KR100289951B1 - Spirobenzopyran group-containing polymers, preparation methods thereof, and photochromic switch thin films using the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 화학식 1 로 표시되는 불포화 말단기를 가지는 스피로벤조피란기-함유 단량체 및 불포화 관능기를 갖는 지방족 및/또는 방향족 공단량체로부터 제조되는 스피로벤조피란기-함유 중합체, 이의 제조방법, 이를 이용한 광호변성 박막, 그리고 광호변성 스위치 소자에 관한 것이다. 본 발명에 따르면 기계적 특성이 우수하고 상온에서 빠른 광호변성 스위치 특성을 나타내는 중합체가 제공되며 스위치 소자의 광호변성 박막의 제조방법이 제공되며, 이들은 광호변성을 이용하는 다양한 영역의 물품, 예를들면 광스위치, 광호변성 필터, 광안정제, 위조 방지 지폐나 카드, 표시 소자, 또는 광학 기록 매체, 광집적 소자에서의 용도로도 유용하다.The present invention provides a spiro benzopyran group-containing polymer prepared from a spiro benzopyran group-containing monomer having an unsaturated end group represented by the general formula (1) and an aliphatic and / or aromatic comonomer having an unsaturated functional group, a method for preparing the same, Gwangho using the same A modified thin film and a photochromic switch element. According to the present invention, a polymer having excellent mechanical properties and exhibiting fast photochromic switch characteristics at room temperature is provided, and a method of manufacturing a photochromic thin film of a switch element is provided, and these can be used in various areas of an article such as an optical switch using photochromic properties. It is also useful for use in photochromic filters, light stabilizers, anti-counterfeiting banknotes and cards, display elements, optical recording media, and optical integrated elements.

[화학식1][Formula 1]

[상기식에서, R1은, 탄소수 1 ∼ 22 의 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알케닐기, 또는 페닐 또는 페닐알킬기를 나타내고, 여기서 전술한 알킬, 알케닐 및 페닐기들은 히드록시, 플루오라이드 등의 할라이드, 글리시독시, 아민, 비닐, 에폭시, (메트)아크릴, 아미노 또는 메르캅토 등의 관능기로 치환되어 있을 수도 있으며;[Wherein, R 1 represents a linear or branched alkyl or alkenyl group having 1 to 22 carbon atoms, or a phenyl or phenylalkyl group, wherein the alkyl, alkenyl and phenyl groups described above are halides such as hydroxy, fluoride, glycidone It may be substituted by functional groups, such as ci, amine, vinyl, epoxy, (meth) acryl, amino, or mercapto;

R2및 R3는 각각 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 치환된 아미노기, 니트로기, 탄소수 1 ∼ 10 의 치환가능한 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알콕시기를 나타내며;R 2 and R 3 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a substituted amino group, a nitro group, a substituted or straight chain or branched alkyl or alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms;

R4는 탄소수 1 ∼ 22 의 치환가능한 알킬렌 또는 알킬렌옥시기로서 탄소 사슬 내에 산소, 황, 질소 등으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로원자들을 포함할 수 있고, 전술한 알킬렌 부위는 탄소수 1 내지 6 의 알킬, 알케닐, 히드록시, 플루오라이드 등의 할라이드, 글리시독시, 아민, 비닐, 에폭시, (메트)아크릴, 아미노 또는 메르캅토 등에서 선택된 치환기를 하나 이상 가질 수도 있으며;R 4 is a substituted or alkylene or alkyleneoxy group having 1 to 22 carbon atoms and may include one or more heteroatoms selected from oxygen, sulfur, nitrogen, etc. in the carbon chain, and the aforementioned alkylene moiety is alkyl having 1 to 6 carbon atoms. May have one or more substituents selected from halides such as alkenyl, hydroxy, fluoride, glycidoxy, amine, vinyl, epoxy, (meth) acrylic, amino or mercapto;

Z 는 하나 이상의 불포화도를 갖는 기로서, 예를들면 비닐기 및 (메트)아크릴기를 나타내고;Z is a group having at least one degree of unsaturation, for example a vinyl group and a (meth) acryl group;

X 는 2가의 연결기로서 -CO-, -S-, -SO2-, -C≡C-, -O-, -C(R6)2-, -C(R6)=C(R6)-, -N=N- 또는 -NR6- 등을 나타내는데, 식에서의 R6은 상기 정의된 R1, R2및 R3에 대해 정의된 치환기들에서 각각 독립적으로 선택된다].X is a divalent linking group -CO-, -S-, -SO 2- , -C≡C-, -O-, -C (R 6 ) 2- , -C (R 6 ) = C (R 6 ) -, -N = N- or -NR 6 -and the like, wherein R 6 in the formula is each independently selected from the substituents defined for R 1 , R 2 and R 3 as defined above].

Description

스피로벤조피란기-함유 중합체, 이의 제조방법, 및 이를 이용한 광호변성 스위치 박막Spirobenzopyran group-containing polymers, preparation methods thereof, and photochromic switch thin films using the same

본 발명은 광호변성 속도가 빠르고, 열안정성이 있으며, 가공성이 우수한 스피로벤조피란기-함유 중합체, 이의 제조방법 및 이를 이용한 광호변성 스위치 박막에 관한 것이다.The present invention relates to a spiro benzopyran group-containing polymer having a fast photochromic speed, thermal stability, and excellent processability, a method for preparing the same, and a photochromic switch thin film using the same.

광호변성은 자외선 (예를 들면, 햇빛 또는 수은 등 광선 중의 자외선 또는 레이저 광)을 포함하는 광선에 노출될 때 색이 변하고, 이어서 광을 중단하거나 또 다른 파장의 광을 조사하거나 또는 열에 의해서 화합물의 본래의 색으로 되돌아 오는 화합물에 의해 나타나는 가역적 현상이다.Photochromatism changes color when exposed to light rays that include ultraviolet light (e.g., ultraviolet light or ultraviolet light in sunlight or mercury light, etc.), and then stops the light, irradiates another wavelength of light, or It is a reversible phenomenon exhibited by a compound that returns to its original color.

이에따라 광호변성을 나타내는 특정의 벤조피란 및 나프토피란을 비롯한 일련의 피란 유도체 (미합중국 특허 제3,567,605호, US 5,238,981), 스피로아다만탄 기가 벤조피란 또는 나프토피란 고리의 2-위치에 결합된 일련의 광호변성 스피로피란유도체 (유럽 특허 공개 제246,114호, 유럽 특허 공개 제250,193호), 스피로옥사진 화합물(일본특허 평 3-81278, 특허공보 92-8620, EP 0432 841 A2, EP 0600 669 A1, EP 0600 688 A1등)이 알려져 있다.A series of pyran derivatives (US Pat. No. 3,567,605, US 5,238,981), including certain benzopyrans and naphthopyrans, thus exhibiting photochromatility, a series of spiroadamantane groups bound to the 2-position of the benzopyran or naphthopyran ring Of photochromic spiropyran derivatives (European Patent Publication No. 246,114, European Patent Publication No. 250,193), Spirooxazine Compounds (Japanese Patent Publication No. 3-81278, Patent Publication 92-8620, EP 0432 841 A2, EP 0600 669 A1, EP 0600 688 A1, etc. are known.

또한, 상기 언급한 문헌에 개시된 화합물의 광호변성을 이용한 여러 가지 응용예가 알려져 있다. 예를 들어 유럽 특허 공개 제246,114호의 광변호성 스피로피란이 피복되거나 함침된 광반응성 플라스틱 렌즈가 기재되어 있고, 유럽특허 0442 166 A1 에는 조명계, 조명 장치 등이 기재되어 있으며, 그외에도 보안 카드 (WO 90/06539), 광스위치(K. Sasaki, T. Nagamura, Appl. Phys. Lett., 1997, 71, 4, 434), 광호변성 유리 (H. Nakazumi, R. Nagashiro, S. Matsumoto, K. Isagawa, SPIE, vol 2288, sol-gel optics, III, 1994, 402), 기록매체 (Optical Engineering, 1995, 34, 480) 등의 응용이 알려져 있다.In addition, various applications are known which utilize the photochromatility of the compounds disclosed in the aforementioned documents. For example, a photoreactive plastic lens coated or impregnated with photo-variable spiropyran of European Patent Publication No. 246,114 is described, and European Patent 0442 166 A1 describes an illumination system, a lighting device, and the like, and a security card (WO 90). / 06539), optical switch (K. Sasaki, T. Nagamura, Appl. Phys. Lett., 1997, 71, 4, 434), photochromic glass (H. Nakazumi, R. Nagashiro, S. Matsumoto, K. Isagawa , SPIE, vol 2288, sol-gel optics, III, 1994, 402), recording media (Optical Engineering, 1995, 34, 480).

이 중 스피로벤조피란 골격을 갖는 화합물들은 스피로옥사진 유형의 화합물에 비해 합성이 간단한 장점을 가지고 있다. 공지의 화합물로는 니트로기, 술폰산기, 히드록시기 등이 치환되어 있는 스피로벤조피란 화합물 (JP 03 20,626, JP 02,264,246, JP 04,116,545, JP 04,116,546, EP 0414 476 A1, EP 0483 542 A1, EP 0502 506 A1, 등)이 있다.Among them, compounds having a spirobenzopyran skeleton have an advantage of simple synthesis compared to a spirooxazine type compound. Known compounds include spirobenzopyran compounds in which nitro groups, sulfonic acid groups, hydroxy groups and the like are substituted (JP 03 20,626, JP 02,264,246, JP 04,116,545, JP 04,116,546, EP 0414 476 A1, EP 0483 542 A1, EP 0502 506 A1, Etc.).

그러나 스피로벤조피란 골격을 갖는 기존의 스피로벤조피란 화합물로부터 유래하는 단위들을 포함하는 고분자 수지를 이용하여 제조한 박막들은 100 ℃ 이상에서 분해되는 문제를 가지고 있고 또한 광착색후 회합체가 생겨 광호변성 속도를 느리게 하는 문제를 가지고 있다 (Polymer, 1987, Vol 28, 1959, H. Eckhardt, A. Bose, V. A. Krongauz). 이러한 문제들은 광 호변 후 보존 안정성 및 광안정성이 떨어진다는 단점을 야기한다.However, thin films prepared using polymer resins containing units derived from existing spirobenzopyran compounds having a spirobenzopyran skeleton have a problem of decomposing at 100 ° C. or higher, and also after the photo-pigmentation, an association is formed, resulting in the photochromatism rate. (Polymer, 1987, Vol 28, 1959, H. Eckhardt, A. Bose, VA Krongauz). These problems lead to the disadvantages of poor storage stability and light stability after optical tautomerisation.

