JPWO2014156455A1 - Cell culture tool - Google Patents

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JPWO2014156455A1 JP2015508202A JP2015508202A JPWO2014156455A1 JP WO2014156455 A1 JPWO2014156455 A1 JP WO2014156455A1 JP 2015508202 A JP2015508202 A JP 2015508202A JP 2015508202 A JP2015508202 A JP 2015508202A JP WO2014156455 A1 JPWO2014156455 A1 JP WO2014156455A1
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Abstract

細胞を培養面の周囲に移動させることなく培養する。ウェル(10)は、容器本体(11)と培養担体(12)とを備える。培養担体(12)は、細胞を培養する培養面(12a)に複数の孔が形成されており凹凸がある。培養担体(12)の培養面(12a)から深さ0.1μmまでの範囲における容積率は5%以上80%以下の範囲であり、培養面(12a)における開口率は30%以上95%以下の範囲である。容器本体は、ポリスチレン製の円筒部材(15)と、低親和性部(16)とから構成されている。低親和性部(16)は、円筒部材(15)の側壁内面を覆う被膜として形成されている。低親和性部(16)は、PEGにより形成されており、培養面(12a)よりも細胞との親和性が低い。The cells are cultured without moving around the culture surface. The well (10) includes a container body (11) and a culture carrier (12). The culture carrier (12) has a plurality of holes on the culture surface (12a) for culturing cells, and has irregularities. The volume ratio of the culture carrier (12) in the range from the culture surface (12a) to the depth of 0.1 μm is in the range of 5% to 80%, and the opening ratio in the culture surface (12a) is 30% to 95%. Range. The container body is composed of a cylindrical cylindrical member (15) and a low affinity part (16). The low affinity part (16) is formed as a coating covering the inner surface of the side wall of the cylindrical member (15). The low affinity part (16) is formed of PEG and has a lower affinity for cells than the culture surface (12a).

Description

本発明は、細胞を培養する細胞培養用具に関する。   The present invention relates to a cell culture device for culturing cells.

微小な孔がフィルム面に沿って複数並んで形成されることによりハニカム構造とされたハニカム構造フィルムは、細胞を培養する培養担体として利用されている。このハニカム構造フィルムは、例えば、結露法により製造される。結露法は、フィルムを形成するための溶液を流延して流延膜を形成し、この流延膜に結露させて溶媒と水滴とを蒸発させることによりフィルムを製造する方法である。この結露法によると、極めて微小な孔が形成されるので、得られるフィルムは、細胞を培養する培養面が平坦なフィルム及び細胞培養シャーレに比べて、伸長が抑えられた細胞がうまれやすいとともにスフェロイド(細胞凝集体)が形成しやすい。   A honeycomb structure film having a honeycomb structure by forming a plurality of minute holes side by side along the film surface is used as a culture carrier for culturing cells. This honeycomb structure film is manufactured by, for example, a dew condensation method. The dew condensation method is a method for producing a film by casting a solution for forming a film to form a cast film, and condensing the cast film to evaporate a solvent and water droplets. According to this dew condensation method, extremely small pores are formed, and the resulting film is more susceptible to erosion of cells with reduced elongation compared to films with flat culture surfaces and cell culture dishes. (Cell aggregates) are easily formed.

スフェロイドは、生体に類似した挙動を示すために、生体外で生体内の細胞挙動を模倣した実験を行う場合等に非常に有用である。このようにスフェロイドを形成する培養担体としては、結露法で形成されたハニカム構造フィルムの他に、ナノインプリント法を用いて製造されたものがある。例えば、特許文献1の培養担体は、ナノインプリント法により、培養面におけるセル間の幅が3μm以下、深さが10nm以上で、培養面の垂直方向からみたセルの形状が多角形とされている。このように、特許文献1の培養担体も結露法で形成されたハニカム構造フィルムと同様に、培養面に微小な凹部をもつ。   Since spheroids exhibit behavior similar to that of a living body, spheroids are very useful when performing experiments that mimic cell behavior in vivo outside the body. As a culture carrier for forming spheroids in this way, there is one produced using a nanoimprint method in addition to a honeycomb structure film formed by a dew condensation method. For example, the culture carrier of Patent Document 1 has a cell-to-cell width of 3 μm or less and a depth of 10 nm or more on the culture surface by a nanoimprint method, and the cell shape viewed from the direction perpendicular to the culture surface is a polygon. As described above, the culture carrier of Patent Document 1 also has a minute recess on the culture surface, like the honeycomb structure film formed by the dew condensation method.

また、特許文献2の培養容器は、培養床と親水性の層とを備える。培養床は培養容器の内面の細胞が接触する部分に設けられ、親水性の層は培養容器の内面の培養液が接触する部分に設けられる。これにより、特許文献2の培養容器は、培養床以外の部分に生理活性物質が接着することを防止するとともに、細胞の接着も防止している。   Moreover, the culture container of patent document 2 is equipped with a culture bed and a hydrophilic layer. The culture bed is provided in a portion where the cells on the inner surface of the culture vessel are in contact, and the hydrophilic layer is provided in a portion where the culture solution is in contact with the inner surface of the culture vessel. As a result, the culture container of Patent Document 2 prevents the physiologically active substance from adhering to a portion other than the culture bed and also prevents cell adhesion.

特許第4159103号公報Japanese Patent No. 4159103 特開2004−290111号公報JP 2004-290111 A

しかしながら、結露法により得られたハニカム構造フィルムを培養担体とし、この培養担体を培養容器に入れて細胞を培養すると、細胞が培養担体の周囲に移動してしまい、目的とする数の細胞が培養担体上に残らない。この現象は、特許文献1の培養担体を用いた場合も同様に確認される。このように、細胞が周囲に移動してしまう現象は、培養面に凹凸が形成され、凹部と凸部とのいずれか一方の大きさが50nm以上50μm以下の範囲内である場合に特に顕著である。また、特許文献2の培養容器は、細胞を積極的に接着する培養担体を備えており、そもそも細胞が遊走せず、培養担体の周囲へ移動することがない。したがって、特許文献2に記載される発明は、ハニカム構造フィルムのように細胞が移動してしまう培養担体を用いた場合の解決策にはならない。   However, when a honeycomb structure film obtained by the dew condensation method is used as a culture carrier, and the culture carrier is placed in a culture vessel and cells are cultured, the cells move around the culture carrier, and the desired number of cells are cultured. Does not remain on the carrier. This phenomenon is similarly confirmed when the culture carrier of Patent Document 1 is used. As described above, the phenomenon that the cells move to the surroundings is particularly prominent when irregularities are formed on the culture surface and the size of either the concave portion or the convex portion is in the range of 50 nm to 50 μm. is there. Moreover, the culture container of patent document 2 is equipped with the culture support | carrier which adheres a cell positively, a cell does not migrate to the first place, and does not move to the circumference | surroundings of a culture support | carrier. Therefore, the invention described in Patent Document 2 is not a solution when using a culture carrier in which cells move like a honeycomb structure film.

そこで本発明は、凹凸が形成された培養面をもつ培養担体を備え、細胞の培養面の周囲への移動を抑制しながら、細胞を培養する細胞培養用具を提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a cell culture device that includes a culture carrier having a culture surface on which irregularities are formed, and that cultivates cells while suppressing the movement of cells to the periphery of the culture surface.

上記課題を解決するために、本発明の細胞培養用具は、培養担体と低親和性部とを備えている。培養担体は、細胞を培養する培養面に凹凸が形成され、前記培養面から深さ0.1μmまでの範囲における容積率が5%以上80%以下の範囲内であり、前記培養面における開口率が30%以上95%以下の範囲内である。低親和性部は、培養面の周囲を囲んで設けられ、細胞との親和性が培養面よりも低い。   In order to solve the above problems, the cell culture instrument of the present invention includes a culture carrier and a low affinity part. The culture carrier has irregularities formed on the culture surface for culturing cells, the volume ratio in the range from the culture surface to a depth of 0.1 μm is in the range of 5% to 80%, and the open area ratio in the culture surface Is in the range of 30% to 95%. The low affinity part is provided so as to surround the periphery of the culture surface, and has a lower affinity with the cell than the culture surface.

低親和性部は、培養面に対して起立した姿勢で設けられていることが好ましい。培養液を収容し、内面が低親和性部により形成されている容器本体を備え、培養担体が容器本体の底に設けられていることが好ましく、培養面は、容器本体の内部の側面から離間して形成されていることが好ましい。   It is preferable that the low affinity part is provided in an upright posture with respect to the culture surface. It is preferable that the container body contains a culture medium and has an inner surface formed by a low-affinity part, and the culture carrier is provided at the bottom of the container body, and the culture surface is separated from the inner side surface of the container body. It is preferable that it is formed.

培養担体は、一定の大きさの凹部が培養面に沿って複数並んで形成されることにより、培養面を垂直方向からみたときにハニカム構造とされているフィルムであること、または、一定の高さ及び形状をもつ複数の凸部が培養面に沿って並んで形成されているフィルムであることが好ましい。   The culture carrier is a film having a honeycomb structure when the culture surface is viewed from the vertical direction by forming a plurality of concave portions having a certain size along the culture surface, or a certain height. It is preferable that it is a film in which a plurality of convex portions having a thickness and a shape are formed side by side along the culture surface.

本発明によると、凹凸が形成された培養面の周囲に低親和性部を設けているので、細胞の培養面の周囲への移動を抑制しながら、細胞を培養することができる。   According to the present invention, since the low affinity portion is provided around the culture surface on which the irregularities are formed, the cells can be cultured while suppressing the movement of the cells to the periphery of the culture surface.

第1実施形態であるウェルの平面及び断面の概略図である。It is the schematic of the plane and cross section of the well which are 1st Embodiment. 培養担体の平面概略図である。It is a plane schematic diagram of a culture carrier. 図1のIII−III線の沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the III-III line of FIG. 容積率の求め方を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining how to obtain | require a volume ratio. 開口率の求め方を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining how to obtain | require an aperture ratio. 第2実施形態であるウェルの平面及び断面の概略図である。It is the schematic of the plane and cross section of the well which is 2nd Embodiment. 第3実施形態であるウェルの断面概略図である。It is the cross-sectional schematic of the well which is 3rd Embodiment. 第4実施形態であるウェルの断面概略図である。It is the cross-sectional schematic of the well which is 4th Embodiment. 第5実施形態であるウェルの断面概略図である。It is the cross-sectional schematic of the well which is 5th Embodiment. 第6実施形態であるウェルの断面概略図である。It is the cross-sectional schematic of the well which is 6th Embodiment. 第7実施形態であるウェルの断面概略図である。It is the cross-sectional schematic of the well which is 7th Embodiment. 第8実施形態であるウェルの断面概略図である。It is the cross-sectional schematic of the well which is 8th Embodiment. 第9実施形態であるチップの平面及び断面の概略図である。It is the schematic of the plane of the chip | tip which is 9th Embodiment, and a cross section. 第10実施形態であるマルチウェルプレートの概略図である。It is the schematic of the multiwell plate which is 10th Embodiment. マルチウェルプレートの断面図である。It is sectional drawing of a multiwell plate. 第11実施形態であるマルチチッププレートの概略図である。It is the schematic of the multichip plate which is 11th Embodiment. マルチチッププレートの断面図である。It is sectional drawing of a multichip plate. 培養担体の概略を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the outline of a culture support | carrier. 培養担体の概略を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the outline of a culture support | carrier. 培養担体の概略を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the outline of a culture support | carrier. 培養担体の概略を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the outline of a culture support | carrier. 培養担体の概略を示す平面図である。It is a top view which shows the outline of a culture support | carrier. 図22のXXIII−XXIII線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the XXIII-XXIII line | wire of FIG. 図22のXXIV−XXIV線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the XXIV-XXIV line | wire of FIG. 培養担体の概略を示す平面図である。It is a top view which shows the outline of a culture support | carrier. 図25のXXVI−XXVI線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the XXVI-XXVI line of FIG. 培養担体の概略を示す平面図である。It is a top view which shows the outline of a culture support | carrier. 図27のXXVIII−XXVIII線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the XXVIII-XXVIII line of FIG. 培養担体の概略を示す平面図である。It is a top view which shows the outline of a culture support | carrier. 図29のXXX−XXX線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the XXX-XXX line of FIG.

