KR100277604B1 - Mass production of surface mountable solid state capacitors and composite capacitors - Google Patents

Mass production of surface mountable solid state capacitors and composite capacitors Download PDF

Info

Publication number
KR100277604B1
KR100277604B1 KR1019940014721A KR19940014721A KR100277604B1 KR 100277604 B1 KR100277604 B1 KR 100277604B1 KR 1019940014721 A KR1019940014721 A KR 1019940014721A KR 19940014721 A KR19940014721 A KR 19940014721A KR 100277604 B1 KR100277604 B1 KR 100277604B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
wafer
solid state
capacitors
adhesive
metal
Prior art date
Application number
KR1019940014721A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR960002845A (en
Inventor
솔즈베리 이안
Original Assignee
김 리치
에이브이엑스 코퍼레이션
에스알
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김 리치, 에이브이엑스 코퍼레이션, 에스알 filed Critical 김 리치
Priority to KR1019940014721A priority Critical patent/KR100277604B1/en
Publication of KR960002845A publication Critical patent/KR960002845A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100277604B1 publication Critical patent/KR100277604B1/en

Links

Abstract

다수의 표면장착가능한 고체상태 커패시터의 제조방법이 개시된다. 그 방법은 접착기 면상에 분말 고체상태 커패시터 형성용 금속의 웨이퍼를 장착시키는 단계, 웨이퍼와 접착기면 사이의 계면을 상호 융합시켜 웨이퍼를 다공성 일체의 매스로 전환시키도록 웨이퍼와 금속을 함께 소결시키는 단계, 소결된 웨이퍼를 다수의 상호 이격된 서브유닛들로 분리시키는 단계, 수지 주입에 의해 또는 절연성 퇴적 단계에 의해 차례로 접착기면과 서브유닛 사이의 계면 또는 경계를 절연시키는 단계, 부차적인 양극산화 및 망간화 단계에 의해 서브유닛을 커패시터로 전환시키는 단계, 전기 접촉하는 서브유닛의 상부표면상에 존재하는 대향 전극 요소들에 음극 플레이트를 접합시키는 단계, 주형의 요소로서 플레이트들을 사용하여 플레이트들 사이에 절연성 수지재료를 주입시킴으로써 인접 서브유닛들 사이의 공간을 절연성 수지 재료로 채우는 단계, 및 수지의 경화후 플레이트와 경화된 수지를 통하여 분리 보호된 커패시터를 형성하는 단계를 포함한다. 본 명세서는 개시된 방법에 의해 형성된 고체상태 커패시터를 교시한다.Disclosed are a method of manufacturing a plurality of surface mountable solid state capacitors. The method includes mounting a wafer of metal for forming a powder solid-state capacitor on an adhesive face, sintering the wafer and metal together to fuse the interface between the wafer and the adhesive face to convert the wafer into a porous integral mass, Separating the sintered wafer into a plurality of spaced apart subunits, isolating the interface or boundary between the adhesive substrate surface and the subunits in turn by resin injection or by insulating deposition, secondary anodization and manganese Converting the subunit into a capacitor by the step of: bonding a negative electrode plate to opposing electrode elements present on the upper surface of the subunit in electrical contact; insulating plates between the plates using the plates as elements of the mold Insulates the space between adjacent subunits by injecting material Filling a paper material, and then curing the resin and forming a separate protective capacitor through the plate and the cured resin. This disclosure teaches a solid state capacitor formed by the disclosed method.

Description

표면장착가능한 고체상태 커패시터 및 합성 커패시터 제조의 대량 생산법Mass production of surface mountable solid state capacitors and composite capacitors

제1도 내지 제9도는 본 발명의 제1실시예에 따른 커패시터 제조의 연속적인 단계를 도시하는 개략 단면도,1 through 9 are schematic cross-sectional views showing the sequential steps of capacitor manufacturing according to the first embodiment of the present invention;

제3a도는 제3도의 단계에서 도시된 하위(sub) 조립체의 사시도,3a is a perspective view of the sub assembly shown in the steps of FIG. 3,

제10도는 제1도 내지 제9도의 방법에 의해 제조된, 본 발명에 따라 완성된 커패시터의 확대 부분사시도,10 is an enlarged partial perspective view of a capacitor completed in accordance with the present invention, produced by the method of FIGS.

제11도 내지 제19도는 진보된 단계의 방법의 변화를 도시하는 개략단면도,11 to 19 are schematic cross-sectional views showing changes in the method of the advanced stages,

제20도는 제11도 내지 제19도의 방법에 따라 제조된 완성된 커패시터의 확대 부분사시도.FIG. 20 is an enlarged partial perspective view of a completed capacitor made according to the method of FIGS. 11-19.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

10 : 접착기면(substrate) 11 : 상부표면10: adhesive substrate 11: upper surface

12 : 입자 13 : 웨이퍼12 particle 13 wafer

14 : 하부표면 16 : 채널14: lower surface 16: channel

17 : 수지 19 : 카본층17: resin 19: carbon layer

20 : 은층 21 : 음극 플레이트20 silver layer 21 cathode plate

[발명의 배경 및 분야][Background and Fields of the Invention]

본 발명은 고체상태 커패시터의 분야이고, 특히 표면장착가능한 고체 상태 커패시터 제조에 대한 대량 생산방법 및 합성 커패시터에 관한 것이다.FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to the field of solid state capacitors, and more particularly to mass production methods and composite capacitors for the production of surface mountable solid state capacitors.

[정의][Justice]

본원에서 사용된 바와같은 고체상태 커패시터라는 용어는, 고체상태 커패시터 형성용 금속(이하에서 정의된 바와 같은)의 분말 매스(mass)를 제공하고, 예정된 형태를 형성하도록 그 매스를 압착하고, 그 매스가 단일 다공성 상태로 통합되도록 그 압축된 매스를 소결시키고, 그 매스내의 금속성 표면 위에 절연성 피복을 형성하도록 다공성 매스를 예를 들면 양극 산화시키는 것에 의하여 화학적으로 반응시키고, 그 후에 절연성 피복 위에 전도성 피복을 형성(망간화 ; manganizing)하는 방법에 의해 형성된 커패시터를 의미한다.The term solid state capacitor, as used herein, provides a powder mass of metal (as defined below) for forming a solid state capacitor, compresses the mass to form a predetermined shape, and the mass The compressed mass is chemically reacted by, for example, anodizing the porous mass to form an insulating coating on the metallic surface within the mass, so that the compressed mass is incorporated into a single porous state, and then the conductive coating is applied onto the insulating coating. By capacitor (manganizing) means a capacitor formed.

고체상태 커패시터에서, 양극산화된 금속성 요소들은 커패시터의 양극을 형성하며, 절연체위의 전도성 또는 망간화된 피복은 음극 또는 대향 전극을 형성한다.In a solid state capacitor, the anodized metallic elements form the anode of the capacitor, and the conductive or manganese coating on the insulator forms the cathode or the opposite electrode.

본원에서 사용된 바와같은 고체상태 형성용 금속이라는 용어는 고체상태 커패시터의 제조에 사용하는 금속을 의미한다. 고체상태 금속들은 하나 또는 그 이상의 아래금속들을 포함한다 : 탄탈, 니오븀, 몰리브덴, 실리콘, 알루미늄, 티타늄, 텅스텐 지르코늄 및 상기 금속들의 합금. 현재 사용되는 주요 고체상태 금속들은 탄탈과 낮은 등급의 니오븀이다.As used herein, the term solid state forming metal means a metal used in the manufacture of a solid state capacitor. Solid state metals include one or more of the following metals: tantalum, niobium, molybdenum, silicon, aluminum, titanium, tungsten zirconium and alloys of these metals. The main solid state metals in use today are tantalum and low grade niobium.

본원에서 사용된 용어는, 양극산화(anodizing)는 전해조 내에 잠긴 음극에 관하여 금속이 직류 전류의 양극에 연결될 때, 전형적으로 전해액, 즉 인산 용액 내에 소결된 금속을 침지함으로써 고체상태 금속의 다공성 소결된 매스 전체에 걸쳐서 흡수성 금속표면상에 절연성 피복을 형성하는 것을 의미한다.As used herein, anodizing refers to porous sintering of a solid state metal by immersing the sintered metal, typically in an electrolyte, ie, a phosphoric acid solution, when the metal is connected to the anode of a direct current with respect to the cathode submerged in the electrolytic cell. It is meant to form an insulating coating on the absorbent metal surface throughout the mass.

망간화라는 용어는 일반적으로 양극산화에 따른 절연체 위에 전도성 대향 전극 피복을 형성하는 단계를 의미한다. 망간화 단계는 전형적으로 양극산화된 장치를 질화망간 용액에 담근후 습한 대기중에서 침투된(impregnated) 장치를 가열하여 질산염을 고체 전도성 이산화망간으로 전환시킴으로써 실행된다.The term manganese generally refers to the step of forming a conductive counter electrode coating over an insulator resulting from anodization. The manganese step is typically performed by immersing the anodized device in a manganese nitride solution and then heating the impregnated device in a humid atmosphere to convert the nitrate to solid conducting manganese dioxide.

양극산화와 망간화 단계 양자는 고체상태 커패시터를 형성시키는 기술분야에 널리 공지되어 있으며, 사용된 고체 상태 금속 및 커패시터의 의도된 최종 특성에 따라 변할 수 있다.Both anodization and manganese steps are well known in the art of forming solid state capacitors and may vary depending on the intended final properties of the solid state metals and capacitors used.

