JPWO2019220295A5 - - Google Patents
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Description
特定の態様、実施例、及び実施形態を上で説明したが、本開示の利点を考慮すると、開示された例示的な態様、実施例、及び実施形態の追加、置換、修正、及び変更が可能であることが、当業者によって認識されるであろう。
なお、好ましい構成態様として、本発明を次のように構成することもできる。
１． 放電チャンバを備えるプラズマ放電イオン化源であって、
導電性エリアを備え、
前記放電チャンバが、前記放電チャンバ内にプラズマ放電を維持するように構成されており、
前記放電チャンバが、
プラズマガスを受け入れるように構成された少なくとも１つの入口と、
前記放電チャンバからイオン化されたアナライトを提供するように構成された少なくとも１つの出口と
を備える、前記プラズマ放電イオン化源。
２． 前記放電チャンバに電気的に結合された第１の電極をさらに備え、
前記第１の電極が、電源に電気的に結合するように構成されている、上記１に記載のプラズマ放電イオン化源。
３． 前記第１の電極が、前記放電チャンバの前記少なくとも１つの入口内に配置されている、上記１に記載のプラズマ放電イオン化源。
４． 前記放電チャンバに電気的に結合された第２の電極をさらに備える、上記１に記載のプラズマ放電イオン化源。
５． 前記少なくとも１つの入口と前記少なくとも１つの出口との間に、少なくとも１つの湾曲部をさらに備え、
前記少なくとも１つの湾曲部が、前記少なくとも１つの出口を通って前記放電チャンバを出る準安定原子及び自由電子及び光子の数を減らすように構成されている、上記１に記載のプラズマ放電イオン化源。
６． 前記少なくとも１つの湾曲部が、約９０度の湾曲部として構成されている、上記５に記載のプラズマ放電イオン化源。
７． 前記少なくとも１つの湾曲部の上流に配置されているか、または前記少なくとも１つの湾曲部の下流に配置されている第２の湾曲部をさらに備える、上記５に記載のプラズマ放電イオン化源。
８． 前記放電チャンバが導電材料を含む、上記３に記載のプラズマ放電イオン化源。
９． 前記入口が、前記プラズマガスと、アナライトを含むサンプルとを同時に受け取るように構成されている、上記３に記載のプラズマ放電イオン化源。
１０． 前記入口とは別個の第２の入口をさらに備え、
前記第２の入口が、アナライトを含むサンプルを前記放電チャンバに供給するように構成されている、上記３に記載のプラズマ放電イオン化源。
１１． 前記放電チャンバが、前記少なくとも１つの入口に隣接する第１の区域、前記少なくとも１つの出口に隣接する第３の区域、及び前記第１の区域と前記第３の区域との間の第２の区域を備える、上記３に記載のプラズマ放電イオン化源。
１２． 前記第３の区域の平均内径が、前記第２の区域の平均内径よりも大きい、上記１１に記載のプラズマ放電イオン化源。
１３． 前記第２の区域の平均内径が、前記第１の区域の平均内径よりも大きい、上記１２に記載のプラズマ放電イオン化源。
１４． 前記放電チャンバが、第２のプラズマガスを受け入れるように構成された第２の入口をさらに備える、上記１に記載のプラズマ放電イオン化源。
１５． 前記放電チャンバが、誘導結合を全く伴わずに前記プラズマ放電を維持するように構成されている、上記１に記載のプラズマ放電イオン化源。
１６． 前記放電チャンバに流体的に結合された第２の放電チャンバをさらに備え、
前記第２の放電チャンバが、前記第２の放電チャンバの入口区域と出口区域との間に少なくとも１つの湾曲部を備える、上記５に記載のプラズマ放電イオン化源。
１７． 前記第２の放電チャンバの前記少なくとも１つの湾曲部が、前記放電チャンバの前記少なくとも１つの湾曲部とは異なる幾何学的形状を備える、上記１６に記載のプラズマ放電イオン化源。
１８． 前記第２の放電チャンバに電気的に結合された電極をさらに備える、上記１７に記載のプラズマ放電イオン化源。
１９． 前記第２の放電チャンバが、前記プラズマガスとは異なる第２のプラズマガスでプラズマ放電を維持するように構成されている、上記１８に記載のプラズマ放電イオン化源。
２０． 前記放電チャンバが、２つ以上の異なるプラズマガスを受け取って、前記異なるプラズマガスを使用して、異なるアナライト種を選択的にイオン化するように構成されている、上記１に記載のプラズマ放電イオン化源。
２１． 第１の電極を備える放電チャンバ内に維持されたプラズマ放電に、アナライトを導入することによって、前記アナライトをイオン化することを含む方法であって、
前記放電チャンバが、少なくとも１つの入口と、少なくとも１つの出口とを備え、
前記プラズマ放電が、前記放電チャンバの前記少なくとも１つの入口を通して前記放電チャンバ内に導入されたプラズマガスの存在下で、前記第１の電極に電圧を供給することにより、前記放電チャンバ内に維持される、前記方法。
２２． 前記放電チャンバの前記少なくとも１つの入口内に配置されるように前記第１の電極を構成することをさらに含む、上記２１に記載の方法。
