KR100231715B1 - Planer vibratory microgyroscope - Google Patents

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Abstract

본 발명은 진동형 마이크로 자이로스코프에 관한 것으로, 종래의 회전형 자이로스코프는 부피가 크고 고정밀도를 유지하기 위한 가격이 높으며, 충격과 진동에 쉽게 손상되는 등의 많은 단점을 갖고 있다. 이에 본 발명은 정전력(electrostatic force)을 이용해 구조체를 공진시키며, 이때 공진 구조체를 지지하는 스프링을 상하 좌우 대칭으로 배열하여 구동 방향에 수직인 검출 방향으로도 항상 공진이 발생할 수 있도록 설계하므로써 기존의 진동형 자이로스코프에 비해 공진 모드 주파수의 조율이 필요없이 감도가 우수한 것을 특징으로 한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vibration type micro gyroscope, and a conventional rotary gyroscope has many disadvantages such as being bulky and expensive to maintain high precision, and being easily damaged by shock and vibration. Accordingly, the present invention resonates the structure by using electrostatic force, and in this case, the springs supporting the resonant structure are arranged in a vertically and horizontally symmetrical manner so that resonance can always occur even in a detection direction perpendicular to the driving direction. Compared to the vibratory gyroscope, it is characterized by excellent sensitivity without the need for tuning the resonance mode frequency.

Description

평면 진동형 마이크로 자이로스코프(Planer vibratory micorgyroscope)Planer vibratory micorgyroscope

본 발명은 미세 가공 기술을 이용하여 제작되는 실리콘 마이크로 자이로스코프에 관한 것이다.The present invention relates to silicon micro gyroscopes fabricated using micromachining techniques.

일반적으로, 자이로스코프는 항공기, 선박 및 자동차등의 항법 장치나 관성 유도 장치에 사용되는 각속도 측정 장치로 잘 알려져 있다. 그런데 종래의 회전형 자이로스코프는 부피가 크고 고정밀도를 유지하기 위한 가격이 높으며, 충격과 진동에 쉽게 손상되는 등의 많은 단점을 갖고 있다. 또한 광섬유, 레이저등을 이용한 자이로스코프는 감도가 뛰어나지만 가격이 비싸고 제작이 힘들며 부피가 크다는 단점을 극복하지 못하였다.In general, gyroscopes are well known as angular velocity measuring devices used in navigational devices and inertial guidance devices such as aircraft, ships and automobiles. However, the conventional rotary gyroscope has a number of disadvantages such as being bulky and expensive to maintain high precision, and being easily damaged by shock and vibration. In addition, gyroscopes using fiber optics and lasers have excellent sensitivity, but have not overcome the disadvantages of being expensive, difficult to manufacture and bulky.

그러므로 자이로스코프도 고감도, 저가격, 소형화가 요구되고 있으며, 이를 해결할 수 있는 각속도 측정 소자의 요구로 인해 새로운 형태의 구동 원리를 갖는 센서가 개발되어 왔다. 미국의 Systron사에서는 압전 특성을 갖는 석영(quartz)을 소리 굽쇠(tuning fork) 형태로 가공하고 코리올리 힘에 의한 변형량을 검출하는 진동형 자이로스코프를 생산하고 있다. 또한 US 특허 4,655,081 ( 4/1987 J.S.Burdess et al.) 에서는 실린더 형태의 구조체를 압전 소자로 공진시키면서 회전 각속도에 비례하여 공진의 모드 형태가 변하는 양을 측정하는 각속도계를 소개하였다.Therefore, a gyroscope is required to have high sensitivity, low cost, and miniaturization, and a sensor having a new driving principle has been developed due to the demand of an angular velocity measuring device capable of solving this problem. Systron of the United States manufactures a vibratory gyroscope that processes quartz with piezoelectric properties in the form of a tuning fork and detects strain due to Coriolis forces. In addition, US Patent 4,655,081 (4/1987 J.S.Burdess et al.) Introduced an angular velocity meter that measures the amount of resonance mode change in proportion to the rotational angular velocity while resonating the cylindrical structure with a piezoelectric element.

