KR100206704B1 - Method of forming the array of semiconductor memory device - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반도체 메모리 장치에 관한 것으로, 본 발명의 목적은 고집적화를 달성하면서도 전류소모를 억제할 수 있는 반도체 메모리 장치의 어레이 구성방법을 제공함에 있다. 이러한 목적을 달성하기 위한 기술적 사상에 따르면, 행과 열의 매트릭스 형태로 구성된 다수개의 메모리 셀들을 가지는 복수개의 서브 어레이들과, 이 서브 어레이들을 포함하는 다수개의 뱅크들을 구비하는 반도체 메모리 장치의 어레이 구성방법은 상기 뱅크들 중 적어도 하나이상의 제1뱅크들 및 나머지 제2뱅크들이 가지는 각각의 상기 서브 어레이의 갯수를 다르게 구성하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a semiconductor memory device, and an object of the present invention is to provide a method of configuring an array of semiconductor memory devices capable of suppressing current consumption while achieving high integration. According to an aspect of the present invention, there is provided an array configuration method of a semiconductor memory device including a plurality of subarrays having a plurality of memory cells arranged in a matrix form of rows and columns, and a plurality of banks including the subarrays, Arrays of the plurality of sub-arrays included in at least one of the banks and the remaining second banks are different from each other.

Description

반도체 메모리 장치의 어레이 구성방법Method for configuring an array of semiconductor memory devices

본 발명은 반도체 메모리 장치내에 배치된 메모리 셀 어레이의 구성방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of configuring a memory cell array disposed in a semiconductor memory device.

일반적으로, 반도체 메모리 장치가 개발되기 시작하면서, 작은 면적에 많은 정보를 저장하기 위한 기술이 발전되어 왔다. 공정의 발달에 따른 미세화를 통한 고집적화 및 트랜지스터의 성능 개선을 통한 입출력 시간의 단축을 가져왔고, 설계적인 측면에서는 새로운 회로 구현 및 새로운 배치 방법등을 통해 고집적화 및 억세스 시간의 단축을 이루어 왔다. 이러한 고집적화가 이루어짐에 따라 초기에는 반도체 메모리 장치에 있어서 메모리 쎌 어레이의 면적과 주변회로의 면적중에서 주변회로가 차지하는 면적의 비중이 컸었지만, 점차로 메모리 쎌 어레이가 차지하는 면적의 비중이 높아지고 있다. 이러한 고집적화가 진행되면서 상대적으로 패키지(Package) 사이즈의 증가는 집적도와 비례하여 증가하는 것은 아니다. 이에 따라 새로운 회로 기술 및 구성방법 그리고 새로운 구성방법에 따른 고집적화 및 저전력화를 이루고자 하는 것이 주된 관심사로 대두되고 있다.Generally, as the semiconductor memory device begins to be developed, a technique for storing a large amount of information on a small area has been developed. High integration through miniaturization due to the development of process and shortening of input / output time by improvement of transistor performance have been achieved. In design aspect, high integration and shortening of access time have been achieved through new circuit implementation and new layout method. As a result of such high integration, initially, the area occupied by the peripheral circuit among the area of the memory cell array and the area of the peripheral circuit in the semiconductor memory device was large, but the area occupied by the memory cell array gradually increased. As this high integration progresses, the increase in the package size does not increase in proportion to the degree of integration. Accordingly, it is a major concern to achieve high integration and low power consumption according to new circuit technology, configuration method, and new configuration method.

도 1은 종래기술의 실시예에 따른 메모리 셀 어레이의 배치를 보여주는 도면이고, 도 2는 도 1에 도시된 서브 어레이 B1의 구체적인 구성도이다.FIG. 1 is a view showing the arrangement of a memory cell array according to an embodiment of the prior art, and FIG. 2 is a specific configuration diagram of the sub-array B1 shown in FIG.

