KR100229174B1 - Process for preparation of sodium ceftriaxone - Google Patents

Process for preparation of sodium ceftriaxone Download PDF

Info

Publication number
KR100229174B1
KR100229174B1 KR1019970040066A KR19970040066A KR100229174B1 KR 100229174 B1 KR100229174 B1 KR 100229174B1 KR 1019970040066 A KR1019970040066 A KR 1019970040066A KR 19970040066 A KR19970040066 A KR 19970040066A KR 100229174 B1 KR100229174 B1 KR 100229174B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
sodium
ceftriaxone
represented
formula
chemical formula
Prior art date
Application number
KR1019970040066A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR19990017227A (en
Inventor
신영호
한동욱
박세충
박상현
Original Assignee
최기연
주식회사우평
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 최기연, 주식회사우평 filed Critical 최기연
Priority to KR1019970040066A priority Critical patent/KR100229174B1/en
Publication of KR19990017227A publication Critical patent/KR19990017227A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100229174B1 publication Critical patent/KR100229174B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/02Preparation
    • C07D501/04Preparation from compounds already containing the ring or condensed ring systems, e.g. by dehydrogenation of the ring, by introduction, elimination or modification of substituents
    • C07D501/06Acylation of 7-aminocephalosporanic acid
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/207-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/247-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
    • C07D501/36Methylene radicals, substituted by sulfur atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/207-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/247-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
    • C07D501/48Methylene radicals, substituted by hetero rings
    • C07D501/56Methylene radicals, substituted by hetero rings with the 7-amino radical acylated by carboxylic acids containing hetero rings

Abstract

본 발명은 세프트리악손 나트륨의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 다음 화학식 2로 표시되는 세팔로스포린 유도체와 2-머캅토벤조티아졸-2-(2-아미노티아졸-4-일)-2-신-메톡시이미노아세테이트를 특정 반응용매 및 염기조건하에서 반응시킨 다음, 세프트리악손 산의 분리공정없이 곧바로 물층에 나트륨 함유 유기용액을 투입하여 무균처리되지 않은 상태로 화학식 1로 표시되는 세프트리악손 나트륨을 직접 제조하는 경제성이 우수한 신규 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for preparing ceftriaxone sodium, more specifically, a cephalosporin derivative represented by the following Chemical Formula 2 and 2-mercaptobenzothiazol-2- (2-aminothiazol-4-yl) After reacting -2-cin-methoxyiminoacetate under a specific reaction solvent and basic conditions, a sodium-containing organic solution is immediately added to the water layer without the separation process of ceftriaxone acid and is represented by the following formula (1). The present invention relates to a novel production method having excellent economic efficiency of directly preparing ceftriaxone sodium.

Figure kpo00000
Figure kpo00000

Figure kpo00001
Figure kpo00001

Description

세프트리악손 나트륨의 제조방법Method for preparing Ceftriaxone Sodium

본 발명은 세프트리악손 나트륨의 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 다음 화학식 2로 표시되는 세팔로스포린 유도체와 2-머캅토벤조티아졸-2-(2-아미노티아졸-4-일)-2-신-메톡시이미노아세테이트를 특정 반응용매 및 염기조건하에서 반응시킨 다음, 세프트리악손 산의 분리공정없이 곧바로 물층에 나트륨 함유 유기용액을 투입하여 무균처리되지 않은 상태로 화학식 1로 표시되는 세프트리악손 나트륨을 직접 제조하는 경제성이 우수한 신규 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for preparing ceftriaxone sodium, more specifically, a cephalosporin derivative represented by the following Chemical Formula 2 and 2-mercaptobenzothiazol-2- (2-aminothiazol-4-yl) After reacting -2-cin-methoxyiminoacetate under a specific reaction solvent and basic conditions, a sodium-containing organic solution is immediately added to the water layer without the separation process of ceftriaxone acid and is represented by the following formula (1). The present invention relates to a novel production method having excellent economic efficiency of directly preparing ceftriaxone sodium.

화학식 1Formula 1

Figure kpo00002
Figure kpo00002

화학식 2Formula 2

Figure kpo00003
Figure kpo00003

상기 화학식 1로 표시되는 세프트리악손 나트륨은 공지의 화합물로서 베타 락타마제에 안정하고 기존의 세펨 화합물 중에서 반감기가 가장 길며 그람 양성 및 그람 음성 박테리아에 대하여 광범위한 항균력을 나타내므로 주사용 항생제로서 널리 이용되고 있다.Ceftriaxone sodium represented by the formula (1) is a known compound, stable to beta lactamase, the longest half-life among existing cefem compounds, and widely used as an antibiotic for injection because it exhibits a wide range of antimicrobial activity against gram positive and gram negative bacteria. have.

영국특허 제2,146,332A호 및 미국특허 제4,327,210호에는 상기 화학식 2로 표시되는 세팔로스포린 유도체(이하, "7-ACT"라 함)를 출발물질로하여 세프트리악손 산 또는 이의 나트륨염을 제조하는 방법이 개시되어 있다.British Patent No. 2,146,332A and US Patent No. 4,327,210 disclose the preparation of ceftriaxone acid or its sodium salt using the cephalosporin derivative represented by Chemical Formula 2 (hereinafter referred to as "7-ACT") as a starting material. A method is disclosed.

영국특허 제2,146,332A호에 개시되어 있는 화학식 2로 표시되는 7-ACT로부터 세프트리악손 산의 제조과정을 간략히 나타내면 다음 반응식 1과 같다.Schematic of the preparation of ceftriaxone acid from 7-ACT represented by the formula (2) disclosed in British Patent No. 2,146,332A is shown in Scheme 1 below.

