KR100223842B1 - Electron gun for cathode ray tube - Google Patents
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Abstract
본 발명은 칼라음극선관용 전자총에 관한 것으로 대형 브라운관에서 화면 주변부로의 편향력이 더 커져 전자빔 스폿의 열화가 심화되는 현상을 보상하면서 화면의 고휘도 요구에 따라 고전류량을 사용하므로 인해 삼극부에서의 공간 전하반발력증대로 스폿 열화가 발생되는 현상을 미연에 방지할 수 있도록 한 것이다.The present invention relates to an electron gun for a color cathode ray tube, which compensates for the deterioration of the electron beam spot deterioration due to a larger deflection force in a large CRT and a space in the triode due to the use of a high current amount according to the high luminance demand of the screen. Spot deterioration caused by increased charge repulsion is prevented in advance.
이를 위해, 삼극부렌즈를 형성하는 전극에서 제 1 전극(4)에 형성되는 전자빔 통과공 중 적어도 1개 이상의 전자빔 통과공 주변에 수평방향이 수직방향보다 작은 종장형의 함몰부(4b)를 형성하되, 제 1 전극(4)의 두께를 0.25 mm이하로 하고 함몰부(4b)의 깊이는 제 1 전극 두께의 40 ∼ 70 %범위로 하며, 제 2 전극(5)에 형성되는 전자빔 통과공 중 제 1 전극과 대향하는 적어도 1개 이상의 전자빔 통과공의 주변부에 수평방향이 수직방향보다 큰 횡장형의 함몰부(5d)를 형성하되, 제 2 전극(5)에 형성되는 함몰부(5d)의 깊이는 제 2 전극 두께의 50 ∼ 80 %범위로 설정하여서 된 것이다.To this end, an elongated recess 4b having a horizontal direction smaller than the vertical direction is formed around at least one or more electron beam through holes formed in the first electrode 4 in the electrode forming the tripolar lens. However, the thickness of the first electrode 4 is 0.25 mm or less, and the depth of the depression 4b is in the range of 40 to 70% of the thickness of the first electrode, and among the electron beam through holes formed in the second electrode 5. On the periphery of at least one electron beam through hole facing the first electrode, a horizontal depression 5d having a horizontal direction larger than the vertical direction is formed, and the depression 5d formed on the second electrode 5 is formed. The depth is set in the range of 50 to 80% of the thickness of the second electrode.
Description
본 발명은 칼라음극선관용 전자총에 관한 것으로써, 좀더 구체적으로는 삼극부를 형성하는 제 1,2 전극의 구조에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
도 1은 일반적인 칼라음극선관의 횡단면도로써, 칼라음극선관용 전자총의 각 전극들은 3개의 음극(1)에서 방사된 전자빔(2)을 일정한 세기의 형태로 제어한 다음 형광면(3)에 도달할 수 있도록 하기 위해 전자빔(2)이 통과되는 경로에 대해 수직이 되게 서로 일정한 간격을 두고 인라인(in-line)으로 배치된다.1 is a cross-sectional view of a conventional color cathode ray tube, in which each electrode of the electron gun for a color cathode ray tube controls the
이를 보다 구체적으로 설명하면, 상호 독립되게 수평으로 나란히 설치된 3개의 음극(1)과, 상기 음극으로부터 일정 간격이 유지되게 배치되어 음극에서 발생되는 열전자를 제어하는 제 1 전극(4)과, 상기 제 1 전극으로부터 일정 간격이 유지되게 배치되어 음극의 전자 방사물질면(도시는 생략함)에 모여 있는 열전자를 당겨내어 가속시키는 역할을 하는 제 2 전극(5)과, 그리고 제 3 전극(6), 제 4 전극(7), 제 5 전극(8), 제 6 전극(9)이 차례로 배치되어 있고 상기 제 6 전극의 일측(전자빔의 진행방향측)에는 펀넬(10)의 내면에 도포된 흑연막(11)과의 접지역할을 함과 동시에 전자총을 네크부(10a)의 중심부에 위치되도록 지지역할을 하는 복수개의 쉴드 스프링(12)이 고정된 쉴드컵(13)이 배치된다.In more detail, the three cathodes (1) arranged in parallel with each other horizontally and independently of each other, the first electrode (4) arranged to maintain a predetermined distance from the cathode to control the hot electrons generated in the cathode, and the first A
