KR0181088B1 - Method for fabricating a thin film head - Google Patents
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Abstract
본 발명은 박막 자기 헤드를 구성하는 박막 코일층이 단차부에 의해서 전기적으로 단선되는 것을 방지시키기 위한 박막 자기 헤드의 제조 방법에 관한 것으로 상기 방법은 기판상에 제1절연층을 형성시키고 평탄화시키는 단계와, 상기 제1절연층상에 감광층을 형성시키고 평탄화시키는 단계와, 상기 제1절연층상에 감광층을 형성시키고 소정 형상으로 패터닝시키는 단계와, 상기 감광층의 패턴을 통하여 노출된 상기 절연층을 식각시켜서 소정 형상으로 패터닝시키는 단계와, 상기 절연층상에 잔존하는 감광층을 제거하는 단계와, 소정 형상으로 형성된 상기 절연층상에 제1자성층 및 코일 절연층을 순차적으로 형성시키는 단계와, 상기 코일 절연층상에 코일층을 형성시키는 단계와, 상기 코일층상에 제2절연층을 형성시키고 평탄화시키는 단계와, 상기 제2절 연층상에 갭층 및 제2자성층을 순차적으로 형성시키는 단계로 이루어지며 이에 의해서 박막 자기 헤드의 전방부 및 후방부사이를 단차 형성없이 평탄한 상태로 유지시킴으로서 전방부와 후방부상에 형성되는 코일층이 전기적으로 단선되는 것을 방지시킨다.The present invention relates to a method of manufacturing a thin film magnetic head for preventing the thin film coil layer constituting the thin film magnetic head from being electrically disconnected by the stepped portion. The method includes forming and planarizing a first insulating layer on a substrate. Forming and planarizing a photosensitive layer on the first insulating layer, forming a photosensitive layer on the first insulating layer and patterning the photosensitive layer into a predetermined shape, and exposing the insulating layer exposed through a pattern of the photosensitive layer. Etching and patterning to a predetermined shape; removing the photosensitive layer remaining on the insulating layer; sequentially forming a first magnetic layer and a coil insulating layer on the insulating layer formed into a predetermined shape; Forming a coil layer on the layer, forming and planarizing a second insulating layer on the coil layer, and The second step is to sequentially form a gap layer and a second magnetic layer on the soft layer, thereby keeping the coil layer formed on the front part and the rear part by keeping the front part and the rear part of the thin film magnetic head flat without forming a step. This prevents electrical disconnection.
Description
제1도는 일반적인 박막 자기 헤드를 개략적으로 도시한 평면도.1 is a plan view schematically showing a general thin film magnetic head.
제2도는 제1도에 표시된 선 II-II를 취한 단면도.2 is a cross-sectional view taken along the line II-II shown in FIG.
제3a도 내지 제3f도는 본 발명에 따른 박막 자기 헤드의 제조 방법을 순차적으로 도시한 단면도.3A to 3F are cross-sectional views sequentially showing a method of manufacturing a thin film magnetic head according to the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
31 : 기판 32 : 제1절연층31 substrate 32 first insulating layer
33 : 감광층 24 : 제1자성층33: photosensitive layer 24: first magnetic layer
35 : 제2절연층 36 : 박막 코일층35: second insulating layer 36: thin film coil layer
37 : 코일 절연층 38 : 갭층37 coil insulation layer 38 gap layer
39 : 제2자성층39: second magnetic layer
본 발명은 박막 자기 헤드를 제조하기 위한 방법에 관한 것으로, 특히 세라믹 기판과 하부 자성층사이의 단차에 의하여 권선형으로 형성되는 박막 코일층이 전기적으로 단선되는 것을 방지시키기 위하여 동일한 단차를 갖는 홈내부에 박막 코일층을 형성시키기 위한 박막 자기 헤드의 제조 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a thin film magnetic head. In particular, the present invention relates to a method for manufacturing a thin film magnetic head. A method of manufacturing a thin film magnetic head for forming a thin film coil layer.
일반적으로, 박막 자기 헤드는 자기 디스크 및 자기 테이프와 같은 자기 기록 매체에 기록된 정보를 전자기 변환을 통해 읽고 쓰기 위한 소자로서, 전자기 유도에 기초한 유도형 박막 자기 헤드와 자기 저항 효과형 박막 자기 헤드가 있다.In general, a thin film magnetic head is an element for reading and writing information recorded on a magnetic recording medium such as a magnetic disk and a magnetic tape through an electromagnetic conversion. An inductive thin film magnetic head based on electromagnetic induction and a magnetoresistive thin film magnetic head are provided. have.
