JPWO2019035408A1 - Method for producing compound - Google Patents

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Abstract

本願発明は、部分構造(A)、部分構造(AI)、部分構造(D)又は部分構造(DI)で表される基を有する化合物(ia)と、部分構造(Y)、部分構造(Y(F,Cl))、部分構造(Y(Cl,F))又は部分構造(Y(Cl,Cl))で表される基を有する化合物(ib)とを、遷移金属触媒存在下、カップリングさせることにより、部分構造(A)、部分構造(AI)、部分構造(D)又は部分構造(DI)で表される基と、部分構造(Y)、部分構造(Y(F,Cl))、部分構造(Y(Cl,F))又は部分構造(Y(Cl,Cl))で表される基とを有する化合物(i)を製造する製造方法である。The present invention provides a compound (ia) having a group represented by a partial structure (A), a partial structure (AI), a partial structure (D) or a partial structure (DI), a partial structure (Y), and a partial structure (Y). (F, Cl)), compound (ib) having a group represented by partial structure (Y (Cl, F)) or partial structure (Y (Cl, Cl)) in the presence of a transition metal catalyst. By doing so, the group represented by the partial structure (A), the partial structure (AI), the partial structure (D) or the partial structure (DI), the partial structure (Y), and the partial structure (Y (F, Cl)) And a group represented by a partial structure (Y (Cl, F)) or a partial structure (Y (Cl, Cl)).

Description

本発明は分子構造中にテトラヒドロピラン−2,5−ジイル基又は1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基と4−アルコキシ−2,3−ジフルオロフェニル基等とを有する化合物の製造方法、当該化合物を用いた液晶組成物及び当該液晶組成物を使用した表示素子に関する。   The present invention provides a method for producing a compound having a tetrahydropyran-2,5-diyl group or a 1,3-dioxane-2,5-diyl group and a 4-alkoxy-2,3-difluorophenyl group in a molecular structure. The present invention relates to a liquid crystal composition using the compound and a display element using the liquid crystal composition.

TFT液晶材料に使用される液晶化合物及び添加剤は、ディスプレイに焼き付きを引き起こす不純物を含有しないことは元より、なるべく高純度であることが好ましいとされている。TFT液晶表示素子の種類であるVA(vertical alignment)型、PSA(polymer sustained alignment)型、n−FFS(fringe field switching)型液晶表示素子には、誘電率異方性が負であるn型液晶組成物が使用される。特にn型液晶組成物を使用する液晶表示素子においては、組成物中に含まれる金属不純物による表示素子の品質に対する影響が大きいことから、組成物に混合して使用される化合物には低い金属不純物含有量が求められている。化合物に含まれる金属不純物としては、例えば化合物を、パラジウム触媒を使用したカップリング反応によって製造する場合、使用したパラジウム触媒に由来するものが挙げられる。   It is said that the liquid crystal compound and the additives used in the TFT liquid crystal material preferably have as high a purity as possible as well as not containing impurities that cause image sticking to the display. The VA (vertical alignment) type, the PSA (polymer sustained alignment) type, and the n-FFS (fringe field switching) type liquid crystal display devices, which are types of TFT liquid crystal display devices, have an n-type liquid crystal having a negative dielectric anisotropy. A composition is used. In particular, in a liquid crystal display device using an n-type liquid crystal composition, a metal impurity contained in the composition greatly affects the quality of the display device. The content is required. Examples of the metal impurities contained in the compound include those derived from the used palladium catalyst when the compound is produced by a coupling reaction using a palladium catalyst.

分子構造中にテトラヒドロピラン−2,5−ジイル基又は1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基を有する化合物は、p型及びn型液晶組成物の構成材料として一般的な化合物である。しかしながら、テトラヒドロピラン環又はジオキサン環を有する中間体を、パラジウム触媒を用いたカップリング反応に使用した場合、得られた化合物をn型液晶組成物に添加し液晶パネルを製造した場合、長期間の使用によって焼き付きが起こりやすくなってしまう問題があった。これは、反応に使用したパラジウムがテトラヒドロピラン環又はジオキサン環上の酸素原子に配位してしまい、精製工程において完全に除去しきれず、不純物として残留してしまったことが原因であると考えられる。そのため、従来、金属不純物による表示素子への影響が特に大きいn型液晶組成物に添加される化合物であり、分子構造中にテトラヒドロピラン−2,5−ジイル基又は1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基を有する化合物の製造においては、テトラヒドロピラン−2,5−ジイル基又は1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基を有する中間体をパラジウム触媒存在下カップリング反応に使用することは避けられていた。   A compound having a tetrahydropyran-2,5-diyl group or a 1,3-dioxane-2,5-diyl group in a molecular structure is a general compound as a constituent material of p-type and n-type liquid crystal compositions. However, when an intermediate having a tetrahydropyran ring or a dioxane ring is used for a coupling reaction using a palladium catalyst, when the obtained compound is added to an n-type liquid crystal composition to produce a liquid crystal panel, a long term There was a problem that seizure was likely to occur by use. This is considered to be due to the fact that the palladium used in the reaction was coordinated to the oxygen atom on the tetrahydropyran ring or dioxane ring, could not be completely removed in the purification step, and remained as an impurity. . Therefore, it is a compound that is conventionally added to an n-type liquid crystal composition in which the influence of a metal impurity on a display element is particularly large, and a tetrahydropyran-2,5-diyl group or 1,3-dioxane-2, In the production of a compound having a 5-diyl group, an intermediate having a tetrahydropyran-2,5-diyl group or a 1,3-dioxane-2,5-diyl group is used for a coupling reaction in the presence of a palladium catalyst. Was avoided.

分子構造中にテトラヒドロピラン−2,5−ジイル基又は1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基と4−アルコキシ−2,3−ジフルオロフェニル基とを有する化合物は、n型液晶組成物への溶解性が高く、負に大きな誘電率異方性を有することからn型液晶組成物の構成材料として有用な化合物である。前記パラジウム由来の金属不純物による品質低下への懸念から、当該化合物は、テトラヒドロピラン環を構成する前の段階において、カップリング反応を実施しパラジウム由来の不純物を除去した後に、テトラヒドロピラン環を構成する方法が採られていた(非特許文献2)。しかしながら、当該製造方法には中間体の結晶性が低いため各中間体における再結晶による不純物除去効率が低く若しくは中間体が液体であるため再結晶による精製が行えず、最終的に得られる化合物の純度が低くなってしまう問題があった。低純度の化合物を使用し、液晶パネルを製造した場合、長期間の使用によって焼き付きが起こってしまったりムラが発生してしまったりしてしまい、ディスプレイ製品の品質を低下させてしまう可能性がある。そのため、このような問題を解決する、分子構造中にテトラヒドロピラン−2,5−ジイル基又は1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基と4−アルコキシ−2,3−ジフルオロフェニル基とを有する化合物等の、分子構造中にテトラヒドロピラン−2,5−ジイル基又は1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基を有する誘電率異方性が負の液晶化合物の製造方法の開発が求められていた。   A compound having a tetrahydropyran-2,5-diyl group or a 1,3-dioxane-2,5-diyl group and a 4-alkoxy-2,3-difluorophenyl group in a molecular structure is converted into an n-type liquid crystal composition. Is a compound useful as a constituent material of an n-type liquid crystal composition because of its high solubility and a large negative dielectric anisotropy. Due to concerns about quality deterioration due to the palladium-derived metal impurities, the compound forms a tetrahydropyran ring after performing a coupling reaction and removing palladium-derived impurities at a stage before forming a tetrahydropyran ring. A method has been adopted (Non-Patent Document 2). However, in the production method, the impurity removal efficiency by recrystallization in each intermediate is low because the crystallinity of the intermediate is low, or purification by recrystallization cannot be performed because the intermediate is a liquid, and the final compound obtained is There was a problem that the purity was lowered. When a liquid crystal panel is manufactured using a low-purity compound, burning may occur or unevenness may occur over a long period of use, which may reduce the quality of display products. . Therefore, a tetrahydropyran-2,5-diyl group or a 1,3-dioxane-2,5-diyl group and a 4-alkoxy-2,3-difluorophenyl group are included in the molecular structure to solve such a problem. Development of a method for producing a liquid crystal compound having a negative dielectric anisotropy having a tetrahydropyran-2,5-diyl group or a 1,3-dioxane-2,5-diyl group in a molecular structure, such as a compound having the compound, is required. Had been.

特開2017−75095号公報JP 2017-75095 A

European Journal of Organic Chemistry誌、2008年、20号、3479−3487頁European Journal of Organic Chemistry, 2008, Issue 20, pages 3479-3487. Molecular Crystals and Liquid Crystals誌、2011年、542巻、16/[538]−27[549]頁Molecular Crystals and Liquid Crystals, 2011, 542, 16 / [538] -27 [549].

本発明が解決しようとする課題は、分子構造中にテトラヒドロピラン−2,5−ジイル基又は1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基を有する誘電率異方性が負の液晶化合物を簡便かつ高純度に得る製造方法を提供することである。さらに、当該化合物を用いた液晶組成物及び当該液晶組成物を使用した表示素子を提供する。   The problem to be solved by the present invention is to easily prepare a liquid crystal compound having a negative dielectric anisotropy having a tetrahydropyran-2,5-diyl group or a 1,3-dioxane-2,5-diyl group in a molecular structure. Another object of the present invention is to provide a production method for obtaining high purity. Further, a liquid crystal composition using the compound and a display element using the liquid crystal composition are provided.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、特定の製造方法の開発に至った。すなわち、本願発明は、部分構造(A)、部分構造(AI)、部分構造(D)及びは部分構造(DI)で表される基から選択される1種又は2種以上の基を有する化合物(ia)と、上記部分構造(Y)、部分構造(Y(F,Cl))、部分構造(Y(Cl,F))及びは部分構造(Y(Cl,Cl))で表される基から選択される1種又は2種以上の基を有する化合物(ib)とを、遷移金属触媒存在下、カップリングさせることにより、部分構造(A)、部分構造(AI)、部分構造(D)及び部分構造(DI)で表される基から選択される1種又は2種以上の基と、部分構造(Y)、部分構造(Y(F,Cl))、部分構造(Y(Cl,F))及びは部分構造(Y(Cl,Cl))で表される基から選択される1種又は2種以上の基とを有する化合物(i)の製造方法を提供し、当該化合物を用いた液晶組成物及び当該液晶組成物を使用した表示素子、それらを使用したパーソナルコンピュータ、スマートフォン、テレビ、モニター、ドローン、デジタルサイネージ、電子黒板、家電製品、販売機、券売機、改札機、携帯機器、制御装置、製造装置、現金自動預払機、キャッシュレジスター、カーナビゲーションシステム、ゲーム機、装飾機材、舞台設備、車載モニター、運搬機器、自動車、鉄道、リニアモーターカー、航空機、船舶及び宇宙船を提供する。   The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-described problems, and as a result, have developed a specific manufacturing method. That is, the present invention relates to a compound having one or more groups selected from the groups represented by partial structure (A), partial structure (AI), partial structure (D) and partial structure (DI) (Ia) and a group represented by the above partial structure (Y), partial structure (Y (F, Cl)), partial structure (Y (Cl, F)) and partial structure (Y (Cl, Cl)) (A), partial structure (AI), partial structure (D) by coupling with compound (ib) having one or two or more groups selected from And one or more groups selected from groups represented by a partial structure (DI), a partial structure (Y), a partial structure (Y (F, Cl)), and a partial structure (Y (Cl, F) )) And one or more groups selected from the groups represented by the partial structure (Y (Cl, Cl)) A method for producing compound (i) having the same, a liquid crystal composition using the compound, a display element using the liquid crystal composition, a personal computer, a smartphone, a television, a monitor, a drone, a digital signage, and an electronic device using the same. Blackboards, home appliances, vending machines, ticket vending machines, ticket gates, portable devices, control devices, manufacturing equipment, automatic teller machines, cash registers, car navigation systems, game machines, decorative equipment, stage equipment, on-board monitors, transport equipment, Provides automobiles, railways, linear motor cars, aircraft, ships and spacecraft.

本願発明の製造方法は、少ない工程数によって、且つ高純度で製造することが可能であることから、分子構造中にテトラヒドロピラン−2,5−ジイル基又は1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基を有する誘電率異方性が負の液晶化合物の製造方法として有用である。また、本願発明の製造方法によって製造された化合物は液晶表示素子用の材料として有用である。   Since the production method of the present invention can be produced with a small number of steps and with high purity, a tetrahydropyran-2,5-diyl group or 1,3-dioxane-2,5- It is useful as a method for producing a liquid crystal compound having a diyl group and a negative dielectric anisotropy. Further, the compound produced by the production method of the present invention is useful as a material for a liquid crystal display device.

本願発明の製造方法は下記部分構造(A)、部分構造(AI)、部分構造(D)及びは部分構造(DI)   The manufacturing method according to the present invention includes the following partial structure (A), partial structure (AI), partial structure (D) and partial structure (DI).

Figure 2019035408
Figure 2019035408

で表される基から選択される1種又は2種以上の基と下記部分構造(Y)、部分構造(Y(F,Cl))、部分構造(Y(Cl,F))及び部分構造(Y(Cl,Cl)) And one or more groups selected from the groups represented by the following partial structures (Y), partial structures (Y (F, Cl)), partial structures (Y (Cl, F)) and partial structures ( Y (Cl, Cl))

Figure 2019035408
Figure 2019035408

で表される基から選択される1種又は2種以上の基とを有する化合物(i)の製造方法であって、上記部分構造(A)、部分構造(AI)、部分構造(D)及び部分構造(DI)で表される基から選択される1種又は2種以上の基を有する化合物(ia)と、上記部分構造(Y)、部分構造(Y(F,Cl))、部分構造(Y(Cl,F))及び部分構造(Y(Cl,Cl))で表される基から選択される1種又は2種以上の基を有する化合物(ib)とを、遷移金属触媒存在下、カップリング反応によって製造することを特徴とする。 A method for producing a compound (i) having one or more groups selected from the groups represented by the following formulas, wherein the partial structure (A), the partial structure (AI), the partial structure (D) and Compound (ia) having one or more groups selected from the group represented by partial structure (DI), the above partial structure (Y), partial structure (Y (F, Cl)), partial structure Compound (ib) having one or more groups selected from groups represented by (Y (Cl, F)) and partial structure (Y (Cl, Cl)) in the presence of a transition metal catalyst , Produced by a coupling reaction.

化合物(i)としては、下記一般式(I)   As the compound (i), the following general formula (I)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R及びRは各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、1個の−CH−若しくは隣接していない2個以上の−CH−が各々独立して−O−、−CH=CH−、−CF=CF−又は−C≡C−によって置換されても良い炭素原子数1から20の直鎖状若しくは分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、Aは部分構造(A)、部分構造(AI)、部分構造(D)又は部分構造(DI)で表される基を表し、Aは部分構造(Y)、部分構造(Y(F,Cl))、部分構造(Y(Cl,F))又は部分構造(Y(Cl,Cl))で表される基を表し、A、A、A及びAは各々独立して1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、テトラヒドロピラン−2,5−ジイル基又は1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は1つ以上の置換基Lによって置換されても良く、Aが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Aが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Aが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Aが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Lはフッ素原子、塩素原子、又は、1個の−CH−隣接していない2個以上の−CH−が各々独立して−O−、−CH=CH−、−CF=CF−又は−C≡C−によって置換されても良い炭素原子数1から20の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、Z、Z、Z及びZは各々独立して−OCH−、−CHO−、−CHCH−、−COO−、−OCO−、−CFO−、−OCF−、−CH=CH−、−CF=CF−、−C≡C−又は単結合を表すが、Zが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Zが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Zが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Zが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、m1、m3及びm4は各々独立して0から3の整数を表し、m2は1から3の整数を表すが、m1+m2+m3+m4は1から3の整数を表す。)で表される化合物であることが好ましい。(Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, or one —CH 2 — or two or more non-adjacent —CH 2 — Represents a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted by -O-, -CH = CH-, -CF = CF- or -C≡C-; May be substituted with a fluorine atom, and A 0 represents a group represented by partial structure (A), partial structure (AI), partial structure (D) or partial structure (DI); Y is moiety (Y), the partial structure (Y (F, Cl)) , the partial structure (Y (Cl, F)) or a partial structure (Y (Cl, Cl)) represents a group represented by, a 1 , A 2, A 3 and A 4 each independently 1,4-phenylene group, 1,4-cyclohexylene group, It represents a tiger tetrahydropyran-2,5-diyl group or 1,3-dioxane-2,5-diyl group, optionally substituted by these groups or is unsubstituted or 1 or more substituents L 1 When there are a plurality of A 1, they may be the same or different. When there are a plurality of A 2, they may be the same or different. When there are a plurality of A 3, May be the same or different, and when a plurality of A 4 are present, they may be the same or different, and L 1 is a fluorine atom, a chlorine atom, or one —CH 2 — Two or more non-adjacent —CH 2 — each having 1 to 20 carbon atoms which may be independently substituted by —O—, —CH = CH—, —CF = CF— or —C≡C— Represents a linear or branched alkyl group of Any hydrogen atom in the group may be substituted by a fluorine atom, Z 1, Z 2, Z 3 and Z 4 are each independently -OCH 2 -, - CH 2 O -, - CH 2 CH 2 - , -COO -, - OCO -, - CF 2 O -, - OCF 2 -, - CH = CH -, - CF = CF -, - C≡C- or represents a single bond, Z 1 there are a plurality of In those cases, they may be the same or different. When there are a plurality of Z 2, they may be the same or different. When there are a plurality of Z 3, they may be the same or different. And when a plurality of Z 4 are present, they may be the same or different, and m1, m3 and m4 each independently represent an integer of 0 to 3, and m2 represents an integer of 1 to 3. Where m1 + m2 + m3 + m4 represents an integer of 1 to 3. ) Is preferable.

一般式(I)において、R及びRは各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、1個の−CH−若しくは隣接していない2個以上の−CH−が各々独立して−O−、−CH=CH−、−CF=CF−又は−C≡C−によって置換されても良い炭素原子数1から20の直鎖状若しくは分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い。n型液晶組成物に添加した場合の保存安定性、溶解性、液晶性、誘電率異方性及び屈折率異方性の観点から、R及びRは各々独立して1個の−CH−若しくは隣接していない2個以上の−CH−が各々独立して−O−、−CH=CH−、−CF=CF−又は−C≡C−によって置換されても良く、基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数1から10の直鎖状アルキル基を表すことが好ましく、R及びRは各々独立して1個の−CH−若しくは隣接していない2個以上の−CH−が各々独立して−O−又は−CH=CH−によって置換されても良い炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基を表すことがより好ましく、Rは1個の−CH−が−CH=CH−によって置換されても良い炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基を表し、Rは1個の−CH−若しくは隣接していない2個以上の−CH−が各々独立して−O−又は−CH=CH−によって置換されても良い炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基を表すことがさらに好ましく、Rは炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基又は炭素原子数2から6の直鎖状アルケニル基を表し、Rは炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基、炭素原子数1から5の直鎖状アルコキシ基、炭素原子数2から6の直鎖状アルケニル基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニルオキシ基を表すことがさらにより好ましく、Rは炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基を表し、Rは炭素原子数1から5の直鎖状アルコキシ基を表すことが特に好ましい。In the general formula (I), R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, or one —CH 2 — or two or more non-adjacent —CH 2 — Independently represents a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted by -O-, -CH = CH-, -CF = CF- or -C≡C-. Any hydrogen atom in the alkyl group may be replaced by a fluorine atom. From the viewpoints of storage stability, solubility, liquid crystallinity, dielectric anisotropy and refractive index anisotropy when added to the n-type liquid crystal composition, R 1 and R 2 each independently represent one —CH 2- or two or more non-adjacent —CH 2 — may be each independently substituted by —O—, —CH = CH—, —CF = CF— or —C≡C—. Preferably represents a linear alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may be substituted by a fluorine atom, and R 1 and R 2 each independently represent one —CH 2 — or More preferably, two or more non-adjacent —CH 2 — represent a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be independently substituted by —O— or —CH = CH—. , R 1 is one -CH 2 - may have been replaced by -CH = CH- charcoal From atoms 1 represents a linear alkyl group having 6, R 2 is one -CH 2 - or nonadjacent two or more -CH 2 - are each independently -O- or -CH = CH More preferably represents a straight-chain alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted by —, and R 1 represents a straight-chain alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a straight-chain alkyl group having 2 to 6 carbon atoms. R 2 represents a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a linear alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a linear alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, Even more preferably, it represents a straight-chain alkenyloxy group having 2 to 5 atoms, R 1 represents a straight-chain alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and R 2 represents a straight-chain alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. It is particularly preferred to represent a symmetrical alkoxy group.

一般式(I)において、Aは部分構造(A)、部分構造(AI)、部分構造(D)又は部分構造(DI)で表される基を表す。原料の入手容易さ、合成の容易さ及び液晶性の観点から、Aは部分構造(A)、部分構造(AI)又は部分構造(D)で表される基を表すことが好ましく、Aは部分構造(A)又は部分構造(AI)で表される基を表すことがより好ましく、部分構造(A)で表される基を表すことが特に好ましい。In the general formula (I), A 0 represents a group represented by the partial structure (A), the partial structure (AI), the partial structure (D) or the partial structure (DI). Availability of raw materials ease, from the standpoint of ease and liquid synthetic, A 0 is preferably a group represented by the partial structure (A), the partial structure (AI) or a partial structure (D), A 0 More preferably represents a group represented by the partial structure (A) or the partial structure (AI), and particularly preferably represents a group represented by the partial structure (A).

一般式(I)において、Aは部分構造(Y)、部分構造(Y(F,Cl))、部分構造(Y(Cl,F))又は部分構造(Y(Cl,Cl))で表される基を表す。原料の入手容易さ、合成の容易さ及び液晶性の観点から、Aは部分構造(Y)で表される基を表すことが好ましい。In the general formula (I), A Y represents a partial structure (Y), a partial structure (Y (F, Cl)), a partial structure (Y (Cl, F)) or a partial structure (Y (Cl, Cl)). Represents a group to be formed. A Y preferably represents a group represented by the partial structure (Y) from the viewpoints of availability of raw materials, ease of synthesis, and liquid crystallinity.

一般式(I)において、A、A、A及びAは各々独立して1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、テトラヒドロピラン−2,5−ジイル基又は1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は1つ以上の置換基Lによって置換されても良く、Aが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Aが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Aが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Aが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。原料の入手容易さ、合成の容易さ及び液晶性の観点から、A、A、A及びAは各々独立して下記の式(A−1)から式(A−9)In the general formula (I), A 1 , A 2 , A 3 and A 4 are each independently 1,4-phenylene, 1,4-cyclohexylene, tetrahydropyran-2,5-diyl or 1, Represents a 3-dioxane-2,5-diyl group, which may be unsubstituted or substituted by one or more substituents L 1 , and when a plurality of A 1 are present, they are the same. May be the same or different when there are a plurality of A 2, and they may be the same or different when there are a plurality of A 3 ; When a plurality of 4 exist, they may be the same or different. From the viewpoints of availability of raw materials, ease of synthesis and liquid crystallinity, A 1 , A 2 , A 3 and A 4 are each independently represented by the following formulas (A-1) to (A-9)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

から選ばれる基を表すことが好ましく、上記の式(A−1)から式(A−5)、式(A−8)又は式(A−9)から選ばれる基を表すことがより好ましく、上記の式(A−1)から式(A−5)から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、上記の式(A−1)から式(A−4)から選ばれる基を表すことがさらにより好ましく、上記の式(A−1)、式(A−3)又は式(A−4)から選ばれる基を表すことが特に好ましい。 And preferably represents a group selected from the formulas (A-1) to (A-5), (A-8) and (A-9). More preferably, it represents a group selected from the formulas (A-1) to (A-5), and more preferably, it represents a group selected from the formulas (A-1) to (A-4). More preferably, it is particularly preferable to represent a group selected from the above formula (A-1), formula (A-3) or formula (A-4).

