JPWO2020137704A1 - Projection optics and projector equipment - Google Patents

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JPWO2020137704A1 JP2020563114A JP2020563114A JPWO2020137704A1 JP WO2020137704 A1 JPWO2020137704 A1 JP WO2020137704A1 JP 2020563114 A JP2020563114 A JP 2020563114A JP 2020563114 A JP2020563114 A JP 2020563114A JP WO2020137704 A1 JPWO2020137704 A1 JP WO2020137704A1
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Abstract

【課題】プロジェクタ装置用の投射光学系において、投射像の合焦状態や投射倍率等の光学特性を調整可能な範囲を拡大する。【解決手段】レンズ(L1〜L12)を有する第1光学系(1)と、凹面鏡(3)を有する第2光学系(2)とを有し、主光軸(Z)に沿って移動することで投射像(TM)の光学特性を変化させる、レンズ(L7)やレンズ(L8)からなる移動光学系を第1光学系(1)に備える投射光学系(100)において、第1光学系(1)に、主光軸(Z)に交差する方向に光軸(Z1)を変位させるように動く少なくとも1枚のレンズ(L6)を有する可動光学系を設ける。【選択図】図1PROBLEM TO BE SOLVED: To expand a range in which optical characteristics such as a focused state of a projected image and a projection magnification can be adjusted in a projection optical system for a projector device. SOLUTION: It has a first optical system (1) having a lens (L1 to L12) and a second optical system (2) having a concave mirror (3), and moves along a main optical axis (Z). In the projection optical system (100) provided with the mobile optical system composed of the lens (L7) and the lens (L8), which changes the optical characteristics of the projection image (TM), the first optical system (1) is provided with a movable optical system having at least one lens (L6) that moves so as to displace the optical axis (Z1) in a direction intersecting the main optical axis (Z). [Selection diagram] Fig. 1

Description

本発明は、プロジェクタ装置および、それに用いられる投射光学系に関するものである。 The present invention relates to a projector device and a projection optical system used therein.

従来、投射画面を大画面化すると共に、投影空間の縮小化を図った反射型のプロジェクタ装置が種々提案されている。例えば特許文献1には、ライトバルブから投影画面に向かって、つまり縮小側から拡大側に向かって、屈折光学系からなる第1光学系、反射面を含む第2光学系を配置してなるプロジェクタ装置用の投射光学系が示されている。この種の投射光学系は多くの場合、合焦(フォーカス調整)や変倍(ズーム)のために、屈折光学系内に、該屈折光学系の主光軸に沿った方向に移動する移動光学系を含んで構成される。 Conventionally, various reflective projector devices have been proposed in which the projection screen is enlarged and the projection space is reduced. For example, in Patent Document 1, a projector in which a first optical system composed of a refracting optical system and a second optical system including a reflecting surface are arranged from a light valve toward a projection screen, that is, from a reduction side to an enlargement side. The projection optics for the device are shown. This type of projection optics is often a moving optic that moves within the folding optics in a direction along the principal optical axis of the folding optics for focusing (focus adjustment) or scaling (zoom). It is composed including a system.

近時は、投射画面を大型化する要求が高くなっており、そのため上記の投射光学系にも、投射像の合焦状態や投射倍率等の光学特性を調整できる範囲を拡大することが望まれている。プロジェクタ装置用の投射光学系において、投射像の光学特性を調整可能としたものとしては、例えば特許文献2に示されるように、投射光学系を構成する一部のレンズユニットを光軸に対して傾けるようにしたものが知られている。 Recently, there has been an increasing demand for larger projection screens, and therefore it is desirable to expand the range in which the optical characteristics such as the in-focus state of the projected image and the projection magnification can be adjusted in the above-mentioned projection optical system. ing. In the projection optical system for a projector device, as shown in Patent Document 2, for example, a part of the lens units constituting the projection optical system can be adjusted with respect to the optical axis. It is known that it is tilted.

特開2012−108267号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-108267 特許第5063224号公報Japanese Patent No. 5063224

しかし、従来の反射型のプロジェクタ装置に用いられて来た投射光学系は、光学特性を調整可能な範囲を拡大する上で、改善の余地が残されている。 However, the projection optical system used in the conventional reflection type projector device has room for improvement in expanding the adjustable range of the optical characteristics.

本発明は上記の事情に鑑みてなされたものであり、光学特性を調整可能な範囲を確実に拡大できるプロジェクタ装置、およびプロジェクタ装置用の投射光学系を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a projector device capable of reliably expanding the adjustable range of optical characteristics, and a projection optical system for the projector device.

本発明による投射光学系は、
画像表示素子から出射された画像光の進行方向である前方に向かって順に、レンズを有する第1光学系と、凹面鏡を有する第2光学系とが配置され、
画像表示素子に形成された画像を、第1光学系の内部に第1中間像として結像させた後、第1光学系と第2光学系との間に第2中間像として結像させ、
第2中間像からの画像光を、第2光学系から第1光学系の光軸である主光軸に沿う方向と交差する投射方向に投射し、画像を被投射面に投射像として拡大投影させ、
主光軸に沿って移動することで投射像の光学特性を変化させる少なくとも1枚のレンズを有する移動光学系を前記第1光学系に備える、
投射光学系であって、
第1光学系は、主光軸と交差する方向に光軸を変位させるように動く少なくとも1枚のレンズを有する可動光学系を含む、
ことを特徴とするものである。
The projection optical system according to the present invention
A first optical system having a lens and a second optical system having a concave mirror are arranged in order toward the front, which is the traveling direction of the image light emitted from the image display element.
The image formed on the image display element is imaged as a first intermediate image inside the first optical system, and then formed as a second intermediate image between the first optical system and the second optical system.
The image light from the second intermediate image is projected from the second optical system in the projection direction intersecting the direction along the main optical axis, which is the optical axis of the first optical system, and the image is magnified and projected onto the projected surface as a projection image. Let me
The first optical system is provided with a moving optical system having at least one lens that changes the optical characteristics of the projected image by moving along the main optical axis.
It is a projection optical system
The first optical system includes a movable optical system having at least one lens that moves so as to displace the optical axis in a direction intersecting the main optical axis.
It is characterized by that.

上記構成の投射光学系においては、
画像表示素子の画像表示面の中で被投射面に投射像として投射されることが可能な範囲である投射有効域の中で、前記光軸の変位方向に沿う方向で、主光軸から最も遠い端部である遠端部から出射する光の主光線を遠端部主光線とし、投射有効域の中で、主光軸に最も近い端部である近端部から出射する光の主光線を近端部主光線とし、
可動光学系の最も後方の光入射面(レンズ面)における遠端部主光線の入射位置を遠端部主光線入射位置とし、光入射面における近端部主光線の入射位置を近端部主光線入射位置としたとき、
可動光学系は、遠端部主光線入射位置と近端部主光線入射位置とが異なる位置に配置されていることが望ましい。
In the projection optical system having the above configuration,
In the effective projection range, which is the range in which the image display surface of the image display element can be projected as a projection image on the projected surface, the direction along the displacement direction of the optical axis is the most from the main optical axis. The main ray of light emitted from the far end, which is the far end, is the far end main ray, and the main ray of light emitted from the near end, which is the end closest to the main optic axis in the projection effective range. Is the near-end main ray,
The incident position of the far-end main ray on the rearmost light incident surface (lens surface) of the movable optical system is set as the far-end main ray incident position, and the incident position of the near-end main ray on the light incident surface is set as the near-end main ray. When the light incident position is set
It is desirable that the movable optical system is arranged at a position where the far-end main ray incident position and the near-end main ray incident position are different.

また、上述のように遠端部主光線入射位置と近端部主光線入射位置とが異なる位置にあるように可動光学系が配置される場合、可動光学系は、第1中間像と、この第1中間像よりも前方に配置される絞りとの間に配置される少なくとも1枚のレンズを有することが望ましい。 Further, when the movable optical system is arranged so that the far-end main ray incident position and the near-end main ray incident position are different from each other as described above, the movable optical system includes the first intermediate image and this. It is desirable to have at least one lens placed between the aperture placed in front of the first intermediate image.

そして上記構成とされる場合、その少なくとも1枚のレンズのうちの1枚は、第1中間像に隣接した位置に配置されていることが望ましい。 In the case of the above configuration, it is desirable that one of the at least one lens is arranged at a position adjacent to the first intermediate image.

また、本発明の投射光学系において可動光学系は、移動光学系のうちの最も前方に配置されたレンズよりも前方に配置された正レンズを有することが望ましい。 Further, in the projection optical system of the present invention, it is desirable that the movable optical system has a positive lens arranged in front of the frontmost lens in the moving optical system.

さらに、先に述べたように遠端部主光線入射位置と近端部主光線入射位置とが異なる位置にあるように可動光学系が配置される場合、可動光学系は、第1光学系の中で最も前方に配置されるレンズを有することが望ましい。 Further, when the movable optical system is arranged so that the far-end main ray incident position and the near-end main ray incident position are different as described above, the movable optical system is the first optical system. It is desirable to have the lens that is placed most forward.

また、先に述べたように遠端部主光線入射位置と近端部主光線入射位置とが異なる位置にあるように可動光学系が配置される場合、可動光学系は、第1中間像と、該第1中間像よりも後方に配置される絞りとの間に配置される少なくとも1枚のレンズを有することが望ましい。 Further, when the movable optical system is arranged so that the far-end main ray incident position and the near-end main ray incident position are different from each other as described above, the movable optical system is referred to as the first intermediate image. It is desirable to have at least one lens arranged between the aperture and the aperture arranged behind the first intermediate image.

そして上記構成とされる場合、可動光学系は、第1光学系の中で第1中間像よりも後方に配置される正レンズの中で最も前方に配置されるレンズを有することが好ましい。 In the case of the above configuration, it is preferable that the movable optical system has a lens arranged in the front of the positive lenses arranged behind the first intermediate image in the first optical system.

また、上述したように、遠端部主光線入射位置と近端部主光線入射位置とが互いに異なる位置にあるように可動光学系が配置され、かつ可動光学系が、第1中間像と、この第1中間像よりも後方に配置される絞りとの間に配置される少なくとも1枚のレンズを有する場合、可動光学系は、第1中間像とこの第1中間像よりも後方に配置される絞りとの間に配置される少なくとも1枚のメニスカスレンズを有することが好ましい。 Further, as described above, the movable optical system is arranged so that the far-end main ray incident position and the near-end main ray incident position are different from each other, and the movable optical system is the first intermediate image. When having at least one lens arranged between the diaphragm arranged behind the first intermediate image, the movable optical system is arranged behind the first intermediate image and the first intermediate image. It is preferable to have at least one meniscus lens arranged between the diaphragm and the diaphragm.

また、上述したように、遠端部主光線入射位置と近端部主光線入射位置とが互いに異なる位置にあるように可動光学系が配置される場合、遠端部主光線入射位置と主光軸との間の距離である入射位置距離Y1と、近端部主光線入射位置と主光軸との間の距離Y2と、投射光学系の全系の焦点距離fとが、
4.0 >(Y1−Y2)/|f|≧0.8 ・・・ (1)
の関係を満たしていることが好ましい。
Further, as described above, when the movable optical system is arranged so that the far-end main ray incident position and the near-end main ray incident position are different from each other, the far-end main ray incident position and the main light The incident position distance Y1 which is the distance between the axes, the distance Y2 between the near-end main ray incident position and the main optical axis, and the focal length f of the entire projection optical system are
4.0> (Y1-Y2) / | f | ≧ 0.8 ・ ・ ・ (1)
It is preferable that the relationship of

また、本発明の投射光学系においては、
画像表示素子の画像表示面の中で被投射面に投射像として投射されることが可能な範囲である投射有効域の中で、光軸の変位方向に沿う方向で、主光軸から最も遠い端部である遠端部から出射する光の主光線を遠端部主光線とし、
可動光学系の最も後方の光入射面における遠端部主光線の入射位置を遠端部主光線入射位置とし、
可動光学系の最も前方の光出射面における遠端部主光線の出射位置を遠端部主光線出射位置としたとき、
遠端部主光線入射位置と主光軸との間の距離である入射位置距離Y1と、遠端部主光線出射位置と主光軸との間の距離である出射位置距離Y3とが、
1.3≧Y3/Y1≧0.7 ・・・ (2)
の関係を満たしていることが好ましい。
Further, in the projection optical system of the present invention,
In the effective projection range, which is the range in which the image display surface of the image display element can be projected as a projection image on the projected surface, the direction along the displacement direction of the optical axis is the farthest from the main optical axis. The main ray of light emitted from the far end, which is the end, is defined as the far end main ray.
The incident position of the far-end main ray on the rearmost light incident surface of the movable optical system is defined as the far-end main ray incident position.
When the emission position of the far-end main ray on the frontmost light emitting surface of the movable optical system is set to the far-end main ray emission position,
The incident position distance Y1 which is the distance between the far-end main ray incident position and the main optical axis and the emission position distance Y3 which is the distance between the far-end main ray emitting position and the main optical axis are
1.3 ≧ Y3 / Y1 ≧ 0.7 ・ ・ ・ (2)
It is preferable that the relationship of

さらに本発明の投射光学系においては、
可動光学系の焦点距離f5と、第1光学系の焦点距離f1とが、
70 > |f5| / |f1| ≧ 1.0 ・・・ (3)
の関係を満たすことが好ましい。
Further, in the projection optical system of the present invention,
The focal length f5 of the movable optical system and the focal length f1 of the first optical system are
70 > | f5 | / | f1 | ≧ 1.0 ・ ・ ・ (3)
It is preferable to satisfy the relationship of.

また、本発明の投射光学系において可動光学系は、第1光学系の中で、2枚以上のレンズからなるレンズ群として構成されていることが望ましい。 Further, in the projection optical system of the present invention, it is desirable that the movable optical system is configured as a lens group composed of two or more lenses in the first optical system.

また、本発明の投射光学系において可動光学系の動きは、前記主光軸と直交する方向の移動成分を有することが望ましい。 Further, in the projection optical system of the present invention, it is desirable that the movement of the movable optical system has a moving component in a direction orthogonal to the main optical axis.

また、本発明の投射光学系において可動光学系の動きは、該可動光学系の光軸と主光軸との成す角を変化させる動きであることが望ましい。 Further, in the projection optical system of the present invention, it is desirable that the movement of the movable optical system is a movement that changes the angle formed by the optical axis and the main optical axis of the movable optical system.

そしてその場合、可動光学系の動きは、該可動光学系の最も後方の光入射面と主光軸との交点を中心に可動光学系を傾ける動きであることが特に望ましい。 In that case, it is particularly desirable that the movement of the movable optical system is a movement of tilting the movable optical system around the intersection of the rearmost light incident surface of the movable optical system and the main optical axis.

また、本発明の投射光学系において、
移動光学系は合焦光学系を有し、
可動光学系は、少なくとも、合焦光学系が投射光学系の最短の投射距離に対応した位置、または最長の投射距離に対応した位置に配置されている状態下で動く、
ことが望ましい。
Further, in the projection optical system of the present invention,
The mobile optical system has a focusing optical system and
The movable optical system moves at least in a state where the focusing optical system is arranged at a position corresponding to the shortest projection distance of the projection optical system or a position corresponding to the longest projection distance.
Is desirable.

また、本発明の投射光学系において、
移動光学系は変倍光学系を有し、
可動光学系は、少なくとも、変倍光学系が投射光学系の最短の焦点距離に対応した位置、または最長の焦点距離に対応した位置に配置されている状態下で動く、
ことが望ましい。
Further, in the projection optical system of the present invention,
The mobile optical system has a variable magnification optical system and
The movable optics move, at least, with the variable magnification optics located at the position corresponding to the shortest focal length or the longest focal length of the projection optics.
Is desirable.

また、本発明の投射光学系において、
移動光学系は、投射像の投射距離の変更を行い合焦状態を変化させる合焦用光学系、投射像の投射倍率の変更を行う変倍用光学系、および投射像の像面湾曲の補正を行う像面湾曲補正用光学系の少なくとも1つを備える、
ことが望ましい。
Further, in the projection optical system of the present invention,
The moving optical system includes a focusing optical system that changes the projection distance of the projected image to change the focusing state, a variable magnification optical system that changes the projection magnification of the projected image, and correction of curvature of field of the projected image. The image plane curvature correction optical system is provided with at least one of the following.
Is desirable.

そしてその場合、
移動光学系は像面湾曲調整光学系を有し、
可動光学系は、少なくとも、像面湾曲調整光学系が最もアンダーの像面湾曲を発生させる位置に配置されている状態下で、または最もオーバーの像面湾曲を発生させる位置に配置されている状態下で動く、
ことが望ましい。
And in that case
The mobile optical system has an image plane curvature adjustment optical system,
The movable optical system is at least under a state in which the field curvature adjustment optical system is arranged at a position where the most under-field curvature is generated, or a state where the image plane curvature adjustment optical system is arranged at a position where the most over-field curvature is generated. Move down,
Is desirable.

一方、本発明によるプロジェクタ装置は、
光源と、この光源からの光を変調する光変調器と、この光変調器によって変調された光による光学像を投射する本発明による投射光学系とを備えてなるものである。
On the other hand, the projector device according to the present invention
It includes a light source, an optical modulator that modulates the light from the light source, and a projection optical system according to the present invention that projects an optical image of the light modulated by the optical modulator.

本発明による投射光学系は、第1光学系が、主光軸と交差する方向に光軸を変位させるように動く少なくとも1枚のレンズを有する可動光学系を含むように構成されているので、この可動光学系を動かすことにより、光学特性を調整可能な範囲を拡大できるようになる。その詳しい理由は、後に各実施例に即して詳しく説明する。 Since the projection optical system according to the present invention is configured such that the first optical system includes a movable optical system having at least one lens that moves so as to displace the optical axis in a direction intersecting the main optical axis. By moving this movable optical system, the range in which the optical characteristics can be adjusted can be expanded. The detailed reason will be described later in detail according to each embodiment.

また、本発明によるプロジェクタ装置は、上述の効果を奏する投射光学系を用いているので、光学特性を調整可能な範囲を大きく設定できるものとなる。 Further, since the projector device according to the present invention uses a projection optical system that exhibits the above-mentioned effects, it is possible to set a large range in which the optical characteristics can be adjusted.

