JPWO2020110367A1 - Manufacturing method of low-reflection sheet, low-reflection functional material and product manufacturing method - Google Patents

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秀郎 井口
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Abstract

低反射シートは、剥離層と、剥離層上に形成された機能層とを備える。機能層は、光反射率を低減する機能を有する第１の機能膜と、第１の機能膜よりも硬度が大きい第２の機能膜とを含む。剥離層は、機能層から物理的に除去可能である。この低反射シートで、機能層に優れた耐擦傷性を付与しやすい。The low-reflection sheet includes a release layer and a functional layer formed on the release layer. The functional layer includes a first functional film having a function of reducing light reflectance and a second functional film having a hardness higher than that of the first functional film. The release layer can be physically removed from the functional layer. With this low-reflection sheet, it is easy to impart excellent scratch resistance to the functional layer.

Description

本開示は、低反射シート、低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法に関する。 The present disclosure relates to a method for manufacturing a low-reflection sheet, a low-reflection functional material, and a method for manufacturing a product.

従来の反射防止シート（低反射シート）では、樹脂製の基材上に、ハードコート層、反射防止（Ａｎｔｉ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ：ＡＲ）層、反射低減（Ｌｏｗ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）層等の機能層が積層されている。 In the conventional antireflection sheet (low reflection sheet), functional layers such as a hard coat layer, an antireflection (AR) layer, and a low reflection layer are laminated on a resin base material. ..

例えば特許文献１には、樹脂製の透明基材上に、電離放射線硬化樹脂製のアンカー層、高屈折率層及び低屈折率層が積層された反射防止積層体が開示されている。 For example, Patent Document 1 discloses an antireflection laminate in which an anchor layer made of an ionizing radiation curable resin, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are laminated on a transparent base material made of resin.

特開２０１６−２１８１０５号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-218105

低反射シートは、剥離層と、剥離層上に形成された機能層とを備える。機能層は、光反射率を低減する機能を有する第１の機能膜と、第１の機能膜よりも硬度が大きい第２の機能膜とを含む。剥離層は、機能層から物理的に除去可能である。 The low-reflection sheet includes a release layer and a functional layer formed on the release layer. The functional layer includes a first functional film having a function of reducing light reflectance and a second functional film having a hardness higher than that of the first functional film. The release layer can be physically removed from the functional layer.

この低反射シートで、機能層に優れた耐擦傷性を付与しやすい。 With this low-reflection sheet, it is easy to impart excellent scratch resistance to the functional layer.

図１Ａは、第一実施形態に係る低反射シートの概略断面図である。FIG. 1A is a schematic cross-sectional view of the low-reflection sheet according to the first embodiment. 図１Ｂは、図１Ａに示す低反射シートの拡大断面図である。FIG. 1B is an enlarged cross-sectional view of the low-reflection sheet shown in FIG. 1A. 図２Ａは、第一実施形態に係る低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法を示す概略断面図である。FIG. 2A is a schematic cross-sectional view showing a method for manufacturing a low-reflection functional material and a method for manufacturing a product according to the first embodiment. 図２Ｂは、第一実施形態に係る低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法を示す概略断面図である。FIG. 2B is a schematic cross-sectional view showing a method for manufacturing a low-reflection functional material and a method for manufacturing a product according to the first embodiment. 図２Ｃは、第一実施形態に係る低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法を示す概略断面図である。FIG. 2C is a schematic cross-sectional view showing a method for manufacturing a low-reflection functional material and a method for manufacturing a product according to the first embodiment. 図２Ｄは、第一実施形態に係る低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法を示す概略断面図である。FIG. 2D is a schematic cross-sectional view showing a method for manufacturing a low-reflection functional material and a method for manufacturing a product according to the first embodiment. 図２Ｅは、第一実施形態に係る低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法を示す概略断面図である。FIG. 2E is a schematic cross-sectional view showing a method for manufacturing a low-reflection functional material and a method for manufacturing a product according to the first embodiment. 図３は、第一実施形態に係る他の低反射シートの概略断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of another low-reflection sheet according to the first embodiment. 図４は、第一実施形態に係るさらに他の低反射シートの概略断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of still another low-reflection sheet according to the first embodiment. 図５Ａは、第二実施形態に係る低反射シートの概略断面図である。FIG. 5A is a schematic cross-sectional view of the low reflection sheet according to the second embodiment. 図５Ｂは、図５Ａに示す低反射シートの拡大断面図である。FIG. 5B is an enlarged cross-sectional view of the low reflection sheet shown in FIG. 5A. 図６Ａは、第二実施形態に係る低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法を示す概略断面図である。FIG. 6A is a schematic cross-sectional view showing a method for manufacturing a low-reflection functional material and a method for manufacturing a product according to the second embodiment. 図６Ｂは、第二実施形態に係る低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法を示す概略断面図である。FIG. 6B is a schematic cross-sectional view showing a method for manufacturing a low-reflection functional material and a method for manufacturing a product according to the second embodiment. 図６Ｃは、第二実施形態に係る低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法を示す概略断面図である。FIG. 6C is a schematic cross-sectional view showing a method for manufacturing a low-reflection functional material and a method for manufacturing a product according to the second embodiment. 図６Ｄは、第二実施形態に係る低反射機能材の製造方法及び製品の製造方法を示す概略断面図である。FIG. 6D is a schematic cross-sectional view showing a method of manufacturing a low-reflection functional material and a method of manufacturing a product according to the second embodiment.

（第一実施形態）
１．概要
図１Ａは、本開示の第一実施形態に係る低反射シート１００の概略断面図である。低反射シート１００は、剥離層１と、剥離層１を基材として剥離層１上に形成された機能層２と、を備える。機能層２は、光反射率を低減する機能を有する機能膜２０と、機能膜２０よりも硬度が大きい機能膜２１と、を含む。剥離層１は、機能層２から物理的に分離もしくは除去可能である。(First Embodiment)
1. 1. Schematic FIG. 1A is a schematic cross-sectional view of the low-reflection sheet 100 according to the first embodiment of the present disclosure. The low-reflection sheet 100 includes a release layer 1 and a functional layer 2 formed on the release layer 1 using the release layer 1 as a base material. The functional layer 2 includes a functional film 20 having a function of reducing light reflectance and a functional film 21 having a hardness higher than that of the functional film 20. The release layer 1 can be physically separated or removed from the functional layer 2.

本実施形態の低反射シート１００は、機能層２から剥離層１を物理的に分離もしくは除去することができる。このため、低反射シート１００から剥離層１を除去した状態で、機能層２を高温で加熱処理することができ、その場合、機能層２の耐擦傷性を向上させることができる。そのため、本実施形態の低反射シート１００は、機能層２に優れた耐擦傷性を付与しやすい。 The low-reflection sheet 100 of the present embodiment can physically separate or remove the release layer 1 from the functional layer 2. Therefore, the functional layer 2 can be heat-treated at a high temperature with the release layer 1 removed from the low-reflection sheet 100, and in that case, the scratch resistance of the functional layer 2 can be improved. Therefore, the low-reflection sheet 100 of the present embodiment tends to impart excellent scratch resistance to the functional layer 2.

特許文献１に開示されている反射防止積層体では、アンカー層、高屈折率層及び低屈折率層を高温で加熱処理することにより、耐擦傷性を向上させることが開示されている。しかしながら、樹脂製の基材は耐熱性が低い場合があり、樹脂製の基材上にアンカー層、高屈折率層及び低屈折率層を積層した状態では、高温で加熱処理することが困難であり、耐擦傷性を十分に向上させられない。 In the antireflection laminate disclosed in Patent Document 1, it is disclosed that the scratch resistance is improved by heat-treating the anchor layer, the high refractive index layer and the low refractive index layer at a high temperature. However, the resin base material may have low heat resistance, and it is difficult to heat-treat at a high temperature in a state where the anchor layer, the high refractive index layer and the low refractive index layer are laminated on the resin base material. Yes, the scratch resistance cannot be sufficiently improved.

本実施形態の低反射シート１００は、前述のように、機能層２に優れた耐擦傷性を付与しやすい。 As described above, the low-reflection sheet 100 of the present embodiment tends to impart excellent scratch resistance to the functional layer 2.

２．詳細
以下、第一実施形態に係る低反射シート１００の構成と、低反射シート１００の製造方法とを説明する。2. Details Hereinafter, the configuration of the low-reflection sheet 100 according to the first embodiment and the method for manufacturing the low-reflection sheet 100 will be described.

２−１．低反射シート１００
本実施形態に係る低反射シート１００は、剥離層１と、機能層２とを備える。低反射シート１００は、仮基材３をさらに備えてもよい。図１Ａに示す低反射シート１００においては、剥離層１と機能層２と仮基材３とが、この順に積層されている。以下、剥離層１、機能層２及び仮基材３の構成を詳細に説明する。2-1. Low reflection sheet 100
The low-reflection sheet 100 according to the present embodiment includes a release layer 1 and a functional layer 2. The low-reflection sheet 100 may further include a temporary base material 3. In the low-reflection sheet 100 shown in FIG. 1A, the release layer 1, the functional layer 2, and the temporary base material 3 are laminated in this order. Hereinafter, the configurations of the release layer 1, the functional layer 2, and the temporary base material 3 will be described in detail.

２−１−１．剥離層１
剥離層１は、シート状の部材である。剥離層１の平面視の形状は、特に限定されない。剥離層１は、機能層２から物理的に分離もしくは除去可能であれば、その構成は特に限定されない。2-1-1. Peeling layer 1
The release layer 1 is a sheet-like member. The shape of the release layer 1 in a plan view is not particularly limited. The structure of the release layer 1 is not particularly limited as long as it can be physically separated or removed from the functional layer 2.

本実施形態の剥離層１は、特定処理で溶融する溶融層１１を含む剥離溶融層１０である。溶融層１１は機能層２と接している。溶融層１１が溶融することで、剥離溶融層１０は、機能層２から分離もしくは除去可能であることが好ましい。この場合、特定処理によって溶融層１１が溶融した状態となることにより、剥離溶融層１０を機能層２から物理的に分離もしくは除去させることができる。剥離溶融層１０は溶融層１１以外の構成を含むことができる。本実施形態では、剥離溶融層１０がベース層１２を含んでいる。以下、溶融層１１及びベース層１２の構成を説明する。 The peeling layer 1 of the present embodiment is a peeling and melting layer 10 including a melting layer 11 that is melted by a specific treatment. The molten layer 11 is in contact with the functional layer 2. It is preferable that the peeling melt layer 10 can be separated or removed from the functional layer 2 by melting the melt layer 11. In this case, the peeling and melting layer 10 can be physically separated or removed from the functional layer 2 by bringing the molten layer 11 into a molten state by the specific treatment. The peeling and melting layer 10 can include a structure other than the melting layer 11. In the present embodiment, the peeling and melting layer 10 includes the base layer 12. Hereinafter, the configurations of the molten layer 11 and the base layer 12 will be described.

（１）溶融層１１
溶融層１１は機能層２と接している。このため、剥離層１の機能層２と接する面１ａは、溶融層１１で構成されている。特定処理によって溶融層１１を溶融できれば、溶融層１１の構成は特に限定されない。(1) Melted layer 11
The molten layer 11 is in contact with the functional layer 2. Therefore, the surface 1a of the release layer 1 in contact with the functional layer 2 is composed of the molten layer 11. The configuration of the molten layer 11 is not particularly limited as long as the molten layer 11 can be melted by the specific treatment.

例えば溶融層１１が水で処理されることで、溶融層１１が溶融した状態となることが好ましい。すなわち溶融層１１が、水溶性樹脂製であることが好ましい。この場合、溶融層１１を水で処理することによって、溶融層１１を溶融させることができる。それにより、剥離溶融層１０を機能層２から物理的に分離もしくは除去させることができる。 For example, it is preferable that the molten layer 11 is treated with water to bring the molten layer 11 into a molten state. That is, it is preferable that the molten layer 11 is made of a water-soluble resin. In this case, the molten layer 11 can be melted by treating the molten layer 11 with water. Thereby, the peeling and melting layer 10 can be physically separated or removed from the functional layer 2.

水溶性樹脂の例には、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）、ポリアクリルアミド（ＰＡＭ）、カルボキシルメチルセルロース（ＣＭＣ）等が含まれる。溶融層１１が水溶性樹脂製である場合には、溶融層１１がポリビニルアルコール製であることが特に好ましい。この場合、溶融層１１を水によって溶融させることができ、特に温水によって溶融させやすい。 Examples of water-soluble resins include polyvinyl alcohol (PVA), polyvinylpyrrolidone (PVP), polyethylene glycol (PEG), polyacrylamide (PAM), carboxylmethylcellulose (CMC) and the like. When the molten layer 11 is made of a water-soluble resin, it is particularly preferable that the molten layer 11 is made of polyvinyl alcohol. In this case, the molten layer 11 can be melted with water, and is particularly easy to melt with warm water.

例えば溶融層１１は、溶剤で処理されることによって、溶融されてもよい。この場合、溶融層１１を溶剤で処理することによって、溶融層１１を溶融させることができ、それにより、剥離溶融層１０を機能層２から物理的に分離もしくは除去させることができる。またこの場合の溶剤は、溶融層１１を溶剤で溶融させる際に、溶剤が機能層２に破壊、損傷を生じさせなければ、特に限定されない。すなわち、溶融層１１は、機能層２に破壊、損傷を生じさせない溶剤によって溶融可能であればよい。 For example, the molten layer 11 may be melted by being treated with a solvent. In this case, the molten layer 11 can be melted by treating the molten layer 11 with a solvent, whereby the peeling and melting layer 10 can be physically separated or removed from the functional layer 2. The solvent in this case is not particularly limited as long as the solvent does not destroy or damage the functional layer 2 when the molten layer 11 is melted with the solvent. That is, the molten layer 11 may be meltable by a solvent that does not break or damage the functional layer 2.

溶融層１１の厚みは、特定処理で溶融しやすく、かつ、剥離溶融層１０の強度を確保しやすいように、適宜設定される。例えば溶融層１１が水溶性樹脂製である場合、溶融層１１の厚みは１μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましい。この場合、剥離溶融層１０の強度を確保しながら、水処理によって溶融層１１を溶融させやすくできる。 The thickness of the melt layer 11 is appropriately set so that it can be easily melted by the specific treatment and the strength of the peel melt layer 10 can be easily secured. For example, when the molten layer 11 is made of a water-soluble resin, the thickness of the molten layer 11 is preferably 1 μm or more and 100 μm or less. In this case, the molten layer 11 can be easily melted by water treatment while ensuring the strength of the peeling and melting layer 10.

（２）ベース層１２
ベース層１２上に溶融層１１が形成されている。ベース層１２は、溶融層１１と直接接している。ベース層１２は、溶融層１１を保持できると共に、剥離溶融層１０の強度を向上させることができる。本実施形態の低反射シート１００では、ベース層１２と機能層２との間に、溶融層１１が設けられている。また剥離層１の機能層２と接する面１ａとは反対側の面１ｂは、ベース層１２で構成されている。(2) Base layer 12
A molten layer 11 is formed on the base layer 12. The base layer 12 is in direct contact with the molten layer 11. The base layer 12 can hold the molten layer 11 and improve the strength of the peeled molten layer 10. In the low-reflection sheet 100 of the present embodiment, the molten layer 11 is provided between the base layer 12 and the functional layer 2. The surface 1b of the release layer 1 opposite to the surface 1a in contact with the functional layer 2 is composed of the base layer 12.

ベース層１２は、溶融層１１から剥離可能であることが好ましい。この場合、溶融層１１からベース層１２を剥離することによって、溶融層１１を露出させることができる。また露出した溶融層１１に、特定処理を行うことによって、溶融層１１を溶融させることができる。例えば、溶融層１１が水溶性樹脂である場合には、溶融層１１からベース層１２を剥離して溶融層１１を露出させてから、溶融層１１を水で処理することにより、溶融層１１を溶融させることができる。 The base layer 12 is preferably removable from the molten layer 11. In this case, the molten layer 11 can be exposed by peeling the base layer 12 from the molten layer 11. Further, the molten layer 11 can be melted by performing a specific treatment on the exposed molten layer 11. For example, when the molten layer 11 is a water-soluble resin, the molten layer 11 is formed by peeling the base layer 12 from the molten layer 11 to expose the molten layer 11 and then treating the molten layer 11 with water. Can be melted.

ベース層１２の材質は、溶融層１１を保持可能であり、且つ、溶融層１１から剥離可能であれば、特に限定されない。溶融層１１がポリビニルアルコール（ＰＶＡ）等の水溶性樹脂製である場合、ベース層１２は例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の水で溶融しない樹脂よりなることが好ましい。この場合、ベース層１２で溶融層１１を適度に保持しながら、溶融層１１からベース層１２を剥離しやすくすることができる。ベース層１２の厚みは、特に限定されない。 The material of the base layer 12 is not particularly limited as long as it can hold the molten layer 11 and can be peeled from the molten layer 11. When the molten layer 11 is made of a water-soluble resin such as polyvinyl alcohol (PVA), the base layer 12 is preferably made of a resin that does not melt in water such as polyethylene terephthalate (PET). In this case, the base layer 12 can be easily peeled off from the molten layer 11 while the molten layer 11 is appropriately held by the base layer 12. The thickness of the base layer 12 is not particularly limited.

２−１−２．機能層２
機能層２の平面視の形状は、特に限定されず、例えば剥離層１の平面視の形状と同じであることが好ましい。機能層２は、上述の通り、機能膜２０及び機能膜２１を含む。本実施形態の低反射シート１００では、図１Ａに示すように、機能膜２１上に機能膜２０が積層されている。このため、本実施形態の低反射シート１００では、剥離層１、機能膜２１、機能膜２０はこの順に重なっている。以下、機能膜２０及び機能膜２１の構成を説明する。2-1-2. Functional layer 2
The plan view shape of the functional layer 2 is not particularly limited, and is preferably the same as the plan view shape of the release layer 1, for example. As described above, the functional layer 2 includes the functional film 20 and the functional film 21. In the low-reflection sheet 100 of the present embodiment, as shown in FIG. 1A, the functional film 20 is laminated on the functional film 21. Therefore, in the low-reflection sheet 100 of the present embodiment, the release layer 1, the functional film 21, and the functional film 20 are overlapped in this order. Hereinafter, the configurations of the functional film 20 and the functional film 21 will be described.

（１）機能膜２０
機能膜２０は、光反射率を低減する機能を有する層である。本実施形態の機能膜２０は、中屈折率層２０１と高屈折率層２０２と低屈折率層２０３とを含む。また本実施形態では、中屈折率層２０１、高屈折率層２０２、低屈折率層２０３はこの順に積層されている。(1) Functional film 20
The functional film 20 is a layer having a function of reducing light reflectance. The functional film 20 of the present embodiment includes a medium refractive index layer 201, a high refractive index layer 202, and a low refractive index layer 203. Further, in the present embodiment, the medium refractive index layer 201, the high refractive index layer 202, and the low refractive index layer 203 are laminated in this order.

高屈折率層２０２の屈折率は、中屈折率層２０１の屈折率及び低屈折率層２０３の屈折率よりも大きい。また中屈折率層２０１の屈折率は、低屈折率層２０３の屈折率よりも大きい。すなわち低屈折率層２０３の屈折率は、中屈折率層２０１の屈折率及び高屈折率層２０２の屈折率よりも小さい。本実施形態では、低屈折率層２０３と高屈折率層２０２との界面で反射した光と、高屈折率層２０２と中屈折率層２０１との界面で反射した光とを相殺的に干渉させて、振幅を打ち消し合わせることによって、光反射率を低減させている。このような相殺的な干渉は、中屈折率層２０１、高屈折率層２０２及び低屈折率層２０３の屈折率と膜厚とを調製することによって実現することができる。 The refractive index of the high refractive index layer 202 is larger than the refractive index of the medium refractive index layer 201 and the refractive index of the low refractive index layer 203. The refractive index of the medium refractive index layer 201 is larger than that of the low refractive index layer 203. That is, the refractive index of the low refractive index layer 203 is smaller than the refractive index of the medium refractive index layer 201 and the refractive index of the high refractive index layer 202. In the present embodiment, the light reflected at the interface between the low refraction layer 203 and the high refraction layer 202 and the light reflected at the interface between the high refraction layer 202 and the medium refraction layer 201 are caused to interfere with each other in a canceling manner. By canceling the amplitudes, the light reflectance is reduced. Such canceling interference can be realized by adjusting the refractive index and the film thickness of the medium refractive index layer 201, the high refractive index layer 202, and the low refractive index layer 203.

例えば中屈折率層２０１の屈折率は１．５以上１．７以下が好ましい。中屈折率層２０１の膜厚は５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下が好ましい。また例えば高屈折率層２０２の屈折率は中屈折率材料の屈折率よりも高い屈折率であればよいが、１．６以上が好ましい。高屈折率層２０２の膜厚は２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましい。また例えば低屈折率層２０３の屈折率は１．４以下が好ましく、低屈折率層２０３の膜厚は５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることが好ましい。なお膜の屈折率の測定は分光エリプソメトリーなどの一般的な手法でもとめることができる。 For example, the refractive index of the medium refractive index layer 201 is preferably 1.5 or more and 1.7 or less. The film thickness of the medium refractive index layer 201 is preferably 50 nm or more and 150 nm or less. Further, for example, the refractive index of the high refractive index layer 202 may be higher than the refractive index of the medium refractive index material, but 1.6 or more is preferable. The film thickness of the high refractive index layer 202 is preferably 20 nm or more and 100 nm or less. Further, for example, the refractive index of the low refractive index layer 203 is preferably 1.4 or less, and the film thickness of the low refractive index layer 203 is preferably 50 nm or more and 150 nm or less. The measurement of the refractive index of the film can be stopped by a general method such as spectroscopic ellipsometry.

中屈折率層２０１、高屈折率層２０２及び低屈折率層２０３は、例えば電離放射線硬化型樹脂から作製することができる。この場合、電離放射線硬化型樹脂から形成した塗膜を乾燥した後に、この塗膜に電離放射線を照射して硬化させることによって、中屈折率層２０１、高屈折率層２０２又は低屈折率層２０３を作製することができる。 The medium refractive index layer 201, the high refractive index layer 202, and the low refractive index layer 203 can be made of, for example, an ionizing radiation curable resin. In this case, after drying the coating film formed from the ionizing radiation curable resin, the coating film is irradiated with ionizing radiation and cured to cure the medium refractive index layer 201, the high refractive index layer 202, or the low refractive index layer 203. Can be produced.

電離放射線硬化型樹脂組成物は、アクリレート系の官能基を有する樹脂を含むことが好ましい。アクリレート系の官能基を有する樹脂の例には、比較的低分子量の多官能化合物の（メタ）アクリレート等のオリゴマー、プレポリマーが含まれる。多官能化合物は、例えば、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、及び多価アルコールからなる群から選択される一種以上を含むことができる。 The ionizing radiation curable resin composition preferably contains a resin having an acrylate-based functional group. Examples of resins having an acrylate-based functional group include oligomers such as (meth) acrylates, which are polyfunctional compounds having a relatively low molecular weight, and prepolymers. The polyfunctional compound is, for example, one or more selected from the group consisting of polyester resin, polyether resin, acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, spiroacetal resin, polybutadiene resin, polythiol polyene resin, and polyhydric alcohol. Can be included.

電離放射線硬化型樹脂組成物は、反応性希釈剤を含有してもよい。反応性希釈剤は、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートからなる群から選択される一種以上を含むことができる。 The ionizing radiation curable resin composition may contain a reactive diluent. Reactive diluents include, for example, ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, and tripropylene glycol di. From (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate Can include one or more selected from the group of

電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用する場合、電離放射線硬化型樹脂組成物は光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤の例には、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類等が含まれる。電離放射線硬化型樹脂組成物は更に光増感剤を含んでいてもよい。光増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、チオキサントン等が含まれる。 When the ionizing radiation curable resin is used as the ultraviolet curable resin, the ionizing radiation curable resin composition preferably contains a photopolymerization initiator. Examples of photopolymerization initiators include acetophenones, benzophenones, α-amyloxime esters, thioxanthones and the like. The ionizing radiation curable resin composition may further contain a photosensitizer. Examples of photosensitizers include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, thioxanthone and the like.

低屈折率層２０３は低屈折率の微粒子を含有することが好ましい。これにより、低屈折率層２０３の屈折率を、中屈折率層２０１及び高屈折率層２０２の屈折率よりも小さくしやすい。低屈折率の微粒子の例には、シリカ微粒子、中空シリカ微粒子、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化ナトリウム等が含まれる。低屈折率層２０３は、これらの成分のうち一種以上を含むことができる。 The low refractive index layer 203 preferably contains fine particles having a low refractive index. As a result, the refractive index of the low refractive index layer 203 can be easily made smaller than the refractive index of the medium refractive index layer 201 and the high refractive index layer 202. Examples of the fine particles having a low refractive index include silica fine particles, hollow silica fine particles, magnesium fluoride, lithium fluoride, aluminum fluoride, calcium fluoride, sodium fluoride and the like. The low refractive index layer 203 can contain one or more of these components.

