JPWO2014065000A1 - Display device with touch panel - Google Patents

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Abstract

タッチパネル付き表示装置は、タッチパネル(20)と表示装置(10)とを粘着剤層(30)を介して貼り合わせてなる。表示装置(10)の偏光板(2)は、偏光子(3)と、偏光子(3)の表面を保護するための保護フィルム(フィルム基材(4a))とを備えている。タッチパネル(20)は、ガラス基板(21)の飛散を防止するための飛散防止フィルム(25)と、表示装置(10)からの電気的ノイズを遮断するための電磁波シールド層(26)とを備えている。上記保護フィルムは、厚さ20〜30μmのセルロースエステルフィルムである。飛散防止フィルム(25)は、厚さ20〜66μmのセルロースエステルフィルムである。A display device with a touch panel is formed by bonding a touch panel (20) and a display device (10) through an adhesive layer (30). The polarizing plate (2) of the display device (10) includes a polarizer (3) and a protective film (film substrate (4a)) for protecting the surface of the polarizer (3). The touch panel (20) includes a scattering prevention film (25) for preventing scattering of the glass substrate (21) and an electromagnetic wave shielding layer (26) for blocking electrical noise from the display device (10). ing. The protective film is a cellulose ester film having a thickness of 20 to 30 μm. The scattering prevention film (25) is a cellulose ester film having a thickness of 20 to 66 μm.

Description

本発明は、タッチパネルと表示装置とを粘着剤層を介して貼り合わせたタッチパネル付き表示措置に関するものである。   The present invention relates to a display measure with a touch panel in which a touch panel and a display device are bonded together via an adhesive layer.

近年、携帯電話機、携帯端末機またはパーソナルコンピュータなどの各種電子機器が高機能化され、多様化されるに伴い、それらの電子機器への入力手段の1つとして、タッチパネルが使用されている。タッチパネルは、光透過性を有しており、これが例えば液晶表示装置に貼り合わされる場合は、液晶パネルの偏光板側に粘着剤を介して装着される。   In recent years, as various electronic devices such as a mobile phone, a portable terminal, and a personal computer have become highly functional and diversified, a touch panel is used as one of input means to these electronic devices. The touch panel has optical transparency, and when it is bonded to a liquid crystal display device, for example, it is attached to the polarizing plate side of the liquid crystal panel via an adhesive.

従来、携帯端末機の情報表示部の表面に装着されるタッチパネルにおいては、情報表示部に表示された情報を見易くするためや、携帯端末機を落としても壊れないようにする観点から、光透過性の高いプラスチック板が用いられていた。しかしながら、携帯端末機に求められる薄型化および軽量化を追求すべく、プラスチック板を薄くしていくと、プラスチック板の強度が不足する。これを解消するために、情報表示部の表面に装着されるタッチパネルにおいては、近年、プラスチック板よりも高い強度を有するガラス基板が用いられるようになってきている。   Conventionally, a touch panel mounted on the surface of an information display unit of a mobile terminal is light-transmitting from the viewpoint of making the information displayed on the information display unit easy to see and not breaking even if the mobile terminal is dropped. A high-quality plastic plate was used. However, if the plastic plate is made thin in order to pursue the reduction in thickness and weight required for the portable terminal, the strength of the plastic plate is insufficient. In order to solve this problem, in recent years, a glass substrate having higher strength than a plastic plate has been used for a touch panel mounted on the surface of an information display unit.

ところが、ガラス基板を用いると、携帯端末機を落とした際にガラス基板が破損し、その破片が飛散する場合がある。このため、ガラス飛散防止フィルムをガラス基板の表面に貼合して用いることが従来から検討されている。一般に、安価で飛散防止効果のあるポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムが、ガラス飛散防止フィルムとして用いられている。PETフィルムは、一般に粘着剤層との密着性が低いため、密着性を向上させるために、易接着層と呼ばれる薄膜が設けられた易接着層付きPETフィルムが利用されている。   However, when a glass substrate is used, the glass substrate may be damaged when the portable terminal is dropped, and the fragments may be scattered. For this reason, it has been conventionally studied to use a glass scattering prevention film by bonding it to the surface of a glass substrate. Generally, a polyethylene terephthalate (PET) film that is inexpensive and has an anti-scattering effect is used as a glass anti-scattering film. Since the PET film generally has low adhesion to the pressure-sensitive adhesive layer, in order to improve the adhesion, a PET film with an easy adhesion layer provided with a thin film called an easy adhesion layer is used.

しかし、PETフィルムは、屈折率の関係から干渉縞を発生させ、表示情報の視認性を低下させる場合がある。これを改善するため、PETフィルムの代わりに、粘着剤層付きトリアセチルセルロースフィルムを用い、ガラス基板の最表面に保護フィルムとして貼り合わせることで、ガラス基板の飛散を防止することが検討されている(例えば特許文献1参照)。   However, the PET film may generate interference fringes due to the refractive index relationship, thereby reducing the visibility of display information. In order to improve this, a triacetyl cellulose film with an adhesive layer is used instead of a PET film, and it is studied to prevent scattering of the glass substrate by bonding to the outermost surface of the glass substrate as a protective film. (For example, refer to Patent Document 1).

一方、タッチパネルには、種々の方式のものがあるが、その1つとして、静電容量型のタッチパネルがある。この静電容量型のタッチパネルにおいて、透明な基板上には、透明導電膜によってX方向に延びるように形成されるX電極パターンと、他の透明導電膜によってY方向に延びるように形成されるY電極パターンとが設けられている。X電極パターンおよびY電極パターンとしては、例えば長方形状のパターンやダイヤモンドパターンと呼ばれるものがあり、これらはITO(Indium Tin Oxide)を用いて形成される。タッチパネルの上記基板の表面を指で押圧すると、X電極パターンとY電極パターンとが接触し、その位置での静電容量が変化するため、その静電容量の変化をX電極パターンおよびY電極パターンを介して検出することで、押圧位置を特定することができる。   On the other hand, there are various types of touch panels, and one of them is a capacitive touch panel. In this capacitive touch panel, an X electrode pattern formed on a transparent substrate so as to extend in the X direction by a transparent conductive film, and Y formed so as to extend in the Y direction by another transparent conductive film. An electrode pattern is provided. Examples of the X electrode pattern and the Y electrode pattern include a rectangular pattern and a diamond pattern, which are formed using ITO (Indium Tin Oxide). When the surface of the substrate of the touch panel is pressed with a finger, the X electrode pattern and the Y electrode pattern come into contact with each other, and the capacitance at that position changes. It is possible to specify the pressed position by detecting via the.

このような2層の透明導電膜を持ち、しかもタッチ面がガラス面になっている構成の静電容量型のタッチパネルにおいて、2層の透明導電膜に、透明な光学的両面テープ(OCA;Optical Clear Adhesive tape )や充填剤を介して、さらにもう1枚のガラス基板を貼り合わせると、タッチパネルが厚くなる。この点、特許文献2の静電容量型のタッチパネルでは、互いに直交する方向に延びる2層の透明導電膜を備え、かつタッチ面がガラス基板である構成において、用いるガラス基板を、タッチ面を構成するガラス基板1枚のみとすることで、タッチパネル全体の薄型化を図っている。   In a capacitive touch panel having such a two-layer transparent conductive film and a touch surface made of glass, a transparent optical double-sided tape (OCA; Optical) is applied to the two-layer transparent conductive film. If another glass substrate is bonded together via Clear Adhesive tape) or a filler, the touch panel becomes thicker. In this regard, the electrostatic capacitance type touch panel of Patent Document 2 includes a two-layer transparent conductive film extending in directions orthogonal to each other and the touch surface is a glass substrate. By using only one glass substrate, the entire touch panel is reduced in thickness.

しかしながら、特許文献2のような、ガラス基板を1枚のみ用いた薄型のタッチパネルを、粘着剤層を介して表示装置としての例えば液晶表示装置に貼り合わせると、タッチパネルの電極層(X電極パターン、Y電極パターン)の位置が液晶パネルに近づく。このため、液晶パネルの各画素の駆動時に、各画素に対応して設けられるスイッチング素子(例えばTFT)のON/OFFによって発生する電気的ノイズ(リーク電流を含む)の影響を受けやすくなり、タッチパネルが誤作動しやすくなる(例えば上記ノイズによって押圧位置を精度よく検出することができなくなる)。   However, when a thin touch panel using only one glass substrate as in Patent Document 2 is attached to, for example, a liquid crystal display device as a display device via an adhesive layer, an electrode layer (X electrode pattern, The position of the (Y electrode pattern) approaches the liquid crystal panel. For this reason, when each pixel of the liquid crystal panel is driven, it is easily affected by electrical noise (including leakage current) generated by ON / OFF of a switching element (for example, TFT) provided corresponding to each pixel. Is likely to malfunction (for example, the pressed position cannot be detected accurately due to the noise).

また、タッチパネルの最外層(表示装置とは反対側の層)にガラス基板が位置すると、表示装置内の水分(例えば偏光子自体に含まれる水分や、偏光子に保護フィルムを水系塗布することによって生じる水分)は、ガラス基板を透過できないため、ガラス基板よりも表示装置側にこもりやすくなり、この水分によって粘着剤層の粘着性が低下して粘着剤層が剥がれやすくなる。   In addition, when the glass substrate is positioned on the outermost layer of the touch panel (the layer on the side opposite to the display device), water in the display device (for example, water contained in the polarizer itself or by applying a protective film to the polarizer in an aqueous system) Since the generated water) cannot pass through the glass substrate, it becomes more likely to be confined to the display device side than the glass substrate, and the adhesiveness of the pressure-sensitive adhesive layer is lowered by this water and the pressure-sensitive adhesive layer is easily peeled off.

特開2011−209512号公報(請求項1、段落〔0012〕、図1等参照)JP 2011-209512 A (refer to claim 1, paragraph [0012], FIG. 1, etc.) 特開2011−186717号公報(請求項1、段落〔0016〕、0022〕、図1等参照)JP 2011-186717 A (refer to claim 1, paragraphs [0016] and 0022], FIG. 1 and the like)

本発明の目的は、前記の事情に鑑み、用いるガラス基板が1枚のみである薄型のタッチパネルを表示装置に貼り合わせた構成であっても、表示装置からの電気的ノイズによるタッチパネルの誤動作が起こりにくく、かつ、粘着剤層の剥がれを抑えることができるタッチパネル付き表示装置を提供することにある。   In view of the above circumstances, the object of the present invention is to cause a malfunction of the touch panel due to electrical noise from the display device even when the thin touch panel, which uses only one glass substrate, is bonded to the display device. It is difficult to provide a display device with a touch panel that is difficult and can prevent peeling of an adhesive layer.

本発明の上記目的は以下の構成により達成される。   The above object of the present invention is achieved by the following configurations.

1.ガラス基板上に電極層を有するタッチパネルの前記電極層側と、表示パネル上に偏光板を有する表示装置の前記偏光板側とを、粘着剤層を介して貼り合わせたタッチパネル付き表示装置であって、
前記偏光板は、偏光子と、前記偏光子の前記タッチパネル側の表面を保護するための保護フィルムとを備えており、
前記タッチパネルは、前記電極層上に、前記ガラス基板の飛散を防止するための飛散防止フィルムと、前記表示装置からの電気的ノイズを遮断するための電磁波シールド層とを備えており、
前記保護フィルムは、厚さ20〜30μmのセルロースエステルフィルムであり、
前記飛散防止フィルムは、厚さ20〜66μmのセルロースエステルフィルムであることを特徴とするタッチパネル付き表示装置。
1. A display device with a touch panel in which the electrode layer side of a touch panel having an electrode layer on a glass substrate and the polarizing plate side of a display device having a polarizing plate on a display panel are bonded via an adhesive layer. ,
The polarizing plate includes a polarizer and a protective film for protecting the surface of the polarizer on the touch panel side,
The touch panel includes, on the electrode layer, a scattering prevention film for preventing scattering of the glass substrate, and an electromagnetic wave shielding layer for blocking electrical noise from the display device,
The protective film is a cellulose ester film having a thickness of 20 to 30 μm,
The display device with a touch panel, wherein the scattering prevention film is a cellulose ester film having a thickness of 20 to 66 μm.

2.前記飛散防止フィルムは、面内方向におけるリタデーションRoが0nm〜10nmであることを特徴とする前記1に記載のタッチパネル付き表示装置。   2. 2. The display device with a touch panel as described in 1 above, wherein the scattering prevention film has a retardation Ro in the in-plane direction of 0 nm to 10 nm.

3.前記飛散防止フィルムは、面内方向におけるリタデーションRoが30nm〜200nmであり、前記偏光子の透過軸に対して前記飛散防止フィルムの遅相軸が10〜80°の方向となるように配置されることを特徴とする前記1に記載のタッチパネル付き表示装置。   3. The scattering prevention film has a retardation Ro in the in-plane direction of 30 nm to 200 nm, and is arranged so that the slow axis of the scattering prevention film is in the direction of 10 to 80 ° with respect to the transmission axis of the polarizer. 2. The display device with a touch panel as described in 1 above.

4.前記偏光板は、前記保護フィルム上にハードコート層を有することを特徴とする前記1から3のいずれかに記載のタッチパネル付き表示装置。   4). 4. The display device with a touch panel according to any one of 1 to 3, wherein the polarizing plate has a hard coat layer on the protective film.

5.前記電磁波シールド層は、銀ナノワイヤーで構成されていることを特徴とする前記1から4のいずれかに記載のタッチパネル付き表示装置。   5. 5. The display device with a touch panel according to any one of 1 to 4, wherein the electromagnetic wave shielding layer is composed of silver nanowires.

6.前記電磁波シールド層は、カーボンナノチューブで構成されていることを特徴とする前記1から4のいずれかに記載のタッチパネル付き表示装置。   6). 5. The display device with a touch panel according to any one of 1 to 4, wherein the electromagnetic wave shielding layer is composed of carbon nanotubes.

7.前記電磁波シールド層は、導電性ポリマーで構成されていることを特徴とする前記1から4のいずれかに記載のタッチパネル付き表示装置。   7). 5. The display device with a touch panel according to any one of 1 to 4, wherein the electromagnetic shielding layer is made of a conductive polymer.

8.前記偏光板は、前記偏光子に対して前記タッチパネルとは反対側に、透湿度が200g/m2/24h以下の光学フィルムを有していることを特徴とする前記1から7のいずれかに記載のタッチパネル付き表示装置。8). The polarizing plate, on the side opposite to the touch panel with respect to the polarizer, any of the 1, characterized in that moisture permeability has the following optical film 200g / m 2 / 24h 7 of The display device with a touch panel as described.

上記の構成によれば、タッチパネルの飛散防止フィルム上に電磁波シールド層が設けられており、表示装置からの電気的ノイズ(例えば表示パネルのスイッチング素子のON/OFFによる電気的ノイズ)が電磁波シールド層で遮断される。これにより、用いるガラス基板が1枚のみの、薄型のタッチパネルを表示装置に貼り合わせた構成であっても、上記電気的ノイズによるタッチパネルの誤作動を起こしにくくすることができる。   According to said structure, the electromagnetic wave shield layer is provided on the scattering prevention film of a touch panel, and the electrical noise (for example, the electrical noise by ON / OFF of the switching element of a display panel) from a display apparatus is an electromagnetic wave shield layer. It is interrupted by. Thereby, even if it is the structure which bonded the thin touch panel with which only one glass substrate is used to a display apparatus, the malfunction of the touch panel by the said electrical noise can be made hard to raise | generate.

また、偏光板のタッチパネル側の保護フィルムはセルロースエステルフィルム(以下、フィルムA1とも称する)であり、タッチパネルの飛散防止フィルムもセルロースエステルフィルム(以下、フィルムA2とも称する)である。セルロースエステルフィルムは吸湿性および透湿性が高いので、フィルムA1を厚さ20〜35μmの薄型とし、フィルムA2を厚さ20〜66μmの薄型としても、タッチパネル付き表示装置の内部の水分を、フィルムA1およびフィルムA2の両方でトラップ(捕獲)して、上記の水分が電磁波シールド層と粘着剤層との間に溜まるのを抑制することができる。これにより、上記水分によって粘着剤層の粘着性が低下して、粘着剤層が剥がれるのを抑制することができる。また、フィルムA1およびフィルムA2を上記のように薄型とすることで、タッチパネル付き表示装置全体の薄型化にも十分貢献できる。   The protective film on the touch panel side of the polarizing plate is a cellulose ester film (hereinafter also referred to as film A1), and the scattering prevention film of the touch panel is also a cellulose ester film (hereinafter also referred to as film A2). Since the cellulose ester film has high hygroscopicity and moisture permeability, even if the film A1 is made thin with a thickness of 20 to 35 μm, and the film A2 is made thin with a thickness of 20 to 66 μm, the moisture inside the display device with a touch panel is removed from the film A1. It can be trapped (captured) by both the film A2 and the water can be prevented from accumulating between the electromagnetic wave shielding layer and the pressure-sensitive adhesive layer. Thereby, the adhesiveness of an adhesive layer falls with the said water | moisture content, and it can suppress that an adhesive layer peels. Moreover, by making the film A1 and the film A2 thin as described above, it is possible to sufficiently contribute to the thinning of the entire display device with a touch panel.

本発明の実施の形態に係るタッチパネル付き表示装置の概略の構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the schematic structure of the display apparatus with a touchscreen which concerns on embodiment of this invention.

本発明の実施の一形態について、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、本明細書において、数値範囲をA〜Bと表記した場合、その数値範囲に下限Aおよび上限Bの値は含まれるものとする。   An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the present specification, when the numerical range is expressed as A to B, the numerical value range includes the values of the lower limit A and the upper limit B.

〔タッチパネル付き表示装置〕
図1は、本実施形態のタッチパネル付き表示装置の概略の構成を示す断面図である。同図に示すように、タッチパネル付き表示装置は、表示装置10とタッチパネル20とを粘着剤層30を介して貼り合わせて構成されている。
[Display device with touch panel]
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of a display device with a touch panel according to the present embodiment. As shown in the figure, the display device with a touch panel is configured by bonding the display device 10 and the touch panel 20 through an adhesive layer 30.

表示装置10は、表示パネル1上に偏光板2を積層して構成されている。表示パネル1は、液晶表示パネル(LCD:Liquid Crystal Display)や有機EL(OLED:Organiclight-Emitting Diode)ディスプレイで構成することができる。LCDやOLEDは、マトリクス状に配置される複数の画素を有しており、各画素の駆動をTFT(Thin Film Transistor)などのスイッチング素子によってON/OFFすることにより、表示を行う。   The display device 10 is configured by laminating a polarizing plate 2 on a display panel 1. The display panel 1 can be constituted by a liquid crystal display panel (LCD) or an organic EL (Organic light-Emitting Diode) display. LCDs and OLEDs have a plurality of pixels arranged in a matrix, and display is performed by turning on / off the driving of each pixel by a switching element such as a TFT (Thin Film Transistor).

偏光板2は、所定の直線偏光を透過する偏光子3と、偏光子3のタッチパネル20側に積層されるフィルム4と、偏光子3の表示パネル1側に積層されるフィルム5とで構成されている。偏光子3は、例えばポリビニルアルコールフィルムを二色性色素で染色し、高倍率延伸することで得られ、アルカリ処理(鹸化処理ともいう)された後に、上記のフィルム4・5を、偏光子3のそれぞれの面に、ポリビニルアルコール水溶液を接着剤として貼り合わせられる(水系接着される)。   The polarizing plate 2 includes a polarizer 3 that transmits predetermined linearly polarized light, a film 4 that is laminated on the touch panel 20 side of the polarizer 3, and a film 5 that is laminated on the display panel 1 side of the polarizer 3. ing. The polarizer 3 is obtained by, for example, dyeing a polyvinyl alcohol film with a dichroic dye and stretching the film at a high magnification. After being subjected to an alkali treatment (also referred to as a saponification treatment), the above-described films 4 and 5 are converted into the polarizer 3. Each surface is bonded with an aqueous polyvinyl alcohol solution as an adhesive (water-based bonding).

フィルム4は、フィルム基材4a(保護フィルム)の上にハードコート層4bを積層したハードコートフィルムとして構成されており、偏光板2(偏光子3)の表面を保護する機能を有している。フィルム基材4aは、種々の材料で構成することができるが、本実施形態では、その中でも、厚さ20〜30μmのセルロースエステルフィルムで構成されている。ハードコート層4bは、例えば活性エネルギー線硬化型樹脂で構成されており、その厚さは数μmである。フィルム4は、フィルム基材4a単独で(ハードコート層を積層せずに)保護フィルムとして構成されてもよいが、フィルム基材4a上にハードコート層4bを形成したハードコートフィルムとすることで、偏光板2の表面を保護する機能を高めることができる。特に本実施の形態においては、フィルム基材4aや飛散防止フィルム25が薄膜である為、タッチパネル20を押圧した場合に、表示パネル1が損傷し易いが、フィルム4をハードコートフィルムとすることで、このような損傷の発生を抑制することができる。   The film 4 is configured as a hard coat film in which a hard coat layer 4b is laminated on a film substrate 4a (protective film), and has a function of protecting the surface of the polarizing plate 2 (polarizer 3). . Although the film base material 4a can be comprised with various materials, in this embodiment, it is comprised with the cellulose ester film of thickness 20-30 micrometers among them. The hard coat layer 4b is made of, for example, an active energy ray curable resin and has a thickness of several μm. Although the film 4 may be configured as a protective film by itself (without laminating a hard coat layer) alone, the film 4 may be a hard coat film in which a hard coat layer 4b is formed on the film substrate 4a. The function of protecting the surface of the polarizing plate 2 can be enhanced. In particular, in the present embodiment, since the film base 4a and the scattering prevention film 25 are thin films, the display panel 1 is easily damaged when the touch panel 20 is pressed, but the film 4 is a hard coat film. The occurrence of such damage can be suppressed.

なお、表示パネル1がLCDの場合、表示パネル1に対して偏光板2とは反対側にも別の偏光板(図示せず)が配置される。また、表示パネル1がOLEDディスプレイの場合、偏光板2は、外光反射防止のための円偏光板(または楕円偏光板)として構成されることが好ましい。円偏光板とする場合は、偏光子3の表示パネル1側のフィルム5は、透過光に対して波長の1/4程度の面内位相差を付与する光学フィルムであり、偏光子3の光学軸とフィルム5の遅相軸とがおよそ45°の角度で交差するように、偏光子3とフィルム5とを貼り合わせることで構成されることが好ましい。   When the display panel 1 is an LCD, another polarizing plate (not shown) is disposed on the opposite side of the display panel 1 from the polarizing plate 2. When the display panel 1 is an OLED display, the polarizing plate 2 is preferably configured as a circularly polarizing plate (or an elliptically polarizing plate) for preventing external light reflection. In the case of a circularly polarizing plate, the film 5 on the display panel 1 side of the polarizer 3 is an optical film that imparts an in-plane retardation of about ¼ of the wavelength to the transmitted light. It is preferable that the polarizer 3 and the film 5 are bonded together so that the axis and the slow axis of the film 5 intersect at an angle of about 45 °.

フィルム5は、表示パネル1がLCDの場合、単に偏光子の保護フィルムとして設けられてもよく、所望の光学補償機能を有する位相差フィルムを兼ねた保護フィルムとされてもよい。上述のように、表示パネル1がOLEDディスプレイの場合は、フィルム5は、透過波長の1/4程度の面内位相差を付与する光学フィルムであることが好ましい。フィルム5としては、透湿度が200g/m2/24h以下であるフィルムとされることが好ましく、具体的には、アクリル樹脂、環状ポリオレフィン(COP)、ポリカーボネート(PC)等からなる光学フィルムで構成することが望ましい。これは、透湿度が200g/m2/24hを超える光学フィルムは、偏光子3の表示パネル1側に設けられる為、例えば水系接着によって生じる水分によって上記光学フィルムの位相差が変動したときに、表示パネル1からの光の偏光状態が上記光学フィルムによって変化し、偏光子3を通過する際に光量が低下するおそれがあるからである。それに対し、偏光子3の外側に設けられる飛散防止フィルム25やフィルム4は、水分により位相差が変動しても、偏光状態への影響はない為、透水性及び吸水性の高いセルロースエステルフィルムを好ましく用いることができる。ちなみに、アクリルの透湿度は100g/m2/24h.40μmであり、COPの透湿度は0.1g/m2/24h.40μmであり、PCの透湿度は100g/m2/24h.40μm程度である。なお、本発明において、透湿度とは、試験条件40℃、90%RHで測定されたものを指す。When the display panel 1 is an LCD, the film 5 may be simply provided as a protective film for a polarizer, or may be a protective film that also serves as a retardation film having a desired optical compensation function. As described above, when the display panel 1 is an OLED display, the film 5 is preferably an optical film that imparts an in-plane retardation of about ¼ of the transmission wavelength. The film 5 is preferred that the moisture permeability is a film or less 200g / m 2 / 24h, specifically, constituted by an optical film made of acrylic resin, cyclic polyolefin (COP), polycarbonate (PC) or the like It is desirable to do. This optical film moisture permeability exceeding 200g / m 2 / 24h, since provided in the display panel 1 side of the polarizer 3, when the phase difference of the optical film is varied by, for example, water produced by the water-based adhesive, This is because the polarization state of the light from the display panel 1 is changed by the optical film, and the amount of light may decrease when passing through the polarizer 3. On the other hand, the scattering prevention film 25 and the film 4 provided outside the polarizer 3 do not affect the polarization state even if the phase difference fluctuates due to moisture. Therefore, a cellulose ester film having high water permeability and water absorption is used. It can be preferably used. By the way, the moisture permeability of acrylic 100g / m 2 / 24h. A 40 [mu] m, the moisture permeability of the COP 0.1g / m 2 / 24h. Is 40μm, moisture permeability of the PC is 100g / m 2 / 24h. It is about 40 μm. In the present invention, moisture permeability refers to that measured under test conditions of 40 ° C. and 90% RH.