Figure kpo00004
Figure kpo00004

상기 반응식 1에 의하면, 화학식 2로 표시되는 7-ACT에 실릴화제로서 N,O-비스(트리메틸실릴)아세트아미드를 사용하여 실릴기로 보호된 화학식 3으로 표시되는 화합물을 제조한다. 그리고, 화학식 3으로 표시되는 화합물과 2-머캅토벤조티아졸-2-(2-아미노티아졸-4-일)-2-신-메톡시이미노아세테이트(이하, "MAEM"이라 함)을 반응시킨 후, H2O와 KHCO3를 가하여 수층을 분리하고 여기에 에틸 아세테이트와 부탄올(8/2)의 혼합용액을 가하고 pH를 2로 조절한 다음, 유기용매인 에틸 아세테이트와 부탄올에 추출하고 감압농축한 후, 에테르를 가하여 목적으로 하는 세프트리악손 산을 얻었다. 그러나, 상기 제조방법은 35 ~ 40℃에서 15시간 이상의 장시간이 소요되며, 제조과정도 매우 복잡하여 경제성이 떨어지는 문제가 있다.According to Scheme 1, a compound represented by the formula (3) protected by a silyl group is prepared using N, O-bis (trimethylsilyl) acetamide as a silylating agent in 7-ACT represented by the formula (2). Then, the compound represented by the formula (3) and 2-mercaptobenzothiazol-2- (2-aminothiazol-4-yl) -2-cin-methoxyiminoacetate (hereinafter referred to as "MAEM") are reacted. After addition, H 2 O and KHCO 3 were added to separate the aqueous layer, and a mixed solution of ethyl acetate and butanol (8/2) was added thereto, the pH was adjusted to 2, followed by extraction with organic solvent ethyl acetate and butanol and reduced pressure. After concentration, ether was added to obtain the desired ceftriaxone acid. However, the manufacturing method takes a long time of more than 15 hours at 35 ~ 40 ℃, the manufacturing process is also very complicated, there is a problem of low economic efficiency.

또한, 미국특허 제4,327,210호에는 상기 화학식 2로 표시되는 7-ACT로부터 세프트리악손 나트륨을 제조하는 방법이 개시되어 있는 바, 이를 간략히 나타내면 다음 반응식 2와 같다.In addition, US Pat. No. 4,327,210 discloses a method for preparing sodium ceftriaxone from 7-ACT represented by Chemical Formula 2, which is briefly shown in Scheme 2 below.

Figure kpo00005
Figure kpo00005

상기 반응식 2에서 사용되고 있는 화학식 5로 표시되는 화합물의 경우, 클로로아세틸 클로라이드를 아미노 보호기로 도입하는 과정, PCl5를 이용하여 산 클로라이드를 제조하는 과정 등 복잡한 제조과정과 다루기 힘든 시약을 사용하여 제조하고 있으며, 또한 보호기로 도입된 클로로아세틸 클로라이드를 제거하기 위한 별도의 공정이 추가되어야 하는 등 공업적인 생산에 적용하기에는 많은 문제가 있었다.In the case of the compound represented by Chemical Formula 5, which is used in the above Reaction Scheme 2, a process of introducing chloroacetyl chloride as an amino protecting group, a process of preparing an acid chloride using PCl 5 , and the like are prepared using a complicated preparation process and a difficult to handle reagent. In addition, there have been many problems in industrial production, such as a separate process for removing chloroacetyl chloride introduced into the protecting group.

또한, 본 출원인은 화학식 2로 표시되는 7-ACT에 실릴기를 보호기로서 도입하고 MAEM을 반응시킨 반응용액에 3차아민과 물을 사용하여 pH 8.0 ~ 8.5의 알칼리 조건으로 조절한 후에 물층에 곧바로 나트륨 화합물을 투입하여 직접 화학식 1로 표시되는 세프트리악손 나트륨을 분리해내는 방법을 발명하여 특허출원한 바도 있다[대한민국특허출원 제 97-34647 호]. 이 제조방법은 값싼 시약을 사용하고 있고, 실릴기로 보호된 7-ACT와 MAEM의 반응용액을 간단히 pH 조작하는 방법에 의해 세프트리악손 산의 분리과정 없이 주사제로 유용한 세프트리악손 나트륨을 직접 제조하고 있어 제조공정을 단축시키는 효과를 얻고 있다. 특히, 일반적인 방법에서는 세프트리악손 산을 합성하여 보관하였다가 주사제로의 제조시에는 무균 시스템내에서 유기용매와 염기를 사용하여 세프트리악손 나트륨을 제조하여 사용하고 있는데 반하여, 이 발명에서는 세프트리악손 산보다 열에 대한 안정성이 뛰어나 장기 저장안정성이 우수한 무균처리되지 않은 세프트리악손 나트륨을 제조하고, 또 주사제로의 제조시에는 유기용매나 염기를 사용하지 않고 간단히 물에 용해시킨 상태로 무균처리공정을 수행하게 되므로 경제성 역시 우수하다.In addition, the present applicant introduced a silyl group to 7-ACT represented by the formula (2) as a protecting group, and after adjusting the alkali solution of pH 8.0-8.5 using tertiary amine and water in the reaction solution reacted with MAEM, sodium in the water layer immediately A patent application has been invented for inventing a method for directly separating a ceftriaxone sodium represented by Chemical Formula 1 by adding a compound (Korean Patent Application No. 97-34647). This method uses inexpensive reagents and directly prepares ceftriaxone sodium, which is useful as an injection, without the separation of ceftriaxone acid by simple pH manipulation of the reaction solution of 7-ACT and MAEM protected by silyl groups. There is an effect of shortening the manufacturing process. In particular, in the general method, ceftriaxone acid is synthesized and stored, and when prepared as an injection, ceftriaxone sodium is prepared using an organic solvent and a base in a sterile system. The non-sterilized ceftriaxone sodium is prepared with better heat stability than acid and long-term storage stability, and in the case of injection, it is easily dissolved in water without using organic solvent or base. Economic performance is also excellent because it is performed.

