과정에서 벨트에 침적된 이물질의 제거시에 벨트에 묻게 되는 수분을 효과적으로 제거할 수 있는 개선된 구조의 화학기상증착 설비의 에어 나이프에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an air knife of a chemical vapor deposition apparatus capable of preventing contamination of a wafer due to a wafer transfer belt in a wafer deposition process. Particularly, foreign matter deposited on a belt during a thin film formation process of a wafer processed in an inline manner. An air knife of a chemical vapor deposition apparatus having an improved structure capable of effectively removing moisture deposited on a belt upon removal of the gas.

반도체 제조 공정의 기본 기술 중의 하나로 이용되고 있는 화학기상증착(CHEMICAL VAPOR DEPOSITION)은 기체 상태의 화합물을 분해한 후 화학적 반응에 의해 반도체 기판 위에 박막이나 에피층을 형성하는 공정이다. 웨이퍼 기판 위에 박막을형성하는 과정은 화합물 가스를 챔버 내로 공급하여 이루어지며, 공정 중의 챔버 내부의 진공도에 따라 상압 화학기상증착(APCVD)과 감압 화학기상증착(LPCVD), 그리고 챔버의 모양이나 공정처리 구조에 따라 수평형, 수직형, 원통형, 인라인형, 관상로형으로 분류된다.Chemical vapor deposition (CHEMICAL VAPOR DEPOSITION), which is used as one of the basic technologies of the semiconductor manufacturing process, is a process of forming a thin film or epi layer on a semiconductor substrate by chemical reaction after decomposing a gaseous compound. The process of forming a thin film on a wafer substrate is performed by supplying a compound gas into the chamber, and depending on the degree of vacuum in the chamber, atmospheric pressure chemical vapor deposition (APCVD) and reduced pressure chemical vapor deposition (LPCVD), and the shape or process of the chamber According to the structure, it is classified into horizontal type, vertical type, cylindrical type, inline type, and tubular furnace type.

상압 화학기상증착의 공정은 대기압 하에서 챔버 내부의 온도를 소망하는 막질의 종류에 따라 적절히 조절하여 진행된다.The atmospheric pressure chemical vapor deposition process is carried out by appropriately adjusting the temperature inside the chamber under atmospheric pressure according to the kind of film quality desired.

상압 화학기상증착의 공정 중에 챔버 내부는 형성하려는 막에 따라 다르지만 보통 400℃ 이상의 온도로 유지되며, 질소분위기에서 인젝터에 의해 SiH4, PH3, B2H6 등의 반응가스와 O2 나 N2 등의 조연성 가스가 주입된다.During the process of atmospheric chemical vapor deposition, the inside of the chamber varies depending on the film to be formed, but is usually maintained at a temperature above 400 ° C. In a nitrogen atmosphere, reactive gases such as SiH4, PH3, B2H6 and flammable gases such as O2 or N2 Is injected.

도 1 은 본 발명이 적용되는 상압 화학기상증착 설비의 구조도로서, 이것은 인라인형(컨베이어 방식)이 적용되어 있다.1 is a structural diagram of an atmospheric pressure chemical vapor deposition apparatus to which the present invention is applied, and this is an in-line type (conveyor type).

상기 설비는 챔버(이하, 머플(3)이라고 명칭)에 화합물 가스를 분사하는 인젝터 헤드(3a)가 설치되고, 그 하부에 설치되는히터(4)와의 사이에 웨이퍼(WF)를 이송하는 벨트(2)가 개재되는 구조로 되어있다. 머플(3)의 주변에 설치되는 배플러(5)들은 비활성가스인 N2를 분사하여 반응가스의 분산을 방지함으로써 박막 형성의 균등화를 도모한다.The equipment is provided with an injector head 3a for injecting a compound gas into a chamber (hereinafter referred to as muffle 3), and a belt for transferring the wafer WF between the heater 4 and the heater 4 installed therein. 2) is interposed. The baffles 5 provided around the muffle 3 inject N2 which is an inert gas to prevent dispersion of the reaction gas, thereby achieving equalization of thin film formation.

셔틀을 통해 본 설비로 이송되어 온 웨이퍼(WF)는 벨트(2)에 실려 머플(3)을 지나는 동안 침적이 이루어진다.The wafer WF transferred to the facility via the shuttle is deposited on the belt 2 while passing through the muffle 3.

웨이퍼(WF)의 박막은 인젝터 헤드(3a)로부터 분사된 가스가 히터(4)의 열분해로 벨트(2)에 실린 웨이퍼(WF)로 침적되면서형성된다.The thin film of the wafer WF is formed while the gas injected from the injector head 3a is deposited on the wafer WF loaded on the belt 2 by pyrolysis of the heater 4.

