KR0139337Y1 - Multibeam tube - Google Patents

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KR0139337Y1
KR0139337Y1 KR2019950002445U KR19950002445U KR0139337Y1 KR 0139337 Y1 KR0139337 Y1 KR 0139337Y1 KR 2019950002445 U KR2019950002445 U KR 2019950002445U KR 19950002445 U KR19950002445 U KR 19950002445U KR 0139337 Y1 KR0139337 Y1 KR 0139337Y1
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Abstract

본고안은 멀티빔 진공관에 관한 것으로, 특히 컬렉터 플레이트에 ㄷ자 형상의 공동을 형성하여 전자빔의 반사를 방지함으로써 제품의 효율을 상승시킬 수 있고 제품의 성능을 양호하게 할 수 있는 매우 뛰어난 효과가 있다. 또한 전자빔이 입사되는 컬렉터 플레이트의 전자빔 충돌면과 열을 방출하는 방열 플레이트의 거리를 짧게 형성 시킴으로써 컬렉터 플레이트가 과열되는 것을 방지할 수 있어서 제품의 성능을 양호하게 유지할 수 있는 매우 뛰어난 효과가 있다.The present invention relates to a multi-beam vacuum tube, in particular, by forming a U-shaped cavity in the collector plate to prevent the reflection of the electron beam can increase the efficiency of the product and has a very excellent effect of improving the performance of the product. In addition, it is possible to prevent the collector plate from overheating by forming a short distance between the electron beam impingement surface of the collector plate to which the electron beam is incident and the heat dissipation plate that emits heat, thereby maintaining a good performance of the product.

Description

멀티빔 진공관Multi Beam Vacuum Tube

제1도는 본고안의 일실시예에 의한 멀티빔 진공관의 단면도.1 is a cross-sectional view of a multi-beam vacuum tube according to an embodiment of the present invention.

제2도는 제1도의 A-A선 단면도.2 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG.

제3도는 종래 기술에 의한 멀티빔 진공관의 단면도.3 is a cross-sectional view of a multi-beam vacuum tube according to the prior art.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

2: 캐소드 12 : 자력발생수단2: cathode 12: magnetic force generating means

70 : 드리프트 통로 90 : 컬렉터70: drift passage 90: collector

91 : 공동 92 : 컬렉터 플레이트91: cavity 92: collector plate

94 : 방열봉 96 : 방열 플레이트94: heat dissipation rod 96: heat dissipation plate

본고안은 멀티빔 진공관에 관한 것으로, 특히 컬렉터 플레이트에 전자빔의 반사를 방지하는 공동을 형성한 멀티빔 진공관에 관한 것이다.The present invention relates to a multi-beam vacuum tube, and more particularly, to a multi-beam vacuum tube having a cavity formed on the collector plate to prevent reflection of the electron beam.

종래 멀티빔 진공관 중 멀티빔 클라이스트론은 제3도에 도시된 바와 같이 전자빔을 발생하는 캐소드(2)와, 상기 캐소드(2)에서 발생한 전자빔이 이동하는 드리프트 통로(70)와, 상기 드리프트 통로(70)를 이동하는 전자빔의 확산을 방지하도록 자력을 발생하는 자력 발생 수단(12)과, 상기 드리프트 통로(70)를 이동한 전자빔을 수집하는 컬렉터(200)로 이루어져 있다.As shown in FIG. 3, the multi-beam klystron of the conventional multi-beam vacuum tube includes a cathode 2 for generating an electron beam, a drift passage 70 for moving the electron beam generated in the cathode 2, and the drift passage 70. Magnetic force generating means 12 for generating a magnetic force to prevent the diffusion of the electron beam to move the ()), and the collector 200 for collecting the electron beam moved through the drift passage (70).

그런데 상기와 같이 구성된 종래 멀티빔 진공관은 상기 컬렉터(200)의 컬렉터 플레이트(202)가 상기 전자빔의 입사방향에 수직하도록 단순하게 편평한 평면으로 이루어져 있었으므로, 상기 컬렉터 플레이트(202)에 부딪힌 전자빔 내의 전자 중 일부의 전자가 상기 드리프트 통로(70)에 반사되었었다.However, since the conventional multi-beam vacuum tube configured as described above has a simple flat plane such that the collector plate 202 of the collector 200 is perpendicular to the direction of incidence of the electron beam, the electrons in the electron beam hit the collector plate 202. Some of the electrons were reflected in the drift passage 70.