図1及び図2を参照しながら、本発明の第1実施形態である細胞培養用具について説明する。細胞培養用具としてのウェル(マイクロフラスコとも呼ばれる)10は、培養液を収容するための容器本体11と、細胞を培養する培養床、すなわち培養基材としての培養担体12とから構成される。容器本体11は、円筒形状であり、外径D11が概ね16mm、深さDE11が概ね10mmである。ただし、容器本体11の大きさはこれに限定されず、細胞培養後の利用形態や培養した細胞の利用目的等に応じて、適宜設定すればよい。例えば、培養した細胞がウェル10に入っている状態で創薬スクリーニングを行うことが予定される場合には、外径が1mm以上16mm以下の範囲内とすることが好ましい。また、培養した細胞をウェル10に入っている状態で観察することが予定される場合には、外径が1mm以上150mm以下の範囲内とすることが好ましい。   With reference to FIG. 1 and FIG. 2, a cell culture tool according to a first embodiment of the present invention will be described. A well (also called a microflask) 10 as a cell culture tool is composed of a container body 11 for containing a culture solution and a culture bed for culturing cells, that is, a culture carrier 12 as a culture substrate. The container body 11 has a cylindrical shape with an outer diameter D11 of approximately 16 mm and a depth DE11 of approximately 10 mm. However, the size of the container body 11 is not limited to this, and may be set as appropriate according to the usage form after cell culture, the purpose of use of the cultured cells, and the like. For example, when drug discovery screening is planned in a state where cultured cells are in the well 10, the outer diameter is preferably in the range of 1 mm to 16 mm. Moreover, when it is planned to observe the cultured cells in the state of being in the well 10, the outer diameter is preferably in the range of 1 mm to 150 mm.

培養担体12は、フィルム状に形成されており、容器本体11の下端面に設けられ、ウェル10の底部を構成している。培養担体12のウェル10の内面を成す上面は、細胞を培養する培養面12aである。培養担体12は、孔13を複数有する。各孔13は培養面12aに開口しており、培養担体12の凹部を形成する。複数の孔13は、一定の大きさをもち、密に配列している。これにより、培養担体12は、培養面12aを垂直方向から見たときにハチの巣状、いわゆるハニカム構造とされている。   The culture carrier 12 is formed in a film shape, is provided on the lower end surface of the container body 11, and constitutes the bottom of the well 10. The upper surface forming the inner surface of the well 10 of the culture carrier 12 is a culture surface 12a for culturing cells. The culture carrier 12 has a plurality of holes 13. Each hole 13 opens to the culture surface 12 a and forms a recess of the culture carrier 12. The plurality of holes 13 have a constant size and are densely arranged. As a result, the culture carrier 12 has a honeycomb structure when the culture surface 12a is viewed from the vertical direction, that is, a so-called honeycomb structure.

なお、本明細書において、ハニカム構造とは、上記のように、一定形状、一定サイズの孔が培養面12aに沿って並び、規則的に配列している構造を意味する。ハニカム構造をなす基本構造は、培養面12aにおいて、任意の1つの孔を囲むように複数(例えば、6個)の孔が配されるものである。任意の1つの孔を囲む孔の数は、6個に限らず、3〜5個或いは7個以上でも良い。   In the present specification, the honeycomb structure means a structure in which holes having a fixed shape and a fixed size are arranged along the culture surface 12a and regularly arranged as described above. The basic structure forming the honeycomb structure is such that a plurality of (for example, six) holes are arranged so as to surround any one hole on the culture surface 12a. The number of holes surrounding any one hole is not limited to six, but may be three to five or seven or more.

そして、孔13の寸法や形成密度は、後述する製造条件によって異なる。なお、孔の形成密度とは、培養面12aの単位面積あたりの孔の数である。培養担体12の形態は特に限定されるものではないが、例えば、図3に示すように、厚みTH12は0.05μm以上20μm以下の範囲内であることが好ましく、0.1μm以上20μm以下の範囲内であることがより好ましく、0.1μm以上10μm以下の範囲内であることが特に好ましい。また、孔13の径D13は0.05μm以上30μm以下の範囲内であることが好ましく、0.05μm以上20μm以下の範囲内であることがより好ましく、0.1μm以上20μm以下の範囲内であることが特に好ましい。孔13のピッチP13は0.05μm以上50μm以下の範囲内であることが好ましく、0.05μm以上40μm以下の範囲内であることがより好ましく、0.1μm以上40μm以下の範囲内であることが特に好ましい。   And the dimension and formation density of the hole 13 differ with manufacturing conditions mentioned later. The pore formation density is the number of pores per unit area of the culture surface 12a. The form of the culture carrier 12 is not particularly limited. For example, as shown in FIG. 3, the thickness TH12 is preferably in the range of 0.05 μm to 20 μm, and in the range of 0.1 μm to 20 μm. It is more preferable that it is within the range of 0.1 μm or more and 10 μm or less. The diameter D13 of the hole 13 is preferably in the range of 0.05 μm to 30 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 20 μm, and in the range of 0.1 μm to 20 μm. It is particularly preferred. The pitch P13 of the holes 13 is preferably in the range of 0.05 μm to 50 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 40 μm, and preferably in the range of 0.1 μm to 40 μm. Particularly preferred.

凸部の頂きとなる培養面12aから孔13の底部13aまでの深さをDE13とすると、DE13/D13の値は、0.05以上1.2以下であることが好ましく、0.2以上1.0以下であることがより好ましい。   When the depth from the culture surface 12a at the top of the convex portion to the bottom 13a of the hole 13 is DE13, the value of DE13 / D13 is preferably 0.05 or more and 1.2 or less, and 0.2 or more and 1 More preferably, it is 0.0 or less.

培養担体12の容積率について図4を参照しながら説明する。図4においては、培養面12aから深さ0.1μmまでに対応する範囲に符号DEaを付す。ここで、培養面12aに孔13が形成されていない場合、すなわち培養面が平坦な場合における深さ0.1μmの範囲の容積をVSとし、培養面12aから深さDEa0.1μmにおける孔13の容積をV13とする。VSは図4における斜線のハッチングで示す部分とクロスハッチングで示す部分との容積の和であり、V13はクロスハッチングで示す部分の容積である。培養担体12の培養面12aから深さ0.1μmまでの範囲の容積率(以下、単に容積率と称する)VR(単位;%)は、{(VS−V13)/VS}×100で求められる。   The volume ratio of the culture carrier 12 will be described with reference to FIG. In FIG. 4, a symbol DEa is attached to a range corresponding to the culture surface 12 a to a depth of 0.1 μm. Here, when the hole 13 is not formed on the culture surface 12a, that is, when the culture surface is flat, the volume in the range of a depth of 0.1 μm is defined as VS, and the hole 13 at the depth DEa of 0.1 μm from the culture surface 12a. The volume is V13. VS is the sum of the volumes of the hatched portion and the cross-hatched portion in FIG. 4, and V13 is the volume of the cross-hatched portion. The volume ratio (hereinafter simply referred to as volume ratio) VR (unit:%) in the range from the culture surface 12a of the culture carrier 12 to a depth of 0.1 μm is obtained by {(VS−V13) / VS} × 100. .

培養担体12は上記の通り孔13が培養面12aに形成されているから容積率VRは100%ではなく、5%以上80%以下の範囲内とされる。容積率VRが80%以下であることにより、80%よりも大きい場合に比べて、スフェロイドが形成しやすい。また、容積率VRが5%以上であることにより、5%未満である場合に比べてより確実に細胞が培養される。容積率VRが5%未満であると、培養中に細胞が孔13の中に入り込む、または死滅(アポトーシス)する等の問題がある。容積率VRは、スフェロイドが形成しやすい、また細胞を確実に培養する観点で、35%以上55%以下の範囲内であることがより好ましい。   Since the culture carrier 12 has the holes 13 formed in the culture surface 12a as described above, the volume ratio VR is not 100% but is in the range of 5% to 80%. When the volume ratio VR is 80% or less, spheroids are easily formed as compared with a case where the volume ratio VR is larger than 80%. In addition, when the volume ratio VR is 5% or more, the cells are more reliably cultured than when the volume ratio VR is less than 5%. When the volume ratio VR is less than 5%, there are problems such as cells entering the pores 13 or dying (apoptosis) during culture. The volume ratio VR is more preferably in the range of 35% or more and 55% or less from the viewpoint of easy formation of spheroids and reliable cell culture.

培養面12aにおける開口率について図5を参照しながら説明する。ここで、培養面12aをその垂直方向から見た場合に、培養面12aにおける孔13の開口の面積をS13とし、培養面12aの面積をS12aとする。孔13の開口の面積S13は、図5におけるクロスハッチングで示す部分の面積であり、培養面12aの面積S12aは斜線で示すハッチング部分の面積である。培養面12aにおける開口率SR(単位;%)は、{S13/(S12a+S13)}×100で求められる。   The aperture ratio on the culture surface 12a will be described with reference to FIG. Here, when the culture surface 12a is viewed from the vertical direction, the area of the opening of the hole 13 in the culture surface 12a is S13, and the area of the culture surface 12a is S12a. The area S13 of the opening of the hole 13 is the area of the portion indicated by cross hatching in FIG. 5, and the area S12a of the culture surface 12a is the area of the hatched portion indicated by hatching. The aperture ratio SR (unit:%) on the culture surface 12a is determined by {S13 / (S12a + S13)} × 100.

培養担体12は、培養面12aにおける開口率SRが30%以上95%以下の範囲内とされる。開口率SRが95%以下であることにより、95%よりも大きい場合に比べて、細胞がより確実に培養される。95%よりも大きいと、培養中に細胞が孔13の中に入り込む、または死滅(アポトーシス)する等の問題がある。また、開口率SRが30%以上であることにより、30%未満である場合に比べて培養中に細胞が遊走しやすいので細胞同士が集合しやすく、そのためスフェロイドが形成しやすい。開口率SRは、細胞をより確実に培養し、またスフェロイドの形成しやすさの観点で、40%以上70%以下の範囲内であることがより好ましい。   The culture carrier 12 has an opening ratio SR of 30% or more and 95% or less on the culture surface 12a. When the aperture ratio SR is 95% or less, the cells are more reliably cultured as compared with a case where the aperture ratio SR is greater than 95%. If it is larger than 95%, there are problems such as cells entering into the pores 13 or dying (apoptosis) during culture. In addition, when the aperture ratio SR is 30% or more, the cells are more likely to migrate during culturing than in the case where the aperture ratio SR is less than 30%, so that the cells are likely to gather together, and thus spheroids are easily formed. The aperture ratio SR is more preferably in the range of 40% or more and 70% or less from the viewpoint of more reliably culturing cells and ease of spheroid formation.