그런데, 웨이퍼(WF)에 박막이 형성되는 침적 과정에서 웨이퍼(WF) 뿐 아니라 벨트(2)에도 박막이 형성되어지며, 이는 벨트(2)에 운반되어 다음 처리될 웨이퍼(WF)의 저면에 오염을 초래하게 된다.However, a thin film is formed not only on the wafer WF but also on the belt 2 in the deposition process of forming a thin film on the wafer WF, which is transported to the belt 2 to contaminate the bottom surface of the wafer WF to be processed next. Will result.

화학기상증착 설비에는 이러한 점들을 해결하기 위해 벨트(2)에 침적된 박막을 제거하는 세정장치가 더 구비되어 있다.In order to solve these problems, the chemical vapor deposition apparatus is further provided with a cleaning device for removing the thin film deposited on the belt 2.

상기 세정장치는 벨트(2)로 HF가스를 분사하여 벨트(2)에 침적된 박막을 에칭하는 에치머플(6), 상기 에치머플(6)에 의한에칭 후 잔류하는 벨트(2)상의 파티클을 제거하기 위한 순수가 수용된 초음파 탱크(8), 상기 초음파 탱크(8)를 통과하면서 벨트(2)에 묻게 되는 수분을 제거하는 에어 나이프(10), 및 상기 벨트(2)의 수분을 최종으로 드라이하는 적외선 램프(9)로 구성된다.The cleaning apparatus sprays HF gas onto the belt 2 to etch the thin film deposited on the belt 2, and to remove particles on the belt 2 remaining after etching by the etch muffle 6; Ultrasonic tank 8 containing pure water for removal, air knife 10 for removing moisture from the belt 2 while passing through the ultrasonic tank 8, and finally drying the moisture of the belt 2 It consists of an infrared lamp 9.

상기 에치머플(6) 및 초음파 탱크(8)에서 이물질이 제거된 벨트(2)는 상기 에어 나이프(10)를 통과하면서 벨트(2)에 묻은수분이 최대한 제거되어야만 머플(3)로 진행될 때 새로이 적재되는 웨이퍼(WF)의 오염을 막을 수 있다.The belt 2 from which the foreign matter is removed from the etch muffle 6 and the ultrasonic tank 8 passes through the air knife 10 so that the moisture on the belt 2 should be removed as much as possible. The contamination of the wafer WF to be loaded can be prevented.

본 발명에 관련된 종래의 기술로서 미합중국 특허 제 5,379,943 호에 솔더링 설비에 적용되는 에어 나이프의 구조가 개시되어 있다.As a prior art related to the present invention, US Pat. No. 5,379,943 discloses a structure of an air knife applied to a soldering installation.

화학증착 설비에 사용되는 종래의 에어 나이프(10)는 도 2 에 도시된 바와 같이, N2 혹은 에어, 또는 N2가 혼합된 에어를공급받는 매니폴드(12)와, 종단부가 폐쇄됨과 아울러 개방된 선단부가 상기 매니폴드(12)에 연통되고, 상하 배치되어 상호 대향하는 방향으로 많은 노즐(142)이 형성된 두 개의 튜브(14a,14b)로 이루어진다. 여기에서, 상기 선단부는 에어에먼저 접근되는 부분이고, 종단부는 마지막에 접근되는 부분으로, 이하의 설명에 있어서 동일한 의미의 명칭으로 적용한다.The conventional air knife 10 used in the chemical vapor deposition facility, as shown in Figure 2, the manifold 12 is supplied with N2 or air, or a mixture of N2, and the front end is closed and the end is closed Is communicated with the manifold 12, and is composed of two tubes 14a and 14b which are arranged up and down and have many nozzles 142 formed in mutually opposite directions. Here, the front end is the part which is approached first by air, and the end part is the part which is approached last, and it applies by the name of the same meaning in the following description.

여기에서, 벨트(2)에 묻어있는 수분은 상하 배치된 상기 두 개의 튜브(14a,14b) 사이를 지나면서 튜브(14a,14b)의 노즐(142)로부터 분사된 에어에 의해 제거되나, 에어 나이프(10)는 매니폴드(12)에 가까운 부분일수록 노즐의 분출력이 더욱강하여 균일 분사가 이루어지지 않기 때문에 적외선 램프(9)를 통한 드라이 과정 후에도 수분이 완전히 제거되지 않게 되는 경우가 있다. 이는 다음에 벨트(2)의 상부로 투입되는 웨이퍼(WF)의 오염을 초래한다.Here, the moisture buried in the belt 2 is removed by the air injected from the nozzle 142 of the tubes 14a and 14b while passing between the two tubes 14a and 14b arranged up and down, but the air knife 10, the portion closer to the manifold 12, the stronger the power output of the nozzle, so that uniform spraying is not performed, so that water may not be completely removed even after the drying process through the infrared lamp 9. This causes contamination of the wafer WF which is then introduced to the top of the belt 2.

