KR0138235Y1 - Silicon spray apparatus of c.r.t - Google Patents

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KR0138235Y1
KR0138235Y1 KR2019930018808U KR930018808U KR0138235Y1 KR 0138235 Y1 KR0138235 Y1 KR 0138235Y1 KR 2019930018808 U KR2019930018808 U KR 2019930018808U KR 930018808 U KR930018808 U KR 930018808U KR 0138235 Y1 KR0138235 Y1 KR 0138235Y1
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Abstract

음극선관의 애노드 버튼(A) 주위에 실리콘 도포시 작업 능률이 저하됨과 아울러 도포 두께가 불균일하게 되고 실리콘의 과다 사용을 유발시킴을 방지하기 위하여, 애노드 버튼(A)이 삽입되는 훤넬(F)의 삽입공(AH)을 중심으로 회전되는 저장 용기(3)와, 상기한 저장 용기(3) 내부에 저장된 실리콘을 간헐 유출시킬 수 있는 간헐 유출 수단과, 상기한 실리콘을 일정 두께로 도포할 수 있는 도포 부재(5)로 구성함으로써 작업 능률을 향상시킬 수 있게 된다.In order to reduce the work efficiency when the silicon is applied around the anode button A of the cathode ray tube and to prevent the coating thickness from being uneven and causing excessive use of silicon, the channel of the channel F into which the anode button A is inserted is A storage container 3 rotated about the insertion hole AH, intermittent flow-out means capable of intermittently flowing out the silicon stored in the storage container 3, and the silicon can be applied to a predetermined thickness. By configuring it with the application member 5, it becomes possible to improve work efficiency.

Description

음극선관의 실리콘 도포 장치Silicon coating device of cathode ray tube

제1도는 본 고안에 따른 음극선관의 실리콘 도포 장치의 사용상태를 도시한 사시도.1 is a perspective view showing a state of use of the silicon coating device of the cathode ray tube according to the present invention.

제2도는 제1도에서 A-A선 단면도.2 is a cross-sectional view taken along the line A-A in FIG.

제3도는 제1도에서 차단 플레이트의 작동 상태를 도시한 상태도.3 is a state diagram showing the operating state of the blocking plate in FIG.

제4도는 일반적인 벌브의 애노드 버튼 접속 상태를 도시한 측면도.4 is a side view showing an anode button connection state of a general bulb.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

1 : 회전 축 2 : 주입구1: axis of rotation 2: injection hole

3 : 저장 용기 4 : 유량 조정 플레이트3: storage container 4: flow adjustment plate

5 : 스펀지 6 : 손잡이5: sponge 6: handle

7 : 차단 플레이트 8 : 삽입공7: blocking plate 8: insertion hole

9 : 유출공9: outflow hole

본 고안은 음극선관의 실리콘 도포 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 애노드 버튼 주위의 실리콘 도포를 수 작업으로 실시함에 따른 작업 능률 저하를 방지할 수 있는 음극선관의 실리콘 도포 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a silicon coating device of a cathode ray tube, and more particularly, to a silicon coating device of a cathode ray tube that can prevent a decrease in work efficiency caused by manual application of silicon around the anode button.

일반적으로, 음극선관은 형광체가 도포됨과 아울러 전자 빔 선택 수단인 새도우 마스크가 결합되는 패널과, 상기한 패널과 결합됨과 아울러 외주에 편향 요오크가 부착되는 훤넬과, 상기한 훤넬과 결합됨과 아울러 내주에 전자총이 삽입되는 네크로 구성되어 있다.In general, a cathode ray tube includes a panel to which a phosphor is applied and a shadow mask, which is an electron beam selection means, is coupled to the panel, and a channel to which the deflection yoke is attached to the outer circumference and the channel is coupled to the inner circumference. It consists of a neck into which an electron gun is inserted.

물론, 상기한 훤넬의 외주에는 전자총에 약 25Kv 정도의 고압을 인가하는 애노드 버튼이 부착되어 있고, 전자총의 후면에는 외부에서의 음극 인가가 가능하도록 리이드 핀이 형성된 스템이 부착되어 있다.Of course, an anode button for applying a high pressure of about 25 Kv to the electron gun is attached to the outer circumference of the channel, and a stem having a lead pin is attached to the rear side of the electron gun to enable application of a cathode from the outside.