本実施形態では、培養担体12は、ポリスチレン(PS)製としているが、これに限られない。例えば、培養担体12は、ポリスチレンに代えて、ポリブタジエン、ポリカーボネート、ポリ乳酸、ポリカプロラクトン、ポリグリコール酸等のいずれかひとつのポリマーから構成してもよい。   In this embodiment, the culture carrier 12 is made of polystyrene (PS), but is not limited thereto. For example, the culture carrier 12 may be composed of any one polymer such as polybutadiene, polycarbonate, polylactic acid, polycaprolactone, and polyglycolic acid instead of polystyrene.

容器本体11は、円筒部材15と、低親和性部16とにより構成される。円筒部材15は、収容された培養液を堰き止めるためのものであり、ポリスチレン製とされている。また、円筒部材15は、培養中における外乱による影響(例えば、培養液の蒸発等)を低減し、培養環境を一定に維持する機能も有する。   The container body 11 includes a cylindrical member 15 and a low affinity portion 16. The cylindrical member 15 is for blocking the accommodated culture solution and is made of polystyrene. The cylindrical member 15 also has a function of reducing the influence (for example, evaporation of the culture solution) due to disturbance during the culture and maintaining the culture environment constant.

本実施形態では、円筒部材15はポリスチレン製としているが、これに限られない。例えば、円筒部材15は、ポリスチレンに代えて、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)等のポリマーや、ステンレス鋼(例えばSUS)やアルミニウム等の金属、ガラス、あるいはこれらの中の少なくとも2つから構成される複合体から構成してもよい。   In the present embodiment, the cylindrical member 15 is made of polystyrene, but is not limited thereto. For example, instead of polystyrene, the cylindrical member 15 is made of a polymer such as polycarbonate (PC) or polyethylene terephthalate (PET), a metal such as stainless steel (for example, SUS) or aluminum, glass, or at least two of these. You may comprise from the comprised composite.

低親和性部16は、培養担体12、具体的には培養面12aよりも、細胞との親和性が低い。低親和性部16は、水の接触角が40°以下としてある。これに対し、培養面12aの接触角は概ね120°である。このように、培養面12aよりも接触角を小さくすることで低親和性部16としての機能が発現する。低親和性部16としての機能を発現するために、培養面12aとの接触角の差は、概ね20°以上130°以下の範囲内であることが好ましい。低親和性部16は、円筒部材15の内壁面を覆う被膜であり、これにより、容器本体11の側壁の内面を形成している。このように、低親和性部16は、培養面12aに対して起立した姿勢で設けられている。   The low affinity portion 16 has a lower affinity for cells than the culture carrier 12, specifically the culture surface 12a. The low affinity portion 16 has a water contact angle of 40 ° or less. In contrast, the contact angle of the culture surface 12a is approximately 120 °. Thus, the function as the low affinity part 16 is expressed by making the contact angle smaller than the culture surface 12a. In order to express the function as the low affinity part 16, the difference in the contact angle with the culture surface 12a is preferably in the range of approximately 20 ° to 130 °. The low affinity portion 16 is a coating that covers the inner wall surface of the cylindrical member 15, thereby forming the inner surface of the side wall of the container body 11. Thus, the low affinity part 16 is provided with the attitude | position standing with respect to the culture surface 12a.

低親和性部16は、固体のポリエチレングリコールで形成されている。ポリスチレン製の円筒部材15の内壁面を低親和性部16で被覆しているので、細胞は培養面12aから周辺に向かって移動せずに、培養面12a上で細胞は増えていく。培養面12aには、径D13が0.05μm以上30μm以下の範囲内である孔13が形成されているため、細胞は増えるにあたりスフェロイドを形成しやすい。したがって、このウェル10により培養されて得られた細胞は、生体外で生体内に類似した挙動を示すことが多く、創薬スクリーニングや化粧品の安全試験への利用が期待できる。   The low affinity part 16 is formed of solid polyethylene glycol. Since the inner wall surface of the cylindrical cylindrical member 15 is covered with the low affinity portion 16, the cells do not move from the culture surface 12a toward the periphery, and the cells increase on the culture surface 12a. Since the pores 13 having a diameter D13 in the range of 0.05 μm or more and 30 μm or less are formed on the culture surface 12a, the cells easily form spheroids as they increase. Therefore, the cells obtained by culturing in the well 10 often exhibit a behavior similar to that in the living body in vitro, and can be expected to be used for drug discovery screening and cosmetic safety tests.

低親和性部16の厚みT16は、概ね100nmとしてあるが、これに限られない。なお、厚みT16が大きいほど細胞との親和性は上がってしまう傾向がある。その理由は、厚みT16が大きいほど低親和性部は自由水を含むようになりその自由水と一緒にタンパク質が低親和性部16の表面に付着する。そのタンパク質を介して、細胞が付着すると考えられる。そのため、低親和性部16は、厚みT16ができるだけ小さくなるように薄く形成することが好ましく、これによりタンパク質ないしは細胞の付着はより確実に防止される。なお、上記タンパク質は、培養液にもともと含まれていたり、細胞が生産して放出することで、培養液中に存在する。   The thickness T16 of the low affinity portion 16 is approximately 100 nm, but is not limited thereto. In addition, there exists a tendency for affinity with a cell to rise, so that thickness T16 is large. The reason is that as the thickness T16 is increased, the low affinity portion contains free water, and the protein adheres to the surface of the low affinity portion 16 together with the free water. It is thought that cells adhere through the protein. Therefore, it is preferable to form the low affinity portion 16 so that the thickness T16 is as small as possible, thereby preventing the attachment of proteins or cells more reliably. In addition, the said protein is originally contained in a culture solution, or exists in a culture solution by a cell producing and releasing.

低親和性部16は、円筒部材15の内面に、ポリエチレングリコール(PEG)を溶媒に溶かした溶液を塗布し、形成した塗膜を乾燥して溶媒成分を蒸発させることで形成している。溶液中におけるPEGの濃度や溶媒の種類、乾燥条件を調整することにより厚みT16を調整することができる。塗布により低親和性部16を形成する材料は、PEGに限られず、例えば、アルブミン、チトクローム、キチン、キトサン、ヒアルロン酸、コンドロイド硫酸、ヘパリン硫酸、デオキシリボ核酸、リボ核酸、ポリ(2−メトキシエチルアクリレート)(PMEA)、ポリエチレンオキサイド、ポリアクリルアミド、ポリシロキサン、2−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリンポリマー(MPCポリマー)、ポリヒドロキシアルキルメタクリレート、ポリビニルピロリドン、ポリメチルビニルエーテル、ポリテトラヒドロフルフリルアクリレート、ポリ(2−ヒドロキシアルキルメタクリレート)、ポリスルホペタイン、シリコーン、ポリビニルアルコールとしてもよい。これらの被膜で低親和性部16を構成しても、水の接触角が40°以下になり、培養面12aよりも細胞との親和性が確実に低くなる。ポリビニルアルコールの場合には、例えば、ポリビニルアルコールが溶媒に溶解した溶液を、円筒部材15の内面に塗布し、この塗膜を乾燥させることにより、被膜が形成される。   The low affinity portion 16 is formed by applying a solution obtained by dissolving polyethylene glycol (PEG) in a solvent to the inner surface of the cylindrical member 15, drying the formed coating film, and evaporating the solvent component. The thickness T16 can be adjusted by adjusting the concentration of PEG in the solution, the type of solvent, and the drying conditions. The material forming the low affinity part 16 by coating is not limited to PEG, and for example, albumin, cytochrome, chitin, chitosan, hyaluronic acid, chondroid sulfate, heparin sulfate, deoxyribonucleic acid, ribonucleic acid, poly (2-methoxyethyl) Acrylate) (PMEA), polyethylene oxide, polyacrylamide, polysiloxane, 2-methacryloyloxyethyl phosphorylcholine polymer (MPC polymer), polyhydroxyalkyl methacrylate, polyvinyl pyrrolidone, polymethyl vinyl ether, polytetrahydrofurfuryl acrylate, poly (2-hydroxy) Alkyl methacrylate), polysulfopetine, silicone, and polyvinyl alcohol. Even if the low-affinity portion 16 is constituted by these coatings, the contact angle of water is 40 ° or less, and the affinity with cells is surely lower than that of the culture surface 12a. In the case of polyvinyl alcohol, for example, a solution in which polyvinyl alcohol is dissolved in a solvent is applied to the inner surface of the cylindrical member 15, and the coating film is dried to form a coating film.

低親和性部16は、円筒部材15の内壁面に被膜として形成されたものに限られず、帯電部として形成されたものでもよい。例えば、円筒部材15の内壁面に放電処理や静電気処理を行うことにより負電荷または正電荷を帯びさせることで、電荷を帯びた帯電部を形成する。この帯電部が低親和性部として機能する。これにより、細胞との親和性が培養面12aよりも確実に低くなる。ポリスチレン製である培養面12aの電位は概ね−80mVであり、この場合には、例えば、電位が−30mV以上0mV未満の範囲内である帯電部を形成することでこの帯電部は低親和性部としての機能を発現する。   The low-affinity portion 16 is not limited to being formed as a coating on the inner wall surface of the cylindrical member 15, but may be formed as a charging portion. For example, a charged part having a charge is formed by applying a negative charge or a positive charge to the inner wall surface of the cylindrical member 15 by performing a discharge process or an electrostatic process. This charging part functions as a low affinity part. This ensures that the affinity with the cells is lower than that of the culture surface 12a. The potential of the culture surface 12a made of polystyrene is approximately −80 mV, and in this case, for example, by forming a charged portion in which the potential is in the range of −30 mV to less than 0 mV, the charged portion becomes a low-affinity portion. As a function.

このように、培養面12aと異なる電位の帯電部は低親和性部としての機能する。なお、低親和性部としての機能は、培養面12aとの電位差があることで発現する。したがって、円筒部材15の内壁面と培養面12aとの各電位に応じて、これら両方にそれぞれ所定の帯電処理をしてもよいし、いずれか一方にのみ所定の帯電処理をしてもよい。ただし、細胞は、電位が正または負であるよりも0(ゼロ)である場合の方が親和性が低く、正の電位域と負の電位域とそれぞれについて0に近いほど親和性が低くなる傾向がある。したがって、このような電位における親和性の傾向を考慮した上で、円筒部材15の内壁面と培養面12aとの各電位に応じた帯電処理を行うことが好ましい。なお、負電荷を帯びた帯電部を形成する方法としては、スルホン化処理もある。スルホン化処理は、例えば、正の電位をもつ円筒部材の中に30℃の濃硫酸を1分間入れておくことで行われる。円筒部材を30℃の濃硫酸に1分間浸漬することにより、円筒部材の全面をスルホン化してもよい。なお、スルホン化処理の後は、水等で洗浄することが好ましい。   Thus, the charged portion having a potential different from that of the culture surface 12a functions as a low affinity portion. In addition, the function as a low affinity part is expressed when there is a potential difference from the culture surface 12a. Therefore, according to the electric potentials of the inner wall surface of the cylindrical member 15 and the culture surface 12a, both of them may be subjected to a predetermined charging process, or only one of them may be subjected to a predetermined charging process. However, the cell has a lower affinity when the potential is 0 (zero) than when it is positive or negative, and the closer the potential is to 0 in each of the positive potential region and the negative potential region, the lower the affinity. Tend. Therefore, it is preferable to perform a charging process corresponding to each potential between the inner wall surface of the cylindrical member 15 and the culture surface 12a in consideration of the affinity tendency at such a potential. In addition, as a method for forming a charged portion having a negative charge, there is a sulfonation treatment. The sulfonation treatment is performed, for example, by placing concentrated sulfuric acid at 30 ° C. for 1 minute in a cylindrical member having a positive potential. The entire surface of the cylindrical member may be sulfonated by immersing the cylindrical member in concentrated sulfuric acid at 30 ° C. for 1 minute. In addition, it is preferable to wash | clean with water etc. after a sulfonation process.