또한, 종래의 에어 나이프(10)는 튜브(14a,14b)의 선단부만이 매니폴드(12)에 고정되는 구조여서 에어의 분출시에 튜브(14a,14b)의 종단부가 흔들리게 되므로 벨트(2)와의 마찰로 인해 튜브(14a,14b)가 마모되어 이의 수명이 단축되는 문제점을 갖고 있다.In addition, the conventional air knife 10 has a structure in which only the front end portions of the tubes 14a and 14b are fixed to the manifold 12, so that the end portions of the tubes 14a and 14b are shaken when the air is ejected. Due to the friction with), the tubes 14a and 14b are worn, and thus the life thereof is shortened.

본 발명은 전술한 종래의 에어 나이프가 갖고 있는 제반의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은전반적으로 균등한 에어 분사가 이루어지게 하는 동시에 벨트와의 마찰을 배제하도록 튜브를 고정하는 구조적 안정성을향상시킨 화학기상증착 설비의 에어 나이프를 제공하고자 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the conventional air knife, and an object of the present invention is to fix the tube so as to eliminate friction with the belt while at the same time making the air injection generally uniform. It is an object of the present invention to provide an air knife of a chemical vapor deposition apparatus that has improved structural stability.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 화학기상증착 공정 중, 웨이퍼 이송용 벨트에 침적되는 이물질을 제거하는 과정에서 벨트에 묻게 되는 수분을 제거하는데 사용되는 에어 나이프로서, 에어를 공급받아 분배하는 두 개의 매니폴드와, 상기 두 개의 매니폴드의 사이에 개재되며 상기 벨트로 에어를 분사시키기 위한 노즐들이 형성된 튜브로 구성된 것을 특징으로 하는 화학기상증착 설비의 에어 나이프를 제공한다.The present invention for achieving the above object is an air knife used to remove the moisture on the belt in the process of removing the foreign matter deposited on the belt for wafer transfer during the chemical vapor deposition process, two air supply and distribution An air knife of a chemical vapor deposition apparatus is provided, comprising a manifold and a tube interposed between the two manifolds and formed with nozzles for injecting air to the belt.

상기 튜브는 상기 두 개의 매니폴드와 각각 하나씩 연통되는 두 개를 구비하며, 이들이 벨트의 상부 및 하부에 각각 하나씩 배치되게 한다.The tubes have two in communication with the two manifolds, one each, allowing them to be placed one each at the top and bottom of the belt.

또한, 선택적으로 상기 튜브는 상기 두 개의 매니폴드와 각각 둘씩 연통되는 네 개를 구비시키며, 이들이 상기 벨트의 상부 및 하부에서 각각 연통 구조상 서로 엇갈리게 배치할 수도 있다.Optionally, the tube also has four in communication with each of the two manifolds, two of which may be staggered from each other in the communication structure at the top and bottom of the belt, respectively.

이러한 구성에 있어서, 상기 튜브는 일측이 개방되어 노즐로 연통되고, 타측은 폐쇄되게 하며, 상기 두 개의 매니폴드는각각 하나의 튜브로만 연통되는 구조로 형성되게 한다.In this configuration, the tube is open at one side to communicate with the nozzle, the other side is closed, and the two manifolds are each formed in a structure that is communicated only with one tube.

또, 상기 매니폴드에 상기 튜브를 고정하기 위한 소켓을 형성하여 구조적으로 에어분출시에도 유동되는 것을 규제할 수있도록 구성함으로써 벨트와의 마찰로 인한 튜브의 마모를 방지한다.In addition, by forming a socket for fixing the tube to the manifold so that it can be configured to restrict the flow even in the air blowing structurally to prevent wear of the tube due to friction with the belt.

아울러, 본 발명은 상기 노즐의 직경을 에어가 유입되는 선단부에서 종단부에 이를수록 점진적으로 크게 형성하거나, 상기 노즐 간의 피치를 에어가 유입되는 선단부에서 종단부에 이를수록 점진적으로 작게 형성하여서 개선시킬 수 있다.In addition, the present invention may be improved by gradually increasing the diameter of the nozzle to the end portion at the end portion where air is introduced, or gradually smaller as the pitch between the nozzles is formed as it reaches the end portion at the tip portion where air is introduced. Can be.

제1도는 본 발명이 적용되는 상압 화학기상증착 설비의 구조도.1 is a structural diagram of an atmospheric pressure chemical vapor deposition apparatus to which the present invention is applied.

제2도는 제1도의 A-A 선을 취해서 보인 종래의 에어 나이프의 구조 단면도.2 is a structural cross-sectional view of a conventional air knife taken along the line A-A of FIG.

제3도는 본 발명에 의한 에어 나이프의 구조를 도시한 분해 상태도.3 is an exploded state diagram showing the structure of an air knife according to the present invention.