본 발명에서는 대한민국특허출원 제 97-34647 호의 제조방법을 보다 개선하고자, 화학식 2로 표시되는 7-ACT에의 실릴 보호기 도입과정을 생략하고 디클로로메탄(CH2Cl2)에 알콜 또는 알콜과 물의 혼합물이 혼합되어 있는 혼합용액을 반응용매로 사용하고 3차아민염기 존재하에서 화학식 2로 표시되는 7-ACT와 MAEM을 직접 반응시킨 후에 물층에 곧바로 나트륨 화합물을 투입하는 일용기반응(one-pot reaction)에 의해 화학식 1로 표시되는 세프트리악손 나트륨을 제조함으로써 본 발명을 완성하였다.In the present invention, in order to further improve the manufacturing method of the Republic of Korea Patent Application No. 97-34647, the introduction of the silyl protecting group to 7-ACT represented by the formula ( 2 ), omitting the alcohol or a mixture of alcohol and water in dichloromethane (CH 2 Cl 2 ) In the one-pot reaction in which the mixed solution is mixed as a reaction solvent and directly reacts the 7-ACT represented by the formula (2) and MAEM in the presence of a tertiary amine base and immediately adds a sodium compound to the water layer. The present invention was completed by preparing Ceftriaxone Sodium represented by the formula (1).

따라서, 본 발명은 대한민국특허출원 제 97-34647 호에서의 실릴 보호기 도입과정을 생략하고 특정 반응조건하에서 7-ACT와 MAEM의 반응용액을 직접 반응시키고, 또한 반응 중간체의 분리과정 없이 주사제로 유용한 세프트리악손 나트륨을 일용기반응으로 합성하는 개선된 제조방법을 제공하는데 그 목적이 있다.Therefore, the present invention omits the introduction of the silyl protecting group in Korean Patent Application No. 97-34647 and directly reacts the reaction solution of 7-ACT and MAEM under specific reaction conditions, and is also useful as an injection without separating the reaction intermediate. It is an object of the present invention to provide an improved manufacturing method for synthesizing triaxone sodium by one-group reaction.

본 발명은 다음 화학식 2로 표시되는 세팔로스포린 유도체에 실릴보호기를 도입한 후, 다음 화학식 7로 표시되는 MAEM과 반응시켜 세프트리악손 산을 제조한 다음, 통상의 방법에 의해 세프트리악손 나트륨을 제조하는 방법에 있어서,The present invention introduces a silyl protecting group to the cephalosporin derivative represented by the following formula (2), and then reacts with the MAEM represented by the following formula (7) to produce a ceftriaxone acid, and then the ceftriaxone sodium by a conventional method In the manufacturing method,

상기 화학식 2로 표시되는 세팔로스포린 유도체에 실릴보호기를 도입하는 과정없이 디클로로메탄(CH2Cl2)/알콜 또는 디클로로메탄(CH2Cl2)/알콜/물의 혼합용매 및 3차아민염기 존재하에서 다음 화학식 2로 표시되는 세팔로스포린 유도체와 다음 화학식 7로 표시되는 MAEM을 직접 반응시키고, 생성된 다음 화학식 8로 표시되는 세프트리악손 아민염이 존재하는 물층에 나트륨 함유 유기용액을 투입하여 무균처리되지 않은 상태로 다음 화학식 1로 표시되는 세프트리악손 나트륨을 제조하는 방법을 그 특징으로 한다.In the presence of a mixed solvent of dichloromethane (CH 2 Cl 2 ) / alcohol or dichloromethane (CH 2 Cl 2 ) / alcohol / water and tertiary amine base without introducing a silyl protecting group to the cephalosporin derivative represented by the formula ( 2 ) Next, the cephalosporin derivative represented by the following formula (2) and the MAEM represented by the following formula (7) are directly reacted, and then the sodium-containing organic solution is added to the water layer containing the ceftriaxone amine salt represented by the following formula (8) and aseptically treated. It is characterized by a method for producing sodium ceftriaxone represented by the following formula (1) in a state that is not.

화학식 2Formula 2

Figure kpo00006
Figure kpo00006

Figure kpo00007
Figure kpo00007

Figure kpo00008
Figure kpo00008

화학식 1Formula 1

Figure kpo00009
Figure kpo00009

이와같은 본 발명을 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.Referring to the present invention in more detail as follows.

본 발명에 따른 제조방법은 특정 반응용매 및 3차아민염기를 사용하므로써 7-ACT에의 보호기 도입과정을 생략할 수 있고, 또한 반응중간체로 생성되는 세프트리악손 산 또는 이의 아민염을 분리하는 공정없이 곧바로 반응용액으로부터 나트륨염의 제조가 가능한 일용기반응(one-pot reaction)으로 세프트리악손 나트륨의 공업적인 생산에 유용하다.The preparation method according to the present invention can omit the process of introducing a protecting group to 7-ACT by using a specific reaction solvent and tertiary amine base, and also without separating the ceftriaxone acid or its amine salt produced as a reaction intermediate. The one-pot reaction, which enables the production of sodium salts directly from the reaction solution, is useful for the industrial production of ceftriaxone sodium.

특히, 본 발명에서는 반응용매로서 디클로로메탄/알콜 또는 디클로로메탄/알콜/물의 혼합용매를 사용하는 바, 디클로로메탄과 같은 단일 비극성유기용매를 사용하게 되면 반응물의 용해도 저하로 반응이 제대로 진행되지 못하는 문제가 있고, 알콜 또는 물과 같은 단일 극성용매를 사용하게 되면 반응물뿐만 아니라 불순물의 용해도가 높아 목적물의 순도가 저하되는 문제가 있다. 또한, 반응용매로서 물을 함께 사용할 경우, 물의 함량이 지나치게 많으면 목적물의 순도향상을 위하여 과량의 유기용매가 사용되어야 하므로 경제적으로 바람직하지 못하다.Particularly, in the present invention, when a mixed solvent of dichloromethane / alcohol or dichloromethane / alcohol / water is used as the reaction solvent, when a single non-polar organic solvent such as dichloromethane is used, the reaction does not proceed properly due to a decrease in the solubility of the reactants. In addition, when a single polar solvent such as alcohol or water is used, the solubility of not only the reactants but also impurities may be high, thereby decreasing the purity of the target product. In addition, when water is used together as the reaction solvent, if the amount of water is too high, it is not economically preferable because an excess of an organic solvent should be used to improve the purity of the target.