タッチパネル20は、静電容量型のタッチパネルであり、ガラス基板21上に、透明導電膜(例えばITO)からなる第1電極パターン22(電極層)と、層間絶縁層23と、透明導電膜(例えばITO)からなる第2電極パターン24(電極層)と、飛散防止フィルム25と、電磁波シールド層26とをこの順で積層して構成されている。つまり、タッチパネル20において、用いるガラス基板は、ガラス基板21の1枚のみであり、ガラス基板を2枚用いたものに比べて薄型のタッチパネル20が構成されている。なお、第2電極パターン24と飛散防止フィルム25との間に、第2電極パターン24を覆うように絶縁膜を設けてもよい。   The touch panel 20 is a capacitive touch panel, and has a first electrode pattern 22 (electrode layer) made of a transparent conductive film (for example, ITO), an interlayer insulating layer 23, and a transparent conductive film (for example, on a glass substrate 21). The second electrode pattern 24 (electrode layer) made of ITO), the anti-scattering film 25, and the electromagnetic wave shielding layer 26 are laminated in this order. That is, in the touch panel 20, the glass substrate used is only one glass substrate 21, and the thin touch panel 20 is configured as compared with the one using two glass substrates. An insulating film may be provided between the second electrode pattern 24 and the scattering prevention film 25 so as to cover the second electrode pattern 24.

ガラス基板21の表面(第1電極パターン22とは反対側の表面)は、タッチパネル20のタッチ面である。第1電極パターン22は、ガラス基板21上で一方向(例えばX方向)に延びるように形成されている。層間絶縁層23は、第1電極パターン22を覆うようにガラス基板21上に形成されている。第2電極パターン24は、第1電極パターン22の延びる方向とは直交する方向(例えばY方向)に延びるように形成されている。タッチパネル20の表面を指で押圧すると、第1電極パターン22と第2電極パターン24とが接触し、第1電極パターン22と第2電極パターン24との間の静電容量が変化する。その静電容量の変化を第1電極パターン22および第2電極パターン24を介して検出することにより、押圧位置(座標)を特定することができる。   The surface of the glass substrate 21 (surface opposite to the first electrode pattern 22) is a touch surface of the touch panel 20. The first electrode pattern 22 is formed on the glass substrate 21 so as to extend in one direction (for example, the X direction). The interlayer insulating layer 23 is formed on the glass substrate 21 so as to cover the first electrode pattern 22. The second electrode pattern 24 is formed so as to extend in a direction orthogonal to the direction in which the first electrode pattern 22 extends (for example, the Y direction). When the surface of the touch panel 20 is pressed with a finger, the first electrode pattern 22 and the second electrode pattern 24 come into contact with each other, and the capacitance between the first electrode pattern 22 and the second electrode pattern 24 changes. By detecting the change in capacitance through the first electrode pattern 22 and the second electrode pattern 24, the pressing position (coordinates) can be specified.

飛散防止フィルム25は、外部からの衝撃等によるガラス基板21の飛散を防止するために、電極層(第2電極パターン24)上に設けられている。本実施形態では、飛散防止フィルム25は、厚さ20〜66μmのセルロースエステルフィルムで構成されている。このようなセルロースエステルフィルムとしては、面内方向におけるリタデーションRoが0nm〜10nmのフィルムを好ましく用いることができる。この場合、面内方向の位相差による干渉が少ないため、タッチパネル20を介して表示パネル10を裸眼で視認するときの視認性を向上させることができる。   The scattering prevention film 25 is provided on the electrode layer (second electrode pattern 24) in order to prevent the glass substrate 21 from scattering due to an external impact or the like. In this embodiment, the scattering prevention film 25 is comprised with the cellulose ester film of thickness 20-66 micrometers. As such a cellulose ester film, a film having a retardation Ro in the in-plane direction of 0 nm to 10 nm can be preferably used. In this case, since there is little interference due to the phase difference in the in-plane direction, it is possible to improve the visibility when viewing the display panel 10 with the naked eye via the touch panel 20.

また、飛散防止フィルム25のセルロースエステルフィルムとして、面内方向におけるリタデーションRoが30nm〜200nmであるフィルムが用いられ、偏光子3の透過軸に対して前記飛散防止フィルムの遅相軸が10〜80°(好ましくは20〜80°)の方向となるように配置されることが好ましい。このような構成とすることで、偏光子3を透過した直線偏光を楕円偏光または円偏光に変えることができる為、偏光サングラスをかけて表示装置10を見る際の視認性を向上させることができる。   Further, as the cellulose ester film of the scattering prevention film 25, a film having a retardation Ro in the in-plane direction of 30 nm to 200 nm is used, and the slow axis of the scattering prevention film is 10 to 80 with respect to the transmission axis of the polarizer 3. It is preferable that they are arranged in the direction of ° (preferably 20 to 80 °). With such a configuration, the linearly polarized light transmitted through the polarizer 3 can be changed to elliptically polarized light or circularly polarized light, so that the visibility when viewing the display device 10 with polarized sunglasses can be improved. .

電磁波シールド層26は、後段にて詳述するが、表示装置10からの電気的ノイズ(EMI(electromagneticinterference)を含む)を遮断するために設けられる導電性物質を含有する層であり、例えば銀ナノワイヤー(AgNW)、カーボンナノチューブ(CNT)、導電性ポリマーを含有する。   As will be described in detail later, the electromagnetic wave shielding layer 26 is a layer containing a conductive substance provided to block electrical noise (including EMI (electromagnetic interference)) from the display device 10. A wire (AgNW), a carbon nanotube (CNT), and a conductive polymer are contained.

粘着剤層30は、OCAやUV硬化樹脂(OCR)などの接着層で構成されており、表示装置10の偏光板2の表面全体に形成されて、タッチパネル20と表示装置10とを接合している。   The pressure-sensitive adhesive layer 30 is composed of an adhesive layer such as OCA or UV curable resin (OCR), and is formed on the entire surface of the polarizing plate 2 of the display device 10 to join the touch panel 20 and the display device 10 together. Yes.

上記の構成において、タッチパネル20の飛散防止フィルム25上に電磁波シールド層26が設けられているので、表示パネル1のスイッチング素子(TFT)のON/OFFによって発生する電気的ノイズ(リーク電流を含む)を、電磁波シールド層26で遮断することができる。これにより、ガラス基板を1枚のみ用いた薄型のタッチパネル20を表示装置10に貼り合わせた構成であっても、つまり、タッチパネル20の薄型化によって第1電極パターン22および第2電極パターン24が表示装置10に近づいて表示装置10からの電気的ノイズの影響を受けやすくなっても、その電気的ノイズによるタッチパネル20の誤作動を起こしにくくすることができる。   In the above configuration, since the electromagnetic wave shielding layer 26 is provided on the scattering prevention film 25 of the touch panel 20, electrical noise (including leakage current) generated by ON / OFF of the switching element (TFT) of the display panel 1. Can be blocked by the electromagnetic wave shielding layer 26. Thereby, even if it is the structure which bonded the thin touch panel 20 which used only one glass substrate to the display apparatus 10, the 1st electrode pattern 22 and the 2nd electrode pattern 24 are displayed by thinning of the touch panel 20, ie. Even if it approaches the device 10 and is easily affected by the electrical noise from the display device 10, it is possible to make it difficult for the touch panel 20 to malfunction due to the electrical noise.

また、タッチパネル20の最外層(表示装置10とは反対側の層)がガラス基板21である場合、ガラス基板21は水分を透過させることができないため、偏光板2の作製時の水系接着によって生じる水分は、ガラス基板21と表示パネル1との間にこもり、例えば電磁波シールド層26と粘着剤層30との間に溜まりやすくなる。   In addition, when the outermost layer (the layer opposite to the display device 10) of the touch panel 20 is the glass substrate 21, the glass substrate 21 cannot transmit moisture, and thus occurs due to aqueous adhesion at the time of manufacturing the polarizing plate 2. Moisture is trapped between the glass substrate 21 and the display panel 1, and is likely to accumulate between the electromagnetic wave shielding layer 26 and the pressure-sensitive adhesive layer 30, for example.

しかし、偏光板2の保護フィルムとしてのフィルム4は、セルロースエステルフィルム(フィルム基材4a)を含んでおり、タッチパネル20の飛散防止フィルム25もセルロースエステルフィルムを含んでいる。セルロースエステルの透湿度は、例えば700〜2000g/m2/24hrであり、他のアクリル等の樹脂に比べて、その吸湿性および透湿性は高い。このため、セルロースエステルフィルムからなるフィルム基材4aを厚さ20〜35μmの薄型とし、同じくセルロースエステルフィルムからなる飛散防止フィルム25を厚さ20〜66μmの薄型としても、タッチパネル付き表示装置の内部で発生した上記の水分を、フィルム4および飛散防止フィルム25の両方でトラップ(捕獲)して、上記の水分が電磁波シールド層26と粘着剤層30との間に溜まるのを抑制することができる。これにより、上記の水分によって粘着剤層30の粘着性が低下して、粘着剤層30が剥がれるのを抑制することができる。また、偏光子3が上記水分で劣化するのを抑えることもでき、黒表示のときでも赤みを帯びた表示となるのを抑えることができる。However, the film 4 as a protective film of the polarizing plate 2 includes a cellulose ester film (film substrate 4a), and the scattering prevention film 25 of the touch panel 20 also includes a cellulose ester film. The moisture permeability of the cellulose ester is, for example, 700~2000g / m 2 / 24hr, compared to other resins such as acrylic, its hygroscopicity and moisture permeability is high. For this reason, even if the film base 4a made of a cellulose ester film is made thin with a thickness of 20 to 35 μm and the anti-scattering film 25 made of a cellulose ester film is made thin with a thickness of 20 to 66 μm, the inside of the display device with a touch panel is used. The generated moisture can be trapped (captured) by both the film 4 and the scattering prevention film 25, and the moisture can be prevented from being accumulated between the electromagnetic wave shielding layer 26 and the pressure-sensitive adhesive layer 30. Thereby, it can suppress that the adhesiveness of the adhesive layer 30 falls by said water | moisture content, and the adhesive layer 30 peels. Further, it is possible to suppress the polarizer 3 from being deteriorated by the moisture, and it is possible to suppress a reddish display even when displaying black.

また、セルロースエステルフィルムからなるフィルム基材4a、およびセルロースエステルフィルムからなる飛散防止フィルム25は、上記のように薄型であるので、タッチパネル付き表示装置全体の薄型化にも十分貢献することができる。   Moreover, since the film base material 4a which consists of a cellulose-ester film, and the scattering prevention film 25 which consists of a cellulose-ester film are thin as mentioned above, it can fully contribute to thickness reduction of the whole display apparatus with a touch panel.

また、フィルム基材4aのセルロースエステルフィルムの膜厚は20μm以上であるので、フィルム4による偏光子3の表面保護機能を確実に担保することができる。同様に、飛散防止フィルム25のセルロースエステルフィルムの膜厚は20μm以上であるので、飛散防止フィルム25によるガラス基板21の飛散防止の機能を確実に担保することができる。   Moreover, since the film thickness of the cellulose-ester film of the film base material 4a is 20 micrometers or more, the surface protection function of the polarizer 3 by the film 4 can be ensured reliably. Similarly, since the film thickness of the cellulose ester film of the scattering prevention film 25 is 20 μm or more, the function of preventing the scattering of the glass substrate 21 by the scattering prevention film 25 can be reliably ensured.

〔偏光板ついて〕
以下、上記した偏光板2を構成する各層の詳細について説明する。なお、以下で示す保護フィルムおよびハードコート層については、タッチパネル20の飛散防止フィルム25にも適用することができる。
[About polarizing plate]
Hereinafter, the detail of each layer which comprises the above-mentioned polarizing plate 2 is demonstrated. Note that the protective film and hard coat layer described below can also be applied to the anti-scattering film 25 of the touch panel 20.

[保護フィルム]
偏光板2のタッチパネル20側の保護フィルムであるフィルム基材4aは厚さ20〜30μmのセルロースエステルフィルムで構成されている。用いられるセルロースエステル樹脂については、後段にて詳述する。
[Protective film]
The film substrate 4a which is a protective film on the touch panel 20 side of the polarizing plate 2 is composed of a cellulose ester film having a thickness of 20 to 30 μm. The cellulose ester resin used will be described in detail later.

偏光板2の表示パネル1側の保護フィルムであるフィルム5としては、特に制限なく、熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂を用いることができるが、透湿度が200g/m2/24h以下であるフィルムとされることが好ましく、具体的には、アクリル樹脂、環状ポリオレフィン(COP)、ポリカーボネート(PC)等からなる光学フィルムで構成することが望ましい。The film 5 is a protective film of the display panel 1 side of the polarizing plate 2 is not particularly limited and may be a thermoplastic resin or a thermosetting resin, moisture permeability is less than 200 g / m 2 / 24h Film Specifically, it is desirable to use an optical film made of acrylic resin, cyclic polyolefin (COP), polycarbonate (PC), or the like.

(熱可塑性樹脂)
フィルム5に用いることができる熱可塑性樹脂とは、ガラス転移温度または融点まで加熱することによって軟らかくなり、目的の形に成形できる樹脂のことをいう。
(Thermoplastic resin)
The thermoplastic resin that can be used for the film 5 refers to a resin that becomes soft when heated to a glass transition temperature or a melting point and can be molded into a desired shape.

熱可塑性樹脂としては、一般的汎用樹脂としては、セルロースエステル、ポリエチレン(PE)、高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、ポリプロピレン(PP)、ポリ塩化ビニル(PVC)、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン(PS)、ポリ酢酸ビニル(PVAc)、テフロン(登録商標)(ポリテトラフルオロエチレン、PTFE)、ABS樹脂(アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂)、AS樹脂、アクリル樹脂(PMMA)等を用いることができる。   General thermoplastic resins include cellulose esters, polyethylene (PE), high density polyethylene, medium density polyethylene, low density polyethylene, polypropylene (PP), polyvinyl chloride (PVC), polyvinylidene chloride, polystyrene. (PS), polyvinyl acetate (PVAc), Teflon (registered trademark) (polytetrafluoroethylene, PTFE), ABS resin (acrylonitrile butadiene styrene resin), AS resin, acrylic resin (PMMA), or the like can be used.

特に、強度や壊れにくさが要求される場合、ポリアミド(PA)、ナイロン、ポリアセタール(POM)、ポリカーボネート(PC)、変性ポリフェニレンエーテル(m−PPE、変性PPE、PPO)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、グラスファイバー強化ポリエチレンテレフタレート(GF−PET)、環状ポリオレフィン(COP)等を用いることができる。   Especially when strength and resistance to breakage are required, polyamide (PA), nylon, polyacetal (POM), polycarbonate (PC), modified polyphenylene ether (m-PPE, modified PPE, PPO), polybutylene terephthalate (PBT) Polyethylene terephthalate (PET), glass fiber reinforced polyethylene terephthalate (GF-PET), cyclic polyolefin (COP), and the like can be used.

さらに、高い熱変形温度と長期使用できる特性が要求される場合は、ポリフェニレンスルファイド(PPS)、ポリテトラフロロエチレン(PTFE)、ポリスルホン、ポリエーテルサルフォン、非晶ポリアリレート、液晶ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン、熱可塑性ポリイミド(PI)、ポリアミドイミド(PAI)等を用いることができる。   Furthermore, when high heat distortion temperature and long-term use characteristics are required, polyphenylene sulfide (PPS), polytetrafluoroethylene (PTFE), polysulfone, polyethersulfone, amorphous polyarylate, liquid crystal polymer, polyether Ether ketone, thermoplastic polyimide (PI), polyamideimide (PAI), or the like can be used.

本実施形態においては、本実施形態の効果発現の観点から、フィルム5としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、アクリル樹脂またはポレオレフィン樹脂を用いることが好ましい。   In this embodiment, it is preferable to use a polycarbonate resin, a polyethylene terephthalate resin, an acrylic resin, or a polyolefin resin as the film 5 from the viewpoint of manifesting the effects of this embodiment.

また、本実施形態の効果発現の観点および薄型化の観点から、フィルム5の厚さは、20〜66μmであることがより好ましい。   The thickness of the film 5 is more preferably 20 to 66 μm from the viewpoint of manifesting the effect of the present embodiment and the viewpoint of thinning.

以下、本実施形態において、フィルム基材4aに好適に用いられるセルロースエステル樹脂について詳細な説明をする。   Hereinafter, in this embodiment, the cellulose ester resin used suitably for the film base material 4a is demonstrated in detail.

〈セルロースエステル樹脂〉
本実施形態でフィルム4aに用いることができるセルロースエステル樹脂は、セルロース(ジ、トリ)アセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、及びセルロースフタレートから選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。
<Cellulose ester resin>
The cellulose ester resin that can be used for the film 4a in this embodiment is cellulose (di, tri) acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate phthalate, and cellulose. It is preferably at least one selected from phthalates.

これらの中で特に好ましいセルロースエステルは、セルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートが挙げられる。   Among these, particularly preferable cellulose esters include cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate propionate, and cellulose acetate butyrate.

混合脂肪酸エステルの置換度として、更に好ましいセルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートの低級脂肪酸エステルは、炭素原子数2〜4のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をXとし、プロピオニル基又はブチリル基の置換度をYとした時、下記式(I)及び(II)を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロース樹脂であることが好ましい。
式(I) 2.6≦X+Y≦3.0
式(II) 1.0≦X≦2.5
As the substitution degree of the mixed fatty acid ester, more preferable cellulose acetate propionate and lower fatty acid ester of cellulose acetate butyrate have an acyl group having 2 to 4 carbon atoms as a substituent, and the substitution degree of an acetyl group is X. When the substitution degree of propionyl group or butyryl group is Y, it is preferably a cellulose resin containing a cellulose ester that simultaneously satisfies the following formulas (I) and (II).
Formula (I) 2.6 ≦ X + Y ≦ 3.0
Formula (II) 1.0 ≦ X ≦ 2.5

このうち、特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも1.9≦X≦2.5であり、0.1≦Y≦0.9であることが好ましい。上記アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているものである。これらは公知の方法で合成することができる。   Of these, cellulose acetate propionate is particularly preferably used. Among them, 1.9 ≦ X ≦ 2.5 and 0.1 ≦ Y ≦ 0.9 are preferable. The part not substituted with the acyl group is usually present as a hydroxyl group. These can be synthesized by known methods.

更に、本実施形態で用いられるセルロースエステルは、重量平均分子量Mw/数平均分子量Mn比が1.5〜5.5のものが好ましく用いられ、特に好ましくは2.0〜5.0であり、更に好ましくは2.5〜5.0であり、更に好ましくは3.0〜5.0のセルロースエステルが好ましく用いられる。   Furthermore, the cellulose ester used in the present embodiment is preferably one having a weight average molecular weight Mw / number average molecular weight Mn ratio of 1.5 to 5.5, particularly preferably 2.0 to 5.0, More preferably, it is 2.5-5.0, More preferably, 3.0-5.0 cellulose ester is used preferably.

本実施形態で用いられるセルロースエステルの原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよい。木材パルプは針葉樹でも広葉樹でもよいが、針葉樹の方がより好ましい。製膜の際の剥離性の点からは、綿花リンターが好ましく用いられる。これらから作られたセルロースエステルは、適宜混合して、或いは単独で使用することができる。   The raw material cellulose of the cellulose ester used in this embodiment may be wood pulp or cotton linter. The wood pulp may be coniferous or hardwood, but coniferous is more preferred. A cotton linter is preferably used from the viewpoint of releasability during film formation. The cellulose ester made from these can be mixed suitably or can be used independently.

例えば、綿花リンター由来セルロースエステル:木材パルプ(針葉樹)由来セルロースエステル:木材パルプ(広葉樹)由来セルロースエステルの比率が100:0:0、90:10:0、85:15:0、50:50:0、20:80:0、10:90:0、0:100:0、0:0:100、80:10:10、85:0:15、40:30:30のものを用いることができる。   For example, the ratio of cellulose ester derived from cellulose linter: cellulose ester derived from wood pulp (coniferous): cellulose ester derived from wood pulp (hardwood) is 100: 0: 0, 90: 10: 0, 85: 15: 0, 50:50: 0, 20: 80: 0, 10: 90: 0, 0: 100: 0, 0: 0: 100, 80:10:10, 85: 0: 15, 40:30:30 can be used. .

本実施形態において、セルロースエステル樹脂は、20mlの純水(電気伝導度0.1μS/cm以下、pH6.8)に1g投入し、25℃、1hr、窒素雰囲気下にて攪拌した時のpHが6〜7、電気伝導度が1〜100μS/cmであることが好ましい。   In this embodiment, 1 g of cellulose ester resin is added to 20 ml of pure water (electric conductivity of 0.1 μS / cm or less, pH 6.8), and the pH when stirred in a nitrogen atmosphere at 25 ° C. for 1 hr. It is preferable that it is 6-7 and electrical conductivity is 1-100 microsiemens / cm.

〔フィルム製造方法〕
フィルム基材の製造方法としては、通常のインフレーション法、T−ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できるが、溶液流延製膜法、溶融流延製膜法などの流延法が好ましく用いられる。以下、フィルム基材の好ましい製造方法について説明する。
[Film production method]
As a method for producing a film substrate, production methods such as a normal inflation method, a T-die method, a calendar method, a cutting method, a casting method, an emulsion method, and a hot press method can be used. A casting method such as a melt casting film forming method is preferably used. Hereinafter, the preferable manufacturing method of a film base material is demonstrated.

<溶液流延製膜法による基材の製造方法>
1)溶解工程
溶解工程は、熱可塑性樹脂に対する良溶媒を主とする有機溶媒に、溶解釜中で熱可塑性樹脂、熱収縮材料、その他の添加剤を攪拌しながら溶解しドープを形成する工程である。なお、良溶媒とは、溶液流延製膜法による光学フィルムの製造方法において、熱可塑性樹脂に対して良好な溶解性を有する有機溶媒をいい、また溶解に主たる効果を示し、その中で大量に使用する有機溶媒を主(有機)溶媒または主たる(有機)溶媒という。
<Manufacturing method of base material by solution casting film forming method>
1) Dissolution Step The dissolution step is a step in which a dope is formed by dissolving a thermoplastic resin, a heat-shrinkable material, and other additives in an organic solvent mainly composed of a good solvent for the thermoplastic resin while stirring. is there. A good solvent refers to an organic solvent having good solubility in a thermoplastic resin in an optical film manufacturing method by a solution casting film forming method, and also shows a main effect on dissolution, among which a large amount The organic solvent used in the above is called a main (organic) solvent or a main (organic) solvent.

熱可塑性樹脂の溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平9−95544号公報、特開平9−95557号公報、または特開平9−95538号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平11−21379号公報に記載の如き高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることができるが、特に主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法が好ましい。   For the dissolution of the thermoplastic resin, a method carried out at normal pressure, a method carried out below the boiling point of the main solvent, a method carried out under pressure above the boiling point of the main solvent, JP-A-9-95544, JP-A-9-95557 Alternatively, various dissolution methods such as a cooling dissolution method as described in JP-A-9-95538 and a high-pressure method as described in JP-A-11-21379 can be used. The method of pressurizing at a boiling point or higher is preferred.