상기한 바와 같은 음극선관은 상기한 전자총에서 방사된 전자빔이 편향 요오크에 의해 패널의 전면으로 편향됨과 아울러 새도우 마스크에 의해 선별되어 패널에 도트 또는 스트라이프형으로 도포된 소정의 형광체를 타격함으로써 형광체를 발광시켜 소정의 화상을 표시하게 되는 것이다.In the cathode ray tube as described above, the electron beam radiated from the electron gun is deflected to the front surface of the panel by the deflection yoke, and the phosphor is selected by a shadow mask to strike a predetermined phosphor coated in a dot or stripe pattern on the panel. It emits light and displays a predetermined image.

여기서, 상기한 애노드 버튼은 제4도에 도시한 바와 같이 훤넬(F)의 외주에 외장 흑연 막(G)이 도포된 밸브(B)에 연결되는 바, 상기한 애노드 버튼(A) 주위에는 실리콘(S)이 도포되어 있다.Here, the anode button is connected to the valve (B) coated with the outer graphite film (G) on the outer circumference of the channel (F), as shown in Figure 4, the silicon around the anode button (A) (S) is applied.

물론, 상기한 애노드 버튼(A)은 플라이백 트랜스포머(미도시)로부터 고압을 인가받는 바, 이는 전압에 리플 함랑이 높기 때문에 훤넬(F)의 외주에 도포된 외장 흑연막(G)으로 정류하여 사용하게 된다.Of course, the anode button A is applied with a high pressure from a flyback transformer (not shown), which is rectified by the exterior graphite film G coated on the outer periphery of the channel F because the ripple is high in voltage. Will be used.

또한, 애노드 버튼(A) 주위에 실리콘(S)을 도포함은 이 부분에 습기가 있을 경우 고압이 누설되기 때문에 습기 방지를 목적으로 도포되는 것이다.In addition, coating the silicon (S) around the anode button (A) is applied for the purpose of preventing moisture because high pressure leaks when there is moisture in this part.

상기한 실리콘(S)의 도포는 작업자가 붓등으로 직접 칠하게 된다.The application of the silicon (S) is to be painted directly by a worker, such as a brush.

그러나, 상기한 바와 같이 작업자가 붓등으로 직접 실리콘(S)을 도포함은 도포 두께가 불균일하게 됨과 아울러 작업 능률이 저하되는 문제점이 있다.However, as described above, when the worker coats silicon (S) directly with a brush or the like, there is a problem in that the coating thickness becomes uneven and the work efficiency is lowered.

또한, 붓등으로 실리콘(S) 도포시 액체 상태인 실리콘(S)이 훤넬(F)면을 타고 흘러 내려 실리콘(S)의 과다 사용과 미관 저하를 유발시키는 문제점이 있다.In addition, when the silicon (S) is applied with a brush or the like, the liquid silicon (S) flows down the channel (F) surface to cause excessive use of the silicon (S) and a problem of deterioration of aesthetics.

따라서, 본 고안은 목적은 음극선관의 애노드 버튼 주위에 실리콘 도포시 작업 능률이 저하됨과 아울러 도포 두께가 불균일하게 되고 실리콘의 과다 사용을 유발시킴을 방지할 수 있는 음극선관의 실리콘 도포 장치를 제공함에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a silicon dispensing apparatus for a cathode ray tube which can prevent the application efficiency of the silicon coating around the anode button of the cathode ray tube and also prevent the application thickness from becoming uneven and causing excessive use of silicon. have.

상기한 목적을 실현하기 위하여 본 고안은 애노드 버튼이 삽입되는 훤넬의 삽입공을 중심으로 회전되는 저장 용기와, 상기한 저장 용기 내부에 저장된 실리콘을 간헐 유출시킬 수 있는 간헐 유출 수단과, 상기한 실리콘을 일정 두께로 도포할 수 있는 도포 부재로 구성함을 특징으로 한다.In order to realize the above object, the present invention provides a storage container rotated around an insertion hole of a channel in which an anode button is inserted, intermittent discharge means capable of intermittently flowing out silicon stored in the storage container, and the silicon. It characterized by comprising a coating member that can be applied to a predetermined thickness.

물론, 실리콘의 간헐 유출 시 한번에 유출되는 실리콘의 양은 저장 용기 내부에 설치된 유량 조정 플레이트에 의해 일정하게 유지된다.Of course, the amount of silicon that flows out at one time during the intermittent outflow of silicon is kept constant by the flow regulating plate installed inside the storage container.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 고안의 바람직한 실시예를 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention with reference to the accompanying drawings.

제1도와 제2도는 본 고안에 따른 음극선관의 실리콘 도포장치 일실시예를 도시한 사시도와 A-A선 단면도로서, 훤넬(F)의 애노드 버튼 삽입공(AH)에 삽입되는 회전 축(1)이 저면 일측에 형성됨과 아울러 주입구(2)가 상부에 형성된 저장 용기(3)와, 상기한 저장 용기(3)에 저장된 실리콘을 간헐 유출시키는 간헐 유출 수단과, 유출되는 실리콘의 양을 일정하게 조정하도록 저장 용기(3) 내부에 설치된 유량 조정 플레이트(4)와, 상기한 실리콘을 애노드 버튼(미도시) 주위에 일정 두께로 도포할 수 있는 스펀지(5) 등과 같은 도포 부재로 구성되어 있다.1 and 2 are a perspective view and an AA cross-sectional view showing an embodiment of the silicon coating device of the cathode ray tube according to the present invention, the rotary shaft 1 is inserted into the anode button insertion hole (AH) of the channel (F) A storage container 3 formed at one side of the bottom surface and having an injection hole 2 formed thereon, intermittent flow-out means for intermittently flowing out of the silicon stored in the storage container 3, and a constant amount of the flowed-out silicon. It consists of the flow control plate 4 provided in the storage container 3, and the application member, such as the sponge 5 etc. which can apply | coat said silicon | silicone to a thickness around an anode button (not shown).

상기한 간헐 유출 수단은 손잡이(6)가 일측에 형성된 차단 플레이트(7)와, 상기한 차단 플레이트(7)가 저장 용기(3)에 삽입되어 슬라이드되는 삽입공(8)으로 구성되어 있고, 상기한 유량 조정 플레이트(4)에는 소정 직경의 유출공(9)이 순차 배열되어 있다.The intermittent outflow means comprises a blocking plate 7 having a handle 6 formed on one side, and an insertion hole 8 in which the blocking plate 7 is inserted into the storage container 3 and slides. Outflow holes 9 of a predetermined diameter are sequentially arranged in one flow rate adjustment plate 4.

상기한 바와 같은 구성의 실리콘 도포 장치의 동작을 설명하면 훤넬(F)의 애노드 버튼 삽입공(AH)에 저장 용기(3)의 회전축(1)을 삽입하고, 간헌 유출 수단의 차단 플레이트(7)를 제3도에 도시된 바와 같이 차단 플레이트(7)와 유량 조정 플레이트(4)가 완전히 벗어나다록 소정 시간 잡아 당겨 빼낸다.The operation of the silicone coating device having the above-described configuration will be described by inserting the rotary shaft 1 of the storage container 3 into the anode button insertion hole AH of the channel F, and blocking the plate 7 of the simple outlet means. As shown in FIG. 3, the blocking plate 7 and the flow rate adjusting plate 4 are pulled out for a predetermined time to completely deviate.

차단 플레이트(7)가 빠지면 그 시간만큼 실리콘이 유량 조정 플레이트(4)의 유출공(9)을 통과하여 스펀지(5)에 함유된다.When the blocking plate 7 is pulled out, silicon is contained in the sponge 5 by passing through the outflow hole 9 of the flow rate adjusting plate 4 for that time.

스펀지(5)에 함유된 실리콘은 압착하기 전에는 흘러 내리지 않고 스펀지(5)에 함유되어 있는 바, 이때 차단 플레이트(7)를 저장 용기(3)의 삽입공(8)에 다시 삽입하고 회전축(1)을 중심으로 저장 용기(3)를 회전시킨다.The silicon contained in the sponge 5 is contained in the sponge 5 without flowing down before being compressed, whereby the blocking plate 7 is inserted back into the insertion hole 8 of the storage container 3 and the rotary shaft 1 Rotate the storage container (3) around.

물론, 저장 용기(3)의 회전시 스펀지(5)를 실리콘이 흘러 내리지 않을 정도의 압력으로 압착함으로써 스펀지(5)에서 유출되는 실리콘이 애노드 버튼 삽입공(AH)의 주위에 일정 반경을 갖도록 도포되는 것이다.Of course, when the storage container 3 rotates, the sponge 5 is compressed to a pressure such that the silicon does not flow down so that the silicon flowing out of the sponge 5 has a predetermined radius around the anode button insertion hole AH. Will be.