이때, 자기 기록 매체는 보자력(Hc)이 상대적으로 높은 Fe, Co, 또는 Ni 계 합금 분말의 자성 재료가 사용되며 이러한 자기 기록 매체에 신호를 기록/재생시킬 때 자기 기록 밀도를 향상시키기 위하여 Ni-Zn 조성 또는 Mn-Zn 조성의 페라이트, Fe-Ni 조성의 퍼어말로이 또는 Fe-Al-Si 조성의 센더스트와 같이 포화 자속 밀도가 높은 자성 재료로 이루어진 자기 헤드가 사용된다.At this time, the magnetic recording medium is made of a magnetic material of Fe, Co, or Ni-based alloy powder having a relatively high coercive force (Hc). In order to improve magnetic recording density when recording / reproducing a signal on such magnetic recording medium, A magnetic head made of a magnetic material having a high saturation magnetic flux density, such as a ferrite of Zn or Mn-Zn, a Fermaloy of Fe-Ni or Fe-Al-Si, is used.
제1도에 도시되어 있는 바와 같이, 유도형 박막 자기 헤드는 증착 공정 및 사진 석판 기술등에 의하여 비자성 기판상에 소정 형상으로 순차적으로 형성된 하부 자성층(11), 박막 코일층(14), 및 상부 자성층(12)을 구비하고 있으며 상기 박막 코일층(14)은 코일절연층(!3)에 의하여 절연 상태로 유지된다.As shown in FIG. 1, the inductive thin film magnetic head has a lower magnetic layer 11, a thin film coil layer 14, and an upper portion sequentially formed in a predetermined shape on a nonmagnetic substrate by a deposition process and a photolithography technique. The magnetic layer 12 is provided, and the thin film coil layer 14 is maintained in an insulated state by the coil insulating layer! 3.
한편, 자기 코어의 선단부에서 상기 하부 자성층(11)과 상부 자성층(12)사이에 소정 크기의 갭(G)이 형성되고 자기 코어의 후방구역에 형성된 쓰루홀을 통하여 상기 하부 자성층(11)과 상부 자성층(12)은 접촉되어 있으므로 상기 갭(G)과 쓰루홀을 매개로하여 상기 하부 자성층(11)과 상부 자성층(12)을 포함하는 자로의 폐루프가 형성되고 상기 갭(G)을 통하여 외부로 누설되되는 자장에 의하여 자기 기록 매체에 정보가 기록되고 또한 상기 갭(G)을 통하여 유입되는 자장에 의하여 정보가 읽혀진다.Meanwhile, a gap G having a predetermined size is formed between the lower magnetic layer 11 and the upper magnetic layer 12 at the tip of the magnetic core, and through the through hole formed in the rear region of the magnetic core, the lower magnetic layer 11 and the upper portion. Since the magnetic layer 12 is in contact with each other, a closed loop of a magnetic path including the lower magnetic layer 11 and the upper magnetic layer 12 is formed through the gap G and the through hole, and the outside is formed through the gap G. The information is recorded in the magnetic recording medium by the magnetic field leaking into the magnetic field, and the information is read by the magnetic field flowing through the gap G.
제1도에 표시된 선 II-II를 취하여 박막 자기 헤드의 요부를 단면으로 도시한 제2도를 참조하면, 자기 코어의 선단부에 소정 크기의 갭(G)이 외부에 노출되어, 있고 자기 코어의 후방 구역에 형성된 쓰루홀(TH)을 통하여 상기 상부 자성층(12)과 하부 자성층(11)이 접촉되어 있는 상태에서 상기 쓰루홀(TH)을 중심으로 권선형으로 형성되어 있다.Referring to FIG. 2, which takes the line II-II shown in FIG. 1 and shows the main portion of the thin film magnetic head in cross section, a gap G having a predetermined size is exposed to the outside at the tip of the magnetic core, and The upper magnetic layer 12 and the lower magnetic layer 11 are in contact with each other through the through hole TH formed in the rear region.
이때, 자기 코어는 상기 하부 자성층(11)의 형성 두께에 의하여 상기 쓰루홀(TH) 주위에 형성되는 소정 크기의 단차(h)를 구비하게 되며 이러한 단차(h) 형성의 경계부(제1도에 표시된 도면 부호(I) 참조)에서 상기 박막 코일층(14)은 새도윙(shawing) 효과 등에 의하여 완전한 성막화가 어렵게 되고 그 결과 상기 박막 코일층(14)은 전기적으로 단선되어서 박막 자기 헤드의 성능 및 특성을 저하시킨다는 문제점이 야기된다.At this time, the magnetic core has a step size h of a predetermined size formed around the through hole TH by the thickness of the lower magnetic layer 11 formed, and the boundary portion of the step height h formation (see FIG. 1). In the reference numeral (I) shown), the thin film coil layer 14 is difficult to be completely formed by a shadowing effect or the like, and as a result, the thin film coil layer 14 is electrically disconnected, thereby performing the performance of the thin film magnetic head. And problems of deteriorating characteristics are caused.