特に本実施形態では、低屈折率層２０３が、汚れの付着を防止する防汚性を付与可能な防汚剤を含有することが好ましい。この場合、表示装置等の対象物の一面上に機能層２を配置した場合に、最表面に位置する低屈折率層２０３の表面に防汚性を付与することができる。防汚剤としては、公知の防汚剤を適宜採用することができる。防汚剤は、特に限定されないが、例えばシリコーン系化合物及びフッ素化合物からなる群から選択される一種以上を含むことができる。防汚剤は、アクリレート系化合物を含むことが好ましい。この場合、低屈折率層２０３に防汚性に加えて、耐鹸化性を付与できると共に、低屈折率層２０３の硬度を高く維持できる。このため、防汚剤は、シリコーンアクリレート系化合物、フッ素含有アクリレート化合物、及びフッ素とシリコーンを含有するアクリレート化合物からなる群から選択される一種以上を含むことが特に好ましい。 In particular, in the present embodiment, it is preferable that the low refractive index layer 203 contains an antifouling agent capable of imparting antifouling property to prevent adhesion of dirt. In this case, when the functional layer 2 is arranged on one surface of an object such as a display device, antifouling property can be imparted to the surface of the low refractive index layer 203 located on the outermost surface. As the antifouling agent, a known antifouling agent can be appropriately adopted. The antifouling agent is not particularly limited, and may include, for example, one or more selected from the group consisting of silicone compounds and fluorine compounds. The antifouling agent preferably contains an acrylate-based compound. In this case, the low refractive index layer 203 can be provided with saponification resistance in addition to antifouling property, and the hardness of the low refractive index layer 203 can be maintained high. Therefore, it is particularly preferable that the antifouling agent contains at least one selected from the group consisting of a silicone acrylate compound, a fluorine-containing acrylate compound, and an acrylate compound containing fluorine and silicone.

機能膜２１は、低反射シート１００に、優れた高い硬度を付与するための層である。機能膜２１は、剥離層１（剥離溶融層１０）と接しており、詳細に剥離溶融層１０に含まれる溶融層１１と接している。本実施形態では、剥離溶融層１０（剥離層１）を機能層２から物理的に分離もしくは除去可能であるため、剥離溶融層１０を機能膜２１から物理的に分離もしくは除去できる。特に溶融層１１が水溶性樹脂製である場合には、溶融層１１を水で処理して溶融させることによって、剥離溶融層１０（剥離層１）を機能膜２１から物理的に分離することができる。水で処理して剥離溶融層１０（剥離層１）を分離することで、機能層２が極薄膜であった場合でも、ダメージなく機能層２を分離することが可能となる。 The functional film 21 is a layer for imparting excellent high hardness to the low-reflection sheet 100. The functional film 21 is in contact with the peeling layer 1 (peeling and melting layer 10), and is in contact with the melting layer 11 included in the peeling and melting layer 10 in detail. In the present embodiment, since the peeling and melting layer 10 (peeling layer 1) can be physically separated or removed from the functional layer 2, the peeling and melting layer 10 can be physically separated or removed from the functional film 21. In particular, when the melt layer 11 is made of a water-soluble resin, the peel melt layer 10 (peeling layer 1) can be physically separated from the functional film 21 by treating the melt layer 11 with water and melting the melt layer 11. can. By treating with water to separate the peeling and melting layer 10 (peeling layer 1), it is possible to separate the functional layer 2 without damage even when the functional layer 2 is an ultrathin film.

（２）機能膜２１
機能膜２１は、機能膜２０よりも硬度が大きい層である。このため機能膜２１は、機能層２の耐擦傷性及び硬度を向上させるための層である。本実施形態の低反射シート１００では、機能膜２１上に機能膜２０が積層されており、機能膜２１は機能膜２０と直接接している。また機能層２の剥離層１（剥離溶融層１０）に接する面２ｂは機能膜２１で構成されている。このため、機能膜２１は、剥離溶融層１０と直接接しており、詳細には溶融層１１と直接接している。(2) Functional film 21
The functional film 21 is a layer having a hardness higher than that of the functional film 20. Therefore, the functional film 21 is a layer for improving the scratch resistance and hardness of the functional layer 2. In the low-reflection sheet 100 of the present embodiment, the functional film 20 is laminated on the functional film 21, and the functional film 21 is in direct contact with the functional film 20. The surface 2b of the functional layer 2 in contact with the release layer 1 (release melt layer 10) is formed of the functional film 21. Therefore, the functional film 21 is in direct contact with the peeling and melting layer 10, and in detail, is in direct contact with the melting layer 11.

機能膜２１は、反応性硬化型樹脂組成物から形成することができ、例えば熱硬化型樹脂組成物及び電離放射線硬化型樹脂組成物のうち少なくとも一方から形成されることが好ましい。 The functional film 21 can be formed from a reactive curable resin composition, and is preferably formed from, for example, at least one of a thermosetting resin composition and an ionizing radiation curable resin composition.

熱硬化型樹脂組成物は、例えばフェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、珪素樹脂及びポリシロキサン樹脂からなる群から選択される一種以上を含むことができる。熱硬化性樹脂組成物は、架橋剤、重合開始剤、硬化剤、硬化促進剤、溶剤等を含んでいてもよい。 The thermosetting resin composition is selected from the group consisting of, for example, phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, silicon resin and polysiloxane resin. Can include one or more. The thermosetting resin composition may contain a cross-linking agent, a polymerization initiator, a curing agent, a curing accelerator, a solvent and the like.

電離放射線硬化型樹脂組成物は、例えば機能膜２０に含まれる中屈折率層２０１、高屈折率層２０２及び低屈折率層２０３の形成に使用される電離放射線硬化型樹脂と同様の樹脂を使用することができる。 The ionizing radiation curable resin composition uses, for example, a resin similar to the ionizing radiation curable resin used for forming the medium refractive index layer 201, the high refractive index layer 202, and the low refractive index layer 203 contained in the functional film 20. can do.

機能膜２１の屈折率は、特に限定されないが、例えば１．４以上１．６以下であることが好ましい。この場合、機能膜２１の膜厚は、例えば１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。この場合、機能膜２１の強度を向上させることができ、それにより低反射シート１００の強度も向上させることができる。 The refractive index of the functional film 21 is not particularly limited, but is preferably 1.4 or more and 1.6 or less, for example. In this case, the film thickness of the functional film 21 is preferably 1 μm or more and 10 μm or less, for example. In this case, the strength of the functional film 21 can be improved, and thereby the strength of the low-reflection sheet 100 can also be improved.

２−１−３．仮基材３
仮基材３は、剥離層１とは異なる基材である。詳細には、仮基材３は、剥離層１とは異なる材料を含む、あるいは異なる構造を有する。本実施形態の低反射シート１００では、機能層２上に仮基材３が積層されている。仮基材３によって機能層２を保持することができる。2-1-3. Temporary base material 3
The temporary base material 3 is a base material different from the release layer 1. Specifically, the temporary base material 3 contains a material different from that of the release layer 1 or has a different structure. In the low-reflection sheet 100 of the present embodiment, the temporary base material 3 is laminated on the functional layer 2. The functional layer 2 can be held by the temporary base material 3.

本実施形態の仮基材３は機能層２と接している。詳細には、仮基材３は、仮基材本体３０及び再剥離層３１を備え、再剥離層３１によって、仮基材本体３０は機能層２と接着されている。 The temporary base material 3 of this embodiment is in contact with the functional layer 2. Specifically, the temporary base material 3 includes a temporary base material main body 30 and a re-peelable layer 31, and the temporary base material main body 30 is adhered to the functional layer 2 by the re-peelable layer 31.

仮基材３は、機能層２から剥離可能であることが好ましい。この場合、仮基材３で機能層２を保持した状態で機能層２を対象物に貼り付けた後に、仮基材３を機能層２から剥離することによって、対象物に機能層２のみを貼り付けることができる。 It is preferable that the temporary base material 3 can be peeled off from the functional layer 2. In this case, after the functional layer 2 is attached to the object while the functional layer 2 is held by the temporary base material 3, only the functional layer 2 is attached to the object by peeling the temporary base material 3 from the functional layer 2. Can be pasted.

仮基材３は、耐熱性を有することが好ましい。この場合、仮基材３で機能層２を保持した状態において、仮基材３とともに機能層２を加熱処理することができる。このため、仮基材３は、機能層２を保持した状態で加熱処理を行っても、機能層２を保持し続けられるような耐熱性を有することが好ましい。仮基材３が機能層２を保持し続けるためには、仮基材３を加熱処理しても、仮基材３に変形、破損、溶融等が生じにくいことが好ましい。特に、仮基材３は、好ましくは１５０℃以上、さらに好ましくは２２０℃以上で加熱処理しても、機能層２を保持し続けられることが好ましい。そのためには、仮基材３を２２０℃以上で加熱しても、仮基材３に変形、破損、溶融等が生じにくいことが好ましい。 The temporary base material 3 preferably has heat resistance. In this case, the functional layer 2 can be heat-treated together with the temporary base material 3 while the functional layer 2 is held by the temporary base material 3. Therefore, it is preferable that the temporary base material 3 has heat resistance so that the functional layer 2 can be continuously retained even if the heat treatment is performed while the functional layer 2 is retained. In order for the temporary base material 3 to continue to hold the functional layer 2, it is preferable that the temporary base material 3 is less likely to be deformed, damaged, melted, or the like even if the temporary base material 3 is heat-treated. In particular, it is preferable that the temporary base material 3 can continue to retain the functional layer 2 even if it is heat-treated at preferably 150 ° C. or higher, more preferably 220 ° C. or higher. For that purpose, it is preferable that even if the temporary base material 3 is heated at 220 ° C. or higher, the temporary base material 3 is less likely to be deformed, damaged, melted, or the like.

仮基材本体３０は、例えばエポキシ樹脂、ＰＡＲ（ポリアリレート樹脂）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート樹脂）、ガラスクロス含侵樹脂、ポリイミド樹脂などの耐熱樹脂製であることが好ましい。この場合、仮基材３の強度を確保しながら、仮基材３の耐熱性を確保することができる。仮基材本体３０の膜厚は、機能層２を保持できるように適宜設定される。仮基材本体３０の膜厚及び屈折率は特に限定されない。再剥離層３１は、再剥離性を有する層であれば、特に限定されない。具体的には、再剥離層３１は、仮基材３で機能層２を保持できると共に、機能層２から仮基材３を剥離できるような粘着性を有することが好ましい。再剥離層３１の膜厚及び再剥離層３１の屈折率は特に限定されない。 The temporary base material body 30 is preferably made of a heat-resistant resin such as an epoxy resin, PAR (polyarylate resin), PEN (polyethylene naphthalate resin), glass cloth impregnated resin, or polyimide resin. In this case, the heat resistance of the temporary base material 3 can be ensured while ensuring the strength of the temporary base material 3. The film thickness of the temporary base material body 30 is appropriately set so as to hold the functional layer 2. The film thickness and the refractive index of the temporary base material body 30 are not particularly limited. The removable layer 31 is not particularly limited as long as it is a layer having releasability. Specifically, it is preferable that the re-peelable layer 31 has adhesiveness so that the temporary base material 3 can hold the functional layer 2 and the temporary base material 3 can be peeled off from the functional layer 2. The film thickness of the re-peelable layer 31 and the refractive index of the re-peelable layer 31 are not particularly limited.

図１Ｂは低反射シート１００の拡大断面図である。本実施形態では、図１Ｂに示すように、仮基材３の機能層２に貼り付けられた面３ｂは、光を散乱する光散乱機能を有する凹凸構造３００を有することが好ましい。この場合、機能層２の仮基材３に貼り付けられた面２ａに凹凸構造３００が転写されて、機能層２の面２ａに光を散乱する光散乱機能を有する凹凸構造２００を形成することができる。本実施形態では、図１Ｂに示すように、再剥離層３１が凹凸構造３００を有するため、機能膜２０及び機能膜２１に凹凸構造２００が形成される。このため、機能膜２０に含まれる中屈折率層２０１、高屈折率層２０２及び低屈折率層２０３に凹凸構造２００が形成される。なお、図１Ｂでは、中屈折率層２０１、高屈折率層２０２及び低屈折率層２０３をまとめて機能膜２０として記載している。また、光散乱機能を有する凹凸構造とは、凹凸構造に対して光を照射すると、凹凸によって光の乱反射が生じる構造を意味する。このため、機能層２の面２ａに光散乱機能を有する凹凸構造２００が形成されると、機能層２の面２ａは、アンチグレア（Ａｎｔｉ−Ｇｌａｒｅ）効果を発現する。この場合、機能層２の面は、光沢が低減され、またギラつきが低減される。機能層２の面２ａに光散乱機能を有する凹凸構造２００を形成するためには、機能層２の厚みが１０μｍ以下であることが好ましい。 FIG. 1B is an enlarged cross-sectional view of the low reflection sheet 100. In the present embodiment, as shown in FIG. 1B, the surface 3b attached to the functional layer 2 of the temporary base material 3 preferably has a concavo-convex structure 300 having a light scattering function for scattering light. In this case, the concavo-convex structure 300 is transferred to the surface 2a attached to the temporary base material 3 of the functional layer 2 to form the concavo-convex structure 200 having a light scattering function of scattering light on the surface 2a of the functional layer 2. Can be done. In the present embodiment, as shown in FIG. 1B, since the removable layer 31 has the concave-convex structure 300, the concave-convex structure 200 is formed on the functional film 20 and the functional film 21. Therefore, the uneven structure 200 is formed on the medium refractive index layer 201, the high refractive index layer 202, and the low refractive index layer 203 included in the functional film 20. In FIG. 1B, the medium refractive index layer 201, the high refractive index layer 202, and the low refractive index layer 203 are collectively shown as the functional film 20. Further, the concavo-convex structure having a light scattering function means a structure in which when the concavo-convex structure is irradiated with light, diffused reflection of light occurs due to the concavo-convex structure. Therefore, when the uneven structure 200 having a light scattering function is formed on the surface 2a of the functional layer 2, the surface 2a of the functional layer 2 exhibits an anti-glare effect. In this case, the surface of the functional layer 2 has reduced gloss and reduced glare. In order to form the uneven structure 200 having a light scattering function on the surface 2a of the functional layer 2, the thickness of the functional layer 2 is preferably 10 μm or less.

２−２．低反射シート１００の製造方法
図１Ａに示す低反射シート１００は、例えば以下の方法により製造することができる。2-2. Method for manufacturing the low-reflection sheet 100 The low-reflection sheet 100 shown in FIG. 1A can be manufactured by, for example, the following method.

（１）剥離層１の準備
まず剥離層１を用意する。本実施形態の剥離層１は、溶融層１１及びベース層１２を含む剥離溶融層１０であることが好ましく、溶融層１１が水溶性樹脂製であることが好ましい。したがって、剥離層１として、ベース層１２上に水溶性樹脂製の溶融層１１が予め形成されたシート材を使用することができる。剥離層１として、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製のベース層１２上にポリビニルアルコール（ＰＶＡ）製の溶融層１１が形成されたシート材を使用することができる。(1) Preparation of release layer 1 First, the release layer 1 is prepared. The release layer 1 of the present embodiment is preferably a release melt layer 10 including the melt layer 11 and the base layer 12, and the melt layer 11 is preferably made of a water-soluble resin. Therefore, as the release layer 1, a sheet material in which a melt layer 11 made of a water-soluble resin is previously formed on the base layer 12 can be used. As the release layer 1, for example, a sheet material in which a molten layer 11 made of polyvinyl alcohol (PVA) is formed on a base layer 12 made of polyethylene terephthalate (PET) can be used.

（２）機能層２の作製
次に、剥離層１上に機能層２を形成する。本実施形態では、溶融層１１上に機能膜２１を形成した後に、機能膜２１上に機能膜２０を形成することによって、剥離溶融層１０上に機能層２を形成することができる。(2) Preparation of Functional Layer 2 Next, the functional layer 2 is formed on the release layer 1. In the present embodiment, the functional layer 2 can be formed on the peeled molten layer 10 by forming the functional film 21 on the molten layer 11 and then forming the functional film 20 on the functional film 21.

具体的には、溶融層１１上に、機能膜２１を形成するための反応性硬化型樹脂を塗布して反応性硬化型樹脂の膜を形成した後に硬化させることによって、機能膜２１を形成できる。機能膜２１が電離放射線硬化性樹脂組成物である場合には、電離放射線硬化型樹脂を塗付して電離放射線硬化型樹脂の膜を形成して乾燥後、その膜に電離放射線を照射することで、機能膜２１を形成できる。 Specifically, the functional film 21 can be formed by applying a reactive curable resin for forming the functional film 21 on the molten layer 11, forming a film of the reactive curable resin, and then curing the film. .. When the functional film 21 is an ionizing radiation curable resin composition, the ionizing radiation curable resin is applied to form a film of the ionizing radiation curable resin, dried, and then the film is irradiated with ionizing radiation. Therefore, the functional film 21 can be formed.

機能膜２１上に、中屈折率層２０１を形成するための電離放射線硬化型樹脂を塗付して電離放射線硬化型樹脂の膜を形成し、この膜の乾燥後、電離放射線を照射することで、中屈折率層２０１を形成できる。中屈折率層２０１上に、高屈折率層２０２を形成するための電離放射線硬化型樹脂を塗付して電離放射線硬化型樹脂の膜を形成し、この膜の乾燥後、電離放射線を照射することで、高屈折率層２０２を形成できる。さらに、高屈折率層２０２上に、低屈折率層２０３を形成するための電離放射線硬化型樹脂を塗付して電離放射線硬化型樹脂の膜を形成し、この膜の乾燥後、電離放射線を照射することで、低屈折率層２０３を形成できる。中屈折率層２０１、高屈折率層２０２、低屈折率層２０３を積層することで、機能膜２０を作製することができる。 An ionizing radiation curable resin for forming the medium refractive index layer 201 is applied onto the functional film 21 to form a film of the ionizing radiation curable resin, and after the film is dried, it is irradiated with ionizing radiation. , The medium refractive index layer 201 can be formed. An ionizing radiation curable resin for forming the high refractive index layer 202 is applied onto the medium refractive index layer 201 to form a film of the ionizing radiation curable resin, and after the film is dried, ionizing radiation is irradiated. As a result, the high refractive index layer 202 can be formed. Further, an ionizing radiation curable resin for forming the low refractive index layer 203 is applied on the high refractive index layer 202 to form a film of the ionizing radiation curable resin, and after the film is dried, ionizing radiation is emitted. By irradiating, the low refractive index layer 203 can be formed. The functional film 20 can be produced by laminating the medium refractive index layer 201, the high refractive index layer 202, and the low refractive index layer 203.

本実施形態では、防汚剤を含む電離放射線硬化型樹脂から低屈折率層２０３を形成することが特に好ましい。この場合、電離放射線硬化型樹脂を塗付して電離放射線硬化型樹脂の膜を形成する際に、この膜と大気との界面に、防汚剤に含まれるフッ素等の置換基を集中させることができ、この置換基によって、低屈折率層２０３の表面に防汚性を付与することができる。 In the present embodiment, it is particularly preferable to form the low refractive index layer 203 from an ionizing radiation curable resin containing an antifouling agent. In this case, when the ionizing radiation curable resin is applied to form a film of the ionizing radiation curable resin, substituents such as fluorine contained in the antifouling agent are concentrated on the interface between the film and the atmosphere. By this substituent, antifouling property can be imparted to the surface of the low refractive index layer 203.

また本実施形態では、製品基材に機能層２を直接設けるのではなく、工程部材としての剥離層１上に機能層２を形成するため、生産性に優れた方法で機能層２を形成することができ、具体的にはロール・ツー・ロール法等を採用できる。ガラス板、樹脂板等の基材に通常の塗布法等で薄膜を形成する場合、端部で膜厚にバラつきが生じて、光学特性が低下することがある。これに対して、ロール・ツー・ロール法等の方法で機能層２を形成する場合、機能層２の膜厚を均一にしやすく、膜厚のバラつきを生じにくくできる。特に、機能層２の面積が大きい場合であっても、機能層２の膜厚を均一にすることができる。 Further, in the present embodiment, since the functional layer 2 is formed on the release layer 1 as a process member instead of directly providing the functional layer 2 on the product base material, the functional layer 2 is formed by a method excellent in productivity. Specifically, the roll-to-roll method or the like can be adopted. When a thin film is formed on a base material such as a glass plate or a resin plate by a normal coating method or the like, the film thickness may vary at the edges and the optical characteristics may deteriorate. On the other hand, when the functional layer 2 is formed by a method such as a roll-to-roll method, the film thickness of the functional layer 2 can be easily made uniform, and the film thickness can be less likely to vary. In particular, even when the area of the functional layer 2 is large, the film thickness of the functional layer 2 can be made uniform.

電離放射線硬化型樹脂の塗付及び反応性硬化型樹脂組成物の塗付により膜を作製する方法は、特に限定されないが、例えばロールコーティングによってそれらの膜を作製することができる。 The method for producing the films by applying the ionizing radiation curable resin and the reactive curable resin composition is not particularly limited, and for example, these films can be produced by roll coating.

（３）仮基材３の貼り付け
次に、機能膜２０上に、仮基材３を貼り付ける。具体的には、機能膜２０の低屈折率層２０３上に、再剥離層３１を介して、仮基材本体３０を貼り付ける。仮基材３の貼り付けは、例えばロール・ツー・ロール方式で行うことができる。(3) Attachment of Temporary Base Material 3 Next, the temporary base material 3 is attached onto the functional film 20. Specifically, the temporary base material main body 30 is attached onto the low refractive index layer 203 of the functional film 20 via the re-peelable layer 31. The temporary base material 3 can be attached, for example, by a roll-to-roll method.

以上の工程により、図１Ａに示す低反射シート１００を作製することができる。 By the above steps, the low-reflection sheet 100 shown in FIG. 1A can be produced.

２−３．低反射機能材及び製品の製造方法
図２Ａから図２Ｅは、第一実施形態に係る低反射機能材４００及び製品５００の製造方法を示す概略断面図である。低反射機能材４００は、低反射シート１００の機能層２から剥離層１を物理的に分離することにより、作製することができる。このため低反射機能材４００は、剥離層１を含まず、機能層２を含む。また低反射機能材４００を用いることにより、対象物５０の一面５１に機能層２を配置することができる。対象物５０とは、機能層２を配置する対象である。また製品５００は、対象物５０と、対象物５０の一面５１に配置された機能層２と、を備える。2-3. Manufacturing Method of Low Reflective Functional Material and Product FIGS. 2A to 2E are schematic cross-sectional views showing a manufacturing method of the low reflection functional material 400 and product 500 according to the first embodiment. The low-reflection functional material 400 can be produced by physically separating the release layer 1 from the functional layer 2 of the low-reflection sheet 100. Therefore, the low-reflection functional material 400 does not include the release layer 1 but includes the functional layer 2. Further, by using the low reflection functional material 400, the functional layer 2 can be arranged on one surface 51 of the object 50. The object 50 is an object on which the functional layer 2 is arranged. Further, the product 500 includes an object 50 and a functional layer 2 arranged on one surface 51 of the object 50.

以下、低反射機能材４００及び製品５００を作製する方法について、図２Ａから図２Ｅを参照しながら説明する。 Hereinafter, a method for manufacturing the low-reflection functional material 400 and the product 500 will be described with reference to FIGS. 2A to 2E.

まず図１Ａに示す低反射シート１００を用意する。 First, the low-reflection sheet 100 shown in FIG. 1A is prepared.

次に、低反射シート１００の機能層２から剥離層１を物理的に分離する。このため、本実施形態の低反射機能材４００の製造方法には、低反射シート１００の機能層２から剥離層１を物理的に分離する工程が含まれる。具体的には、本実施形態では、剥離溶融層１０に含まれるベース層１２を溶融層１１から剥離して、溶融層１１を露出させる（図２Ａ参照）。そして溶融層１１を特定処理によって溶融させて機能層２から除去する。溶融層１１が水溶性樹脂製である場合には、溶融層１１を水で洗浄することにより、溶融層１１を溶融させることができる（図２Ｂ参照）。これにより、機能層２から剥離層１が物理的に分離させることができ、低反射機能材４００を作製することができる。 Next, the release layer 1 is physically separated from the functional layer 2 of the low reflection sheet 100. Therefore, the method for manufacturing the low-reflection functional material 400 of the present embodiment includes a step of physically separating the release layer 1 from the functional layer 2 of the low-reflection sheet 100. Specifically, in the present embodiment, the base layer 12 included in the peeling melt layer 10 is peeled from the melt layer 11 to expose the melt layer 11 (see FIG. 2A). Then, the molten layer 11 is melted by a specific treatment and removed from the functional layer 2. When the molten layer 11 is made of a water-soluble resin, the molten layer 11 can be melted by washing the molten layer 11 with water (see FIG. 2B). As a result, the release layer 1 can be physically separated from the functional layer 2, and the low-reflection functional material 400 can be produced.

次に機能層２を加熱する。このため、本実施形態の低反射機能材４００の製造方法は、機能層２を加熱する工程を更に含む。具体的には、機能層２から剥離層１を物理的に分離した後に、仮基材３で保持された機能層２を加熱する。本実施形態では、図２Ｂに示す低反射機能材４００を加熱することにより、機能膜２０及び機能膜２１を加熱することができる。その結果、機能膜２０及び機能膜２１の耐擦傷性を向上させることができ、機能膜２０及び機能膜２１の摺動性を向上させて耐擦傷性を向上させることができる。機能層２の加熱温度は、例えば好ましくは１５０℃以上、さらに好ましくは２２０℃以上であることが好ましい。 Next, the functional layer 2 is heated. Therefore, the method for producing the low-reflection functional material 400 of the present embodiment further includes a step of heating the functional layer 2. Specifically, after the release layer 1 is physically separated from the functional layer 2, the functional layer 2 held by the temporary base material 3 is heated. In the present embodiment, the functional film 20 and the functional film 21 can be heated by heating the low-reflection functional material 400 shown in FIG. 2B. As a result, the scratch resistance of the functional film 20 and the functional film 21 can be improved, and the slidability of the functional film 20 and the functional film 21 can be improved to improve the scratch resistance. The heating temperature of the functional layer 2 is, for example, preferably 150 ° C. or higher, more preferably 220 ° C. or higher.

次に、対象物５０の一面５１に機能層２を配置する。このため、本実施形態の製品５００の製造方法は、低反射シート１００が備える機能層２を、対象物５０の一面５１に配置する工程を含む。具体的には、機能層２の仮基材３とは反対側に位置する面２ｂである貼付面２１０に粘着層５２を作製する（図２Ｃ参照）。貼付面２１０は、機能膜２１の機能膜２０に接する面とは反対側に位置する面でもある。すなわち低反射シート１００では、機能層２は、対象物５０の一面５１に貼り付けられる貼付面２１０を有し、剥離層１は、貼付面２１０に貼り付けられている。また低反射シート１００では、機能層２の貼付面２１０とは反対側の面２ａに、基材とは異なる仮基材３が貼り付けられている。 Next, the functional layer 2 is arranged on one surface 51 of the object 50. Therefore, the method for manufacturing the product 500 of the present embodiment includes a step of arranging the functional layer 2 included in the low-reflection sheet 100 on one surface 51 of the object 50. Specifically, the adhesive layer 52 is formed on the sticking surface 210, which is the surface 2b of the functional layer 2 opposite to the temporary base material 3 (see FIG. 2C). The sticking surface 210 is also a surface of the functional film 21 located on the opposite side to the surface in contact with the functional film 20. That is, in the low reflection sheet 100, the functional layer 2 has a sticking surface 210 to be attached to one side 51 of the object 50, and the release layer 1 is attached to the sticking surface 210. Further, in the low reflection sheet 100, a temporary base material 3 different from the base material is attached to the surface 2a of the functional layer 2 opposite to the attachment surface 210.

粘着層５２の材料は、対象物５０の一面５１と貼付面２１０とを接着できれば特に限定されないが、両面に粘着性（接着性）を有するフィルムを使用することができ、例えば市販のＯＣＡ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｌｅａｒ ａｄｈｅｓｉｖｅ）フィルムを使用できる。ＯＣＡフィルムは紫外線低減機能を有していてもよい。貼付面２１０とＯＣＡフィルムとの貼り付けは、例えばロール・ツー・ロール方式で行うことができる。貼付面２１０と粘着層５２とを貼り付けることで、粘着層５２を備える低反射機能材４００が得られる。粘着層５２を備える低反射機能材４００を巻き取ることで、マスターロールを作製してもよい。粘着層５２を備える低反射機能材４００を、対象物５０の一面５１の大きさ、形状等に応じて、断裁してもよい。 The material of the adhesive layer 52 is not particularly limited as long as one side 51 of the object 50 and the sticking surface 210 can be adhered to each other, but a film having adhesiveness (adhesiveness) on both sides can be used, for example, commercially available OCA (Optical). Clear adhesive) film can be used. The OCA film may have an ultraviolet ray reducing function. The sticking surface 210 and the OCA film can be stuck, for example, by a roll-to-roll method. By sticking the sticking surface 210 and the adhesive layer 52, a low-reflection functional material 400 having the adhesive layer 52 can be obtained. A master roll may be produced by winding the low-reflection functional material 400 provided with the adhesive layer 52. The low-reflection functional material 400 provided with the adhesive layer 52 may be cut according to the size, shape, and the like of one surface 51 of the object 50.

次に、対象物５０の一面５１と、貼付面２１０とを粘着層５２で接着する（図２Ｄ参照）。これにより、対象物５０の一面５１上に機能層２及び仮基材３を配置することができる。本実施形態では、対象物５０の一面５１上に機能層２を配置する際には、ＰＥＴ、ＴＡＣ等の基材がないため、例えば一面５１が平坦ではなく、一面５１が曲面であったり、一面５１が凹凸形状を有していたりしても、一面５１上に機能層２を配置することができる。 Next, one surface 51 of the object 50 and the sticking surface 210 are bonded by the adhesive layer 52 (see FIG. 2D). As a result, the functional layer 2 and the temporary base material 3 can be arranged on one surface 51 of the object 50. In the present embodiment, when the functional layer 2 is arranged on one surface 51 of the object 50, since there is no base material such as PET or TAC, for example, one surface 51 is not flat and one surface 51 is a curved surface. Even if one surface 51 has an uneven shape, the functional layer 2 can be arranged on the one surface 51.

次に、機能層２から仮基材３を物理的に分離する（図２Ｅ参照）。本実施形態では、機能膜２０から仮基材本体３０及び再剥離層３１を剥がすことにより、対象物５０の一面５１上に、機能膜２１及び機能膜２０を残存させることができる。 Next, the temporary base material 3 is physically separated from the functional layer 2 (see FIG. 2E). In the present embodiment, the functional film 21 and the functional film 20 can be left on one surface 51 of the object 50 by peeling the temporary base material body 30 and the re-peelable layer 31 from the functional film 20.

以上の工程により、機能層２を備える製品５００を作製することができる。 By the above steps, the product 500 including the functional layer 2 can be manufactured.

２−４．低反射シートの変形例
低反射シート１００は、上述の構成に限定されない。2-4. Modification example of low-reflection sheet The low-reflection sheet 100 is not limited to the above-described configuration.

図３は、第一実施形態に係る他の低反射シート１００Ａの概略断面図である。図３において、図１Ａに示す低反射シート１００と同じ部分には同じ参照符号を付す。剥離層１は、特定処理で溶融する溶融層１１を含む場合に限定されない。図３に示す低反射シート１００Ａでは、剥離層１と機能層２とが接しており、剥離層１が機能層２から剥離可能である。剥離層１はベース層１２よりなる。この場合も、剥離層１を機能層２から物理的に分離することができる。なお、剥離層１が機能層２から剥離可能であることは、剥離層１を機能層２から剥離する際に、機能層２に破壊・損傷が生じないことを意味する。詳細には、剥離層１を機能層２から剥がす際に、機能膜２０及び機能膜２１に、剥離、破壊、損傷等が生じないことが好ましい。 FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of another low-reflection sheet 100A according to the first embodiment. In FIG. 3, the same reference numerals are given to the same portions as those of the low reflection sheet 100 shown in FIG. 1A. The release layer 1 is not limited to the case where the melt layer 11 that is melted by the specific treatment is included. In the low-reflection sheet 100A shown in FIG. 3, the release layer 1 and the functional layer 2 are in contact with each other, and the release layer 1 can be separated from the functional layer 2. The release layer 1 is composed of a base layer 12. Also in this case, the release layer 1 can be physically separated from the functional layer 2. The fact that the peeling layer 1 can be peeled from the functional layer 2 means that the functional layer 2 is not destroyed or damaged when the peeling layer 1 is peeled from the functional layer 2. Specifically, when the peeling layer 1 is peeled from the functional layer 2, it is preferable that the functional film 20 and the functional film 21 are not peeled, broken, damaged or the like.

図４は、第一実施形態に係るさらに他の低反射シート１００Ｂの概略断面図である。図４において、図１Ａに示す低反射シート１００と同じ部分には同じ参照符号を付す。図１Ａに示す低反射シート１００では、剥離層１は、溶融層１１及びベース層１２を含む剥離溶融層１０であるが、これに限定されない。図４に示す低反射シート１００Ｂでは、剥離層１は溶融層１１の単一の層で構成されてベース層１２を有していない。この場合、溶融層１１を溶融させることで剥離層１を機能層２から除去する。 FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of still another low-reflection sheet 100B according to the first embodiment. In FIG. 4, the same reference numerals are given to the same portions as those of the low reflection sheet 100 shown in FIG. 1A. In the low-reflection sheet 100 shown in FIG. 1A, the release layer 1 is a release melt layer 10 including the melt layer 11 and the base layer 12, but is not limited thereto. In the low-reflection sheet 100B shown in FIG. 4, the release layer 1 is composed of a single layer of the molten layer 11 and does not have the base layer 12. In this case, the release layer 1 is removed from the functional layer 2 by melting the molten layer 11.

図１Ａに示す低反射シート１００は、仮基材３を備えているが、仮基材３を備えていなくてもよい。 The low-reflection sheet 100 shown in FIG. 1A includes a temporary base material 3, but the temporary base material 3 may not be provided.

図１Ａに示す低反射シート１００では、機能膜２０が、低屈折率層２０３、高屈折率層２０２及び中屈折率層２０１を備えているが、これに限定されない。例えば機能膜２０が、単一の層で構成されていてもよく、二つの層で構成されていてもよい。 In the low-reflection sheet 100 shown in FIG. 1A, the functional film 20 includes, but is not limited to, the low-refractive index layer 203, the high-refractive index layer 202, and the medium-refractive index layer 201. For example, the functional film 20 may be composed of a single layer or two layers.

（第二実施形態）
図５Ａと図５Ｂはそれぞれ、第二実施形態に係る低反射シート１０１の概略断面図と拡大断面図である。図５Ａと図５Ｂにおいて図１Ａと図１Ｂに示す第一実施形態に係る低反射シート１００と共通の構成については、同じ符号を付すことにより、説明を適宜省略する。(Second Embodiment)
5A and 5B are a schematic cross-sectional view and an enlarged cross-sectional view of the low-reflection sheet 101 according to the second embodiment, respectively. The configurations common to the low-reflection sheet 100 according to the first embodiment shown in FIGS. 1A and 1B in FIGS. 5A and 5B are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted as appropriate.

１．低反射シート１０１
本実施形態に係る低反射シート１０１は、剥離層１と、機能層２とを備える。さらに低反射シート１０１は、粘着層５２及び保護層４を備える。図５Ａに示す低反射シート１０１においては、剥離層１、機能層２、粘着層５２、及び保護層４が、この順に積層されている。以下、剥離層１、機能層２、粘着層５２、及び保護層４の構成を説明する。1. 1. Low reflection sheet 101
The low-reflection sheet 101 according to the present embodiment includes a release layer 1 and a functional layer 2. Further, the low reflection sheet 101 includes an adhesive layer 52 and a protective layer 4. In the low-reflection sheet 101 shown in FIG. 5A, the release layer 1, the functional layer 2, the adhesive layer 52, and the protective layer 4 are laminated in this order. Hereinafter, the configurations of the release layer 1, the functional layer 2, the adhesive layer 52, and the protective layer 4 will be described.

１−１．剥離層１
図５Ａに示すように、本実施形態の剥離層１は、第一実施形態に係る剥離層１と同様に、特定処理で溶融する溶融層１１を含む剥離溶融層１０である。溶融層１１は機能層２と接しており、この溶融層１１が溶融することで、剥離溶融層１０は、機能層２から分離可能である。また剥離溶融層１０は、第一実施形態に係る剥離溶融層１０と同様に、ベース層１２を含んでいる。1-1. Peeling layer 1
As shown in FIG. 5A, the peeling layer 1 of the present embodiment is a peeling and melting layer 10 including a melting layer 11 that is melted by a specific treatment, similarly to the peeling layer 1 of the first embodiment. The molten layer 11 is in contact with the functional layer 2, and when the molten layer 11 is melted, the peeled molten layer 10 can be separated from the functional layer 2. Further, the peeling and melting layer 10 includes the base layer 12 as in the peeling and melting layer 10 according to the first embodiment.