스피로벤조피란 또는 옥사진 유형의 화합물을 이용한 광호변성 렌즈를 제조하는 방법이 미국특허 (US Patent 4,637,698)에 기재되어 있으나 이 경우 역시 고분자 매트릭스에 단분자인 스피로옥사진이 분산되거나 녹아 있는 형태로서 스피로옥사진 화합물과 고분자 매트릭스 사이에 화학적 결합이 없어서 매트릭스 고분자와 광호변성 단분자 사이의 상분리 문제가 일어날 수 있으며, 광 호변 후, 단분자들이 멜로시아닌으로 될 때 응집 현상이 일어나 고분자 매트릭스를 결정화시킨다는 단점이 있다. 또한, 이로인해 장시간 사용후에는 보존 안정성 및 광호변성이 열화된다는 문제점이 발생한다.A method of manufacturing a photochromic lens using a spirobenzopyran or an oxazine type compound is described in US Patent (US Patent 4,637,698), but in this case, the spirooxazine, which is a single molecule, is dispersed or dissolved in a polymer matrix. The lack of chemical bonds between the oxazine compound and the polymer matrix can lead to phase separation problems between the matrix polymer and the photochromic monomolecules, and after the photochromoic, agglomeration occurs when the single molecules become merocyanine to crystallize the polymer matrix. There are disadvantages. In addition, there arises a problem that the storage stability and optical thixotropy deteriorate after a long time use.

또한 알킬카르보닐기, 알킬 술포닐기, 할로겐기, 아미노기로 치환된 스피로벤조피란이 알려져 있으나 (JP 05,181,227), 이들 화합물을 광호변성 속도가 느리거나 열안정이 낮다는 문제점이 있다.In addition, spirobenzopyrans substituted with an alkylcarbonyl group, an alkyl sulfonyl group, a halogen group, and an amino group are known (JP 05,181,227), but these compounds have a problem of slow photochromicity or low thermal stability.

이에따라 스피로벤조피란이 고분자 매트릭스에 화학적 결합을 통해 결합시키는 방법이 제안되었다. 그 중, N-치환된 스피로피란 고분자(Macromolecules, 1984, 17, 1876 와 Macromolecules, 1984, 17, 1225, Macromolecules, 1981, 14, 1382) 가 알려져 있으나, 이 경우에는 광호변성 후에 고분자 사슬들이 부분적으로 충전되거나, 6-위치의 니트로기로인해 열안정성이 떨어진다는 문제점이 있다. N-치환된 스피로옥사진 고분자 (Macromolecules, 1992, 25, 3129)의 경우 광호변성 속도를 빠르게 하는데 한계가 있다.Accordingly, a method has been proposed in which spirobenzopyran binds to a polymer matrix through chemical bonding. Among them, N-substituted spiropyran polymers (Macromolecules, 1984, 17, 1876 and Macromolecules, 1984, 17, 1225, Macromolecules, 1981, 14, 1382) are known, but in this case, the polymer chains are partially partially after photochromatility. There is a problem that the thermal stability is poor due to the filling or 6-position nitro group. N-substituted spirooxazine polymers (Macromolecules, 1992, 25, 3129) are limited in speeding up photochromatism.

이러한 문제점들을 해결하기 위하여, 본 발명자들은 열적으로 안정하고, 상분리나 회합체 생성의 문제가 없으며, 빠른 광호변성 특성을 보이는 스피로벤조피란기-함유 중합체에 대해 광범위하게 연구하였으며, 그 결과, 하기 화학식 1 과 같이 스피로벤조피란 골격의 6-위치에 -X-Bz-R4-Z 기 (식중, X 는 2가의 연결기를 나타내고, Bz는 R3로 치환된 벤젠 고리를 나타내고, R4는 2가 연결기, Z 는 불포화 말단기를 나타냄)로 치환된 스피로벤조피란 화합물이 빠른 광호변성 속도 및 우수한 열안정성을 나타냄을 발견하였으며, 이러한 스피로벤조피란 화합물들 중에서 불포화 말단기를 가지는 스피로벤조피란 화합물을 단량체로서 이용하여 제조한 중합체가 빠른 광호변성 속도, 우수한 열안정성 및 가공성을 나타낼 뿐만 아니라, 이렇게 제조된 중합체를 유기용매에 용해시킨 용액으로부터 또한 빠른 광호변성 속도 및 우수한 열안정성을 가지는 광호변성 스위치 박막을 용이하게 제조할 수 있음을 발견하고 본 발명을 완성하게 되었다.In order to solve these problems, the present inventors have studied extensively on spirobenzopyran group-containing polymers that are thermally stable, have no problems of phase separation or association formation, and exhibit fast photochromic properties. 1 and spiro-benzopyran-Bz -X-R 4 -Z in the 6-position of the skeleton, such group (wherein, X is a divalent connecting group, Bz represents a benzene ring substituted with R 3, R 4 is a divalent Spiro benzopyran compound substituted with a linking group, Z represents an unsaturated end group) showed a fast photochromic rate and excellent thermal stability, and among these spirobenzopyran compounds a spiro benzopyran compound having an unsaturated end group Not only do the polymers prepared as a polymer exhibit fast photochromicity rate, excellent thermal stability and processability, but also It found that it can also easily manufacture a photochromic switch thin film having a fast photochromic speed and excellent thermal stability from a solution obtained by dissolving the sheet and thereby completing the present invention.

도 1 은 참고예 1 에서 제조된 스피로벤조피란 화합물을 CDCl3에 녹인 후 측정한1H-NMR 스펙트럼이고,1 is a 1 H-NMR spectrum measured after dissolving the spirobenzopyran compound prepared in Reference Example 1 in CDCl 3 ,

도 2 는 참고예 1 에서 제조된 스피로벤조피란 화합물의 열에 대한 무게의 감소를 나타내는 TGA 를 보여주는 도면이고,2 is a view showing a TGA showing a weight loss with respect to the heat of the spirobenzopyran compound prepared in Reference Example 1,

도 3 은 실시예 1 에서 제조된 스피로벤조피란 중합체를 CDCl3에 녹인 후 측정한1H-NMR 스펙트럼이고,3 is a 1 H-NMR spectrum measured after dissolving the spirobenzopyran polymer prepared in Example 1 in CDCl 3 ,

도 4 는 실시예 1 에서 제조된 스피로벤조피란 중합체의 적외선 흡수 스펙트럼이고,4 is an infrared absorption spectrum of the spirobenzopyran polymer prepared in Example 1,

도 5 는 실시예 4 에서 제조된 중합체의 TGA 를 보여주는 도면이고,5 is a view showing a TGA of a polymer prepared in Example 4,

도 6 은 실시예 7 에서 제조된 박막에 340 nm 의 단파장을 조사할 때 나타나는 분광 흡수 스펙트럼의 변화 (광조사 시간, 밑에서부터 위로, 1초, 49초, 1분 37초, 3분 4초, 4분 46초, 6분 23초)를 보여주는 도면이고,FIG. 6 shows changes in the spectral absorption spectrum of the thin film prepared in Example 7 when irradiated with short wavelength of 340 nm (light irradiation time, from top to bottom, 1 second, 49 seconds, 1 minute 37 seconds, 3 minutes 4 seconds, 4 minutes 46 seconds, 6 minutes 23 seconds)

도 7 은 실시예 7 에서 제조된 박막의 340 nm 의 단파장에 대한 광스위치 효과를 보여주는 도면이다.7 is a view showing an optical switch effect on the short wavelength of 340 nm of the thin film prepared in Example 7.

따라서 본 발명의 첫 번째 목적은 하기 화학식 1 로 나타내는 스피로벤조피란 화합물로부터 유래된 단위를 포함하는 중합체를 제공하는 것이다.Accordingly, a first object of the present invention is to provide a polymer comprising a unit derived from a spirobenzopyran compound represented by the following formula (1).

본 발명의 두 번째 목적은 스피로벤조피란기-함유 중합체의 제조방법을 제공하는 것이다.It is a second object of the present invention to provide a process for preparing a spirobenzopyran group-containing polymer.

본 발명의 세 번째 목적은 스피로벤조피란기-함유 중합체를 포함하는 중합체 조성물을 제공하는 것이다.It is a third object of the present invention to provide a polymer composition comprising a spirobenzopyran group-containing polymer.

본 발명의 네 번째 목적은 스피로벤조피란기-함유 중합체를 포함하는 중합체 박막을 제공하는 것이다.It is a fourth object of the present invention to provide a polymer thin film comprising a spirobenzopyran group-containing polymer.

본 발명의 다섯 번째 목적은 스피로벤조피란기-함유 중합체를 포함하는 물품을 제공하는 것이다.It is a fifth object of the present invention to provide an article comprising a spirobenzopyran group-containing polymer.

이하에 본 발명에 대하여 상세히 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, this invention is demonstrated in detail.

본 발명에 따른 스피로벤조피란기-함유 중합체는, 하기 화학식 1 의 스피로벤조피란 유도체로부터 유래하는 단위를 중합체 사슬 내에 포함하거나 화학적 결합에 의해 중합체 사슬에 부착하고 있는 중합체를 의미한다. 본 발명에서 사용되는 화학식 1 의 스피로벤조피란 유도체는 스피로벤조피란 골격의 6-위치에 X-Bz-R4-Z로 치환되고 그 말단인 -Z 기가 하나 이상의 불포화도를 갖는 관능기임을 특징으로 한다.The spiro benzopyran group-containing polymer according to the present invention means a polymer containing units derived from a spirobenzopyran derivative of the general formula (1) in the polymer chain or attached to the polymer chain by chemical bonding. The spiro benzopyran derivatives of the general formula (1) used in the present invention are characterized in that the -Z group, which is substituted at the 6-position of the spirobenzopyran skeleton with X-Bz-R 4 -Z and the terminal -Z group has at least one degree of unsaturation.

[화학식 1][Formula 1]

[상기식에서, R1은, 탄소수 1 ∼ 22 의 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알케닐기, 또는 페닐 또는 페닐알킬기를 나타내고, 여기서 전술한 알킬, 알케닐 및 페닐기들은 히드록시, 플루오라이드 등의 할라이드, 글리시독시, 아민, 비닐, 에폭시, (메트)아크릴, 아미노 또는 메르캅토 등의 관능기로 치환되어 있을 수도 있으며;[Wherein, R 1 represents a linear or branched alkyl or alkenyl group having 1 to 22 carbon atoms, or a phenyl or phenylalkyl group, wherein the alkyl, alkenyl and phenyl groups described above are halides such as hydroxy, fluoride, glycidone It may be substituted by functional groups, such as ci, amine, vinyl, epoxy, (meth) acryl, amino, or mercapto;

R2및 R3는 각각 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 치환된 아미노기, 니트로기, 탄소수 1 ∼ 10 의 치환가능한 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알콕시기를 나타내며;R 2 and R 3 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a substituted amino group, a nitro group, a substituted or straight chain or branched alkyl or alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms;

R4는 탄소수 1 ∼ 22 의 치환가능한 알킬렌 또는 알킬렌옥시기로서 탄소사슬 내에 산소, 황, 질소 등으로부터 선택된 하나 이상의 헤테로원자들을 포함할 수 있고, 전술한 알킬렌 부위는 탄소수 1 내지 6 의 알킬, 알케닐, 히드록시, 플루오라이드 등의 할라이드, 글리시독시, 아민, 비닐, 에폭시, (메트)아크릴, 아미노 또는 메르캅토 등에서 선택된 치환기를 하나 이상 가질 수도 있으며;R 4 is a substituted or alkylene or alkyleneoxy group having 1 to 22 carbon atoms and may include one or more heteroatoms selected from oxygen, sulfur, nitrogen and the like in the carbon chain, and the aforementioned alkylene moiety is alkyl having 1 to 6 carbon atoms. May have one or more substituents selected from halides such as alkenyl, hydroxy, fluoride, glycidoxy, amine, vinyl, epoxy, (meth) acrylic, amino or mercapto;

Z 는 하나 이상의 불포화도를 갖는 기로서, 예를들면 비닐기 및 (메트)아크릴기를 나타내고;Z is a group having at least one degree of unsaturation, for example a vinyl group and a (meth) acryl group;

X 는 2가의 연결기로서 -CO-, -S-, -SO2-, -C≡C-, -O-, -C(R6)2-, -C(R6)=C(R6)-, -N=N- 또는 -NR6- 등을 나타내는데, 식중에서 R6은 상기 정의된 R1, R2및 R3에 대해 정의된 치환기들에서 각각 독립적으로 선택된다].X is a divalent linking group -CO-, -S-, -SO 2- , -C≡C-, -O-, -C (R 6 ) 2- , -C (R 6 ) = C (R 6 ) -, -N = N- or -NR 6 -and the like, wherein R 6 is each independently selected from the substituents defined for R 1 , R 2 and R 3 as defined above].