実施例1の投射光学系のレンズ構成を、主な光束と共に示す断面図Cross-sectional view showing the lens configuration of the projection optical system of Example 1 together with the main luminous flux. 実施例1の投射光学系のレンズ構成を示す断面図Sectional drawing which shows the lens structure of the projection optical system of Example 1. 実施例1の投射光学系を構成する光学要素の基本データを示す図The figure which shows the basic data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 1. 実施例1の投射光学系における各部の面間隔および偏芯量を示す図The figure which shows the surface spacing and the amount of eccentricity of each part in the projection optical system of Example 1. 実施例1の投射光学系を構成する光学要素の非球面データを示す図The figure which shows the aspherical surface data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 1. 実施例1の投射光学系によるスポットダイアグラムを示す図The figure which shows the spot diagram by the projection optical system of Example 1. 実施例1の投射光学系による歪曲形状を示す図The figure which shows the distortion shape by the projection optical system of Example 1. 実施例2の投射光学系のレンズ構成を示す断面図Sectional drawing which shows the lens structure of the projection optical system of Example 2. 実施例2の投射光学系を構成する光学要素の基本データを示す図The figure which shows the basic data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 2. 実施例2の投射光学系における各部の面間隔および偏芯量を示す図The figure which shows the surface spacing and the amount of eccentricity of each part in the projection optical system of Example 2. 実施例2の投射光学系を構成する光学要素の非球面データを示す図The figure which shows the aspherical surface data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 2. 実施例2の投射光学系によるスポットダイアグラムを示す図The figure which shows the spot diagram by the projection optical system of Example 2. 実施例2の投射光学系による歪曲形状を示す図The figure which shows the distortion shape by the projection optical system of Example 2. 実施例3の投射光学系のレンズ構成を示す断面図Sectional drawing which shows the lens structure of the projection optical system of Example 3. 実施例3の投射光学系を構成する光学要素の基本データを示す図The figure which shows the basic data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 3. 実施例3の投射光学系における各部の面間隔および偏芯量を示す図The figure which shows the surface spacing and the amount of eccentricity of each part in the projection optical system of Example 3. 実施例3の投射光学系を構成する光学要素の非球面データを示す図The figure which shows the aspherical surface data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 3. 実施例3の投射光学系によるスポットダイアグラムを示す図The figure which shows the spot diagram by the projection optical system of Example 3. 実施例3の投射光学系による歪曲形状を示す図The figure which shows the distortion shape by the projection optical system of Example 3. 実施例4の投射光学系のレンズ構成を示す断面図Sectional drawing which shows the lens structure of the projection optical system of Example 4. 実施例4の投射光学系を構成する光学要素の基本データを示す図The figure which shows the basic data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 4. 実施例4の投射光学系における各部の面間隔および偏芯量を示す図The figure which shows the surface spacing and the amount of eccentricity of each part in the projection optical system of Example 4. 実施例4の投射光学系を構成する光学要素の非球面データを示す図The figure which shows the aspherical surface data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 4. 実施例4の投射光学系によるスポットダイアグラムを示す図The figure which shows the spot diagram by the projection optical system of Example 4. 実施例4の投射光学系による歪曲形状を示す図The figure which shows the distortion shape by the projection optical system of Example 4. 実施例5の投射光学系のレンズ構成を示す断面図Sectional drawing which shows the lens structure of the projection optical system of Example 5. 実施例5の投射光学系を構成する光学要素の基本データを示す図The figure which shows the basic data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 5. 実施例5の投射光学系における各部の面間隔および偏芯量を示す図The figure which shows the surface spacing and the amount of eccentricity of each part in the projection optical system of Example 5. 実施例5の投射光学系を構成する光学要素の非球面データを示す図The figure which shows the aspherical surface data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 5. 実施例5の投射光学系によるスポットダイアグラムを示す図The figure which shows the spot diagram by the projection optical system of Example 5. 実施例5の投射光学系による歪曲形状を示す図The figure which shows the distortion shape by the projection optical system of Example 5. 実施例6の投射光学系のレンズ構成を示す断面図Sectional drawing which shows the lens structure of the projection optical system of Example 6. 実施例6の投射光学系を構成する光学要素の基本データを示す図The figure which shows the basic data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 6. 実施例6の投射光学系における各部の面間隔および偏芯量を示す図The figure which shows the surface spacing and the amount of eccentricity of each part in the projection optical system of Example 6. 実施例6の投射光学系を構成する光学要素の非球面データを示す図The figure which shows the aspherical surface data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 6. 実施例6の投射光学系によるスポットダイアグラムを示す図The figure which shows the spot diagram by the projection optical system of Example 6. 実施例6の投射光学系による歪曲形状を示す図The figure which shows the distortion shape by the projection optical system of Example 6. 実施例7の投射光学系のレンズ構成を、主な光束と共に示す断面図Cross-sectional view showing the lens configuration of the projection optical system of Example 7 together with the main luminous flux. 実施例7の投射光学系のレンズ構成を示す断面図Sectional drawing which shows the lens structure of the projection optical system of Example 7. 実施例7の投射光学系を構成する光学要素の基本データを示す図The figure which shows the basic data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 7. 実施例7の投射光学系における各部の面間隔および偏芯量を示す図The figure which shows the surface spacing and the amount of eccentricity of each part in the projection optical system of Example 7. 実施例7の投射光学系を構成する光学要素の非球面データを示す図The figure which shows the aspherical surface data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 7. 実施例7の投射光学系によるスポットダイアグラムを示す図The figure which shows the spot diagram by the projection optical system of Example 7. 実施例7の投射光学系による歪曲形状を示す図The figure which shows the distortion shape by the projection optical system of Example 7. 実施例8の投射光学系のレンズ構成を示す断面図Sectional drawing which shows the lens structure of the projection optical system of Example 8. 実施例8の投射光学系を構成する光学要素の基本データを示す図The figure which shows the basic data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 8. 実施例8の投射光学系における各部の面間隔および偏芯量を示す図The figure which shows the surface spacing and the amount of eccentricity of each part in the projection optical system of Example 8. 実施例8の投射光学系を構成する光学要素の非球面データを示す図The figure which shows the aspherical surface data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 8. 実施例8の投射光学系によるスポットダイアグラムを示す図The figure which shows the spot diagram by the projection optical system of Example 8. 実施例8の投射光学系による歪曲形状を示す図The figure which shows the distortion shape by the projection optical system of Example 8. 実施例9の投射光学系のレンズ構成を示す断面図Sectional drawing which shows the lens structure of the projection optical system of Example 9. 実施例9の投射光学系を構成する光学要素の基本データを示す図The figure which shows the basic data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 9. 実施例9の投射光学系における各部の面間隔および偏芯量を示す図The figure which shows the surface spacing and the amount of eccentricity of each part in the projection optical system of Example 9. 実施例9の投射光学系を構成する光学要素の非球面データを示す図The figure which shows the aspherical surface data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 9. 実施例9の投射光学系によるスポットダイアグラムを示す図The figure which shows the spot diagram by the projection optical system of Example 9. 実施例9の投射光学系による歪曲形状を示す図The figure which shows the distortion shape by the projection optical system of Example 9. 実施例10の投射光学系のレンズ構成を示す断面図Sectional drawing which shows the lens structure of the projection optical system of Example 10. 実施例10の投射光学系を構成する光学要素の基本データを示す図The figure which shows the basic data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 10. 実施例10の投射光学系における各部の面間隔および偏芯量を示す図The figure which shows the surface spacing and the amount of eccentricity of each part in the projection optical system of Example 10. 実施例10の投射光学系を構成する光学要素の非球面データを示す図The figure which shows the aspherical surface data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 10. 実施例10の投射光学系によるスポットダイアグラムを示す図The figure which shows the spot diagram by the projection optical system of Example 10. 実施例10の投射光学系による歪曲形状を示す図The figure which shows the distortion shape by the projection optical system of Example 10. 実施例11の投射光学系のレンズ構成を示す断面図Sectional drawing which shows the lens structure of the projection optical system of Example 11. 実施例11の投射光学系を構成する光学要素の基本データを示す図The figure which shows the basic data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 11. 実施例11の投射光学系における各部の面間隔および偏芯量を示す図The figure which shows the surface spacing and the amount of eccentricity of each part in the projection optical system of Example 11. 実施例11の投射光学系を構成する光学要素の非球面データを示す図The figure which shows the aspherical surface data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 11. 実施例11の投射光学系を構成する光学要素の自由曲面データを示す図The figure which shows the free-form surface data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 11. 実施例11の投射光学系によるスポットダイアグラムを示す図The figure which shows the spot diagram by the projection optical system of Example 11. 実施例11の投射光学系による歪曲形状を示す図The figure which shows the distortion shape by the projection optical system of Example 11. 実施例12の投射光学系の広角端でのレンズ構成を示す断面図Cross-sectional view showing a lens configuration at a wide-angle end of the projection optical system of Example 12. 実施例12の投射光学系の望遠端でのレンズ構成を示す断面図Cross-sectional view showing a lens configuration at the telephoto end of the projection optical system of Example 12. 実施例12の投射光学系を構成する光学要素の基本データを示す図The figure which shows the basic data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 12. 実施例12の投射光学系における各部の面間隔および偏芯量を示す図The figure which shows the surface spacing and the amount of eccentricity of each part in the projection optical system of Example 12. 実施例12の投射光学系を構成する光学要素の非球面データを示す図The figure which shows the aspherical surface data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 12. 実施例12の投射光学系によるスポットダイアグラムを示す図The figure which shows the spot diagram by the projection optical system of Example 12. 実施例12の投射光学系による歪曲形状を示す図The figure which shows the distortion shape by the projection optical system of Example 12. 実施例13の投射光学系の広角端でのレンズ構成を示す断面図Cross-sectional view showing a lens configuration at a wide-angle end of the projection optical system of Example 13. 実施例13の投射光学系の望遠端でのレンズ構成を示す断面図Cross-sectional view showing a lens configuration at the telephoto end of the projection optical system of Example 13. 実施例13の投射光学系を構成する光学要素の基本データを示す図The figure which shows the basic data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 13. 実施例13の投射光学系における各部の面間隔および偏芯量を示す図The figure which shows the surface spacing and the amount of eccentricity of each part in the projection optical system of Example 13. 実施例13の投射光学系を構成する光学要素の非球面データを示す図The figure which shows the aspherical surface data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 13. 実施例13の投射光学系によるスポットダイアグラムを示す図The figure which shows the spot diagram by the projection optical system of Example 13. 実施例13の投射光学系による歪曲形状を示す図The figure which shows the distortion shape by the projection optical system of Example 13. 実施例14の投射光学系の広角端でのレンズ構成を示す断面図Cross-sectional view showing a lens configuration at a wide-angle end of the projection optical system of Example 14. 実施例14の投射光学系の望遠端でのレンズ構成を示す断面図A cross-sectional view showing a lens configuration at the telephoto end of the projection optical system of Example 14. 実施例14の投射光学系を構成する光学要素の基本データを示す図The figure which shows the basic data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 14. 実施例14の投射光学系における各部の面間隔および偏芯量を示す図The figure which shows the surface spacing and the amount of eccentricity of each part in the projection optical system of Example 14. 実施例14の投射光学系を構成する光学要素の非球面データを示す図The figure which shows the aspherical surface data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 14. 実施例14の投射光学系によるスポットダイアグラムを示す図The figure which shows the spot diagram by the projection optical system of Example 14. 実施例14の投射光学系による歪曲形状を示す図The figure which shows the distortion shape by the projection optical system of Example 14. 実施例15の投射光学系の広角端でのレンズ構成を示す断面図Cross-sectional view showing a lens configuration at a wide-angle end of the projection optical system of Example 15. 実施例15の投射光学系の望遠端でのレンズ構成を示す断面図Cross-sectional view showing a lens configuration at the telephoto end of the projection optical system of Example 15. 実施例15の投射光学系を構成する光学要素の基本データを示す図The figure which shows the basic data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 15. 実施例15の投射光学系における各部の面間隔および偏芯量を示す図The figure which shows the surface spacing and the amount of eccentricity of each part in the projection optical system of Example 15. 実施例15の投射光学系を構成する光学要素の非球面データを示す図The figure which shows the aspherical surface data of the optical element which comprises the projection optical system of Example 15. 実施例15の投射光学系によるスポットダイアグラムを示す図The figure which shows the spot diagram by the projection optical system of Example 15. 実施例15の投射光学系による歪曲形状を示す図The figure which shows the distortion shape by the projection optical system of Example 15. 実施例1〜15の投射光学系における主要な仕様を示す図The figure which shows the main specifications in the projection optical system of Examples 1-15. 画像表示面上の領域および点を説明する概略図Schematic diagram illustrating areas and points on an image display surface

以下、本発明の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。図1は本発明の一実施形態に係る投射光学系100の構成を、主な光束と合わせて示す断面図である。また図2は、図1の投射光学系100の構成を、光束を除いて詳しく示す断面図である。ここでの断面図とは、画像表示素子11の投射有効域MAの中心から出射する光束の主光線がスクリーンに到達するまでの光路を含む平面に沿って、投射光学系100を切断した際の断面図である。上記の平面は、主光軸Z方向と画像表示素子11の投射有効域MAの短辺方向とによって構成される平面と平行な平面である。上記の光束は、主光軸Zに近い光束と最大画角の光束、並びにそれらの中間的な光束である。図1および図2において、画像表示素子の画像表示面11側が縮小側、レンズ光学系の最終レンズL12側が拡大側である。なお以下において、レンズ光学系内の位置については、光束の進行方向を考慮して、拡大側を前方、縮小側を後方と称して説明することもある。図1および図2に示す投射光学系100は後述する実施例1に対応している。また、図1および図2に示す投射光学系100の基本的なレンズ構成は、後述する図8、14、20、26および32にそれぞれ示す実施例2、3、4、5および6の投射光学系100の基本なレンズ構成と同様である。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view showing the configuration of a projection optical system 100 according to an embodiment of the present invention together with a main luminous flux. Further, FIG. 2 is a cross-sectional view showing the configuration of the projection optical system 100 of FIG. 1 in detail except for the luminous flux. The cross-sectional view here is when the projection optical system 100 is cut along a plane including an optical path until the main ray of the luminous flux emitted from the center of the projection effective region MA of the image display element 11 reaches the screen. It is a cross-sectional view. The above-mentioned plane is a plane parallel to the plane formed by the Z direction of the main optical axis and the short side direction of the projection effective region MA of the image display element 11. The above-mentioned luminous flux is a luminous flux close to the main optical axis Z, a luminous flux having a maximum angle of view, and an intermediate luminous flux thereof. In FIGS. 1 and 2, the image display surface 11 side of the image display element is the reduction side, and the final lens L12 side of the lens optical system is the enlargement side. In the following, the position in the lens optical system may be described with the enlargement side as the front side and the reduction side as the rear side in consideration of the traveling direction of the luminous flux. The projection optical system 100 shown in FIGS. 1 and 2 corresponds to the first embodiment described later. The basic lens configuration of the projection optical system 100 shown in FIGS. 1 and 2 is the projection optics of Examples 2, 3, 4, 5 and 6 shown in FIGS. 8, 14, 20, 26 and 32, respectively, which will be described later. This is the same as the basic lens configuration of the system 100.

この投射光学系100は、例えばプロジェクタ装置に搭載されて、DMD、透過型液晶表示装置、あるいは反射型液晶表示装置等の画像表示素子の画像表示面11に表示された画像MをスクリーンSCへ投射するものとして使用可能である。図1では、プロジェクタ装置に搭載される場合を想定して、画像表示素子の画像表示面11およびカバーガラス12も併せて図示している。 The projection optical system 100 is mounted on a projector device, for example, and projects an image M displayed on an image display surface 11 of an image display element such as a DMD, a transmissive liquid crystal display device, or a reflective liquid crystal display device onto a screen SC. It can be used as a projector. In FIG. 1, the image display surface 11 and the cover glass 12 of the image display element are also shown, assuming that they are mounted on a projector device.

このプロジェクタ装置においては、図示外の光源から発せられた後に画像表示面11で画像Mの情報を与えられた光束が、カバーガラス12を通して投射光学系100に入射され、この投射光学系100内の屈折光学系を含む第1光学系1内で第1中間像IM1が結像される。上記光束は凹面鏡3を含む第2光学系2に入射され、第1中間像IM1がさらに、第1光学系1と第2光学系2との間に第2中間像IM2として結像される。第2中間像IM2は第2光学系2によって反射、拡大され、スクリーンSC上に投射像TMとして拡大投射される。なお、この投射の方向TDは、後述する第1光学系1の主光軸Zと交差する方向である。レンズ構成に加えて光線も示す図1および、同様の後述する図38では、第1中間像IM1および第2中間像IM2を実線で示すと共に、上記中間的な光束によるそれらの結像位置を破線の直線で概略的に示している。図1および図38以外のレンズ構成図では、第1中間像IM1および第2中間像IM2については、上記のような概略的位置のみを示している(実線表示の直線)。実際の各実施例の第1中間像IM1および第2中間像IM2は、図1および図38で表されているように、主光軸Zから離れるにつれて後方側(縮小側)に傾いた(倒れた)形状を有する実像である。 In this projector device, a light beam emitted from a light source (not shown) and then given the information of the image M on the image display surface 11 is incident on the projection optical system 100 through the cover glass 12, and is contained in the projection optical system 100. The first intermediate image IM1 is imaged in the first optical system 1 including the bending optical system. The luminous flux is incident on the second optical system 2 including the concave mirror 3, and the first intermediate image IM1 is further formed as a second intermediate image IM2 between the first optical system 1 and the second optical system 2. The second intermediate image IM2 is reflected and enlarged by the second optical system 2, and is enlarged and projected as a projection image TM on the screen SC. The projection direction TD is a direction that intersects the main optical axis Z of the first optical system 1, which will be described later. In FIG. 1 showing light rays in addition to the lens configuration and FIG. 38, which will be described later, the first intermediate image IM1 and the second intermediate image IM2 are shown by solid lines, and their imaging positions due to the intermediate luminous flux are shown by broken lines. It is shown roughly by the straight line of. In the lens configuration diagrams other than those in FIGS. 1 and 38, only the above-mentioned schematic positions are shown for the first intermediate image IM1 and the second intermediate image IM2 (straight lines shown by solid lines). As shown in FIGS. 1 and 38, the first intermediate image IM1 and the second intermediate image IM2 of each actual embodiment are tilted rearward (reduced side) as they move away from the main optical axis Z (tilt). It is a real image with a shape.

図2に示すように第1光学系1は、第1屈折光学系10および第2屈折光学系20をこの順に縮小側から拡大側に向かって配置して構成されている。第1屈折光学系10は、正の屈折力を有する(以下、これを単に「正の」という)両面が非球面の両凸レンズL1、負の屈折力を有する(以下、これを単に「負の」という)両凹レンズL2、負の両凹レンズL3、このレンズL3に接合された両凸レンズL4、両凸レンズL5、両凸レンズL6、および両面が非球面である負のメニスカスレンズL7を主光軸Zに沿って縮小側から拡大側に向かって順に配置して構成されている。一方第2屈折光学系20は、両面が非球面である正のメニスカスレンズL8、両凸レンズL9、両凸レンズL10、このレンズL10に接合された両凹レンズL11、および両凸レンズL12を主光軸Zに沿って縮小側から拡大側に向かって順に配置して構成されている。第2光学系2を構成する凹面鏡3は、非球面の反射面を有するものとされている。なお、レンズL1とレンズL2との間には、開口絞りStが配置されている。図示されている絞りStは必ずしも大きさや形状を厳密に表すものではなく、主光軸Z上の位置を示すものである。また図2に示す第1中間像IM1、第2中間像IM2はそれぞれ、主光軸Zに最も近い像位置を示すものである。 As shown in FIG. 2, the first optical system 1 is configured by arranging the first refractive optics system 10 and the second refractive optics system 20 in this order from the reduction side to the enlargement side. The first refractive optical system 10 has a biconvex lens L1 having aspherical surfaces on both sides having a positive refractive power (hereinafter, simply referred to as “positive”) and having a negative refractive power (hereinafter, simply referred to as “negative”). A biconcave lens L2, a negative biconcave lens L3, a biconvex lens L4 joined to this lens L3, a biconvex lens L5, a biconvex lens L6, and a negative meniscus lens L7 having aspherical surfaces on both sides are used as the main optical axis Z. It is configured by arranging them in order from the reduction side to the enlargement side along the line. On the other hand, in the second refraction optical system 20, a positive meniscus lens L8 having aspherical surfaces on both sides, a biconvex lens L9, a biconvex lens L10, a biconcave lens L11 bonded to the lens L10, and a biconvex lens L12 are used as the main optical axis Z. It is configured by arranging them in order from the reduction side to the enlargement side along the line. The concave mirror 3 constituting the second optical system 2 is supposed to have an aspherical reflecting surface. An aperture diaphragm St is arranged between the lens L1 and the lens L2. The illustrated aperture St does not necessarily represent the size or shape exactly, but indicates the position on the main optical axis Z. Further, the first intermediate image IM1 and the second intermediate image IM2 shown in FIG. 2 show the image positions closest to the main optical axis Z, respectively.

以下では、第1光学系1内で主光軸Zと一致することもある部分的な光軸について言及するが、この主光軸Zとは、回転対称体である最も縮小側のレンズL1と、同じく回転対称体である凹面鏡3の各回転中心軸が共有する軸を意味する。実施例では、第1屈折光学系10を構成するレンズ素子の中で最も多くのレンズ素子が共有する光軸と、第2屈折光学系20を構成するレンズ素子の中で最も多くのレンズ素子が共有する光軸と、第2光学系2の光軸(回転対称軸)とが、それぞれ共有されて主光軸Zとして構成されている。可動光学系が偏芯していない状態では、第1屈折光学系10および第2屈折光学系20は、それぞれ単一の光軸を共有する共軸光学系であり、さらに第1光学系1は単一の光軸を共有する共軸光学系であり、投射光学系100は単一の光軸を共有する共軸光学系である。 In the following, a partial optical axis that may coincide with the main optical axis Z in the first optical system 1 will be referred to, and the main optical axis Z is the lens L1 on the most reduced side, which is a rotational symmetry. It means an axis shared by each rotation center axis of the concave mirror 3, which is also a rotation symmetry body. In the embodiment, the optical axis shared by the most lens elements among the lens elements constituting the first refraction optical system 10 and the most lens elements among the lens elements constituting the second refraction optical system 20 are used. The shared optical axis and the optical axis (rotational symmetry axis) of the second optical system 2 are shared and configured as the main optical axis Z. In a state where the movable optical system is not eccentric, the first refractive optical system 10 and the second refractive optical system 20 are co-axis optical systems that share a single optical axis, and the first optical system 1 is further. It is a co-axis optical system that shares a single optical axis, and the projection optical system 100 is a co-axis optical system that shares a single optical axis.

第1光学系1には、主光軸Zに沿って移動することで投射像TMの光学特性を変化させる少なくとも1枚のレンズを有する移動光学系が設けられている。図1に示す実施形態では、一例として移動光学系が正のメニスカスレンズL8から構成されている。この例では、レンズL8が主光軸Zに沿って移動することにより、投射像TMの光学特性の一つである合焦状態が変えられる。この光学特性は合焦状態に限られるものではなく、その他、投射光学系100が変倍機能を有する場合等においては、投射像TMの倍率等であってもよい。すなわち、光学特性の変化とは、フォーカス調整時のピント位置(投射光学系100の最も前方に配置された光学素子を基準にした投射像TMが結像する位置)の変化やズーム調整時の像倍率の変化または像面湾曲調整時の像面湾曲量の変化を含むのはもちろんのこと、それらの調整の際に付随して発生する収差の変化を含む、スクリーンSCを含む投射面上における投射像TMの結像状態の変化を指す。 The first optical system 1 is provided with a mobile optical system having at least one lens that changes the optical characteristics of the projected image TM by moving along the main optical axis Z. In the embodiment shown in FIG. 1, as an example, the mobile optical system is composed of a positive meniscus lens L8. In this example, the focusing state, which is one of the optical characteristics of the projected image TM, is changed by moving the lens L8 along the main optical axis Z. This optical characteristic is not limited to the focused state, and may be the magnification of the projected image TM or the like when the projection optical system 100 has a scaling function or the like. That is, the change in the optical characteristics is a change in the focus position at the time of focus adjustment (a position where the projection image TM is imaged with reference to the optical element arranged in the front of the projection optical system 100) or an image at the time of zoom adjustment. Projection on the projection surface including the screen SC, including changes in the magnification or changes in the amount of curvature of field when adjusting the curvature of field, as well as changes in aberrations that occur during those adjustments. Refers to a change in the imaging state of the image TM.

また第1光学系1には、主光軸Zに交差する方向に光軸を変位させるように動く少なくとも1枚のレンズを有する可動光学系が設けられている。図1に示す実施形態では、一例として可動光学系が両凸レンズL6から構成されている。ここで、主光軸Zに交差する方向に光軸を変位させるように動くとは、主光軸Zに対して直交する方向に光軸を平行移動させること、および、主光軸Zに対して角度を成すように光軸を傾斜させることの双方を指すものである。図1では、前者のように平行移動された場合のレンズL6の光軸Z1を示している。なお以下では、前者の平行移動させることを「シフト」と称し、後者の傾斜させることを「チルト」と称する。このような可動光学系を設ける構成は、後述する実施例1〜15の全てにおいて適用されている。 Further, the first optical system 1 is provided with a movable optical system having at least one lens that moves so as to displace the optical axis in a direction intersecting the main optical axis Z. In the embodiment shown in FIG. 1, as an example, the movable optical system is composed of a biconvex lens L6. Here, moving so as to displace the optical axis in a direction intersecting the main optical axis Z means moving the optical axis in parallel in a direction orthogonal to the main optical axis Z, and relative to the main optical axis Z. It refers to both tilting the optical axis so as to form an angle. FIG. 1 shows the optical axis Z1 of the lens L6 when it is translated as in the former case. In the following, the translation of the former is referred to as "shift", and the tilt of the latter is referred to as "tilt". The configuration in which such a movable optical system is provided is applied in all of Examples 1 to 15 described later.

以下、上述の可動光学系による作用について説明する。前述した通り、移動光学系の主光軸Zに沿った移動により投射像TMの光学特性を変化させ得るが、それに加えて、可動光学系を主光軸Zに交差する方向に光軸を変位させるように移動させる。これにより、移動光学系のみの移動により投射像TMの光学特性を変化させ得る場合と比較して、可動光学系も移動させることで投射像TMの光学特性を適正に変化させ得る範囲をより広くすることが可能となる。一例を挙げると、図1および図2で示した実施形態(後述する実施例1に対応)では、フォーカス調整のために、移動光学系であるレンズL7およびL8の主光軸Zに沿った移動により投射像TMの光学特性であるピント位置を変化させ得るが、それに加えて、可動光学系としてのレンズL6の光軸Z1を主光軸Zに対して変位するように動かす。これにより、上記レンズL7およびL8の主光軸Zに沿った移動のみにより投射像TMの光学特性を適正に変化させ得る範囲と比較して、より広い範囲で投射像TMのピント位置を適正に変化させることが可能になる。ここでいうところの「適正に」とは、移動光学系を移動する目的(例えばフォーカス調整)に応じて移動させた際に、意図した光学特性の変化(例えばピント位置の変化)に付随して発生する、意図していない収差、結像位置や結像倍率の変動に伴う投射像TMの結像性能の低下を十分に抑制ができていることを指す。 Hereinafter, the operation of the above-mentioned movable optical system will be described. As described above, the optical characteristics of the projected image TM can be changed by moving along the main optical axis Z of the moving optical system, but in addition, the optical axis is displaced in the direction in which the movable optical system intersects the main optical axis Z. Move to make it. As a result, the range in which the optical characteristics of the projected image TM can be appropriately changed by moving the movable optical system is wider than in the case where the optical characteristics of the projected image TM can be changed by moving only the moving optical system. It becomes possible to do. As an example, in the embodiment shown in FIGS. 1 and 2 (corresponding to the first embodiment described later), the lenses L7 and L8, which are mobile optical systems, are moved along the main optical axis Z for focus adjustment. The focus position, which is an optical characteristic of the projected image TM, can be changed by the above method, but in addition, the optical axis Z1 of the lens L6 as a movable optical system is moved so as to be displaced with respect to the main optical axis Z. As a result, the focus position of the projected image TM can be properly adjusted in a wider range than the range in which the optical characteristics of the projected image TM can be appropriately changed only by moving the lenses L7 and L8 along the main optical axis Z. It becomes possible to change. The term "appropriately" as used herein means that when the moving optical system is moved according to the purpose of movement (for example, focus adjustment), it accompanies an intended change in optical characteristics (for example, a change in focus position). It means that the deterioration of the imaging performance of the projected image TM due to the unintended aberration and the fluctuation of the imaging position and the imaging magnification that occur can be sufficiently suppressed.