상기 음극(1)에는 각 전자총의 컷 오프(cut-off)전압이 같도록 일정한 전류치를 얻기 위해 각각 다른 전압이 인가된다.Different voltages are applied to the
따라서 전자총의 삼극부를 구성하는 음극(1)내의 히터(14)에 스템핀(15)으로 부터 전원이 인가되어 발열되면 음극의 선단부에 도포된 전자 방사물질에서 열전자가 방출된다.Therefore, when power is applied from the
이와 같이 방출된 열전자는 제어전극인 제 1 전극(4)에 의해 제어됨과 동시에 가속전극인 제 2 전극(5)에 의해 가속되어(삼극부렌즈:도 5b의 16) 제 2,3 전극(5)(6)사이에 형성되는 프리 포커스렌즈(도 5b의 17)와 제 3,4,5 전극(6)(7)(8)에 의해 형성되는 프리 포커스렌즈(도 5b의 18)에 의해 약간 집속된 다음 주렌즈(19) 형성전극인 제 5,6 전극(8)(9)을 차례로 통과하게 된다.The hot electrons emitted as described above are controlled by the
상기 각 전극을 통과하면서 가속 및 집속된 전자빔은 형광면(3)과 일정 간격 유지되게 설치되어 색선별역할을 하는 섀도우 마스크(20)를 통과한 다음 형광면(3)에 충돌하여 상기 형광면을 발광시키므로 화면이 재현된다.The electron beam accelerated and focused while passing through each electrode is installed to be maintained at a predetermined distance from the
상기한 바와 같은 동작시 펀넬(10)의 네크부(10a) 외주면에 설치된 편향요크(21)가 전자총에서 발사되어 형광면측으로 이동하는 전자빔(2)을 형광면(3)의 전체로 편향시켜 준다.In the operation as described above, the
도 2는 인라인 전자총을 일부 절결하여 나타낸 분해 사시도로써, 제 3 전극(6)에 대향하는 제 2 전극(5)의 전자빔 통과공(5a)에 도 4a와 같이 인라인방향보다 수직방향이 더 작은 횡장형의 함몰부(5b)가 형성되어 있거나, 미국 특허 제 4,641,058 호인 도 4b와 같이 제 2 전극(5)에 대향하는 제 3 전극(6)의 전자빔 통과공(6a)에 인라인방향보다 수직방향이 더 큰 종장형의 함몰부(6b)가 형성되어 있다.FIG. 2 is an exploded perspective view showing a partially cut in-line electron gun, and the transverse direction of the electron beam through
이와 같이 제 2,3 전극(5)(6)에 형성된 함몰부(5b)(6b)를 통상 슬롯이라고 칭하는데, 이러한 슬롯들은 제 2,3 전극(5)(6)사이의 전위차에 의해 형성되는 렌즈를 비대칭으로 형성시키는 역할을 한다.Thus, the
일반적으로 제 2 전극(5)에 인가되는 전압은 약 400 ∼ 1,000 V이고, 제 3 전극(6)에 인가되는 전압은 6,000 ∼ 10,000 V정도이다.In general, the voltage applied to the
칼라 음극선관에 적용되는 전자총의 제 5,6 전극(8)(9)에는 도 3에 도시한 바와 같이 3개의 전자빔이 공통으로 통과하는 개구부(8a)(9a)와, 상기 개구부에서 일정간격 후퇴되는 지점에 정전장 제어전극체(22)(23)가 각각 구비된다.The fifth and
상기한 구조는 주렌즈의 크기를 확장하는 기능을 하면서 인라인 방향이 이에 수직한 방향보다 렌즈의 집속력이 강한 비대칭의 주렌즈를 형성하여 전자빔이 편향요크(21)에 의해 편향될 때 발생되는 디프렉션 디포커싱현상에 의한 전자빔의 열화를 줄여 주게 된다.The above-described structure functions to expand the size of the main lens and forms an asymmetric main lens having a stronger focusing force of the lens than the direction in which the inline direction is perpendicular thereto, so that the diff is generated when the electron beam is deflected by the
도 4에 나타낸 미국 특허 제 4,641,058 호에서는 제 3 전극(6)과 대향하는 제 2 전극(5)면에 인라인방향으로 길게 형성된 함몰부(5b) 또는 제 2 전극(5)과 대향하는 제 3 전극(6)면에 형성된 인라인방향에 대해 수직한 방향이 길게 형성된 함몰부(6b)가 있어 음극(1)에서 방출된 전자빔(2)은 수평방향의 렌즈강도가 수직방향의 렌즈강도보다 작은 비대칭의 프리 포커스렌즈(17)에 의해 수평방향이 수직방향보다 큰 횡장형의 전자빔이 되어 도 5a와 같이 주렌즈(19)측으로 입사된다.In US Pat. No. 4,641,058 shown in FIG. 4, the
상기한 내용을 좀 더 상세히 설명하면 다음과 같다.The above is described in more detail as follows.
