JPWO2020204731A5 - - Google Patents

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図1及び図1Aは、例示的なデュアルリム加湿システム1の概略図を示す。加湿システム1は、ドライライン導管30を介して加湿器20と流体連通するガス源10を含み得る。本開示では、ガス源の例は、ベンチレータである。他のガス源、例えば壁式ガス源又は圧縮ガスタンクも考えられ得る。ドライライン導管30は、ガス源から加湿器20にガスを輸送するような形状であり、且つそのように構成されている管であり得る。「ドライライン導管は、ガス源から加湿器20に非加湿(例えば、乾燥又は大気)ガスを輸送するために使用される導管(例えば、管又は蛇管)を指す。正しく接続されている(即ち動作構成にある)とき、ドライライン導管は、ガス源と加湿器との間を空気的に接続する。加湿器20は、例えば、チャンバ26(図1Aを参照されたい)及び熱源を含む様々な構成要素を含み得る。熱源は、加湿器熱源を含み得る。チャンバ内を流れるガスが気化した内容物によって加湿され得るように、加湿器熱源を使用して、チャンバ26の内容物を加熱し、チャンバ26の内容物を気化させる。一例では、熱源を使用して、水を加熱し、気化させて、ガスを加湿する。熱源は、チャンバ26を通過するガスも所望の温度(例えば、治療温度)に加熱する。加湿器熱源の例としては、ケミカルヒータ、放射ヒータ、誘導加熱器などが挙げられ得る。例として、熱源は、抵抗加熱器を用いたヒータプレートであり得る。加湿器20は、任意選択的に、ハードウェアプロセッサ及び/又はソフトウェアプロセッサなどの1つ以上のプロセッサも含み得る。加湿器20は、1つ以上のプロセッサとメモリとを含み得るコントローラを含み得る。コントローラは、加湿器20の動作、例えば加湿器20の定常状態動作を制御することができる。ガス源は、単一方向ガス源、ブロワ、ベンチレータユニット、圧縮空気タンク、院内の壁式ガス源、酸素ボンベ又は加圧ガスボンベであり得る。特に、呼吸を促し、且つ患者内のガス交換を促すために患者が鎮静状態にされる場合、いくつかのガス源により患者にガスを提供し得、患者からガスを除去し得る。これらシステムは、一般に、吸気導管及び呼気導管を必要とする。ガス源は、例えば、30L/minを超え、且つ/又は150L/minまでの高流量の空気又はガスを送達するように構成されている高流量ガス源も含み得る。ガス源は、他の範囲のガス流量を送達するように構成され得、例えば新生児用途では、流量は、8L/min未満であり得る。ガス源によって供給されるガスは、乾燥空気、周囲空気、酸素及び/又はガスの混合物(例えば、治療ガス又は呼吸ガス)のいずれかを含み得る。1つ以上のコントローラは、所望の流量、温度及び/又は圧力のガス流を発生させるようにガス源10を制御することができる。ガス源出口12からのガスは、乾燥ガスを含み得る。 1 and 1A show schematic diagrams of an exemplary dual rim humidification system 1. FIG. Humidification system 1 may include gas source 10 in fluid communication with humidifier 20 via dry line conduit 30 . In this disclosure, an example gas source is a ventilator. Other gas sources, such as wall gas sources or compressed gas tanks, are also conceivable. The dry line conduit 30 may be a tube shaped and configured to transport gas from the gas source to the humidifier 20 . "Dry line conduit refers to a conduit (e.g., tube or serpentine) used to transport non-humidified (e.g., dry or atmospheric) gas from a gas source to the humidifier 20. configuration), the dry line conduit provides a pneumatic connection between the gas source and the humidifier 20. The humidifier 20 can be in various configurations including, for example, a chamber 26 (see FIG. 1A) and a heat source. The heat source may include a humidifier heat source The humidifier heat source is used to heat the contents of the chamber 26 so that the gas flowing through the chamber may be humidified by the vaporized contents, Vaporize the contents of 26. In one example, a heat source is used to heat water, vaporize it, and humidify the gas, which heats the gas passing through chamber 26 to a desired temperature (e.g., treatment temperature). Examples of humidifier heat sources can include chemical heaters, radiant heaters, induction heaters, etc. As an example, the heat source can be a heater plate using a resistance heater. Optionally, it may also include one or more processors, such as hardware processors and/or software processors.Humidifier 20 may include a controller, which may include one or more processors and memory. 