그러나, 본 발명에서는 비극성 유기용매로서 디클로로메탄을 사용하고 극성용매로서 알콜 또는 알콜과 물의 혼합물을 적당량 함께 사용하므로써 제조 공정시간을 단축시키고 반응물의 용해도를 증가시키며 불순물은 유기용매를 사용한 추출에 의해 용이하게 제거될 수 있어서 목적물의 순도를 높이이게 된다.However, in the present invention, by using dichloromethane as a non-polar organic solvent and an appropriate amount of alcohol or a mixture of alcohol and water as a polar solvent together, the production process time is shortened, solubility of the reactants is increased, and impurities are easily extracted by using an organic solvent. Can be removed to increase the purity of the object.

이러한 혼합용매의 배합비율에 있어서, 디클로로메탄에 대하여 극성용매(알콜 또는 알콜과 물의 혼합물)는 100 : 8 ~ 12(v/v)로 사용하는 데, 극성용매의 사용량이 적으면 반응물의 용해도가 떨어져 반응시간이 오래 소요되는 문제가 있고, 과량 사용하게 되면 부반응으로 인하여 목적물의 순도 및 수율이 저하되는 문제가 있다. 또한, 알콜과 물의 배합비에 있어서, 알콜에 대하여 물은 100 : 70(v/v) 미만으로 사용하는 것이 바람직하며, 알콜에 대한 물의 사용량이 이보다 과량이면 반응물의 용해도는 증가하나 부반응이 생길 수 있다.In the mixing ratio of such a mixed solvent, a polar solvent (alcohol or a mixture of alcohol and water) is used at 100: 8-12 (v / v) with respect to dichloromethane. There is a problem that takes a long time off the reaction, and when used in excess, there is a problem that the purity and yield of the target product is lowered due to side reactions. In addition, in the mixing ratio of alcohol and water, it is preferable to use water less than 100: 70 (v / v) with respect to alcohol. If the amount of water to alcohol is used in excess, the solubility of the reactants may increase, but side reactions may occur. .

본 발명에 따른 세프트리악손 나트륨의 제조과정을 간략히 나타내면 다음 반응식 3과 같다.The process for preparing ceftriaxone sodium according to the present invention is briefly shown in Scheme 3 below.

Figure kpo00010
Figure kpo00010

먼저 화학식 2로 표시되는 7-ACT와 화학식 7로 표시되는 MAEM을 반응시키며, MAEM은 화학식 2로 표시되는 7-ACT 1 몰에 대하여 1.0 ~ 1.5 몰비로 사용한다.First, 7-ACT represented by Formula 2 and MAEM represented by Formula 7 are reacted, and MAEM is used in a molar ratio of 1.0 to 1.5 with respect to 1 mole of 7-ACT represented by Formula 2.

이때의 반응용매는 상기에서 설명한 바와 같은 디클로로메탄/알콜 또는 디클로로메탄/알콜/물의 혼합용매를 사용한다. 알콜으로는 탄소원자수 1 ~ 5의 알콜 예를들면 메탄올, 에탄올, n-프로판올, 이소프로판올, 부탄올, 펜탄올 등을 사용한다. 반응온도는 -50 ~ 100℃, 바람직하기로는 -10 ~ 10℃를 유지하는 것이다.The reaction solvent at this time is a dichloromethane / alcohol or a mixed solvent of dichloromethane / alcohol / water as described above. As the alcohol, alcohols having 1 to 5 carbon atoms such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, butanol, pentanol, and the like are used. Reaction temperature is -50-100 degreeC, Preferably it is -10-10 degreeC.

또한, 상기 반응은 3차아민염기 존재하에서 수행되는데 3차아민은 3차알킬아민 화합물으로서, 예를들면 트리메틸아민, 트리에틸아민을 사용할 수 있다. 3차아민염기는 용액의 pH 범위가 8.0 ~ 8.5로 유지되도록 첨가하는 바, 이로써 반응생성물로서 수층에 존재하는 화학식 8로 표시되는 세프트리악손 아민염이 안정하여 가장 효율적으로 추출될 수 있으며, 또한 다음의 나트륨 화합물과의 반응을 최적화할 수 있다. 그러나, 용액의 pH가 8.0 미만이면 화학식 8로 표시되는 세프트리악손 아민염이 수층으로의 추출이 용이하지 않아 여러번 반복적으로 추출하여야하는 공정상의 번거러움과 수율이 감소하는 문제가 있다. 반면에 용액의 pH가 8.5를 초과하면 화학식 8로 표시되는 세프트리악손 아민염이 분해되어 부반응물이 생성되므로 수율 및 순도가 저하되는 문제가 있다.In addition, the reaction is carried out in the presence of a tertiary amine base, the tertiary amine may be used as a tertiary alkylamine compound, for example trimethylamine, triethylamine. The tertiary amine base is added so that the pH range of the solution is maintained at 8.0 to 8.5, so that the ceftriaxone amine salt represented by the formula (8) present in the water layer as a reaction product is stable and can be extracted most efficiently. The reaction with the following sodium compounds can be optimized. However, when the pH of the solution is less than 8.0, the ceftriaxone amine salt represented by the formula (8) is not easy to extract into the aqueous layer, there is a problem in that the process hassle and the yield is reduced to be repeatedly extracted several times. On the other hand, when the pH of the solution exceeds 8.5, the ceftriaxone amine salt represented by the formula (8) is decomposed to produce a side reaction product, which causes a problem in yield and purity deterioration.