전자빔이 상기 드리프트 통로(70)에 반사되면 전자빔의 진행을 방해하여 제품의 효율이 저하하는 문제점이 있었다.When the electron beam is reflected in the drift passage 70, there is a problem that the efficiency of the product is lowered by preventing the progress of the electron beam.

또한 상기 전자빔과 부딪히는 상기 컬렉터 플레이트(20)의 표면(202a)과 방열 플레이트(204)와의 거리(D3)가 커서 상기 컬렉터 플레이트(202)에서 발생한 열이 상기 방열 플레이트(204)에 전달되는 데에 많은 시간이 소요되었다. 따라서 상기 컬렉터 플레이트(202)의 온도가 높아서 상기 자력발생수단(12)의 온도가 상승함으로써 제품의 전체적인 성능이 저하됨과 동시에 제품의 효율이 저하하는 문제점이 있었다.In addition, since the distance D3 between the surface 202a of the collector plate 20 and the heat dissipation plate 204 that strikes the electron beam is large, heat generated in the collector plate 202 is transferred to the heat dissipation plate 204. It took a lot of time. Therefore, the temperature of the collector plate 202 is high, so that the temperature of the magnetic force generating means 12 has a problem that the overall performance of the product is lowered and the efficiency of the product is lowered.

따라서 본고안은 상기 문제점을 해결하기 위해 이루어진 것으로서 본고안의 목적은 제품의 효율을 상승시킬 수 있고 제품의 성능을 양호하게 할 수 있는 멀티빔 진공관을 제공하는데 있다.Therefore, this paper is made to solve the above problems, and an object of the present paper is to provide a multi-beam vacuum tube that can increase the efficiency of the product and improve the performance of the product.

상기 목적을 달성하기 위해 본고안에 따른 멀티빔 진공관은 전자빔을 발생하는 캐소드(2)와, 상기 캐소드(2)에서 발생된 전자빔이 이동하는 드리프트 통로(70)와, 상기 드리프트 통로(70)를 이동하는 전자빔의 확산을 방지하도록 자력을 발생하는 자력발생수단(12) 및 상기 드리프트 통로(70)를 이동한 전자빔을 수집함과 동시에 상기 드리프트 통로(70)를 이동한 전자빔이 상기 드리프트 통로(70)로 반사되는 것을 방지하는 컬렉터(90)로 이루어진 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the multi-beam vacuum tube according to the present invention includes a cathode (2) for generating an electron beam, a drift passage (70) for moving the electron beam generated in the cathode (2), and the drift passage (70). The magnetic force generating means 12 for generating the magnetic force and the electron beam moving the drift passage 70 and the electron beam moving the drift passage 70 at the same time to prevent the diffusion of the electron beam to the drift passage 70 Characterized in that it consists of a collector 90 to prevent the reflection to.

이하 본고안의 일실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

제1도에 도시된 바와 같이, 본고안의 일실시예에 의한 멀티빔 진공관은 캐소드(2)에서 방출된 다수의 전자빔을 컬렉터(90)로 이동시키므로써 캐비티(76,78,80,82)에 전자계에너지를 발생시키고 이전자계 에너지에 의해 고주파를 발생하는 멀티빔 클라이스트론이다.As shown in FIG. 1, the multi-beam vacuum tube according to the embodiment of the present invention moves the plurality of electron beams emitted from the cathode 2 to the collector 90 to the cavity 76, 78, 80, 82. It is a multi-beam klystron that generates electromagnetic energy and generates high frequency by previous magnetic energy.

제1도에 도시된 바와 같이 다수의 전자빔을 방출하는 캐소드(2)는 히터로드(4) 및 에미터로드(6)와, 상기 히터로드(4) 및 에미터로드(6)를 통해 교류 120V 또는 교류 220V의 전압을 받아서 발열하는 히터(8)와, 상기 히터(8)에서 방출된 열에 의해 여기되어 전자를 방출하는 에미터(10)로 이루어져 있다.As shown in FIG. 1, the cathode 2 emitting a plurality of electron beams has an alternating current 120V through the heater rod 4 and the emitter rod 6 and the heater rod 4 and the emitter rod 6. Or a heater 8 that generates heat by receiving a voltage of AC 220V, and an emitter 10 that is excited by heat emitted from the heater 8 to emit electrons.

상기 에미터(10)의 표면은 다수의 전자빔을 방출하도록 다수의 방출부(10a)가 형성되어 있으며, 상기 에미터(10)의 표면 중 상기 방출부(10a)이외의 곳에는 전자빔 방출을 억제하기 위해 얇은 몰리브텐판(10b)이 부착되어 있다.A plurality of emitters 10a are formed on the surface of the emitter 10 so as to emit a plurality of electron beams, and the emission of the emitter 10 is suppressed in areas other than the emitter 10a. To this end, a thin molybdenum plate 10b is attached.