[선행기술][Prior technology]

고체 상태 커패시터들은, 소결된 다공성 매스 내의 금속의 큰 표면영역의 결과로서 비교적 제한된 체적 공간내에 매우 높은 커패시턴스가 제공될 수 있다는 사실에 의해 높게 가치 평가된다. 예를들면 0.027cc의 체적을 지니는 커패시터 본체 내에 약 10볼트의 작동전압에서 50 내지 100 MFD 값을 지니는 탄탈 커패시터를 제공하는 것이 용이하다.Solid state capacitors are highly valued by the fact that very high capacitance can be provided in a relatively limited volume space as a result of the large surface area of the metal in the sintered porous mass. For example, it is easy to provide a tantalum capacitor having a value of 50 to 100 MFD at an operating voltage of about 10 volts in a capacitor body having a volume of 0.027 cc.

지금까지는, 필수적으로 큰 캡슐화(encapsulation) 방법을 사용한 결과, 콤팩트함(compactness)의 장점의 상당 부분이 손상되었다. 특히 본 발명의 진보된 평가는 상업적으로 이용가능한 고체상태 커패시터를 제조하는 종래의 양식에 대한 참고문헌에 의해 최상으로 얻어질 수 있다.Until now, the use of essentially large encapsulation methods has compromised much of the benefits of compactness. In particular, an advanced assessment of the present invention can be best obtained by reference to a conventional form of making commercially available solid state capacitors.

그러한 제조에서, 탄탈금속 봉의 단부가 압축된 탄탈 분말의 매스에 가해진다. 봉과 분말을 상호 - 소결시키거나 또는 분말의 미리 - 소결된 매스에 봉을 용접시킴으로써 봉이 탄탈분말 매스에 접합된다. 그후, 미리 제조된 유닛들은 양극산화되고 망간화되는 바, 그러한 절차들은 전형적으로 탄탈봉을 파지하고 그러한 봉을 연속되는 단계에 대한 "핸들"로 사용함으로써 실행된다.In such a production, the end of the tantalum metal rod is applied to the mass of compressed tantalum powder. The rod is bonded to the tantalum powder mass by mutually-sintering the rod and powder or by welding the rod to a pre-sintered mass of powder. The prefabricated units are then anodized and manganeseized, and such procedures are typically performed by grasping a tantalum rod and using that rod as a "handle" for subsequent steps.

커패시터 주입몰(implant)들은 상업적 응용에 사용가능한 방식으로 제작되어야 한다.Capacitor implants must be made in a manner usable for commercial applications.

양극봉과 탄탈매스 사이의 접합의 취약성 때문에 전형적으로 프린트 배선기판(PC board)등에 부착을 허여하는 구획을 지니는 리드 프레임(lead frame)구조체에 커패시터를 넣을 필요가 있다. 전형적으로, 리드 프레임 부착은 커패시터 본체에 음극을 연결시키고, 양극봉과 리드 프레임의 다른 부분 사이를 용접하고, 여전히 리드프레임에 연결된 상태로 장치를 캡슐화하며, 그 후, 리드 프레임의 돌출부와 리드프레임의 잔부 사이에 접속을 절단하여, 완성된 커패시터를 제공한다.Due to the weakness of the junction between the anode rod and the tantalum mass, it is typically necessary to place a capacitor in a lead frame structure having a compartment allowing attachment to a printed circuit board (PC board) or the like. Typically, the lead frame attachment connects the cathode to the capacitor body, welds between the anode rod and the other part of the lead frame, encapsulates the device while still connected to the lead frame, and then the protrusions of the lead frame and the lead frame. The connection is cut between the remainders to provide the finished capacitor.

당업자들에 주지된 바와 같이, 전술된 종래의 고체상태 커패시터 제조기술은 제조에 있어 어려운 점들이 많으며, 완성되 커패시터 패키지(package)로 되는바, 그 패키지의 체적은 실제의 커패시턴스 발생소자의 몇 배로 된다. 주지된 바와 같이 양극봉과 커패시터 본체사이의 연결이 취약하여, 양극산화, 망간화 및 부차적 단계들과 같은 커패시터 예비 형성과정중에 큰 주의를 요한다.As is well known to those skilled in the art, the above-described conventional solid state capacitor manufacturing technique has many difficulties in manufacturing, and becomes a completed capacitor package, the volume of which is several times as large as the actual capacitance generating element. . As is well known, the connection between the anode rod and the capacitor body is fragile and requires great care during capacitor preforming such as anodization, manganeseization and secondary steps.

더우기, 종래의 제조에서 요구되는 바와 같은. 고체 상태 금속의 용접은 어려운 공정이다.Moreover, as required in conventional manufacture. Welding of solid state metals is a difficult process.

전술된 종래의 방법에서는, 음극 피복이 양극봉에 대하여 단락되지 않도록 큰 주의를 요하여, 이러한 요소들을 이격시킬 필요성은 소자의 전체 크기를 더 증가시킨다.In the conventional method described above, great care is taken so that the cathode coating is not shorted with respect to the anode rod, so the need to space these elements further increases the overall size of the device.

최종적으로, 그리고 아마도 가장 중요하게, 리드프레임 제조 비용에 부가하여, 완성된 커패시터에 의해 차지된 큰 체적 공간은 소형화가 유행하는 현재의 제조 공정에 역행한다.Finally, and perhaps most importantly, in addition to the cost of leadframe fabrication, the large volume space occupied by the finished capacitor is counter to the current manufacturing process, where miniaturization is prevalent.

종래의 고체 상태 탄탈 커패시터 및 제조방법의 전형적인 실시예들이 미합중국 특허 제4,059,887 호 ; 4,520,430 호 ; 4,780,796 호 및 4,945,452 호에 설명되고 도시되어 있다.Typical embodiments of conventional solid state tantalum capacitors and fabrication methods are described in US Pat. No. 4,059,887; 4,520,430; 4,780,796 and 4,945,452 are described and illustrated.

리드프레임 방법을 사용하여 제조된 고체상태 커패시터의 전형적인 실시예들이 미합중국 특허 제 4,107,762 호 ; 4,539,623 호 ; 4,660,127 호 ; 4,899,258 호 및 4,907,131 호를 포함한다.Typical embodiments of solid state capacitors manufactured using the leadframe method are described in US Pat. No. 4,107,762; 4,539,623; 4,660,127; 4,899,258 and 4,907,131.

본 발명에 관하여 수행된 기술의 조사와 관련한 참고문헌들이 아래에 기재되어 있다.References relating to the investigation of techniques performed with respect to the present invention are described below.

미합중국 특허 제 3,117,365 호는 큰 시트의 절연체 상에 U - 형태의 전극 패턴을 퇴적시키고, 시트들을 스택 (stack)시켜, 상기 U - 형태의 전극 패턴들의 베이스가 상기 스택의 대향 표면으로부터 떠나게 한 후, 종결된 각각의 커패시터들을 형성하도록 절단함으로써 형성된 세라믹 커패시터들을 개시한다.U.S. Patent No. 3,117,365 deposits a U-shaped electrode pattern on a large sheet of insulator and stacks the sheets so that the base of the U-shaped electrode patterns leaves the opposite surface of the stack. Disclosed are ceramic capacitors formed by cutting to form respective terminated capacitors.

미합중국 특허 제 3,538,571 호는 후에 전극이 될 개별적인 상승된 영역을 제공하도록 융기된 (embossed) 그린 세라믹 시트를 개시한다.U. S. Patent No. 3,538, 571 discloses an embossed green ceramic sheet to provide an individual raised region to be an electrode later.

미합중국 특허 제 3,617,834 호는 중복 에지를 지니는 커패시터 블럭을 제공하고 중복영역들에서 블럭을 절단하여 말단영역을 제공함으로써 형성된 세라믹 다층 커패시터에 관한 것이다.US Pat. No. 3,617,834 relates to a ceramic multilayer capacitor formed by providing a capacitor block with redundant edges and cutting the block in the overlapping regions to provide an end region.

미합중국 특허 제 3,635,759 호는 다공성 스크린상으로 바인더내에 세라믹을 가하고, 흡수관(suction)을 가하며, 액체 금속을 퇴적한 후, 후에 발화되고 절단되어 독립 커패시터를 형성하는 다층 구조가 형성될 때까지 이러한 동작을 반복함으로써 다층 세라믹 커패시터를 형성하는 방법을 개시한다.U.S. Patent No. 3,635,759 discloses this operation until a multi-layered structure is formed in which a ceramic is applied in a binder on a porous screen, a suction tube is applied, and a liquid metal is deposited, which is later ignited and cut to form an independent capacitor. The method of forming a multilayer ceramic capacitor by repeating the above is disclosed.

미합중국 특허 제 3,992,761 호는 단부들이 노출된 플라스틱 블럭내에 다수의 세라믹 커패시터들을 삽입시킴으로써 커패시터들을 종결시키는 방법을 개시한다. 말단들은 노출된 단부에 가해지며, 그후 커패시터 본체를 제거하도록 불럭이 분해된다.US Patent No. 3,992,761 discloses a method of terminating capacitors by inserting a plurality of ceramic capacitors into a plastic block with exposed ends. The ends are applied to the exposed ends, and then the blocks are disassembled to remove the capacitor body.

미합중국 특허 제 4,045,867 호는 플라스틱 예비 제조품의 하부의 구멍을 통하여 상향으로 말단 와이어를 통과시키고, 커패시터에 그 와이어를 부착시키고, 예비 제조품 내로 커패시터들을 도입하여, 수지 및 경화제로 예비 제조품을 채우는 것들을 포함하는 커패시터에 관한 중합체 조성물을 성형하는 방법에 관한 것이다.U.S. Patent No. 4,045,867 includes those that pass the end wire upward through the hole in the bottom of the plastic prefabrication, attach the wire to the capacitor, introduce the capacitors into the prefabrication, and fill the prefabrication with resin and hardener. A method of molding a polymer composition relating to a capacitor is provided.

미합중국 특허 제 4,574,438 호는 접착기면 상에 금속성 층을 형성하고, 그 금속 위에 압전 절연층을 형성하며, 절연체 및 금속을 통하여 그리고 접착기면의 본체 내로 홈을 절취하고, 플라스틱으로 홈들을 채우며, 채워진 홈과 정합하도록 장치 부분 위로 포토리소그래피 스페이서를 형성하고, 최종적으로 홈에 대하여 직각방향 전극을 지니는 커버를 부착함으로써 제조된 압력 반응 변환기를 제시한다.U. S. Patent No. 4,574, 438 forms a metallic layer on the adhesive face, forms a piezoelectric insulating layer on the metal, cuts the groove through the insulator and the metal and into the body of the adhesive face, fills the grooves with plastic, fills the groove Presenting a pressure response transducer made by forming a photolithographic spacer over a device portion to mate with, and finally attaching a cover having an electrode perpendicular to the groove.

미합중국 특허 제 4,959,652 호는 각각의 커패시터를 감아올리고, 프린트 배선기판에 커패시터를 부착시키는데 사용될 땜납보다 더 높은 융점을 지니는 금속을 사용하는 증착에 의해 말단들을 피복시키고, 수지로 커패시터를 피복시킨후, 기초가되는 금속 말단 재료의 원하는 부분을 노출시키도록 수지 부분을 연마 이격시킴으로써 제조되는 경화된 플라스틱 형태의 표면장착가능한 커패시터의 구조를 제시한다.U.S. Patent No. 4,959,652 reeles each capacitor, covers the ends by evaporation using a metal having a higher melting point than the solder that will be used to attach the capacitor to the printed wiring board, the capacitor is coated with a resin, and then A structure of a surface mountable capacitor in the form of a cured plastic produced by abrasively spaced apart the resin portion to expose the desired portion of the metal end material being applied.

[발명의 개요][Overview of invention]

본 발명은 다수의 표면장착가능한 고체상태 커패시터의 개선된 제조방법 및 개선된 합성 커패시터에 관한 것으로 요약될 수 있다.The present invention can be summarized as being directed to an improved method of manufacturing a plurality of surface mountable solid state capacitors and to an improved composite capacitor.

간단히 말하면, 본 방법은 커패시터가 형성된 고체 상태 금속과 같은 금속으로 구성되는 것이 바람직한 금속 접착기면을 제공하는 단계를 포함한다. 분말 고체 상태 금속의 압축된 웨이퍼가 접착기면 상에 장착되는바, 상기 웨이퍼는 각각의 커패시터의 크기보다 수배 더 큰 크기로 된다. 그 웨이퍼와 접착기면은 상호 소결되어, 접착기면에 웨이퍼를 접합시키며, 다공성 매스내로 분말을 합체시킨다.In short, the method includes providing a metal bonder surface that is preferably composed of a metal, such as a solid state metal, on which a capacitor is formed. A compacted wafer of powdered solid state metal is mounted on the adhesive face, which is several times larger than the size of each capacitor. The wafer and the adhesive surface are sintered together to bond the wafer to the adhesive surface and incorporate the powder into the porous mass.

소결된 웨이퍼는 접착기면에 수직한 웨이퍼를 통하여 형성된 절취부에 의해 다수의 서브유닛(sub-unit)으로 분할된다. 웨이퍼의 세분(sub-division) 및/또는 서브유닛이 양극산화되고 망간화되기 전 또는 후에, 만일 양극산화와 망간화 절차가 상기 세분 전에 실행된다면, 양극산화와 망간화단계 세분 후에 재차 반복된다는 것이 이해된다. 웨이퍼의 다른 영역으로부터 접착기면과 웨이퍼 사이의 계면을 분리시키도록, 바람직하게는 수지 분사 단계에 의해, 분리된 서브유닛들 사이의 영역이 처리되어, 망간화 단계들이 장치의 양극을 형성할 접착기면을 커패시터의 음극과 단락시키지 않도록 한다.The sintered wafer is divided into a plurality of sub-units by cutouts formed through the wafer perpendicular to the adhesive plane. Before or after the sub-division and / or subunits of the wafer are anodized and manganese, if the anodization and manganization procedure is performed before the subdivision, it is repeated again after the anodization and manganization step subdivision. I understand. In order to separate the interface between the bonder surface and the wafer from other regions of the wafer, the area between the separated subunits is preferably processed by a resin spraying step so that the manganese steps are used to form the anode of the device. Do not short circuit with the cathode of the capacitor.

금속 부재가 가공된 웨이퍼의 상부표면에 가해져, 그 상부표면과 기계적 및 전기적 접촉이 대향전극을 형성한다. 이미 실행된 절취 단계의 결과로 형성된 분리된 커패시터들 사이의 공간 영역은 주형 요소 방식으로 작용하는 대량 전극 플레이트와 접착기면 사이에 형성된 공간내로 수지를 주입시킴으로써 채워지며, 그로 인해 절취에 의해 형성된 전체 공간은 절연성 수재재료로 채워진다.A metal member is applied to the upper surface of the processed wafer so that mechanical and electrical contact with the upper surface forms the counter electrode. The space area between the separated capacitors formed as a result of the already performed cutting step is filled by injecting resin into the space formed between the bulk electrode plate and the adhesive surface acting in the form of a mold element, thereby the overall space formed by cutting. Is filled with insulating resinous material.

최종적으로, 합성물은 이미 형성된 절취부들과 정합하는 절단선들을 따라, 즉 대향 전극 플레이트, 각각의 커패시터를 분리시키는 수지 및 접착기면을 통하여 절단되며, 그로 인해, 대향 전극 플레이트와 접착기면에 의해 형성된 단부들을 제외한 곳에서 이미 캡슐화된 완성된 커패시터들이 형성되는바, 상기 요소들은 표면이 프린트 배선기판 상에 장착될때 커패시터의 부착을 허여하는 커패시터의 말단부를 형성하며, 상기 접착기면은 양극과 커패시터의 음극인 대향 전극을 형성한다.Finally, the composite is cut along the cutting lines that match the already formed cuts, i.e., through the counter electrode plate, the resin separating the respective capacitors and the gluer face, whereby the end formed by the counter electrode plate and the gluer face. Already encapsulated completed capacitors are formed, the elements forming the distal end of the capacitor allowing the attachment of the capacitor when the surface is mounted on a printed wiring board, the adhesive surface being the anode and cathode of the capacitor. The counter electrode is formed.

종래의 고체상태 커패시터 및 그것들의 제조방법에 정통한 당업자들에 의해 이해되는 바와 같이, 다수의 장점들이 일반적으로 서술된 제조방법에서 발생한다.As will be appreciated by those skilled in the art who are familiar with conventional solid-state capacitors and their fabrication methods, many advantages arise in the fabrication methods generally described.

첫번째, 종래의 양극 전선을 제거함으로써, 커패시터의 체적 효율 즉 유닛의 특정 체적내에서 얻어진 커패시턴스는 2배 내지 3배 정도로 증가된다.First, by eliminating conventional anode wires, the volumetric efficiency of the capacitor, i.e. the capacitance obtained within a particular volume of the unit, is increased by two to three times.

더우기, 리드 프레임을 사용하는 것에 대한 필요 뿐아니라 양극전선을 사용하고 양극전선을 용접하여 예비 제조품(preform)을 처리하는 것과 같은 주요한 제조상 문제점들이 완전히 배제된다. 더우기, 본 방법은 양극전선과 종래의 고체상태 커패시터들을 덮는 음극 피복사이의 단락과 같은 산업상의 제문제를 배제한다.Moreover, not only the need for using a lead frame, but also major manufacturing problems such as using a positive wire and welding a positive wire to process preforms are completely excluded. Moreover, the method eliminates industrial problems such as short circuits between the anode wire and the cathode sheath covering the conventional solid state capacitors.

본 발명의 주요장점은 표준품(stock item)으로서 소결된 고체 상태 금속 웨이퍼가 부착된 접착기면을 제공하는 능력에 있다. 이러한 표준품은 단지 웨이퍼 내에 형성된 절취부의 공간 및 커패시터의 크기를 변화시킴으로써 원하는 용량의 커패시터를 형성하도록 된다.The main advantage of the present invention lies in the ability to provide an adhesive substrate with a sintered solid state metal wafer attached as a stock item. These standards allow only forming capacitors of desired capacity by varying the size of the capacitor and the space of the cutout formed in the wafer.