제 2 전극(5)의 함몰부(5b)와 제 3 전극(6)의 함몰부(6b)에 의해 형성되는 프리 포커스렌즈(17)의 수평방향은 렌즈의 강도가 약화되어 전자빔(2)을 작게 집속시키고, 수직방향은 렌즈강도가 강하여 전자빔을 크게 집속시키게 되므로 횡장형의 전자빔을 형성하게 된다.The horizontal direction of the prefocus lens 17 formed by the
이와 같이 전자빔을 횡장화시키는 이유는 제 5,6 전극(8)(9)사이에서 형성되는 주렌즈(19)의 구면수차를 수직방향에 대해서 감소시키면서 도 3의 비대칭 주렌즈와 함께 디프렉션 디포커싱현상 및 섈프컨버젼스 편향요크의 채용에 의한 비균일 편향자계(24)로 전자빔이 편향될 때 도 5b와 같이 수평방향은 집속력이 떨어지고, 수직방향은 집속력이 강해져 전자빔이 열화되는 현상을 보상하기 위함이다.The reason for the horizontal lengthening of the electron beam is to reduce the spherical aberration of the
상기 디프렉션 디포커싱현상의 보상에 대해 보다 상세히 설명하면, 횡장형전자빔이 주렌즈(19)를 통과하여 형광면(3)에 집속될 때 수평방향의 물점거리가 수직방향에 비해 길어 수평방향의 집속거리가 수직방향보다 짧아지게 되므로 편향요크(21)에 의해 편향될 때 비균일 편향자계(24)에 의해 발생되는 디프렉션 디포커싱현상을 보상하게 된다.When the compensation of the deflection defocusing phenomenon is described in more detail, when the horizontal electron beam is focused on the
그리고 제 2,3 전극(5)(6)에 형성된 함몰부(5b)(6b)에 의한 비대칭의 프리 포커스렌즈(17)는 전자빔의 물점크기를 수평방향이 수직방향보다 작은 종장형의 전자빔(2)을 형성하므로 화면 주변부에서 발생하는 전자빔의 횡장화를 보상하게 된다.In addition, the asymmetric prefocus lens 17 formed by the
따라서 이러한 전자빔이 화면 주변부로 편향될 경우, 횡장화되는 양이 줄어 들어 거의 원형과 유사한 형태를 유지하게 되므로 화면 주변부에서 수평방향 스폿경의 축소로 인한 포커스개선과 화면 주변부에서의 수직방향 스폿확대로 인한 모아레의 발생우려를 감소시키게 되고, 이에 따라 해상도를 향상시키게 된다.Therefore, when the electron beam is deflected to the periphery of the screen, the amount of lateralization is reduced to maintain a nearly circular shape, resulting in the improvement of focus due to the reduction of the horizontal spot diameter at the periphery and the increase of the vertical spot at the periphery of the screen. Moire is less likely to occur, thereby improving resolution.