가부시끼가이샤 히다찌세이사꾸쇼가 한국 특허청에 특허 출원하여 1991년 10월 28일에 박막 자기 헤드라는 명칭으로 특허 공고 받은 제91-9021호에는 쓰루홀을 통하여 상부 자성층과 하부 자성층이 접촉되어 있고 박막 코일이 권선형으로 형성되어 있는 상태에서 상기 쓰루홀이 존재하는 영역에서 발생되는 와전류에 의한 에너지 손실을 방지시키기 위하여 쓰루홀이 제공된 자기 코어의 영역에서 상부 자성층 및 하부 자성층을 통해 특히 이들 층들의 인접면들에 뻗도록 형성된 슬릿을 형성시켰으며 그 결과 상기 인용 문헌에 따르면 와전류에 의한 에너지 손실을 방지시킬 수 있었으나 상기된 바와 같은 하부 자성층의 형성 두께에 의한 단차에 의하여 박막 코일층이 전기적으로 단선되는 것을 방지시키지 못하였다.Patent No. 91-9021, which was filed by Hitachi Seisakusho, and filed as a thin film magnetic head on October 28, 1991, has an upper magnetic layer and a lower magnetic layer contacting through a through hole. In the region of the magnetic core provided with the through hole in order to prevent energy loss due to the eddy current generated in the region where the through hole is present with the coils formed in the winding form, in particular through the upper magnetic layer and the lower magnetic layer, adjacent to these layers. According to the cited document, the slit formed to extend to the surfaces was formed. As a result, the thin film coil layer was electrically disconnected due to the step difference caused by the formation thickness of the lower magnetic layer. Did not prevent it.
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해소시키기 위하여 안출된 것으로 그 목적은 비자성 기판상에 형성된 하부 자성층의 형성 두께에 의하여 상부 자성층과 하부 자성층이 접촉되는 쓰루홀의 경계부에 형성되는 단차에 의하여 박막 코일층이 완전한 성막화를 이루지 못하고 전기적으로 단선되는 것을 방지시킬 수 있도록 비자성 기판에 복수개의 홈을 형성시키고 상기 홈내부에 박막 코일층을 형성시키기 위한 박막 자기 헤드의 제조 방법을 제공하는 데 있다.The present invention has been made in order to solve the above-mentioned conventional problems, the object is a thin film by the step formed in the boundary of the through-hole contacting the upper magnetic layer and the lower magnetic layer by the thickness of the lower magnetic layer formed on the nonmagnetic substrate The present invention provides a method of manufacturing a thin film magnetic head for forming a plurality of grooves in a nonmagnetic substrate and forming a thin film coil layer in the grooves to prevent the coil layer from being completely formed and not electrically disconnected. .
본 발명에 따르면, 상기의 목적은 기판상에 제1절연층을 형성시키고 평탄화시키는 단계와, 상기 제1절연층상에 감광층을 형성시키고 소정 형상으로 패터닝시키는 단계와, 상기 감광층의 패턴을 통하여 노출된 상기 제1절연층을 식각시켜서 소정 형상으로 패터닝시키는 단계와, 상기 제1절연층상에 잔존하는 감광층을 제거하는 단계와, 소정 형상으로 형성된 상기 제1절연층상에 제1자성층 및 코일 절연층을 순차적으로 형성시키는 단계와, 상기 코일 절연층상에 박막 코일층을 형성시키는 단계와, 상기 코일층상에 제2절연층을 형성시키고 평탄하시키는 단계와, 상기 제2절연층상에 갭층 및 제2자성층을 순차적으로 형성시키는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 박막 자기 헤드의 제조 방법에 의해서 달성된다.According to the present invention, the above object is achieved by forming and planarizing a first insulating layer on a substrate, forming a photosensitive layer on the first insulating layer and patterning it into a predetermined shape; Etching the exposed first insulating layer to form a predetermined shape; removing a photosensitive layer remaining on the first insulating layer; and insulating a first magnetic layer and a coil on the first insulating layer formed to a predetermined shape. Sequentially forming layers, forming a thin film coil layer on the coil insulation layer, forming and flattening a second insulation layer on the coil layer, a gap layer and a second on the second insulation layer It is achieved by a method for producing a thin film magnetic head, characterized in that the step of forming a magnetic layer sequentially.