더욱 소형화된 센서를 구현하기 위해 실리콘 미세 가공을 이용한 진동형 각속도 소자에 관한 연구가 수행되었고 그에 따른 여러가지 형태의 고안 및 발명이 이루어 졌다. 그중 US 특허 5,349,855 (9/1994 J.Bernstein et al.), 5,488,863 (2/1996 Y.Mochida et al.), 5,496,436 (3/1996 J.Bernstein et al.), 5,505,084 (4/1996 P.Greiff et al.) 등은 소리 굽쇠의 진동 원리를 응용한 마이크로 자이로스코프에 관한 발명들이고, US 특허 5,535,902 (7/1996 P. Greiff et al.)은 짐볼(gimbals)형 원판에 회전 진동을 가해서 외부의 회전 속도를 측정하는 자이로스코프에 관한 발명이다. 또한 US 특허 5,450,751 (9/1995 M.Putty et al.)는 상기 US 특허 4,655,081를 미세 가공 기술로 구현한 발명이다.In order to realize a more miniaturized sensor, a study on a vibratory angular velocity device using silicon micromachining has been carried out, and various forms of design and invention have been made. Among them, US Patents 5,349,855 (9/1994 J. Bernstein et al.), 5,488,863 (2/1996 Y. Mochida et al.), 5,496,436 (3/1996 J.Bernstein et al.), 5,505,084 (4/1996 P.Greiff et al.) and the like are inventions related to micro gyroscopes that apply the vibration principle of the tuning fork, and US Pat. No. 5,535,902 (7/1996 P. Greiff et al.) applies rotational vibration to gimbals discs to The invention relates to a gyroscope for measuring the rotational speed. In addition, US Patent 5,450,751 (9/1995 M. Putty et al.) Is an invention that implements the US Patent 4,655,081 by a fine processing technology.

상술한 언급한 발명들은 미세 가공 기술로 제작 가능한 자이로스코프로서 구조물이 놓여서 진동하는 평면에 수직한 방향으로 코리올리 힘이 발생하여 구조물을 진동시키는 형태의 원리를 갖는 것이 대부분인데, 이 원리를 이용한 발명이 실리콘 진동형 마이크로 자이로스코프의 주류를 이루고 있다.The above-mentioned inventions are gyroscopes that can be manufactured by a microfabrication technique, and most of them have a principle of vibrating the structure by generating a Coriolis force in a direction perpendicular to the plane in which the structure is placed and vibrating. It is the mainstream of silicon vibrating micro gyroscopes.

상술한 기존의 마이크로 자이로스코프는 저가와 소형화의 요구를 만족하지만, 고감도화를 위해서는 해결해야할 문제점이 몇가지 있다. 첫째, 공기 감쇠 효과를 줄이기 위해 진공 패키징 공정이 요구되고, 둘째 검출 신호를 증가시키기 위해 서로 수직하게 위치한 구동과 검출의 공진 모드 주파수를 가능한 정확히 조율(tuning)하는 작업이 필요하다.The conventional micro gyroscopes described above satisfy the requirements of low cost and miniaturization, but there are some problems to be solved for high sensitivity. First, a vacuum packaging process is required to reduce the air attenuation effect, and second, an operation of tuning the resonance mode frequencies of the driving and the detection which are located perpendicular to each other in order to increase the detection signal is required as accurately as possible.

따라서, 본 발명은 상기의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 기판에 평행한 방향으로 검출 모드가 형성되는 센서의 구조를 가지므로 기존의 기판에 수직한 방향의 검출 모드를 갖는 자이로스코프에 비해 하부 검출 전극이 필요하지 않아서 공정이 간단해지고, 구동과 검출의 공진 모드 주파수가 동일하도록 고안된 구조를 가지므로 기존의 진동형 자이로스코프에서 요구되는 주파수 조율이 필요 없는 저가의 고감도 마이크로 자이로스코프를 제공하는데 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, and has a structure of a sensor in which a detection mode is formed in a direction parallel to the substrate, compared to a gyroscope having a detection mode in a direction perpendicular to a conventional substrate. Since the lower detection electrode is not required, the process is simplified and the structure designed to have the same resonance mode frequency of driving and detection provides a low-cost, high-sensitivity micro gyroscope that does not require the frequency tuning required by the conventional vibratory gyroscope. There is a purpose.

도 1은 SOI(silicon on insulator) 웨이퍼를 이용해 제작 가능하면서 구동과 검출의 공진 모드 주파수가 동일한 본 발명에 의한 평면 진동형 자이로스코프의 일 실시예 구성도.1 is a configuration diagram of an embodiment of a planar vibrating gyroscope according to the present invention, which can be fabricated using a silicon on insulator (SOI) wafer and has the same resonance mode frequency of driving and detection.

