JPWO2018116335A1 - ガス発生装置 - Google Patents
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Abstract
Description
この発明の実施の形態1であるガス発生装置に関し、図1〜図4を参照して説明する。図1〜図4の概要は以下の通りである。図1はこの発明の実施の形態1であるガス発生装置の電源・ガス制御ユニットの内部構成を模式的に示す説明図である。図2は実施の形態1のガス発生装置の複数のガス発生器ユニットの構成を模式的に示す説明図である。図3は実施の形態1のガス発生装置を正面から視た各構成部の一配置例の概要を示す説明図である。図4は実施の形態1のガス発生装置の裏面から視た各構成部の配管の一配置例の概要を示す説明図である。
本発明の全体構成としては、図3及び図4に示すように、実施の形態1のガス発生装置1における、電源・ガス制御ユニット3と各々がガス発生器(オゾン発生器)43を有する6台のガス発生器ユニット4a〜4f(複数のガス発生器ユニット)との配置例を示しており、ガス配管の配置構成、電気配線の配置構成を示している。
この発明の実施の形態2であるガス発生装置1Bに関し、図5及び図6を参照して説明する。図5はこの発明の実施の形態2であるガス発生装置の電源・ガス制御ユニットの内部構成を模式的に示す説明図である。図6は実施の形態2のガス発生装置の裏面から視た各構成部及び配管の一配置例の概要を示す説明図である。
この発明の実施の形態3であるガス発生装置1Cに関し、図7及び図8を参照して説明する。図7はこの発明の実施の形態3であるガス発生装置の電源・ガス制御ユニットの内部構成を模式的に示す説明図である。図8は実施の形態3のガス発生装置の裏面から視た各構成部及び配管の一配置例の概要を示す説明図である。
この発明は特に、半導体製造工程で利用する出力ガスを発生するガス発生装置に説明されたが、上記したガス発生装置のビジネスモデル発明として、すべての局面において、例示であって、この発明がそれに限定されるものではない。例示されていない無数の変形例が、この発明の範囲から外れることなく想定され得るものと解される。
3,3B,3C 電源・ガス制御ユニット
31 表示・操作パネル
37 CPU基板
38a〜38f MFC
38g 外部用MFC
39a〜39f ガス濃度計
43 ガス発生器
44 トランス
301a〜301f APC
301g 外部用APC
3001,3001C 多交流電源部
3002,3002C 制御・操作部構成部
3003,3003B,3003C ガス制御部
Claims (7)
- 各々が出力ガスを発生するガス発生器(43)を有する複数のガス発生器ユニット(4a〜4f)を備えるガス発生装置であって、
前記複数のガス発生器ユニット間で共有され、前記複数のガス発生器ユニットに複数の交流電圧を供給する多交流電源部(3001,3001C)と、
前記複数のガス発生器ユニット間で共有され、前記複数のガス発生器ユニットが供給する原料ガス、及び、前記複数のガス発生器ユニットが発生する出力ガスを制御するガス制御部(3003,3003B,3003C)とを備え、
前記ガス制御部は、
前記複数のガス発生器ユニットに対応して設けられ、各々が対応するガス発生器ユニットに入力される原料ガスの流量である原料ガス流量を制御する、複数のマスフローコントローラ(MFC)(38a〜38f)と、
前記複数のガス発生器ユニットに対応して設けられ、各々が対応するガス発生器ユニットのガス発生器内の圧力である内部圧力を制御する、複数のオートプレッシャコントローラ(APC)(301a〜301f)と、
前記複数のガス発生器ユニットに対応して設けられ、各々が対応するガス発生器ユニットのガス発生器が出力する出力ガスの濃度を検出濃度として検出する、複数のガス濃度計(39a〜39f)とを含み、