본 발명의 일실시예에 따르면, 제1절연층은 2단계 식각 공정에 의하여 수행되는 것을 특징으로 한다.According to an embodiment of the present invention, the first insulating layer is characterized by being performed by a two-step etching process.
본 발명의 일실시예에 따르면, 제1절연층 및 제2절연층은 알루미나 실리게이트 글라스 또는 리듐 실리게이트 글라스로 이루어져 있고 표면 연마 공정에 의하여 평탄한 표면 상태로 제공되는 것을 특징으로 한다.According to an embodiment of the present invention, the first insulating layer and the second insulating layer may be made of alumina silicate glass or lithium silicate glass, and are provided in a flat surface state by a surface polishing process.
본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 제2절연층은 표면 연마 공정에 의하여 2개의 돌출부를 동일한 단차로 유지시키는 것을 특징으로 한다.According to one embodiment of the present invention, the second insulating layer is characterized in that the two protrusions are maintained at the same level by a surface polishing process.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일실시예에를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
제3도(a) 내지 (f)는 본 발명에 따른 박막 자기 헤드의 제조 방법을 순차적으로 나타낸 단면도이다.3A to 3F are cross-sectional views sequentially showing a method of manufacturing a thin film magnetic head according to the present invention.
본 발명에 따른 박막 자기 헤드의 제조 방법은 기판(31)상에 제1절연층(32)을 형성시키고 평탄화시키는 단계와, 상기 제1절연층(32) 상에 감광층(33)을 형성시키고 소정 형상으로 패터닝시키는 단계와, 상기 감광층(33)의 패턴을 통하여 노출된 상기 제1절연층(32)을 식각시켜서 소정 형상으로 패터닝시키는 단계와, 상기 제1절연층(32)상에 잔존하는 감광층(33)을 제거하는 단계와, 소정 형상으로 형성된 상기 제1절연층(32)상에 제1자성층(34) 및 코일 절연층(35)을 순차적으로 형성시키는 단계와, 상기 코일 절연층(35)상에 박막 코일층(36)을 형성시키는 단계와, 상기 박막 코일층(36)상에 제2절연층(37)을 형성시키고 평탄화시키는 단계와, 상기 제2절연층(37)상에 갭층(38) 및 제2자성층(39)을 순차적으로 형성시키는 단계로 이루어진다.A method of manufacturing a thin film magnetic head according to the present invention includes forming and planarizing a first insulating layer 32 on a substrate 31, and forming a photosensitive layer 33 on the first insulating layer 32. Patterning to a predetermined shape, etching the patterned first insulating layer 32 exposed through the pattern of the photosensitive layer 33 to pattern the predetermined shape, and remaining on the first insulating layer 32 Removing the photosensitive layer 33, sequentially forming a first magnetic layer 34 and a coil insulating layer 35 on the first insulating layer 32 formed in a predetermined shape, and the coil insulation. Forming a thin film coil layer 36 on the layer 35, forming and planarizing a second insulating layer 37 on the thin film coil layer 36, and forming the second insulating layer 37 The gap layer 38 and the second magnetic layer 39 are sequentially formed on the substrate.
먼저, 제3도(a)를 참조하면, 약 30% 정도의 탄화 티타늄(TiC)과 약 70% 정도의 알루미나(Al2O3))로 이루어진 비자성 재질의 기판(31)상에 절연 물질 예를 들면 알루미나 실리게이트 글라스 또는 리듐실리게이트 글라스를 용융 상태로 소정 두께로 도포시킨 후 응고시킴으로서 제1절연층(32)을 형성한다.First, referring to FIG. 3A , an insulating material is formed on a non-magnetic substrate 31 made of about 30% titanium carbide (TiC) and about 70% alumina (Al 2 O 3) ). For example, the first insulating layer 32 is formed by applying alumina silica glass or lithium silica glass to a predetermined thickness in a molten state and then solidifying.
상기 제1절연층(32)의 표면을 평탄한 토폴러지 상태로 유지시키기 위하여 표면 연마 공정(polishing process)을 수행하게 되며 이러한 표면 연마 공정은 상기 제1절연층(32)의 표면과 입도 크기가 약 1㎛이하인 다이아몬드 분말과의 표면 마찰 작용에 의하여 수행되며 그 결과 상기 제1절연층(32)는 그의 표면 거칠기가 약 50Å이하의 거칠기로 유지된 평탄한 표면을 구비하게 된다.In order to keep the surface of the first insulating layer 32 in a flat topological state, a surface polishing process is performed, and the surface polishing process has a surface size and a particle size of about 1st insulating layer 32. The first insulating layer 32 has a flat surface whose surface roughness is maintained at a roughness of about 50 kPa or less.