具体的には、例えば移動光学系のレンズを移動させて合焦(フォーカス調整)する時に可動光学系を用いることで、用いない場合に比べて合焦範囲(つまり投射画像の結像性能を一定以上保った状態を維持したままフォーカス調整が可能となる投射距離の範囲)を拡大することが可能となる。この点についてより詳しく説明すると、まず、投射距離を変化させて投射像のサイズを変更する際に、フォーカス調整用のレンズを光軸に沿って移動させることで光学性能を維持したままフォーカス調整ができる範囲には限りがある。すなわち、調整可能範囲の上限・下限を超えてフォーカス調整をしても、収差の補正が仕切れずに結像性能が低下する。しかし、可動光学系をさらに変位させることで、フォーカス調整可能範囲の上限や下限をさらに拡大することが可能になる。例えば通常のフォーカス調整用レンズの移動だけでは、投射像サイズが50inchから100inchの範囲でしかフォーカス調整ができなかったとしても、可動光学系を変位させることで、上限であった100inchよりも大きな投射像サイズである150inchまで投射像の結像性能を維持したままフォーカス調整を行うことが可能となる。 Specifically, for example, by using a movable optical system when moving the lens of the moving optical system to focus (focus adjustment), the focusing range (that is, the imaging performance of the projected image is constant) as compared with the case where it is not used. It is possible to expand the range of the projection distance at which the focus can be adjusted while maintaining the above-mentioned state. To explain this point in more detail, first, when the size of the projected image is changed by changing the projection distance, the focus adjustment lens is moved along the optical axis to adjust the focus while maintaining the optical performance. There is a limit to what you can do. That is, even if the focus is adjusted beyond the upper and lower limits of the adjustable range, the aberration correction is not completed and the imaging performance deteriorates. However, by further displacing the movable optical system, it becomes possible to further expand the upper limit and the lower limit of the focus adjustable range. For example, even if the focus can be adjusted only in the range of 50 inch to 100 inch of the projected image size only by moving the normal focus adjustment lens, by displacing the movable optical system, the projection is larger than the upper limit of 100 inch. Focus adjustment can be performed while maintaining the imaging performance of the projected image up to the image size of 150 inches.

また、移動光学系のレンズを移動させて変倍(ズーム)する場合、そのレンズ単体では変倍比(最も短い焦点距離と最も長い焦点距離との比率)が例えば10倍であったとしても、さらに可動光学系を変位させることで変倍比を10倍を超えるまで伸ばすことも可能となる。 Further, when the lens of the moving optical system is moved to change the magnification (zoom), even if the magnification ratio (ratio of the shortest focal length to the longest focal length) is 10 times, for example, with the lens alone. Further, by dissociating the movable optical system, it is possible to extend the magnification ratio to more than 10 times.

さらに可動光学系を変位させることで、像面湾曲の調整も可能となる。投射距離や投射倍率を変更したことで生じる像面湾曲は、投射像のサイズが大きいほど、または、投射画角が大きくなるほど増大する。この増大した像面湾曲を補正するために可動光学系を変位させることで、変位させない場合に比べて、より増大した像面湾曲を補正することが可能となり、よってこの点から、投射距離や投射倍率をより大きく設定することが可能になる。 Further, by displacing the movable optical system, it is possible to adjust the curvature of field. The curvature of field caused by changing the projection distance and the projection magnification increases as the size of the projection image increases or the projection angle of view increases. By displacing the movable optical system to correct this increased curvature of field, it is possible to correct the increased curvature of field as compared to the case where it is not displaced. Therefore, from this point, the projection distance and projection It becomes possible to set a larger magnification.

なお、本実施形態の投射光学系100は画像表示面11の投射有効域MA(図99参照)に対して垂直に偏芯して配置され、主光軸Zと投射有効域MAとが交わらない、いわゆるオフセット構造を有している。また本発明においては、投射有効域MAだけではなく、画像表示面11自体と主光軸Zとが交わらないオフセット構造も適用可能である。 The projection optical system 100 of the present embodiment is arranged eccentrically with respect to the projection effective area MA (see FIG. 99) of the image display surface 11, and the main optical axis Z and the projection effective area MA do not intersect. , So-called offset structure. Further, in the present invention, not only the projection effective region MA but also an offset structure in which the image display surface 11 itself and the main optical axis Z do not intersect can be applied.

次に、可動光学系を構成するレンズL6への光入射について説明する。図1に示すように画像表示素子の画像表示面11において、被投射面であるスクリーンSCに投射像TMとして投射され得る範囲である投射有効域MAの中で、光軸Z1の変位方向Yに沿う方向で、主光軸Zから最も遠い端部である遠端部E1と、主光軸Zから最も近い端部である近端部E2とを考える。なお図99には、上記投射有効域MA、遠端部E1および近端部E2等を主光軸Zと平行な方向から見た場合の状態を、図1中の方向を示す矢印Yと共に概略的に示す。そして上記遠端部E1から出射する光の主光線を遠端部主光線R1とし、近端部E2から出射する光の主光線を近端部主光線R2とする。また、可動光学系L6の最も後方の光入射面Laにおける遠端部主光線R1の入射位置を遠端部主光線入射位置P1とし、光入射面Laにおける近端部主光線R2の入射位置を近端部主光線入射位置P2としたとき、可動光学系L6は、遠端部主光線入射位置P1と近端部主光線入射位置P2とが互いに異なる位置に配置されている。 Next, light incident on the lens L6 constituting the movable optical system will be described. As shown in FIG. 1, on the image display surface 11 of the image display element, in the projection effective area MA, which is a range in which the projected image TM can be projected onto the screen SC, which is the projected surface, in the displacement direction Y of the optical axis Z1. Consider the far end E1 which is the farthest end from the main optical axis Z and the near end E2 which is the closest end to the main optical axis Z in the direction along the main light axis. Note that FIG. 99 shows a state in which the projection effective region MA, the far end portion E1, the near end portion E2, and the like are viewed from a direction parallel to the main optical axis Z, together with an arrow Y indicating the direction in FIG. Shown. Then, the main ray of light emitted from the far-end portion E1 is referred to as the far-end main ray R1, and the main ray of light emitted from the near-end portion E2 is referred to as the near-end main ray R2. Further, the incident position of the far-end main ray R1 on the rearmost light incident surface La of the movable optical system L6 is set as the far-end main ray incident position P1, and the incident position of the near-end main ray R2 on the light incident surface La is set. When the near-end main ray incident position P2 is set, the movable optical system L6 is arranged so that the far-end main ray incident position P1 and the near-end main ray incident position P2 are different from each other.

なお本発明の実施形態において、変位方向Yは、投射有効域MAに対する投射光学系100の偏芯方向と投射光学系100の主光軸Z方向とからなる平面に沿う方向である。例えば、投射有効域MAに対して投射光学系100が主光軸Z方向(前後方向)とは直交する一方向(上下方向)に偏芯して配置された場合、投射光学系100から出射される投射像TMの中心は主光軸Zに対して上下方向の一方側に偏った位置に斜めから投射される。その際に、投射光学系100から出射される投射像TMの中心に入射する主光線は、前後方向と上下方向とからなる平面に沿って進行する。そのため、前記主光線が沿う平面において、主光軸ZとスクリーンSCとが垂直関係にある場合、投射像TMの最も下側で結像する光束の結像位置までの光路長(投射光学系100から投射像TMまで各光束の主光線が実際に進行した距離)と最も上側で結像する光束の結像位置までの光路長とに差が生じることとなる。その上側と下側での光路長の差により投射像TMの上側の光束の結像性能と下側の光束の結像性能に差が生じ、フォーカス調整や変倍(ズーム調整)の際の投射像TM全体の結像性能に影響が生じる。そのため、可動光学系の変位方向Yを投射有効域MAに対する投射光学系100の偏芯方向(実施例では上下方向)と投射光学系100の主光軸Z方向とからなる平面に沿う方向とすることで、投射像TMの上下の結像性能の差をより適切に補正が可能となる。よって、投射像TM全体の結像性能を保ったまま、光学特性を適正に変化させ得る範囲を拡大することに有利となる。 In the embodiment of the present invention, the displacement direction Y is a direction along a plane composed of an eccentric direction of the projection optical system 100 and a main optical axis Z direction of the projection optical system 100 with respect to the projection effective region MA. For example, when the projection optical system 100 is eccentrically arranged in one direction (vertical direction) orthogonal to the main optical axis Z direction (front-back direction) with respect to the projection effective region MA, it is emitted from the projection optical system 100. The center of the projected image TM is obliquely projected at a position biased to one side in the vertical direction with respect to the main optical axis Z. At that time, the main ray incident on the center of the projected image TM emitted from the projection optical system 100 travels along a plane composed of the front-back direction and the up-down direction. Therefore, when the main optical axis Z and the screen SC are in a vertical relationship in the plane along which the main ray is along, the optical path length to the imaging position of the luminous flux formed on the lowermost side of the projected image TM (projection optical system 100). There will be a difference between the distance actually traveled by the main rays of each luminous flux from to the projected image TM) and the optical path length to the imaging position of the luminous flux formed on the uppermost side. Due to the difference in the optical path length between the upper side and the lower side, there is a difference between the imaging performance of the luminous flux on the upper side of the projected image TM and the imaging performance of the luminous flux on the lower side. The imaging performance of the entire image TM is affected. Therefore, the displacement direction Y of the movable optical system is set to be a direction along a plane composed of the eccentric direction (vertical direction in the embodiment) of the projection optical system 100 with respect to the projection effective region MA and the main optical axis Z direction of the projection optical system 100. This makes it possible to more appropriately correct the difference in imaging performance above and below the projected image TM. Therefore, it is advantageous to expand the range in which the optical characteristics can be appropriately changed while maintaining the imaging performance of the entire projected image TM.

以上述べたように、遠端部主光線R1と近端部主光線R2とを互いに分離した状態で可動光学系(例えば図1および図2に示す構成ではレンズL6)へ入射させる構成は、後述する実施例1〜15の全てにおいて適用されている。 As described above, the configuration in which the far-end main ray R1 and the near-end main ray R2 are separated from each other and incident on the movable optical system (for example, the lens L6 in the configurations shown in FIGS. 1 and 2) will be described later. It is applied in all of Examples 1 to 15.

以下、上記構成による作用について説明する。遠端部主光線R1と近端部主光線R2とを互いに分離した状態で可動光学系L6へ入射させることにより、各主光線に対する光軸Z1の変位による影響を異ならせることが可能になる。つまり、像高の高い位置へ入射する主光線ほど、光軸Z1の変位に対する感度が高くなる。そこで、各主光線間の結像性能の差を無くす、あるいは少なくするように補正することが可能になるので、移動光学系であるレンズL7およびL8の移動により投射像TMの光学特性を適正に変化させ得る範囲をより好適に広げることができる。 Hereinafter, the operation of the above configuration will be described. By incidenting the far-end main ray R1 and the near-end main ray R2 into the movable optical system L6 in a state of being separated from each other, it is possible to make the influence of the displacement of the optical axis Z1 on each main ray different. That is, the higher the image height of the main ray, the higher the sensitivity to the displacement of the optical axis Z1. Therefore, it is possible to correct the difference in imaging performance between the main rays so as to eliminate or reduce it. Therefore, the optical characteristics of the projected image TM can be appropriately adjusted by moving the lenses L7 and L8, which are mobile optical systems. The range that can be changed can be expanded more preferably.

なお、遠端部主光線入射位置P1、近端部主光線入射位置P2に各々入射する遠端部主光線R1、近端部主光線R2の入射角度の差が大きくなるほど、入射位置P1、入射位置P2における光軸Z1の変位に対する各光線の感度差が高くなる。そこで、入射角度がより大きくなる入射位置P1での結像性能の補正能力が、入射位置P2での補正能力に比べて高くなり、結果として、より収差の発生しやすい投射領域の補正を適切に行うことが可能となる。 The larger the difference between the incident angles of the far-end main ray R1 and the near-end main ray R2, which are incident on the far-end main ray incident position P1 and the near-end main ray incident position P2, the more the incident position P1 and the incident are incident. The difference in sensitivity of each light ray with respect to the displacement of the optical axis Z1 at the position P2 becomes high. Therefore, the ability to correct the imaging performance at the incident position P1 where the incident angle becomes larger becomes higher than the correction ability at the incident position P2, and as a result, the correction of the projection region where aberrations are more likely to occur is appropriately corrected. It becomes possible to do.

次に、本発明の別の実施形態に係る投射光学系について、図38および図39を参照して説明する。図38は本発明の別の実施形態に係る投射光学系100の構成を、主な光束と合わせて示す断面図である。図39は図38の投射光学系100の構成を、光束を除いて詳しく示す断面図である。なおこれらの図38および図39において、先に説明した図1および図2中のものと同等の要素には同番号を付してあり、それらについては特に必要の無い限り説明を省略する(以下、同様)。またこれらの図では、プロジェクタ装置に搭載される色合成部または照明光分離部に用いられるプリズム4も併せて示している。図38および図39に示す投射光学系100は後述する実施例7に対応している。また、図38および図39に示す投射光学系100の基本的なレンズ構成は、後述する図45、図51、図57および図63にそれぞれ示す実施例8、9、10および11の投射光学系100と同様であり、さらに図70と71に示す実施例12、図77と78に示す実施例13、図84と85に示す実施例14、図91と92に示す実施例15の投射光学系100の基本なレンズ構成と同様である。 Next, the projection optical system according to another embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 38 and 39. FIG. 38 is a cross-sectional view showing the configuration of the projection optical system 100 according to another embodiment of the present invention together with the main luminous flux. FIG. 39 is a cross-sectional view showing the configuration of the projection optical system 100 of FIG. 38 in detail except for the luminous flux. In addition, in these FIGS. 38 and 39, the same elements as those in FIGS. 1 and 2 described above are given the same numbers, and the description thereof will be omitted unless otherwise specified (hereinafter, the description thereof). , Similar). Further, in these figures, the prism 4 used for the color synthesis unit or the illumination light separation unit mounted on the projector device is also shown. The projection optical system 100 shown in FIGS. 38 and 39 corresponds to the seventh embodiment described later. Further, the basic lens configuration of the projection optical system 100 shown in FIGS. 38 and 39 is the projection optical system of Examples 8, 9, 10 and 11 shown in FIGS. 45, 51, 57 and 63, respectively, which will be described later. The same as 100, and further, the projection optical system of Example 12 shown in FIGS. 70 and 71, Example 13 shown in FIGS. 77 and 78, Example 14 shown in FIGS. 84 and 85, and Example 15 shown in FIGS. 91 and 92. It is the same as the basic lens configuration of 100.

この別の実施形態における第1光学系1も、先に説明した実施形態におけるのと同様に、第1屈折光学系10および第2屈折光学系20をこの順に縮小側から拡大側に向かって配置して構成されている。第1屈折光学系10は、両凸レンズL1、両凸レンズL2、両凸レンズL3、このレンズL3に接合された両凹レンズL4、両凸レンズL5、このレンズL5に接合された負のメニスカスレンズL6、両凹レンズL7、およびこのレンズL7に接合された両凸レンズL8を主光軸Zに沿って縮小側から拡大側に向かって順に配置して構成されている。一方第2屈折光学系20は正のメニスカスレンズL9、両凸レンズL10、両面が非球面である負のメニスカスレンズL11、両凹レンズL12、このレンズL12に接合された両凸レンズL13、両面が非球面である正のメニスカスレンズL14、両面が非球面である負のメニスカスレンズL15、正のメニスカスレンズL16、両凸レンズL17、負のメニスカスレンズL18、およびこのレンズL18に接合された両凸レンズL19を主光軸Zに沿って縮小側から拡大側に向かって順に配置して構成されている。第2光学系2を構成する凹面鏡3は、非球面の反射面を有するものとされている。なお、レンズL8とレンズL9との間には開口絞りSt1が配置され、レンズL17とレンズL18との間には開口絞りSt2が配置されている。また、レンズL8とレンズL9との間においてレンズ9に近接した位置には、視野絞り(フレアカッタ)Sfが配置されている。 In the first optical system 1 in this other embodiment, the first refractive optics system 10 and the second refractive optics system 20 are arranged in this order from the reduction side to the enlargement side in the same manner as in the above-described embodiment. It is composed of. The first refractive optics system 10 includes a biconvex lens L1, a biconvex lens L2, a biconvex lens L3, a biconcave lens L4 bonded to the lens L3, a biconvex lens L5, a negative meniscus lens L6 bonded to the lens L5, and a biconcave lens. The L7 and the biconvex lens L8 joined to the lens L7 are arranged in order from the reduction side to the enlargement side along the main optical axis Z. On the other hand, the second refraction optical system 20 includes a positive meniscus lens L9, a biconvex lens L10, a negative meniscus lens L11 having aspherical surfaces on both sides, a biconcave lens L12, a biconvex lens L13 bonded to the lens L12, and both sides having aspherical surfaces. A positive meniscus lens L14, a negative meniscus lens L15 having aspherical surfaces on both sides, a positive meniscus lens L16, a biconvex lens L17, a negative meniscus lens L18, and a biconvex lens L19 bonded to the lens L18 are the main optical axes. It is configured by arranging in order from the reduction side to the enlargement side along Z. The concave mirror 3 constituting the second optical system 2 is supposed to have an aspherical reflecting surface. An aperture diaphragm St1 is arranged between the lens L8 and the lens L9, and an aperture diaphragm St2 is arranged between the lens L17 and the lens L18. Further, a field diaphragm (flare cutter) Sf is arranged between the lens L8 and the lens L9 at a position close to the lens 9.

次に、本発明の投射光学系における好ましい部分的構成に関して、上述した2つの実施形態を参照して説明する。まず、可動光学系におけるレンズ配置について説明する。先に述べたように遠端部主光線入射位置P1と近端部主光線入射位置P2とが互いに異なる位置にあるように可動光学系が配置される場合、可動光学系は例えば図38および図39に示すように、第1中間像IM1と、この第1中間像IM1よりも前方に配置される絞りSt2との間に配置される少なくとも1枚のレンズ(図38および図39の例ではレンズL15)を有することが望ましい。この構成は、後述する実施例7〜13において適用されている。ちなみに本発明の投射光学系では、後述する実施例1〜6のように、光学系によっては絞りSt2を実際の機械的構成として配置されていない場合もある。この場合は、絞りSt2の位置の代わりに、主光軸Zおよび遠端部主光線R1の交点と読み替え、上記1枚のレンズを、「第一中間像IM1と、この第一中間像IM1よりも前方に配置される主光軸Zおよび遠端部主光線R1の交点との間に配置される少なくとも1枚のレンズ」とする。 Next, a preferable partial configuration in the projection optical system of the present invention will be described with reference to the above-mentioned two embodiments. First, the lens arrangement in the movable optical system will be described. When the movable optical system is arranged so that the far-end main ray incident position P1 and the near-end main ray incident position P2 are at different positions as described above, the movable optical system is, for example, FIGS. 38 and 38. As shown in FIG. 39, at least one lens (lens in the examples of FIGS. 38 and 39) arranged between the first intermediate image IM1 and the aperture St2 arranged in front of the first intermediate image IM1. It is desirable to have L15). This configuration is applied in Examples 7 to 13 described later. Incidentally, in the projection optical system of the present invention, the diaphragm St2 may not be arranged as an actual mechanical configuration depending on the optical system, as in Examples 1 to 6 described later. In this case, instead of the position of the aperture St2, it should be read as the intersection of the main optical axis Z and the far-end main ray R1. Is also referred to as "at least one lens arranged between the intersection of the main optical axis Z arranged in front and the far-end main ray R1".

以下、上記構成による作用について説明する。第1中間像IM1から絞りSt2までの間の光線は、遠端部主光線と近端部主光線とが主光軸Zと直交する方向に分離した状態で光路上を進行する。このように遠端部主光線と近端部主光線とが分離している位置に可動光学系のレンズを配置することで、このレンズの光入射面における各主光線の入射角に差を持たせることができる。これにより、各主光線に対する可動光学系の変位(主光軸Zに対する光軸Z1の変位)による影響、詳しくはこの光軸Z1の変位に対する各主光線の感度を、各主光線の入射角の差に応じて変化させることが可能となる。傾向として、光入射面において像高の高い位置に入射する主光線ほど入射角が大きくなり、光軸Z1の変位による影響をより強く受ける。結果として、移動光学群の移動による投射像TMの結像位置による結像性能の差、つまり各主光線の結像位置による結像性能の差を無くす、あるいは少なくするように補正することが可能となる。 Hereinafter, the operation of the above configuration will be described. The light beam between the first intermediate image IM1 and the diaphragm St2 travels on the optical path in a state where the far-end main ray and the near-end main ray are separated in the direction orthogonal to the main optical axis Z. By arranging the lens of the movable optical system at a position where the far-end main ray and the near-end main ray are separated in this way, there is a difference in the incident angle of each main ray on the light incident surface of this lens. Can be made. As a result, the influence of the displacement of the movable optical system with respect to each principal ray (displacement of the optical axis Z1 with respect to the optical axis Z), specifically, the sensitivity of each principal ray to the displacement of the optical axis Z1, is determined by the incident angle of each principal ray. It is possible to change according to the difference. As a tendency, the incident angle becomes larger as the main ray incident at a position higher in the image height on the light incident surface, and is more strongly affected by the displacement of the optical axis Z1. As a result, it is possible to correct so as to eliminate or reduce the difference in imaging performance depending on the imaging position of the projected image TM due to the movement of the moving optical group, that is, the difference in imaging performance depending on the imaging position of each main ray. It becomes.

特に、第1中間像IM1よりも前方に配置される第2屈折光学系20は、第1中間像IM1からの発散光を屈折させて、台形歪み等の歪曲収差および像面湾曲が強く発生した第2中間像IM2を形成する屈折光学系である。歪曲収差および像面湾曲は、画角に比例して発生量が増大する収差(軸外収差)であり、よって、第2屈折光学系20は、遠端部主光線R1および近端部主光線R2を含む各光束の、光軸方向における結像位置や結像位置における結像性能に大きな差を持たせて結像させる光学系である。そのため、第1中間像IM1よりも前方に配置される屈折光学系である第2屈折光学系20に可動光学系を配置することで、過剰な軸外収差による各主光線における結像位置および結像性能の差を無くす、あるいは少なくするように適切に補正することが可能となる。 In particular, the second bending optical system 20 arranged in front of the first intermediate image IM1 refracts the divergent light from the first intermediate image IM1, and distortion such as trapezoidal distortion and curvature of field are strongly generated. This is a refractive optics system that forms the second intermediate image IM2. Distortion and curvature of field are aberrations (off-axis aberrations) in which the amount of generation increases in proportion to the angle of view. Therefore, the second refraction optical system 20 has the far-end main ray R1 and the near-end main ray R1. This is an optical system for forming an image with a large difference in the image formation position in the optical axis direction and the image formation performance at the image formation position of each light beam including R2. Therefore, by arranging the movable optical system in the second refraction optical system 20, which is a refraction optical system arranged in front of the first intermediate image IM1, the imaging position and the connection in each main ray due to excessive off-axis aberration are formed. It is possible to make appropriate corrections so as to eliminate or reduce the difference in image performance.

上述したように、遠端部主光線入射位置P1と近端部主光線入射位置P2とが互いに異なる位置にあるように可動光学系が配置されて、かつ可動光学系が、第1中間像IM1と第1中間像IM1よりも前方に配置される絞りSt2との間に配置される少なくとも1枚のレンズを有する場合、そのようなレンズのうちの1枚は、第1中間像IM1に隣接した位置に配置されていることが望ましい。なおこの「隣接」とは、中間像IM1と当該レンズとの間に、別のレンズが存在しないことを意味する。この構成は、後述する実施例3および8において適用されている。 As described above, the movable optical system is arranged so that the far-end main ray incident position P1 and the near-end main ray incident position P2 are located at different positions, and the movable optical system is the first intermediate image IM1. When having at least one lens arranged between the first intermediate image IM1 and the aperture St2 arranged in front of the first intermediate image IM1, one of such lenses is adjacent to the first intermediate image IM1. It is desirable that it is placed in a position. Note that this "adjacent" means that another lens does not exist between the intermediate image IM1 and the lens. This configuration is applied in Examples 3 and 8 described later.

以下、上記構成による作用について説明する。中間像を形成した光線の各主光線は分離した状態になっている。そのため、中間像に隣接するレンズへ入射する光線の各主光線を分離した状態にさせ易い。よって、中間像に隣接するレンズを可動光学系に含めることで、各主光線に対する可動光学系レンズ群の変位による影響を分散する(各主光線の可動光学系レンズ群の変位に対する感度を主光線毎に変化させる)ことが可能となり、各主光線間の結像性能の差を無くす、あるいは少なくするように補正することが可能となる。 Hereinafter, the operation of the above configuration will be described. Each main ray of the ray forming the intermediate image is in a separated state. Therefore, it is easy to separate the main rays of the rays incident on the lens adjacent to the intermediate image. Therefore, by including the lens adjacent to the intermediate image in the movable optical system, the influence of the displacement of the movable optical system lens group on each main ray is dispersed (the sensitivity of each main ray to the displacement of the movable optical system lens group is determined by the main ray. It is possible to change each time), and it is possible to make corrections so as to eliminate or reduce the difference in imaging performance between the main rays.

また、画像光つまり画像情報を担持している光が結像する中間像の付近では、画像光の主光線、上光線および下光線同士の間隔は、中間像に近いほど狭くなる。そのため、中間像に隣接するレンズを可動光学系とすることで、軸上収差に対する影響を小さくすることが可能となる。 Further, in the vicinity of the intermediate image in which the image light, that is, the light carrying the image information is formed, the distance between the main ray, the upper ray, and the lower ray of the image light becomes narrower as it is closer to the intermediate image. Therefore, by using a lens adjacent to the intermediate image as a movable optical system, it is possible to reduce the influence on axial aberrations.

次の好ましい部分的構成について説明する。投射光学系100においては、例えば図20に示すように可動光学系(この例ではレンズL9が構成している)は、移動光学系(この例ではレンズL7およびL8が構成している)の中で最も前方に配置されたレンズL8よりも前方に配置された正レンズL9を有することが好ましい。この構成は、後述する実施例4、5および6において適用されている。 The following preferred partial configuration will be described. In the projection optical system 100, for example, as shown in FIG. 20, the movable optical system (consisting of the lens L9 in this example) is included in the moving optical system (consisting of the lenses L7 and L8 in this example). It is preferable to have a positive lens L9 arranged in front of the lens L8 arranged most in front of the lens L8. This configuration is applied in Examples 4, 5 and 6 described later.

上記のような構成とすれば、移動光学系を構成するレンズL7およびL8の間に可動光学系L9を配置する必要がなくなるので、機械的な構成を単純化することが可能になる。以下、この点について詳しく説明する。移動光学系と可動光学系とはレンズが実際に駆動する方向が互いに異なるので、レンズを駆動する機械的機構も独立したものとなる。その場合、一方の光学系が他方の光学系に挟まれていると、一方の光学系によって分断された他方の光学系は分断されたそれぞれのレンズ群を移動させるために、それぞれのレンズ群に対して駆動力を伝達する機械的機構を用意する必要が生じて、機械的機構が複雑化する。それに対して、上述のようにレンズL7およびL8の間に可動光学系L9を配置しないのであれば、分断された各レンズ群に対して駆動力を伝達する機械的機構をそれぞれ用意する必要がなくなって、機械的な構成が単純化される。 With the above configuration, it is not necessary to arrange the movable optical system L9 between the lenses L7 and L8 constituting the mobile optical system, so that the mechanical configuration can be simplified. This point will be described in detail below. Since the moving optical system and the movable optical system actually drive the lens in different directions, the mechanical mechanism for driving the lens is also independent. In that case, if one optical system is sandwiched between the other optical systems, the other optical system divided by one optical system is moved to each divided lens group in order to move each divided lens group. On the other hand, it becomes necessary to prepare a mechanical mechanism for transmitting the driving force, which complicates the mechanical mechanism. On the other hand, if the movable optical system L9 is not arranged between the lenses L7 and L8 as described above, it is not necessary to prepare a mechanical mechanism for transmitting the driving force to each divided lens group. Therefore, the mechanical configuration is simplified.

次の好ましい部分的構成について説明する。投射光学系100において、先に述べたように遠端部主光線入射位置P1と近端部主光線入射位置P2とが互いに異なる位置にあるように可動光学系が配置される場合、可動光学系は例えば図26に示すように、第1光学系1のうちで最も前方に配置されるレンズ(この例ではレンズL12)を有することが望ましい。この構成は、後述する実施例5および6において適用されている。 The following preferred partial configuration will be described. In the projection optical system 100, when the movable optical system is arranged so that the far-end main ray incident position P1 and the near-end main ray incident position P2 are at different positions as described above, the movable optical system For example, as shown in FIG. 26, it is desirable to have a lens (lens L12 in this example) arranged at the frontmost position in the first optical system 1. This configuration is applied in Examples 5 and 6 described later.

以下、上記構成による作用について説明する。第1光学系1の最も前方側に配置されるレンズL12を可動光学系とすることで、各主光線が分離した状態で可動光学系の最も後方側の光入射面へ入射した光線を、各主光線の分離が小さい光線として出射することが可能となる。それにより、各主光線の結像性能の差(軸外収差)および、各主光線を含む光線(光束)における主光線と上下光線とのズレによる収差(軸上収差)無くす、あるいは少なくするように補正することが可能となる。 Hereinafter, the operation of the above configuration will be described. By using the lens L12 arranged on the frontmost side of the first optical system 1 as the movable optical system, the light rays incident on the light incident surface on the rearmost side of the movable optical system in a state where the main rays are separated can be transmitted to each of them. It is possible to emit light with a small separation of the main light. By doing so, the difference in imaging performance of each main ray (off-axis aberration) and the aberration (axial aberration) due to the deviation between the main ray and the upper and lower rays in the ray (luminous flux) including each main ray should be eliminated or reduced. It becomes possible to correct to.

次の好ましい部分的構成について説明する。投射光学系100において、先に述べたように遠端部主光線入射位置P1と近端部主光線入射位置P2とが互いに異なる位置にあるように可動光学系が配置される場合、可動光学系は例えば図1に示すように、第1中間像IM1と、この第1中間像IM1よりも後方に配置される絞りStとの間に配置される少なくとも1枚のレンズ(この例ではレンズL6)を有することが好ましい。この構成は、後述する実施例1、2、14および15において適用されている。 The following preferred partial configuration will be described. In the projection optical system 100, when the movable optical system is arranged so that the far-end main ray incident position P1 and the near-end main ray incident position P2 are at different positions as described above, the movable optical system For example, as shown in FIG. 1, at least one lens (lens L6 in this example) is arranged between the first intermediate image IM1 and the diaphragm St arranged behind the first intermediate image IM1. It is preferable to have. This configuration is applied in Examples 1, 2, 14 and 15 described later.

以下、上記構成による作用について説明する。絞りStから第1中間像IM1までの間の光線は、遠端部主光線と近端部主光線とが主光軸Zと直交する方向に分離した状態で光路上を進行する。このように遠端部主光線と近端部主光線とが分離している位置に可動光学系のレンズを配置することで、このレンズの光入射面における各主光線に差を持たせることができる。これにより、各主光線に対する可動光学系の変位(主光軸Zに対する光軸Z1の変位)による影響、詳しくはこの光軸Z1の変位に対する各主光線の感度を、各主光線の入射角の差に応じて変化させることが可能となる。傾向として、光入射面において像高の高い位置に入射する主光線ほど入射角度が大きくなり、光軸Z1の変位による影響を強く受ける。結果として、移動光学系の移動による投射像TMの結像位置による結像性能の差、つまり各主光線の結像位置による結像性能の差を無くす、あるいは少なくするように補正することが可能となる。 Hereinafter, the operation of the above configuration will be described. The light rays between the aperture St and the first intermediate image IM1 travel on the optical path in a state where the far-end main light rays and the near-end main rays are separated in the direction orthogonal to the main optical axis Z. By arranging the lens of the movable optical system at a position where the far-end main ray and the near-end main ray are separated in this way, it is possible to give a difference to each principal ray on the light incident surface of this lens. can. As a result, the influence of the displacement of the movable optical system with respect to each principal ray (displacement of the optical axis Z1 with respect to the optical axis Z), specifically, the sensitivity of each principal ray to the displacement of the optical axis Z1, is determined by the incident angle of each principal ray. It is possible to change according to the difference. As a tendency, the incident angle becomes larger as the main ray incident at a position higher in the image height on the light incident surface, and is strongly affected by the displacement of the optical axis Z1. As a result, it is possible to correct so as to eliminate or reduce the difference in imaging performance depending on the imaging position of the projected image TM due to the movement of the moving optical system, that is, the difference in imaging performance depending on the imaging position of each main ray. It becomes.

特に、第1中間像IM1よりも後方に配置される第1屈折光学系10は、画像Mからの発散光を屈折させて像面湾曲、非点収差およびコマ収差が発生した第1中間像IM1を形成する屈折光学系である。像面湾曲、非点収差およびコマ収差は、画角に比例して発生量が増大する収差であり、よって、第1屈折光学系10は、遠端部主光線R1および近端部主光線R2を含む各光束の、光軸方向における結像位置や結像位置における結像性能に差を持たせて結像させる光学系である。そのため、第1中間像IM1よりも後方に配置される第1屈折光学系10に可動光学系を配置することにより、遠端部主光線R1および近端部主光線R2を含む各光束の結像性能の差を調整して第1中間像IM1を結像することが可能となる。さらに、第1中間像IM1よりも前方に配置される第2屈折光学系20は、第1中間像IM1を拡大投影して第2中間像IM2を形成するため、第1中間像IM1で発生する収差もまた増大させることになるが、第1屈折光学系10に可動光学系を配置すれば、可動光学系による補正の効果を第2屈折光学系20による拡大により増大することができるため、上記調整の量を小さくすることが可能となる。 In particular, the first refracting optical system 10 arranged behind the first intermediate image IM1 refracts the divergent light from the image M to cause curvature of field, astigmatism, and coma. It is a refraction optical system that forms. The curvature of field, astigmatism, and coma are aberrations whose amount of generation increases in proportion to the angle of view. Therefore, the first refraction optical system 10 has a far-end main ray R1 and a near-end main ray R2. This is an optical system for forming an image with a difference in the image formation position in the optical axis direction and the image formation performance at the image formation position of each light beam including. Therefore, by arranging the movable optical system in the first refraction optical system 10 arranged behind the first intermediate image IM1, the image formation of each luminous flux including the far-end main ray R1 and the near-end main ray R2 is performed. It is possible to form the first intermediate image IM1 by adjusting the difference in performance. Further, the second bending optical system 20 arranged in front of the first intermediate image IM1 is generated in the first intermediate image IM1 because the first intermediate image IM1 is magnified and projected to form the second intermediate image IM2. Aberration will also be increased, but if the movable optical system is arranged in the first refractive optics system 10, the effect of correction by the movable optical system can be increased by the enlargement by the second refractive optics system 20. It is possible to reduce the amount of adjustment.

次の好ましい部分的構成について説明する。投射光学系100において、上述したように、遠端部主光線入射位置P1と近端部主光線入射位置P2とが互いに異なる位置にあるように可動光学系が配置されて、かつ可動光学系が、第1中間像IM1と、この第1中間像IM1よりも後方に配置される絞りStとの間に配置される少なくとも1枚のレンズを有する場合、可動光学系は例えば図2に示すように、第1光学系1の中で第1中間像IM1よりも後方に配置される正レンズの中で最も前方に配置されるレンズ(この例ではレンズL6)を有することが好ましい。この構成は、後述する実施例2において適用されている。 The following preferred partial configuration will be described. In the projection optical system 100, as described above, the movable optical system is arranged so that the far-end main ray incident position P1 and the near-end main ray incident position P2 are at different positions, and the movable optical system is When having at least one lens arranged between the first intermediate image IM1 and the aperture St arranged behind the first intermediate image IM1, the movable optical system is, for example, as shown in FIG. It is preferable to have a lens (lens L6 in this example) arranged in the front of the positive lenses arranged behind the first intermediate image IM1 in the first optical system 1. This configuration is applied in Example 2 described later.

以下、上記構成による作用について説明する。第1中間像IM1を形成した光線は、各主光線が分離した状態になっている。そのため、中間像に隣接するレンズへ入射する光線を分離した状態にさせ易い。これにより、各主光線間の結像性能の差を無くす、あるいは少なくするように補正することが可能となる。また、絞りSt、St1と第1中間像IM1との間において、有効表示域MAからの光線は、主光線前方へ進行するほどに主光軸Zから離れるように発散している。そのため、投射光学系100の外形寸法の過度な増大を防ぐために、その間にある正レンズは、各主光線の光線角度を光軸側へ向かうように屈折させる作用を有する。そのため、当該正レンズを可動光学系とすることで、光線角度を強く曲げることで増大する収差を良好に補正することが可能となる。また、可動光学系を構成する正レンズの光入射面を凸面とすることで、光入射面において像高が高い光線ほど入射角度が大きくなり、かつ、像高の高い光線ほど正レンズの光入射面に入射するまでの光路長が長くなる。そのため、可動光学系の変位から受ける影響も強くなり、結果として、上記補正を行う上で有利となる。また、画像光が結像する中間像の付近では、画像光の主光線、上光線および下光線の相互間の間隔は、中間像に近いほど狭くなる。そのため、中間像に隣接するレンズを可動光学系とすることで、軸上収差に対する感度が小さくなり、軸上収差が増大することを防止できる。 Hereinafter, the operation of the above configuration will be described. The light rays forming the first intermediate image IM1 are in a state where each main light ray is separated. Therefore, it is easy to separate the light rays incident on the lens adjacent to the intermediate image. This makes it possible to make corrections so as to eliminate or reduce the difference in imaging performance between the main rays. Further, between the diaphragms St and St1 and the first intermediate image IM1, the light rays from the effective display area MA are diverged so as to move away from the main optical axis Z as they travel forward of the main light rays. Therefore, in order to prevent an excessive increase in the external dimensions of the projection optical system 100, the positive lens in between has a function of refracting the ray angle of each main ray toward the optical axis side. Therefore, by using the positive lens as a movable optical system, it is possible to satisfactorily correct the aberration that increases due to the strong bending of the light beam angle. Further, by making the light incident surface of the positive lens constituting the movable optical system a convex surface, the higher the image height of the light beam on the light incident surface, the larger the incident angle, and the higher the image height of the light ray, the more the light incident on the positive lens. The length of the optical path until it enters the surface becomes longer. Therefore, the influence of the displacement of the movable optical system becomes strong, and as a result, it is advantageous in performing the above correction. Further, in the vicinity of the intermediate image in which the image light is formed, the distance between the main ray, the upper ray and the lower ray of the image light becomes narrower as it is closer to the intermediate image. Therefore, by using a lens adjacent to the intermediate image as a movable optical system, it is possible to reduce the sensitivity to axial aberration and prevent the axial aberration from increasing.

次の好ましい部分的構成について説明する。投射光学系100において、上述したように、遠端部主光線入射位置P1と近端部主光線入射位置P2とが互いに異なる位置にあるように可動光学系が配置されて、かつ可動光学系が、第1中間像IM1と、この第1中間像IM1よりも後方に配置される絞りとの間に配置される少なくとも1枚のレンズを有する場合、可動光学系は例えば図8に示すように、第1中間像IM1とこの第1中間像IM1よりも後方に配置される絞りStとの間に配置される少なくとも1枚のメニスカスレンズ(この例ではレンズL7)を有することが好ましい。この構成は、後述する実施例2および13において適用されている。 The following preferred partial configuration will be described. In the projection optical system 100, as described above, the movable optical system is arranged so that the far-end main ray incident position P1 and the near-end main ray incident position P2 are at different positions, and the movable optical system is When the movable optical system has at least one lens arranged between the first intermediate image IM1 and the diaphragm arranged behind the first intermediate image IM1, the movable optical system is, for example, as shown in FIG. It is preferable to have at least one meniscus lens (lens L7 in this example) arranged between the first intermediate image IM1 and the diaphragm St arranged behind the first intermediate image IM1. This configuration is applied in Examples 2 and 13 described later.

以下、上記構成による作用について説明する。メニスカスレンズはレンズ面の曲率の大きさに対してレンズ自体のパワーが強くないため、光学系の焦点距離の変化を抑制しながら光線の角度の調整を行うことに適したレンズである。そのため、可動光学系として変位させた際に、光入射面へ入射する各主光線の入射角度を変化させる各主光線の差を調整しつつも、他の収差に対する影響を小さくすることが可能となる。 Hereinafter, the operation of the above configuration will be described. Since the power of the lens itself is not strong with respect to the magnitude of the curvature of the lens surface, the meniscus lens is a lens suitable for adjusting the angle of light rays while suppressing the change in the focal length of the optical system. Therefore, when displaced as a movable optical system, it is possible to reduce the influence on other aberrations while adjusting the difference between the main rays that change the incident angle of each main ray incident on the light incident surface. Become.

次の好ましい部分的構成について説明する。投射光学系100において、先に述べたように遠端部主光線入射位置P1と近端部主光線入射位置P2とが互いに異なる位置にあるように可動光学系が配置される場合、例えば図1に示すように、遠端部主光線入射位置P1と主光軸Zとの間の距離である入射位置距離Y1と、近端部主光線入射位置P2と主光軸Zとの間の距離Y2と、投射光学系100の全系の焦点距離f(近点投射時の広角端における焦点距離とする)とが、
4.0 >(Y1−Y2)/|f|≧0.8 ・・・ (1)
の関係を満たしていることが好ましい。なお図1では、距離Y2を図示することが困難であるので、便宜的に近端部主光線入射位置P2の位置にY2の表示をしている。距離Y2は正しくは、Y2表示の位置から主光軸Zに直交する方向(図中矢印Yで示す方向)に主光軸Zまで降ろした線分の長さである。この構成は、後述する実施例1〜15において適用されている。
The following preferred partial configuration will be described. In the projection optical system 100, when the movable optical system is arranged so that the far-end main ray incident position P1 and the near-end main ray incident position P2 are at different positions as described above, for example, FIG. As shown in, the incident position distance Y1 which is the distance between the far-end main ray incident position P1 and the main optical axis Z, and the distance Y2 between the near-end main ray incident position P2 and the main optical axis Z. And the focal length f of the entire system of the projection optical system 100 (the focal length at the wide-angle end at the time of near-point projection) is
4.0> (Y1-Y2) / | f | ≧ 0.8 ・ ・ ・ (1)
It is preferable that the relationship of Since it is difficult to illustrate the distance Y2 in FIG. 1, Y2 is displayed at the position of the near-end main ray incident position P2 for convenience. The distance Y2 is correctly the length of the line segment drawn from the position of Y2 display to the main optical axis Z in the direction orthogonal to the main optical axis Z (the direction indicated by the arrow Y in the figure). This configuration is applied in Examples 1 to 15 described later.

以下、上記構成による作用について説明する。可動光学系を動かして光軸Z1をシフトあるいはチルトさせることで、移動光学系により投射像TMの光学特性を適正に変化させることができる範囲を広げることができる。なお、上記(Y1−Y2)/|f|の値が仮に(1)式が規定している下限値を下回ると、Y1とY2との差が小さくなり、各主光線の光軸までの高さの差が小さくなり過ぎるため、各主光線ごとの結像位置による結像性の差の補正が難しくなる。また、上記(Y1−Y2)/|f|の値が仮に(1)式が規定している上限値以上になると、Y1が大きくなり過ぎてレンズ系が増大し、もしくは焦点距離fが小さくなり過ぎて収差の発生量が過剰になり、補正が難しくなる。 Hereinafter, the operation of the above configuration will be described. By moving the movable optical system to shift or tilt the optical axis Z1, the range in which the optical characteristics of the projected image TM can be appropriately changed by the moving optical system can be expanded. If the value of (Y1-Y2) / | f | falls below the lower limit value defined by Eq. (1), the difference between Y1 and Y2 becomes small, and the height of each main ray to the optical axis. Since the difference between the two is too small, it becomes difficult to correct the difference in imaging property depending on the imaging position for each main ray. Further, if the value of (Y1-Y2) / | f | exceeds the upper limit value defined by the equation (1), Y1 becomes too large and the lens system increases, or the focal length f becomes small. Therefore, the amount of aberration generated becomes excessive, and correction becomes difficult.

次の好ましい部分的構成について説明する。投射光学系100において、先に述べたように遠端部主光線入射位置P1と近端部主光線入射位置P2とが互いに異なる位置にあるように可動光学系が配置される場合、例えば図1に示すように、可動光学系(この例ではレンズL6)の最も後方の光入射面Laにおける遠端部主光線R1の入射位置を遠端部主光線入射位置P1とし、最も前方の光出射面Lbにおける遠端部主光線R1の出射位置を遠端部主光線出射位置P3としたとき、
遠端部主光線入射位置P1と主光軸Zとの間の距離である入射位置距離Y1と、遠端部主光線出射位置P3と主光軸Zとの間の距離である出射位置距離Y3とが、
1.3≧Y3/Y1≧0.7 ・・・ (2)
の関係を満たしていることが好ましい。この構成は、後述する実施例5および6以外の全ての実施例において適用されている。
The following preferred partial configuration will be described. In the projection optical system 100, when the movable optical system is arranged so that the far-end main ray incident position P1 and the near-end main ray incident position P2 are different from each other as described above, for example, FIG. As shown in the above, the incident position of the far-end main ray R1 on the rearmost light incident surface La of the movable optical system (lens L6 in this example) is set as the far-end main ray incident position P1, and the frontmost light emitting surface. When the emission position of the far-end main ray R1 in Lb is set to the far-end main ray emission position P3,
The incident position distance Y1 which is the distance between the far-end main ray incident position P1 and the main optical axis Z, and the emission position distance Y3 which is the distance between the far-end main ray emission position P3 and the main optical axis Z. And,
1.3 ≧ Y3 / Y1 ≧ 0.7 ・ ・ ・ (2)
It is preferable that the relationship of This configuration is applied in all examples except Examples 5 and 6 described later.

上記の構成とすることにより、可動光学系を動かす際における像シフトを抑制することができる。 With the above configuration, image shift when moving the movable optical system can be suppressed.

次の好ましい部分的構成について説明する。投射光学系100において、可動光学系の焦点距離f5と、第1光学系1の焦点距離f1(近点投射時の広角端における焦点距離とする)とは、
70 > |f5| / |f1| ≧ 1.0 ・・・ (3)
の関係を満たしていることが好ましい。この構成は、後述する実施例5以外の全ての実施例において適用されている。
The following preferred partial configuration will be described. In the projection optical system 100, the focal length f5 of the movable optical system and the focal length f1 of the first optical system 1 (referred to as the focal length at the wide-angle end at the time of near-point projection) are
70 > | f5 | / | f1 | ≧ 1.0 ・ ・ ・ (3)
It is preferable that the relationship of This configuration is applied in all examples except Example 5, which will be described later.

上記の構成とすることにより、移動光学系の移動時における像シフトを抑制することができる。 With the above configuration, image shift during movement of the moving optical system can be suppressed.

次の好ましい部分的構成について説明する。投射光学系100において、可動光学系は例えば図32に示すように、第1光学系1のうちで、2枚以上のレンズからなるレンズ群(この例ではレンズL10、L11およびL12)として構成されていることが好ましい。この構成は、後述する実施例5、6および13において適用されている。 The following preferred partial configuration will be described. In the projection optical system 100, as shown in FIG. 32, for example, the movable optical system is configured as a lens group (lenses L10, L11, and L12 in this example) composed of two or more lenses in the first optical system 1. Is preferable. This configuration is applied in Examples 5, 6 and 13 described later.

上記の構成とすることにより、複数のレンズ面により屈折角を調整することができる。そこで、フォーカス調整、変倍、像面湾曲の補正時に変動する収差をより精度良く補正することが可能となる。 With the above configuration, the refraction angle can be adjusted by a plurality of lens surfaces. Therefore, it is possible to more accurately correct aberrations that fluctuate during focus adjustment, scaling, and curvature of field.

次の好ましい部分的構成について説明する。投射光学系100において移動光学系は、投射像TMの投射距離を変更して合焦状態を変化させる合焦(フォーカス調整)用光学系、投射像TMの投射倍率を変更する変倍用光学系、および投射像TMの像面湾曲の補正を行う像面湾曲補正用光学系の少なくとも1つを備えることが好ましい。この構成は、後述する実施例1〜15全てにおいて適用されている。 The following preferred partial configuration will be described. In the projection optical system 100, the mobile optical system is an optical system for focusing (focus adjustment) that changes the focusing state by changing the projection distance of the projection image TM, and an optical system for variable magnification that changes the projection magnification of the projection image TM. , And it is preferable to include at least one optical system for correcting curvature of field that corrects curvature of field of the projected image TM. This configuration is applied in all of Examples 1 to 15 described later.

次に、本開示の実施形態に係る実施例1〜15について説明する。まず、実施例1の投射光学系について説明する。実施例1の投射光学系の構成は、先に説明した通り、図1および図2に断面図を示した投射光学系100の構成と対応している。実施例1の投射光学系について、構成要素の基本データを図3に、位置や角度が変わる面あるいは構成要素に関するデータを図4に、非球面係数に関するデータを図5に示す。以下では、それらの図中で用いられている記号の意味について、実施例1のものを例にとって説明するが、実施例2〜15についても基本的に同様である。 Next, Examples 1 to 15 according to the embodiment of the present disclosure will be described. First, the projection optical system of the first embodiment will be described. As described above, the configuration of the projection optical system of the first embodiment corresponds to the configuration of the projection optical system 100 whose cross-sectional views are shown in FIGS. 1 and 2. Regarding the projection optical system of the first embodiment, the basic data of the components are shown in FIG. 3, the data on the surface or the component whose position or angle changes is shown in FIG. 4, and the data on the aspherical coefficient is shown in FIG. In the following, the meanings of the symbols used in those figures will be described by taking the one of Example 1 as an example, but the same is basically the same for Examples 2 to 15.

図3の基本データにおいて、面番号No.の欄には最も縮小側の構成要素の面を1番目として拡大側に向かうに従い順次増加する面番号を示している。曲率半径Riの欄には各面の曲率半径を示している。曲率半径Riの符号は、面形状が縮小側に凸の場合を正、拡大側に凸の場合を負としている。面間隔diの欄には面番号=iの面と面番号=i+1の面との主光軸Z上の間隔を示す。以上の曲率半径Ri、面間隔diおよび有効径Diの単位はmmである。また、屈折率ndの欄には各光学要素のd線(波長587.6nm)に対する屈折率を示し、アッベ数νdの欄には各光学要素のd線に対するアッベ数を示す。「レンズ等」の欄には、図1および図2に示した光変調器の画像表示面11に形成される画像Mの面、カバーガラス12、開口絞りSt、結像される第1中間像IM1、第2中間像IM2、凹面鏡3、スクリーンSC上の位置となる投射像TMの面も含めて示している。それらについては、上記の記載順に従ってそれぞれ「OBJ」、「CG」、「絞り」、「中間像1」、「中間像2」、「MIR」、「IMG」と表記している。面間隔diの中で可変の面間隔については、その面の番号に*の表記を付して示している。また非球面形状の面は、面番号No.の欄に*の表記を付して示している。 In the basic data of FIG. 3, the surface number No. In the column of, the surface number of the component on the reduction side is set as the first, and the surface number that gradually increases toward the expansion side is shown. The radius of curvature Ri column shows the radius of curvature of each surface. The sign of the radius of curvature Ri is positive when the surface shape is convex to the reduction side and negative when the surface shape is convex to the expansion side. In the column of the surface spacing di, the distance between the surface with the surface number = i and the surface with the surface number = i + 1 on the main optical axis Z is shown. The unit of the radius of curvature Ri, the surface spacing di, and the effective diameter Di is mm. Further, the column of the refractive index nd shows the refractive index of each optical element with respect to the d line (wavelength 587.6 nm), and the column of the Abbe number νd shows the Abbe number of each optical element with respect to the d line. In the "lens, etc." column, the surface of the image M formed on the image display surface 11 of the light modulator shown in FIGS. 1 and 2, the cover glass 12, the aperture stop St, and the first intermediate image to be imaged. The surface of the IM1, the second intermediate image IM2, the concave mirror 3, and the projected image TM located on the screen SC is also shown. They are described as "OBJ", "CG", "aperture", "intermediate image 1", "intermediate image 2", "MIR", and "IMG", respectively, according to the above description order. The variable surface spacing in the surface spacing di is indicated by adding * to the surface number. Further, the aspherical surface has the surface number No. It is shown with a notation of * in the column of.

図4に示す面間隔は、上述のように可変である面間隔を、近点投射時(合焦範囲内で最も近い位置に投射した場合:図面内では「近点」と表記)と遠点投射時(合焦範囲内で最も遠い位置に投射した場合:図面内では「遠点」と表記)のそれぞれについて示している。また、図4に示す偏芯量は、可動光学系を構成するレンズ等について、前述した「シフト」あるいは「チルト」の量を示している。「シフト」については、可動光学系を構成するレンズ等の光軸Z1が主光軸Zから平行移動した距離(mm)を、図1中で上方向へ移動した場合を正値、図1中で下方向へ移動した場合を負値として示している。「チルト」については、可動光学系を構成するレンズ等の光軸Z1が主光軸Zに対して傾いた角度(度)を、図1に表れている入射面に回転中心を設定して反時計回りに回転した場合を正値、同様にして時計回りに回転した場合を負値として示している。 The surface spacing shown in FIG. 4 is the same as the surface spacing that is variable as described above, at the time of near point projection (when projected to the closest position within the focusing range: expressed as "near point" in the drawing) and perigee. Each of the projections (when projecting to the farthest position within the focusing range: indicated as "far point" in the drawing) is shown. Further, the amount of eccentricity shown in FIG. 4 indicates the amount of "shift" or "tilt" described above for the lens or the like constituting the movable optical system. Regarding "shift", the positive value is the case where the optical axis Z1 of the lens or the like constituting the movable optical system is translated upward from the main optical axis Z in FIG. 1 and is shown in FIG. The case of moving downward with is shown as a negative value. Regarding "tilt", the angle (degree) at which the optical axis Z1 of the lens or the like constituting the movable optical system is tilted with respect to the main optical axis Z is set to the incident surface shown in FIG. The case of rotating clockwise is shown as a positive value, and the case of rotating clockwise is shown as a negative value.

この実施例1ではレンズL7とレンズL8とが互いに独立して主光軸Zに沿って移動し、それによってフォーカス調整がなされる。すなわち本実施例では、これらの2つのレンズによって移動光学系が構成されている。また、この実施例1では図4に示す通り、レンズL6がチルトによって偏芯してフォーカス調整する可動光学系を構成している。したがって本実施例1では、可動光学系の光入射面、光出射面はそれぞれ図3に示すNo.14、15の面となる。なお、可動光学系を構成するこのレンズL6に対する画像光の入・出射角の変化は、投射像TMの光学特性に顕著に影響する。そのため、こうしてレンズL6をチルトさせる場合は、その動き量を比較的小さくしても光学特性の変化範囲を大きく広げることができるという効果を奏する。特にこのチルトを、レンズL6の最も後方の面である光入射面と主光軸Zとの交点を中心に行うようにすれば、上記の効果がより大きくなる。 In the first embodiment, the lens L7 and the lens L8 move independently of each other along the main optical axis Z, whereby the focus is adjusted. That is, in this embodiment, the mobile optical system is composed of these two lenses. Further, in the first embodiment, as shown in FIG. 4, the lens L6 constitutes a movable optical system in which the lens L6 is eccentric by tilting to adjust the focus. Therefore, in the first embodiment, the light incident surface and the light emitting surface of the movable optical system are No. 2 shown in FIG. 3, respectively. There are 14 and 15 faces. The change in the input / output angle of the image light with respect to the lens L6 constituting the movable optical system significantly affects the optical characteristics of the projected image TM. Therefore, when the lens L6 is tilted in this way, there is an effect that the range of change in the optical characteristics can be greatly widened even if the amount of movement thereof is relatively small. In particular, if this tilt is performed centering on the intersection of the light incident surface, which is the rearmost surface of the lens L6, and the main optical axis Z, the above effect becomes even greater.

図5に示す非球面係数に関するデータには、非球面の面番号と、非球面に関する非球面係数を示す。非球面の形状は、Xを光軸方向の座標、Yを光軸に垂直な方向の座標、光の進行方向を正、Rdyを近軸曲率半径として、図5に示した係数K、A、B、C、およびDを用いて次式で表わされる。なお、「e−n」は、「10のn乗」を意味する。
X=(1/Rdy)Y2/[1+{1−(1+K)(1/Rdy)221/2]+AY4+BY6+CY8+DY10
The data on the aspherical coefficient shown in FIG. 5 shows the surface number of the aspherical surface and the aspherical coefficient on the aspherical surface. As for the shape of the aspherical surface, the coefficients K, A, shown in FIG. 5 are shown in FIG. It is expressed by the following equation using B, C, and D. In addition, "en" means "10 to the nth power".
X = (1 / Rdy) Y 2 / [1 + {1- (1 + K) (1 / Rdy) 2 Y 2 } 1/2 ] + AY 4 + BY 6 + CY 8 + DY 10

以上のように実施例1に関して説明した各データの記号、意味、記載方法は、特に断りがない限り後述する実施例2〜15に関しても同様であるので、以下では重複した説明は省略する。なお、図3〜図5に示す数値データには、適宜所定の桁でまるめた値も示してある。 As described above, the symbols, meanings, and description methods of the data described for Example 1 are the same for Examples 2 to 15 described later unless otherwise specified. Therefore, duplicate description will be omitted below. The numerical data shown in FIGS. 3 to 5 also show values rounded to a predetermined digit as appropriate.

図6には、実施例1の投射光学系100を用いてスクリーンSCに光線を投射した場合の、スクリーンSC上における光線のスポットダイアグラムを示す。図中の(a)は近点投射時、(b)は遠点投射時のスポットダイアグラムである。各スポットダイアグラムの左側に示す4つの数値のうち下側左右の数値(単位:MM、ミリメートル)は、画像表示面11における光線出射位置(X座標,Y座標)を示す。また上側左右の数値は、それらのX座標とY座標の最大物体高に対する相対値を示している。図6では、X座標が0.000でY座標が−1.30、−5.62、−9.94である3つの場合、X座標が3.456でY座標が−1.30、−5.62、−9.94である3つの場合、X座標が6.912でY座標が−1.30、−5.62、−9.94である3つの場合、の合計9つの場合についてスポットダイアグラムを示している。図中のスケールは(a)では20.0ミリメートル、(b)では30.0ミリメートルである。この図6より、本実施例の投射光学系を用いれば、9点の物体高について光学諸収差が良好に補正され得ることが分かる。 FIG. 6 shows a spot diagram of the light rays on the screen SC when the light rays are projected onto the screen SC using the projection optical system 100 of the first embodiment. In the figure, (a) is a spot diagram at the time of near point projection, and (b) is a spot diagram at the time of far point projection. Of the four numerical values shown on the left side of each spot diagram, the lower left and right numerical values (units: MM, millimeters) indicate the light emission positions (X coordinate, Y coordinate) on the image display surface 11. The numerical values on the upper left and right indicate the relative values of the X and Y coordinates with respect to the maximum object height. In FIG. 6, in the case of three cases where the X coordinate is 0.000 and the Y coordinate is -1.30, -5.62, and -9.94, the X coordinate is 3.456 and the Y coordinate is -1.30,-. For a total of nine cases, the three cases of 5.62 and -9.94, and the three cases of the X coordinate of 6.912 and the Y coordinate of -1.30, -5.62, and -9.94. The spot diagram is shown. The scale in the figure is 20.0 mm in (a) and 30.0 mm in (b). From FIG. 6, it can be seen that by using the projection optical system of this embodiment, various optical aberrations can be satisfactorily corrected for the object heights of nine points.

図7には、実施例1の投射光学系100を用いてスクリーンSCに格子パターンを投射した場合の、スクリーンSC上における格子パターンの歪曲形状を示す。図中の(a)は近点投射時、(b)は遠点投射時の歪曲形状を示している。 FIG. 7 shows the distorted shape of the grid pattern on the screen SC when the grid pattern is projected onto the screen SC using the projection optical system 100 of the first embodiment. In the figure, (a) shows the distorted shape at the time of near point projection, and (b) shows the distorted shape at the time of far point projection.

次に、実施例2の投射光学系について説明する。実施例2の投射光学系の構成は、先に説明した通り、図1および図2に断面図を示した投射光学系100の構成と対応しており、その断面形状を図8に示す。実施例2の投射光学系について、構成要素の基本データを図9に、位置や角度が変わる面あるいは構成要素に関するデータを図10に、非球面係数に関するデータを図11に示す。 Next, the projection optical system of the second embodiment will be described. As described above, the configuration of the projection optical system of the second embodiment corresponds to the configuration of the projection optical system 100 whose cross-sectional views are shown in FIGS. 1 and 2, and the cross-sectional shape thereof is shown in FIG. Regarding the projection optical system of the second embodiment, the basic data of the components are shown in FIG. 9, the data on the surface or the component whose position or angle changes is shown in FIG. 10, and the data on the aspherical coefficient is shown in FIG.

この実施例2ではレンズL7とレンズL8とが互いに独立して主光軸Zに沿って移動し、それによってフォーカス調整がなされる。すなわち本実施例では、これらの2つのレンズによって移動光学系が構成されている。また、この実施例2では図10に示す通り、レンズL7がシフトによって偏芯してフォーカス調整する可動光学系を構成している。したがって本実施例2では、可動光学系の光入射面、光出射面はそれぞれ図9に示すNo.16、17の面となる。なお、可動光学系を構成するこのレンズL7に入射する画像光の主光軸Zからの距離の変化が、投射像TMに与える影響は、該距離の変化に対して緩慢である。そのため、こうしてレンズL7をシフトさせる場合は、レンズL7を動かすことによる光学特性の変化範囲の調整を行い易くなる。 In the second embodiment, the lens L7 and the lens L8 move independently of each other along the main optical axis Z, whereby the focus is adjusted. That is, in this embodiment, the mobile optical system is composed of these two lenses. Further, in the second embodiment, as shown in FIG. 10, the lens L7 constitutes a movable optical system in which the lens L7 is eccentric by shifting and the focus is adjusted. Therefore, in the second embodiment, the light incident surface and the light emitting surface of the movable optical system are No. 2 shown in FIG. 9, respectively. There are 16 and 17 faces. The effect of the change in the distance of the image light incident on the lens L7 constituting the movable optical system from the main optical axis Z on the projected image TM is slow with respect to the change in the distance. Therefore, when the lens L7 is shifted in this way, it becomes easy to adjust the change range of the optical characteristics by moving the lens L7.

実施例2の投射光学系100を用いてスクリーンSCに光線を投射した場合の、スクリーンSC上における光線のスポットダイアグラムを図12に示す。また、実施例2の投射光学系を用いてスクリーンSCに格子パターンを投射した場合の、スクリーンSC上における格子パターンの歪曲形状を図13に示す。 FIG. 12 shows a spot diagram of the light rays on the screen SC when the light rays are projected onto the screen SC using the projection optical system 100 of the second embodiment. Further, FIG. 13 shows the distorted shape of the grid pattern on the screen SC when the grid pattern is projected onto the screen SC using the projection optical system of the second embodiment.

次に、実施例3の投射光学系について説明する。実施例3の投射光学系の構成は、先に説明した通り、図1および図2に断面図を示した投射光学系100の構成と対応しており、その断面形状を図14に示す。実施例3の投射光学系について、構成要素の基本データを図15に、位置や角度が変わる面あるいは構成要素に関するデータを図16に、非球面係数に関するデータを図17に示す。 Next, the projection optical system of Example 3 will be described. As described above, the configuration of the projection optical system of the third embodiment corresponds to the configuration of the projection optical system 100 whose cross-sectional views are shown in FIGS. 1 and 2, and the cross-sectional shape thereof is shown in FIG. Regarding the projection optical system of the third embodiment, the basic data of the components are shown in FIG. 15, the data related to the surface or the component whose position or angle changes is shown in FIG. 16, and the data related to the aspherical coefficient is shown in FIG.

この実施例3ではレンズL7とレンズL8とが互いに独立して主光軸Zに沿って移動し、それによってフォーカス調整がなされる。すなわち本実施例では、これらの2つのレンズによって移動光学系が構成されている。また、この実施例3では図16に示す通り、レンズL8がシフトによって偏芯してフォーカス調整する可動光学系を構成している。したがって本実施例3では、可動光学系の光入射面、光出射面はそれぞれ図15に示すNo.19、20の面となる。 In the third embodiment, the lens L7 and the lens L8 move independently of each other along the main optical axis Z, whereby the focus is adjusted. That is, in this embodiment, the mobile optical system is composed of these two lenses. Further, in the third embodiment, as shown in FIG. 16, the lens L8 constitutes a movable optical system in which the lens L8 is eccentric by shifting and the focus is adjusted. Therefore, in the third embodiment, the light incident surface and the light emitting surface of the movable optical system are No. 1 shown in FIG. 15, respectively. There are 19 and 20 faces.

実施例3の投射光学系100を用いてスクリーンSCに光線を投射した場合の、スクリーンSC上における光線のスポットダイアグラムを図18に示す。また、実施例3の投射光学系を用いてスクリーンSCに格子パターンを投射した場合の、スクリーンSC上における格子パターンの歪曲形状を図19に示す。 FIG. 18 shows a spot diagram of the light rays on the screen SC when the light rays are projected onto the screen SC using the projection optical system 100 of the third embodiment. Further, FIG. 19 shows the distorted shape of the grid pattern on the screen SC when the grid pattern is projected onto the screen SC using the projection optical system of Example 3.

次に、実施例4の投射光学系について説明する。実施例4の投射光学系の構成は、先に説明した通り、図1および図2に断面図を示した投射光学系100の構成と対応しており、その断面形状を図20に示す。実施例4の投射光学系について、構成要素の基本データを図21に、位置や角度が変わる面あるいは構成要素に関するデータを図22に、非球面係数に関するデータを図23に示す。 Next, the projection optical system of Example 4 will be described. As described above, the configuration of the projection optical system of the fourth embodiment corresponds to the configuration of the projection optical system 100 whose cross-sectional views are shown in FIGS. 1 and 2, and the cross-sectional shape thereof is shown in FIG. Regarding the projection optical system of the fourth embodiment, the basic data of the components are shown in FIG. 21, the data related to the surface or the component whose position or angle changes is shown in FIG. 22, and the data related to the aspherical coefficient is shown in FIG.

この実施例4ではレンズL7とレンズL8とが互いに独立して主光軸Zに沿って移動し、それによってフォーカス調整がなされる。すなわち本実施例では、これらの2つのレンズによって移動光学系が構成されている。また、この実施例4では図22に示す通り、レンズL9がシフトおよびチルトによって偏芯してフォーカス調整する可動光学系を構成している。したがって本実施例4では、可動光学系の光入射面、光出射面はそれぞれ図21に示すNo.21、22の面となる。 In the fourth embodiment, the lens L7 and the lens L8 move independently of each other along the main optical axis Z, whereby the focus is adjusted. That is, in this embodiment, the mobile optical system is composed of these two lenses. Further, in the fourth embodiment, as shown in FIG. 22, the lens L9 constitutes a movable optical system in which the lens L9 is eccentric and the focus is adjusted by shifting and tilting. Therefore, in the fourth embodiment, the light incident surface and the light emitting surface of the movable optical system are No. 2 shown in FIG. It becomes the surface of 21 and 22.

実施例4の投射光学系100を用いてスクリーンSCに光線を投射した場合の、スクリーンSC上における光線のスポットダイアグラムを図24に示す。また、実施例4の投射光学系を用いてスクリーンSCに格子パターンを投射した場合の、スクリーンSC上における格子パターンの歪曲形状を図25に示す。 FIG. 24 shows a spot diagram of the light rays on the screen SC when the light rays are projected onto the screen SC using the projection optical system 100 of the fourth embodiment. Further, FIG. 25 shows the distorted shape of the grid pattern on the screen SC when the grid pattern is projected onto the screen SC using the projection optical system of Example 4.

次に、実施例5の投射光学系について説明する。実施例5の投射光学系の構成は、先に説明した通り、図1および図2に断面図を示した投射光学系100の構成と対応しており、その断面形状を図26に示す。実施例5の投射光学系について、構成要素の基本データを図27に、位置や角度が変わる面あるいは構成要素に関するデータを図28に、非球面係数に関するデータを図29に示す。 Next, the projection optical system of Example 5 will be described. As described above, the configuration of the projection optical system of the fifth embodiment corresponds to the configuration of the projection optical system 100 whose cross-sectional views are shown in FIGS. 1 and 2, and the cross-sectional shape thereof is shown in FIG. 26. Regarding the projection optical system of the fifth embodiment, the basic data of the components are shown in FIG. 27, the data of the surface or the component whose position or angle changes is shown in FIG. 28, and the data of the aspherical coefficient is shown in FIG.

この実施例5ではレンズL7とレンズL8とが互いに独立して主光軸Zに沿って移動し、それによってフォーカス調整がなされる。すなわち本実施例では、これらの2つのレンズによって移動光学系が構成されている。また、この実施例5では図28に示す通り、レンズL9、レンズL10、レンズL11、レンズL12および凹面鏡3がシフトによって偏芯してフォーカス調整する可動光学系を構成している。したがって本実施例5では、可動光学系の光入射面、光出射面はそれぞれ図27に示すNo.21、29の面となる。 In the fifth embodiment, the lens L7 and the lens L8 move independently of each other along the main optical axis Z, whereby the focus is adjusted. That is, in this embodiment, the mobile optical system is composed of these two lenses. Further, in the fifth embodiment, as shown in FIG. 28, the lens L9, the lens L10, the lens L11, the lens L12, and the concave mirror 3 constitute a movable optical system in which the lens L9, the lens L10, the lens L12, and the concave mirror 3 are eccentric by shifting to adjust the focus. Therefore, in the fifth embodiment, the light incident surface and the light emitting surface of the movable optical system are No. 27 shown in FIG. 27, respectively. There are 21 and 29 faces.

実施例5の投射光学系100を用いてスクリーンSCに光線を投射した場合の、スクリーンSC上における光線のスポットダイアグラムを図30に示す。また、実施例5の投射光学系を用いてスクリーンSCに格子パターンを投射した場合の、スクリーンSC上における格子パターンの歪曲形状を図31に示す。 FIG. 30 shows a spot diagram of the light rays on the screen SC when the light rays are projected onto the screen SC using the projection optical system 100 of the fifth embodiment. Further, FIG. 31 shows the distorted shape of the grid pattern on the screen SC when the grid pattern is projected onto the screen SC using the projection optical system of Example 5.

次に、実施例6の投射光学系について説明する。実施例6の投射光学系の構成は、先に説明した通り、図1および図2に断面図を示した投射光学系100の構成と対応しており、その断面形状を図32に示す。実施例6の投射光学系について、構成要素の基本データを図33に、位置や角度が変わる面あるいは構成要素に関するデータを図34に、非球面係数に関するデータを図35に示す。 Next, the projection optical system of Example 6 will be described. As described above, the configuration of the projection optical system of the sixth embodiment corresponds to the configuration of the projection optical system 100 whose cross-sectional views are shown in FIGS. 1 and 2, and the cross-sectional shape thereof is shown in FIG. 32. Regarding the projection optical system of the sixth embodiment, the basic data of the components are shown in FIG. 33, the data on the surface or the component whose position and angle change are shown in FIG. 34, and the data on the aspherical coefficient is shown in FIG. 35.

この実施例6ではレンズL7とレンズL8とが互いに独立して主光軸Zに沿って移動し、それによってフォーカス調整がなされる。すなわち本実施例では、これらの2つのレンズによって移動光学系が構成されている。また、この実施例6では図34に示す通り、レンズL10、レンズL11およびレンズL12がシフトによって偏芯してフォーカス調整する可動光学系を構成している。したがって本実施例6では、可動光学系の光入射面、光出射面はそれぞれ図33に示すNo.23、27の面となる。 In the sixth embodiment, the lens L7 and the lens L8 move independently of each other along the main optical axis Z, whereby the focus is adjusted. That is, in this embodiment, the mobile optical system is composed of these two lenses. Further, in the sixth embodiment, as shown in FIG. 34, the lens L10, the lens L11, and the lens L12 form a movable optical system in which the lens L10, the lens L11, and the lens L12 are eccentric by shifting to adjust the focus. Therefore, in the sixth embodiment, the light incident surface and the light emitting surface of the movable optical system are No. 3 shown in FIG. 33, respectively. There are 23 and 27 faces.

実施例6の投射光学系100を用いてスクリーンSCに光線を投射した場合の、スクリーンSC上における光線のスポットダイアグラムを図36に示す。また、実施例6の投射光学系を用いてスクリーンSCに格子パターンを投射した場合の、スクリーンSC上における格子パターンの歪曲形状を図37に示す。 FIG. 36 shows a spot diagram of the light rays on the screen SC when the light rays are projected onto the screen SC using the projection optical system 100 of the sixth embodiment. Further, FIG. 37 shows the distorted shape of the grid pattern on the screen SC when the grid pattern is projected onto the screen SC using the projection optical system of Example 6.

次に、実施例7の投射光学系について説明する。実施例7の投射光学系の構成は、先に説明した通り、図38および図39に断面図を示した投射光学系100の構成と対応している。実施例7の投射光学系について、構成要素の基本データを図40に、位置や角度が変わる面あるいは構成要素に関するデータを図41に、非球面係数に関するデータを図42に示す。 Next, the projection optical system of Example 7 will be described. As described above, the configuration of the projection optical system of the seventh embodiment corresponds to the configuration of the projection optical system 100 whose cross-sectional views are shown in FIGS. 38 and 39. Regarding the projection optical system of the seventh embodiment, the basic data of the components are shown in FIG. 40, the data on the surface or the component whose position or angle changes is shown in FIG. 41, and the data on the aspherical coefficient is shown in FIG.

図40の基本データにおいて、「レンズ等」の欄には、図38および図39に示した光変調器の画像表示面11に形成される画像Mの面、カバーガラス12、プリズム4、開口絞りSt1、視野絞りSf、結像される第1中間像IM1、開口絞りSt2、第2中間像IM2、凹面鏡3、スクリーンSC上の位置となる投射像TMの面も含めて示している。それらについては、上記の記載順に従ってそれぞれ「OBJ」、「CG」、「PRISM」、「絞り1」、「出射絞り」、「中間像1」、「絞り2」、「中間像2」、「MIR」、「IMG」と表記している。また図40の基本データには、レンズ等の欄に「ダミー」なる要素(面)を挙げて面番号も与えているが、これは設計用に採った便宜上の面で、実際のレンズ構成においては存在しない。これらの表記は、以下で述べる実施例8〜15に関しても同様である。 In the basic data of FIG. 40, in the column of "lens, etc.", the surface of the image M formed on the image display surface 11 of the optical modulator shown in FIGS. 38 and 39, the cover glass 12, the prism 4, and the aperture diaphragm The planes of St1, the field diaphragm Sf, the first intermediate image IM1 to be imaged, the aperture diaphragm St2, the second intermediate image IM2, the concave mirror 3, and the projection image TM to be positioned on the screen SC are also shown. For them, "OBJ", "CG", "PRISM", "Aperture 1", "Exit aperture", "Intermediate image 1", "Aperture 2", "Intermediate image 2", "Intermediate image 2", respectively, according to the above description order. It is written as "MIR" and "IMG". Further, in the basic data of FIG. 40, a surface number is also given by listing an element (surface) called a "dummy" in a column such as a lens, but this is a convenience aspect taken for design, and in an actual lens configuration. Does not exist. These notations are the same for Examples 8 to 15 described below.

この実施例7ではレンズL14とレンズL15とが互いに独立して主光軸Zに沿って移動し、それによってフォーカス調整がなされる。すなわち本実施例では、これらの2つレンズによって移動光学系が構成されている。また、この実施例7では図41に示す通り、レンズL15がシフトおよびチルトによって偏芯してフォーカス調整する可動光学系を構成している。したがって本実施例7では、可動光学系の光入射面、光出射面はそれぞれ図40に示すNo.34、35の面となる。 In the seventh embodiment, the lens L14 and the lens L15 move independently of each other along the main optical axis Z, whereby the focus is adjusted. That is, in this embodiment, the mobile optical system is composed of these two lenses. Further, in the seventh embodiment, as shown in FIG. 41, the lens L15 constitutes a movable optical system in which the lens L15 is eccentric and the focus is adjusted by shifting and tilting. Therefore, in the seventh embodiment, the light incident surface and the light emitting surface of the movable optical system are No. 40 shown in FIG. 40, respectively. There are 34 and 35 faces.

この実施例7では、いずれも両面が非球面である負のメニスカスレンズL11、正のメニスカスレンズL14、負のメニスカスレンズL15、および反射面が非球面である凹面鏡3において、それぞれの非球面は下記の(数1)で定義される奇数次非球面とされている。この(数1)式においてzは非球面の光軸方向の座標、cは近軸曲率半径Rdyの逆数、rは光軸からの高さ、Kは円錐定数であり、図42に示す各次数の非球面定数Aiを用いて、座標zが求められる。 In the seventh embodiment, in the negative meniscus lens L11 having aspherical surfaces on both sides, the positive meniscus lens L14, the negative meniscus lens L15, and the concave mirror 3 having an aspherical reflecting surface, the aspherical surfaces are as follows. It is an odd-order aspherical surface defined by (Equation 1) of. In this equation (Equation 1), z is the coordinate of the aspherical surface in the optical axis direction, c is the reciprocal of the near-axis radius of curvature Rdy, r is the height from the optical axis, and K is the conical constant. The coordinate z is obtained by using the aspherical constant Ai of.

Figure 2020137704
Figure 2020137704

実施例7の投射光学系100を用いてスクリーンSCに光線を投射した場合の、スクリーンSC上における光線のスポットダイアグラムを図43に示す。各スポットダイアグラムの左側に示す4つの数値のうち下側左右の数値(単位:MM、ミリメートル)は、画像表示面11における光線出射位置(X座標,Y座標)を示す。また上側左右の数値は、それらのX座標とY座標の最大物体高に対する相対値を示している。図43では、X座標が0.000でY座標が−3.41、−7.95、−12.5である3つの場合、X座標が3.629でY座標が−3.41、−7.95、−12.5である3つの場合、X座標が7.258でY座標が−3.41、−7.95、−12.5である3つの場合、の合計9つの場合についてスポットダイアグラムを示している。図中のスケールは(a)では10.0ミリメートル、(b)では62.5ミリメートルである。以上の点は、以下で述べる実施例8〜15に関しても同様である。この図43より、本実施例の投射光学系を用いれば、9点の物体高について光学諸収差が良好に補正され得ることが分かる。 FIG. 43 shows a spot diagram of the light rays on the screen SC when the light rays are projected onto the screen SC using the projection optical system 100 of the seventh embodiment. Of the four numerical values shown on the left side of each spot diagram, the lower left and right numerical values (units: MM, millimeters) indicate the light emission positions (X coordinate, Y coordinate) on the image display surface 11. The numerical values on the upper left and right indicate the relative values of the X and Y coordinates with respect to the maximum object height. In FIG. 43, when the X coordinate is 0.000 and the Y coordinate is -3.41, -7.95, and -12.5, the X coordinate is 3.629 and the Y coordinate is -3.41, −. About three cases of 7.95 and -12.5, three cases of X coordinate of 7.258 and Y coordinate of -3.41, -7.95 and -12.5, for a total of nine cases The spot diagram is shown. The scale in the figure is 10.0 mm in (a) and 62.5 mm in (b). The above points are the same for Examples 8 to 15 described below. From FIG. 43, it can be seen that various optical aberrations can be satisfactorily corrected for the object heights of nine points by using the projection optical system of this embodiment.

また、実施例7の投射光学系100を用いてスクリーンSCに格子パターンを投射した場合の、スクリーンSC上における格子パターンの歪曲形状を図44に示す。 Further, FIG. 44 shows the distorted shape of the grid pattern on the screen SC when the grid pattern is projected onto the screen SC using the projection optical system 100 of Example 7.

次に、実施例8の投射光学系について説明する。実施例8の投射光学系の構成は、先に説明した通り、図38および図39に断面図を示した投射光学系100の構成と対応しており、その断面形状を図45に示す。実施例8の投射光学系について、構成要素の基本データを図46に、位置や角度が変わる面あるいは構成要素に関するデータを図47に、非球面係数に関するデータを図48に示す。 Next, the projection optical system of Example 8 will be described. As described above, the configuration of the projection optical system of the eighth embodiment corresponds to the configuration of the projection optical system 100 whose cross-sectional views are shown in FIGS. 38 and 39, and the cross-sectional shape thereof is shown in FIG. 45. Regarding the projection optical system of the eighth embodiment, the basic data of the components are shown in FIG. 46, the data of the surface or the component whose position or angle changes is shown in FIG. 47, and the data of the aspherical coefficient is shown in FIG.

この実施例8ではレンズL14とレンズL15とが互いに独立して主光軸Zに沿って移動し、それによってフォーカス調整がなされる。すなわち本実施例では、これらの2つレンズによって移動光学系が構成されている。また、この実施例8では図47に示す通り、レンズL14がチルトによって偏芯してフォーカス調整する可動光学系を構成している。したがって本実施例8では、可動光学系の光入射面、光出射面はそれぞれ図46に示すNo.31、32の面となる。 In the eighth embodiment, the lens L14 and the lens L15 move independently of each other along the main optical axis Z, whereby the focus is adjusted. That is, in this embodiment, the mobile optical system is composed of these two lenses. Further, in the eighth embodiment, as shown in FIG. 47, the lens L14 constitutes a movable optical system in which the lens L14 is eccentric by tilting to adjust the focus. Therefore, in the eighth embodiment, the light incident surface and the light emitting surface of the movable optical system are No. 46 shown in FIG. 46, respectively. There are 31 and 32 faces.

実施例8の投射光学系100を用いてスクリーンSCに光線を投射した場合の、スクリーンSC上における光線のスポットダイアグラムを図49に示す。また、実施例8の投射光学系を用いてスクリーンSCに格子パターンを投射した場合の、スクリーンSC上における格子パターンの歪曲形状を図50に示す。 FIG. 49 shows a spot diagram of the light rays on the screen SC when the light rays are projected onto the screen SC using the projection optical system 100 of the eighth embodiment. Further, FIG. 50 shows the distorted shape of the grid pattern on the screen SC when the grid pattern is projected onto the screen SC using the projection optical system of Example 8.

次に、実施例9の投射光学系について説明する。実施例9の投射光学系の構成は、先に説明した通り、図38および図39に断面図を示した投射光学系100の構成と対応しており、その断面形状を図51に示す。実施例9の投射光学系について、構成要素の基本データを図52に、位置や角度が変わる面あるいは構成要素に関するデータを図53に、非球面係数に関するデータを図54に示す。 Next, the projection optical system of Example 9 will be described. As described above, the configuration of the projection optical system of the ninth embodiment corresponds to the configuration of the projection optical system 100 whose cross-sectional views are shown in FIGS. 38 and 39, and the cross-sectional shape thereof is shown in FIG. 51. Regarding the projection optical system of the ninth embodiment, the basic data of the components are shown in FIG. 52, the data on the surface or the component whose position and angle change are shown in FIG. 53, and the data on the aspherical coefficient is shown in FIG. 54.

この実施例9ではレンズL2〜L9のレンズ群、レンズL10〜L13のレンズ群、そしてレンズL14〜L15のレンズ群が互いに独立して主光軸Zに沿って移動し、それによってフォーカス調整がなされる。すなわち本実施例では、これらの3つレンズ群によって移動光学系が構成されている。また、この実施例9では図53に示す通り、レンズL15がチルトによって偏芯してフォーカス調整する可動光学系を構成している。したがって本実施例9では、可動光学系の光入射面、光出射面はそれぞれ図52に示すNo.34、35の面となる。 In the ninth embodiment, the lens groups of the lenses L2 to L9, the lens groups of the lenses L10 to L13, and the lens groups of the lenses L14 to L15 move independently of each other along the main optical axis Z, whereby the focus is adjusted. NS. That is, in this embodiment, the mobile optical system is composed of these three lens groups. Further, in the ninth embodiment, as shown in FIG. 53, the lens L15 constitutes a movable optical system in which the lens L15 is eccentric by tilting to adjust the focus. Therefore, in the ninth embodiment, the light incident surface and the light emitting surface of the movable optical system are No. 2 shown in FIG. 52, respectively. There are 34 and 35 faces.

実施例9の投射光学系100を用いてスクリーンSCに光線を投射した場合の、スクリーンSC上における光線のスポットダイアグラムを図55に示す。また、実施例9の投射光学系を用いてスクリーンSCに格子パターンを投射した場合の、スクリーンSC上における格子パターンの歪曲形状を図56に示す。 FIG. 55 shows a spot diagram of the light rays on the screen SC when the light rays are projected onto the screen SC using the projection optical system 100 of the ninth embodiment. Further, FIG. 56 shows the distorted shape of the grid pattern on the screen SC when the grid pattern is projected onto the screen SC using the projection optical system of Example 9.

次に、実施例10の投射光学系について説明する。実施例10の投射光学系の構成は、先に説明した通り、図38および図39に断面図を示した投射光学系100の構成と対応しており、その断面形状を図57に示す。実施例10の投射光学系について、構成要素の基本データを図58に、位置や角度が変わる面あるいは構成要素に関するデータを図59に、非球面係数に関するデータを図60に示す。 Next, the projection optical system of Example 10 will be described. As described above, the configuration of the projection optical system of the tenth embodiment corresponds to the configuration of the projection optical system 100 whose cross-sectional views are shown in FIGS. 38 and 39, and the cross-sectional shape thereof is shown in FIG. 57. Regarding the projection optical system of the tenth embodiment, the basic data of the components are shown in FIG. 58, the data of the surface or the component whose position or angle changes is shown in FIG. 59, and the data of the aspherical coefficient is shown in FIG.

この実施例10ではレンズL2〜L9のレンズ群、レンズL10〜L13のレンズ群、そしてレンズL14〜L15のレンズ群が互いに独立して主光軸Zに沿って移動し、それによってフォーカス調整がなされる。すなわち本実施例では、これらの3つレンズ群によって移動光学系が構成されている。 In the tenth embodiment, the lens groups of the lenses L2 to L9, the lens groups of the lenses L10 to L13, and the lens groups of the lenses L14 to L15 move independently of each other along the main optical axis Z, whereby the focus is adjusted. NS. That is, in this embodiment, the mobile optical system is composed of these three lens groups.

また、この実施例10では図59に示す通り、レンズL15がチルトによって偏芯してフォーカス調整する可動光学系を構成している。したがって本実施例10では、可動光学系の光入射面、光出射面はそれぞれ図58に示すNo.34、35の面となる。特にこの場合はレンズL15がチルトすると、非球面であるその入射側のレンズ面34と、同じく非球面であるその出射側のレンズ面35が双方共チルトおよびシフトするようになっている。なおレンズL15はウェッジレンズであり、各レンズ面が主光軸Zに対してシフトおよびチルトした状態に配置される。具体的にNo.34の面は図57中で主光軸Zから下方向に0.006mmシフトし、かつ、同図中で反時計回りに0.281度回転するようにチルトし、No.35の面は同図中で主光軸Zから上方向に0.021mmシフトし、かつ、同図中で反時計回りに0.282度回転するようにチルトして配置される。 Further, in the tenth embodiment, as shown in FIG. 59, the lens L15 constitutes a movable optical system in which the lens L15 is eccentric by tilting to adjust the focus. Therefore, in the tenth embodiment, the light incident surface and the light emitting surface of the movable optical system are shown in FIG. 58, respectively. There are 34 and 35 faces. In particular, in this case, when the lens L15 is tilted, both the aspherical lens surface 34 on the incident side and the aspherical lens surface 35 on the exit side are tilted and shifted. The lens L15 is a wedge lens, and each lens surface is arranged in a state of being shifted and tilted with respect to the main optical axis Z. Specifically, No. The surface of No. 34 is shifted downward by 0.006 mm from the main optical axis Z in FIG. 57, and is tilted so as to rotate 0.281 degrees counterclockwise in FIG. The plane 35 is arranged so as to be shifted upward by 0.021 mm from the main optical axis Z in the figure and tilted so as to rotate 0.282 degrees counterclockwise in the figure.

実施例10の投射光学系100を用いてスクリーンSCに光線を投射した場合の、スクリーンSC上における光線のスポットダイアグラムを図61に示す。また、実施例10の投射光学系を用いてスクリーンSCに格子パターンを投射した場合の、スクリーンSC上における格子パターンの歪曲形状を図62に示す。 FIG. 61 shows a spot diagram of the light rays on the screen SC when the light rays are projected onto the screen SC using the projection optical system 100 of the tenth embodiment. Further, FIG. 62 shows the distorted shape of the grid pattern on the screen SC when the grid pattern is projected onto the screen SC using the projection optical system of Example 10.

次に、実施例11の投射光学系について説明する。実施例11の投射光学系の構成は、先に説明した通り、図38および図39に断面図を示した投射光学系100の構成と対応しており、その断面形状を図63に示す。実施例11の投射光学系について、構成要素の基本データを図64に、位置や角度が変わる面あるいは構成要素に関するデータを図65に、非球面係数に関するデータを図66に示す。 Next, the projection optical system of Example 11 will be described. As described above, the configuration of the projection optical system of the eleventh embodiment corresponds to the configuration of the projection optical system 100 whose cross-sectional views are shown in FIGS. 38 and 39, and the cross-sectional shape thereof is shown in FIG. 63. Regarding the projection optical system of the eleventh embodiment, the basic data of the components are shown in FIG. 64, the data on the surface or the component whose position or angle changes is shown in FIG. 65, and the data on the aspherical coefficient is shown in FIG.