그러나 최근 고휘도의 요구 및 콘트라스트(contrast)향상을 위한 화면 코팅기술 또는 다크틴트 글라스(dark tint glass)의 채용에 따라 전자총에서의 주요 사용 전류량이 약 20 %정도 증대되는 추세이다.However, in recent years, due to the use of screen coating technology or dark tint glass for high brightness and contrast enhancement, the main current amount of the electron gun increases by about 20%.
이에 따라, 전자총에서도 삼극부의 전자빔 크로스오버부분에서의 전류밀도가 증가되므로 인한 공간 전하반발력의 증대로 화면에서 스폿 크기가 증대되는 문제점이 발생된다.Accordingly, even in the electron gun, since the current density at the electron beam crossover portion of the triode increases, the spot size increases on the screen due to an increase in the space charge repulsion force.
특히, 제 2,3 전극(5)(6)사이의 프리 포커스렌즈에 비대칭렌즈를 형성하는 전자총에서는 전술한 바와 같이 삼극부에서 공간 전하반발력이 증대되는 현상을 해결하지 못하게 된다.In particular, in the electron gun which forms the asymmetric lens in the prefocus lens between the second and
첨부도면 도 5a 및 도 5b는 회전대칭형 전자총에서 전자빔의 집속상태를 나타낸 모식도로써, 전자빔이 편향되지 않는 화면의 중앙부에서는 도 5a와 같이 원형의 스폿(25)을 구현할 수 있게 되지만, 화면의 주변부로 편향되었을 경우에는 전자빔이 도 5b와 같이 편향요크에서 발생되는 비균일 편향자계(24)에 의해 횡장형의 코어부(26)와, 해상도를 열화시키는 할로우(27)(halo)를 나타나게 되고, 이에 따라 화면의 중앙부분과 주변간에 해상도편차가 매우 심하게 발생되므로 화면의 포커스 균일성이 저하된다.5A and 5B are schematic diagrams showing a focused state of an electron beam in a rotationally symmetric electron gun. In the center portion of the screen where the electron beam is not deflected,
그러나 도 6a 및 도 6b에 나타낸 회전비대칭형 전자총에서는 비대칭의 프리 포커스렌즈(17)와 비대칭의 주렌즈(19)에 의해 화면 중앙부에서는 도 6a와 같이 수평방향이 수직방향보다 작은 종장형의 스폿(28)이 형성되지만, 전자빔이 화면 주변부로 편향될 때에는 상기 비대칭 프리 포커스렌즈와 주렌즈에 의해 편향요크(21)에서 발생되는 비균일 편향자계(24)의 영향을 일부 보상하게 되므로 화면 주변부에서 도 6b와 같이 회전대칭형 전자총보다 코어부(29)를 증가시키면서 할로우(30)를 줄이게 된다.However, in the rotationally asymmetric electron gun shown in Figs. 6A and 6B, an asymmetric prefocus lens 17 and an asymmetric
따라서 화면의 중앙과 주변부간의 해상도 편차를 줄일 수 있게 되므로 화면전체에 걸친 포커스 균일성을 개선시킬 수 있게 된다.Therefore, since the resolution deviation between the center and the peripheral portion of the screen can be reduced, it is possible to improve the focus uniformity over the entire screen.
그러나 이러한 종래의 전자총은 편향에 의한 스폿의 열화는 어느 정도 보상할 수 있으나, 삼극부에서의 공간 전하반발력의 증대로 인한 스폿 열화는 보상할 수 없게 되므로 화면상에서 작은 스폿을 얻을 수 없게 된다.However, such a conventional electron gun can compensate for the degradation of the spot due to deflection to some extent, but the spot degradation due to the increase of the space charge repulsion force in the triode cannot be compensated, and thus a small spot cannot be obtained on the screen.
본 발명은 종래의 이와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로써, 대형 브라운관에서 화면 주변부로의 편향력이 더 커져 전자빔 스폿의 열화가 심화되는 현상을 보상하면서 화면의 고휘도 요구에 따라 고전류량을 사용하므로 인해 삼극부에서의 공간 전하반발력증대로 스폿 열화가 발생되는 현상을 미연에 방지하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve such a problem in the prior art, the use of a high current amount in accordance with the high brightness requirements of the screen while compensating for the phenomenon that the deflection of the electron beam spot is increased due to the greater deflection force from the large CRT to the periphery of the screen. Therefore, the purpose is to prevent the phenomenon of spot deterioration due to the increase of space charge repulsion in the triode.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따르면, 전자빔을 방사하는 음극과, 상기 전자빔의 방사량을 조절하고 전자빔을 화면측으로 가속시키는 적어도 2개이상의 전극으로 구성된 삼극부 렌즈와, 상기 전자빔을 일정량 집속하는 적어도 2개이상으로 구성되는 프리 포커스렌즈부와, 상기 전자빔을 화면에 집속하기 위한 주렌즈를 형성하는 2개이상의 전극으로 구성되는 칼라 음극선관용 전자총에 있어서, 상기 삼극부렌즈를 형성하는 전극에서 제 1 전극에 형성되는 전자빔 통과공중 적어도 1개이상의 전자빔 통과공 주변에 수평방향이 수직방향보다 작은 종장형의 함몰부를 형성하되, 제 1 전극의 두께를 0.25 mm이하로 하고 함몰부의 깊이는 제 1 전극 두께의 40 ∼ 70 %범위로 하며, 제 2 전극에 형성되는 전자빔 통과공중 제 1 전극과 대향하는 적어도 1개이상의 전자빔 통과공의 주변부에 수평방향이 수직방향보다 큰 횡장형의 함몰부를 형성하되, 제 2 전극에 형성되는 함몰부의 깊이는 제 2 전극 두께의 50 ∼ 80 %범위로 설정하여서 된 것을 특징으로 하는 칼라 음극선관용 전자총이 제공된다.According to an embodiment of the present invention for achieving the above object, a tripolar lens consisting of a cathode for emitting an electron beam, at least two electrodes for adjusting the radiation amount of the electron beam and to accelerate the electron beam to the screen side, and the electron beam An electron gun for a color cathode ray tube composed of at least two prefocus lenses configured to focus a predetermined amount and two or more electrodes forming a main lens for focusing the electron beam on a screen, wherein the three-pole lenses are formed. An elongated recess having a horizontal direction smaller than the vertical direction is formed around at least one electron beam through hole formed in the first electrode in the electrode, but the thickness of the first electrode is 0.25 mm or less and the depth of the recess is It is in the range of 40 to 70% of the thickness of the first electrode, and it is opposed to the first electrode in the electron beam through hole formed in the second electrode. At least one electron beam through-hole is formed in the periphery of the horizontal direction is larger than the vertical direction to form a depression, the depth of the depression formed in the second electrode is set to be set to 50 to 80% of the thickness of the second electrode An electron gun for a color cathode ray tube is provided.
도 1은 일반적인 칼라음극선관을 나타낸 횡단면도1 is a cross-sectional view showing a typical color cathode ray tube
도 2는 인라인 전자총을 일부 절결하여 나타낸 분해 사시도2 is an exploded perspective view showing a partially cut in-line electron gun
도 3은 대구경 주렌즈의 일부를 절결하여 나타낸 사시도Figure 3 is a perspective view showing a part of the large-diameter main lens cut out
도 4a 및 도 4b는 종래 제 2,3 전극의 일부를 나타낸 사시도4A and 4B are perspective views showing a part of the conventional second and third electrodes.
도 5a 및 도 5b는 회전대칭형 전자총에서 전자빔의 집속상태를 나타낸 모식도5A and 5B are schematic diagrams showing a focused state of an electron beam in a rotationally symmetric electron gun;
도 6a 및 도 6b는 회전비대칭형 전자총에서 전자빔의 집속상태를 나타낸 모식도6A and 6B are schematic diagrams showing a focused state of an electron beam in a rotationally asymmetric electron gun;
도 7a 및 도 7b는 본 발명의 일 실시예를 나타낸 제 1,2 전극의 사시도7A and 7B are perspective views of first and second electrodes showing an embodiment of the present invention.
도 8a 및 도 8b는 본 발명의 다른 실시예를 나타낸 제 1,2 전극의 사시도8A and 8B are perspective views of first and second electrodes showing another embodiment of the present invention;
도 9a, 도 9b는 종래 및 본 발명의 삼극부에서 전자빔 집속형태를 비교하여 나타낸 그래프9A and 9B are graphs showing comparison of electron beam focusing shapes in the tripolar portions of the prior art and the present invention.
도 10a 및 도 10b는 제 1 전극의 함몰부 깊이에 따른 특성변화를 나타낸 그래프10A and 10B are graphs showing a characteristic change according to the depth of the depression of the first electrode.
도 11a 및 도 11b는 제 2 전극의 함몰부 깊이에 따른 특성변화를 나타낸 그래프11A and 11B are graphs showing a characteristic change according to the depth of depression of the second electrode.
도면의 주요부분에 대한 부호의 설명Explanation of symbols for main parts of the drawings
4 : 제 1 전극 4a,5c : 사각공4:
4b,5d : 함몰부 4c,5e : 원형공4b, 5d:
5 : 제 2 전극5: second electrode
이하, 본 발명을 각 실시예로 도시한 도 7a 내지 도 11b를 참고로 하여 더욱 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to FIGS. 7A to 11B illustrating the embodiments.
도 7a 및 도 7b는 본 발명의 일 실시예를 나타낸 제 1,2 전극의 사시도이고 도 8a 및 도 8b는 본 발명의 다른 실시예를 나타낸 제 1,2 전극의 사시도이다.7A and 7B are perspective views of first and second electrodes showing one embodiment of the present invention, and FIGS. 8A and 8B are perspective views of first and second electrodes showing another embodiment of the present invention.
본 발명의 일 실시예로 도시한 도 7a 및 도 7b를 살펴보면, 제 1 전극(4)에 형성되는 전자빔 통과공을 사각공(4a)으로 하고 제 2 전극(5)과 대향하는 면에 위치하는 전자빔 통과공 중 적어도 1개 이상의 전자빔 통과공에는 수평방향이 수직방향보다 작은 종장형의 함몰부(4b)를 형성한다.Referring to FIGS. 7A and 7B, which illustrate an embodiment of the present invention, an electron beam passing hole formed in the
이때, 제 1 전극(4)의 두께를 0.25 mm이하로 하고, 함몰부(4b)의 깊이는 제 1 전극 두께의 40 ∼ 70 %범위로 설정한다.At this time, the thickness of the
그리고 제 2 전극(5)에 형성되는 전자빔 통과공을 제 1 전극과 동일하게 사각공(5c)으로 하고 제 1 전극(4)과 대향하는 면에 위치하는 전자빔 통과공 중 적어도 1개 이상의 전자빔 통과공에는 수직방향이 수평방향보다 작은 횡장형의 함몰부(5d)를 형성한다.The electron beam passing hole formed in the
이때, 제 2 전극(5)에 형성되는 함몰부(5d)의 깊이는 제 2 전극 두께의 50 ∼ 80 %범위로 설정한다.At this time, the depth of the recessed
도 8a 및 도 8b는 본 발명의 다른 실시예를 나타낸 것으로, 일 실시예와 다른 점은 전자빔 통과공을 사각공(4a)(5c)으로 형성하던 것을 원형공(4c)(5e)으로 적용하였다는 점이다.8A and 8B show another embodiment of the present invention, which is different from one embodiment in that the electron beam passing holes are formed as
상기한 각 실시예에서 높은 전자빔 전류량을 요구하는 칼라 음극선관인 경우에는 제 1 전극(4)에 형성되는 전자빔 통과공을 사각공(4a)으로 하는 것이 바람직하다.In the above-described embodiments, in the case of a color cathode ray tube requiring a high amount of electron beam current, it is preferable that the electron beam through hole formed in the
그 이유는, 원형공(4c)에 비해 사각공(4a)은 음극(1)의 방사면적을 넓게 하면서 물점의 크기를 결정하는 제 1 전극(4)의 수평 및 수직공경 또한 동일하게 유지할 수 있어 음극(1)의 수명을 증가시키면서도 화면상의 스폿크기의 증가는 억제시키는 잇점을 갖기 때문이다.The reason is that the square hole 4a can maintain the same horizontal and vertical pore diameter of the
상기한 제 1,2 전극(4)(5)은 일정간격이 유지되게 인라인으로 배치되어 각각 다른 전압이 인가되는데, 일반적으로 제 1 전극(4)에 0 V가, 그리고 제 2 전극(5)에는 260 ∼ 10,000 V가 인가되어 양 전극간의 전위차에 의해 비대칭 삼극부렌즈(16)가 형성되도록 한다.The first and
이와 같이 구성된 본 발명의 작용을 설명하면 다음과 같다.Referring to the operation of the present invention configured as described above is as follows.