２３． 前記第１の電極に、約１０ボルト～約５０００ボルトの直流電圧を供給することをさらに含む、上記２２に記載の方法。
２４． 前記第１の電極に、約２０ボルト～約３０００ボルトの交流電圧を供給することをさらに含む、上記２２に記載の方法。
２５． 前記第１の電極に無線周波数電流を供給することをさらに含み、
前記無線周波数電流の無線周波数範囲が、約１００Ｈｚ～約１０ＭＨｚである、上記２２に記載の方法。
２６． 約１０
-3
～１００トルの圧力で前記放電チャンバ内の前記プラズマ放電を維持することをさらに含む、上記２１に記載の方法。
２７． ５００ｓｃｃｍ以下のプラズマガス流量を使用して前記プラズマ放電を提供することをさらに含む、上記２１に記載の方法。
２８． 前記少なくとも１つの入口に隣接する第１の区域、前記少なくとも１つの出口に隣接する第３の区域、及び前記第１の区域と前記第３の区域との間の第２の区域で前記放電チャンバを構成することをさらに含み、
前記第３の区域の平均内径が、前記第２の区域の平均内径よりも大きい、上記２１に記載の方法。
２９． 前記イオン化されたアナライトの親アナライトイオンの生成を促進して、親アナライトイオンの質量対電荷ピーク強度を使用する前記アナライトの定量を可能にするように、前記供給電圧を選択することをさらに含む、上記２１に記載の方法。
３０． 前記放電チャンバ内で前記プラズマ放電が維持されるかどうかを判定するために、前記第１の電極に供給される電流を監視することをさらに含む、上記２１に記載の方法。
３１． 前記放電チャンバ内で前記プラズマ放電が維持されるかどうかを判定するために、光学センサを使用することをさらに含む、上記２１に記載の方法。
３２． 前記プラズマガスが、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、窒素、一酸化窒素、アンモニア、酸素、空気、圧縮空気、水素、メタン、一酸化炭素、二酸化炭素、または二酸化窒素のうちの１つ以上を含む、上記２１に記載の方法。
３３． 前記アナライトを前記放電チャンバに導入して、前記導入されたアナライトを、第１のプラズマガスを使用してイオン化することと、
第２のアナライトを前記放電チャンバに導入する前に、前記イオン化されたアナライトが、前記少なくとも１つの出口を通って前記放電チャンバを出るのを可能にすることと、
前記第２のアナライトを前記放電チャンバに導入して、前記導入された第２のアナライトを、前記第１のプラズマガスとは異なる第２のプラズマガスを使用してイオン化することと
をさらに含む、上記２１に記載の方法。
３４． 第３のアナライトを前記放電チャンバに導入する前に、前記イオン化された第２のアナライトが、前記少なくとも１つの出口を通って前記放電チャンバを出るのを可能にすることと、
前記第３のアナライトを前記放電チャンバに導入して、前記導入された第３のアナライトを、前記第１のプラズマガス及び前記第２のプラズマガスとは異なる第３のプラズマガスを使用してイオン化することと
をさらに含む、上記３３に記載の方法。
３５． 前記第１のプラズマガス、前記第２のプラズマガス及び前記第３のプラズマガスのそれぞれが、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノン、窒素、一酸化窒素、アンモニア、酸素、空気、圧縮空気、水素、メタン、一酸化炭素、二酸化炭素、及び二酸化窒素からなる群から独立して選択され、
前記第１のプラズマガス、前記第２のプラズマガス及び前記第３のプラズマガスのそれぞれが、異なる組成物を含む、上記３４に記載の方法。
３６． 前記アナライトを前記放電チャンバに導入して、前記導入されたアナライトを、前記少なくとも１つの電極に供給される第１の電圧を使用してイオン化することと、
第２のアナライトを前記放電チャンバに導入する前に、前記イオン化されたアナライトが、前記少なくとも１つの出口を通って前記放電チャンバを出るのを可能にすることと、
前記第２のアナライトを前記放電チャンバに導入して、前記導入された第２のアナライトを、前記第１の電圧とは異なる第２の電圧を使用してイオン化することと
をさらに含む、上記２１に記載の方法。
３７． 第３のアナライトを前記放電チャンバに導入する前に、前記イオン化された第２のアナライトが、前記少なくとも１つの出口を通って前記放電チャンバを出るのを可能にすることと、
前記第３のアナライトを前記放電チャンバに導入して、前記導入された第３のアナライトを、前記第１の電圧及び前記第２の電圧とは異なる第３の電圧を使用してイオン化することと
をさらに含む、上記３６に記載の方法。
３８． 前記第２のアナライトを前記放電チャンバに導入する前に、前記プラズマガスの組成を変更することをさらに含む、上記３７に記載の方法。
３９． 前記少なくとも１つの入口と前記少なくとも１つの出口との間に少なくとも１つの湾曲部を備えるように前記放電チャンバを構成することをさらに含む、上記２１に記載の方法。
４０． 前記放電チャンバを第２の放電チャンバに結合することをさらに含み、
前記第２の放電チャンバが、第２の電極に電気的に結合されており、
前記第２の放電チャンバが、少なくとも１つの入口と、少なくとも１つの出口とを備えており、
プラズマ放電が、プラズマガスの存在下で前記第２の電極に電圧を供給することにより、前記第２の放電チャンバ内に維持される、上記２１に記載の方法。
４１． 前記第２の放電チャンバの前記少なくとも１つの入口と、前記第２の放電チャンバの前記少なくとも１つの出口との間に、少なくとも１つの湾曲部を有する前記第２の放電チャンバを構成することをさらに含む、上記４０に記載の方法。
４２． 前記プラズマ放電を、前記放電チャンバ内で、誘導結合を全く伴わずに維持することをさらに含む、上記２１に記載の方法。
４３． 上記１～２０のいずれかに記載の前記プラズマ放電イオン化源の前記放電チャンバの前記少なくとも１つの出口に流体的に結合されているとともに、イオン化されたアナライトを前記放電チャンバから受け取るように構成されている質量分析器を備える、質量分析計システム。
４４． 上記１～２０のいずれかに記載の前記プラズマ放電イオン化源と、
上記１～２０のいずれかに記載の前記プラズマ放電イオン化源を使用して、前記放電チャンバ内にプラズマ放電を提供するための説明書と
を備える、キット。
４５． アナライトのイオン化を促進する方法であって、
放電チャンバ内にプラズマ放電を維持するように構成されている前記放電チャンバを提供することであって、
前記放電チャンバが、電源に結合するように構成された少なくとも１つの電極に電気的に結合するように構成されており、
前記放電チャンバがさらに、少なくとも１つの入口と少なくとも１つの出口とを備える、
前記放電チャンバを提供することを含み、
前記放電チャンバが、前記少なくとも１つの電極に供給される電圧を使用して、前記放電チャンバ内で前記プラズマ放電を維持するように構成されている、前記方法。
４６． 前記放電チャンバが、前記少なくとも１つの入口と前記少なくとも１つの出口との間に少なくとも１つの湾曲部をさらに備える、上記４５に記載の方法。
４７． サンプル中のアナライトを定量する方法であって、
５００ｓｃｃｍ以下のプラズマガス流量を使用することにより、放電チャンバ内で生成されたプラズマ放電に前記アナライトを導入した後、前記アナライトのイオン化から生成された親アナライトイオンのピーク強度を測定することを含み、
前記プラズマガスが、前記生成されたプラズマ放電を使用して、前記親アナライトイオンの生成を増大させるように選択される、前記方法。
４８． 親アナライトイオンの生成を増大させるようにアナライトをイオン化する方法であって、
放電チャンバに供給されるプラズマガスと、前記放電チャンバに供給される電圧とを使用して、前記放電チャンバ内に維持されるプラズマ放電に、前記アナライトを導入することを含み、
前記プラズマ放電は、２００ｓｃｃｍ以下のプラズマガス流を使用して、前記放電チャンバ内に維持され、
前記プラズマ放電が、約２０００ケルビン以下の平均温度を含む、前記方法、
４９． 約２０００ケルビン以下の平均温度を含むプラズマ放電であって、
前記プラズマ放電が、２００ｓｃｃｍ以下のプラズマガス流量で供給されるプラズマガスの存在下で、放電チャンバに供給された電圧を使用して、前記放電チャンバ内に維持される、前記プラズマ放電。
５０． プラズマ放電を維持するために供給される電圧を変更することなく、正及び負の両方のアナライトイオンを提供するように構成された、前記プラズマ放電。
Specific embodiments, examples, and embodiments have been described above, but given the advantages of the present disclosure, the disclosed exemplary embodiments, examples, and embodiments may be added, replaced, modified, and modified. Will be recognized by those skilled in the art.
In addition, as a preferable configuration mode, the present invention can also be configured as follows.
1. 1. A plasma discharge ionization source with a discharge chamber,
Equipped with a conductive area
The discharge chamber is configured to maintain plasma discharge within the discharge chamber.
The discharge chamber
With at least one inlet configured to receive plasma gas,
With at least one outlet configured to provide ionized analysts from the discharge chamber
The plasma discharge ionization source comprising.
