KR0152709B1 - Optical attenuator based on quarter wave plates - Google Patents

Optical attenuator based on quarter wave plates

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KR0152709B1
KR0152709B1 KR1019950054544A KR19950054544A KR0152709B1 KR 0152709 B1 KR0152709 B1 KR 0152709B1 KR 1019950054544 A KR1019950054544 A KR 1019950054544A KR 19950054544 A KR19950054544 A KR 19950054544A KR 0152709 B1 KR0152709 B1 KR 0152709B1
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현경숙
권오균
이일항
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양승택
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    • G02F3/00Optical logic elements; Optical bistable devices

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Abstract

본 발명은 투과광의 파장의 4분의 1의 두께를 가지는 적층거울을 이용한 광 강도 조절기에 관한 것으로서, 그 특징은 광 강도 조절기에 있어서, 빛을 이용한 정보 처리 장치에서 주어진 파장에 대해 투명하며 서로 다른 굴절율을 갖는 두 물질을 각각 그 물질 안에서 빛이 90도의 위상변화를 보이는 두께 즉, 빛이 사분의 일 파장 전진하는 거리만큼씩 교대로 쌓은 구조를 광창문의 앞에 배치하여 각 광창문마다 이 구조의 층의 수를 변화시켜 줌으로써 각 광창문에 입사되는 광 강도를 조절하는 것을 특징으로 하는 데에 있으므로, 본 발명은 첫째로 적층거울의 물리적 성질이 잘 알려져 있고 이를 쌓는 기술도 보편화되어 있으므로 정확하게 원하는 투과율(transmittance)을 얻을 수 있고, 둘째로 이 적층거울의 투과율과 반사율(reflectance)의 합이 늘 일정하므로 소자가 완성된 뒤에도 언제든지 반사율을 측정함으로써 비파괴적으로 투과율을 측정할 수 있으며, 셋째로 정보를 가진 빛의 일부가 반사되어 나오므로 이를 이용한 구도를 추가할 수 있고, 네째로 빛을 흡수하지 않으므로 흡수체를 쓴 경우에 비해 전체적인 열의 발생을 줄일 수 있다는 데에 그 효과가 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light intensity controller using a laminated mirror having a thickness of one quarter of the wavelength of transmitted light. The present invention is characterized in that the light intensity controller is transparent and different for a given wavelength in an information processing apparatus using light. The two layers of refractive index are placed in front of the photowindow in front of the photowindow by arranging alternating structures in the material by the thickness of which the light changes phase by 90 degrees, that is, the distance the light advances by a quarter of a wavelength. The present invention is characterized by adjusting the light intensity incident to each light window by changing the number of, the first of the present invention is well known the physical properties of the laminated mirror and the stacking technique is also common, so that exactly the desired transmittance ( transmittance), and secondly, the sum of transmittance and reflectance of this laminated mirror is always constant. Transmittance can be measured non-destructively by measuring the reflectance at any time even after the device is completed. Third, since a part of the information light is reflected, it is possible to add composition by using it. The effect is that the overall heat generation can be reduced compared to the case of using.

Description

적층거울을 이용한 광 강도 조절기 (Optical attenuator based on quarter wave plates)Optical attenuator based on quarter wave plates

제1도는 본 발명에 따라 적층거울로 된 광 감쇄기가 각 광창문에 설치된 단면도.1 is a cross-sectional view in which a light attenuator made of a laminated mirror is installed in each light window according to the present invention.

제2도는 파장 850nm에서 AlAs/Al0.7Ga0.3As 구조의 적층거울의 적층수(두께)에 따른 투과율을 나타낸 도면.2 is a graph showing the transmittance according to the number of layers (thickness) of the laminated mirror having an AlAs / Al 0.7 Ga 0.3 As structure at a wavelength of 850 nm.

제3도는 파장 850nm에서 AlAs/Al0.5Ga0.5As 구조의 적층거울의 적층수(두께)에 따른 투과율을 나타낸 도면.3 is a diagram showing the transmittance according to the number of layers (thickness) of a laminated mirror having an AlAs / Al 0.5 Ga 0.5 As structure at a wavelength of 850 nm.

제4도는 파장 850nm에서 AlAs/Al0.3Ga0.7As 구조의 적층거울의 적층수(두께)에 따른 투과율을 나타낸 도면.4 is a graph showing the transmittance according to the number of layers (thickness) of the laminated mirror having an AlAs / Al 0.3 Ga 0.7 As structure at a wavelength of 850 nm.

제5도는 파장 850nm에서 AlAs/Al0.1Ga0.9As 구조의 적층거울의 적층수(두께)에 따른 투과율을 나타낸 도면.5 is a diagram showing the transmittance according to the number of layers (thickness) of the laminated mirror having an AlAs / Al 0.1 Ga 0.9 As structure at a wavelength of 850 nm.

제6도는 파장 850nm에서 GaAs를 흡수층으로 사용했을 때의 두께에 따른 투과율을 나타낸 도면.6 is a graph showing the transmittance according to the thickness when GaAs is used as the absorbing layer at a wavelength of 850 nm.

본 발명은 적층거울을 이용한 광 강도 조절기에 관한 것으로서, 특히 투과광의 파장의 4분의 1의 두께를 가지는 적층거울을 이용한 광 강도 조절기에 관한 것이다.The present invention relates to a light intensity controller using a laminated mirror, and more particularly, to a light intensity controller using a laminated mirror having a thickness of one quarter of the wavelength of transmitted light.

일반적으로, 고집적 실리콘 회로를 기반으로 한 전자를 이용한 정보 처리 기술은 눈부신 성장을 계속해 왔으며 또한 그 집적도는 당분간 계속 향상되어갈 것이 예상된다.In general, information processing technology using electrons based on highly integrated silicon circuits has continued to grow remarkably, and its density is expected to continue to improve for the time being.

그러나 한편으로 이러한 전자를 이용한 기술의 예견되어지는 한계를 뛰어넘기 위해 광을 이용한 정보 처리 기술이 계속 논의되어 왔으며 일부는 실용화 단계에 이르렀다.However, on the other hand, information processing technology using light has been continuously discussed to overcome the foreseeable limitations of the technology using electronics, and some have reached the practical stage.

광 기술의 가장 큰 장점은 정보의 대용량 고집적 병렬 처리에 있고 이미 여러 광논리 구도가 제시되었다.The biggest advantage of optical technology is the large amount of highly integrated parallel processing of information, and several optical logic schemes have already been proposed.

즉 이차원에 수많은 광 논리 소자가 배치되어 각각 동시에 광 신호 형태의 정보를 받아 처리하는 것이다.In other words, a number of optical logic elements are arranged in two dimensions, each receiving and processing information in the form of optical signals.

그런데, 이를 위해서는 경우에 따라 각 광논리 소자의 광 창문에 들어오는 광 강도를 적절히 조절할 필요가 있다(참고 문헌 : A. L. Lentine, D. A. B. Miller, J. E. Henry, J. E. Cunningham, L. M. F. Chirovsky,and L. A. D'Asaro, Optical logic using electrically connected quantum well PIN diode modulators and detectors, Applied Physics Vol. 29, No. 14, PP. 2153-2163(1990)).For this purpose, however, it is necessary to appropriately adjust the light intensity entering the optical window of each optical logic element (Reference literature: AL Lentine, DAB Miller, JE Henry, JE Cunningham, LMF Chirovsky, and LA D'Asaro, Optical). logic using electrically connected quantum well PIN diode modulators and detectors, Applied Physics Vol. 29, No. 14, pp. 2153-2163 (1990)).

이러한 구조는 통상 최근에 급격하게 발전하고 있는 MBE(molecular beam epitaxy)나 MOCVD(Metallorganic Chemical Vapor Epitaxy) 등을 이용해 III-V족 화합물 반도체의 에피택시(epitaxy)를 통하여 성장된다.Such a structure is usually grown through epitaxy of a group III-V compound semiconductor using molecular beam epitaxy (MBE), metalorganic chemical vapor epitaxy (MOCVD), and the like, which have recently been rapidly developed.

이 경우, 광 강도 조절을 위하여 사용되는 파장의 빛을 흡수하는 물질을 쌓은 뒤에 그 두께를 조절함으로써 통과되는 광 강도를 조절하는 광 흡수체를 사용하는 구도가 제시되어 있다.In this case, the composition using the light absorber which adjusts the light intensity passing by stacking the material which absorbs the light of the wavelength used for light intensity control by adjusting the thickness is proposed.

지금까지의 광 정보 처리 구조에서의 각 광 창문의 광 강도의 감쇄를 위해 제안된 구도는 알맞은 두께의 광 흡수체를 각 광창문에 설치하는 것이다.The proposed composition for attenuation of the light intensity of each light window in the conventional light information processing structure is to install a light absorber of a suitable thickness in each light window.

그러나, 첫째로 현실적으로 흡수체의 두께는 성장과 식각의 두 단계에 의해 결정되는데, 이 때 비파괴적으로 두께를 조사하기가 거의 불가능하며 또한 파괴적인 방법을 사용하더라도 특정 광창문에서의 두께 조사가 대단히 어렵다는 문제점이 있었다.First, however, in reality, the thickness of the absorber is determined by two stages of growth and etching, where it is almost impossible to investigate the thickness nondestructively, and it is very difficult to investigate the thickness of a specific light window even by using a destructive method. There was a problem.

둘째로 광 흡수체의 두께를 알게 된 경우에도 광 강도의 감쇄는 계산을 통하여 산출될뿐 직접 측정되지 않는다는 문제점이 있었다.Second, even when the thickness of the light absorber is known, the attenuation of the light intensity is calculated through calculation and is not directly measured.

셋째로 빛을 흡수하여 열로 변화시키므로 전체적인 열 발생의 문제를 초래한다는 문제점이 있었다.Third, there is a problem that causes the problem of heat generation because it absorbs light and changes it into heat.

광 흡수체를 이용한 구도가 제시되어있으나 실제 적용시 그 투과율을 측정하기 곤란한 등의 문제점도 있었다.Although the composition using the light absorber has been proposed, there are also problems such as difficulty in measuring the transmittance in actual application.

이 경우에 이 차원으로 배열된 마이크로미터 단위의 광창문(optical window)들마다 각각 독립적인 많은 빛이 들어가게 되는데 경우에 따라 특정 광창문들에 들어가는 광 강도(light intensity)를 다른 광창문들에 들어가는 광 강도에 비해 일정한 비율로 줄여줄 필요가 있다.In this case, each of the micrometer-sized optical windows arranged in this dimension enters a lot of independent light. In some cases, the light intensity that enters specific light windows enters other light windows. It needs to be reduced in proportion to the light intensity.

본 발명에서는 빛을 전혀 흡수하지 않으며 굴절율이 서로 다른 두 물질을 사분의 일 파장 두께로 교대로 쌓은 적층거울을 알맞는 두께로 각 광창문에 설치하는 구도를 이용하여 흡수층을 이용한 감쇄기 구도의 문제점들을 완화 내지는 제거하고자한다.The present invention solves the problems of attenuator composition using an absorbing layer by using a composition installed on each light window at a thickness suitable for stacking mirrors that alternately stack two materials having different refractive indices and having different refractive indices. I want to relax or eliminate.

그래서, 상기 문제점들을 해결하기 위한 본 발명은 빛을 이용한 정보 처리 장치에서 주어진 파장에 대해 투명하며 서로 다른 굴절율을 갖는 두 물질을 각각 그 물질 안에서 빛이 90도의 위상변화를 보이는 두께 즉, 빛이 사분의 일 파장 전진하는 거리만큼씩 교대로 쌓은 구조를 광창문의 앞에 배치하여 각 광창문마다 이 구조의 층의 수를 변화시켜 줌으로써 광창문에 입사되는 광 강도를 조절하는, 적층거울을 이용한 광 강도 조절기를 제공함에 그 목적이 있다.Therefore, in order to solve the above problems, the present invention provides two materials having a different refractive index and transparent to a given wavelength in an information processing apparatus using light, each of which has a 90 degree phase change in light, that is, light Light intensity regulator using laminated mirrors that adjust the intensity of light incident on the light window by arranging alternately stacked structures in front of the light windows by varying the distance of one wavelength advance by changing the number of layers of each structure. The purpose is to provide.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징은 광 강도 조절기에 있어서, 빛을 이용한 정보 처리 장치에서 주어진 파장에 대해 투명하며 서로 다른 굴절율을 갖는 두 물질을 각각 그 물질 안에서 빛이 90도의 위상변화를 보이는 두께 즉, 빛이 사분의 일 파장 전진하는 거리만큼씩 교대로 쌓은 구조를 광창문의 앞에 배치하여 각 광창문마다 이 구조의 층의 수를 변화시켜 줌으로써 각 광창문에 입사되는 광 강도를 조절하는 것을 특징으로 하는 데에 있다.A feature of the present invention for achieving the above object is a light intensity controller, in the information processing apparatus using light, two materials having a different refractive index and transparent to a given wavelength, each of which shows a phase change of 90 degrees in the material By adjusting the thickness, that is, by arranging alternating structures in front of the light windows by the distance that the light advances by one quarter, changing the number of layers of each light window, it is possible to adjust the light intensity incident to each light window. It is to feature.