제4도 내지 제9도는 각각 본 발명의 여러 가지 실시예를 보인 도면.4 to 9 show various embodiments of the present invention, respectively.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

2 : 벨트 3 : 머플2: belt 3: muffle

3a : 인젝터 헤드 4 : 히터3a: injector head 4: heater

5,7 : 배플러 6 : 에치머플5,7 Baffler 6: Etch muffle

8 : 초음파 탱크 9 : 적외선램프8: ultrasonic tank 9: infrared lamp

WF : 웨이퍼 17 : 에어 공급부WF: wafer 17: air supply

100 : 에어 나이프 120a,120b : 매니폴드100: air knife 120a, 120b: manifold

122 : 에어벤트 124 : 소켓122: air vent 124: socket

140a,140b : 튜브 142 : 노즐140a, 140b: Tube 142: Nozzle

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 도면을 참조하여 더욱 구체적으로 설명한다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings.

도 3은 본 발명에 의한 에어 나이프의 구조를 도시한 분해 상태도이고, 도 4 내지 도 9 는 각각 본 발명의 다양한 실시예를 보인 도면이다.Figure 3 is an exploded view showing the structure of the air knife according to the present invention, Figures 4 to 9 are views showing various embodiments of the present invention, respectively.

도 1을 참조하여 이미 설명한 바와 같이, 본 발명이 적용되는 화학기상증착 설비는 순환되는 벨트(2)를 이용하여 웨이퍼(WF)를 이송하면서 증착을 행하는 인라인 방식의 설비로서, 반응가스를 분사하는 인젝터 헤드(3a)가 배치된 다수개의 머플(3)을 보유하고 있으며, 그 하부로 웨이퍼(WF)를 이송하는 벨트(2)가 배치되고, 벨트(2)의 하부에는 히터(4)가 설치되어 침적에 적당한 온도를 조성할 수 있도록 되어 있으며, 상기 머플(3)의 주위로 반응가스의 분산을 방지하는 배플러(5)가 마련되어 있다.As described above with reference to FIG. 1, the chemical vapor deposition apparatus to which the present invention is applied is an inline apparatus for depositing while transporting a wafer WF using a belt 2 that is circulated. It holds a plurality of muffles 3 on which the injector head 3a is disposed, and a belt 2 for transferring the wafer WF is disposed under the injector head, and a heater 4 is installed under the belt 2. Thus, a temperature suitable for deposition can be formed, and a baffle 5 for preventing dispersion of the reaction gas around the muffle 3 is provided.

본 발명의 설비를 이용하여 웨이퍼(WF)에 박막을 형성하는 과정에서 벨트(2)에 침적, 형성되는 박막은 에치머플(6) 내에서 분사되는 HF 가스에 의해서 화학적으로 에칭되며, 에칭과정에서 벨트(2) 상에 남게 되는 파티클은 벨트(2)가 초음파탱크(8)를 통과하면서 제거된다. 상기 에치머플(6)의 주변에도 상기 HF 가스의 분산을 방지하기 위한 배플러(7)가 마련된다.In the process of forming a thin film on the wafer WF by using the apparatus of the present invention, the thin film deposited and formed on the belt 2 is chemically etched by HF gas injected in the etch muffle 6, and Particles remaining on the belt 2 are removed while the belt 2 passes through the ultrasonic tank 8. A baffle 7 is provided around the etch muffle 6 to prevent dispersion of the HF gas.

한편, 도 3 내지 도 9 에 도시한 본 발명의 에어 나이프(100)는 상기 초음파 탱크(8)를 통과하면서 벨트(2)에 묻은 수분을 제거하는 장치이며, 도 1 에서 종래의 에어나이프(10)가 설치되던 장소에 동일하게 적용된다.On the other hand, the air knife 100 of the present invention shown in Figures 3 to 9 is a device for removing moisture from the belt 2 while passing through the ultrasonic tank 8, the conventional air knife 10 in Figure 1 The same applies to the place where) was installed.

이하에서, 본 발명의 에어 나이프(100)에 대한 구조 및 특징을 상세히 설명 한다.Hereinafter, the structure and features of the air knife 100 of the present invention will be described in detail.

상기 에어 나이프(100)는 도 3 에 도시된 바와 같이, 벨트가 개재되도록 상하로 배치된 튜브(140a,140b) 및 상기 튜브(140a,140b)의 양단부를 고정하며 대향하는 매니폴드(120a,120b)로 구성된다.As shown in FIG. 3, the air knife 100 has a tube 140a, 140b disposed up and down so that a belt is interposed therebetween, and the manifolds 120a, 120b facing and fixing both ends of the tube 140a, 140b. It is composed of

상기 튜브(140a,140b)는 서로 마주하는 방향으로 수 많은 노즐(142)이 형성되어 있고, 상기 매니폴드(120a,120b)는 상기튜브(140a,140b)를 통해 각각에 형성된 노즐(142)로 연통된다.A plurality of nozzles 142 are formed in the tubes 140a and 140b facing each other, and the manifolds 120a and 120b are nozzles 142 formed through the tubes 140a and 140b, respectively. Communicating.