이 후에, 상기 제1절연층(32)상에 포토 레지스트(PR)를 스핀코팅(spin coating) 공정에 의하여 소정 두께로 도포시킴으로서 감광층(33)을 형성시키며 상기 감광층(33)은 자외선 노광 및 현상에 의한 포토 리쏘그래픽 공정에 의하여 소정 형상의 제1패턴으로 형성되고 그 결과 상기 감광층(33)의 제1패턴을 통하여 상기 제1절연층(32)은 부분적으로 노출된다.Thereafter, the photoresist PR is coated on the first insulating layer 32 to a predetermined thickness by a spin coating process to form a photosensitive layer 33, and the photosensitive layer 33 is ultraviolet exposed. And a first pattern having a predetermined shape by a photolithographic process by development. As a result, the first insulating layer 32 is partially exposed through the first pattern of the photosensitive layer 33.
제3도(b)를 참조하면, 상기된 바와 같이, 상기 감광층(33)의 제1패턴을 통하여 노출된 상기 제1절연층(32)은 불산 용액과 같은 글라스 식각 용액의 식각 작용에 의하여 제거되어서 소정 형상으로 형성되며 그 결과 상기 제1절연층(32)은 자기 코어의 선단부로부터 자기 코어의 후방으로 소정 거리 연장되어 있는 제1돌출부(32a) 및 상기 제1돌출부(32a)로부터 자기 코어의 후방으로 소정 거리 정도 이격된 위치에 형성된 제2돌출부(32b)를 구비하게 되며 상기 제2돌출부(32b)에 대하여 소정의 단차를 유지하는 홈이 상기 제2돌출부(32b)를 중심으로 양측면에 형성되어 있고 상기 제1돌출부(32a)는 자기 코어의 폴 칩 구역(pole chip region)으로 작용한다.Referring to FIG. 3B, as described above, the first insulating layer 32 exposed through the first pattern of the photosensitive layer 33 may be formed by etching of a glass etching solution such as hydrofluoric acid solution. The first insulating layer 32 is removed to form a predetermined shape, and as a result, the first insulating layer 32 extends a predetermined distance from the front end of the magnetic core to the rear of the magnetic core and the magnetic core from the first protrusion 32a. And a second protrusion 32b formed at a position spaced apart by a predetermined distance to the rear of the groove, and grooves for maintaining a predetermined step with respect to the second protrusion 32b are formed on both sides of the second protrusion 32b. And the first protrusion 32a serves as a pole chip region of the magnetic core.
또한, 제3도(c)를 참조하면, 상기 제1돌출부(32a)상에 잔존하는 상기 감광층(33)의 일부를 제거함으로서 상기 감광층(33)은 제1패턴과 상이한 제2패턴으로 형성되므로 상기 감광층(33)의 제2패턴을 통하여 노출되는 상기 제1절연층(32)의 노출 부분은 상기된 바와 같은 식각 용액의 식각 작용에 의하여 제거된다.In addition, referring to FIG. 3C, by removing a portion of the photosensitive layer 33 remaining on the first protrusion 32a, the photosensitive layer 33 may be formed in a second pattern different from the first pattern. Since the exposed portion of the first insulating layer 32 exposed through the second pattern of the photosensitive layer 33 is removed by the etching action of the etching solution as described above.
즉, 상기 감광층(33)의 제2패턴에 의하여 형성되는 상기 제1절연층(32)의 패턴 형상은 상기 제2돌출부(32b)에 대하여 연장된 크기의 단차를 갖는 홈이 상기 제2돌출부(32b) 주위에 형성되고 자기 코어의 폴 칩 구역을 형성하는 상기 제1돌출부(32a)는 상기 홈에 대하여 갖는 단차가 상기 제2돌출부(32b)에 비해서 상대적으로 작은 소정 크기의 단차로 유지된다.That is, the pattern shape of the first insulating layer 32 formed by the second pattern of the photosensitive layer 33 has a groove having a step size extending from the second protrusion 32b. The first protrusion 32a, which is formed around 32b and forms the pole chip zone of the magnetic core, is maintained at a step of a predetermined size whose step with respect to the groove is relatively smaller than that of the second protrusion 32b. .
이 후에, 상기 제1절연층(32)상에 잔조하는 감광층(33), 예를 들면 제3도(c)에 표시된 도면상에서 상기 제2돌출부(32b)상에 잔존하는 감광층(33)은 아세톤과 같은 레지스트 제거 용액(remover)에 의하여 제거하며 그 결과 소정 크기의 단차를 구비하는 상기 제1절연층(32)을 노출시킨다.Thereafter, the photosensitive layer 33 remaining on the first insulating layer 32, for example, the photosensitive layer 33 remaining on the second protrusion 32b in the drawing shown in FIG. Is removed by a resist removal solution such as acetone, thereby exposing the first insulating layer 32 having a step size of a predetermined size.