返材も再使用される。返材とは、フィルムを細かく粉砕した物で、フィルムを製膜するときに発生する、フィルムの両サイド部分を切り落とした物や、擦り傷などでスペックアウトしたフィルム原反のことをいう。   Return materials are also reused. The return material refers to a material obtained by finely pulverizing a film, which is generated when a film is formed, a material obtained by cutting off both sides of the film, or a film raw material that has been speculated out due to scratches or the like.

2)流延工程
流延工程は、ドープを、送液ポンプ(例えば、加圧型定量ギヤポンプ)を通して加圧ダイに送液し、無限に移送する無端の金属ベルト、例えばステンレスベルト、あるいは回転する金属ドラム等の金属支持体上の流延位置に、加圧ダイスリットからドープを流延する工程である。
2) Casting process In the casting process, the dope is fed to a pressure die through a liquid feed pump (for example, a pressurized metering gear pump), and transferred to an endless metal belt such as a stainless steel belt or a rotating metal. This is a step of casting a dope from a pressure die slit to a casting position on a metal support such as a drum.

ダイの口金部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一にし易い加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやTダイ等があり、いずれも好ましく用いられる。金属支持体の表面は鏡面となっている。製膜速度を上げるために加圧ダイを金属支持体上に2基以上設け、ドープ量を分割して重層してもよい。あるいは複数のドープを同時に流延する共流延法によって積層構造のフィルムを得ることも好ましい。   A pressure die that can adjust the slit shape of the die base portion and can easily make the film thickness uniform is preferable. Examples of the pressure die include a coat hanger die and a T die, and any of them is preferably used. The surface of the metal support is a mirror surface. In order to increase the film forming speed, two or more pressure dies may be provided on the metal support, and the dope amount may be divided and stacked. Or it is also preferable to obtain the film of a laminated structure by the co-casting method which casts several dope simultaneously.

3)溶媒蒸発工程
溶媒蒸発工程は、ウェブ(流延用支持体上にドープを流延して形成されたドープ膜)を流延用支持体上で加熱し、溶媒を蒸発させる工程である。
3) Solvent evaporation process The solvent evaporation process is a process in which a web (a dope film formed by casting a dope on a casting support) is heated on the casting support to evaporate the solvent.

溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法および/または支持体の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱方法の乾燥効率が良く好ましい。又、それらを組み合わせる方法も好ましく用いられる。流延後の支持体上のウェブを40〜100℃の雰囲気下、支持体上で乾燥させることが好ましい。40〜100℃の雰囲気下に維持するには、この温度の温風をウェブ上面に当てるか、赤外線等の手段により加熱することが好ましい。   To evaporate the solvent, there are a method of blowing air from the web side and / or a method of transferring heat from the back side of the support by a liquid, a method of transferring heat from the front and back by radiant heat, and the like. High efficiency and preferable. A method of combining them is also preferably used. The web on the support after casting is preferably dried on the support in an atmosphere of 40 to 100 ° C. In order to maintain the atmosphere at 40 to 100 ° C., it is preferable to apply hot air at this temperature to the upper surface of the web or to heat by means such as infrared rays.

面品質、透湿性、剥離性の観点から、30〜120秒以内で該ウェブを支持体から剥離することが好ましい。   From the viewpoint of surface quality, moisture permeability, and peelability, it is preferable to peel the web from the support within 30 to 120 seconds.

4)剥離工程
剥離工程は、金属支持体上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離されたウェブは次工程に送られる。
4) Peeling process A peeling process is a process of peeling the web which the solvent evaporated on the metal support body in a peeling position. The peeled web is sent to the next process.

金属支持体上の剥離位置における温度は好ましくは10〜40℃であり、さらに好ましくは11〜30℃である。   The temperature at the peeling position on the metal support is preferably 10 to 40 ° C, more preferably 11 to 30 ° C.

なお、剥離する時点での金属支持体上でのウェブの剥離時残留溶媒量は、乾燥の条件の強弱、金属支持体の長さ等により50〜120質量%の範囲で剥離することが好ましいが、残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平面性を損ね、剥離張力によるツレや縦スジが発生し易いため、経済速度と品質との兼ね合いで剥離時の残留溶媒量が決められる。   In addition, it is preferable that the residual solvent amount at the time of peeling of the web on the metal support at the time of peeling is peeled in the range of 50 to 120% by mass depending on the strength of drying conditions, the length of the metal support, and the like. If the web is peeled off at a time when the amount of residual solvent is larger, if the web is too soft, the flatness at the time of peeling will be lost, and slippage and vertical stripes are likely to occur due to the peeling tension. The amount of solvent is determined.

ウェブの残留溶媒量は下記式で定義される。
残留溶媒量(%)=(ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱処理後質量)/(ウェブの加熱処理後質量)×100
なお、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、115℃で1時間の加熱処理を行うことを表す。
The residual solvent amount of the web is defined by the following formula.
Residual solvent amount (%) = (mass before web heat treatment−mass after web heat treatment) / (mass after web heat treatment) × 100
Note that the heat treatment for measuring the residual solvent amount represents performing heat treatment at 115 ° C. for 1 hour.

金属支持体とフィルムを剥離する際の剥離張力は、通常、196〜245N/mである。剥離の際に皺が入り易い場合、190N/m以下の張力で剥離することが好ましく、さらには、剥離できる最低張力〜166.6N/m、次いで、最低張力〜137.2N/mで剥離することが好ましいが、特に好ましくは最低張力〜100N/mで剥離することである。   The peeling tension at the time of peeling the metal support and the film is usually 196 to 245 N / m. If wrinkles easily occur during peeling, peeling is preferably performed with a tension of 190 N / m or less, and further, peeling is performed with a minimum tension that can be peeled to 166.6 N / m, and then with a minimum tension of 137.2 N / m. It is preferable to peel off at a minimum tension of -100 N / m.

本実施形態においては、当該金属支持体上の剥離位置における温度を−50〜40℃とするのが好ましく、10〜40℃がより好ましく、15〜30℃とするのが最も好ましい。   In the present embodiment, the temperature at the peeling position on the metal support is preferably −50 to 40 ° C., more preferably 10 to 40 ° C., and most preferably 15 to 30 ° C.

5)乾燥および延伸工程
乾燥および延伸工程は、剥離後、ウェブを乾燥装置内に複数配置したロールに交互に通して搬送する乾燥装置、および/またはクリップでウェブの両端をクリップして搬送するテンター延伸装置を用いて、ウェブを乾燥する工程である。
5) Drying and stretching step In the drying and stretching step, after peeling, a drying device that transports the web alternately through a plurality of rolls arranged in the drying device, and / or a tenter that clips and transports both ends of the web with clips. This is a step of drying the web using a stretching device.

乾燥手段はウェブの両面に熱風を吹かせるものが一般的であるが、風の代わりにマイクロウェーブを当てて加熱する手段もある。余り急激な乾燥は、でき上がるフィルムの平面性を損ね易い。高温による乾燥は残留溶媒が8質量%以下くらいから行うのがよい。全体を通し、乾燥は概ね40〜250℃で行われる。特に40〜160℃で乾燥させることが好ましい。   The drying means is generally one that blows hot air on both sides of the web, but there is also a means for heating by applying microwaves instead of wind. Too rapid drying tends to impair the flatness of the resulting film. Drying at a high temperature is preferably performed from about 8% by mass or less of residual solvent. Throughout the drying is generally carried out at 40-250 ° C. It is particularly preferable to dry at 40 to 160 ° C.

テンター延伸装置を用いる場合は、テンターの左右把持手段によってフィルムの把持長(把持開始から把持終了までの距離)を左右で独立に制御できる装置を用いることが好ましい。また、テンター工程において、平面性を改善するため意図的に異なる温度を持つ区画を作ることも好ましい。   When using a tenter stretching apparatus, it is preferable to use an apparatus that can independently control the film gripping length (distance from the start of gripping to the end of gripping) left and right by the left and right gripping means of the tenter. In the tenter process, it is also preferable to intentionally create sections having different temperatures in order to improve planarity.

また、異なる温度区画の間にそれぞれの区画が干渉を起こさないように、ニュートラルゾーンを設けることも好ましい。   It is also preferable to provide a neutral zone between different temperature zones so that the zones do not interfere with each other.

なお、延伸操作は多段階に分割して実施してもよく、流延方向、幅手方向に二軸延伸を実施することも好ましい。また、二軸延伸を行う場合には同時二軸延伸を行ってもよいし、段階的に実施してもよい。   In addition, extending | stretching operation may be divided | segmented and implemented in multiple steps, and it is also preferable to implement biaxial stretching in a casting direction and a width direction. When biaxial stretching is performed, simultaneous biaxial stretching may be performed or may be performed stepwise.

この場合、段階的とは、例えば、延伸方向の異なる延伸を順次行うことも可能であるし、同一方向の延伸を多段階に分割し、かつ異なる方向の延伸をそのいずれかの段階に加えることも可能である。即ち、例えば、次のような延伸ステップも可能である。   In this case, stepwise means that, for example, stretching in different stretching directions can be sequentially performed, stretching in the same direction is divided into multiple stages, and stretching in different directions is added to any one of the stages. Is also possible. That is, for example, the following stretching steps are possible.

a)流延方向に延伸−幅手方向に延伸−流延方向に延伸−流延方向に延伸
b)幅手方向に延伸−幅手方向に延伸−流延方向に延伸−流延方向に延伸
a) Stretching in the casting direction-Stretching in the width direction-Stretching in the casting direction-Stretching in the casting direction b) Stretching in the width direction-Stretching in the width direction-Stretching in the casting direction-Stretching in the casting direction

また、同時2軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を、張力を緩和して収縮させる場合も含まれる。同時2軸延伸の好ましい延伸倍率は、幅手方向、長手方向ともに×1.01倍〜×1.5倍の範囲とすることができる。   Simultaneous biaxial stretching includes stretching in one direction and contracting the other while relaxing the tension. The preferred draw ratio of simultaneous biaxial stretching can be in the range of x1.01 to x1.5 times in both the width direction and the longitudinal direction.

延伸を行う場合のウェブの残留溶媒量は、延伸開始時に20〜100質量%であるのが好ましく、かつウェブの残留溶媒量が10質量%以下になるまで延伸を掛けながら乾燥を行うことが好ましく、さらに好ましくは5質量%以下である。   The amount of residual solvent in the web when stretching is preferably 20 to 100% by mass at the start of stretching, and drying is preferably performed while stretching until the amount of residual solvent in the web is 10% by mass or less. More preferably, it is 5% by mass or less.

延伸を行う場合の乾燥温度は、30〜160℃が好ましく、50〜150℃がさらに好ましく、70〜140℃が最も好ましい。   30-160 degreeC is preferable, as for the drying temperature in the case of extending | stretching, 50-150 degreeC is more preferable, and 70-140 degreeC is the most preferable.

延伸工程において、雰囲気の幅手方向の温度分布が少ないことが、フィルムの均一性を高める観点から好ましく、延伸工程での幅手方向の温度分布は、±5℃以内が好ましく、±2℃以内がより好ましく、±1℃以内が最も好ましい。   In the stretching step, it is preferable that the temperature distribution in the width direction of the atmosphere is small from the viewpoint of improving the uniformity of the film, and the temperature distribution in the width direction in the stretching step is preferably within ± 5 ° C, and within ± 2 ° C. Is more preferable, and within ± 1 ° C. is most preferable.

6)巻き取り工程
巻き取り工程は、ウェブ中の残留溶媒量が2質量%以下となってからフィルムとして巻き取り機により巻き取る工程であり、残留溶媒量を0.4質量%以下にすることにより寸法安定性の良好なフィルムを得ることができる。特に0.00〜0.10質量%で巻き取ることが好ましい。
6) Winding process The winding process is a process in which the amount of residual solvent in the web is 2% by mass or less and is wound as a film by a winder, and the amount of residual solvent is 0.4% by mass or less. Thus, a film having good dimensional stability can be obtained. It is particularly preferable to wind up at 0.00 to 0.10% by mass.

巻き取り方法は、一般に使用されているものを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等があり、それらを使いわければよい。   As a winding method, a generally used method may be used. There are a constant torque method, a constant tension method, a taper tension method, a program tension control method with a constant internal stress, and the like.

本実施形態に係る保護フィルムは、長尺フィルムであることが好ましく、具体的には、100m〜5000m程度のものを示し、通常、ロール状で提供される形態のものである。また、フィルムの幅は1.3〜4mであることが好ましく、1.4〜2mであることがより好ましい。   The protective film according to this embodiment is preferably a long film. Specifically, the protective film has a thickness of about 100 m to 5000 m and is usually provided in a roll shape. Moreover, it is preferable that the width | variety of a film is 1.3-4m, and it is more preferable that it is 1.4-2m.

<溶融流延製膜法による基材の製造方法>
次に、本実施形態のフィルム基材を溶融流延製膜法により製造する場合の方法について説明する。
<Manufacturing method of base material by melt casting film forming method>
Next, the method in the case of manufacturing the film base material of this embodiment by the melt casting film forming method is demonstrated.

〈溶融ペレット製造工程〉
溶融押出に用いる、樹脂を含む組成物は、通常あらかじめ混錬してペレット化しておくことが好ましい。
<Melted pellet manufacturing process>
The composition containing a resin used for melt extrusion is usually preferably kneaded in advance and pelletized.

ペレット化は、公知の方法でよく、例えば、乾燥した熱可塑性樹脂と熱収縮材料等からなる添加剤をフィーダーで押出機に供給し、1軸や2軸の押出機を用いて混錬し、ダイからストランド状に押出し、水冷または空冷し、カッティングすることで、ペレット化できる。   Pelletization may be performed by a known method, for example, an additive consisting of a dried thermoplastic resin and a heat-shrinkable material is supplied to an extruder with a feeder, and kneaded using a single-screw or twin-screw extruder, It can be pelletized by extruding into a strand from a die, water cooling or air cooling, and cutting.

原材料は、押出する前に乾燥しておくことが原材料の分解を防止する上で重要である。特にセルロースエステルは吸湿しやすいので、除湿熱風乾燥機や真空乾燥機で70〜140℃で3時間以上乾燥し、水分率を200ppm以下、さらに100ppm以下にしておくことが好ましい。   It is important to dry the raw material before extruding to prevent decomposition of the raw material. In particular, since the cellulose ester easily absorbs moisture, it is preferable to dry it at 70 to 140 ° C. for 3 hours or more with a dehumidifying hot air dryer or a vacuum dryer to keep the moisture content at 200 ppm or less, and further 100 ppm or less.

添加剤は、押出機に供給する前に混合しておいてもよいし、それぞれ個別のフィーダーで供給してもよい。また、粒子や酸化防止剤等の少量の添加剤は、均一に混合するため、事前に混合しておくことが好ましい。   The additives may be mixed before being supplied to the extruder, or may be supplied by individual feeders. Moreover, in order to mix a small amount of additives, such as particle | grains and antioxidant, uniformly, it is preferable to mix beforehand.

酸化防止剤の混合は、固体同士で混合してもよいし、必要により、酸化防止剤を溶剤に溶解しておき、熱可塑性樹脂に含浸させて混合してもよく、あるいは噴霧して混合してもよい。   The antioxidant may be mixed with each other, and if necessary, the antioxidant may be dissolved in a solvent, impregnated with a thermoplastic resin and mixed, or mixed by spraying. May be.

乾燥と混合を同時にできる点から、真空ナウターミキサーなどを用いることが好ましい。また、フィーダー部やダイからの出口など空気と触れる場合は、除湿空気や除湿したN2ガスなどの雰囲気下にすることが好ましい。From the viewpoint that drying and mixing can be performed simultaneously, it is preferable to use a vacuum nauter mixer or the like. Further, if the contact with air, such as the exit from the feeder unit or die, it is preferable that the atmosphere such as dehumidified air and dehumidified N 2 gas.

押出機は、せん断力を抑え、樹脂が劣化(分子量低下、着色、ゲル生成等)しないようにペレット化可能でなるべく低温で加工することが好ましい。例えば、2軸押出機の場合、深溝タイプのスクリューを用いて、同方向に回転させることが好ましい。混錬の均一性から、噛み合いタイプが好ましい。   The extruder is preferably processed at as low a temperature as possible so that the shearing force is suppressed and the resin can be pelletized so as not to deteriorate (molecular weight reduction, coloring, gel formation, etc.). For example, in the case of a twin screw extruder, it is preferable to rotate in the same direction using a deep groove type screw. From the uniformity of kneading, the meshing type is preferable.

以上のようにして得られたペレットを用いてフィルム製膜を行う。ペレット化せず、原材料の粉末をそのままフィーダーで押出機に供給し、そのままフィルム製膜することも可能である。   A film is formed using the pellets obtained as described above. It is also possible to feed the raw material powder directly to the extruder with a feeder and form a film as it is without pelletization.

〈溶融混合物をダイから冷却ロールへ押し出す工程〉
まず、作製したペレットを1軸や2軸タイプの押出機を用いて、押し出す際の溶融温度Tmを200〜300℃程度とし、リーフディスクタイプのフィルターなどでろ過し異物を除去した後、Tダイからフィルム状に共押出し、冷却ロール上で固化し、弾性タッチロールと押圧しながら流延する。なお、Tmは、押出機のダイ出口部分の温度である。
<Process for extruding molten mixture from die to cooling roll>
First, using a single-screw or twin-screw type extruder, the melt temperature Tm when extruding the pellet is about 200 to 300 ° C., filtered through a leaf disk type filter or the like to remove foreign matters, The film is coextruded into a film, solidified on a cooling roll, and cast while pressing with an elastic touch roll. Tm is the temperature of the die exit portion of the extruder.

供給ホッパーから押出機へ導入する際は、真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下にして酸化分解等を防止することが好ましい。   When introducing from the supply hopper to the extruder, it is preferable to prevent oxidative decomposition or the like under vacuum or reduced pressure or in an inert gas atmosphere.

ダイに傷や可塑剤の凝結物等の異物が付着するとスジ状の欠陥が発生する場合がある。このような欠陥のことをダイラインとも呼ぶが、ダイライン等の表面の欠陥を小さくするためには、押出機からダイまでの配管には樹脂の滞留部が極力少なくなるような構造にすることが好ましい。ダイの内部やリップにキズ等が極力無いものを用いることが好ましい。   When foreign matter such as scratches or plasticizer aggregates adheres to the die, streak-like defects may occur. Such defects are also referred to as die lines, but in order to reduce surface defects such as die lines, it is preferable to have a structure in which the resin retention portion is minimized in the piping from the extruder to the die. . It is preferable to use a die that has as few scratches as possible inside the lip.

押出機やダイなどの溶融樹脂と接触する内面は、表面粗さを小さくしたり、表面エネルギーの低い材質を用いるなどして、溶融樹脂が付着し難い表面加工が施されていることが好ましい。具体的には、ハードクロムメッキやセラミック溶射したものを表面粗さ0.2S以下となるように研磨したものが挙げられる。   The inner surface that contacts the molten resin such as an extruder or a die is preferably subjected to surface treatment that makes it difficult for the molten resin to adhere to the surface by reducing the surface roughness or using a material having a low surface energy. Specifically, a hard chrome plated or ceramic sprayed material is polished so that the surface roughness is 0.2 S or less.

冷却ロールには特に制限はないが、高剛性の金属ロールで内部に温度制御可能な熱媒体または冷媒体が流れるような構造を備えたロールであればよい。冷却ロールの大きさは限定されないが、溶融押し出されたフィルムを冷却するのに十分な大きさであればよく、通常冷却ロールの直径は100mmから1m程度である。   Although there is no restriction | limiting in particular in a cooling roll, What is necessary is just a roll provided with the structure where the heat medium which can control temperature inside, or a refrigerant | coolant body flows with a highly rigid metal roll. Although the size of the cooling roll is not limited, it may be sufficient to cool the melt-extruded film, and the diameter of the cooling roll is usually about 100 mm to 1 m.

冷却ロールの表面材質は、炭素鋼、ステンレス、アルミニウム、チタンなどが挙げられる。さらに表面の硬度を上げたり、樹脂との剥離性を改良するため、ハードクロムメッキや、ニッケルメッキ、非晶質クロムメッキなどや、セラミック溶射等の表面処理を施すことが好ましい。   Examples of the surface material of the cooling roll include carbon steel, stainless steel, aluminum, and titanium. Further, in order to increase the hardness of the surface or improve the releasability from the resin, it is preferable to perform a surface treatment such as hard chrome plating, nickel plating, amorphous chrome plating, or ceramic spraying.

冷却ロール表面の表面粗さは、Raで0.1μm以下とすることが好ましく、さらに0.05μm以下とすることが好ましい。ロール表面が平滑であるほど、得られるフィルムの表面も平滑にできるのである。もちろん表面加工した表面はさらに研磨し上述した表面粗さとすることが好ましい。   The surface roughness of the chill roll surface is preferably 0.1 μm or less in terms of Ra, and more preferably 0.05 μm or less. The smoother the roll surface, the smoother the surface of the resulting film. Of course, it is preferable that the surface processed is further polished to have the above-described surface roughness.

弾性タッチロールとしては、特開平03−124425号、特開平08−224772号、特開平07−100960号、特開平10−272676号、WO97/028950号、特開平11−235747号、特開2002−36332号、特開2005−172940号や特開2005−280217号の各公報に記載されているような、表面が薄膜金属で被覆されたシリコンゴムロールを使用することができる。   Examples of the elastic touch roll include JP 03-124425, JP 08-224772, JP 07-1000096, JP 10-272676, WO 97/028950, JP 11-235747, JP 2002-2002. It is possible to use a silicon rubber roll whose surface is coated with a thin film metal, as described in Japanese Patent Nos. 36332, 2005-172940, and 2005-280217.

冷却ロールからフィルムを剥離する際は、張力を制御してフィルムの変形を防止することが好ましい。   When peeling the film from the cooling roll, it is preferable to control the tension to prevent deformation of the film.

〔複合樹脂フィルムの製造方法〕
本実施形態のフィルム基材は、複合樹脂フィルムで構成することができる。複合樹脂フィルムを製造する方法としては、共押し出し法による製膜工程を有する態様の製造方法によって製造することができる。
[Production method of composite resin film]
The film base material of this embodiment can be comprised with a composite resin film. As a method for producing a composite resin film, it can be produced by a production method of an embodiment having a film forming step by a coextrusion method.

〈共押し出し法〉
本実施形態においては、共押し出し法により、積層構造のフィルムを作製することもできる。例えば、スキン層/コア層/スキン層といった構成のフィルムを作ることができる。例えば、マット剤は、スキン層に多く、またはスキン層のみに入れることができる。可塑剤、紫外線吸収剤はスキン層よりもコア層に多く入れることができ、コア層のみに入れてもよい。また、コア層とスキン層で可塑剤、紫外線吸収剤の種類を変更することもでき、例えば、スキン層に低揮発性の可塑剤及び/または紫外線吸収剤を含ませ、コア層に可塑性に優れた可塑剤、或いは紫外線吸収性に優れた紫外線吸収剤を添加することもできる。スキン層とコア層のガラス転移温度が異なっていてもよく、スキン層のガラス転移温度よりコア層のガラス転移温度が低いことが好ましい。このとき、スキンとコアの両者のガラス転移温度を測定し、これらの体積分率より算出した平均値を上記ガラス転移温度Tgと定義して同様に扱うこともできる。また、溶融流延時のセルロースエステルを含む溶融物の粘度もスキン層とコア層で異なっていてもよく、スキン層の粘度>コア層の粘度でも、コア層の粘度≧スキン層の粘度でもよい。
<Co-extrusion method>
In the present embodiment, a film having a laminated structure can also be produced by a coextrusion method. For example, a film having a structure of skin layer / core layer / skin layer can be produced. For example, the matting agent can be contained in the skin layer in a large amount or only in the skin layer. The plasticizer and the ultraviolet absorber can be contained in the core layer more than the skin layer, and may be contained only in the core layer. In addition, the type of plasticizer and ultraviolet absorber can be changed between the core layer and the skin layer. For example, the skin layer contains a low-volatile plasticizer and / or an ultraviolet absorber, and the core layer has excellent plasticity. It is also possible to add a plasticizer or an ultraviolet absorber excellent in ultraviolet absorption. The glass transition temperature of the skin layer and the core layer may be different, and the glass transition temperature of the core layer is preferably lower than the glass transition temperature of the skin layer. At this time, the glass transition temperatures of both the skin and the core can be measured, and an average value calculated from these volume fractions can be defined as the glass transition temperature Tg and similarly handled. Also, the viscosity of the melt containing the cellulose ester during melt casting may be different between the skin layer and the core layer, and the viscosity of the skin layer> the viscosity of the core layer or the viscosity of the core layer ≧ the viscosity of the skin layer may be used.