화학식 1 의 스피로벤조피란 유도체 및 그 제조방법은 본 발명자들에 의한 1998년 5월 20일자 한국특허출원의 명세서에 기재되어 있으며, 여기에 참고로 혼입되어 있다. 본 발명자들에 의한 전술한 한국특허출원에 따르면, 상기 화학식 1 의 스피로벤조피란 유도체는, 치환된 살리실산 알데히드와 치환된 인돌린으로부터 제조될 수 있는데, 그 한 예로서, 6-[4"-(6'''-(메타아크릴옥시헥실옥시페닐카르보닐)-1',3',3'-트리메틸스피로[2H-1-벤조피란-2,2'-인돌린]은 6-((히드록시헥실옥시페닐카르보닐)-1',3',3'-트리메틸스피로[2H-1-벤조피란-2,2'-인돌린]과 메타아크릴클로리드로부터 촉매 존재하에 상온에서 반응시켜 제조될 수 있다. 상기 합성된 스피로벤조피란 화합물의1H-NMR (CDCl3) 스펙트럼은, 도 1 에서 보는 바와 같이, 스피로벤조피란 고리의 특징적인 피크 및 불포화 말단기로서 메타아크릴 단위의 특징적인 피이크를 보여주고 있다. 또한 상기 스피로벤조피란 화합물의 열적 안정성에 대해서는, 도 2에서 보는 바와 같이, 열에 대한 무게감소를 나타내는 TGA 로부터 분해시작온도가 226 ℃ 이상이라는 것으로부터 그의 열안정성이 매우 우수함을 알 수 있다.Spirobenzopyran derivatives of formula (1) and methods for their preparation are described in the specification of the Korean patent application dated May 20, 1998 by the present inventors, and are incorporated herein by reference. According to the aforementioned Korean patent application by the present inventors, the spirobenzopyran derivative of Formula 1 may be prepared from substituted salicylic acid aldehyde and substituted indolin, and as an example, 6- [4 "-( 6 '''-(methacryloxyhexyloxyphenylcarbonyl)-1', 3 ', 3'-trimethylspiro [2H-1-benzopyran-2,2'-indolin] is 6-((hydroxy Hexyloxyphenylcarbonyl) -1 ', 3', 3'-trimethylspiro [2H-1-benzopyran-2,2'-indolin] can be prepared by reacting methacrylic chloride at room temperature in the presence of a catalyst. The 1 H-NMR (CDCl 3 ) spectrum of the synthesized spirobenzopyran compound shows characteristic peaks of the methacryl unit as the characteristic peaks and unsaturated end groups of the spirobenzopyran ring, as shown in FIG. 1. In addition, as for the thermal stability of the spirobenzopyran compound, as shown in Figure 2, From the TGA showing the weight loss, the thermal stability is very excellent from the decomposition start temperature of 226 ° C or higher.

상기 화학식들에서, 치환 또는 비치환된 직쇄 또는 측쇄 알킬기의 예로는 탄화수소기, 예컨대, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, 1,2-디메틸프로필기, n-헥실기, 시클로헥실기, 1,3-디메틸부틸기, 1-이소프로필프로필기, 1,2-디메틸부틸기, n-헵틸기, 1,4-디메틸펜틸기, 2-메틸-1-이소프로필프로필기, 1-에틸-3-메틸부틸기, n-옥틸기, 2-에틸헥실기, 3-메틸-1-이소프로필부틸기, 2-메틸-1-이소프로필부틸기, 1-t-부틸-2-메틸프로필기 및 n-노닐기 등; 알콕시알킬기, 예컨대 메톡시메틸기, 메톡시에틸기, 에톡시에틸기, 프로폭시에틸기, 부톡시에틸기, 메톡시에톡시에틸기, 에톡시에톡시에틸기, 디메톡시메틸기, 디에톡시메틸기, 디메톡시에틸기 및 디에톡시에틸기 등; 및 할로겐화알킬기, 예컨대 클로로메틸기, 2,2,2-트리클로로에틸기, 트리플루오로메틸기, 1,1,1,3,3,3-헥사플루오로-2-프로필기 등을 들 수 있다.In the above formulas, examples of the substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group include hydrocarbon groups such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, t -Butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1,2-dimethylpropyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, 1,3-dimethylbutyl group, 1-isopropylpropyl group, 1 , 2-dimethylbutyl group, n-heptyl group, 1,4-dimethylpentyl group, 2-methyl-1-isopropylpropyl group, 1-ethyl-3-methylbutyl group, n-octyl group, 2-ethylhex Real groups, 3-methyl-1-isopropylbutyl groups, 2-methyl-1-isopropylbutyl groups, 1-t-butyl-2-methylpropyl groups and n-nonyl groups; Alkoxyalkyl groups such as methoxymethyl group, methoxyethyl group, ethoxyethyl group, propoxyethyl group, butoxyethyl group, methoxyethoxyethyl group, ethoxyethoxyethyl group, dimethoxymethyl group, diethoxymethyl group, dimethoxyethyl group and diethoxy An ethyl group; And halogenated alkyl groups such as chloromethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, trifluoromethyl group, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propyl group and the like.

본 발명에 따른 상기 화학식들에서, 치환 또는 비치환된 알킬렌기의 예로는 상기 치환 또는 비치환된 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 위한 예로서 주어진 것들에 대응하는 것들을 언급할 수 있다.In the above formulas according to the present invention, examples of substituted or unsubstituted alkylene groups may refer to those corresponding to those given as examples for the substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group.

본 발명에 따른 화학식 1 의 스피로벤조피란 화합물은, 스피로벤조피란 골격의 6-위치에 -X-Bz-R4로 치환되어 있으며, 빠른 광호변성 속도 및 우수한 광안정성을 나타내므로, 화학식 1 의 화합물은 광호변성을 이용하는 다양한 영역의 응용물에 유리하게 사용될 수 있는데, 예를들면 광집적소자, 광스위치, 태양전지, 광호변성 필터, 위조 방지용 지폐나 카드, 광호변성 섬유, 화장품 또는 장식품, 광안정제, 광디스크, 표시 소자, 또는 광학 기록 매체에서 사용할 수 있다.The spiro benzopyran compound of the formula (1) according to the present invention is substituted with -X-Bz-R 4 at the 6-position of the spiro benzopyran skeleton, and shows a fast photochromic rate and excellent photostability, so that the compound of formula (1) Can be advantageously used in a wide range of applications that utilize photochromic properties, such as optical integrated devices, optical switches, solar cells, photochromic filters, anti-counterfeiting notes or cards, photochromic fibers, cosmetics or ornaments, and light stabilizers. , Optical discs, display elements, or optical recording media.

따라서, 상기 화학식 1 의 스피로벤조피란 유도체로부터 유래하는 단위를 포함하는 본 발명의 중합체도, 또한 광호변성을 이용하는 다양한 영역의 응용물, 예를들면 광집적소자, 광스위치, 태양전지, 광호변성 필터, 위조 방지용 지폐나 카드, 광호변성 섬유, 화장품 또는 장식품, 광안정제, 광디스크, 표시 소자, 또는 광학 기록 매체에서 사용할 수 있다.Accordingly, the polymers of the present invention comprising units derived from the spirobenzopyran derivatives of the general formula (1) can also be applied to various fields of application using photochromic properties, for example, optical integrated devices, optical switches, solar cells, and photochromic filters. , Anti-counterfeiting banknotes or cards, photochromic fibers, cosmetics or ornaments, optical stabilizers, optical discs, display elements, or optical recording media.

본 발명의 두 번째 목적에 따르면, 스피로벤조피란기-함유 중합체는, 용매의 존재 또는 부재하에, 하기 화학식 1 의 스피로벤조피란 단량체, 하기 화학식 2의 화합물 및 하기 화학식 3 의 화합물로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상의 불포화 관능기-함유 단량체를 개시제의 존재하에 열경화 또는 광경화에 의해 중합시킴으로써 제조될 수 있다.According to a second object of the present invention, the spirobenzopyran group-containing polymer is selected from the group consisting of a spirobenzopyran monomer of the formula (1), a compound of the formula (2) and a compound of the formula (3), in the presence or absence of a solvent: One or more unsaturated functional group-containing monomers may be prepared by polymerizing by thermosetting or photocuring in the presence of an initiator.

[화학식 1][Formula 1]

(상기식에서, R1, R2, R3, R4, Z 및 X 는 상기 정의된 바와 같다).Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , Z and X are as defined above.

본 발명의 방법에서, 상기 화학식 2 및 3의 화합물은 시판 화합물을 이용할 수 있다.In the method of the present invention, the compounds of Formulas 2 and 3 may use commercially available compounds.

구체적으로는, 본 발명의 스피로벤조피란기-함유 중합체는, 단량체로서 상기 화학식 1 의 스피로벤조피란 화합물 및 공단량체로서 상기 화학식 2 및 3의 화합물에서 선택된 1종 이상의 화합물을 임의로 선택된 유기 용매에 녹이고, 결과된 혼합물을 통상적으로 사용되는 열경화제의 존재하에 30 ℃ 내지 150 ℃, 바람직하게는 40 ℃ 내지 120 ℃ 의 온도에서 0.5 내지 150 시간, 바람직하게는 2 내지 100 시간 동안 서서히 가열하여 중합시키는 것을 특징으로 하는 방법으로 제조될 수 있다.Specifically, the spiro benzopyran group-containing polymer of the present invention dissolves the spiro benzopyran compound of the formula (1) as a monomer and at least one compound selected from the compounds of the formulas (2) and (3) as comonomers in an arbitrarily selected organic solvent. And polymerizing the resulting mixture by heating it slowly for 0.5 to 150 hours, preferably 2 to 100 hours at a temperature of 30 ° C. to 150 ° C., preferably 40 ° C. to 120 ° C., in the presence of a commonly used thermosetting agent. It can be produced by the method characterized by.

스피로벤조피란기-함유 중합체에서, 스피로벤조피란 단량체에서 유래하는 단위의 비율은 특별한 제한이 없지만, 일반적으로 0.01 내지 99.99 중량 %, 바람직하게는 0.1 내지 99 중량 %, 더욱 바람직하게는 1 내지 90 중량 % 이다.In the spirobenzopyran group-containing polymer, the proportion of units derived from the spirobenzopyran monomer is not particularly limited, but is generally 0.01 to 99.99% by weight, preferably 0.1 to 99% by weight, more preferably 1 to 90% by weight. % to be.

하나의 예로서, 광호변성 스피로벤조피란기-함유 공중합체는 단량체로서 몰비로 5 % 의 6-[4"-(6'''-(메타아크릴옥시헥실옥시페닐카르보닐)-1',3',3'-트리메틸스피로[2H-1-벤조피란-2,2'-인돌린] 및 공단량체로서 몰비로 67 % 의 스티렌 및 몰비로 28 % 의 부틸 메타아크릴레이트를 THF 에 녹인 후 열경화제를 가하고, 질소 분위기하에서 가열 환류시켜 제조된다.As one example, the photochromic spirobenzopyran group-containing copolymer is 5% of 6- [4 "-(6 '' '-(methacryloxyhexyloxyphenylcarbonyl) -1', 3 in molar ratio as monomer. As a ', 3'-trimethylspiro [2H-1-benzopyran-2,2'-indolin] and comonomer, 67% styrene in molar ratio and 28% butyl methacrylate in molar ratio were dissolved in THF, followed by thermosetting agent. It is prepared by adding and refluxing under nitrogen atmosphere.

이렇게 제조된 고분자의 평균 분자량은 대략 12,000 이며, 분산도 (Mw/Mn)는 1.68 로서 용액에 녹아 가공이 쉬운 광호변성 고분자가 수득될 수 있다. 이렇게 제조된 스피로벤조피란기-함유 중합체의1H-NMR (CDCl3) 스펙트럼은 도 3 에 나타낸 바와같이 스피로벤조피란 골격의 특징적인 피이크를 나타낸다. 또한 상기에서 제조된 스피로벤조피란기-함유 중합체의 적외선 분광흡수 스펙트럼은 도 4 에 나타낸 바와같이 스피로벤조피란 골격의 특징적인 피이크를 나타낸다.The average molecular weight of the polymer thus prepared is approximately 12,000, and the degree of dispersion (M w / M n ) is 1.68, so that the photochromic polymer can be obtained by dissolving in a solution and easy processing. The 1 H-NMR (CDCl 3 ) spectrum of the spirobenzopyran group-containing polymer thus prepared shows the characteristic peak of the spirobenzopyran backbone as shown in FIG. 3. In addition, the infrared spectral absorption spectrum of the spirobenzopyran group-containing polymer prepared above shows the characteristic peak of the spirobenzopyran skeleton as shown in FIG. 4.

또한 10 몰 % 의 6-[4"-(6'''-(메타아크릴옥시헥실옥시페닐카르보닐)-1', 3',3'-트리메틸스피로[2H-1-벤조피란-2,2'-인돌린]으로부터 제조된 스피로벤조피란기-함유 중합체의 열에 대한 무게감소를 나타내는 TGA 는 도 5 에 나타낸 바와같이 분해시작온도가 242 ℃ 이상으로서 열안정성이 매우 우수한 것을 나타낸다.10 mole% of 6- [4 "-(6 '' '-(methacryloxyhexyloxyphenylcarbonyl) -1', 3 ', 3'-trimethylspiro [2H-1-benzopyran-2,2 TGA, which represents a weight loss with respect to the heat of the spirobenzopyran group-containing polymer prepared from '-indolin', shows that the decomposition start temperature is 242 DEG C or more, which is very excellent in thermal stability.

또한 이렇게 제조된 스피로벤조피란 화합물의 열에 대한 무게감소를 나타내는 TGA 는, 도 2 에서 볼 수 있는 바처럼, 분해시작온도가 226 ℃ 이상으로서 열안정성이 매우 우수한 것을 보여준다.In addition, the TGA showing the weight loss with respect to the heat of the spiro benzopyran compound thus prepared, as can be seen in Figure 2, shows that the thermal stability is very excellent as the start temperature is 226 ℃ or more.

본 발명에 따른 스피로벤조피란기-함유 중합체는 톨루엔. 크실렌, 클로로포름, 아세톤, 아세토니트릴, 저급 알코올, 디메틸포름아미드 (DMF), 디메틸술폭사이드 (DMSO) 등의 통상적인 용매 또는 이들의 혼합물에 용해될 수 있다.The spirobenzopyran group-containing polymer according to the present invention is toluene. It can be dissolved in conventional solvents or mixtures thereof such as xylene, chloroform, acetone, acetonitrile, lower alcohol, dimethylformamide (DMF), dimethyl sulfoxide (DMSO) and the like.

상술한 바처럼, 본 발명의 세 번째 목적은 열안정성이 우수한 스피로벤조피란기-함유 중합체를 주성분으로 하는 조성물을 제공하는 것으로, 예를들면, 본 발명에 따라 다음과 같은 조성물이 제공된다:As mentioned above, a third object of the present invention is to provide a composition comprising a spirobenzopyran group-containing polymer having excellent thermal stability, for example, according to the present invention, the following composition is provided:

· 클로로포름, 헥산, 아세톤, 아세토니트릴, 저급 알코올, 1,2-디클로로에탄, 디메틸포름아미드(DMF), 물, 디메틸술폭사이드(DMSO), 술포란, 크실렌, 3-니트로-α,α,α-트리플루오로니트로 톨루엔 등 및 통상의 유기 용매로 구성된 군에서 선택된 1종 이상의 용매 또는 이들의 혼합물 및 본 발명에 따른 스피로벤조피란기-함유 중합체를 포함하는 조성물;Chloroform, hexane, acetone, acetonitrile, lower alcohol, 1,2-dichloroethane, dimethylformamide (DMF), water, dimethyl sulfoxide (DMSO), sulfolane, xylene, 3-nitro-α, α, α A composition comprising one or more solvents or mixtures thereof selected from the group consisting of trifluoronitrotoluene and the like and conventional organic solvents and a spirobenzopyran group-containing polymer according to the invention;

· 전술한 조성물에 테트라알콕시 실란, 트라이알콜시글리시릴 실란, 염산, 유기산으로 구성된 군에서 선택된 1종 이상의 화합물을 추가로 함유한 조성물;A composition further comprising at least one compound selected from the group consisting of tetraalkoxy silane, trialkoxyglycilyl silane, hydrochloric acid, organic acid, in the above-mentioned composition;

· 전술한 용매의 존재 또는 부재하에, 폴리올레핀, 폴리스티렌, 폴리비닐부티랄, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리우레탄으로 구성된 군에서 선택된 1종 이상의 수지 및 본 발명에 따른 스피로벤조피란기-함유 중합체를 포함하는 중합체 조성물.One or more resins selected from the group consisting of polyolefins, polystyrenes, polyvinylbutyrals, polycarbonates, polyesters, poly (meth) acrylates, polyurethanes, in the presence or absence of the aforementioned solvents and the spirobenzo according to the invention A polymer composition comprising a pyranic group-containing polymer.

전술한 본 발명의 중합체 조성물은 α-메틸나프탈렌, 메톡시나프탈렌, 클로로나프탈렌, 디페닐에탄, 에틸렌글리콜, 술포란, 퀴놀린, 디클로로벤젠, 디클로로톨루엔, 프로필렌카보네이트 및 크실렌으로 구성된 군에서 선택된 1종 이상의 고비점 용매를 추가로 함유할 수 있다.The polymer composition of the present invention described above is at least one selected from the group consisting of α-methylnaphthalene, methoxynaphthalene, chloronaphthalene, diphenylethane, ethylene glycol, sulfolane, quinoline, dichlorobenzene, dichlorotoluene, propylene carbonate and xylene It may further contain a high boiling point solvent.

본 발명에 따른 중합체 조성물에서 각 성분들의 조성비는 중합체 조성물의 사용 용도에 따라 상이할 수 있으나, 상기 조성물을 후술하는 바와 같이 광호변성 박막 제조에 사용하는 경우, 본 발명에 따른 스피로벤조피란기-함유 중합체를 조성물 총 중량의 0.01 내지 99.99 중량 % 의 비율로 사용하고, 기타 성분을 99.99 내지 0.01 중량 % 의 비율로 사용하는 것이 바람직하다. 본 발명의 중합체 조성물에서 각 성분들이 상기 조성비를 벗어나는 경우, 생성되는 박막의 기계적 특성이 좋지않게 되므로 바람직하지 못하다.Although the composition ratio of each component in the polymer composition according to the present invention may differ depending on the use of the polymer composition, when the composition is used for preparing the photochromic thin film as described below, the spirobenzopyran group-containing according to the present invention. Preference is given to using the polymer in a proportion of 0.01 to 99.99% by weight of the total weight of the composition and other components in a proportion of 99.99 to 0.01% by weight. When each component in the polymer composition of the present invention is out of the composition ratio, it is not preferable because the mechanical properties of the resulting thin film is not good.

또한 본 발명의 스피로벤조피란화합물을 화장품, 섬유, 점토, 및 기타 조성물에 광안정제나 기타의 목적으로 사용하는 경우 중량 % 의 비율은 0.01 에서 수 피피엠 단위까지 사용할 수 있다.In addition, when the spirobenzopyran compound of the present invention is used in cosmetics, fibers, clays, and other compositions for light stabilizers or other purposes, the ratio of weight% may be used from 0.01 to several FPM units.

전술한 본 발명의 중합체 조성물에는 내열 특성, 기계적 특성, 가공 특성 등을 개선하기위해 당업자에게 명백한 각종 첨가제, 윤활제 및 증점제 등이 첨가 될 수 있다.The above-described polymer composition of the present invention may be added various additives, lubricants, thickeners and the like that are obvious to those skilled in the art in order to improve heat resistance, mechanical properties, processing properties and the like.

전술한 바처럼, 본 발명의 네 번째 목적은 스피로벤조피란기-함유 중합체를 함유하는 감광성 박막을 제공하는 것으로, 이렇게 제조된 감광성 박막은 200 ∼ 800 nm 영역의 자외선, 가시광 및 근적외선에 대해 우수한 감광성을 가지는 있다.As mentioned above, a fourth object of the present invention is to provide a photosensitive thin film containing a spirobenzopyran group-containing polymer, wherein the photosensitive thin film thus prepared has excellent photosensitivity to ultraviolet rays, visible light and near infrared rays in the region of 200 to 800 nm. There is a.

이러한 감광성 박막은 본 발명에 따른 스피로벤조피란기-함유 중합체 및 임의의 용매 및/또는 다른 중합체로 구성된 조성물을 예를들면 플라스틱 수지, 유리판, 알미늄판, 마일러 필름, 전도성 유리 등과 같은 지지체 위에 코팅하고, 통상적인 방법에 따라 건조함으로써 제조할 수 있으며, 이렇게 제조된 감광성 박막은 200 ∼ 500 nm 의 파장 영역에서 우수한 흡광도를 나타내며, 또한 햇빛이나 자외선에 대하여, 300 ∼ 800 nm 의 파장영역에서 양호한 흡광도를 나타낸다.Such a photosensitive thin film is coated on a support such as a plastic resin, glass plate, aluminum plate, mylar film, conductive glass, etc., with a composition composed of a spirobenzopyran group-containing polymer according to the invention and any solvent and / or other polymers. It can be prepared by drying according to a conventional method, the photosensitive thin film thus prepared shows excellent absorbance in the wavelength range of 200 to 500 nm, and good absorbance in the wavelength range of 300 to 800 nm with respect to sunlight or ultraviolet rays. Indicates.