상기 화학식 2로 표시되는 7-ACT와 화학식 7로 표시되는 MAEM의 반응이 완료되면, 물층을 취하고 여기에 나트륨 화합물을 투입하여 본 발명에서 목적으로 하는 세프트리악손 나트륨을 제조한다. 이때 나트륨 화합물으로는 소디움-2-에틸 헥사노에이트 또는 소디움 아세테이트를 사용하며, 이는 상기 화학식 8로 표시되는 세프트리악손 아민염 1 몰에 대하여 2.0 ~ 2.1 몰비로 사용한다. 또한, 나트륨 화합물은 유기용매 예를들면 메탄올, 에탄올, 프로판올 등의 탄소원자수 1 ~ 5의 알콜류, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 탄소원자수 3 ~ 6의 케톤류, 에틸 아세테이트, 또는 이들의 혼합용매에 녹여 투입하는 것이 바람직한 바, 그 이유는 세프트리악손 나트륨이 서서히 석출되어 결정이 크게 성장되므로 분말(powder) 보다는 결정형(crystal form)으로 목적물을 얻을 수 있다. 반응온도는 -50 ~ 100℃, 바람직하기로는 10 ~ 25℃를 유지하는 것이다.When the reaction of 7-ACT represented by Chemical Formula 2 and MAEM represented by Chemical Formula 7 is completed, the aqueous layer is taken and sodium compound is added thereto to prepare sodium ceftriaxone. In this case, sodium 2-ethyl hexanoate or sodium acetate is used as the sodium compound, which is used at a molar ratio of 2.0 to 2.1 with respect to 1 mole of the ceftriaxone amine salt represented by Chemical Formula 8. The sodium compound may be an organic solvent such as alcohols having 1 to 5 carbon atoms such as methanol, ethanol or propanol, ketones having 3 to 6 carbon atoms such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, or these It is preferable to dissolve in a mixed solvent of bar, because the reason is that the ceftriaxone sodium precipitates slowly and crystals grow large, so that the target product can be obtained in a crystal form rather than powder. Reaction temperature is -50-100 degreeC, Preferably it is 10-25 degreeC.

상기에서 설명한 바와 같이 본 발명의 제조방법은 특정 반응조건 설정으로 인하여 반응물질로 사용되는 화학식 2로 표시되는 7-ACT에의 보호기 도입과정을 생략할 수 있고, 짧은 반응시간내에 높은 제조수율로 목적으로 하는 화학식 1로 표시되는 세프트리악손 나트륨을 제조할 수 있다.As described above, the preparation method of the present invention can omit the introduction of the protecting group to 7-ACT represented by the formula (2), which is used as a reactant due to the setting of specific reaction conditions, and a high production yield within a short reaction time. To Ceftriaxone Sodium represented by the formula (1) can be prepared.

이와 같은 본 발명을 실시예에 의거하여 더욱 상세히 설명하겠는 바, 본 발명이 실시예에 한정되는 것은 아니다.The present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to Examples.

실시예 1Example 1

화학식 2로 표시되는 세팔로스포린 유도체(7-ACT; 135g)와 2-머캅토벤조티아졸-2-(2-아미노티아졸-4-일)-2-신-메톡시이미노아세테이트(MAEM; 182.3g)를 디클로로메탄(1750 ㎖)에 현탁시켰다. 여기에 H2O(135 ㎖)와 메탄올(205 ㎖)을 가하고, 0℃로 냉각한 다음 트리에틸아민(155.3 ㎖)를 서서히 적가하였다. 10℃에서 4시간동안 반응시킨 후, 반응이 완료되면 H2O(400 ㎖)를 가하고 수층을 분리한 다음 수층에 소디움-2-에틸 헥사노에이트(125g)와 메탄올(400㎖)의 혼합액을 서서히 적가하여 결정이 석출되면 1시간동안 교반한 후, 이소프로판올(650 ㎖)을 가하고 추가로 30분동안 더 교반하였다. 석출된 결정을 여과하고 아세톤(750 ㎖)으로 세척한 후 40℃에서 6시간동안 진공감압건조하여 무균처리되지 않은 세프트리악손 나트륨(193g, 수율 80.2%)을 얻었다.Cephalosporin derivative (7-ACT; 135 g) and 2-mercaptobenzothiazol-2- (2-aminothiazol-4-yl) -2-cin-methoxyiminoacetate (MAEM; 182.3 g) was suspended in dichloromethane (1750 mL). To this was added H 2 O (135 mL) and methanol (205 mL), cooled to 0 ° C. and triethylamine (155.3 mL) was slowly added dropwise. After reacting at 10 ° C. for 4 hours, when the reaction is completed, H 2 O (400 ml) is added, the aqueous layer is separated, and a mixture of sodium-2-ethyl hexanoate (125 g) and methanol (400 ml) is added to the aqueous layer. After the dropwise addition, crystals precipitated and stirred for 1 hour, then isopropanol (650 ml) was added, followed by further stirring for 30 minutes. The precipitated crystals were filtered, washed with acetone (750 mL), and vacuum-dried at 40 ° C. for 6 hours to give aseptic untreated ceftriaxone sodium (193 g, yield 80.2%).

녹는점: 155℃(dec.)Melting Point: 155 ℃ (dec.)