一般式(I)において、Lはフッ素原子、塩素原子、又は、1個の−CH−隣接していない2個以上の−CH−が各々独立して−O−、−CH=CH−、−CF=CF−又は−C≡C−によって置換されても良い炭素原子数1から20の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い。原料の入手容易さ、合成の容易さ及び液晶性の観点から、Lはフッ素原子、塩素原子、又は、1個の−CH−が−O−によって置換されても良く、基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基を表すことが好ましく、Lはフッ素原子、塩素原子、又は、1個の−CH−が−O−によって置換されても良く、基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数1から3の直鎖状アルキル基を表すことがより好ましく、Lはフッ素原子、塩素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、トリフルオロメトキシ基又はペンタフルオロエトキシ基を表すことがさらに好ましく、Lはフッ素原子又は塩素原子を表すことがさらにより好ましく、Lはフッ素原子を表すことが特に好ましい。In the general formula (I), L 1 is a fluorine atom, a chlorine atom, or one —CH 2 —not adjacent to two or more —CH 2 — each independently represents —O—, —CH = CH -Represents a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted by -CF = CF- or -C≡C-, and any hydrogen atom in the alkyl group is a fluorine atom May be replaced by From the viewpoints of availability of raw materials, ease of synthesis, and liquid crystallinity, L 1 may be a fluorine atom, a chlorine atom, or one —CH 2 — may be replaced by —O— Represents preferably a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted by a fluorine atom, and L 1 represents a fluorine atom, a chlorine atom, or one -CH 2- More preferably, any hydrogen atom in the group which may be substituted by O- represents a linear alkyl group having 1 to 3 carbon atoms which may be substituted by a fluorine atom, and L 1 is a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a methoxy group, an ethoxy group, more preferably represent a trifluoromethoxy group or a pentafluoroethoxy group, L 1 is still more preferably represent a fluorine atom or a chlorine atom L 1 is and particularly preferably a fluorine atom.

一般式(I)において、Z、Z、Z及びZは各々独立して−OCH−、−CHO−、−CHCH−、−COO−、−OCO−、−CFO−、−OCF−、−CH=CH−、−CF=CF−、−C≡C−又は単結合を表すが、Zが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Zが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Zが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Zが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良い。液晶性、表示素子にした場合の物性の観点から、Z、Z、Z及びZは各々独立して−OCH−、−CHO−、−CHCH−、−COO−、−OCO−、−CFO−、−OCF−又は単結合を表すことが好ましく、Z、Z、Z及びZは各々独立して−OCH−、−CHO−、−CHCH−、−CFO−、−OCF−又は単結合を表すことがより好ましく、Z、Z、Z及びZは各々独立して−OCH−、−CHO−、−CHCH−又は単結合を表すことがさらに好ましく、Z、Z、Z及びZは各々独立して−CHCH−又は単結合を表すことがさらにより好ましく、Z、Z、Z及びZは単結合を表すことが特に好ましい。In the general formula (I), Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 are each independently -OCH 2- , -CH 2 O-, -CH 2 CH 2- , -COO-, -OCO-,-. CF 2 O—, —OCF 2 —, —CH = CH—, —CF = CF—, —C≡C—, or a single bond. When a plurality of Z 1 are present, they are different even if they are the same. When there are a plurality of Z 2, they may be the same or different. When there are a plurality of Z 3, they may be the same or different, and there are a plurality of Z 4 In that case, they may be the same or different. From the viewpoints of liquid crystal properties and physical properties when formed into a display element, Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 are each independently —OCH 2 —, —CH 2 O—, —CH 2 CH 2 —, and —COO. —, —OCO—, —CF 2 O—, —OCF 2 — or a single bond, and Z 1 , Z 2 , Z 3 and Z 4 each independently represent —OCH 2 —, —CH 2 O -, - CH 2 CH 2 - , - CF 2 O -, - OCF 2 - or is more preferably a single bond, Z 1, Z 2, Z 3 and Z 4 are each independently -OCH 2 -, -CH 2 O -, - CH 2 CH 2 - or more preferably a single bond, Z 1, Z 2, Z 3 and Z 4 each independently are -CH 2 CH 2 - or a single bond There still more preferably, Z 1, Z 2, Z 3 and Z 4 are particularly good may represent a single bond Arbitrariness.

一般式(I)において、m1、m3及びm4は各々独立して0から3の整数を表す。原料の入手容易さ、合成の容易さ及び液晶性の観点から、m1、m3及びm4は各々独立して0、1又は2を表すことが好ましく、m1、m3及びm4は各々独立して0又は1を表すことがより好ましく、m1、m3及びm4は0を表すことが特に好ましい。   In the general formula (I), m1, m3 and m4 each independently represent an integer of 0 to 3. From the viewpoint of availability of raw materials, ease of synthesis, and liquid crystallinity, m1, m3, and m4 each preferably independently represent 0, 1, or 2, and m1, m3, and m4 each independently represent 0 or More preferably, it represents 1, and particularly preferably m1, m3 and m4 represent 0.

一般式(I)において、m2は1から3の整数を表すが、m1+m2+m3+m4は1から3の整数を表す。原料の入手容易さ、合成の容易さ及び液晶性の観点から、m2は1又は2を表すことが好ましく、m2は1を表すことが特に好ましい。m1+m2+m3+m4は1又は2を表すことが好ましく、m1+m2+m3+m4は1を表すことが特に好ましい。   In the general formula (I), m2 represents an integer of 1 to 3, and m1 + m2 + m3 + m4 represents an integer of 1 to 3. From the viewpoints of availability of raw materials, ease of synthesis, and liquid crystallinity, m2 preferably represents 1 or 2, and m2 particularly preferably represents 1. m1 + m2 + m3 + m4 preferably represents 1 or 2, and m1 + m2 + m3 + m4 particularly preferably represents 1.

化合物(ia)としては、下記一般式(IA)   As the compound (ia), the following general formula (IA)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R、A、A、A、Z、Z、m1及びm2は一般式(I)と同じ意味を表し、Xはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はp−トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から20の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から20の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表す。)で表される化合物であることが好ましい。(Wherein, R 1 , A 0 , A 1 , A 2 , Z 1 , Z 2 , m1 and m2 represent the same meaning as in the general formula (I), and X 1 represents a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine Atom, trifluoromethanesulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group or group selected from p-toluenesulfonyloxy group or dihydroxyboryl group, linear or branched alkoxyboryl group having 2 to 20 carbon atoms or 1 to carbon atoms 20 represents a group selected from cyclic alkoxyboryl groups.).

一般式(IA)において、R、A、A、A、Z、Z、m1及びm2の好ましい条件は一般式(I)と同じである。In the general formula (IA), preferable conditions for R 1 , A 0 , A 1 , A 2 , Z 1 , Z 2 , m1 and m2 are the same as those in the general formula (I).

本願発明において、ジヒドロキシボリル基とは下記の式(XB−1)   In the present invention, the dihydroxyboryl group is represented by the following formula (XB-1)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

で表される基を意味し、炭素原子数2から20の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基とは下記の式(XB−2) And a linear or branched alkoxyboryl group having 2 to 20 carbon atoms is represented by the following formula (XB-2)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、RXB1及びRXB2は各々独立して炭素原子数2から20の直鎖状又は分岐状アルキル基を表す。)で表される基を意味し、炭素原子数1から20の環状アルコキシボリル基とは下記の式(XB−3)(Wherein, R XB1 and R XB2 each independently represent a linear or branched alkyl group having 2 to 20 carbon atoms), and a cyclic group having 1 to 20 carbon atoms. The alkoxyboryl group is represented by the following formula (XB-3)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、環AXB1は−O−B−O−と炭素原子数1から20のアルキレン基によって形成される環構造を表す。)で表される基を意味する。炭素原子数2から20の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基としては例えば下記の式(XB−2−1)で表されるジメトキシボリル基、式(XB−2−2)で表されるジエトキシボリル基、式(XB−2−3)で表されるジプロポキシボリル基、式(XB−2−4)で表されるジイソプロポキシボリル基及び式(XB−2−5)で表されるジtert−ブチルオキシボリル基( Wherein , ring A XB1 represents a ring structure formed by —O—B—O— and an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms). Examples of the linear or branched alkoxyboryl group having 2 to 20 carbon atoms include a dimethoxyboryl group represented by the following formula (XB-2-1) and a diethoxyboryl group represented by the following formula (XB-2-2) A dipropoxyboryl group represented by the formula (XB-2-3), a diisopropoxyboryl group represented by the formula (XB-2-4), and a dipropoxyboryl group represented by the formula (XB-2-5). tert-butyloxyboryl group

Figure 2019035408
Figure 2019035408

が挙げられる。また、炭素原子数1から20の環状アルコキシボリル基としては例えば下記の式(XB−3−1)で表される1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基、式(XB−3−2)で表される4−メチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基、式(XB−3−3)で表される4,5−ジメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基、式(XB−3−4)で表される4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基、式(XB−3−5)で表されるヘキサヒドロ−5,5−ジメチル−4,6−メタノ−1,3,2−ベンゾジオキサボロラン−2−イル基及び式(XB−3−6)で表されるヘキサヒドロ−3a,5,5−トリメチル−4,6−メタノ−1,3,2−ベンゾジオキサボロラン−2−イル基が挙げられる。 Is mentioned. Examples of the cyclic alkoxyboryl group having 1 to 20 carbon atoms include a 1,3,2-dioxaborolan-2-yl group represented by the following formula (XB-3-1) and a formula (XB-3-2) ), A 4,5-dimethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl group represented by the formula (XB-3-3). Yl group, 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl group represented by the formula (XB-3-4), represented by the formula (XB-3-5) Hexahydro-5,5-dimethyl-4,6-methano-1,3,2-benzodioxaborolan-2-yl group and hexahydro-3a, 5 represented by the formula (XB-3-6) 5-trimethyl-4,6-methano-1,3,2-benzodioxaborolan-2-yl group And the like.

Figure 2019035408
Figure 2019035408

一般式(IA)において、Xはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はp−トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から20の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から20の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表す。原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、Xは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から5の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から10の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表すことが好ましく、Xは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表すことがより好ましく、Xは臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、Xは臭素原子を表すことが特に好ましい。In the general formula (IA), X 1 represents a group selected from a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a trifluoromethanesulfonyloxy group, a methanesulfonyloxy group, a p-toluenesulfonyloxy group, a dihydroxyboryl group, and a carbon atom. Represents a group selected from a linear or branched alkoxyboryl group having 2 to 20 carbon atoms or a cyclic alkoxyboryl group having 1 to 20 carbon atoms. From the viewpoints of availability of raw materials and ease of synthesis, X 1 is a group selected from a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, or a trifluoromethanesulfonyloxy group or a dihydroxyboryl group, and a straight chain having 2 to 5 carbon atoms. Or a group selected from a branched alkoxyboryl group or a cyclic alkoxyboryl group having 1 to 10 carbon atoms, and X 1 is a group selected from a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and a trifluoromethanesulfonyloxy group. It is more preferable that X 1 represents a group selected from a bromine atom, an iodine atom and a trifluoromethanesulfonyloxy group, and it is particularly preferable that X 1 represents a bromine atom.

化合物(ib)としては、下記一般式(IB)   As the compound (ib), a compound represented by the following general formula (IB)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、A、A、A、Z、Z、m3、m4及びRは一般式(I)と同じ意味を表し、Xはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はp−トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から20の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から20の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表すが、Xがフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はp−トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す場合、Xはジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から20の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から20の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表し、Xがジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から20の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から20の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表す場合、Xはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はp−トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す。)で表される化合物であることが好ましい。(Where A 3 , A 4 , A Y , Z 3 , Z 4 , m 3, m 4 and R 2 represent the same meaning as in the general formula (I), and X 2 represents a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine Atom, trifluoromethanesulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group or group selected from p-toluenesulfonyloxy group or dihydroxyboryl group, linear or branched alkoxyboryl group having 2 to 20 carbon atoms or 1 to carbon atoms And X 1 represents a group selected from a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a trifluoromethanesulfonyloxy group, a methanesulfonyloxy group, and a p-toluenesulfonyloxy group. when referring to, X 2 is a dihydroxyboryl group, having 2 to 20 carbon atoms linear or branched Arukokishibo Represents a group or a group selected from cyclic Arukokishiboriru group having a carbon number of 1 to 20, X 1 is a dihydroxyboryl group, a linear or branched Arukokishiboriru group or a carbon atom number of from 2 to 20 carbon atoms X 2 represents a group selected from a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a trifluoromethanesulfonyloxy group, a methanesulfonyloxy group and a p-toluenesulfonyloxy group when representing a group selected from 20 cyclic alkoxyboryl groups. Is preferable.).

一般式(IB)において、A、A、A、Z、Z、m3、m4及びRの好ましい条件は一般式(I)と同じである。In the general formula (IB), preferable conditions of A 3 , A 4 , A Y , Z 3 , Z 4 , m3, m4 and R 2 are the same as those in the general formula (I).

一般式(IB)において、Xはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はp−トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から20の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から20の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表すが、Xがフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はp−トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す場合、Xはジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から20の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から20の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表し、Xがジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から20の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から20の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表す場合、Xはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はp−トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す。原料の入手容易さ及び合成の容易さの観点から、Xは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から5の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から10の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表すことが好ましく、Xはジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から5の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から10の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表すことがより好ましく、Xはジヒドロキシボリル基、炭素原子数2又は4の直鎖状ジアルコキシボリル基、炭素原子数6の分岐状ジアルコキシボリル基、炭素原子数2から6の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表すことがさらに好ましく、Xはジヒドロキシボリル基、ジメトキシボリル基、ジエトキシボリル基、ジイソプロポキシボリル基、1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基、4−メチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基、4,5−ジメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基又は4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基から選ばれる基を表すことがさらにより好ましく、Xはジヒドロキシボリル基を表すことが特に好ましい。In the general formula (IB), X 2 is a group selected from a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a trifluoromethanesulfonyloxy group, a methanesulfonyloxy group, a p-toluenesulfonyloxy group, a dihydroxyboryl group, and a carbon atom. Represents a group selected from a linear or branched alkoxyboryl group having 2 to 20 carbon atoms or a cyclic alkoxyboryl group having 1 to 20 carbon atoms, wherein X 1 is a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, X 2 represents a dihydroxyboryl group, a linear or branched alkoxyboryl group having 2 to 20 carbon atoms or a carbon atom when it represents a group selected from a methanesulfonyloxy group, a methanesulfonyloxy group and a p-toluenesulfonyloxy group. Table represents groups selected from the cyclic alkoxyboryl groups of Formulas 1 to 20 When representing the group X 1 is selected from a dihydroxy boryl group, a linear or branched Arukokishiboriru group or 1 to 20 carbon atoms cyclic Arukokishiboriru group having from 2 carbon atoms 20, X 2 is fluorine atom, Represents a group selected from a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a trifluoromethanesulfonyloxy group, a methanesulfonyloxy group and a p-toluenesulfonyloxy group. From the viewpoints of availability of raw materials and ease of synthesis, X 2 is a group selected from a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, or a trifluoromethanesulfonyloxy group or a dihydroxyboryl group, and a straight chain having 2 to 5 carbon atoms. Or a group selected from a branched alkoxyboryl group or a cyclic alkoxyboryl group having 1 to 10 carbon atoms, and X 2 is a dihydroxyboryl group, a linear or branched alkoxyboryl group having 2 to 5 carbon atoms. More preferably, X 2 represents a dihydroxyboryl group, a linear dialkoxyboryl group having 2 or 4 carbon atoms, or a group having 6 carbon atoms. Represents a group selected from a branched dialkoxyboryl group, and a cyclic alkoxyboryl group having 2 to 6 carbon atoms. Mashiku, X 2 is a dihydroxyboryl group, dimethoxy boryl group, Jietokishiboriru group, diisopropoxy boryl group, 1,3,2-dioxaborolan-2-yl group, 4-methyl-1,3,2-dioxaborolan-2- An yl group, a 4,5-dimethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl group or a group selected from 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl group It is even more preferred that X 2 represents a dihydroxyboryl group.

一般式(I)で表される化合物としては、下記の一般式(I−i)   As the compound represented by the general formula (I), the following general formula (Ii)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R11及びR21は各々独立して1個の−CH−若しくは隣接していない2個以上の−CH−が各々独立して−O−、−CH=CH−、−CF=CF−又は−C≡C−によって置換されても良く、基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数1から10の直鎖状アルキル基を表し、A01は下記の式(A0−i−1)又は式(A0−i−2)(In the formula, R 11 and R 21 are each independently one -CH 2 -or two or more non-adjacent -CH 2 -are each independently -O-, -CH = CH-,- CF = CF- or may be substituted by -C≡C-, arbitrary hydrogen atom in the radicals represents a linear alkyl group having from good 1 -C be substituted by a fluorine atom 10, a 01 Is the following formula (A0-i-1) or formula (A0-i-2)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

から選ばれる基を表し、A11、A21、A31及びA41は各々独立して下記の式(A−i−1)から式(A−i−9)A 11 , A 21 , A 31 and A 41 are each independently a group represented by the following formulas (A-i-1) to (A-i-9)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、L11はフッ素原子、塩素原子、又は、1個の−CH−が−O−によって置換されても良く、基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基を表す。)から選ばれる基を表すが、A11が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、A21が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、A31が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、A41が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Z11、Z21、Z31及びZ41は各々独立して−OCH−、−CHO−、−CHCH−、−COO−、−OCO−、−CFO−、−OCF−又は単結合を表すが、Z11が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Z21が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Z31が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Z41が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、m11、m31及びm41は各々独立して0、1又は2を表し、m21は1又は2を表すが、m11+m21+m31+m41は1、2又は3を表す。)で表される化合物が好ましく、化合物(ia)(一般式(IA)で表される化合物)としては、下記の一般式(IA−i)(Wherein L 11 is a fluorine atom, a chlorine atom, or a carbon atom in which one —CH 2 — may be replaced by —O—, and any hydrogen atom in the group may be replaced by a fluorine atom. Represents a straight-chain alkyl group having 1 to 6 atoms.) When a plurality of A 11 are present, they may be the same or different, and when a plurality of A 21 is present, they may be the same or different and if the a 31 there are a plurality thereof may be the same or different and they if a 41 there are a plurality optionally be the same or different Z 11 , Z 21 , Z 31 and Z 41 each independently represent -OCH 2- , -CH 2 O-, -CH 2 CH 2- , -COO-, -OCO-, -CF 2 O- , -OCF 2 - or represents a single bond, Z 11 is They If the number present may be the same or different and they if Z 21 there are a plurality may be the same or different and they if Z 31 there are a plurality in the same When a plurality of Z 41 are present, they may be the same or different, and m11, m31 and m41 each independently represent 0, 1 or 2, and m21 represents 1 or 2 Where m11 + m21 + m31 + m41 represents 1, 2 or 3. The compound represented by the following general formula (IA-i) is preferable as the compound (ia) (the compound represented by the general formula (IA)).

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R11、A01、A11、A21、Z11、Z21、m11及びm21は一般式(I−i)と同じ意味を表し、X11は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から5の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から10の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表す。)で表される化合物が好ましく、化合物(ib)(一般式(IB)で表される化合物)としては、下記の一般式(IB−i)(Wherein, R 11 , A 01 , A 11 , A 21 , Z 11 , Z 21 , m11 and m21 represent the same meaning as in the general formula (Ii), and X 11 represents a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom. Or a group selected from a trifluoromethanesulfonyloxy group or a dihydroxyboryl group, a linear or branched alkoxyboryl group having 2 to 5 carbon atoms, or a cyclic alkoxyboryl group having 1 to 10 carbon atoms. The compound represented by the following general formula (IB-i) is preferable as the compound (ib) (the compound represented by the general formula (IB)).

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、A31、A41、Z31、Z41、m31、m41及びR21は一般式(I−i)と同じ意味を表し、X21は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から5の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から10の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表すが、X11が塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す場合、X21はジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から5の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から10の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表し、X11がジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から5の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から10の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表す場合、X21は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す。)で表される化合物が好ましい。(Wherein, A 31 , A 41 , Z 31 , Z 41 , m31, m41 and R 21 represent the same meaning as in the general formula (I-i), and X 21 represents a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom or trifluoromethane. X 11 represents a group selected from a sulfonyloxy group or a dihydroxyboryl group, a linear or branched alkoxyboryl group having 2 to 5 carbon atoms or a cyclic alkoxyboryl group having 1 to 10 carbon atoms; Represents a group selected from a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom or a trifluoromethanesulfonyloxy group, X 21 represents a dihydroxyboryl group, a linear or branched alkoxyboryl group having 2 to 5 carbon atoms or a carbon atom number; X 11 represents a group selected from cyclic alkoxyboryl groups having 1 to 10; X 11 represents a dihydroxyboryl group; X 21 represents a group selected from a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom or a trifluoromethanesulfonyloxy group when representing a group selected from a chain or branched alkoxyboryl group or a cyclic alkoxyboryl group having 1 to 10 carbon atoms. Is preferable.

一般式(I)で表される化合物としては、下記の一般式(I−i−1)   The compound represented by the general formula (I) includes the following general formula (Ii-1)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R111及びR211は各々独立して1個の−CH−若しくは隣接していない2個以上の−CH−が各々独立して−O−又は−CH=CH−によって置換されても良い炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基を表し、A011は下記の式(A0−i−1−1)又は式(A0−i−1−2)(Wherein, R 111 and R 211 are each independently one -CH 2 -or two or more non-adjacent -CH 2- , each independently substituted by -O- or -CH = CH- Represents a straight-chain alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and A 011 represents the following formula (A0-i-1-1) or (A0-i-1-2)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

から選ばれる基を表し、A211及びA311は各々独立して下記の式(A−i−1−1)から式(A−i−1−5)、式(A−i−1−8)又は式(A−i−1−9) A211 and A311 are each independently a group represented by the following formulas (Ai-1-1) to (Ai-1-5) or (Ai-1-8). ) Or formula (A-i-1-9)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、L111はフッ素原子、塩素原子、又は、1個の−CH−が−O−によって置換されても良く、基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数1から3の直鎖状アルキル基を表す。)から選ばれる基を表すが、A211が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、A311が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Z211及びZ311は各々独立して−OCH−、−CHO−、−CHCH−、−CFO−、−OCF−又は単結合を表すが、Z211が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Z311が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、m311は各々独立して0、1又は2を表し、m211は1又は2を表すが、m211+m311は1又は2を表す。)で表される化合物がより好ましく、一般式(IA)で表される化合物としては、下記の一般式(IA−i−1)(In the formula, L 111 is a fluorine atom, a chlorine atom, or a carbon atom in which one —CH 2 — may be replaced by —O—, and any hydrogen atom in the group may be replaced by a fluorine atom. Represents a straight-chain alkyl group having 1 to 3 atoms.) When a plurality of A 211 are present, they may be the same or different, and when a plurality of A 311 exist, They may be the same or different, and Z 211 and Z 311 are each independently —OCH 2 —, —CH 2 O—, —CH 2 CH 2 —, —CF 2 O—, —OCF 2 Or represents a single bond, when a plurality of Z 211 are present, they may be the same or different, and when a plurality of Z 311 are present, they may be the same or different, and m311 is Each represents 0, 1, or 2 independently , M211 represents an 1 or 2, M211 + M311 represents 1 or 2. The compound represented by the following general formula (IA-i-1) is more preferable.

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R111、A011、A211、Z211及びm211は一般式(I−i−1)と同じ意味を表し、X111は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す。)で表される化合物がより好ましく、一般式(IB)で表される化合物としては、下記の一般式(IB−i−1)(Wherein, R 111 , A 011 , A 211 , Z 211 and m211 represent the same meaning as in the general formula (I-i-1), and X 111 represents a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom or a trifluoromethanesulfonyloxy group. The compound represented by the following general formula (IB-i-1) is more preferable as the compound represented by the general formula (IB).

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、A311、Z311、m311及びR211は一般式(I−i−1)と同じ意味を表し、X211はジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から5の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から10の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表す。)で表される化合物がより好ましい。(Wherein, A 311 , Z 311 , m311 and R 211 represent the same meaning as in the general formula (I-i-1), and X 211 represents a dihydroxyboryl group, a linear or branched group having 2 to 5 carbon atoms. And a group selected from an alkoxyboryl group and a cyclic alkoxyboryl group having 1 to 10 carbon atoms.).