도 2는 검출 전극으로부터 정전 용량의 변화를 측정하는 원리를 설명하기 위한 개략도.2 is a schematic diagram for explaining the principle of measuring a change in capacitance from a detection electrode.

도 3은 SOI 웨이퍼를 이용해 제작 가능하면서 구동과 검출의 공진 모드 주파수가 동일한 본 발명에 의한 평면 진동형 자이로스코프의 다른 실시예 구성도.3 is another embodiment configuration diagram of a planar vibrating gyroscope according to the present invention that can be fabricated using an SOI wafer and has the same resonance mode frequency of driving and detection.

도 4는 본 발명에 의한 평면 진동형 자이로스코프의 입체적 구조 및 제조 공정에 대한 이해를 돕기위한 단면도.Figure 4 is a cross-sectional view to help understand the three-dimensional structure and manufacturing process of the planar vibrating gyroscope according to the present invention.

*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

1 : 구조체 앵커 2 : 평면 진동 구조체1: Structure Anchor 2: Plane Vibration Structure

3 : 꺾어진 보 스프링 4a,4b : 좌우측 빗살 구동 전극3: angled beam spring 4a, 4b: left and right comb drive electrodes

5a,5b : 좌우측 구동 전극 앵커 6a,6b : 상하부 검출 전극 앵커5a, 5b: left and right driving electrode anchors 6a, 6b: upper and lower detection electrode anchors

7a,7b : 상하부 검출 전극 8 : 고정 검출 전극7a, 7b: Upper and lower detection electrodes 8: Fixed detection electrodes

9 : 이동 검출 전극 10 : 좁은 검출 간격9: moving detection electrode 10: narrow detection interval

11 : 넓은 검출 간격 12 : 구동 진동의 방향11: wide detection interval 12: direction of driving vibration

13 : 검출 진동의 방향 14 : 직류 전압13: direction of detection vibration 14: DC voltage

15a,15b : 좌우측 구동 전극 16 : 산화막15a, 15b: left and right driving electrodes 16: oxide film

17 : 기판17: substrate

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 평면 진동형 마이크로 자이로스코프는 전체 구조물의 중앙에 형성된 구조체 앵커(1)와; 상기 구조체 앵커(1)의 외부에 구비되어 상하와 좌우 방향의 2축에 대해 모두 대칭인 모양을 갖는 꺾인 보 스프링(3)과; 상기 꺾인 보 스프링(3)으로 구조체 앵커(1)에 연결되어 기판(17)으로 부터 떠있는 평면 진동 구조체(2)와; 상기 평면 진동 구조체(2)가 상기 구조체 앵커(1)에 대하여 좌우 방향으로 진동함과 동시에 회전 각속도가 가해질 경우 상하 방향으로 진동하도록 상기 평면 진동 구조체(2)의 좌우 양측에 구비되어 진동 구조체에 좌우 방향 정전력을 제공하는 빗살 구동 전극(4a,4b)과; 상기 빗살 구동 전극(4a,4b)에 구동 신호를 가하여 진동을 발생시키도록 금속 전극이 구비된 구동 전극 앵커(5a,5b)와; 평면 진동 구조체(2)가 외부 각속도에 의한 코리올리 힘을 받을 때 생기는 진동을 정전 용량 법으로 검출하도록 상기 평면 진동 구조체(2)의 상하 양단에 구비된 검출 전극(7a,7b)과; 상기 검출 전극(7a,7b)으로 부터의 정전 용량 변화를 검출 신호로 받기위해 금속 전극이 구비된 검출 전극 앵커(6a,6b)로 구성된 것을 특징으로 한다.The planar vibrating micro gyroscope according to the present invention for achieving the above object is a structure anchor (1) formed in the center of the entire structure; A curved beam spring (3) provided on the outside of the structure anchor (1) and having a symmetrical shape with respect to two axes in the vertical and horizontal directions; A planar vibrating structure (2) connected to the structure anchor (1) by the bent spring (3) and floating from the substrate (17); The planar vibrating structure 2 is provided on both left and right sides of the planar vibrating structure 2 so that the planar vibrating structure 2 vibrates in the left and right direction with respect to the structure anchor 1 and vibrates in the vertical direction when a rotational angular velocity is applied. Comb drive electrodes 4a and 4b for providing directional electrostatic force; Drive electrode anchors (5a, 5b) provided with metal electrodes to generate vibrations by applying a drive signal to the comb drive electrodes (4a, 4b); Detection electrodes (7a, 7b) provided at the upper and lower ends of the planar vibration structure (2) so as to detect vibration generated when the planar vibration structure (2) receives the Coriolis force by the external angular velocity by the capacitance method; It is characterized in that it comprises a detection electrode anchor (6a, 6b) provided with a metal electrode in order to receive the capacitance change from the detection electrodes (7a, 7b) as a detection signal.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described an embodiment of the present invention;