분자량 : 661.59Molecular Weight: 661.59

실험식 : C18H16N8O7S3Na2·3.5H2OEmpirical formula: C 18 H 16 N 8 O 7 S 3 Na 2 · 3.5H 2 O

[α]D 25= -165°(c=1, H2O)[α] D 25 = -165 ° (c = 1, H 2 O)

IR 스펙트럼(KBr) : 1758(β-락탐카르보닐기) ㎝-1 IR spectrum (KBr): 1758 (β-lactamcarbonyl group) cm -1

1H-NMR(D2O, ppm): δ3.62(s, 3H, NCH3), 3.98(s, 3H, OCH3), 6.99(s, 1H, 5-티아 졸릴-H) 1 H-NMR (D 2 O, ppm): δ 3.62 (s, 3H, NCH 3 ), 3.98 (s, 3H, OCH 3 ), 6.99 (s, 1H, 5-thiazolyl-H)

실시예 2Example 2

상기 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하되, 다만 7-ACT와 MAEM의 반응에서 메탄올(205 ㎖) 대신에 에탄올(205 ㎖)을 사용하여 무균처리되지 않은 세프트리악손 나트륨(194.4g, 수율 80.8%)을 얻었다.Prepared in the same manner as in Example 1 except for using ethanol (205 mL) instead of methanol (205 mL) in the reaction of 7-ACT and MAEM aseptically treated sodium ceftriaxone (194.4 g, yield 80.8%) )

실시예 3Example 3

상기 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하되, 다만 7-ACT와 MAEM의 반응에서 메탄올(205 ㎖) 대신에 이소프로판올(205 ㎖)을 사용하여 무균처리되지 않은 세프트리악손 나트륨(199.7g, 수율 83.0%)을 얻었다.Prepared in the same manner as in Example 1, except in the reaction of 7-ACT and MAEM isopropanol (205 mL) instead of methanol (205 mL) was not sterilized Ceftriaxone sodium (199.7g, yield 83.0% )

실시예 4Example 4

상기 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하되, 다만 7-ACT와 MAEM의 반응에서 메탄올(205 ㎖) 대신에 n-프로판올(205 ㎖)을 사용하여 무균처리되지 않은 세프트리악손 나트륨(197.2g, 수율 82.0%)을 얻었다.Prepared in the same manner as in Example 1, except for the use of n-propanol (205 mL) instead of methanol (205 mL) in the reaction of 7-ACT and MAEM aseptic treatment of sodium ceftriaxone (197.2 g, yield 82.0%).

실시예 5Example 5

상기 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하되, 다만 소디움-2-에틸 헥사노에이트(125g)을 수층에 첨가할 때 메탄올(400 ㎖) 대신에 에탄올(500 ㎖)과 아세톤(500 ㎖)의 혼합용매에 녹여 첨가하였으며, 그 결과 무균처리되지 않은 세프트리악손 나트륨(202.1g, 수율 84.0%)을 얻었다.Manufactured in the same manner as in Example 1, except that sodium-2-ethyl hexanoate (125 g) was added to the aqueous layer, instead of methanol (400 mL), a mixed solvent of ethanol (500 mL) and acetone (500 mL). It was dissolved in and added, resulting in unsterilized ceftriaxone sodium (202.1 g, yield 84.0%).

실시예 6Example 6

상기 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하되, 다만 소디움-2-에틸 헥사노에이트(125g)을 수층에 첨가할 때 메탄올(400 ㎖) 대신에 에탄올(500 ㎖)과 에틸 아세테이트(500 ㎖)의 혼합용매에 녹여 첨가하였으며, 그 결과 무균처리되지 않은 세프트리악손 나트륨(204g, 수율 84.8%)을 얻었다.Prepared in the same manner as in Example 1 except that sodium-2-ethyl hexanoate (125 g) was added to the aqueous layer, instead of methanol (400 mL), ethanol (500 mL) and ethyl acetate (500 mL) were mixed. It was dissolved in the solvent and added, and as a result, sodium steftriaxone (204 g, yield 84.8%) was obtained.

실시예 7Example 7

상기 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하되, 다만 소디움-2-에틸 헥사노에이트(125g)을 수층에 첨가할 때 메탄올(400 ㎖) 대신에 에틸 아세테이트(500 ㎖)와 아세톤(500 ㎖)의 혼합용매에 녹여 첨가하였으며, 그 결과 무균처리되지 않은 세프트리악손 나트륨(202.5g, 수율 84.2%)을 얻었다.Prepared in the same manner as in Example 1 except that sodium-2-ethyl hexanoate (125 g) was added to the aqueous layer, instead of methanol (400 mL), mixed with ethyl acetate (500 mL) and acetone (500 mL). It was dissolved in the solvent and added, and as a result, sodium steftriaxone (202.5 g, yield 84.2%) was obtained.

실시예 8Example 8

상기 실시예 2와 동일한 방법으로 제조하되, 다만 소디움-2-에틸 헥사노에이트(125g)을 수층에 첨가할 때 메탄올(400 ㎖) 대신에 에틸 아세테이트(500 ㎖)와 아세톤(500 ㎖)의 혼합용매에 녹여 첨가하였으며, 그 결과 무균처리되지 않은 세프트리악손 나트륨(201.6g, 수율 83.8%)을 얻었다.Prepared in the same manner as in Example 2 except that sodium-2-ethyl hexanoate (125 g) was mixed with ethyl acetate (500 mL) and acetone (500 mL) instead of methanol (400 mL) when added to the aqueous layer. It was dissolved in the solvent and added, and as a result, sodium steftriaxone (201.6 g, yield 83.8%) was obtained.

실시예 9Example 9

상기 실시예 3과 동일한 방법으로 제조하되, 다만 소디움-2-에틸 헥사노에이트(125g)을 수층에 첨가할 때 메탄올(400 ㎖) 대신에 에틸 아세테이트(500 ㎖)와 아세톤(500 ㎖)의 혼합용매에 녹여 첨가하였으며, 그 결과 무균처리되지 않은 세프트리악손 나트륨(204.9g, 수율 85.2%)을 얻었다.Prepared in the same manner as in Example 3, except that ethyl acetate (500 mL) and acetone (500 mL) were added instead of methanol (400 mL) when sodium-2-ethyl hexanoate (125 g) was added to the aqueous layer. It was dissolved in the solvent and added, and as a result, sodium steftriaxone (204.9 g, yield 85.2%) was obtained.