본 발명에 따른 감광성 박막을 제조함에 있어서, 전술한 지지체의 구체적인 예로는, 알루미늄 호일, 알루미늄 드럼, 알루미늄 판, 백금, 마일러 필름, 구리 판, 전도성 유리 및 전도성 플라스틱으로 구성된 군에서 선택된 전도성 전극 지지체, 또는 폴리프로필렌, 프로필렌 카보네이트, 폴리메타아크릴레이트, 폴리우레탄 및 기타 플라스틱 및 유리로 구성된 군에서 선택된 절연성 지지체를 언급할 수 있다.In preparing the photosensitive thin film according to the present invention, specific examples of the above-described support include a conductive electrode support selected from the group consisting of aluminum foil, aluminum drum, aluminum plate, platinum, mylar film, copper plate, conductive glass and conductive plastic. Or insulating supports selected from the group consisting of polypropylene, propylene carbonate, polymethacrylate, polyurethane and other plastics and glass.

본 발명에 따른 감광성 박막을 제조함에 있어서, 사용할 수 있는 중합체 조성물의 코팅법으로는, 로울 코팅 또는 스핀 코팅, 바코팅, 스프레이 코팅, 딥 코팅 등을 언급할 수 있다.In preparing the photosensitive thin film according to the present invention, as a coating method of the polymer composition that can be used, roll coating or spin coating, bar coating, spray coating, dip coating, and the like can be mentioned.

또 다른 방법으로는, 본 발명에 따른 스피로벤조피란기-함유 중합체 또는 이를 포함하는 조성물을 에테르, 알코올, 방향족 탄화수소, 모노테르펜 탄화수소, 액체파라핀 또는 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택되는 임의의 용매 및 폴리비닐부티랄(PVB), 폴리카보네이트(PC) 등과 같이 상기 언급된 기존의 다른 중합체와 함께 혼합하여 밀링 (milling) 한 후 상기의 지지체 위에 도포하고 경우에 따라 건조시키는 것으로 구성된 방법으로 광호변성 박막을 제조할 수 있다.In another method, the spirobenzopyran group-containing polymer according to the present invention or a composition comprising the same may be selected from the group consisting of any solvent selected from the group consisting of ethers, alcohols, aromatic hydrocarbons, monoterpene hydrocarbons, liquid paraffin or mixtures thereof; Photochromic thin film comprising a method of mixing with the other conventional polymers mentioned above such as polyvinyl butyral (PVB), polycarbonate (PC), milling, coating on the support and optionally drying Can be prepared.

본 발명에 따른 스피로벤조피란기-함유 중합체는 용액 가공이 가능하면서도 200 ∼ 800 nm 영역에서 흡수 피이크를 나타내고 열안정성이 240 ℃ 이상이 되므로 표시 소자 또는 광스위치 소자, 광집적 소자, 태양 전지, 센서 등과 기타 기록 소자 및 광학 소자에 응용 가능성이 매우 높다.The spiro benzopyran group-containing polymer according to the present invention exhibits an absorption peak in the range of 200 to 800 nm while being capable of solution processing, and has a thermal stability of 240 ° C. or higher, so that it is a display device or an optical switch device, an optical integrated device, a solar cell, a sensor. It is highly applicable to other recording elements and optical elements.

따라서, 본 발명은 또한 본 발명에 따른 스피로벤조피란기-함유 중합체를 1종 이상 포함함을 특징으로 하는, 표시 소자, 광호변성 필터, 광스위치, 감광 드럼, 기록 소자, 태양 전지, 렌즈, 화장품, 섬유 또는 광학 소자 등의 물품에 관한 것이다.Thus, the invention also comprises at least one spirobenzopyran group-containing polymer according to the invention, display elements, photochromic filters, optical switches, photosensitive drums, recording elements, solar cells, lenses, cosmetics , Articles such as fibers or optical elements.

상기 설명된 바와 같은 본 발명의 특징 및 기타 장점은 후술되는 실시예를 참고로하여 보다 명백하게 기술될 것이나, 본 발명의 범위가 하기 실시예에만 한정되는 것은 아니다.Features and other advantages of the present invention as described above will be more clearly described with reference to the following examples, but the scope of the present invention is not limited only to the following examples.

참고예 1 ∼ 2 치환된 스피로벤조피란단량체의 제조Reference Examples 1-2 Preparation of Substituted Spirobenzopyranones

참고예 1: 6-[4"-(6'''-(메타아크릴옥시헥실옥시페닐카르보닐)-1',3',3'-트리메틸스피로[2H-1-벤조피란-2,2'-인돌린]의 제조Reference Example 1 6- [4 ''-(6 '' '-(Methaacryloxyhexyloxyphenylcarbonyl) -1', 3 ', 3'-trimethylspiro [2H-1-benzopyran-2,2' -Indolin]

선행 기술에 따라 제조된 2.0 g (4.02 mmole) 의 6-((히드록시헥실옥시페닐카르보닐)-1',3',3'-트리메틸스피로[2H-1-벤조피란-2,2'-인돌린] 을 50 ml 의 THF 에 녹이고 트리에틸아민을 가한다음 교반하면서 0.51 ml (5.23 mmole)의 메타아크릴 클로라이드을 천천히 가한다. 반응 혼합물을 상온에서 3 시간 동안 교반하에 반응시키고, 생성된 고형물을 여과로 제거하고, 결과된 용액을 감압하에 증발시킨다. 결과된 고형물을 디클로로메탄에 용해시키고 NaHCO3포화 수용액으로 세척하고, 유기층을 무수 MgSO4로 건조하고, 실리카겔 칼럼크로마토그래피로 정제하여 2.23 g (수율 98 %)의 6-[4"-(6"'-(메타아크릴옥시헥실옥시페닐카르보닐)- 1',3',3'-트리메틸스피로[2H-1-벤조피란-2,2'-인돌린]을 고체 형태로 수득한다.2.0 g (4.02 mmole) of 6-((hydroxyhexyloxyphenylcarbonyl) -1 ', 3', 3'-trimethylspiro [2H-1-benzopyran-2,2'- prepared according to the prior art Indolin] is dissolved in 50 ml of THF, triethylamine is added, and 0.51 ml (5.23 mmole) of methacrylic chloride is slowly added while stirring The reaction mixture is reacted under stirring at room temperature for 3 hours, and the resulting solid is filtered. The resulting solid is dissolved in dichloromethane and washed with saturated aqueous NaHCO 3 solution, the organic layer is dried over anhydrous MgSO 4 and purified by silica gel column chromatography to give 2.23 g (yield). 98%) 6- [4 "-(6"'-(methacryloxyhexyloxyphenylcarbonyl)-1', 3 ', 3'-trimethylspiro [2H-1-benzopyran-2,2'- Indolin] is obtained in the solid form.

이렇게 제조된 스피로벤조피란 화합물의1H-NMR (CDCl3) 스펙트럼은 도 1 에서 볼 수 있는 바처럼, 스피로벤조피란 고리 및 말단 메타아크릴 단위의 특징적인 피이크를 보여준다.The 1 H-NMR (CDCl 3 ) spectrum of the spirobenzopyran compound thus prepared shows characteristic peaks of the spirobenzopyran ring and terminal methacrylic units, as can be seen in FIG. 1.

또한 이렇게 제조된 스피로벤조피란 화합물의 열에 대한 무게감소를 나타내는 TGA 는, 도 2에서 볼 수 있는 바처럼, 분해시작온도가 226 ℃ 이상으로서 열안정성이 매우 우수한 것을 보여준다.In addition, TGA showing the weight loss with respect to the heat of the spiro benzopyran compound thus prepared, as shown in Figure 2, shows that the thermal stability is very excellent as the start temperature of decomposition is 226 ℃ or more.

IR (KBr, cm-1); 1718(-COO-), 953(Cspiro-O);IR (KBr, cm −1 ); 1718 (-COO-), 953 (C spiro -O);

1H-NMR (300 MHz, CDCl3) δ 7.79(d, 2H, J=8.7Hz), 7.60(s, 1H), 7.57(d, 1H, J=8.1Hz), 7.19(t, 1H, J=7.6Hz), 7.10(d, 1H, J=7.1Hz), 6.96 ∼ 6.83(m, 4H), 6.76(d, 1H, J=8.1Hz), 6.56(d, 1H, J=7.7Hz), 6.11(s, 1H), 5.76(d, 1H, J=10.3Hz), 5.54(s, 1H), 4.18(t, 2H, J=6.6Hz), 4.05(t, 2H, J=6.3Hz), 2.74(s, 3H), 1.83(m, 2H), 1.73(m, 2H), 1.57 ∼ 1.38(m, 4H), 1.32(s, 3H), 1.17(s, 3H); 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.79 (d, 2H, J = 8.7 Hz), 7.60 (s, 1H), 7.57 (d, 1H, J = 8.1 Hz), 7.19 (t, 1H, J = 7.6 Hz), 7.10 (d, 1H, J = 7.1 Hz), 6.96-6.83 (m, 4H), 6.76 (d, 1H, J = 8.1 Hz), 6.56 (d, 1H, J = 7.7 Hz), 6.11 (s, 1H), 5.76 (d, 1H, J = 10.3 Hz), 5.54 (s, 1H), 4.18 (t, 2H, J = 6.6 Hz), 4.05 (t, 2H, J = 6.3 Hz), 2.74 (s, 3H), 1.83 (m, 2H), 1.73 (m, 2H), 1.57-1.38 (m, 4H), 1.32 (s, 3H), 1.17 (s, 3H);

13C-NMR δ 10.7, 20.4, 26.1, 26.2, 26.3, 28.9, 29.3, 29.4, 32.4, 65.0, 68.4, 105.7, 107.3, 114.3, 115.0, 118.8, 119.8, 120.6, 121.9, 125.7, 128.1, 129.5, 130.7, 130.9, 132.6, 132.9, 136.9, 148.4, 158.4, 162.8, 194.7. MS(m/z); 565(M+, 75), 550(17), 368(8), 159(100), 121(13); 13 C-NMR δ 10.7, 20.4, 26.1, 26.2, 26.3, 28.9, 29.3, 29.4, 32.4, 65.0, 68.4, 105.7, 107.3, 114.3, 115.0, 118.8, 119.8, 120.6, 121.9, 125.7, 128.1, 129.5, 130.7 , 130.9, 132.6, 132.9, 136.9, 148.4, 158.4, 162.8, 194.7. MS (m / z); 565 (M + , 75), 550 (17), 368 (8), 159 (100), 121 (13);

High-resolution MS; C36H39NO5; 이론값: 565.2828, 실험값: 565.2832.High-resolution MS; C 36 H 39 NO 5 ; Theoretical Value: 565.2828, Experimental Value: 565.2832.