또, 상기 각각의 매니폴드(120a,120b)는 몸체의 소정 위치에 상기 두 개의 튜브(140a,140b)를 상하 배치한 상태에서 고정할 수 있도록 두 개의 소켓(124)이 각각 형성되어 상기 소켓(124)의 내부로 튜브(140a,140b)의 양측 단부가 삽입되도록하고 있다.In addition, each of the manifolds 120a and 120b may have two sockets 124 respectively formed to fix the two tubes 140a and 140b at a predetermined position of the body so that the two sockets 124 may be fixed. Both ends of the tubes 140a and 140b are inserted into the inside of the 124.

이러한 구조는 에어 나이프의 노즐(142)로 에어가 분출될 때에도 튜브(140a,140b)의 유동이 규제되므로, 종래의 에어 나이프(100)에서 발생하던 벨트(2)와의 마찰로 인한 튜브(140a,140b)의 마모를 방지할 수 있는 것이다.Since the flow of the tubes 140a and 140b is regulated even when the air is blown out to the nozzle 142 of the air knife, the tube 140a due to friction with the belt 2 generated in the conventional air knife 100 is prevented. 140b) can prevent wear.

상기 노즐(142)로 분출되는 에어는 가급적으로 고온의 것이 바람직하다.The air blown into the nozzle 142 is preferably high temperature.

또한, 상기 각각의 매니폴드(120a,120b)는 에어 공급부(16)으로부터 에어 공급 파이프(17)을 통하여 N2 혹은 에어, 또는 N2가 혼합된 에어를 공급받도록 구성되며, 매니폴드(120a,120b)의 내부에는 상기 에어 공급 파이프(17)를 튜브(140a,140b)의 노즐(142)로 연통시키도록 에어벤트(122)가 형성된다. 도면의 미설명 부호 152는 상기 에어 공급부(16)에 연결된 파이프를 상기 매니폴드(120a,120b)와 결합하기 위해 파이프측의 커플링(18)에 체결되는 결합부이다.In addition, each of the manifolds 120a and 120b is configured to receive N2 or air or air mixed with N2 from the air supply unit 16 through the air supply pipe 17. Inside the air vent 122 is formed to communicate the air supply pipe 17 to the nozzle 142 of the tubes (140a, 140b). Reference numeral 152 in the drawing is a coupling portion which is fastened to the coupling 18 on the pipe side to couple the pipe connected to the air supply 16 with the manifolds 120a and 120b.

이러한 기본 구성의 본 발명을 구체적으로 실현하는 방법은 다음의 여러 가지 실시예들로 달성될 수 있다.The method of concretely realizing the present invention having this basic configuration can be achieved in the following various embodiments.

먼저, 도 4 에 도시되어 있는 본 발명의 제 1 실시예는 상기 튜브(140a,140b)의 구조에 의해서 본 발명을 구현하며, 도 5에 도시되어 있는 본 발명의 제 2 실시예는 상기 매니폴드(120a,120b)의 구조에 의해서 본 발명을 구현한다.First, the first embodiment of the present invention shown in Figure 4 implements the present invention by the structure of the tube (140a, 140b), the second embodiment of the present invention shown in Figure 5 is the manifold The present invention is implemented by the structures 120a and 120b.

[제 1 실시예][First Embodiment]

도 4의 단면도에 도시되어 있는 바와 같이, 본 발명의 제 1 실시예에 의한 에어 나이프(100)는 두 개의 튜브(140a,140b)가 일측이 개방되며 타측이 폐쇄되는 구조를 이루어 서로 반대 방향으로 설치되는 구조이다. 여기에서, 상기 매니폴드(120a,120b) 당 두 개씩 형성되어 있는 소켓(124)은 모두 매니폴드(120a,120b) 내부의 에어벤트(122)로 연통된다.As shown in the cross-sectional view of Figure 4, the air knife 100 according to the first embodiment of the present invention has a structure in which two tubes 140a, 140b is open at one side and the other side is closed in the opposite direction It is a structure to be installed. Here, the two sockets 124 formed in each of the manifolds 120a and 120b communicate with the air vent 122 inside the manifolds 120a and 120b.

[제 2 실시예]Second Embodiment

도 5의 단면도에 도시되어 있는 바와 같이, 본 발명의 제 2 실시예에 의한 에어나이프(100)는 상기 두 개의 튜브(140a,140b)의 양측이 모두 개방되고, 상기 각각의 매니폴드(120a,120b)에 설치된 두 개의 소켓(124) 중 하나만 매니폴드내부의 에어벤트(122)와 연통되는 구조이며, 상기 두 매니폴드(120a,120b)를 비교하였을 때 상기 연통되는 소켓(124)은서로 상반되는 위치에 배치된다.As shown in the cross-sectional view of FIG. 5, in the air knife 100 according to the second embodiment of the present invention, both sides of the two tubes 140a and 140b are opened, and the respective manifolds 120a, Only one of the two sockets 124 installed in the 120b is in communication with the air vent 122 inside the manifold, and when the two manifolds 120a and 120b are compared, the communicating sockets 124 are opposite each other. Is placed in the position.