여기서, 저장 용기(3)의 회전시 주입구(2)를 잡고 통상의 컴퍼스를 회전시키듯이 가볍게 회전시키면 일정 두께로 실리콘을 도포할 수 있게 된다.Here, when the storage container 3 is rotated and the injection port 2 is held and rotated lightly as if the conventional compass is rotated, the silicon can be applied to a predetermined thickness.

즉, 일정 압력으로 스펀지(5)를 압착함으로써 스펀지(5)에서 유출되는 실리콘의 양이 회전하는 동안 일정하게 유지될 수 있는 것이다.That is, by pressing the sponge 5 at a constant pressure, the amount of silicon flowing out of the sponge 5 can be kept constant while rotating.

또한, 스펀지(5)에서 유출되는 실리콘의 양이 항상 일정하게 유지됨으로써 훤넬면을 타고 실리콘이 흘러 내리지 않게 된다.In addition, the amount of silicon flowing out of the sponge 5 is always kept constant so that silicon does not flow down the channel surface.

이상과 같이 본 고안은 훤넬에 형성된 애노드 버튼 삽입공에 삽입되어 이를 중심을 회전되고 내부에 실리콘이 저장되는 저장 용기에 실리콘을 간헐 유출시키는 간헐 유출 수단과 유량 조정 플레이트 그리고 도포 부재를 설치함으로써 실리콘 도포에 따른 작업 능률을 향상시킬 수 있게 되는 잇점이 있다.As described above, the present invention inserts the anode button insertion hole formed in the channel and rotates the center, and installs the silicon by intermittently discharging means for intermittently discharging the silicon into the storage container in which the silicon is stored, the flow adjusting plate and the application member. This has the advantage of improving work efficiency.

Claims (3)

훤넬(F)의 애노드 버튼 삽입공(AH)에 삽입되는 회전축(1)이 저면 일측에 형성됨과 아울러 주입구(2)가 상부에 형성되어 내부에 실리콘이 저장되는 저장 용기(3)와, 상기한 저장 용기(3)에 저장된 실리콘을 간헐 유출시키는 간헐 유출 수단과, 상기한 실리콘의 양을 일정하게 조정하도록 다수의 유출공(9)이 형성됨과 아울러 저장 용기(3) 내부에 고정된 유량 조정 플레이트(4)와, 상기한 실리콘을 애노드 버튼(A) 주위에 일정 두께로 도포하기 위해 유량 조정 플레이트(4)의 하부에 고정된 도포 부재(5)로 구성함을 특징으로 하는 음극선관의 실리콘 도포 장치.A storage container 3 in which a rotation shaft 1 inserted into the anode button insertion hole AH of the channel F is formed at one side of the bottom, and an injection hole 2 is formed at the top thereof to store silicon therein; Intermittent outflow means for intermittently flowing out the silicon stored in the storage container 3, and a plurality of outlet holes 9 are formed to constantly adjust the amount of the silicon and the flow rate adjustment plate fixed inside the storage container 3 (4) and the silicone coating of the cathode ray tube, characterized in that it is composed of an application member (5) fixed to the lower portion of the flow rate adjusting plate (4) in order to apply the silicon to the anode button (A) around a certain thickness. Device. 제1항에 있어서, 간헐 유출 수단은 차단 플레이트(7)와, 상기한 차단 플레이트(7)가 저장 용기(3)에 삽입되어 슬라이드되도록 저장 용기(3)에 형성된 삽입공(8)으로 구성함을 특징으로 하는 음극선관의 실리콘 도포 장치.The intermittent outflow means comprises a blocking plate (7) and an insertion hole (8) formed in the storage container (3) such that the blocking plate (7) is inserted into the storage container (3) and slides. Silicon coating device of the cathode ray tube, characterized in that. 제2항에 있어서, 차단 플레이트(7)가 삽입공(8)에 삽입된 상태에서 외부로 돌출되는 부분에 손잡이(6)를 형성하여 간헐유출 수단을 구성함을 특징으로 하는 음극선관의 실리콘 도포 장치.3. The silicone coating of the cathode ray tube according to claim 2, characterized in that the handle 6 is formed on a portion protruding to the outside in the state where the blocking plate 7 is inserted into the insertion hole 8. Device.
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