20, such as the steady state operation of the humidifier 20. The gas source may be a unidirectional gas source, a blower, a ventilator unit, a compressed air tank, a hospital wall gas source, an oxygen cylinder or pressurized gas. Several gas sources may provide and remove gas from the patient, particularly when the patient is sedated to facilitate breathing and gas exchange within the patient. These systems generally require inspiratory and expiratory conduits, and the gas source is configured to deliver high flow rates of air or gas, e.g., greater than 30 L/min and/or up to 150 L/min. The gas source may also be configured to deliver other ranges of gas flow rates, for example, for neonatal applications, the flow rate may be less than 8 L/min. The gas supplied can include any of dry air, ambient air, oxygen and/or mixtures of gases (e.g., therapeutic gases or respiratory gases) One or more controllers control the desired flow rate, temperature and/or pressure. The gas source 10 can be controlled to generate a gas flow of The gas from the gas source outlet 12 can include dry gas.

図2Aに示すようなエラー1では、ドライライン導管30及び呼気導管50とガス源10との接続が逆になっている。具体的には、ドライライン導管30は、ガス源入口14に誤って結合されており、呼気導管50は、ガス源出口12に誤って結合されている。その結果、乾燥ガスが加湿器20を通過しないため、乾燥ガスは、加湿又は加熱されることなく呼気導管50において患者2に直接流れ得る。乾燥ガスは、加熱がコントローラによって適切に調整されない呼気導管50内の呼気用熱源によって加熱され得る。患者2からの呼気ガスは、ガス源10に戻る前に加湿器30を通して加湿され得る。その結果、ガス源10内に凝縮が形成される。 In error 1 as shown in FIG. 2A, the connections between the dry line conduit 30 and expiratory conduit 50 and the gas source 10 are reversed. Specifically, dry line conduit 30 is miscoupled to gas source inlet 14 and expiratory conduit 50 is miscoupled to gas source outlet 12 . As a result, since the dry gas does not pass through the humidifier 20, the dry gas can flow directly to the patient 2 in the expiratory conduit 50 without being humidified or heated. The dry gas may be heated by an expiratory heat source within the expiratory conduit 50 whose heating is not properly regulated by the controller. Exhaled gases from patient 2 may be humidified through humidifier 30 before returning to gas source 10 . As a result, condensation forms within the gas source 10 .

加湿器の下流湿度及び上流湿度の両方を使用して、加湿システム内に誤った流れがあるかどうかを決定することができる。湿度は、ヒータプレートの電力が印加されたときに発生させることができ、水温の上昇をもたらす。湿度は、乾燥ガスが加湿器内の水の上を通過するときにも発生させることができる。図3Dに示される方法380において、加湿システムのコントローラは、逆流検知アルゴリズムを開始することができる。工程384において、加湿システムのコントローラは、下流の湿度センサを使用して加湿器の下流湿度を、上流の湿度センサを使用して加湿器の上流湿度を決定する。工程386において、コントローラは、上流湿度が下流湿度よりも低いかどうかを決定する。上流湿度が下流湿度よりも高い場合、加湿システムのコントローラは、工程388において、誤った流れがあると決定することができる。これとは逆に、コントローラは、工程390において、予想通りに上流湿度が下流湿度よりも低い場合、誤った流れがないと決定することができる。コントローラが誤った流れの状態を検知すると、コントローラは、誤接続が存在するという表示を発生させることができる。誤った流れの状態の存在は、誤接続を示すものであり得る。 Both downstream and upstream humidity of the humidifier can be used to determine if there is erroneous flow in the humidification system. Humidity can be generated when the heater plate is powered, resulting in an increase in water temperature. Humidity can also be generated when dry gas is passed over water in a humidifier. In method 380 shown in FIG. 3D, the humidification system controller can initiate a backflow detection algorithm. In step 384, the humidification system controller determines the downstream humidity of the humidifier using the downstream humidity sensor and the upstream humidity of the humidifier using the upstream humidity sensor . At step 386, the controller determines if the upstream humidity is lower than the downstream humidity. If the upstream humidity is higher than the downstream humidity, the humidification system controller may determine at step 388 that there is erroneous flow. Conversely, the controller may determine in step 390 that there is no erroneous flow if the upstream humidity is lower than the downstream humidity as expected. When the controller detects an erroneous flow condition, the controller can generate an indication that a erroneous connection exists. The presence of erroneous flow conditions may indicate a misconnection.