종래에는 광 흡수체를 사용하여 광의 세기를 조절하고 있으나 본 발명에서는 광의 흡수가 전혀 일어나지 않는 적층거울 구조를 이용하여 광의 세기를 조절한다.Conventionally, the light intensity is adjusted using a light absorber, but in the present invention, the light intensity is controlled by using a laminated mirror structure in which no light absorption occurs.

즉, 본 발명에서는 흡수체 대신 이종적층 구조를 적층거울을 광 강도 조절용 감쇄기로 사용하는 구도를 제시한다.That is, the present invention proposes a composition in which a heterogeneous laminated structure is used as a light attenuation attenuator instead of an absorber.

빛을 전혀 흡수하지 않으며 굴절율이 서로 다른 두 물질을 사분의 일 파장 두께로 교대로 쌓은 형태인 소위 적층거울을 알맞는 두께로 각 광창문에 설치하는 구도를 제안한다.It proposes a composition to install so-called laminated mirrors in each light window, which absorbs no light at all, and so-called stacked mirrors, in which two materials having different refractive indices are alternately stacked in a quarter wavelength thickness.

즉 지금까지 빛의 반사를 목적으로 사용해오던 적층거울을 투과용의 빛 감쇄기로 사용하는 것이다.In other words, the laminated mirror, which has been used for the purpose of reflecting light, is used as a light attenuator for transmission.

대량의 병렬형 광 정보 처리 장치에 필요한 수 마이크로미터 크기의 각 광창문에 입사되는 광 강도의 효율적인 조절을 설명한다.An efficient adjustment of the light intensity incident on each of the light windows of several micrometers required for a large amount of parallel optical information processing apparatus will be described.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시예들중의 하나를 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail one of the preferred embodiments according to the present invention.

제1도는 본 발명에 따라 적층거울로 된 광 감쇄기가 각 광창문에 설치된 단면도이다.1 is a cross-sectional view in which a light attenuator made of a laminated mirror is installed in each light window according to the present invention.

제1도를 참조하여 본 발명에 따라 적층거울로 된 광 감쇄기가 각 광창문에 설치된 단면에 관하여 설명하면 다음과 같다.Referring to Fig. 1, a cross-sectional view of a light attenuator made of a laminated mirror according to the present invention will be described as follows.

여기에서 정보를 실은 빛이 광 소자의 광창문에 도달하기 전에 각 광창문마다 적절한 투과율을 주는 적층거울 구조들을 통과함으로써 각 광 강도가 의도된 대로 조절된다.Here, each light intensity is adjusted as intended by passing through laminated mirror structures that give an appropriate transmittance for each light window before the light carrying the information reaches the light window of the optical device.

이러한 적층거울은 주어진 파장에 대해 투명하며 서로 다른 굴절율을 갖는 두 물질을 각각 그 물질 안에서 빛이 90도의 위상변화를 보이는 두께 즉, 빛이 사분의 일 파장 전진하는 거리만큼씩 교대로 쌓은 구조이다.This laminated mirror is a structure in which two materials having a different refractive index and transparent for a given wavelength are alternately stacked in the material by a thickness of 90 degrees, that is, a distance in which the light advances one quarter of a wavelength.

