JPWO2016009691A1 - マイクロ波加熱照射装置 - Google Patents
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Abstract
Description
現状、マイクロ波伝送技術は小規模な装置に適用される例が多い。しかしながら、例えば製鉄システムのように、大規模かつ大電力の装置の開発も求められている。
実施の形態1.
図1はこの発明の実施の形態1に係るマイクロ波加熱照射装置の構成を示す図である。
マイクロ波加熱照射装置は、図1に示すように、反応炉1、蓋2、マイクロ波放射源3及び回転二次曲面鏡4から構成される。
なお、反応炉1、蓋2及び回転二次曲面鏡4の構成材料は適宜選択してよい。
マイクロ波放射源3からマイクロ波が照射されると、このマイクロ波は、回転二次曲面鏡4を介して蓋2の穴21の位置に一旦集束され、反応炉1内の試料50に向けて発散しながら照射される。そして、試料50に照射されたマイクロ波のうちの一部は、試料50での反応により熱となって吸収される。一方、吸収されなかったマイクロ波は、反射波105となって、試料50への入射方向とは逆方向に反射する。
図3はこの発明の実施の形態2に係るマイクロ波加熱照射装置の構成を示す図である。 図3に示す実施の形態2に係るマイクロ波加熱照射装置は、図1に示す実施の形態1に係るマイクロ波加熱照射装置のマイクロ波放射源3及び回転二次曲面鏡4を2系統設け、各系統の第2の焦点104を蓋2の1つの穴21の位置に設定したものである。なお図では、各系統を区別するため、各構成の符号に接尾記号(a,b)を付して示している。その他の構成は同様であり、同一の符号を付してその説明を省略する。
図4はこの発明の実施の形態3に係るマイクロ波加熱照射装置の構成を示す図であり、図5は蓋10の構成を示す上面図である。図4,5に示す実施の形態3に係るマイクロ波加熱照射装置は、図1に示す実施の形態1に係るマイクロ波加熱照射装置のマイクロ波放射源3及び回転二次曲面鏡4を4系統設け、蓋2に4つの穴21を設けて、各系統の第2の焦点104を互いに異なる穴21の位置に設定したものである。なお図では、各系統を区別するため、各構成の符号に接尾記号(a〜d)を付して示している。その他の構成は同様であり、同一の符号を付してその説明を省略する。
図6はこの発明の実施の形態4に係るマイクロ波加熱照射装置の構成を示す図である。
図6に示す実施の形態4に係るマイクロ波加熱照射装置は、図1に示す実施の形態1に係るマイクロ波加熱照射装置の蓋2の裏面(反応炉1の内側と対向する面)に凹凸部22を設けたものである。その他の構成は同様であり、同一の符号を付してその説明を省略する。
図7はこの発明の実施の形態5に係るマイクロ波加熱照射装置の構成を示す図である。
図7に示す実施の形態5に係るマイクロ波加熱照射装置は、図1に示す実施の形態1に係るマイクロ波加熱照射装置の反応炉1の内側の側壁に凹凸部11を設けたものである。その他の構成は同様であり、同一の符号を付してその説明を省略する。
図8はこの発明の実施の形態6に係るマイクロ波加熱照射装置の構成を示す図である。
図8に示す実施の形態6に係るマイクロ波加熱照射装置は、図1に示す実施の形態1に係るマイクロ波加熱照射装置の蓋2の裏面(反応炉1の内側と対向する面)に凹凸部22を設け、反応炉1の内側の側壁に凹凸部11を設けたものである。その他の構成は同様であり、同一の符号を付してその説明を省略する。
図9はこの発明の実施の形態7に係るマイクロ波加熱照射装置の構成を示す図であり、図10は蓋10の構成を示す上面図である。図9,10に示す実施の形態7に係るマイクロ波加熱照射装置は、図1に示す実施の形態1に係るマイクロ波加熱照射装置の蓋2の穴21にカバー5を設けたものである。その他の構成は同様であり、同一の符号を付してその説明を省略する。
図11はこの発明の実施の形態8に係るマイクロ波加熱照射装置の構成を示す図である。
図11に示す実施の形態8に係るマイクロ波加熱照射装置は、図1に示す実施の形態1に係るマイクロ波加熱照射装置に加熱部6を設けたものである。その他の構成は同様であり、同一の符号を付してその説明を省略する。
図12はこの発明の実施の形態9に係るマイクロ波加熱照射装置の構成を示す図である。
図12に示す実施の形態9に係るマイクロ波加熱照射装置は、図1に示す実施の形態1に係るマイクロ波加熱照射装置のマイクロ波放射源3をアクティブフェーズドアレーアンテナ7としたものである。その他の構成は同様であり、同一の符号を付してその説明を省略する。
Claims (18)
- マイクロ波が照射されることで、内部に収められた試料を加熱させる反応炉と、
前記反応炉に設けられ、1つの穴を有する蓋と、
前記反応炉の外側に配置され、マイクロ波を照射する1つのマイクロ波放射源と、
前記反応炉の上方に配置され、前記マイクロ波放射源により照射されたマイクロ波を、前記蓋の穴を介して前記反応炉に反射する回転二次曲面鏡と
を備えたマイクロ波加熱照射装置。 - マイクロ波が照射されることで、内部に収められた試料を加熱させる反応炉と、
前記反応炉に設けられ、1つの穴を有する蓋と、
前記反応炉の外側に配置され、マイクロ波を照射する複数のマイクロ波放射源と、
前記複数のマイクロ波放射源に対応して前記反応炉の上方に複数配置され、対応する当該マイクロ波放射源により照射されたマイクロ波を、前記蓋の穴を介して前記反応炉に反射する回転二次曲面鏡と
を備えたマイクロ波加熱照射装置。 - マイクロ波が照射されることで、内部に収められた試料を加熱させる反応炉と、
前記反応炉に設けられ、複数の穴を有する蓋と、
前記反応炉の外側に配置され、マイクロ波を照射する複数のマイクロ波放射源と、
前記複数のマイクロ波放射源に対応して前記反応炉の上方に複数配置され、対応する当該マイクロ波放射源により照射されたマイクロ波を、互いに異なる前記蓋の穴を介して前記反応炉に反射する複数の回転二次曲面鏡と
を備えたマイクロ波加熱照射装置。 - 前記蓋の前記反応炉の内側に対向する面に設けられ、マイクロ波を乱反射させる凹凸部を備えた
ことを特徴とする請求項1記載のマイクロ波加熱照射装置。 - 前記蓋の前記反応炉の内側に対向する面に設けられ、マイクロ波を乱反射させる凹凸部を備えた
ことを特徴とする請求項2記載のマイクロ波加熱照射装置。 - 前記蓋の前記反応炉の内側に対向する面に設けられ、マイクロ波を乱反射させる凹凸部を備えた
ことを特徴とする請求項3記載のマイクロ波加熱照射装置。 - 前記反応炉の内側の側壁に設けられ、マイクロ波を乱反射させる凹凸部を備えた
ことを特徴とする請求項1記載のマイクロ波加熱照射装置。 - 前記反応炉の内側の側壁に設けられ、マイクロ波を乱反射させる凹凸部を備えた
ことを特徴とする請求項2記載のマイクロ波加熱照射装置。 - 前記反応炉の内側の側壁に設けられ、マイクロ波を乱反射させる凹凸部を備えた
ことを特徴とする請求項3記載のマイクロ波加熱照射装置。 - 前記蓋の穴に設けられ、マイクロ波を通過させるカバーを備えた
ことを特徴とする請求項1記載のマイクロ波加熱照射装置。 - 前記蓋の穴に設けられ、マイクロ波を通過させるカバーを備えた
ことを特徴とする請求項2記載のマイクロ波加熱照射装置。 - 前記蓋の穴に設けられ、マイクロ波を通過させるカバーを備えた
ことを特徴とする請求項3記載のマイクロ波加熱照射装置。 - 前記反応炉の外部に設けられ、当該反応炉を加熱する加熱部を備えた
ことを特徴とする請求項1記載のマイクロ波加熱照射装置。 - 前記反応炉の外部に設けられ、当該反応炉を加熱する加熱部を備えた
ことを特徴とする請求項2記載のマイクロ波加熱照射装置。 - 前記反応炉の外部に設けられ、当該反応炉を加熱する加熱部を備えた
ことを特徴とする請求項3記載のマイクロ波加熱照射装置。 - 前記マイクロ波放射源は、放射するマイクロ波の振幅及び位相を調整自在なアクティブフェーズドアレーアンテナである
ことを特徴とする請求項1記載のマイクロ波加熱照射装置。 - 前記マイクロ波放射源は、放射するマイクロ波の振幅及び位相を調整自在なアクティブフェーズドアレーアンテナである
ことを特徴とする請求項2記載のマイクロ波加熱照射装置。 - 前記マイクロ波放射源は、放射するマイクロ波の振幅及び位相を調整自在なアクティブフェーズドアレーアンテナである
ことを特徴とする請求項3記載のマイクロ波加熱照射装置。
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