상기 방출부(10A)는 1열 이상의 환상으로 다수개 형성되어 있으며, 3열의 환상으로 25개 형성되어 있다. 상기 방출부(10a)는 또한 제2도에 도시된 바와 같이 상기 방출부(10a)로부터 방출된 전자를 한 곳으로 모으도록 상기 에미터(10)의 내측으로 오목하게 형성되어 있다. 상기 히터(8)와 상기 에미터(10)는 상기 히터로드(4)와 상기 에미터로드(6)를 개재해서 교류 120V 또는 교류 220V를 출력하는 전원수단(도시생략)에 상호 직렬로 접속되어 있다.The plurality of discharge portions 10A is formed in a plurality of annular columns of one or more rows, and is formed of 25 annular columns of three rows. The emitter 10a is also concave inwardly of the emitter 10 to collect electrons emitted from the emitter 10a into one place, as shown in FIG. The heater 8 and the emitter 10 are connected in series to power supply means (not shown) for outputting AC 120V or AC 220V via the heater rod 4 and the emitter rod 6. have.

상기 히터로드(4)와 에미터로드(6)는 하우징(13)에 의해 지지되어 잇다.The heater rod 4 and the emitter rod 6 are supported by the housing 13.

상기 캐소드(2)에서 방출된 다수의 전자빔의 확산을 방지하도록 자력을 발생하는 자력발생수단(12)은 전자빔이 이동하는 드리프트 통로(70)에 자속을 인가하도록 상기 드리프트 통로(70)의 전단에 설치된 제1영구자석(14)과, 전자빔이 이동하는 드리프트 통로(70)에 자속을 인가하도록 상기 드리프트 통로(70)의 후단에 설치된 제2 영구자석(16)과 , 상기 드리프트 통로(70)에 자속을 균일한 밀도로 분포시키도록 상기 제1영구자석(14)에서 나온 자속을 상기 제2영구자석(16)으로 안내하는 제1폴피스(POLE PIECE, 20) 및 제2 폴피스(22)와, 상기 제2 영구자석(16)에서 나온 자속을 상기 제1영구자석(14)으로 안내하는 요크(24,30)로 이루어져 있다.The magnetic force generating means 12 for generating magnetic force to prevent diffusion of the plurality of electron beams emitted from the cathode 2 is placed at the front end of the drift passage 70 to apply magnetic flux to the drift passage 70 through which the electron beam moves. The first permanent magnet 14 installed at the rear end of the drift passage 70 to apply magnetic flux to the drift passage 70 through which the electron beam moves, and to the drift passage 70. The first pole piece (POLE PIECE) 20 and the second pole piece 22 for guiding the magnetic flux from the first permanent magnet 14 to the second permanent magnet 16 so as to distribute the magnetic flux with uniform density. And yokes 24 and 30 for guiding the magnetic flux from the second permanent magnet 16 to the first permanent magnet 14.

상기 제1영구자석(14)과 제2영구자석(16)은 환상으로 배열된 드리프트 통로(70)에 자속을 균일하게 인가하도록 환상으로 형성되어 있다. 상기 제1영구자석(14)은 중심측이 N극을 띠고 바깥측이 S극을 띤다. 반면에 상기 제2영구자석(16)은 중심측이 S극을 띠고 바깥측이 N극을 띤다. 또한, 전자빔이 존재하는 곳의 자속 밀도가 균일하도록 상기 제1영구자석(14)과 상기 제2 영구자석(16)에 내접하는 원의 지름은 상기 드리프트 통로(70)의 그룹이 형성하는 원의 지름보다 크도록 설계되어 있다. 상기 제1영구자석(14)과 제2영구자석(16) 및 상기 요크(24,30)는 홀더(23)에 고정되어 있다.The first permanent magnet 14 and the second permanent magnet 16 are annularly formed to uniformly apply the magnetic flux to the drift passage 70 arranged in an annular shape. The first permanent magnet 14 has an N pole in the center side and an S pole in the outer side. On the other hand, the second permanent magnet 16 has an S pole in the center side and an N pole in the outer side. In addition, the diameter of the circle inscribed in the first permanent magnet 14 and the second permanent magnet 16 is the diameter of the circle formed by the group of the drift passage 70 so that the magnetic flux density where the electron beam is present is uniform. It is designed to be larger than the diameter. The first permanent magnet 14, the second permanent magnet 16, and the yokes 24 and 30 are fixed to the holder 23.

