KR0179933B1 - Device for driving a load arm of exposure apparatus - Google Patents
Device for driving a load arm of exposure apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- KR0179933B1 KR0179933B1 KR1019960044490A KR19960044490A KR0179933B1 KR 0179933 B1 KR0179933 B1 KR 0179933B1 KR 1019960044490 A KR1019960044490 A KR 1019960044490A KR 19960044490 A KR19960044490 A KR 19960044490A KR 0179933 B1 KR0179933 B1 KR 0179933B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- arm
- wafer
- gear
- motor
- rod arm
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70758—Drive means, e.g. actuators, motors for long- or short-stroke modules or fine or coarse driving
Abstract
본 발명은 반도체 노광장비의 로드암 구동장치에 관한 것으로, 종래에는 에어를 공급 또는 흡입하여 액튜에이터의 동작으로 로드암을 일정각도 회전시킴으로서, 로드암을 이용하여 웨이퍼를 이송시 에어압력이 강하면 웨이퍼의 위치 틀어짐이 발생하는 등의 문제점이 있었다. 본 발명 반도체 노광장비의 로드암 구동장치는 스템모터와, 그 스템모터의 모터축단부에 설치되는 구동기어와, 그 구동기어에 기어결합되는 종동기어와, 그 종동기어의 중앙에 설치되며 상단부에 로드암이 설치되는 회전축으로 구성되어, 종래와 같이 에어의 공급과 흡입으로 로드암을 일정각도 회전 시키던 것을 배제하고, 스텝모터의 회전에 의해 전달되는 기어의 회전에 의해 일정각도 회전시킴으로서 회전속도가 일정하여 웨이퍼의 흔들림에 따른 위치 틀어짐이 발생하는 것이 방지되는 효과가 있고, 또한 로드암을 정확한 위치로 이동하게 되어 웨이퍼를 정확한 위치로 이동할 수 있게 되는 효과가 있다.The present invention relates to an apparatus for driving a load arm of a semiconductor exposure apparatus, in which a rod arm is rotated at a predetermined angle by the operation of an actuator by supplying or sucking air, and when air pressure is high when a wafer is transferred using a rod arm, There has been a problem that positional misalignment occurs. A load arm driving apparatus for a semiconductor exposure apparatus includes a stem motor, a driving gear provided at a motor shaft end of the stem motor, a driven gear gear-coupled to the driving gear, And a rotary shaft on which the rod arm is mounted so that the rod arm is rotated by a certain angle by the supply and suction of air as in the prior art is excluded and the rotary motor is rotated at a constant angle by the rotation of the gear transmitted by the rotation of the step motor, It is possible to prevent the occurrence of the positional deviation due to the shaking of the wafer by the constant movement, and also to move the load arm to the correct position, thereby moving the wafer to the correct position.
Description
제1도는 종래 반도체 노광장비의 웨이퍼 로딩부를 개략적으로 보인 사시도.FIG. 1 is a perspective view schematically showing a wafer loading part of a conventional semiconductor exposure equipment; FIG.
제2도는 종래 노광장비의 로드암 구동장치르 보인 배관도.FIG. 2 is a piping diagram showing a load arm drive unit of the conventional exposure equipment.
제3도는 본 발명 로드암 구동장치가 구비된 반도체 노광장비의 웨이퍼 고딩부를 보인 사시도.FIG. 3 is a perspective view showing a wafer holding part of a semiconductor exposure apparatus equipped with a load arm driving apparatus according to the present invention. FIG.