실시예 10Example 10

상기 실시예 4와 동일한 방법으로 제조하되, 다만 소디움-2-에틸 헥사노에이트(125g)을 수층에 첨가할 때 메탄올(400 ㎖) 대신에 에틸 아세테이트(500 ㎖)와 아세톤(500 ㎖)의 혼합용매에 녹여 첨가하였으며, 그 결과 무균처리되지 않은 세프트리악손 나트륨(203.3g, 수율 84.5%)을 얻었다.Prepared in the same manner as in Example 4 except mixing sodium-2-ethyl hexanoate (125 g) to the aqueous layer, instead of methanol (400 mL), mixing ethyl acetate (500 mL) and acetone (500 mL) It was dissolved in a solvent and added, and as a result, sodium steftriaxone (203.3 g, yield 84.5%) was obtained.

실시예 11Example 11

상기 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하되, 다만 7-ACT와 MAEM의 반응에서 물을 사용하지 않고 메탄올(205 ㎖)만을 사용하여 무균처리되지 않은 세프트리악손 나트륨(195g, 수율 81.1%)을 얻었다.Prepared in the same manner as in Example 1 except using only methanol (205 mL) in the reaction of 7-ACT and MAEM to obtain unsterilized ceftriaxone sodium (195 g, yield 81.1%). .

실시예 12Example 12

상기 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하되, 다만 7-ACT와 MAEM의 반응에서 물을 사용하지 않고 에탄올(205 ㎖)만을 사용하여 무균처리되지 않은 세프트리악손 나트륨(196g, 수율 81.5%)을 얻었다.Prepared in the same manner as in Example 1 except using ethanol (205 mL) without water in the reaction of 7-ACT and MAEM to obtain aseptic untreated ceftriaxone sodium (196g, yield 81.5%). .

실시예 13Example 13

상기 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하되, 다만 7-ACT와 MAEM의 반응에서 물을 사용하지 않고 이소프로판올(205 ㎖)만을 사용하여 무균처리되지 않은 세프트리악손 나트륨(204.5g, 수율 85.0%)을 얻었다.Prepared in the same manner as in Example 1, except in the reaction of 7-ACT and MAEM using only isopropanol (205 mL) without water to sterilized ceftriaxone sodium (204.5g, yield 85.0%) Got it.

실시예 14Example 14

상기 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하되, 다만 7-ACT와 MAEM의 반응에서 물을 사용하지 않고 n-프로판올(205 ㎖)만을 사용하여 무균처리되지 않은 세프트리악손 나트륨(198g, 수율 82.3%)을 얻었다.Prepared in the same manner as in Example 1, except in the reaction of 7-ACT and MAEM using only n-propanol (205 mL) without water aseptically treated sodium ceftriaxone (198 g, yield 82.3%) Got.

실시예 15Example 15

상기 실시예 1과 동일한 방법으로 제조하되, 다만 소디움-2-에틸 헥사노에이트(125g) 대신에 소디움 아세테이트(63g)을 사용하였으며, 그 결과 무균처리되지 않은 세프트리악손 나트륨(193.6g, 수율 80.5%)을 얻었다.Prepared in the same manner as in Example 1, except that sodium acetate (63 g) was used instead of sodium-2-ethyl hexanoate (125 g). As a result, unsterilized ceftriaxone sodium (193.6 g, yield 80.5) %) Was obtained.

실시예 16Example 16

상기 실시예 11과 동일한 방법으로 제조하되, 다만 소디움-2-에틸 헥사노에이트(125g) 대신에 소디움 아세테이트(63g)을 사용하였으며, 그 결과 무균처리되지 않은 세프트리악손 나트륨(195.3g, 수율 81.2%)을 얻었다.Prepared in the same manner as in Example 11, except that sodium acetate (63 g) was used instead of sodium-2-ethyl hexanoate (125 g), and as a result, unsterilized sodium ceftriaxone (195.3 g, yield 81.2). %) Was obtained.

본 발명은 7-ACT와 MAEM을 특정 용매 및 3차아민염기 존재하에서 직접 반응시킨 후에 물층에 곧바로 나트륨 함유 유기용액을 투입하여 주사제로 유용한 세프트리악손 나트륨을 무균처리되지 않은 상태로 제조하며, 제조된 세프트리악손 나트륨은 세프트리악손 산에 비교하여 열에 안정하여 장기저장안정성이 우수하고, 또 이를 주사제로 제조할 때에는 유기용매나 염기 첨가없이 물에 용해시켜 멤브레인을 통하여 무균여과하는 간단한 조작만이 필요하며, 또한 특정 반응조건 설정으로 7-ACT에의 보호기 도입과정이 생략되며 제조수율이 높고 반응시간이 짧아 공업적으로 매우 유리한 효과를 갖는다.In the present invention, 7-ACT and MAEM are reacted directly in the presence of a specific solvent and a tertiary amine base, and then a sodium-containing organic solution is directly added to the water layer to prepare Ceftriaxone Sodium, which is useful as an injection, in an aseptic state. The sodium ceftriaxone sodium is stable to heat compared to the ceftriaxone acid and has long-term storage stability, and when prepared as an injection, it is dissolved in water without addition of an organic solvent or base and aseptically filtered through a membrane. In addition, the introduction of the protecting group into 7-ACT is omitted by setting specific reaction conditions, and the production yield is high and the reaction time is short.

Claims (4)