상기 제1폴피스(20)와 제2 폴피스(22)에는 후술하는 드리프트 통로에 균일한 자속밀도를 공급하도록 상기 드리프트 통로의 수와 동일한 개수의 구멍(20a, 22a)이 형성되어 있다. 전자빔이 후술하는 제4캐비티를 지나 끝까지 일정한 반경을 유지하도록 상기 제2폴피스(22)는 후술하는 드리프트 튜브에 접속되어 있다.The first pole piece 20 and the second pole piece 22 are formed with the same number of holes 20a and 22a as the number of the drift passages so as to supply a uniform magnetic flux density to the drift passage described later. The second pole piece 22 is connected to a drift tube described later so that the electron beam maintains a constant radius through the fourth cavity described later to the end.

상기 캐소드(2)에서 방출한 전자빔의 밀도를 변조시키는 밀도변조수단(60)은 상기 캐소드(2)로부터 방출된 전자빔을 1차로 밀도변조하여 고주파(RADIO FREQUENCY) 전력을 증폭하는 제1캐비티(62)와, 상기 캐소드(2)로부터 방출된 전자빔을 2차로 밀도변조하여 고주파 전력을 증폭하는 제2캐비티(64)와, 상기 캐소드(2)로부터 방출된 전자빔을 3차로 밀도변조하여 고주파 전력을 증폭하는 제3캐비티(66)와, 상기 캐소드(2)로부터 방출된 전자빔을 4차로 밀도변조하여 고주파 전력을 증폭하는 제4캐비티(68) 및 상기 캐소드(2)로부터 방출된 전자빔을 후술하는 컬렉터 방향으로 이동시키도록 드리프트 통로(70)를 형성한 드리프트 튜브(72)로 이루어져 있다.The density modulating means 60 for modulating the density of the electron beam emitted from the cathode 2 primarily modulates the electron beam emitted from the cathode 2 to amplify the first cavity 62 to amplify RADIO FREQUENCY power. ), And a second cavity 64 that amplifies high frequency power by secondarily densely modulating the electron beam emitted from the cathode 2, and amplifies the high frequency power by densely modulating the electron beam emitted from the cathode 2. The third cavity 66, the fourth cavity 68 for amplifying high frequency power by densely modulating the electron beam emitted from the cathode 2, and the collector direction described below for the electron beam emitted from the cathode 2 It consists of a drift tube 72 formed a drift passage 70 to move to.

상기 제2캐비티(64)와 제3캐비티(66)의 공진주파수는 전자빔의 밀도변조를 효과적으로 높이기 위해서 상기 제1캐비티(62)와 제4캐비티(68)의 공진주파수보다 조금 크게 설정되어 있다.The resonance frequencies of the second cavity 64 and the third cavity 66 are set slightly larger than the resonance frequencies of the first cavity 62 and the fourth cavity 68 in order to effectively increase the density modulation of the electron beam.

상기 드리프트 통로(70)는 상기 제1캐비티(62)내지 제4캐비티(68)의 중심축과 평행하도록 구리로 만들어진 상기 드리프트 튜브(72)에 의해 1열 이상의 환상으로 형성되어 있다. 상기 드리프트 튜브(72)의 드리프트 통로(70)는 또한 상기 드리프트 통로(70)에 균일한 자속을 공급하도록 전자빔의 수와 동일한 개수로 형성되어 있다. 본실시예에서는 2열의 환상으로 9개의 드리프트 통로(70)가 형성되어 있다.The drift passage 70 is formed in an annular shape of one or more rows by the drift tube 72 made of copper so as to be parallel to the central axis of the first cavity 62 to the fourth cavity 68. The drift passages 70 of the drift tube 72 are also formed in the same number as the number of electron beams so as to supply uniform magnetic flux to the drift passages 70. In this embodiment, nine drift passages 70 are formed in two rows of rings.

고주파 전력의 에너지의 일부가 상기 제2캐비티(64) 내지 제4캐비티(68)로부터 상기 제1캐비티(62)로 되돌아가도록 상기 제3캐비티(66)와 상기 제1캐비티(62) 사이에는 피드백 체널(74)이 형성되어 있다.Feedback between the third cavity 66 and the first cavity 62 so that a portion of the energy of the high frequency power is returned from the second cavity 64 to the fourth cavity 68 to the first cavity 62. The channel 74 is formed.

또한, 상기 밀도변조수단(60)의 특성을 높이기 위해 상기 제4캐비티(68)의 갭(82)의 크기는 다른 갭(76,78.80)의 크기보다 작게 형성되어 있다.In addition, the size of the gap 82 of the fourth cavity 68 is smaller than the size of the other gaps 76 and 78.80 in order to increase the characteristics of the density modulating means 60.