제4도는 본 발명의 요부인 로드암 구동장치의 구성을 개략적으로 보인 사시도.FIG. 4 is a perspective view schematically showing a configuration of a rod-arm driving device which is a main part of the present invention. FIG.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명DESCRIPTION OF THE REFERENCE NUMERALS
17 : 로드암 21 : 스텝모터17: rod arm 21: step motor
21a: 모터축 22 : 구동기어21a: motor shaft 22: drive gear
23 : 종동기어 24 : 회전축23: driven gear 24:
25 : 보드 26 : 메인 컴퓨터25: board 26: main computer
27 : 마그네틱센서27: Magnetic sensor
본 발명은 반도체 노광(EXPOSURE)장비의 로드암(LOAD ARM) 구동장치에 관한 것으로, 특히 프리얼라인 디텍터(PREALIGN DETECTOR)에서 프리얼라인된 웨이퍼를 로드암을 이용하여 캐러셀 암(CAROUSEL ARM)으로 이동시 정확하게 이동할 수 있도록 하는데 적합한 반도체 노광장비의 로드암 구동장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a load arm driving apparatus for semiconductor EXPOSURE equipment, and more particularly, to a preloaded wafer in a PREALIGN DETECTOR by a CAROUSEL ARM using a rod arm. And more particularly, to a load arm driving apparatus of a semiconductor exposure apparatus suitable for moving the load arm of the semiconductor exposure apparatus precisely.
일반적으로 마스크(MASK)의 회로를 웨이퍼의 상면에 이식하기 위한 노광장비에는 웨이퍼의 플랫존(FLAT ZONE)을 일정방향으로 얼라인하여 장비의 내측으로 이동시키기 위한 로딩부가 설치되어 있으며, 이와 같은 노광장비의 로딩부가 제1도에 도시되어 있는 바, 이를 간단히 설명하면 다음과 같다.Generally, in an exposure apparatus for transferring a circuit of a mask (MASK) to an upper surface of a wafer, a loading unit for moving the FLAT ZONE of the wafer in a certain direction to move the apparatus to the inside of the wafer is provided. 1, which will be briefly described as follows.
제1도는 종래 반도체 노광장비의 웨이퍼 로딩부를 개략적으로 보인 사시도이고, 제2도는 종래 노광장비의 로드암 구동장치를 보인 배관도이다.FIG. 1 is a perspective view schematically showing a wafer loading part of a conventional semiconductor exposure equipment, and FIG. 2 is a piping diagram showing a load arm driving device of a conventional exposure equipment.
도시된 바와 같이, 종래에는 인풋카세트(1)와 아웃풋카세트(2)가 일정거리를두고 설치되어 있고, 그 인풋카세트(1)와 아웃풋카세트(2)의 사이에 인풋에어바(2)와 아웃풋에어바(4)가 연결설되어 있으며, 그 인풋에어 바(3)와 아웃풋에어바(4) 상에는 인풋암(5)과 아웃풋암(6)이 설치되어 있다.The input cassette 1 and the output cassette 2 are disposed at a predetermined distance from each other and the input air bar 2 and the output cassette 2 are provided between the input cassette 1 and the output cassette 2, And an input arm 5 and an output arm 6 are provided on the input air bar 3 and the output air bar 4. The input air bar 4 and the output air bar 4 are connected to each other.
그리고, 상기 인풋암(5)과 아웃풋암(6)의 전방에는 로드암(7)과 언로드암(8)이 설치되어 있고, 그 로드암(7)과 언로드암(8)의 주변에는 케러셀암(9)이 설치되어 있다.A rod arm 7 and an unloading arm 8 are provided in front of the input arm 5 and the output arm 6. Around the rod arm 7 and the unloading arm 8, And an arm 9 is provided.
또한, 상기 로드암(7)의 하부에는 제2도와 같이 액튜어이터(8)가 설치되어 있어서, 에어라인(10)과 버큠라인(11)을 통하여 에어를 공급 또는 흡입하여 솔레노이드밸브(12)를 조정함으르로서 액튜에이터(8)로 로드암(7)을 일정각도 회전시킬 수 있도록 구성되어 있다.An actuator 8 is provided at the lower portion of the rod arm 7 to supply or suck air through the air line 10 and the buffing line 11 to supply the air to the solenoid valve 12, So that the rod arm 7 can be rotated by a certain angle with the actuator 8. [
도면중 미설명 부호 13은 프리얼라인 디텍터이다.In the figure, reference numeral 13 denotes a pre-align detector.
상기와 같이 구성되어 있는 종래 반도체 노광장비의 로딩부에서 웨이퍼를 이동하는 동작을 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the operation of moving the wafer in the loading unit of the conventional semiconductor exposure apparatus will be described.
먼저, 인풋암(5)를 이용하여 다수개의 웨이퍼가 수납되어 있는 인풋카세트(1)에서 1장의 웨이퍼를 인출하여 프리얼라인 디텍테(13)로 이동시킨다. 그런 다음, 프리얼라인 디텍터(13)를 이용하여 웨이퍼의 플랫존을 맞추는 프리얼라인을 실시 한다. 이와 간이 프리얼라인된 상태에서 로드암(7)이 웨이퍼를 이동하여 케러셀암(9)으로 이동시키고, 캐러셀암(9)은 다시 웨이퍼를 웨이퍼 척의 상면으로 이동시킨다. 이와 같이 웨이퍼 척으로 이동된 웨이퍼는 웨이퍼 척이 노광장비의 내부로 이동하며 노광공정을 실시하게 되며, 노광공정을 마친 후에는 언로드암(8)과 아웃풋암(6)를 이용하여 아웃풋카세트(2)로 웨이퍼를 이동시킨다.First, one sheet of the wafer is taken out from the input cassette 1 in which a plurality of wafers are accommodated by using the input arm 5, and moved to the pre-alignment position. Then, the pre-alignment is performed to align the flat zone of the wafer with the pre-alignment detector 13. [ In this state, the rod arm 7 moves the wafer to the keracle arm 9, and the carousel arm 9 moves the wafer again to the upper surface of the wafer chuck. After the wafer chuck is moved to the wafer chuck, the wafer chuck moves to the inside of the exposure equipment and performs the exposure process. After the exposure process, the unloading arm 8 and the output arm 6 are used to move the output cassette 2 To move the wafer.
그러나, 상기 로드암(7)의 동작은 하부에 설치되는 액튜에이터(8)에 에어를 공급 또는 흡입하여 로드암(7)을 일정각도 회전시킨거나 또는 원복시키는 것으로, 공급되는 에어의 압력이 세고, 웨이퍼(W)를 약하게 흡착하였을 경우에는 회전되는 회전력에 의하여 프리얼라인된 웨이퍼(W)의 위치 틀어짐이 발생하는 문제점이 있었다. 이와 같은 위치 틀어짐이 발생한 웨이퍼(W)는 케러셀암(9)에 의해 웨이퍼척으로 이동되어 미세얼라인을 실시할시 틀어짐이 발생한 범위가 너무커서 미세얼라인을 실시할 수 없는 상태가 되고, 그 틀어짐 정도가 심할 경우에는 케러셀암(9)으로 웨이퍼(W)를 이동시 상부의 하드웨어장치에 걸려서 전달이되지 않거나 떨어지는 문제점이 있었다. 그리고, 공급되는 에러의 압력이 약할 경우에는 로드암97)이 정확한 위치로 동작되지 않는 문제점이 있었다.However, the operation of the rod arm 7 is performed by supplying or sucking air to the actuator 8 provided at the lower part to rotate or unload the rod arm 7 by a predetermined angle, When the wafer W is attracted weakly, there is a problem that positional deviation of the wafer W pre-aligned by rotating force of rotation occurs. When the wafer W having such a positional shift is moved to the wafer chuck by the wafer holder 9 and micro-aligning is performed, the range in which the wafer W is distorted is too large to perform micro-alignment, There is a problem that when the wafer W is moved by the Kerr shell arm 9, the wafer W is caught by the upper hardware device and is not transferred or dropped. When the pressure of the supplied error is weak, the load arm 97 is not operated at the correct position.
본 발명의 목적은 상기와 같은 여러 문제점을 갖지 않는 반도체 노광장비의 로드암 구동장치를 제공함에 있다.It is an object of the present invention to provide an apparatus for driving a load arm of a semiconductor exposure apparatus which does not have the above-mentioned problems.
본 발명의 다른 목적은 프리얼라인된 웨이퍼의 이송시 위치 틀어짐이 발생하는 것을 방지 하도록 하는데 적합한 반도체 노광방비의 로드암 구동장치를 제공함에 있다.It is another object of the present invention to provide a semiconductor exposure deflecting load-arm driving apparatus suitable for preventing positional deviation during transfer of a pre-aligned wafer.
본 발명의 또다른 목적은 로드암이 정확한 위치로 이동되도록 하는데 적합한 반도체 노광장비의 로드암 구동장치를 제공함에 있다.It is still another object of the present invention to provide a load arm driving apparatus of a semiconductor exposure apparatus suitable for moving a load arm to a correct position.
상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 스텝모터와, 그 스템모터의 모터축 단부에 설치되는 구동기어와, 그 구동기어에 기어결합되는 종동기어와, 그 종동기어의 중앙에 결합고정되며 단부에 로드암이 설치되는 회전축을 구비하여서 구성된 것을 특징으로 하는 반도체 노광장비의 로드암 구동장치가 제공된다.In order to achieve the object of the present invention as described above, there is provided a step motor including a step motor, a driving gear provided at an end portion of the motor shaft of the stem motor, a driven gear gear- And a rotary shaft on which a load arm is mounted.
이하, 상기와 같이 구성되는 본 발명 반도체 노광장비의 로드암 구동장치를 첨부된 도면의 실시예를 참고하여 보다 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the load arm driving apparatus of the semiconductor exposure apparatus of the present invention constructed as above will be described in more detail with reference to the embodiments of the accompanying drawings.
제3도는 본 발명 로드암 구동장치가 구비된 반도에 노고아장비의 웨이퍼 로딩부를 보인 사시도이고, 제4도는 본 발명의 요부인 로드암 구동 장치의 구성을 개략적으로 보인 사시도이다.FIG. 3 is a perspective view showing a wafer loading part of a Nogoe equipment on a peninsula equipped with a load arm driving device of the present invention, and FIG. 4 is a perspective view schematically showing a configuration of a load arm driving device which is a main part of the present invention.
도시된 바와 같이, 로드암 구동장치가 구비된 반도체 노광장비의 로딩부는 인풋카세트(11)와 아웃풋카세트(12)의 사이에 인풋에어바(13)와 아웃풋에어바(14)가 연결설치되고, 그 인풋에어바(13)와 아웃풋에어바(14) 상에는 인풋암(15)과 아웃풋암(16)이 좌, 우방향으로 이동가능하도옥 설치되며, 상기 인풋암(15)과 아웃풋암(16)의 전방에는 로드암(17)과 언로드암(18)이 설치되고, 그 로드암(17)과 언로드암(18)의 주변에는 케러셀암(19)이 설치된다.As shown in the figure, the loading unit of the semiconductor exposure apparatus equipped with the load arm driving apparatus is provided with an input air bar 13 and an output air bar 14 connected between the input cassette 11 and the output cassette 12, An input arm 15 and an output arm 16 are provided on the input air bar 13 and the output air bar 14 so as to be movable in left and right directions. A rod arm 17 and an unloading arm 18 are provided in front of the rod arm 17 and the unloading arm 18 and a keracle arm 19 is provided around the rod arm 17 and the unloading arm 18.
그리고, 상기 로드암(17)의 하부에는 제4도에 도시된 바와 같이. 스텝모터(21)와, 그 스탭모터(21)의 모터축(21a) 단부에 설치되는 구동기어(22)와, 그 구동기어(22)에 기어결합되는 종동기어(23)와, 그 종동기어(23)의 중앙에 결합고정되며 단부에 로드암(17)이 설치되는 회전축(24)을 구비하여서 구성되는 로드암 구동장치가 설치된다.As shown in FIG. 4, below the rod arm 17, A stepping motor 21, a drive gear 22 provided at the end of the motor shaft 21a of the stepping motor 21, a driven gear 23 gear-coupled to the drive gear 22, And a rotary shaft (24) fixed to the center of the rod arm (23) and provided with a rod arm (17) at an end thereof.
또한, 상기 스텝모터(21)에는 보드(25)와 메인컴퓨터(26)를 연결설치하여 로드암(17)이 일정한 속도를 가지고 정확한 위치로 동작할 수 있도록 조정이 가능하며, 상기 로드암(17)의 회전반경이 되는 양측에는 마그네틱센서(27)를 설치하여 로드암(17)의 이동상태를 감지할 수 있도록 구성된다.The step motor 21 is connected to the board 25 and the main computer 26 so that the load arm 17 can be adjusted to operate at a predetermined speed and at a predetermined speed. A magnetic sensor 27 is provided on both sides of the rotation radius of the load arm 17 so as to detect the movement state of the load arm 17. [
상기 20은 프리얼라인 디텍터이다.Reference numeral 20 denotes a pre-alignment detector.
상기와 같이 구성되는 본 고안 로드암 구동장치가 구비된 반도체 노광장비의 로딩부에서 웨이퍼를 이송하는 동작을 설명하면 다음과 같다.The operation of transferring the wafer in the loading unit of the semiconductor exposure apparatus equipped with the present designing rod arm driving apparatus will be described as follows.
먼저, 인풋암(15)를 이용하여 다수개의 웨이퍼가 수납되어 있는 인풋카세트(11)에서 1장의 웨이퍼를 인출하여 프리얼라인 디텍터(20)로 이동시킨다. 그런 다음, 프리얼라인 디텍터(20)를 이용하여 웨이퍼의 플랫존을 맞추는 프리얼라인을 실시 한다. 이와 같이 프리얼라인된 상태에서 로드암(17)이 웨이퍼를 이동하여 캐러셀암(19)으로 이동시키고, 캐러셀암(19)은 다시 웨이퍼를 웨이퍼 척의 상명으로 아동시킨다. 이와 같이 웨이퍼 척으로 이동된 웨이퍼는 웨이퍼 척이 노광장비의 내부로 이동하며 노광공정을 실시하게 되며, 노광공정을 마친 후에는 언로드암(18)과 아웃풋암(16)를 이용하여 아웃풋카세트(12)로 웨이퍼를 이동시킨다.First, one sheet of the wafer is taken out from the input cassette 11 in which a plurality of wafers are stored by using the input arm 15, and is moved to the pre-alignment detector 20. [ Then, prealigning is performed to align the flat zone of the wafer by using the prealign detector 20. In this state, the load arm 17 moves the wafer to the carousel arm 19 in the pre-aligned state, and the carousel arm 19 again makes the wafer child of the wafer chuck. After the wafer chuck is moved to the wafer chuck, the wafer chuck moves to the inside of the exposure equipment and performs the exposure process. After the exposure process, the unloading arm 18 and the output arm 16 are used to move the output cassette 12 To move the wafer.
여기서, 본 발명은 상기 로드암(17)을 이용하여 웨이퍼를 이동시 스탭모터(21)를 정회전시키고, 그 스텝모터(21)의 회전에 따라 스탭모터(21)의 단부에 설치된 구동기어(22)를 회전시키며, 그 구동기어(22)에 기어결합된 종동기어(23)를 회전시키면, 그 종동기어(23)의 중앙에 연결설치되며 단부에 로드암(17)이 설치된 회전축(24)을 일정각도 회전시키게 된다. 이때 상기 스템모터(21)에 연결설치된 보드(25)와 메인컴퓨터(26)에 의해 로드암(17)이 적당한 위치에 적당한속도로 이동하도록 조절된다. 또한, 상기 로드암(17)이 회전되는 양단부에 설치되어 있는마그네틱센서(27)에서 로드암(17)의 정확한 위치를 감지하게 된다. 상기 로드암(17)을 원복시킬 경우에는 스템모터(21)를역회전시키면 된다.The step motor 21 rotates the step motor 21 when the wafer is moved using the rod arm 17 and the drive gear 22 provided at the end of the step motor 21 And a rotary shaft 24 connected to the center of the driven gear 23 and provided with a rod arm 17 at an end thereof is rotated by rotating the driven gear 23 gear- And rotated at a predetermined angle. At this time, the rod arm 17 is adjusted by the board 25 and the main computer 26 connected to the stem motor 21 to move at an appropriate position at a proper speed. In addition, the magnetic sensor 27 installed at both ends of the rod arm 17 detects the exact position of the rod arm 17. When the rod arm 17 is to be unfolded, the stem motor 21 may be rotated.