이는 MBE 혹은 MOCVD 등의 에피택시 장비를 이용해 전 부분에 균일하게 쌓은 뒤에 각 광창문 마다에 대해 산(acid)으로 부식시키거나(wet etching) RIE 등의 잘 확립된 적절한 식각 방법을 이용하여 원하는 두께만 남겨 놓는다.It can be uniformly stacked on the entire area using epitaxy equipment such as MBE or MOCVD, and then wetted by acid for each window, or the desired thickness using well-established etching methods such as RIE. Only leave

이러한 적층거울 구조의 역할을 설명하기 위하여 파장이 850nm인 광신호가 사용되는 경우를 가정하자.In order to explain the role of the stacked mirror structure, it is assumed that an optical signal having a wavelength of 850 nm is used.

이 파장대에서는 AlAs/AlxGal-xAs의 적층거울 구조가 적절하다.In this wavelength band, a laminated mirror structure of AlAs / Al x Ga lx As is appropriate.

(1)은 주어진 파장에 대해 투명하며 서로 다른 굴절율을 갖는 두 물질을 각각 그 물질을 각각 그 물질 안에서 빛이 90도의 위상변화를 보이는 두께 즉, 빛이 사분의 일 파장 전진하는 거리만큼씩 교대로 쌓은 구조로 적층거울의 기본 단위이다.(1) alternates two materials that are transparent for a given wavelength and have different refractive indices, each one by the thickness of which the light has a phase shift of 90 degrees within it, that is, the distance the light advances one quarter of the wavelength. Stacked structure, the basic unit of laminated mirrors.

(2)부분에서는 적층거울이 완전히 제거되어 있다.In (2), the laminated mirror is completely removed.

(3)부분들에서는 적층거울을 부분적으로 제거하여 층 수를 줄임으로써 원하는 투과율을 얻는다.In parts (3), the desired transmittance is obtained by partially removing the laminated mirror to reduce the number of layers.

(4)는 각 광창문을 향한 광 신호이다.(4) is an optical signal directed to each light window.

(5)는 각 광창문을 통해 들어오는 광 신호의 수신부이다.Denoted at 5 is an optical signal receiver through each optical window.

(6)은 각 광 창문마다 적절한 투과율을 주는 적층거울 구조들이다.(6) are laminated mirror structures which give an appropriate transmittance for each light window.

제2도에서 제5도까지는 이 구조의 x 값을 각각 0.7에서 0.1까지 0.2 간격으로 변화시키며 계산한 거울 두께에 따른 투과율을 보여준다. 이 계산의 근거되는 원리 및 방법은 다음의 참고 문헌에 잘 설명되어있다.2 to 5 show the transmittance according to the calculated mirror thickness by varying the x value of this structure from 0.2 to 0.7, respectively, at intervals of 0.2. The principles and methods on which this calculation is based are explained in the following references.

H. A. Macleod, Thin-film Optical Filters, 2nd ed., Adam Hilger Ltd, Bristol, 1986.H. A. Macleod, Thin-film Optical Filters, 2nd ed., Adam Hilger Ltd, Bristol, 1986.

이 물질들은 주어진 파장의 빛을 전혀 흡수하지 않으므로 반사율은 각 경우의 투과율을 1에서 뺀 값이된다.These materials do not absorb light at any given wavelength, so the reflectance is the subtraction of the transmission in each case.

제2도는 파장 850nm에서 AlAs/Al0.7Ga0.3As 구조의 적층거울의 적층수(두께)에 따른 투과율을 나타낸 도면이다.2 is a diagram showing the transmittance according to the number of layers (thickness) of the laminated mirror having the AlAs / Al 0.7 Ga 0.3 As structure at a wavelength of 850 nm.

제2도를 참조하여 파장 850nm에서 AlAs/Al0.7Ga0.3As 구조의 적층거울의 적층수(두께)에 따른 투과율에 관하여 설명하면 다음과 같다.Referring to FIG. 2, the transmittance according to the number of layers (thickness) of the laminated mirror having the AlAs / Al 0.7 Ga 0.3 As structure at a wavelength of 850 nm is described as follows.

x=0.7인 경우에 적층이 약 12쌍일 때의 투과율이 거의 1에 가깝게 되며 이로부터 적층 수가 줄거나 늘어남에 따라 투과율이 서서히 감소하는 것을 알 수 있다.In the case of x = 0.7, the transmittance when the stack is about 12 pairs is almost close to 1, and it can be seen that the transmittance gradually decreases as the number of stacks decreases or increases.