図7に示すように、加湿システムは、ドライライン導管30を介して加湿器20と流体連通するガス源(ベンチレータとも呼ばれる)10を含み得る。加湿器20は、例えば、チャンバ及び熱源を含む様々な構成要素を含み得る。加湿器20は、任意選択的に、ハードウェアプロセッサ及び/又はソフトウェアプロセッサなどの1つ以上のプロセッサも含み得る。加湿器20は、1つ以上のプロセッサとメモリとを含み得るコントローラを含み得る。コントローラは、加湿器20の動作を制御することができる。加湿されたガスは、加湿器20を出て、吸気導管40に入ることができる。吸気導管40(即ちガス送達導管)は、加湿されたガスを患者2に提供することができる。患者インターフェースは、加熱されていない管の短部分であるインターフェース管も含み得、吸気導管40は、インターフェース管に結合又は接続され得る。任意選択的に、吸気導管40は、ヒータを含み得る。加湿システム1は、呼気導管50を含み得る。呼気導管50は、患者2から遠ざかる方にガスを誘導するガス輸送導管であり得る。呼気導管50は、患者から遠ざかる方に呼気ガスを誘導し、呼気ガスをガス源に(又はガスを大気に放出することができる他の何らかのデバイス(例えば、ベント)に)輸送することができる。呼気導管50は、患者2から吐き出されたガスをガス源入口に再び誘導することができる。 As shown in FIG. 7, a humidification system may include a gas source (also called a ventilator) 10 in fluid communication with a humidifier 20 via a dryline conduit 30. As shown in FIG. Humidifier 20 may include various components including, for example, a chamber and a heat source. Humidifier 20 may optionally also include one or more processors, such as hardware processors and/or software processors. Humidifier 20 may include a controller that may include one or more processors and memory. A controller can control the operation of the humidifier 20 . The humidified gas can exit humidifier 20 and enter inspiratory conduit 40 . An inspiratory conduit 40 (ie, gas delivery conduit) can provide humidified gas to the patient 2 . The patient interface may also include an interface tube, which is a short section of unheated tubing, and the inspiratory conduit 40 may be coupled or connected to the interface tube. Optionally, intake conduit 40 may include a heater. Humidification system 1 may include an exhalation conduit 50 . Expiration conduit 50 may be a gas transport conduit that directs gas away from patient 2 . The expiratory conduit 50 may direct the expiratory gases away from the patient and transport the expiratory gases to the gas source (or to some other device (eg, vent) that can release the gases to the atmosphere). The expiratory conduit 50 can redirect gas exhaled by the patient 2 to the gas source inlet.