도 1에 도시된 배치구성도는 현재, 반도체 메모리 장치에서 주로 채택하고 있는 128셀/비트라인 또는 256셀/비트라인 구성중 128셀/비트라인의 구성이다. 이것은 메모리 셀 어레이내에서 한개의 비트라인에 연결된 셀의 갯수를 일컫는다.1 is a configuration of a 128 cell / bit line or a 128 cell / bit line out of a 256 cell / bit line configuration which is mainly adopted in a semiconductor memory device. This refers to the number of cells connected to one bit line in the memory cell array.

도 1의 어레이 구성에서 메모리 셀 어레이는 크게 4개의 뱅크들(101)(104)로 분할되어지며, 각각의 뱅크들(101)(104)은 다시 다수개의 서브 어레이들 B1B16로 이루어지게 된다. 이와 같은 어레이 구성은 집적도에 따라서 다르게 변형되어질 수 있게 된다. 또한, 각각의 서브 어레이들 B1B16내의 데이타는 시스템 제어신호에 의하여 억세스 동작이 이루어지게 된다. 이러한 서브 어레이들 B1B16에는 각기 비트라인 센스앰프 영역을 가지게 된다.In the array configuration of FIG. 1, the memory cell array is largely divided into four banks 101 and 104, and each of the banks 101 and 104 is again composed of a plurality of subarrays B1B16. Such an array configuration can be modified differently depending on the degree of integration. In addition, the data in each sub-array B1B16 is accessed by the system control signal. Each of these subarrays B1B16 has a bit line sense amplifier area.

상기 각각의 서브 어레이들 B1B16의 크기를 m(행방향으로 워드라인 WL의 갯수) × N(열방향으로 비트라인 BL의 갯수)이라 할때, 이 m의 크기는 반도체 메모리 장치의 특성에 큰 영향을 미치게 된다. 도 2에 도시된 것처럼 서브 어레이 B1는 m개의 워드라인과 N개의 비트라인쌍으로 이루어져 있다. 이러한 구성은 폴디드 비트라인의 전형적인 예이다.When the size of each of the subarrays B1B16 is m (the number of word lines WL in the row direction) × N (the number of bit lines BL in the column direction), the size of the m has a great influence on the characteristics of the semiconductor memory device . As shown in FIG. 2, the sub-array B1 includes m word lines and N bit line pairs. This configuration is a typical example of a folded bit line.

따라서, 한개의 비트라인에는 m/2개의 셀이 연결되어 있다. 반도체 메모리 장치가 고집적화됨에 따라 칩 사이즈를 줄이기 위해서는 칩내에서 가장 큰 면적을 차지하는 메모리 셀 어레이를 줄이는 것이 효과적이다. 이로인해, 도 1에서 처럼 서브 어레이들 B1B16의 구성을 각기 128셀/비트라인으로 할 경우는 비트라인 센스앰프 영역의 갯수의 증가를 가져오개 되고, 이에 따라 칩 사이즈의 증가를 초래하게 된다. 또한, 상기 서브 어레이들의 구성을 각기 256셀/비트라인으로 할 경우에는 서브 어레이들이 8개가 요구되며, 이로인해 칩 사이즈의 감소면에서는 상기 128셀/비트라인보다 우수하지만, 특정 워드라인이 선택되어 셀에 저장된 정보가 비트라인에 인가되고 이 정보를 비트라인 센스앰프를 통해 비트라인 센싱을 하기 때문에 비트라인의 기생용량이 증대되어 어레이 전류가 증대된다. 따라서 칩이 고집적화 되면서 칩 사이즈의 감소 및 칩 동작시 발생되는 전류 소모 억제방법이 큰 난제가 되고 있다.Therefore, m / 2 cells are connected to one bit line. As the semiconductor memory device becomes highly integrated, it is effective to reduce the memory cell array occupying the largest area in the chip in order to reduce the chip size. As a result, when the sub-arrays B1B16 are configured to have 128 cells / bit lines as shown in FIG. 1, the number of bit line sense amplifier areas is increased, which leads to an increase in chip size. In addition, when the sub-arrays are configured to have 256 cells / bit lines, eight sub-arrays are required, which is superior to the 128 cells / bit line in terms of reducing the chip size, but a specific word line is selected Information stored in the cell is applied to the bit line and the bit line sense is performed through the bit line sense amplifier, so that the parasitic capacity of the bit line is increased and the array current is increased. Therefore, as the chip becomes highly integrated, a reduction in the chip size and a method of suppressing the current consumption occurring in the chip operation are becoming big problems.