이 경우에 적층을 이루는 두 물질들은 모두 비교적 에너지 갭이 크다.In this case, both materials forming the stack have a relatively large energy gap.

제3도는 파장 850nm에서 AlAs/Al0.5Ga0.5As 구조의 적층거울의 적층수(두께)에 따른 투과율을 나타낸 도면이다.3 is a graph showing the transmittance according to the number of layers (thickness) of the laminated mirror having the AlAs / Al 0.5 Ga 0.5 As structure at a wavelength of 850 nm.

제3도를 참조하여 파장 850nm에서 AlAs/Al0.5Ga0.5As 구조의 적층거울의 적층수(두께)에 따른 투과율에 관하여 설명하면 다음과 같다.Referring to FIG. 3, the transmittance according to the number of layers (thickness) of the laminated mirror having the AlAs / Al 0.5 Ga 0.5 As structure at a wavelength of 850 nm is described as follows.

x=0.5인 경우에 적층이 약 7쌍일 때의 투과율이 거의 1에 가깝게 되며 이로부터 적층 수가 줄거나 늘어남에 따라 투과율이 서서히 감소하는 것을 알 수 있다.In the case of x = 0.5, the transmittance when the stack is about 7 pairs is almost 1, and it can be seen that the transmittance gradually decreases as the number of stacks decreases or increases.

이 경우에 적층을 이루는 두 물질들은 모두 에너지 갭이 x=0.7일 때보다는 작다.In this case, both materials forming the stack are smaller than when the energy gap is x = 0.7.

제4도는 파장 850nm에서 AlAs/Al0.3Ga0.7As 구조의 적층거울의 적층수(두께)에 따른 투과율을 나타낸 도면이다.4 is a graph showing the transmittance according to the number of layers (thickness) of the laminated mirror having an AlAs / Al 0.3 Ga 0.7 As structure at a wavelength of 850 nm.

제4도를 참조하여 파장 850nm에서 AlAs/Al0.3Ga0.7As 구조의 적층거울의 적층수(두께)에 따른 투과율에 관하여 설명하면 다음과 같다.Referring to FIG. 4, the transmittance according to the number of layers (thickness) of the laminated mirror having the AlAs / Al 0.3 Ga 0.7 As structure at a wavelength of 850 nm is described as follows.

x=0.3인 경우에 적층이 약 5쌍일 때의 투과율이 거의 1에 가깝게 되며 이로부터 적층 수가 줄거나 늘어남에 따라 투과율이 서서히 감소하는 것을 알 수 있다.In the case of x = 0.3, when the stack is about 5 pairs, the transmittance is almost 1, and it can be seen that the transmittance gradually decreases as the number of stacks decreases or increases.

이 경우에 적층을 이루는 두 물질들은 모두 에너지 갭이 x=0.5일 때보다는 작다.In this case both layers of the stack are smaller than when the energy gap is x = 0.5.

제5도는 파장 850nm에서 AlAs/Al0.1Ga0.5As 구조의 적층거울의 적층수(두께)에 따른 투과율을 나타낸 도면이다.FIG. 5 is a graph showing the transmittance according to the number of layers (thickness) of the laminated mirror having the AlAs / Al 0.1 Ga 0.5 As structure at a wavelength of 850 nm.

제5도를 참조하여 파장 850nm에서 AlAs/Al0.1Ga0.9As 구조의 적층거울의 적층수(두께)에 따른 투과율에 관하여 설명하면 다음과 같다.Referring to FIG. 5, the transmittance according to the number of layers (thickness) of the laminated mirror having the AlAs / Al 0.1 Ga 0.9 As structure at a wavelength of 850 nm is described as follows.

x=0.1인 경우에 적층이 약 4쌍일 때의 투과율이 거의 1에 가깝게 되며 이로부터 적층 수가 줄거나 늘어남에 따라 투과율이 서서히 감소하는 것을 알 수 있다.In the case of x = 0.1, the transmittance when the stack is about 4 pairs is almost 1, and it can be seen that the transmittance gradually decreases as the number of stacks decreases or increases.