참고예 2: 6-[4"-(6"'-(메타아크릴옥시헥실옥시페닐술파닐)-1',3',3'-트리메틸스피로[2H-1-벤조피란-2,2'-인돌린]의 제조Reference Example 2 6- [4 "-(6" '-(methacryloxyhexyloxyphenylsulfanyl) -1', 3 ', 3'-trimethylspiro [2H-1-benzopyran-2,2'- Indolin]

실시예 1 에서 사용된 6-((히드록시헥실옥시페닐카르보닐)-1',3',3'-트리메틸스피로[2H-1-벤조피란-2,2'-인돌린] 대신 6-((히드록시헥실옥시페닐술파닐)-1', 3',3'-트리메틸스피로[2H-1-벤조피란-2,2'-인돌린]을 사용하여 실시예 1에서와 같은 방법으로 상기 표제 화합물을 수율 98 % 로 수득한다.6- (instead of 6-((hydroxyhexyloxyphenylcarbonyl) -1 ', 3', 3'-trimethylspiro [2H-1-benzopyran-2,2'-indolin] used in Example 1 (Hydroxyhexyloxyphenylsulfanyl) -1 ′, 3 ′, 3′-trimethylspiro [2H-1-benzopyran-2,2′-indolin], in the same manner as in Example 1 above. The compound is obtained in yield 98%.

IR(KBr, cm-1); 1718(-COO-), 962(Cspiro-O);IR (KBr, cm −1 ); 1718 (-COO-), 962 (C spiro -O);

1H-NMR(300 MHz, CDCl3): δ 7.27(d, 2H, J=8.8Hz), 7.15(t, 1H), 7.08-7.02(m, 3H), 6.94-6.80(m, 3H), 6.75(d, 1H, J=10.2Hz), 6.63(d, 1H, J=9.1Hz), 6.51(d, 1H, J=7.7Hz), 6.08(s, 1H), 5.68(d, 1H, J=10.2Hz), 5.52(s, 1H), 4.14(t, 2H, J=6.6Hz), 3.91(t, 2H, J=6.4Hz), 2.70(s, 3H), 1.82-1.66(m, 4H), 1.53-1.39(m, 4H), 1.31(s, 3H), 1.14(s, 3H); 1 H-NMR (300 MHz, CDCl 3 ): δ 7.27 (d, 2H, J = 8.8 Hz), 7.15 (t, 1H), 7.08-7.02 (m, 3H), 6.94-6.80 (m, 3H), 6.75 (d, 1H, J = 10.2 Hz), 6.63 (d, 1H, J = 9.1 Hz), 6.51 (d, 1H, J = 7.7 Hz), 6.08 (s, 1H), 5.68 (d, 1H, J = 10.2 Hz), 5.52 (s, 1H), 4.14 (t, 2H, J = 6.6 Hz), 3.91 (t, 2H, J = 6.4 Hz), 2.70 (s, 3H), 1.82-1.66 (m, 4H ), 1.53-1.39 (m, 4H), 1.31 (s, 3H), 1.14 (s, 3H);

13C-NMR δ 18.3, 20.1, 25.7, 25.8, 28.6, 28.9, 29.1, 51.8, 64.6, 67.9, 104.5, 106.8, 115.3, 115.9, 119.2, 119.5, 120.0, 121.5, 125.3, 126.7, 126.9, 127.6, 129.0, 129.4, 132.7, 133.0, 136.5, 136.6, 148.1, 153.9, 158.6, 167.5; 13 C-NMR δ 18.3, 20.1, 25.7, 25.8, 28.6, 28.9, 29.1, 51.8, 64.6, 67.9, 104.5, 106.8, 115.3, 115.9, 119.2, 119.5, 120.0, 121.5, 125.3, 126.7, 126.9, 127.6, 129.0 , 129.4, 132.7, 133.0, 136.5, 136.6, 148.1, 153.9, 158.6, 167.5;

MS(m/z); 569(M+, 100), 554(7), 469(5), 444(9), 380(10), 159(56);MS (m / z); 569 (M + , 100), 554 (7), 469 (5), 444 (9), 380 (10), 159 (56);

High-resolution MS; C35H39NO4S ; 이론값 : 569.2600, 실험값: 569.2591.High-resolution MS; C 35 H 39 NO 4 S; Theoretical Value: 569.2600, Experimental Value: 569.2591.

실시예 1-4 : 스피로벤조피란기-함유 중합체의 제조Example 1-4 Preparation of Spirobenzopyrane Group-Containing Polymer

실시예 1Example 1

6-[4"-(6"'-(메타아크릴옥시헥실옥시페닐카르보닐)-1',3',3'-트리메틸스피로[2H-1-벤조피란-2,2'-인돌린] (0.5 g), 스티렌 (1.23 g), 부틸 메타아크릴레이트 (0.72 g)를 THF 에 녹인 후 열경화제 (1 몰 %, 2,2-아조비스(이소부틸로니트릴) (24 mg)를 가하고, 질소 분위기하에서 48 시간 동안 가열 환류시킨다. 에테르와 헥산의 혼합 용매를 사용하여 상기 제조된 고분자를 침전시키고 50 ℃ 에서 감압 하에 건조시켜 50 %의 수율로 정제된 중합체를 수득한다. 수득된 중합체의 유리전이 온도는 69 ℃ 이며, 중량평균 분자량은 12,000 이고, 분산도 (Mw/Mn)는 1.68 이다. 또한 유기 용매에 대한 용해도가 높고 가공성이 우수하여 광호변성 중합체로서 사용할 수 있다.6- [4 "-(6"'-(methacryloxyhexyloxyphenylcarbonyl)-1', 3 ', 3'-trimethylspiro [2H-1-benzopyran-2,2'-indolin] ( 0.5 g), styrene (1.23 g) and butyl methacrylate (0.72 g) were dissolved in THF, followed by addition of a thermosetting agent (1 mol%, 2,2-azobis (isobutylonitrile) (24 mg), followed by nitrogen The mixture was heated to reflux for 48 hours in an atmosphere, using the mixed solvent of ether and hexane to precipitate the polymer prepared above, and dried under reduced pressure at 50 ° C. to obtain a polymer which was purified in a yield of 50%. The temperature is 69 ° C., the weight average molecular weight is 12,000, and the dispersity (M w / M n ) is 1.68. Moreover, it has high solubility in organic solvents and is excellent in workability and can be used as a photochromic polymer.

수득된 중합체의1H-NMR (CDCl3) 스펙트럼은 도 3 에서 볼 수 있는 바처럼, 스피로벤조피란 고리 및 말단 메타아크릴 단위의 특징적인 피이크를 보여준다.The 1 H-NMR (CDCl 3 ) spectrum of the obtained polymer shows the characteristic peaks of the spirobenzopyran ring and the terminal methacrylic units, as can be seen in FIG. 3.

또한 이렇게 제조된 스피로벤조피란 화합물의 적외선 분광흡수스펙트럼은, 도 4 에서 볼 수 있는 바처럼, 스피로벤조피란 단량체에서 유래하는 단위의 특징적인 피이크를 보여준다.In addition, the infrared spectroscopic absorption spectrum of the spirobenzopyran compound thus prepared shows a characteristic peak of the unit derived from the spirobenzopyran monomer, as can be seen in FIG. 4.

실시예 2Example 2

실시예 1 의 절차를, 0.082 g 의 6-[4''-(6'''-(메타아크릴옥시헥실옥시페닐카르보닐)-1',3',3'-트리메틸스피로[2H-1-벤조피란-2,2'-인돌린]을 사용하는 것을 제외하고는 동일하게 반복하였다. 수득된 중합체의 수율은 1.05 g (56 %) 이며, 유리전이 온도는 66 ℃ 이다.The procedure of Example 1 was followed by 0.082 g of 6- [4 ''-(6 '' '-(methacryloxyhexyloxyphenylcarbonyl) -1', 3 ', 3'-trimethylspiro [2H-1- Benzopyran-2,2'-indolin] was repeated in the same manner except that the yield of the polymer obtained was 1.05 g (56%) and the glass transition temperature was 66 ° C.

실시예 3Example 3

실시예 1의 절차를, 반응시간을 72 시간 동안 하는 것을 제외하고는 동일하게 반복하였다. 수득된 중합체의 수율은 52 % 이며, 유리 전이 온도는 70 ℃ 이다.The procedure of Example 1 was repeated in the same manner except that the reaction time was 72 hours. The yield of the polymer obtained is 52%, and the glass transition temperature is 70 ° C.

실시예 4Example 4

실시예 1의 절차를, 3.13 g 의 6-[4''-(6'''-(메타아크릴옥시헥실옥시페닐카르보닐)-1',3',3'-트리메틸스피로[2H-1-벤조피란-2,2'-인돌린]을 사용하고 24 시간 동안 반응시키는 것을 제외하고는 동일하게 반복하였다. 수득된 중합체의 수율은 40 % 이며, 중량평균 분자량은 6000 이고, 분산도는 1.71 이고, 유리전이 온도는 85 ℃ 이다. 수득된 공중합체의 분해 개시 온도는, 도 5 에 나타낸 바처럼, 242 ℃ 이상이며, 열안정도가 우수함을 알 수 있다.The procedure of Example 1 was followed by 3.13 g of 6- [4 ''-(6 '' '-(methacryloxyhexyloxyphenylcarbonyl) -1', 3 ', 3'-trimethylspiro [2H-1- Benzopyran-2,2'-indolin] and the reaction was repeated for 24 hours The yield of the polymer obtained was 40%, weight average molecular weight 6000 and dispersion degree 1.71 The glass transition temperature is 85 DEG C. The decomposition initiation temperature of the obtained copolymer is 242 DEG C or higher, as shown in Fig. 5, and it can be seen that the thermal stability is excellent.

실시예 5Example 5

실시예 1 에서 제조한 6-[4"-(6"'-(메타아크릴옥시헥실옥시페닐카르보닐)- 1',3',3'-트리메틸스피로[2H-1-벤조피란-2,2'-인돌린] 0.203 g 을 부틸 메타아크릴레이트 0.129 g,스티렌 0.13 g 및 트리프로필렌글리콜 0.5245 g 과 혼합하고, 결과된 혼합물에 디메톡시페닐아세토페논 (DMPA) 0.04 g 을 가한다. 결과된 용액을 유리판 위에 도포한 다음, 질소 기류하에서 5분간 자외선을 방사하면 투명하고 접착력이 우수한 중합체가 제조된다.6- [4 "-(6" '-(methacryloxyhexyloxyphenylcarbonyl) -1', 3 ', 3'-trimethylspiro [2H-1-benzopyran-2,2 prepared in Example 1 0.203 g of '-indolin' is mixed with 0.129 g of butyl methacrylate, 0.13 g of styrene and 0.5245 g of tripropylene glycol, and 0.04 g of dimethoxyphenylacetophenone (DMPA) is added to the resulting mixture. After coating on a glass plate, ultraviolet rays are radiated for 5 minutes under a stream of nitrogen to produce a transparent and excellent adhesive polymer.

실시예 6Example 6

실시예 5 의 절차를, 실시예 2 에서 제조한 6-[4"-(6"'-(메타아크릴옥시헥실옥시페닐술파닐)-1',3',3'-트리메틸스피로[2H-1-벤조피란-2,2'-인돌린]을 사용하는것을 제외하고는 동일하게 반복하여 중합체를 수득한다.The procedure of Example 5 was prepared using the 6- [4 "-(6" '-(methacryloxyhexyloxyphenylsulfanyl) -1', 3 ', 3'-trimethylspiro [2H-1 prepared in Example 2. -Benzopyran-2,2'-indolin] is repeated in the same manner to obtain a polymer.

실시예 7 내지 18 : 광호변성 스위치 박막의 제조Examples 7 to 18 Preparation of the photochromic switch thin film

실시예 7Example 7

실시예 1 에서 제조된 스피로벤조피란기-함유 공중합체 0.2 g 을 크실렌 2 ml 에 가하고, 결과된 용액을 상온에서 1 시간 동안 교반한다. 결과된 용액을 스핀코팅기를 사용하여 유리판 위에 도포하고 50 ℃ 의 오븐에서 감압 하에 12시간동안 건조시켜, 투명한 광호변성 박막을 수득한다. 수득된 박막에 340 nm 의 단파장을 조사하면 푸른색으로 변화되며 회합체의 생성은 발견되지 않았으며, 반복적으로 광조사할 때에도 상분리 현상이 발견되지 않았다.0.2 g of the spirobenzopyran group-containing copolymer prepared in Example 1 is added to 2 ml of xylene, and the resulting solution is stirred at room temperature for 1 hour. The resulting solution was applied onto a glass plate using a spin coater and dried in an oven at 50 ° C. under reduced pressure for 12 hours to obtain a transparent photochromic thin film. When the obtained thin film was irradiated with short wavelength of 340 nm, it turned blue and no formation of association was found, and no phase separation phenomenon was found even when repeatedly irradiated with light.

도 6 는 상기 수득된 박막에 340 nm 의 단파장을 조사하였을 때, 박막의 흡수 스펙트럼의 변화를 보여준다.Figure 6 shows the change in absorption spectrum of the thin film when the short wavelength of 340 nm was irradiated to the obtained thin film.

도 7 은 1초간 340 nm 의 단파장을 조사하고 5초간 빛을 차단하는 방법으로 광스위치 조작을 하였을 때 나타나는 박막의 흡수도 변화 효과를 610 nm 파장에서 측정한 결과를 보여준다. 빛에 의한 광착색과 암감쇄 [광스위치효율 = 100 × 암감쇄시 변화된 흡수도/광착색시의 변화된 흡수도)는 각각 95 ∼ 100 % 의 효율을 나타낸다.FIG. 7 shows the results of measuring the absorbance change effect of the thin film when the optical switch is operated by irradiating short wavelength of 340 nm for 1 second and blocking light for 5 seconds at 610 nm wavelength. Light coloration and dark attenuation due to light (optical switch efficiency = 100 x changed absorbance at dark attenuation / changed absorbance at light attenuation) respectively exhibit an efficiency of 95 to 100%.

실시예 8 ∼ 18Examples 8-18

실시예 7 의 절차를, 사용된 공중합체 및 용매, 그리고 제조 조건을 다음 표 1 에 기재된 바와 같이 바꾸어 반복함으로써 중합체 박막을 제조한다.The polymer thin film was prepared by repeating the procedure of Example 7 by changing the copolymer and solvent used and the preparation conditions as described in Table 1 below.

모든 실시예에서, 조성물을 제조할 때, 박막 제조 후, 및 광스위치 실험 도중, 상분리현상 및 회합체 형성은 관찰되지 않았으며, 중합체 매트릭스에서의 충전 현상도 관찰되지 않았다.In all examples, no phase separation and association formation was observed, and no packing phenomenon was observed in the polymer matrix when the composition was prepared, after thin film preparation, and during the optical switch experiment.

제조된 박막에 1초간 340 nm 의 단파장을 조사하고 5 초간 빛을 차단하는 방법으로 광스위치 실험을 할 때 나타나는 광스위치 효율은 또한 표 1 에 기재한다.The optical switch efficiency shown when the optical switch experiment was conducted by irradiating a short wavelength of 340 nm to the prepared thin film for 1 second and blocking light for 5 seconds was also shown in Table 1.

실시예Example 사용된 공중합체Copolymer Used (g)(g) 용매menstruum (mL)(mL) 코팅방법, 건조온도/시간Coating method, drying temperature / hour 광스위치효과 (%)Optical switch effect (%) 99 실시예 1Example 1 0.0500.050 THFTHF 1One 스핀코팅, 50 ℃/3시간Spin coating, 50 ℃ / 3 hours 9797 1010 실시예 2Example 2 0.20.2 크실렌xylene 22 스핀코팅, 50℃/12시간Spin coating, 50 ℃ / 12 hours 1111 실시예 3Example 3 0.50.5 톨루엔+크실렌 (1:4)Toluene + Xylene (1: 4) 스핀코팅, 50℃/12시간Spin coating, 50 ℃ / 12 hours 9595 1212 실시예 3Example 3 0.10.1 THFTHF 1One 스핀코팅, 50℃/12시간Spin coating, 50 ℃ / 12 hours 9999 1313 실시예 3Example 3 0.50.5 크실렌xylene 22 바코팅, 50℃/10시간Bar coating, 50 ℃ / 10 hours 9999 1414 실시예 3Example 3 0.50.5 크실렌xylene 22 스핀코팅, 50℃/12시간,재차 스핀코팅Spin coating, 50 ℃ / 12 hours, spin coating again 9696 1515 실시예 3Example 3 0.50.5 크실렌xylene 2.52.5 바코팅,25℃/12시간Bar coating, 25 ℃ / 12 hours 9797 1616 실시예 4Example 4 0.50.5 크실렌xylene 22 스핀코팅, 50℃/12시간Spin coating, 50 ℃ / 12 hours 8080 1717 실시예 4Example 4 0.50.5 크실렌+톨루엔 (4:1)Xylene + Toluene (4: 1) 2.52.5 스핀코팅, 50℃/12시간Spin coating, 50 ℃ / 12 hours 8181 1818 실시예 5Example 5 -- -- -- 스핀코팅, 50℃/12시간Spin coating, 50 ℃ / 12 hours -- 1919 실시예 6Example 6 -- -- -- 스핀코팅, 50℃/12시간Spin coating, 50 ℃ / 12 hours --

실시예 20 [비교예]Example 20 [Comparative Example]

시판되는 니트로스피로벤조피란 화합물 0.05 g 을 클로로포름 1 ml 에 용해 시킨 후 폴리메틸메타아크릴레이트 0.95 g 을 가하여 상온에서 교반하여 점성의 스피로벤조피란 화합물 조성물을 제조한다. 그런 다음, 실시예 7 에서와 동일한 방법으로 가공하여 광호변성 박막을 수득한다.0.05 g of a commercially available nitrospyrrobenzopyran compound is dissolved in 1 ml of chloroform, and then 0.95 g of polymethylmethacrylate is added to the mixture, followed by stirring at room temperature to prepare a viscous spirobenzopyran compound composition. Then, the same process as in Example 7 was carried out to obtain a photochromic thin film.

여기서 제조된 박막에 340 nm 의 단파장을 조사하여 측정한 광스위치 효율은 약 70 % 이며, 광착색 및 암감쇄 속도는 둘다 느렸다. 또한 여기서 제조된 박막에 1시간 이상 광조사하면 박막 내에서 회합체 형성이 관찰되었으며, 광스위치 효과는 느렸다.The optical switch efficiency measured by irradiating a short wavelength of 340 nm to the thin film prepared here was about 70%, and both the light coloring and dark attenuation rates were slow. In addition, when the thin film produced here was irradiated for 1 hour or more, the formation of association was observed in the thin film, and the optical switch effect was slow.

본 발명에 따르면, 광호변성 속도가 빠르고, 열분해 온도가 높아 열안정성이 우수하며, 가공성이 우수한 스피로벤조피란기-함유 중합체가 제공되며, 이를 이용하여, 우수한 특성을 갖는 광호변성 조성물 및 광호변성 스위치 박막을 제조할 수 있다.According to the present invention, there is provided a spiro benzopyran group-containing polymer having a high speed of photochromicity, high thermal decomposition and excellent thermal stability, and excellent processability. Thin films can be prepared.

Claims (11)

하기 화학식 1 의 스피로벤조피란 화합물로부터 유도된 단위를 포함함을 특징으로 하는 스피로벤조피란기-함유 중합체:A spirobenzopyran group-containing polymer, characterized in that it comprises units derived from a spirobenzopyran compound of formula [화학식 1][Formula 1] [상기식에서, R1은, 탄소수 1 ∼ 22 의 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알케닐기, 또는 페닐 또는 페닐알킬기를 나타내고, 여기서 전술한 알킬, 알케닐, 페닐 또는 페닐킬기는 히드록시, 플루오라이드 등의 할라이드, 글리시독시, 아민, 비닐, 에폭시, (메트)아크릴, 아미노 또는 메르캅토로 구성된 군에서 선택되는 치환기로 치환 또는 비치환되며;[Wherein, R 1 represents a linear or branched alkyl or alkenyl group having 1 to 22 carbon atoms or a phenyl or phenylalkyl group, wherein the alkyl, alkenyl, phenyl or phenylalkyl group described above is halide such as hydroxy or fluoride , Substituted or unsubstituted with a substituent selected from the group consisting of glycidoxy, amine, vinyl, epoxy, (meth) acrylic, amino or mercapto; R2및 R3는 각각 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 치환된 아미노기, 니트로기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 ∼ 10 의 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알콕시기를 나타내며; 여기서 전술한 알킬 또는 알콕시기는 히드록시, 플루오라이드 등의 할라이드, 글리시독시, 아민, 비닐, 에폭시, (메트)아크릴, 아마노 또는 메르캅토로 구성된 군에서 선택된 치환기로 치환 또는 비치환되며;R 2 and R 3 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a substituted amino group, a nitro group, a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl or alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms; Wherein the alkyl or alkoxy group described above is unsubstituted or substituted with a substituent selected from the group consisting of halides such as hydroxy, fluoride, glycidoxy, amine, vinyl, epoxy, (meth) acrylic, amano or mercapto; R4는 탄소수 1 ∼ 22의 치환 또는 비치환된 알킬렌 또는 알킬렌옥시기, 또는 탄소사슬 내에 산소, 황, 질소로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자들을 포함하는 탄소수 1∼22의 치환 또는 비치환된 치환 또는 비치환된 알킬렌 또는 알킬렌옥시기를 나타내고, 여기서 전술한 알킬렌기 또는 알킬렌옥시기의 알킬렌 부위는 탄소수 1 내지 6 의 알킬, 알케닐, 히드록시, 할라이드, 글리시독시, 아민, 비닐, 에폭시, (메트)아크릴, 아미노 또는 메르캅토로 구성된 군에서 선택된 치환기로 치환 또는 비치환되며;R 4 is a substituted or unsubstituted substituted or unsubstituted carbon atom having 1 to 22 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted carbon atoms having 1 to 22 carbon atoms containing one or more hetero atoms selected from oxygen, sulfur, nitrogen in the carbon chain, or And an unsubstituted alkylene or alkyleneoxy group, wherein the alkylene moiety of the alkylene group or alkyleneoxy group described above is alkyl, alkenyl, hydroxy, halide, glycidoxy, amine, vinyl, epoxy having 1 to 6 carbon atoms. Substituted or unsubstituted with a substituent selected from the group consisting of (meth) acrylic, amino or mercapto; Z 는 하나 이상의 불포화도를 갖는 기를 나타내고;Z represents a group having at least one degree of unsaturation; X 는 -CO-, -S-, -SO2-, -C≡C-, -O-, -C(R6)2-, -C(R6)=C(R6)-, -N=N- 또는 -NR6-에서 선택되는 2가의 연결기를 나타내고, 여기서 전술한 R6들은 상기 정의된 R1, R2및 R3에 대해 정의된 치환기들에서 각각 독립적으로 선택된다].X is -CO-, -S-, -SO 2- , -C≡C-, -O-, -C (R 6 ) 2- , -C (R 6 ) = C (R 6 )-, -N Divalent linking group selected from = N- or -NR 6- , wherein the aforementioned R 6 are each independently selected from the substituents defined for R 1 , R 2 and R 3 as defined above]. 제 1 항에 있어서, Z 는 비닐기 또는 (메트)아크릴기를 나타냄을 특징으로 하는 스피로벤조피란기-함유 중합체.The spirobenzopyran group-containing polymer according to claim 1, wherein Z represents a vinyl group or a (meth) acryl group. 용매의 존재 또는 부재하에, 하기 화학식 1 의 스피로벤조피란 단량체를, 하기 화학식 2 의 화합물 및 하기 화학식 3 의 화합물로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상의 불포화 관능기-함유 단량체와, 개시제의 존재함에 열경화 또는 광경화에 의해 중합시킴을 특징으로 하는 스피로벤조피란기-함유 중합체의 제조방법.In the presence or absence of a solvent, the spirobenzopyran monomer of formula (1) is thermoset in the presence of an initiator and at least one unsaturated functional group-containing monomer selected from the group consisting of a compound of formula (2) and a compound of formula (3) Or polymerization by photocuring. [화학식 1][Formula 1] [화학식 2][Formula 2] [화학식 3][Formula 3] [상기식에서, R1은, 탄소수 1 ∼ 22 의 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알케닐기, 또는 페닐 또는 페닐알킬기를 나타내고, 전술한 알킬, 알케닐, 페닐 또는 페닐알킬기는 히드록시, 플루오라이드 등의 할라이드, 글리시독시, 아민, 비닐, 에폭시, (메트)아크릴, 아미노 또는 메르캅토로 구성된 군에서 선택되는 치환기로 치환 또는 비치환되며;[Wherein, R 1 represents a linear or branched alkyl or alkenyl group having 1 to 22 carbon atoms, or a phenyl or phenylalkyl group, and the alkyl, alkenyl, phenyl or phenylalkyl group described above is halide such as hydroxy, fluoride, Substituted or unsubstituted with a substituent selected from the group consisting of glycidoxy, amine, vinyl, epoxy, (meth) acrylic, amino or mercapto; R2및 R3는 각각 독립적으로 수소원자, 할로겐원자, 시아노기, 치환된 아미노기, 니트로기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10 의 직쇄 또는 측쇄 알킬 또는 알콕시기를 나타내며, 여기서 전술한 알킬 또는 알콕시기는 히드록시, 플루오라이드 등의 할라이드, 글리시독시, 아민, 비닐, 에폭시, (메트)아크릴, 아미노 또는 메르캅토로 구성된 군에서 선택된 치환기로 치환 또는 비치환되며;R 2 and R 3 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a substituted amino group, a nitro group, a substituted or unsubstituted straight or branched chain alkyl or alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms, wherein the alkyl or alkoxy described above The group is unsubstituted or substituted with a substituent selected from the group consisting of halides such as hydroxy, fluoride, glycidoxy, amine, vinyl, epoxy, (meth) acrylic, amino or mercapto; R4는 탄소수 1 내지 22의 치환 또는 비치환된 알킬렌 또는 알킬렌옥시기, 또는 탄소사슬 내에 산소, 황, 질소로부터 선택된 하나 이상의 헤테로 원자들을 포함하는 탄소수 1∼22의 치환 또는 비치환된 치환 또는 비치환된 알킬렌 또는 알키리렌옥시기를 나타내고, 여기서 전술한 알킬렌 또는 알킬렌옥시기의 알킬렌 부위는 탄소수 1 내지 6 의 알킬, 알케닐, 히드록시, 할라이드, 글리시독시, 아민, 비닐, 에폭시, (메트)아크릴, 아미노 또는 메르캅토로 구성된 군에서 선택된 치환기로 치환 또는 비치환되며;R 4 is a substituted or unsubstituted substituted or unsubstituted carbon atoms having 1 to 22 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted carbon atoms having from 1 to 22 carbon atoms containing one or more hetero atoms selected from oxygen, sulfur, nitrogen in the carbon chain, or An unsubstituted alkylene or alkyryleneoxy group, wherein the alkylene moiety of the alkylene or alkyleneoxy group described above is alkyl, alkenyl, hydroxy, halide, glycidoxy, amine, vinyl, Substituted or unsubstituted with a substituent selected from the group consisting of epoxy, (meth) acrylic, amino or mercapto; Z 는 하나 이상의 불포화도를 갖는 기를 나타내고,Z represents a group having at least one degree of unsaturation, X 는 -CO-, -S-, -SO2-, -C≡C-, -O-, -C(R6)2-, -C(R6)=C(R6)-, -N=N- 또는 -NR6- 에서 선택되는 2가의 연결기를 나타내고,여기서 전술한 R6은 상기 정의된 R1, R2및 R3 대해 정의된 치환기들에서 각각 독립적으로 선택된다].X is -CO-, -S-, -SO2-, -C≡C-, -O-, -C (R6)2-, -C (R6) = C (R6)-, -N = N- or -NR6R represents a divalent linking group selected from6Is defined aboveOne, R2And R3on Each independently selected from substituents defined for. 제 3 항에 있어서, 전술한 용매가 테트라히드로푸란, 톨루엔, 탄소수 1 내지 10 의 저급 알콜, 아세토니트릴, 아세톤, 물, 디메틸술폭시드 (DMSO), 디메틸포름아미드 (DMF), α-메틸나프탈렌, 메톡시나프탈렌, 클로로나프탈렌, 디페닐에탄, 에틸렌글리콜, 퀴놀린, 디클로로벤젠, 디클로로톨루엔, 프로필렌카보네이트, 술포란, 크실렌 또는 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택됨을 특징으로 하는 제조방법.The solvent according to claim 3, wherein the solvent is tetrahydrofuran, toluene, lower alcohol having 1 to 10 carbon atoms, acetonitrile, acetone, water, dimethyl sulfoxide (DMSO), dimethylformamide (DMF), α-methylnaphthalene, Methoxynaphthalene, chloronaphthalene, diphenylethane, ethylene glycol, quinoline, dichlorobenzene, dichlorotoluene, propylene carbonate, sulfolane, xylene or a mixture thereof. 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서, 반응을 0.5 내지 10 시간 동안, 30 ℃ 내지 400 ℃ 의 온도에서 수행함을 특징으로 하는 제조방법.The process according to claim 3 or 4, wherein the reaction is carried out at a temperature of 30 ° C to 400 ° C for 0.5 to 10 hours. 제 1 항에 따른 스피로벤조피란기-함유 중합체 1종 이상, 및 용매 또는 다른 중합체 또는 이들의 혼합물로 구성됨을 특징으로 하는 조성물.A composition characterized in that it consists of at least one spirobenzopyran group-containing polymer according to claim 1 and a solvent or other polymer or mixtures thereof. 제 6 항에 있어서, 전술한 용매가 아세톤, 아세토니트릴, 탄소수 1 ∼ 10 의 저급 알콜, 1,2-디클로로에탄, 디메틸포름아미드 (DMF), 디메틸숙폭사이드, 테트라알콕시실란, 트리알콕시실란, 디알콕시실란, 염산, 유기산, 피리딘, 1-메틸-2-피롤리돈 (NMP), 술포란, 황산, 물 또는 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택됨을 특징으로 하는 조성물.7. Acetone, acetonitrile, a lower alcohol having 1 to 10 carbon atoms, 1,2-dichloroethane, dimethylformamide (DMF), dimethyl soxide, tetraalkoxysilane, trialkoxysilane, di Alkoxysilane, hydrochloric acid, organic acid, pyridine, 1-methyl-2-pyrrolidone (NMP), sulfolane, sulfuric acid, water or mixtures thereof. 제 6 또는 7 항에 있어서, 전술한 다른 중합체가 폴리비닐부티랄, 폴리올레핀, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리우레탄 등과 같은 기존의 범용 수지로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상임을 특징으로 하는 조성물.8. A polymer according to claim 6 or 7, wherein the other polymer described above is selected from the group consisting of existing general purpose resins such as polyvinyl butyral, polyolefin, polystyrene, polycarbonate, polyester, poly (meth) acrylate, polyurethane and the like. A composition characterized in that it is at least one species. 제 6 또는 7 항에 있어서, 전술한 용매가 α-메틸나프탈렌, 메톡시나프탈렌, 클로로나프탈렌, 디페닐에탄, 에틸렌글리콜, 퀴놀린, 디클로로벤젠, 디클로로톨루엔, 프로필렌카보네이트, 술포란, 크실렌 또는 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택되는 고비점 용매를 추가로 함유함을 특징으로 하는 조성물.8. A solvent according to claim 6 or 7, wherein the solvent described above is α-methylnaphthalene, methoxynaphthalene, chloronaphthalene, diphenylethane, ethylene glycol, quinoline, dichlorobenzene, dichlorotoluene, propylenecarbonate, sulfolane, xylene or mixtures thereof The composition characterized in that it further contains a high boiling point solvent selected from the group consisting of. 스피로벤조피란기-함유 중합체를 포함하는 제 6 항에 따른 조성물을 지지체 상에 피복하여 수득된 박막.A thin film obtained by coating a composition according to claim 6 comprising a spirobenzopyran group-containing polymer on a support. 제 10 항에 있어서, 전술한 지지체가 알루미늄 호일, 알루미늄 드럼, 알루미늄 판, 백금, 마일러 필름, 구리 판, 전도성 유리 및 전도성 플라스틱으로 구성된 군에서 선택된 전도성 전극 지지체, 또는 폴리프로필렌, 프로필렌 카보네이트, 폴리메타아크릴레이트, 폴리우레탄 및 기타 플라스틱 및 유리로 구성된 군에서 선택된 절연성 지지체임을 특징으로 하는 박막.The conductive support according to claim 10, wherein the support is selected from the group consisting of aluminum foil, aluminum drum, aluminum plate, platinum, mylar film, copper plate, conductive glass and conductive plastic, or polypropylene, propylene carbonate, poly A thin film characterized by an insulating support selected from the group consisting of methacrylate, polyurethane and other plastics and glass.
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