図12Aは、圧力検出デバイス1202、1204の例示的な第1位置及び第2位置を示す。例示的な位置は、中実点として示される。圧力検出デバイスは、出口の進入口の直前の加湿器若しくは加湿チャンバ内及び/又は加湿器若しくは加湿チャンバの入口内に配置され得る。この場合、出口近傍の圧力検出デバイスは、入口の圧力検出デバイスよりも大きい断面積を有し得る。入口圧力センサ1202は、チャンバの入口(即ち入口ポート)と関連付けられ、出口圧力センサ1204は、チャンバの出口と関連付けられる。図12Aの図示において、入口圧力センサ1202は、チャンバ1200の入口(即ち入口ポート)にある。図12Aに示すように、出口圧力センサ1204は、出口(即ち出口ポート)の外部に配置されるが、出口に隣接している。工程1126において、コントローラは、第1圧力読み取り値と第2圧力読み取り値とを比較する(即ち入口圧力センサ1202の読み取り値と、出口圧力センサ1204の読み取り値とを比較する)ことができる。入口圧力センサ1202で測定された圧力が、出口圧力センサ1204で測定された圧力を上回る場合、方法は、工程1128に進む。出口圧力センサ1204で測定された圧力が、入口圧力センサ1202で測定された圧力を上回る(即ち入口圧力が出口圧力を下回る)場合、方法は、工程1130に進む。工程1130により逆流状態が検知される場合、これは、誤接続を示す。コントローラは、使用者に対してメッセージ又は警報を提示するために、ユーザインターフェース(例えば、加湿器の画面又はガス源の画面)に信号又はメッセージを送信し得る。 FIG. 12A shows exemplary first and second positions of pressure sensing devices 1202, 1204. FIG. Exemplary positions are shown as solid dots. The pressure sensing device may be placed in the humidifier or humidification chamber just before the entrance of the outlet and/or in the inlet of the humidifier or humidification chamber. In this case, the pressure sensing device near the outlet may have a larger cross-sectional area than the pressure sensing device at the inlet. An inlet pressure sensor 1202 is associated with the inlet (or inlet port) of the chamber and an outlet pressure sensor 1204 is associated with the outlet of the chamber. In the illustration of FIG. 12A, inlet pressure sensor 1202 is at the inlet (ie, inlet port) of chamber 1200 . As shown in FIG. 12A, the outlet pressure sensor 1204 is located external to the outlet (ie, outlet port), but adjacent to the outlet. At step 1126, the controller can compare the first pressure reading to the second pressure reading (ie, compare the reading of inlet pressure sensor 1202 and the reading of outlet pressure sensor 1204). If the pressure measured at inlet pressure sensor 1202 exceeds the pressure measured at outlet pressure sensor 1204 , the method proceeds to step 1128 . If the pressure measured by outlet pressure sensor 1204 is greater than the pressure measured by inlet pressure sensor 1202 (ie, inlet pressure is less than outlet pressure), the method proceeds to step 1130 . If a backflow condition is detected by step 1130, this indicates a misconnection. The controller may send a signal or message to a user interface (eg, humidifier screen or gas source screen) to present a message or alarm to the user.

図18Bは、本明細書に開示される加湿システムの例示的な加湿チャンバ20を示す。加湿チャンバ20は、チャンバ入口22又はその近傍にあるセンサ(又は複数のセンサ)1822を含み得る。1つ又は複数のセンサは、ガス流と直接接触しても又はしなくてもよい。いくつかの構成では、1つ又は複数のセンサは、加湿器20の加湿チャンバと直接接触しても又はしなくてもよい。いくつかの構成では、1つ又は複数のセンサは、加湿器20内に収容され得る。上述のように、1つ又は複数のセンサ1822は、加湿チャンバ20の近傍のチャンバ入口22の内面上又は加湿チャンバ20の側壁上の凝縮の形成に関連するパラメータを測定することができる。代わりに、チャンバは、受け入れるガスを加湿チャンバの側壁の領域に偏向するように構成されている偏向アセンブリを含み得る。センサは、その領域においてパラメータを検出するように構成され得る(ガスの方向を問わない)。図18Bに示されるセンサ1822及び構成は、方法1850を実行するために使用され得る。方法1850は、加湿器20であり得る加湿器及び/又はガス源10のコントローラによって実行され得る。 FIG. 18B shows an exemplary humidification chamber 20 of the humidification system disclosed herein. Humidification chamber 20 may include a sensor (or sensors) 1822 at or near chamber inlet 22 . One or more sensors may or may not be in direct contact with the gas stream. In some configurations, one or more sensors may or may not be in direct contact with the humidification chamber of humidifier 20 . In some configurations, one or more sensors may be housed within humidifier 20 . As described above, the one or more sensors 1822 can measure parameters associated with the formation of condensation on the inner surface of the chamber inlet 22 near the humidification chamber 20 or on the sidewalls of the humidification chamber 20 . Alternatively, the chamber may include a deflection assembly configured to deflect the incoming gas to a region of the side wall of the humidification chamber. The sensor may be configured to detect parameters in that area (regardless of gas direction). The sensor 1822 and configuration shown in FIG. 18B can be used to perform the method 1850. FIG. Method 1850 may be performed by a humidifier, which may be humidifier 20, and/or a controller of gas source 10. FIG.