한편, 제3도(d)를 참조하면, 상기된 바와 같이 상기 감광층(33)의 제2패턴을 통하여 사이한 단차를 갖는 2개의 돌출부를 갖는 소정 형상으로 형성된 상기 제1절연층(32)상에 망간-니켈 합금 조성 또는 니켈-아연 합금 조성의 페라이트 또는 철-니켈 합금 조성의 퍼어말로이를 스퍼터링 증착 공정과 같은 진공 증착 공정에 의하여 소정 두께로 증착시켜서 제1자성층(34)을 형성시킨다.Meanwhile, referring to FIG. 3D, as described above, the first insulating layer 32 formed in a predetermined shape having two protrusions having a step between the photosensitive layer 33 through the second pattern. The first magnetic layer 34 is formed by depositing a permalloy having a manganese-nickel alloy composition or a nickel-zinc alloy composition ferrite or an iron-nickel alloy composition to a predetermined thickness by a vacuum deposition process such as a sputtering deposition process.
그 결과, 상기 제1자성층(34)의 패턴 형상은 상기 제1절연층(32)의 패턴 형상과 동일한 패턴 형상 예를 들면 소정 간격으로 이격되어 있고 상이한 크기의 단차가 형성된 2개의 돌출부가 구비하고 있으며 상기 2개의 돌출부중 상대적으로 높은 단차를 갖고 자기 코어의 후방 구역에 위치하는 하나의 돌출부 주위에 홈이 형성된 형상으로 형성된다.As a result, the pattern shape of the first magnetic layer 34 is the same as the pattern shape of the first insulating layer 32, for example, is provided with two protrusions spaced at predetermined intervals and formed with a step of different size. And a groove formed around one of the two protrusions having a relatively high step and positioned in the rear region of the magnetic core.
또한, 상기 제1자성층(34)상에 절연 물질 예를 들면 실리콘 산화물, 알루미나 또는 유기성 수지를 화학 기상 증착 공정(CVD) 또는 물리 기상 증착 공정(PVD)에 의하여 소정 두께로 도포시켜서 코일 절연층(35)을 형성시키며 그 결과 상기 코일 절연층(35)의 패턴 형상은 상기 제1자성층(34)의 패턴 형상 예를 들면 상기된 바와 같이 소정 간격으로 이격되어서 상이한 크기의 단차를 갖는 2개의 돌출부가 형성되고 상기 2개의 돌출부중 상대적으로 높은 단차를 갖는 돌출부 주위에 홈이 형성된 형상으로 유지된다.In addition, an insulating material, for example, silicon oxide, alumina, or an organic resin, may be coated on the first magnetic layer 34 to a predetermined thickness by a chemical vapor deposition process (CVD) or a physical vapor deposition process (PVD). 35, and as a result, the pattern shape of the coil insulation layer 35 is separated from the pattern shape of the first magnetic layer 34, for example, by a predetermined interval as described above, so that two protrusions having different sizes of steps are formed. And a groove is formed around the protrusion having a relatively high step among the two protrusions.
제3도(e)를 참조하면, 상기 코일 절연층(35)상에 구리 또는 알루미늄 또는 금과 같은 도전성 금속을 스퍼터링 증착 공정과 같은 진공 증착 공정 또는 전기 도금 공정에 의하여 소정 두께로 적층시켜서 도전층을 형성시킨 후 식각 공정에 의하여 상기 도전층을 소정 형상으로 패터닝시켜서 박막 코일층(36)을 형성시키며 그 결과 상기 박막 코일층(36)은 복수개의 코일이 상기 2개의 돌출부중 상대적으로 높은 단차를 갖는 돌출부를 중심으로 형성된 홈내부에 소정 간격으로 유지되어서 권선된 상태로 형성된다.Referring to FIG. 3E, a conductive layer, such as copper, aluminum, or gold, is deposited on the coil insulating layer 35 to a predetermined thickness by a vacuum deposition process such as a sputtering deposition process or an electroplating process. The conductive layer is patterned into a predetermined shape by an etching process and then the thin film coil layer 36 is formed. As a result, the thin film coil layer 36 has a plurality of coils having a relatively high step among the two protrusions. It is formed in a state in which it is maintained at predetermined intervals in the groove formed around the protruding portion.