本実施形態においては、容器本体11は円筒形状としてあるが、これに限られず、例えば、矩形や多角形の筒状でもよい。ただし、スフェロイドを形成する観点では、培養単体は、本実施形態のように円形であることが好ましい。   In the present embodiment, the container body 11 has a cylindrical shape, but is not limited thereto, and may be, for example, a rectangular or polygonal cylinder. However, from the viewpoint of forming spheroids, the culture unit is preferably circular as in this embodiment.

本実施形態においては、培養担体12は容器本体11の下端面に接着剤により固定されているが、固定の方法はこれに限られない。例えば、接着剤に代えて両面粘着テープとしてもよいし、培養担体12を例えば環状のホルダに固定し、このホルダを容器本体11と嵌合させてもよい。接着剤と両面粘着テープとは、いずれも、細胞にとって無毒性のものとする。また、熱溶着や超音波溶着により、培養担体12を容器本体11の下端面に固定してもよい。また、容器本体11または円筒部材15の中に、培養担体12を形成するための溶液を入れて流延膜を形成し、後述の結露法により容器本体11または円筒部材15に培養担体12を形成してもよい。   In the present embodiment, the culture carrier 12 is fixed to the lower end surface of the container body 11 with an adhesive, but the fixing method is not limited to this. For example, a double-sided adhesive tape may be used instead of the adhesive, or the culture carrier 12 may be fixed to, for example, an annular holder, and this holder may be fitted to the container body 11. Both the adhesive and the double-sided pressure-sensitive adhesive tape are non-toxic to cells. Alternatively, the culture carrier 12 may be fixed to the lower end surface of the container body 11 by heat welding or ultrasonic welding. Further, a casting film is formed by putting a solution for forming the culture carrier 12 in the container main body 11 or the cylindrical member 15, and the culture carrier 12 is formed on the container main body 11 or the cylindrical member 15 by the dew condensation method described later. May be.

また、容器本体11と培養担体12とに電荷を付与する、または磁気を帯びさせることにより、培養担体12を着脱自在としてもよい。培養担体12を着脱自在とすることにより、培養された細胞を培養担体12とともに容器本体11から取り外すことができる。電荷を付与する場合には、容器本体11と培養担体12との一方がマイナス(−)の電荷、他方がプラス(+)の電荷を帯びるようにする。磁気を帯びさせる場合には、容器本体11と培養担体12とが互いに異なる磁極をもつようにし、一方をN極、他方をS極にする。   Alternatively, the culture carrier 12 may be detachable by applying an electric charge to the container body 11 and the culture carrier 12 or making it magnetic. By making the culture carrier 12 detachable, the cultured cells can be detached from the container body 11 together with the culture carrier 12. When a charge is applied, one of the container body 11 and the culture carrier 12 is charged with a minus (−) charge and the other is charged with a plus (+) charge. When magnetism is applied, the container body 11 and the culture carrier 12 have different magnetic poles, one being the N pole and the other being the S pole.

上記のウェル10は、容器本体11の底部内面の全体に培養面12aが形成されているが、培養面12aが形成されている領域はこれに限られない。第2実施形態としてのウェル20は、図6に示すように、培養液を収容するための容器本体21と、培養基材としての培養担体12とから構成される。なお、図6においては、図1と同じ部材には、図1と同じ符号を付し、説明を略す。   In the well 10, the culture surface 12a is formed on the entire bottom inner surface of the container body 11, but the region where the culture surface 12a is formed is not limited thereto. As shown in FIG. 6, the well 20 according to the second embodiment includes a container body 21 for containing a culture solution and a culture carrier 12 as a culture substrate. In FIG. 6, the same members as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals as those in FIG.

容器本体21は、円筒部材15と同じ材料から形成された円筒部材25と、円筒部材25の内面に設けられた低親和性部16とから構成され、下端を内側に折り曲げた形状をもつ。この折り曲げた下端の内側に、フィルム状の培養担体12は設けられているので、培養面12aの径D12aは、容器本体21の側壁における内径d21よりも小さい。   The container main body 21 includes a cylindrical member 25 formed of the same material as the cylindrical member 15 and a low affinity portion 16 provided on the inner surface of the cylindrical member 25, and has a shape in which a lower end is bent inward. Since the film-shaped culture carrier 12 is provided inside the bent lower end, the diameter D12a of the culture surface 12a is smaller than the inner diameter d21 of the side wall of the container body 21.

このように、培養担体12はウェル20の底部の一部、具体的には底部の中央を構成しており、培養面12aは容器本体21の側壁の内面と離間している。培養液は、細胞培養中に淀むことがあり、淀むと細胞の増殖が阻害されることがある。淀みは、ウェル20の底部の側壁近傍で特に顕著である。しかし、このウェル20は、培養面12aの周縁が側壁から離れているため、培養面12a全体が細胞の培養に効果的に作用し、ウェル10に比べて培養面12a上でスフェロイドがより早く形成されたり、より大きく形成される。   Thus, the culture carrier 12 constitutes a part of the bottom of the well 20, specifically, the center of the bottom, and the culture surface 12 a is separated from the inner surface of the side wall of the container body 21. The culture solution may be sown during cell culture, and if it stagnates, cell growth may be inhibited. The stagnation is particularly remarkable in the vicinity of the side wall at the bottom of the well 20. However, since the periphery of the culture surface 12 a is separated from the side wall of the well 20, the entire culture surface 12 a effectively acts on cell culture, and spheroids are formed earlier on the culture surface 12 a than the well 10. Or formed larger.

第1,第2実施形態においては、培養担体12がウェル10,20の底部を構成しているが、この態様に限られない。例えば、下記の第3実施形態及び第4実施形態のように、底部が予め形成されている容器本体31,41の中に培養担体12を収容してもよい。   In the first and second embodiments, the culture carrier 12 constitutes the bottom of the wells 10 and 20, but is not limited to this mode. For example, as in the following third and fourth embodiments, the culture carrier 12 may be accommodated in the container bodies 31 and 41 having the bottom formed in advance.

第3実施形態としてのウェル30は、図7に示すように、培養液を収容するための容器本体31と、培養担体12とから構成される。なお、図7においては、図1と同じ部材については、図1と同じ符号を付し、説明を略す。容器本体31は、一端部が底部とされる円筒形状の容器(以下、円筒容器と称する)35と、この円筒容器35の内面に形成された低親和性部16とから構成される。培養担体12は、底部上に固定されている。この固定は、本実施形態においては、ウェル10における容器本体11と培養担体12との固定方法と同じく接着剤によるが、前述の他の方法により固定してもよい。また、培養担体12は容器本体11には固定せずに、着脱自在に設置してもよい。   As shown in FIG. 7, the well 30 according to the third embodiment includes a container body 31 for containing a culture solution and a culture carrier 12. In FIG. 7, the same members as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals as those in FIG. The container body 31 includes a cylindrical container (hereinafter referred to as a cylindrical container) 35 whose one end is a bottom, and a low affinity part 16 formed on the inner surface of the cylindrical container 35. The culture carrier 12 is fixed on the bottom. In this embodiment, this fixing is performed using an adhesive in the same manner as the method of fixing the container body 11 and the culture carrier 12 in the well 10, but may be fixed by the other methods described above. The culture carrier 12 may be detachably installed without being fixed to the container body 11.

円筒容器35は、ウェル10の円筒部材15と同様にポリスチレン製であり、この円筒容器35の内壁面を低親和性部16で被覆しているので、細胞は培養面12aから周辺に向かって移動せずに、培養面12a上で増え、スフェロイドを形成する。   Since the cylindrical container 35 is made of polystyrene like the cylindrical member 15 of the well 10 and the inner wall surface of the cylindrical container 35 is covered with the low affinity portion 16, the cells move from the culture surface 12a toward the periphery. Without increasing, it increases on the culture surface 12a and forms a spheroid.

第4実施形態としてのウェル40は、図8に示すように、容器本体31と、培養担体12とから構成される。なお、図8においては、図7と同じ部材については、図7と同じ符号を付し、説明を略す。培養担体12は、底部上に設置されているが固定されていない。培養液がウェル40内に入れられると、培養中等において培養担体12が浮いてくることがあるので、これを防止するために、押さえ部材42が培養担体12上に置かれる。   As shown in FIG. 8, the well 40 according to the fourth embodiment includes a container body 31 and a culture carrier 12. In FIG. 8, the same members as those in FIG. 7 are denoted by the same reference numerals as those in FIG. The culture carrier 12 is placed on the bottom but is not fixed. When the culture solution is put in the well 40, the culture carrier 12 may float during the culture or the like. In order to prevent this, the pressing member 42 is placed on the culture carrier 12.

押さえ部材42は、培養担体12の周縁部を覆い、培養担体12の中央部を開口したリング形状とされている。この開口により露呈した培養担体12の表面が、細胞を培養する培養面12aとして機能する。押さえ部材42は、培養担体12の浮き上がりを抑制するいわゆる重りであり、本実施形態ではガラス製としてあり、表面が細胞との親和性が培養面12aよりも低くされた被膜42aで覆われている。被膜42aの材料は、低親和性部16と同様の材料を用いることができる。このように、本実施形態においても、細胞は培養面12aから周辺や培養担体12の側面に向かって移動せずに、培養面12a上で増え、スフェロイドを形成する。なお、図7に示すウェル30において培養担体12を容器本体11上に固定することなく設置する場合にも、培養担体12上に押さえ部材42を載せることにより培養担体12の浮き上がりを防止することが好ましい。   The holding member 42 has a ring shape that covers the peripheral edge of the culture carrier 12 and opens the center of the culture carrier 12. The surface of the culture carrier 12 exposed by this opening functions as a culture surface 12a for culturing cells. The pressing member 42 is a so-called weight that suppresses the lifting of the culture carrier 12, and is made of glass in this embodiment, and the surface is covered with a coating 42a whose affinity for cells is lower than that of the culture surface 12a. . As the material of the coating 42a, the same material as that of the low affinity portion 16 can be used. Thus, also in this embodiment, the cells do not move from the culture surface 12a toward the periphery or the side surface of the culture carrier 12, but increase on the culture surface 12a to form spheroids. Even when the culture carrier 12 is installed in the well 30 shown in FIG. 7 without being fixed on the container body 11, it is possible to prevent the culture carrier 12 from being lifted by placing the pressing member 42 on the culture carrier 12. preferable.