一般式(I)で表される化合物としては、下記の一般式(I−i−11)   As a compound represented by the general formula (I), the following general formula (Ii-11)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R1111は1個の−CH−が−CH=CH−によって置換されても良い炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基を表し、R2111は1個の−CH−若しくは隣接していない2個以上の−CH−が各々独立して−O−又は−CH=CH−によって置換されても良い炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基を表し、A0111は下記の式(A0−i−11−1)又は式(A0−i−11−2)(Wherein, R 1111 represents a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms in which one —CH 2 — may be substituted by —CH = CH—, and R 2111 represents one —CH 2 — - or nonadjacent two or more -CH 2 - represents each independently -O- or -CH = CH- is also a good 1 -C 6 substituted by a straight-chain alkyl group, a 0111 is represented by the following formula (A0-i-11-1) or formula (A0-i-11-2)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

から選ばれる基を表し、A2111は下記の式(A−i−11−1)から式(A−i−11−5) A2111 represents a group represented by the following formula ( Ai -11-1) to formula (Ai-11-5)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、L1111はフッ素原子、塩素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、トリフルオロメトキシ基又はペンタフルオロエトキシ基を表す。)から選ばれる基を表すが、A2111が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Z2111は−OCH−、−CHO−、−CHCH−又は単結合を表すが、Z2111が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、m2111は1又は2を表す。)で表される化合物がさらに好ましく、一般式(IA)で表される化合物としては、下記の一般式(IA−i−11)( Wherein L 1111 represents a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a trifluoromethoxy group or a pentafluoroethoxy group.) 2111 they if there exist a plurality may be different even in the same, Z 2111 is -OCH 2 -, - CH 2 O -, - CH 2 CH 2 - or represents a single bond, Z 2111 are multiple When present, they may be the same or different and m2111 represents 1 or 2. The compound represented by the following general formula (IA-i-11) is more preferable as the compound represented by the general formula (IA).

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R1111、A0111、A2111、Z2111及びm2111は一般式(I−i−11)と同じ意味を表し、X1111は塩素、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す。)で表される化合物がさらに好ましく、一般式(IB)で表される化合物としては、下記の一般式(IB−i−11)(Wherein, R 1111 , A 0111 , A 2111 , Z 2111, and m 2111 represent the same meaning as in the general formula (Ii-11), and X 1111 represents a chlorine, bromine atom, iodine atom, or trifluoromethanesulfonyloxy group. The compound represented by the following general formula (IB-i-11) is more preferable.

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R2111は一般式(I−i−11)と同じ意味を表し、X2111はジヒドロキシボリル基、ジメトキシボリル基、ジエトキシボリル基、ジイソプロポキシボリル基、1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基、4−メチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基、4,5−ジメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基又は4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基から選ばれる基から選ばれる基を表す。)で表される化合物がさらに好ましい。(Wherein, R 2111 represents the same meaning as in the general formula (Ii-11), and X 2111 represents a dihydroxyboryl group, a dimethoxyboryl group, a diethoxyboryl group, a diisopropoxyboryl group, a 1,3,2-dioxaborolane- 2-yl group, 4-methyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl group, 4,5-dimethyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl group or 4,4,5,5-tetra And a group selected from a group selected from methyl-1,3,2-dioxaborolan-2-yl groups.).

一般式(I)で表される化合物としては、下記の一般式(I−i−111)   As the compound represented by the general formula (I), the following general formula (Ii-111)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R11111は炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニル基を表し、R21111は炭素原子数1から5の直鎖状アルコキシ基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。)で表される化合物が特に好ましく、一般式(IA)で表される化合物としては、下記の一般式(IA−i−111)(Wherein, R 11111 represents a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and R 21111 represents a linear alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.) Or a linear alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms). Particularly preferred as the compound represented by the general formula (IA) is a compound represented by the following general formula (IA-i-111) )

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R11111は一般式(I−i−111)と同じ意味を表し、X11111は臭素原子を表す。)で表される化合物が特に好ましく、一般式(IB)で表される化合物としては、下記の一般式(IB−i−111)(Wherein, R 11111 represents the same meaning as in the general formula ( Ii -111), and X 11111 represents a bromine atom), and is particularly preferably a compound represented by the general formula (IB) Is represented by the following general formula (IB-i-111)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R21111は一般式(I−i−111)と同じ意味を表し、X21111はジヒドロキシボリル基又は4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基を表す。)で表される化合物が特に好ましい。また、一般式(I)で表される化合物としては、下記の一般式(I−i−112)(Wherein, R 21111 represents the same meaning as in the general formula ( Ii -111), and X 21111 represents a dihydroxyboryl group or 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane-2- A compound represented by the following formula: is particularly preferable. Further, the compound represented by the general formula (I) includes a compound represented by the following general formula (Ii-112)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R11112は炭素原子数1から5の直鎖状アルキル基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニル基を表し、R21112は炭素原子数1から5の直鎖状アルコキシ基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。)で表される化合物が特に好ましく、一般式(IA)で表される化合物としては、下記の一般式(IA−i−112)(Wherein, R 11112 represents a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and R 21112 represents a linear alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. Or a straight-chain alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms). Particularly preferred as the compound represented by the general formula (IA) is a compound represented by the following general formula (IA-i-112) )

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R11112は一般式(I−i−112)と同じ意味を表し、X11112は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子から選ばれる基を表す。)で表される化合物が特に好ましく、一般式(IB)で表される化合物としては、下記の一般式(IB−i−112)(In the formula, R 11112 has the same meaning as in the general formula (I-i-112), and X 11112 represents a group selected from a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.) As the compound represented by the general formula (IB), the following general formula (IB-i-112)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R21112は一般式(I−i−112)と同じ意味を表し、X21112はジヒドロキシボリル基又は4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基を表す。)で表される化合物が特に好ましい。また、一般式(I)で表される化合物としては、下記の一般式(I−i−113)(Wherein, R 21112 represents the same meaning as in general formula (I-i-112), and X 21112 represents a dihydroxyboryl group or 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane-2- A compound represented by the following formula: is particularly preferable. The compound represented by the general formula (I) includes the following general formula (I-i-113)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R11113は炭素原子数1から5の直鎖状アルキル基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニル基を表し、R21113は炭素原子数1から5の直鎖状アルコキシ基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。)で表される化合物が特に好ましく、一般式(IA)で表される化合物としては、下記の一般式(IA−i−113)(Wherein, R 11113 represents a linear alkyl group or linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms having 1 to 5 carbon atoms, R 21113 is a straight chain alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms Or a straight-chain alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms). Particularly preferred as the compound represented by the general formula (IA) is a compound represented by the following general formula (IA-i-113) )

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R11113は一般式(I−i−113)と同じ意味を表し、X11113は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子から選ばれる基を表す。)で表される化合物が特に好ましく、一般式(IB)で表される化合物としては、下記の一般式(IB−i−113)(In the formula, R 11113 represents the same meaning as in the general formula (I-i-113), and X 11113 represents a group selected from a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.) As the compound represented by the general formula (IB), the following general formula (IB-i-113)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R21113は一般式(I−i−113)と同じ意味を表し、X21113はジヒドロキシボリル基又は4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基を表す。)で表される化合物が特に好ましい。また、一般式(I)で表される化合物としては、下記の一般式(I−i−114)(Wherein, R 21113 represents the same meaning as in general formula (I-i-113), and X 21113 represents a dihydroxyboryl group or 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane-2- A compound represented by the following formula: is particularly preferable. Further, the compound represented by the general formula (I) includes the following general formula (I-i-114)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R11114は炭素原子数1から5の直鎖状アルキル基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニル基を表し、R21114は炭素原子数1から5の直鎖状アルコキシ基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。)で表される化合物が特に好ましく、一般式(IA)で表される化合物としては、下記の一般式(IA−i−114)(Wherein, R 11114 represents a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and R 21114 represents a linear alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.) Or a straight-chain alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms), and particularly preferably a compound represented by the following general formula (IA-i-114). )

Figure 2019035408
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(式中、R11114は一般式(I−i−114)と同じ意味を表し、X11114は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子から選ばれる基を表す。)で表される化合物が特に好ましく、一般式(IB)で表される化合物としては、下記の一般式(IB−i−114)(In the formula, R 11114 represents the same meaning as in the general formula (I-i-114), and X 11114 represents a group selected from a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.) As the compound represented by the general formula (IB), the following general formula (IB-i-114)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R21114は一般式(I−i−114)と同じ意味を表し、X21114はジヒドロキシボリル基又は4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基を表す。)で表される化合物が特に好ましい。また、一般式(I)で表される化合物としては、下記の一般式(I−i−115)( Wherein , R 21114 represents the same meaning as in general formula (I-i-114), and X 21114 represents a dihydroxyboryl group or 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane-2- A compound represented by the following formula: is particularly preferable. Further, the compound represented by the general formula (I) includes the following general formula (Ii-115)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R11115は炭素原子数1から5の直鎖状アルキル基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニル基を表し、R21115は炭素原子数1から5の直鎖状アルコキシ基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。)で表される化合物が特に好ましく、一般式(IA)で表される化合物としては、下記の一般式(IA−i−115)(Wherein, R 11115 represents a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and R 21115 represents a linear alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. Or a straight-chain alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms), and particularly preferably a compound represented by the following general formula (IA-i-115). )

Figure 2019035408
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(式中、R11115は一般式(I−i−115)と同じ意味を表し、X11115は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子から選ばれる基を表す。)で表される化合物が特に好ましく、一般式(IB)で表される化合物としては、下記の一般式(IB−i−115)(Wherein, R 11115 represents the same meaning as in formula (I-i-115), and X 11115 represents a group selected from a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.) As the compound represented by the general formula (IB), the following general formula (IB-i-115)

Figure 2019035408
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(式中、R21115は一般式(I−i−115)と同じ意味を表し、X21115はジヒドロキシボリル基又は4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基を表す。)で表される化合物が特に好ましい。(Wherein, R 21115 represents the same meaning as in formula (I-i-115), and X 21115 represents a dihydroxyboryl group or 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane-2- A compound represented by the following formula: is particularly preferable.

一般式(I)で表される化合物として具体的には、下記の一般式(I−E−1)から一般式(I−E−360)   Specific examples of the compound represented by the general formula (I) include compounds represented by the following general formulas (IE-1) to (IE-360)

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(式中、R1Eは炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基又は炭素原子数2から6の直鎖状アルケニル基を表し、R2Eは炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基、炭素原子数1から5の直鎖状アルコキシ基、炭素原子数2から6の直鎖状アルケニル基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。)で表される化合物が好ましい。(Wherein, R 1E represents a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a linear alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, and R 2E represents a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.) A linear alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a linear alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms or a linear alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms.) preferable.

一般式(IA)で表される化合物として具体的には、下記の一般式(IA−E−1)から一般式(IA−E−180)   Specific examples of the compound represented by the general formula (IA) include compounds represented by the following general formulas (IA-E-1) to (IA-E-180)

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(式中、R1Eは炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基又は炭素原子数2から6の直鎖状アルケニル基を表し、X1Eは塩素、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す。)で表される化合物が好ましい。(Wherein, R 1E represents a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a linear alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, and X 1E represents chlorine, bromine atom, iodine atom or trifluoromethanesulfonyloxy) Represents a group selected from groups).

一般式(IB)で表される化合物として具体的には、下記の一般式(IB−E−1)から一般式(IB−E−15)   Specific examples of the compound represented by the general formula (IB) include compounds represented by the following general formulas (IB-E-1) to (IB-E-15)

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(式中、R2Eは炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基、炭素原子数1から5の直鎖状アルコキシ基、炭素原子数2から6の直鎖状アルケニル基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニルオキシ基を表し、X2Eはジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から5の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から10の環状アルコキシボリル基から選ばれる基から選ばれる基を表す。)で表される化合物が好ましい。(Wherein, R 2E is a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a linear alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a linear alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms or 2 carbon atoms. To 5 represents a linear alkenyloxy group, and X 2E is selected from a dihydroxyboryl group, a linear or branched alkoxyboryl group having 2 to 5 carbon atoms and a cyclic alkoxyboryl group having 1 to 10 carbon atoms. Represents a group selected from groups).

一般式(I)で表される化合物としてより具体的には、下記の式(I−1)から式(I−270)   More specifically, as the compound represented by the general formula (I), the compounds represented by the following formulas (I-1) to (I-270)

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で表される化合物が好ましい。 The compound represented by is preferred.

上記の化合物(ia)と化合物(ib)との反応としては、遷移金属化合物を使用する方法が好ましい。遷移金属化合物としては、第8族から第11族元素を含む化合物であることが好ましく、鉄、ルテニウム、オスミウム、コバルト、ロジウム、イリジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、銀又は金を含む化合物であることがより好ましく、収率、入手容易さ及びコストの観点から、鉄、ニッケル、パラジウム又は銅を含む化合物であることが特に好ましい。鉄を含む化合物として具体的には、トリス(2,4−ペンタンジオナト)鉄(III)、トリス(ヘキサフルオロアセチルアセトナト)鉄(III)、酢酸鉄(II)、ステアリン酸鉄(III)、トリス(トリフルオロ−2,4−ペンタンジオナト)鉄(III)、トリス(ジベンゾイルメタナト)鉄(III)、トリカルボニル(シクロオクタテトラエン)鉄、ペンタカルボニル鉄、ノナカルボニル二鉄、ドデカカルボニル三鉄、塩化鉄(II)、塩化鉄(III)、1,2−フェニレンビス[ジフェニル]ホスフィン鉄錯体、シクロペンタジエニル鉄(II)ジカルボニルダイマー、硝酸鉄(III)、鉄、トリフルオロメタンスルホン酸鉄(II)、トリフルオロメタンスルホン酸鉄(III)、p−トルエンスルホン酸鉄(III)、硫酸アンモニウム鉄(II)、硫酸鉄(II)、硫酸鉄(III)アンモニウム、臭化鉄(II)、臭化鉄(III)、鉄(III)アセチルアセトナート、鉄(III)トリフルオロアセチルアセトナート、フッ化鉄(III)、フェロセン誘導体等が挙げられる。ニッケルを含む化合物として具体的には、[1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]ニッケル(II)ジクロリド、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケル(II)ジクロリド、[1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン]ニッケル(II)ジクロリド、[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]ニッケル(II)ジクロリド、ビス(1,5−シクロオクタジエン)ニッケル(0)、[1,3−ビス(2,6−ジイソプロピルフェニル)イミダゾール−2−イリデン]トリフェニルホスフィンニッケル(II)ジクロリド、ブロモ[(2,6−ピリジンジイル)ビス(3−メチル−1−イミダゾリル−2−イリデン)]ニッケルブロミド、ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)ニッケル(II)ジクロリド、クロロビス[ジシクロヘキシル(フェニル)ホスフィノ](o−トリル)ニッケル(II)、ビス(2,4−ペンタンジオナト)ニッケル(II)、塩化ニッケル(II)、硝酸ニッケル(II)、ニッケル、ニッケル(II)アセチルアセトナート、[1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン]ジクロロニッケル(II)、[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]ジクロロニッケル(II)、[1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン]ジクロロニッケル(II)、ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケル(II)ジクロリド、フッ化ニッケル(II)、ヘキサフルオロニッケル(IV)酸カリウム、ヨウ化ニッケル(II)、硫酸ニッケル(II)、塩化ニッケル(II)エチレングリコールジメチルエーテル錯体、臭化ニッケル(II)、酢酸ニッケル(II)等が挙げられる。パラジウムを含む化合物として具体的には、酢酸パラジウム(II)、アリルパラジウム(II)クロリド(ダイマー)、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド、ビス(ベンゾニトリル)パラジウム(II)ジクロリド、ビス(アセトニトリル)パラジウム(II)ジクロリド、[1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン]パラジウム(II)ジクロリド、ビス(2,4−ペンタンジオナト)パラジウム(II)、ビス(トリ−o−トリルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド、ビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)ジアセタート、ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)パラジウム(II)ジクロリド、[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリド ジクロロメタン付加物、[1,1’−ビス(ジ−tert−ブチルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリド、ビス(トリ−tert−ブチルホスフィン)パラジウム(0)、ビス[1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン]パラジウム(0)、ビス[ジ−tert−ブチル(4−ジメチルアミノフェニル)ホスフィン]パラジウム(0)、クロロ[[1,3−ビス(2,6−ジイソプロピルフェニル)イミダゾール−2−イリデン](N,N−ジメチルベンジルアミン)パラジウム(II)]、クロロ[[1,3−ビス(2,6−ジイソプロピルフェニル)イミダゾール−2−イリデン](アセトアニリド)パラジウム(II)]、クロロ[[1,3−ビス(2,6−ジイソプロピルフェニル)イミダゾール−2−イリデン](N,N−ジメチル−3,5−ジメトキシベンジルアミン)パラジウム(II)]、クロロ[(トリ−tert−ブチルホスフィン)−2−(2−アミノビフェニル)]パラジウム(II)、[ジ−tert−ブチル(クロロ)ホスフィン]パラジウム(II)ジクロリド (ダイマー)、二水素ジ−μ−クロロテトラキス(ジ−tert−ブチルホスフィナイト)ジパラダート、ジ−μ−クロロビス[5−クロロ−2−[(4−クロロフェニル)(ヒドロキシイミノ)メチル]フェニル]パラジウム(II)ダイマー、ジ−μ−クロロビス[5−ヒドロキシ−2−[1−(ヒドロキシイミノ)エチル]フェニル]パラジウム(II)ダイマー、ジ−μ−クロロビス[2−[(ジメチルアミノ)メチル]フェニル−C,N]ジパラジウム(II)、ジ−μ−クロロビス[2−[(ジメチルアミノ)メチル]−4,6−ジメトキシフェニル−C,N]ジパラジウム(II)、ジ−μ−クロロビス(2’−アミノ−1,1’−ビフェニル−2−イル−C,N)ジパラジウム(II)、塩化パラジウム(II)、パラジウム、パラジウム/炭素、パラジウム(II)(π−シンナミル)クロリド(ダイマー)、パラジウム/アルミナ、テトラクロロパラジウム(II)酸ナトリウム、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)、テトラキス(アセトニトリル)パラジウム(II)ビス(トリフルオロメタンスルホナート)、(エチレンジアミン)パラジウム(II)クロリド、クロロ[(1,2,5,6−η)−1,5−シクロオクタジエン](2,2−ジメチルプロピル)パラジウム、クロロ(1,5−シクロオクタジエン)メチルパラジウム(II)、ジクロロ(1,5−シクロオクタジエン)パラジウム(II)、ジクロロビス(トリシクロヘキシルホスフィン)パラジウム(II)、トリス(ジベンジリデンアセトン)ジパラジウム(0)、トリフルオロ酢酸パラジウム(II)、パラジウム(II)アセチルアセトナート、1,1’−ビス(ジイソプロピルホスフィノ)フェロセンパラジウムジクロリド、ビス[(ジシクロヘキシル)(4−ジメチルアミノフェニル)ホスフィン]塩化パラジウム(II)、[1,1’−ビス(ジシクロヘキシルホスフィノ)フェロセン]ジクロロパラジウム(II)、[1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン]ジクロロパラジウム(II)、[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]ジクロロパラジウム(II)、[1,1’−ビス(ジ−tert−ブチルホスフィノ)フェロセン]ジクロロパラジウム(II)、ビス(トリシクロヘキシルホスフィン)パラジウム(0)、塩化パラジウム(II)、硝酸パラジウム(II)、硫酸パラジウム(II)、臭化パラジウム(II)、フッ化パラジウム(II)等が挙げられる。銅を含む化合物として具体的には、酢酸銅(I)、ビス(1,3−プロパンジアミン)銅(II)ジクロリド、ビス(8−キノリノラト)銅(II)、ビス(2,4−ペンタンジオナト)銅(II)、シアン化銅(I)、酢酸銅(II)、テトラフルオロほう酸銅(II)、ジ−μ−ヒドロキソ−ビス[(N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン)銅(II)]クロリド、ジクロロ(1,10−フェナントロリン)銅(II)、テトラクロロ銅(II)ジリチウム、トリフルオロメタンスルホン酸銅(II)、トリフルオロメタンスルホン酸銅(I) ベンゼン コンプレックス、テトラキス(アセトニトリル)銅(I)ヘキサフルオロホスファート、テトラキス(アセトニトリル)銅(I)テトラフルオロボラート、塩化銅(I)、塩化銅(II)、臭化銅(I)、硝酸銅(II)、銅、フルオロトリス(トリフェニルホスフィン)銅(I)、ヨウ化銅(I)、硫酸銅(II)、臭化銅(II)等が挙げられる。これらの化合物は水和物であっても良く、誘導化しても良い。   As the reaction between the compound (ia) and the compound (ib), a method using a transition metal compound is preferable. The transition metal compound is preferably a compound containing a Group 8 to Group 11 element, and is a compound containing iron, ruthenium, osmium, cobalt, rhodium, iridium, nickel, palladium, platinum, copper, silver or gold. More preferably, from the viewpoint of yield, availability and cost, a compound containing iron, nickel, palladium or copper is particularly preferable. Specific examples of iron-containing compounds include tris (2,4-pentanedionato) iron (III), tris (hexafluoroacetylacetonato) iron (III), iron (II) acetate, and iron (III) stearate. , Tris (trifluoro-2,4-pentanedionato) iron (III), tris (dibenzoylmethanato) iron (III), tricarbonyl (cyclooctatetraene) iron, pentacarbonyliron, nonacarbonyldiiron, dodeca Iron (II) chloride, iron (III) chloride, iron (III) chloride, 1,2-phenylenebis [diphenyl] phosphine iron complex, cyclopentadienyliron (II) dicarbonyl dimer, iron (III) nitrate, iron, trifluoro Iron (II) methanesulfonate, Iron (III) trifluoromethanesulfonate, Iron (III) p-toluenesulfonate , Ammonium iron (II) sulfate, iron (II) sulfate, ammonium iron (III) sulfate, iron (II) bromide, iron (III) bromide, iron (III) acetylacetonate, iron (III) trifluoroacetylacetate Nart, iron (III) fluoride, ferrocene derivatives and the like. Specific examples of the compound containing nickel include [1,3-bis (diphenylphosphino) propane] nickel (II) dichloride, bis (triphenylphosphine) nickel (II) dichloride, and [1,2-bis (diphenylphosphino) dichloride. Fino) ethane] nickel (II) dichloride, [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] nickel (II) dichloride, bis (1,5-cyclooctadiene) nickel (0), [1,3- Bis (2,6-diisopropylphenyl) imidazole-2-ylidene] triphenylphosphine nickel (II) dichloride, bromo [(2,6-pyridinediyl) bis (3-methyl-1-imidazolyl-2-ylidene)] nickel Bromide, bis (tricyclohexylphosphine) nickel (II) dichloride , Chlorobis [dicyclohexyl (phenyl) phosphino] (o-tolyl) nickel (II), bis (2,4-pentanedionato) nickel (II), nickel chloride (II), nickel (II) nitrate, nickel, nickel ( II) Acetylacetonate, [1,2-bis (diphenylphosphino) ethane] dichloronickel (II), [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] dichloronickel (II), [1,3- Bis (diphenylphosphino) propane] dichloronickel (II), bis (triphenylphosphine) nickel (II) dichloride, nickel (II) fluoride, potassium hexafluoronickel (IV), nickel (II) iodide, sulfuric acid Nickel (II), Nickel (II) chloride Ether complex, nickel bromide (II), nickel (II) acetate, and the like. Specific examples of the compound containing palladium include palladium (II) acetate, allyl palladium (II) chloride (dimer), bis (dibenzylideneacetone) palladium (0), bis (triphenylphosphine) palladium (II) dichloride, (Benzonitrile) palladium (II) dichloride, bis (acetonitrile) palladium (II) dichloride, [1,2-bis (diphenylphosphino) ethane] palladium (II) dichloride, bis (2,4-pentanedionato) palladium (II), bis (tri-o-tolylphosphine) palladium (II) dichloride, bis (triphenylphosphine) palladium (II) diacetate, bis (tricyclohexylphosphine) palladium (II) dichloride, [1,1′-bis (Gife Ruphosphino) ferrocene] palladium (II) dichloride dichloromethane adduct, [1,1′-bis (di-tert-butylphosphino) ferrocene] palladium (II) dichloride, bis (tri-tert-butylphosphine) palladium (0) , Bis [1,2-bis (diphenylphosphino) ethane] palladium (0), bis [di-tert-butyl (4-dimethylaminophenyl) phosphine] palladium (0), chloro [[1,3-bis ( 2,6-diisopropylphenyl) imidazole-2-ylidene] (N, N-dimethylbenzylamine) palladium (II)], chloro [[1,3-bis (2,6-diisopropylphenyl) imidazole-2-ylidene] (Acetanilide) palladium (II)], chloro [[1,3-bi (2,6-diisopropylphenyl) imidazole-2-ylidene] (N, N-dimethyl-3,5-dimethoxybenzylamine) palladium (II)], chloro [(tri-tert-butylphosphine) -2- ( 2-aminobiphenyl)] palladium (II), [di-tert-butyl (chloro) phosphine] palladium (II) dichloride (dimer), dihydrogen di-μ-chlorotetrakis (di-tert-butylphosphinite) diparadate Di-μ-chlorobis [5-chloro-2-[(4-chlorophenyl) (hydroxyimino) methyl] phenyl] palladium (II) dimer, di-μ-chlorobis [5-hydroxy-2- [1- (hydroxy Imino) ethyl] phenyl] palladium (II) dimer, di-μ-chlorobis [2- [ (Dimethylamino) methyl] phenyl-C, N] dipalladium (II), di-μ-chlorobis [2-[(dimethylamino) methyl] -4,6-dimethoxyphenyl-C, N] dipalladium (II) , Di-μ-chlorobis (2′-amino-1,1′-biphenyl-2-yl-C, N) dipalladium (II), palladium (II) chloride, palladium, palladium / carbon, palladium (II) ( π-cinnamyl) chloride (dimer), palladium / alumina, sodium tetrachloropalladium (II), tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0), tetrakis (acetonitrile) palladium (II) bis (trifluoromethanesulfonate), (ethylenediamine) para Ium (II) chloride, chloro [(1,2,5,6-η) -1,5-cyclooctadiene] (2,2-dimethylpropyl) palladium, chloro (1,5-cyclooctadiene) methylpalladium (II), dichloro (1,5-cyclooctadiene) palladium (II), dichlorobis (tricyclohexylphosphine) palladium (II), tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0), palladium (II) trifluoroacetate, Palladium (II) acetylacetonate, 1,1'-bis (diisopropylphosphino) ferrocenepalladium dichloride, bis [(dicyclohexyl) (4-dimethylaminophenyl) phosphine] palladium (II) chloride, [1,1'-bis (Dicyclohexylphosphino) ferrocene] dichloro Palladium (II), [1,2-bis (diphenylphosphino) ethane] dichloropalladium (II), [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] dichloropalladium (II), [1,1′- Bis (di-tert-butylphosphino) ferrocene] dichloropalladium (II), bis (tricyclohexylphosphine) palladium (0), palladium (II) chloride, palladium (II) nitrate, palladium (II) sulfate, palladium bromide (II), palladium (II) fluoride and the like. Specific examples of the copper-containing compound include copper (I) acetate, bis (1,3-propanediamine) copper (II) dichloride, bis (8-quinolinolato) copper (II), and bis (2,4-pentanedio). Nato) copper (II), copper (I) cyanide, copper (II) acetate, copper (II) tetrafluoroborate, di-μ-hydroxo-bis [(N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine ) Copper (II)] chloride, dichloro (1,10-phenanthroline) copper (II), tetralithium copper (II) dilithium, copper (II) trifluoromethanesulfonate, copper (I) trifluoromethanesulfonate benzene complex, tetrakis (Acetonitrile) copper (I) hexafluorophosphate, tetrakis (acetonitrile) copper (I) tetrafluoroborate, copper chloride (I Copper (II) chloride, copper (I) bromide, copper (II) nitrate, copper, fluorotris (triphenylphosphine) copper (I), copper (I) iodide, copper (II) sulfate, copper bromide (II) and the like. These compounds may be hydrates or may be derivatized.