[제 3 실시예]Third Embodiment

한편, 본 발명의 제 3 실시예로 상기 제 1 실시예와 제 2 실시예를 복합적으로 접목하여 구현할 수도 있다.On the other hand, the third embodiment of the present invention may be implemented by combining the first embodiment and the second embodiment.

즉, 상기 튜브(140a,140b)들은 제 1 실시예와 같이 일측만을 개방시키고, 상기 매니폴드(120a,120b) 당 두 개씩 형성된소켓(124) 중, 제 2 실시예와 같이 하나의 소켓(124)으로만 매니폴드(120a,120b)의 에어벤트(122)가 연통되게 구성한 다음, 상기 튜브(140a,140b)를 개방된 방향이 서로 엇갈리게 배치하여 상기 소켓(124)에 삽입되게 한 구조에 의해서도 전술한 제 1 실시예 및 제 2 실시예와 동일하게 본 발명을 구현할 수 있다.That is, the tubes 140a and 140b open only one side as in the first embodiment, and one socket 124 as in the second embodiment of the sockets 124 formed in each of the two manifolds 120a and 120b. The air vents 122 of the manifolds 120a and 120b are configured to communicate with each other only, and then the tubes 140a and 140b are inserted into the sockets 124 by alternately opening directions. The present invention can be implemented in the same manner as in the first and second embodiments described above.

이와 같이 구성되는 본 발명의 제 1 내지 제 3 실시예의 작동은 동일하게 이루어진다.Operation of the first to third embodiments of the present invention configured as described above is performed in the same way.

즉, 어느 하나의 튜브에 의한 언밸런스한 에어 분출을 다른 튜브에 의한 역방향의 언밸런스한 에어 분출에 의해서 보상함으로써 벨트(2)의 일측에 종래와 같이 부분적으로 수분이 잔류하게 되는 것을 방지한다.That is, the unbalanced air jet by one tube is compensated for by the unbalanced air jet in the reverse direction by the other tube, thereby preventing partial moisture from remaining on one side of the belt 2 as in the prior art.

종래에는 벨트(2) 상에서 매니폴드(120a,120b)에 고정된 튜브(140a,140b)의 선단부와 대면하는 부분보다 튜브(140a,140b)의 종단부와 대면하는 부분의 수분 제거가 부족하였던 반면, 본 발명은 상보적으로 벨트(2)에 묻은 수분을 제거할 수 있어, 이어서 처리될 적외선 램프(9)에 의한 건조 효율을 향상시킬 수 있다.Conventionally, the water removal of the portions facing the ends of the tubes 140a and 140b was shorter than the portions facing the ends of the tubes 140a and 140b fixed to the manifolds 120a and 120b on the belt 2. The present invention can complementarily remove the moisture on the belt 2, thereby improving the drying efficiency by the infrared lamp 9 to be treated.

이는 벨트(2)의 한편에서 강하게 분출되는 에어에 의해 벨트(2)의 건너편에 와류를 강하게 형성하여 주기 때문이며, 이로인해 튜브(140a,140b)의 종단부에서 마주하는 벨트의 위치에서도 수분이 제거되는 작용이 종래에 비해 크게 되며, 이에따라서 벨트(2) 면에 대한 수분 제거의 균등화에 접근할 수 있게 되는 것이다.This is because the vortex is strongly formed on the opposite side of the belt 2 by the air strongly ejected from one side of the belt 2, thereby removing moisture even at the position of the belt facing the ends of the tubes 140a and 140b. The action is greater than in the prior art, thereby allowing access to the equalization of water removal on the belt 2 surface.

한편, 본 발명은 전술한 세가지의 실시예에 한정하지 않고 다음의 제 4 실시예로부터 제 8 실시예에 이르기까지 다양하게구현할 수 있다.Meanwhile, the present invention is not limited to the three embodiments described above, but can be variously implemented from the following fourth embodiment to the eighth embodiment.

[제 4 실시예][Example 4]

도 6 에 도시되어 있는 본 발명의 제 4 실시예는 매니폴드(120a,120b) 당 형성된 두 개의 소켓(124)으로 에어벤트(122)가 모두 연통된 경우에도, 상기의 소켓(124)마다 양측이 모두 개방된 튜브(140a,140b)를 결합하여 구성할 수 있다.In the fourth embodiment of the present invention shown in FIG. 6, the two sockets 124 formed per manifold 120a and 120b are connected to both sides of the sockets 124 even when all the air vents 122 are in communication. All of these can be configured by combining the open tube (140a, 140b).

이때에는 전술한 세가지 실시예와는 조금 다른 에어 분출 분포를 보이게 된다. 즉, 튜브(140a,140b)의 중간 부분에서 에어의 충돌이 발생하므로 튜브(140a,140b)의 중간부분에 위치하는 노즐(142)에서 좀더 큰 분출력이 나타나게 된다. 이렇게 분출된 에어는 벨트(2)의 양측으로 퍼지게 되므로 벨트(2)의 어느 한 부분에 수분이 잔류하는 것을 방지할 수 있다.At this time, the air jet distribution is slightly different from the above three embodiments. That is, since the collision of air occurs in the middle portion of the tubes (140a, 140b), a larger power output is shown in the nozzle 142 located in the middle portion of the tubes (140a, 140b). Air thus blown out is spread to both sides of the belt (2), it is possible to prevent the moisture from remaining in any part of the belt (2).