16M 디램의 메모리 셀 어레이 구성을, 예로 들어, 종래 기술의 문제점을 좀 더 상세히 살펴보면, 16M 디램의 메모리 셀 어레이는 4096개의 워드라인(A0A11, 로우 어드레스 12개,이때 N은 어드레스의 갯수를 말함)과 4096개의 컬럼(A0A11, 컬럼 어드레스가 12개,, 이때 N은 어드레스의 갯수이고 여기서 한컬럼은 비트라인 한쌍을 의미함)으로 구성되어 있다고 할때, 이러한 메모리 셀 어레이는 특정 워드라인이 선택된 후에 메모리 셀에 저장된 데이타를 센싱하기 위한 비트라인 센스앰프 영역을 가지게 된다. 이 비트라인 센스앰프의 특성을 보장하기 위해 메모리 셀 어레이는 다수개의 뱅크들로 나뉘게 된다. 이러한 뱅크들(101)(104)의 구성을 각기 128셀/비트라인의 구성으로 채택할 경우 뱅크들(101)(104)내의 서브 어레이들 B1B16은 16개가 되고 비트라인 센스앰프의 영역은 17개가 존재하게 된다. 또한, 상기 뱅크들(101)(104)의 구성을 256 셀/비트라인의 구성으로 채택할 경우 메모리 셀 어레이 블럭들(101)(104)내의 서브 어레이들는 8개(도시되지 않음)가 되고, 비트라인 센스앰프의 영역은 9개로 됨으로 인해 128 셀/비트라인의 구조보다 칩 사이즈의 측면에서 유리해진다. 그러나, 워드라인이 인에이블되고 난 후의 비트라인 센스앰프의 동작에서 소모되는 전류는 증가하게 된다. 이에 대한 원인을 서브 어레이가 128셀/비트라인 또는 256 셀/비트라인 구성을 가질 경우에 한정하여 간단히 살펴보면, 두 경우 모두 특정 워드라인이 선택될때 인에이블되는 비트라인 센스앰프의 갯수는 4096개로 동일하다. 여기서는 리던던시 셀에 대한 경우는 생략하기로 한다. 하지만 두 경우의 비트라인당 기생용량은 다르다. 즉, 256 셀/비트라인의 구성이 128 셀/비트라인의 경우보다 서브 어레이내에서의 비트라인의 기생용량은 2배가 된다. 따라서 비트라인 센싱동작에서 비트라인을 접지전압 VSS와 전원전압 VCC(하이레벨 또는 리스토어(Restore)레벨을 말함)으로 천이시키기 위한 전류소모는 256셀/비트라인의 경우가 훨씬 커지게 된다. 이러한 전류소모는 고집적화가 이루어짐에 따라 큰 문제가 되고 있다.For example, a memory cell array of 16M diram can be divided into 4096 word lines (A0A11, 12 row addresses, Where N is the number of addresses) and 4096 columns (A0A11, 12 column addresses, , Where N is the number of addresses and wherein one column is a pair of bit lines), such a memory cell array is a bit line sense amplifier for sensing data stored in a memory cell after a particular word line is selected Area. In order to ensure the characteristics of the bit line sense amplifier, the memory cell array is divided into a plurality of banks. When the configurations of the banks 101 and 104 are adopted as the configuration of the 128 cells / bit line, the number of the subarrays B1B16 in the banks 101 and 104 is 16 and the number of the bit line sense amplifiers is 17 . When the configuration of the banks 101 and 104 is adopted as the configuration of 256 cells / bit lines, there are eight sub-arrays in the memory cell array blocks 101 and 104 (not shown) Since the area of the bit line sense amplifier is nine, it is advantageous in terms of chip size rather than the structure of the 128 cell / bit line. However, the current consumed in the operation of the bit line sense amplifier after the word line is enabled is increased. Briefly, the reason for this is limited to a case where the subarray has a configuration of 128 cells / bit line or 256 cell / bit line. In both cases, the number of bit line sense amplifiers enabled when a specific word line is selected is 4096 Do. Here, the case of the redundant cell will be omitted. However, the parasitic capacitance per bit line in both cases is different. That is, the parasitic capacitance of the bit line in the sub-array is doubled as compared with the case of the configuration of the 256-cell / bit line of 128-cell / bit line. Therefore, in the bit line sensing operation, the current consumption for shifting the bit line to the ground voltage VSS and the power supply voltage VCC (referred to as a high level or a restore level) becomes much larger in the case of the 256 cell / bit line. Such current consumption is becoming a big problem as high integration is achieved.

따라서, 본 발명의 목적은 고집적화를 달성하면서도 전류소모를 억제할 수 있는 반도체 메모리 장치의 어레이 구성방법을 제공함에 있다.Therefore, an object of the present invention is to provide a method of configuring an array of semiconductor memory devices capable of suppressing current consumption while achieving high integration.

본 발명의 다른 목적은 효율적인 메모리 셀 어레이의 구성방법을 제공함에 있다.It is another object of the present invention to provide a method of constructing an efficient memory cell array.

도 1은 종래기술의 실시예에 따라 구성된 어레이를 보여주는 도면.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Figure 1 shows an array constructed in accordance with a prior art embodiment;

도 2는 도 1에 도시된 어레이 블럭의 개략적인 구성을 보여주는 도면.Fig. 2 is a schematic view showing the arrangement of the array block shown in Fig. 1. Fig.

도 3은 본 발명의 실시예에 따라 구성된 어레이를 보여주는 도면.Figure 3 shows an array constructed in accordance with an embodiment of the present invention.

도 4는 도 3에 도시된 어레이 블럭의 개략적인 구성을 보여주는 도면.Fig. 4 is a schematic view showing the arrangement of the array block shown in Fig. 3; Fig.

전술한 목적들을 달성하기 위한 본 발명의 기술적 사상에 따르면, 행과 열의 매트릭스 형태로 구성된 다수개의 메모리 셀들을 가지는 복수개의 서브 어레이들과, 이 서브 어레이들을 포함하는 다수개의 뱅크들을 구비하는 반도체 메모리 장치의 어레이 구성방법은 상기 뱅크들 중 적어도 하나이상의 제1뱅크들 및 나머지 제2뱅크들이 가지는 각각의 상기 서브 어레이의 갯수를 다르게 구성하는 것을 특징으로 한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device including a plurality of subarrays having a plurality of memory cells arranged in a matrix of rows and columns, and a plurality of banks including the subarrays, Wherein the number of the first sub-arrays of the first banks and the number of the second sub-arrays of the second banks are different from each other.

이하 본 발명의 바람직한 실시예들의 상세한 설명이 첨부된 도면들을 참조하여 설명된다. 도면들중 동일한 구성요소 및 부분들은 가능한한 어느곳에서든지 동일한 부호들을 나타내고 있음을 유의하여야 한다.DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Reference will now be made in detail to the preferred embodiments of the present invention, examples of which are illustrated in the accompanying drawings. It should be noted that the same components and parts of the drawings denote the same reference numerals as far as possible.

본 발명을 설명하기 위해 도시된 참조부호중 M과 m은 메모리 셀 어레이 블럭당 워드라인의 수를 나타내며, N은 비트라인의 수를 나타낸다. 즉 256 셀/비트라인을 나타내는 경우의 M은 512를 나타내고, 128 셀/비트라인을 나타내는 경우의 m은 256을 나타낸다.In order to explain the present invention, M and m represent the number of word lines per memory cell array block, and N represents the number of bit lines. That is, M represents 512 for a 256-cell / bit line, and m represents 256 for a 128-cell / bit line.

도 3은 본 발명의 실시예에 따라 구성된 메모리 셀 어레이의 배치도이고, 도 4는 도 3에 도시된 서브 어레이들 B1∼B16중 한 서브 어레이 B1의 개략적인 구성을 보여주는 도면이다.FIG. 3 is a layout diagram of a memory cell array constructed in accordance with an embodiment of the present invention, and FIG. 4 is a view showing a schematic configuration of a sub-array B1 of the sub-arrays B1 to B16 shown in FIG.

도 3을 참조하면, 메모리 셀 어레이와 비트라인 센스앰프 영역의 배치는 종래와 동일하다. 하지만 가장 큰 차이점은 서브 어레이 B1∼B16내의 워드라인 WL의 수를 뱅크들(101)∼(104)별로 다르게 하는 것이다. 이에 대한 동작설명은 16M 디램을 예로들어 설명할 것이다.Referring to FIG. 3, the arrangement of the memory cell array and the bit line sense amplifier region is the same as that of the prior art. However, the biggest difference is that the number of word lines WL in the subarrays B1 to B16 is different for the banks 101 to 104. [ The operation description will be described by using 16M DRAM as an example.

16M 디램의 경우 통상적으로 4개의 뱅크들로 구성되며, 이 뱅크별로 4096개의 워드라인과 1024개의 비트라인쌍으로 구성되어 진다. 본 발명의 실시예에서는 칩의 좌측에 배치된 뱅크들(101)과 (102)는 256 셀/비트라인으로 이루어지고, 칩의 우측에 배치된 뱅크들(103)과 (104)는 128 셀/비트라인으로 이루어진다. 즉, 상기 뱅크들(101)과 (102)는 8개의 서브 어레이들 B1∼B8로 분할되며 9개의 센스앰프영역을 가지게 되고, 상기 뱅크들(103)과 (104)는 16개의 서브 어레이들 B1∼B16로 분할되며 17개의 센스앰프영역을 가지게 된다.In the case of a 16M DRAM, it typically consists of four banks, each consisting of 4096 word lines and 1024 bit line pairs. In the embodiment of the present invention, the banks 101 and 102 arranged on the left side of the chip are composed of 256 cells / bit lines, and the banks 103 and 104 arranged on the right side of the chip have 128 cells / Bit lines. That is, the banks 101 and 102 are divided into eight sub-arrays B1 to B8 and have nine sense amplifier regions, and the banks 103 and 104 are divided into sixteen sub-arrays B1 B16 and has 17 sense amplifier areas.

따라서, 칩 사이즈는 상기 뱅크들(101)∼(104) 전체가 256셀/비트라인으로 구성되는 경우에 비해 크게되지만 128셀/비트라인으로 구성되는 경우에 비해 작게 된다. 통상의 경우 칩이 인에이블되면 상기 뱅크들(101)∼(104)내의 1개 혹은 2개의 워드라인이 동시에 활성화된다. 따라서, 동작전류측면에서는 뱅크 전체가 256셀/비트라인으로 구성되는 경우에 비해 작게되고, 128셀/비트라인으로 구성되는 경우에 비해 크게 된다. 즉, 뱅크들 전체가 256셀/비트라인으로 구성되는 경우의 어레이 전류를 1이라 할때 뱅크들 전체가 128셀/비트라인으로 구성되는 경우의 어레이 전류는 1/2이 되며, 본 발명의 실시예에서와 같이 설계하면 어레이 전류는 3/4이 된다. 결국 본 발명을 통하여 어레이 전류와 칩 사이즈 측면에서 128셀/비트라인과 256셀/비트라인의 중간의 선택이 가능해진다. 본 발명의 실시예 이외에 상기 뱅크들 전체를 192셀/비트라인으로 하여 128셀/비트라인과 256셀/비트라인의 중간의 특성을 갖는 칩을 생각할 수 있으나 코딩이 복잡하여 지기 때문에 회로로서 구현하기 힘들다. 하지만 본 발명의 실시예와 같은 경우는 회로 구현이 간단하면서도 전술한 바와 같은 효과를 가진다.Therefore, the chip size is larger than that in the case where the entirety of the banks 101 to 104 is composed of 256 cells / bit lines, but is smaller than that in the case of 128 cells / bit lines. In general, when a chip is enabled, one or two word lines in the banks 101 to 104 are simultaneously activated. Therefore, in terms of the operation current, the total of the banks is smaller than that of 256 cells / bit lines, which is larger than that of 128 cells / bit lines. That is, assuming that the array current in the case where the entire banks are composed of 256 cells / bit lines is 1, the array current in the case where the entire banks are composed of 128 cells / bit lines is 1/2, Designed as in the example, the array current is 3/4. As a result, the present invention enables middle selection between 128 cells / bit line and 256 cell / bit line in terms of array current and chip size. In addition to the embodiments of the present invention, a chip having the characteristics of the middle of 128 cells / bit line and 256 cell / bit line may be considered as the entirety of the banks as 192 cells / bit lines. However, since the coding is complicated, Hard. However, in the case of the embodiment of the present invention, the circuit implementation is simple and has the above-described effects.