중요한 것은, 각각의 커패시터를 분리시키고, 톱질(sawing) 후 완성된 커패시터의 최종 캡슐부(encapsulation)를 형성하는 절연성 수지의 주입을 위한 갱 주형(gang mold)의 틀로서 작용하는 대향전극 플레이트와 접착기면의 사용에 의해 캡슐부의 비용은 현저하게 감소된다.Importantly, the opposing electrode plate and the bonder, which act as a framework for the gang mold for the isolation of each capacitor and the injection of insulating resin which forms the final encapsulation of the finished capacitor after sawing. The use of cotton reduces the cost of the capsule portion significantly.

따라서, 본 발명의 목적은 표면장착가능한 고체상태 커패시터 및 개선된 합성 커패시터의 대량 제조에 대한 신규한 방법을 제공하는 것이다.It is therefore an object of the present invention to provide a novel method for mass production of surface mountable solid state capacitors and improved composite capacitors.

본 발명의 다른 목적은 표면장착가능한 고체상태 커패시터의 제조방법을 제공하는 것인바, 완성된 커패시터의 보호재료 요소들은 제조과정중 한가지 기능, 즉 커패시터의 부차적으로 형성된 대향 전극 요소들로부터 양극-접착기면을 절연시키는 기능을 수행한다.It is another object of the present invention to provide a method for manufacturing a surface mountable solid state capacitor, wherein the protective material elements of the finished capacitor have one function during the manufacturing process, namely the anode-adhesive surface from the secondary electrode elements formed secondary to the capacitor. Insulate the body.

본 발명의 또다른 목적은 양극봉과 탄탈매스 사이에 그리고 양극봉과 내구성 및 신뢰성있는 구조를 제공하는 말단요소사이에 취약한 연결부를 배제하는 고체상태 커패시터 및 합성 커패시터의 제조방법을 제공하는 것이다.It is a further object of the present invention to provide a method for manufacturing solid state capacitors and composite capacitors which excludes weak connections between the anode rod and tantalum mass and between the anode rod and the terminal element providing a durable and reliable structure.

[도면의 상세한 설명]Detailed Description of the Drawings

도면들을 참조하면, 제1도 내지 제9도에는 본 발명의 제1실시예에 따라 커패시터를 제조하는 여러 단계를 설명하는 일련의 단면도들이 도시되어 있다.Referring to the drawings, FIGS. 1 through 9 show a series of cross sectional views illustrating various steps of manufacturing a capacitor in accordance with a first embodiment of the present invention.

당업자들에게 명백히 이해되는 바와같이, 다양한 요소들의 차원 및 비율은 명료의 목적으로 과장되었다.As will be apparent to those skilled in the art, the dimensions and ratios of the various elements have been exaggerated for clarity purposes.

제1도에는 예를 들면 탄탈과 같은 고체상태 금속의 접착기면(10)이 도시되어 있다. 접착기면(10)의 상부 표면(11)으로 접착기면에 융합된 탄탈입자(12)들의 얇은 층이 가해지는 것이 바람직한바, 그 입자(12)들은 후술될 바와 같은 웨이퍼(13)의 확대 접합부에 거칠게된 표면을 제공하는 작용을 한다. 입자(12)들에 대신하여 표면(11)이 거칠게 될 수 있다.In FIG. 1 an adhesive base 10 of a solid state metal, for example tantalum, is shown. It is desirable to apply a thin layer of tantalum particles 12 fused to the adhesive surface to the upper surface 11 of the adhesive surface 10, the particles 12 being attached to the enlarged junction of the wafer 13 as will be described later. Serves to provide a roughened surface. In place of the particles 12, the surface 11 may be roughened.

접착기면(10)의 상부표면(11)에 응집성 매스를 형성하는 접착제와 혼합된 압축된 탄탈분말로 구성되는 웨이퍼(13)가 가해진다. 본 기술분야에 공지된 바와 같이, 웨이퍼(13)를 형성하는 분말을 구성하는 소립자들은 크기가 변할 수 있으며 그러한 입자크기는 합성 커패시터의 최종적 특성을 결정한다. 그후 웨이퍼(13) 및 접착기면(10)은 상호-소결되어 유기적 접합제를 초기와 같이 연소(burn-off) 시키며, 그후 웨이퍼(13)의 분말을 일체성형 다공성 매스로 전환시킨다. 소결은 또한 접촉표면을 기계적 및 전기적으로 연결하는 접착기면(10)의 상부표면(11)에 하부표면(14)을 접합시킨다.On the upper surface 11 of the adhesive machine surface 10, a wafer 13 composed of compressed tantalum powder mixed with an adhesive forming a coherent mass is applied. As is known in the art, the small particles making up the powder forming the wafer 13 may vary in size and such particle size determines the final properties of the composite capacitor. The wafer 13 and the adhesive substrate 10 are then inter-sintered to burn off the organic binder as initially, and then convert the powder of the wafer 13 into an integral porous mass. Sintering also joins the lower surface 14 to the upper surface 11 of the adhesive surface 10 that mechanically and electrically connects the contact surface.

실례로서, 그리고 제한없이, 접착기면은 0.005 내지 0.03 인치 두께의 최적의 범위내에서 변화할 수 있다. 시드(seed)분말(12)은 웨이퍼 분말보다 더 큰 분말을 사용하며, 웨이퍼(13)내에 사용된 분말 크기에 따라 변할 수 있으며, 실례로서 약 100 내지 800 미크론의 범위내에서 최적으로 될 수 있다.By way of example and without limitation, the adhesive substrate surface may vary within an optimal range of 0.005 to 0.03 inch thick. The seed powder 12 uses a larger powder than the wafer powder, and may vary depending on the powder size used in the wafer 13 and may be optimal in the range of about 100 to 800 microns, for example. .

부가적인 실례로서, 접착기면과 분말이 탄탈로 구성된다고 가정하면, 5분 내지 60분 동안 2000℃에서의 소결은 원하는 접합과 다공성을 창출하는데 유효하며, 그 시간적 요인은 웨이퍼를 형성하는 재료의 매스 및 소립자 크기의 기능으로 된다. 다공성 매스를 커패시터로 전환시키는데 필요한 펠릿(pellet)의 형성, 소결 단계들 및 부가의 처리 단계(양극산화 및 망간화)들을 포함하는 고체상태 커패시터 형성용 금속들의 처리는 본 기술 분야에 잘 공지되어 있으며, 그러한 처리단계들이 본 발명의 일부를 형성하지 않기 때문에 그러한 처리단계의 설명은 본원에서 단지 간단히 설명될 것이다.As an additional example, assuming that the adhesive base and the powder consist of tantalum, sintering at 2000 ° C. for 5 to 60 minutes is effective to create the desired bond and porosity, the temporal factor of which is the mass of the material forming the wafer. And small particle size. Treatment of metals for forming solid-state capacitors, including the formation of pellets, the sintering steps and additional processing steps (anodization and manganization) required to convert the porous mass into capacitors, are well known in the art. Since such processing steps do not form part of the invention, a description of such processing steps will be described briefly herein.

제2도에 도시된 바와 같은 접착기면(10)과 소결된 웨이퍼(13)는 웨이퍼(13)를 다수의 분리된 커패시터 형성용 유닛(15)으로 분할하는 십자형 패턴(제3a도 참조)내의 접착기면(10)의 평면에 수직으로 형성된 절취부에 의해 톱질단계에 종속된다. 절취부들은 접착기면(10)의 표면(11)을 노출시키는 또는 그 표면을 약간 침투하는 깊이로 되는 것이 바람직하다. 선택적으로, 접착기면(10)과 웨이퍼(13)를 구성하는 합성물의 처리를 용이하게하는 수단으로서, 접착기면은 상부표면과 웨이퍼를 노출시키는 깊이로 수지블럭(도시되지 않았음)내에 삽입될 수 있다.The bonder surface 10 and the sintered wafer 13 as shown in FIG. 2 are bonded in a cross pattern (see also FIG. 3A) that divides the wafer 13 into a plurality of separate capacitor forming units 15. It is subjected to the sawing step by a cutout formed perpendicular to the plane of the face 10. The cuts are preferably to a depth that exposes or slightly penetrates the surface 11 of the adhesive surface 10. Optionally, as a means of facilitating the processing of the composite constituting the gluing machine surface 10 and the wafer 13, the gluing machine surface can be inserted into a resin block (not shown) to a depth that exposes the top surface and the wafer. have.

그후, 제3도 및 제3a도의 세분된 합성물은 톱질단계후 잔여 웨이퍼의 다공성 소결된 매스를 커패시터로 전환시키는 처리단계에 종속된다. 그 처리단계는 본 기술분야에 잘 공지되어 있으며, 양극산화단계를 포함하는바, 웨이퍼가 1%인산용액의 전해조 내에 침지되는 동안, 접착기면을 전해조내에 잠긴 음극에 관하여 DC전류의 양극 전원에 연결시킨다. 이러한 절차는 접착기면의 노출된 부분뿐 아니라 용액에 노출된 웨이퍼 부분을 예를들면 사용된 금속이 탄탈 내지 5산화물인 절연성 재료로 전환시킨다.The granular composite of FIGS. 3 and 3a is then subjected to a processing step of converting the porous sintered mass of the residual wafer into a capacitor after sawing. The processing step is well known in the art and includes an anodizing step, in which the adhesive surface is connected to a positive current source of DC current with respect to the cathode submerged in the electrolytic cell while the wafer is immersed in an electrolytic cell of 1% phosphate solution. Let's do it. This procedure converts the exposed portions of the adhesive substrate as well as the exposed portions of the wafer to an insulating material, for example, the metal used is tantalum to pentoxide.