遷移金属化合物の添加量としては、コスト、収率及び精製の容易さの観点から、化合物(ia)に対して0.00001当量から10当量であることが好ましく、0.0001当量から1当量であることがより好ましく、0.001当量から0.5当量であることがさらに好ましく、0.01当量から0.1当量であることが特に好ましい。また、化合物(ib)に対して0.00001当量から10当量であることが好ましく、0.0001当量から1当量であることがより好ましく、0.001当量から0.5当量であることがさらに好ましく、0.01当量から0.1当量であることが特に好ましい。   The addition amount of the transition metal compound is preferably from 0.00001 equivalent to 10 equivalents, more preferably from 0.0001 equivalent to 1 equivalent, based on the compound (ia) from the viewpoints of cost, yield, and ease of purification. More preferably, it is more preferably 0.001 to 0.5 equivalent, and particularly preferably 0.01 to 0.1 equivalent. Further, it is preferably from 0.00001 equivalent to 10 equivalent, more preferably from 0.0001 equivalent to 1 equivalent, and more preferably from 0.001 equivalent to 0.5 equivalent based on compound (ib). It is particularly preferably 0.01 to 0.1 equivalent.

化合物(i)の製造において、化合物(ib)の添加量としては、コスト、収率及び精製の容易さの観点から、化合物(ia)に対して0.1当量から10当量であることが好ましく、0.5当量から2当量であることがより好ましく、0.8当量から1.2当量であることがさらに好ましく、0.9当量から1.1当量であることが特に好ましい。   In the production of the compound (i), the addition amount of the compound (ib) is preferably 0.1 equivalent to 10 equivalents to the compound (ia) from the viewpoint of cost, yield, and ease of purification. , More preferably from 0.5 to 2 equivalents, even more preferably from 0.8 to 1.2 equivalents, and particularly preferably from 0.9 to 1.1 equivalents.

化合物(i)の製造において、化合物(ia)、化合物(ib)及び遷移金属化合物の混合順序としては、反応温度の制御、作業性、収率及び得られる化合物の純度の観点から、化合物(ia)と遷移金属化合物を含有する混合物に対し、化合物(ib)を加えるか、化合物(ia)と化合物(ib)を含有する混合物に対し、遷移金属化合物を加えるか、化合物(ib)と遷移金属化合物を含有する混合物に対し、化合物(ia)を加えるか、遷移金属化合物に対し、化合物(ia)と化合物(ib)の混合物を加えることが好ましく、化合物(ia)と遷移金属化合物を含有する混合物に対し、化合物(ib)を加えるか、化合物(ia)と化合物(ib)を含有する混合物に対し、遷移金属化合物を加えるか、遷移金属化合物に対し、化合物(ia)と化合物(ib)の混合物を加えることがより好ましく、化合物(ia)と遷移金属化合物を含有する混合物に対し、化合物(ib)を加えることが特に好ましい。   In the production of the compound (i), the mixing order of the compound (ia), the compound (ib) and the transition metal compound is selected from the viewpoints of control of the reaction temperature, workability, yield, and purity of the obtained compound. ) And a transition metal compound, a compound (ib) is added, or to a mixture containing a compound (ia) and a compound (ib), a transition metal compound is added, or a compound (ib) and a transition metal are added. It is preferable to add the compound (ia) to the mixture containing the compound, or to add the mixture of the compound (ia) and the compound (ib) to the transition metal compound, and to contain the compound (ia) and the transition metal compound. The compound (ib) is added to the mixture, or the transition metal compound is added to the mixture containing the compound (ia) and the compound (ib), or Compound (ia) and compound mixture is more preferable to add the (ib), to a mixture containing the compound (ia) a transition metal compound, it is particularly preferable to add a compound (ib).

化合物(i)の製造において、さらに塩基を使用することが好ましい。塩基としては無機塩基又は有機塩基であることが好ましい。無機塩基としては金属水酸化物、金属酢酸塩、金属ギ酸塩、金属シュウ酸塩、金属リン酸塩、金属リン酸水素塩、金属炭酸塩、金属炭酸水素塩、アンモニア等が好ましく、金属としてはアルカリ金属、アルカリ土類金属及びマグネシウム等が好ましく、具体的には炭酸カリウム、リン酸カリウム、アンモニア、水酸化アルミニウム、バリウム水和物、苛性バライト、水酸化バリウム、水酸化ビスマス、水酸化カドミウム、水酸化セシウム、水酸化カルシウム、水酸化セリウム、水酸化クロム、水酸化コバルト、水酸化銅、第二鉄水和物、水酸化鉄、水酸化リチウム、水酸化マグネシウム、水酸化マンガン、水酸化ニッケル、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、次亜塩素酸ナトリウム、水酸化ストロンチウム、水酸化タリウム、水酸化トリウム、酢酸ナトリウム、硫酸アルミニウムナトリウム、リン酸アンモニウムナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、酢酸カルシウム、炭酸カルシウム、ギ酸カルシウム、酢酸タリウム、酢酸カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カルシウム、リン酸マグネシウム、炭酸水素カリウム、ギ酸カリウム、シュウ酸カリウム、炭酸水素アンモニウム、炭酸アンモニウム、ギ酸アンモニウム、硫酸アンモニウムが挙げられる。有機塩基としては第一級アミン、第二級アミン、第三級アミン、芳香族アミン及びそれらの塩が好ましく、具体的にはメチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、イソプロピルアミン、ジメチルアミン、N−エチルメチルアミン、N−メチルプロピルアミン、N−ブチルメチルアミン、N−メチルペンチルアミン、ジエチルアミン、N−エチルプロピルアミン、N−ブチルエチルアミン、N−エチルペンチルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、N,N−ジイソプロピルメチルアミン、N,N−ジイソプロピルエチルアミン、トリブチルアミン、ピロリジン、ピペリジン、N−メチルピロリジン、N−メチルピペリジン、モルホリン、ピリジン、N−メチルピリジン、2−クロロピリジン、2−ブロモピリジン、ピリミジン、キノリン、アクリジン、N,N−ジメチル−4−アミノピリジン、ピコリン、ビピリジン、2,6−ルチジン、クロロクロム酸ピリジニウム、ピリジニウムパラトルエンスルホナートが挙げられる。   In the production of compound (i), it is preferable to further use a base. The base is preferably an inorganic base or an organic base. As the inorganic base, metal hydroxide, metal acetate, metal formate, metal oxalate, metal phosphate, metal hydrogen phosphate, metal carbonate, metal bicarbonate, ammonia and the like are preferable. Alkali metals, alkaline earth metals and magnesium are preferred, specifically potassium carbonate, potassium phosphate, ammonia, aluminum hydroxide, barium hydrate, caustic barite, barium hydroxide, bismuth hydroxide, cadmium hydroxide, Cesium hydroxide, calcium hydroxide, cerium hydroxide, chromium hydroxide, cobalt hydroxide, copper hydroxide, ferric hydrate, iron hydroxide, lithium hydroxide, magnesium hydroxide, manganese hydroxide, nickel hydroxide , Potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium hypochlorite, strontium hydroxide, thallium hydroxide, triuium hydroxide , Sodium acetate, sodium aluminum sulfate, sodium ammonium phosphate, sodium hydrogen carbonate, sodium carbonate, calcium acetate, calcium carbonate, calcium formate, thallium acetate, potassium acetate, sodium phosphate, calcium phosphate, magnesium phosphate, potassium hydrogen carbonate, formic acid Potassium, potassium oxalate, ammonium bicarbonate, ammonium carbonate, ammonium formate, ammonium sulfate are exemplified. As the organic base, primary amines, secondary amines, tertiary amines, aromatic amines and salts thereof are preferable, and specifically, methylamine, ethylamine, propylamine, butylamine, pentylamine, isopropylamine, dimethyl Amine, N-ethylmethylamine, N-methylpropylamine, N-butylmethylamine, N-methylpentylamine, diethylamine, N-ethylpropylamine, N-butylethylamine, N-ethylpentylamine, dipropylamine, diisopropyl Amine, trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, triisopropylamine, N, N-diisopropylmethylamine, N, N-diisopropylethylamine, tributylamine, pyrrolidine, piperidine, N-methylpyrrolidine, N Methylpiperidine, morpholine, pyridine, N-methylpyridine, 2-chloropyridine, 2-bromopyridine, pyrimidine, quinoline, acridine, N, N-dimethyl-4-aminopyridine, picoline, bipyridine, 2,6-lutidine, chloro Examples include pyridinium chromate and pyridinium paratoluenesulfonate.

化合物(i)の製造において、塩基の添加量としては、コスト、収率及び精製の容易さの観点から、化合物(ia)に対して0.1当量から20当量であることが好ましく、0.5当量から5当量であることがより好ましく、0.8当量から3当量であることがさらに好ましく、1当量から2当量であることが特に好ましい。また、塩基を溶媒として使用しても良く、塩基を溶媒の一部として使用しても良い。   In the production of compound (i), the amount of the base to be added is preferably 0.1 equivalent to 20 equivalents relative to compound (ia) from the viewpoint of cost, yield and ease of purification. It is more preferably from 5 to 5 equivalents, further preferably from 0.8 to 3 equivalents, and particularly preferably from 1 to 2 equivalents. Further, a base may be used as a solvent, or a base may be used as a part of the solvent.

化合物(i)の製造において、収率及び得られる化合物の純度の観点から、反応は空気下又は不活性ガス雰囲気下で行われることが好ましく、不活性ガス雰囲気下で行われることが特に好ましい。不活性ガスとしては例えば、窒素及びアルゴン等が挙げられる。   In the production of the compound (i), from the viewpoint of the yield and the purity of the obtained compound, the reaction is preferably carried out under air or under an inert gas atmosphere, and particularly preferably under an inert gas atmosphere. Examples of the inert gas include nitrogen and argon.

化合物(i)の製造において、反応温度の制御、作業性、収率及び得られる化合物の純度の観点から、反応には溶媒を用いることが好ましく、有機溶媒及び/又は水を用いることがより好ましく、有機溶媒又は有機溶媒と水の混合物を用いることが特に好ましい。有機溶媒としては例えば、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、芳香族アミン、脂肪族アミン、エーテル、アルコール、ハロゲン系溶媒、エステル、ケトン、アミド等が挙げられる。有機溶媒としては具体的には、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、1,2−ジクロロエチレン、1,1,2,2−テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、1−クロロブタン、二硫化炭素、アセトン、アセトニトリル、ベンゾニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ジエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、o−ジクロロベンゼン、キシレン、o−キシレン、p−キシレン、m−キシレン、クロロベンゼン、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、酢酸イソアミル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸2−メトキシエチル、ヘキサメチルリン酸トリアミド、トリス(ジメチルアミノ)ホスフィン、シクロヘキサノン、1,4−ジオキサン、ジクロロメタン、スチレン、テトラクロロエチレン、テトラヒドロフラン、ピリジン、1−メチル−2−ピロリジノン、1,1,1−トリクロロエタン、トルエン、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン、シクロペンタン、ヘプタン、ベンゼン、メチルイソブチルケトン、tert−ブチルメチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルシクロヘキサノン、メチルブチルケトン、ジエチルケトン、ガソリン、コールタールナフサ、石油エーテル、石油ナフサ、石油ベンジン、テレビン油、ミネラルスピリット等が挙げられる。有機溶媒と水の混合物を用いる場合、相関移動触媒を添加しても良い。相間移動触媒としては例えば、ベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、ベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、ポリオキシエチレン(10)オクチルフェニルエーテル[Triton X−100]、ポリオキシエチレン(20)ソルビタンモノパルミタート[Tween 40]、ソルビタンモノパルミタート[Span 40]等が挙げられる。   In the production of the compound (i), a solvent is preferably used for the reaction, and an organic solvent and / or water is more preferably used from the viewpoint of control of the reaction temperature, workability, yield, and purity of the obtained compound. It is particularly preferable to use an organic solvent or a mixture of an organic solvent and water. Examples of the organic solvent include aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, aromatic amines, aliphatic amines, ethers, alcohols, halogenated solvents, esters, ketones, amides, and the like. As the organic solvent, specifically, chloroform, carbon tetrachloride, dichloromethane, 1,2-dichloroethane, 1,2-dichloroethylene, 1,1,2,2-tetrachloroethane, trichloroethylene, 1-chlorobutane, carbon disulfide, Acetone, acetonitrile, benzonitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, diethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, Diethylene glycol diethyl ether, o-dichlorobenzene, xylene, o-xylene, p-xylene, m-xylene, chlorobenzene, isobutyl acetate, isopropyl acetate , Isoamyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, propyl acetate, pentyl acetate, methyl acetate, 2-methoxyethyl acetate, hexamethylphosphoric triamide, tris (dimethylamino) phosphine, cyclohexanone, 1,4-dioxane, dichloromethane, styrene , Tetrachloroethylene, tetrahydrofuran, pyridine, 1-methyl-2-pyrrolidinone, 1,1,1-trichloroethane, toluene, hexane, pentane, cyclohexane, cyclopentane, heptane, benzene, methyl isobutyl ketone, tert-butyl methyl ether, methyl ethyl ketone, Methyl cyclohexanone, methyl butyl ketone, diethyl ketone, gasoline, coal tar naphtha, petroleum ether, petroleum naphtha, petroleum benzine, turpentine, mineral spirits Doors and the like. When a mixture of an organic solvent and water is used, a phase transfer catalyst may be added. Examples of the phase transfer catalyst include benzyltrimethylammonium chloride, benzyltrimethylammonium bromide, polyoxyethylene (10) octyl phenyl ether [Triton X-100], polyoxyethylene (20) sorbitan monopalmitate [Tween 40], and sorbitan mono. Palmitate [Span 40] and the like.

化合物(i)の製造において、反応温度の制御、作業性、時間、収率及び得られる化合物の純度の観点から、反応温度は−20℃から250℃であることが好ましく、0℃から200℃であることがより好ましく、室温から150℃であることがさらに好ましく、50℃から130℃であることが特に好ましい。   In the production of the compound (i), the reaction temperature is preferably from −20 ° C. to 250 ° C., and from 0 ° C. to 200 ° C., from the viewpoint of control of the reaction temperature, workability, time, yield, and purity of the obtained compound. The temperature is more preferably from room temperature to 150 ° C., and particularly preferably from 50 ° C. to 130 ° C.

化合物(i)の製造において、反応後、反応液と貧溶媒を混合し目的物を固体として析出させ、目的物の粗体を得るか、反応後、反応液と水を混合し必要に応じて有機溶媒を加え分液処理した後に溶媒を留去し、目的物の粗体を得ても良い。   In the production of compound (i), after the reaction, the reaction solution is mixed with a poor solvent to precipitate the desired product as a solid, and a crude product of the desired product is obtained. After adding an organic solvent and performing liquid separation treatment, the solvent may be distilled off to obtain a crude product of the desired product.

粗体として得た化合物(i)について、さらに精製を行うことが好ましい。精製工程において、精製剤を用いることが好ましい。精製剤としては例えば、シリカゲル、アルミナ、活性炭、活性白土、セライト、ゼオライト、メソポーラスシリカ、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン、備長炭、木炭、グラフェン、イオン交換樹脂、酸性白土、二酸化ケイ素、珪藻土、パーライト、セルロース、有機ポリマー、多孔質ゲル等が挙げられる。作業性、収率及び得られる化合物の純度の観点から、シリカゲル及び/又はアルミナを用いることが好ましく、シリカゲルを用いることが特に好ましい。また、さらに再結晶を行っても良い。   It is preferable to further purify the compound (i) obtained as a crude product. In the purification step, it is preferable to use a purification agent. Examples of the purifying agent include silica gel, alumina, activated carbon, activated clay, celite, zeolite, mesoporous silica, carbon nanotube, carbon nanohorn, bincho charcoal, charcoal, graphene, ion exchange resin, acid clay, silicon dioxide, diatomaceous earth, perlite, and cellulose. , Organic polymers, porous gels and the like. From the viewpoint of workability, yield, and purity of the obtained compound, it is preferable to use silica gel and / or alumina, and it is particularly preferable to use silica gel. Further, recrystallization may be further performed.

化合物(i)の製造において、有機溶媒を使用した場合、有機溶媒を減圧下濃縮することが好ましい。   When an organic solvent is used in the production of compound (i), the organic solvent is preferably concentrated under reduced pressure.

化合物(i)の純度の決定方法としては、液体クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー、ゲル浸透クロマトグラフィー、核磁気共鳴分光法等が挙げられる。化合物(i)の純度としては、化合物の品質、液晶パネルを製造した場合のディスプレイ製品の品質及び化合物の製造コストとのバランスの観点から、液体クロマトグラフィー(UV検出器、210nm)又はガスクロマトグラフィー(FID検出器)を使用して、95.00%から100.00%であることが好ましく、98.00%から100.00%であることがより好ましく、99.00%から100.00%であることがさらに好ましく、99.50%から99.99%であることがさらにより好ましく、99.90%から99.99%であることが特に好ましい。   Methods for determining the purity of compound (i) include liquid chromatography, gas chromatography, gel permeation chromatography, nuclear magnetic resonance spectroscopy, and the like. The purity of the compound (i) is selected from liquid chromatography (UV detector, 210 nm) or gas chromatography in view of the balance between the quality of the compound, the quality of the display product when a liquid crystal panel is manufactured, and the manufacturing cost of the compound. (FID detector), it is preferably from 95.00% to 100.00%, more preferably from 98.00% to 100.00%, and more preferably from 99.00% to 100.00%. Is still more preferable, and it is still more preferable that it is 99.50% to 99.99%, and it is especially preferable that it is 99.90% to 99.99%.

化合物(i)の金属不純物含有量の決定方法としては、誘導結合プラズマ質量分析法(ICP−MS)が好ましい。得られた化合物(i)をn型液晶組成物に添加し液晶パネルを製造した場合の焼き付きの起こりにくさの観点から、化合物(i)の金属不純物含有量としては、誘導結合プラズマ質量分析法(ICP−MS)を使用して、0.00pptから1.00ppmであることが好ましく、0.00pptから100ppbであることがより好ましく、0.01pptから10.0ppbであることがさらに好ましく、0.01pptから1.00ppbであることがさらにより好ましく、0.01pptから100pptであることが特に好ましい。   Inductively coupled plasma mass spectrometry (ICP-MS) is preferred as a method for determining the metal impurity content of compound (i). In view of the difficulty of image sticking when a liquid crystal panel is manufactured by adding the obtained compound (i) to an n-type liquid crystal composition, the content of metal impurities in the compound (i) is determined by inductively coupled plasma mass spectrometry. Using (ICP-MS), the content is preferably from 0.00 ppt to 1.00 ppm, more preferably from 0.00 ppt to 100 ppb, still more preferably from 0.01 ppt to 10.0 ppb, and It is still more preferably from 0.01 ppt to 1.00 ppb, particularly preferably from 0.01 ppt to 100 ppt.

化合物(i)、化合物(ia)、化合物(ib)、一般式(X1)で表される化合物、一般式(X2)で表される化合物及び一般式(X1)で表される化合物に含まれる1,4−シクロヘキシレン基、テトラヒドロピラン−2,5−ジイル基及び1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基は、シス体及びトランス体のいずれか一方のみであっても、両方の混合物であっても良いが、液晶性の観点からトランス体が主成分であることが好ましく、トランス体の割合が90%以上であることがより好ましく、トランス体の割合が95%以上であることがさらに好ましく、トランス体の割合が99%以上であることがさらにより好ましく、トランス体の割合が99.9%以上であることが特に好ましい。   Included in compound (i), compound (ia), compound (ib), compound represented by general formula (X1), compound represented by general formula (X2) and compound represented by general formula (X1) The 1,4-cyclohexylene group, the tetrahydropyran-2,5-diyl group and the 1,3-dioxane-2,5-diyl group may be either a cis form or a trans form, or a mixture of both. However, from the viewpoint of liquid crystallinity, the trans-form is preferably the main component, the proportion of the trans-form is more preferably 90% or more, and the proportion of the trans-form is 95% or more. More preferably, the ratio of the trans form is even more preferably 99% or more, and particularly preferably, the ratio of the trans form is 99.9% or more.

本願発明の製造方法によって製造された化合物(i)は種々の組成物に添加することが好ましく、液晶組成物に添加することがより好ましい。本願発明の製造方法によって製造された化合物(i)は金属不純物含有量が低いことから、特に組成物中に含まれる金属不純物による表示素子の品質に対する影響が大きいn型液晶組成物に添加することが特に好ましい。   Compound (i) produced by the production method of the present invention is preferably added to various compositions, more preferably to a liquid crystal composition. Since the compound (i) produced by the production method of the present invention has a low metal impurity content, it should be added to an n-type liquid crystal composition in which the metal impurities contained in the composition greatly affect the quality of the display element. Is particularly preferred.

本願発明の製造方法によって製造された化合物(i)をn型液晶組成物に添加する場合、n型液晶組成物には下記一般式(X1)   When the compound (i) produced by the production method of the present invention is added to an n-type liquid crystal composition, the n-type liquid crystal composition has the following general formula (X1)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R及びRは各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、1個の−CH−若しくは隣接していない2個以上の−CH−が各々独立して−O−、−CH=CH−、−CF=CF−又は−C≡C−によって置換されても良い炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、A及びAは各々独立して1,4−フェニレン基又は1,4−シクロヘキシレン基を表すが、これらの基は無置換であるか又は1つ以上の置換基LX1によって置換されても良く、Aが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Aが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、LX1はフッ素原子を表し、Z及びZは各々独立して−OCH−、−CHO−、−CHCH−、−CFO−、−OCF−、−C≡C−又は単結合を表すが、Zが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Zが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、m5及びm6は各々独立して0から3の整数を表すが、m5+m6は0から3の整数を表す。)で表される化合物を含むことが好ましく、上記一般式(X1)で表される化合物としては、下記一般式(X1−E−1)から一般式(X1−E−9)(Wherein, R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, or one —CH 2 — or two or more non-adjacent —CH 2 — —O—, —CH = CH—, —CF = CF— or —C≡C— represents a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted by any one of the alkyl groups. The hydrogen atom may be substituted by a fluorine atom, and A 5 and A 6 each independently represent a 1,4-phenylene group or a 1,4-cyclohexylene group, but these groups are unsubstituted or It may be substituted by one or more substituents L X1 , and when there are a plurality of A 5, they may be the same or different, and when there are a plurality of A 6, they may be the same or different L X1 represents a fluorine atom, Z 5 and Z -OCH 2 6 are each independently -, - CH 2 O -, - CH 2 CH 2 -, - CF 2 O -, - OCF 2 -, - C≡C- or represents a single bond, is Z 5 When a plurality of Z 6 are present, they may be the same or different. When a plurality of Z 6 exist, they may be the same or different, and m5 and m6 are each independently an integer of 0 to 3. Wherein m5 + m6 represents an integer of 0 to 3.), and as the compound represented by the general formula (X1), the following general formula (X1-E-1) From the general formula (X1-E-9)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R3Eは炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基又は炭素原子数2から6の直鎖状アルケニル基を表し、R4Eは炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基、炭素原子数1から5の直鎖状アルコキシ基、炭素原子数2から6の直鎖状アルケニル基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。)で表される化合物がより好ましい。(Wherein, R 3E represents a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a linear alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, and R 4E represents a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.) A straight-chain alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a straight-chain alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms or a straight-chain alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms.) More preferred.

本願発明の製造方法によって製造された化合物(i)をn型液晶組成物に添加する場合、n型液晶組成物には下記一般式(X2)   When the compound (i) produced by the production method of the present invention is added to an n-type liquid crystal composition, the n-type liquid crystal composition has the following general formula (X2)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R及びRは各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、1個の−CH−若しくは隣接していない2個以上の−CH−が各々独立して−O−、−CH=CH−、−CF=CF−又は−C≡C−によって置換されても良い炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、A及びAは各々独立して1,4−フェニレン基又は1,4−シクロヘキシレン基を表すが、これらの基は無置換であるか又は1つ以上の置換基LX2によって置換されても良く、Aが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、LX2はフッ素原子を表し、Zは−OCH−、−CHO−、−CHCH−、−CFO−、−OCF−、−C≡C−又は単結合を表すが、Zが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、m7は各々独立して0から3の整数を表す。)で表される化合物を含むことが好ましく、上記一般式(X2)で表される化合物としては、下記一般式(X2−E−1)から一般式(X2−E−7)(Wherein, R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, or one —CH 2 — or two or more non-adjacent —CH 2 — —O—, —CH = CH—, —CF = CF— or —C≡C— represents a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted by any one of the alkyl groups. The hydrogen atom may be substituted by a fluorine atom, and A 7 and A 8 each independently represent a 1,4-phenylene group or a 1,4-cyclohexylene group, but these groups are unsubstituted or It may be substituted by one or more substituents L X2 , and when A 7 is present in plurals, they may be the same or different, L X2 represents a fluorine atom, and Z 7 represents —OCH 2 —. , -CH 2 O -, - CH 2 CH 2 -, - CF 2 O -, - It represents OCF 2 —, —C≡C— or a single bond, and when a plurality of Z 7 are present, they may be the same or different, and m 7 each independently represents an integer of 0 to 3. The compound represented by the general formula (X2) is preferably a compound represented by the following general formula (X2-E-1).

Figure 2019035408
Figure 2019035408

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R5Eは炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基、炭素原子数1から5の直鎖状アルコキシ基、炭素原子数2から6の直鎖状アルケニル基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニルオキシ基を表し、R6Eは炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基、炭素原子数1から5の直鎖状アルコキシ基、炭素原子数2から6の直鎖状アルケニル基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。)で表される化合物がより好ましい。(Wherein, R 5E is a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a linear alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a linear alkenyl group having 2 to 6 carbon atoms, or 2 carbon atoms) Represents a linear alkenyloxy group having 1 to 5 carbon atoms, and R 6E represents a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a linear alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and a straight chain having 2 to 6 carbon atoms. A alkenyl group or a linear alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms.).

本願発明の製造方法によって製造された化合物(i)をn型液晶組成物に添加する場合、n型液晶組成物には下記一般式(X3)   When the compound (i) produced by the production method of the present invention is added to an n-type liquid crystal composition, the n-type liquid crystal composition has the following general formula (X3)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、Rは各々独立して水素原子、又は、1個の−CH−若しくは隣接していない2個以上の−CH−が各々独立して−O−、−COO−、−OCO−、−CH=CH−、−CF=CF−又は−C≡C−によって置換されても良い炭素原子数1から25の直鎖状又は分岐状アルキル基を表し、Aは1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基又は1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は1つ以上の置換基LX3によって置換されても良く、Aが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、LX3はフッ素原子、又は、1個の−CH−隣接していない2個以上の−CH−が各々独立して−O−によって置換されても良い炭素原子数1から20の直鎖状又は分岐状アルキル基を表し、Zは−OCH−、−CHO−、−CHCH−、−COO−、−OCO−、−COO−CHCH−、−OCO−CHCH−、−CHCH−COO−、−CHCH−OCO−又は単結合を表すが、Zが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、m8は各々独立して0から3の整数を表す。)で表される化合物を含むことが好ましく、上記一般式(X3)で表される化合物としては、下記一般式(X3−E−1)から一般式(X3−E−3)(Wherein, R 7 is each independently a hydrogen atom, or one -CH 2 -or two or more non-adjacent -CH 2 -are each independently -O-, -COO-,- OCO -, - CH = CH - , - CF = CF- or -C≡C- represents a linear or branched alkyl group having 25 good 1 -C be replaced by, a 9 is 1,4 Represents a phenylene group, a 1,4-cyclohexylene group or a 1,3-dioxane-2,5-diyl group, these groups being unsubstituted or substituted by one or more substituents L X3 It is good, if the a 9 there are a plurality thereof may be different even in the same, L X3 is fluorine atom, or one -CH 2 - not adjacent two or more -CH 2 - Each independently has 1 to 20 carbon atoms which may be substituted by -O-. Represents a linear or branched alkyl group, Z 8 is -OCH 2 -, - CH 2 O -, - CH 2 CH 2 -, - COO -, - OCO -, - COO-CH 2 CH 2 -, - Represents OCO-CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 —COO—, —CH 2 CH 2 —OCO— or a single bond, and when a plurality of Z 8 are present, they may be the same or different And m8 each independently represents an integer of 0 to 3.), and the compound represented by the general formula (X3) includes a compound represented by the following general formula (X3-E- From 1) to general formula (X3-E-3)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R7Eは炭素原子数1から20の直鎖状アルキル基を表す。)で表される化合物がより好ましい。(Wherein, R 7E represents a straight-chain alkyl group having 1 to 20 carbon atoms).

以下、本願発明の製造方法によって化合物(i)を得る工程の一例を示す。
(製法1)下記一般式(I−is)で表される化合物の製造
Hereinafter, an example of the step of obtaining the compound (i) by the production method of the present invention will be described.
(Production method 1) Production of compound represented by the following general formula (I-is)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

(式中、R11、R21、A11、A21、A31、A41、Z11、Z21、Z31、Z41、m11、m21、m31及びm41は一般式(I−i)と同じ意味を表し、X11は一般式(IA−i)と同じ意味を表し、X21は一般式(IB−i)と同じ意味を表す。)
一般式(IA−is)で表される化合物を一般式(IB−is)で表される化合物と反応させることにより一般式(I−is)で表される化合物を得ることができる。反応例として例えば金属触媒及び塩基存在下、クロスカップリングさせる方法が挙げられる。金属触媒の具体例としては[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリド、酢酸パラジウム(II)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)等が挙げられる。塩基の具体例としては炭酸カリウム、リン酸カリウム、炭酸セシウム等が挙げられる。反応条件としては例えばMetal−Catalyzed Cross−Coupling Reactions(Armin de Meijere、Francois Diedrich共著、Wiley−VCH)、Palladium Reagents and Catalysts:New Perspectives for the 21st Century(Jiro Tsuji著、Wiley & Sons,Ltd.)、Cross−Coupling Reactions:A Practical Guide(Topics in Current Chemistry)(S.L.Buchwald、K.Fugami、T.Hiyama、M.Kosugi、M.Miura、N.Miyaura、A.R.Muci、M.Nomura、E.Shirakawa、K.Tamao著、Springer)等の文献に記載の方法が挙げられる。
(Wherein, R 11 , R 21 , A 11 , A 21 , A 31 , A 41 , Z 11 , Z 21 , Z 31 , Z 41 , m11, m21, m31 and m41 are represented by the general formula (Ii) represents the same meaning, X 11 have the same meanings as in the formula (IA-i), X 21 have the same meanings as those in formula (IB-i).)
The compound represented by the general formula (I-is) can be obtained by reacting the compound represented by the general formula (IA-is) with the compound represented by the general formula (IB-is). Examples of the reaction include, for example, a method of cross-coupling in the presence of a metal catalyst and a base. Specific examples of the metal catalyst include [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium (II) dichloride, palladium (II) acetate, tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) and the like. Specific examples of the base include potassium carbonate, potassium phosphate, cesium carbonate and the like. The reaction conditions include, for example, Metal-Catalyzed Cross-Coupling Reactions (authored by Armin de Meijere and Francois Diedrich, Wiley-VCH), Palladium Reagents and Catalysts: New Persist. Cross-Coupling Reactions: A Practical Guide (Topics in Current Chemistry) (S.L. a, E. Shiragawa, K. Tamao, Springer) and the like.

前記以外の反応条件として、例えば実験化学講座(日本化学会編、丸善株式会社発行)、Organic Syntheses(A John Wiley & Sons,Inc.,Publication)、Beilstein Handbook of Organic Chemistry(Beilstein−Institut fuer Literatur der Organischen Chemie、Springer−Verlag Berlin and Heidelberg GmbH & Co.K)、Fiesers’ Reagents for Organic Synthesis(John Wiley & Sons,Inc.)等の文献に記載のもの又はSciFinder(Chemical Abstracts Service,American Chemical Society)、Reaxys(Elsevier Ltd.)等のデータベースに収載のものが挙げられる。   Reaction conditions other than those described above include, for example, Experimental Chemistry Course (edited by The Chemical Society of Japan, published by Maruzen Co., Ltd.), Organic Synthesis (A John Wiley & Sons, Inc., Publication), and Beilstein Handbook of Chemical Research- Organischen Chemie, Springer-Verlag Berlin and Heidelberg GmbH & Co. K), Fiesers' Reagents for Organic Synthesis, etc. in John Wiley & Sons, Inc. acts Service, American Chemical Society, and Reaxys (Elsevier Ltd.).

また、前記工程において適宜反応溶媒を用いることができる。溶媒の具体例としてはエタノール、テトラヒドロフラン、トルエン、ジクロロメタン、水等が挙げられる。有機溶媒及び水の二相系で反応を行う場合、相間移動触媒を添加することも可能である。相間移動触媒の具体例としてはベンジルトリメチルアンモニウムブロミド、テトラブチルアンモニウムブロミド等が挙げられる。   Further, a reaction solvent can be appropriately used in the above step. Specific examples of the solvent include ethanol, tetrahydrofuran, toluene, dichloromethane, water and the like. When the reaction is carried out in a two-phase system of an organic solvent and water, a phase transfer catalyst can be added. Specific examples of the phase transfer catalyst include benzyltrimethylammonium bromide and tetrabutylammonium bromide.

また、前記工程において必要に応じて精製を行うことができる。精製方法としてはクロマトグラフィー、再結晶、蒸留、昇華、再沈殿、吸着、分液処理等が挙げられる。精製剤の具体例としてはシリカゲル、アルミナ、活性炭等が挙げられる。   In addition, purification can be performed as necessary in the above step. Examples of the purification method include chromatography, recrystallization, distillation, sublimation, reprecipitation, adsorption, and liquid separation. Specific examples of the purifying agent include silica gel, alumina, activated carbon and the like.

以下、実施例を挙げて本発明を更に記述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「%」は『質量%』を意味する。各工程において酸素及び/又は水分に不安定な物質を取り扱う際は、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガス中で作業を行うことが好ましい。以下具体的に記載されている作業に加えて必要に応じて、当業者間において通常行われている反応のクエンチ、分液・抽出、中和、洗浄、分離、精製、乾燥、濃縮等の作業を行っても良い。
(GC分析条件)
カラム:Agilent Technologies,J&W Column DB−1HT,15m×0.25mm×0.10μm
温度プログラム:100℃(1分間)−(20℃/分間)−250℃−(10℃/分間)−380℃−(7℃/分間)−400℃(2.64分間)
注入口温度:350℃
検出器温度:400℃
(LC分析条件)
カラム:Waters ACQUITY UPLC BEH C18,2.1×100mm,1.7μm
溶出溶媒:アセトニトリル/水(90:10)、アセトニトリル/水(85:15)、0.1%ギ酸−アセトニトリル/水(90:10)又は0.1%ギ酸−アセトニトリル/水(70:30)
流速:0.4mL/min
検出器:UV(PDA)
カラムオーブン:40℃
(実施例1)式(I−1)で表される化合物の製造
Hereinafter, the present invention will be further described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Further, “%” in the compositions of the following Examples and Comparative Examples means “% by mass”. When handling a substance unstable to oxygen and / or moisture in each step, it is preferable to perform the operation in an inert gas such as nitrogen gas or argon gas. In addition to the operations specifically described below, if necessary, operations such as quenching, liquid separation / extraction, neutralization, washing, separation, purification, drying, and concentration of the reaction that are usually performed by those skilled in the art. May be performed.
(GC analysis conditions)
Column: Agilent Technologies, J & W Column DB-1HT, 15m x 0.25mm x 0.10m
Temperature program: 100 ° C (1 minute)-(20 ° C / min)-250 ° C-(10 ° C / min) -380 ° C-(7 ° C / min)-400 ° C (2.64 minutes)
Inlet temperature: 350 ° C
Detector temperature: 400 ° C
(LC analysis conditions)
Column: Waters ACQUITY UPLC BEH C18, 2.1 × 100 mm, 1.7 μm
Elution solvent: acetonitrile / water (90:10), acetonitrile / water (85:15), 0.1% formic acid-acetonitrile / water (90:10) or 0.1% formic acid-acetonitrile / water (70:30)
Flow rate: 0.4 mL / min
Detector: UV (PDA)
Column oven: 40 ° C
(Example 1) Production of compound represented by formula (I-1)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

European Journal of Organic Chemistry誌、2008年、20号、3479−3487頁に記載の方法によって、式(I−1−1)で表される化合物を製造した。窒素雰囲気下、反応容器に式(I−1−1)で表される化合物2.0g、炭酸カリウム1.5g、エタノール20mL及びテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.1gを加えた。加熱還流させながら、式(I−1−2)で表される化合物1.4gをエタノール4mLに溶解させた溶液を滴下した。8時間加熱還流させた後、冷却し、反応液を水に注いだ。トルエンで抽出し、水及び食塩水で順次洗浄した。トルエンを減圧下留去した。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン)及び再結晶(アセトン/メタノール)によって精製を行い、式(I−1)で表される化合物1.8gを得た。
GC純度:99.92%
Pd含有量(ICP−MS):0.1ppt
LC−MS:361[M+1]
(実施例2)式(I−2)で表される化合物の製造
The compound represented by the formula (I-1-1) was produced by the method described in European Journal of Organic Chemistry, 2008, No. 20, page 3479-3487. Under a nitrogen atmosphere, 2.0 g of the compound represented by the formula (I-1-1), 1.5 g of potassium carbonate, 20 mL of ethanol, and 0.1 g of tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) were added to the reaction vessel. While heating under reflux, a solution in which 1.4 g of the compound represented by the formula (I-1-2) was dissolved in 4 mL of ethanol was added dropwise. After heating under reflux for 8 hours, the mixture was cooled and the reaction solution was poured into water. The mixture was extracted with toluene and washed sequentially with water and brine. The toluene was distilled off under reduced pressure. Purification was performed by column chromatography (silica gel, hexane) and recrystallization (acetone / methanol) to obtain 1.8 g of a compound represented by the formula (I-1).
GC purity: 99.92%
Pd content (ICP-MS): 0.1 ppt
LC-MS: 361 [M + 1]
(Example 2) Production of compound represented by formula (I-2)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

DE102009018067A1号公報記載の方法によって、式(I−2−1)で表される化合物を製造した。窒素雰囲気下、反応容器に式(I−2−1)で表される化合物2.0g、式(I−2−2)で表される化合物1.9g、リン酸カリウム2.3g、テトラヒドロフラン10mL、水10mL及び[1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン]パラジウム(II)ジクロリド ジクロロメタン付加物0.1gを加え、8時間加熱還流させた。冷却し、反応液を水に注いだ。トルエンで抽出し、水及び食塩水で順次洗浄した。トルエンを減圧下留去した。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン)及び再結晶(エタノール)によって精製を行い、式(I−2)で表される化合物1.7gを得た。
GC純度:99.91%
Pd含有量(ICP−MS):0.3ppt
LC−MS:359[M+1]
(実施例3)式(I−3)で表される化合物の製造
The compound represented by the formula (I-2-1) was produced by the method described in DE 102009018067A1. Under a nitrogen atmosphere, 2.0 g of the compound represented by the formula (I-2-1), 1.9 g of the compound represented by the formula (I-2-2), 2.3 g of potassium phosphate, and 10 mL of tetrahydrofuran were placed in a reaction vessel. Then, 10 mL of water, and 0.1 g of [1,1'-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium (II) dichloride dichloromethane adduct were added, and the mixture was refluxed for 8 hours. Cooled and poured the reaction into water. The mixture was extracted with toluene and washed sequentially with water and brine. The toluene was distilled off under reduced pressure. Purification was performed by column chromatography (silica gel, hexane) and recrystallization (ethanol) to obtain 1.7 g of a compound represented by the formula (I-2).
GC purity: 99.91%
Pd content (ICP-MS): 0.3 ppt
LC-MS: 359 [M + 1]
(Example 3) Production of compound represented by formula (I-3)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

窒素雰囲気下、反応容器に式(I−3−1)で表される化合物2.0g、テトラヒドロフラン10mLを加えた。−20℃に冷却し、tert−ブトキシカリウム1.0gを加えた。−20℃で式(I−3−2)で表される化合物1.4gをテトラヒドロフラン5mLに溶解させた溶液を滴下し、3時間撹拌した。室温に昇温させた後、水を加えた。トルエンで抽出し、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン)によって精製することによって、式(I−3−3)で表される化合物1.8gを得た。   Under a nitrogen atmosphere, 2.0 g of the compound represented by the formula (I-3-1) and 10 mL of tetrahydrofuran were added to the reaction vessel. After cooling to -20 ° C, 1.0 g of potassium tert-butoxide was added. At −20 ° C., a solution in which 1.4 g of the compound represented by the formula (I-3-2) was dissolved in 5 mL of tetrahydrofuran was added dropwise, and the mixture was stirred for 3 hours. After warming to room temperature, water was added. The mixture was extracted with toluene and washed sequentially with water and brine. By purifying by column chromatography (silica gel, hexane), 1.8 g of a compound represented by the formula (I-3-3) was obtained.

窒素雰囲気下、反応容器に式(I−3−3)で表される化合物1.8g、式(I−3−4)で表される化合物1.2g、炭酸カリウム1.2g、エタノール20mL及びテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.1gを加え、8時間加熱還流させた。冷却し、反応液を水に注いだ。トルエンで抽出し、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン)によって精製を行い、式(I−3−5)で表される化合物1.8gを得た。   Under a nitrogen atmosphere, 1.8 g of the compound represented by the formula (I-3-3), 1.2 g of the compound represented by the formula (I-3-4), 1.2 g of potassium carbonate, 20 mL of ethanol and 0.1 g of tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) was added, and the mixture was refluxed for 8 hours. Cooled and poured the reaction into water. The mixture was extracted with toluene and washed sequentially with water and brine. Purification was performed by column chromatography (silica gel, hexane) to obtain 1.8 g of a compound represented by the formula (I-3-5).

窒素雰囲気下、耐圧容器に式(I−3−5)で表される化合物1.8g、テトラヒドロフラン18mL、5%パラジウム/炭素0.2gを加えた。水素圧0.5MPaで8時間撹拌した。反応液をセライトで濾過した後、溶媒を減圧下留去した。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン)及び再結晶(エタノール)によって精製を行い、式(I−3)で表される化合物1.4gを得た。
GC純度:99.95%
Pd含有量(ICP−MS):5.0ppt
LC−MS:375[M+1]
(実施例4)式(I−4)で表される化合物の製造
Under a nitrogen atmosphere, 1.8 g of the compound represented by the formula (I-3-5), 18 mL of tetrahydrofuran, and 0.2 g of 5% palladium / carbon were added to a pressure vessel. The mixture was stirred at a hydrogen pressure of 0.5 MPa for 8 hours. After the reaction solution was filtered through celite, the solvent was distilled off under reduced pressure. Purification was performed by column chromatography (silica gel, hexane) and recrystallization (ethanol) to obtain 1.4 g of a compound represented by the formula (I-3).
GC purity: 99.95%
Pd content (ICP-MS): 5.0 ppt
LC-MS: 375 [M + 1]
(Example 4) Production of compound represented by formula (I-4)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

CN102659533Aに記載の方法によって、式(I−4−4)で表される化合物を製造した。実施例3において式(I−3−1)で表される化合物を式(I−4−1)で表される化合物に、式(I−3−4)で表される化合物を式(I−4−4)で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって、式(I−4)で表される化合物を製造した。
GC純度:99.86%
Pd含有量(ICP−MS):25ppt
LC−MS:449[M+1]
(実施例5)式(I−5)で表される化合物の製造
The compound represented by the formula (I-4-4) was produced by the method described in CN1026559533A. In Example 3, the compound represented by the formula (I-3-1) was replaced with the compound represented by the formula (I-4-1), and the compound represented by the formula (I-3-4) was substituted by the compound represented by the formula (I-I). A compound represented by the formula (I-4) was produced in the same manner except that the compound represented by -4-4) was used.
GC purity: 99.86%
Pd content (ICP-MS): 25 ppt
LC-MS: 449 [M + 1]
(Example 5) Production of compound represented by formula (I-5)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

窒素雰囲気下、反応容器にマグネシウム0.2g、テトラヒドロフラン1mLを加えた。式(I−5−1)で表される化合物2.0gをテトラヒドロフラン10mLに溶解させた溶液を滴下し、グリニャール試薬を調製した。炭酸ガスを導入し、3時間撹拌した。5%塩酸を滴下し、酢酸エチルで抽出した。水及び食塩水で洗浄した。硫酸ナトリウムで乾燥させた後、溶媒を留去し減圧乾燥することによって、式(I−5−2)で表される化合物1.6gを得た。   Under a nitrogen atmosphere, 0.2 g of magnesium and 1 mL of tetrahydrofuran were added to the reaction vessel. A solution in which 2.0 g of the compound represented by the formula (I-5-1) was dissolved in 10 mL of tetrahydrofuran was added dropwise to prepare a Grignard reagent. Carbon dioxide was introduced and the mixture was stirred for 3 hours. 5% hydrochloric acid was added dropwise, and the mixture was extracted with ethyl acetate. Washed with water and brine. After drying over sodium sulfate, the solvent was distilled off and the residue was dried under reduced pressure to obtain 1.6 g of a compound represented by the formula (I-5-2).