押さえ部材42は、被膜42aを形成された押さえ部材本体が、ガラスに代えて、金属、固体のポリマー、あるいは、ガラスと金属と固体のポリマーのうち少なくとも2つの複合体で構成されたものでもよい。また、押さえ部材42は、被膜42aに代えて、例えばステンレス製の押さえ部材本体の表面に前述のスルホン化処理やポリビニルアルコールの被膜を設けることにより負電荷を帯びた層を形成したものでもよい。   The pressing member 42 may be configured such that the pressing member main body on which the coating 42 a is formed is made of metal, a solid polymer, or a composite of at least two of glass, metal, and solid polymer instead of glass. . The pressing member 42 may be formed by forming a negatively charged layer by providing the above-described sulfonation treatment or polyvinyl alcohol coating on the surface of a stainless pressing member main body, for example, instead of the coating 42a.

なお、培養担体12は、容器本体31に対して、第1〜第3実施形態10、20、30の培養担体12と同様に固定してもよい。固定は、ウェル10における容器本体11と培養担体12との固定方法と同じく接着剤により為されていてもよいし、前述の他の方法により固定してもよい。   The culture carrier 12 may be fixed to the container body 31 in the same manner as the culture carrier 12 of the first to third embodiments 10, 20, and 30. The fixation may be performed by an adhesive as in the fixing method of the container body 11 and the culture carrier 12 in the well 10, or may be fixed by the other method described above.

培養担体12はこれを支持する支持体とともにウェルを構成してもよい。例えば、第5実施形態のウェル50は、図9に示すように、図1のウェル10と同じ容器本体11と、培養担体12と、培養担体12を支持する支持体52とを備える。支持体52は、培養担体12を下方から、すなわち培養面12aと反対側の面から支持する。本実施形態においては、支持体52はガラス製としてあるが、ガラスに代えてPET等のポリマーにより支持体52を構成してもよい。培養担体12と支持体52とは、一体にされてから容器本体11へ固定されてもよいし、あるいは培養担体12と容器本体11とを固定してから培養担体12を一体にしてもよい。   The culture carrier 12 may constitute a well together with a support that supports the culture carrier 12. For example, as shown in FIG. 9, the well 50 of the fifth embodiment includes the same container body 11 as the well 10 of FIG. 1, a culture carrier 12, and a support body 52 that supports the culture carrier 12. The support body 52 supports the culture carrier 12 from below, that is, from the surface opposite to the culture surface 12a. In the present embodiment, the support 52 is made of glass, but the support 52 may be made of a polymer such as PET instead of glass. The culture carrier 12 and the support body 52 may be integrated and then fixed to the container body 11, or the culture carrier 12 and the container body 11 may be fixed and then the culture carrier 12 may be integrated.

培養担体12は、支持体52に固定されている。培養担体12は支持体52に対して、ウェル10における容器本体11と培養担体12との固定と同じく接着剤により固定されている。ただし、培養担体12の支持体52への固定の方法は、ウェル10の容器本体11と培養担体12との前述の他の方法であってもよい。また、支持体52上に培養担体12を形成するための溶液を流延して流延膜を形成し、後述の結露法により培養担体12を形成する方法でも、支持体52上に固定された培養担体12が得られる。   The culture carrier 12 is fixed to the support 52. The culture carrier 12 is fixed to the support body 52 with an adhesive in the same manner as the container body 11 and the culture carrier 12 in the well 10 are fixed. However, the method of fixing the culture carrier 12 to the support 52 may be the above-described other method of the container body 11 of the well 10 and the culture carrier 12. Also, a solution for forming the culture carrier 12 was cast on the support 52 to form a cast film, and the culture carrier 12 was formed by the dew condensation method described later, and the culture carrier 12 was fixed on the support 52. A culture carrier 12 is obtained.

この例においても、円筒部材15の内壁面を低親和性部16で被覆しているので、細胞は培養面12aから周辺に向かって移動せずに、培養面12a上で増え、培養面12a上にスフェロイドが形成される。   Also in this example, since the inner wall surface of the cylindrical member 15 is covered with the low affinity portion 16, the cells do not move from the culture surface 12a toward the periphery, but increase on the culture surface 12a and on the culture surface 12a. Spheroids are formed.

第6実施形態のウェル60は、図10に示すように、図6のウェル20と同じ容器本体21と、培養担体12と、支持体52とを備える。この例でも細胞は培養面12aから周辺に向かって移動せずに、培養面12a上で増え、培養面12a上にスフェロイドが形成される。さらに、この例では、図6のウェル20と同様に、培養面12aが容器本体21の側壁の内面と離間している。このため、図9のウェル50に比べて培養面12a上でスフェロイドがより早く形成されたり、より大きく形成される。   As shown in FIG. 10, the well 60 of the sixth embodiment includes the same container body 21 as the well 20 of FIG. 6, the culture carrier 12, and a support 52. Also in this example, the cells do not move from the culture surface 12a toward the periphery, but increase on the culture surface 12a, and spheroids are formed on the culture surface 12a. Furthermore, in this example, the culture surface 12a is separated from the inner surface of the side wall of the container main body 21 as in the well 20 of FIG. Therefore, spheroids are formed earlier or larger on the culture surface 12a than the well 50 of FIG.

一体にされた支持体52と培養担体12とを容器本体21に対して着脱自在にすることにより、培養後の培養担体12を支持体52とともに容器本体21から取り外すことができる。培養した後の細胞を観察する場合には、培養後に支持体52と培養担体12とを容器本体21から取り外し、このように取り外した状態で細胞を観察する方がよい。   By making the support 52 and the culture carrier 12 integrated with each other detachable from the container main body 21, the culture carrier 12 after the culture can be detached from the container main body 21 together with the support 52. In the case of observing the cultured cells, it is better to remove the support 52 and the culture carrier 12 from the container body 21 after culturing and observe the cells in such a detached state.

第7実施形態のウェル70は、図11に示すように、図7のウェル30と同じ容器本体31と、培養担体12と、支持体52とを備える。培養担体12は、支持体52と一体にされて容器本体31の底部上に設置される。培養担体12と支持体52とは、容器本体31の底部の上面と同じ面積とされており、底部上面を覆う。この例でも細胞は培養面12aから周辺に向かって移動せずに、培養面12a上で増え、培養面12a上にスフェロイドが形成される。   As shown in FIG. 11, the well 70 of the seventh embodiment includes the same container body 31 as the well 30 of FIG. 7, the culture carrier 12, and a support 52. The culture carrier 12 is integrated with the support body 52 and installed on the bottom of the container body 31. The culture carrier 12 and the support 52 have the same area as the upper surface of the bottom of the container body 31 and cover the upper surface of the bottom. Also in this example, the cells do not move from the culture surface 12a toward the periphery, but increase on the culture surface 12a, and spheroids are formed on the culture surface 12a.

第8実施形態のウェル80は、図12に示すように、図11のウェル70と同じく、容器本体31と、培養担体12と、支持体52とを備え、培養担体12は、支持体52と一体にされて容器本体31の底部上に設置される。培養担体12と支持体52とは、容器本体31の底部の上面よりも面積が小さく、側面から離間して設けられている。この例でも細胞は培養面12aから周辺に向かって移動せずに、培養面12a上で増え、培養面12a上にスフェロイドが形成される。さらに、図11のウェル70に比べて培養面12a上でスフェロイドがより早く形成されたり、より大きく形成される。   As shown in FIG. 12, the well 80 of the eighth embodiment includes a container main body 31, a culture carrier 12, and a support body 52, similar to the well 70 of FIG. 11. It is united and installed on the bottom of the container body 31. The culture carrier 12 and the support 52 are smaller than the top surface of the bottom of the container body 31 and are provided apart from the side surfaces. Also in this example, the cells do not move from the culture surface 12a toward the periphery, but increase on the culture surface 12a, and spheroids are formed on the culture surface 12a. Furthermore, spheroids are formed earlier or larger on the culture surface 12a than the well 70 of FIG.

ウェル80は、培養中における培養担体12の浮き上がりを防止するために、図8と同様の押さえ部材42を備えることが好ましい。なお、図11のウェル70も同様に、押さえ部材42を備えることにより培養中における培養担体12の浮き上がりが防止される。   The well 80 preferably includes a pressing member 42 similar to that shown in FIG. 8 in order to prevent the culture carrier 12 from being lifted during the culture. Similarly, the well 70 of FIG. 11 is provided with the pressing member 42 to prevent the culture carrier 12 from being lifted during the culture.

上記の実施形態はいずれもウェルであるが、本発明の細胞培養用具はチップでもよい。第9実施形態であるチップ90は、図13に示すように、円形の培養担体12と、低親和性部16とから構成される。培養担体12は円形であり、低親和性部16は環状に形成されており、培養担体12の周縁部を覆う。低親和性部16は、培養担体の孔13(図2,図3参照)が形成されている表面上に設けられる。環状の低親和性部16の開口から露呈した部分、すなわち低親和性部16で囲まれた部分が培養面12aである。培養液は、この低親和性部16で囲まれた部分へ収容される。   Although all the above embodiments are wells, the cell culture device of the present invention may be a chip. As shown in FIG. 13, the chip 90 according to the ninth embodiment includes a circular culture carrier 12 and a low affinity portion 16. The culture carrier 12 is circular, and the low-affinity portion 16 is formed in an annular shape and covers the periphery of the culture carrier 12. The low-affinity portion 16 is provided on the surface on which the culture carrier hole 13 (see FIGS. 2 and 3) is formed. A portion exposed from the opening of the annular low affinity portion 16, that is, a portion surrounded by the low affinity portion 16 is the culture surface 12a. The culture solution is accommodated in a portion surrounded by the low affinity portion 16.

チップ90の径D90は概ね25mm、培養面12aの径D12aは概ね15mm、低親和性部16の幅W16は概ね5mm、低親和性部16の厚みTH16は概ね100μmとしてある。ただし、チップ90及び培養面12aの各径D90,D12a、低親和性部16の幅W16は、これに限定されず、図1に示す容器本体11の大きさと同様に、細胞培養後の利用形態や培養した細胞の利用目的等に応じて、適宜設定すればよい。低親和性部16の厚みTH16は10μm以上が好ましく、これにより、培養液が確実に収容される。   The diameter D90 of the chip 90 is approximately 25 mm, the diameter D12a of the culture surface 12a is approximately 15 mm, the width W16 of the low affinity portion 16 is approximately 5 mm, and the thickness TH16 of the low affinity portion 16 is approximately 100 μm. However, the diameters D90 and D12a of the chip 90 and the culture surface 12a and the width W16 of the low affinity portion 16 are not limited to this, and the usage form after cell culture is the same as the size of the container body 11 shown in FIG. And may be appropriately set according to the purpose of use of the cultured cells. The thickness TH16 of the low-affinity portion 16 is preferably 10 μm or more, so that the culture solution is reliably accommodated.

この例でも、低親和性部16の内周面が培養面12aから起立した姿勢で形成されている。このため、細胞は、培養面12aから周囲へ移動することなく培養面12a上で増え、スフェロイドが培養面12a上で形成される。   Also in this example, the inner peripheral surface of the low-affinity portion 16 is formed in a posture standing up from the culture surface 12a. For this reason, cells increase on the culture surface 12a without moving from the culture surface 12a to the periphery, and spheroids are formed on the culture surface 12a.

