KR100196685B1 - High frequency heater and heating method - Google Patents
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Abstract
[목적][purpose]
게터 근방에 위치하는 스페이서 프레임의 발열을 억제한다.The heat generation of the spacer frame located near the getter is suppressed.
[구성][Configuration]
게터(1)를 고주파 가열하는 고주파 가열용 코어 근방이고, 외위기(10) 측면판(16)에 측면부(15a)를 있게하고, 저면부(15b)가 스페이서 프레임(7) 포면(7a)에 접촉하도록 페라이트 자석(15)을 고정하여 설치하고, 미리 스페이서 프레임(7)에 대하여 정자계를 건다.It is near the core for high frequency heating which heats a getter 1 at high frequency, and has the side part 15a in the side plate 16 of the envelope 10, and the bottom part 15b is provided in the surface 7a of the spacer frame 7 The ferrite magnet 15 is fixed and installed so as to be in contact, and a magnetic field is applied to the spacer frame 7 in advance.
스페이서 프레임(7)은 자화곡선의 히스테리시스에 있어서, 자계가 증가하여도 자속 밀도가 거의 변하지 않는 자기포화상태의 자장에 놓인다.In the hysteresis of the magnetization curve, the spacer frame 7 is placed in a magnetic field in a magnetic saturation state in which the magnetic flux density hardly changes even when the magnetic field increases.
이 다음, 교류원(4)에서 고주파 가열용 코일(3)에 고주파 전류를 흘려 게터(1)를 고주파가열하면 스페이서 프레임(7)은 자화곡선의 히스테리시스에 있어서 초기자화곡선을 밝지않고 자속밀도의 변화도 극히 작아지고, 발열이 억제된다.Subsequently, when the high frequency current is flowed from the AC source 4 to the high frequency heating coil 3 and the getter 1 is heated, the spacer frame 7 does not brighten the initial magnetization curve in the hysteresis of the magnetization curve. The change is also extremely small, and heat generation is suppressed.
Description
제1도는 본 발명의 의한 고주파 가열장치의 제1실시예의 도시도.1 is a view showing a first embodiment of a high frequency heating apparatus according to the present invention.
제2도는 동 장치의 제2실시예의 도시도.2 shows a second embodiment of the apparatus.
제3도(a), (b)는 동 장치의 제1실시예의 변형예의 도시도.3 (a) and 3 (b) show modifications of the first embodiment of the apparatus.
제4도(a), (b)는 동 장치의 제2실시예의 변형예의 도시도.4 (a) and 4 (b) show modifications of the second embodiment of the apparatus.
제5도는 동 장치의 제3실시예의 도시도.5 shows a third embodiment of the apparatus.
제6도는 동 장치의 제4실시예의 도시도.6 shows a fourth embodiment of the apparatus.
제7도(a), (b)는 동 장치의 제3실시에의 변형예의 도시도.7 (a) and 7 (b) show a modification of the third embodiment of the apparatus.
제8도(a), (b)는 동 장치의 제4실시에의 변형예의 도시도.8 (a) and 8 (b) show a modification of the fourth embodiment of the apparatus.
제9도(a), (b)는 동 장치의 제5실시에의 도시도.9 (a) and 9 (b) show a fifth embodiment of the apparatus.
제10도는 동 장치의 제6실시예의 도시도.10 shows a sixth embodiment of the apparatus.
제11도는 자화곡선(磁化曲線)의 히스테리시스의 도시도.11 is a diagram of hysteresis of a magnetization curve.
제12도는 종래의 고주파 가열장치의 구성도.12 is a block diagram of a conventional high frequency heating apparatus.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
1 : 게터(피가열체) 2 : 고주파 가열용 코어1: getter (heated body) 2: high frequency heating core
3 : 고주파 가열용 코일 4 : 교류원(交流原)3: coil for high frequency heating 4: alternating current source
7 : 스페이서 프레임(도체부품) 15,18,20 : 페라이트 자석7: spacer frame (conductor parts) 15, 18, 20: ferrite magnet
[산업상의 이용분야][Industrial use]
본 발명은 가령 형광표시관 등의 외위기내에 설치되어 외위기내의 진공도를 유지하는 게터를 고주파 가열하기 위한 고주파 가열장치 및 고주파 가열방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high frequency heating device and a high frequency heating method for high frequency heating of a getter which is installed in an envelope such as a fluorescent display tube and maintains a degree of vacuum in the envelope.
[종래의 기술][Prior art]
예컨대, 양극 전압을 제어함으로써 발광색이 다른 표시가 얻어지는 형광표시관으로서, 필라멘트(음극), 제어전극 및 양극을 갖는 직렬형의 3극 진공관 구조의 형광표시관을 예로들어 설명한다.For example, a fluorescent display tube having a filament (cathode), a control electrode, and an anode having a series three-pole vacuum tube structure as an example of a fluorescent display tube in which a display having a different emission color is obtained by controlling the anode voltage will be described as an example.
이 종류의 형광표시관을 제조할 경우에는 우선, 배선도체가 형성된 양극기판상에 발광표시부가 되는 양극을 만든다. 다음에, 필라멘트, 제어전극, 게터 등의 각종 전극류가 설치된 스페이서 프레임을 양극기판상에 위치결정하여 배치하고, 양극기판의 표면가장자리의 부분에는 미리 봉착재(逢着材)를 도포해 두었다. 그리고, 미리 양극기판과의 전합면에 봉착재가 도포된 측면판과 전면판으로 되는 용기부를 스페이서 프레임이 배치된 양극 기판상에 덮어서 외위기를 조립한다. 이 상태로, 외우기를 가령 400 ~ 600℃에서 소성하여 봉착재를 용융하고, 접합면을 봉착하여 상자형의 외위기를 형성한다.In manufacturing a fluorescent display tube of this kind, first, an anode serving as a light emitting display portion is formed on a cathode substrate on which wiring conductors are formed. Next, spacer frames provided with various types of electrodes such as filaments, control electrodes, and getters were positioned on the positive electrode substrate, and a sealing material was applied to the surface edge portion of the positive electrode substrate in advance. Then, the outer container is assembled by covering a container portion, which is a side plate and a front plate, on which an encapsulant is coated on the surface of the electrode substrate, on the positive electrode substrate on which the spacer frame is arranged. In this state, the enclosure is baked at, for example, 400 to 600 ° C to melt the sealing material, and the joint surface is sealed to form a box-shaped envelope.
이 다음, 외위기의 배기구에서 배기하여 내부를 가령 10-5~10-7Torr의 고진공상태로 유지하면서 봉지한다. 그리고, 외위기내의 진공도를 유지하기 위하여 링형상 게터를 고주파 가열하여 외위기 내벽면에 게터미러를 형성하고 (게터링공정), 양극이나 필라멘트 등에서 발생하는 잔류가스를 게터미러에 흡착시킨다.Then, it is exhausted from the exhaust port of the envelope and sealed inside while maintaining the inside at a high vacuum of 10 -5 to 10 -7 Torr. In order to maintain the degree of vacuum in the envelope, the ring-shaped getter is heated at high frequency to form a getter mirror on the inner wall of the envelope (gettering process), and the residual gas generated from the anode or the filament is adsorbed to the getter mirror.
이 다음, 스페이서 프레임 주위를 절단하여 에이징 공정을 거쳐 표시관이 완성된다.Next, the display tube is completed by cutting around the spacer frame to undergo an aging process.
그런데, 외위기내의 진공도를 유지하기 위한 게터는 링상의 용기중에 바륨 등의 게터재료가 매립되어 있고, 이 게터재료를 증발시켜서 외위기 내벽면에 게터미러를 형성하기 위하여는 가령 1100 ~ 1200℃의 고온으로 가열할 필요가 있었다.By the way, the getter for maintaining the degree of vacuum in the envelope is embedded with a getter material such as barium in a ring-shaped container. In order to evaporate the getter material and form a getter mirror on the inner wall of the envelope, It was necessary to heat to high temperature.
이 게터의 가열에 사용되는 고주파 가열장치는 제12도에 도시하는 바와 같이 게터(1)와 거의 같은 지름의 자성재료로 되는 고주파 가열용 코어(2) 주위에 유도자로서의 고주파용 코일93)을 감고, 이 고주파 가열용 코일(3) 양단에 고주파 전류를 흐르게 하기 위한 교류원(4)을 접속하여 구성되는 것이다.In the high frequency heating apparatus used for heating the getter, as shown in FIG. 12, a high frequency coil 93 as an inductor is wound around a high frequency heating core 2 made of a magnetic material having a diameter almost the same as that of the getter 1. And an alternating current source 4 for flowing a high frequency current through both ends of the high frequency heating coil 3.
이 고주파 가열장치는 게터(1) 바로위에서 용기부(5)를 구성하는 전면판(6) 표면(6a)에 교주파 가열용 코어(2)를 접속시킨 상태로 고주파 가열코일(3)에 수 기가헤르츠 교류의 고주파 전류를 유출시킴으로써 반전 자장을 발생한다.This high frequency heating apparatus is connected to the high frequency heating coil 3 in a state in which the cross-frequency heating core 2 is connected to the surface 6a of the front plate 6 constituting the container part 5 directly above the getter 1. A reverse magnetic field is generated by flowing a high frequency current of gigahertz alternating current.
그리고, 이 반전자장 안에 위치하는 게터(1)는 고주파 전류가 흐르는데 따른 금속의 저항에 의해 고주파 가열되게 된다. 또한, 고주파 가열용 코어는 일반적으로는 철이나 페라이트로 구성되나 특히 자속을 수속시키기 위하여 페라이트가 사용된다.And the getter 1 located in this inverted magnetic field is heated by high frequency by the resistance of the metal which a high frequency current flows. In addition, the high frequency heating core is generally composed of iron or ferrite, in particular ferrite is used to converge the magnetic flux.
그런데, 상기한 형광표시관에 사용되는 스페이서 프레임(7)은 니켈(42%), 크로(6%), 잔부철로 이루어지는 것을 주성분으로 하는 426 합금의 도체로 구성되고, 소성시의 가열에 의해 제11도에 도시하는 자화곡선의 히스테리시스의 자기포화상태(P) 보다 투자율이 큰 0점이 소자상태에 있다.By the way, the spacer frame 7 used for the fluorescent display tube is made of a conductor of 426 alloy whose main component is nickel (42%), chromium (6%) and residual iron, and is heated by firing upon firing. The zero point is in the element state where the permeability is greater than the magnetic saturation state P of the hysteresis of the magnetization curve shown in FIG.
[발명이 해결하고자 하는 과제][Problem to Solve Invention]
그러나, 상기 종래의 고주파 가열장치를 사용하여 케(1)를 고주파 가열하면 반전 자속이 게터(1) 바로밑에 배설된 스페이서 프레임(7)에도 관통하여 자기누설이 생긴다. 그 때문에 스페이서 프레임(7)은 고주파 가열장치로부터의 누설자속에 의해 제11도의 초기자화곡선을 밝게되고, 자속밀도(B)가 크게 변화하여 가열된다. 그 결과, 스페이서 프레임(7)은 열변형을 일으켜 휘기 때문에 필라멘트(8)와 양극사이의 높이에 편차가 생기고, 형광체층에 대하여 균일하게 전자를 사돌(射突)시킬 수 없으며, 안정된 발광동작이 얻어지지 않았다. 또, 고주파 가열장치로부터의 누설자속에 의해 스페이서 프레임(7)이 300 ~ 600℃ 이상의 고온으로 가열되면 스페이서 프레임(7)이 휘어서 변형된뿐 아니라 스페이서 프레임(7)과 봉착제(9)와의 열팽창의 차이로 봉착제(9)가 용융하고, 스페이서 프레임(7)이 이동하여 크랙이 생기거나, 봉착재(9)의 박리에 의해 용해유리가 비산하여 먼지가 되고, 표시관 자체가 사용할 수 없게 될 우려가 있었다.However, when the ke 1 is heated at high frequency using the conventional high frequency heating apparatus, the magnetic flux is generated by the inverted magnetic flux penetrating the spacer frame 7 disposed just below the getter 1. As a result, the initial magnetization curve of FIG. 11 is brightened by the leakage magnetic flux from the high frequency heating apparatus, and the magnetic flux density B is greatly changed and heated. As a result, the spacer frame 7 bends due to thermal deformation, which causes variations in the height between the filament 8 and the anode, and makes it impossible to uniformly electrons with respect to the phosphor layer, resulting in stable light emission operation. Not obtained. In addition, when the spacer frame 7 is heated to a high temperature of 300 to 600 ° C. or higher due to leakage flux from the high frequency heating device, the spacer frame 7 is not only deformed and deformed, but also the thermal expansion of the spacer frame 7 and the encapsulant 9. The sealing agent 9 melts due to the difference between the spacers 7 and the spacer frame 7 moves to cause cracks, or the molten glass scatters due to peeling of the sealing material 9 to become dust, and the display tube itself cannot be used. There was a concern.
또, 게터(1)는 통상, 외위기(10)내의 표시영역에서 떨어진 위치에 설치되어 있는데, 근년에는 초박형의 형광표시관도 출현하고 있다. 따라서, 이 종류의 표시관에서는 게터(1)와 스페이서 프레임(7) 사이의 거리가 매우 좁고, 고주파 가열장치로부터의 누설자속이 게터(1) 바로밑에 위치하는 스페이서 프레임(7)만이 아니라 스페이서 프레임(7)의 주위, 즉, 표시영역의 제어전극까지 미쳐서 열변형의 원인이 되었었다.In addition, the getter 1 is usually provided at a position away from the display area in the envelope 10. In recent years, ultra-thin fluorescent display tubes have also appeared. Therefore, in this type of display tube, the distance between the getter 1 and the spacer frame 7 is very narrow, and not only the spacer frame 7 in which the leakage flux from the high frequency heating device is located directly under the getter 1, but also the spacer frame. Around 7, i.e., the control electrode of the display area, the thermal deformation was caused.
그래서, 본 발명의 상기 문제를 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적은 게터 등의 피가열체 근방에 위치하는 스페이서 프레임, 제어전극, 음극지지체 등의 도체부품의 발열을 억제할 수 있는 고주파 가열장치와 고주파 가열방법을 제공함에 있다.Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is a high frequency heating apparatus and a high frequency heating apparatus capable of suppressing heat generation of conductor parts such as a spacer frame, a control electrode, and a cathode support, which are located near a heated object such as a getter. It is to provide a heating method.
[과제를 해결하기 위한 수단][Means for solving the problem]
상기 목적을 달성하기 위하여 청구한1의 고주파 가열장치는 피가열체를 가열하기 위한 고주파 가열용 고어근방에서 그 코어로부터의 누설자속이 미치는 범위에 설치된 도체부품에 접촉 되는 근접시켜서 그 도체부품에 정자계를 거는 페라이트 자석을 고정 또는 이동가는하게 설치한 것을 특징으로 하고 있다.In order to achieve the above object, the high frequency heating apparatus of claim 1 is made to close the sperm to the conductor parts in contact with the conductor parts installed in the range in which the leakage magnetic flux from the core is near the high frequency heating gore for heating the heating target object. It is characterized in that the ferrite magnet hanging on the system is fixed or moving.
청구항 2의 고주파 가열장치는 상기 도체부품에 정자계를 거는 수단이 페라이트 자석을 고정 또는 이동가능하게 설치한 것을 특징으로 하고 있다.The high frequency heating apparatus of claim 2 is characterized in that a means for applying a magnetic field to the conductor component is provided so that a ferrite magnet is fixed or movable.
청구항 3의 고주파 가열장치는 표시관 외위기내에 설치된 게터를 가열하여 상기 외위기 내벽면에 게터미러를 형성하기 위한 고주파 가열용 코어 근방이고, 또한 상기 표시관의 스페이서 프레임에 접촉시킨 상태로 고정 또는 이동가능하게 페라이트 자석을 설치한 것을 특징으로 하고 있다.The high frequency heating apparatus of claim 3 is a high frequency heating core near the core for heating the getter installed in the display tube envelope to form a getter mirror on the inner wall of the envelope, and is fixed in contact with the spacer frame of the display tube. A ferrite magnet is installed to be movable.
청구항 4의 고주파 가열장치는 표시관 외위기내에 설치된 게터를 가열하여 상기 외위기 내벽면에 게터미러를 형성하기 위한 고주파 가열용 코어 근방이고, 또한 상기 표시관의 스페이서 프레임에 자계가 미치는 범위에 근접시킨 상태로 고정 또는 이동가능하게 페라이트 자석을 설치한 것을 특징으로 하고 있다.The high frequency heating apparatus of claim 4 is a high frequency heating core near the core for heating the getter installed in the display tube envelope to form a getter mirror on the inner wall of the envelope, and is close to the range of the magnetic field on the spacer frame of the display tube. The ferrite magnet is installed so as to be fixed or movable in the state of being made.
청구항 5의 고주파 가열장치는 표시관 외위기내에 설치된 게터를 가열하여 상기 외위기 내벽면에 게터미러를 형성하기 위한 고주파 가열용 코어 양측에 페라이트 자석이 설치되고, 한쪽의 페라이트 자석은 상기 고주파 가열용 코어 근방이고, 또한 상기 표시관의 스페이서 프레임에 접촉시킨 상태로 고정 또는 이동가능하게 설치되고, 다른쪽의 페라이트 자석은 상기 외위기 외주면에 접촉 또는 근접한 상태로 고정 또는 이동가능하게 설치된 것을 특징으로 하고 있다.In the high frequency heating apparatus of claim 5, ferrite magnets are installed on both sides of a high frequency heating core for heating a getter installed in the display tube envelope to form a getter mirror on the inner wall of the envelope, and one ferrite magnet is used for the high frequency heating. It is located near the core, and fixed or movable in contact with the spacer frame of the display tube, the other ferrite magnet is characterized in that the fixed or movable in contact with or close to the outer peripheral surface of the envelope have.
청구항 6의 고주파 가열장치의 표시관 외위기내에 설치된 게터를 가열하여 상기 외위기 내벽면에 게터미러를 형성하기 위한 고주파 가열용 코어 양측에 페라이트 자석이 설치되고, 한쪽의 페라이트 자석은 상기 고주파 가열용 코어 근방이고, 또한 상기 표시관의 스페이서 프레임에 자계가 미치는 범위에 근접시킨 상태로 고정 또는 이동가능하게 설치되고, 다른쪽 페라이트 자석은 상기 외위기 외주면에 접촉 또는 근접한 상태로 고정 또는 이동가능하게 설치된 것을 특징으로 하고 있다.Ferrite magnets are provided on both sides of a high frequency heating core for heating a getter installed in the display tube envelope of the high frequency heating apparatus of claim 6 to form a getter mirror on the inner wall of the envelope, and one ferrite magnet is used for the high frequency heating. It is near the core and is fixedly or movably installed in the spacer frame of the display tube in a state close to the range of the magnetic field, and the other ferrite magnet is fixedly or movably installed in contact with or in proximity to the outer circumferential surface of the envelope. It is characterized by.
청구항 7의고주파 가열방법은, 도체로 되는 피가열체 일부에 페라이트 자석을 접촉 또는 근접시켜서 정자계를 건 후, 고주파 가열을 행하여 상기 피가열체를 선택적으로 가열하는 것을 특징으로 하고 있다.The high frequency heating method of claim 7 is characterized in that a magnetic field is applied by contacting or approaching a ferrite magnet to a part of the heating target to be a conductor, and then the high frequency heating is performed to selectively heat the heating target.
청구항 8의 고주파 가열방법은, 표시관의 리드프레임에 페라이트 자석을 접촉 또는 근접시켜서 정자계를 건 후, 상기 표시관 외주기내에 설치된 게터를 고주파 가열하여 상기 외위기 내벽면에 게터미러를 형성하는 것을 특징으로 하고 있다.In the high frequency heating method according to claim 8, the ferrite magnet is contacted with or close to the lead frame of the display tube, and then a getter mirror is formed on the inner wall of the envelope by high frequency heating of the getter provided in the outer cycle of the display tube. It is characterized by.
[작용][Action]
게터를 고주파 가열하는 고주파 가열용 코어 근방이고, 또한 누설자속이 미치는 도체부품 (스페이서 프레임, 제어전극, 음극지지체 등)에 접촉 또는 근접하여 1개의 페라이트 자석 또는 2개의 페라이트 자석을 고정 또는 이동가능하게 설치하고, 도체부품에 대하여 미리 정전계를 건다.One ferrite magnet or two ferrite magnets are fixed or movable in the vicinity of the high frequency heating core for heating the getter at high frequency and in contact with or close to a conductor component (spacer frame, control electrode, cathode support, etc.) in which leakage magnetic flux is applied. It is installed and the electrostatic field is applied to the conductor parts in advance.
이에 의해 도체부품은 제11도의 자화곡선의 히스테리시스에 있어서, 자계(H)가 증가하여도 자속밀도가 거의 변화되지 않는 자기포화상태(P)의 자장에 놓인다. 증가하여도 자속밀도가 겨의 벽화되지 않는 자기포화상태(P)의 자장에 놓인다. 이 다음, 교류원에서 고주파 가열용 코일에 고주파 전류를 흘려 게터를 고주파 가열한다. 게터가 고주파 가열되면 게터 근방에 위치하는 도체부품은 자화곡선의 히스테리시스에 있어서, 초기자화곡선을 밟지않고 자기포화상태(P)의 자장에 놓이기 때문에 자속밀도변화도 극히 작아지고 발열이 억제된다.As a result, in the hysteresis of the magnetization curve of FIG. 11, the conductor part is placed in the magnetic field of the magnetic saturation state P in which the magnetic flux density hardly changes even when the magnetic field H increases. Increasingly, the magnetic flux density is in the magnetic field of the self-saturating state (P), which is not mural of the chaff. Next, a high frequency current flows from the AC source to the high frequency heating coil to heat the getter. When the getter is heated at high frequency, the conductor part located near the getter is placed in the magnetic field of the magnetic saturation state P without stepping on the initial magnetization curve in the hysteresis of the magnetization curve, so that the magnetic flux density change is extremely small and heat generation is suppressed.
[실시예]EXAMPLE
제1도는 본 발명의 고주파 가열장치의 제1실시예를 나타내는 도면, 제2도는 동 장치의 제2실시예를 나타내는 도면이다.1 is a diagram showing a first embodiment of the high frequency heating apparatus of the present invention, and FIG. 2 is a diagram showing a second embodiment of the apparatus.
제1실시예와 제2실시예의 고주파 가열장치는, 종래의 기술의 항에서 설명한 고주파 가영용 코어92), 고주파 가열용 코일(3), 교류원(4)의 각 구성에 부가하여 누설자속이 미치는 범위에 설치된 도체부품으로서의 스페이서 프레임(7)에 정자계를 걸기 위한 하나의 자석(15)이 소정위치에 고정하여 설치되어 있다.The high frequency heating apparatus of the first embodiment and the second embodiment has a leakage magnetic flux in addition to the components of the high frequency heating core 92, the high frequency heating coil 3, and the alternating current source 4 described in the prior art section. One magnet 15 for applying a static magnetic field to the spacer frame 7 as a conductor part provided in the range of influence is fixed to a predetermined position.
이 자석(15)는 자계중에서 가열되어 어려운 산화물로 되는 봉상 또는 판상의 페라이트 자석으로 구성되어 있다.This magnet 15 is composed of a rod-like or plate-like ferrite magnet that is heated in a magnetic field and becomes a difficult oxide.
제1도에 도시하는 제1실시예의 페라이트 자석(15)은 측면부(15a)가 외위기(10)의 게터(1)에 가까운 위치에서 측면판(16)에 밀착하고, 또한 저면부(15b)가 스페이서 프레임(7)의 표면(7a)에 접촉하는 위치에서 고정하여 설치되어 있다.The ferrite magnet 15 of the first embodiment shown in FIG. 1 is in close contact with the side plate 16 at a position where the side portion 15a is close to the getter 1 of the envelope 10, and the bottom surface portion 15b. Is fixed at a position in contact with the surface 7a of the spacer frame 7.
제2도에 도시하는 제2실시예의 페라이트 자석(15)은 측면부(15a)가 외위기(10)의 게터(1)에 가까운 위치에서 양극기관(17)에 밀착하고, 또한 상면부(15c)가 스페이서 프레임(7)의이면(7b)에 접촉하는 위치에서 고정하여 설치되어 있다.The ferrite magnet 15 of the second embodiment shown in FIG. 2 is in close contact with the positive electrode engine 17 at a position where the side portion 15a is close to the getter 1 of the envelope 10, and the upper surface portion 15c. Is fixed at a position in contact with the rear surface 7b of the spacer frame 7.
여기서, 제3도(a), (b)는 제1실시예의 변형예를 나타내고 있다.3 (a) and 3 (b) show a modification of the first embodiment.
제3도(a)에 있어서의 페라이트 자석(15)은 측면부(15a)가 측면판(16)의 중도위치까지 밀착한 높이까지 저면부(15b)가 스페이서 프레임(7) 표면(7a)에서 이격된 위치에서 고정하여 설치되어 있다. 또, 제3도(b)에 있어서의 페라이트 자석(15)는 측면부(15a)가 전면판(6) 표면(6a)의 높이까지 저면부(15b)가 스페이서 프레임(7) 표면(7a)에서 이격된 위치에서 고정하여 실치되어 있다.In the ferrite magnet 15 in FIG. 3A, the bottom portion 15b is spaced apart from the surface 7a of the spacer frame 7 to a height at which the side portion 15a comes into close contact with the intermediate position of the side plate 16. It is fixed and installed at the position. In addition, in the ferrite magnet 15 in FIG. 3 (b), the bottom portion 15b is raised from the spacer frame 7 surface 7a to the side surface 15a until the height of the front plate 6 surface 6a. It is fixed and mounted at a spaced position.
또한, 제3도(a), (b)에 도시하는 배치의 경우, 페라이트 자석(15)의 자계가 스페이서 프레임(7)에 미치고 있는 것이 조건으로 되어 있고, 이 조건을 만족시키고 있으면 용기부(5) 높이(L1)의 범위내에 페라이트 자석(15)을 설치하여도 좋다.In addition, in the arrangement shown in Figs. 3A and 3B, it is a condition that the magnetic field of the ferrite magnet 15 extends to the spacer frame 7, and if this condition is satisfied, the container portion ( 5) The ferrite magnet 15 may be provided within the range of the height L1.
이와 같이 제1실시예 및 그 변형예에서 페라이트 자석(15)이 스페이서 프레임(7) 상측에서 고정하여 설치되어 있다.As described above, in the first embodiment and its modification, the ferrite magnet 15 is fixedly installed on the spacer frame 7.
다음에, 제4도(a), (b)는 제2실시예의 변형예를 나타내고 있다.4 (a) and 4 (b) show a modification of the second embodiment.
제4도(a)에 있어서의 페라이트 자석(15)은 측면부(15a)가 양극기판(17)의 중도위치까지 밀착한 높이까지 상면부(15c)가 스페이스 프레임(7)의 이면(7b)에서 이격된 위치에서 고정하여 설치되어 있다. 또, 제4도(b)에 있어서의 페라이트 자석(15)은 상면부(15c)가 양극기판(17)의 이면(17a)의 높이까지 상면부(15c)가 스페이서 프레임(7)의 이면(7b)에서 이격된 위치에서 고정하여 설치되어 있다.In the ferrite magnet 15 in FIG. 4A, the upper surface portion 15c is formed at the rear surface 7b of the space frame 7 to a height at which the side surface portion 15a comes into close contact with the intermediate position of the positive electrode substrate 17. It is fixed and installed in a spaced position In addition, in the ferrite magnet 15 in FIG. 4 (b), the upper surface portion 15c is the rear surface of the spacer frame 7 until the upper surface portion 15c is at the height of the rear surface 17a of the positive electrode substrate 17. It is fixedly installed at the position separated in 7b).
또한, 이 제4도(a), (b)에 도시하는 배치의 경우도, 페라이트 자석(15)의 자계가 스페이서 프레임(7)에 미치고 있는 것이 조건으로 되고, 이 조건을 만족시키는 양극기판(17)의 두께(L2) 범위내에 페라이트 자석(15)을 설치하여도 좋다.Also in the case of the arrangements shown in Figs. 4A and 4B, the condition that the magnetic field of the ferrite magnet 15 extends to the spacer frame 7 is satisfied, and the positive electrode substrate ( The ferrite magnet 15 may be provided within the thickness L2 range of 17).
이와 같이 제2실시예와 그 변형예에서는 페라이트 자석(15)이 스페이서 프레임(7) 하측에서 고정하여 설치되어 있다.As described above, in the second embodiment and the modified example, the ferrite magnet 15 is fixed to the lower side of the spacer frame 7.
다음에, 제5도는 본 발명에 의한 고주파 가열장치의 제3실시예를 나타내는 도면, 제6도는 본 발명의 의한 고주파 가열장치의 제4 실시예를 나타내는 도면이다.5 shows a third embodiment of the high frequency heating apparatus according to the present invention, and FIG. 6 shows a fourth embodiment of the high frequency heating apparatus according to the present invention.
이하에 설명하는 제3실시예와 제4실시예에 의한 고주파 가열장치는 고주파 가열용 코어(2), 고주파 가열용 코일(3), 교류원(4)의 각 구성에 부가하여 누설자속이 미치는 범위에 설치된 도체부품으로서의 스페이서 프레임(7), 제어전극, 음극지지체 등에 정자계를 걸기 위한 봉형상 또는 판형상의 2개의 페라이트 자석(15, 18)이 소정위치에 고정하여 설치되어 있다.In the high frequency heating apparatus according to the third and fourth embodiments described below, in addition to the components of the high frequency heating core 2, the high frequency heating coil 3, and the alternating current source 4, The bar-shaped or plate-shaped two ferrite magnets 15 and 18 for fastening a magnetic field to a spacer frame 7, a control electrode, a cathode support, or the like, which are installed in the range, are fixed to a predetermined position.
즉, 제3실시예와 제4실시예에 있어서, 한쪽 페라이트 자석(18)은 저면부(18b)가 저면판(6) 표면(6a)에 접촉하는 위치에서 외위기(10) 상방에 고정하여 설치되어 있기 때문에 제어전극에 정자계를 걸 수 있다. 또, 다른쪽 페라이트 자석(15)은, 제3실시예에서는 제1실시예와 같은 위치에서, 제4실시예에서는 제2실시예와 같은 위치에서 고정하여 설치되어 있으므로 스페이서 프레인(7) 및 음직지지체에 정자계를 걸 수 있다.That is, in the third and fourth embodiments, one ferrite magnet 18 is fixed above the envelope 10 at a position where the bottom portion 18b is in contact with the surface 6a of the bottom plate 6. Since it is installed, the magnetic field can be applied to the control electrode. The other ferrite magnet 15 is fixedly installed at the same position as the first embodiment in the third embodiment and at the same position as the second embodiment in the fourth embodiment, so that the spacer plane 7 and the weave are fixed. A magnetic field can be applied to the support.
여기서, 제3실시예의 변형예를 제7도(a), (b)에, 또 제4실시예의 변형예를 제8도 (a), (b)에각각 도시한다.Here, modifications of the third embodiment are shown in Figs. 7A and 7B, and modifications of the fourth embodiment are shown in Figs. 8A and 8B, respectively.
각 변형예에 있어서, 한쪽의 페라이트 자석(18)은 저면부(18b)가 전면판(6)의 표면(6a)에 접속하는 위치에서 외위기(10) 상방에 고정하여 설치되어 있으며, 다른쪽 페라이트 자석(15)은, 제7동(a) 에서는 제3도(a) 와 같은 위치에서, 제7도(b)에서는 제3도(b)와 같은 위치에서, 제8도(a)에서는 제4도(a)와 같은 위치에서, 제8도(b) 도에서는 제4도(b)와 같은 위치에서 각각고정하여 설치되어 있다.In each modified example, one ferrite magnet 18 is fixedly installed above the envelope 10 at a position where the bottom portion 18b is connected to the surface 6a of the front plate 6, and the other The ferrite magnet 15 is located at the same position as FIG. 3 (a) in FIG. 7 (a), at the same position as FIG. 3 (b) in FIG. 7 (b), and at 8 (a). In FIG. 8 (b) and in FIG. 8 (b), they are fixed and provided in the same position as FIG.
다음에, 제9도(a), (b)는 본 발명에 의한 고주파 가열장치의 제5실시예를 나타내는 도면이다.9 (a) and 9 (b) show a fifth embodiment of the high frequency heating apparatus according to the present invention.
이 제5실시예에서는 고주파 가열용 코어(2), 고주파 가열용 코일(3), 교류원(4)의 각 구성에 가하여 누설자속이 미치는 범위에 설치된 도체부품으로서 스페이서 프레임(7), 제어전극, 음극지지체 등에 정자계를 걸기 위한 봉형상 또는 판형상의 2개의 페라이트 자석(15,18)이 소정위치에 이동가능하게 설치되어 있다.In the fifth embodiment, the spacer frame 7 and the control electrode are provided as conductor parts installed in the range in which the leakage magnetic flux is applied to the components of the high frequency heating core 2, the high frequency heating coil 3, and the alternating current source 4, respectively. , Two rod-shaped or plate-shaped ferrite magnets 15 and 18 for hanging a magnetic field on a cathode support or the like are provided to be movable at a predetermined position.
다시 설명하면, 2개의 페라이트 자석(115,18)은 고주파 가열장치 본체의 케이싱체(19)에 대하여 직동식(直動式) 액튜에이터를 통하여 이동자재로 부착되어 있다.In other words, the two ferrite magnets 115 and 18 are attached to the casing body 19 of the high-frequency heating apparatus main body by means of a moving actuator.
각 페라이트 자석(15, 18)의 유지부분은 비자성재료로 구성되어 있다. 그리고, 이 제5실시예에서는 제9도(a)에 도시하는 바와 같이 형광표시관을 화살표(X1) 방향에서 세트할 경우, 페라이트 자석(15)은 저면부(15a)가 스페이서 프레임(7)의 표면(7a)에 접촉하는 위치까지 하강이동하고, 페라이트 자석(18)은 저면부(18b)가 전면판(6) 표면(6a)보다 위에 위치하기까지 상승이동한다.The holding portion of each ferrite magnet 15, 18 is made of a nonmagnetic material. In the fifth embodiment, when the fluorescent display tube is set in the direction of the arrow X1 as shown in FIG. 9A, the ferrite magnet 15 has the bottom portion 15a having the spacer frame 7. And the ferrite magnet 18 moves up until the bottom portion 18b is positioned above the front plate 6 surface 6a.
이 상태에서 제9도(b)에 도시하는 바와 같이 다음의 형광표시관을 화살표(X2) 방향 (제9도(a)와는 역방향)에서 세트할 경우에는 스페이서 프레임(7) 표면(7a)에 접촉하고 있는 파라이트 자석(15)은 저면부(15a)가 저면판(6) 표면(6a)보다 위에 위치하기까지 상승이동하고, 전면판(6) 표면(6a)에 접촉하고 있는 페라이트 자석(18)은 스페이서 프레임(7) 표면(7a)에 접촉하는 위치까지 하강이동한다.In this state, as shown in Fig. 9B, the next fluorescent display tube is set on the surface 7a of the spacer frame 7 when the next fluorescent display tube is set in the direction of the arrow X2 (in the opposite direction to Fig. 9A). The ferrite magnet 15 in contact with the ferrite magnet 15 moves upward until the bottom portion 15a is positioned above the bottom plate 6 surface 6a, and is in contact with the front plate 6 surface 6a. 18 moves downward to a position in contact with the surface 7a of the spacer frame 7.
또한, 이 실시예에 있어서의 2개의 페라이트 자석(15, 18)중 한쪽만을 이동가능한 구성으로 하고, 다른쪽을 상기 제1실시예~제4실시예 및 이들 실시예의 변형예와 같은 위치에서 고정하여 설치하도록 하여도 좋다.In addition, only one of the two ferrite magnets 15 and 18 in this embodiment is configured to be movable, and the other is fixed at the same position as in the first to fourth embodiments and the modifications of these embodiments. May be installed.
다음에, 제10도는 본발명에 의한 고주파 가열장치의 제6실시예를 나타내는 사시도이다.Next, FIG. 10 is a perspective view showing a sixth embodiment of the high frequency heating apparatus according to the present invention.
이 제6실시예의 고주파 가열장치는 고주파 가열용 코어(2), 고주파 가열용 코일(3), 교류원(4)의 각 구성에 부가하여 누설자속이 미치는 범윙에 설치된 도체부품으로서 스페이서 프레임(7), 제어저극, 음극지지체 등에 정자계를 걸기 위한 원통상의 페라이트 자석(20)이 1개 설치되어 있다. 다시 설명하면, 이 페라이트 자석(20)은, 하단면(20b)이 전면판(6) 표면(6a)에 접촉하는 위치에 외위기(10) 상방에서 고정하여 설치되어 있다.The high frequency heating apparatus of this sixth embodiment is a conductor frame provided in a bumping wing in which leakage magnetic flux is applied in addition to the components of the high frequency heating core 2, the high frequency heating coil 3, and the alternating current source 4, respectively. ), A cylindrical ferrite magnet 20 for applying a static magnetic field to a control low electrode, a cathode support, or the like is provided. In other words, the ferrite magnet 20 is fixedly installed above the envelope 10 at a position where the lower surface 20b is in contact with the front surface 6a surface 6a.
또한, 이 페라이트 자석(20)은 통상이면 원통상에 한정되지 않고 다각형상이라도 좋다. 또, 외위기(10)의 양극기판(17)에 접촉하는 위치에서 외위기(10) 하방에 고정하여도 좋다. 그리고, 제9도에 도시하는 제5실시예와 같이 고주파 가열장치 본체의 케이싱체(19)에 대하여 직동식 액튜에이터를 통하여 이동자재로 부착하는 구성이라도 좋다.In addition, this ferrite magnet 20 is not limited to a cylindrical shape normally, but may be a polygonal shape. It may be fixed below the envelope 10 at a position in contact with the positive electrode substrate 17 of the envelope 10. As in the fifth embodiment shown in FIG. 9, the casing body 19 of the main body of the high frequency heating apparatus may be attached to the casing body 19 through a direct actuator.
이상 설명한 각 실시에에서는 게터(1)를 고주파 가열하는 고주파 가열용 코어(2) 근방이고, 또한 스페이서 프레임(7)에 접촉 또는 근접하여 1개의 페라이트 자석(15,20) 또는 2개의 페라이트 자석(15, 18)을 설치하고, 누설자속이 미치는 범위의 스페이서 프레임(7)에 대하여 미리 정자계를 건다. 이에 의해, 스페이서 프레임(7)은 제11도의 자회곡선은 히스테리시스에 있어서, 자계(H)가 증가하여도 자속밀도가 거의 변화되지 않는 자기포화상탠(P)의 자장에 놓인다. 이 다음, 교류원(4)에 서 고주파 가열용 코일(3)에 고주파 전류를 흘러 게터(1)를 고주파 가열한다. 게터(1)가 고주파 가열되면 이 게터(1) 바로밑에 위치하는 스페이서 프레임(7)은 자석의 작용에 의해 종래와 같이 자화곡선의 히스테리시스의 초기자화 곡선을 밟지않고, 자속밀도의 변화도 매우 작아지며, 발열을 억제할 수 있다. 이 결과, 스페이서 프레임(7)의 열변형이 저감하고, 필라멘트와 양극 사이의 높이의 편차가 감소됨과 동시에 봉착부분의 박리에 의한 용해 유리의 비산도 억제할 수 있다.In each embodiment described above, one ferrite magnet 15, 20 or two ferrite magnets (near the high frequency heating core 2 for heating the getter 1 at high frequency and in contact with or close to the spacer frame 7) 15 and 18 are provided, and a static magnetic field is applied to the spacer frame 7 in the range in which the leakage magnetic flux is applied. As a result, the magnetic frame curve of the spacer frame 7 lies in the magnetic field of the magnetic saturation phase P in which the magnetic flux density hardly changes even when the magnetic field H increases in hysteresis. Next, a high frequency current flows from the AC source 4 to the high frequency heating coil 3 to heat the getter 1 at high frequency. When the getter 1 is heated at high frequency, the spacer frame 7 located directly below the getter 1 does not follow the initial magnetization curve of the hysteresis of the magnetization curve by the action of the magnet, and the change of the magnetic flux density is also very small. Can suppress fever. As a result, the thermal deformation of the spacer frame 7 is reduced, the variation in the height between the filament and the anode is reduced, and the scattering of the molten glass due to the peeling of the sealing portion can also be suppressed.
또, 원통상의 페라이트 자석(20) 또는 2개의 페라이트 자석(15, 18)이 설치된 구성의 장치에 의하면 누설자속이 미치는 범위에 위치하는 도체부품으로서, 스페이서 프레임(7)만이 아니라 메쉬상의 제어전극이나 양극기판(17)상에 제어전극을 지지하는 각부(脚部)의 열변형도 방지할 수 있다. 또, 동시에 아래에 위치하는 절연층이 열에 의해 파괴되는 것을 방지하여 절연불량을 감소시킬 수도 있다.In addition, according to the apparatus provided with the cylindrical ferrite magnet 20 or the two ferrite magnets 15 and 18, it is a conductor part located in the range which a leakage magnetic flux exerts, and it is not only the spacer frame 7, but also a mesh-shaped control electrode. In addition, thermal deformation of each part supporting the control electrode on the positive electrode substrate 17 can be prevented. At the same time, it is also possible to prevent the insulating layer positioned below from being destroyed by heat, thereby reducing the insulation failure.