[제 5 실시예][Example 5]

한편, 도 7의 사시도에 도시되어 있는 바와 같이, 본 발명의 제 5 실시예에 의한 에어나이프(100)는 벨트(2)의 상부 및하부에 각각 두 개씩의 튜브(140a,140c)(140b,140d)를 설치하여 구성할 수 있다.On the other hand, as shown in the perspective view of Figure 7, the air knife 100 according to the fifth embodiment of the present invention, two tubes 140a, 140c, 140b, respectively, on the upper and lower portions of the belt (2), 140d) can be installed and configured.

상기 벨트(2)의 상부 및 하부에 각각 설치되는 두 개씩의 튜브(140a,140c)(140b,140d)는 서로 반대측 매니폴드(120a,120b)로부터 에어를 공급받도록 엇갈리게 배치 구성된다. 이는 전술한 제 1 실시예 및 제 2 실시예와 같이 튜브(140a,140b)의 성형 또는 매니폴드(120a,120b)의 에어벤트(122) 연결 구성에 의해서 구현할 수 있으며, 이는 도 4 및 도 5를 통한 앞서의 설명을 통하여 충분히 이해할 수 있는 내용이므로 이에 대한 더 이상의 설명은 생략한다.The two tubes 140a, 140c, 140b, 140d respectively installed on the upper and lower portions of the belt 2 are alternately arranged to receive air from the opposite manifolds 120a, 120b. This can be implemented by forming the tubes 140a and 140b or connecting the air vent 122 of the manifolds 120a and 120b as in the first and second embodiments described above, which are illustrated in FIGS. 4 and 5. Through the above description through the description that can be sufficiently understood that further description thereof will be omitted.

이러한 실시예의 구성에 따르면, 벨트(2)의 한측 면에서 균일한 수분 제거가 가능하여, 벨트(2) 전후면의 수분을 모두균일하게 제거하는데 더욱 바람직하며, 이는 앞서의 제 1 및 제 4 의 실시예에 비해 더욱 양호한 효과를 얻을 수 있다.According to the configuration of this embodiment, it is possible to uniformly remove water on one side of the belt 2, which is more preferable to uniformly remove all of the water on the front and back of the belt 2, which is the first and fourth Better effects can be obtained compared to the examples.

[제 6 실시예][Example 6]

한편, 본 발명을 구현하는 제 6 실시예는 도 8 에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 실시예 내지 제 3 실시예의 구조와 동일하되, 튜브(140a,140b)에 형성된 노즐(142)의 직경(d)을 에어벤트(122)와 연결된 선단부에서 작게 하고 종단부로 갈수록점진적으로 크게 형성함으로써, 벨트(2)에 분출되는 에어의 압력 분포를 균일하게 할 수 있다.Meanwhile, as shown in FIG. 8, the sixth embodiment of the present invention has the same structure as that of the first to third embodiments, but the diameter of the nozzle 142 formed in the tubes 140a and 140b ( d) is made smaller at the front end connected to the air vent 122 and gradually increased toward the end, whereby the pressure distribution of the air blown out to the belt 2 can be made uniform.

[제 7 실시예][Seventh Embodiment]

아울러, 본 발명을 구현하는 제 7 실시예는 도 9 에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 실시예 내지 제 3 실시예의 구조와 동일하되, 튜브(140a,140b)에 형성된 노즐(142)간의 피치(p)를 에어벤트(122)와 연통된 선단부에서 크게 하고 종단부로 갈수록 점진적으로 작게 형성함으로써 벨트(2)에 분출되는 에어의 밀도의 분포를 균일하게 할 수 있다.In addition, the seventh embodiment of the present invention is the same as the structure of the first to third embodiments, as shown in Figure 9, the pitch between the nozzles 142 formed in the tubes (140a, 140b) ( It is possible to make uniform the distribution of the density of the air blown out on the belt 2 by making p) larger at the distal end communicating with the air vent 122 and gradually smaller toward the distal end.

이러한 구조로 구현되는 본 발명의 제 6 실시예 및 제 7 실시예에서는 상기 제 5 실시예와 같이 벨트(2)의 양측면 각각에균일한 수분 제거를 실현할 수 있으면서도 구조의 간소화를 도모할 수 있다.In the sixth and seventh embodiments of the present invention implemented in such a structure, as shown in the fifth embodiment, uniform water removal can be realized on each of both sides of the belt 2, and the structure can be simplified.