上記の各例は、ひとつの培養面12aをもつ細胞培養用具であるが、培養面12aが複数ある細胞培養用具であってもよい。細胞培養用具の第10実施形態であるマルチウェルプレート100は、図14,図15に示すように、容器本体としてのプレート本体101の上面に複数のウェル部102が形成されている。本実施形態ではウェル部102は、プレート本体101に複数のウェル部102がマトリックス状に形成されているが、この配置態様はマトリックス状に限定されない。また、本実施形態のマルチウェルプレート100はウェル部102を24個備えるが、ウェル部102の個数はこれに限定されず、2〜23個、25個以上のように複数であればよい。   Each of the above examples is a cell culture tool having one culture surface 12a, but may be a cell culture tool having a plurality of culture surfaces 12a. As shown in FIGS. 14 and 15, the multiwell plate 100 that is the tenth embodiment of the cell culture instrument has a plurality of well portions 102 formed on the upper surface of a plate body 101 as a container body. In the present embodiment, the well portion 102 has a plurality of well portions 102 formed in a matrix on the plate body 101, but this arrangement is not limited to a matrix. In addition, the multiwell plate 100 of the present embodiment includes 24 well portions 102, but the number of well portions 102 is not limited to this, and may be any number such as 2 to 23 and 25 or more.

プレート本体101はウェル10の容器本体11と同じ材料から構成されており、ウェル部102の内部は、図1のウェル10の内部と同様の構成をもつ。すなわち、プレート本体101は、各ウェル部102を形成するための複数の円形の穴が形成されたポリスチレン製のプレート部材103と、このプレート部材103の各穴の側面に形成された低親和性部16とを備える。培養担体12は、プレート本体101の下部に配されてウェル部102の平坦な底部を構成している。低親和性部16に囲まれた部分が培養面12aである。   The plate body 101 is made of the same material as the container body 11 of the well 10, and the inside of the well portion 102 has the same configuration as the inside of the well 10 of FIG. 1. That is, the plate body 101 includes a polystyrene plate member 103 in which a plurality of circular holes for forming each well portion 102 are formed, and a low affinity portion formed on the side surface of each hole of the plate member 103. 16. The culture carrier 12 is arranged at the lower part of the plate body 101 and constitutes a flat bottom portion of the well portion 102. The part surrounded by the low affinity part 16 is the culture surface 12a.

この例でも、培養面12aは低親和性部16により周囲を囲まれている。このため、細胞は培養面12aから周囲へ移動することなく、培養面12a上で増え、培養面12a上でスフェロイドが形成される。   Also in this example, the culture surface 12 a is surrounded by the low affinity portion 16. For this reason, the cells increase on the culture surface 12a without moving from the culture surface 12a to the surroundings, and spheroids are formed on the culture surface 12a.

なお、本実施形態におけるウェル部102の内部は、図1のウェル10の内部と同じ構成をもつが、これに限定されない。例えば、図6に示すウェル20の内部と同様に、ウェル部102の底部の中央が培養面12aとされ、この培養面12aの周縁が低親和性部16で形成されている側面から離間していてもよい。また、プレート本体101が図7,6に示す容器本体31のように低親和性部16で覆われたポリスチレン等からなる底部を有し、この底部の上に培養担体12が設置されたものでもよい。また、図9〜図12に示すウェル50,60,70,80と同様に、培養担体12が支持体52により支持されていてもよい。さらにまた、ウェル部102の培養担体12は、プレート本体101に着脱自在に設けられていてもよいし、固定されていてもよい。   In addition, although the inside of the well part 102 in this embodiment has the same structure as the inside of the well 10 of FIG. 1, it is not limited to this. For example, like the inside of the well 20 shown in FIG. 6, the center of the bottom of the well portion 102 is the culture surface 12 a, and the periphery of the culture surface 12 a is separated from the side surface formed by the low affinity portion 16. May be. Further, the plate body 101 may have a bottom portion made of polystyrene or the like covered with the low affinity portion 16 like the container body 31 shown in FIGS. 7 and 6, and the culture carrier 12 is installed on the bottom portion. Good. Further, the culture carrier 12 may be supported by the support body 52 in the same manner as the wells 50, 60, 70, and 80 shown in FIGS. Furthermore, the culture carrier 12 of the well portion 102 may be detachably provided on the plate body 101 or may be fixed.

細胞培養用具の第11実施形態であるマルチチッププレート110は、図16,図17に示すように、容器本体としてのプレート本体111の上面に複数のチップ部112が形成されている。本実施形態ではチップ部112は、プレート本体111に複数のチップ部112がマトリックス状に形成されているが、この配置態様はマトリックス状に限定されない。また、本実施形態のマルチチッププレート110はチップ部112を24個備えるが、チップ部112の個数はこれに限定されず、2〜23個、25個以上のように複数であればよい。   As shown in FIGS. 16 and 17, the multichip plate 110 that is the eleventh embodiment of the cell culture device has a plurality of chip portions 112 formed on the upper surface of the plate main body 111 as a container main body. In the present embodiment, the chip portion 112 has a plurality of chip portions 112 formed in a matrix on the plate body 111, but this arrangement is not limited to a matrix. In addition, the multichip plate 110 of the present embodiment includes 24 chip portions 112, but the number of chip portions 112 is not limited to this, and may be any number such as 2 to 23 and 25 or more.

プレート本体111はウェル10の容器本体11と同じ材料から構成されており、チップ部112の内部は、図13のチップ90と同様の構成をもつ。すなわち、プレート本体111は、各チップ部112を形成するための複数の円形の穴が形成されたポリスチレン製のプレート部材113と、各穴の側面に形成された低親和性部16とを備える。培養担体12は、プレート本体111の下部に配されてチップ部112の平坦な底部を構成している。低親和性部16に囲まれた部分が培養面12aである。   The plate body 111 is made of the same material as the container body 11 of the well 10, and the inside of the chip portion 112 has the same structure as the chip 90 of FIG. 13. That is, the plate body 111 includes a polystyrene plate member 113 in which a plurality of circular holes for forming each chip portion 112 is formed, and the low affinity portion 16 formed on the side surface of each hole. The culture carrier 12 is disposed at the lower part of the plate body 111 and constitutes a flat bottom portion of the chip portion 112. The part surrounded by the low affinity part 16 is the culture surface 12a.

この例でも、培養面12aは低親和性部16により周囲を囲まれている。このため、細胞は培養面12aから周囲へ移動することなく、培養面12a上で増え、培養面12a上でスフェロイドが形成される。   Also in this example, the culture surface 12 a is surrounded by the low affinity portion 16. For this reason, the cells increase on the culture surface 12a without moving from the culture surface 12a to the surroundings, and spheroids are formed on the culture surface 12a.

上記のマルチウェルプレート100及びマルチチッププレート110は、プレート本体101,111にウェル部102,チップ部112が形成されたものである。しかし、マルチウェルプレート、マルチチッププレートはこれらの態様に限られない。例えば、貫通孔または非貫通の穴が複数形成されたプレート本体(図示無し)の貫通孔または非貫通の穴のそれぞれに、ウェル10,20,30,40,50,60,70,80、チップ90が嵌め合わせられたものでもよい。   The multi-well plate 100 and the multi-chip plate 110 described above are plate bodies 101 and 111 having a well portion 102 and a chip portion 112 formed therein. However, the multiwell plate and the multichip plate are not limited to these embodiments. For example, a well 10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80, a chip is formed in each of the through hole or non-through hole of a plate body (not shown) in which a plurality of through holes or non-through holes are formed. 90 may be fitted.

培養担体12の製造方法について説明する。培養担体12を製造する培養担体製造工程は、溶液調製工程と、流延膜形成工程と、フィルム形成工程とを有する。溶液調製工程は、培養担体12を形成するための溶液を調製する工程である。具体的には、例えば、培養担体12を形成する疎水性ポリマーを、溶媒に溶解して溶液とする。   A method for producing the culture carrier 12 will be described. The culture carrier production process for producing the culture carrier 12 includes a solution preparation process, a cast film formation process, and a film formation process. The solution preparation step is a step of preparing a solution for forming the culture carrier 12. Specifically, for example, a hydrophobic polymer forming the culture carrier 12 is dissolved in a solvent to form a solution.

流延膜形成工程は、溶液調製工程で得られた溶液を支持体の上に流下して広げ、流延膜を形成する工程である。支持体は、予め温度を調整しておき、流延膜を形成する間も温度を調整していることが好ましい。   The cast film forming step is a step of forming the cast film by flowing and spreading the solution obtained in the solution preparing step on the support. It is preferable that the temperature of the support is adjusted in advance, and the temperature is also adjusted while the casting film is formed.

フィルム形成工程は、水滴形成工程と、蒸発工程とを有する。水滴形成工程は、流延膜の膜面に結露させて水滴を形成する工程である。水滴は、流延膜の周辺の雰囲気の温度よりも低い温度となるように支持体を冷却することで形成される。ここで、複数の水滴の発生のタイミングを揃えたり、形成される水滴の大きさを均一に揃える観点では、支持体が所定の温度に保持されるように支持体の温度を調整しつつ、加湿した気体(例えば空気)を流延膜上に供給することが好ましい。   The film forming process includes a water droplet forming process and an evaporation process. The water droplet forming step is a step of forming water droplets by condensation on the film surface of the casting film. The water droplets are formed by cooling the support so that the temperature is lower than the temperature of the atmosphere around the casting membrane. Here, from the viewpoint of aligning the timing of the generation of a plurality of water droplets or uniforming the size of the formed water droplets, humidifying while adjusting the temperature of the support so that the support is maintained at a predetermined temperature. It is preferable to supply the gas (for example, air) to the casting film.

蒸発工程は、溶媒と水滴形成工程で形成した水滴とを蒸発させる工程である。孔13(図2,図3参照)は、水滴が型となって形成されるものであるので、水滴が流延膜中に沈むように溶媒を水滴よりも早く蒸発させる。そのためには、水よりも蒸発速度が大きい溶媒を用いることが好ましい。ただし、水滴が蒸発し始めるタイミングは、溶媒のすべてが蒸発し終わった後でなくてもよい。また、形成された孔13が維持される程度であれば、水滴の蒸発が完了した後に多少の溶媒が流延膜に残っていてもよく、残存している溶媒は水滴の蒸発が完了した後に蒸発してもよい。このように、フィルム形成工程は、多孔フィルムの製造方法として周知である結露法の工程である。   The evaporation step is a step of evaporating the solvent and the water droplets formed in the water droplet forming step. Since the holes 13 (see FIGS. 2 and 3) are formed with water droplets as a mold, the solvent evaporates faster than the water droplets so that the water droplets sink into the casting film. For this purpose, it is preferable to use a solvent having a higher evaporation rate than water. However, the timing at which the water droplets start to evaporate may not be after all of the solvent has been evaporated. Further, as long as the formed hole 13 is maintained, some solvent may remain in the casting film after the evaporation of the water droplet is completed, and the remaining solvent is after the evaporation of the water droplet is completed. It may evaporate. Thus, a film formation process is a process of the dew condensation method known as a manufacturing method of a porous film.

培養担体12に代えて、他の培養担体としてもよい。他の培養担体について、説明する。図18に示す培養担体120は、複数の孔121が培養担体12の孔13に比べてより深くまで形成されている。これにより、培養担体120では、培養担体12の孔13よりも球形に近い孔121となっている。また、図19に示す培養担体125は、厚み方向を貫通した孔126を有し、孔126は培養面120aに加えて反対側の面でも開口している。培養面120aに沿って並ぶ複数の孔126は、互いに独立している。   Instead of the culture carrier 12, another culture carrier may be used. Other culture carriers will be described. The culture carrier 120 shown in FIG. 18 has a plurality of holes 121 formed deeper than the holes 13 of the culture carrier 12. Thereby, in the culture carrier 120, the hole 121 is more spherical than the hole 13 of the culture carrier 12. Further, the culture carrier 125 shown in FIG. 19 has a hole 126 penetrating in the thickness direction, and the hole 126 is opened on the opposite surface in addition to the culture surface 120a. The plurality of holes 126 arranged along the culture surface 120a are independent of each other.