이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명 반도체 노광장비의 로드암 구동장치는 스탭모터와, 그 스탭모터의 모터축 단부에 설치되는구동기어와, 그 구동기어에 기어결합되는 종동기어와, 그 종동기어의 중앙에 설치되며 상단부에 로드암이 설치되는 회전축으로 구성되어, 종래와 같이 에어의 공금과 흡입으로 로드암을 일정각도 회전시키던 것을 배제하고, 스탭모터의 회전에 의해 전달되는 기어의 회전에 의해 일정각도 회전시킴으로서 회전속도가 일정하여 웨이퍼의 흔들림에 정확한 위치로 이동하게 되어 웨이퍼를 정확한 위치로 이동할 수 있게 되는 효과가 있다.As described in detail above, the load arm driving apparatus of the semiconductor exposure apparatus according to the present invention comprises a step motor, a driving gear provided at an end portion of the motor shaft of the step motor, a driven gear gear-connected to the driving gear, And a rotary shaft having a rod arm at the upper end thereof. The rod arm is rotated at a predetermined angle by the air supply and suction of the air as in the prior art, and the rotation of the gear, which is transmitted by the rotation of the step motor, By rotating the wafer at an angle, the wafer can be moved to the correct position because the wafer is moved to the correct position due to the constant rotation speed.
Claims (3)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019960044490A KR0179933B1 (en) | 1996-10-08 | 1996-10-08 | Device for driving a load arm of exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019960044490A KR0179933B1 (en) | 1996-10-08 | 1996-10-08 | Device for driving a load arm of exposure apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR19980026147A KR19980026147A (en) | 1998-07-15 |
KR0179933B1 true KR0179933B1 (en) | 1999-04-01 |
Family
ID=19476573
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019960044490A KR0179933B1 (en) | 1996-10-08 | 1996-10-08 | Device for driving a load arm of exposure apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR0179933B1 (en) |
-
1996
- 1996-10-08 KR KR1019960044490A patent/KR0179933B1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR19980026147A (en) | 1998-07-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100551220B1 (en) | Substrate transfer apparatus and substrate processing apparatus | |
JP2005177976A (en) | Robot arm device | |
JPH03273663A (en) | Substrate holder | |
CN115552583A (en) | Wafer conveying device and wafer conveying method | |
KR0179933B1 (en) | Device for driving a load arm of exposure apparatus | |
US5277539A (en) | Substrate conveying apparatus | |
JP3960162B2 (en) | Substrate transfer apparatus, substrate processing system, and substrate transfer method | |
JPH07263394A (en) | Substrate edge processor | |
KR19990014227A (en) | Transfer device and processing device having a plurality of conveying belts | |
US20020141850A1 (en) | Semiconductor fabrication apparatus, pod carry apparatus, pod carry method, and semiconductor device production method | |
US5226523A (en) | Conveying apparatus and method of controlling the same | |
JPH09213770A (en) | Semiconductor wafer processor and alignment method in semiconductor wafer processor | |
JP4294172B2 (en) | Load lock device and wafer transfer system | |
KR200173017Y1 (en) | Wafer transporting unit | |
JPH0584059B2 (en) | ||
JPH0582625A (en) | Wafer carrier | |
KR200169678Y1 (en) | Centering apparatus semiconductor exposure and developing track interface unload wafer | |
EP0420551B1 (en) | Conveying apparatus | |
CN116435239B (en) | Material box bearing platform, control method and semiconductor device | |
JP2003133275A (en) | Centering and cleaning mechanism for processing apparatus and grinding apparatus equipped with centering and cleaning mechanism | |
JPH06263219A (en) | Carrying device | |
JP2627796B2 (en) | Semiconductor manufacturing equipment | |
KR20010058704A (en) | Apparatus integrating prealign module with manual module for semiconductor wafer | |
KR200249359Y1 (en) | Wafer holder of stepper | |
KR100666470B1 (en) | Wafer exposing apparatus with orienter |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20081027 Year of fee payment: 11 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |