KR0127364Y1 - Interface apparatus for high frequency power generator - Google Patents
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Abstract
본 고안은 고주파 전력 발생장치의 인터페이스 장치에 관한 것으로, 고주파 전력 발생장치의 턴온, 턴오프시 발생되는 오버 슛의 발생을 억제하는 고주파 전력 발생 장치의 인터페이스 장치를 제공함에 그 목적이 있다.The present invention relates to an interface device of a high frequency power generator, and an object of the present invention is to provide an interface device of a high frequency power generator that suppresses occurrence of overshoot generated when the high frequency power generator is turned on and off.
본 고안은 상기 목적을 달성하기 위하여 고주파 출력 요구 신호를 수신하기 위한 컨넥터(7), 상기 컨텍터(7)를 통하여 입력된 고주파 출력 요구 신호를 디지탈 신호로 변환시키는 A/C 변환기(8), 상기 A/D 변환기(8)의 출력 신호를 기설정된 턴온/턴오프시의 고주파 전력 곡선으로 조정하는 마이크로 프로세스 유니트(9), 상기 마이크로 프로세스 유니트(9)에 연결되어 턴온/턴오프 곡선의 경사각을 설정하는 스위치(10), 상기 마이크로 프로세스 유니트(9)의 출력을 아날로그롤 변환시켜 출력하는 D/A 변환기(11)로 구성됨을 특징으로 한다.The present invention provides a connector (7) for receiving a high frequency output request signal, an A / C converter (8) for converting a high frequency output request signal input through the contactor (7) to achieve the above object, Micro process unit 9 for adjusting the output signal of the A / D converter 8 to a preset high frequency power curve at turn-on / turn-off, and inclination angle of the turn-on / turn-off curve connected to the micro-process unit 9 Switch 10 for setting the, characterized in that it is composed of a D / A converter 11 for outputting the analog roll conversion of the output of the micro-process unit (9).
Description
제1도는 종래 기술의 플라즈마 형성장치를 나타낸 블럭 구성도.1 is a block diagram showing a plasma forming apparatus of the prior art.
제2도는 종래 기술의 플라즈마 형성 장치중 고주파 전력 발생장치에서 출력하는 고주파 전력 파형도.2 is a high frequency power waveform diagram output from a high frequency power generator of the plasma forming apparatus of the prior art.
제3도는 본 고안의 구성을 나타내는 상세 블럭도.Figure 3 is a detailed block diagram showing the configuration of the present invention.
제4도는 본 고안의 따른 고주파 전력 발생장치의 출력 파형도.4 is an output waveform diagram of a high frequency power generator according to the present invention.
제5도는 본 고안의 일 실시에를 나타내는 블럭 구성도.5 is a block diagram showing an embodiment of the present invention.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
1 : 메인장비 2 : 고주파 전력 발생장치1: Main Equipment 2: High Frequency Power Generator
3 : 제어용 케이블선 4 : 챔버3: control cable line 4: chamber
5 : 동축케이블 6 : 고주파 매칭 제어기5: coaxial cable 6: high frequency matching controller
1a, 2a, 7 : 콘넥터 8 : A/D 변환기1a, 2a, 7: Connector 8: A / D converter
9 : 마이크로 프로세스 유니트 10 : 스위치9: micro process unit 10: switch
11 : D/A 변환기 4a, 4b : 전극11: D / A converter 4a, 4b: electrode
본 고안은 반도체 드라이 에칭 공정시 필요한 플라즈마를 발생시키기 위한 고주파(RF) 전력 발생장치의 턴온, 턴오프시 발생되는 오버 슛(over shoot)의 발생을 억제하는 고주파 전력 발생장치의 인터페이스 장치에 관한 것이다.The present invention relates to an interface device of a high frequency power generator for suppressing the occurrence of an over shoot generated during turn-on and turn-off of a high frequency (RF) power generator for generating a plasma required in a semiconductor dry etching process. .
종래에는 첨부된 제1도에 나타난 바와같이 메인 장비(1)인 드라이 에칭용 장비의 외부 제어용 리모트(remote)접속용 콘넥터(1a)와 고주파 전력 발생장치(2)의 콘넥터(2a)를 제어용 케이블선(3)으로 연결하여 고주파 전력 발생장치(2)를 턴온시킴으로서 챔버(4)내에서 플라즈마가 형성되도록 하였다.Conventionally, as shown in FIG. 1, a control cable for connecting the remote control connector 1a and the high frequency power generator 2 with the remote control connector 1a of the dry etching equipment, the main equipment 1, as shown in FIG. Plasma was formed in the chamber 4 by connecting the wire 3 to turn on the high frequency power generator 2.
즉, 플라즈마를 형성하기 위하여 챔버(4)내를 진공 상태로 하고 공정에 필요한 가스를 주입하면서 상기 메인장비(1)에서 제어용 케이블선을 통해, 상기 고주파 전력 발생장치(2)에 고주파 전력 출력(0~1200W) 요구 신호를 턴온시키면 상기 고주파 전력 발생장치(2)는 동축케이블(5)을 통해 상기 챔버(4)내의 전극(4a, 4b)에 고주파 전력을 인가함으로써 공정에 필요한 가스와 반응하여 플라즈마 형성되도록 하였으며, 이때 고주파 메칭 제어기(matching controller : 6)에 의해 50Ω 임피던스 매칭을 이루도록 하였다.That is, in order to form a plasma, the chamber 4 is vacuumed and the gas necessary for the process is injected, and the high frequency power output (2) is supplied to the high frequency power generator 2 through the control cable line from the main equipment 1. When the 0 ~ 1200W request signal is turned on, the high frequency power generator 2 reacts with the gas necessary for the process by applying high frequency power to the electrodes 4a and 4b in the chamber 4 through the coaxial cable 5. Plasma formation was performed, and at this time, 50 kHz impedance matching was achieved by a high frequency matching controller (6).
그러나 제2도에서 알 수 있듯이 고주파 전력의 턴온시 오버 슛이 발생되어 공정 진행중인 웨이퍼에 아킹등의 손상을 가져오고 챔버(4)내 전극(4a, 4b)에 아킹에 의한 손상 및 극심한 고주파성 노이즈 발생에 의한 주변 전자 장비의 오동작동이 발생하는 문제점이 있었다.However, as can be seen in FIG. 2, overshooting occurs during the turn-on of high frequency power, causing damage to the wafer during the process, such as arcing, damage caused by arcing to electrodes 4a and 4b in chamber 4, and extreme high frequency noise. There was a problem that a malfunction of the peripheral electronic equipment caused by the generation occurs.
또한 턴오프시에도 급격한 임피던스의 변화때문에 노이즈가 발생되고 상기 고주파 매칭 제어기(6)의 손상을 유발하며 연속 공정시 플라즈마 불안정의 원인으로 지적되고 있다.In addition, even when turned off, noise is generated due to a sudden change in impedance, causing damage to the high frequency matching controller 6, and it is pointed out as a cause of plasma instability in a continuous process.
본 고안은 상기 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 상기 고주파 전력 발생장치의 턴온, 턴오프시 발생되는 오버 슛의 발생을 억제하는 고주파 전력 발생장치의 인터페이스 장치를 제공함에 그 목적이 있다.An object of the present invention is to provide an interface device of a high frequency power generator which suppresses the occurrence of an overshoot generated when the high frequency power generator is turned on and off.
본 고안은 상기 목적을 달성하기 위하여 제3도와 같이 구성하여 실시하였으며, 이하 첨부된 제3도 내지 제5도를 참조하여 본 고안을 상세히 설명한다.The present invention was configured and implemented as shown in FIG. 3 to achieve the above object, and the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 3 to 5.