커패시터 형성 절차는 대향전극의 부차적 형성을 포함하는바, 그 대향 전극 형성단계는 예를들면 질화망간 용액에 합성물을 담근후 상기 질화물을 전도성 이산화 망간으로 전환시키도록 습한 대기에서 그 장치를 약 325℃로 가열시킴으로써 실행된다. 대향전극의 원하는 절연성 형성 및 피복을 확실히하는 종래의 방법인 양극산화 및 망간화 과정은 여러번 반복될 수 있으며, 대향전극의 제조중 가열의 결과로서 형성될 수 있는 절연체내의 파열 또는 단락으로 인하여 반복이 필요하다는 것이 이해되며, 상기 파열 또는 단락은(탄탈금속에 의해 형성된) 양극과(망간화 과정에 의해 형성된) 음극 또는 대향 전극 사이의 단락방지(non-shorting)를 확실히 하도록 다시 양극 산화(re-anodize)될 필요가 있다.The capacitor formation procedure involves the secondary formation of the counter electrode, which step involves, for example, dipping the composite in a manganese nitride solution and then placing the device in a humid atmosphere to convert the nitride into conductive manganese dioxide. It is carried out by heating with. The conventional method of anodizing and manganese, which ensures the desired insulation formation and coating of the counter electrode, can be repeated many times, and due to rupture or short circuit in the insulator which can be formed as a result of heating during fabrication of the counter electrode, It is understood that the rupture or short circuit is again anodic oxidation to ensure non-shorting between the anode (formed by tantalum metal) and the cathode or counter electrode (formed by the manganese process). need to be anodized.

커패시터를 형성하기 위한 다공성 탄탈 매스의 처리 단계들은 참고문헌으로 본원에서 구체화된 미합중국 특허 제 4,059,887 호 및 제 4,945,452 호에 상세히 설명되어 있다.The processing steps of the porous tantalum mass to form the capacitor are described in detail in US Pat. Nos. 4,059,887 and 4,945,452, incorporated herein by reference.

제4도에 도시된 바와 같이, 제2의 일련의 톱질 절취부(S2)가, 제1의 일련의 톱질 절취부(S1)와 정렬되도록 형성되며, 그 톱질 절취부(S2)는 접착기면 내로 더 깊이 침투하여 내부에 채널(16)을 형성한다. 이 시점에서, 양극산화와 망간화에 의해 웨이퍼 재료를 처리하는 순서는 본 발명에 결정적이 아니라는 것이 주목된다. 예를들면, 톱질 절취부(S1 및 S2)를 형성하기 전에 전체 웨이퍼(13)를 양극산화 및 망간화시키는 것 또는 웨이퍼의 처리전에 톱질 절취부를 형성하는 것은 양자 모두 용이하다. 물론, 절취 전에 양극산화가 실행되면, 양극산화 및 망간화에 의해 톱질 절취 합성물을 재처리하는 것이 필요하다. 시행착오에 의해 처리순서는 가장 최선으로 결정되며, 각각의 커패시터의 크기, 선택된 고체상태 금속 분말의 종류(소립자 크기)등과 같은 요소들에 의존한다.As shown in FIG. 4, a second series of sawing cuts S2 is formed to align with the first series of sawing cuts S1, the sawing cutout S2 into the adhesive plane. Penetrates deeper to form channels 16 therein. At this point, it is noted that the order of processing the wafer material by anodization and manganese is not critical to the present invention. For example, it is easy to anodize and manganize the entire wafer 13 before forming the sawing cuts S1 and S2, or to form the sawing cut before processing the wafer. Of course, if anodization is carried out before the cut, it is necessary to reprocess the sawed cut composite by anodization and manganese. The order of processing is best determined by trial and error, and depends on factors such as the size of each capacitor and the type of solid state metal powder (particle size) selected.

제5도에 도시된 바와같이, 채널(16)들은 표면(11)의 수준 또는 수지를 함유한 절연성 구성물 약간 위의 수준까지 채워진다. 최선으로, 사용된 수지는 액체 에폭시수지일 수 있으며, 부차적으로 경화된 다양한 액체수지들이 사용될 수 있다.As shown in FIG. 5, the channels 16 are filled to the level of the surface 11 or slightly above the insulating constituent containing the resin. Optimally, the resin used may be a liquid epoxy resin, and various liquid resins that are secondary cured may be used.

제2톱질 절취부(S2)의 형성 후 및 채널들을 채우기 전에, 그 장치는 부가의 양극산화 단계에 종속되어 톱질 절취부(S2)에 노출된 금속위에 양극산화 절연성 층을 제공하는 것이 바람직하다.After the formation of the second saw cut S2 and before filling the channels, the device is preferably subjected to an additional anodization step to provide an anodizing insulating layer over the metal exposed to the saw cut S2.

전술된 설명에서 명백히 되는 바와같이, 수지(17)(및 후속 톱질 절취부 양극산화 단계)는 웨이퍼(13)를 형성하는 소결된 탄탈 분말의 금속성 요소들 사이의 단일 전기 연결부가 분리된 커패시터 형성용 부재(15)들과 접착기면 사이의 계면을 형성하는 표면(11)에 존재하는 것을 확실히 한다.As will be evident from the foregoing description, the resin 17 (and subsequent saw cut anodization step) is intended for the formation of a capacitor with a single electrical connection between the metallic elements of the sintered tantalum powder forming the wafer 13. It is ensured that it is present on the surface 11 forming the interface between the members 15 and the adhesive machine surface.

제6도에 도시된 바와같이, 종래의 방법과 마찬가지로, 요소(15)들의 상부표면(18)들은 전도성 카본의 제1층(19) 및 은의 피복층(20)을 구비하여, 망간화에 의해 형성된 대향전극의 외측(상부)표면부분에 전기적 연결부재를 제공한다.As shown in FIG. 6, as in the conventional method, the upper surfaces 18 of the elements 15 have a first layer 19 of conductive carbon and a coating layer 20 of silver, formed by manganization. An electrical connection member is provided on the outer (upper) surface portion of the counter electrode.

제7도에 도시된 바와같이, 음극 플레이트(21)가 예를들면 전도성 접착제에 의해 은피복층(20)의 상부표면(22)에 첨부된다. 접착제의 응고후에 초기 톱질 절취부(S1)에 의해 형성된 공간(23)들은(예를들면 에폭시수지와 같은) 액체 절연성 수지 재료로 채워져서 경화된다. 접착기면(10)과 음극 플레이트(21)가 함께 주입된 수지를 포함하기 위한 셀을 형성한다는 사실에 의해 영역들은 매우 용이하게 채워진다.As shown in FIG. 7, the negative electrode plate 21 is attached to the upper surface 22 of the silver coating layer 20 by a conductive adhesive, for example. After solidification of the adhesive, the spaces 23 formed by the initial saw cuts S1 are filled with a liquid insulating resin material (such as epoxy resin) and cured. The regions are very easily filled by the fact that the adhesive machine surface 10 and the negative electrode plate 21 together form a cell for containing the injected resin.

최종적으로, 제8도에 도시된 합성물 유닛은 톱질선(S1 및 S2)들과 정합하는 톱질선(S3)을 따라 절단되는바, 그 톱질단계는 제10도에 도시된 바와같은 완성된 커패시터(C)들을 발생시킨다.Finally, the composite unit shown in FIG. 8 is cut along the sawing line S3 that matches the sawing lines S1 and S2, the sawing step of which is carried out with a completed capacitor (as shown in FIG. 10). C)

명백히되는 바와같이, 부가의 과정 또는 보호는 더이상 필요하지 않으며, 톱질 절취부(S3)들은 완성된 캡슐화된 고체상태 커패시터를 형성한다. 그 커패시터는 표면장착가능하며, 양극(10')은 접착기면(10)의 분절로 구성되며, 음극 또는 대향 전극(21')은 음극 플레이트의 증가부분(increment)으로 구성된다.As will be apparent, no further processing or protection is needed anymore, and saw cuts S3 form a complete encapsulated solid state capacitor. The capacitor is surface mountable, and the anode 10 'is composed of segments of the adhesive substrate 10, and the cathode or counter electrode 21' is composed of an increment of the cathode plate.

본 발명의 중요한 장점은 접착기면 및 웨이퍼의 표준크기로 구성되는 예비 제조품(preform)을 제조하는데 있다. 단지 톱질 절취부의 공간을 변화시킴으로써, 특별 사용자의 필요에 따라 다양한 단부특성의 커패시터를 생산하는 것이 가능하다.An important advantage of the present invention is the manufacture of a preform consisting of the standard size of the adhesive substrate and the wafer. By only changing the space of the saw cuts, it is possible to produce capacitors of various end characteristics according to the needs of the special user.