この実施例11ではレンズL2〜L9のレンズ群、レンズL10〜L13のレンズ群、そしてレンズL14〜L15のレンズ群が互いに独立して主光軸Zに沿って移動し、それによってフォーカス調整がなされる。すなわち本実施例では、これらの3つレンズ群によって移動光学系が構成されている。またこの実施例11では図65に示す通り、レンズL15がチルトによって偏芯してフォーカス調整する可動光学系を構成している。したがって本実施例11では、可動光学系の光入射面、光出射面はそれぞれ図64に示すNo.34、35の面となる。 In the eleventh embodiment, the lens groups of the lenses L2 to L9, the lens groups of the lenses L10 to L13, and the lens groups of the lenses L14 to L15 move independently of each other along the main optical axis Z, whereby the focus is adjusted. NS. That is, in this embodiment, the mobile optical system is composed of these three lens groups. Further, in the eleventh embodiment, as shown in FIG. 65, the lens L15 constitutes a movable optical system in which the lens L15 is eccentric by tilting to adjust the focus. Therefore, in the eleventh embodiment, the light incident surface and the light emitting surface of the movable optical system are shown in FIG. 64, respectively. There are 34 and 35 faces.

この実施例11では特に上記レンズL15が、光入射側の面34および光出射側の面35が共に自由曲面である自由曲面レンズとされている。この自由曲面は、下に(数2)式として示す自由曲面多項式で光軸方向座標zが定義される曲面である。面34および35に関する自由曲面係数を図67に示す。なお(数2)式においてcは近軸曲率半径Rdyの逆数、rは光軸からの高さ、Kは円錐定数であり、図67に示す自由曲面係数を用いて、座標zが求められる。 In the eleventh embodiment, the lens L15 is a free-curved lens in which both the surface 34 on the light incident side and the surface 35 on the light emitting side are free curved surfaces. This free-form surface is a surface whose optical axis coordinate z is defined by the free-form surface polynomial shown by Eq. (Equation 2) below. The free-form surface coefficients for surfaces 34 and 35 are shown in FIG. In Eq. (Equation 2), c is the reciprocal of the radius of curvature Rdy on the near axis, r is the height from the optical axis, and K is the conical constant.

Figure 2020137704
Figure 2020137704

実施例11の投射光学系100を用いてスクリーンSCに光線を投射した場合の、スクリーンSC上における光線のスポットダイアグラムを図68に示す。また、実施例11の投射光学系を用いてスクリーンSCに格子パターンを投射した場合の、スクリーンSC上における格子パターンの歪曲形状を図69に示す。 FIG. 68 shows a spot diagram of the light rays on the screen SC when the light rays are projected onto the screen SC using the projection optical system 100 of the eleventh embodiment. Further, FIG. 69 shows the distorted shape of the grid pattern on the screen SC when the grid pattern is projected onto the screen SC using the projection optical system of Example 11.

次に、実施例12の投射光学系について説明する。実施例12の投射光学系の構成は、先に説明した通り、図38および図39に断面図を示した投射光学系100の構成と対応しており、その断面形状を図70および図71に示す。この実施例12および後述する実施例13、14、15の投射光学系はいずれも、第1光学系1が変倍(ズーム)機能を有するものであり、図70には第1光学系1が広角端にある状態を(WIDE)の表示と共に示し、図71には第1光学系1が望遠端にある状態を(TELE)の表示と共に示している。 Next, the projection optical system of Example 12 will be described. As described above, the configuration of the projection optical system of the twelfth embodiment corresponds to the configuration of the projection optical system 100 whose cross-sectional views are shown in FIGS. 38 and 39, and the cross-sectional shapes thereof are shown in FIGS. 70 and 71. show. In each of the projection optical systems of Examples 12 and 13, 14, and 15 described later, the first optical system 1 has a scaling (zoom) function, and FIG. 70 shows the first optical system 1. The state at the wide-angle end is shown with the display of (WIDE), and FIG. 71 shows the state at which the first optical system 1 is at the telephoto end with the display of (TELE).

実施例12の投射光学系について、構成要素の基本データを図72に、位置や角度が変わる面あるいは構成要素に関するデータを図73に、非球面係数に関するデータを図74に示す。 Regarding the projection optical system of the twelfth embodiment, the basic data of the components are shown in FIG. 72, the data on the surface or the component whose position or angle changes is shown in FIG. 73, and the data on the aspherical coefficient is shown in FIG. 74.

この実施例12ではレンズL2〜L8のレンズ群、レンズL9、レンズL10、レンズL11〜L13のレンズ群が互いに独立して主光軸Zに沿って移動し、それによって変倍がなされる。すなわち本実施例では、これらのレンズ群およびレンズによって移動光学系が構成されている。この点の構成は、以下に述べる実施例13〜15においても同様である。図73には、この変倍によって面間隔が変わる面について、広角端にあるときの面間隔をWIDEの表示と共に示し、望遠端にあるときの面間隔をTELEの表示と共に示している。またこの実施例12では、レンズL14、レンズL15が互いに独立して主光軸Zに沿って移動し、それによってフォーカス調整がなされる。すなわち本実施例では、これらのレンズL14およびL15が移動光学系を構成している。 In this Example 12, the lens group of the lenses L2 to L8, the lens L9, the lens L10, and the lens group of the lenses L11 to L13 move independently of each other along the main optical axis Z, whereby scaling is performed. That is, in this embodiment, the moving optical system is composed of these lens groups and lenses. The configuration of this point is the same in Examples 13 to 15 described below. In FIG. 73, with respect to the surface whose surface spacing changes due to the scaling, the surface spacing at the wide-angle end is shown together with the WIDE display, and the surface spacing at the telephoto end is shown together with the TELE display. Further, in the twelfth embodiment, the lens L14 and the lens L15 move independently of each other along the main optical axis Z, whereby the focus is adjusted. That is, in this embodiment, these lenses L14 and L15 form a mobile optical system.

またこの実施例12では図73に示す通り、レンズL15がチルトによって偏芯してフォーカス調整する可動光学系を構成している。したがって本実施例12では、可動光学系の光入射面、光出射面はそれぞれ図72に示すNo.35、36の面となる。 Further, in the twelfth embodiment, as shown in FIG. 73, the lens L15 constitutes a movable optical system in which the lens L15 is eccentric by tilting to adjust the focus. Therefore, in the twelfth embodiment, the light incident surface and the light emitting surface of the movable optical system are No. 2 shown in FIG. 72, respectively. There are 35 and 36 faces.

実施例12の投射光学系100を用いてスクリーンSCに光線を投射した場合の、スクリーンSC上における光線のスポットダイアグラムを図75に示す。この図75中の(a)、(b)はそれぞれ第1光学系1が広角端にある場合の近点投射時、遠点投射時のスポットダイアグラムであり、(c)、(d)はそれぞれ第1光学系1が望遠端にある場合の近点投射時、遠点投射時のスポットダイアグラムである。また、実施例12の投射光学系を用いてスクリーンSCに格子パターンを投射した場合の、スクリーンSC上における格子パターンの歪曲形状を図76に示す。この図76中の(a)、(b)はそれぞれ第1光学系1が広角端にある場合の近点投射時、遠点投射時の歪曲形状図であり、(c)、(d)はそれぞれ第1光学系1が望遠端にある場合の近点投射時、遠点投射時の歪曲形状図である。 FIG. 75 shows a spot diagram of the light rays on the screen SC when the light rays are projected onto the screen SC using the projection optical system 100 of the twelfth embodiment. (A) and (b) in FIG. 75 are spot diagrams at the time of near-point projection and at the time of far-point projection when the first optical system 1 is at the wide-angle end, respectively, and (c) and (d) are spot diagrams, respectively. It is a spot diagram at the time of near point projection and at the time of apogee projection when the first optical system 1 is at the telephoto end. Further, FIG. 76 shows the distorted shape of the grid pattern on the screen SC when the grid pattern is projected onto the screen SC using the projection optical system of Example 12. (A) and (b) in FIG. 76 are distortion shape diagrams during near-point projection and far-point projection when the first optical system 1 is at the wide-angle end, respectively, and FIGS. It is a distortion shape diagram at the time of near point projection and at the time of far point projection when the first optical system 1 is at the telephoto end, respectively.

次に、実施例13の投射光学系について説明する。実施例13の投射光学系の構成は、先に説明した通り、図38および図39に断面図を示した投射光学系100の構成と対応しており、その断面形状を図77および図78に示す。この実施例13の投射光学系100も、第1光学系1が変倍(ズーム)機能を有するものであり、図77には第1光学系1が広角端にある状態を(WIDE)の表示と共に示し、図78には第1光学系1が望遠端にある状態を(TELE)の表示と共に示している。 Next, the projection optical system of Example 13 will be described. As described above, the configuration of the projection optical system of the thirteenth embodiment corresponds to the configuration of the projection optical system 100 whose cross-sectional views are shown in FIGS. 38 and 39, and the cross-sectional shapes thereof are shown in FIGS. 77 and 78. show. The projection optical system 100 of the thirteenth embodiment also has the first optical system 1 having a scaling (zoom) function, and FIG. 77 shows the state where the first optical system 1 is at the wide-angle end (WIDE). In FIG. 78, the state in which the first optical system 1 is at the telephoto end is shown together with the display of (TELE).

実施例13の投射光学系100について、構成要素の基本データを図79に、位置や角度が変わる面あるいは構成要素に関するデータを図80に、非球面係数に関するデータを図81に示す。 For the projection optical system 100 of the thirteenth embodiment, the basic data of the components are shown in FIG. 79, the data of the surface or the component whose position or angle changes is shown in FIG. 80, and the data of the aspherical coefficient is shown in FIG.

この実施例13ではレンズL2〜L8のレンズ群、レンズL9、レンズL10、レンズL11〜L13のレンズ群が互いに独立して主光軸Zに沿って移動し、それによって変倍がなされる。すなわち本実施例では、これらのレンズ群およびレンズによって移動光学系が構成されている。図80には、この変倍によって面間隔が変わる面について、第1光学系1が広角端にあるときの面間隔をWIDEの表示と共に示し、第1光学系1が望遠端にあるときの面間隔をTELEの表示と共に示している。またこの実施例13では、レンズL14、レンズL15が互いに独立して主光軸Zに沿って移動し、それによってフォーカス調整がなされる。すなわち本実施例では、これらのレンズL14およびL15も移動光学系を構成している。 In the thirteenth embodiment, the lens group of the lenses L2 to L8, the lens L9, the lens L10, and the lens group of the lenses L11 to L13 move independently of each other along the main optical axis Z, whereby scaling is performed. That is, in this embodiment, the moving optical system is composed of these lens groups and lenses. FIG. 80 shows the surface spacing when the first optical system 1 is at the wide-angle end of the surface whose surface spacing changes due to this scaling, together with the WIDE display, and the surface when the first optical system 1 is at the telephoto end. The intervals are shown with the TELE display. Further, in the thirteenth embodiment, the lens L14 and the lens L15 move independently of each other along the main optical axis Z, whereby the focus is adjusted. That is, in this embodiment, these lenses L14 and L15 also constitute a mobile optical system.

またこの実施例13では図80に示す通り、レンズL11〜レンズL13がシフトによって偏芯して変倍する可動光学系を構成し、レンズL15がチルトによって偏芯してフォーカス調整する可動光学系を構成している。したがって本実施例13では、変倍用可動光学系の光入射面、光出射面はそれぞれ図79に示すNo.25、29の面となり、フォーカス調整用可動光学系の光入射面、光出射面はそれぞれ図79に示すNo.35、36の面となる。シフト量については、第1光学系1が広角端にある場合のシフト量をWIDEの表示と共に示し、第1光学系1が望遠端にあるときのシフト量をTELEの表示と共に示している。 Further, in the thirteenth embodiment, as shown in FIG. 80, a movable optical system is configured in which the lenses L11 to L13 are eccentric and variable in magnification by shifting, and the lens L15 is eccentric and focus-adjusted by tilting. It is configured. Therefore, in the thirteenth embodiment, the light incident surface and the light emitting surface of the variable magnification movable optical system are shown in FIG. 79, respectively. The surfaces are No. 25 and 29, and the light incident surface and the light emitting surface of the focus adjustment movable optical system are No. 25 and 29, respectively, as shown in FIG. 79. There are 35 and 36 faces. Regarding the shift amount, the shift amount when the first optical system 1 is at the wide-angle end is shown together with the WIDE display, and the shift amount when the first optical system 1 is at the telephoto end is shown together with the TELE display.

実施例13の投射光学系100を用いてスクリーンSCに光線を投射した場合の、スクリーンSC上における光線のスポットダイアグラムを図82に示す。また、実施例13の投射光学系を用いてスクリーンSCに格子パターンを投射した場合の、スクリーンSC上における格子パターンの歪曲形状を図83に示す。図82および図83における表示の仕方は、実施例12に関して先に説明したものと同じである。 FIG. 82 shows a spot diagram of the light rays on the screen SC when the light rays are projected onto the screen SC using the projection optical system 100 of the thirteenth embodiment. Further, FIG. 83 shows the distorted shape of the grid pattern on the screen SC when the grid pattern is projected onto the screen SC using the projection optical system of Example 13. The display method in FIGS. 82 and 83 is the same as that described above with respect to the twelfth embodiment.

次に、実施例14の投射光学系について説明する。実施例14の投射光学系の構成は、先に説明した通り、図38および図39に断面図を示した投射光学系100の構成と対応しており、その断面形状を図84および図85に示す。この実施例14の投射光学系100も、第1光学系1が変倍(ズーム)機能を有するものであり、図84には第1光学系1が広角端にある状態を(WIDE)の表示と共に示し、図85には第1光学系1が望遠端にある状態を(TELE)の表示と共に示している。 Next, the projection optical system of Example 14 will be described. As described above, the configuration of the projection optical system of the 14th embodiment corresponds to the configuration of the projection optical system 100 whose cross-sectional views are shown in FIGS. 38 and 39, and the cross-sectional shapes thereof are shown in FIGS. 84 and 85. show. The projection optical system 100 of the 14th embodiment also has the first optical system 1 having a scaling (zoom) function, and FIG. 84 shows the state where the first optical system 1 is at the wide-angle end (WIDE). In FIG. 85, the state in which the first optical system 1 is at the telephoto end is shown together with the display of (TELE).

実施例14の投射光学系100について、構成要素の基本データを図86に、位置や角度が変わる面あるいは構成要素に関するデータを図87に、非球面係数に関するデータを図88に示す。 For the projection optical system 100 of the fourteenth embodiment, the basic data of the components are shown in FIG. 86, the data of the surface or the component whose position or angle changes is shown in FIG. 87, and the data of the aspherical coefficient is shown in FIG. 88.

この実施例14ではレンズL2〜L8のレンズ群、レンズL9、レンズL10、レンズL11〜L13のレンズ群が互いに独立して主光軸Zに沿って移動し、それによって変倍がなされる。すなわち本実施例では、これらのレンズ群およびレンズによって移動光学系が構成されている。図87には、この変倍によって面間隔が変わる面について、広角端にあるときの面間隔をWIDEの表示と共に示し、望遠端にあるときの面間隔をTELEの表示と共に示している。またこの実施例14では、レンズL14、レンズL15が互いに独立して主光軸Zに沿って移動し、それによってフォーカス調整がなされる。すなわち本実施例では、これらのレンズL14およびL15も移動光学系を構成している。 In the 14th embodiment, the lens groups of the lenses L2 to L8, the lenses L9, the lenses L10, and the lens groups of the lenses L11 to L13 move independently of each other along the main optical axis Z, whereby scaling is performed. That is, in this embodiment, the moving optical system is composed of these lens groups and lenses. In FIG. 87, with respect to the surface whose surface spacing changes due to this scaling, the surface spacing at the wide-angle end is shown together with the WIDE display, and the surface spacing at the telephoto end is shown together with the TELE display. Further, in the 14th embodiment, the lens L14 and the lens L15 move independently of each other along the main optical axis Z, whereby the focus is adjusted. That is, in this embodiment, these lenses L14 and L15 also constitute a mobile optical system.

またこの実施例14では図87に示す通り、レンズL10がシフトによって偏芯して変倍する可動光学系を構成している。したがって本実施例14では、可動光学系の光入射面、光出射面はそれぞれ図86に示すNo.23、24の面となる。シフト量については、第1光学系1が広角端にある場合のシフト量をWIDEの表示と共に示し、第1光学系1が望遠端にあるときのシフト量をTELEの表示と共に示している。 Further, in the 14th embodiment, as shown in FIG. 87, the lens L10 constitutes a movable optical system that is eccentric and variable magnification due to a shift. Therefore, in the 14th embodiment, the light incident surface and the light emitting surface of the movable optical system are shown in FIG. 86, respectively. There are 23 and 24 faces. Regarding the shift amount, the shift amount when the first optical system 1 is at the wide-angle end is shown together with the WIDE display, and the shift amount when the first optical system 1 is at the telephoto end is shown together with the TELE display.

実施例14の投射光学系100を用いてスクリーンSCに光線を投射した場合の、スクリーンSC上における光線のスポットダイアグラムを図89に示す。また、実施例14の投射光学系を用いてスクリーンSCに格子パターンを投射した場合の、スクリーンSC上における格子パターンの歪曲形状を図90に示す。図89および図90における表示の仕方は、実施例12に関して先に説明したものと同じである。 FIG. 89 shows a spot diagram of the light rays on the screen SC when the light rays are projected onto the screen SC using the projection optical system 100 of Example 14. Further, FIG. 90 shows the distorted shape of the grid pattern on the screen SC when the grid pattern is projected onto the screen SC using the projection optical system of Example 14. The display method in FIGS. 89 and 90 is the same as that described above with respect to the twelfth embodiment.

次に、実施例15の投射光学系について説明する。実施例15の投射光学系の構成は、先に説明した通り、図38および図39に断面図を示した投射光学系100の構成と対応しており、その断面形状を図91および図92に示す。この実施例15の投射光学系も、第1光学系1が変倍(ズーム)機能を有するものであり、図91には第1光学系1が広角端にある状態を(WIDE)の表示と共に示し、図92には第1光学系1が望遠端にある状態を(TELE)の表示と共に示している。 Next, the projection optical system of Example 15 will be described. As described above, the configuration of the projection optical system of the 15th embodiment corresponds to the configuration of the projection optical system 100 whose cross-sectional views are shown in FIGS. 38 and 39, and the cross-sectional shapes thereof are shown in FIGS. 91 and 92. show. The projection optical system of the 15th embodiment also has a first optical system 1 having a scaling (zoom) function, and FIG. 91 shows a state in which the first optical system 1 is at the wide-angle end with a display of (WIDE). FIG. 92 shows the state in which the first optical system 1 is at the telephoto end together with the display of (TELE).

実施例15の投射光学系100について、構成要素の基本データを図93に、位置や角度が変わる面あるいは構成要素に関するデータを図94に、非球面係数に関するデータを図95に示す。 Regarding the projection optical system 100 of the fifteenth embodiment, the basic data of the components are shown in FIG. 93, the data of the surface or the component whose position or angle changes is shown in FIG. 94, and the data of the aspherical coefficient is shown in FIG.

この実施例15ではレンズL2〜L8のレンズ群、レンズL9、レンズL10、レンズL11〜L13のレンズ群が互いに独立して主光軸Zに沿って移動し、それによって変倍がなされる。すなわち本実施例では、これらのレンズ群およびレンズによって移動光学系が構成されている。図94には、この変倍によって面間隔が変わる面について、広角端にあるときの面間隔をWIDEの表示と共に示し、望遠端にあるときの面間隔をTELEの表示と共に示している。またこの実施例15では、レンズL14、レンズL15が互いに独立して主光軸Zに沿って移動し、それによってフォーカス調整がなされる。すなわち本実施例では、これらのレンズL14およびL15も移動光学系を構成している。 In the 15th embodiment, the lens groups of the lenses L2 to L8, the lenses L9, the lenses L10, and the lens groups of the lenses L11 to L13 move independently of each other along the main optical axis Z, whereby scaling is performed. That is, in this embodiment, the moving optical system is composed of these lens groups and lenses. In FIG. 94, with respect to the surface whose surface spacing changes due to this scaling, the surface spacing at the wide-angle end is shown together with the WIDE display, and the surface spacing at the telephoto end is shown together with the TELE display. Further, in the fifteenth embodiment, the lens L14 and the lens L15 move independently of each other along the main optical axis Z, whereby the focus is adjusted. That is, in this embodiment, these lenses L14 and L15 also constitute a mobile optical system.

またこの実施例15では図94に示す通り、レンズL9がチルトによって偏芯して変倍する可動光学系を構成している。したがって本実施例15では、可動光学系の光入射面、光出射面はそれぞれ図93に示すNo.21、22の面となる。チルト角については、第1光学系1が広角端にある場合のチルト角をWIDEの表示と共に示し、第1光学系1が望遠端にあるときのチルト角をTELEの表示と共に示している。 Further, in the 15th embodiment, as shown in FIG. 94, the lens L9 constitutes a movable optical system that is eccentric and variable magnification due to tilting. Therefore, in the fifteenth embodiment, the light incident surface and the light emitting surface of the movable optical system are shown in FIG. 93, respectively. It becomes the surface of 21 and 22. Regarding the tilt angle, the tilt angle when the first optical system 1 is at the wide-angle end is shown together with the WIDE display, and the tilt angle when the first optical system 1 is at the telephoto end is shown together with the TELE display.

実施例15の投射光学系100を用いてスクリーンSCに光線を投射した場合の、スクリーンSC上における光線のスポットダイアグラムを図96に示す。また、実施例15の投射光学系を用いてスクリーンSCに格子パターンを投射した場合の、スクリーンSC上における格子パターンの歪曲形状を図97に示す。図96および図97における表示の仕方は、実施例12に関して先に説明したものと同じである。 FIG. 96 shows a spot diagram of the light rays on the screen SC when the light rays are projected onto the screen SC using the projection optical system 100 of the fifteenth embodiment. Further, FIG. 97 shows the distorted shape of the grid pattern on the screen SC when the grid pattern is projected onto the screen SC using the projection optical system of Example 15. The display method in FIGS. 96 and 97 is the same as that described above with respect to the twelfth embodiment.