도 1 은 SOI 웨이퍼를 이용해 제작 가능하면서 구동과 검출의 공진 모드 주파수가 동일한 진동형 자이로스코프의 일 실시예 구성도이고, 도 2 는 검출 전극으로부터 정전 용량의 변화를 측정하는 원리를 설명하기 위한 개략도이고, 도 3 은 SOI 웨이퍼를 이용해 제작 가능하면서 구동과 검출의 공진 모드 주파수가 동일한 진동형 자이로스코프의 다른 실시예 구성도이며, 도 4 는 평면 진동형 자이로스코프의 입체적 구조 및 제조 공정에 대한 이해를 돕기위한 단면도이다.1 is a configuration diagram of an oscillating gyroscope capable of fabricating using an SOI wafer and having the same resonant mode frequencies of driving and detection, and FIG. 2 is a schematic diagram illustrating a principle of measuring a change in capacitance from a detection electrode. 3 is another embodiment configuration diagram of a vibrating gyroscope capable of fabricating using an SOI wafer and having the same resonant mode frequencies of driving and detection, and FIG. 4 is a schematic diagram illustrating a three-dimensional structure and manufacturing process of a planar vibrating gyroscope. It is a cross section.

본 발명의 평면 진동형 마이크로 자이로스코프는 기판에 평행한 방향으로 검출 모드가 형성되는 센서의 구조를 제안하고 있으며, 또한 구동과 검출 모드의 주파수 조율이 불필요하도록 두 모드의 공진 주파수가 동일하게 고안된 상하 좌우 대칭의 꺾인 보 스프링의 구조를 제안하고 있다. 먼저 구동 및 검출의 진동이 모두 구조체가 놓인 평면에 평행하게 일어나고 두 모드 주파수가 동일하도록 고안된 본 발명의 마이크로 자이로스코프에 대한 구조및 원리를 살펴보면 다음과 같다.The planar vibration type micro gyroscope of the present invention proposes a structure of a sensor in which a detection mode is formed in a direction parallel to the substrate, and also includes a vertical resonant frequency in which the resonant frequencies of the two modes are designed so that the frequency tuning of the driving and detection modes is unnecessary. We propose the structure of symmetrical folded beam spring. First, the structure and principle of the micro gyroscope of the present invention, in which both the driving and the detection vibration occur in parallel to the plane in which the structure is placed and the two mode frequencies are the same, are as follows.

도 1 은 SOI 웨이퍼를 이용해 제작 가능한 평면 진동형 자이로스코프 구조체의 전체적인 형상을 보여준다.1 shows the overall shape of a planar vibrating gyroscope structure that can be fabricated using an SOI wafer.