본 고안은 상기 제어용 케이블선(3)을 통하여 전달되어온 고주파 출력 요구 신호를 수신하기 위한 컨넥터(7), 상기 컨넥터(7)를 통하여 입력된 고주파 출력 요구신호를 디지탈 신호로 변환시키는 A/D 변환기(8), 상기 A/D 변환기(8)에 의해 디지탈화된 고주파 출력 요구 신호를 제4도에 나타난 바와같이 기설정된 턴 온/턴 오프시의 고주파 전력 곡선으로 조정하여 출력하는 마이크로 프로세스 유니트(9), 상기 마이크로 프로세스 유니트(9)에 연결되어 턴 온/턴 오프 곡선의 경사각을 설정하는 스위치(10), 및 상기 마이크로 프로세스 유니트(9)의 출력을 아날로그로 변환시켜 상기 콘넥터(2a : 제1도 참조)에 전송하는 D/A 변환기(11)로 구성한다.The present invention provides a connector 7 for receiving a high frequency output request signal transmitted through the control cable line 3, and an A / D converter for converting a high frequency output request signal input through the connector 7 into a digital signal. (8) A microprocessing unit (9) for adjusting and outputting the high frequency output request signal digitalized by the A / D converter (8) to a high frequency power curve at a predetermined turn on / off time as shown in FIG. ), A switch 10 connected to the micro process unit 9 to set an inclination angle of a turn on / turn off curve, and an output of the micro process unit 9 is converted into an analog to convert the connector 2a into a first connector. And a D / A converter 11 for transmitting to the same).
제5도는 상기와 같이 구성된 본 고안의 일 실시예를 나타낸 것으로 그에 대한 설명은 다음과 같다.Figure 5 shows an embodiment of the present invention configured as described above is described as follows.
매인 장비(1)로 부터 고주파 턴 온 아날로그 신호는 상기 콘넥터(7)와 A/D 변환기(8)를 통해서 디지탈 신호로 변환되며 마이크로 프로세스 유니트(9) 데이타화 되어 입력된다.The high frequency turn-on analog signal from the main equipment 1 is converted into a digital signal through the connector 7 and the A / D converter 8 and input into the micro process unit 9 data.
이때 상기 마이크로 프로세스 유니트(9)는 제4도의 턴 온/오프 곡선을 상기 스위치(10)에 의해 설정된 값으로 조정하여 D/A 변환기(11)를 통해 상기 컨넥터(2a)로 출력시킨다.At this time, the micro process unit 9 adjusts the turn on / off curve of FIG. 4 to a value set by the switch 10 and outputs it to the connector 2a through the D / A converter 11.
따라서 고주파 전력 발생장치(2)의 출력은 제4도와 같이 오버 슛 발생없이 깨끗하게 조절, 제어되어 상기 챔버(4)내의 전극(4a)에 인가된다.Therefore, the output of the high frequency power generator 2 is adjusted and controlled cleanly without overshooting as shown in FIG. 4 and applied to the electrode 4a in the chamber 4.
상기한 바와같이 본 고안은 컨넥터 정도의 크기를 갖는 인터페이스 장치를 사용하여 고주파 전력 발생장치의 출력 곡선을 선택 가능하게 함으로써, 제품의 손상을 방지하고 챔버내의 전극을 보호하며 노이즈 발생 방지 및 안정적인 플라즈마 형성이 가능한 효과가 있다.As described above, the present invention makes it possible to select an output curve of a high frequency power generator using an interface device having a connector size, thereby preventing damage to a product, protecting electrodes in a chamber, preventing noise, and forming stable plasma. This has a possible effect.
Claims (1)
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| KR2019930000309U KR0127364Y1 (en) | 1993-01-12 | 1993-01-12 | Interface apparatus for high frequency power generator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR2019930000309U KR0127364Y1 (en) | 1993-01-12 | 1993-01-12 | Interface apparatus for high frequency power generator |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR940019725U KR940019725U (en) | 1994-08-22 |
| KR0127364Y1 true KR0127364Y1 (en) | 1998-12-01 |
Family
ID=19349556
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| KR2019930000309U KR0127364Y1 (en) | 1993-01-12 | 1993-01-12 | Interface apparatus for high frequency power generator |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR0127364Y1 (en) |
-
1993
- 1993-01-12 KR KR2019930000309U patent/KR0127364Y1/en not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR940019725U (en) | 1994-08-22 |
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