KR100202126B1 - Gathering apparatus of etching resistant - Google Patents
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Abstract
본 발명은 코팅롤러에 진공 흡입홈을 진공펌프에 연통되도록 형성하여 이 진공펌프의 흡입동작에 의해 잔존하는 에칭저항제를 간단히 회수하는 에칭저항제 회수장치에 관한 것으로, 제 1지지축의 일단에 일단이 결합되어 금속박판 상부에 설치된 에칭저항제를 도포하는 코팅롤러와, 상기 코팅롤러의 타단에 결합된 제 2지지축과, 이 제 2 지지축을 지지하는 원통체를 포함하여 이루어진 에칭저항제 회수장치에 있어서, 대략 금속박판에 도포되는 에칭저항제의 유효폭 만큼 상기 코팅롤러의 수평 방향으로 내측 절곡되어 형성된 진공 흡입홈과, 이 진공 흡입홈에 연통되는 상기 제 2지지축의 내부에 형성된 연결슬롯과, 이 연결슬롯에 연통되는 상기 원통체의 내부에 형성된 연결브래킷과, 이 연결 브래킷에 연통되어 흡입력을 발생하는 외부의 진공펌프에 연결된 연결 파이프와, 상기 진공펌프에 의하여 흡입된 에칭저항제를 모아두는 회수용기를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하기 때문에, 잔존하는 에칭저항제가 진공펌프의 흡입력에 의해 간단히 회수되어지는 효과가 있다.The present invention relates to an etching resistance recovering device which forms a vacuum suction groove in a coating roller so as to communicate with a vacuum pump so as to easily recover the remaining etching resistance by the suction operation of the vacuum pump. Is coupled to the coating roller for applying the etching resistor provided on the upper metal plate, a second support shaft coupled to the other end of the coating roller, and an etching resistance recovery device comprising a cylindrical body supporting the second support shaft A vacuum suction groove bent inward in the horizontal direction of the coating roller by an effective width of the etching resistance applied to the metal thin plate, and a connection slot formed inside the second support shaft in communication with the vacuum suction groove; A connecting bracket formed inside the cylindrical body communicating with the connecting slot, and an external vacuum pump communicating with the connecting bracket to generate suction force Associated with the connection pipe, because characterized in that comprises a collecting container which gathers the sucked etching resistance controlling, by the vacuum pump, there is an effect that the etching resist remaining I which is simply collected by the suction force of the vacuum pump.
Description
제1도는 본 발명의 에칭저항제 회수장치를 나타내는 정 단면도.1 is a front sectional view showing the etching resistor recovery apparatus of the present invention.
제2도는 본 발명에 의한 에칭저항제 회수장치의 코팅롤러를 나타낸 것으로,Figure 2 shows a coating roller of the etching resistance recovery apparatus according to the present invention,
(a)는 좌 측면도이고,(a) is a left side view,
(b)는 정면도임.(b) is a front view.
제3도는 본 발명에 의한 에칭저항제 회수장치의 동작상테를 나타낸 것으로,3 is a view showing the operation of the etching resistor recovery apparatus according to the present invention,
(a)는 코팅롤러의 동작전의 구조도이고,(a) is a structural diagram before the operation of the coating roller,
(b)는 코팅롤러 동작시의 구조도임.(b) is the structure diagram during the operation of the coating roller.
제4도는 종래의 기술에 따른 에칭저항제 회수장치의 동작을 나타내는 구조도.4 is a structural diagram showing the operation of the etching resistor recovery apparatus according to the prior art.