원의 형태로 전체 구조체의 중앙에 구조체 앵커(1)가 형성되어 있고, 상기 구조체 앵커(1)의 외부에 원형으로 구멍이 뚫린 형태의 평면 진동 구조체(2)가 구비된다. 상기 구조체 앵커(1)와 평면 진동 구조체(2)는 꺾인 보 스프링(3)으로 연결되어 상기 평면 진동 구조체(2)는 기판으로 부터 떠서 지지된다. 상기 평면 진동 구조체(2)의 좌우 양측에 형성된 빗살 구동 전극(4a, 4b)은 좌우측 구동 전극 앵커(5a, 5b)로 부터 신호를 받아 상기 평면 진동 구조체(2)를 도 1의 좌우 방향으로 가진다. 이때 외부에서 상기 평면 진동 구조체(2)가 놓인 평면에 수직하게 회전축을 갖는 각속도가 가해지면 도 1 의 상하 방향으로 코리올리의 힘이 발생하여 상기 평면 진동 구조체(2)를 상하 방향으로 진동시킨다. 상기 평면 진동 구조체(2)가 상하 방향 진동을 할 경우에 민감한 정전 용량 변화를 보이는 상하부 검출 전극(7a, 7b)이 상기 평면 진동 구조체(2)의 상하 양단에 구비되고, 상하부 검출 전극 앵커(6a, 6b)가 상기 상하부 검출 전극(7a, 7b)으로부터 외부 각속도에 비례하는 정전 용량 변화의 신호를 받는다.A structural anchor 1 is formed in the center of the entire structure in the form of a circle, and a planar vibrating structure 2 having a circular hole is formed on the outside of the structural anchor 1. The structure anchor 1 and the planar vibrating structure 2 are connected by a bent beam spring 3 so that the planar vibrating structure 2 is supported from the substrate. Comb drive electrodes 4a and 4b formed on the left and right sides of the planar vibrating structure 2 receive the signal from the left and right drive electrode anchors 5a and 5b and have the planar vibrating structure 2 in the left and right directions of FIG. 1. . At this time, when an angular velocity having a rotation axis perpendicular to the plane on which the plane vibration structure 2 is placed is applied, Coriolis force is generated in the up and down direction of FIG. 1 to vibrate the plane vibration structure 2 in the up and down direction. Upper and lower detection electrodes 7a and 7b which exhibit a sensitive capacitance change when the planar vibration structure 2 vibrates up and down are provided at both upper and lower ends of the planar vibration structure 2 and the upper and lower detection electrode anchors 6a. , 6b) receives a signal of capacitance change proportional to the external angular velocity from the upper and lower detection electrodes 7a and 7b.

상기 꺾인 보 스프링(3)의 형태는 원의 모양의 상기 구조체 앵커(1)의 중심으로 부터 상하 좌우의 2축에 대해 대칭의 형태를 이룬다. 그러므로 상하 방향과 좌우 방향의 스프링 상수가 동일하고, 이는 곧 상하 방향과 좌우 방향의 모드 주파수가 동일함을 뜻한다. 그러므로 외부로 부터 회전 각속도가 존재할 때 상기 좌우측 빗살 구동 전극(4a, 4b)에서 기본 모드 주파수의 구동 신호가 가해지면, 상기 평면 진동 구조체(2)는 좌우 방향으로 공진함과 동시에 코리올리 힘에 의한 상하 방향으로도 공진을 한다. 상기 꺾인 보 스프링(3)으로 인해 구동과 검출 방향의 모드 주파수가 자동적으로 완전 조율되어 센서의 고감도화를 실현할 수 있다.The shape of the bent spring 3 is symmetrical about two axes of up, down, left and right from the center of the structure anchor 1 in the shape of a circle. Therefore, the spring constants in the vertical direction and the left and right directions are the same, which means that the mode frequencies in the vertical direction and the left and right directions are the same. Therefore, when the driving signal of the fundamental mode frequency is applied to the left and right comb drive electrodes 4a and 4b when there is a rotational angular velocity from the outside, the planar vibration structure 2 resonates in the left and right directions and at the same time up and down by Coriolis force. Resonance also occurs in the direction. Due to the bent spring 3, the mode frequency in the driving and detection directions can be automatically tuned to achieve high sensitivity of the sensor.

도 1 의 구조체는 SOI 웨이퍼의 이방성 식각으로 패턴을 형성하고 단결정 실리콘 밑에 묻혀있던 산화막(16)을 습식 식각한다. 이때 기판에 고착되어야 할 상기 모든 앵커(1, 5a, 5b, 6a, 6b)는 패턴을 넓게하여 습식 식각이 끝난 후에도 산화막(16)이 남아 있도록 하고, 기판(17)으로부터 떠 있어야할 상기 평면 진동 구조체(2)는 많은 식각 구멍을 갖는 격자형의 구조로 만든다. SOI 웨이퍼의 미세 가공을 이용한 구조체는 단결정 실리콘이므로 기계적, 전기적 성질이 우수하고, 단면비가 높지만 하부 전극의 형성이 불가능하다. 그러므로 검출 전극의 형태를 세심히 고려해야 한다.The structure of FIG. 1 forms a pattern by anisotropic etching of an SOI wafer and wet etches the oxide film 16 buried under single crystal silicon. In this case, all of the anchors 1, 5a, 5b, 6a, and 6b to be fixed to the substrate have a wider pattern so that the oxide layer 16 remains after the wet etching is finished, and the planar vibration to be floated from the substrate 17 The structure 2 is made of a lattice structure having many etching holes. Since the structure using the microfabrication of the SOI wafer is single crystal silicon, it has excellent mechanical and electrical properties, and has a high cross-sectional ratio, but it is impossible to form a lower electrode. Therefore, the shape of the detection electrode must be carefully considered.