이 경우에 적층을 이루는 두 물질들은 모두 에너지 갭이 x=0.3일 때보다는 작다.In this case, both materials forming the stack are smaller than when the energy gap is x = 0.3.

제6도는 파장 850nm에서 GaAs를 흡수층으로 사용했을 때의 두께에 따른 투과율을 나타낸 도면이다.6 is a diagram showing the transmittance according to the thickness when using GaAs as an absorbing layer at a wavelength of 850 nm.

제6도를 참조하여 파장 850nm에서 GaAs를 흡수층으로 사용했을 때의 두께에 따른 투과율에 관하여 설명하면 다음과 같다.Referring to FIG. 6, the transmittance according to thickness when GaAs is used as an absorbing layer at a wavelength of 850 nm is described as follows.

이는 흡수계수(absorption coefficient)가 17000/cm인 물질을 이용하여 흡수층을 구성했을 때의 투과율의 흡수층 두께에 다른 변화이다.This is another change in the absorption layer thickness of the transmittance when the absorption layer is formed by using a material having an absorption coefficient of 17000 / cm.

어느 두 광창문의 광 강도 감쇄비율을 특정하게 정할 때에 각 흡수층 사이의 두께의 차이는 제5도와 제6도를 비교하여 보면 거의 같다는 것을 알 수 있다.When the light intensity attenuation ratios of the two light windows are specifically determined, it can be seen that the difference in thickness between the respective absorbing layers is almost the same when comparing FIG. 5 and FIG.

본 발명의 응용 분야로는 빛을 이용한 정보 처리의 장점으로 대량의 병렬 처리(massive parallel processing)를 들 수 있다.Application fields of the present invention include massive parallel processing as an advantage of information processing using light.

그러므로, 상술한 바와 같은 본 발명은 첫째로 적층거울의 물리적 성질이 잘 알려져 있고 이를 쌓는 기술도 보편화되어 있으므로 정확하게 원하는 투과율(transmittance)을 얻을 수 있고, 둘째로 이 적층거울의 투과율과 반사율(reflectance)의 합이 늘 일정하므로 소자가 완성된 뒤에도 언제든지 반사율을 측정함으로써 비파괴적으로 투과율을 측정할 수 있으며, 셋째로 정보를 가진 빛의 일부가 반사되어 나오므로 이를 이용한 구도를 추가할 수 있고, 네째로 빛을 흡수하지 않으므로 흡수체를 쓴 경우에 비해 전체적인 열의 발생을 줄일 수 있다는 데에 그 효과가 있다.Therefore, in the present invention as described above, first, the physical properties of the laminated mirror are well known, and the technique of stacking them is widely used, and thus, the desired transmittance can be accurately obtained. Second, the transmittance and reflectance of the laminated mirror are obtained. Since the sum is always constant, the transmittance can be measured non-destructively by measuring the reflectance at any time after the device is completed. Third, since a part of the information light is reflected, the composition using this can be added. Since it does not absorb light, the effect is that the overall heat generation can be reduced compared to the case of using an absorber.

Claims (1)

광 강도 조절기에 있어서, 빛을 이용한 정보 처리 장치에서 주어진 파장에 대해 투명하며 서로 다른 굴절율을 갖는 두 물질을 각각 그 물질 안에서 빛이 90도의 위상변화를 보이는 두께 즉, 빛이 사분의 일 파장 전진하는 거리만큼씩 교대로 쌓은 구조를 광창문의 앞에 배치하여 각 광창문마다 이 구조의 층의 수룰 변화시켜 줌으로써 각 광창문에 입사되는 광 강도를 조절하는 것을 특징으로 하는 적층거울을 이용한 광 강도 조절기.In the light intensity controller, two materials having a different refractive index and transparent to a given wavelength in an information processing device using light, each having a thickness of 90 degree phase change in the material, that is, the light advances a quarter wavelength A light intensity controller using a laminated mirror, characterized in that by arranging the structure alternately stacked by the distance in front of the light window to change the number of layers of this structure for each light window to adjust the light intensity incident to each light window.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN110703384A (en) * 2019-10-09 2020-01-17 蚌埠学院 Data processing method of continuously adjustable optical attenuator

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