2. 2. A first electrode electrically coupled to the discharge chamber is further provided.
The plasma discharge ionization source according to 1 above, wherein the first electrode is configured to be electrically coupled to a power source.
3. 3. The plasma discharge ionization source according to 1 above, wherein the first electrode is arranged in the at least one inlet of the discharge chamber.
4. The plasma discharge ionization source according to 1 above, further comprising a second electrode electrically coupled to the discharge chamber.
5. Further comprising at least one bend between the at least one inlet and the at least one exit.
The plasma discharge ionization source according to 1 above, wherein the at least one bend is configured to reduce the number of semi-stable atoms and free electrons and photons exiting the discharge chamber through the at least one outlet.
6. 5. The plasma discharge ionization source according to 5 above, wherein the at least one curved portion is configured as a curved portion of about 90 degrees.
7. 5. The plasma discharge ionization source according to 5 above, further comprising a second bend located upstream of the at least one bend or downstream of the at least one bend.
8. 3. The plasma discharge ionization source according to 3 above, wherein the discharge chamber contains a conductive material.
9. 3. The plasma discharge ionization source according to 3 above, wherein the inlet is configured to simultaneously receive the plasma gas and a sample containing an analyte.
10. Further provided with a second entrance separate from the entrance
3. The plasma discharge ionization source according to 3 above, wherein the second inlet is configured to supply a sample containing an analyze to the discharge chamber.
11. The discharge chamber has a first area adjacent to the at least one inlet, a third area adjacent to the at least one outlet, and a second area between the first area and the third area. The plasma discharge ionization source according to 3 above, comprising an area.
12. 11. The plasma discharge ionization source according to 11 above, wherein the average inner diameter of the third area is larger than the average inner diameter of the second area.