먼저, 음극(1)내의 히터(14)에 전원이 인가되어 상기 음극으로부터 전자빔(2)이 방사되면 방사된 전자빔은 제 1,2 전극(4)(5)에 의해 집속된 다음 가속되어 상기 제 1,2 전극사이에 형성된 삼극부렌즈(16)를 통과하게 된다.First, when power is applied to the heater 14 in the
이때, 제 2 전극(5)에 대향하는 제 1 전극(4)면상에 형성된 종장형의 함몰부(4b)와, 제 1 전극(4)에 대향하는 제 2 전극(5)면상에 형성된 횡장형의 함몰부(5d)에 의해 삼극부렌즈(16)의 액션은 수평이 수직방향보다 약한 렌즈강도를 갖게 되므로 통과되는 전자빔이 횡장화된다.At this time, an
또한, 도 9b에서와 같이 삼극부렌즈(16)가 제 1 전극(4)에 형성된 사각공(4a) 또는 원형공(4c)형상의 전자빔 통과공내부로 침투되어 음극(1)상에 형성된 전자들을 끌어내는 렌즈액션에 있어서도 수직이 수평보다 강하게 되므로 수평방향의 크로스오버(31)가 수직방향의 크로스오버(32)보다 음극(1)으로부터 가깝게 위치된다.In addition, as shown in FIG. 9B, the tripolar lens 16 penetrates into the electron beam passing hole in the shape of the square hole 4a or the
이에 따라, 도 9a에 나타낸 종래의 전자총 삼극부와 같이 수평과 수직이 동일한 위치에 크로스오버(33)가 형성되어 크로스오버부분에서의 전류밀도가 증가되므로 인한 공간 전하반발력이 증대되어 스폿이 열화되는 현상을 본 발명에서는 보상할 수 있게 된다.Accordingly, as in the conventional electron gun triode shown in FIG. 9A, the
그리고 제 1,2 전극(4)(5)의 사이에 형성되는 삼극부렌즈(16)의 수평방향 액션이 함몰부(4b)(5d)에 의해 수직보다 약하게 되어 삼극부렌즈(16)를 통과한 전자빔을 횡장화시키게 되므로 제 5,6 전극(8)(9)사이에 형성되는 주렌즈(19)의 구면수차를 수직방향에 대해 감소시키면서 도 3에 나타낸 비대칭 주렌즈와 함께 디프렉션 디포커싱현상을 보상하게 된다.Then, the horizontal action of the tripolar lens 16 formed between the first and
즉, 횡장화된 전자빔이 주렌즈를 통과하여 스크린에 집속될 때 수평방향의 물점거리가 수직방향의 물점거리보다 길게 형성되어 수평방향의 집속거리가 수직방향보다 짧게 형성되므로 편향요크(21)에 의해 편향될 때 비균일 편향자계(24)에 의해 발생하는 디프렉션 디포커싱현상을 보상하게 된다.That is, when the horizontally longened electron beam is focused on the screen through the main lens, the horizontal distance is formed longer than the vertical distance, so the horizontal distance is shorter than the vertical direction. Compensation for deflection defocusing caused by non-uniform deflection
여기서, 제 1,2 전극(4)(5)사이에 형성되는 삼극부렌즈(16)를 최적의 상태로 설계하기 위해서는 함몰부(4b)(5d)의 깊이가 가장 중요한 요인으로 작용된다.Here, the depth of the
상기 삼극부렌즈(16)를 최적의 상태로 설계하기 위해 제 2 전극(5)에 대향된 제 1 전극(4)면에 형성되는 함몰부(4b)의 깊이를 제 1 전극 두께의 40 %이상으로 설정하였던 바, 특성변화가 도 10a 및 도 10b의 그래프와 같이 나타났다.In order to design the tripolar lens 16 in an optimal state, the depth of the
이때, 제 2 전극(5)에 형성되는 함몰부(5d)의 깊이를 제 2 전극 두께의 50 %로 설정하였다.At this time, the depth of the recessed