窒素雰囲気下、反応容器に式(I−5−2)で表される化合物1.6g、ジクロロメタン20mLを加えた。シュウ酸クロリド1.0gを滴下し、5時間加熱還流させた。溶媒を留去することによって、式(I−5−3)で表される化合物1.6gを得た。   Under a nitrogen atmosphere, 1.6 g of the compound represented by the formula (I-5-2) and 20 mL of dichloromethane were added to the reaction vessel. 1.0 g of oxalic acid chloride was added dropwise, and the mixture was refluxed for 5 hours. By evaporating the solvent, 1.6 g of a compound represented by the formula (I-5-3) was obtained.

窒素雰囲気下、反応容器に式(I−5−3)で表される化合物1.6g、1,3−プロパンジチオール0.8g、トリフルオロメタンスルホン酸1.7g、トルエン20mLを加え、100℃で3時間加熱還流させた。冷却し、ジイソプロピルエーテルを加え、結晶を濾過した。得られた結晶を減圧乾燥することによって、式(I−5−4)で表される化合物2.2gを得た。   Under a nitrogen atmosphere, 1.6 g of the compound represented by the formula (I-5-3), 0.8 g of 1,3-propanedithiol, 1.7 g of trifluoromethanesulfonic acid, and 20 mL of toluene were added to the reaction vessel, and the mixture was heated at 100 ° C. The mixture was heated under reflux for 3 hours. After cooling, diisopropyl ether was added and the crystals were filtered. The obtained crystals were dried under reduced pressure to obtain 2.2 g of a compound represented by the formula (I-5-4).

窒素雰囲気下、反応容器に式(I−5−5)で表される化合物0.8g、ジクロロメタン2mL、トリエチルアミン2.3gを加えた。−70℃に冷却しながら、式(I−5−4)で表される化合物2.2gをジクロロメタン6mLに溶解させた溶液を滴下し1時間撹拌した。−70℃に冷却しながら、トリエチルアミン三フッ化水素1.5gを滴下し1時間撹拌した。−70℃に冷却しながら、臭素0.7gを滴下し1時間撹拌した。室温まで昇温し、炭酸水素ナトリウム水溶液を加えた。トルエンで抽出し、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン)により精製を行い、式(I−5−6)で表される化合物1.4gを得た。   Under a nitrogen atmosphere, 0.8 g of the compound represented by the formula (I-5-5), 2 mL of dichloromethane, and 2.3 g of triethylamine were added to the reaction vessel. While cooling to -70 ° C, a solution in which 2.2 g of the compound represented by the formula (I-5-4) was dissolved in 6 mL of dichloromethane was added dropwise, and the mixture was stirred for 1 hour. While cooling to −70 ° C., 1.5 g of triethylamine hydrogen trifluoride was added dropwise and stirred for 1 hour. While cooling to -70 ° C, 0.7 g of bromine was added dropwise and stirred for 1 hour. The temperature was raised to room temperature, and an aqueous solution of sodium hydrogen carbonate was added. The mixture was extracted with toluene and washed sequentially with water and brine. Purification was performed by column chromatography (silica gel, hexane) to obtain 1.4 g of a compound represented by the formula (I-5-6).

窒素雰囲気下、反応容器にマグネシウム0.1g、テトラヒドロフラン0.2mLを加えた。式(I−5−6)で表される化合物1.4gをテトラヒドロフラン4mLに溶解させた溶液を加え、グリニャール試薬を調製した。ホウ酸トリメチル0.4gを滴下し1時間撹拌した。10%塩酸10mLを滴下した。酢酸エチルで抽出し、水及び食塩水で順次洗浄した。溶媒を留去することによって、式(I−5−7)で表される化合物1.2gをえた。   Under a nitrogen atmosphere, 0.1 g of magnesium and 0.2 mL of tetrahydrofuran were added to the reaction vessel. A solution in which 1.4 g of the compound represented by the formula (I-5-6) was dissolved in 4 mL of tetrahydrofuran was added to prepare a Grignard reagent. 0.4 g of trimethyl borate was added dropwise and stirred for 1 hour. 10 mL of 10% hydrochloric acid was added dropwise. The mixture was extracted with ethyl acetate and washed sequentially with water and brine. By evaporating the solvent, 1.2 g of a compound represented by the formula (I-5-7) was obtained.

窒素雰囲気下、反応容器に式(I−5−7)で表される化合物1.2g、式(I−5−8)で表される化合物0.7g、炭酸カリウム0.6g、エタノール10mL及びジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(II)0.1gを加え、8時間加熱還流させた。冷却し、反応液を水に注いだ。トルエンで抽出し、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、トルエン/ヘキサン)及び再結晶(トルエン/エタノール)によって精製を行い、式(I−5)で表される化合物1.8gを得た。
GC純度:99.85%
Pd含有量(ICP−MS):40ppt
LC−MS:519[M+1]
(実施例6)式(I−82)で表される化合物の製造
Under a nitrogen atmosphere, 1.2 g of the compound represented by the formula (I-5-7), 0.7 g of the compound represented by the formula (I-5-8), 0.6 g of potassium carbonate, 10 mL of ethanol and 0.1 g of dichlorobis (triphenylphosphine) palladium (II) was added, and the mixture was refluxed for 8 hours. Cooled and poured the reaction into water. The mixture was extracted with toluene and washed sequentially with water and brine. Purification was performed by column chromatography (silica gel, toluene / hexane) and recrystallization (toluene / ethanol) to obtain 1.8 g of a compound represented by the formula (I-5).
GC purity: 99.85%
Pd content (ICP-MS): 40 ppt
LC-MS: 519 [M + 1]
(Example 6) Production of compound represented by formula (I-82)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

European Journal of Organic Chemistry誌、2008年、20号、3479−3487頁に記載の方法によって、式(I−82−1)で表される化合物を製造した。窒素雰囲気下、反応容器に式(I−82−1)で表される化合物3.0g、式(I−82−2)で表される化合物1.7g、炭酸カリウム1.7g、テトラヒドロフラン15mL、水10mL及びテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.2gを加え、8時間加熱還流させた。冷却し、反応液を水に注いだ。トルエンで抽出し、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、トルエン/ヘキサン)及び再結晶(トルエン/エタノール)によって精製を行い、式(I−82)で表される化合物2.0gを得た。
GC純度:99.92%
Pd含有量(ICP−MS):120ppt
LC−MS:449[M+1]
(実施例7)式(I−121)で表される化合物の製造
The compound represented by the formula (I-82-1) was produced by the method described in European Journal of Organic Chemistry, 2008, No. 20, page 3479-3487. Under a nitrogen atmosphere, 3.0 g of the compound represented by the formula (I-82-1), 1.7 g of the compound represented by the formula (I-82-2), 1.7 g of potassium carbonate, 15 mL of tetrahydrofuran were placed in a reaction vessel. 10 mL of water and 0.2 g of tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) were added, and the mixture was heated under reflux for 8 hours. Cooled and poured the reaction into water. The mixture was extracted with toluene and washed sequentially with water and brine. Purification was performed by column chromatography (silica gel, toluene / hexane) and recrystallization (toluene / ethanol) to obtain 2.0 g of a compound represented by the formula (I-82).
GC purity: 99.92%
Pd content (ICP-MS): 120 ppt
LC-MS: 449 [M + 1]
(Example 7) Production of compound represented by formula (I-121)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

反応容器に式(I−121−2)で表される化合物1.8mL、トルエン40mLを加えた。ジプロピルアミン2.8mLをトルエン10mLに溶解させた溶液を滴下し、14時間加熱還流させた。溶媒を留去した後、メタノール25mL、トルエン10mLを加えた。式(I−121−1)で表される化合物3.9gをトルエン15mLに溶解させた溶液を滴下し、50℃で8時間加熱撹拌した。5%塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した後、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、トルエン/ヘキサン)によって精製を行い、式(I−121−3)で表される化合物4.6gを得た。   1.8 mL of the compound represented by the formula (I-121-2) and 40 mL of toluene were added to the reaction vessel. A solution in which 2.8 mL of dipropylamine was dissolved in 10 mL of toluene was added dropwise, and the mixture was refluxed for 14 hours. After the solvent was distilled off, 25 mL of methanol and 10 mL of toluene were added. A solution in which 3.9 g of the compound represented by the formula (I-121-1) was dissolved in 15 mL of toluene was added dropwise, and the mixture was heated and stirred at 50 ° C for 8 hours. After sequentially washing with 5% hydrochloric acid, water and brine, purification was performed by column chromatography (silica gel, toluene / hexane) to obtain 4.6 g of a compound represented by the formula (I-121-3).

反応容器に式(I−121−3)で表される化合物4.6g、塩化亜鉛2.0g、トルエン20mL、ギ酸15mL、酢酸15mLを加えた。1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン12mLを滴下し、室温で8時間撹拌した。反応液を水に注ぎ、5%塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、トルエン)及び再結晶(アセトン/メタノール)によって精製を行い、式(I−121−4)で表される化合物2.3gを得た。   To the reaction vessel, 4.6 g of the compound represented by the formula (I-121-3), 2.0 g of zinc chloride, 20 mL of toluene, 15 mL of formic acid, and 15 mL of acetic acid were added. 12 mL of 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane was added dropwise, and the mixture was stirred at room temperature for 8 hours. The reaction solution was poured into water and washed sequentially with 5% hydrochloric acid, water and brine. Purification was performed by column chromatography (silica gel, toluene) and recrystallization (acetone / methanol) to obtain 2.3 g of a compound represented by the formula (I-121-4).

窒素雰囲気下、反応容器に式(I−121−4)で表される化合物2.3g、炭酸カリウム1.6g、エタノール20mL及びテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.1gを加えた。加熱還流させながら、式(I−121−5)で表される化合物1.5gをエタノール4mLに溶解させた溶液を滴下した。8時間加熱還流させた後、冷却し、反応液を水に注いだ。トルエンで抽出し、水及び食塩水で順次洗浄した。トルエンを減圧下留去した。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン)及び再結晶(アセトン/メタノール)によって精製を行い、式(I−121)で表される化合物1.8gを得た。
GC純度:99.92%
Pd含有量(ICP−MS):0.1ppt
LC−MS:379[M+1]
(実施例8)式(I−151)で表される化合物の製造
Under a nitrogen atmosphere, 2.3 g of the compound represented by the formula (I-121-4), 1.6 g of potassium carbonate, 20 mL of ethanol, and 0.1 g of tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) were added to a reaction vessel. While heating under reflux, a solution in which 1.5 g of the compound represented by the formula (I-121-5) was dissolved in 4 mL of ethanol was added dropwise. After heating under reflux for 8 hours, the mixture was cooled and the reaction solution was poured into water. The mixture was extracted with toluene and washed sequentially with water and brine. The toluene was distilled off under reduced pressure. Purification was performed by column chromatography (silica gel, hexane) and recrystallization (acetone / methanol) to obtain 1.8 g of a compound represented by the formula (I-121).
GC purity: 99.92%
Pd content (ICP-MS): 0.1 ppt
LC-MS: 379 [M + 1]
(Example 8) Production of compound represented by formula (I-151)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

反応容器に式(I−151−1)で表される化合物4.9gと、トルエン30mLを加えた。ジプロピルアミン4.0mLをトルエン10mLに溶解させた溶液を滴下し、14時間加熱還流させた。溶媒を留去した後、メタノール30mL、トルエン20mLを加えた。式(I−151−2)で表される化合物2.9mLをトルエン10mLに溶解させた溶液を滴下し、50℃で10時間加熱撹拌した。5%塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した後、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、トルエン/ヘキサン)によって精製を行い、式(I−151−3)で表される化合物5.3gを得た。   To the reaction vessel, 4.9 g of the compound represented by the formula (I-151-1) and 30 mL of toluene were added. A solution in which 4.0 mL of dipropylamine was dissolved in 10 mL of toluene was added dropwise, and the mixture was refluxed for 14 hours. After the solvent was distilled off, 30 mL of methanol and 20 mL of toluene were added. A solution in which 2.9 mL of the compound represented by the formula (I-151-2) was dissolved in 10 mL of toluene was added dropwise, and the mixture was heated and stirred at 50 ° C. for 10 hours. After sequentially washing with 5% hydrochloric acid, water and brine, purification was performed by column chromatography (silica gel, toluene / hexane) to obtain 5.3 g of a compound represented by the formula (I-151-3).

反応容器に式(I−151−3)で表される化合物5.3g、塩化亜鉛3.3g、トルエン40mL、ギ酸30mL、酢酸30mLを加えた。1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン22mL及びメタンスルホン酸1.6mLを順次滴下し、室温で14時間撹拌した。反応液を水に注ぎ、5%塩酸、水及び食塩水で順次洗浄した。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、トルエン)及び再結晶(アセトン/メタノール)によって精製を行い、式(I−151−4)で表される化合物3.3gを得た。   To the reaction vessel, 5.3 g of the compound represented by the formula (I-151-3), 3.3 g of zinc chloride, 40 mL of toluene, 30 mL of formic acid, and 30 mL of acetic acid were added. 22 mL of 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane and 1.6 mL of methanesulfonic acid were sequentially added dropwise, and the mixture was stirred at room temperature for 14 hours. The reaction solution was poured into water and washed sequentially with 5% hydrochloric acid, water and brine. Purification was performed by column chromatography (silica gel, toluene) and recrystallization (acetone / methanol) to obtain 3.3 g of a compound represented by the formula (I-151-4).

窒素雰囲気下、反応容器に式(I−151−4)で表される化合物3.3g、炭酸カリウム2.4g、エタノール30mL及びテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)0.2gを加えた。加熱還流させながら、式(I−121−5)で表される化合物2.6gをエタノール6mLに溶解させた溶液を滴下した。8時間加熱還流させた後、冷却し、反応液を水に注いだ。トルエンで抽出し、水及び食塩水で順次洗浄した。トルエンを減圧下留去した。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン)及び再結晶(アセトン/メタノール)によって精製を行い、式(I−151)で表される化合物2.8gを得た。
GC純度:99.91%
Pd含有量(ICP−MS):0.1ppt
LC−MS:361[M+1]
(実施例9)式(I−181)で表される化合物の製造
Under a nitrogen atmosphere, 3.3 g of the compound represented by the formula (I-151-4), 2.4 g of potassium carbonate, 30 mL of ethanol, and 0.2 g of tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0) were added to a reaction vessel. While heating and refluxing, a solution in which 2.6 g of the compound represented by the formula (I-121-5) was dissolved in 6 mL of ethanol was added dropwise. After heating under reflux for 8 hours, the mixture was cooled and the reaction solution was poured into water. The mixture was extracted with toluene and washed sequentially with water and brine. The toluene was distilled off under reduced pressure. Purification was performed by column chromatography (silica gel, hexane) and recrystallization (acetone / methanol) to obtain 2.8 g of a compound represented by the formula (I-151).
GC purity: 99.91%
Pd content (ICP-MS): 0.1 ppt
LC-MS: 361 [M + 1]
(Example 9) Production of compound represented by formula (I-181)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

実施例8において、式(I−151−1)で表される化合物を式(I−181−1)で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって、式(I−181)で表される化合物を製造した。
GC純度:99.93%
Pd含有量(ICP−MS):0.2ppt
LC−MS:379[M+1]
(実施例10)式(I−211)で表される化合物の製造
A compound represented by the formula (I-181) was prepared in the same manner as in Example 8 except that the compound represented by the formula (I-151-1) was replaced with the compound represented by the formula (I-181-1). Was prepared.
GC purity: 99.93%
Pd content (ICP-MS): 0.2 ppt
LC-MS: 379 [M + 1]
(Example 10) Production of compound represented by formula (I-211)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

実施例7において、式(I−121−1)で表される化合物を式(I−211−1)で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって、式(I−211)で表される化合物を製造した。
GC純度:99.93%
Pd含有量(ICP−MS):0.1ppt
LC−MS:379[M+1]
(実施例11)式(I−241)で表される化合物の製造
In Example 7, a compound represented by the formula (I-211) was prepared in the same manner except that the compound represented by the formula (I-121-1) was replaced with a compound represented by the formula (I-211-1). Was prepared.
GC purity: 99.93%
Pd content (ICP-MS): 0.1 ppt
LC-MS: 379 [M + 1]
(Example 11) Production of compound represented by formula (I-241)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

実施例8において、式(I−151−1)で表される化合物を式(I−241−1)で表される化合物に置き換えた以外は同様の方法によって、式(I−241)で表される化合物を製造した。
GC純度:99.93%
Pd含有量(ICP−MS):0.3ppt
LC−MS:379[M+1]
(比較例1)式(I−1R)で表される化合物の製造
A compound represented by the formula (I-241) was prepared in the same manner as in Example 8, except that the compound represented by the formula (I-151-1) was replaced with the compound represented by the formula (I-241-1). Was prepared.
GC purity: 99.93%
Pd content (ICP-MS): 0.3 ppt
LC-MS: 379 [M + 1]
(Comparative Example 1) Production of compound represented by formula (I-1R)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

Molecular Crystals and Liquid Crystals誌、2011年、542巻、16−27頁に記載の方法によって製造した。反応容器に式(I−1R−1)で表される化合物5.0g、塩化アルミニウム(III)3.1g、ジクロロメタン20mLを加えた。氷冷しながら塩化3−クロロプロピオニル3.2gを加え1時間撹拌した。反応容器を10%塩酸20mLに注ぎ、有機層を10%水酸化ナトリウム水溶液及び水で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。再結晶(ヘキサン)によって精製を行い、式(I−1R−2)で表される化合物6.2gを得た。   It was prepared by the method described in Molecular Crystals and Liquid Crystals, 2011, vol. 542, pp. 16-27. To the reaction vessel were added 5.0 g of the compound represented by the formula (I-1R-1), 3.1 g of aluminum (III) chloride, and 20 mL of dichloromethane. Under ice cooling, 3.2 g of 3-chloropropionyl chloride was added, and the mixture was stirred for 1 hour. The reaction vessel was poured into 20 mL of 10% hydrochloric acid, and the organic layer was sequentially washed with a 10% aqueous sodium hydroxide solution and water. After drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off. Purification was performed by recrystallization (hexane) to obtain 6.2 g of a compound represented by the formula (I-1R-2).

反応容器に式(I−1R−2)で表される化合物5.0g及びテトラヒドロフラン20mLを加えた。10%水酸化ナトリウム水溶液10mLを加え50℃で1時間加熱撹拌した。トルエン50mLを加え抽出し、水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。再結晶(ヘキサン)によって精製を行い、式(I−1R−3)で表される化合物3.2gを得た。   5.0 g of the compound represented by the formula (I-1R-2) and 20 mL of tetrahydrofuran were added to the reaction vessel. 10 mL of a 10% aqueous sodium hydroxide solution was added, and the mixture was heated and stirred at 50 ° C. for 1 hour. The mixture was extracted with 50 mL of toluene and washed with water. After drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off. Purification was performed by recrystallization (hexane) to obtain 3.2 g of a compound represented by the formula (I-1R-3).

反応容器に式(I−1R−3)で表される化合物6.3g及びトルエン50mLを加えた。ジイソプロピルアミン2.5gを加え80℃で10時間加熱撹拌した。室温まで冷却した後、水200mLを加えた。有機層を10%塩酸100mL及び水で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。再結晶(ヘキサン)によって精製を行い、式(I−1R−4)で表される化合物20.3gを得た。   To the reaction vessel, 6.3 g of the compound represented by the formula (I-1R-3) and 50 mL of toluene were added. 2.5 g of diisopropylamine was added, and the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 10 hours. After cooling to room temperature, 200 mL of water was added. The organic layer was sequentially washed with 100 mL of 10% hydrochloric acid and water. After drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off. Purification was performed by recrystallization (hexane) to obtain 20.3 g of a compound represented by the formula (I-1R-4).

反応容器に式(I−1R−4)で表される化合物10.0g、酢酸100mLを加えた。塩化亜鉛(II)3.6g及びトリエチルシラン16.9gを加え25℃で10時間撹拌した。水200mLを加え、トルエンで抽出した。有機層を10%塩酸及び水で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン)及び再結晶(酢酸エチル)によって精製を行い、式(I−1R)で表される化合物7.3gを得た。
GC純度:99.73%
LC−MS:361[M+1]
(比較例2)式(I−2R)で表される化合物の製造
10.0 g of the compound represented by the formula (I-1R-4) and 100 mL of acetic acid were added to the reaction vessel. 3.6 g of zinc (II) chloride and 16.9 g of triethylsilane were added, and the mixture was stirred at 25 ° C for 10 hours. 200 mL of water was added, and extracted with toluene. The organic layer was washed sequentially with 10% hydrochloric acid and water. After drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off. Purification was performed by column chromatography (silica gel, hexane) and recrystallization (ethyl acetate) to obtain 7.3 g of a compound represented by the formula (I-1R).
GC purity: 99.73%
LC-MS: 361 [M + 1]
(Comparative Example 2) Production of compound represented by formula (I-2R)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

Molecular Crystals and Liquid Crystals誌、2014年、593巻、61−77頁に記載の方法によって製造した。反応容器に式(I−2R−2)で表される化合物4.8g、式(I−2R−1)で表される化合物5.7g及びトルエン20mLを加えた。ジプロピルアミン0.2g、メタノール3mLを加え40℃で12時間加熱撹拌した。冷却した後、水10mLを加え酢酸エチル30mLで抽出した。有機層を食塩水で洗浄し硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去することによって式(I−2R−3)で表される化合物7.3gを得た。   It was prepared by the method described in Molecular Crystals and Liquid Crystals, 2014, vol. 593, pp. 61-77. To the reaction vessel, 4.8 g of the compound represented by the formula (I-2R-2), 5.7 g of the compound represented by the formula (I-2R-1), and 20 mL of toluene were added. 0.2 g of dipropylamine and 3 mL of methanol were added, and the mixture was heated and stirred at 40 ° C. for 12 hours. After cooling, 10 mL of water was added, and the mixture was extracted with 30 mL of ethyl acetate. The organic layer was washed with brine and dried over magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off to obtain 7.3 g of a compound represented by the formula (I-2R-3).

反応容器に式(I−2R−3)で表される化合物7.3g及びトルエン30mLを加えた。0℃でトリエチルシラン7.0gを加えた。トリフルオロ酢酸9.6gを滴下した。室温まで昇温し7時間撹拌した。アセトン3mLを加え、反応液を20%炭酸水素ナトリウム水溶液に注いだ。トルエンで抽出し、水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘプタン/酢酸エチル(20:1))により精製を行い、式(I−2R−4)で表される化合物7.4gを得た。   To the reaction vessel, 7.3 g of the compound represented by the formula (I-2R-3) and 30 mL of toluene were added. At 0 ° C., 7.0 g of triethylsilane were added. 9.6 g of trifluoroacetic acid was added dropwise. The mixture was heated to room temperature and stirred for 7 hours. 3 mL of acetone was added, and the reaction solution was poured into a 20% aqueous sodium hydrogen carbonate solution. Extracted with toluene and washed with water. After drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off. Purification was performed by column chromatography (silica gel, heptane / ethyl acetate (20: 1)) to obtain 7.4 g of a compound represented by the formula (I-2R-4).

反応容器に式(I−2R−4)で表される化合物7.4g及びクロロホルム25mLを加えた。氷冷しながらトリメチルヨードシラン3.4gを滴下し10℃以下で5時間撹拌した。反応液を5%炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ、有機層を水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘプタン/酢酸エチル(2:1))によって精製を行い、式(I−2R−5)で表される化合物1.6gを得た。   7.4 g of the compound represented by the formula (I-2R-4) and 25 mL of chloroform were added to the reaction vessel. While cooling with ice, 3.4 g of trimethyliodosilane was added dropwise, and the mixture was stirred at 10 ° C. or lower for 5 hours. The reaction solution was poured into a 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution, and the organic layer was washed with water. After drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off. Purification was performed by column chromatography (silica gel, heptane / ethyl acetate (2: 1)) to obtain 1.6 g of a compound represented by the formula (I-2R-5).