제한없이, 그리고 최선의 방법 필요에 순응하여, 제1도 내지 제9도의 방법 실시에 대한 적절한 제조 순서는 다음과 같다 :Without limitation, and in compliance with the best method requirements, the appropriate manufacturing sequence for the method implementations of FIGS. 1-9 is as follows:

[제조 순서][Manufacturing order]

1. 탄탈 접착기면을 제공1. Provide tantalum adhesive side

2. 탄탈 입자를 가하고, 접착기면에 그 입자들을 접합시키도록 가열2. Add tantalum particles and heat them to bond the particles to the surface of the adhesive

3. 탄탈 웨이퍼를 가하고 소결시켜, 분말을 통합시키며 접착기면에 접합시킨 후 양극산화3. Tantalum wafer is added and sintered to consolidate the powder, bonded to the adhesive machine surface and then anodized

4. 망간화4. Manganese

5. 웨이퍼(S1)를 톱질5. Sawing the wafer S1

6. 톱질 절취부들 위에 절연체 형성6. Formation of insulators on saw cuts

7. 제1수지 장벽(17)을 부가7. Add the first resin barrier 17

8. 망간화8. Manganese

9. 카본 피복 부착9. Carbon coating

10. 은 피복 부착10. Silver cloth attachment

11. 전도성 접착제 사용하여 음극 플레이트 접합11. Cathode plate bonding using conductive adhesive

12. 제2수지 캡슐부(24)주입12. Injection of the second resin capsule portion 24

13. 분리된 커패시터로 웨이퍼 절단13. Cutting wafers with separated capacitors

제1도 내지 제9도와 관련하여 설명된 방법의 변형이 제11도 내지 제19도에 도시되어 있다. 그 방법들간의 주요한 차이점은 수지 요소(17)들을 부가시키는 제1 수지 주입 단계의 배제에 있다.Variations of the method described in connection with FIGS. 1 to 9 are shown in FIGS. 11 to 19. The main difference between the methods lies in the exclusion of the first resin pouring step of adding the resin elements 17.

제11도 내지 제19도에 도시된 바와같은 절차의 설명에서, 동일한 부품들은 제1도 내지 제9도의 설명에서 사용된 동일한 참조번호들을 지닌다.In the description of the procedure as shown in FIGS. 11 to 19, the same parts bear the same reference numbers used in the description of FIGS. 1 to 9.

(제11도 내지 제19도의) 실시예에 따라, 제1 톱질 절취부(S1)의 형성후에, 커패시터 부차요소(15)들 및 접착기면(10)의 노출표면들은 톱질 절취부들에 의해 노출된 금속성 요소들을 시일하기 위한 절연성 피복(30)을 구비하며, 그로 인해 접착기면과 베이스부재(15)들 사이에 경계를 보호하는 절연성 장벽을 제공한다. 그후, 그 장치는 망간화되어, 더 좁은 제2톱질 절취부(S2)들이 톱질 절취부(S1)들과 정합하도록 형성된다. 그후, 합성물은 부가의 절연체 형성단계에 종속되어, 톱질 절취부(S2)에 의해 노출된 에지들이 절연성 피복(제16도 참조)에 의해 시일되도록 한다. 그후, 합성물은 망간화되어, 대향전극을 형성하며, 카본층(19), 은층(20) 및 음극 플레이트(21)의 적용전 단계로서 처리된다. 그후, 커패시터들 사이의 공간은 수지 절연성 매스(24)로 채워지며, 톱질선(S3)들을 따라 톱질되어, 제20도에 도시된 바와 같은 완성된 커패시터(25)를 형성한다.According to the embodiment (of FIGS. 11 to 19), after the formation of the first sawing cutout S1, the exposed surfaces of the capacitor subelements 15 and the adhesive substrate 10 are exposed by the sawing cutouts. An insulating coating 30 is provided for sealing metallic elements, thereby providing an insulating barrier that protects the interface between the adhesive face and the base members 15. The device is then manganese, so that the narrower second saw cuts S2 are formed to mate with the saw cuts S1. The composite is then subjected to an additional insulator forming step such that the edges exposed by the sawing cutout S2 are sealed by an insulating coating (see FIG. 16). Thereafter, the composite is manganese to form a counter electrode, and is treated as a pre-application step of the carbon layer 19, the silver layer 20 and the negative electrode plate 21. Thereafter, the space between the capacitors is filled with the resin insulating mass 24 and sawed along the sawing lines S3 to form the completed capacitor 25 as shown in FIG.

제1도 내지 제9도에 관하여 설명된 바와 같이 본 방법의 단계들의 순서는 다소 변화될 수 있다. 제11도 내지 제19도의 실시예에 관하여, 적절한 순서는 다음과 같다 :The order of the steps of the method may vary somewhat as described with respect to FIGS. 1 to 9. With respect to the embodiment of FIGS. 11-19, the proper order is as follows:

[제조 순서(제11도 내지 제19도)][Manufacturing Procedure (Figure 11 to Figure 19)]

1. 금속 소립자들을 접착기면에 거칠게하거나 또는 소결1. Roughen or sinter the metal particles to the surface of the adhesive

2. 웨이퍼를 장착시키고, 웨이퍼 및 접착기면을 상호 소결.2. Load the wafer and mutually sinter the wafer and gluer surface.

3. 절연체 형성.3. Insulator formation.

4. 접착기면의 수준으로 톱질(S1).4. Sawing to the level of the adhesive face (S1).

5. 부가의 절연체를 형성하도록 톱질에 의해 노출된 금속을 시일.5. Seal the metal exposed by sawing to form additional insulators.

6. 망간화.6. Manganese.

7. 접착기면내로 깊은 절취부(S2)를 형성.7. Form a deep cutout (S2) into the surface of the adhesive.

8. S2 톱질 단계에 의해 형성된 홈 내에 절연체를 형성하도록 다시 양극산화.8. Anodize again to form an insulator in the groove formed by the S2 sawing step.

9. 망간화9. Manganese

10. 커패시터의 상부에지에 카본 및 은을 가하기.10. Add carbon and silver to the top edge of the capacitor.

11. 전도성 접착제를 사용하여 은 표면에 음극 플레이트를 부착.11. Attach the negative plate to the silver surface using a conductive adhesive.

12. 수지를 주입.12. Inject the resin.

13. 톱질 절취부(S3)에 의해 각각의 커패시터를 분리.13. Disconnect each capacitor by sawing cutout (S3).

전술한 설명으로 부터 명백히된 바와같이, 본원에는 고체상테 커패시터를 형성하는 신규한 방법이 개시되어 있다. 본 발명의 방법에 공통되는 점은 공간영역들에 의해 분리된 다수의 고체상태 커패시터를 음극 플레이트와 양극 플레이트에 제공하는 것인바, 그 공간은 절연성-보호수지로 채워지며, 단지 커패시터가 완전히 형성되고 보호된후, 각각의 커패시터는 매트릭스(matrix)로 부터 분리된다. 최종 톱질 단계는 완전히 캡슐화되고 완성된 표면 장착가능한 커패시터, 양극단말을 형성하는 접착기면의 절단된 에지들 및 대향 전극 또는 음극 단말을 형성하는 음극 플레이트의 에지를 제공한다.As will be apparent from the foregoing description, a novel method of forming a solid-state capacitor is disclosed herein. Common to the method of the present invention is to provide a plurality of solid state capacitors separated by space regions to the cathode plate and the anode plate, the space being filled with insulating-protective resin, only the capacitor being completely formed After protection, each capacitor is separated from the matrix. The final sawing step provides a fully encapsulated and finished surface mountable capacitor, cut edges of the adhesive face forming the anode terminal and edge of the cathode plate forming the opposite electrode or cathode terminal.

본 방법의 실행으로 제조된 커패시터는 종래의 고체상태 커패시터 보다 약 1/3의 체적을 지니는 완성품을 제공하여, 공간을 매우 효율적으로 사용한다. 소결된 펠릿으로부터 양극봉의 제거시 파과되는 그리고, 또한 말단부에 대한 양극봉 연결부의 분쇄에 따르는 종래의 커패시터와는 다르게, 본 발명의 커패시터는 실질적으로 내파괴성이다.Capacitors produced by the practice of this method provide a finished product having a volume of about one third the volume of a conventional solid-state capacitor, thus using space very efficiently. Unlike conventional capacitors that break upon removal of the anode rod from the sintered pellets and also result in the breakdown of the anode rod connection to the distal end, the capacitor of the present invention is substantially fracture resistant.

완성된 커패시터의 보호작용을 하는 수지요소들이 대향전극으로부터 양극의 절연 형성에 의해(방법 1) 그리고 최종 톱질 작업중 강성 매트릭스의 전술된 변형에 따라 제조절차를 용이하게 하기위한 수단으로 작용한다는 사실에 따라 본 제조방법은 유일무이하다.In accordance with the fact that the resin elements acting as protection of the finished capacitor serve as a means to facilitate the fabrication process by the insulation formation of the anode from the opposite electrode (method 1) and in accordance with the above-described deformation of the rigid matrix during the final sawing operation. This manufacturing method is unique.

당업자들에게 명백하고 본 명세서에서 공지된 바와 같이, 본 발명의 정신에서 벗어나지 않고 구조 및 방법에 있어서의 다양한 변형예들이 실시가능하다. 따라서, 본 발명은 첨부된 청구범우 내에서 광범위하게 해석될 수 있다.As will be apparent to those skilled in the art and known herein, various modifications may be made in the structure and the method without departing from the spirit of the invention. Accordingly, the invention can be broadly interpreted within the scope of the appended claims.

Claims (22)

다수의 고체상태 커패시터를 동시에 형성하는 방법에 있어서,In the method of forming a plurality of solid-state capacitors at the same time, 금속 접착기면을 제공하는 단계,Providing a metal bonder surface, 상기 접착기면과 교합하는 하부 표면 및 상기 접착기면에 평행하게 이격된 상부표면을 지니는 분말 고체상태 커패시터 형성용 금속의 웨이퍼를 상기 접착기면 상에 장착시키는 단계,Mounting a wafer of powdered solid-state capacitor forming metal on the bonder surface having a lower surface that mates with the bonder surface and an upper surface spaced parallel to the bonder surface, 상기 접착기면에 상기 하부 표면을 접합하고 다공성 매스 내로 상기 웨이퍼의 분말을 합체시키도록 상기 웨이퍼 및 접착기면을 소결시키는 단계,Bonding the lower surface to the adhesive surface and sintering the wafer and adhesive surface to coalesce the powder of the wafer into a porous mass, 상기 접착기면에 수직한 평면 내에 제1의 일련의 절취부(S1)들을 형성함으로써 상기 웨이퍼를 다수의 분리된 유닛들로 분할하는 단계,Dividing the wafer into a plurality of separate units by forming a first series of cutouts S1 in a plane perpendicular to the adhesive plane; 상기 다공성 매스 전반에 절연성 피복을 형성하도록 상기 웨이퍼를 양극산화단계에 종속시키는 단계,Subjecting the wafer to anodizing to form an insulating coating across the porous mass, 상기 절연성 피복 위에 상기 상부 표면을 덮는 전도성 대향 전극 피복을 형성하는 단계,Forming a conductive opposing electrode coating over said insulating coating, said conductive counter electrode covering covering said top surface, 상기 접착기면에 평행한 금속 부재를 상기 상부표면 상의 상기 대향 전극 피복에 전기적 및 기계적으로 접합시키는 단계,Electrically and mechanically bonding a metal member parallel to the adhesive machine surface to the counter electrode sheath on the upper surface, 상기 제1의 일련의 절취부(S1)들에 의해 형성된 상기 웨이퍼의 상기 분리된 유닛들 사이의 공간을 실질적으로 채우도록 상기 접착기면과 부재 사이에 절연성 재료를 주입시키는 단계, 및Injecting an insulating material between the adhesive surface and the member to substantially fill the space between the separate units of the wafer formed by the first series of cuts (S1), and 그 후 상기 금속 부재, 절연성 재료 및 접착기면을 통하여 상기 제1의 일련의 절취부들에 평행하게 정합하는 제2의 일련의 절취부(S2)들을 형성하는 단계를 포함하는 방법.Then forming a second series of cuts (S2) that mate parallel to the first series of cuts through the metal member, insulating material, and adhesive machine surface. 제1항에 있어서, 상기 제1의 일련의 절취부(S1)들은 상기 접착기면 내에 채널들을 형성하는 깊이로 형성되며, 상기 방법은 상기 대향전극 피복의 형성 전에 최소한 상기 접착기면의 상기 표면 수준까지 절연성 재료로 상기 채널들을 채우는 단계를 포함하는 방법.The method of claim 1, wherein the first series of cutouts (S1) are formed to a depth to form channels in the surface of the bonder, the method comprising at least up to the surface level of the surface of the bonder before forming the counter electrode coating. Filling the channels with an insulating material. 제1항에 있어서, 상기 웨이퍼를 상기 접착기면에 장착시키기 전에 상기 웨이퍼의 분말의 입자 크기보다 더 큰 입자 크기를 가진 상기 고체상태 금속의 낟알모양의 증가부분(granular increment)을 상기 접착기면에 융합시키는 단계를 포함하는 방법.The granular increment of the solid-state metal having a particle size larger than the particle size of the powder of the wafer prior to mounting the wafer on the bonder face is fused to the bonder face. Making a step; 제1항에 있어서, 상기 고체상태 커패시터 형성용 금속은 탄탈(tantalum)을 포함하는 방법.The method of claim 1, wherein the metal for forming the solid state capacitor comprises tantalum. 제4항에 있어서, 최소한 상기 접착기면의 최상부 표면은 탄탈을 포함하는 방법.5. The method of claim 4, wherein at least the top surface of the adhesive face comprises tantalum. 다수의 고체상태 표면장착가능한 커패시터를 동시에 형성하는 방법에 있어서,A method of simultaneously forming a plurality of solid-state surface mount capacitors, 상부표면을 지니는 평면 금속 접착기면을 제공하는 단계,Providing a planar metal bonder surface having an upper surface, 상기 접착기면의 상기 상부표면과 교합하는 하부표면 및 상기 접착기면에 평행하게 이격된 상부표면을 지니는 분말 고체상태 커패시터 형성용 금속의 웨이퍼를 상기 접착기면의 상기 표면상에 장착시키는 단계,Mounting a wafer of powdered solid state capacitor forming metal on the surface of the bonder surface having a lower surface that mates with the upper surface of the bonder surface and an upper surface spaced parallel to the adhesive surface; 상기 접착기면에 상기 웨이퍼를 접합하고 다공성 매스 내로 상기 분말을 합체시키도록 상기 웨이퍼 및 접착기면을 함께 소결시키는 단계,Bonding the wafer to the bonder surface and sintering the wafer and the bonder surface together to coalesce the powder into a porous mass, 상기 접착기면에 수직한 평면내의 상기 웨이퍼를 통하여, 최소한 상기 상부표면의 수준까지 연장된 제1의 일련의 절취부들을 형성함으로써, 다수의 분리된 서브유닛들로 상기 소결된 웨이퍼를 분할하는 단계,Dividing the sintered wafer into a plurality of separate subunits by forming a first series of cutouts extending at least to the level of the upper surface through the wafer in a plane perpendicular to the adhesive surface; 상기 제1의 일련의 절취부들보다 더 적은 폭으로 형성되고, 상기 접착기면 내에 채널들을 형성하도록 상기 접착기면의 상부 표면 아래로 연장되며, 상기 제1의 일련의 절취부들과 정합하는 제2의 일련의 절취부들을 형성하는 단계,A second series formed of less width than the first series of cuts, extending below the top surface of the adhesive surface to form channels in the adhesive surface, and mating with the first series of cuts Forming the cutouts of the, 상기 채널들을 제1 절연성 수지 매스로 채우는 단계,Filling the channels with a first insulating resin mass, 그 후에 상기 상부 표면에서 노출된 대향전극들을 지니는 고체상태 커패시터들을 제공하도록 상기 서브유닛들을 연속적으로 양극산화 및 망간화하는 단계,Subsequently anodizing and manganizing the subunits to provide solid state capacitors having opposing electrodes exposed at the top surface, 상기 상부표면에 전도성 음극 플레이트를 전기적 및 기계적으로 접합시키는 단계,Electrically and mechanically bonding a conductive cathode plate to the upper surface; 상기 제1의 일련의 절취부들에 의하여 형성된 상기 접착기면과 음극 플레이트 사이의 공간을 절연성 재료로 채우는 단계, 및Filling a space between the adhesive face and the negative electrode plate formed by the first series of cuts with an insulating material, and 그 후에 상기 음극 플레이트, 수지 매스, 절연성 재료 및 접착기면을 통하여 상기 제2의 일련의 절취부들과 정합하는 제3의 일련의 절취부들을 형성하는 단계를 포함하는 방법.Thereafter forming a third series of cuts through the cathode plate, resin mass, insulating material, and adhesive surface to mate with the second series of cuts. 제6항에 있어서, 상기 접착기면의 상기 상부표면 상에, 상기 분말 입자 크기보다 더 큰 입자 크기를 가진 상기 고체상태 금속의 낟알모양의 증가부분을 올려놓는 단계, 및 상기 웨이퍼를 상기 접착기면 상에 장착시키기 전에 상기 상부표면에 상기 증가부분을 융합시키는 단계를 포함하는 방법.7. The method of claim 6, further comprising: placing a grainy increase of the solid-state metal having a particle size larger than the powder particle size on the upper surface of the adhesive machine surface, and placing the wafer on the adhesive machine surface. Fusing said incremental portion to said upper surface prior to mounting thereon. 제7항에 있어서, 상기 고체상태 금속은 탄탈을 포함하는 방법.8. The method of claim 7, wherein the solid state metal comprises tantalum. 제1항의 방법에 따라 형성된 표면장착가능한 고체상태 커패시터.A surface mountable solid state capacitor formed according to the method of claim 1. 제2항의 방법에 따라 형성된 표면장착가능한 고체상태 커패시터.A surface mountable solid state capacitor formed according to the method of claim 2. 제3항의 방법에 따라 형성된 표면장착가능한 고체상태 커패시터.A surface mountable solid state capacitor formed according to the method of claim 3. 제4항의 방법에 따라 형성된 표면장착가능한 고체상태 커패시터.A surface mountable solid state capacitor formed according to the method of claim 4. 제5항의 방법에 따라 형성된 표면장착가능한 고체상태 커패시터.A surface mountable solid state capacitor formed according to the method of claim 5. 제6항의 방법에 따라 형성된 표면장착가능한 고체상태 커패시터.A surface mount solid state capacitor formed according to the method of claim 6. 제7항의 방법에 따라 형성된 표면장착가능한 고체상태 커패시터.A surface mountable solid state capacitor formed according to the method of claim 7. 제8항의 방법에 따라 형성된 표면장착가능한 고체상태 커패시터.A surface mount solid state capacitor formed according to the method of claim 8. 캡슐화되고, 완성된, 표면장착가능한 고체상태 커패시터를 제조하는 방법에 있어서,A method of making an encapsulated, completed, surface mount solid state capacitor, 금속 양극 및 음극 플레이트들을 포함하는 예비 제조품(preform)으로서, 상기 플레이트들은 그들 사이에 배치된 다수의 고체상태 커패시터들을 구비하며, 상기 커패시터들은 상호 이격되어 그들 사이에 채널들을 형성하며, 상기 커패시터들은 상기 양극 플레이트에 융합된 양극 말단부들 및 상기 음극 플레이트에 전기적 및 기계적으로 접합된 음극 말단부들을 구비하는 예비 제조품을 제공하는 단계, 및A preform comprising metal anode and cathode plates, the plates having a plurality of solid state capacitors disposed therebetween, the capacitors being spaced apart from one another to form channels therebetween, the capacitors being Providing a prefabricated article having positive electrode ends fused to a positive electrode plate and negative electrode ends electrically and mechanically bonded to the negative electrode plate, and 주형의 틀로서 상기 플레이트들을 사용하여 채널들 내로 액체 절연성 수지를 주입하는 단계,Injecting a liquid insulating resin into the channels using the plates as a mold of a mold, 상기 수지를 경화시키는 단계, 및Curing the resin, and 그 후에 상기 채널들과 일치하는 선들을 따라 상기 플레이트들과 수지를 절단하는 단게를 포함하는 방법.Then cutting the plates and resin along lines that coincide with the channels. 새로운 제조 물품으로서, 표면장착가능한 고체상태 커패시터 제조용 예비 제조품에 있어서,A new article of manufacture comprising: a prefabricated article for the manufacture of surface mountable solid state capacitors, 금속 양극 플레이트, 상기 양극 플레이트에 평행하게 이격된 관계의 금속 음극 플레이트, 상기 플레이트들 사이에 배치된 다수의 고체상태 커패시터를 포함하며,A metal anode plate, a metal cathode plate in a relationship spaced parallel to the anode plate, and a plurality of solid state capacitors disposed between the plates, 상기 커패시터들 각각은 상기 양극 플레이트에 융합된 양극 및 상기 음극 플레이트에 전기적 및 기계적으로 접합된 음극을 포함하며, 상기 커패시터들은 상호 이격되어 상기 커패시터들 사이에 상호 연통하는 채널들의 네트워크(network)를 형성하는 것을 특징으로 하는 표면장착가능한 고체상태 커패시터 제조용 예비 제조품.Each of the capacitors includes a positive electrode fused to the positive electrode plate and a negative electrode electrically and mechanically bonded to the negative electrode plate, the capacitors being spaced apart from each other to form a network of channels in communication with the capacitors. A prefabricated article for manufacturing a surface mountable solid-state capacitor, characterized in that. 제18항에 있어서, 상기 채널들은 실질적으로 경화된 절연성 수지로 채워지는 제조품.19. The article of manufacture of claim 18, wherein the channels are filled with a substantially cured insulating resin. 일체형 평면 금속 양극 플레이트를 제공하는 단계,Providing an integrated flat metal anode plate, 채널들에 의해 분리된 다수의 상호 이격된 고체상태 커패시터들로서, 상기 양극 플레이트에 전기적 및 기계적으로 접합된 양극 부분들 및 상기 양극 플레이트에 평행하게 이격되고 동일 평면 내에 정렬되어 배치된 음극 부분들을 구비하는 커패시터들을 상기 양극 플레이트상에 형성하는 단계,A plurality of spaced apart solid state capacitors separated by channels, comprising: anode portions electrically and mechanically bonded to the anode plate and cathode portions spaced parallel to the anode plate and aligned in the same plane. Forming capacitors on the anode plate, 상기 커패시터들의 상기 음극부분들에 일체형 평면 음극 플레이트를 전기적 및 기계적으로 접합시키는 단계, 및Electrically and mechanically bonding an integral planar cathode plate to the cathode portions of the capacitors, and 그 후에 상기 채널들과 정합되고 상기 플레이트들에 수직한 절단선을 따라 상기 양극 및 음극 플레이트들을 통하여 동시에 절단하는 단계로 이루어진 방법에 의해 형성된 표면장착가능한 고체상태 커패시터를 포함하는 제조품.And a surface mountable solid state capacitor formed by the method then synchronously cutting through the anode and cathode plates along a cut line perpendicular to the plates and mating with the channels. 제20항에 있어서, 상기 절단단계 전에 절연성 재료로 상기 채널들을 실질적으로 완전히 채우는 부가의 단계에 의해 형성된 제조품.21. The article of manufacture of claim 20 formed by an additional step of substantially completely filling the channels with an insulating material prior to the cutting step. 금속 평면 접착기면을 제공하는 단계,Providing a metal flat gluer surface, 상기 접착기면과 교합하는 하부표면 및 상기 접착기면에 평행하게 이격된 상부표면을 지니는, 분말 고체상태 커패시터 형성용 금속의 웨이퍼를 상기 접착기면에 가하는 단계,Applying a wafer of powdered solid-state capacitor forming metal to the bonder surface having a lower surface that mates with the bonder surface and an upper surface spaced parallel to the bonder surface, 상기 분말금속을 다공성 매스내로 합체시키고, 상기 접착기면에 상기 웨이퍼를 전기적 및 기계적으로 접합시키도록 상기 접착기면과 접촉한 상태로 상기 웨이퍼를 소결시키는 단계,Incorporating the powder metal into the porous mass and sintering the wafer in contact with the adhesive surface to electrically and mechanically bond the wafer to the adhesive surface, 상기 접착기면에 수직한 제1 절단선을 따라 다수의 분리된 유닛들로 상기 소결된 웨이퍼를 분할하는 단계,Dividing the sintered wafer into a plurality of separate units along a first cutting line perpendicular to the adhesive machine surface; 절연성 피복을 제공하도록 상기 유닛을 양극산화시키는 단계,Anodizing the unit to provide an insulating coating, 상기 절연성 피복 위에 상기 상부표면을 덮는 전도성 대향전극 피복을 형성하는 단계,Forming a conductive counter electrode coating covering the upper surface on the insulating coating; 상기 다수의 유닛들을 덮도록 상기 상부표면에 평면 단일 금속양극 플레이트를 전기적 및 기계적으로 접합하는 단계, 및Electrically and mechanically bonding a planar single metal anode plate to the upper surface to cover the plurality of units, and 그 후 상기 제1 절단선들과 정합관계로 상기 양극 플레이트와 접착기면을 통하여 상기 접착기면에 수직한 제2의 일련의 절취부들을 형성하는 단계를 포함하는 방법에 의해 형성된 표면장착가능한 고체상태 커패시터.And forming a second series of cutouts perpendicular to the bonder surface through the anode plate and the bonder surface in registration with the first cutting lines.
KR1019940014721A 1994-06-25 1994-06-25 Mass production of surface mountable solid state capacitors and composite capacitors KR100277604B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019940014721A KR100277604B1 (en) 1994-06-25 1994-06-25 Mass production of surface mountable solid state capacitors and composite capacitors