그리고, 전면판(6) 표면(6A)의 높이에 페라이트 자석(15)이 고정된 장치 및 페라이트 자석(15,18)이 이동자재한 구성의 장치에 의하면 형광표시관을 화살표(X1, X2)양쪽에서 세트할 수 있다. 그리고, 원통상 페라이트 자석(20)이 설치된 제6실시예의 구성에 의하면 스페이서 프레임(7)에 정자계를 거는 페라이트 자석(20)이 원통상으로 형성되어 있으므로 형광표시관을 고주파 가열장치에 세트함에 있어서는 제9도에 도시하는 화살표(X1, X2) 방향에 한정되지 않고, 어느 방향으로도 행할 수 있고, 외위기(10)내의 게터(1)의 배치위치에 응하여 표시관의 세트방향을 바꿀 수 있다.In addition, according to the device in which the ferrite magnet 15 is fixed at the height of the front surface 6A and the device in which the ferrite magnets 15 and 18 are moved, the fluorescent display tube is indicated by arrows (X1 and X2). Can be set on both sides. According to the structure of the sixth embodiment in which the cylindrical ferrite magnet 20 is installed, the ferrite magnet 20 for applying the static magnetic field to the spacer frame 7 is formed in a cylindrical shape. In this case, it is not limited to the directions of the arrows X1 and X2 shown in FIG. 9 and can be performed in any direction, and the set direction of the display tube can be changed depending on the arrangement position of the getter 1 in the envelope 10. have.
그런데, 상기 제1~제5실시예에서는 세트되는 형광표시관의 길이방향으로 페라이트 자석(15, 18)을 설치한 경우를 도시하여 설명하였으나 스페이서 프레임(7)이 자기포화할 만큼의 정자계가 걸리면 고주파 가열용 코어(2) 주위의 어느 방향으로 설치하여도 된다.However, in the first to fifth embodiments, the case in which the ferrite magnets 15 and 18 are installed in the longitudinal direction of the fluorescent display tube to be set is illustrated. However, when the spacer frame 7 has a magnetic field sufficient to self-saturate. You may provide in any direction around the high frequency heating core 2.
또, 페라니트 자석(15, 18)은 게터(1) 근방에 위치하는 부품(스페이서 프레임(7), 제어전극, 음극지지체 등)에 정자계가 걸리는 구성이면 되고, 그 배치, 형상 및 수는 도시한 실시예에 한정되지 않는다.In addition, the ferranite magnets 15 and 18 may have a configuration in which a static magnetic field is applied to a component (spacer frame 7, control electrode, cathode support, etc.) located near the getter 1, and the arrangement, shape, and number thereof are illustrated. It is not limited to one embodiment.
그리고, 상기 각 실시예에서는 음극이 필라멘트(8)로 구성된 3극관 구조의 형광표시관에 적용한 경우를 도시하여 설명하였으나 다른 형광표시관이라도 좋고, 특히 게터와 스페이서 프레임(7) 사이가 좁고, 고주파 가열시의 누설자속이 크게 영향하는 초박형의 형광표시관에 적용할 경우에 큰 효력을 발휘한다. 또, 본 실시예의 장치는 귄칭, 수축끼워맞춤, 납땜, 소둔, 용해 등을 행할 때에 사용되고, 형광표시관에 한정되지 않으며, 전자조리기 등의 다른 장치의 적용하여도 충분한 효력을 얻을 수 있다.Incidentally, in the above embodiments, the case where the cathode is applied to a fluorescent display tube having a triode structure composed of the filaments 8 is illustrated and described. However, other fluorescent display tubes may be used, in particular, the getter and the spacer frame 7 are narrow and have high frequency. It has a great effect when applied to ultra-thin fluorescent display tubes in which leakage magnetic flux during heating is greatly affected. In addition, the apparatus of the present embodiment is used for quenching, shrink fitting, soldering, annealing, melting, and the like, and is not limited to the fluorescent display tube, and sufficient effect can be obtained even by applying other apparatus such as an electronic cooker.
[발명의 효과][Effects of the Invention]
본 발명의 청구항 1, 2의 고주파 가열장치에 의하면 피가열체 근방이고 고주파 가열시의 누설자속이 미치는 범윙에 설치된 도체부품에 미리 정자계가 걸리는 구성이므로 피가열체의 고주파 가열시의 발열을 확실하게 감소시킬 수 있다.According to the high-frequency heating apparatuses of claims 1 and 2 of the present invention, since a conductive part is applied to a conductor part in the vicinity of the object to be heated and is installed in a bumping wing in which a leakage magnetic flux is generated during high-frequency heating, the heat generation during the high-frequency heating of the heated object is ensured. Can be reduced.
청구항 3~6의 고주파 가열장치 및 청구항 7,8의 고주파 가열방법에 의하며, 게터 바로밑에 위치하는 스페이서 프레임은 자석의 작용에 의해 종래와 같이 자화곡선의 히스테르시스의 초기자화곡선을 밟을 일이 없으므로 자속밀도의 변화도 매우작아지고, 발열을 억제할 수 있다.According to the high frequency heating apparatus of Claims 3 to 6 and the high frequency heating method of Claims 7, 8 and 8, the spacer frame located directly under the getter may follow the initial magnetization curve of the hysteresis of the magnetization curve by the action of a magnet. Therefore, the change in magnetic flux density is also very small, and heat generation can be suppressed.
이 결과, 스페이서 프레임의 열변형이 감소하고, 필라멘트와 양극 사이의 높이의 편차가 감소함과 동시에 봉착부분의 박리에 의한 용해 유리의 비산도 억제할 수 있다.As a result, the thermal deformation of a spacer frame reduces, the variation of the height between a filament and an anode reduces, and also the scattering of the molten glass by peeling of a sealing part can be suppressed.
또, 청구항 5, 6의 고주파 가열장치에 의하면 누설자속이 미치는 범위에 위치하는 도체부품으로서 스페이서 프레임 이외의 도체부품(제어전극, 음극지지체 등)의 열변형도 막을 수 있다.Further, according to the high frequency heating apparatuses of claims 5 and 6, thermal deformation of conductor parts (control electrodes, cathode support members, etc.) other than the spacer frame can be prevented as conductor parts located in the range in which the leakage magnetic fluxes are applied.
그리고, 청구항 3~6의 고주파 가열장치에 있어서, 페라이트 자석이 이동가능하게 설치된 구성에 의하면, 표시관을 1 방향만이 아니라 다른 방향에서도 세트할 수 있다.And in the high frequency heating apparatus of Claims 3-6, according to the structure in which the ferrite magnet was movable so that a display tube can be set not only in one direction but in another direction.
Claims (8)
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