反応容器に式(I−2R−5)で表される化合物14.5g及びジクロロメタン140mLを加えた。ヨードベンゼンジアセタート26.0g及びTEMPO0.7gを加え室温で3時間撹拌した。反応液を10%炭酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。不溶物を濾過により除去し有機層を食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘプタン/酢酸エチル(4:1))により精製を行い、式(I−2R−6)で表される化合物8.7gを得た。   14.5 g of the compound represented by the formula (I-2R-5) and 140 mL of dichloromethane were added to the reaction vessel. 26.0 g of iodobenzene diacetate and 0.7 g of TEMPO were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. The reaction solution was poured into a 10% aqueous sodium hydrogen carbonate solution and extracted with ethyl acetate. Insolubles were removed by filtration, and the organic layer was washed with brine. After drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off. Purification was performed by column chromatography (silica gel, heptane / ethyl acetate (4: 1)) to obtain 8.7 g of a compound represented by the formula (I-2R-6).

反応容器にエチルトリフェニルホスホニウムブロミド14.1g及びテトラヒドロフラン50mLを加えた。−40℃でLDA(2M)/テトラヒドロフラン溶液18mLを滴下し30分撹拌した。0℃でさらに1時間撹拌した。−50℃に冷却し式(I−2R−6)で表される化合物8.7gをテトラヒドロフラン50mLに溶解させた溶液を滴下し30分撹拌した。フェニルリチウム(1.6M)/ジブチルエーテル溶液22mLを滴下し30分間撹拌した。tert−ブチルアルコール5g及びテトラヒドロフラン10mLを滴下した。0℃に昇温し水100mL及び食塩水100mLを加えた。トルエン200mLで抽出し、有機層を10%塩酸、食塩水、5%炭酸水素ナトリウム水溶液及び食塩水で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥させた後、溶媒を留去した。カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘプタン/酢酸エチル(10:1))及び再結晶(エタノール)により精製を行い、式(I−2R)で表される化合物4.7gを得た。
GC純度:99.76%
LC−MS:359[M+1]
(比較例3)式(I−121R)で表される化合物の製造
14.1 g of ethyltriphenylphosphonium bromide and 50 mL of tetrahydrofuran were added to the reaction vessel. At −40 ° C., 18 mL of a LDA (2M) / tetrahydrofuran solution was added dropwise, and the mixture was stirred for 30 minutes. Stirred at 0 ° C. for another hour. After cooling to −50 ° C., a solution in which 8.7 g of the compound represented by the formula (I-2R-6) was dissolved in 50 mL of tetrahydrofuran was added dropwise, and the mixture was stirred for 30 minutes. 22 mL of a phenyllithium (1.6 M) / dibutyl ether solution was added dropwise, and the mixture was stirred for 30 minutes. 5 g of tert-butyl alcohol and 10 mL of tetrahydrofuran were added dropwise. The temperature was raised to 0 ° C., and 100 mL of water and 100 mL of saline were added. The mixture was extracted with 200 mL of toluene, and the organic layer was washed sequentially with 10% hydrochloric acid, brine, 5% aqueous sodium hydrogen carbonate solution and brine. After drying over magnesium sulfate, the solvent was distilled off. Purification was performed by column chromatography (silica gel, heptane / ethyl acetate (10: 1)) and recrystallization (ethanol) to obtain 4.7 g of a compound represented by the formula (I-2R).
GC purity: 99.76%
LC-MS: 359 [M + 1]
(Comparative Example 3) Production of compound represented by formula (I-121R)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

特開2017−75095号公報の合成例1に記載の方法によって、式(I−121R)で表される化合物を製造した。
GC純度:99.58%
LC−MS:379[M+1]
(比較例4)式(I−151R)で表される化合物の製造
The compound represented by the formula (I-121R) was produced by the method described in Synthesis Example 1 of JP-A-2017-75095.
GC purity: 99.58%
LC-MS: 379 [M + 1]
(Comparative Example 4) Production of compound represented by formula (I-151R)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

Molecular Crystals and Liquid Crystals誌、2011年、542巻、16/[538]−27[549]頁に記載の方法によって、式(I−151R−1)で表される化合物を製造した。
GC純度:99.76%
LC−MS:361[M+1]
(比較例5)式(I−181R)で表される化合物の製造
The compound represented by the formula (I-151R-1) was produced by the method described in Molecular Crystals and Liquid Crystals, 2011, vol. 542, 16 / [538] -27 [549].
GC purity: 99.76%
LC-MS: 361 [M + 1]
(Comparative Example 5) Production of compound represented by formula (I-181R)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

特開2017−75095号公報の合成例3に記載の方法によって、式(I−181R)で表される化合物を製造した。
GC純度:99.71%
LC−MS:379[M+1]
(比較例6)式(I−211R)で表される化合物の製造
The compound represented by the formula (I-181R) was produced by the method described in Synthesis Example 3 of JP-A-2017-75095.
GC purity: 99.71%
LC-MS: 379 [M + 1]
(Comparative Example 6) Production of compound represented by formula (I-211R)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

特開2017−75095号公報の合成例2に記載の方法によって、式(I−211R)で表される化合物を製造した。
GC純度:99.74%
LC−MS:379[M+1]
(比較例7)式(I−241R)で表される化合物の製造
The compound represented by the formula (I-211R) was produced by the method described in Synthesis Example 2 of JP-A-2017-75095.
GC purity: 99.74%
LC-MS: 379 [M + 1]
(Comparative Example 7) Production of compound represented by formula (I-241R)

Figure 2019035408
Figure 2019035408

特開2017−75095号公報の合成例2に記載の方法によって、式(I−241R)で表される化合物を製造した。
GC純度:99.77%
LC−MS:379[M+1]
以上の結果から、実施例1から実施例11に記載の製造方法では、通常の精製方法によって容易に高純度の式(I−1)から式(I−5)、式(I−82)、式(I−121)、式(I−151)、式(I−181)、式(I−211)及び式(I−241)で表される化合物を得ることができた。一方、比較例1から比較例7に記載の製造方法では、通常の精製方法では実施例1から実施例11に記載の製造方法に比べ、得られた化合物の純度が低かった。式(I−1R)、式(I−2R)、式(I−121R)、式(I−151R)、式(I−181R)、式(I−211R)及び式(I−241R)で表される化合物について、式(I−1)、式(I−2)、式(I−121)、式(I−151)、式(I−181)、式(I−211)及び式(I−241)で表される化合物と精製条件を揃えるために、同じ精製操作を行った。
(比較例8)式(I−1R2)で表される化合物の製造
比較例1で製造した式(I−1R)で表される化合物について、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン)及び再結晶(アセトン/メタノール)によって精製を行い、式(I−1R2)で表される化合物を得た。
GC純度:99.82%
LC−MS:361[M+1]
(比較例9)式(I−2R2)で表される化合物の製造
比較例2で製造した式(I−2R)で表される化合物について、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン)及び再結晶(エタノール)によって精製を行い、式(I−2R2)で表される化合物を得た。
GC純度:99.85%
LC−MS:359[M+1]
(比較例10)式(I−121R2)で表される化合物の製造
比較例3で製造した式(I−121R)で表される化合物について、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン)及び再結晶(エタノール)によって精製を行い、式(I−121R2)で表される化合物を得た。
GC純度:99.86%
LC−MS:379[M+1]
(比較例11)式(I−151R2)で表される化合物の製造
比較例4で製造した式(I−151R)で表される化合物について、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン)及び再結晶(エタノール)によって精製を行い、式(I−151R2)で表される化合物を得た。
GC純度:99.88%
LC−MS:361[M+1]
(比較例12)式(I−181R2)で表される化合物の製造
比較例5で製造した式(I−181R)で表される化合物について、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン)及び再結晶(エタノール)によって精製を行い、式(I−181R2)で表される化合物を得た。
GC純度:99.86%
LC−MS:379[M+1]
(比較例13)式(I−211R2)で表される化合物の製造
比較例6で製造した式(I−211R)で表される化合物について、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン)及び再結晶(エタノール)によって精製を行い、式(I−211R2)で表される化合物を得た。
GC純度:99.85%
LC−MS:379[M+1]
(比較例14)式(I−241R2)で表される化合物の製造
比較例7で製造した式(I−241R)で表される化合物について、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、ヘキサン)及び再結晶(エタノール)によって精製を行い、式(I−241R2)で表される化合物を得た。
GC純度:99.88%
LC−MS:379[M+1]
(実施例12から実施例22、比較例15から比較例28)
実施例1から実施例11及び比較例1から比較例14で製造した化合物を評価対象の化合物とした。下記化合物を下表に示す成分比で混合した液晶組成物を調製し、母体液晶(X10)とした。
The compound represented by the formula (I-241R) was produced by the method described in Synthesis Example 2 of JP-A-2017-75095.
GC purity: 99.77%
LC-MS: 379 [M + 1]
From the above results, in the production methods described in Examples 1 to 11, high-purity formulas (I-1) to (I-5), (I-82), Compounds represented by Formula (I-121), Formula (I-151), Formula (I-181), Formula (I-211), and Formula (I-241) were obtained. On the other hand, in the production methods described in Comparative Examples 1 to 7, the purity of the obtained compound was lower in the ordinary purification method than in the production methods described in Examples 1 to 11. Formula (I-1R), Formula (I-2R), Formula (I-121R), Formula (I-151R), Formula (I-181R), Formula (I-211R), and Formula (I-241R) Formula (I-1), Formula (I-2), Formula (I-121), Formula (I-151), Formula (I-181), Formula (I-211) and Formula (I-211) The same purification procedure was performed to make the compound represented by -241) and the purification conditions uniform.
(Comparative Example 8) Production of compound represented by formula (I-1R2) The compound represented by formula (I-1R) produced in Comparative Example 1 was subjected to column chromatography (silica gel, hexane) and recrystallization (acetone). / Methanol) to obtain a compound represented by the formula (I-1R2).
GC purity: 99.82%
LC-MS: 361 [M + 1]
(Comparative Example 9) Production of compound represented by formula (I-2R2) The compound represented by formula (I-2R) produced in Comparative Example 2 was subjected to column chromatography (silica gel, hexane) and recrystallization (ethanol). ) To obtain a compound represented by the formula (I-2R2).
GC purity: 99.85%
LC-MS: 359 [M + 1]
(Comparative Example 10) Production of compound represented by formula (I-121R2) For the compound represented by formula (I-121R) produced in Comparative Example 3, column chromatography (silica gel, hexane) and recrystallization (ethanol) ) To obtain a compound represented by the formula (I-121R2).
GC purity: 99.86%
LC-MS: 379 [M + 1]
(Comparative Example 11) Production of compound represented by formula (I-151R2) For the compound represented by formula (I-151R) produced in Comparative Example 4, column chromatography (silica gel, hexane) and recrystallization (ethanol) ) To obtain a compound represented by the formula (I-151R2).
GC purity: 99.88%
LC-MS: 361 [M + 1]
(Comparative Example 12) Production of compound represented by formula (I-181R2) For the compound represented by formula (I-181R) produced in Comparative Example 5, column chromatography (silica gel, hexane) and recrystallization (ethanol) ) To obtain a compound represented by the formula (I-181R2).
GC purity: 99.86%
LC-MS: 379 [M + 1]
(Comparative Example 13) Production of compound represented by formula (I-211R2) Column chromatography (silica gel, hexane) and recrystallization (ethanol) of the compound represented by formula (I-211R) produced in Comparative Example 6 ) To obtain a compound represented by the formula (I-211R2).
GC purity: 99.85%
LC-MS: 379 [M + 1]
(Comparative Example 14) Production of compound represented by formula (I-241R2) For the compound represented by formula (I-241R) produced in Comparative Example 7, column chromatography (silica gel, hexane) and recrystallization (ethanol) ) To obtain a compound represented by the formula (I-241R2).
GC purity: 99.88%
LC-MS: 379 [M + 1]
(Examples 12 to 22, Comparative Examples 15 to 28)
The compounds produced in Examples 1 to 11 and Comparative Examples 1 to 14 were used as compounds to be evaluated. A liquid crystal composition was prepared by mixing the following compounds at the component ratios shown in the following table, and was designated as parent liquid crystal (X10).

Figure 2019035408
Figure 2019035408

Figure 2019035408
Figure 2019035408

上記母体液晶(X10)100重量部に対し、評価対象の化合物を15重量部及び下記化合物(X3−E−1−1)を0.2重量部添加し、評価対象の液晶組成物を調製した。   15 parts by weight of the compound to be evaluated and 0.2 part by weight of the following compound (X3-E-1-1) were added to 100 parts by weight of the base liquid crystal (X10) to prepare a liquid crystal composition to be evaluated. .

Figure 2019035408
Figure 2019035408

透明な共通電極からなる透明電極層及びカラーフィルター層を具備した第一の基板(共通電極基板)と、アクティブ素子により駆動される透明画素電極を有する画素電極層を具備した第二の基板(画素電極基板)とを作製した。画素電極基板において、各画素電極としては、液晶分子の配向を分割するため、画素電極に電極を有さないスリットが存在するように、ITOをエッチングしたものを用いた。共通電極基板及び画素電極基板のそれぞれに、ポリイミド前駆体を含む垂直配向膜材料をスピンコート法により塗布し、その塗布膜を200℃で加熱することにより、垂直配向膜材料中のポリイミド前駆体を硬化させ、各基板の表面に100nm±20nmの垂直配向膜を形成した。垂直配向膜形成材料としては、ポリイミド前駆体を3%含有するポリイミド溶液(商品名:JALS2131−R6、JSR社製)を用いた。垂直配向膜を形成した共通電極基板及び画素電極基板に、評価対象の液晶組成物を挟持した後、シール材を硬化させて、液晶組成物層を形成した。この際、厚さ3.0μmのスペーサを用いて、液晶組成物層の厚さを3.0μmとした。下表に評価対象の化合物と液晶表示素子の関係を示す。   A first substrate (common electrode substrate) having a transparent electrode layer composed of a transparent common electrode and a color filter layer, and a second substrate (pixel) having a pixel electrode layer having a transparent pixel electrode driven by an active element (Electrode substrate). In the pixel electrode substrate, each pixel electrode was obtained by etching ITO so that the pixel electrode had a slit having no electrode in order to divide the orientation of liquid crystal molecules. A vertical alignment film material containing a polyimide precursor is applied to each of the common electrode substrate and the pixel electrode substrate by a spin coating method, and the applied film is heated at 200 ° C., so that the polyimide precursor in the vertical alignment film material is removed. After curing, a vertical alignment film of 100 nm ± 20 nm was formed on the surface of each substrate. As a material for forming a vertical alignment film, a polyimide solution containing 3% of a polyimide precursor (trade name: JALS2131-R6, manufactured by JSR) was used. After the liquid crystal composition to be evaluated was sandwiched between the common electrode substrate and the pixel electrode substrate on which the vertical alignment film was formed, the sealing material was cured to form a liquid crystal composition layer. At this time, the thickness of the liquid crystal composition layer was set to 3.0 μm using a spacer having a thickness of 3.0 μm. The following table shows the relationship between the compound to be evaluated and the liquid crystal display device.

Figure 2019035408
Figure 2019035408

実施例12から実施例22、比較例15から比較例28の表示素子について、焼き付き評価を行った。焼き付き評価は、表示エリア内に所定の固定パターンを1000時間表示させた後に、全画面均一な表示を行ったときの固定パターンの残像のレベルを目視にて以下の4段階評価で行った。
A+:残像無し
A−:画面の一部に残像ごく僅かに有り
B+:画面の一部に残像やや多く有るも許容できるレベル
B−:残像やや多く有るも許容できるレベル
C:残像多く有り許容できないレベル
With respect to the display elements of Examples 12 to 22 and Comparative Examples 15 to 28, burn-in evaluation was performed. In the burn-in evaluation, after a predetermined fixed pattern was displayed in the display area for 1000 hours, the level of the afterimage of the fixed pattern when the entire screen was uniformly displayed was visually evaluated by the following four-step evaluation.
A +: No afterimage A-: Very little afterimage on a part of screen B +: Level with acceptable afterimage with some afterimage B-: Level with some afterimage but acceptable with some afterimage C: Unacceptable with some afterimage level

Figure 2019035408
Figure 2019035408

比較例15から比較例28の表示素子は、各々同じ構造の式(I−1)から式(I−5)、式(I−82)、式(I−121)、式(I−151)、式(I−181)、式(I−211)及び式(I−241)で表される化合物を使用した表示素子と比較して焼き付きが多く見られた。比較例1から比較例14に記載の方法によって合成した式(I−1R)、式(I−2R)、式(I−121R)、式(I−151R)、式(I−181R)、式(I−211R)、式(I−241R)、式(I−1R2)、式(I−2R2)、式(I−121R2)、式(I−151R2)、式(I−181R2)、式(I−211R2)及び式(I−241R2)で表される化合物に含まれる微量の不純物が影響していると考えられる。このように、本願発明の製造方法は得られる化合物の純度が高いことがわかる。また、本願発明の製造方法によって製造された化合物を使用して製造した表示素子は焼き付きが起こりにくいことがわかる。   The display elements of Comparative Examples 15 to 28 have the same structure, respectively, from Formula (I-1) to Formula (I-5), Formula (I-82), Formula (I-121), and Formula (I-151). , More image sticking was observed as compared with a display element using the compounds represented by the formulas (I-181), (I-211) and (I-241). Formula (I-1R), Formula (I-2R), Formula (I-121R), Formula (I-151R), Formula (I-181R), Formula (I-181R) synthesized by the methods described in Comparative Examples 1 to 14. (I-211R), Formula (I-241R), Formula (I-1R2), Formula (I-2R2), Formula (I-121R2), Formula (I-151R2), Formula (I-181R2), Formula (I-181R2) It is considered that a trace amount of impurities contained in the compounds represented by the formula (I-211R2) and the formula (I-241R2) influences. Thus, it can be seen that the production method of the present invention has high purity of the obtained compound. In addition, it can be seen that a display element manufactured using the compound manufactured by the manufacturing method of the present invention hardly causes image sticking.

以上の結果から、本願発明の製造方法は、少ない工程数によって、且つ高純度で製造することが可能であることから、分子構造中にテトラヒドロピラン−2,5−ジイル基又は1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基と4−アルコキシ−2,3−ジフルオロフェニル基とを有する化合物の製造方法として有用である。また、本願発明の製造方法によって製造された化合物は液晶表示素子用の材料として有用である。   From the above results, since the production method of the present invention can be produced with a small number of steps and with high purity, the tetrahydropyran-2,5-diyl group or 1,3-dioxane It is useful as a method for producing a compound having a -2,5-diyl group and a 4-alkoxy-2,3-difluorophenyl group. Further, the compound produced by the production method of the present invention is useful as a material for a liquid crystal display device.

Claims (20)