Claims (15)

ガス源と、加湿器と、呼吸回路とを含む呼吸加湿システム内の逆流状態を検知する方法であって、前記加湿器は、ヒータプレートを含むベースと、加湿流体を保持する加湿チャンバとを含み、前記加湿チャンバは、前記ベース上に配置可能であり、前記呼吸回路は、吸気導管と、呼気導管と、ドライラインとを含み、
前記方法は、
前記加湿チャンバ入口にガスの流れを導入することと、
前記入口に結合されたフローガイドを介して、ガスの流れを、前記加湿流体の表面の集中領域に向けて誘導するステップと、
前記加湿流体の表面の変化を検知することと、
前記加湿流体の表面の変化を検知することに基づき、逆流状態の表示を出力することと、
を含む、方法。
A method for detecting reflux conditions in a respiratory humidification system including a gas source, a humidifier, and a breathing circuit, the humidifier including a base including a heater plate and a humidification chamber holding a humidified fluid. , the humidification chamber is positionable on the base, the breathing circuit includes an inspiratory conduit, an expiratory conduit and a dry line;
The method includes:
introducing a flow of gas into the inlet of the humidification chamber;
directing a flow of gas through a flow guide coupled to the inlet toward a concentrated area of the moistened fluid surface;
sensing changes in the surface of the humidifying fluid ;
outputting an indication of a reverse flow condition based on sensing a change in the humidified fluid surface ;
A method, including
前記加湿流体の表面の前記集中領域が、前記加湿チャンバの前記入口の直下にある、請求項1に記載の方法。2. The method of claim 1, wherein the concentrated area of the surface of the humidifying fluid is directly below the inlet of the humidifying chamber. 前記フローガイドが、前記加湿チャンバ内へと延びて前記ガスの流れを前記集中領域上へと誘導する細長い管を含む、請求項1または2に記載の方法。3. A method according to claim 1 or 2, wherein the flow guide comprises an elongated tube extending into the humidification chamber and directing the gas flow over the concentration region. 前記表面の変化を検知することが、前記加湿チャンバの前記入口の下方または前記入口に隣接する水の表面の温度を測定することを含み、前記集中領域の温度が閾値温度より高いことが逆流状態を示している、請求項1から3のうちのいずれか一項に記載の方法。Sensing a change in the surface includes measuring a temperature of a surface of water below or adjacent to the inlet of the humidification chamber, wherein a temperature in the concentration region above a threshold temperature indicates a backflow condition. 4. A method according to any one of claims 1 to 3, wherein the method is indicative of 前記水の表面の変化を検知することは、前記集中領域の温度を、前記集中領域から離れた前記水の表面の別の領域の温度と比較することを含む、請求項4に記載の方法。5. The method of claim 4, wherein sensing changes in the surface of the water comprises comparing the temperature of the area of concentration to the temperature of another area of the surface of the water remote from the area of concentration. 前記検知することが、前記加湿チャンバ内の水の表面の輪郭を監視することを含む、請求項1から5のうちのいずれか一項に記載の方法。6. A method according to any one of claims 1 to 5, wherein the sensing comprises monitoring the surface contour of water in the humidification chamber. 前記水の表面の前記輪郭を監視することが、第1位置の水位と第2位置の水位とを監視することを含み、前記第1位置と前記第2位置との水位の差が閾値を超えないことが逆流状態を示す、請求項6に記載の方法。monitoring the contour of the surface of the water includes monitoring a water level at a first location and a water level at a second location, wherein a difference in water level between the first location and the second location exceeds a threshold; 7. The method of claim 6, wherein absence indicates a reflux condition. 前記第1位置は前記加湿チャンバの前記入口の近傍であり、前記第2位置は前記加湿チャンバの出口の近傍である、請求項7に記載の方法。8. The method of claim 7, wherein the first position is proximate the inlet of the humidification chamber and the second position is proximate the outlet of the humidification chamber. ガスの流れがない状態で、前記第1位置及び/又は前記第2位置における基準水位を設定する予備的な工程が行われる、請求項7または8に記載の方法。9. Method according to claim 7 or 8, wherein a preliminary step of setting the reference water level at the first position and/or the second position is performed in the absence of gas flow. 前記水の表面の前記輪郭の監視が光センサによって行われる、請求項6から9のうちのいずれか一項に記載の方法。10. A method according to any one of claims 6 to 9, wherein monitoring of the contour of the surface of the water is done by optical sensors. 前記検知することが、前記水の表面上の波紋のパターンを検知することを含む、請求項1から5のうちのいずれか一項に記載の方法。6. A method according to any one of the preceding claims, wherein said sensing comprises sensing a pattern of ripples on the surface of said water. コントローラは、検知された波紋のパターンを所定の波紋のパターンと比較することにより、および/または、画像もしくはパターン認識技術を用いて波紋のパターンを分類することにより、波紋を検知するように構成されている、請求項11に記載の方法。The controller is configured to detect ripples by comparing a detected ripple pattern to a predetermined ripple pattern and/or classifying the ripple pattern using image or pattern recognition techniques. 12. The method of claim 11, wherein 前記波紋のパターンが検知されることが正常な流れ状態を示し、前記波紋のパターンが検知されないことが逆流状態を示す、請求項11または12に記載の方法。13. The method of claim 11 or 12, wherein detection of the ripple pattern indicates a normal flow condition and non-detection of the ripple pattern indicates a reverse flow condition. 前記波紋のパターンの監視が光センサによって行われる、請求項11から13のうちのいずれか一項に記載の方法。14. A method according to any one of claims 11 to 13, wherein monitoring of the ripple pattern is performed by an optical sensor. 前記呼吸加湿システムが患者に呼吸療法を提供するように構成され、前記呼吸加湿システムは、
ユーザインターフェースと、
ガス源と前記加湿チャンバとを接続するように構成されている第1呼吸回路と、
前記ガス源と前記患者とを接続するように構成されている第2呼吸回路であって、前記第1呼吸回路は、正常流状態において、前記第2呼吸回路の上流にあるように構成されている、前記第2呼吸回路と、
前記システムのガス流路内にある逆流インジケータであって、正常流時に第1構成にあり、且つ逆流時に前記第1構成と異なる第2構成にある、前記逆流インジケータと、
をさらに含んでいる、請求項1から14のうちのいずれか一項に記載の方法
The respiratory humidification system is configured to provide respiratory therapy to a patient, the respiratory humidification system comprising:
a user interface;
a first breathing circuit configured to connect a gas source and the humidification chamber;
A second breathing circuit configured to connect the gas source and the patient, wherein the first breathing circuit is configured to be upstream of the second breathing circuit under normal flow conditions. the second breathing circuit,
a backflow indicator in the gas flow path of the system, said backflow indicator in a first configuration during normal flow and in a second configuration different from said first configuration during backflow;
15. The method of any one of claims 1-14, further comprising :
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