상기 밀도변조수단(60)에 의해 밀도 변조된 전자빔의 에너지를 커플링하여 고주파를 발생하는 고주파 발생수단(84)은 상기 제4캐비티(68)와 자계커플링되어 상기 제4캐비티(68)를 통과하는 전자빔의 에너지를 흡수하는 커플링 링(86)과, 상기 커플링 링(86)이 흡수한 에너지를 고주파로 출력하는 안테나(88)가 있다.The high frequency generating means 84 for generating a high frequency by coupling the energy of the electron beam density modulated by the density modulating means 60 is magnetically coupled to the fourth cavity 68 to form the fourth cavity 68. There is a coupling ring 86 for absorbing the energy of the electron beam passing through, and an antenna 88 for outputting the energy absorbed by the coupling ring 86 at a high frequency.

상기 드리프트 통로(70)를 이동한 전자빔을 수집하는 컬렉터(90)는 상기 드리프트 통로(70)를 이동한 전자빔이 상기 드리프트 통로(70)로 반사되는 것을 방지하도록 공동(91)을 형성한 컬렉터 플레이트(92)와, 상기 컬렉터 플레이트(92)에서 발생한 열을 외부로 발산하는 방열봉(94) 및 방열 플레이트로 이루어져 있다.The collector 90, which collects the electron beam that has traveled the drift passage 70, has a collector plate having a cavity 91 formed therein to prevent the electron beam that has traveled the drift passage 70 from being reflected back into the drift passage 70. And a heat dissipation rod 94 and a heat dissipation plate for dissipating heat generated by the collector plate 92 to the outside.

상기 컬렉터 플레이트(90)는 열전도성과 내식성이 우수한 무산소동으로 이루어져 있다.The collector plate 90 is made of oxygen-free copper having excellent thermal conductivity and corrosion resistance.

상기 컬렉터 플레이트(92)의 공동(91)은 제2도에 도시된 바와 같이 전자빔들 간의 상호 간섭을 없애도록 공동벽(92a)에 의해, 상기 캐소드(2)에서 발생되는 전자빔의 개수와 동일한 개수로 형성되어 있으며, 상기 공동(91)의 정단면은 제2도에 도시된 바와 같이 원형이고, 상기 공동(91)의 측단면은 제1도에 도시된 바와 같이 전자빔 충돌면(91a,. 91b)이 직각을 이루는 ㄷ자 형상이다.The number of cavities 91 of the collector plate 92 is equal to the number of electron beams generated at the cathode 2 by the cavity wall 92a to eliminate mutual interference between the electron beams as shown in FIG. And the front end face of the cavity 91 is circular as shown in FIG. 2, and the side cross section of the cavity 91 is the electron beam impingement surfaces 91a, 91b as shown in FIG. ) Is a c-shape at right angles.

상기 방열플레이트(96)는 상기 방열봉(94)에 억지끼워맞춤으로 결합되어 있고, 상기 방열봉(94)은 상기 컬렉터 플레이트(92)에 브레이징 접합되어 있다. 상기 컬렉터 플레이트(92)는 상기 에미터(10)와 상기 컬렉터 플레이트(92)사이에 전자빔의 가속을 위한 전위하가 형성되도록 직류 600V의 전압을 출력하는 제2전원수단(도시생략)의 출력단자에 접속되어 있다.The heat dissipation plate 96 is forcibly fitted to the heat dissipation rod 94, and the heat dissipation rod 94 is brazed to the collector plate 92. The collector plate 92 is an output terminal of a second power supply means (not shown) for outputting a voltage of 600V DC so that a potential load for accelerating the electron beam is formed between the emitter 10 and the collector plate 92. Is connected to.

이하 상기와 같이 구성된 본고안의 일실시예에 의한 멀티빔 진공관의 작용 효과를 설명한다.Hereinafter, the effect of the multi-beam vacuum tube according to an embodiment of the present invention configured as described above will be described.

먼저 상기 히터로드(4)와 상기 에미터로드(6)사이에 220V의 교류전압이 인가되고 상기 컬렉터 플레이트(92)에 600V의 직류전압이 인가된다. 그러면 상기 히터(8)와 상기 에미터(10)에 교류 220V의 전압이 인가되어 상기 히터(8)가 발열한다. 상기 히터(8)가 발열하면, 상기 에미터(10)가 1000。C 이상으로 가열되어 상기 에미터(10)의 방출부(10a)로부터 다수의 전자가 연속적으로 방출되어 전자빔을 형성한다.First, an AC voltage of 220 V is applied between the heater rod 4 and the emitter rod 6, and a DC voltage of 600 V is applied to the collector plate 92. Then, a voltage of 220 V AC is applied to the heater 8 and the emitter 10 to generate the heater 8. When the heater 8 generates heat, the emitter 10 is heated to 1000 ° C. or more to emit a plurality of electrons continuously from the emitter 10a of the emitter 10 to form an electron beam.