なお、上記の共押し出し法とは、複数の押出機を用いて、それぞれから積層する樹脂を加熱溶融し、それぞれの樹脂を合流させた後にTダイのスリット状の吐出口から共押出し、チルドロールで冷却固化させてキャストシート(未延伸状態)を形成する方法である。溶融樹脂を合流させて、Tダイよりシートを押出する方法としては、溶融樹脂を合流させてからマニュホールドを広げるフィードブロック法と、溶融樹脂をそれぞれマニュホールドで広げてから合流させるマルチマニュホールド法があるが、そのどちらを用いてもよい。   The above-mentioned co-extrusion method uses a plurality of extruders to heat and melt the resin to be laminated from each other, and after the respective resins are merged, co-extrusion is performed from the slit-shaped discharge port of the T die. Is a method of forming a cast sheet (unstretched state) by cooling and solidifying. As a method of joining the molten resin and extruding the sheet from the T-die, a feed block method in which the molten resin is joined and then the manifold is widened, and a multi-manifold method in which the molten resin is spread by the manifold and then joined together. Either of them can be used.

〔添加剤〕   〔Additive〕

(酸化防止剤)
フィルム基材は、添加剤として酸化防止剤を含むことが好ましい。好ましい酸化防止剤は、リン系またはフェノール系であり、リン系とフェノール系を同時に組み合わせるとより好ましい。以下、本実施形態において好適に用いることができる酸化防止剤について説明する。
(Antioxidant)
The film substrate preferably contains an antioxidant as an additive. Preferred antioxidants are phosphorous or phenolic, and it is more preferred to combine phosphorous and phenolic simultaneously. Hereinafter, the antioxidant that can be suitably used in the present embodiment will be described.

〈フェノール系酸化防止剤〉
本実施形態においては、フェノール系の酸化防止剤が好ましく用いられ、特にヒンダードフェノール化合物が好ましく用いられる。
<Phenolic antioxidant>
In this embodiment, a phenolic antioxidant is preferably used, and a hindered phenol compound is particularly preferably used.

〈リン系酸化防止剤〉
リン系酸化防止剤としては、ホスファイト(phosphite)、ホスホナイト(phosphonite)、ホスフィナイト(phosphinite)、または第3級ホスファン(phosphane)等のリン系化合物を使用することができる。リン系化合物としては、従来既知の化合物を用いることができる。例えば、特開2002−138188号、特開2005−344044号段落番号0022〜0027、特開2004−182979号段落番号0023〜0039、特開平10−306175号、特開平1−254744号、特開平2−270892号、特開平5−202078号、特開平5−178870号、特表2004−504435号、特表2004−530759号、および特願2005−353229号の各公報の明細書中に記載されているものが好ましい。
<Phosphorus antioxidant>
As the phosphorus antioxidant, phosphorus compounds such as phosphite, phosphonite, phosphinite, or tertiary phosphane can be used. A conventionally known compound can be used as the phosphorus compound. For example, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2002-138188, 2005-344444, paragraph numbers 0022 to 0027, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-18279, paragraph numbers 0023 to 0039, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-306175, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-254744, and Japanese Patent Application Laid-Open No. -270892, JP-A-5-202078, JP-A-5-178870, JP-T-2004-504435, JP-T-2004-530759, and JP-A-2005-353229. Is preferred.

リン系化合物の添加量は、樹脂100質量部に対して、通常0.01〜10質量部、好ましくは0.05〜5質量部、さらに好ましくは0.1〜3質量部である。   The addition amount of a phosphorus compound is 0.01-10 mass parts normally with respect to 100 mass parts of resin, Preferably it is 0.05-5 mass parts, More preferably, it is 0.1-3 mass parts.

(その他の酸化防止剤)
また、ジラウリル−3,3′−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3′−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,3′−チオジプロピオネート、ペンタエリスリチルテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)等のイオウ系酸化防止剤、2−tert−ブチル−6−(3−tert−ブチル−2−ヒドロキシ−5−メチルベンジル)−4−メチルフェニルアクリレート、2−[1−(2−ヒドロキシ−3,5−ジ−tert−ペンチルフェニル)エチル]−4,6−ジ−tert−ペンチルフェニルアクリレート等の耐熱加工安定剤、特公平08−27508号記載の3,4−ジヒドロ−2H−1−ベンゾピラン系化合物、3,3′−スピロジクロマン系化合物、1,1−スピロインダン系化合物、モルホリン、チオモルホリン、チオモルホリンオキシド、チオモルホリンジオキシド、ピペラジン骨格を部分構造に有する化合物、特開平03−174150記載のジアルコキシベンゼン系化合物等の酸素スカベンジャー等が挙げられる。これら酸化防止剤の部分構造が、ポリマーの一部、あるいは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、可塑剤、酸捕捉剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
(Other antioxidants)
Dilauryl-3,3′-thiodipropionate, dimyristyl-3,3′-thiodipropionate, distearyl-3,3′-thiodipropionate, pentaerythrityltetrakis (3-laurylthiopropioate) Nate) and the like, 2-tert-butyl-6- (3-tert-butyl-2-hydroxy-5-methylbenzyl) -4-methylphenyl acrylate, 2- [1- (2-hydroxy) -3,5-di-tert-pentylphenyl) ethyl] -4,6-di-tert-pentylphenyl acrylate and the like, heat-resistant processing stabilizers such as 3,4-dihydro-2H-1 described in JP-B-08-27508 -Benzopyran compounds, 3,3'-spirodichroman compounds, 1,1-spiroindane compounds, morpholine, thiomorpho Emissions, thiomorpholine oxide, thiomorpholine dioxide, a compound having a piperazine skeleton partial structure, oxygen scavenger dialkoxy benzene type compound in JP-03-174150 describes the like. These antioxidant partial structures may be part of the polymer or regularly pendant into the polymer and introduced into part of the molecular structure of additives such as plasticizers, acid scavengers, and UV absorbers. It may be.

(その他の添加剤)
本実施形態に係るフィルム基材には、上記の化合物等の他に、目的に応じて種々の化合物等を添加剤として含有させることができる。
(Other additives)
In addition to the above-described compounds, the film substrate according to the present embodiment can contain various compounds as additives depending on the purpose.

〈酸捕捉剤〉
酸捕捉剤としては、米国特許第4,137,201号明細書に記載されている酸捕捉剤としてのエポキシ化合物を含んでなるのが好ましい。このような酸捕捉剤としてのエポキシ化合物は、当該技術分野において既知であり、種々のポリグリコールのジグリシジルエーテル、特にポリグリコール1モル当たりに約8〜40モルのエチレンオキシドなどの縮合によって誘導されるポリグリコール、グリセロールのジグリシジルエーテルなど、金属エポキシ化合物(例えば、塩化ビニルポリマー組成物において、及び塩化ビニルポリマー組成物と共に、従来から利用されているもの)、エポキシ化エーテル縮合生成物、ビスフェノールAのジグリシジルエーテル(即ち、4,4′−ジヒドロキシジフェニルジメチルメタン)、エポキシ化不飽和脂肪酸エステル(特に、2〜22この炭素原子の脂肪酸の4〜2個程度の炭素原子のアルキルのエステル(例えば、ブチルエポキシステアレート)など)、及び種々のエポキシ化長鎖脂肪酸トリグリセリドなど(例えば、エポキシ化大豆油などの組成物によって代表され、例示され得る、エポキシ化植物油及び他の不飽和天然油(これらは時としてエポキシ化天然グリセリドまたは不飽和脂肪酸と称され、これらの脂肪酸は一般に12〜22個の炭素原子を含有している))が含まれる。
<Acid scavenger>
The acid scavenger preferably comprises an epoxy compound as an acid scavenger described in US Pat. No. 4,137,201. Epoxy compounds as such acid scavengers are known in the art and are derived by condensation of diglycidyl ethers of various polyglycols, particularly about 8-40 moles of ethylene oxide per mole of polyglycol. Metal glycol compounds such as polyglycols, diglycidyl ethers of glycerol (eg, those conventionally used in and together with vinyl chloride polymer compositions), epoxidized ether condensation products, bisphenol A Diglycidyl ether (ie, 4,4'-dihydroxydiphenyldimethylmethane), epoxidized unsaturated fatty acid ester (especially an ester of an alkyl of about 2 to 2 carbon atoms of a fatty acid of 2 to 22 carbon atoms (e.g. Butyl epoxy stealey ), And various epoxidized long chain fatty acid triglycerides, etc. (eg, epoxidized vegetable oils and other unsaturated natural oils, which are sometimes epoxidized, which can be represented and exemplified by compositions such as epoxidized soybean oil) These are referred to as natural glycerides or unsaturated fatty acids, which generally contain 12 to 22 carbon atoms)).

〈光安定剤〉
光安定剤としては、ヒンダードアミン光安定剤(HALS)化合物が挙げられ、これは既知の化合物であり、例えば、米国特許第4,619,956号明細書の第5〜11欄及び米国特許第4,839,405号明細書の第3〜5欄に記載されているように、2,2,6,6−テトラアルキルピペリジン化合物、またはそれらの酸付加塩もしくはそれらと金属化合物との錯体が含まれる。さらに、特開2007−63311号公報に記載されている光安定剤を用いることができる。
<Light stabilizer>
Light stabilizers include hindered amine light stabilizer (HALS) compounds, which are known compounds, such as columns 5-11 of US Pat. No. 4,619,956 and US Pat. , 839,405, as described in columns 3 to 5, including 2,2,6,6-tetraalkylpiperidine compounds, or acid addition salts thereof or complexes of them with metal compounds It is. Furthermore, the light stabilizer described in JP 2007-63311 A can be used.

〈紫外線吸収剤〉
紫外線吸収剤としては、紫外線による劣化防止の観点から、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平10−182621号公報、特開平8−337574号公報記載の紫外線吸収剤、特開平6−148430号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。
<Ultraviolet absorber>
As the ultraviolet absorber, from the viewpoint of preventing deterioration due to ultraviolet rays, those having excellent absorption ability of ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and those having little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferable from the viewpoint of liquid crystal display properties. Examples include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex compounds, etc., but benzophenone compounds and less colored benzotriazole compounds preferable. Moreover, you may use the ultraviolet absorber of Unexamined-Japanese-Patent No. 10-182621, Unexamined-Japanese-Patent No. 8-337574, and the polymeric ultraviolet absorber of Unexamined-Japanese-Patent No. 6-148430.

本実施形態においては、紫外線吸収剤は0.1〜20質量%添加することが好ましく、さらに0.5〜10質量%添加することが好ましく、さらに1〜5質量%添加することが好ましい。これらは2種以上を併用してもよい。   In the present embodiment, the ultraviolet absorber is preferably added in an amount of 0.1 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 10% by mass, and further preferably 1 to 5% by mass. Two or more of these may be used in combination.

〈マット剤〉
本実施形態のフィルム基材には、マット剤等の微粒子を添加することができ、微粒子としては、無機化合物の微粒子又は有機化合物の微粒子が挙げられる。微粒子としては、例えば、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子微粒子を挙げることができる。中でも、二酸化ケイ素が樹脂基板のヘイズを低くできるので好ましい。二酸化ケイ素のような微粒子は有機物により表面処理されている場合が多いが、このようなものは樹脂基板のヘイズを低下できるため好ましい。
<Matting agent>
Fine particles such as a matting agent can be added to the film substrate of the present embodiment, and examples of the fine particles include inorganic compound fine particles and organic compound fine particles. Examples of the fine particles include inorganic fine particles such as silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, kaolin, talc, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate, and calcium phosphate. Crosslinked polymer fine particles can be mentioned. Among these, silicon dioxide is preferable because it can reduce the haze of the resin substrate. In many cases, fine particles such as silicon dioxide are surface-treated with an organic material, but such particles are preferable because they can reduce the haze of the resin substrate.

〈可塑剤〉
セルロースエステルフィルムには、透湿性及び組成物の流動性やフィルムの柔軟性を向上させるために、可塑剤を併用することもできる。可塑剤としては、フタル酸エステル系、脂肪酸エステル系、トリメリット酸エステル系、リン酸エステル系、ポリエステル系、糖エステル系、アクリル系ポリマー等が挙げられる。この中では、透湿性の観点からポリエステル系、及び糖エステル系ポリマーの可塑剤が好ましく用いられる。
<Plasticizer>
A plasticizer can be used in combination with the cellulose ester film in order to improve moisture permeability, fluidity of the composition, and flexibility of the film. Examples of the plasticizer include phthalate esters, fatty acid esters, trimellitic esters, phosphate esters, polyesters, sugar esters, acrylic polymers, and the like. Among these, from the viewpoint of moisture permeability, polyester-based and sugar ester-based polymer plasticizers are preferably used.

これらの可塑剤は、セルロースエステルフィルム100質量部に対して、0.5〜30質量部を添加するのが好ましい。   These plasticizers are preferably added in an amount of 0.5 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cellulose ester film.

〔ハードコート層〕
保護フィルム(フィルム基材4a)の表面には、表面保護の目的でハードコート層を形成してもよい。ハードコート層は、例えば、活性エネルギー線硬化型樹脂で構成されることが好ましい。
[Hard coat layer]
A hard coat layer may be formed on the surface of the protective film (film substrate 4a) for the purpose of surface protection. The hard coat layer is preferably composed of, for example, an active energy ray curable resin.

(活性エネルギー線硬化型樹脂)
活性エネルギー線硬化型樹脂とは、紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいい、具体的にはエチレン性不飽和基を有する樹脂である。さらに具体的には、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化型アクリレート系樹脂が好ましい。
(Active energy ray-curable resin)
The active energy ray-curable resin refers to a resin that cures through a crosslinking reaction or the like by irradiation with active rays such as ultraviolet rays or electron beams, and specifically, a resin having an ethylenically unsaturated group. More specifically, an ultraviolet curable urethane acrylate resin, an ultraviolet curable polyester acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy acrylate resin, an ultraviolet curable polyol acrylate resin, an ultraviolet curable epoxy resin, or the like is preferably used. Of these, ultraviolet curable acrylate resins are preferred.

紫外線硬化型アクリレート系樹脂としては、多官能アクリレートが好ましい。該多官能アクリレートとしては、ペンタエリスリトール多官能アクリレート、ジペンタエリスリトール多官能アクリレート、ペンタエリスリトール多官能メタクリレート、およびジペンタエリスリトール多官能メタクリレートよりなる群から選ばれることが好ましい。ここで、多官能アクリレートとは、分子中に2個以上のアクリロイルオキシ基またはメタクロイルオキシ基を有する化合物である。   As the ultraviolet curable acrylate resin, a polyfunctional acrylate is preferable. The polyfunctional acrylate is preferably selected from the group consisting of pentaerythritol polyfunctional acrylate, dipentaerythritol polyfunctional acrylate, pentaerythritol polyfunctional methacrylate, and dipentaerythritol polyfunctional methacrylate. Here, the polyfunctional acrylate is a compound having two or more acryloyloxy groups or methacryloyloxy groups in the molecule.

ハードコート層組成物中における、上記活性エネルギー線硬化型樹脂の配合量は、組成物全体を100質量部とすると、通常、10〜99質量部、好ましくは35〜99質量部である。活性エネルギー線硬化型樹脂の配合量が少ないと、ハードコート層の膜強度が十分に得られにくい。また、配合量が多いと、後述する公知の塗布方法で塗布した際の膜厚均一性や塗布筋などの故障が発生するため好ましくない。   The amount of the active energy ray-curable resin in the hard coat layer composition is usually 10 to 99 parts by mass, preferably 35 to 99 parts by mass, with the total composition being 100 parts by mass. When the blending amount of the active energy ray-curable resin is small, it is difficult to sufficiently obtain the film strength of the hard coat layer. Moreover, when there are many compounding quantities, since malfunctions, such as a film thickness uniformity at the time of apply | coating with the well-known coating method mentioned later and an application | coating stripe | line | muscle generate | occur | produce, it is unpreferable.

(カチオン重合性化合物)
ハードコート層は、さらにカチオン重合性化合物を含有してもよい。カチオン重合性化合物とは、エネルギー活性線照射や熱によってカチオン重合を起こして樹脂化するものである。具体的には、エポキシ基、環状エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル化合物、ビニルオキソ基等が挙げられる。中でもエポキシ基やビニルエーテル基などの官能基を有する化合物が、本実施形態において好適に用いられる。
(Cationically polymerizable compound)
The hard coat layer may further contain a cationically polymerizable compound. The cationically polymerizable compound is a resin that undergoes cationic polymerization by energy active ray irradiation or heat. Specific examples include an epoxy group, a cyclic ether group, a cyclic acetal group, a cyclic lactone group, a cyclic thioether group, a spiro orthoester compound, and a vinyloxo group. Among them, a compound having a functional group such as an epoxy group or a vinyl ether group is preferably used in this embodiment.

ハードコート層組成物に上記カチオン重合性化合物が含まれる場合、ハードコート層組成物中における、カチオン重合性化合物の配合量は、組成物全体を100質量部とすると、通常、1〜90質量部、好ましくは1〜50質量部である。   When the above-mentioned cationically polymerizable compound is contained in the hard coat layer composition, the amount of the cationically polymerizable compound in the hard coat layer composition is usually 1 to 90 parts by mass when the entire composition is 100 parts by mass. The amount is preferably 1 to 50 parts by mass.

(微粒子)
ハードコート層は、微粒子を含有してもよい。微粒子としては無機微粒子と有機微粒子が挙げられる。無機粒子としては、シリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ITO、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、またはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等を挙げることができる。これら微粒子の平均粒径は、ハードコート層塗布組成物の安定性やクリア性から、30nm〜200nmが好ましい。また、ハードコート層には粒径が異なる2種以上の微粒子を含有させてもよい。所望の鉛筆硬度を達成しやすい点から、ハードコート層にはシリカ微粒子を含有させることが好ましい。
(Fine particles)
The hard coat layer may contain fine particles. Examples of the fine particles include inorganic fine particles and organic fine particles. As inorganic particles, silica, titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide, indium oxide, ITO, zinc oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated Mention may be made of calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. As organic particles, polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethyl methacrylate resin powder, silicon resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine resin powder, melamine resin powder, Examples thereof include polyolefin resin powder, polyester resin powder, polyamide resin powder, polyimide resin powder, and polyfluorinated ethylene resin powder. The average particle diameter of these fine particles is preferably 30 nm to 200 nm from the stability and clearness of the hard coat layer coating composition. The hard coat layer may contain two or more kinds of fine particles having different particle sizes. From the viewpoint of easily achieving the desired pencil hardness, the hard coat layer preferably contains silica fine particles.

また、本実施形態の作用効果をより良く発揮する点から、ハードコート層には重合性不飽和基を有する有機化合物によって表面処理された反応性シリカ微粒子(Xa)を含有させることが好ましい。   Moreover, it is preferable to make the hard coat layer contain reactive silica fine particles (Xa) surface-treated with an organic compound having a polymerizable unsaturated group from the viewpoint of better exhibiting the effects of the present embodiment.

また、ハードコート層は、前述した活性エネルギー線硬化型樹脂と微粒子とを含有し、含有質量比で、活性エネルギー線硬化型樹脂:微粒子=90:10〜20:80であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that a hard-coat layer contains the active energy ray-curable resin and microparticles | fine-particles which were mentioned above, and is active energy ray-curable resin: microparticles | fine-particles = 90: 10-20: 80 by content ratio.

(その他の添加剤、ハードコート層の製造方法)
ハードコート層には、前記活性エネルギー線硬化型樹脂の硬化促進のため、さらに光重合開始剤を含有させることが好ましい。光重合開始剤の配合量としては、質量比で、光重合開始剤:活性エネルギー線硬化型樹脂=20:100〜0.01:100であることが好ましい。
(Other additives, manufacturing method of hard coat layer)
The hard coat layer preferably further contains a photopolymerization initiator in order to accelerate the curing of the active energy ray-curable resin. As a compounding quantity of a photoinitiator, it is preferable by mass ratio that it is photoinitiator: active energy ray hardening-type resin = 20: 100-0.01: 100.

光重合開始剤としては、具体的には、アルキルフェノン系、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることができるが、特にこれらに限定されるものではない。これらは市販のものを使用してもよく、例えば、BASFジャパン(株)製のイルガキュア184、イルガキュア907、イルガキュア651などが好ましい例示として挙げられる。   Specific examples of the photopolymerization initiator include alkylphenone series, acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, thioxanthone, and derivatives thereof, but are not particularly limited thereto. It is not a thing. Commercially available products may be used, and preferred examples include Irgacure 184, Irgacure 907, and Irgacure 651 manufactured by BASF Japan.

また、ハードコート層は、上述の紫外線吸収剤と同様の紫外線吸収剤を含有していてもよい。   Moreover, the hard coat layer may contain the same ultraviolet absorber as the above-mentioned ultraviolet absorber.

さらには、ハードコート層が2層以上で構成され、かつフィルム基材と接するハードコート層に紫外線吸収剤を含有することが、本実施形態の目的効果が良好に発揮され、かつハードコート層の膜強度(耐擦傷性)や鉛筆硬度が良好に得られる点から好ましい。紫外線吸収剤の含有量としては、質量比で、紫外線吸収剤:ハードコート層組成物=0.01:100〜10:100であることが好ましい。   Furthermore, the hard coat layer is composed of two or more layers, and the hard coat layer in contact with the film substrate contains an ultraviolet absorber, so that the objective effect of the present embodiment is satisfactorily exhibited, and the hard coat layer The film strength (abrasion resistance) and the pencil hardness are preferred from the viewpoint of obtaining good results. As content of a ultraviolet absorber, it is preferable that it is a mass ratio and is ultraviolet absorber: hard-coat layer composition = 0.01: 100-10: 100.

ハードコート層を2層以上設ける場合、フィルム基材と接するハードコート層の膜厚は、0.05〜2μmの範囲であることが好ましい。2層以上の積層は同時重層で形成してもよい。同時重層とは、乾燥工程を経ずに基材上に2層以上のハードコート層をwet on wetで塗布して、ハードコート層を形成することである。第1ハードコート層の上に乾燥工程を経ずに、第2ハードコート層をwet on wetで積層するには、押し出しコーターにより逐次重層するか、若しくは複数のスリットを有するスロットダイにて同時重層を行えばよい。   When two or more hard coat layers are provided, the thickness of the hard coat layer in contact with the film substrate is preferably in the range of 0.05 to 2 μm. Two or more layers may be formed as a simultaneous multilayer. The simultaneous multi-layer is to form a hard coat layer by applying two or more hard coat layers on a base material without going through a drying step. In order to laminate the second hard coat layer on the first hard coat layer without a drying process, the layers are stacked one after another by an extrusion coater or simultaneously by a slot die having a plurality of slits. Can be done.

また、ハードコート層の作製方法としては、セルロースエステルフィルムを膨潤または一部溶解をする溶剤で希釈したハードコート層塗布組成物を、以下の方法でセルロースエステルフィルム上に塗布、乾燥、硬化して設ける方法が、ハードコート層とセルロースエステルフィルムとの層間密着が得られやすい点から好ましい。   In addition, as a method for producing a hard coat layer, a hard coat layer coating composition diluted with a solvent that swells or partially dissolves a cellulose ester film is applied, dried and cured on the cellulose ester film by the following method. The method of providing is preferable from the viewpoint that interlayer adhesion between the hard coat layer and the cellulose ester film is easily obtained.

セルロースエステルフィルムを膨潤または一部溶解する溶剤としては、ケトンおよび/または酢酸エステルを含む溶剤が好ましい。具体的には、ケトンとしてはメチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノンなどを挙げることができる。また、酢酸エステルとしては酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチルなどを挙げることができる。ハードコート層塗布組成物は、その他の溶剤として、アルコール系溶剤を含んでもよい。   As the solvent for swelling or partially dissolving the cellulose ester film, a solvent containing a ketone and / or acetate ester is preferable. Specifically, examples of the ketone include methyl ethyl ketone, acetone, and cyclohexanone. Examples of the acetate ester include ethyl acetate, methyl acetate, and butyl acetate. The hard coat layer coating composition may contain an alcohol solvent as the other solvent.

ハードコート層塗布組成物の塗布量は、ウェット膜厚として0.1〜40μmが好適で、さらに好ましくは、0.5〜30μmである。また、ドライ膜厚としては平均膜厚5〜20μm程度、好ましくは7〜12μmが好ましい。   The coating amount of the hard coat layer coating composition is preferably 0.1 to 40 μm, more preferably 0.5 to 30 μm, as the wet film thickness. The dry film thickness is preferably about 5 to 20 μm, and preferably 7 to 12 μm.