13. 12. The plasma discharge ionization source according to 12 above, wherein the average inner diameter of the second area is larger than the average inner diameter of the first area.
14. The plasma discharge ionization source according to 1 above, wherein the discharge chamber further comprises a second inlet configured to receive a second plasma gas.
15. The plasma discharge ionization source according to 1 above, wherein the discharge chamber is configured to maintain the plasma discharge without any inductive coupling.
16. A second discharge chamber fluidly coupled to the discharge chamber is further provided.
5. The plasma discharge ionization source according to 5 above, wherein the second discharge chamber comprises at least one curved portion between an inlet area and an outlet area of the second discharge chamber.
17. 16. The plasma discharge ionization source according to 16 above, wherein the at least one curved portion of the second discharge chamber has a different geometric shape from the at least one curved portion of the discharge chamber.
18. 17. The plasma discharge ionization source according to 17 above, further comprising an electrode electrically coupled to the second discharge chamber.
19. 18. The plasma discharge ionization source according to 18 above, wherein the second discharge chamber is configured to maintain plasma discharge with a second plasma gas different from the plasma gas.
20. The plasma discharge ionization according to 1 above, wherein the discharge chamber is configured to receive two or more different plasma gases and use the different plasma gases to selectively ionize different types of analysts. source.
21. A method comprising ionizing the announcer by introducing it into a plasma discharge maintained in a discharge chamber comprising a first electrode.
The discharge chamber comprises at least one inlet and at least one outlet.
The plasma discharge is maintained in the discharge chamber by supplying a voltage to the first electrode in the presence of plasma gas introduced into the discharge chamber through at least one inlet of the discharge chamber. The above method.
22. 21. The method of 21 above, further comprising configuring the first electrode so that it is located within the at least one inlet of the discharge chamber.
23. 22. The method of 22 above, further comprising supplying the first electrode with a DC voltage of about 10 volts to about 5000 volts.
24. 22. The method of 22 above, further comprising supplying the first electrode with an AC voltage of about 20 volts to about 3000 volts.
25. Further comprising supplying a radio frequency current to the first electrode
22. The method of 22 above, wherein the radio frequency range of the radio frequency current is from about 100 Hz to about 10 MHz.
26. 21. The method of 21 above, further comprising maintaining the plasma discharge in the discharge chamber at a pressure of about 10 -3 to 100 torr.
27. 21. The method of 21 above, further comprising providing the plasma discharge using a plasma gas flow rate of 500 sccm or less.
28. The discharge chamber in a first area adjacent to the at least one inlet, a third area adjacent to the at least one outlet, and a second area between the first area and the third area. Including further to configure
21. The method of 21 above, wherein the average inner diameter of the third area is larger than the average inner diameter of the second area.
29. The supply voltage is selected so as to facilitate the generation of the parental analyte ion of the ionized analog and allow the quantification of the announcer using the mass vs. charge peak intensity of the parental analyte ion. 21. The method according to 21 above.
30. 21. The method of 21 above, further comprising monitoring the current supplied to the first electrode to determine if the plasma discharge is maintained in the discharge chamber.
31. 21. The method of 21 above, further comprising the use of an optical sensor to determine if the plasma discharge is maintained within the discharge chamber.
32. The plasma gas is one or more of helium, neon, argon, krypton, xenone, nitrogen, nitrogen monoxide, ammonia, oxygen, air, compressed air, hydrogen, methane, carbon monoxide, carbon dioxide, or nitrogen dioxide. 21. The method according to 21 above.
33. Introducing the analysts into the discharge chamber and ionizing the introduced analysts using a first plasma gas.
Allowing the ionized analyst to exit the discharge chamber through the at least one outlet prior to introducing the second analyzer into the discharge chamber.
The second analyzer is introduced into the discharge chamber, and the introduced second analyst is ionized using a second plasma gas different from the first plasma gas.
21. The method according to 21 above.
34. Allowing the ionized second analyst to exit the discharge chamber through the at least one outlet prior to introducing the third analyst into the discharge chamber.
The third analyze is introduced into the discharge chamber, and the introduced third analyze is used as the first plasma gas and a third plasma gas different from the second plasma gas. To ionize
33. The method according to 33 above.
35. Each of the first plasma gas, the second plasma gas and the third plasma gas is helium, neon, argon, krypton, xenone, nitrogen, nitrogen monoxide, ammonia, oxygen, air, compressed air and hydrogen. , Independently selected from the group consisting of methane, carbon monoxide, carbon dioxide, and nitrogen dioxide,
34. The method of 34, wherein each of the first plasma gas, the second plasma gas and the third plasma gas comprises a different composition.
36. The analysis is introduced into the discharge chamber and the introduced analysis is ionized using a first voltage supplied to the at least one electrode.
Allowing the ionized analyst to exit the discharge chamber through the at least one outlet prior to introducing the second analyzer into the discharge chamber.
The second analyzer is introduced into the discharge chamber and the introduced second analyzer is ionized using a second voltage different from the first voltage.
21. The method according to 21 above.
37. Allowing the ionized second analyst to exit the discharge chamber through the at least one outlet prior to introducing the third analyst into the discharge chamber.
The third analyze is introduced into the discharge chamber and the introduced third analyze is ionized using a third voltage different from the first voltage and the second voltage. And that
36. The method according to 36 above.
38. 37. The method of 37, further comprising modifying the composition of the plasma gas prior to introducing the second analyst into the discharge chamber.
39. 21. The method of 21 above, further comprising configuring the discharge chamber to include at least one bend between the at least one inlet and the at least one outlet.
40. Further comprising coupling the discharge chamber to a second discharge chamber
The second discharge chamber is electrically coupled to the second electrode.
The second discharge chamber comprises at least one inlet and at least one outlet.
21. The method of 21 above, wherein the plasma discharge is maintained in the second discharge chamber by supplying a voltage to the second electrode in the presence of plasma gas.
41. Further constituting the second discharge chamber having at least one curved portion between the at least one inlet of the second discharge chamber and the at least one outlet of the second discharge chamber. 40. The method according to 40 above.
42. 21. The method of 21 above, further comprising maintaining the plasma discharge in the discharge chamber without any inductive coupling.
43. It is configured to be fluidly coupled to at least one outlet of the discharge chamber of the plasma discharge ionization source according to any one of 1 to 20 above, and to receive ionized analysts from the discharge chamber. A mass spectrometer system equipped with a mass spectrometer.
44. With the plasma discharge ionization source according to any one of 1 to 20 above,
With instructions for providing plasma discharge into the discharge chamber using the plasma discharge ionization source according to any one of 1 to 20 above.
A kit that includes.
45. It ’s a way to promote the ionization of analite.
To provide said discharge chamber configured to maintain plasma discharge within the discharge chamber.
The discharge chamber is configured to be electrically coupled to at least one electrode configured to be coupled to a power source.
The discharge chamber further comprises at least one inlet and at least one outlet.
Including providing the discharge chamber
The method, wherein the discharge chamber is configured to maintain the plasma discharge within the discharge chamber using a voltage supplied to the at least one electrode.
46. 45. The method of 45, wherein the discharge chamber further comprises at least one bend between the at least one inlet and the at least one outlet.
47. A method of quantifying the analyses in a sample,
By using a plasma gas flow rate of 500 sccm or less, after introducing the announcer into the plasma discharge generated in the discharge chamber, the peak intensity of the parent analite ion generated from the ionization of the allite is measured. Including
The method, wherein the plasma gas is selected to use the generated plasma discharge to increase the production of said parental analite ions.
48. It is a method of ionizing an analysis so as to increase the production of a parent-analyte ion.
The plasma gas supplied to the discharge chamber and the voltage supplied to the discharge chamber are used to introduce the analysts into the plasma discharge maintained in the discharge chamber.
The plasma discharge is maintained in the discharge chamber using a plasma gas stream of 200 sccm or less.
The method, wherein the plasma discharge comprises an average temperature of about 2000 Kelvin or less.