도 2 는 상기 상부 검출 전극(7a)의 일부를 간략화하여 보여준다.2 simplifies and shows a part of the upper detection electrode 7a.

상기 상부 검출 전극(7a)의 한 부분으로 상기 상부 검출 전극 앵커(6a)에 연결되어 있는 고정 검출 전극(8)은 고정되어 있고, 상기 상부 검출 전극(7a)의 한 부분으로 상기 상부 평면 진동 구조체(2)에 연결되어 있는 이동 검출 전극(9)은 상기 평면 진동 구조체(2)와 같이 구동 진동의 방향(12)과 검출 진동의 방향(13)으로 움직인다. 진동이 없는 초기의 평형 위치에서 상기 고정 검출 전극(8)과 이동 검출 전극(9)은 서로 좁은 검출 간격(10)과 넓은 검출 간격(11)을 갖도록 배치되어 있다.The fixed detection electrode 8, which is connected to the upper detection electrode anchor 6a as part of the upper detection electrode 7a, is fixed, and the upper planar vibrating structure as part of the upper detection electrode 7a. The movement detection electrode 9 connected to (2) moves in the direction 12 of the drive vibration and the direction 13 of the detection vibration like the planar vibration structure 2. In the initial equilibrium position without vibration, the fixed detection electrode 8 and the movement detection electrode 9 are arranged to have a narrow detection interval 10 and a wide detection interval 11 with each other.

상기 이동 검출 전극(9)과 상기 고정 검출 전극(8)간에는 직류 전압(14)이 인가되어 상기 이동 검출 전극(9)이 이동할 경우 발생하는 정전 용량의 변화를 상기 고정 검출 전극(8)으로 검출한다. 상기 이동 검출 전극(9)이 상기 구동 진동의 방향(12)으로 움직일 경우에는 상기 고정 검출 전극(8)의 양측면에서 정전 용량의 증가와 감소가 동시에 발생하므로 서로 상쇠되어 그 변화량이 매우 적다. 상기 이동 검출 전극(9)이 상기 검출 진동의 방향(13)으로 움직일 경우에도 좁은 상기 검출 간격(10)과 상기 넓은 검출 간격(11)에서 서로 반대되는 정전 용량의 변화가 발생하지만, 상기 넓은 검출 간격(11)에서 발생하는 정전 용량의 변화는 상기 좁은 검출 간격(10)에서 발생하는 정전 용량의 변화에 비해 매우 작으므로 상기 좁은 검출 간격(10)에서의 변화가 지배적인 정전 용량의 변화를 보인다. 그러므로 상기 상하부 검출 전극(7a, 7b)은 좌우 방향의 구동 진동에는 둔감하게 정전 용량이 변화해 그 양을 무시할 수 있고 상하 방향의 진동에 대해서는 민감하게 정전 용량의 변화하여 진동에 비례하는 신호를 얻을 수 있다.The fixed detection electrode 8 detects a change in capacitance generated when a DC voltage 14 is applied between the movement detection electrode 9 and the fixed detection electrode 8 to move the movement detection electrode 9. do. When the movement detection electrode 9 moves in the direction 12 of the driving vibration, the increase and decrease of the capacitance occur simultaneously on both sides of the fixed detection electrode 8, so they cancel each other and the amount of change is very small. Even when the movement detecting electrode 9 moves in the direction 13 of the detection vibration, a change in capacitance that is opposite to each other occurs in the narrow detection interval 10 and the wide detection interval 11, but the wide detection Since the change in capacitance occurring in the interval 11 is very small compared to the change in capacitance occurring in the narrow detection interval 10, the change in the narrow detection interval 10 shows the change in the dominant capacitance. . Therefore, the upper and lower detection electrodes 7a and 7b change the capacitance insensitive to the driving vibration in the left and right directions, so that the amount thereof can be neglected, and the capacitance is sensitive to the vibration in the vertical direction to obtain a signal proportional to the vibration. Can be.

도 3 은 상기 도 1 의 실시예에서 발생할 수 있는 불안정성의 요인을 예방하는 형태의 좌우측 구동 전극(15a, 15b)을 갖는 다른 실시예를 보인다.FIG. 3 shows another embodiment having left and right driving electrodes 15a and 15b in a form that prevents instability that may occur in the embodiment of FIG. 1.