상기 에미터(10)의 방출부(10a)로부터 상기 컬렉터 플레이트(92) 방향으로 방출된 전자빔은 상기 에미터(1)와 상기 컬렉터 플레이트(92) 사이에 형성된 600V의 전위차로 인해 상기 컬렉터 플레이트(92) 방향으로 가속된다. 상기 컬렉터 플레이트(92)방향으로 가속된 전자빔은 상기 제1 캐비티(62)의 갭(76)에 도달한다. 상기 제1캐비티(62)의 갭(76)에는 외부의 소신호 고주파수단(도시생략)으로부터 상기 제1캐비티(62)의 공동(62a)에 입사된 소신호 고주파로 인해 전계가 형성되어 있는데. 이 전계로부터 전자빔 내의 전자들이 힘을 받아 속도변조가 발생한다. 전자빔 내의 전자들이 속도변조를 받게되면 전자빔의 밀도는 상기 드리프트 통로(70) 내에서의 위치에 따라 변조된다.The electron beam emitted from the emitter 10a of the emitter 10 toward the collector plate 92 is caused by the potential difference of 600 V formed between the emitter 1 and the collector plate 92. 92) is accelerated. The electron beam accelerated toward the collector plate 92 reaches the gap 76 of the first cavity 62. An electric field is formed in the gap 76 of the first cavity 62 due to the small signal high frequency incident from the external small signal high frequency means (not shown) into the cavity 62a of the first cavity 62. From this electric field, electrons in the electron beam are forced to generate speed modulation. When the electrons in the electron beam are subjected to speed modulation, the density of the electron beam is modulated according to the position in the drift passage 70.

전자빔이 계속 진행하여 제2캐비티(64)의 갭(78)에 이르면 제2캐비티(64)와 전자빔의 상호작용으로 전자의 속도변조가 다시 발생하고, 이로 인해 전지빔 내에서 밀도가 높았던 부분의 전자밀도는 더욱 높아진다. 전자빔이 계속 진행해서 상기 제3캐비티(66)의 갭(80)에 이르렀을 때도 제2캐비티(64)의 갭(78)에서 작용했던 것과 똑같이 되어 전자밀도가 높았던 부분이 다시 한번 더 고밀도로 높아진다. 따라서 높은 에너지의 마이크로파를 발생시키기에 충분하도록 밀도가 높은 전자빔이 형성된다.When the electron beam continues and reaches the gap 78 of the second cavity 64, the speed change of the electron occurs again due to the interaction between the second cavity 64 and the electron beam, which causes the high density of the portion within the battery beam. The electron density becomes higher. When the electron beam continues to reach the gap 80 of the third cavity 66, the same operation as that of the gap 78 of the second cavity 64 becomes higher, and the portion having the higher electron density is once again increased to a higher density. . Thus, a dense electron beam is formed that is sufficient to generate a high energy microwave.

충분한 전자밀도를 갖는 전자빔이 출력캐비티인 제4캐비티(68)의 갭(82)에 이르면 상기 제4캐비티(68)에 유도전류를 야기하고 이로 인해 전계와 자계가 제4캐비티(68)내에 유기되는데 이 중 전계는 제4캐비티(68)의 갭(82)에 주로 존재하고 자계는 제4캐비티(68)의 공동(68a)내에 존재한다.When an electron beam having sufficient electron density reaches the gap 82 of the fourth cavity 68, which is the output cavity, an induced current is induced in the fourth cavity 68, thereby causing an electric field and a magnetic field to be induced in the fourth cavity 68. The electric field is mainly present in the gap 82 of the fourth cavity 68 and the magnetic field is present in the cavity 68a of the fourth cavity 68.

다음에 상기 커플링링(86)은 상기 제4캐비티(68)의 공동(68a) 내의 자계에너지를 커플링함으로써 고주파에너지를 외부로 끌어내게 되고, 외부로 나온 고주파는 안테나(88)에서 필요한 공간 중으로, 일예로 전자렌지의 조리실로 방사된다.Next, the coupling ring 86 draws high frequency energy to the outside by coupling the magnetic field energy in the cavity 68a of the fourth cavity 68, and the high frequency emitted to the outside of the space required by the antenna 88. For example, it is radiated to the cooking chamber of the microwave oven.