49. A plasma discharge containing an average temperature of about 2000 Kelvin or less.
The plasma discharge is maintained in the discharge chamber using the voltage supplied to the discharge chamber in the presence of plasma gas supplied at a plasma gas flow rate of 200 sccm or less.
50. The plasma discharge configured to provide both positive and negative analyze ions without changing the voltage supplied to maintain the plasma discharge.
Claims (30)
導電性エリアを備え、
前記放電チャンバが、前記放電チャンバ内にプラズマ放電を維持するように構成されており、
前記放電チャンバが、
プラズマガスを受け入れるように構成された少なくとも１つの入口と、
前記放電チャンバからイオン化されたアナライトを提供するように構成された少なくとも１つの出口と
を備える、前記プラズマ放電イオン化源。 A plasma discharge ionization source with a discharge chamber,
Equipped with a conductive area
The discharge chamber is configured to maintain plasma discharge within the discharge chamber.
The discharge chamber
With at least one inlet configured to receive plasma gas,
The plasma discharge ionization source comprising at least one outlet configured to provide ionized analysts from the discharge chamber.
前記第１の電極が、電源に電気的に結合するように構成されている、請求項１に記載のプラズマ放電イオン化源。 A first electrode electrically coupled to the discharge chamber is further provided.
The plasma discharge ionization source according to claim 1, wherein the first electrode is configured to be electrically coupled to a power source.
前記少なくとも１つの湾曲部が、前記少なくとも１つの出口を通って前記放電チャンバを出る準安定原子及び自由電子及び光子の数を減らすように構成されている、請求項１に記載のプラズマ放電イオン化源。 Further comprising at least one bend between the at least one inlet and the at least one exit.
The plasma discharge ionization source according to claim 1, wherein the at least one bend is configured to reduce the number of semi-stable atoms and free electrons and photons leaving the discharge chamber through the at least one outlet. ..
前記第２の入口が、アナライトを含むサンプルを前記放電チャンバに供給するように構成されている、請求項３に記載のプラズマ放電イオン化源。 Further provided with a second entrance separate from the entrance
The plasma discharge ionization source according to claim 3, wherein the second inlet is configured to supply a sample containing an analyze to the discharge chamber.
前記第２の放電チャンバが、前記第２の放電チャンバの入口区域と出口区域との間に少なくとも１つの湾曲部を備える、請求項５に記載のプラズマ放電イオン化源。 A second discharge chamber fluidly coupled to the discharge chamber is further provided.
The plasma discharge ionization source according to claim 5, wherein the second discharge chamber includes at least one curved portion between an inlet area and an outlet area of the second discharge chamber.
前記放電チャンバが、少なくとも１つの入口と、少なくとも１つの出口とを備え、
前記プラズマ放電が、前記放電チャンバの前記少なくとも１つの入口を通して前記放電チャンバ内に導入されたプラズマガスの存在下で、前記第１の電極に電圧を供給することにより、前記放電チャンバ内に維持される、前記方法。 A method comprising ionizing the announcer by introducing it into a plasma discharge maintained in a discharge chamber comprising a first electrode.
The discharge chamber comprises at least one inlet and at least one outlet.
The plasma discharge is maintained in the discharge chamber by supplying a voltage to the first electrode in the presence of plasma gas introduced into the discharge chamber through at least one inlet of the discharge chamber. The above method.
前記無線周波数電流の無線周波数範囲が、約１００Ｈｚ～約１０ＭＨｚである、請求項２２に記載の方法。 Further comprising supplying a radio frequency current to the first electrode
22. The method of claim 22, wherein the radio frequency range of the radio frequency current is from about 100 Hz to about 10 MHz.
前記第３の区域の平均内径が、前記第２の区域の平均内径よりも大きい、請求項２１に記載の方法。 The discharge chamber in a first area adjacent to the at least one inlet, a third area adjacent to the at least one outlet, and a second area between the first area and the third area. Including further to configure
21. The method of claim 21, wherein the average inner diameter of the third area is larger than the average inner diameter of the second area.
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