도 1 의 실시예에서 상기 빗살 구동 전극(4a, 4b)은 상기 평면 진동 구조체(2)가 좌우 방향으로만 진동할 경우에 정상 작동이 유지되고 상항 방향으로 진동할 경우 불안정성이 발생할 요인을 갖고 있다. 도 3 의 실시예에서 상기 좌우측 구동 전극(15a, 15b)은 상기 상하부 검출 전극(7a, 7b)과 비슷한 형태의 구조를 가지면서 구동 행정이 길도록 설계되었다. 그러므로 상기 평면 진동 구조체(2)가 상하 방향의 진동을 하더라도 좌우측 구동 전극(15a, 15b)은 매우 작은 정전력을 받으므로 불안정성 발생의 가능성을 줄일 수 있다.In the embodiment of FIG. 1, the comb teeth driving electrodes 4a and 4b maintain the normal operation when the planar vibrating structure 2 vibrates only in the left and right directions, and have a factor of instability when vibrating in the upward direction. . In the embodiment of FIG. 3, the left and right driving electrodes 15a and 15b have a structure similar to that of the upper and lower detection electrodes 7a and 7b and have a long driving stroke. Therefore, even if the planar vibrating structure 2 vibrates in the up and down direction, the left and right driving electrodes 15a and 15b receive very small electrostatic force, thereby reducing the possibility of instability.

도 4 는 평면 진동형 마이크로 자이로스코프의 입체적인 구조 및 제조 공정의 이해를 돕기 위해 도1의 실시예에 대한 중앙부 단면을 보인다.FIG. 4 shows a central section of the embodiment of FIG. 1 to aid in understanding the three-dimensional structure and manufacturing process of a planar vibrating microgyroscope.

도 1 과 도 2 및 도 3 은 SOI웨이퍼의 미세 가공 기술을 이용한 자이로스코프 제작의 실시예를 보인다. 그러나 본 발명의 자이로스코프는 다결정 실리콘의 표면 미세 가공이나 금속의 도금을 이용해서도 동일한 구조체의 제작이 가능하다. 특히 다결정 실리콘의 표면 미세 가공을 이용한 자이로스코프 제작의 경우 다층 구조를 이용해 구조체 하부로 입체적인 배선을 할 수 있으므로 검출 전극의 형태 변경이 가능하다.1, 2 and 3 show an embodiment of the gyroscope fabrication using the microfabrication technology of the SOI wafer. However, the gyroscope of the present invention can produce the same structure even by using surface micromachining of polycrystalline silicon or plating of metal. In particular, in the case of manufacturing a gyroscope using the surface microfabrication of polycrystalline silicon, since the three-dimensional wiring can be performed under the structure using a multilayer structure, the shape of the detection electrode can be changed.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위내에서 여러가지 치환, 변형 및 변경이 가능함은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings, and various substitutions, modifications, and changes are possible within the scope without departing from the technical spirit of the present invention. It will be apparent to those who have

전술한 바와 같이 본 발명에 따르면, 자이로스코프 구조체의 구동과 검출 방향의 진동이 한 평면위에 놓이고, 그 진동의 모드가 동일하도록 구조체를 지지하는 스프링의 형태를 좌우 및 상하 축에 대칭되게 설계하여 주파수 조율이 필요 없이 자이로스코프의 고감도화를 이룰 수 있는 효과를 제공한다.As described above, according to the present invention, the vibration of the gyroscope structure and the direction of detection lies on one plane, and the shape of the spring supporting the structure is symmetrically on the left and right and up and down axes so that the modes of vibration are the same. It provides the effect of achieving high sensitivity of the gyroscope without the need for frequency tuning.