제5도는 종래의 기술에 따른 에칭저항제 회수장치의 코팅롤러를 구동시키기 위한 모터를 포함한 단면 구조도.5 is a cross-sectional structure diagram including a motor for driving the coating roller of the etching resistance recovery apparatus according to the prior art.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
11 : 금속박판 12 : 백업롤러11: metal sheet 12: backup roller
13 : 코팅롤러 14 : 노즐13 coating roller 14 nozzle
15 : 모터 16 : 스크레이퍼15 motor 16: scraper
17 : 회수용기 18 : 센서17: recovery container 18: sensor
19 : 제어부 20 : 제 1지지축19 control unit 20 first support shaft
21 : 전달축 22 : 회전축21: transmission shaft 22: rotation shaft
23 : 엔코더 24 : 풀리23: encoder 24: pulley
25 : 제 2 지지축 26 : 원통체25: second support shaft 26: cylindrical body
27 : 취부수단 30 : 에칭저항제27: mounting means 30: etching resistance
100 : 진공흡입홈 200 : 연결슬롯100: vacuum suction groove 200: connection slot
300 : 연결브래킷 400 : 연결파이프300: connecting bracket 400: connecting pipe
500 : 진공펌프500: vacuum pump
본 발명은 에칭저항제 회수 장치에 관한 것으로, 특히 다단계 에칭공정을 통하여 제품의 형상을 형성하는 포토에칭 공정에 있어서 금속박판의 한면 또는 양면에 일부 에칭을 한 다음 재에칭을 위해 에칭저항제를 도포한 후 잔존하는 에칭저항제를 완전히 제거함과 동시에 수작업 없이 신속하게 회수할 수 있는 에칭저항제 회수장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for recovering an etching resistor, and in particular, in a photoetching process of forming a product shape through a multi-step etching process, partial etching is performed on one or both surfaces of a metal foil, and then the etching resistance is applied for reetching. The present invention relates to an apparatus for recovering etching resistance, which can be quickly recovered without manual operation while completely removing the remaining etching agent.
일반적으로 에칭저항제 회수 장치는 금속박판 양면에 P.V.A 또는 카제인 등의 포토레지스터를 도포 및 건조한 다음, 노광공정 및 현상공정을 거쳐 일부 에칭을 가하고, 다시 한쪽 면을 에칭저항제로 도포 및 경화시켜 재 에칭을 한후 포토레지스터 및 에팅 저항제를 금속박판으로부터 박리하여 원하는 형상을 가공하는 과정에서, 상기 금속박판의 한면에 불필요한 에칭저항제가 잔존하게 되는 데, 이때 스크레이퍼 등을 이용하여 상기 불필요한 에칭저항제를 회수하게 된다.In general, the etching resistor recovery apparatus is coated with a photoresist, such as PVA or casein, on both sides of the metal thin plate and dried, and then subjected to some etching through an exposure process and a developing process, and then one side is coated and cured with an etching resistor to reetch. In the process of peeling the photoresist and the etching resistor from the metal thin plate and processing a desired shape, an unnecessary etching resistor remains on one side of the metal thin plate. At this time, the unnecessary etching resistor is recovered by using a scraper or the like. Done.
상기 동작을 이루는 종래의 에칭저항제 회수 장치를 첨부도면 제4도를 참조하면 다음과 같다.Referring to Figure 4 of the accompanying drawings, a conventional etching resistance recovery device for achieving the operation as follows.
제4도는 종래의 기술에 따른 에칭저항제 회수장치의 동작을 나타내는 구조도이다.4 is a structural diagram showing the operation of the etching resistor recovery apparatus according to the prior art.
종래의 에칭저항제 회수장치는 제4도에 도시된 바와 같이, 금속박판(11)하부에 설치된 백업롤러(12)와, 상기 금속박판(11)상부에 설치되어 에칭저항제(30)를 도포하는 코팅롤러(13)와, 상기 에칭저항제(30)를 분사하는 노즐(14)과, 상기 코팅롤러(13)를 상기 금속박판(11)의 역방향으로 회전시키는 모터(15)와, 상기 코팅롤러(13)에 묻혀져 올라온 에칭저항제(30)를 긁어내는 스크레이퍼(16)와, 이 스크레이퍼(16)에서 흘러내리는 에칭저항제(30)를 모아두는 회수용기(17)와, 상기 금속박판(11)의 말단부를 검출하는 센서(18)와, 상기 금속박판(11) 말단부의 검출시점에서 상기 모터(15)가 작동되도록 제어하는 제어부(19)를 포함하여 이루어진다.In the conventional etching resistor recovery apparatus, as shown in FIG. 4, a backup roller 12 installed below the metal foil 11 and an upper portion of the metal foil 11 are applied to apply the etching resistor 30. FIG. A coating roller 13, a nozzle 14 for spraying the etching resistor 30, a motor 15 for rotating the coating roller 13 in the reverse direction of the metal thin plate 11, and the coating. The scraper 16 which scrapes off the etching resistor 30 buried in the roller 13, the recovery container 17 which collects the etching resistor 30 which flows down from this scraper 16, and the said metal thin plate ( And a control unit 19 for controlling the motor 15 to operate at the time of detection of the end of the metal thin plate 11.
이때, 상기 코팅롤러(13)를 구동시키는 구조를 제5도를 참조하여 설명하면 다음과 같다.At this time, the structure for driving the coating roller 13 will be described with reference to FIG.
제5도는 종래의 기술에 따른 에칭저항제 회수장치의 코팅롤러를 구동시키기 위한 모터를 포함한 단면 구조도이다.5 is a cross-sectional structural view including a motor for driving the coating roller of the etching resistance recovery apparatus according to the prior art.
종래의 에칭저항제 회수장치의 코팅롤러(13)를 구동시키기 위한 구조는 제5도에 도시된 바와 같이, 제 1지지축(20)의 일단에 일단이 결합되어 지지되는 코팅롤러(13)와, 상기 제 1지지축(20)의 타단에 결합되어 모터(15)의 회전축(22)의 회전력을 전달하는 전달축(21)과, 이 전달축(21)과 상기 회전축(22)사이에 결합되어 상기 코팅롤러(13)의 회전각도 위치를 검출하는 엔코더(23)에 연결된 풀리(24)와, 상기 코팅롤러(13)의 타단에 결합된 제 2 지지축(25)과, 이 제 2지지축(25)을 지지하는 원통체(26)와, 이 원통체(26)의 외주면에 고정된 취부수단(27)을 포함하여 이루어진다.As shown in FIG. 5, the structure for driving the coating roller 13 of the conventional etching resistor recovery apparatus includes a coating roller 13 having one end coupled to and supported by one end of the first support shaft 20. A transmission shaft 21 coupled to the other end of the first support shaft 20 to transmit the rotational force of the rotation shaft 22 of the motor 15, and coupled between the transmission shaft 21 and the rotation shaft 22. And a pulley 24 connected to an encoder 23 for detecting the rotational angle position of the coating roller 13, a second support shaft 25 coupled to the other end of the coating roller 13, and the second support. It comprises a cylindrical body 26 supporting the shaft 25 and a mounting means 27 fixed to the outer circumferential surface of the cylindrical body 26.
상기 구성으로 이루어진 종래의 에팅저항제 회수장치의 동작을 보면, 먼저 일부 에칭된 금속박판(11)이 수평방향으로 백업롤러(12) 및 코팅롤러(13)사이를 통과하는 과정에서 제4도에 도시된 바와 같이 상기 에칭된 금속박판(11)표면에는 에칭저항제(30)가 일정한 두께로 도포되어지는 데, 이 때 상기 금속박판(11)의 말단부가 상기 백업롤러(12) 및 코팅롤러(13) 사이를 통과하게 되면 상기 에칭저항제(30)의 과다에 의한 오염을 방지하기 위하여 센서(18)의 데이터에 의해 제어부(19)가 제어신호를 상기 모터(15)에 출력하여 상기 에칭저항제(30)의 공급을 중단시킴과 동시에 상기 코팅롤러(13) 및 그 주위에 붙어있는 에칭저항제(30)를 회수하게 된다.Referring to the operation of the conventional etching resistance recovery device consisting of the above configuration, first in the process of passing through the portion between the back-up roller 12 and the coating roller 13 in the horizontal direction of the metal sheet 11 is etched in Figure 4 As shown, the etching resistance 30 is applied to the surface of the etched metal thin plate 11 at a constant thickness, wherein the end portion of the metal thin plate 11 is the backup roller 12 and the coating roller ( 13 through the control unit 19 outputs a control signal to the motor 15 by the data of the sensor 18 in order to prevent contamination by the excessive amount of the etching resistor 30, the etching resistance At the same time as the supply of the agent 30 is stopped, the coating roller 13 and the etching resistance 30 attached to the surroundings are recovered.
즉, 상기 센서(18)에 의해 상기 금속박판(11)의 말단부가 검출되면이 검출된 데이터는 상기 제어부(19)에 전달되고, 이 제어부(19)는 다시 상기 데이터를 해석하여 모터(15)의 구동을 지시하여 상기 에칭저항제(30)의 도포시 정지상태를 유지하던 상기 코팅롤러(13)를 상기 금속박판(11)의 진행방향으로 회전하게 한다.That is, when the distal end of the metal thin plate 11 is detected by the sensor 18, the detected data is transferred to the control unit 19, and the control unit 19 interprets the data again to supply the motor 15. Instructing the driving of the coating roller 13 to maintain the stationary state during the application of the etching resistance 30 to rotate in the direction of the metal sheet (11).
이때, 상기 코팅롤러(13)의 주위에 있던 상기 에칭저항제(30)는 상기 코팅롤러(13)의 역방향 회전에 의해 묻혀 올라가게 되고, 이 묻혀 올라간 에칭저항제(30)는 다시 스크레이퍼(16)에 의해 긁혀져 흘러 내려와 회수용기(17)에 모여지게 된다.At this time, the etching resistance 30 around the coating roller 13 is buried up by the reverse rotation of the coating roller 13, the buried etching resistance 30 is again scraper 16 ), It is scraped off and gathered in the recovery container 17.
그러나, 상기 구성과 동작을 이루는 종래의 에칭저항제 회수장치는 스크레이퍼를 이용하여 코팅롤러의 외주면을 긁는 방식으로 잔존하는 에칭저항제를 회수하기 때문에 상기 코팅롤러와 금속박판상에 묻어 있는 에칭저항제의 완전회수를 이룰 수 없게 되어, 작업자가 직접 수작업에 의해 상기 잔존하는 에칭저항제를 완전히 제거해야만 하므로 작업공정이 복잡할 뿐만아니라 금속박판의 에칭공정상의 생산성이 저하되는 커다란 단점이 있었다.However, the conventional etching resistor recovery apparatus which achieves the above-described configuration and operation recovers the remaining etching resistor by scraping the outer circumferential surface of the coating roller by using a scraper. Since it is impossible to achieve a complete recovery, the worker must manually remove the remaining etching resistance by manual work, which makes the work process complicated and has a large disadvantage in that the productivity of the metal sheet etching process is lowered.
본 발명은 상기와 같은 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 그 목적으로 하는 바는 코팅롤러에 진공 흡입홈을 진공펌프에 연통되도록 형성하여 이 진공펌프의 흡입동작에 의해 잔존하는 에칭저항제를 간단히 회수하는 에칭저항제 회수장치를 제공함에 있다.The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and the object of the present invention is to form a vacuum suction groove in the coating roller to communicate with the vacuum pump, thereby remaining the etching resistance remaining by the suction operation of the vacuum pump. The present invention provides an apparatus for recovering etching resistance, which is simply recovered.
상기 목적을 달성하기위한 본 발명에 따른 에팅저항제 회수장치는, 제 1지지축의 일단에 일단이 결합되어 금속박판 상부에 설치된 에칭저항제를 도포하는 코팅롤러와, 상기 제 1지지축의 타단에 결합되어 모터의 회전축의 회전력을 전달하는 전달축과, 상기 코팅롤러의 타단에 결합된 제 2지지축과, 이 제 2 지지축을 지지하는 원통체를 포함하여 이루어진 에칭저항제 회수장치에 있어서, 대략 금속박판에 도포되는 에칭저항제의 유효폭 만큼 상기 코팅롤러의 수평방향으로 내측 절곡되어 형성된 진공 흡입홈과, 이 진공 흡입홈에 연통되는 상기 제 2지지축이 내부에 형성된 연결슬롯과, 이 연결슬롯에 연통되는 상기 원통체의 내부에 형성된 연결 브래킷과, 이 연결 브래킷에 연통되어 흡입력을 발생하는 외부의 진공펌프에 연결된 연결 파이프와, 상기 진공펌프에 의하여 흡입된 에칭저항제를 모아두는 회수용기를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.Etching resistance recovery apparatus according to the present invention for achieving the above object is, one end is coupled to one end of the first support shaft is coated with a coating roller for applying the etching resistor installed on the upper metal plate, and coupled to the other end of the first support shaft And a transmission shaft for transmitting the rotational force of the rotational shaft of the motor, a second support shaft coupled to the other end of the coating roller, and a cylindrical body for supporting the second support shaft. A vacuum suction groove formed by bending the inner side in the horizontal direction of the coating roller by the effective width of the etching resistance applied to the thin plate, and a connection slot having the second support shaft in communication with the vacuum suction groove therein; A connecting bracket formed inside the cylindrical body in communication, a connecting pipe connected to an external vacuum pump communicating with the connecting bracket and generating suction force; Including a recovery container which gathers the sucked etching resistance by the pump to the ball characterized in that formed.
상기 특징을 갖는 본 발명에 다른 에칭저항제 회수장치는 코팅롤러 및 그 주위에 묻어있는 에팅저항제가 진공펌프의 흡입력에 의해 상기 코팅롤러의 진공 흡입홈을 통하여 간단히 회수되어 진다.According to another aspect of the present invention, there is provided an apparatus for recovering an etching resistor, wherein the coating roller and the etching resistor buried therein are simply recovered through the vacuum suction groove of the coating roller by the suction force of the vacuum pump.
[실시예]EXAMPLE
이하, 본 발명에 따른 에칭저항제 회수장치의 바람직한 실시예를 첨부도면 제1도 및 제2도를 참조하여 설명한다Best Mode for Carrying Out the Invention Preferred embodiments of the etching resistor recovery apparatus according to the present invention will now be described with reference to FIGS. 1 and 2.
제1도는 본 발명의 에칭저항제 회수장치를 나타내는 정단면도이고, 제2도는 본 발명에 의한 에칭저항제 회수장치의 코팅롤러를 나타낸 것으로, (a)는 좌 측면도이고, (b)는 정면도이고, 도면중 종래의 구성과 동일 작용을 하는 구성에 대해서는 동일 명칭을 사용하기로 한다.1 is a front sectional view showing the etching resistor recovery apparatus of the present invention, Figure 2 shows a coating roller of the etching resistor recovery apparatus according to the present invention, (a) is a left side view, (b) is a front view. In the drawings, the same name will be used for the configuration having the same function as the conventional configuration.