ハードコート層は、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイ(押し出し)コーター、インクジェット法等公知の塗布方法を用いて、ハードコート層を形成するハードコート塗布組成物を塗布し、塗布後、乾燥し、活性線を照射(UV硬化処理とも言う)し、更に必要に応じて、UV硬化後に加熱処理することで形成できる。UV硬化後の加熱処理温度としては80℃以上が好ましく、更に好ましくは100℃以上であり、特に好ましくは120℃以上である。このような高温でUV硬化後の加熱処理を行うことで、ハードコート層の機械的強度(耐擦性、鉛筆硬度)がより良好となる。   The hard coat layer is a gravure coater, a dip coater, a reverse coater, a wire bar coater, a die (extrusion) coater, a hard coat coating composition that forms a hard coat layer is applied using a known coating method such as an inkjet method, After application, the film can be dried, irradiated with actinic radiation (also referred to as UV curing treatment), and further subjected to heat treatment after UV curing as necessary. The heat treatment temperature after UV curing is preferably 80 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, and particularly preferably 120 ° C. or higher. By performing the heat treatment after UV curing at such a high temperature, the mechanical strength (rubbing resistance, pencil hardness) of the hard coat layer becomes better.

<機能性層>
本実施形態のハードコートフィルムには、上記のハードコート層以外に、バックコート層、反射防止層、防眩層等の機能性層を設けることができる。
<Functional layer>
In the hard coat film of this embodiment, functional layers such as a back coat layer, an antireflection layer and an antiglare layer can be provided in addition to the above hard coat layer.

(バックコート層)
本実施形態のセルロースエステルフィルムにおけるハードコート層を設けた側とは反対側の面に、カールやブロッキング防止のためにバックコート層を設けてもよい。
(Back coat layer)
In the cellulose ester film of this embodiment, a back coat layer may be provided on the surface opposite to the side on which the hard coat layer is provided in order to prevent curling and blocking.

カールやブロッキング防止の点から、バックコート層には、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ITO、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウム等の粒子を添加することができる。   In terms of curling and blocking prevention, the back coat layer includes silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, tin oxide, indium oxide, Particles such as zinc oxide, ITO, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate can be added.

バックコート層に含まれる粒子は、バインダーに対して0.1〜50質量%が好ましい。バックコート層を設けた場合のヘイズの増加は0.5%以下であることが好ましく、特に0.1%以下であることが好ましい。バインダーとしては、セルロースエステル樹脂が好ましい。また、バックコート層を形成するための塗布組成物には、アルコール類、ケトン類および/または酢酸エステル類糖の溶媒を含有することが好ましい。   The particles contained in the backcoat layer are preferably 0.1 to 50% by mass with respect to the binder. When the back coat layer is provided, the increase in haze is preferably 0.5% or less, and particularly preferably 0.1% or less. As the binder, a cellulose ester resin is preferable. The coating composition for forming the backcoat layer preferably contains a solvent for alcohols, ketones and / or acetate ester sugars.

(反射防止層)
本実施形態のハードコートフィルムは、ハードコート層の上層に反射防止層を塗設して、外光反射防止機能を有する反射防止フィルムとして用いることもできる。
(Antireflection layer)
The hard coat film of the present embodiment can also be used as an antireflection film having an external light antireflection function by coating an antireflection layer on the hard coat layer.

反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層されていることが好ましい。反射防止層は、支持体であるフィルム基材よりも屈折率の低い低屈折率層、もしくは支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と低屈折率層とを組み合わせて構成されていることが好ましい。特に好ましくは、3層以上の屈折率層から構成される反射防止層であり、支持体側から屈折率の異なる3層を、中屈折率層(支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層)/高屈折率層/低屈折率層の順に積層されているものが好ましく用いられる。または、2層以上の高屈折率層と2層以上の低屈折率層とを交互に積層した4層以上の層構成の反射防止層も好ましく用いられる。   The antireflection layer is preferably laminated in consideration of the refractive index, the film thickness, the number of layers, the layer order, and the like so that the reflectance is reduced by optical interference. The antireflection layer is composed of a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the film substrate as a support, or a combination of a high refractive index layer having a refractive index higher than that of the support and a low refractive index layer. Is preferred. Particularly preferably, it is an antireflection layer composed of three or more refractive index layers, and three layers having different refractive indexes from the support side are divided into medium refractive index layers (high refractive index layers having a higher refractive index than the support). Are preferably laminated in the order of a layer having a lower refractive index) / a high refractive index layer / a low refractive index layer. Alternatively, an antireflection layer having a layer structure of four or more layers in which two or more high refractive index layers and two or more low refractive index layers are alternately laminated is also preferably used.

反射防止層を有するフィルムの層構成としては、下記のような構成が考えられるが、これに限定されるものではない。   As the layer structure of the film having the antireflection layer, the following structure is conceivable, but is not limited thereto.

セルロースアセテートフィルム/ハードコート層/低屈折率層
セルロースアセテートフィルム/ハードコート層/中屈折率層/低屈折率層
セルロースアセテートフィルム/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層
セルロースアセテートフィルム/ハードコート層/高屈折率層(導電性層)/低屈折率層
セルロースアセテートフィルム/ハードコート層/防眩性層/低屈折率層
Cellulose acetate film / hard coat layer / low refractive index layer Cellulose acetate film / hard coat layer / medium refractive index layer / low refractive index layer Cellulose acetate film / hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index Layer Cellulose acetate film / hard coat layer / high refractive index layer (conductive layer) / low refractive index layer Cellulose acetate film / hard coat layer / antiglare layer / low refractive index layer

(低屈折率層)
低屈折率層は、シリカ系微粒子を含有することが好ましく、その屈折率は、23℃、波長550nm測定で、1.30〜1.45の範囲であることが好ましい。
(Low refractive index layer)
The low refractive index layer preferably contains silica-based fine particles, and the refractive index is preferably in the range of 1.30 to 1.45 when measured at 23 ° C. and a wavelength of 550 nm.

低屈折率層の膜厚は、5nm〜0.5μmであることが好ましく、10nm〜0.3μmであることが更に好ましく、30nm〜0.2μmであることが最も好ましい。   The film thickness of the low refractive index layer is preferably 5 nm to 0.5 μm, more preferably 10 nm to 0.3 μm, and most preferably 30 nm to 0.2 μm.

(高屈折率層)
高屈折率層の屈折率は、23℃、波長550nm測定で、屈折率を1.4〜2.2の範囲に調整することが好ましい。また、高屈折率層の厚さは5nm〜1μmが好ましく、10nm〜0.2μmであることが更に好ましく、30nm〜0.1μmであることが最も好ましい。屈折率の調整は、金属酸化物微粒子等を添加することで行うことができる。用いる金属酸化物微粒子の屈折率は1.80〜2.60であるものが好ましく、1.85〜2.50であるものが更に好ましい。
(High refractive index layer)
The refractive index of the high refractive index layer is preferably adjusted to a refractive index in the range of 1.4 to 2.2 by measuring at 23 ° C. and a wavelength of 550 nm. The thickness of the high refractive index layer is preferably 5 nm to 1 μm, more preferably 10 nm to 0.2 μm, and most preferably 30 nm to 0.1 μm. The refractive index can be adjusted by adding metal oxide fine particles and the like. The metal oxide fine particles used preferably have a refractive index of 1.80 to 2.60, more preferably 1.85 to 2.50.

(防眩性層)
ハードコート層上には、機能性層として防眩層を設けることもできる。防眩性層は、フィルム表面に反射した像の輪郭をぼかすことによって反射像の視認性を低下させて、液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、プラズマディスプレイといった画像表示装置等の使用時に、反射像の映り込みが気にならないようにする層のことである。防眩層は、具体的には、前記したハードコート層に微粒子等の添加や前記鋳型を押し当てて表面に突起を形成する方法などによって、層表面の算術平均粗さRaを0.1〜1μmに調整した層であることが好ましい。
(Anti-glare layer)
On the hard coat layer, an antiglare layer can be provided as a functional layer. The antiglare layer reduces the visibility of the reflected image by blurring the outline of the image reflected on the film surface, so that the reflected image is reflected when using an image display device such as a liquid crystal display, an organic EL display, or a plasma display. It is a layer that keeps you from worrying. Specifically, the antiglare layer has an arithmetic average roughness Ra of 0.1 to 0.1 by adding fine particles to the hard coat layer or a method of forming protrusions on the surface by pressing the mold. A layer adjusted to 1 μm is preferable.

〔粘着剤層〕
タッチパネルを表示装置に接着する際に用いる粘着剤層(図1の粘着剤層30に相当)を構成する粘着剤としては、特に制限なく、公知の粘着剤を使用でき、例えば、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ゴム系粘着剤、ポリエステル系粘着剤などが使用できるが、粘着力や貯蔵弾性率の制御が比較的容易なアクリル系粘着剤が特に好ましい。
(Adhesive layer)
The pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer (corresponding to the pressure-sensitive adhesive layer 30 in FIG. 1) used when bonding the touch panel to the display device is not particularly limited, and a known pressure-sensitive adhesive can be used. For example, an acrylic pressure-sensitive adhesive Silicone pressure-sensitive adhesives, urethane-based pressure-sensitive adhesives, rubber-based pressure-sensitive adhesives, polyester-based pressure-sensitive adhesives, and the like can be used, and acrylic pressure-sensitive adhesives that are relatively easy to control adhesive strength and storage elastic modulus are particularly preferable.

アクリル系粘着剤としては、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル、(メタ)アクリル酸n−ヘキシル、(メタ)アクリル酸2−エチルブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸イソオクチル、(メタ)アクリル酸デシル等の炭素数1〜20アクリル酸アルキルエステルの一種または二種以上と、前記アクリル酸アルキルエステルと共重合可能な(メタ)アクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸4−ヒドロキシブチル等の官能基モノマーとの共重合体に、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、アジリジン系架橋剤、金属キレート系架橋剤等の架橋剤を反応させたものが挙げられる。   As acrylic adhesives, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, n-hexyl (meth) acrylate, (meth) acrylic 1 or 2 or more kinds of alkyl esters of 1 to 20 carbon atoms such as 2-ethylbutyl acid, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, and the alkyl acrylate Copolymerization with functional monomers such as (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic acid, maleic anhydride, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, and 4-hydroxybutyl (meth) acrylate that can be copolymerized with esters In combination, isocyanate crosslinker, epoxy crosslinker, aziridine crosslinker, metal chelate crosslinker It includes a crosslinking agent that is reacted.

粘着剤層の厚さは、1μm〜13μmであることが好ましい。粘着剤層の厚さが1μm以上の場合、十分な粘着力が得られ、13μm以下の場合、抜き加工時や裁断加工時に糊のはみ出しを抑制することができ、かつ高い鉛筆硬度が維持される。好ましい粘着剤層の厚さは、3〜12μmである。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 1 μm to 13 μm. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is 1 μm or more, sufficient adhesive strength can be obtained, and when the thickness is 13 μm or less, it is possible to suppress the protrusion of glue during punching or cutting, and high pencil hardness is maintained. . The thickness of a preferable adhesive layer is 3-12 micrometers.

粘着剤層の貯蔵弾性率としては、0℃における貯蔵弾性率が1.0×106〜1.0×108Paであることが好ましい。粘着剤層の貯蔵弾性率が1.0×106Pa以上の場合、十分な抜き加工適性、裁断加工適性及び高い鉛筆硬度が得られ、1.0×108Pa以下の場合、十分な粘着力が得られる。好ましい粘着剤層の貯蔵弾性率は、1.5×106〜1.0×107Paである。As the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer, the storage elastic modulus at 0 ° C. is preferably 1.0 × 10 6 to 1.0 × 10 8 Pa. When the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer is 1.0 × 10 6 Pa or more, sufficient punching processability, cutting processability and high pencil hardness can be obtained, and when it is 1.0 × 10 8 Pa or less, sufficient adhesion Power is obtained. A preferable storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer is 1.5 × 10 6 to 1.0 × 10 7 Pa.

フィルム上に粘着剤層を設ける方法としては、剥離シートに粘着剤含有組成物を塗布し、乾燥させて作製した粘着剤層に、フィルムを積層する方法が挙げられる。上記粘着剤含有組成物の塗布方法は、例えば、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法、カーテンコート法などの従来公知の方法が挙げられる。また、上記粘着剤含有組成物をフィルムの表面に直接塗布し、乾燥させることで、粘着剤層を積層するようにしてもよい。   Examples of the method of providing the pressure-sensitive adhesive layer on the film include a method of laminating a film on the pressure-sensitive adhesive layer prepared by applying a pressure-sensitive adhesive-containing composition to a release sheet and drying it. Examples of the method for applying the pressure-sensitive adhesive-containing composition include conventionally known methods such as bar coating, knife coating, roll coating, blade coating, die coating, gravure coating, and curtain coating. Moreover, you may make it laminate | stack an adhesive layer by apply | coating the said adhesive containing composition directly on the surface of a film, and making it dry.

上記の剥離シートは、種々の剥離シートを使用できるが、代表的には剥離性を表面に有する基材シートから構成される。基材シートとしては、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂などのフィルムや、これらのフィルムに填料などの充填剤を配合したフィルムや合成紙などが挙げられる。また、グラシン紙、クレーコート紙、上質紙などの紙基材が挙げられる。   Although various release sheets can be used as the release sheet, the release sheet is typically composed of a base sheet having peelability on the surface. Examples of the base sheet include films such as polyester resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polystyrene resin, and polycarbonate resin, films in which fillers such as fillers are blended with these films, and synthetic paper. Moreover, paper base materials, such as glassine paper, clay coat paper, and quality paper, are mentioned.

基材シートの表面に剥離性を持たせるには、その表面に熱硬化性シリコーン樹脂や、紫外線硬化型シリコーン樹脂等の剥離剤を塗布等により付着させればよい。剥離剤の塗布量は、0.03〜3.0g/m2が好ましい。剥離シートは、剥離剤を有する表面を粘着剤層に接して積層される。In order to give the surface of the base sheet peelability, a release agent such as a thermosetting silicone resin or an ultraviolet curable silicone resin may be attached to the surface by coating or the like. The coating amount of the release agent, 0.03~3.0g / m 2 is preferred. The release sheet is laminated with the surface having the release agent in contact with the pressure-sensitive adhesive layer.

〔飛散防止フィルム〕   [Anti-scattering film]

飛散防止フィルム25は、外部からの衝撃等によるガラス基板21の飛散を防止するために、電極層(第2電極パターン24)上に設けられている。本実施形態では、飛散防止フィルム25は、厚さ20〜66μmのセルロースエステルフィルムで構成されている。   The scattering prevention film 25 is provided on the electrode layer (second electrode pattern 24) in order to prevent the glass substrate 21 from scattering due to an external impact or the like. In this embodiment, the scattering prevention film 25 is comprised with the cellulose ester film of thickness 20-66 micrometers.

飛散防止フィルム25に用いることができるセルロースエステル樹脂としては、前述した保護フィルム(フィルム基材4a)に用いることができるセルロースエステル樹脂が挙げられる。   Examples of the cellulose ester resin that can be used for the scattering prevention film 25 include cellulose ester resins that can be used for the above-described protective film (film substrate 4a).

このようなセルロースエステルフィルムとしては、面内方向におけるリタデーションRoが0nm〜10nmのフィルムを好ましく用いることができる。この場合、面内方向の位相差による干渉が少ないため、タッチパネル20を介して表示パネル10を裸眼で視認するときの視認性を向上させることができる。面内方向におけるリタデーションRoが0nm〜10nmのフィルムとする場合には、総アシル置換度が2.6以上のセルロースエステルが好ましく用いられ、総アシル置換度が2.6以上のセルロースアセテート(セルロールトリアセテート)がより好ましく用いられる。   As such a cellulose ester film, a film having a retardation Ro in the in-plane direction of 0 nm to 10 nm can be preferably used. In this case, since there is little interference due to the phase difference in the in-plane direction, it is possible to improve the visibility when viewing the display panel 10 with the naked eye via the touch panel 20. When the retardation Ro in the in-plane direction is 0 nm to 10 nm, a cellulose ester having a total acyl substitution degree of 2.6 or more is preferably used, and a cellulose acetate (cellulose) having a total acyl substitution degree of 2.6 or more. Triacetate) is more preferably used.

また、飛散防止フィルム25のセルロースエステルフィルムとして、面内方向におけるリタデーションRoが30nm〜200nmであるフィルムが用いられ、偏光子3の透過軸に対して前記飛散防止フィルムの遅相軸が10〜80°の方向となるように配置されることが好ましい。このような構成とすることで、偏光子3を透過した直線偏光を楕円偏光または円偏光に変えることができる為、偏光サングラスをかけて表示装置10を見る際の視認性を向上させることができる。リタデーションRoが30nm〜200nmであるフィルムとする場合には、総アシル置換度が2.6未満のセルロースエステルが好ましく用いられ、総アシル置換度が2.6未満のセルロースアセテート(セルロースジアセテート)がより好ましく用いられる。   Further, as the cellulose ester film of the scattering prevention film 25, a film having a retardation Ro in the in-plane direction of 30 nm to 200 nm is used, and the slow axis of the scattering prevention film is 10 to 80 with respect to the transmission axis of the polarizer 3. It is preferable that they are arranged in the direction of °. With such a configuration, the linearly polarized light transmitted through the polarizer 3 can be changed to elliptically polarized light or circularly polarized light, so that the visibility when viewing the display device 10 with polarized sunglasses can be improved. . In the case of a film having a retardation Ro of 30 nm to 200 nm, a cellulose ester having a total acyl substitution degree of less than 2.6 is preferably used, and a cellulose acetate (cellulose diacetate) having a total acyl substitution degree of less than 2.6 is preferably used. More preferably used.

〔電磁波シールド層〕
タッチパネルの電極層上に形成される電磁波シールド層は、少なくとも導電性物質を含有し、バインダー、感光性化合物、更に必要に応じてその他の成分を含有してなることが望ましい。
[Electromagnetic wave shielding layer]
The electromagnetic wave shielding layer formed on the electrode layer of the touch panel preferably contains at least a conductive substance, and further contains a binder, a photosensitive compound, and, if necessary, other components.

〔導電性物質〕
導電性物質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、中実構造及び中空構造のいずれかの繊維や導電性ポリマーを含有することが好ましい。
[Conductive substance]
There is no restriction | limiting in particular as an electroconductive substance, Although it can select suitably according to the objective, It is preferable to contain the fiber and electroconductive polymer in any one of a solid structure and a hollow structure.

ここで、中実構造の繊維をワイヤーと呼ぶことがあり、中空構造の繊維をチューブと呼ぶことがある。   Here, the solid structure fiber may be referred to as a wire, and the hollow structure fiber may be referred to as a tube.

また、平均短軸長さが5nm〜1,000nmであって、平均長軸長さが1μm〜100μmの導電性繊維を「ナノワイヤー」と呼ぶことがある。   In addition, a conductive fiber having an average minor axis length of 5 nm to 1,000 nm and an average major axis length of 1 μm to 100 μm may be referred to as “nanowire”.

また、平均短軸長さが1nm〜1,000nm、平均長軸長さが0.1μm〜1,000μmであって、中空構造を持つ導電性繊維を「ナノチューブ」と呼ぶことがある。   In addition, conductive fibers having an average minor axis length of 1 nm to 1,000 nm and an average major axis length of 0.1 μm to 1,000 μm and having a hollow structure may be referred to as “nanotubes”.

導電性物質の材料としては、導電性を有していれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、金属及びカーボンの少なくともいずれかであることが好ましい。これらの中でも、導電性繊維は、金属ナノワイヤー、金属ナノチューブ、及びカーボンナノチューブの少なくともいずれかであることが好ましい。   The material of the conductive substance is not particularly limited as long as it has conductivity, and can be appropriately selected according to the purpose, but is preferably at least one of metal and carbon. Among these, the conductive fibers are preferably at least one of metal nanowires, metal nanotubes, and carbon nanotubes.

<金属ナノワイヤー>
金属ナノワイヤーの材料としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、長周期律表(IUPAC1991)の第4周期、第5周期、及び第6周期からなる群から選ばれる少なくとも1種の金属が好ましく、第2族〜第14族から選ばれる少なくとも1種の金属がより好ましく、第2族、第8族、第9族、第10族、第11族、第12族、第13族、及び第14族から選ばれる少なくとも1種の金属が更に好ましく、主成分として含むことが特に好ましい。
<Metal nanowires>
There is no restriction | limiting in particular as a material of metal nanowire, According to the objective, it can select suitably. For example, at least one metal selected from the group consisting of the fourth period, the fifth period, and the sixth period of the Long Periodic Table (IUPAC 1991) is preferred, and at least one kind selected from Group 2 to Group 14 is preferred. Metal is more preferable, and at least one metal selected from Group 2, Group 8, Group 9, Group 10, Group 11, Group 12, Group 13, and Group 14 is more preferable. It is particularly preferable to include it as a component.

上記金属としては、例えば、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンテル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、又はこれらの合金などが挙げられる。これらの中でも、導電性に優れる点で、銀、及び銀との合金が好ましい。   Examples of the metal include copper, silver, gold, platinum, palladium, nickel, tin, cobalt, rhodium, iridium, iron, ruthenium, osmium, manganese, molybdenum, tungsten, niobium, tantel, titanium, bismuth, antimony, and lead. Or alloys thereof. Among these, silver and an alloy with silver are preferable in terms of excellent conductivity.

上記銀との合金で使用する金属としては、白金、オスミウム、パラジウム、イリジウムなどが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the metal used in the alloy with silver include platinum, osmium, palladium, and iridium. These may be used alone or in combination of two or more.

金属ナノワイヤーの形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、円柱状、直方体状、断面が多角形となる柱状など任意の形状をとることができる。高い透明性が必要とされる用途では、円柱状や断面の多角形の角が丸まっている断面形状であることが好ましい。金属ナノワイヤーの断面形状は、基材上に金属ナノワイヤー水分散液を塗布し、断面を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察することにより調べることができる。   There is no restriction | limiting in particular as a shape of metal nanowire, According to the objective, it can select suitably. For example, it can take an arbitrary shape such as a columnar shape, a rectangular parallelepiped shape, or a columnar shape having a polygonal cross section. In applications where high transparency is required, a cylindrical shape or a cross-sectional shape with rounded polygonal corners is preferable. The cross-sectional shape of the metal nanowire can be examined by applying a metal nanowire aqueous dispersion on the substrate and observing the cross-section with a transmission electron microscope (TEM).

金属ナノワイヤーの平均短軸長さ(「平均短軸径」、「平均直径」と称することがある)は、1nm〜50nmであることが好ましい。上記平均短軸長さが、1nm未満であると、耐酸化性が悪化し、耐久性が悪くなることがあり、50nmを超えると、金属ナノワイヤー起因の散乱が生じ、十分な透明性を得ることができないことがある。なお、上記平均短軸長さは、10nm〜40nmであることがより好ましく、15nm〜35nmであることが更に好ましい。   The average minor axis length (sometimes referred to as “average minor axis diameter” or “average diameter”) of the metal nanowires is preferably 1 nm to 50 nm. When the average minor axis length is less than 1 nm, the oxidation resistance deteriorates and the durability may deteriorate. When the average minor axis length exceeds 50 nm, scattering due to metal nanowires occurs and sufficient transparency is obtained. There are times when you can't. The average minor axis length is more preferably 10 nm to 40 nm, and further preferably 15 nm to 35 nm.

金属ナノワイヤーの平均短軸長さは、透過型電子顕微鏡(TEM;日本電子株式会社製、JEM−2000FX)を用い、300個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均短軸長さを求める。なお、金属ナノワイヤーの短軸が円形でない場合の短軸長さは、最も長いものを短軸長さとする。   The average short axis length of the metal nanowires was measured using a transmission electron microscope (TEM; manufactured by JEOL Ltd., JEM-2000FX), and 300 metal nanowires were observed. Find the minor axis length. In addition, the shortest axis length when the short axis of the metal nanowire is not circular is the longest axis.

金属ナノワイヤーの平均長軸長さ(「平均長さ」と称することがある)は、1μm〜40μmであることが好ましい。上記平均長軸長さが、1μm未満であると、密なネットワークを形成することが難しく、十分な導電性を得ることができないことがあり、40μmを超えると、金属ナノワイヤーが長すぎて製造時に絡まり、製造過程で凝集物が生じてしまうことがある。なお、上記平均長軸長さは、3μm〜35μmであることがより好ましく、5μm〜30μmであることが更に好ましい。   The average major axis length (sometimes referred to as “average length”) of the metal nanowires is preferably 1 μm to 40 μm. If the average major axis length is less than 1 μm, it may be difficult to form a dense network and sufficient conductivity may not be obtained. If it exceeds 40 μm, the metal nanowires are too long and manufactured. Sometimes entangled and agglomerates may occur during the manufacturing process. The average major axis length is more preferably 3 μm to 35 μm, and still more preferably 5 μm to 30 μm.