이에 따라, 삼극부렌즈(16)의 특성이 가장 우수하게 나타났으나, 삼극부렌즈(16)의 제 1 전극(4)내부로의 렌즈 침투강도가 증대되도록 제 1 전극(4)의 두께를 0.25 mm이상 형성하는데 한계를 갖는다.Accordingly, although the characteristics of the tripolar lens 16 are the best, the thickness of the
만약, 함몰부(4b)를 깊게 설정하여 제 1 전극(4)에 형성되는 전자빔 통과공 형성부의 두께가 0.08 mm이하로 될 경우에는 전자총 제작공정에서 전극의 취급시 부주의로 변형이 발생될 우려가 있으므로 제 1 전극(4)에 형성되는 함몰부(4b)의 깊이를 제 1 전극 두께의 40 ∼ 70 % 범위로 설정하는 것이 가장 바람직함을 실험을 통해 알 수 있었다.If the
또한, 제 1 전극에 대향되게 제 2 전극(5)면에 형성되는 함몰부(5d)의 깊이도 도 11a 및 도 11b에 나타낸 그래프에서와 같이 전자총의 제작성 및 특성을 고려할 때 제 2 전극 두께의 50 ∼ 80 % 로 설정하는 것이 바람직하다.Also, the depth of the recessed
상기 제 2 전극(5)에 형성된 함몰부(5d)의 깊이가 제 1 전극(4)에 형성된 함몰부(4b)의 깊이보다 깊은 이유는 제 1 전극(4)이 제 2 전극(5)에 비해, 삼극부렌즈(16)에 더 많은 영향을 끼치기 때문이다.The reason why the depth of the recessed
제 1,2 전극(4)(5)에 형성되는 전자빔 통과공을 일 실시예와 같이 사각공(4a)(5c)으로 형성할 경우 다른 실시예로 나타낸 원형공(4c)(5e)에 비해, 화면의 스폿경에 직접적인 영향을 주는 제 1 전극에 형성되는 전자빔 통과공의 수평 및 수직경을 원형공에 비해 줄이면서 전자빔 방사면적에 영향을 주는 제 1 전극(4)의 표면적을 동일하게 유지할 수 있게 되므로 화면상에서의 스폿경을 줄이면서 음극의 수명은 동일하게 유지시킬 수 있게 된다.When the electron beam passing holes formed in the first and
이상에서와 같이 본 발명은 제 1,2 전극(4)(5)의 간단한 구조변경에 의해 브라운관의 대형화 및 고정세화의 요구에 따라 화면 주변부로의 편향력이 더 커져 전자빔 스폿이 열화되는 현상을 보상하면서 화면의 고휘도 요구에 따른 고전류량의 사용증대로 발생되는 삼극부에서의 공간 전하반발력증대를 미연에 방지하게 되므로 화면상에서의 작은 스폿의 형성이 가능해짐은 물론 화면의 전 영역에서 균일한 포커스 특성을 얻을 수 있게 된다.As described above, according to the present invention, the deflection force toward the screen periphery becomes larger due to the larger size and higher definition of the CRT due to the simple structure change of the first and
즉, 삼극부에서의 공간 전하반발현상의 감소를 통해 화면상 스폿의 크기를 줄이면서 편향에 의해 발생하는 편향자계렌즈에 의한 화면 주변부에서의 스폿 열화현상을 동시에 보상하게 되므로 화면 전 영역에서 작고 균일한 스폿을 얻을 수 있게 된다.In other words, it reduces the size of spot on the screen by reducing the space charge repulsion at the three poles and simultaneously compensates for spot degradation at the periphery of the screen caused by deflection magnetic field lens caused by deflection. You get a spot.
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