前記ガス発生装置は、
前記多交流電源部に対する交流電力制御動作を実行する交流電源制御部(3002,3002C)をさらに備え、
前記交流電力制御動作は、前記複数の交流電圧に関し、少なくとも、対応するガス濃度計で検出された検出濃度に基づき、対応する交流電圧の電力量を制御する動作を含み、
前記複数のガス発生器ユニット、前記多交流電源部、前記ガス制御部及び前記交流電源制御部が一体的に設けられる、
ガス発生装置。 - 請求項1記載のガス発生装置であって、
前記複数のMFCはそれぞれ原料ガス流量を検出ガス流量として検出し、前記複数のAPCはそれぞれ対応するガス発生器ユニットの出力側の圧力を検出圧力として検出し、
前記交流電力制御動作は、対応するMFCで検出された検出ガス流量に加え、対応するガス濃度計で検出された検出濃度、及び、対応するAPCで検出された検出圧力に基づき、対応する交流電圧の電力量を制御する、
ガス発生装置。 - 請求項1記載のガス発生装置であって、
前記原料ガスは酸素ガスを含み、前記出力ガスはオゾンガスを含み、
前記ガス発生器は酸素ガスからオゾンガスを発生するオゾン発生器であり、前記複数のガス発生器ユニットは複数のオゾンガス発生器ユニットである、
ガス発生装置。 - 請求項1記載のガス発生装置であって、
前記原料ガスは互いに異なる複数種の原料ガスを含み、
前記ガス制御部(3003B,3003C)は、前記複数種の原料ガスがそれぞれ前記複数のガス発生器ユニットのうち対応するガス発生器ユニットに供給されるように設けられた原料ガス経路を有し、
前記出力ガスは前記複数種の原料ガスに対応した複数種の出力ガスを含む、
ガス発生装置。 - 請求項4記載のガス発生装置であって、
前記複数種の原料ガスは、酸素ガスである第1の部分原料ガスと、炭素系ガス、水素系ガス、窒素系ガス及びフッ素系ガスのうち少なくとも一つである第2の部分原料ガスを前記第1の部分原料ガスに添加した混合原料ガスを含む、
ガス発生装置。 - 請求項1から請求項5のうち、いずれか1項に記載のガス発生装置であって、
前記複数のガス発生器ユニット、前記多交流電源部、前記ガス制御部及び前記交流電源制御部とは分離して外部に設けられ、ガス発生器を有する外部ガス発生器ユニット(4g)をさらに備え、
前記多交流電源部(3001C)は、前記外部ガス発生器ユニットに外部交流電圧をさらに供給し、
前記ガス制御部(3003C)は、前記外部ガス発生器ユニットが発生する出力ガスを制御し、
前記ガス制御部は、
前記外部ガス発生器ユニットに入力される原料ガスの流量である原料ガス流量を制御する、外部用MFC(38g)と、
前記外部ガス発生器ユニットのガス発生器内の圧力である内部圧力を制御する外部用APC(301g)とをさらに含み、
前記外部用MFCは前記外部ガス発生器ユニットに入力される原料ガス流量を外部検出ガス流量として検出し、前記外部用APCは前記外部ガス発生器ユニットの入力側の圧力を外部検出圧力として検出し、
前記交流電源制御部(3002C)が実行する前記交流電力制御動作は、前記外部用MFCで検出された外部検出ガス流量、及び前記外部用APCで検出された外部検出圧力に基づき、前記外部交流電圧の電力量を制御する動作をさらに含む、
ガス発生装置。 - 請求項6記載のガス発生装置であって、
前記複数のガス発生器ユニットが発生する出力ガスは、オゾンガス、酸素ガス、水素ガス、窒素ガス及びフッ素ガスのうち、いずれか一つを含み、
前記外部ガス発生器ユニットが発生する出力ガスは、酸素ラジカルガス、水素ラジカルガス、窒素ラジカルガス、フッ素ラジカルガスのうち、少なくとも一つのラジカルガスを含み、
前記外部ガス発生器ユニットは、外部のガス処理装置に直接ラジカルガスを出力するように、前記ガス処理装置に直結される、
ガス発生装置。
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