以上説明した通り本発明の投射光学系によれば、移動光学系の移動によってなされたフォーカス調整の範囲(つまり投射距離の範囲)やフォーカス調整の範囲(つまり焦点距離の範囲)を、可動光学系を動かすことによって、移動光学系の移動だけで実現される範囲を超えてより広くすることが可能になる。この効果を考慮すれば可動光学系の移動は、少なくとも、移動光学系が有する合焦光学系が投射光学系の最短の投射距離に対応した位置、または最長の投射距離に対応した位置に配置されている状態下で動く、あるいは少なくとも、移動光学系が有する変倍光学系が投射光学系の最短の焦点距離に対応した位置、または最長の焦点距離に対応した位置に配置されている状態下で動くことが好ましい。さらに、本発明の投射光学系によれば可動光学系を動かすことによって像面湾曲も補正できるので、移動光学系が像面湾曲調整光学系を有する場合、可動光学系は、少なくとも、上記像面湾曲調整光学系が最もアンダーの像面湾曲を発生させる位置に配置されている状態下で、または最もオーバーの像面湾曲を発生させる位置に配置されている状態下で動くことが好ましい。 As described above, according to the projection optical system of the present invention, the range of focus adjustment (that is, the range of projection distance) and the range of focus adjustment (that is, the range of focal length) made by moving the moving optical system are set to the movable optical system. By moving, it becomes possible to make it wider than the range realized only by moving the moving optical system. Considering this effect, the movement of the movable optical system is arranged at least at a position where the focusing optical system of the moving optical system corresponds to the shortest projection distance of the projection optical system or a position corresponding to the longest projection distance. In a state where the moving optical system moves, or at least, the variable magnification optical system of the moving optical system is arranged at a position corresponding to the shortest focal length of the projection optical system or a position corresponding to the longest focal length. It is preferable to move. Further, according to the projection optical system of the present invention, curvature of field can be corrected by moving the movable optical system. Therefore, when the moving optical system has an image plane curvature adjusting optical system, the movable optical system is at least the above-mentioned image plane. It is preferable to move under the state where the curvature adjustment optical system is arranged at the position where the most under curvature of field is generated, or under the state where the curvature adjustment optical system is arranged at the position where the most over curvature of field is generated.

ここで図98に、以上説明した実施例1〜15の投射光学系100の主な仕様をまとめて示す。同図における上段の「焦点距離」中の「近点f」、「遠点f」、「偏芯FOCUS」、「偏芯ZOOM」はそれぞれ「近点投射時の全系の焦点距離」、「遠点投射時の全系の焦点距離」、「フォーカス調整する可動光学系の焦点距離」、「変倍する可動光学系の焦点距離」を意味する。また「偏芯f」は「フォーカス調整または変倍する可動光学系の焦点距離」を意味し、「第1光学系f1」は第1光学系1の焦点距離を意味する。したがって「|偏芯f|/|第1光学系f1|」は前述した(3)式における|f5|/|f1|に相当する。 Here, FIG. 98 summarizes the main specifications of the projection optical system 100 of Examples 1 to 15 described above. "Near point f", "Far point f", "Eccentric FOCUS", and "Eccentric ZOOM" in the upper "Focal length" in the figure are "Focal length of the whole system at the time of near point projection" and " It means "the focal length of the entire system at the time of long-distance projection", "the focal length of the movable optical system that adjusts the focus", and "the focal length of the movable optical system that changes the magnification". Further, "eccentricity f" means "focal length of the movable optical system that adjusts or changes the focus", and "first optical system f1" means the focal length of the first optical system 1. Therefore, "| eccentric f | / | first optical system f1 |" corresponds to | f5 | / | f1 | in the above-mentioned equation (3).

一方、図98の下段の主光線高さに関する「主光線高さ(入射)」とは、可動光学系の最も後方の光入射面における主光線高さを意味し、「主光線高さ(出射)」とは、可動光学系の最も前方の光出射面における主光線高さを意味する。そして「上限」は、前述した「遠端部主光線の高さ」つまりY1を示し、「下限」は「近端部主光線の高さ」つまりY2を示している。また主光線高さに関連する「FOCUS」、「ZOOM」はそれぞれ、「移動光学系によってフォーカス調整がなされる場合」、「移動光学系によって変倍がなされる場合」を意味する。つまりここに記されている「FOCUS下限」は、フォーカス調整時に使用される可動光学系のY2を表し、「FOCUS上限」は、フォーカス調整時に使用される可動光学系のY1を表し、「ZOOM下限」は、変倍時に使用される可動光学系のY2を表し、「ZOOM上限」は、変倍時に使用される可動光学系のY1を表す。したがって、この下段における「(上限−下限)/|近点f|は、前述した条件式(1)における「(Y1−Y2)/|f|」を、特に投射光学系100の全系の焦点距離fを近点投射時の焦点距離とした場合に相当する。なお図98では、上記近点投射時の全系の焦点距離fを、特に広角端における値として計算した例を挙げている。 On the other hand, the "main ray height (incident)" with respect to the main ray height in the lower part of FIG. 98 means the main ray height at the rearmost light incident surface of the movable optical system, and the "main ray height (emission)". ) ”Means the height of the main ray on the frontmost light emitting surface of the movable optical system. The "upper limit" indicates the above-mentioned "height of the far-end main ray", that is, Y1, and the "lower limit" indicates the "height of the near-end main ray", that is, Y2. In addition, "FOCUS" and "ZOOM" related to the height of the main ray mean "when the focus is adjusted by the moving optical system" and "when the magnification is changed by the moving optical system", respectively. That is, the "FOCUS lower limit" described here represents Y2 of the movable optical system used at the time of focus adjustment, and the "FOCUS upper limit" represents Y1 of the movable optical system used at the time of focus adjustment, and "ZOOM lower limit". "Represents Y2 of the movable optical system used at the time of scaling, and" ZOOM upper limit "represents Y1 of the movable optical system used at the time of scaling. Therefore, "(upper limit-lower limit) / | near point f |" in the lower row sets "(Y1-Y2) / | f |" in the above-mentioned conditional expression (1) to the focal length of the entire system of the projection optical system 100. This corresponds to the case where the distance f is the focal length at the time of near-point projection. Note that FIG. 98 shows an example in which the focal length f of the entire system at the time of near-point projection is calculated as a value particularly at the wide-angle end.

また、同じく図98の下段の「有効径比率」は、前述した式(2)におけるY3/Y1を示している。つまり、この有効径比率の欄に記した「FOCUS上限」とは、フォーカス調整時に使用される可動光学系の最も後方の光入射面と最も前方の光出射面(図1の例ではレンズL6の面Laと面Lb)に関する遠端部主光線入射位置P1と主光軸Zとの間の距離である入射位置距離Y1と、遠端部主光線出射位置P3と主光軸Zとの間の距離である出射位置距離Y3との比を表し、「ZOOM上限」とは、変倍時に使用される可動光学系に関する上記と同様の入射位置距離Y1と出射位置距離Y3との比を表している。 Similarly, the "effective diameter ratio" in the lower part of FIG. 98 indicates Y3 / Y1 in the above-mentioned equation (2). That is, the "FOCUS upper limit" described in the column of the effective diameter ratio is the rearmost light incident surface and the frontmost light emitting surface of the movable optical system used at the time of focus adjustment (in the example of FIG. 1, the lens L6. The incident position distance Y1 which is the distance between the far-end main light incident position P1 and the main optical axis Z with respect to the surface La and the surface Lb), and between the far-end main light emission position P3 and the main optical axis Z. It represents the ratio of the emission position distance Y3, which is the distance, and the "ZOOM upper limit" represents the ratio of the incident position distance Y1 and the emission position distance Y3 similar to the above regarding the movable optical system used at the time of scaling. ..

この図98の表から、条件式(1)が全ての実施例で満足されており、条件式(3)が実施例5を除くその他全ての実施形態で満足されていることが確認される。また、条件式(2)も実施例5、6を除くその他全ての実施例で満足されていることが確認される。 From the table of FIG. 98, it is confirmed that the conditional expression (1) is satisfied in all the embodiments, and the conditional expression (3) is satisfied in all the other embodiments except the fifth embodiment. Further, it is confirmed that the conditional expression (2) is also satisfied in all the other examples except the examples 5 and 6.

以上、実施形態および実施例を挙げて本発明を説明したが、本発明の投射光学系は、上記実施例のものに限られるものではなく種々の態様の変更が可能であり、例えば各レンズの曲率半径、面間隔、屈折率、アッベ数を適宜変更することが可能である。 Although the present invention has been described above with reference to embodiments and examples, the projection optical system of the present invention is not limited to that of the above examples, and various aspects can be changed, for example, of each lens. The radius of curvature, the interplanar spacing, the refractive index, and the Abbe number can be changed as appropriate.

また、本発明のプロジェクタ装置も、例えば、用いられるライトバルブや、光束分離または光束合成に用いられる光学部材について種々の態様の変更が可能である。 Further, the projector device of the present invention can also be changed in various aspects with respect to the light bulb used and the optical member used for luminous flux separation or luminous flux synthesis, for example.

1 第1光学系
2 第2光学系
3 凹面鏡
4 プリズム
10 第1屈折光学系
11 画像表示素子の画像表示面
12 カバーガラス
20 第2屈折光学系
100 投射光学系
L1〜L19 レンズ
Z 主光軸
Z1 可動光学系の光軸
1 1st optical system 2 2nd optical system 3 Concave mirror 4 Prism 10 1st refraction optical system 11 Image display surface of image display element 12 Cover glass 20 2nd refraction optical system 100 Projection optical system L1 to L19 Lens Z Main optical axis Z1 Optical axis of movable optical system

Claims (21)

画像表示素子から出射された画像光の進行方向である前方に向かって順に、レンズを有する第1光学系と、凹面鏡を有する第2光学系とが配置され、
前記画像表示素子に形成された画像を、前記第1光学系の内部に第1中間像として結像させた後、前記第1光学系と前記第2光学系との間に第2中間像として結像させ、
前記第2中間像からの画像光を、前記第2光学系から前記第1光学系の光軸である主光軸に沿う方向と交差する投射方向に投射し、前記画像を被投射面に投射像として拡大投影させ、
前記主光軸に沿って移動することで前記投射像の光学特性を変化させる少なくとも1枚のレンズを有する移動光学系を前記第1光学系に備える、
投射光学系であって、
前記第1光学系は、前記主光軸と交差する方向に光軸を変位させるように動く少なくとも1枚のレンズを有する可動光学系を含む、
ことを特徴とする投射光学系。
A first optical system having a lens and a second optical system having a concave mirror are arranged in order toward the front, which is the traveling direction of the image light emitted from the image display element.
An image formed on the image display element is formed as a first intermediate image inside the first optical system, and then as a second intermediate image between the first optical system and the second optical system. Image
The image light from the second intermediate image is projected from the second optical system in a projection direction intersecting the direction along the main optical axis, which is the optical axis of the first optical system, and the image is projected onto the projected surface. Enlarge and project as an image
The first optical system is provided with a mobile optical system having at least one lens that changes the optical characteristics of the projected image by moving along the main optical axis.
It is a projection optical system
The first optical system includes a movable optical system having at least one lens that moves so as to displace the optical axis in a direction intersecting the main optical axis.
A projection optical system characterized by this.
請求項1に記載の投射光学系において、
前記画像表示素子の画像表示面の中で前記被投射面に投射像として投射されることが可能な範囲である投射有効域の中で、前記光軸の変位方向に沿う方向で、前記主光軸から最も遠い端部である遠端部から出射する光の主光線を遠端部主光線とし、前記投射有効域の中で、前記主光軸に最も近い端部である近端部から出射する光の主光線を近端部主光線とし、
前記可動光学系の最も後方の光入射面における前記遠端部主光線の入射位置を遠端部主光線入射位置とし、前記光入射面における前記近端部主光線の入射位置を近端部主光線入射位置としたとき、
前記可動光学系は、前記遠端部主光線入射位置と前記近端部主光線入射位置とが異なる位置に配置されている、
ことを特徴とする投射光学系。
In the projection optical system according to claim 1,
The main light is in the direction along the displacement direction of the optic axis in the projection effective region, which is the range in which the projected image can be projected onto the projected surface in the image display surface of the image display element. The main ray of light emitted from the far end, which is the farthest end from the axis, is the far end main ray, and is emitted from the near end, which is the end closest to the main optic axis in the projection effective range. The main ray of light is the near-end main ray,
The incident position of the far-end main ray on the rearmost light incident surface of the movable optical system is defined as the far-end main ray incident position, and the incident position of the near-end main ray on the light incident surface is defined as the near-end main ray. When the light incident position is set
The movable optical system is arranged at a position where the far-end main ray incident position and the near-end main ray incident position are different.
A projection optical system characterized by this.
請求項2に記載の投射光学系において、
前記可動光学系は、前記第1中間像と、該第1中間像よりも前方に配置される絞りとの間に配置される少なくとも1枚のレンズを有する、
ことを特徴とする投射光学系。
In the projection optical system according to claim 2,
The movable optical system has at least one lens arranged between the first intermediate image and a diaphragm arranged in front of the first intermediate image.
A projection optical system characterized by this.
請求項3に記載の投射光学系において、
前記少なくとも1枚のレンズのうち1枚のレンズは、前記第1中間像に隣接した位置に配置されている、
ことを特徴とする投射光学系。
In the projection optical system according to claim 3,
One of the at least one lens is arranged at a position adjacent to the first intermediate image.
A projection optical system characterized by this.
請求項1から4のいずれか1項に記載の投射光学系において、
前記可動光学系は、前記移動光学系のうちの最も前方に配置されたレンズよりも前方に配置された正レンズを有する、
ことを特徴とする投射光学系。
In the projection optical system according to any one of claims 1 to 4,
The movable optical system has a positive lens arranged in front of the frontmost lens in the moving optical system.
A projection optical system characterized by this.
請求項2から5のいずれか1項に記載の投射光学系において、
前記可動光学系は、前記第1光学系の中で最も前方に配置されるレンズを有する、
ことを特徴とする投射光学系。
In the projection optical system according to any one of claims 2 to 5,
The movable optical system has a lens arranged at the frontmost position in the first optical system.
A projection optical system characterized by this.
請求項2に記載の投射光学系において、
前記可動光学系は、前記第1中間像と、該第1中間像よりも後方に配置される絞りとの間に配置される少なくとも1枚のレンズを有する、
ことを特徴とする投射光学系。
In the projection optical system according to claim 2,
The movable optical system has at least one lens arranged between the first intermediate image and an aperture arranged behind the first intermediate image.
A projection optical system characterized by this.
請求項7に記載の投射光学系において、
前記可動光学系は、前記第1光学系の中で前記第1中間像よりも後方に配置される正レンズの中で最も前方に配置されるレンズを有する、
ことを特徴とする投射光学系。
In the projection optical system according to claim 7,
The movable optical system has a lens arranged in the front of the positive lenses arranged behind the first intermediate image in the first optical system.
A projection optical system characterized by this.
請求項7または8に記載の投射光学系において、
前記可動光学系は、前記第1中間像と、該第1中間像よりも後方に配置される絞りとの間に配置される少なくとも1枚のメニスカスレンズを有する、
ことを特徴とする投射光学系。
In the projection optical system according to claim 7 or 8.
The movable optical system has at least one meniscus lens arranged between the first intermediate image and an aperture arranged behind the first intermediate image.
A projection optical system characterized by this.
請求項2から9のいずれか1項に記載の投射光学系において、
前記遠端部主光線入射位置と前記主光軸との間の距離Y1と、前記近端部主光線入射位置と前記主光軸との間の距離である入射位置距離Y2と、前記投射光学系の全系の焦点距離fとが、
4.0 >(Y1−Y2)/|f|≧0.8 ・・・ (1)
の関係を満たす、
ことを特徴とする投射光学系。
In the projection optical system according to any one of claims 2 to 9.
The distance Y1 between the far-end main ray incident position and the main optical axis, the incident position distance Y2 which is the distance between the near-end main ray incident position and the main optical axis, and the projection optics. The focal length f of the entire system is
4.0> (Y1-Y2) / | f | ≧ 0.8 ・ ・ ・ (1)
Satisfy the relationship,
A projection optical system characterized by this.
請求項1から10のいずれか1項に記載の投射光学系において、
前記画像表示素子の画像表示面の中で前記被投射面に投射像として投射されることが可能な範囲である投射有効域の中で、前記光軸の変位方向に沿う方向で、前記主光軸から最も遠い端部である遠端部から出射する光の主光線を遠端部主光線とし、
前記可動光学系の最も後方の光入射面における前記遠端部主光線の入射位置を遠端部主光線入射位置とし、
前記可動光学系の最も前方の光出射面における前記遠端部主光線の出射位置を遠端部主光線出射位置としたとき、
前記遠端部主光線入射位置と前記主光軸との間の距離である入射位置距離Y1と、前記遠端部主光線出射位置と前記主光軸との間の距離である出射位置距離Y3とが、
1.3≧Y3/Y1≧0.7 ・・・ (2)
の関係を満たす、
ことを特徴とする投射光学系。
In the projection optical system according to any one of claims 1 to 10.
In the projection effective region, which is a range in which the image display surface of the image display element can be projected as a projection image on the projected surface, the main light is in a direction along the displacement direction of the optical axis. The main ray of light emitted from the far end, which is the farthest end from the axis, is the far end main ray.
The incident position of the far-end main ray on the rearmost light incident surface of the movable optical system is defined as the far-end main ray incident position.
When the emission position of the far-end main ray on the frontmost light emitting surface of the movable optical system is set to the far-end main ray emission position,
The incident position distance Y1 which is the distance between the far-end main ray incident position and the main optical axis, and the emission position distance Y3 which is the distance between the far-end main ray emitting position and the main optical axis. And,
1.3 ≧ Y3 / Y1 ≧ 0.7 ・ ・ ・ (2)
Satisfy the relationship,
A projection optical system characterized by this.
請求項1から11のいずれか1項に記載の投射光学系において、
前記可動光学系の焦点距離f5と、前記第1光学系の焦点距離f1とが、
70 > |f5| / |f1| ≧ 1.0 ・・・ (3)
の関係を満たす、
ことを特徴とする投射光学系。
In the projection optical system according to any one of claims 1 to 11.
The focal length f5 of the movable optical system and the focal length f1 of the first optical system are
70 > | f5 | / | f1 | ≧ 1.0 ・ ・ ・ (3)
Satisfy the relationship,
A projection optical system characterized by this.
請求項1から12のいずれか1項に記載の投射光学系において、
前記可動光学系は、前記第1光学系の中で、2枚以上のレンズからなるレンズ群として構成されている、
ことを特徴とする投射光学系。
In the projection optical system according to any one of claims 1 to 12,
The movable optical system is configured as a lens group composed of two or more lenses in the first optical system.
A projection optical system characterized by this.
請求項1から13のいずれか1項に記載の投射光学系において、
前記可動光学系の動きは、前記主光軸と直交する方向の移動成分を有する、
ことを特徴とする投射光学系。
In the projection optical system according to any one of claims 1 to 13.
The movement of the movable optical system has a moving component in a direction orthogonal to the main optical axis.
A projection optical system characterized by this.
請求項1から14のいずれか1項に記載の投射光学系において、
前記可動光学系の動きは、該可動光学系の光軸と前記主光軸との成す角を変化させる動きである、
ことを特徴とする投射光学系。
In the projection optical system according to any one of claims 1 to 14.
The movement of the movable optical system is a movement that changes the angle formed by the optical axis of the movable optical system and the main optical axis.
A projection optical system characterized by this.
請求項15に記載の投射光学系において、
前記可動光学系の動きは、該可動光学系の最も後方の光入射面と前記主光軸との交点を中心に可動光学系を傾ける動きである、
ことを特徴とする投射光学系。
In the projection optical system according to claim 15,
The movement of the movable optical system is a movement of tilting the movable optical system around the intersection of the rearmost light incident surface of the movable optical system and the main optical axis.
A projection optical system characterized by this.
請求項1から16のいずれか1項に記載の投射光学系において、
前記移動光学系は合焦光学系を有し、
前記可動光学系は、少なくとも、前記合焦光学系が前記投射光学系の最短の投射距離に対応した位置、または最長の投射距離に対応した位置に配置されている状態下で動く、
ことを特徴とする投射光学系。
In the projection optical system according to any one of claims 1 to 16.
The mobile optical system has a focusing optical system and has a focusing optical system.
The movable optical system moves at least in a state where the focusing optical system is arranged at a position corresponding to the shortest projection distance of the projection optical system or a position corresponding to the longest projection distance.
A projection optical system characterized by this.
請求項1から17のいずれか1項に記載の投射光学系において、
前記移動光学系は変倍光学系を有し、
前記可動光学系は、少なくとも、前記変倍光学系が前記投射光学系の最短の焦点距離に対応した位置、または最長の焦点距離に対応した位置に配置されている状態下で動く、
ことを特徴とする投射光学系。
In the projection optical system according to any one of claims 1 to 17,
The mobile optical system has a variable magnification optical system and has a variable magnification optical system.
The movable optical system moves at least in a state where the variable magnification optical system is arranged at a position corresponding to the shortest focal length of the projection optical system or a position corresponding to the longest focal length.
A projection optical system characterized by this.
請求項1から18のいずれか1項に記載の投射光学系において、
前記移動光学系は、前記投射像の投射距離の変更を行い合焦状態を変化させる合焦用光学系、前記投射像の投射倍率の変更を行う変倍用光学系、および前記投射像の像面湾曲の補正を行う像面湾曲補正用光学系の少なくとも1つを備える、
ことを特徴とする投射光学系。
In the projection optical system according to any one of claims 1 to 18.
The moving optical system includes a focusing optical system that changes the focusing state by changing the projection distance of the projected image, a scaling optical system that changes the projection magnification of the projected image, and an image of the projected image. It includes at least one optical system for correcting curvature of field, which corrects curvature of field.
A projection optical system characterized by this.
請求項19に記載の投射光学系において、
前記移動光学系は像面湾曲調整光学系を有し、
前記可動光学系は、少なくとも、前記像面湾曲調整光学系が最もアンダーの像面湾曲を発生させる位置に配置されている状態下で、または最もオーバーの像面湾曲を発生させる位置に配置されている状態下で動く、
ことを特徴とする投射光学系。
In the projection optical system according to claim 19,
The moving optical system has an image plane curvature adjusting optical system.
The movable optical system is arranged at least under a state in which the image plane curvature adjusting optical system is arranged at a position where the most under-field curvature is generated, or at a position where the most over-field curvature is generated. Moves while you are
A projection optical system characterized by this.
光源と、この光源からの光を変調する光変調器と、この光変調器によって変調された光による光学像を投射する請求項1から20のいずれか1項に記載の投射光学系とを備えてなるプロジェクタ装置。 The projection optical system according to any one of claims 1 to 20, wherein a light source, an optical modulator that modulates the light from the light source, and an optical image of the light modulated by the optical modulator are projected. Projector device.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110267687A1 (en) * 2010-04-29 2011-11-03 Samsung Electronics Co., Ltd. Optical system and image projecting apparatus using the same
JP2017032927A (en) * 2015-08-06 2017-02-09 キヤノン株式会社 Imaging optical system, image projection device, and image capturing device
WO2018042865A1 (en) * 2016-08-30 2018-03-08 ソニー株式会社 Image display device and projection optical system
WO2018117210A1 (en) * 2016-12-21 2018-06-28 株式会社nittoh Projection optical system and projector

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110267687A1 (en) * 2010-04-29 2011-11-03 Samsung Electronics Co., Ltd. Optical system and image projecting apparatus using the same
JP2017032927A (en) * 2015-08-06 2017-02-09 キヤノン株式会社 Imaging optical system, image projection device, and image capturing device
WO2018042865A1 (en) * 2016-08-30 2018-03-08 ソニー株式会社 Image display device and projection optical system
WO2018117210A1 (en) * 2016-12-21 2018-06-28 株式会社nittoh Projection optical system and projector

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