下記部分構造(A)、部分構造(AI)、部分構造(D)及び部分構造(DI)
Figure 2019035408
で表される基から選択される1種又は2種以上の基と下記部分構造(Y)、部分構造(Y(F,Cl))、部分構造(Y(Cl,F))及び部分構造(Y(Cl,Cl))
Figure 2019035408
で表される基から選択される1種又は2種以上の基とを有する化合物(i)の製造方法であって、上記部分構造(A)、部分構造(AI)、部分構造(D)及び部分構造(DI)で表される基から選択される1種又は2種以上の基を有する化合物(ia)と、上記部分構造(Y)、部分構造(Y(F,Cl))、部分構造(Y(Cl,F))及び部分構造(Y(Cl,Cl))で表される基から選択される1種又は2種以上の基を有する化合物(ib)とを、遷移金属触媒存在下、カップリングさせることによって製造することを特徴とする製造方法。
The following partial structure (A), partial structure (AI), partial structure (D) and partial structure (DI)
Figure 2019035408
And one or more groups selected from the groups represented by the following partial structures (Y), partial structures (Y (F, Cl)), partial structures (Y (Cl, F)) and partial structures ( Y (Cl, Cl))
Figure 2019035408
A method for producing a compound (i) having one or more groups selected from the groups represented by the following formulas, wherein the partial structure (A), the partial structure (AI), the partial structure (D) and Compound (ia) having one or more groups selected from the group represented by partial structure (DI), the above partial structure (Y), partial structure (Y (F, Cl)), partial structure Compound (ib) having one or more groups selected from groups represented by (Y (Cl, F)) and partial structure (Y (Cl, Cl)) in the presence of a transition metal catalyst And manufacturing by coupling.
化合物(i)が下記一般式(I)
Figure 2019035408
(式中、R及びRは各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、1個の−CH−若しくは隣接していない2個以上の−CH−が各々独立して−O−、−CH=CH−、−CF=CF−又は−C≡C−によって置換されても良い炭素原子数1から20の直鎖状若しくは分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、Aは部分構造(A)、部分構造(AI)、部分構造(D)又は部分構造(DI)で表される基を表し、Aは部分構造(Y)、部分構造(Y(F,Cl))、部分構造(Y(Cl,F))又は部分構造(Y(Cl,Cl))で表される基を表し、A、A、A及びAは各々独立して1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基、テトラヒドロピラン−2,5−ジイル基又は1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は1つ以上の置換基Lによって置換されても良く、Aが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Aが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Aが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Aが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Lはフッ素原子、塩素原子、又は、1個の−CH−隣接していない2個以上の−CH−が各々独立して−O−、−CH=CH−、−CF=CF−又は−C≡C−によって置換されても良い炭素原子数1から20の直鎖状又は分岐状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、Z、Z、Z及びZは各々独立して−OCH−、−CHO−、−CHCH−、−COO−、−OCO−、−CFO−、−OCF−、−CH=CH−、−CF=CF−、−C≡C−又は単結合を表すが、Zが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Zが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Zが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Zが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、m1、m3及びm4は各々独立して0から3の整数を表し、m2は1から3の整数を表すが、m1+m2+m3+m4は1から3の整数を表す。)で表される化合物であり、化合物(ia)が下記一般式(IA)
Figure 2019035408
(式中、R、A、A、A、Z、Z、m1及びm2は一般式(I)と同じ意味を表し、Xはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はp−トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から20の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から20の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表す。)で表される化合物であり、化合物(ib)が下記一般式(IB)
Figure 2019035408
(式中、A、A、A、Z、Z、m3、m4及びRは一般式(I)と同じ意味を表し、Xはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はp−トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から20の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から20の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表すが、Xがフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はp−トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す場合、Xはジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から20の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から20の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表し、Xがジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から20の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から20の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表す場合、Xはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基又はp−トルエンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す。)で表される化合物である、請求項1に記載の製造方法。
Compound (i) has the following general formula (I)
Figure 2019035408
(Wherein, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, or one —CH 2 — or two or more non-adjacent —CH 2 — Represents a linear or branched alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may be substituted by -O-, -CH = CH-, -CF = CF- or -C≡C-; May be substituted with a fluorine atom, and A 0 represents a group represented by partial structure (A), partial structure (AI), partial structure (D) or partial structure (DI); Y is moiety (Y), the partial structure (Y (F, Cl)) , the partial structure (Y (Cl, F)) or a partial structure (Y (Cl, Cl)) represents a group represented by, a 1 , A 2, A 3 and A 4 each independently 1,4-phenylene group, 1,4-cyclohexylene group, It represents a tiger tetrahydropyran-2,5-diyl group or 1,3-dioxane-2,5-diyl group, optionally substituted by these groups or is unsubstituted or 1 or more substituents L 1 When there are a plurality of A 1, they may be the same or different. When there are a plurality of A 2, they may be the same or different. When there are a plurality of A 3, May be the same or different, and when a plurality of A 4 are present, they may be the same or different, and L 1 is a fluorine atom, a chlorine atom, or one —CH 2 — Two or more non-adjacent —CH 2 — each having 1 to 20 carbon atoms which may be independently substituted by —O—, —CH = CH—, —CF = CF— or —C≡C— Represents a linear or branched alkyl group of Any hydrogen atom in the group may be substituted by a fluorine atom, Z 1, Z 2, Z 3 and Z 4 are each independently -OCH 2 -, - CH 2 O -, - CH 2 CH 2 - , -COO -, - OCO -, - CF 2 O -, - OCF 2 -, - CH = CH -, - CF = CF -, - C≡C- or represents a single bond, Z 1 there are a plurality of In those cases, they may be the same or different. When there are a plurality of Z 2, they may be the same or different. When there are a plurality of Z 3, they may be the same or different. And when a plurality of Z 4 are present, they may be the same or different, and m1, m3 and m4 each independently represent an integer of 0 to 3, and m2 represents an integer of 1 to 3. Where m1 + m2 + m3 + m4 represents an integer of 1 to 3. Wherein the compound (ia) is represented by the following general formula (IA)
Figure 2019035408
(Wherein, R 1 , A 0 , A 1 , A 2 , Z 1 , Z 2 , m1 and m2 represent the same meaning as in the general formula (I), and X 1 represents a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine Atom, trifluoromethanesulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group or group selected from p-toluenesulfonyloxy group or dihydroxyboryl group, linear or branched alkoxyboryl group having 2 to 20 carbon atoms or 1 to carbon atoms 20 represents a group selected from cyclic alkoxyboryl groups.) Wherein the compound (ib) is represented by the following general formula (IB)
Figure 2019035408
(Where A 3 , A 4 , A Y , Z 3 , Z 4 , m 3, m 4 and R 2 represent the same meaning as in the general formula (I), and X 2 represents a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine Atom, trifluoromethanesulfonyloxy group, methanesulfonyloxy group or group selected from p-toluenesulfonyloxy group or dihydroxyboryl group, linear or branched alkoxyboryl group having 2 to 20 carbon atoms or 1 to carbon atoms And X 1 represents a group selected from a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a trifluoromethanesulfonyloxy group, a methanesulfonyloxy group, and a p-toluenesulfonyloxy group. when referring to, X 2 is a dihydroxyboryl group, having 2 to 20 carbon atoms linear or branched Arukokishibo Represents a group or a group selected from cyclic Arukokishiboriru group having a carbon number of 1 to 20, X 1 is a dihydroxyboryl group, a linear or branched Arukokishiboriru group or a carbon atom number of from 2 to 20 carbon atoms X 2 represents a group selected from a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, a trifluoromethanesulfonyloxy group, a methanesulfonyloxy group and a p-toluenesulfonyloxy group when representing a group selected from 20 cyclic alkoxyboryl groups. The production method according to claim 1, wherein the compound is represented by the following formula:
化合物(i)が下記一般式(I−i)
Figure 2019035408
(式中、R11及びR21は各々独立して1個の−CH−若しくは隣接していない2個以上の−CH−が各々独立して−O−、−CH=CH−、−CF=CF−又は−C≡C−によって置換されても良く、基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数1から10の直鎖状アルキル基を表し、A01は下記の式(A0−i−1)又は式(A0−i−2)
Figure 2019035408
から選ばれる基を表し、A11、A21、A31及びA41は各々独立して下記の式(A−i−1)から式(A−i−9)
Figure 2019035408
(式中、L11はフッ素原子、塩素原子、又は、1個の−CH−が−O−によって置換されても良く、基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良い炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基を表す。)から選ばれる基を表すが、A11が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、A21が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、A31が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、A41が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Z11、Z21、Z31及びZ41は各々独立して−OCH−、−CHO−、−CHCH−、−COO−、−OCO−、−CFO−、−OCF−又は単結合を表すが、Z11が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Z21が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Z31が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Z41が複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、m11、m31及びm41は各々独立して0、1又は2を表し、m21は1又は2を表すが、m11+m21+m31+m41は1、2又は3を表す。)で表される化合物であり、化合物(ia)が下記の一般式(IA−i)
Figure 2019035408
(式中、R11、A01、A11、A21、Z11、Z21、m11及びm21は一般式(I−i)と同じ意味を表し、X11は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から5の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から10の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表す。)で表される化合物であり、化合物(ib)が下記の一般式(IB−i)
Figure 2019035408
(式中、A31、A41、Z31、Z41、m31、m41及びR21は一般式(I−i)と同じ意味を表し、X21は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基若しくはジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から5の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から10の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表すが、X11が塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す場合、X21はジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から5の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から10の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表し、X11がジヒドロキシボリル基、炭素原子数2から5の直鎖状又は分岐状アルコキシボリル基又は炭素原子数1から10の環状アルコキシボリル基から選ばれる基を表す場合、X21は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基から選ばれる基を表す。)で表される化合物である、請求項1又は請求項2に記載の製造方法。
Compound (i) is represented by the following general formula (Ii)
Figure 2019035408
(In the formula, R 11 and R 21 are each independently one -CH 2 -or two or more non-adjacent -CH 2 -are each independently -O-, -CH = CH-,- CF = CF- or may be substituted by -C≡C-, arbitrary hydrogen atom in the radicals represents a linear alkyl group having from good 1 -C be substituted by a fluorine atom 10, a 01 Is the following formula (A0-i-1) or formula (A0-i-2)
Figure 2019035408
A 11 , A 21 , A 31 and A 41 are each independently a group represented by the following formulas (A-i-1) to (A-i-9)
Figure 2019035408
(Wherein L 11 is a fluorine atom, a chlorine atom, or a carbon atom in which one —CH 2 — may be replaced by —O—, and any hydrogen atom in the group may be replaced by a fluorine atom. Represents a straight-chain alkyl group having 1 to 6 atoms.) When a plurality of A 11 are present, they may be the same or different, and when a plurality of A 21 is present, they may be the same or different and if the a 31 there are a plurality thereof may be the same or different and they if a 41 there are a plurality optionally be the same or different Z 11 , Z 21 , Z 31 and Z 41 each independently represent -OCH 2- , -CH 2 O-, -CH 2 CH 2- , -COO-, -OCO-, -CF 2 O- , -OCF 2 - or represents a single bond, Z 11 is They If the number present may be the same or different and they if Z 21 there are a plurality may be the same or different and they if Z 31 there are a plurality in the same When a plurality of Z 41 are present, they may be the same or different, and m11, m31 and m41 each independently represent 0, 1 or 2, and m21 represents 1 or 2 Where m11 + m21 + m31 + m41 represents 1, 2 or 3. Wherein the compound (ia) is represented by the following general formula (IA-i)
Figure 2019035408
(Wherein, R 11 , A 01 , A 11 , A 21 , Z 11 , Z 21 , m11 and m21 represent the same meaning as in the general formula (Ii), and X 11 represents a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom Or a group selected from a trifluoromethanesulfonyloxy group or a dihydroxyboryl group, a linear or branched alkoxyboryl group having 2 to 5 carbon atoms, or a cyclic alkoxyboryl group having 1 to 10 carbon atoms. Wherein the compound (ib) is represented by the following general formula (IB-i)
Figure 2019035408
(Wherein, A 31 , A 41 , Z 31 , Z 41 , m31, m41 and R 21 represent the same meaning as in the general formula (I-i), and X 21 represents a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom or trifluoromethane. X 11 represents a group selected from a sulfonyloxy group or a dihydroxyboryl group, a linear or branched alkoxyboryl group having 2 to 5 carbon atoms or a cyclic alkoxyboryl group having 1 to 10 carbon atoms; Represents a group selected from a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom or a trifluoromethanesulfonyloxy group, X 21 represents a dihydroxyboryl group, a linear or branched alkoxyboryl group having 2 to 5 carbon atoms or a carbon atom number; X 11 represents a group selected from cyclic alkoxyboryl groups having 1 to 10; X 11 represents a dihydroxyboryl group; X 21 represents a group selected from a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom or a trifluoromethanesulfonyloxy group when representing a group selected from a chain or branched alkoxyboryl group or a cyclic alkoxyboryl group having 1 to 10 carbon atoms. The method according to claim 1, wherein the compound is a compound represented by the following formula:
化合物(i)が下記一般式(I−i−111)
Figure 2019035408
(式中、R11111は炭素原子数1から5の直鎖状アルキル基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニル基を表し、R21111は炭素原子数1から5の直鎖状アルコキシ基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。)で表される化合物であり、化合物(ia)が下記一般式(IA−i−111)
Figure 2019035408
(式中、R11111は一般式(I−i−111)と同じ意味を表し、X11111は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子から選ばれる基を表す。)で表される化合物であり、化合物(ib)が下記一般式(IB−i−111)
Figure 2019035408
(式中、R21111は一般式(I−i−111)と同じ意味を表し、X21111はジヒドロキシボリル基又は4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基を表す。)で表される化合物である、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の製造方法。
Compound (i) has the following general formula (Ii-111)
Figure 2019035408
(Wherein, R 11111 represents a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and R 21111 represents a linear alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.) Or a linear alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms), wherein the compound (ia) is represented by the following general formula (IA-i-111)
Figure 2019035408
(Wherein, R 11111 has the same meaning as in formula (I-i-111), and X 11111 represents a group selected from a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom). (Ib) has the following general formula (IB-i-111)
Figure 2019035408
(Wherein, R 21111 represents the same meaning as in the general formula ( Ii -111), and X 21111 represents a dihydroxyboryl group or 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane-2- The compound according to any one of claims 1 to 3, which is a compound represented by the following formula:
化合物(i)が下記一般式(I−i−112)
Figure 2019035408
(式中、R11112は炭素原子数1から5の直鎖状アルキル基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニル基を表し、R21112は炭素原子数1から5の直鎖状アルコキシ基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。)で表される化合物であり、化合物(ia)が下記一般式(IA−i−112)
Figure 2019035408
(式中、R11112は一般式(I−i−112)と同じ意味を表し、X11112は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子から選ばれる基を表す。)で表される化合物であり、化合物(ib)が下記一般式(IB−i−112)
Figure 2019035408
(式中、R21112は一般式(I−i−112)と同じ意味を表し、X21112はジヒドロキシボリル基又は4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基を表す。)で表される化合物である、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の製造方法。
Compound (i) has the following general formula (I-i-112)
Figure 2019035408
(Wherein, R 11112 represents a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and R 21112 represents a linear alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. Or a linear alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms.) Wherein the compound (ia) is represented by the following general formula (IA-i-112)
Figure 2019035408
(Wherein, R 11112 has the same meaning as in formula (I-i-112), and X 11112 represents a group selected from a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.) (Ib) has the following general formula (IB-i-112)
Figure 2019035408
(Wherein, R 21112 represents the same meaning as in general formula (I-i-112), and X 21112 represents a dihydroxyboryl group or 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane-2- The compound according to any one of claims 1 to 3, which is a compound represented by the following formula:
化合物(i)が下記一般式(I−i−113)
Figure 2019035408
(式中、R11113は炭素原子数1から5の直鎖状アルキル基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニル基を表し、R21113は炭素原子数1から5の直鎖状アルコキシ基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。)で表される化合物であり、化合物(ia)が下記一般式(IA−i−113)
Figure 2019035408
(式中、R11113は一般式(I−i−113)と同じ意味を表し、X11113は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子から選ばれる基を表す。)で表される化合物であり、化合物(ib)が下記一般式(IB−i−113)
Figure 2019035408
(式中、R21113は一般式(I−i−113)と同じ意味を表し、X21113はジヒドロキシボリル基又は4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基を表す。)で表される化合物である、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の製造方法。
Compound (i) has the following general formula (Ii-113)
Figure 2019035408
(Wherein, R 11113 represents a linear alkyl group or linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms having 1 to 5 carbon atoms, R 21113 is a straight chain alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms Or a linear alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms.) Wherein the compound (ia) is represented by the following general formula (IA-i-113)
Figure 2019035408
( Wherein R 11113 has the same meaning as in formula (I-i-113), and X 11113 represents a group selected from a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom). (Ib) has the following general formula (IB-i-113)
Figure 2019035408
(Wherein, R 21113 represents the same meaning as in general formula (I-i-113), and X 21113 represents a dihydroxyboryl group or 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane-2- The compound according to any one of claims 1 to 3, which is a compound represented by the following formula:
化合物(i)が下記一般式(I−i−114)
Figure 2019035408
(式中、R11114は炭素原子数1から5の直鎖状アルキル基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニル基を表し、R21114は炭素原子数1から5の直鎖状アルコキシ基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。)で表される化合物であり、化合物(ia)が下記一般式(IA−i−114)
Figure 2019035408
(式中、R11114は一般式(I−i−114)と同じ意味を表し、X11114は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子から選ばれる基を表す。)で表される化合物であり、化合物(ib)が下記一般式(IB−i−114)
Figure 2019035408
(式中、R21114は一般式(I−i−114)と同じ意味を表し、X21114はジヒドロキシボリル基又は4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基を表す。)で表される化合物である、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の製造方法。
Compound (i) has the following general formula (I-i-114)
Figure 2019035408
(Wherein, R 11114 represents a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and R 21114 represents a linear alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.) Or a linear alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms), wherein the compound (ia) is represented by the following general formula (IA-i-114)
Figure 2019035408
(Wherein, R 11114 represents the same meaning as in formula (I-i-114), and X 11114 represents a group selected from a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom). (Ib) has the following general formula (IB-i-114)
Figure 2019035408
( Wherein , R 21114 represents the same meaning as in general formula (I-i-114), and X 21114 represents a dihydroxyboryl group or 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane-2- The compound according to any one of claims 1 to 3, which is a compound represented by the following formula:
化合物(i)が下記一般式(I−i−115)
Figure 2019035408
(式中、R11115は炭素原子数1から5の直鎖状アルキル基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニル基を表し、R21115は炭素原子数1から5の直鎖状アルコキシ基又は炭素原子数2から5の直鎖状アルケニルオキシ基を表す。)で表される化合物であり、化合物(ia)が下記一般式(IA−i−115)
Figure 2019035408
(式中、R11115は一般式(I−i−115)と同じ意味を表し、X11115は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子から選ばれる基を表す。)で表される化合物であり、化合物(ib)が下記一般式(IB−i−115)
Figure 2019035408
(式中、R21115は一般式(I−i−115)と同じ意味を表し、X21115はジヒドロキシボリル基又は4,4,5,5−テトラメチル−1,3,2−ジオキサボロラン−2−イル基を表す。)で表される化合物である、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の製造方法。
Compound (i) has the following general formula (Ii-115)
Figure 2019035408
(Wherein, R 11115 represents a linear alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a linear alkenyl group having 2 to 5 carbon atoms, and R 21115 represents a linear alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms. Or a linear alkenyloxy group having 2 to 5 carbon atoms), wherein the compound (ia) is represented by the following general formula (IA-i-115)
Figure 2019035408
(Wherein, R 11115 represents the same meaning as in formula (I-i-115), and X 11115 represents a group selected from a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.) (Ib) has the following general formula (IB-i-115)
Figure 2019035408
(Wherein, R 21115 represents the same meaning as in the general formula ( Ii -115), and X 21115 represents a dihydroxyboryl group or 4,4,5,5-tetramethyl-1,3,2-dioxaborolane-2- The compound according to any one of claims 1 to 3, which is a compound represented by the following formula:
請求項1に記載の部分構造(A)、部分構造(AI)、部分構造(D)及び部分構造(DI)で表される基から選択される1種又は2種以上の基を有する化合物(ia)と、部分構造(Y)、部分構造(Y(F,Cl))、部分構造(Y(Cl,F))及びは部分構造(Y(Cl,Cl))で表される基から選択される1種又は2種以上の基を有する化合物(ib)と、遷移金属化合物とを含有する混合物。   A compound having one or more groups selected from the groups represented by partial structure (A), partial structure (AI), partial structure (D) and partial structure (DI) according to claim 1 ( ia), a partial structure (Y), a partial structure (Y (F, Cl)), a partial structure (Y (Cl, F)) and a group represented by the partial structure (Y (Cl, Cl)) A mixture containing a compound (ib) having one or more groups to be obtained and a transition metal compound. 請求項1から請求項8のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された化合物を、シリカゲルを使用して精製することを特徴とする製造方法。   9. A production method, wherein the compound produced by the production method according to any one of claims 1 to 8 is purified using silica gel. 請求項1から請求項8又は請求項10のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された化合物を、再結晶によって精製することを特徴とする製造方法。   A production method characterized by purifying a compound produced by the production method according to any one of claims 1 to 8 or 10 by recrystallization. 請求項1から請求項8、請求項10又は請求項11のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された化合物と有機溶媒を含む混合物から、減圧下濃縮することによって有機溶媒を除去する工程を含むことを特徴とする製造方法。   12. A step of removing an organic solvent from a mixture containing the compound and the organic solvent produced by the production method according to any one of claims 1 to 8, 10, and 11 by concentrating the mixture under reduced pressure. The manufacturing method characterized by including. 化合物(ia)と遷移金属化合物を含有する混合物に対し、化合物(ib)を加えることを特徴とする請求項1から請求項8、請求項10から請求項12のいずれか一項に記載の製造方法。   The production according to any one of claims 1 to 8, wherein the compound (ib) is added to a mixture containing the compound (ia) and the transition metal compound. Method. 請求項1から請求項8、請求項10から請求項13のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された化合物(i)を含む組成物。   A composition comprising the compound (i) produced by the production method according to any one of claims 1 to 8 and 10 to 13. 請求項1から請求項8、請求項10から請求項13のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された化合物(i)と下記一般式(X1)
Figure 2019035408
(式中、R及びRは各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、1個の−CH−若しくは隣接していない2個以上の−CH−が各々独立して−O−、−CH=CH−、−CF=CF−又は−C≡C−によって置換されても良い炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、A及びAは各々独立して1,4−フェニレン基又は1,4−シクロヘキシレン基を表すが、これらの基は無置換であるか又は1つ以上の置換基LX1によって置換されても良く、Aが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Aが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、LX1はフッ素原子を表し、Z及びZは各々独立して−OCH−、−CHO−、−CHCH−、−CFO−、−OCF−、−C≡C−又は単結合を表すが、Zが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、Zが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、m5及びm6は各々独立して0から3の整数を表すが、m5+m6は0から3の整数を表す。)で表される化合物とを含む請求項14記載の組成物。
The compound (i) produced by the production method according to any one of claims 1 to 8, and claims 10 to 13, and the following general formula (X1)
Figure 2019035408
(Wherein, R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, or one —CH 2 — or two or more non-adjacent —CH 2 — —O—, —CH = CH—, —CF = CF— or —C≡C— represents a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted by any one of the alkyl groups. The hydrogen atom may be substituted by a fluorine atom, and A 5 and A 6 each independently represent a 1,4-phenylene group or a 1,4-cyclohexylene group, but these groups are unsubstituted or It may be substituted by one or more substituents L X1 , and when there are a plurality of A 5, they may be the same or different, and when there are a plurality of A 6, they may be the same or different L X1 represents a fluorine atom, Z 5 and Z -OCH 2 6 are each independently -, - CH 2 O -, - CH 2 CH 2 -, - CF 2 O -, - OCF 2 -, - C≡C- or represents a single bond, is Z 5 When a plurality of Z 6 are present, they may be the same or different. When a plurality of Z 6 exist, they may be the same or different, and m5 and m6 are each independently an integer of 0 to 3. Wherein m5 + m6 represents an integer of 0 to 3.).
請求項1から請求項8、請求項10から請求項13のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された化合物(i)と下記一般式(X2)
Figure 2019035408
(式中、R及びRは各々独立して水素原子、フッ素原子、塩素原子、又は、1個の−CH−若しくは隣接していない2個以上の−CH−が各々独立して−O−、−CH=CH−、−CF=CF−又は−C≡C−によって置換されても良い炭素原子数1から6の直鎖状アルキル基を表すが、当該アルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子に置換されても良く、A及びAは各々独立して1,4−フェニレン基又は1,4−シクロヘキシレン基を表すが、これらの基は無置換であるか又は1つ以上の置換基LX2によって置換されても良く、Aが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、LX2はフッ素原子を表し、Zは−OCH−、−CHO−、−CHCH−、−CFO−、−OCF−、−C≡C−又は単結合を表すが、Zが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、m7は各々独立して0から3の整数を表す。)で表される化合物とを含む請求項14又は請求項15記載の組成物。
A compound (i) produced by the production method according to any one of claims 1 to 8, and claims 10 to 13, and a compound represented by the following general formula (X2)
Figure 2019035408
(Wherein, R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, or one —CH 2 — or two or more non-adjacent —CH 2 — —O—, —CH = CH—, —CF = CF— or —C≡C— represents a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may be substituted by any one of the alkyl groups. The hydrogen atom may be substituted by a fluorine atom, and A 7 and A 8 each independently represent a 1,4-phenylene group or a 1,4-cyclohexylene group, but these groups are unsubstituted or It may be substituted by one or more substituents L X2 , and when A 7 is present in plurals, they may be the same or different, L X2 represents a fluorine atom, and Z 7 represents —OCH 2 —. , -CH 2 O -, - CH 2 CH 2 -, - CF 2 O -, - It represents OCF 2 —, —C≡C— or a single bond, and when a plurality of Z 7 are present, they may be the same or different, and m 7 each independently represents an integer of 0 to 3. The composition according to claim 14 or 15, comprising a compound represented by the formula:
請求項1から請求項8、請求項10から請求項13のいずれか一項に記載の製造方法によって製造された化合物(i)と下記一般式(X3)
Figure 2019035408
(式中、Rは各々独立して水素原子、又は、1個の−CH−若しくは隣接していない2個以上の−CH−が各々独立して−O−、−COO−、−OCO−、−CH=CH−、−CF=CF−又は−C≡C−によって置換されても良い炭素原子数1から25の直鎖状又は分岐状アルキル基を表し、Aは1,4−フェニレン基、1,4−シクロヘキシレン基又は1,3−ジオキサン−2,5−ジイル基を表すが、これらの基は無置換であるか又は1つ以上の置換基LX3によって置換されても良く、Aが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、LX3はフッ素原子、又は、1個の−CH−隣接していない2個以上の−CH−が各々独立して−O−によって置換されても良い炭素原子数1から20の直鎖状又は分岐状アルキル基を表し、Zは−OCH−、−CHO−、−CHCH−、−COO−、−OCO−、−COO−CHCH−、−OCO−CHCH−、−CHCH−COO−、−CHCH−OCO−又は単結合を表すが、Zが複数存在する場合それらは同一であっても異なっていても良く、m8は各々独立して0から3の整数を表す。)で表される化合物とを含む請求項14から請求項16のいずれか一項に記載の組成物。
The compound (i) produced by the production method according to any one of claims 1 to 8, and claims 10 to 13, and the following general formula (X3)
Figure 2019035408
(Wherein, R 7 is each independently a hydrogen atom, or one -CH 2 -or two or more non-adjacent -CH 2 -are each independently -O-, -COO-,- OCO -, - CH = CH - , - CF = CF- or -C≡C- represents a linear or branched alkyl group having 25 good 1 -C be replaced by, a 9 is 1,4 Represents a phenylene group, a 1,4-cyclohexylene group or a 1,3-dioxane-2,5-diyl group, these groups being unsubstituted or substituted by one or more substituents L X3 It is good, if the a 9 there are a plurality thereof may be different even in the same, L X3 is fluorine atom, or one -CH 2 - not adjacent two or more -CH 2 - Each independently has 1 to 20 carbon atoms which may be substituted by -O-. Represents a linear or branched alkyl group, Z 8 is -OCH 2 -, - CH 2 O -, - CH 2 CH 2 -, - COO -, - OCO -, - COO-CH 2 CH 2 -, - Represents OCO-CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 —COO—, —CH 2 CH 2 —OCO— or a single bond, and when a plurality of Z 8 are present, they may be the same or different And m8 independently represents an integer of 0 to 3.) The compound of any one of claims 14 to 16.
請求項14から請求項17のいずれか一項に記載の組成物からなるn型液晶材料。   An n-type liquid crystal material comprising the composition according to any one of claims 14 to 17. 請求項14から請求項17のいずれか一項に記載の組成物又はn型液晶材料を使用した表示素子。   A display element using the composition or the n-type liquid crystal material according to any one of claims 14 to 17. 請求項14から請求項19のいずれか一項に記載の組成物、n型液晶材料又は表示素子を使用したパーソナルコンピュータ、スマートフォン、テレビ、モニター、ドローン、デジタルサイネージ、電子黒板、家電製品、販売機、券売機、改札機、携帯機器、制御装置、製造装置、現金自動預払機、キャッシュレジスター、カーナビゲーションシステム、ゲーム機、装飾機材、舞台設備、車載モニター、運搬機器、自動車、鉄道、リニアモーターカー、航空機、船舶及び宇宙船。   20. A personal computer, a smartphone, a television, a monitor, a drone, a digital signage, an electronic blackboard, a home appliance, a vending machine using the composition according to any one of claims 14 to 19, an n-type liquid crystal material or a display element. , Ticket vending machines, ticket gates, portable equipment, control equipment, manufacturing equipment, automatic teller machines, cash registers, car navigation systems, game machines, decorative equipment, stage equipment, on-board monitors, transport equipment, automobiles, railways, linear motor cars , Aircraft, ships and spacecraft.
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