図20に示す培養担体130においては、培養面130aに沿って並ぶ孔131同士が連通している。孔131の径D131は、10nm以上100μm以下の範囲とされる。図21に示す培養担体135は、厚み方向を貫通した孔136を有し、孔136は培養面135aに加えて、反対側の面でも開口している。培養面135aに沿って並ぶ孔136同士は連通している。孔136の径D136は、10nm以上100μm以下の範囲とされる。なお、以上の培養担体120,125,130,135の各平面図は、図2と同様であるので、図示は略す。以上のように、培養担体120,125,130,135はいずれも一定の大きさの孔121,126,131,136が凹部として培養面120a,125a,130a,135aに形成されており、孔121,126,131,136はいずれも一定のピッチで並んで形成されている。   In the culture carrier 130 shown in FIG. 20, the holes 131 arranged along the culture surface 130a communicate with each other. The diameter D131 of the hole 131 is in the range of 10 nm to 100 μm. The culture carrier 135 shown in FIG. 21 has a hole 136 penetrating in the thickness direction, and the hole 136 is opened on the opposite surface in addition to the culture surface 135a. The holes 136 arranged along the culture surface 135a communicate with each other. The diameter D136 of the hole 136 is in the range of 10 nm to 100 μm. The plan views of the above culture carriers 120, 125, 130, and 135 are the same as those in FIG. As described above, the culture carriers 120, 125, 130, 135 are all formed in the culture surfaces 120 a, 125 a, 130 a, 135 a with the holes 121, 126, 131, 136 having a constant size as recesses. , 126, 131, 136 are formed side by side at a constant pitch.

図22〜図24に示すフィルム状の培養担体140は、一方のフィルムの面に柱状の凸部141が複数の形成されたいわゆるピラー構造フィルムである。複数の凸部141は、互いに略一定の高さ及び形状をもつ。複数の凸部141は、一定のピッチで並び、規則的に配列することにより、その先端面141aで培養面140aを構成している。このように、培養担体は、孔が形成されてハニカム構造であるものに限られず、一定のパターンの凹凸が表面に形成されたものであればよい。   The film-shaped culture carrier 140 shown in FIGS. 22 to 24 is a so-called pillar structure film in which a plurality of columnar convex portions 141 are formed on one film surface. The plurality of convex portions 141 have a substantially constant height and shape. The plurality of convex portions 141 are arranged at a constant pitch and regularly arranged, so that the tip surface 141a constitutes the culture surface 140a. As described above, the culture carrier is not limited to a honeycomb structure in which pores are formed, and any culture carrier having a certain pattern of irregularities on the surface may be used.

凸部141の先端面141aは、培養担体140を培養面140aの垂直方向から見たときに、図22に示すように、例えば、内側に凸の3つの円弧に囲まれた形状をしている。隣り合う凸部141と凸部141との距離L1は50nm以上250μmの範囲でそれぞれ一定とされる。厚みTAは50nm以上50μm以下の範囲とされている。この場合には、凸部141の大きさが50nm以上50μm以下の範囲である。なお、凸部141を培養面140aの垂直方向から見たときに、凸部141の最も長い寸法部分D141を凸部141の大きさとみなす。なお、図示は略すが、培養担体としてのピラー構造のフィルムには、凸部の先端が図22〜図24の凸部141と異なり、尖鋭な形状、すなわち先細りとされているものもあり、このようなものでもよい。   When the culture carrier 140 is viewed from the direction perpendicular to the culture surface 140a, the tip surface 141a of the convex portion 141 has, for example, a shape surrounded by three arcs that are convex inward as shown in FIG. . The distance L1 between the adjacent convex portion 141 and the convex portion 141 is fixed in the range of 50 nm to 250 μm. The thickness TA is in the range of 50 nm to 50 μm. In this case, the size of the convex portion 141 is in the range of 50 nm to 50 μm. In addition, when the convex part 141 is seen from the perpendicular direction of the culture surface 140a, the longest dimension part D141 of the convex part 141 is regarded as the size of the convex part 141. In addition, although illustration is abbreviate | omitted, as for the film of the pillar structure as a culture support | carrier, the front-end | tip of a convex part differs from the convex part 141 of FIGS. 22-24, and there is also a thing with the sharp shape, ie, a taper, Something like that.

以上の培養担体12,120,125,130,135,140は、いずれも前述の結露法で製造することができる。培養担体12に代えて用いることができる他の培養担体としては、例えば、ナノインプリンティング、ボローゲンリーチング、相分離法、ファイバ溶着法により得られる多孔質材料が挙げられる。ファイバ溶着法により得られる多孔質材料としては、いわゆるニットメッシュ形状のものがある。   Any of the above culture carriers 12, 120, 125, 130, 135, and 140 can be produced by the above-described dew condensation method. Examples of other culture carriers that can be used in place of the culture carrier 12 include porous materials obtained by nanoimprinting, borogen leaching, phase separation, and fiber welding. As a porous material obtained by the fiber welding method, there is a so-called knit mesh shape.

図25及び図26に示す培養担体150は、ナノインプリンティングで得られる多孔質材料の一例である。培養担体150は、格子状に形成された凸部151が複数形成されており、この凸部151によって培養面150aが形成されている。凸部151に囲まれた凹部152は略正方形の矩形とされている。この場合には、凹部152の大きさが50nm以上50μm以下の範囲内である。なお、培養面150aにおける凹部152の開口の面積と同じ円153を描いたときに、その円の直径D151を凹部の大きさとみなす。本実施形態の凹部151は略正方形とされているがこれに限られない。例えば、長方形、台形、平行四辺形等のその他の四角形、三角形、五角形等の多角形でもよいし、真円や楕円のような円形でもよい。   The culture carrier 150 shown in FIGS. 25 and 26 is an example of a porous material obtained by nanoimprinting. The culture carrier 150 has a plurality of convex portions 151 formed in a lattice shape, and a culture surface 150 a is formed by the convex portions 151. The concave portion 152 surrounded by the convex portion 151 is a substantially square rectangle. In this case, the size of the recess 152 is in the range of 50 nm to 50 μm. When a circle 153 having the same area as the opening of the recess 152 on the culture surface 150a is drawn, the diameter D151 of the circle is regarded as the size of the recess. Although the recessed part 151 of this embodiment is substantially square, it is not restricted to this. For example, it may be a rectangle such as a rectangle, trapezoid or parallelogram, a polygon such as a triangle or a pentagon, or a circle such as a perfect circle or an ellipse.

図27及び図28に示す培養担体160は、ナノインプリンティングで得られる多孔質材料の一例である。培養担体160は、円錐の頂部を一定の高さで切り取った截頭円錐状の複数の凸部161がマトリックス状に形成されており、この凸部161により培養面160aが形成されている。この場合には、凸部の大きさは50nm以上50μm以下の範囲内である。なお、凸部161の先端の円の直径D161を、凸部の大きさとする。本実施形態の凸部161は、截頭円錐状としてあるが、これに限られない。例えば、頂部をいっていの高さで切り取った截頭角錐状であってもよい。   The culture carrier 160 shown in FIGS. 27 and 28 is an example of a porous material obtained by nanoimprinting. In the culture carrier 160, a plurality of frustoconical convex portions 161 obtained by cutting out the top of the cone at a certain height are formed in a matrix, and the culture surface 160a is formed by the convex portions 161. In this case, the size of the convex portion is in the range of 50 nm to 50 μm. In addition, let the diameter D161 of the circle | round | yen at the front-end | tip of the convex part 161 be the magnitude | size of a convex part. Although the convex part 161 of this embodiment is made into the truncated cone shape, it is not restricted to this. For example, it may be a truncated pyramid cut out at the height of the top.

図29及び図30に示す培養担体170は、相分離法で得られる多孔質材料の一例である。培養担体170は、不定形に形成された凸部171を有し、この凸部171により培養面170aが形成されている。凹部172は凸部171に囲まれた部分として形成されており、凸部171と同様に不定形である。この例では、凸部171と凹部172とが海島構造(凸部171が海部、凹部172が島部)として形成されており、凸部171が海状、凹部172が島状に形成されている。この場合には、凹部172の大きさが50nm以上50μm以下の範囲内である。なお、培養面170aにおける凹部172の開口の面積と同じ円172を描いたときに、その円172の直径D172を凹部172の大きさとみなす。なお、本実施形態では、各凹部172が独立した島部とされているが、海島構造が逆であってもよい。すなわち、凸部が島部、凹部が海部であり、各凸部が独立していてもよい。   The culture carrier 170 shown in FIGS. 29 and 30 is an example of a porous material obtained by the phase separation method. The culture carrier 170 has a convex portion 171 formed in an irregular shape, and a culture surface 170 a is formed by the convex portion 171. The concave portion 172 is formed as a portion surrounded by the convex portion 171 and is indefinite like the convex portion 171. In this example, the convex portion 171 and the concave portion 172 are formed as a sea-island structure (the convex portion 171 is a sea portion and the concave portion 172 is an island portion), and the convex portion 171 is formed in a sea shape and the concave portion 172 is formed in an island shape. . In this case, the size of the recess 172 is in the range of 50 nm to 50 μm. When a circle 172 having the same area as the opening of the recess 172 on the culture surface 170a is drawn, the diameter D172 of the circle 172 is regarded as the size of the recess 172. In the present embodiment, each recess 172 is an independent island, but the sea-island structure may be reversed. That is, a convex part may be an island part and a recessed part may be a sea part, and each convex part may be independent.

培養担体120,125,130,135,140,150,160,170は、培養担体12と同様に、培養面120a,125a,130a,135a,140a,150a,160a,170aから深さ0.1μmまでの範囲の容積率VRが20%以上80%以下の範囲内であり、培養面における開口率SRが30%以上90%以下の範囲とされている。   The culture carrier 120, 125, 130, 135, 140, 150, 160, 170 is the same as the culture carrier 12, from the culture surface 120a, 125a, 130a, 135a, 140a, 150a, 160a, 170a to a depth of 0.1 μm. The volume ratio VR is in the range of 20% to 80%, and the opening ratio SR on the culture surface is in the range of 30% to 90%.

また、培養担体12,120,125,130,135,140,150,160,170はいずれもフィルム状のものであるが、ブロック状のものでもよい。ブロック状の培養担体の場合にも、50nm以上50μm以下の範囲内である凹部または凸部が形成されている培養面を備えるものとする。   Further, the culture carriers 12, 120, 125, 130, 135, 140, 150, 160, and 170 are all film-like, but may be block-like. In the case of a block-shaped culture carrier, a culture surface on which a concave portion or a convex portion within a range of 50 nm to 50 μm is formed.

以下に本発明の実施例を示すが、詳細は実施例1に記載し、本発明に対する比較例1については、実施例1と異なる条件のみを記載する。   Examples of the present invention will be described below. Details will be described in Example 1, and Comparative Example 1 for the present invention will be described only for conditions different from those of Example 1.