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019940014721A KR100277604B1 (en) 1994-06-25 1994-06-25 Mass production of surface mountable solid state capacitors and composite capacitors

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR960002845A KR960002845A (en) 1996-01-26
KR100277604B1 true KR100277604B1 (en) 2001-01-15

Family

ID=66685868

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019940014721A KR100277604B1 (en) 1994-06-25 1994-06-25 Mass production of surface mountable solid state capacitors and composite capacitors

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100277604B1 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
KR960002845A (en) 1996-01-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0688030B1 (en) Mass production method for the manufacture of solid electrolytic capacitors
US6400556B1 (en) Solid electrolytic capacitor and method of fabricating the same
JP4328483B2 (en) Solid electrolytic capacitor and manufacturing method thereof
US7687884B2 (en) Manufacture of solid state capacitors
KR100675958B1 (en) Solid state capacitors and methods of manufacturing them
KR100601411B1 (en) Manufacture of solid state capacitors
US7551424B2 (en) Solid electrolytic capacitor
US20060256506A1 (en) Solid electrolyte capacitor and process for producing same
US6673389B1 (en) Manufacture of solid state capacitors
KR100932006B1 (en) Method for manufacturing solid-state electronic component
WO1996027889A1 (en) Solid electrolytic capacitor and its manufacturing method
US6855177B2 (en) Method for producing solid electrolytic capacitor
WO2005038832A1 (en) Solid electrolytic capacitor and method for manufacturing same
JP3088907B2 (en) Solid capacitor and its manufacturing method
KR100277604B1 (en) Mass production of surface mountable solid state capacitors and composite capacitors
US7349197B2 (en) Method for manufacturing capacitor element for solid electrolytic capacitor, method for manufacturing solid electrolytic capacitor using such capacitor element and solid electrolytic capacitor using such capacitor element
EP1047087B1 (en) Method of manufacturing solid state capacitors
JPS6057692B2 (en) Chip type solid electrolytic capacitor and its manufacturing method
JPH0693421B2 (en) Method for manufacturing solid electrolytic capacitor
JPH09120935A (en) Tantalum solid-state electrolytic capacitor
JP2004241455A (en) Anode for solid electrolytic capacitor, its manufacturing method and solid electrolytic capacitor using the same
JPH09102442A (en) Manufacture of nonpolar solid-state electrolytic capacitor
WO2023033899A1 (en) Improved device and process for forming membrane type capacitor devices
JPH03214719A (en) Manufacture of chip-type solid electrolytic capacitor

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20110929

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20120927

Year of fee payment: 13

LAPS Lapse due to unpaid annual fee