Claims (5)

전체 구조물의 중앙에 형성된 구조체 앵커와;A structure anchor formed at the center of the entire structure; 상기 구조체 앵커의 외부에 구비되어 상하 방향과 좌우 방향의 2축에 대해 모두 대칭인 모양을 갖는 꺾인 보 스프링과;A curved beam spring provided outside the structure anchor and symmetrical with respect to two axes in the vertical direction and the left and right directions; 상기 꺾인 보 스프링으로 구조체 앵커에 연결되어 기판으로 부터 떠있는 평면 진동 구조체와;A planar vibrating structure connected to the structure anchor with the bent beam springs floating from the substrate; 상기 평면 진동 구조체가 상기 구조체 앵커에 대하여 좌우 방향으로 진동함과 동시에 회전 각속도가 가해질 경우 상하 방향으로 진동하도록 상기 평면 진동 구조체의 좌우 양측에 구비되어 진동 구조체에 좌우 방향 정전력을 제공하는 빗살 구동 전극과;Comb drive electrodes provided on both left and right sides of the planar vibrating structure to vibrate in the vertical direction when the planar vibrating structure vibrates in the left and right directions with respect to the structure anchor and to vibrate in the vertical direction when the rotational angular velocity is applied. and; 상기 빗살 구동 전극에 구동 신호를 가하여 진동을 발생시키도록 금속 전극이 구비된 구동 전극 앵커와;A driving electrode anchor provided with a metal electrode to generate a vibration by applying a driving signal to the comb teeth driving electrode; 상기 평면 진동 구조체가 외부 각속도에 의한 코리올리 힘을 받을 때 생기는 진동을 정전 용량 법으로 검출하도록 상기 평면 진동 구조체의 상하 양단에 구비된 검출 전극과;Detection electrodes provided at upper and lower ends of the planar vibrating structure to detect vibration generated when the planar vibrating structure receives a Coriolis force due to an external angular velocity by an electrostatic capacitance method; 상기 검출 전극으로 부터의 정전 용량 변화를 검출 신호로 받기위해 금속 전극이 구비된 검출 전극 앵커로 구성된 것을 특징으로 하는 평면 진동형 마이크로 자이로스코프.And a detection electrode anchor provided with a metal electrode to receive a change in capacitance from the detection electrode as a detection signal. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 꺽인 보 스프링은,The bent spring spring, 상하 및 좌우 방향의 진동 모드을 동일하게 하고, 주파수 조율이 필요 없이 고감도로 센싱하도록 상기 구조체의 상하 및 좌우의 두 축에 대해 대칭으로 배치하여 구성된 것을 특징으로 하는 평면 진동형 마이크로 자이로스코프.A flat vibration type micro gyroscope comprising the same vibration modes in the vertical and horizontal directions, and arranged symmetrically with respect to the upper, lower, left and right axes of the structure to sense the high sensitivity without the need for frequency tuning. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기판은,The substrate, 상기 평면 진동 구조체의 하부로 어떤 전극이나 배선의 박막 형성도 필요 없도록 SOI 웨이퍼의 기판 미세 가공을 이용해 제작된 것을 특징으로하는 평면 진동형 마이크로 자이로스코프.And a substrate vibrating microstructure of an SOI wafer so as not to form a thin film of an electrode or a wiring under the planar vibrating structure. 제 1 항 내지 제 3 항중의 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 검출전극은,The detection electrode, 서로 좁은 검출 간격과 넓은 검출 간격의 배열을 이루며 배치되어, 좌우 방향의 구동 진동에 대해서는 둔감하고 상하 방향의 검출 진동의 방향에 대해서는 민감한 정전용량의 변화를 상하부 검출 전극이 검출하도록 상기 검출 전극 앵커에 붙어 있는 고정 검출 전극과 상기 평면 진동 구조체에 붙어 있는 이동 검출 전극으로 구성된 것을 특징으로 하는 평면 진동형 마이크로 자이로스코프.The detection electrode anchors are arranged in an arrangement of narrow detection intervals and wide detection intervals so that the upper and lower detection electrodes detect a change in capacitance which is insensitive to driving vibrations in the left and right directions and sensitive to the direction of the detection vibrations in the vertical direction. A flat vibration type micro gyroscope comprising: a fixed detection electrode attached thereto and a moving detection electrode attached to the planar vibrating structure. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 검출 방향의 진동이 존재할 경우 상기 빗살 구동 전극에서 발생할 수 있는 불안정성을 예방하도록 상기 빗살 구동 전극 대신 상기 검출 전극과 형태가 비슷하며 구동 신호에 따른 진동의 행정을 키울 수 있게 하는 구동 전극이 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 평면 진동형 마이크로 자이로스코프.The drive electrode is similar in shape to the detection electrode in place of the comb drive electrode to prevent instability that may occur in the comb teeth driving electrode when the vibration in the detection direction is present, and further includes a driving electrode to increase the stroke of the vibration according to the driving signal. Planar vibration type micro gyroscope, characterized in that the configuration.
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