이 후에, 상기 박막 코일층(36) 및 상기 박막 코일층(36)의 패턴을 통하여 노출된 상기 코일 절연층(35)상에 상기 제1절연층(32)의 구성 물질 즉 알루미나 실리게이트 글라스 또는 리듐 실리게이트 글라스를 용융 상태로 상대적으로 두꺼운 두께로 도포시킨 후 응고시킴으로서 제2절연층(37)을 형성시킨 후 상기된 바와 같이 표면 연마 공정에 의하여 상기 제2절연층(37)의 표면을 연마시킴으로서 평탄한 표면을 제공하게 된다.Subsequently, a constituent material of the first insulating layer 32, that is, alumina silicate glass or the thin film coil layer 36 and the coil insulating layer 35 exposed through the pattern of the thin film coil layer 36 is formed. The second insulating layer 37 is formed by coating the lithium silicide glass in a molten state with a relatively thick thickness and then solidifying it, and then polishing the surface of the second insulating layer 37 by a surface polishing process as described above. To provide a flat surface.
즉, 상기 표면 연마 공정은 상기 제2절연층(37)의 표면과 입도 크기가 약 1㎛ 이하인 다이아몬드 분말과의 표면 마찰 작용에 의하여 수행되며 그 결과 자기 코어의 폴 칩 구역에 해당하는 제1돌출부(32a) 상에 적층된 복수개의 층들중 일부 층을 제거하여 상기 제1자성층(34)만이 잔존하고 또한 상대적으로 높은 단차를 갖는 상기 제2돌출부(32b)는 연마되어서 상기 제1돌출부(32a)의 단차와 동일한 크기의 단차를 유지하게 된다.That is, the surface polishing process is performed by the surface friction action between the surface of the second insulating layer 37 and the diamond powder having a particle size of about 1 μm or less, and as a result, the first protrusion corresponding to the pole chip region of the magnetic core. By removing some of the plurality of layers stacked on the layer 32a, only the first magnetic layer 34 remains and the second protrusion 32b having a relatively high step is polished so that the first protrusion 32a is polished. The step size is the same as that of step.
한편, 제3도(f)를 참조하면, 상기된 바와 같이 표면 연마공정에 의하여 평탄한 표면 상태로 제공된 상기 자기 코어상에 실리콘 산화물 또는 알루미나와 같은 절연 물질을 화학 기상 증착 공정 또는 물리 기상 증착 공정에 의하여 소정 두께로 적층시켜서 평탄한 표면상태의 갭층(38)을 형성시키며, 상기 갭층(38)의 형상은 그의 일부가 건식 식각 공정 또는 습식 식각 공정에 의하여 제거됨으로서 상기 제1자성층(34)의 일부와 이 후의 공정에 의하여 형성되는 제2자성층(39)의 일부가 접촉될 수 있도록 소정 크기의 선폭으로 형성되는 쓰루홀(TH)을 구비하고 또한 자기 코어의 선단부를 통하여 노출된 갭층(38)에 의하여 소정 크기의 갭(G)을 형성하게 된다.Meanwhile, referring to FIG. 3 (f), an insulating material such as silicon oxide or alumina is applied to a chemical vapor deposition process or a physical vapor deposition process on the magnetic core provided in a flat surface state by a surface polishing process as described above. By laminating to a predetermined thickness to form a gap surface 38 of a flat surface state, the shape of the gap layer 38 is a part of the first magnetic layer 34 is removed by a part of the dry etching process or a wet etching process. The gap layer 38 is provided with a through hole TH formed with a line width of a predetermined size so that a part of the second magnetic layer 39 formed by the subsequent process can be contacted, and is exposed through the tip of the magnetic core. The gap G of a predetermined size is formed.
즉, 상기 쓰루홀(TH)은 상기 제1돌출부(32a)와 제2돌출부(32b) 사이의 홈에 적층되어서 상기 제2돌출부(32b)를 연마시킴으로서 노출된 상기 제1자성층(34)의 일부가 노출될 수 있는 위치에 형성되며 이러한 쓰루홀(TH)은 상기된 바와 같이 갭층(38)을 형성시킨 후 식각 공정에 의하여 형성될 수 있는 반면에 다른 실시예에 따르면 상기 갭층(38)을 형성시킴과 동시에 형성시킬 수 있다.That is, the through hole TH is stacked in the groove between the first protrusion 32a and the second protrusion 32b to partially expose the first magnetic layer 34 exposed by polishing the second protrusion 32b. Is formed at a position where the gap may be exposed, and the through hole TH may be formed by an etching process after forming the gap layer 38 as described above, whereas in another embodiment, the gap layer 38 is formed. It can be formed simultaneously with application.