[제 8 실시예][Example 8]

한편, 본 발명의 실시예에서 언급된 기술적 특징을 종래의 구성에 적용하여 본 발명의 목적인 수분의 균일 제거를 실현할수 있다.On the other hand, by applying the technical features mentioned in the embodiment of the present invention to the conventional configuration it is possible to realize the uniform removal of water, which is the object of the present invention.

즉, 본 발명의 제 8 실시예서는, 도 2 에 도시한 종래의 에어 나이프와 같이 하나의 매니폴드(12)만으로 구성하면서도, 상기 제 6 실시예와 제 7 실시예와 같이 튜브(140a,140b) 상에 형성되는 노즐(142)의 직경(d) 또는 노즐(142)간의 피치(p)를 다르게 하여 구성함으로써, 벨트(2)에 묻은 수분을 균일하게 제거할 수도 있다.That is, in the eighth embodiment of the present invention, as in the conventional air knife shown in Fig. 2, only one manifold 12 is formed, but the tubes 140a and 140b are similar to the sixth and seventh embodiments. By varying the diameter (d) of the nozzle 142 or the pitch (p) between the nozzles 142 formed on the ()), it is possible to evenly remove the moisture on the belt (2).

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은 개선된 화학기상증착 설비의 에어 나이프를 제공함으로써 적어도 다음의 두가지 효과를 기대할 수 있다.As described above, the present invention can expect at least the following two effects by providing an air knife of an improved chemical vapor deposition apparatus.

첫째, 화학기상증착시 벨트에 침적된 막을 제거하는 과정에서 벨트에 묻은 수분을 종래보다 더욱 효과적으로 제거할 수있게 되므로, 다음에 벨트에 운반되어 처리되는 웨이퍼의 오염을 방지하여 수율을 향상시킬 수 있다.First, in the process of removing the film deposited on the belt during chemical vapor deposition it is possible to more effectively remove the moisture on the belt than in the past, thereby improving the yield by preventing the contamination of the wafer to be transported on the belt next processing. .

둘째, 노즐을 통해 에어를 분사할 때에도 튜브가 유동되지 않는 고정된 구조를 제공하여 벨트와의 마찰로 인한 튜브의 마모를 방지하고 에어 나이프의 수명을 연장할 수 있다.Second, it provides a fixed structure in which the tube does not flow even when the air is injected through the nozzle to prevent wear of the tube due to friction with the belt and to extend the life of the air knife.

한편, 본 발명은 특정의 바람직한 실시예에 국한하지 않고 청구범위에 기재된 기술적 권리 내에서는 당업계의 통상적인지식에 의하여 다양한 응용이 가능함은 물론이다.On the other hand, the present invention is not limited to the specific preferred embodiment, it is a matter of course that various applications are possible by the common knowledge in the art within the technical rights described in the claims.

즉, 화학기상증착 설비 뿐 아니라 에어를 분사하는 모든 구조물이나 부품에도 응용될 수 있다.In other words, it can be applied to all structures or parts that spray air as well as chemical vapor deposition equipment.

Claims

In the air knife used to remove the moisture on the belt in the process of removing the foreign matter deposited on the wafer transfer belt during the chemical vapor deposition process, two air manifolds for receiving and distributing air, the two manifolds And a socket formed in the manifold to hold the tube, the tube being interposed therebetween and having a plurality of nozzles for injecting air into the belt, the tube being in communication with each other between the two manifolds. An air knife of a chemical vapor deposition apparatus having a dog, wherein the tubes are arranged in a mutually intersecting structure on the upper and lower portions of the belt, respectively.

According to claim 1, wherein the tube is open one side is in communication with the nozzle and the other side is a structure that is closed, the diameter of the nozzle is characterized in that the progressively larger as it reaches the end portion from the front end to which air is introduced Air knives of chemical vapor deposition facilities.

The method of claim 1, wherein the one side of the tube is open to communicate with the nozzle and the other side is a structure that is closed, the pitch between the nozzle is characterized in that the progressively smaller toward the end portion from the front end portion in which air is introduced Air knives of chemical vapor deposition facilities.

An air knife used to remove moisture deposited on a belt in a process of removing foreign matter deposited on a wafer transfer belt during a chemical vapor deposition process, the air knife comprising: at least one manifold for receiving and distributing air, and the belt between And two tubes arranged above and below the belt, wherein each of the two tubes comprises a tube having a structure in which a plurality of nozzles are formed to inject air in a direction facing each other, and the diameter of the nozzle is Air knife of the chemical vapor deposition equipment, characterized in that formed gradually progressively from the leading end to the end.

An air knife used to remove moisture deposited on a belt in a process of removing foreign matter deposited on a wafer transfer belt during a chemical vapor deposition process, the air knife comprising: at least one manifold for receiving and distributing air, and the belt between It is provided with two arranged above and below the belt, each of the two is composed of a tube of a structure formed with a plurality of nozzles to inject air in a direction facing each other, the pitch between the nozzles is terminated at the front end portion where air is introduced Air knife of the chemical vapor deposition equipment, characterized in that formed gradually smaller as the part reaches.