상기와 같이 상기 제4캐비티(68)의 갭(82)을 지나면서 상기 제4캐비티(68)의 공동(68a) 내에 전자계에너지를 유도시킨 전자빔은 일부의 운동에너지를 갖고 계속 진행해서 상기 컬렉터 플레이트(92)의 공동(91)의 전자빔 충돌면(91a)에 충돌한다. 그러면 상기 컬렉터 플레이트(92)의 전자빔 충돌면(91a)에 충돌한 전자빔(18) 내의 전자들은 상기 컬렉터 플레이트(92)에 모두 흡수된다.As described above, the electron beam that guides the electromagnetic energy into the cavity 68a of the fourth cavity 68 while passing through the gap 82 of the fourth cavity 68 continues with some kinetic energy to continue the collector plate. It collides with the electron beam collision surface 91a of the cavity 91 of 92. As shown in FIG. Then, all the electrons in the electron beam 18 that collide with the electron beam impingement surface 91a of the collector plate 92 are absorbed by the collector plate 92.

이 경우 상기 전자빔 충돌면(91a)과 드리프트 통로(70)의 간격(D2)이 크고, 상기 전자빔 충돌면(91b)이 상기 전자빔 충돌면(91a)에 수직으로 형성되어 있음으로써, 상기 전자빔 충돌면(91a)에서 반사한 전자는 상기 드리프트 통로(70)에 반사되지 못하고 상기 전자빔 충돌면(91b)에 부딪혀 상기 컬렉터 플레이트(92)에 모두 흡수된다.In this case, the distance D2 between the electron beam collision surface 91a and the drift passage 70 is large, and the electron beam collision surface 91b is formed perpendicular to the electron beam collision surface 91a. The electrons reflected at 91a are not reflected by the drift passage 70 but hit the electron beam collision surface 91b and are all absorbed by the collector plate 92.

다음에 상기 전자빔 내의 전자가 모두 상기 컬렉터 플레이트(92)에 흡수되면 상기 전자는 상기 컬렉터 플레이트(92)에 연결된 전원선(도시생략)으로 이동하여 소멸한다.Next, when all the electrons in the electron beam are absorbed by the collector plate 92, the electrons move to the power line (not shown) connected to the collector plate 92 and disappear.

동시에 상기 전자빔 내의 전자가 가지고 있던 운동에너지는 상기 컬렉터 플레이트(92)에서 열에너지로 변환되어 상기 컬렉터 플레이트(92)에서 열이 발생한다. 이 경우 상기 컬렉터 플레이트(92)의 전자빔 충돌면(91a)과 상기 방열 플레이트(96)의 거리(D1)가 짧음으로써 상기 컬렉터 플레이트(92)에 발생한 열이 용이하게 상기 방열 플레이트(96)에 전달된다. 동시에 상기 컬렉터 플레이트(92)에서 발생한 열은 상기 방열봉(94)에 전달된 다음 상기 방열봉(94)으로부터 상기 발열 플레이트(96)에 전달된다. 다음에 도시되지 않은 냉각팬의 회전에 의해 외부의 차가운 공기가 상기 방열 플레이트(96)에 접촉됨으로써 상기 방열 플레이트(96)가 냉각됨과 동시에 상기 방열 플레이트(96)의 열은 외부로 방출된다.At the same time, the kinetic energy of the electrons in the electron beam is converted into thermal energy in the collector plate 92 to generate heat in the collector plate 92. In this case, since the distance D1 between the electron beam impingement surface 91a of the collector plate 92 and the heat dissipation plate 96 is short, heat generated in the collector plate 92 is easily transferred to the heat dissipation plate 96. do. At the same time, the heat generated in the collector plate 92 is transferred to the heat dissipation rod 94 and then transferred from the heat dissipation rod 94 to the heat dissipation plate 96. Next, external cool air comes into contact with the heat dissipation plate 96 by the rotation of a cooling fan (not shown), thereby cooling the heat dissipation plate 96 and simultaneously dissipating heat from the heat dissipation plate 96.