金属ナノワイヤーの平均長軸長さは、例えば透過型電子顕微鏡(TEM;日本電子株式会社製、JEM−2000FX)を用い、300個の金属ナノワイヤーを観察し、その平均値から金属ナノワイヤーの平均長軸長さを求める。なお、金属ナノワイヤーが曲がっている場合、それを弧とする円を考慮し、その半径、及び曲率から算出される値を長軸長さとする。   The average major axis length of the metal nanowire is, for example, observed with 300 metal nanowires using a transmission electron microscope (TEM; manufactured by JEOL Ltd., JEM-2000FX). Find the average major axis length. In addition, when the metal nanowire is bent, a circle having the arc as an arc is taken into consideration, and a value calculated from the radius and the curvature is defined as the major axis length.

金属ナノワイヤーの製造方法としては、例えば特開2009−215594号公報、特開2009−242880号公報、特開2009−299162号公報、特開2010−84173号公報、特開2010−86714号公報に記載の方法を用いることができる。金属ナノワイヤーの製造方法は、特に制限はなく、いかなる方法で製造してもよいが、以下のようにハロゲン化合物と分散添加剤とを溶解した溶媒中で加熱しながら金属イオンを還元することによって製造することが好ましい。   Examples of the method for producing metal nanowires include, for example, JP 2009-215594 A, JP 2009-242880 A, JP 2009-299162 A, JP 2010-84173 A, and JP 2010-86714 A. The described method can be used. The method for producing the metal nanowire is not particularly limited and may be produced by any method. By reducing metal ions while heating in a solvent in which a halogen compound and a dispersion additive are dissolved as follows, It is preferable to manufacture.

<金属ナノチューブ>
金属ナノチューブの材料としては、特に制限はなく、いかなる金属であってもよく、例えば、上記した金属ナノワイヤーの材料などを使用することができる。
<Metal nanotubes>
There is no restriction | limiting in particular as a material of a metal nanotube, What kind of metal may be sufficient, For example, the material of the above-mentioned metal nanowire etc. can be used.

金属ナノチューブの形状としては、単層であってもよく、多層であってもよいが、導電性及び熱伝導性に優れる点で単層であることが好ましい。   The shape of the metal nanotube may be a single layer or a multilayer, but is preferably a single layer from the viewpoint of excellent conductivity and thermal conductivity.

金属ナノチューブの厚み(外径と内径との差)は、3nm〜80nmであることが好ましい。上記厚みが、3nm未満であると、耐酸化性が悪化し、耐久性が悪くなることがあり、80nmを超えると、金属ナノチューブ起因の散乱が生じることがある。なお、上記厚みは、3nm〜30nmであることがより好ましい。   The thickness of the metal nanotube (difference between the outer diameter and the inner diameter) is preferably 3 nm to 80 nm. When the thickness is less than 3 nm, the oxidation resistance may be deteriorated and the durability may be deteriorated. When the thickness is more than 80 nm, scattering due to the metal nanotube may occur. The thickness is more preferably 3 nm to 30 nm.

金属ナノチューブの平均長軸長さは、1μm〜40μmであることが好ましく、3μm〜35μmであることがより好ましく、5μm〜30μmであることが更に好ましい。   The average major axis length of the metal nanotube is preferably 1 μm to 40 μm, more preferably 3 μm to 35 μm, and still more preferably 5 μm to 30 μm.

上記金属ナノチューブの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、米国出願公開2005/0056118号明細書等に記載の方法などを用いることができる。   There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of the said metal nanotube, According to the objective, it can select suitably. For example, the method described in US Patent Application Publication No. 2005/0056118 and the like can be used.

<カーボンナノチューブ>
カーボンナノチューブ(CNT)は、グラファイト状炭素原子面(グラフェンシート)が、単層あるいは多層の同軸管状になった物質である。単層のカーボンナノチューブはシングルウォールナノチューブ(SWNT)、多層のカーボンナノチューブはマルチウォールナノチューブ(MWNT)と呼ばれ、特に、2層のカーボンナノチューブはダブルウォールナノチューブ(DWNT)とも呼ばれる。本実施形態で用いられる導電性繊維において、カーボンナノチューブは、単層であってもよく、多層であってもよいが、導電性及び熱伝導性に優れる点で単層であることが好ましい。
<Carbon nanotube>
A carbon nanotube (CNT) is a substance in which a graphite-like carbon atomic surface (graphene sheet) is a single-layer or multilayer coaxial tube. Single-walled carbon nanotubes are called single-walled nanotubes (SWNT), multi-walled carbon nanotubes are called multi-walled nanotubes (MWNT), and in particular, double-walled carbon nanotubes are also called double-walled nanotubes (DWNT). In the conductive fiber used in the present embodiment, the carbon nanotube may be a single layer or a multilayer, but is preferably a single layer in terms of excellent conductivity and thermal conductivity.

カーボンナノチューブの製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、二酸化炭素の接触水素還元、アーク放電法、レーザー蒸発法、熱CVD法、プラズマCVD法、気相成長法、一酸化炭素を高温高圧化で鉄触媒と共に反応させて気相で成長させるHiPco法(high-pressure carbon monoxide process )等の公知の手段を用いることができる。   There is no restriction | limiting in particular as a manufacturing method of a carbon nanotube, According to the objective, it can select suitably. For example, catalytic hydrogen reduction of carbon dioxide, arc discharge method, laser evaporation method, thermal CVD method, plasma CVD method, vapor phase growth method, HiPco in which carbon monoxide is reacted with iron catalyst at high temperature and high pressure to grow in the vapor phase Known means such as a high-pressure carbon monoxide process can be used.

また、これらの方法で得られたカーボンナノチューブは、洗浄、遠心分離、ろ過、酸化、クロマトグラフ等の方法により、副生成物や触媒金属等の残留物を除去することが、高純度化されたカーボンナノチューブを得ることができる点で好ましい。   In addition, the carbon nanotubes obtained by these methods have been highly purified to remove residues such as by-products and catalytic metals by methods such as washing, centrifugation, filtration, oxidation, and chromatography. It is preferable at the point which can obtain a carbon nanotube.

上記導電性繊維のアスペクト比は、10以上であることが好ましい。上記アスペクト比とは、一般的には繊維状の物質の長辺と短辺との比(平均長軸長さ/平均短軸長さの比)を意味する。   The conductive fiber preferably has an aspect ratio of 10 or more. The aspect ratio generally means the ratio between the long side and the short side of the fibrous material (ratio of average major axis length / average minor axis length).

アスペクト比の測定方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子顕微鏡等により測定する方法などが挙げられる。   There is no restriction | limiting in particular as a measuring method of an aspect ratio, According to the objective, it can select suitably, For example, the method etc. which measure with an electron microscope etc. are mentioned.

導電性繊維のアスペクト比を電子顕微鏡で測定する場合、導電性繊維のアスペクト比が10以上であるか否かは、電子顕微鏡の1視野で確認できればよい。また、導電性繊維の長軸長さと短軸長さとを各々別に測定することによって、導電性繊維全体のアスペクト比を見積もることができる。   When measuring the aspect ratio of the conductive fiber with an electron microscope, it is only necessary to confirm whether the aspect ratio of the conductive fiber is 10 or more with one field of view of the electron microscope. Moreover, the aspect ratio of the whole conductive fiber can be estimated by measuring the major axis length and the minor axis length of the conductive fiber separately.

なお、導電性繊維がチューブ状の場合、アスペクト比を算出するための直径としては、該チューブの外径を用いる。   When the conductive fiber is in a tube shape, the outer diameter of the tube is used as the diameter for calculating the aspect ratio.

導電性繊維のアスペクト比は、10以上であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、50〜1,000,000であることが好ましい。上記アスペクト比が10未満であると、導電性繊維によるネットワーク形成がなされず、導電性が十分取れないことがあり、1,000,000を超えると、導電性繊維の形成時やその後の取り扱いにおいて、成膜前に導電性繊維が絡まり凝集するため、安定な液が得られないことがある。なお、上記アスペクト比は、100〜1,000,000であることがより好ましい。   The aspect ratio of the conductive fiber is not particularly limited as long as it is 10 or more, and can be appropriately selected according to the purpose, but is preferably 50 to 1,000,000. When the aspect ratio is less than 10, network formation with conductive fibers may not be performed, and sufficient conductivity may not be obtained. When the aspect ratio exceeds 1,000,000, the conductive fibers may be formed or in subsequent handling. Since the conductive fibers are entangled and aggregate before film formation, a stable liquid may not be obtained. The aspect ratio is more preferably 100 to 1,000,000.

全導電性組成物中における、上記アスペクト比が10以上の導電性繊維の割合(比率)は、体積比で50%以上であることが好ましい。上記比率が50%未満であると、導電性に寄与する導電性物質が減少して導電性が低下してしまうことがあり、同時に密なネットワークを形成できないために電圧集中が生じ、耐久性が低下してしまうことがある。また、導電性繊維以外の形状の粒子は、導電性に大きく寄与しない上に吸収を持つため、好ましくなく、特に金属の場合で、球形などのプラズモン吸収が強い場合には、透明度が悪化してしまうことがある。なお、上記比率は、60%以上がより好ましく、75%以上が特に好ましい。   The ratio (ratio) of conductive fibers having an aspect ratio of 10 or more in the total conductive composition is preferably 50% or more by volume ratio. If the ratio is less than 50%, the conductive material that contributes to conductivity may decrease and conductivity may decrease. At the same time, a dense network cannot be formed, resulting in voltage concentration and durability. May fall. In addition, particles having a shape other than conductive fibers do not contribute greatly to conductivity and have absorption, which is not preferable. Especially in the case of metal, when plasmon absorption such as a sphere is strong, the transparency is deteriorated. May end up. The ratio is more preferably 60% or more, and particularly preferably 75% or more.

ここで、上記比率は、例えば、導電性繊維が銀ナノワイヤーである場合には、銀ナノワイヤー水分散液をろ過して、銀ナノワイヤーと、それ以外の粒子とを分離し、ICP発光分析装置を用いてろ紙に残っている銀の量と、ろ紙を透過した銀の量とを各々測定することで、導電性繊維の比率を求めることができる。ろ紙に残っている導電性繊維をTEMで観察し、300個の導電性繊維の短軸長さを観察し、その分布を調べることにより、短軸長さが200nm以下であり、かつ長軸長さが1μm以上である導電性繊維であることを確認する。なお、ろ紙は、上記サイズの導電性繊維以外の粒子の最長軸を計測し、その最長軸の2倍以上であり、かつ導電性繊維の長軸の最短長以下の長さの粒子を通過させるものを用いることが好ましい。   Here, the ratio is, for example, when the conductive fiber is silver nanowire, the silver nanowire aqueous dispersion is filtered to separate the silver nanowire and the other particles, and the ICP emission analysis By measuring the amount of silver remaining on the filter paper and the amount of silver transmitted through the filter paper using an apparatus, the ratio of conductive fibers can be determined. By observing the conductive fibers remaining on the filter paper with a TEM, observing the short axis lengths of 300 conductive fibers and examining their distribution, the short axis length is 200 nm or less and the long axis length is It confirms that it is an electroconductive fiber whose length is 1 micrometer or more. Note that the filter paper measures the longest axis of particles other than the conductive fibers of the above size, and passes particles having a length not less than twice the longest axis and not more than the shortest length of the long axis of the conductive fibers. It is preferable to use one.

ここで、上記導電性繊維の平均短軸長さ及び平均長軸長さは、例えば、透過型電子顕微鏡(TEM)や光学顕微鏡を用い、TEM像や光学顕微鏡像を観察することにより求めることができる。本実施形態においては、導電性繊維の平均短軸長さ及び平均長軸長さは、透過型電子顕微鏡(TEM)により300個の導電性繊維を観察し、その平均値から求める。   Here, the average minor axis length and the average major axis length of the conductive fiber can be obtained by observing a TEM image or an optical microscope image using, for example, a transmission electron microscope (TEM) or an optical microscope. it can. In the present embodiment, the average minor axis length and the average major axis length of the conductive fibers are obtained by observing 300 conductive fibers with a transmission electron microscope (TEM) and calculating the average value.

<バインダー>
上記導電性繊維を固定化するためのバインダーとしては、有機高分子重合体であって、分子(好ましくは、アクリル系共重合体を主鎖とする分子)中に少なくとも1つのアルカリ可溶性を促進する基(例えばカルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基など)を有するアルカリ可溶性樹脂の中から適宜選択することができる。
<Binder>
The binder for immobilizing the conductive fiber is an organic polymer, and promotes at least one alkali solubility in a molecule (preferably a molecule having an acrylic copolymer as a main chain). It can be appropriately selected from alkali-soluble resins having a group (for example, carboxyl group, phosphoric acid group, sulfonic acid group, etc.).

これらの中でも、有機溶剤に可溶で弱アルカリ水溶液により現像可能なものが好ましく、また、酸解離性基を有し、酸の作用により酸解離性基が解離した時にアルカリ可溶となるものが特に好ましい。なお、酸解離性基とは、酸の存在下で解離することが可能な官能基を表す。   Among these, those that are soluble in an organic solvent and that can be developed with a weak alkaline aqueous solution are preferable, and those that have an acid-dissociable group and become alkali-soluble when the acid-dissociable group is dissociated by the action of an acid. Particularly preferred. In addition, an acid dissociable group represents the functional group which can dissociate in presence of an acid.

上記バインダーの製造には、例えば公知のラジカル重合法による方法を適用することができる。上記ラジカル重合法でアルカリ可溶性樹脂を製造する際の温度、圧力、ラジカル開始剤の種類及びその量、溶媒の種類等々の重合条件は、当業者において容易に設定可能であり、実験的に条件を定めることができる。   For the production of the binder, for example, a known radical polymerization method can be applied. Polymerization conditions such as temperature, pressure, type and amount of radical initiator, type of solvent, etc. when producing an alkali-soluble resin by the above radical polymerization method can be easily set by those skilled in the art, and the conditions are determined experimentally. Can be determined.

線状の上記有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマー(酸性基を有する感光性樹脂)が好ましい。   As the linear organic polymer, a polymer having a carboxylic acid in the side chain (photosensitive resin having an acidic group) is preferable.

側鎖にカルボン酸を有するポリマーとしては、例えば特開昭59−44615号、特公昭54−34327号、特公昭58−12577号、特公昭54−25957号、特開昭59−53836号、特開昭59−71048号の各公報に記載されているような、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等、並びに側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体、水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの等であり、更に側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する高分子重合体も好ましいものとして挙げられる。   Examples of the polymer having a carboxylic acid in the side chain include, for example, JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12777, JP-B-54-25957, JP-A-59-53836, A methacrylic acid copolymer, an acrylic acid copolymer, an itaconic acid copolymer, a crotonic acid copolymer, a maleic acid copolymer, and a partial esterification as described in each publication of Japanese Utility Model Publication No. 59-71048. A maleic acid copolymer, etc., an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid in the side chain, an acid anhydride added to a polymer having a hydroxyl group, and a polymer weight having a (meth) acryloyl group in the side chain Coalescence is also preferred.

これらの中でも、ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸共重合体、ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/他のモノマーからなる多元共重合体が特に好ましい。   Among these, benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid copolymers and multi-component copolymers composed of benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / other monomers are particularly preferable.

更に、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する高分子重合体や(メタ)アクリル酸/グリシジル(メタ)アクリレート/他のモノマーからなる多元共重合体も有用なものとして挙げられる。該ポリマーは任意の量で混合して用いることができる。   Furthermore, a high molecular polymer having a (meth) acryloyl group in the side chain and a multi-component copolymer comprising (meth) acrylic acid / glycidyl (meth) acrylate / other monomers are also useful. The polymer can be used by mixing in an arbitrary amount.

上記以外にも、特開平7−140654号公報に記載の、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/メチルメタクリレート/メタクリル酸共重合体、2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー/ベンジルメタクレート/メタクリル酸共重合体、などが挙げられる。   In addition to the above, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate / polymethyl described in JP-A-7-140654 Methacrylate macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer, 2-hydroxyethyl methacrylate / polystyrene macromonomer / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer Coalescence, etc.

<導電性ポリマー>
導電性ポリマーとしては、例えばポリスチレンスルホン酸を含むポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT:PSS(Poly(3,4-ethylenedioxythiophene):Poly(styrenesulfonate))を用いることができる。
<Conductive polymer>
As the conductive polymer, for example, polyethylenedioxythiophene (PEDOT: PSS (Poly (3,4-ethylenedioxythiophene): Poly (styrenesulfonate)) containing polystyrenesulfonic acid can be used.

〔実施例〕
以下、本発明の具体例を実施例として説明する。また、本発明との比較のため、比較例についても併せて説明する。なお、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。なお、以下での説明において、「部」あるいは「%」の表示は、特に断りがない限り、「質量部」あるいは「質量%」を表すものとする。
〔Example〕
Hereinafter, specific examples of the present invention will be described as examples. For comparison with the present invention, comparative examples will also be described. The present invention is not limited to the following examples. In the following description, “parts” or “%” indicates “parts by mass” or “mass%” unless otherwise specified.

<タッチパネルモジュールの作製>
まず、ガラス基板上に、厚さ20nmのITO膜をスパッタリング法を用いて成膜し、これをエッチングして、X方向に延びる第1電極パターンを形成した。次に、第1電極パターン上に、厚さ200nmのSiO2からなる層間絶縁膜をスパッタリング法を用いて成膜した。続いて、層間絶縁膜上に、厚さ20nmのITO膜をスパッタリング法を用いて成膜し、これをエッチングして、Y方向に延びる第2電極パターンを形成した。さらに、第2電極パターン上に、厚さ200nmのSiO2からなる絶縁膜をスパッタリング法を用いて成膜した。
<Production of touch panel module>
First, an ITO film having a thickness of 20 nm was formed on a glass substrate by a sputtering method, and this was etched to form a first electrode pattern extending in the X direction. Next, an interlayer insulating film made of SiO 2 having a thickness of 200 nm was formed on the first electrode pattern by a sputtering method. Subsequently, an ITO film having a thickness of 20 nm was formed on the interlayer insulating film by a sputtering method, and this was etched to form a second electrode pattern extending in the Y direction. Further, an insulating film made of SiO 2 having a thickness of 200 nm was formed on the second electrode pattern by a sputtering method.

次に、ITO膜からなるX方向及びY方向の各電極パターンにそれぞれAgペーストを塗布、及び焼結し、各電極パターンと制御回路とをリード線を介して接続した。   Next, Ag paste was applied to each electrode pattern in the X direction and Y direction made of an ITO film and sintered, and each electrode pattern and the control circuit were connected via lead wires.

そして、導電層が形成された飛散防止フィルム(セルロースエステルフィルムまたはハードコートフィルム)を、第2電極パターン上(絶縁膜上)に粘着剤層を介して貼合し、タッチパネルモジュールを作製した。このとき、粘着剤層を構成する粘着剤としては、アクリル系粘着剤を用いた。以下、セルロースエステルフィルムおよびハードコートフィルムの作製と、導電層の形成とについて説明する。   And the scattering prevention film (cellulose ester film or hard coat film) in which the conductive layer was formed was bonded on the 2nd electrode pattern (on insulating film) via the adhesive layer, and the touch panel module was produced. At this time, an acrylic pressure-sensitive adhesive was used as the pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer. Hereinafter, preparation of a cellulose ester film and a hard coat film and formation of a conductive layer will be described.

(セルロースエステルフィルムA−1の作製)
〈セルロースエステル樹脂〉
セルロースエステル樹脂CE−1、CE−2を以下のものとする。
CE−1:セルローストリアセテート
(アセチル基置換度:2.91、重量平均分子量Mw:30万)
CE−2:セルロースジアセテート
(アセチル基置換度2.41、重量平均分子量Mw:30万)
(Preparation of cellulose ester film A-1)
<Cellulose ester resin>
The cellulose ester resins CE-1 and CE-2 are as follows.
CE-1: cellulose triacetate (acetyl group substitution degree: 2.91, weight average molecular weight Mw: 300,000)
CE-2: Cellulose diacetate (acetyl group substitution degree 2.41, weight average molecular weight Mw: 300,000)

〈微粒子分散液1〉
シリカ微粒子(アエロジル R972V 日本アエロジル(株)製)
11質量部
エタノール 89質量部
以上をディゾルバーで50分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。
<Fine particle dispersion 1>
Silica fine particles (Aerosil R972V manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
11 parts by mass Ethanol 89 parts by mass The above was stirred and mixed with a dissolver for 50 minutes, and then dispersed with Manton Gorin.

〈微粒子添加液1〉
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、微粒子分散液1をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線(株)製のファインメットNFで濾過し、微粒子添加液1を調製した。
メチレンクロライド 99質量部
微粒子分散液1 5質量部
<Fine particle addition liquid 1>
The fine particle dispersion 1 was slowly added to the dissolution tank containing methylene chloride with sufficient stirring. Further, the particles were dispersed by an attritor so that the secondary particles had a predetermined particle size. This was filtered through Finemet NF manufactured by Nippon Seisen Co., Ltd. to prepare a fine particle additive solution 1.
99 parts by mass of methylene chloride 5 parts by mass of fine particle dispersion 1

〈主ドープA〉
下記組成の主ドープAを調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。次に溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースアセテートを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解した。これを安積濾紙(株)製の安積濾紙No.244を使用して濾過し、主ドープAを調製した。
メチレンクロライド 340質量部
エタノール 64質量部
CE−1(セルローストリアセテート) 100質量部
ポリエステル系化合物 6質量部
糖エステル化合物 6質量部
微粒子添加液1 1質量部
以上を密閉容器に投入し、攪拌しながら溶解してドープを調製した。次いで、無端ベルト流延装置を用い、ドープを温度33℃、1500mm幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は30℃に制御した。
<Main dope A>
A main dope A having the following composition was prepared. First, methylene chloride and ethanol were added to the pressure dissolution tank. Next, cellulose acetate was added to the pressurized dissolution tank containing the solvent while stirring. This was completely dissolved with heating and stirring. This was designated as Azumi Filter Paper No. The main dope A was prepared by filtration using 244.
Methylene chloride 340 parts by mass Ethanol 64 parts by mass CE-1 (cellulose triacetate) 100 parts by mass Polyester compound 6 parts by mass Sugar ester compound 6 parts by mass Particulate additive solution 1 1 part by mass A dope was prepared. Then, using an endless belt casting apparatus, the dope was cast uniformly on a stainless steel belt support at a temperature of 33 ° C. and a width of 1500 mm. The temperature of the stainless steel belt was controlled at 30 ° C.

次に、ステンレスベルト支持体上で、流延(キャスト)したフィルム中の残留溶媒量が75%になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力130N/mで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。   Next, the solvent was evaporated until the residual solvent amount in the cast (cast) film reached 75% on the stainless steel belt support, and then peeled off from the stainless steel belt support with a peeling tension of 130 N / m.

剥離したセルロースエステルフィルムを、160℃の熱をかけながらテンターを用いて幅方向に10%延伸した。延伸開始時の残留溶媒は15%であった。次いで、乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥温度は130℃で、搬送張力は100N/mとした。乾燥後、フィルムを1.5m幅にスリットし、フィルム両端に幅10mm、高さ10μmのナーリング加工を施し、ロール状に巻き取り、乾燥膜厚25μmのセルロースエステルフィルムA−1を得た。巻長は5200mであった。   The peeled cellulose ester film was stretched 10% in the width direction using a tenter while applying heat at 160 ° C. The residual solvent at the start of stretching was 15%. Next, drying was terminated while the drying zone was conveyed by a number of rolls. The drying temperature was 130 ° C. and the transport tension was 100 N / m. After drying, the film was slit to a width of 1.5 m, a knurling process having a width of 10 mm and a height of 10 μm was applied to both ends of the film, wound into a roll, and a cellulose ester film A-1 having a dry film thickness of 25 μm was obtained. The winding length was 5200 m.

セルロースエステルフィルムA−1において、面内方向の位相差(リタデーションRo)は、1nmであった。なお、上記リタデーションRoは、自動複屈折率計KOBRA−21ADH(王子計測機器(株))を用いて測定した。   In the cellulose ester film A-1, the retardation in the in-plane direction (retardation Ro) was 1 nm. The retardation Ro was measured using an automatic birefringence meter KOBRA-21ADH (Oji Scientific Instruments).