本実施形態の溶融層１１は、第一実施形態に係る溶融層１１と同様に、水溶性樹脂製であることが好ましく、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）製であることが好ましい。 The molten layer 11 of the present embodiment is preferably made of a water-soluble resin, and is preferably made of, for example, polyvinyl alcohol (PVA), like the molten layer 11 according to the first embodiment.

本実施形態のベース層１２は、第一実施形態に係るベース層１２と同様に、溶融層１１から剥離可能であれば特に限定されないが、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製であることが好ましい。 The base layer 12 of the present embodiment is not particularly limited as long as it can be peeled from the molten layer 11 like the base layer 12 of the first embodiment, but is preferably made of, for example, polyethylene terephthalate (PET).

図５Ｂに示すように、本実施形態では、剥離層１の機能層２に貼り付けられた面１ａは、光を散乱する光散乱機能を有する凹凸構造１３を有することが好ましい。この場合、機能層２の剥離層１に貼り付けられた面２ｂに光散乱機能を有する凹凸構造１３が移されて、機能層２の面２ｂに光散乱機能を有する凹凸構造２００を形成することができる。この場合、機能層２の面２ｂは、光沢が低減され、またギラつきが低減される。本実施形態では、溶融層１１が凹凸構造１３を有するため、機能膜２０及び機能膜２１に凹凸構造２００を形成することができる。このため、機能膜２０に含まれる中屈折率層２０１、高屈折率層２０２及び低屈折率層２０３に凹凸構造２００を形成することができる。なお、図５Ｂでは、中屈折率層２０１、高屈折率層２０２及び低屈折率層２０３をまとめて機能膜２０として記載している。 As shown in FIG. 5B, in the present embodiment, the surface 1a attached to the functional layer 2 of the release layer 1 preferably has a concavo-convex structure 13 having a light scattering function for scattering light. In this case, the uneven structure 13 having a light scattering function is transferred to the surface 2b attached to the peeling layer 1 of the functional layer 2, and the uneven structure 200 having a light scattering function is formed on the surface 2b of the functional layer 2. Can be done. In this case, the surface 2b of the functional layer 2 has reduced gloss and reduced glare. In the present embodiment, since the molten layer 11 has the concavo-convex structure 13, the concavo-convex structure 200 can be formed on the functional film 20 and the functional film 21. Therefore, the uneven structure 200 can be formed on the medium refractive index layer 201, the high refractive index layer 202, and the low refractive index layer 203 included in the functional film 20. In FIG. 5B, the medium refractive index layer 201, the high refractive index layer 202, and the low refractive index layer 203 are collectively shown as the functional film 20.

１−２．機能層２
図５Ａに示すように、本実施形態の機能層２は、第一実施形態に係る機能層２と同様に、機能膜２０及び機能膜２１を含んでいるが、機能膜２０上に機能膜２１が積層されている。このため、本実施形態の低反射シート１０１では、剥離層１、機能膜２０、機能膜２１がこの順に重なっている。1-2. Functional layer 2
As shown in FIG. 5A, the functional layer 2 of the present embodiment includes the functional film 20 and the functional film 21 as in the functional layer 2 of the first embodiment, but the functional film 21 is placed on the functional film 20. Are laminated. Therefore, in the low-reflection sheet 101 of the present embodiment, the release layer 1, the functional film 20, and the functional film 21 are overlapped in this order.

機能膜２０は、第一実施形態に係る機能膜２０と同様に、光反射を低減する機能を有する層であり、中屈折率層２０１、高屈折率層２０２及び低屈折率層２０３とを含む。本実施形態の機能膜２０においては、低屈折率層２０３、高屈折率層２０２、中屈折率層２０１はこの順に積層されている。このため、本実施形態の低反射シート１０１では、低屈折率層２０３と溶融層１１とが直接接している。このため、機能層２の剥離層１（剥離溶融層１０）に貼り付けられた面２ｂは、機能膜２０で構成されている。また機能膜２０は、剥離溶融層１０と直接接しており、詳細には溶融層１１と直接接している。 The functional film 20 is a layer having a function of reducing light reflection, like the functional film 20 according to the first embodiment, and includes a medium refractive index layer 201, a high refractive index layer 202, and a low refractive index layer 203. .. In the functional film 20 of the present embodiment, the low refractive index layer 203, the high refractive index layer 202, and the medium refractive index layer 201 are laminated in this order. Therefore, in the low-reflection sheet 101 of the present embodiment, the low refractive index layer 203 and the molten layer 11 are in direct contact with each other. Therefore, the surface 2b attached to the release layer 1 (release melt layer 10) of the functional layer 2 is composed of the functional film 20. Further, the functional film 20 is in direct contact with the peeling and melting layer 10, and in detail, is in direct contact with the melting layer 11.

機能膜２１は、第一実施形態に係る機能膜２１と同様に、機能膜２０よりも硬度が大きい層であり、機能層２の耐擦傷性及び硬度を向上させるための層である。本実施形態の機能膜２１は、機能膜２０上に積層されているため、機能層２の剥離層１（剥離溶融層１０）とは反対側の面２ａが、機能膜２１で構成されている。 Like the functional film 21 according to the first embodiment, the functional film 21 is a layer having a hardness higher than that of the functional film 20, and is a layer for improving the scratch resistance and hardness of the functional layer 2. Since the functional film 21 of the present embodiment is laminated on the functional film 20, the surface 2a of the functional layer 2 opposite to the peeling layer 1 (peeling melt layer 10) is composed of the functional film 21. ..

１−３．粘着層５２
粘着層５２は、対象物５０の一面５１上に機能層２を配置するための層である。一面５１上に機能層２が配置された状態では、機能膜２１と一面５１とが対向する。このため機能層２（機能膜２１）は、対象物５０の一面５１に貼り付けられる貼付面２１０を有し、剥離層１は、機能層２の貼付面２１０とは反対側の面２ｂに貼り付けられている。第二実施形態における低反射シート１０１では機能層２の面２ａは貼付面２１０として機能する。1-3. Adhesive layer 52
The adhesive layer 52 is a layer for arranging the functional layer 2 on one surface 51 of the object 50. In the state where the functional layer 2 is arranged on the one surface 51, the functional film 21 and the one surface 51 face each other. Therefore, the functional layer 2 (functional film 21) has a sticking surface 210 to be attached to one surface 51 of the object 50, and the release layer 1 is attached to the surface 2b opposite to the sticking surface 210 of the functional layer 2. It is attached. In the low-reflection sheet 101 of the second embodiment, the surface 2a of the functional layer 2 functions as a sticking surface 210.

粘着層５２は、第一実施形態に係る製品５００を製造する際に用いた粘着層５２と同様の層であり、例えば、両面に粘着性（接着性）を有するフィルムであり、例えば市販のＯＣＡ（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｌｅａｒ ａｄｈｅｓｉｖｅ）フィルムを使用できる。 The adhesive layer 52 is a layer similar to the adhesive layer 52 used in manufacturing the product 500 according to the first embodiment, and is, for example, a film having adhesiveness (adhesiveness) on both sides, for example, a commercially available OCA. (Optical Clear adhesive) film can be used.

１−４．保護層４
保護層４は、粘着層５２上に積層されている。保護層４は、未使用状態の低反射シート１０１の粘着層５２を保護するための層である。保護層４は、粘着層５２から剥離可能であれば、特に限定されないが、例えばポリエステル系のフィルムを使用することができる。保護層４の厚みも、特に限定されない。1-4. Protective layer 4
The protective layer 4 is laminated on the adhesive layer 52. The protective layer 4 is a layer for protecting the adhesive layer 52 of the low-reflection sheet 101 in an unused state. The protective layer 4 is not particularly limited as long as it can be peeled off from the adhesive layer 52, and for example, a polyester-based film can be used. The thickness of the protective layer 4 is also not particularly limited.

２．低反射シート１０１の製造方法
図５Ａに示す低反射シート１０１は、例えば以下の方法により製造することができる。2. Method for manufacturing low-reflection sheet 101 The low-reflection sheet 101 shown in FIG. 5A can be manufactured by, for example, the following method.

（１）剥離層１の準備
まず剥離層１を用意する。本実施形態の剥離層１は、溶融層１１及びベース層１２を含む剥離溶融層１０であることが好ましく、溶融層１１が水溶性樹脂製であることが好ましいため、ベース層１２上に水溶性樹脂製の溶融層１１が予め形成されたシート材を使用することができる。(1) Preparation of release layer 1 First, the release layer 1 is prepared. The release layer 1 of the present embodiment is preferably a release melt layer 10 including the melt layer 11 and the base layer 12, and the melt layer 11 is preferably made of a water-soluble resin. Therefore, the release layer 1 is water-soluble on the base layer 12. A sheet material in which the resin molten layer 11 is formed in advance can be used.

（２）機能層２の作製
次に、剥離層１上に機能層２を形成する。本実施形態では、溶融層１１上に機能膜２０を形成した後に、機能膜２０上に機能膜２１を形成することによって、剥離溶融層１０上に機能層２を形成することができる。(2) Preparation of Functional Layer 2 Next, the functional layer 2 is formed on the release layer 1. In the present embodiment, the functional layer 2 can be formed on the peeled molten layer 10 by forming the functional film 20 on the molten layer 11 and then forming the functional film 21 on the functional film 20.

具体的には、溶融層１１上に、低屈折率層２０３を形成するための電離放射線硬化型樹脂を塗付して電離放射線硬化型樹脂の膜を形成し、この膜の乾燥後、電離放射線を照射することで、低屈折率層２０３を形成できる。低屈折率層２０３上に、高屈折率層２０２を形成するための電離放射線硬化型樹脂を塗付して電離放射線硬化型樹脂の膜を形成し、この膜の乾燥後、電離放射線を照射することで、高屈折率層２０２を形成できる。さらに、高屈折率層２０２上に、中屈折率層２０１を形成するための電離放射線硬化型樹脂を塗付して電離放射線硬化型樹脂の膜を形成し、この膜の乾燥後、電離放射線を照射することで、中屈折率層２０１を形成できる。低屈折率層２０３、高屈折率層２０２、中屈折率層２０１を積層することで、機能膜２０を作製することができる。 Specifically, an ionizing radiation curable resin for forming the low refractive index layer 203 is applied onto the molten layer 11 to form a film of the ionizing radiation curable resin, and after the film is dried, ionizing radiation is emitted. The low refractive index layer 203 can be formed by irradiating with. An ionizing radiation curable resin for forming the high refractive index layer 202 is applied onto the low refractive index layer 203 to form a film of the ionizing radiation curable resin, and after the film is dried, ionizing radiation is irradiated. As a result, the high refractive index layer 202 can be formed. Further, an ionizing radiation curable resin for forming the medium refractive index layer 201 is applied onto the high refractive index layer 202 to form a film of the ionizing radiation curable resin, and after the film is dried, ionizing radiation is emitted. By irradiating, the medium refractive index layer 201 can be formed. The functional film 20 can be produced by laminating the low refractive index layer 203, the high refractive index layer 202, and the medium refractive index layer 201.

機能膜２０上に、機能膜２１を形成するための反応性硬化型樹脂を塗付して反応性硬化型樹脂の膜を形成した後に硬化させることによって、機能膜２１を形成できる。機能膜２１が電離放射線硬化性樹脂組成物である場合には、電離放射線硬化型樹脂を塗付して電離放射線硬化性樹脂組成物の膜を乾燥後、この膜に電離放射線を照射することで、機能膜２１を形成できる。 The functional film 21 can be formed by applying a reactive curable resin for forming the functional film 21 on the functional film 20 to form a film of the reactive curable resin and then curing the film. When the functional film 21 is an ionizing radiation curable resin composition, the film is coated with an ionizing radiation curable resin to dry the film of the ionizing radiation curable resin composition, and then the film is irradiated with ionizing radiation. , The functional film 21 can be formed.

本実施形態では、低屈折率層２０３が剥離層１上に形成されるため、低屈折率層２０３を形成するための電離放射線硬化型樹脂に防汚剤が含まれていても、低屈折率層２０３の表面に、防汚剤に含まれる置換基を集中させにくい。このため本実施形態では、低屈折率層２０３が防汚剤を含まなくてもよい。低屈折率層２０３の表面に防汚性を付与するためには、本実施形態のように剥離層１、機能膜２０、機能膜２１がこの順に積層されるよりも、第一実施形態のように剥離層１、機能膜２１、機能膜２０がこの順に積層されることが好ましい。 In the present embodiment, since the low refractive index layer 203 is formed on the release layer 1, the low refractive index is low even if the ionizing radiation curable resin for forming the low refractive index layer 203 contains an antifouling agent. It is difficult to concentrate the substituents contained in the antifouling agent on the surface of the layer 203. Therefore, in the present embodiment, the low refractive index layer 203 does not have to contain an antifouling agent. In order to impart antifouling property to the surface of the low refractive index layer 203, the release layer 1, the functional film 20, and the functional film 21 are laminated in this order as in the first embodiment, as in the first embodiment. It is preferable that the release layer 1, the functional film 21, and the functional film 20 are laminated in this order.

また本実施形態では、製品基材に機能層２を直接設けるのではなく、工程部材としての剥離層１上に機能層２を形成するため、生産性に優れた方法で機能層２を形成することができ、具体的にはロール・ツー・ロール法等を採用できる。ガラス板、樹脂板等の基材に通常の塗布法等で薄膜を形成する場合、端部で膜厚にバラつきが生じて、光学特性が低下することがある。これに対して、ロール・ツー・ロール法等の方法で機能層２を形成する場合、機能層２の膜厚を均一にしやすく、膜厚のバラつきを生じにくくできる。特に、機能層２の面積が大きい場合であっても、機能層２の膜厚を均一にすることができる。 Further, in the present embodiment, since the functional layer 2 is formed on the release layer 1 as a process member instead of directly providing the functional layer 2 on the product base material, the functional layer 2 is formed by a method excellent in productivity. Specifically, the roll-to-roll method or the like can be adopted. When a thin film is formed on a base material such as a glass plate or a resin plate by a normal coating method or the like, the film thickness may vary at the edges and the optical characteristics may deteriorate. On the other hand, when the functional layer 2 is formed by a method such as a roll-to-roll method, the film thickness of the functional layer 2 can be easily made uniform, and the film thickness can be less likely to vary. In particular, even when the area of the functional layer 2 is large, the film thickness of the functional layer 2 can be made uniform.

（３）粘着層５２及び保護層４の貼り付け
次に、機能膜２１上に、粘着層５２及び保護層４を貼り付ける。保護層４と一体化した粘着層５２を機能膜２１に貼り付けてもよく、機能膜２１上に粘着層５２を配置した後に、粘着層５２上に保護層４を配置してもよい。粘着層５２及び保護層４の貼り付けは、例えばロール・ツー・ロール方式で行うことができる。(3) Adhesive Layer 52 and Protective Layer 4 Next, the adhesive layer 52 and the protective layer 4 are attached on the functional film 21. The adhesive layer 52 integrated with the protective layer 4 may be attached to the functional film 21, or the protective layer 4 may be arranged on the adhesive layer 52 after the adhesive layer 52 is arranged on the functional film 21. The adhesive layer 52 and the protective layer 4 can be attached by, for example, a roll-to-roll method.

以上の工程により、図５Ａに示す低反射シート１０１を作製することができる。 By the above steps, the low-reflection sheet 101 shown in FIG. 5A can be produced.

なお、粘着層５２及び保護層４の貼り付け後に、低反射シート１０１を巻き取ることで、マスターロールを作製してもよい。さらに、対象物５０の一面５１の大きさ、形状等に応じて、断裁してもよい。 A master roll may be produced by winding up the low-reflection sheet 101 after the adhesive layer 52 and the protective layer 4 are attached. Further, cutting may be performed according to the size, shape, etc. of one side 51 of the object 50.

３．低反射機能材及び製品の製造方法
図６Ａから図６Ｄは、低反射機能材４００及び製品５０１の製造方法を示す概略断面図である。本実施形態の低反射機能材４００も、剥離層１を含まず、機能層２を含む。また対象物５０は、機能層２を配置する対象である。また製品５０１は、対象物５０と、対象物５０の一面５１に配置された機能層２と、を備える。3. 3. Manufacturing Method of Low Reflective Functional Material and Product FIGS. 6A to 6D are schematic cross-sectional views showing a manufacturing method of the low reflection functional material 400 and product 501. The low-reflection functional material 400 of the present embodiment also does not include the release layer 1 but includes the functional layer 2. The object 50 is an object on which the functional layer 2 is arranged. Further, the product 501 includes an object 50 and a functional layer 2 arranged on one surface 51 of the object 50.

以下、本実施形態の低反射機能材４０１及び製品５０１を作製する方法について、図６Ａから図６Ｄを参照しながら説明する。 Hereinafter, a method of manufacturing the low-reflection functional material 401 and the product 501 of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 6A to 6D.

まず図５Ａに示す低反射シート１０１を用意する。 First, the low-reflection sheet 101 shown in FIG. 5A is prepared.

次に、粘着層５２から保護層４を剥離する（図６Ａ参照）。これにより、粘着層５２を露出させることができる。 Next, the protective layer 4 is peeled off from the adhesive layer 52 (see FIG. 6A). As a result, the adhesive layer 52 can be exposed.

次に、露出した粘着層５２によって、機能層２の貼付面２１０と、対象物５０の一面５１とを接着する（図６Ｂ参照）。これにより、対象物５０の一面５１上に、機能層２及び剥離層１を積層することができる。 Next, the sticking surface 210 of the functional layer 2 and one surface 51 of the object 50 are adhered to each other by the exposed adhesive layer 52 (see FIG. 6B). As a result, the functional layer 2 and the release layer 1 can be laminated on one surface 51 of the object 50.

次に、機能層２から剥離層１を物理的に分離する。このため、本実施形態の低反射機能材４０１の製造方法には、機能層２から剥離層１を物理的に分離する工程が含まれる。具体的には、剥離溶融層１０に含まれるベース層１２を溶融層１１から剥離させて、溶融層１１を露出させる（図６Ｃ参照）。そして溶融層１１を特定処理によって溶融させる。溶融層１１が水溶性樹脂製である場合には、溶融層１１を水で洗浄することにより、溶融層１１を溶融させることができる（図６Ｄ参照）。これにより、機能層２から剥離層１を物理的に分離させることができ、低反射機能材４０１を作製することができる。また対象物５０の一面５１に機能層２を配置することができる。 Next, the release layer 1 is physically separated from the functional layer 2. Therefore, the method for manufacturing the low-reflection functional material 401 of the present embodiment includes a step of physically separating the release layer 1 from the functional layer 2. Specifically, the base layer 12 contained in the peeling melt layer 10 is peeled from the melt layer 11 to expose the melt layer 11 (see FIG. 6C). Then, the molten layer 11 is melted by a specific treatment. When the molten layer 11 is made of a water-soluble resin, the molten layer 11 can be melted by washing the molten layer 11 with water (see FIG. 6D). As a result, the release layer 1 can be physically separated from the functional layer 2, and the low-reflection functional material 401 can be produced. Further, the functional layer 2 can be arranged on one surface 51 of the object 50.

次に機能層２を加熱する。このため、本実施形態の低反射機能材４０１の製造方法は、機能層２を加熱する工程を更に含む。具体的には、対象物５０の一面５１上に積層された機能膜２１及び機能膜２０を加熱する。それにより、機能膜２０及び機能膜２１の耐擦傷性を向上させることができ、機能膜２０及び機能膜２１の摺動性を向上させることができる。機能層２の加熱温度は、例えば好ましくは１５０℃以上、さらに好ましくは２２０℃であることが好ましい。また機能層２を加熱する際には、対象物５０（製品５０１）も加熱されるため、この場合の対象物５０（製品５０１）は、耐熱性を有することが好ましい。 Next, the functional layer 2 is heated. Therefore, the method for producing the low-reflection functional material 401 of the present embodiment further includes a step of heating the functional layer 2. Specifically, the functional film 21 and the functional film 20 laminated on one surface 51 of the object 50 are heated. Thereby, the scratch resistance of the functional film 20 and the functional film 21 can be improved, and the slidability of the functional film 20 and the functional film 21 can be improved. The heating temperature of the functional layer 2 is, for example, preferably 150 ° C. or higher, more preferably 220 ° C. or higher. Further, when the functional layer 2 is heated, the object 50 (product 501) is also heated. Therefore, the object 50 (product 501) in this case preferably has heat resistance.

以上の工程により、機能層２を備える製品５０１を作製することができる。 By the above steps, a product 501 having the functional layer 2 can be manufactured.

（まとめ）
第１の態様に係る低反射シート（１００、１０１）は、剥離層（１）と、剥離層（１）を基材として剥離層（１）上に形成された機能層（２）と、を備える。機能層（２）は、光反射率を低減する機能を有する第１の機能膜（２０）と、第１の機能膜（２０）よりも硬度が大きい機能膜（２１）と、を含む。剥離層（１）は、機能層（１）から物理的に分離可能である。(summary)
The low-reflection sheet (100, 101) according to the first aspect comprises a release layer (1) and a functional layer (2) formed on the release layer (1) using the release layer (1) as a base material. Be prepared. The functional layer (2) includes a first functional film (20) having a function of reducing light reflectance and a functional film (21) having a hardness higher than that of the first functional film (20). The release layer (1) is physically separable from the functional layer (1).

この場合、機能層（２）から剥離層（１）を物理的に分離することができるため、低反射シート（１００、１０１）から剥離層（１）を分離した状態で、機能層（２）を高温で加熱処理することができ、そのため機能層２は、優れた耐擦傷性を有することができる。 In this case, since the release layer (1) can be physically separated from the functional layer (2), the functional layer (2) is separated from the low-reflection sheet (100, 101). Can be heat treated at a high temperature, so that the functional layer 2 can have excellent scratch resistance.

第２の態様に係る低反射シート（１００、１０１）は、第１の態様において、剥離層（１）は、特定処理で溶融する溶融層（１１）を含む剥離溶融層（１０）である。溶融層（１１）は、機能層（２）と接しており、溶融層（１１）が溶融することで、剥離溶融層（１０）は、機能層（２）から分離可能である。 In the low-reflection sheet (100, 101) according to the second aspect, in the first aspect, the release layer (1) is a release melt layer (10) including a melt layer (11) that is melted by a specific treatment. The molten layer (11) is in contact with the functional layer (2), and the peeled molten layer (10) can be separated from the functional layer (2) by melting the molten layer (11).

この場合、特定処理によって溶融層（１１）が溶融した状態となることにより、剥離層（１０）を機能層（２）から物理的に分離させることができる。 In this case, the release layer (10) can be physically separated from the functional layer (2) by bringing the molten layer (11) into a molten state by the specific treatment.

第３の態様に係る低反射シート（１００、１０１）は、第２の態様において、溶融層（１１）は、水溶性樹脂製である。 In the low reflection sheet (100, 101) according to the third aspect, in the second aspect, the molten layer (11) is made of a water-soluble resin.

この場合、溶融層（１１）を水で処理することによって、溶融層（１１）を溶融させることができる。 In this case, the molten layer (11) can be melted by treating the molten layer (11) with water.

第４の態様に係る低反射シート（１００、１０１）は、第１の態様において、剥離層（１）と機能層（２）とが接しており、剥離層（１）は、機能層（２）から剥離可能である。 In the first aspect, the low-reflection sheet (100, 101) according to the fourth aspect is in contact with the release layer (1) and the functional layer (2), and the release layer (1) is the functional layer (2). ) Can be peeled off.

この場合、剥離層（１）を機能層（２）から物理的に分離することができる。 In this case, the release layer (1) can be physically separated from the functional layer (2).

第５の態様に係る低反射シート（１００）は、第１〜第４の態様において、機能層（２）は、対象物（５０）の一面（５１）に貼り付けられる貼付面（２１０）を有し、剥離層（１）は、貼付面（２１０）に貼り付けられている。 In the low reflection sheet (100) according to the fifth aspect, in the first to fourth aspects, the functional layer (2) has a sticking surface (210) to be stuck to one side (51) of the object (50). The release layer (1) is attached to the attachment surface (210).

この場合、対象物（５０）の一面（５１）上に機能層（２）を貼り付けることができる。 In this case, the functional layer (2) can be attached on one surface (51) of the object (50).

第６の態様に係る低反射シート（１００）は、第５の態様において、機能層（２）の貼付面（２１０）とは反対側の面に、基材とは異なる仮基材（３）が貼り付けられている。 In the fifth aspect, the low-reflection sheet (100) according to the sixth aspect has a temporary base material (3) different from the base material on the surface opposite to the sticking surface (210) of the functional layer (2). Is pasted.

この場合、仮基材（３）で機能層（２）を保持することができる。 In this case, the functional layer (2) can be held by the temporary base material (3).

第７の態様に係る低反射シート（１００）は、第６の態様において、仮基材（３）は、耐熱性を有する。 In the sixth aspect of the low reflection sheet (100) according to the seventh aspect, the temporary base material (3) has heat resistance.

この場合、仮基材（３）で機能層（２）を保持した状態において、仮基材（３）ごと機能層（２）を加熱処理することができる。 In this case, the functional layer (2) can be heat-treated together with the temporary base material (3) while the temporary base material (3) holds the functional layer (2).

第８の態様に係る低反射シート（１００）は、第６又は第７の態様において、仮基材（３）の機能層（２）側の面は、光散乱機能を有する凹凸構造（３００）を有する。 In the sixth or seventh aspect of the low reflection sheet (100) according to the eighth aspect, the surface of the temporary base material (3) on the functional layer (2) side has a concavo-convex structure (300) having a light scattering function. Has.

この場合、機能層（２）の仮基材（３）側の面に光散乱機能を有する凹凸構造（３００）が転写されて、機能層（２）の仮基材（３）側の面に光散乱機能を有する凹凸構造（２００）を形成することができる。 In this case, the uneven structure (300) having a light scattering function is transferred to the surface of the functional layer (2) on the temporary base material (3) side, and is transferred to the surface of the functional layer (2) on the temporary base material (3) side. An uneven structure (200) having a light scattering function can be formed.

第９の態様に係る低反射シート（１００）は、第５〜第８の態様において、剥離層（１）、第２の機能膜（２１）、第１の機能膜（２０）の順に重なっている。 The low-reflection sheet (100) according to the ninth aspect overlaps the release layer (1), the second functional film (21), and the first functional film (20) in this order in the fifth to eighth aspects. There is.

この場合、剥離層（１）上に第２の機能膜（２１）が積層され、第２の機能膜（２１）上に第１の機能膜（２０）が積層された低反射シート（１００）が得られる。 In this case, the low-reflection sheet (100) in which the second functional film (21) is laminated on the release layer (1) and the first functional film (20) is laminated on the second functional film (21). Is obtained.

第１０の態様に係る低反射シート（１００）は、第１〜第４の態様において、機能層（２）は、対象物（５０）の一面（５１）に貼り付けられる貼付面（２１０）を有し、剥離層（１）は、機能層（２）の貼付面（２１０）とは反対側の面に貼り付けられている。 In the low reflection sheet (100) according to the tenth aspect, in the first to fourth aspects, the functional layer (2) has a sticking surface (210) to be stuck to one side (51) of the object (50). The release layer (1) is attached to the surface of the functional layer (2) opposite to the attachment surface (210).

この場合、剥離層（１）によって機能層（２）を保持することができる。 In this case, the functional layer (2) can be held by the release layer (1).

第１１の態様に係る低反射シート（１００）は、第１０の態様において、剥離層（１）の機能層（２）側の面は、光散乱機能を有する凹凸構造（１３）を有する。 In the tenth aspect, the low-reflection sheet (100) according to the eleventh aspect has a concavo-convex structure (13) having a light scattering function on the surface of the release layer (1) on the functional layer (2) side.

この場合、機能層（２）の剥離層（１）側の面に光散乱機能を有する凹凸構造（１３）が転写されて、機能層（２）の剥離層（１）側の面に光散乱機能を有する凹凸構造（２００）を形成することができる。 In this case, the uneven structure (13) having a light scattering function is transferred to the surface of the functional layer (2) on the release layer (1) side, and light is scattered on the surface of the functional layer (2) on the release layer (1) side. It is possible to form a concavo-convex structure (200) having a function.

第１２の態様に係る低反射シート（１００、１０１）は、第１０又は第１１の態様において、剥離層（１）、第１の機能膜（２０）、第２の機能膜（２１）の順に重なっている。 The low-reflection sheet (100, 101) according to the twelfth aspect has the release layer (1), the first functional film (20), and the second functional film (21) in this order in the tenth or eleventh aspect. overlapping.

この場合、剥離層（１）上に第１の機能膜（２０）が積層され、第１の機能膜（２０）上に第２の機能膜（２１）が積層された低反射シート（１００）が得られる。 In this case, the low-reflection sheet (100) in which the first functional film (20) is laminated on the release layer (1) and the second functional film (21) is laminated on the first functional film (20). Is obtained.

第１３の態様に係る低反射機能材４００の製造方法は、第１〜第１２のいずれか一の態様に係る低反射シート（１００）の機能層（２）から剥離層（１）を物理的に分離する工程を含む。 In the method for manufacturing the low-reflection functional material 400 according to the thirteenth aspect, the release layer (1) is physically separated from the functional layer (2) of the low-reflection sheet (100) according to any one of the first to twelfth aspects. Including the step of separating into.

この場合、剥離層（１）を含まない低反射機能材（４００）が得られる。 In this case, a low-reflection functional material (400) that does not include the release layer (1) can be obtained.

第１４の態様に係る低反射機能材（４００）の製造方法は、第１３の態様において、機能層（２）を加熱する工程を更に含む。 The method for producing the low-reflection functional material (400) according to the fourteenth aspect further includes a step of heating the functional layer (2) in the thirteenth aspect.

この場合、第１の機能膜（２０）及び第２の機能膜（２１）の耐擦傷性を向上させることができ、第１の機能膜（２０）及び第２の機能膜（２１）の摺動性を向上させることができる。 In this case, the scratch resistance of the first functional film (20) and the second functional film (21) can be improved, and the sliding of the first functional film (20) and the second functional film (21) can be improved. Mobility can be improved.

第１５の態様に係る製品（５００、５０１）の製造方法は、第１〜第１２のいずれか一の態様に係る低反射シート（１００）が備える機能層（２）を、製品（５００）の一面（５１）に配置する工程を含む。 In the method for producing the product (500, 501) according to the fifteenth aspect, the functional layer (2) included in the low-reflection sheet (100) according to any one of the first to twelfth aspects is provided on the product (500). The step of arranging on one surface (51) is included.

この場合、光反射低減機能を有する製品（５００）が得られる。 In this case, a product (500) having a light reflection reducing function can be obtained.

１ 剥離層
１０ 剥離溶融層
１００，１０１ 低反射シート
１１ 溶融層
２ 機能層
２０ 機能膜（第１の機能膜）
２１ 機能膜（第２の機能膜）
２１０ 貼付面
３ 仮基材
４００，４０１ 低反射機能材
５０ 対象物
５１ 一面
５００，５０１ 製品1 Peeling layer 10 Peeling molten layer 100, 101 Low reflection sheet 11 Fused layer 2 Functional layer 20 Functional film (first functional film)
21 Functional membrane (second functional membrane)
210 Sticking surface 3 Temporary base material 400,401 Low-reflection functional material 50 Object 51 One side 500,501 Product

Claims (17)

剥離層と、
前記剥離層上に形成された機能層と、
を備え、
前記機能層は、
光反射率を低減する機能を有する第１の機能膜と、
前記第１の機能膜よりも硬度が大きい第２の機能膜と、
を含み、
前記剥離層は、前記機能層から物理的に除去可能である、低反射シート。With the peeling layer,
The functional layer formed on the release layer and
With
The functional layer is
A first functional film having a function of reducing light reflectance,
A second functional film having a hardness higher than that of the first functional film,
Including
The release layer is a low-reflection sheet that can be physically removed from the functional layer. 前記剥離層は、特定処理で溶融してかつ前記機能層と接する溶融層を含み、
前記溶融層が溶融することで、前記剥離層は前記機能層から除去される、請求項１に記載の低反射シート。The release layer includes a molten layer that is melted by a specific treatment and is in contact with the functional layer.
The low-reflection sheet according to claim 1, wherein the release layer is removed from the functional layer by melting the molten layer. 前記溶融層は、水溶性樹脂製である、請求項２に記載の低反射シート。 The low-reflection sheet according to claim 2, wherein the molten layer is made of a water-soluble resin. 前記剥離層は前記機能層と接しており、
前記剥離層は、前記機能層から剥離可能である、請求項１に記載の低反射シート。The peeling layer is in contact with the functional layer and
The low-reflection sheet according to claim 1, wherein the release layer can be peeled from the functional layer. 前記機能層は、前記剥離層に貼り付けられている面を有し、
前記機能層の前記面は、対象物の一面に貼り付けられる貼付面として機能する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の低反射シート。The functional layer has a surface attached to the release layer and has a surface attached to the release layer.
The low-reflection sheet according to any one of claims 1 to 4, wherein the surface of the functional layer functions as an attachment surface to be attached to one surface of an object. 前記機能層の前記貼付面とは反対側の面に貼り付けられて、前記基材とは異なる仮基材を更に備えた、請求項５に記載の低反射シート。 The low-reflection sheet according to claim 5, further comprising a temporary base material different from the base material, which is attached to a surface of the functional layer opposite to the surface to which the functional layer is attached. 前記仮基材は、耐熱性を有する、請求項６に記載の低反射シート。 The low-reflection sheet according to claim 6, wherein the temporary base material has heat resistance. 前記仮基材の前記機能層に貼り付けられた面は、光を散乱する凹凸構造を有する、請求項６又は７に記載の低反射シート。 The low-reflection sheet according to claim 6 or 7, wherein the surface of the temporary base material attached to the functional layer has an uneven structure that scatters light. 前記剥離層と前記第２の機能膜と前記第１の機能膜とは、この順に重なっている、
請求項５〜８のいずれか一項に記載の低反射シート。The release layer, the second functional film, and the first functional film overlap in this order.
The low-reflection sheet according to any one of claims 5 to 8. 前記機能層は、対象物の一面に貼り付けられるように構成された貼付面を有し、
前記剥離層は、前記機能層の前記貼付面とは反対側の面に貼り付けられている、請求項１〜４のいずれか一項に記載の低反射シート。The functional layer has a sticking surface configured to be stuck on one side of the object.
The low-reflection sheet according to any one of claims 1 to 4, wherein the release layer is attached to a surface of the functional layer opposite to the attachment surface. 前記剥離層の前記機能層に貼り付けられている面は、光を散乱する凹凸構造を有する、請求項１０に記載の低反射シート。 The low-reflection sheet according to claim 10, wherein the surface of the release layer attached to the functional layer has an uneven structure that scatters light. 前記剥離層と前記第１の機能膜と前記第２の機能膜とは、この順に重なっている、請求項１０又は１１に記載の低反射シート。 The low-reflection sheet according to claim 10 or 11, wherein the release layer, the first functional film, and the second functional film are overlapped in this order. 請求項１〜１２のいずれか一項に記載の低反射シートを準備するステップと、
前記低反射シートの前記機能層から前記剥離層を物理的に分離するステップと、
を含む、低反射機能材の製造方法。The step of preparing the low-reflection sheet according to any one of claims 1 to 12, and
A step of physically separating the release layer from the functional layer of the low-reflection sheet,
A method for manufacturing a low-reflection functional material, including. 前記機能層を加熱するステップを更に含む、請求項１３に記載の低反射機能材の製造方法。 The method for producing a low-reflection functional material according to claim 13, further comprising a step of heating the functional layer. 前記機能層を加熱する前記ステップは、前記低反射シートの前記機能層から前記剥離層を物理的に分離する前記ステップの後で前記機能層を加熱するステップを含む、請求項１４に記載の低反射機能材の製造方法。 14. The low according to claim 14, wherein the step of heating the functional layer comprises a step of heating the functional layer after the step of physically separating the release layer from the functional layer of the low reflection sheet. Manufacturing method of reflective functional material. 請求項１〜１２のいずれか一項に記載の低反射シートを準備するステップと、
前記低反射シートの前記機能層を、対象物の面に配置するステップと、
を含む、製品の製造方法。The step of preparing the low-reflection sheet according to any one of claims 1 to 12, and
The step of arranging the functional layer of the low-reflection sheet on the surface of the object,
How to manufacture the product, including. 前記低反射シートの前記機能層から前記剥離層を剥離することにより前記機能層の貼付け面を前記剥離層から露出するステップを更に含み、
前記低反射シートの前記機能層を、前記対象物の前記面に配置する前記ステップは、前記低反射シートの前記機能層の前記露出した貼付け面を、前記対象物の前記面に配置するステップを含む、請求項１６に記載の製品の製造方法。Further including a step of exposing the sticking surface of the functional layer from the peeling layer by peeling the peeling layer from the functional layer of the low reflection sheet.
The step of arranging the functional layer of the low-reflection sheet on the surface of the object is a step of arranging the exposed sticking surface of the functional layer of the low-reflection sheet on the surface of the object. The method for producing a product according to claim 16, which comprises.
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