상기한 바와 같이 본 발명에 따르면, 고집적화를 달성하면서도 전류소모를 억제할 수 있는 이점을 가진다.As described above, according to the present invention, there is an advantage that current consumption can be suppressed while achieving high integration.

Claims (6)

행과 열의 매트릭스 형태로 구성된 다수개의 메모리 셀들을 가지는 복수개의 서브 어레이들과, 이 서브 어레이들을 포함하는 다수개의 뱅크들을 구비하는 반도체 메모리 장치의 어레이 구성방법에 있어서:A method of configuring an array of semiconductor memory devices having a plurality of subarrays having a plurality of memory cells arranged in a matrix of rows and columns and a plurality of banks including the subarrays, 상기 뱅크들 중 적어도 하나이상의 제1뱅크들 및 나머지 제2뱅크들이 가지는 각각의 상기 서브 어레이의 갯수를 다르게 구성하는 것을 특징으로 하는 어레이 구성방법.Wherein the number of each of the sub-arrays included in at least one of the first and second banks is differently set. 제1항에 있어서, 상기 제1뱅크들내의 서브 어레이의 갯수는 상기 제2뱅크들내의 서브어레이의 갯수의 절반임을 특징으로 하는 어레이 구성방법.2. The method of claim 1, wherein the number of sub-arrays in the first banks is half of the number of sub-arrays in the second banks. 제2항에 있어서, 상기 제1뱅크들 및 제2뱅크들 각각은 동일한 갯수의 행과 열로 구성됨을 특징으로 하는 어레이 구성방법.3. The method of claim 2, wherein each of the first banks and the second banks comprises the same number of rows and columns. 제2항에 있어서, 상기 제1뱅크들내의 서브 어레이들의 각각의 열에 연결된 메모리 셀의 수와 상기 제2뱅크들내의 서브 어레이들의 각각의 열에 연결된 메모리 셀의 수는 상호 상이함을 특징으로 하는 어레이 구성방법.3. The method of claim 2, wherein the number of memory cells connected to each column of subarrays in the first banks and the number of memory cells connected to each column of subarrays in the second banks differ from each other. How to configure. 행과 열의 매트릭스 형태로 구성된 다수개의 메모리 셀들을 가지는 복수개의 서브어레이들로 구성되는 제1,2,3,4뱅크들을 구비하는 반도체 메모리 장치의 어레이 구성방법에 있어서:A method for configuring an array of semiconductor memory devices having first, second, third, and fourth banks each including a plurality of subarrays having a plurality of memory cells arranged in a matrix form of rows and columns, 상기 제1 및 제2뱅크들내의 서브 어레이의 갯수는 상기 제3 및 제4뱅크들내의 서브 어레이의 갯수의 절반임을 특징으로 하는 어레이 구성방법.Wherein the number of subarrays in the first and second banks is one half of the number of subarrays in the third and fourth banks. 제5항에 있어서, 상기 제1뱅크들내의 서브 어레이들은 각각의 열에 256개의 상기 메모리 셀들이 연결되고, 상기 제2뱅크들내의 서브 어레이들은 각각의 열에 128개의 상기 메모리 셀들이 연결됨을 특징으로 하는 어레이 구성방법.6. The method of claim 5, wherein the subarrays in the first banks are connected to 256 memory cells in each column, and the subarrays in the second banks are connected to 128 memory cells in each column How to configure the array.
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