(セルロースエステルフィルムA−2〜A−4の作製)
表1に記載のように樹脂(種類、置換度)、面内位相差Roおよび膜厚を変化させた以外は、セルロースエステルフィルムA−1と同様にして、セルロースエステルフィルムA−2〜A−4を作製した。
(Production of cellulose ester films A-2 to A-4)
Cellulose ester films A-2 to A- in the same manner as cellulose ester film A-1, except that the resin (type, degree of substitution), in-plane retardation Ro, and film thickness were changed as shown in Table 1. 4 was produced.

Figure 2014065000
Figure 2014065000

(ハードコートフィルムの作製)
上記作製したセルロースエステルフィルムA−2上に、ハードコート層組成物を孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過したものを、マイクログラビアコーターを用いて塗布した。そして、恒率乾燥区間温度95℃、減率乾燥区間温度95℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い、照射部の照度が100mW/cm2で、照射量を0.1J/cm2として塗布層を硬化させ、ドライ膜厚3μmのハードコート層を形成した。そして、形成後のフィルムを巻き取り、ロール状のハードコートフィルムとした。なお、ハードコート層は、導電層(電磁波シールド層)として、後述するITO膜を形成する場合のみ作製した。
(Preparation of hard coat film)
On the produced cellulose ester film A-2, a hard coat layer composition filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm was applied using a micro gravure coater. Then, after drying at a constant rate drying zone temperature of 95 ° C. and a reduced rate drying zone temperature of 95 ° C., an ultraviolet lamp is used, the illuminance of the irradiated part is 100 mW / cm 2 , and the irradiation amount is 0.1 J / cm 2. Was cured to form a hard coat layer having a dry film thickness of 3 μm. And the film after formation was wound up and it was set as the roll-shaped hard coat film. The hard coat layer was produced only when an ITO film described later was formed as the conductive layer (electromagnetic wave shield layer).

(PETフィルム)
比較フィルムとして、易接着層付きポリエチレンテレフタレートフィルム(商品名:PET50T600E、厚さ50μm、三菱樹脂社製)を用意した。
(PET film)
As a comparative film, a polyethylene terephthalate film with an easy-adhesion layer (trade name: PET50T600E, thickness 50 μm, manufactured by Mitsubishi Plastics, Inc.) was prepared.

(導電層の形成)
〈導電層C−1〉
特表2009−505358号公報の例1(銀ナノワイヤーの合成)に開示されている方法にて銀ナノワイヤーを得た。すなわち、ポリビニルピロリドン(PVP)の存在下で、エチレングリコールに溶解される硫酸銀の還元によって、銀ナノワイヤーを合成した。なお、ポリオール(多価アルコール)の還元力により、金属イオンを還元し、ナノサイズの金属粒子を析出させる方法は、ポリオール方法とも呼ばれる。
(Formation of conductive layer)
<Conductive layer C-1>
Silver nanowires were obtained by the method disclosed in Example 1 (synthesis of silver nanowires) in JP-T-2009-505358. That is, silver nanowires were synthesized by reduction of silver sulfate dissolved in ethylene glycol in the presence of polyvinylpyrrolidone (PVP). Note that the method of reducing metal ions and precipitating nano-sized metal particles by the reducing power of polyol (polyhydric alcohol) is also called a polyol method.

次いで、同特表2009−505358号公報の例8(ナノワイヤー分散)に開示されている方法にて、銀ナノワイヤー分散塗液を得た。すなわち、約0.08%wt.のHPMC(ヒドロキシプロピルメチルセルロース)、約0.36%wt.の銀ナノワイヤー、約0.005%wt.のZonyl(登録商標)FSO−100、および約99.555%wt.の水を混合して、銀ナノワイヤー分散塗液を得た。この銀ナノワイヤー分散塗液を松尾産業(株)製 バーコーターを使用してセルロースエステルフィルム上に塗布し、120℃で2分間乾燥し、銀ナノワイヤー塗膜を設けた。この銀ナノワイヤー塗膜を、導電層C−1とする。   Next, a silver nanowire-dispersed coating solution was obtained by the method disclosed in Example 8 (nanowire dispersion) of JP-T 2009-505358. That is, about 0.08% wt. HPMC (hydroxypropyl methylcellulose), about 0.36% wt. Silver nanowire, about 0.005% wt. Zonyl® FSO-100, and about 99.555% wt. Were mixed to obtain a silver nanowire-dispersed coating solution. This silver nanowire-dispersed coating solution was applied onto a cellulose ester film using a bar coater manufactured by Matsuo Sangyo Co., Ltd. and dried at 120 ° C. for 2 minutes to provide a silver nanowire coating film. Let this silver nanowire coating film be the conductive layer C-1.

〈導電層C−2〉
組成In22/SnO2=90/10のインジウム・スズ酸化物ターゲットを用い、真空度10-4Torrにて、アルゴン/酸素混合ガス導入のもと、スパッタリング法にて、ハードコートフィルム上に、厚さ250nmのITO導電性薄膜を設けた。このITO導電性薄膜を、導電層C−2とする。
<Conductive layer C-2>
Using an indium tin oxide target having a composition of In 2 O 2 / SnO 2 = 90/10 on a hard coat film by sputtering under an argon / oxygen mixed gas introduction at a vacuum degree of 10 −4 Torr Further, an ITO conductive thin film having a thickness of 250 nm was provided. This ITO conductive thin film is referred to as a conductive layer C-2.

〈導電層C−3〉
特開2011−102003号公報に記載の方法と同様にして、50mLの容器に、触媒とCNTとを含むCNT組成物10mg(乾燥時換算)と、分散剤としてカルボキシメチルセルロースナトリウム(シグマ社製90kDa,50−200cps)10mgとを量り取り、蒸留水を加えて10gにした後、超音波ホモジナイザー出力20W、20分間で氷冷下分散処理し、CNT塗液を調製した。その後、得られた液を高速遠心分離機にて10000G、15分遠心し、上清9mLを得た。そして、この操作を複数回繰り返し、これによって得られた上清145mLにエタノール5mLを加え、コーターで塗布可能な、CNT濃度約0.1質量%のCNT分散塗液(CNTと分散剤の配合比1対1)を得た。なお、このCNT分散塗液を石英ガラスに塗布、乾燥したCNT導電層の屈折率は1.82であった。
<Conductive layer C-3>
In the same manner as in the method described in JP2011-102003A, a 50 mL container, 10 mg of a CNT composition containing a catalyst and CNT (converted when dried), and sodium carboxymethylcellulose (90 kDa, manufactured by Sigma) as a dispersant. (50-200 cps) 10 mg was weighed and distilled water was added to make 10 g, followed by dispersion treatment under ice cooling with an ultrasonic homogenizer output of 20 W for 20 minutes to prepare a CNT coating solution. Thereafter, the obtained liquid was centrifuged at 10,000 G for 15 minutes with a high-speed centrifuge, and 9 mL of supernatant was obtained. Then, this operation was repeated a plurality of times, and 5 mL of ethanol was added to 145 mL of the supernatant thus obtained, and a CNT dispersion coating liquid having a CNT concentration of about 0.1% by mass (combination ratio of CNT and dispersant) can be applied with a coater. 1 to 1) was obtained. The refractive index of the CNT conductive layer obtained by applying this CNT-dispersed coating liquid to quartz glass and drying was 1.82.

次に、上記のCNT分散塗液をマイクログラビアコーター(グラビア線番150R、グラビア回転比80%)でセルロースエステルフィルム上に塗布し、100℃で1分間乾燥させてCNT塗膜を形成した。このCNT塗膜を、導電層C−3とする。   Next, the above-mentioned CNT dispersion coating liquid was applied onto a cellulose ester film with a micro gravure coater (gravure wire number 150R, gravure rotation ratio 80%) and dried at 100 ° C. for 1 minute to form a CNT coating film. This CNT coating film is referred to as a conductive layer C-3.

〈導電層C−4〉
ポリスチレンスルホン酸を含むポリエチレンジオキシチオフェン(PEDOT)分散液を、マイクログラビアコーターでセルロースエステルフィルム上に塗布し、100℃のオーブンに通して溶剤の乾燥および硬化を行い、膜厚100nmのPEDOT:PSS層を形成した。このPEDOT:PSS層を、導電層C−4とする。
<Conductive layer C-4>
A polyethylenedioxythiophene (PEDOT) dispersion containing polystyrene sulfonic acid is applied onto a cellulose ester film with a micro gravure coater, dried in a 100 ° C. oven and dried to cure, and 100 nm thick PEDOT: PSS A layer was formed. This PEDOT: PSS layer is referred to as a conductive layer C-4.

<偏光板の作製>
次に、表示パネルの偏光板の作製について説明する。偏光板は、偏光子としての偏光膜の一方の面に保護フィルムを貼り合わせ、他方の面に透湿度の低い光学フィルムを貼り合わせることで作製される。まず、保護フィルムの作製について説明する。
<Preparation of polarizing plate>
Next, production of a polarizing plate for a display panel will be described. The polarizing plate is produced by laminating a protective film on one surface of a polarizing film as a polarizer and laminating an optical film with low moisture permeability on the other surface. First, preparation of a protective film is demonstrated.

〈セルロースエステルフィルムB−1の作製〉
〈主ドープB〉
メチレンクロライド 340質量部
エタノール 64質量部
セルローストリアセテート(アセチル基置換度2.88、MW32万)
100質量部
ポリエステル系化合物 6質量部
糖エステル化合物 6質量部
TINUVIN 928(BASFジャパン(株)製) 3質量部
微粒子添加液1 1質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱し、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙(株)製の安積濾紙No.24を使用して濾過し、主ドープBを調製した。
<Preparation of cellulose ester film B-1>
<Main dope B>
Methylene chloride 340 parts by mass Ethanol 64 parts by mass Cellulose triacetate (acetyl group substitution degree 2.88, MW 320,000)
100 parts by mass Polyester compound 6 parts by mass Sugar ester compound 6 parts by mass TINUVIN 928 (manufactured by BASF Japan Ltd.) 3 parts by mass Particulate additive solution 1 1 part by mass Azumi filter paper No. 1 manufactured by Azumi Filter Paper Co., Ltd. was dissolved completely. 24 was used to prepare the main dope B.

次に、ベルト流延装置を用い、主ドープBをステンレスバンド支持体に均一に流延し、ステンレスバンド支持体で、残留溶剤量が100%になるまで溶剤を蒸発させ、ステンレスバンド支持体上から剥離した。そして、剥離したセルロースエステルフィルムのウェブに含まれる溶剤を35℃で蒸発させ、1.15m幅にスリットし、テンターで幅方向に15%延伸しながら、160℃の乾燥温度で乾燥させた。その後、120℃の乾燥装置内を多数のロールで搬送させながら15分間乾燥させた後、1.5m幅にスリットし、フィルム両端に幅10mm、高さ5μmのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取り、セルロースエステルフィルムB−1を得た。セルロースエステルフィルムB−1の膜厚は、30μm、巻長は5000mであった。   Next, using a belt casting apparatus, the main dope B is uniformly cast on a stainless steel band support, and the solvent is evaporated with the stainless steel band support until the residual solvent amount reaches 100%. Peeled off. Then, the solvent contained in the web of the peeled cellulose ester film was evaporated at 35 ° C., slit to a width of 1.15 m, and dried at a drying temperature of 160 ° C. while being stretched 15% in the width direction by a tenter. Then, after drying for 15 minutes while transporting the inside of a drying device at 120 ° C. with many rolls, slitting to a width of 1.5 m, applying a knurling process with a width of 10 mm and a height of 5 μm at both ends of the film, and winding it on a winding core The cellulose ester film B-1 was obtained. The film thickness of the cellulose ester film B-1 was 30 μm, and the winding length was 5000 m.

セルロースエステルフィルムB−1において、面内方向の位相差(リタデーションRo)は、3nmであった。なお、上記リタデーションRoは、自動複屈折率計KOBRA−21ADH(王子計測機器(株))を用いて測定した。   In the cellulose ester film B-1, the in-plane direction retardation (retardation Ro) was 3 nm. The retardation Ro was measured using an automatic birefringence meter KOBRA-21ADH (Oji Scientific Instruments).

〈セルロースエステルフィルムB−2、B−3の作製〉
膜厚のみを表1に記載のように変更した以外は、上記と同様の手法によって、セルロースエステルフィルムB−2およびB−3を作製した。
<Production of cellulose ester films B-2 and B-3>
Cellulose ester films B-2 and B-3 were prepared in the same manner as described above except that only the film thickness was changed as shown in Table 1.

(裏面保護フィルムの作製)
〈裏面保護フィルムD−1(アクリルフィルム)の作成〉
ラクトン環単位を含む下記アクリル樹脂の調製を行った。
(Preparation of back surface protection film)
<Creation of back surface protective film D-1 (acrylic film)>
The following acrylic resin containing a lactone ring unit was prepared.

特開2008−9378号公報[0222]〜[0224]の製造例1に従い、メタクリル酸メチル7500g、2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル2500gから合成し、ラクトン化率98%、Tg=134℃のアクリル樹脂を得た。   According to Production Example 1 of JP 2008-9378 A [0222] to [0224], it was synthesized from 7500 g of methyl methacrylate and 2500 g of methyl 2- (hydroxymethyl) acrylate, having a lactonization rate of 98% and Tg = 134 ° C. An acrylic resin was obtained.

調製した前記アクリル樹脂を90℃の真空乾燥機で乾燥して含水率を0.03%以下とした後、安定剤(イルガノックス1010(チバガイギ(株)製)0.3重量%添加し230℃において窒素気流中下、ベント付2軸混練押出し機を用い、水中に押出しストランド状にした後、裁断し直径3mm長さ5mmのペレットを得た。   The prepared acrylic resin is dried with a vacuum dryer at 90 ° C. to make the water content 0.03% or less, and then 0.3% by weight of a stabilizer (Irganox 1010 (manufactured by Ciba Gaigi Co., Ltd.)) is added at 230 ° C. In a nitrogen stream, a biaxial kneading extruder with a vent was used to extrude into water to form a strand, which was then cut to obtain a pellet having a diameter of 3 mm and a length of 5 mm.

これらのペレットを90℃の真空乾燥機で乾燥し含水率を0.03%以下とした後、1軸混練押出し機を用い供給部210℃、圧縮部230℃、計量部230℃で混練し押出した。このとき押し出し機とダイの間に300メッシュのスクリーンフィルター、ギアポンプ、濾過精度7μmのリーフディスクフィルターをこの順に配置し、これらをメルト配管で連結した。さらにスタチックミキサーをダイ直前のメルト配管内に設置した。ダイ両端の温度とダイ中央の温度の差、ダイリップ温度とダイ温度の差温度、C/T比は、所定の条件とした。   These pellets were dried in a vacuum dryer at 90 ° C. to a water content of 0.03% or less, and then kneaded at a supply unit 210 ° C., a compression unit 230 ° C., and a weighing unit 230 ° C. using a single-screw kneading extruder. did. At this time, a 300-mesh screen filter, a gear pump, and a leaf disk filter with a filtration accuracy of 7 μm were arranged in this order between the extruder and the die, and these were connected by a melt pipe. Furthermore, a static mixer was installed in the melt pipe immediately before the die. The difference between the temperature at both ends of the die and the temperature at the center of the die, the difference temperature between the die lip temperature and the die temperature, and the C / T ratio were set to predetermined conditions.

この後、3連のキャストロール上にメルト(溶融樹脂)を押出した。この時、最上流側のキャストロール(チルロール)に所定の面圧でタッチロールを接触させた。タッチロールは特開平11−235747号公報の実施例1に記載のもの(二重抑えロールと記載のあるもの、但し薄肉金属外筒厚みは2mmとした)を用い、所定のタッチ圧、タッチロール温度で使用した。なお、チルロールを含む3連のキャストロールの温度は、上流から順に、タッチロール温度+3℃、タッチロール温度−2℃、タッチロール温度−7℃とした。   Thereafter, a melt (molten resin) was extruded onto a triple cast roll. At this time, the touch roll was brought into contact with the most upstream cast roll (chill roll) at a predetermined surface pressure. A touch roll described in Example 1 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-235747 (the one described as a double holding roll, except that the thickness of the thin metal outer cylinder is 2 mm) is used, and a predetermined touch pressure and touch roll are used. Used at temperature. In addition, the temperature of the triple cast roll containing a chill roll was made into touch roll temperature +3 degreeC, touch roll temperature -2 degreeC, and touch roll temperature -7 degreeC in order from the upstream.

この後、巻き取り直前に両端(全幅の各5cm)をトリミングした後、両端に幅10mm、高さ20μmの厚みだし加工(ナーリング)をつけた。また製膜幅1.5mとし、製膜速度30m/分で3000m巻き取った。フィルムの厚みは30μmとした。   Then, after trimming both ends (5 cm each of the full width) immediately before winding, thicknessing (knurling) with a width of 10 mm and a height of 20 μm was applied to both ends. Further, the film-forming width was 1.5 m, and the film was wound up 3000 m at a film-forming speed of 30 m / min. The thickness of the film was 30 μm.

〈裏面保護フィルムD−2(COPフィルム)の作成〉
〈脂環式構造を有する重合体樹脂の合成〉
エチレン雰囲気下、容量1.6lのオートクレーブに、フェニルノルボルネン濃度が20mol/lで、総液量が640mlとなるように、トルエンとフェニルノルボルネン−トルエン溶液を入れた。次に、メチルアルミノキサン(アルベマール社製、MAO20%トルエン溶液)をAl基準で5.88mmol、メチレン(シクロペンタジエニル)(テトラメチルシクロペンタジエニル)ジルコニウムジクロリド1.5μmolを添加し、エチレンを導入して圧力を0.2MPaに保持しながら、80℃で60分間反応させた。
<Creation of back surface protective film D-2 (COP film)>
<Synthesis of polymer resin having alicyclic structure>
Under an ethylene atmosphere, toluene and a phenylnorbornene-toluene solution were placed in an autoclave having a volume of 1.6 l so that the phenylnorbornene concentration was 20 mol / l and the total liquid volume was 640 ml. Next, 5.88 mmol of methylaluminoxane (manufactured by Albemarle, MAO 20% toluene solution) and 1.5 μmol of methylene (cyclopentadienyl) (tetramethylcyclopentadienyl) zirconium dichloride were added on the basis of Al, and ethylene was introduced. Then, the reaction was carried out at 80 ° C. for 60 minutes while maintaining the pressure at 0.2 MPa.

反応終了後、放冷しながらエチレンを脱圧し、系内を窒素で置換した。その後、吸着水分量を10質量%に調整したシリカ(富士シリシア社製、グレード:G−3粒径:50μm)を3.0g加えて1時間反応させた。その反応液を、濾紙(5C、90mm)とセライト(和光純薬工業社)をセットした加圧ろ過器(アドバンテック東洋株式会社、型式KST−90−UH)に入れ、窒素で加圧ろ過して重合液を回収した。その重合液を5倍量のアセトン中に少量ずつ滴下して析出させ、脂環式構造を有する重合体樹脂COP1を得た。COP1の重量平均分子量は142000であり、またガラス転移温度は140℃であった。   After completion of the reaction, ethylene was depressurized while allowing to cool, and the system was replaced with nitrogen. Thereafter, 3.0 g of silica (made by Fuji Silysia Co., grade: G-3 particle size: 50 μm) whose adsorbed water content was adjusted to 10% by mass was added and reacted for 1 hour. The reaction solution was put into a pressure filter (Advantech Toyo Co., Ltd., model KST-90-UH) set with filter paper (5C, 90 mm) and Celite (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and pressure filtered with nitrogen. The polymerization solution was recovered. The polymerization solution was dropped dropwise in 5 times amount of acetone and deposited to obtain a polymer resin COP1 having an alicyclic structure. COP1 had a weight average molecular weight of 142,000 and a glass transition temperature of 140 ° C.

上記で合成した脂環式構造を有する重合体樹脂COP1を、空気を流通させた熱風乾燥機を用いて70℃で2時間乾燥して水分を除去した後に、65mmφのスクリューを備えた樹脂溶融混練機を有するTダイ式フィルム溶融押し出し成形機(Tダイ幅500mm)を使用し、溶融樹脂温度240℃、Tダイ温度240℃の成形条件にて、膜厚100μmのCOPフィルムを押し出し成形した。   The polymer resin COP1 having an alicyclic structure synthesized above is dried for 2 hours at 70 ° C. using a hot air dryer in which air is circulated to remove moisture, and then resin melt kneaded with a 65 mmφ screw A COP film having a film thickness of 100 μm was extruded using a T-die film melt extrusion molding machine (T-die width 500 mm) having a machine under molding conditions of a molten resin temperature of 240 ° C. and a T-die temperature of 240 ° C.

次いで、剥離したCOPフィルムを、200℃の熱をかけながらテンターを用いて幅手方向に90%延伸した。次いで、乾燥ゾーンを多数のローラで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥温度は130℃で、搬送張力は100N/mとした。乾燥後、1.5m幅にスリットし、フィルム両端に幅10mm、高さ10μmのナーリング加工を施し、ロール状に巻き取り、乾燥膜厚25μmのCOPフィルムD−2を得た。巻長は5000mであった。COPフィルムC-2の位相差については、上記と同様の測定法で測定した結果、リタデーションRoが0nmであった。   Next, the peeled COP film was stretched 90% in the width direction using a tenter while applying heat at 200 ° C. Next, drying was completed while the drying zone was conveyed by a number of rollers. The drying temperature was 130 ° C. and the transport tension was 100 N / m. After drying, it was slit to a width of 1.5 m, a knurling process having a width of 10 mm and a height of 10 μm was applied to both ends of the film, wound into a roll, and a COP film D-2 having a dry film thickness of 25 μm was obtained. The winding length was 5000 m. The retardation of the COP film C-2 was measured by the same measurement method as described above. As a result, the retardation Ro was 0 nm.

(偏光子の作製)
鹸化度99.95モル%、重合度2400のポリビニルアルコール(以下、PVAと略記する)100質量部に、グリセリン10質量部、及び水170質量部を含浸させたものを溶融混練し、脱泡後、Tダイから金属ロール上に溶融押出し、製膜した。その後、乾燥・熱処理して、PVAフィルムを得た。
(Production of polarizer)
100 parts by mass of polyvinyl alcohol (hereinafter abbreviated as PVA) having a saponification degree of 99.95 mol% and a polymerization degree of 2400 was impregnated with 10 parts by mass of glycerin and 170 parts by mass of water. The film was melt-extruded from a T die onto a metal roll to form a film. Then, it dried and heat-processed and obtained the PVA film.

得られたPVAフィルムは、平均厚さが25μm、水分率が4.4%、フィルム幅が3mであった。次に、得られたPVAフィルムを、予備膨潤、染色、湿式法による一軸延伸、固定処理、乾燥、熱処理の順番で、連続的に処理して、偏光子としての偏光膜を作製した。すなわち、PVAフィルムを温度30℃の水中に30秒間浸して予備膨潤し、ヨウ素濃度0.4g/リットル、ヨウ化カリウム濃度40g/リットルの温度35℃の水溶液中に3分間浸した。続いて、ホウ酸濃度4%の50℃の水溶液中でフィルムにかかる張力が700N/mの条件下で、6倍に一軸延伸を行い、ヨウ化カリウム濃度40g/リットル、ホウ酸濃度40g/リットル、塩化亜鉛濃度10g/リットルの温度30℃の水溶液中に5分間浸漬して固定処理を行った。その後、PVAフィルムを取り出し、温度40℃で熱風乾燥し、更に温度100℃で5分間熱処理を行った。得られた偏光膜は、平均厚みが13μm、偏光性能については透過率が43.0%、偏光度が99.5%、2色性比が40.1であった。   The obtained PVA film had an average thickness of 25 μm, a moisture content of 4.4%, and a film width of 3 m. Next, the obtained PVA film was continuously processed in the order of pre-swelling, dyeing, uniaxial stretching by a wet method, fixing treatment, drying, and heat treatment to produce a polarizing film as a polarizer. That is, the PVA film was preliminarily swollen in water at a temperature of 30 ° C. for 30 seconds, and immersed in an aqueous solution having an iodine concentration of 0.4 g / liter and a potassium iodide concentration of 40 g / liter at a temperature of 35 ° C. for 3 minutes. Subsequently, the film was uniaxially stretched 6 times in a 50% aqueous solution with a boric acid concentration of 4% under the condition that the tension applied to the film was 700 N / m, and the potassium iodide concentration was 40 g / liter and the boric acid concentration was 40 g / liter. Then, it was immersed in an aqueous solution having a zinc chloride concentration of 10 g / liter and a temperature of 30 ° C. for 5 minutes for fixing. Thereafter, the PVA film was taken out, dried with hot air at a temperature of 40 ° C., and further heat-treated at a temperature of 100 ° C. for 5 minutes. The obtained polarizing film had an average thickness of 13 μm, a polarizing performance of a transmittance of 43.0%, a polarization degree of 99.5%, and a dichroic ratio of 40.1.