이 후에, 쓰루홀(TH)이 형성되어 있는 상기 갭층(38)상에 망간-니켈 합금 조성 또는 니켈-아연 합금 조성의 페라이트 또는 철-니켈 합금 조성의 퍼어말로이를 스퍼터링 증착 공정과 같은 진공 증착 공정에 의하여 소정 두께로 증착시켜서 소정 형상의 제2자성층(39)을 형성시키며 이러한 제2자성층(39)의 형상은 그의 일부가 상기 갭층(38)에 형성된 쓰루홀(TH)을 통하여 상기 제1자성층(34)과 접촉되고 또한 상기 자기 코어의 선단부로부터 상기 제2돌출부(32b)까지 연장되어서 상기 갭층(38)상에 적층되어 있는 형상으로 유지되고 그 결과 상기 제2돌출부(32b)의 후방에는 상기 갭층(38)의 일부가 노출된 상태에서 상기 제2자성층(39) 및 상기 갭층(38)을 외부로부터의 물리적 또는 화학적 침해로부터 보호하기 위한 보호층(도시되어 있지 않음)을 형성한다.Subsequently, a vacuum deposition process such as a sputtering deposition process is carried out on the gap layer 38 in which the through-holes TH are formed, and a fermal alloy of a ferrite or an iron-nickel alloy composition of manganese-nickel alloy composition or nickel-zinc alloy composition. It is deposited to a predetermined thickness to form a second magnetic layer 39 of a predetermined shape, the shape of the second magnetic layer 39 is a part of the first magnetic layer through the through hole (TH) formed in the gap layer 38 And extends from the leading end of the magnetic core to the second protrusion 32b and is laminated on the gap layer 38, and consequently the rear of the second protrusion 32b. A portion of the gap layer 38 is exposed to form a protective layer (not shown) for protecting the second magnetic layer 39 and the gap layer 38 from physical or chemical intrusion from the outside.
본 발명에 따른 박막 자기 헤드는 상기 제2돌출부(32b)에 인접하여 형성된 쓰루홀(TH)을 통하여 상기 제1자성층(34) 및 제2자성층(39)이 연결되어 있는 상태에서 상기 자기 코어의 선단부에 형성된 갭(G)을 관통하는 폐자로를 구비하게 되므로 상기 자기 코어의 선단부에 도시되어 있지 않은 자기 기록 매체가 인접하는 경우에 상기 갭(G)을 통한 누설 자장에 의하여 자기 기록 매체에 정보가 기록되며 또한 자기 기록 매체에 기록된 정보가 상기 갭(G)을 통하여 읽혀진다.According to the present invention, the thin film magnetic head of the magnetic core is connected to the first magnetic layer 34 and the second magnetic layer 39 through a through hole TH formed adjacent to the second protrusion 32b. Since a closed path penetrates the gap G formed at the distal end, the magnetic recording medium is leaked by the magnetic field through the gap G when the magnetic recording medium not shown at the distal end of the magnetic core is adjacent. Is recorded and information recorded on the magnetic recording medium is read through the gap (G).
이상, 상기 내용은 본 발명의 바람직한 일실시예를 단지 예시한 것으로 본 발명의 당업자는 본 발명의 요지를 변경시킴이 없이 본 발명에 대한 수정 및 변경을 가할 수 있다.The foregoing is merely illustrative of the preferred embodiment of the present invention, and those skilled in the art can make modifications and changes to the present invention without changing the gist of the present invention.
따라서, 본 발명에 따르면, 동일한 단차를 갖는 복수개의 홈을 형성시킨 후 상기 복수개의 홈내부에 박막 도전층을 형성시킴으로서 단차에 의한 도전층의 전기적 단선을 방지시킴으로서 박막 자기 헤드의 성능 및 특성을 향상시킬 수 있다.Therefore, according to the present invention, by forming a plurality of grooves having the same step, by forming a thin film conductive layer in the plurality of grooves to prevent electrical disconnection of the conductive layer due to the step, the performance and characteristics of the thin film magnetic head are improved. You can.
Claims (13)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019960007862A KR0181088B1 (en) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | Method for fabricating a thin film head |
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| KR1019960007862A KR0181088B1 (en) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | Method for fabricating a thin film head |
Publications (2)
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| KR970067107A KR970067107A (en) | 1997-10-13 |
| KR0181088B1 true KR0181088B1 (en) | 1999-04-15 |
Family
ID=19453684
Family Applications (1)
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| KR1019960007862A KR0181088B1 (en) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | Method for fabricating a thin film head |
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-
1996
- 1996-03-22 KR KR1019960007862A patent/KR0181088B1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| KR970067107A (en) | 1997-10-13 |
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