본 발명에 따른 에칭저항제 회수장치는 제1도 및 제2도에 도시 된 바와 같이, 금속박판(11) 하부에는 백업롤러(12)가 설치되고, 상기 금속박판(11)상부에는 제 1 지지축(20)의 일단에 일단이 결합되어 에칭저항제(30)를 도포하는 코팅롤러(13)가 설치되고, 상기 제 1지지축(20)의 타단에는 모터(15)의 회전축(22)의 회전력을 전달하는 전달축(21)이 결합되고, 이 전달축(21)과 상기 회전축(22)사이에는 상기 코팅롤러(13)의 회전각도 위치를 검출하는 엔코더(23)에 연결된 풀리(24)가 장착되고, 상기 코팅롤러(13)의 타단에는 제 2 지지축(25)이 결합되고, 이 제 2 지지축(25)은 원통체(26)에 의해 지지되고, 상기 모터(15)에는 상기 금속박판(11)의 말단부를 검출하는 센서(18)의 데이터 값에 의해 제어동작을 하는 제어부(19)가 연결되어 이루어진다.In the etching resistance recovery apparatus according to the present invention, as shown in FIGS. 1 and 2, a backup roller 12 is installed below the metal foil 11, and a first support is provided on the metal foil 11. One end is coupled to one end of the shaft 20 is provided with a coating roller 13 for applying the etching resistance 30, the other end of the first support shaft 20 of the rotary shaft 22 of the motor 15 The transmission shaft 21 for transmitting the rotational force is coupled, and between the transmission shaft 21 and the rotation shaft 22, the pulley 24 connected to the encoder 23 for detecting the rotation angle position of the coating roller 13 The other support shaft 25 is coupled to the other end of the coating roller 13, the second support shaft 25 is supported by a cylindrical body 26, the motor 15 is The control unit 19 which performs a control operation is connected by the data value of the sensor 18 which detects the distal end of the metal thin plate 11.
이때, 상기 코팅롤러(13)에는 대략 금속박판(11)에 도포되는 에칭저항제(30)의 유효폭 만큼 수평방향으로 내측 절곡된 진공 흡입홈(100)이 형성되고, 상기 제 2 지지축(25)의 내부에는 상기 진공 흡입홈(100)에 연통되는 연결슬롯(200)이 형성되고, 상기 원통체(26)의 내부에는 상기 연결슬롯(200)에 연통되는 연결브래킷(300)이 연결되고, 이 연결 브래킷 (300)은 다시 흡입력을 발생하는 외부의 진공펌프(500)에 연결된 연결파이프(400)에 연통되고, 상기 진공펌프(500)에 의하여 흡입된 에칭저항제(30)의 토출구에는 회수용기(17)가 설치되어 이루어진다.At this time, the coating roller 13 is formed with a vacuum suction groove 100 bent inward in the horizontal direction by the effective width of the etching resistance 30 is applied to the metal thin plate 11, the second support shaft 25 In the inside of the) is connected to the connection slot 200 is connected to the vacuum suction groove 100, the cylindrical body 26 is connected to the connection bracket 300 is connected to the connection slot 200, The connection bracket 300 is in communication with a connection pipe 400 connected to an external vacuum pump 500 which generates suction force again, and is recovered in the discharge port of the etching resistor 30 sucked by the vacuum pump 500. The container 17 is installed and made.
상기 구성으로 이루어진 본 발명에 따른 에칭저항제 회수장치의 동작을 제3도를 참조하여 설명하면 다음과 같다.Referring to Figure 3 the operation of the etching resistor recovery apparatus according to the present invention having the above configuration is as follows.
제3도는 본 발명에 의한 에칭저항제 회수장치의 동작상태를 나타낸 것으로, (a)는 코팅롤러의 동작전의 구조도이고, (b)는 코팅롤러 동작시의 구조도이다.3 is a view showing the operation state of the etching resistor recovery apparatus according to the present invention, (a) is a structural diagram before the operation of the coating roller, (b) is a structural diagram during the operation of the coating roller.
본 발명에 따른 에칭저항제 회수장치는 먼저 표면에 일부 에칭된 금속박판(11)이 수평방향으로 백업롤러(12) 및 코팅롤러(13) 사이를 통과하는 과정에서 제3도의 (a)에 도시된 바와 같이 상기 에칭된 금속박판(11)표면에는 에칭저항제(30)가 일정한 두께로 도포되어지는 데, 이때 상기 금속막판(11)의 말단부가 상기 백업롤러(12) 및 코팅롤러(13) 사이를 통과하게 되면 상기 에칭저항제(30)의 과다에 의한 오염을 방지하기 위하여 상기 에칭저항제(30)의 공급을 중단시킴과 동시에 상기 코팅롤러(13) 및 그 주위에 묻어있는 에칭저항제(30)를 회수하게 된다.The etching resistance recovery apparatus according to the present invention is shown in FIG. 3 (a) in the process of first passing the metal thin plate 11 partially etched on the surface between the backup roller 12 and the coating roller 13 in the horizontal direction. As described above, an etching resistance agent 30 is applied to the surface of the etched metal thin plate 11 at a predetermined thickness, wherein the end portions of the metal film 11 are supported by the backup roller 12 and the coating roller 13. When passing therebetween, the supply of the etching resistor 30 is stopped in order to prevent contamination by the excessive etching resistor 30 and at the same time, the etching resistor buried around the coating roller 13 and its surroundings. 30 is recovered.
즉, 센서(18)에 의해 상기 금속박판(11)의 말단부가 검출되면 이 검출된 데이터 값은 제어부(19)에 전달되고, 이 제어부(19)는 다시 상기 데이터를 해석하여 모터(15)의 구동을 지시하여 상기 에칭저항제(30)의 도포시 정지상태를 유지하던 상기 코팅롤러(13)를 상기 금속박판(11)의 진행방향의 역방향으로 회전하게 한다.That is, when the end portion of the metal thin plate 11 is detected by the sensor 18, the detected data value is transmitted to the control unit 19, and the control unit 19 interprets the data again to determine the motor 15. The driving is instructed to rotate the coating roller 13 in the reverse direction of the advancing direction of the metal thin plate 11 while maintaining the stop state when the etching resistor 30 is applied.
이때, 상기 제어부(19)는 제3도의 (b)에 도시된 바와 같이 상기 코팅롤러(13)의 진공흡입홈(100)이 상기 금속박판(11)상부의 에칭저항제(30)에 정확히 위치될때까지 상기 모터(15)를 구동시키게 된다.At this time, the control unit 19 is the vacuum suction groove 100 of the coating roller 13 as shown in (b) of FIG. 3 is exactly positioned on the etching resistance 30 of the upper metal plate 11 Until the motor 15 is driven.
이 후, 상기 코팅롤러(13) 및 그 주위에 묻어 있는 에칭저항제(30)는 진공펌프(500)의 구동에 의한 흡입력에 의하여 상기 코팅롤러(13)의 진공 흡입홈(100)에 흡입됨과 동시에 상기 지지축의 연결슬롯(200) 및 상기 원통체(26)으 연결브래킷, 그리고 연결 파이프(400)로 순차 흡입배출되어 회수용기(17)에 모여지게 된다.Thereafter, the coating roller 13 and the etching resistance 30 buried therein are sucked into the vacuum suction groove 100 of the coating roller 13 by suction force driven by the vacuum pump 500. At the same time, the suction slot is sequentially discharged to the connecting slot 200 of the support shaft and the cylindrical body 26 to the connecting bracket and the connecting pipe 400 to be collected in the recovery container 17.
이상에서와 같이 본 발명에 따른 에칭저항제 회수장치는 진공펌프의 흡입력에 의해 코팅롤러 및 그 주위에 묻어 있는 에칭저항제가 코팅롤러의 진공 흡입홈을 통하여간단히 회수되는 탁월한 효과가 있다.As described above, the apparatus for recovering the etching resistance according to the present invention has an excellent effect of simply recovering the coating roller and the etching resistance buried around the coating roller through the vacuum suction groove of the coating roller by the suction force of the vacuum pump.
Claims (1)
Priority Applications (1)
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KR1019960025422A KR100202126B1 (en) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | Gathering apparatus of etching resistant |
Applications Claiming Priority (1)
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KR1019960025422A KR100202126B1 (en) | 1996-06-28 | 1996-06-28 | Gathering apparatus of etching resistant |
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KR100202126B1 true KR100202126B1 (en) | 1999-06-15 |
Family
ID=19464498
Family Applications (1)
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KR (1) | KR100202126B1 (en) |
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1996
- 1996-06-28 KR KR1019960025422A patent/KR100202126B1/en not_active IP Right Cessation
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KR980005789A (en) | 1998-03-30 |
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