(偏光子へのフィルムの貼合)
下記工程1〜4に従って、偏光膜の表面に保護フィルムを貼り合わせ、偏光膜の裏面に裏面保護フィルムを貼り合わせて偏光板を作製した。
(Lamination of film on polarizer)
According to the following processes 1-4, the protective film was bonded together on the surface of the polarizing film, and the back surface protective film was bonded together on the back surface of the polarizing film, and the polarizing plate was produced.

[工程1]
前述の偏光膜を、固形分2質量%のポリビニルアルコール接着剤溶液の貯留槽中に1〜2秒間浸漬した。
[Process 1]
The aforementioned polarizing film was immersed in a storage tank of a polyvinyl alcohol adhesive solution having a solid content of 2% by mass for 1 to 2 seconds.

[工程2]
セルロースエステルフィルムB−1に対して、下記条件でアルカリ処理を実施した。
(アルカリ処理)
鹸化工程 2.5mol/L−KOH 50℃ 120秒
水洗工程 水 30℃ 60秒
中和工程 10質量部HCl 30℃ 45秒
水洗工程 水 30℃ 60秒
鹸化処理後、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで100℃で乾燥する。
[Process 2]
The alkali treatment was performed on the cellulose ester film B-1 under the following conditions.
(Alkali treatment)
Saponification step 2.5 mol / L-KOH 50 ° C. 120 seconds Water washing step Water 30 ° C. 60 seconds Neutralization step 10 parts by mass HCl 30 ° C. 45 seconds Water washing step Water 30 ° C. 60 seconds After saponification treatment, water washing, neutralization, water washing in this order Followed by drying at 100 ° C.

次いで、工程1で用いたポリビニルアルコール接着剤溶液に偏光膜を浸漬した。浸漬した偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く取り除き、この偏光膜をセルロースエステルフィルムB−1および裏面保護フィルムD−1で挟み込んで、積層配置した。   Next, the polarizing film was immersed in the polyvinyl alcohol adhesive solution used in Step 1. Excess adhesive adhered to the immersed polarizing film was lightly removed, and this polarizing film was sandwiched between the cellulose ester film B-1 and the back surface protective film D-1, and laminated.

[工程3]
積層物を、2つの回転するローラにて、20〜30N/cm2の圧力で約2m/minの速度で貼り合わせた。このとき、気泡が入らないように注意した。
[Process 3]
The laminate was bonded with a rotating roller at a pressure of 20 to 30 N / cm 2 and a speed of about 2 m / min. At this time, care was taken to prevent bubbles from entering.

[工程4]
工程3で作製した試料を、温度100℃の乾燥機中にて5分間乾燥処理し、ロール状の偏光板を作製した。
[Process 4]
The sample prepared in Step 3 was dried in a dryer at a temperature of 100 ° C. for 5 minutes to prepare a roll-shaped polarizing plate.

セルロースエステルフィルムB−2、B−3についても上記と同様の条件でアルカリ処理を実施した後、偏光膜の表面に貼り付け、偏光膜の裏面に裏面保護フィルムD−1またはD−2を貼り付けた。   Cellulose ester films B-2 and B-3 were also subjected to alkali treatment under the same conditions as described above, and then applied to the surface of the polarizing film, and the back surface protective film D-1 or D-2 was applied to the back surface of the polarizing film. I attached.

また、比較として、偏光膜の両面にアクリル樹脂からなる光学フィルムを貼り合わせて偏光板を作製した。   For comparison, an optical film made of an acrylic resin was bonded to both surfaces of the polarizing film to produce a polarizing plate.

<タッチパネル付き表示装置の組み立て>
飛散防止フィルムの偏光板に対する貼り合わせ角度が表1に記載の角度となるように、タッチパネルの電極層側と、液晶表示装置の偏光板側とを、粘着剤層を介して貼り合わせ、タッチパネル付きの液晶表示装置を構成した。
<Assembly of display device with touch panel>
With the touch panel, the electrode layer side of the touch panel and the polarizing plate side of the liquid crystal display device are bonded via an adhesive layer so that the bonding angle of the anti-scattering film to the polarizing plate is the angle shown in Table 1. A liquid crystal display device was constructed.

より具体的には、液晶表示装置の偏光板の保護フィルムの表面に、粘着剤として、ソニーケミカル&インフォメーションデバイス社製のSVR1240を塗布し、塗布した粘着剤を介して、液晶表示装置とタッチパネルとを貼り合わせた。そして、粘着剤の一部分に紫外線を照射して両者を仮固定した。その後、界面に気泡が生じていないか検査した後、粘着剤の全体に紫外線を照射して完全に硬化させた。   More specifically, SVR1240 manufactured by Sony Chemical & Information Device Co. is applied as an adhesive to the surface of the protective film of the polarizing plate of the liquid crystal display device, and the liquid crystal display device and the touch panel are applied via the applied adhesive. Were pasted together. And both ultraviolet rays were irradiated to some adhesives, and both were temporarily fixed. Then, after inspecting for bubbles at the interface, the entire pressure-sensitive adhesive was completely cured by irradiation with ultraviolet rays.

実施例1〜6、比較例1〜4に係るタッチパネル付きの液晶表示装置における、飛散防止フィルム、導電層、(表面)保護フィルム、裏面保護フィルムの組み合わせは、表1に記載の通りである。   The combinations of the anti-scattering film, the conductive layer, the (surface) protective film, and the back surface protective film in the liquid crystal display devices with touch panels according to Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4 are as shown in Table 1.

なお、飛散防止フィルムの偏光板に対する貼り合わせ角度は、偏光子(偏光膜)の光学軸(透過軸)と、飛散防止フィルムの遅相軸とのなす角度である。このときの飛散防止フィルムの遅相軸の方向は、アッベ屈折率計(1T)により、温度23℃、相対湿度55%RHの環境下、光波長590nmでの試料の面内の平均屈折率を測定して求めた。   The bonding angle of the scattering prevention film to the polarizing plate is an angle formed by the optical axis (transmission axis) of the polarizer (polarizing film) and the slow axis of the scattering prevention film. At this time, the direction of the slow axis of the anti-scattering film is determined by the Abbe refractometer (1T) as the average refractive index within the surface of the sample at an optical wavelength of 590 nm in an environment of temperature 23 ° C. and relative humidity 55% RH. Determined by measurement.

また、自動複屈折率計KOBRA−21ADH(王子計測機器(株))を用いて、飛散防止フィルムの面内方向におけるリタデーションRoの値を測定した結果を、表1に併せて示す。なお、フィルムの面内方向におけるリタデーションRo(nm)は、以下の式によって求められる。
Ro=(nx−ny)×d
ただし、dはフィルムの厚さ(nm)、nxは遅相軸方向の屈折率、nyはフィルム面内で遅相軸に直角な方向の屈折率、である。
Moreover, the result of having measured the value of the retardation Ro in the in-plane direction of a scattering prevention film using automatic birefringence meter KOBRA-21ADH (Oji Scientific Instruments Co., Ltd.) is shown together in Table 1. In addition, the retardation Ro (nm) in the in-plane direction of a film is calculated | required by the following formula | equation.
Ro = (nx−ny) × d
Where d is the thickness (nm) of the film, nx is the refractive index in the slow axis direction, and ny is the refractive index in the direction perpendicular to the slow axis in the film plane.

<タッチパネル付き表示装置の評価>
(1)粘着剤層の剥がれの評価
作製したタッチパネル付きの液晶表示装置に対して、相対湿度50%RHの環境下で、−20℃から80℃までの温度変化を30分間隔で200サイクル実施した。取り出した液晶表示装置のタッチパネルモジュールと液晶表示パネルと間の粘着剤層の貼合箇所の変化を目視にて観察した。このときの評価基準は以下の通りである。
○:変化なし(粘着剤層の剥がれなし)。
△:粘着剤層のエッジが僅かに剥がれている。
×:粘着剤層のエッジ以外も剥がれている。
<Evaluation of display device with touch panel>
(1) Evaluation of Peeling of Adhesive Layer 200 cycles of temperature change from -20 ° C to 80 ° C were performed in an environment with a relative humidity of 50% RH for a liquid crystal display device with a touch panel. did. The change of the bonding location of the adhesive layer between the taken out touch panel module of the liquid crystal display device and the liquid crystal display panel was visually observed. The evaluation criteria at this time are as follows.
○: No change (no peeling of adhesive layer).
(Triangle | delta): The edge of the adhesive layer has peeled slightly.
X: Other than the edge of the adhesive layer is peeled off.

(2)ノイズの評価
液晶表示装置の画像表示時、つまり、TFTのON/OFF時の電気的ノイズによるタッチパネルの誤動作の発生を調べた。このときの評価基準は以下の通りである。
○:タッチパネルから誤動作による信号が検出されなかった。
×:タッチパネルから誤動作による信号が検出された。
(2) Evaluation of noise The occurrence of malfunction of the touch panel due to electrical noise at the time of image display of the liquid crystal display device, that is, when the TFT was turned on / off was examined. The evaluation criteria at this time are as follows.
○: No signal due to malfunction was detected from the touch panel.
X: A signal due to a malfunction was detected from the touch panel.

(3)干渉の評価
60℃90%の条件でタッチパネル付きの液晶表示装置を連続100時間点灯した時の表示パネルの干渉の有無を目視で確認した。このときの評価基準は以下の通りである。
○:干渉が見えない。
△:干渉がわずかに見える。
×:干渉が見える。
(3) Evaluation of interference The presence or absence of interference of the display panel when the liquid crystal display device with a touch panel was continuously lit for 100 hours under the condition of 60 ° C. and 90% was visually confirmed. The evaluation criteria at this time are as follows.
○: Interference is not visible.
Δ: Slight interference is visible.
X: Interference is visible.

(4)偏光サングラスによる視認性の評価
偏光サングラスをかけてタッチパネル付きの液晶表示装置を観察し、表示画像の色味の変化を調べた。このときの評価基準は以下の通りである。
○:表示画像の色みの変化がない。
△:角度による表示画像の色みの変化がわずかに生じる。
×:角度による表示画像の色みの変化が生じる。
(4) Evaluation of visibility with polarized sunglasses The liquid crystal display device with a touch panel was observed with polarized sunglasses, and the change in the color of the display image was examined. The evaluation criteria at this time are as follows.
○: No change in color of the displayed image.
Δ: A slight change in the color of the display image due to the angle occurs.
X: The change of the color of the display image by an angle arises.

(5)厚み
飛散防止フィルムおよび偏光板の保護フィルムの膜厚を、以下の基準で評価した。
○:飛散防止フィルムの膜厚が66μm以下で、かつ、保護フィルムの膜厚が30μm以下である。
×:飛散防止フィルムの膜厚が66μm以下、保護フィルムの膜厚が30μm以下の少なくとも一方の条件を満足しない。
(5) Thickness The film thickness of the anti-scattering film and the protective film for the polarizing plate was evaluated according to the following criteria.
○: The film thickness of the scattering prevention film is 66 μm or less, and the film thickness of the protective film is 30 μm or less.
X: The film thickness of the anti-scattering film is 66 μm or less, and the film thickness of the protective film does not satisfy at least one of the conditions.

[評価結果]
実施例1〜6および比較例1〜4の評価の結果を表2に示す。
[Evaluation results]
The evaluation results of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 4 are shown in Table 2.

Figure 2014065000
Figure 2014065000

実施例1〜6および比較例1の結果より、タッチパネルの飛散防止フィルム上に導電層(電磁波シールド層)を設けることで、タッチパネルの誤作動を防止できていることがわかる。これは、飛散防止フィルム上に導電層を設けることにより、液晶表示パネルのTFTからの電気的ノイズが上記導電層で遮断されることによるものと考えられる。   From the results of Examples 1 to 6 and Comparative Example 1, it can be seen that the malfunction of the touch panel can be prevented by providing the conductive layer (electromagnetic wave shield layer) on the anti-scattering film of the touch panel. This is considered to be because electrical noise from the TFT of the liquid crystal display panel is blocked by the conductive layer by providing the conductive layer on the scattering prevention film.

また、実施例1〜6および比較例1〜2の結果より、飛散防止フィルムおよび偏光板の保護フィルムが、両方とも、透湿性の高いセルロースエステルフィルムを含むことで、粘着剤層の剥がれを抑制できていることがわかる。これは、表示装置内部の水分が透湿性の高い飛散防止フィルムおよび保護フィルムによって、粘着剤層の両側(タッチパネル側および液晶表示パネル側)で吸湿されるので、導電層と粘着剤層との間に水分が溜まらないようになり、これによって上記水分による粘着剤層の剥がれが抑制できているものと思われる。   Moreover, from the results of Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2, the anti-scattering film and the protective film for the polarizing plate both contain a highly moisture-permeable cellulose ester film, thereby suppressing peeling of the pressure-sensitive adhesive layer. You can see that it is made. This is because the moisture inside the display device is absorbed by both sides of the pressure-sensitive adhesive layer (touch panel side and liquid crystal display panel side) by the highly moisture-permeable scattering prevention film and the protective film, and therefore between the conductive layer and the pressure-sensitive adhesive layer. It seems that moisture does not accumulate in the adhesive layer, and this prevents the adhesive layer from peeling off due to the moisture.

また、比較例1、3および4では、保護フィルムの膜厚が30μmを超えており、さらに比較例3および4では、飛散防止フィルムの膜厚も66μmを超えているため、タッチパネル付きの液晶表示装置全体の薄型化に貢献できているとは必ずしも言えない。   Further, in Comparative Examples 1, 3 and 4, the protective film thickness exceeds 30 μm, and in Comparative Examples 3 and 4, the scattering prevention film thickness exceeds 66 μm. It cannot be said that it contributes to the thinning of the entire apparatus.

したがって、実施例1〜6の構成によれば、タッチパネルの飛散防止フィルムを、厚さ66μm以下のセルロースエステルフィルムを含んで構成し、この飛散防止フィルム上に電極層を設け、偏光板の保護フィルムを、厚さ30μm以下のセルロースエステルフィルムを含んで構成することで、薄型の構成でありながら、TFTの電気的ノイズによるタッチパネルの誤作動を防止できるともに、表示装置内部の水分に起因して粘着剤層が剥がれるのを抑制することができる。また、飛散防止フィルムのセルロースエステルフィルム、および保護フィルムのセルロースエステルフィルムは、両方とも膜厚が20μm以上であるため、飛散防止機能および偏光板の表面保護機能をそれぞれ確実に担保しながら、上記の効果を得ることができる。   Therefore, according to the structure of Examples 1-6, the scattering prevention film of a touchscreen is comprised including a cellulose ester film with a thickness of 66 micrometers or less, an electrode layer is provided on this scattering prevention film, and the protective film of a polarizing plate By including a cellulose ester film with a thickness of 30 μm or less, it is possible to prevent malfunction of the touch panel due to the electrical noise of the TFT, while being a thin structure, and to adhere due to moisture inside the display device It can suppress that an agent layer peels. In addition, since both the cellulose ester film of the anti-scattering film and the cellulose ester film of the protective film have a film thickness of 20 μm or more, the above-mentioned anti-scattering function and the surface protective function of the polarizing plate are reliably secured, An effect can be obtained.

また、実施例1、4および5では、飛散防止フィルムのセルロースエステルフィルムは、セルローストリアセテートフィルム(CE−1)で構成されており、その面内方向におけるリタデーションRoは0nm〜10nmとなっている。このように実施例1、4、5では、セルロースエステルフィルムのリタデーションRoが小さいため、連続表示のときであっても、フィルムの位相差に起因する干渉を低減することができる。また、実施例2、3および6では、飛散防止フィルムのセルロースエステルフィルムは、セルロースジアセテートフィルム(CE−2)で構成されており、その面内方向におけるリタデーションRoは30nm〜200nmとなり、偏光子に対する飛散防止フィルムの貼り合わせ角度を10°〜80°としている。このような構成により、表示装置の外側の偏光子を透過した直線偏光を楕円偏光に変換することができる為、偏光サングラスを装着した際の視認性が改善される。   Moreover, in Examples 1, 4, and 5, the cellulose ester film of the anti-scattering film is composed of a cellulose triacetate film (CE-1), and the retardation Ro in the in-plane direction is 0 nm to 10 nm. Thus, in Examples 1, 4, and 5, since the retardation Ro of the cellulose ester film is small, interference caused by the phase difference of the film can be reduced even during continuous display. In Examples 2, 3, and 6, the cellulose ester film of the anti-scattering film is composed of a cellulose diacetate film (CE-2), and the retardation Ro in the in-plane direction is 30 nm to 200 nm. The scattering angle of the anti-scattering film is 10 ° to 80 °. With such a configuration, linearly polarized light transmitted through the polarizer on the outside of the display device can be converted into elliptically polarized light, so that the visibility when wearing polarized sunglasses is improved.

本発明は、ガラス基板上に電極層を有するタッチパネルと、表示パネル上に偏光板を有する表示装置とを、粘着剤層を介して貼り合わせたタッチパネル付き表示装置に利用可能である。   INDUSTRIAL APPLICATION This invention can be utilized for the display apparatus with a touch panel which bonded together the touch panel which has an electrode layer on a glass substrate, and the display apparatus which has a polarizing plate on a display panel through the adhesive layer.

1 表示パネル
2 偏光板
3 偏光子
4 フィルム
4a フィルム基材(保護フィルム)
4b ハードコート層
5 フィルム(光学フィルム)
10 表示装置
20 タッチパネル
21 ガラス基板
22 第1電極パターン(電極層)
24 第2電極パターン(電極層)
25 飛散防止フィルム
26 電磁波シールド層
30 粘着剤層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Display panel 2 Polarizing plate 3 Polarizer 4 Film 4a Film base material (protective film)
4b Hard coat layer 5 Film (optical film)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Display apparatus 20 Touch panel 21 Glass substrate 22 1st electrode pattern (electrode layer)
24 Second electrode pattern (electrode layer)
25 Anti-scattering film 26 Electromagnetic wave shield layer 30 Adhesive layer

Claims (8)

ガラス基板上に電極層を有するタッチパネルの前記電極層側と、表示パネル上に偏光板を有する表示装置の前記偏光板側とを、粘着剤層を介して貼り合わせたタッチパネル付き表示装置であって、
前記偏光板は、偏光子と、前記偏光子の前記タッチパネル側の表面を保護するための保護フィルムとを備えており、
前記タッチパネルは、前記電極層上に、前記ガラス基板の飛散を防止するための飛散防止フィルムと、前記表示装置からの電気的ノイズを遮断するための電磁波シールド層とを備えており、
前記保護フィルムは、厚さ20〜30μmのセルロースエステルフィルムであり、
前記飛散防止フィルムは、厚さ20〜66μmのセルロースエステルフィルムであることを特徴とするタッチパネル付き表示装置。
A display device with a touch panel in which the electrode layer side of a touch panel having an electrode layer on a glass substrate and the polarizing plate side of a display device having a polarizing plate on a display panel are bonded via an adhesive layer. ,
The polarizing plate includes a polarizer and a protective film for protecting the surface of the polarizer on the touch panel side,
The touch panel includes, on the electrode layer, a scattering prevention film for preventing scattering of the glass substrate, and an electromagnetic wave shielding layer for blocking electrical noise from the display device,
The protective film is a cellulose ester film having a thickness of 20 to 30 μm,
The display device with a touch panel, wherein the scattering prevention film is a cellulose ester film having a thickness of 20 to 66 μm.
前記飛散防止フィルムは、面内方向におけるリタデーションRoが0nm〜10nmであることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル付き表示装置。   The display device with a touch panel according to claim 1, wherein the scattering prevention film has a retardation Ro in an in-plane direction of 0 nm to 10 nm. 前記飛散防止フィルムは、面内方向におけるリタデーションRoが30nm〜200nmであり、前記偏光子の透過軸に対して前記飛散防止フィルムの遅相軸が10〜80°の方向となるように配置されることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル付き表示装置。   The scattering prevention film has a retardation Ro in the in-plane direction of 30 nm to 200 nm, and is arranged so that the slow axis of the scattering prevention film is in the direction of 10 to 80 ° with respect to the transmission axis of the polarizer. The display device with a touch panel according to claim 1. 前記偏光板は、前記保護フィルム上にハードコート層を有することを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載のタッチパネル付き表示装置。   The display device with a touch panel according to claim 1, wherein the polarizing plate has a hard coat layer on the protective film. 前記電磁波シールド層は、銀ナノワイヤーで構成されていることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のタッチパネル付き表示装置。   The display device with a touch panel according to claim 1, wherein the electromagnetic wave shielding layer is composed of silver nanowires. 前記電磁波シールド層は、カーボンナノチューブで構成されていることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のタッチパネル付き表示装置。   The display device with a touch panel according to claim 1, wherein the electromagnetic wave shielding layer is made of carbon nanotubes. 前記電磁波シールド層は、導電性ポリマーで構成されていることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のタッチパネル付き表示装置。   The display device with a touch panel according to claim 1, wherein the electromagnetic wave shielding layer is made of a conductive polymer. 前記偏光板は、前記偏光子に対して前記タッチパネルとは反対側に、透湿度が200g/m2/24h以下の光学フィルムを有していることを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載のタッチパネル付き表示装置。The polarizing plate, on the side opposite to the touch panel with respect to the polarizer, any one of claims 1 to 7, characterized in that the moisture permeability has the following optical film 200g / m 2 / 24h A display device with a touch panel as described in 1.
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103984460B (en) * 2014-05-23 2016-09-07 山东华芯富创电子科技有限公司 A kind of touch-control screen structure and preparation method thereof
JP2016071229A (en) * 2014-09-30 2016-05-09 大日本印刷株式会社 Optical film and manufacturing method of optical film, and image display device
CN106201039B (en) * 2015-04-30 2023-05-23 安徽精卓光显技术有限责任公司 Touch screen and protective film
JP2017220033A (en) * 2016-06-07 2017-12-14 コニカミノルタ株式会社 Transparent planar device and method for producing transparent planar device
KR102567855B1 (en) * 2017-05-31 2023-08-16 니폰 제온 가부시키가이샤 Touch sensor substrate and method for manufacturing the same, touch sensor member and method for manufacturing the same, and display device
JP7093237B2 (en) * 2018-06-14 2022-06-29 日東電工株式会社 An optical laminate with a touch sensor layer, an image display device, and a method for manufacturing the optical laminate.
WO2021221669A1 (en) 2020-04-30 2021-11-04 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Digital pen sensor surface
CN112971725B (en) * 2021-02-10 2023-12-26 武汉理工大学 Preparation of electromagnetic radiation resistant nanocellulose/silver nanowire flexible sensor
EP4160281A4 (en) 2021-07-04 2024-01-24 Beijing Zenithnano Technology Co., Ltd. Polaroid, touch-control liquid crystal panel and touch-control liquid crystal display module
CN113376728A (en) * 2021-07-04 2021-09-10 北京载诚科技有限公司 Polaroid, touch liquid crystal panel and touch liquid crystal display module

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004086328A (en) * 2002-08-23 2004-03-18 Fuji Photo Film Co Ltd Touch panel, its manufacturing method, and display device with touch panel
JP2011186717A (en) * 2010-03-08 2011-09-22 Daiwa Sangyo:Kk Capacitive touch panel and method of manufacturing the same
JP2012079238A (en) * 2010-10-05 2012-04-19 Fujifilm Corp Sensor electrode array, usage of sensor electrode array, and electrostatic capacity type touch panel

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006110988A (en) * 2004-09-14 2006-04-27 Fuji Photo Film Co Ltd Plastic film and image display device
JP2009216750A (en) * 2008-03-07 2009-09-24 Konica Minolta Opto Inc Hard coat film
JP5158132B2 (en) * 2010-05-25 2013-03-06 コニカミノルタホールディングス株式会社 Cellulose ester film, long retardation film, optical film and production method thereof, and polarizing plate and display device using them
JP5303614B2 (en) * 2011-07-20 2013-10-02 日東電工株式会社 Transparent conductive film with pressure-sensitive adhesive layer and manufacturing method thereof, transparent conductive laminate and touch panel

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004086328A (en) * 2002-08-23 2004-03-18 Fuji Photo Film Co Ltd Touch panel, its manufacturing method, and display device with touch panel
JP2011186717A (en) * 2010-03-08 2011-09-22 Daiwa Sangyo:Kk Capacitive touch panel and method of manufacturing the same
JP2012079238A (en) * 2010-10-05 2012-04-19 Fujifilm Corp Sensor electrode array, usage of sensor electrode array, and electrostatic capacity type touch panel

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