한편, 상술한 본 고안의 일실시예에 의한 멀티빔 진공관으로서는 밀도변조수단(60)이 제1캐비티(62) 내지 제4캐비티(68)의 4개의 캐비티로 구성되고 상기 밀도변조수단(60)의 전후에 영구자석(14,16)이 설치된 멀티빔 클라이스트론이 설명되어졌다. 반면에 본고안의 다른 실시예로서 캐비티가 2개이고 캐비티 내에 그리도가 설치되어 고주파를 출력하는 멀티빔 클라이스로드에 있어서, 상술한 본고안의 일실시예에서와 같이 컬렉터 플레이트에 상기 전자빔의 반사를 방지하도록 ㄷ자 형상의 공동을 다수개 형성하면 상술한 본 고안의 일실시예에서와 동일한 효과를 기대할 수 있다.On the other hand, as a multi-beam vacuum tube according to an embodiment of the present invention described above, the density modulating means 60 is composed of four cavities of the first cavity 62 to the fourth cavity 68 and the density modulating means 60 Before and after the multibeam klystron with permanent magnets 14 and 16 was described. On the other hand, in another embodiment of the present invention, in the multi-beam cladding rod having two cavities and the drawing is installed in the cavity to output high frequency, the reflection of the electron beam on the collector plate is prevented as in the above-described embodiment of the present invention. If a plurality of U-shaped cavities are formed, the same effects as in the above-described embodiment of the present invention can be expected.

상술한 바와 같이 본고안에 따른 멀티빔 진공관에 의하면, 컬렉터 플레이트에 ㄷ자 형상의 공동을 다수개 형성하여 전자빔의 반사를 방지함으로써 제품의 효율을 상승시킬 수 있고 제품의 성능을 양호하게 할 수 있는 매우 뛰어난 효과가 있다.As described above, according to the multi-beam vacuum tube according to the present invention, by forming a plurality of U-shaped cavities in the collector plate to prevent the reflection of the electron beam, it is possible to increase the efficiency of the product and to improve the performance of the product. It works.

또한 전자빔이 입사되는 컬렉터 플레이트의 전자빔 충돌면과 열을 방출하는 방열 플레이트의 거리를 짧게 형성 시킴으로써 컬렉터 플레이트가 과열되는 것을 방지할 수 있어서 제품의 성능을 양호하게 유지할 수 있는 매우 뛰어난 효과가 있다.In addition, it is possible to prevent the collector plate from overheating by forming a short distance between the electron beam impingement surface of the collector plate to which the electron beam is incident and the heat dissipation plate that emits heat, thereby maintaining a good performance of the product.

Claims (3)

멀티빔 진공관에 있어서, 전자빔을 발생하는 캐소드(2)와, 상기 캐소드(2)에서 발생된 전자빔이 이동하는 드리프트 통로(70)와, 상기 드리프트 통로(70)를 이동하는 전자빔의 확산을 방지하도록 자력을 발생하는 자력발생수단(12) 및 상기 드리프트 통로(70)를 이동한 전자빔을 수집함과 동시에 상기 드리프트 통로(70)를 이동한 전자빔이 상기 드리프트 통로(70)로 반사되는 것을 방지하는 컬렉터(90)로 이루어진 것을 특징으로 하는 멀티빔 진공관.In a multi-beam vacuum tube, a cathode (2) for generating an electron beam, a drift passage (70) through which the electron beam generated from the cathode (2) moves, and an electron beam (moving) through the drift passage (70) are prevented from being spread. Collecting the magnetic force generating means 12 for generating a magnetic force and the electron beam moved through the drift passage 70 and at the same time to prevent the electron beam moved through the drift passage 70 is reflected to the drift passage 70 A multi-beam vacuum tube, characterized in that consisting of (90). 제1항에 있어서, 상기 컬렉터(90)는 상기 드리프트 통로(70)를 이동한 전자빔이 상기 드리프트 통로(70)로 반사되는 것을 방지하도록 공동(91)을 형성한 컬렉터 플레이트(92)와, 상기 컬렉터 플레이트(92)에서 발생한 열을 외부로 발산하는 방열봉(94) 및 방열 플레이트(96)로 이루어진 것을 특징으로 하는 멀티빔 진공관.The collector plate (92) of claim 1, wherein the collector (90) includes: a collector plate (92) having a cavity (91) formed to prevent reflection of an electron beam traveling through the drift passage (70) into the drift passage (70); Multi-beam vacuum tube, characterized in that consisting of a heat dissipation rod 94 and a heat dissipation plate 96 to dissipate heat generated in the collector plate 92 to the outside. 제2항에 있어서, 상기 컬렉터 플레이트(92)의 공동(91)은 상기 캐소드(2)에서 발생되는 전자빔의 개수와 동일한 개수로 형성된 것을 특징으로 하는 멀티빔 진공관.3. The multi-beam vacuum tube according to claim 2, wherein the cavity (91) of the collector plate (92) is formed in the same number as the number of electron beams generated from the cathode (2).
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