支持体52としてのガラス板に、ポリスチレンの溶液を流延して流延膜を形成した。流延膜に加湿した空気を供給しながら流延膜を乾燥することで、流延膜の表面に結露させて水滴を形成し、最終的に溶媒と水滴とを蒸発させた。水滴を蒸発させるために、吹き付ける空気を加湿したものから乾燥したものへと切り替えた。このフィルム形成工程により、ポリスチレン製であり、孔13が培養面12aに沿って並んだハニカム構造の培養担体12を形成した。このように、本実施例では結露法により培養担体12を形成した。得られた培養担体12は、孔径が均一であり、平均孔径(孔径の平均値)は約5μmであった。容積率VRは約35%、培養面12aにおける開口率SRは約50%であった。   A polystyrene film was cast on a glass plate as the support 52 to form a cast film. The cast film was dried while supplying humidified air to the cast film, whereby water droplets were formed by condensation on the surface of the cast film, and finally the solvent and the water droplets were evaporated. In order to evaporate the water droplets, the air to be blown was switched from humidified to dry. By this film forming step, a culture carrier 12 having a honeycomb structure made of polystyrene and having holes 13 arranged along the culture surface 12a was formed. Thus, in this example, the culture carrier 12 was formed by the condensation method. The obtained culture carrier 12 had a uniform pore diameter, and the average pore diameter (average pore diameter) was about 5 μm. The volume ratio VR was about 35%, and the opening ratio SR on the culture surface 12a was about 50%.

ポリスチレン製の円筒容器35の内面を低親和性部16で覆った容器本体31を用意した。まず、円筒容器35の内面に、スパッタリング装置(E−1030,日立株式会社製)を用いて、厚みが9nmのプラチナ(Pt)の被膜を形成した。次に、このPt被膜の上に、低親和性部16を形成した。低親和性部16は、重量平均分子量30000のポリエチレングリコール(PEG)鎖とチオール基とを有する合成ポリマー(日本油脂株式会社製)の溶液を塗布して溶媒を蒸発させることにより形成した。この容器本体31を用いて、図8に示すウェル40を作成した。すなわち、この容器本体31の底部上に、支持体52と一体の培養担体12を載せ、培養担体12の上に押さえ部材42を載せることにより培養担体12の浮き上がりを防いだ。PEGの被膜42aで覆われたガラス製の押さえ部材42を用いた。   A container body 31 in which the inner surface of a polystyrene cylindrical container 35 was covered with the low affinity portion 16 was prepared. First, a platinum (Pt) film having a thickness of 9 nm was formed on the inner surface of the cylindrical container 35 using a sputtering apparatus (E-1030, manufactured by Hitachi, Ltd.). Next, the low affinity part 16 was formed on this Pt film. The low affinity part 16 was formed by applying a solution of a synthetic polymer (manufactured by NOF Corporation) having a polyethylene glycol (PEG) chain having a weight average molecular weight of 30000 and a thiol group and evaporating the solvent. A well 40 shown in FIG. 8 was created using the container body 31. That is, the culture carrier 12 integral with the support 52 was placed on the bottom of the container body 31 and the pressing member 42 was placed on the culture carrier 12 to prevent the culture carrier 12 from being lifted. A glass pressing member 42 covered with a PEG coating 42a was used.

ウェル40の内部に、培養すべき細胞と培養液(液体培地)とを入れた。細胞は、ヒト肝由来細胞(HepG2)であり、培養液は、ウィリアムズE培地(Williams’s Medium E、シグマアルドリッチジャパン合同会社製)10.8g/Lに、58.8mg/Lのペニシリン(MeijiSeikaファルマ(株)製)、100mg/Lのストレプトマイシン(MeijiSeikaファルマ(株)製)、2.2g/Lの炭酸水素ナトリウム(和光純薬工業(株)製)、10%の牛胎児血清(FBS、インビトロジェン(株)製)、を加えた血清添加培養液である。仕込んだ細胞の数は、5000である。培養液は、液面がウェル40の深さの中間位置になる量(5分目)とした。培養は、二酸化酸素濃度5%、温度37℃下で24時間行った。   Inside the well 40, cells to be cultured and a culture solution (liquid medium) were placed. The cells were human liver-derived cells (HepG2), and the culture broth was 18.8 g / L of Williams E medium (Williams's Medium E, Sigma-Aldrich Japan LLC), 58.8 mg / L of penicillin (MeijiSeika). Pharma Co., Ltd.), 100 mg / L streptomycin (Meiji Seika Pharma Co., Ltd.), 2.2 g / L sodium bicarbonate (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), 10% fetal bovine serum (FBS, Invitrogen Corp.), a serum-added culture solution. The number of cells charged is 5000. The amount of the culture solution was such that the liquid level reached the middle position of the depth of the well 40 (fifth minute). The culture was carried out at an oxygen dioxide concentration of 5% and a temperature of 37 ° C. for 24 hours.

培養開始から24時間後に、ウェル40の内部にある細胞の数を数えたところ10000であり、そのうち、培養面12a上にある細胞の数は9000以上であった。また、培養面12a上にはスフェロイドが形成されていた。   24 hours after the start of the culture, the number of cells in the well 40 was counted and found to be 10,000, of which the number of cells on the culture surface 12a was 9000 or more. In addition, spheroids were formed on the culture surface 12a.

[比較例1]
実施例1と同じ円筒容器35を用意し、この円筒容器35の内面には低親和性部16を形成しなかった。この円筒容器35の底部に、実施例1と同じ培養担体12を支持体52ととともに設置した。また、押さえ部材42と同様にリング状に形成された押さえ部材で、培養担体12の周縁部を押さえた。ただし用いた押さえ部材は、被膜42aが形成されていないものである。その他の条件は実施例1と同じにして、実施例1と同じ細胞を培養した。
[Comparative Example 1]
The same cylindrical container 35 as in Example 1 was prepared, and the low affinity portion 16 was not formed on the inner surface of the cylindrical container 35. The same culture carrier 12 as in Example 1 was installed together with the support 52 on the bottom of the cylindrical container 35. Moreover, the peripheral part of the culture support | carrier 12 was hold | suppressed with the press member formed in the ring shape similarly to the press member 42. FIG. However, the used pressing member is one in which the coating 42a is not formed. Other conditions were the same as in Example 1, and the same cells as in Example 1 were cultured.

培養開始から24時間後に、培養面12上にはスフェロイドは形成されていたものの、ウェルの内部にある細胞の数を数えたところ10000であり、そのうち、培養面12a上にある細胞の数は1000以下であった。   Although spheroids were formed on the culture surface 12 after 24 hours from the start of the culture, the number of cells in the well was counted to be 10,000, of which the number of cells on the culture surface 12a was 1000. It was the following.

10,20,30,40,50,60,70,80 ウェル
12,120,125,130,135,140 培養担体
90 チップ
100 マルチウェルプレート
110 マルチチッププレート
13,121,126,131,136,141 孔
141 凸部
10, 20, 30, 40, 50, 60, 70, 80 Well 12, 120, 125, 130, 135, 140 Culture carrier 90 chip 100 multiwell plate 110 multichip plate 13, 121, 126, 131, 136, 141 Hole 141 Convex

上記課題を解決するために、本発明の細胞培養用具は、培養担体と低親和性部とを備えている。培養担体は、細胞を培養する培養面に凹凸が形成され、前記培養面から深さ0.1μmまでの範囲における容積率が5%以上80%以下の範囲内であり、前記培養面における開口率が30%以上95%以下の範囲内である。低親和性部は、培養面の周囲を囲んで設けられ、細胞との親和性が培養面よりも低い。前記低親和性部の表面の接触角が前記培養面の接触角よりも小さくされており、かつ、前記低親和性部の表面と前記培養面との接触角の差は20°以上130°以下の範囲内である、または、帯電部としての前記低親和性部の電位は−30mV以上0mV未満の範囲内である。
In order to solve the above problems, the cell culture instrument of the present invention includes a culture carrier and a low affinity part. The culture carrier has irregularities formed on the culture surface for culturing cells, the volume ratio in the range from the culture surface to a depth of 0.1 μm is in the range of 5% to 80%, and the open area ratio in the culture surface Is in the range of 30% to 95%. The low affinity part is provided so as to surround the periphery of the culture surface, and has a lower affinity with the cell than the culture surface. The contact angle of the surface of the low affinity part is smaller than the contact angle of the culture surface, and the difference in contact angle between the surface of the low affinity part and the culture surface is 20 ° or more and 130 ° or less. Or the potential of the low affinity part as the charging part is in the range of −30 mV to less than 0 mV.

Claims (8)

細胞を培養する培養面に凹凸が形成され、前記培養面から深さ0.1μmまでの範囲における容積率が5%以上80%以下の範囲内であり、前記培養面における開口率が30%以上95%以下の範囲内である培養担体と、
前記培養面の周囲を囲んで設けられ、前記細胞との親和性が前記培養面よりも低い低親和性部と、
を備える細胞培養用具。
Concavities and convexities are formed on the culture surface for culturing the cells, the volume ratio in the range from the culture surface to a depth of 0.1 μm is in the range of 5% to 80%, and the opening ratio in the culture surface is 30% or more. A culture carrier within a range of 95% or less;
A low-affinity portion that is provided around the culture surface and has a lower affinity for the cells than the culture surface;
A cell culture tool comprising:
前記低親和性部が、前記培養面に対して起立した姿勢で設けられている請求項1に記載の細胞培養用具。   The cell culture instrument according to claim 1, wherein the low affinity part is provided in an upright posture with respect to the culture surface. 培養液を収容し、内面が前記低親和性部により形成されている容器本体を備え、
前記培養担体が前記容器本体の底に設けられている請求項1または2に記載の細胞培養用具。
Containing a culture medium, comprising a container body whose inner surface is formed by the low affinity part,
The cell culture instrument according to claim 1 or 2, wherein the culture carrier is provided on the bottom of the container body.
前記培養面が、前記容器本体の内部の側面から離間して形成されている請求項3に記載の細胞培養用具。   The cell culture instrument according to claim 3, wherein the culture surface is formed so as to be separated from an inner side surface of the container body. 前記培養担体は、一定の大きさの凹部が前記培養面に沿って複数並んで形成されることにより、前記培養面を垂直方向からみたときにハニカム構造となるフィルムである請求項1または2に記載の細胞培養用具。   3. The film according to claim 1 or 2, wherein the culture carrier is a film having a honeycomb structure when the culture surface is viewed from a vertical direction by forming a plurality of concave portions having a certain size along the culture surface. The cell culture device described. 前記培養担体は、一定の大きさの凹部が前記培養面に沿って複数並んで形成されることにより、前記培養面を垂直方向からみたときにハニカム構造とされているフィルムである請求項3に記載の細胞培養用具。   4. The film according to claim 3, wherein the culture carrier is a film having a honeycomb structure when the culture surface is viewed from a vertical direction by forming a plurality of concave portions having a certain size along the culture surface. The cell culture device described. 前記培養担体は、一定の高さ及び形状をもつ複数の凸部が前記培養面に沿って並んで形成されているフィルムである請求項1または2に記載の細胞培養用具。   The cell culture tool according to claim 1 or 2, wherein the culture carrier is a film in which a plurality of convex portions having a certain height and shape are formed side by side along the culture surface. 前記培養担体は、一定の高さ及び形状をもつ複数の凸部が前記培養面に沿って並んで形成されているフィルムである請求項3に記載の細胞培養用具。   The cell culture device according to claim 3, wherein the culture carrier is a film in which a plurality of convex portions having a certain height and shape are formed side by side along the culture surface.
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