다음 화학식 2로 표시되는 세팔로스포린 유도체(7-ACT)에 실릴보호기를 도입한 후, 다음 화학식 7로 표시되는 2-머캅토벤조티아졸-2-(2-아미노티아졸-4-일)-2-신-메톡시이미노아세테이트(MAEM)와 반응시켜 세프트리악손 산을 제조한 다음, 통상의 방법에 의해 세프트리악손 나트륨을 제조하는 방법에 있어서,Next, after introducing a silyl protecting group to the cephalosporin derivative (7-ACT) represented by the following Chemical Formula 2, 2-mercaptobenzothiazol-2- (2-aminothiazol-4-yl) represented by the following Chemical Formula 7 In the process for producing ceftriaxone acid by reacting with 2-cin-methoxyiminoacetate (MAEM), and then producing ceftriaxone sodium by a conventional method, 상기 화학식 2로 표시되는 세팔로스포린 유도체(7-ACT)에 실릴보호기를 도입하는 과정없이 디클로로메탄(CH2Cl2)/알콜 또는 디클로로메탄(CH2Cl2)/알콜/물의 혼합용매 및 3차아민염기 존재하에서 다음 화학식 2로 표시되는 7-ACT와 다음 화학식 7로 표시되는 MAEM을 직접 반응시키고, 생성된 다음 화학식 8로 표시되는 세프트리악손 아민염이 존재하는 물층에 나트륨 함유 유기용액을 투입하여 무균처리되지 않은 상태로 제조하는 것을 특징으로 하는 다음 화학식 1로 표시되는 세프트리악손 나트륨의 제조방법.A mixed solvent of dichloromethane (CH 2 Cl 2 ) / alcohol or dichloromethane (CH 2 Cl 2 ) / alcohol / water without introducing a silyl protecting group into the cephalosporin derivative represented by Chemical Formula 2 (7-ACT) and 3 In the presence of a secondary amine group, a 7-ACT represented by the following Chemical Formula 2 and a MAEM represented by the following Chemical Formula 7 are directly reacted, and a sodium-containing organic solution is added to the water layer in which the ceftriaxone amine salt represented by the following Chemical Formula 8 is present. Method for producing sodium ceftriaxone represented by the following formula (1), characterized in that the preparation is prepared in a non-sterile treatment state. 화학식 2Formula 2
Figure kpo00011
Figure kpo00011
화학식 7Formula 7
Figure kpo00012
Figure kpo00012
화학식 8Formula 8
Figure kpo00013
Figure kpo00013
화학식 1Formula 1
Figure kpo00014
Figure kpo00014
제 1 항에 있어서, 상기 나트륨 함유 유기용액은 소디움-2-에틸 헥사노에이트 또는 소디움 아세테이트가 유기용매에 용해되어 있는 것을 특징으로 하는 세프트리악손 나트륨의 제조방법.The method of claim 1, wherein the sodium-containing organic solution is sodium 2-ethyl hexanoate or sodium acetate dissolved in an organic solvent. 제 2 항에 있어서, 상기 유기용매는 탄소원자수 1 ~ 5의 알콜, 탄소원자수 3 ~ 6의 케톤용매, 에틸 아세테이트 또는 이들의 혼합용매인 것을 특징으로 하는 세프트리악손 나트륨의 제조방법.The method of claim 2, wherein the organic solvent is an alcohol having 1 to 5 carbon atoms, a ketone solvent having 3 to 6 carbon atoms, ethyl acetate, or a mixed solvent thereof. 제 1 항에 있어서, 상기 3차아민염기로는 트리에틸아민을 사용하는 것을 특징으로 하는 세프트리악손 나트륨의 제조방법.The method for producing ceftriaxone sodium according to claim 1, wherein triethylamine is used as the tertiary amine base.
KR1019970040066A 1997-08-22 1997-08-22 Process for preparation of sodium ceftriaxone KR100229174B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970040066A KR100229174B1 (en) 1997-08-22 1997-08-22 Process for preparation of sodium ceftriaxone

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019970040066A KR100229174B1 (en) 1997-08-22 1997-08-22 Process for preparation of sodium ceftriaxone

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR19990017227A KR19990017227A (en) 1999-03-15
KR100229174B1 true KR100229174B1 (en) 1999-11-01

Family

ID=19518132

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019970040066A KR100229174B1 (en) 1997-08-22 1997-08-22 Process for preparation of sodium ceftriaxone

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100229174B1 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111909180A (en) * 2020-09-09 2020-11-10 瑞阳制药股份有限公司 Preparation method of ceftriaxone sodium crystal with good stability and high operability

Also Published As

Publication number Publication date
KR19990017227A (en) 1999-03-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR890000763B1 (en) Precess for producing 4'-demethyl-epipodophyllotoxin-d-ethylidene-glucoside and acyl-derivative thereof
EP1712556B1 (en) Azithromycin monohydrate
JP3421354B2 (en) Crystalline cefdiniramine salt
KR20080064990A (en) Process for the preparation of cefdinir
JPS6328438B2 (en)
HUT66020A (en) Medhod for the purification of crude clavulanic acid
RU2074854C1 (en) Method of synthesis of derivatives of o-(2-hydroxy-3-piperidino-1-propyl)-nicotinic acid amideoxime and their salts (variants), o-(2-hydroxy-3-piperidino-1-propyl)-nicotinic acid amideoxime pure crystalline base
KR100229174B1 (en) Process for preparation of sodium ceftriaxone
KR100522846B1 (en) Processes for preparing quaternary ammonium salts of triazine compounds
CN109912625B (en) Process method for reducing ceftazidime impurity H
KR19990011517A (en) Method for preparing Ceftriaxone Sodium
EP0037241B1 (en) Process for the preparation of erythromycylamine 11,12-carbonate
KR100841044B1 (en) Method for preparing cephalosporin compound
EP0031548B1 (en) Process for preparing 5-amino-1,2,3-thiadiazoles
KR100229175B1 (en) Process for preparation of cephem derivatives
KR100310936B1 (en) A process for preparing N-(4-methylbenzenesulfonyl)-N'-(3-azabicyclo[3,3,0]octane)urea
US3882107A (en) Zinc chelate of 2,4-dihydroxy-1,4(2H)-benzoxazine-3-one
JP2907520B2 (en) Method for producing surfactant
SU545259A3 (en) The method of obtaining-substituted cycloserine compounds or their salts
EP0078853B1 (en) Process for preparing beta-chloroalanine
GB2170806A (en) N-(b-mercapto-iso-butyryl)proline, derivatives and a process for their preparation
KR100247730B1 (en) Process for the preparation of fusidic acid sodium salt
RU2152389C1 (en) Method of synthesis of 3,5-diamino-1,2,4-triazole nitrate
US5227509A (en) Process for manufacture of organic esters of strong acids
EP0230586A1 (en) Process for producing azoimino ethers

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20020814

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee