JPWO2008120365A1 - Organic EL panel and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

隔壁(4)によって電極パターンを形成する有機ELパネルの薄型化、長寿命化を図るために、基板(1)の一面を含めて、第1電極(2),隔壁(4),有機層(5),及び第2電極(6)を被覆する被覆膜(7,70,71)を備え、被覆膜を形成する被覆材を吸湿剤とアモルファス状の有機材料とからなるものとし、被覆膜を少なくとも隔壁の側面の一部に接触するように形成する。In order to reduce the thickness and extend the life of the organic EL panel in which the electrode pattern is formed by the partition wall (4), the first electrode (2), the partition wall (4), the organic layer (including the one surface of the substrate (1)) 5) and a coating film (7, 70, 71) covering the second electrode (6), and the coating material forming the coating film is made of a hygroscopic agent and an amorphous organic material, The covering film is formed so as to contact at least a part of the side surface of the partition wall.

Description

本発明は、有機ELパネル及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to an organic EL panel and a method for manufacturing the same.

有機ELパネルは、例えば携帯電話の表示画面,車載用或いは家庭用電子機器のモニタ画面,パーソナルコンピュータやテレビジョン受像装置の情報表示画面,宣伝用点灯パネル等に用いられる各種表示装置として、スキャナやプリンタ等に用いられる各種光源として、一般照明や液晶表示装置のバックライト等に用いられる照明装置として、或いは、光電変換機能を利用した光通信用デバイスとして、各種用途に利用可能な自発光パネルである。   Organic EL panels are, for example, scanners, display screens for mobile phones, monitor screens for in-vehicle or household electronic devices, information display screens for personal computers and television receivers, advertising lighting panels, etc. A self-luminous panel that can be used for various purposes as various light sources used in printers, as illumination devices used in general illumination, backlights of liquid crystal display devices, etc., or as optical communication devices using photoelectric conversion functions. is there.

この有機ELパネルは、有機EL素子からなる単数又は複数の発光部(画素)を備えており、各発光部を点灯又は非点灯駆動することで、所望の情報を表示する表示装置、各種光源或いは照明装置として機能することができる。発光部(画素)の形態としては、複数個ドットマトリスク状に配列されたもの、アイコン部(固定表示部)を形成するもの等があり、パネルの大きさは用途に応じて大小様々に形成することができる。   The organic EL panel includes one or a plurality of light emitting units (pixels) made of organic EL elements, and each light emitting unit is turned on or off to display desired information, various light sources, It can function as a lighting device. As the form of the light emitting part (pixel), there are a plurality of dots arranged in a matrix shape, a part forming an icon part (fixed display part), etc. The size of the panel can be formed in various sizes depending on the application. can do.

このような有機ELパネルにおいては、有機EL素子を構成する有機層及び電極が大気中の水分や酸素に曝されると、素子の発光特性劣化を招くことから、有機EL素子を外気から遮断する封止手段を設けることが現状の開発段階では不可欠になっている。   In such an organic EL panel, when the organic layer and the electrodes constituting the organic EL element are exposed to moisture and oxygen in the atmosphere, the light emission characteristics of the element are deteriorated, so that the organic EL element is shielded from the outside air. Providing sealing means is indispensable at the present development stage.

有機ELパネルの封止構造としては、金属製又はガラス製の封止部材と有機EL素子が形成された基板とを貼り合わせて、有機EL素子の周囲に乾燥剤を配備できる封止空間を形成する構造が一般に採用されている。また、パネルの更なる薄型化や基板上の有機EL素子に対して基板と逆側から光を取り出すトップエミッション方式の採用が検討されるようになり、基板上の有機EL素子を直接封止材料で被覆する固体封止構造が検討されている。   As a sealing structure of the organic EL panel, a metal or glass sealing member and a substrate on which the organic EL element is formed are bonded together to form a sealing space in which a desiccant can be disposed around the organic EL element. In general, a structure is adopted. In addition, further thinning of the panel and adoption of a top emission system that extracts light from the opposite side of the substrate with respect to the organic EL device on the substrate have been studied, and the organic EL device on the substrate is directly sealed A solid sealing structure coated with is being studied.

下記特許文献1には、隔壁で区画された有機EL素子に対して、有機EL素子の層状物の最大厚さになる隔壁を覆うように保護膜を形成し、その保護膜の厚さを隔壁の厚さ以上に形成することが記載されている。
特許第3405335号
In the following Patent Document 1, a protective film is formed on an organic EL element partitioned by a partition so as to cover the partition that has the maximum thickness of the layered material of the organic EL element, and the thickness of the protective film is defined as the partition. It is described that the film is formed to have a thickness equal to or greater than that.
Japanese Patent No. 3405335

有機ELパネルの駆動方式としては、パッシブ駆動方式とアクディブ駆動方式が知られている。パッシブ駆動方式は、基板上にストライプ状に形成された複数の第1電極と、これと交差するようにストライプ状に形成された複数の第2電極とを備え、第1電極と第2電極との交差部分に、第1電極と第2電極によって有機層を挟持する有機EL素子を形成して、第1電極と第2電極の選択によって、特定される有機EL素子を点灯駆動するものである。   As a driving method of the organic EL panel, a passive driving method and an active driving method are known. The passive drive system includes a plurality of first electrodes formed in a stripe shape on a substrate, and a plurality of second electrodes formed in a stripe shape so as to intersect with the first electrodes, the first electrode, the second electrode, An organic EL element that sandwiches the organic layer between the first electrode and the second electrode is formed at the intersection of the two, and the specified organic EL element is driven to light by selecting the first electrode and the second electrode. .

このパッシブマトリクス方式では、第1電極の発光部を形成する一部分を露出させて他の部分を覆うように、基板及び第1電極上に電気絶縁性の絶縁膜を形成し、この絶縁膜上に第1電極と交差する方向に並列して略逆台形状の断面を有する隔壁を形成して、この隔壁間を成膜することで、第1電極と交差するストライプパターンを有する有機層及び第2電極を形成している。   In this passive matrix method, an electrically insulating insulating film is formed on the substrate and the first electrode so as to expose a part of the light emitting portion of the first electrode and cover the other part, and on the insulating film. A partition having a substantially inverted trapezoidal cross section is formed in parallel with the direction intersecting the first electrode, and an organic layer having a stripe pattern intersecting the first electrode and the second are formed by forming a film between the partitions. An electrode is formed.

これによると、隔壁断面を略逆台形状にすることで、隔壁上部に形成される成膜層と隔壁間に形成される成膜層との連続性を絶ち、隔壁間にストライプ状に形成される複数の第2電極相互を電気的に絶縁することができる。   According to this, by making the cross section of the partition wall into a substantially inverted trapezoidal shape, the continuity between the film formation layer formed on the upper part of the partition wall and the film formation layer formed between the partition walls is cut off, and a stripe shape is formed between the partition walls. The plurality of second electrodes can be electrically insulated from each other.

しかしながら、隔壁はウエットプロセスを含むフォトリソグラフィでパターン形成される樹脂成形体であるから、素子形成後に有機EL素子に悪影響を及ぼすアウトガスを発生することがある。この場合に、従来技術のような被覆膜を設けたとしても、隔壁から発生したアウトガスは被覆膜を介して有機EL素子の構成要素に到達してしまい、有機EL素子の発光特性劣化を招く問題が生じる。   However, since the partition wall is a resin molding that is patterned by photolithography including a wet process, outgas may be generated that adversely affects the organic EL element after the element is formed. In this case, even if a coating film as in the prior art is provided, the outgas generated from the partition wall reaches the constituent elements of the organic EL element through the coating film, and the emission characteristics of the organic EL element deteriorate. Inviting problems arise.

一方、このような隔壁を備えた有機ELパネルにおいて、前述した従来技術を採用して、有機EL素子を直接覆う固体封止構造を形成すると、有機EL素子を覆う被覆膜を成膜する際に略逆台形状の隔壁が傘の作用をして、隔壁の側面周辺には被覆材が行き届かない空洞部分が形成されてしまう。特に蒸着プロセスで被覆膜を成膜する場合には、蒸着流の陰になる隔壁の側面には蒸着流が行き届かない部分が形成され、前述した空洞部分が顕著に現れることになる。   On the other hand, when an organic EL panel provided with such a partition adopts the above-described conventional technique to form a solid sealing structure that directly covers the organic EL element, a coating film that covers the organic EL element is formed. In addition, the substantially inverted trapezoidal partition acts as an umbrella, and a cavity is formed around the side surface of the partition where the coating material cannot reach. In particular, when a coating film is formed by a vapor deposition process, a portion where the vapor deposition flow does not reach is formed on the side face of the partition wall which is behind the vapor deposition flow, and the above-mentioned cavity portion appears remarkably.

そして、このような空洞部分が隔壁の側面周辺に存在すると、隔壁から発生したアウトガスがこの空洞部に溜まることになり、周辺に形成されている有機EL素子の電極或いは有機層に悪影響を及ぼすという問題が生じる。   If such a hollow portion exists around the side wall of the partition wall, outgas generated from the partition wall accumulates in the cavity portion, which adversely affects the electrodes or organic layers of the organic EL elements formed in the periphery. Problems arise.

本発明は、このような問題に対処することを課題の一例とするものである。すなわち、隔壁によって電極パターンを形成する有機ELパネルにおいて、隔壁から発生するアウトガスの影響を効果的に排除して、このアウトガスによる発光特性劣化を防止すること、有機EL素子を直接覆う被覆膜を有効に機能させ、有機ELパネルの薄型化を達成すること、その場合にも顕著な有機EL素子の発光特性劣化を防いで、有機ELパネルの長寿命化を達成すること、等が本発明の目的である。   This invention makes it an example of a subject to cope with such a problem. That is, in the organic EL panel in which the electrode pattern is formed by the partition walls, the influence of the outgas generated from the partition walls is effectively eliminated, the deterioration of the light emission characteristics due to the outgas is prevented, and the coating film that directly covers the organic EL element is formed. It is effective to achieve thinning of the organic EL panel, to achieve a long life of the organic EL panel by preventing the remarkable deterioration of the light emitting characteristics of the organic EL element in that case, and the like. Is the purpose.

このような目的を達成するために、本発明による有機ELパネル及びその製造方法は、以下の各独立請求項に係る構成を少なくとも具備するものである。   In order to achieve such an object, the organic EL panel and the manufacturing method thereof according to the present invention include at least the configurations according to the following independent claims.

[請求項1]有機EL素子からなる発光部を備えた有機ELパネルであって、基板と、該基板上に並列して形成された複数の第1電極と、該第1電極上の前記発光部を形成する一部分を露出させて他の部分を覆うことで前記複数の第1電極間を電気的に絶縁する絶縁膜と、該絶縁膜上に前記第1電極と交差するように並列して形成され、略逆台形状の断面を有する複数の隔壁と、少なくとも前記第1電極上に形成された有機層と、該有機層上に前記第1電極と交差するように並列して形成された第2電極と、前記基板の一面を含めて、前記第1電極,前記隔壁,前記有機層,及び前記第2電極を被覆する被覆膜とを備え、前記被覆膜を形成する被覆材は、吸湿剤とアモルファス状の有機材料とからなり、前記被覆膜は、少なくとも前記隔壁の側面の一部に接触していることを特徴とする有機ELパネル。   [Claim 1] An organic EL panel provided with a light emitting portion made of an organic EL element, a substrate, a plurality of first electrodes formed in parallel on the substrate, and the light emission on the first electrode An insulating film that electrically insulates between the plurality of first electrodes by exposing a part forming the part and covering the other part, and in parallel so as to intersect the first electrode on the insulating film A plurality of partition walls having a substantially inverted trapezoidal cross section, an organic layer formed on at least the first electrode, and formed in parallel on the organic layer so as to intersect the first electrode A coating material that includes the second electrode and a coating film that covers the first electrode, the partition, the organic layer, and the second electrode, including one surface of the substrate, and that forms the coating film, , Composed of a hygroscopic agent and an amorphous organic material, and the coating film is at least of the partition wall The organic EL panel, characterized in that in contact with the portion of the surface.

[請求項4]有機EL素子からなる発光部を備えた有機ELパネルであって、基板と、該基板上に並列して形成された複数の第1電極と、該第1電極上の前記発光部を形成する一部分を露出させて他の部分を覆うことで前記複数の第1電極間を電気的に絶縁する絶縁膜と、該絶縁膜上に前記第1電極と交差するように並列して形成され、略逆台形状の断面を有する複数の隔壁と、少なくとも前記第1電極上に形成された有機層と、該有機層上に前記第1電極と交差するように並列して形成された第2電極と、前記基板の一面を含めて、前記第1電極,前記隔壁,前記有機層,及び前記第2電極を被覆する被覆膜とを備え、前記被覆膜を形成する被覆材は、吸湿剤とアモルファス状の有機材料とからなり、前記被覆膜は、前記隔壁の側面全体を覆うように加圧変形された膜変形部分を有し、前記被覆膜上に前記有機EL素子を封止する封止空間を形成する封止手段を備えることを特徴とする有機ELパネル。   [Claim 4] An organic EL panel provided with a light emitting portion comprising an organic EL element, a substrate, a plurality of first electrodes formed in parallel on the substrate, and the light emission on the first electrode An insulating film that electrically insulates between the plurality of first electrodes by exposing a part forming the part and covering the other part, and in parallel so as to intersect the first electrode on the insulating film A plurality of partition walls having a substantially inverted trapezoidal cross section, an organic layer formed on at least the first electrode, and formed in parallel on the organic layer so as to intersect the first electrode A coating material that includes the second electrode and a coating film that covers the first electrode, the partition, the organic layer, and the second electrode, including one surface of the substrate, and that forms the coating film, , Composed of a hygroscopic agent and an amorphous organic material, and the coating film covers the entire side surface of the partition wall. Has a pressure deformation membrane deformed portion Migihitsuji, organic EL panel, characterized in that it comprises a sealing means for forming a sealed space for sealing the organic EL element on said coating layer.

[請求項5]有機EL素子からなる発光部を備えた有機ELパネルであって、基板と、該基板上に並列して形成された複数の第1電極と、該第1電極上の前記発光部を形成する一部分を露出させて他の部分を覆うことで前記複数の第1電極間を電気的に絶縁する絶縁膜と、該絶縁膜上に前記第1電極と交差するように並列して形成され、略逆台形状の断面を有する複数の隔壁と、少なくとも前記第1電極上に形成された有機層と、該有機層上に前記第1電極と交差するように並列して形成された第2電極と、前記基板の一面を含めて、前記第1電極,前記隔壁,前記有機層,及び前記第2電極を被覆する被覆膜とを備え、前記被覆膜を形成する被覆材は、吸湿剤とアモルファス状の有機材料とからなり、前記被覆膜は、前記隔壁の側面全体を覆うように加圧変形された膜変形部分を有し、前記被覆膜上に前記有機EL素子を封止する封止層を形成することを特徴とする有機ELパネル。   [Claim 5] An organic EL panel provided with a light emitting portion comprising an organic EL element, a substrate, a plurality of first electrodes formed in parallel on the substrate, and the light emission on the first electrode An insulating film that electrically insulates between the plurality of first electrodes by exposing a part forming the part and covering the other part, and in parallel so as to intersect the first electrode on the insulating film A plurality of partition walls having a substantially inverted trapezoidal cross section, an organic layer formed on at least the first electrode, and formed in parallel on the organic layer so as to intersect the first electrode A coating material that includes the second electrode and a coating film that covers the first electrode, the partition, the organic layer, and the second electrode, including one surface of the substrate, and that forms the coating film, , Composed of a hygroscopic agent and an amorphous organic material, and the coating film covers the entire side surface of the partition wall. Has a pressure deformation membrane deformed portion Migihitsuji, organic EL panel, and forming a sealing layer sealing the organic EL element on said coating layer.

[請求項6]有機EL素子からなる発光部を備えた有機ELパネルの製造方法であって、基板の一面側に並列した複数の第1電極を形成する第1電極形成工程、前記第1電極上の前記発光部を形成する一部分を露出させて他の部分を覆うことで前記複数の第1電極間を電気的に絶縁する絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程、前記絶縁膜上に前記第1電極と交差するように並列して、略逆台形状の断面を有する複数の隔壁を形成する隔壁形成工程、少なくとも前記第1電極上に有機層を形成する有機層形成工程、前記有機層上に前記第1電極と交差するように並列して第2電極を形成する第2電極形成工程、前記基板の一面を含めて、前記第1電極,前記隔壁,前記有機層,及び前記第2電極を被覆する被覆膜を形成する被覆膜形成工程、を有し、前記被覆膜を形成する被覆材は、吸湿剤とアモルファス状の有機材料とからなり、前記被覆膜は、少なくとも前記隔壁の側面の一部に接触していることを特徴とする有機ELパネルの製造方法。   [Claim 6] A method of manufacturing an organic EL panel having a light emitting portion made of an organic EL element, the first electrode forming step of forming a plurality of first electrodes arranged in parallel on one side of the substrate, the first electrode An insulating film forming step of forming an insulating film that electrically insulates between the plurality of first electrodes by exposing a part of the light emitting portion on the upper surface and covering the other part; A partition formation step of forming a plurality of partition walls having a substantially inverted trapezoidal cross section in parallel so as to cross one electrode, an organic layer formation step of forming an organic layer on at least the first electrode, and on the organic layer Including a second electrode forming step of forming a second electrode in parallel to intersect the first electrode, one surface of the substrate, the first electrode, the partition, the organic layer, and the second electrode A coating film forming step for forming a coating film for coating The coating material for forming the coating film is made of a hygroscopic agent and an amorphous organic material, and the coating film is in contact with at least a part of the side surface of the partition wall. Manufacturing method.

本発明の実施形態に係る有機ELパネル及びその製造方法を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the organic electroluminescent panel which concerns on embodiment of this invention, and its manufacturing method. 本発明の実施形態に係る有機ELパネル及びその製造方法を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the organic electroluminescent panel which concerns on embodiment of this invention, and its manufacturing method. 本発明の実施形態に係る有機ELパネル及びその製造方法を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the organic electroluminescent panel which concerns on embodiment of this invention, and its manufacturing method. 本発明の実施形態に係る有機ELパネルの製造方法を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the manufacturing method of the organic electroluminescent panel which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る有機ELパネルを説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the organic electroluminescent panel which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施例を説明する説明図(有機EL素子の素子構造)である。It is explanatory drawing (element structure of an organic EL element) explaining the Example of this invention.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る有機ELパネルの構造を示す説明図である。本発明の実施形態に係る有機ELパネルは、基板1、第1電極2、絶縁膜3、隔壁4、有機層5、第2電極6、被覆膜7を基本構成として備えるものである。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is an explanatory view showing the structure of an organic EL panel according to an embodiment of the present invention. An organic EL panel according to an embodiment of the present invention includes a substrate 1, a first electrode 2, an insulating film 3, a partition wall 4, an organic layer 5, a second electrode 6, and a coating film 7 as a basic configuration.

基板1は、ガラス等で形成することができる。基板1を介して光を取り出す場合(ボトムエミッション)には透明部材であることが必要になるが、基板1と逆側に光を取り出す場合(トップエミッション)には、透明部材である必要はない。   The substrate 1 can be formed of glass or the like. When light is extracted through the substrate 1 (bottom emission), it is necessary to be a transparent member, but when light is extracted to the opposite side of the substrate 1 (top emission), it is not necessary to be a transparent member. .

第1電極2は、基板1上に並列して(ストライプ状に)形成されるもので、基板1を介して光を取り出す場合にはITO等の透明電極が用いられ、基板1と逆側に光を取り出す場合には反射率の高いその他の金属電極が用いられる。   The first electrode 2 is formed in parallel (in the form of stripes) on the substrate 1. When light is taken out through the substrate 1, a transparent electrode such as ITO is used, When extracting light, other metal electrodes having high reflectivity are used.

絶縁膜3は、第1電極2上の発光部を形成する一部分を露出させて他の部分を覆うことで複数の第1電極2間を電気的に絶縁するものであり、ドットマトリクス状に発光部を配列する場合には、第1電極2上の露出部分が格子状に区画されるように、第1電極2の左右両側部を一部覆って一部は基板1上に一部は第1電極2上に形成される。   The insulating film 3 electrically insulates between the plurality of first electrodes 2 by exposing a part forming the light emitting part on the first electrode 2 and covering the other part, and emits light in a dot matrix shape. When arranging the portions, the left and right side portions of the first electrode 2 are partially covered so that the exposed portions on the first electrode 2 are partitioned in a lattice pattern, and a portion is partially on the substrate 1. It is formed on one electrode 2.

隔壁4は、絶縁膜3上に第1電極2と交差するように複数並列して(図示の例では紙面に垂直方向のストライプ状に)形成され、略逆台形状の断面を有する。略台形状というのは、隔壁4の上面の幅が絶縁膜3上の下面の幅より大きい状態であればよく、T字形状のものも含む。隔壁4の側面は平面であっても若干湾曲した面であっても、T字型を形成するために屈折した面であっても良い。   A plurality of partition walls 4 are formed in parallel on the insulating film 3 so as to intersect the first electrode 2 (in the illustrated example, in the form of stripes perpendicular to the paper surface), and have a substantially inverted trapezoidal cross section. The substantially trapezoidal shape only needs to be in a state where the width of the upper surface of the partition wall 4 is larger than the width of the lower surface on the insulating film 3, and includes a T-shaped one. The side surface of the partition wall 4 may be a flat surface, a slightly curved surface, or a surface refracted to form a T-shape.

有機層5は、発光層を含む有機EL媒体の層であって、少なくとも絶縁膜3で覆われていない第1電極上に形成されている。前述した発光層と発光層に電子・正孔を供給するための各種機能層(例えば、電子注入・輸送層、正孔注入・輸送層、正孔・電子ブロック層、正孔・電子バッファ層等)を含むものである。   The organic layer 5 is a layer of an organic EL medium including a light emitting layer, and is formed on the first electrode that is not covered with at least the insulating film 3. Various light emitting layers and various functional layers for supplying electrons / holes to the light emitting layer (for example, electron injection / transport layer, hole injection / transport layer, hole / electron block layer, hole / electron buffer layer, etc.) ).

第2電極6は、有機層5上に第1電極2と交差するように並列して形成されており、第1電極2との交差部で有機層5を挟持して有機EL素子からなる発光部を形成するものである。基板1と逆側に光を取り出す場合にはITO等の透明電極が用いられ、基板1を介して光を取り出す場合には反射率の高いその他の金属電極が用いられる。   The second electrode 6 is formed in parallel on the organic layer 5 so as to intersect the first electrode 2, and the organic layer 5 is sandwiched at the intersection with the first electrode 2 to emit light composed of an organic EL element. The part is formed. A transparent electrode such as ITO is used when light is extracted to the side opposite to the substrate 1, and another metal electrode with high reflectivity is used when light is extracted through the substrate 1.

そして、被覆膜7は、基板1の一面を含めて、第1電極2,隔壁4,有機層5,及び第2電極6を被覆するものであり、被覆膜7を形成する被覆材は、吸湿剤とアモルファス状の有機材料とからなり、被覆膜7は、少なくとも隔壁4の側面の一部に接触している。   The coating film 7 covers the first electrode 2, the partition 4, the organic layer 5, and the second electrode 6 including the one surface of the substrate 1, and the coating material for forming the coating film 7 is It consists of a hygroscopic agent and an amorphous organic material, and the coating film 7 is in contact with at least a part of the side surface of the partition wall 4.

このような構成を備えた有機ELパネルによると、素子形成後に隔壁4から発生されるアウトガスを被覆材中の吸湿剤が吸収するので、アウトガスの有害成分(水分,酸素等)が被覆膜7に浸透しても、これが被覆膜7を経由して有機EL素子の第1電極2,第2電極6或いは有機層5に到達することがない。したがって、隔壁4から発生されるアウトガスによる発光特性の劣化を抑制することが可能になる。   According to the organic EL panel having such a configuration, the outgas generated from the partition wall 4 after the element is formed is absorbed by the hygroscopic agent in the coating material, so that harmful components (water, oxygen, etc.) of the outgas are covered with the coating film 7. Even if it permeates, it does not reach the first electrode 2, the second electrode 6 or the organic layer 5 of the organic EL element via the coating film 7. Accordingly, it is possible to suppress the deterioration of the light emission characteristics due to the outgas generated from the partition 4.

また、この吸湿剤を含有する被覆膜7が隔壁4の上面だけでなく側面の一部に接触するように形成されているので、効果的に隔壁4から発生されるアウトガスを吸収することができ、このアウトガスの飛散による発光特性の劣化を抑制することができて、有機ELパネルの長寿命化が可能になる。   Further, since the coating film 7 containing the hygroscopic agent is formed so as to contact not only the upper surface of the partition wall 4 but also a part of the side surface, the outgas generated from the partition wall 4 can be effectively absorbed. In addition, the deterioration of the light emission characteristics due to the scattering of the outgas can be suppressed, and the life of the organic EL panel can be extended.

このような有機ELパネルの製造方法としては、基板1の一面側に並列した複数の第1電極2を形成する第1電極形成工程、第1電極2上の発光部を形成する一部分を露出させて他の部分を覆うことで複数の第1電極2間を電気的に絶縁する絶縁膜3を形成する絶縁膜形成工程、絶縁膜3上に第1電極2と交差するように並列して、略逆台形状の断面を有する複数の隔壁4を形成する隔壁形成工程、少なくとも第1電極2上に有機層5を形成する有機層形成工程、有機層上5に第1電極2と交差するように並列して第2電極6を形成する第2電極形成工程、基板1の一面を含めて、第1電極2,隔壁4,有機層5,及び第2電極6を被覆する被覆膜7を形成する被覆膜形成工程、を有する。   As a method for manufacturing such an organic EL panel, a first electrode forming step for forming a plurality of first electrodes 2 arranged in parallel on one side of the substrate 1 and a part for forming a light emitting portion on the first electrode 2 are exposed. An insulating film forming step for forming an insulating film 3 that electrically insulates between the plurality of first electrodes 2 by covering other parts, and in parallel so as to intersect the first electrode 2 on the insulating film 3, A partition formation step of forming a plurality of partition walls 4 having a substantially inverted trapezoidal cross section, an organic layer formation step of forming an organic layer 5 on at least the first electrode 2, and a first electrode 2 crossing over the organic layer 5 A coating film 7 for covering the first electrode 2, the partition wall 4, the organic layer 5, and the second electrode 6, including the second electrode forming step for forming the second electrode 6 in parallel with the substrate 1 and one surface of the substrate 1. A coating film forming step to be formed.

第1電極形成工程では、基板上に第1電極2の電極材料を蒸着,スパッタリング等の薄膜形成技術によって成膜し、その後、フォトリソグラフィ等のパターン形成技術によってストライプ状にパターン形成する。パターン形成後は、必要に応じて、洗浄、乾燥工程を行う。   In the first electrode forming step, the electrode material of the first electrode 2 is formed on the substrate by a thin film forming technique such as vapor deposition and sputtering, and then patterned in a stripe shape by a pattern forming technique such as photolithography. After pattern formation, cleaning and drying processes are performed as necessary.

絶縁膜形成工程では、ポリイミド等の有機絶縁材料、或いはSiO,SiN等の無機絶縁材料を用いて、第1電極2が形成された基板1の一面上に成膜した後、パターン形成を行う。具体的には、ポリイミド等の有機絶縁材料を用いる場合には、第1電極2が形成された基板1上にスピンコート法等により所定厚さの膜を形成し、発光部を形成するための開口パターンを有する露光マスクを用いて露光処理を行い、その後現像処理を施すことによって前述した格子状パターンの絶縁膜3を形成する。無機材料によって絶縁膜を形成する場合には、蒸着,スパッタリング等によって成膜を行い、フォトリソグラフィ等のパターン形成技術によって前述した格子状パターンを得る。In the insulating film forming step, an organic insulating material such as polyimide or an inorganic insulating material such as SiO 2 or SiN is used to form a film on one surface of the substrate 1 on which the first electrode 2 is formed, and then a pattern is formed. . Specifically, when an organic insulating material such as polyimide is used, a film having a predetermined thickness is formed on the substrate 1 on which the first electrode 2 is formed by a spin coating method or the like to form a light emitting portion. An exposure process is performed using an exposure mask having an opening pattern, and then a development process is performed to form the insulating film 3 having the lattice pattern described above. When the insulating film is formed of an inorganic material, the film is formed by vapor deposition, sputtering, or the like, and the above-described lattice pattern is obtained by a pattern formation technique such as photolithography.

隔壁形成工程では、絶縁膜3上にストライプ状に隔壁4を形成する。隔壁4の形状とパターンは、フォトリソグラフィによって形成することができる。すなわち、感光性樹脂を所定の厚さに塗布した後、第1電極2と交差するストライプ状パターンの開口を有するフォトマスクを介して光を照射し、膜の厚さ方向の露光量の違いから生じる現像速度の差を利用して、断面が略逆台形状の隔壁4を形成する。   In the partition formation step, the partition 4 is formed in a stripe shape on the insulating film 3. The shape and pattern of the partition 4 can be formed by photolithography. That is, after applying a photosensitive resin to a predetermined thickness, light is irradiated through a photomask having a striped pattern opening intersecting the first electrode 2, and the difference in exposure amount in the thickness direction of the film A partition wall 4 having a substantially inverted trapezoidal cross section is formed by utilizing the difference in the developing speed generated.

有機層形成工程では、基板1上に第1電極2,絶縁膜3,隔壁4を形成した後、これらが形成された基板1上に有機層の各層を成膜することで、少なくとも第1電極2の露出部分上に有機層5を形成する。カラー化のために発光層及び他の機能層で色毎の塗り分けを行う場合には、同一色の発光部形成箇所に対応した開口を有するマスクを用い、マスクを交換するか或いは位置をずらしながら、色毎に成膜する。有機層5の各層の成膜は真空蒸着によって行うことができる。   In the organic layer forming step, the first electrode 2, the insulating film 3, and the partition wall 4 are formed on the substrate 1, and then each layer of the organic layer is formed on the substrate 1 on which the first electrode 2, the insulating film 3, and the partition wall 4 are formed. The organic layer 5 is formed on the exposed portion 2. When the light emitting layer and other functional layers are separately colored for colorization, a mask having an opening corresponding to the light emitting portion forming position of the same color is used, and the mask is exchanged or the position is shifted. However, a film is formed for each color. Each layer of the organic layer 5 can be formed by vacuum deposition.

第2電極形成工程では、有機層5を成膜した後に、その上に第2電極6の電極材料を成膜する。この際、隔壁4がシャドーマスクとして機能し、隔壁4の間にストライプ状パターンの第2電極6が形成される。   In the second electrode formation step, after the organic layer 5 is formed, an electrode material for the second electrode 6 is formed thereon. At this time, the partition 4 functions as a shadow mask, and the second electrode 6 having a stripe pattern is formed between the partitions 4.

被覆膜形成工程では、吸湿剤とアモルファス状の有機材料とからなる成膜材料を用い、蒸着等の成膜工程により被覆膜7を形成する。この際、隔壁4の側面の一部に接触するように被覆膜7を形成するには、角度蒸着や基板の振動或いは回転、又は蒸着流の指向性を低下させるなどして、隔壁4の側面側に成膜材料が回り込むようにする必要がある。   In the coating film forming process, the coating film 7 is formed by a film forming process such as vapor deposition using a film forming material composed of a hygroscopic agent and an amorphous organic material. At this time, in order to form the coating film 7 so as to be in contact with a part of the side surface of the partition wall 4, angle deposition, vibration or rotation of the substrate, or directivity of the deposition flow is reduced. It is necessary that the film forming material wraps around the side surface.

このような有機ELパネルの製造方法によると、隔壁4に接触するように吸湿剤を含有する被覆膜7を形成できるので、効果的に隔壁4から発生されるアウトガスを吸収することができ、このアウトガスの飛散による発光特性の劣化を抑制することができて、有機ELパネルの長寿命化が可能になる。   According to such a method of manufacturing an organic EL panel, the coating film 7 containing a hygroscopic agent can be formed so as to be in contact with the partition walls 4, so that the outgas generated from the partition walls 4 can be effectively absorbed, The deterioration of the light emission characteristics due to the scattering of the outgas can be suppressed, and the life of the organic EL panel can be extended.

図2は、本発明の他の実施形態に係る有機ELパネルを示した説明図である。基本的な構造は、基板1、第1電極2、絶縁膜3、隔壁4、有機層5、第2電極6を備えることで前述した実施形態と変わりがない。   FIG. 2 is an explanatory view showing an organic EL panel according to another embodiment of the present invention. The basic structure is the same as the above-described embodiment by including the substrate 1, the first electrode 2, the insulating film 3, the partition 4, the organic layer 5, and the second electrode 6.

この実施形態に係る有機ELパネルは、隔壁4の側面全体を覆うように被覆膜70が形成されており、この被覆膜70を形成する被覆材は、前述した実施形態と同様に吸湿剤とアモルファス状の有機材料とからなる。   In the organic EL panel according to this embodiment, a coating film 70 is formed so as to cover the entire side surface of the partition wall 4, and the coating material for forming the coating film 70 is a hygroscopic agent as in the above-described embodiment. And an amorphous organic material.

このような有機ELパネルの製造方法としては、前述したと同様に、第1電極形成工程、絶縁膜形成工程、隔壁形成工程、有機層形成工程、第2電極形成工程、被覆膜形成工程を有するが、被覆膜形成工程において、被覆性(カバーレッジ)の高い成膜法を採用する。例えば、蒸着の場合には、角度蒸着や基板の振動或いは回転、又は蒸着流の指向性を低下させるなどした方法で、成膜時間を長くする。   As a method for manufacturing such an organic EL panel, the first electrode forming step, the insulating film forming step, the partition wall forming step, the organic layer forming step, the second electrode forming step, and the coating film forming step are performed as described above. However, in the coating film forming step, a film forming method with high coverage (coverage) is adopted. For example, in the case of vapor deposition, the film formation time is lengthened by methods such as angle vapor deposition, vibration or rotation of the substrate, or a decrease in directivity of the vapor deposition flow.

このような有機ELパネル及びその製造方法によると、隔壁4全体が吸湿剤を含有する被覆膜70で覆われているので、隔壁4から素子形成後に発生するアウトガスを吸湿剤が確実に吸収してアウトガスの飛散が起こらない。また、被覆膜70を経由して有機EL素子の構成部材に到達しようとするアウトガスの有害成分を吸湿剤が吸収してブロックするので、隔壁4のアウトガスによる有機EL素子の発光特性劣化を確実に防止することができる。   According to such an organic EL panel and the manufacturing method thereof, since the entire partition 4 is covered with the coating film 70 containing the hygroscopic agent, the hygroscopic agent reliably absorbs outgas generated from the partition 4 after element formation. And outgassing does not occur. Further, since the hygroscopic agent absorbs and blocks the harmful components of the outgas that reaches the component of the organic EL element through the coating film 70, the emission characteristics of the organic EL element are reliably deteriorated by the outgassing of the partition walls 4. Can be prevented.

図3は、本発明の他の実施形態に係る有機ELパネルを示した説明図である。基本的な構造は、基板1、第1電極2、絶縁膜3、隔壁4、有機層5、第2電極6を備えることで前述した実施形態と変わりがない。   FIG. 3 is an explanatory view showing an organic EL panel according to another embodiment of the present invention. The basic structure is the same as the above-described embodiment by including the substrate 1, the first electrode 2, the insulating film 3, the partition 4, the organic layer 5, and the second electrode 6.

この実施形態に係る有機ELパネルは、図3(a)に示すように、吸湿剤とアモルファス状の有機材料とからなる被覆材で、隔壁4全体を覆うように所定の厚さを有する被覆膜71Aが形成され、その後、加圧処理による膜変形工程を施して、図3(b)に示すように、隔壁4の側面に接する膜変形部分71xが形成された被覆膜71が形成される。   As shown in FIG. 3A, the organic EL panel according to this embodiment is a coating made of a hygroscopic agent and an amorphous organic material, and has a predetermined thickness so as to cover the entire partition wall 4. A film 71A is formed, and then a film deformation step by pressure treatment is performed to form a coating film 71 in which a film deformation portion 71x in contact with the side surface of the partition wall 4 is formed as shown in FIG. The

すなわち、図3(a)に示すように、第1電極2,絶縁膜3,隔壁4,有機膜5,第2電極6が形成された基板1の一面に蒸着等によって被覆膜71Aを形成すると、略逆台形状の断面を有する隔壁4が存在することで隔壁4の側面周辺に空洞部分Cが形成されてしまうが、被覆材料としてアモルファス状の有機材料を構成材とすることで、図3(b)に示すような加圧処理が可能になり、この加圧処理によって、空洞部分Cの側方にある被覆材が空洞部分Cに充填されて、隔壁4の側面に接する膜変形部分71xが形成される。   That is, as shown in FIG. 3A, a coating film 71A is formed by vapor deposition or the like on one surface of the substrate 1 on which the first electrode 2, the insulating film 3, the partition wall 4, the organic film 5, and the second electrode 6 are formed. Then, since the partition wall 4 having a substantially inverted trapezoidal cross section is present, a cavity portion C is formed around the side surface of the partition wall 4, but by using an amorphous organic material as a coating material, 3 (b) enables a pressure treatment as shown in FIG. 3 (b). By this pressure treatment, the coating material on the side of the cavity portion C is filled in the cavity portion C, and the membrane deformation portion in contact with the side surface of the partition 4 71x is formed.

このような実施形態に係る有機ELパネルによると、吸湿剤を含有する被覆膜71によって隔壁4が完全に覆われているので、隔壁4から発生するアウトガスを吸湿剤が確実に吸収してアウトガスの飛散を防止することができる。これによって隔壁4から発生するアウトガスによる有機EL素子の劣化を防止することができ、有機ELパネルの長寿命化が可能になる。また、前述した加圧処理によって被覆膜71の表面には平坦化された面が形成されることになるので、その後の封止処理を効果的に行うことが可能になる。   According to the organic EL panel according to such an embodiment, since the partition wall 4 is completely covered by the coating film 71 containing the hygroscopic agent, the hygroscopic agent surely absorbs the outgas generated from the partition wall 4 and is thus outgassed. Can be prevented. As a result, deterioration of the organic EL element due to the outgas generated from the partition walls 4 can be prevented, and the life of the organic EL panel can be extended. In addition, since the flattened surface is formed on the surface of the coating film 71 by the pressurizing process described above, the subsequent sealing process can be effectively performed.

図4は、前述した本発明の実施形態に係る有機ELパネルの製造方法を示すフロー図である。基板の研磨、洗浄等を含む基板準備工程Saを行った後、前述したように、第1電極形成工程S1、絶縁膜形成工程S2、隔壁形成工程S3、有機層形成工程S4、第2電極形成工程S5、被覆膜形成工程S6を経て、その後、封止工程等(Sb)を行う。   FIG. 4 is a flowchart showing a method for manufacturing the organic EL panel according to the embodiment of the present invention described above. After performing the substrate preparation step Sa including polishing and cleaning of the substrate, as described above, the first electrode formation step S1, the insulating film formation step S2, the partition wall formation step S3, the organic layer formation step S4, and the second electrode formation After the step S5 and the coating film forming step S6, a sealing step or the like (Sb) is performed thereafter.

図3に示した実施形態では、被覆膜形成工程S6として、最初に所定の厚さを有する被覆膜71Aを形成する成膜工程S6aが行われ、その後に、被覆膜71Aの表面から加圧処理を行う膜変形工程S6bが行われる。   In the embodiment shown in FIG. 3, as the coating film forming process S6, a film forming process S6a for forming a coating film 71A having a predetermined thickness is first performed, and thereafter, from the surface of the coating film 71A. A film deformation step S6b for performing pressure treatment is performed.

被覆材中の吸着剤としては、アルカリ金属又はアルカリ土類金属(Na,K,Ca,Mg等)の塩の無水物、塩化物、硫化物、酸化物等を用いることができ、例えば、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸ナトリウム、塩化カルシウム、塩化リチウム、酸化カルシウム、酸化バナジウム、酸化ストロンチウム等を用いることができる。   As the adsorbent in the coating material, an alkali metal or alkaline earth metal (Na, K, Ca, Mg, etc.) salt anhydride, chloride, sulfide, oxide or the like can be used. Magnesium sulfate, anhydrous sodium sulfate, calcium chloride, lithium chloride, calcium oxide, vanadium oxide, strontium oxide, and the like can be used.

被覆材におけるアモルファス状の有機物としては、成膜時に有機層5や第2電極6にダメージを与えない蒸着によって成膜可能な有機材料であって、成膜時にはアモルファス状になるものであればよく、N,N’−ジ(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ジフェニル−ベンジジン(NPB)、アルミキノリノール錯体(Alq)等を用いることができる。The amorphous organic material in the covering material may be any organic material that can be formed by vapor deposition that does not damage the organic layer 5 or the second electrode 6 during film formation and that becomes amorphous during film formation. N, N′-di (naphthalen-1-yl) -N, N′-diphenyl-benzidine (NPB), aluminum quinolinol complex (Alq 3 ), or the like can be used.

前述した被覆膜形成工程S6の後には、封止工程が行われる。前述した各実施形態における封止工程としては、被覆膜7,70,71で被覆された有機EL素子を封止空間内で封止する中空封止と封止空間を設けることなく封止する固体封止がある。図5は、この2つの封止形態を説明する説明図である。同図(a)に示した例が中空封止であり、基板1上に形成された有機EL素子構造E(第1電極2,絶縁膜3,隔壁4,有機層5,第2電極6)を被覆膜7,70,71で被覆した後に、封止空間Mを形成するように、接着剤90を介して基板1と封止部材80とを貼り合わせる。また、同図(b)に示した例が固体封止であり、基板1上に形成された有機EL素子構造Eを被覆膜7,70,71で被覆した後に、その上に接着層91を形成し、更にその上に封止層81を形成する。この場合の封止層81は、ガラス等の封止板であっても、金属膜等の封止膜であってもよい。   After the above-described coating film forming step S6, a sealing step is performed. As a sealing process in each embodiment mentioned above, it seals without providing the hollow sealing which seals the organic EL element coat | covered with the coating films 7,70,71 in sealing space, and sealing space. There is a solid seal. FIG. 5 is an explanatory diagram for explaining these two sealing forms. The example shown in FIG. 2A is hollow sealing, and the organic EL element structure E (first electrode 2, insulating film 3, partition wall 4, organic layer 5, second electrode 6) formed on the substrate 1 is shown. Is coated with the coating films 7, 70, 71, and then the substrate 1 and the sealing member 80 are bonded together with an adhesive 90 so as to form the sealing space M. Further, the example shown in FIG. 5B is solid sealing, and the organic EL element structure E formed on the substrate 1 is coated with the coating films 7, 70, 71, and then the adhesive layer 91 is formed thereon. And a sealing layer 81 is further formed thereon. The sealing layer 81 in this case may be a sealing plate such as glass or a sealing film such as a metal film.

このような封止工程を経た本発明の実施形態に係る有機ELパネルは、図5(a)に示す例では、隔壁4から発生するアウトガスが封止空間M内に拡散するのを防止することができ、図5(b)に示す例では、隔壁4から発生するアウトガスが接着層91に浸透するのを防止することができる。隔壁4から発生するアウトガスは封止後に発生して有機EL素子の発光特性を劣化させるので、このアウトガスが存在すると封止技術の性能とは無関係に有機ELパネルの寿命が悪化することになるが、本発明の実施形態によると、アウトガスによる劣化を抑制できるので、封止技術の性能を高めることで効果的に有機ELパネルの長寿命化が可能になる。   In the example shown in FIG. 5A, the organic EL panel according to the embodiment of the present invention that has undergone such a sealing process prevents outgas generated from the partition walls 4 from diffusing into the sealed space M. In the example shown in FIG. 5B, it is possible to prevent the outgas generated from the partition 4 from penetrating into the adhesive layer 91. Outgas generated from the partition walls 4 is generated after sealing and deteriorates the light emission characteristics of the organic EL element. If this outgas is present, the life of the organic EL panel is deteriorated regardless of the performance of the sealing technology. According to the embodiment of the present invention, since deterioration due to outgas can be suppressed, it is possible to effectively extend the life of the organic EL panel by enhancing the performance of the sealing technique.

<素子構造> 以下に示す実施例と比較例は図6に示す共通の素子構造を備える。すなわち、ガラス製の基板1上にITOを蒸着,スパッタリング等の成膜方法で薄膜形成し、フォトリソグラフィ等によってパターン形成して第1電極2を形成する。第1電極2上に形成される有機層5としては、正孔注入層5AとしてCuPcを30nm、正孔輸送層5BとしてN,N’−ジ(ナフタレン−1−イル)−N,N’−ジフェニル−ベンジジン(NPB)を30nm、発光層5Cとしてクマリンを0.6重量%ドープしたAlqを30nm、電子輸送層5DとしてAlqを30nm、電子注入層5EとしてLiOを1nm、これらをそれぞれ真空蒸着法によって形成する。第2電極6としてはAlを蒸着によって所定厚さ形成する。<Element Structure> The following examples and comparative examples have the common element structure shown in FIG. That is, the first electrode 2 is formed by forming a thin film of ITO on the glass substrate 1 by a film forming method such as vapor deposition or sputtering, and patterning by photolithography or the like. As the organic layer 5 formed on the first electrode 2, 30 nm of CuPc is used as the hole injection layer 5A, and N, N′-di (naphthalen-1-yl) -N, N′— is used as the hole transport layer 5B. diphenyl - N'-diphenyl-benzidine (NPB) to 30 nm, the light emitting layer 5C 30 nm Alq 3 is that coumarin to 0.6 wt% doped as, 30 nm and Alq 3 as an electron transport layer 5D, 1 nm to Li 2 O as an electron injection layer 5E, these Each is formed by vacuum evaporation. The second electrode 6 is formed with a predetermined thickness by depositing Al.

前述した構成材料に換えて、基板1はプラスチック基板、第1電極2はIZO,ポリ(3,4)−エチレンジオキシチオフェン(PE-DOT)とポリスチレンスルホネート(PSS)とを含む導電性材料(PE−DOT:PSS),正孔注入層5AはPE−DOT:PSS、正孔輸送層5Bはテトラフェニルジアミノジフェニル(TPD),ジフェニルナフチルジアミン(α−NPD),ポリ(p−フェニレンビニレン)(PPV)、発光層5Cのドープ材はペリレン,テトラフェニルブタジェン(TPB)、電子輸送層5Dは(4−ビフェニル)(4−t−ブチルフェニル)オキシジアゾール(PDB),1,2,4−トリアゾール誘導体(TAZ)、電子注入層5EはLiF、第2電極はMgAg,AlLi、等を用いることができる。これらの材料変更によっても後述する評価結果と同様の結果を得ることができる。   In place of the above-described constituent materials, the substrate 1 is a plastic substrate, and the first electrode 2 is a conductive material (IZO, poly (3,4) -ethylenedioxythiophene (PE-DOT) and polystyrene sulfonate (PSS)). PE-DOT: PSS), hole injection layer 5A is PE-DOT: PSS, hole transport layer 5B is tetraphenyldiaminodiphenyl (TPD), diphenylnaphthyldiamine (α-NPD), poly (p-phenylene vinylene) ( PPV), the light-emitting layer 5C is doped with perylene and tetraphenylbutadiene (TPB), and the electron transport layer 5D is (4-biphenyl) (4-t-butylphenyl) oxydiazole (PDB), 1, 2, 4 -Triazole derivative (TAZ), LiF can be used for the electron injection layer 5E, MgAg, AlLi, etc. can be used for the second electrode. Results similar to the evaluation results described later can also be obtained by changing these materials.

<実施例1> 図1に示すように、絶縁膜3の高さ1μmと隔壁4の高さ3.5μmを合わせた高さ4.5μmより高い6μmの被覆膜7を形成し、その際に、角度蒸着を用いて被覆膜7が隔壁4の側面に接するようにした。被覆膜7の被覆材としては、吸湿剤にCaOを用い、アモルファス状有機材料にAlqを用いて、混合比率を1:5とし、エレクトロンビーム法及び抵抗加熱法による共蒸着により成膜した。封止工程は、図5(a)に示すような中空封止を行うために、被覆膜7及び有機EL素子が傷つかない程度の凹部(堀込み)を形成したガラス基板からなる封止部材80を採用し、これを紫外線硬化型接着剤にて基板1に貼りつけた。接着剤は凹部以外の周囲に塗布した。<Example 1> As shown in FIG. 1, a coating film 7 having a height of 6 μm, which is higher than a height of 4.5 μm, is formed by combining a height of 1 μm of the insulating film 3 and a height of 3.5 μm of the partition walls 4. Further, the coating film 7 was brought into contact with the side surface of the partition wall 4 by using angle vapor deposition. As a coating material of the coating film 7, a film was formed by co-evaporation using an electron beam method and a resistance heating method, using CaO as a hygroscopic agent, Alq 3 as an amorphous organic material, and a mixing ratio of 1: 5. . The sealing step is a sealing member made of a glass substrate in which a recess (drilling) is formed so as not to damage the coating film 7 and the organic EL element in order to perform hollow sealing as shown in FIG. 80 was used, and this was attached to the substrate 1 with an ultraviolet curable adhesive. The adhesive was applied around the periphery of the recess.

<実施例2> 図2に示すように、隔壁4の全体を覆うように被覆膜70を形成する以外は実施例1と同様に形成した。隔壁4の全体を被覆膜70で覆うために、被覆性(カバーレッジ)の高い成膜法を用いて比較的長い成膜時間を設定した。 <Example 2> As shown in FIG. 2, it formed similarly to Example 1 except forming the coating film 70 so that the whole partition 4 may be covered. In order to cover the entire partition wall 4 with the coating film 70, a relatively long film formation time was set using a film formation method with high coverage (coverage).

<実施例3> 図3に示すように、隔壁4の全体を覆うように被覆膜71を形成する以外は実施例1と同様に形成した。隔壁4の全体を被覆膜71で覆うために、ある程度の厚さで成膜した後、加圧処理を施して、空洞部分Cを充填する膜変形部分71xを形成した。 <Example 3> As shown in FIG. 3, it formed similarly to Example 1 except forming the coating film 71 so that the whole partition 4 may be covered. In order to cover the entire partition wall 4 with the coating film 71, after forming a film with a certain thickness, a pressure treatment was performed to form a film deformed part 71 x filling the cavity part C.

<実施例4> 実施例1における封止工程を図5(b)に示す固体封止に換えて有機ELパネルを形成した。すなわち、被覆膜7を形成した後、平板ガラスの封止部材の全面に紫外線硬化型接着剤を塗布し、被覆膜7上に接着層91を形成して封止部材と基板1と貼り合わせて、封止部材からなる封止層81を形成した。 Example 4 An organic EL panel was formed by replacing the sealing process in Example 1 with the solid sealing shown in FIG. That is, after the coating film 7 is formed, an ultraviolet curable adhesive is applied to the entire surface of the flat glass sealing member, and an adhesive layer 91 is formed on the coating film 7 to bond the sealing member and the substrate 1 together. In addition, a sealing layer 81 made of a sealing member was formed.

<実施例5> 実施例2における封止工程を図5(b)に示す固体封止に換えて有機ELパネルを形成した。すなわち、被覆膜70を形成した後、平板ガラスの封止部材の全面に紫外線硬化型接着剤を塗布し、被覆膜70上に接着層91を形成して封止部材と基板1と貼り合わせて、封止部材からなる封止層81を形成した。 Example 5 An organic EL panel was formed by replacing the sealing process in Example 2 with the solid sealing shown in FIG. That is, after the coating film 70 is formed, an ultraviolet curable adhesive is applied to the entire surface of the flat glass sealing member, and an adhesive layer 91 is formed on the coating film 70 to bond the sealing member and the substrate 1 together. In addition, a sealing layer 81 made of a sealing member was formed.

<実施例6> 実施例3における封止工程を図5(b)に示す固体封止に換えて有機ELパネルを形成した。すなわち、被覆膜71を形成した後、平板ガラスの封止部材の全面に紫外線硬化型接着剤を塗布し、被覆膜71上に接着層91を形成して封止部材と基板1と貼り合わせて、封止部材からなる封止層81を形成した。 Example 6 An organic EL panel was formed by replacing the sealing process in Example 3 with the solid sealing shown in FIG. That is, after the coating film 71 is formed, an ultraviolet curable adhesive is applied to the entire surface of the flat glass sealing member, and an adhesive layer 91 is formed on the coating film 71 to bond the sealing member and the substrate 1 together. In addition, a sealing layer 81 made of a sealing member was formed.

<比較例1> 実施例1における被覆膜7の形成時に角度蒸着を行わず、隔壁4の側面に被覆膜7が接触しないようにした。
<比較例2> 実施例6における被覆膜71の形成時に被覆性の向上を図らずに、空洞部分Cが存在する状態で封止工程を行った。
<比較例3> 実施例1における被覆膜7に換えて、吸湿剤を含有しないAlqを平坦化膜として用い、その後に封止工程(中空封止)を行った。
Comparative Example 1 Angular vapor deposition was not performed when the coating film 7 was formed in Example 1, and the coating film 7 was not in contact with the side surfaces of the partition walls 4.
<Comparative example 2> The sealing process was performed in a state where the cavity portion C was present without improving the covering property when forming the coating film 71 in the example 6.
In place of the coating film 7 in <Comparative Example 3> Example 1, using Alq 3 containing no moisture absorbent as a planarizing film, it was then sealing step (hollow sealing).

<評価方法> 前述した実施例と比較例にて形成された有機ELパネルに対して、温度85℃の高温保存試験を行い、500時間連続点灯後の発光部(画素)の状態を観察した。その際、画素周辺部から拡がる非発光部(黒枠、ダークスポット)の幅が1μm未満のものを◎、1μm以上3μm未満のものを○、3μm以上10μm未満のものを△、10μm以上のものを×と評価した。 <Evaluation Method> A high-temperature storage test at a temperature of 85 ° C. was performed on the organic EL panels formed in the above-described Examples and Comparative Examples, and the state of the light emitting part (pixel) after 500 hours of continuous lighting was observed. In that case, the width of the non-light emitting portion (black frame, dark spot) extending from the peripheral portion of the pixel is less than 1 μm, ◎ 1 μm or more and less than 3 μm, ◯ 3 μm or more and less than 10 μm, Δ X was evaluated.

<評価結果> 評価結果は下記表のとおりである。

Figure 2008120365
<Evaluation results> The evaluation results are as shown in the following table.
Figure 2008120365

以上の評価結果から明らかなように、封止工程が中空封止か固体封止かに係わらず、吸着剤とアモルファス状有機材料からなる被覆膜7,70,71を隔壁4の側面に少なくとも接触させることで、隔壁4から発生するアウトガスを効果的に吸収することができ、このアウトガスによる有機ELパネルの劣化を効果的に抑制することができる。
また、本発明は、上記の評価結果だけではなく、60℃で湿度90%の高温高湿状態の試験でも黒枠やダークスポットの抑制に同様の効果を得ることができる。
As is clear from the above evaluation results, regardless of whether the sealing process is hollow sealing or solid sealing, the coating films 7, 70, 71 made of the adsorbent and the amorphous organic material are provided at least on the side surfaces of the partition walls 4. By making it contact, the outgas generated from the partition 4 can be absorbed effectively, and deterioration of the organic EL panel due to the outgas can be effectively suppressed.
Further, the present invention can obtain the same effect in suppressing black frames and dark spots not only in the above evaluation results but also in a test in a high temperature and high humidity state at 60 ° C. and 90% humidity.

以上説明したように、本発明の各実施形態によると、隔壁4によって電極パターンを形成する有機ELパネルにおいて、隔壁4から発生するアウトガスの影響を効果的に排除して、このアウトガスによる発光特性劣化を防止することができ、有機EL素子を直接覆う被覆膜7,70,71を有効に機能させ、有機ELパネルの薄型化を達成することができる。そして、その場合にも顕著な有機EL素子の発光特性劣化を防いで、有機ELパネルの長寿命化を達成することができる。   As described above, according to each embodiment of the present invention, in the organic EL panel in which the electrode pattern is formed by the partition walls 4, the influence of the outgas generated from the partition walls 4 is effectively eliminated, and the emission characteristics are deteriorated by the outgas. Therefore, the coating films 7, 70 and 71 that directly cover the organic EL element can function effectively, and the organic EL panel can be thinned. In such a case as well, it is possible to prevent a remarkable deterioration in the light emission characteristics of the organic EL element, and to achieve a long lifetime of the organic EL panel.

【0003】
する場合には、蒸着流の陰になる隔壁の側面には蒸着流が行き届かない部分が形成され、前述した空洞部分が顕著に現れることになる。
[0012]
そして、このような空洞部分が隔壁の側面周辺に存在すると、隔壁から発生したアウトガスがこの空洞部に溜まることになり、周辺に形成されている有機EL素子の電極或いは有機層に悪影響を及ぼすという問題が生じる。
[0013]
本発明は、このような問題に対処することを課題の一例とするものである。すなわち、隔壁によって電極パターンを形成する有機ELパネルにおいて、隔壁から発生するアウトガスの影響を効果的に排除して、このアウトガスによる発光特性劣化を防止すること、有機EL素子を直接覆う被覆膜を有効に機能させ、有機ELパネルの薄型化を達成すること、その場合にも顕著な有機EL素子の発光特性劣化を防いで、有機ELパネルの長寿命化を達成すること、等が本発明の目的である。
課題を解決するための手段
[0014]
このような目的を達成するために、本発明による有機ELパネル及びその製造方法は、以下の独立請求項に係る構成を少なくとも具備するものである。
[0015]
[請求項1]有機EL素子からなる発光部を備えた有機ELパネルの製造方法であって、基板の一面側に並列した複数の第1電極を形成する第1電極形成工程、前記第1電極上に前記発光部を形成する一部分を露出させて他の部分を覆うことで前記複数の第1電極間を電気的に絶縁する絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程、前記絶縁膜上に前記第1電極と交差するように並列して、略逆台形状の断面を有する複数の隔壁を形成する隔壁形成工程、少なくとも前記第1電極上に有機層を形成する有機層形成工程、前記有機層上に前記第1電極と交差するように並列して第2電極を形成する第2電極形成工程、前記基板の一面を含めて、前記第1電極,前記隔壁,前記有機層,及び前記第2電極を被覆する被覆膜を形成する被覆膜形成工程、を有し、前記被覆膜を形成する被覆材は、吸湿剤とアモルファス状の有機材料とからなり、前記被覆膜は、少なくとも前記隔壁の側面の一部に接触しており、前記被覆膜形成工程は、成膜後に、前記被覆材を前記隔壁の側面に接触させるように変形させる膜変形工程を含んでおり、前記膜変形工程は、加圧処理により前記被覆膜に膜変形部分が形成されていることを特徴とする有機ELパネルの製造方法。
[0016]
[0003]
In this case, a portion where the vapor deposition flow does not reach is formed on the side face of the partition wall which is behind the vapor deposition flow, and the above-mentioned cavity portion appears remarkably.
[0012]
If such a hollow portion exists around the side wall of the partition wall, outgas generated from the partition wall accumulates in the cavity portion, which adversely affects the electrodes or organic layers of the organic EL elements formed in the periphery. Problems arise.
[0013]
This invention makes it an example of a subject to cope with such a problem. That is, in the organic EL panel in which the electrode pattern is formed by the partition walls, the influence of the outgas generated from the partition walls is effectively eliminated, the deterioration of the light emission characteristics due to the outgas, and the coating film that directly covers the organic EL element It is effective to achieve thinning of the organic EL panel, to achieve a long life of the organic EL panel by preventing the remarkable deterioration of the light emitting characteristics of the organic EL element in that case, and the like. Is the purpose.
Means for Solving the Problems [0014]
In order to achieve such an object, the organic EL panel and the manufacturing method thereof according to the present invention include at least the configuration according to the following independent claims.
[0015]
[Claim 1] A method of manufacturing an organic EL panel including a light emitting portion made of an organic EL element, the first electrode forming step of forming a plurality of first electrodes arranged in parallel on one side of the substrate, the first electrode An insulating film forming step of forming an insulating film that electrically insulates between the plurality of first electrodes by exposing a part of the light emitting unit on the upper surface and covering the other part; A partition formation step of forming a plurality of partition walls having a substantially inverted trapezoidal cross section in parallel so as to cross one electrode, an organic layer formation step of forming an organic layer on at least the first electrode, and on the organic layer Including a second electrode forming step of forming a second electrode in parallel to intersect the first electrode, one surface of the substrate, the first electrode, the partition, the organic layer, and the second electrode A coating film forming step for forming a coating film for coating The coating material forming the coating film is made of a hygroscopic agent and an amorphous organic material, and the coating film is in contact with at least a part of the side surface of the partition wall, and the coating film forming step includes And a film deformation step of deforming the coating material so as to contact the side surface of the partition wall after the film formation. The film deformation step includes forming a film deformation portion on the coating film by pressure treatment. A method for producing an organic EL panel, comprising:
[0016]

【0004】
[0017]
[0018]
[0004]
[0017]
[0018]

【0005】
図面の簡単な説明
[0019]
[図1]本発明の実施形態に係る有機ELパネル及びその製造方法を説明する説明図である。
[図2]本発明の実施形態に係る有機ELパネル及びその製造方法を説明する説明図である。
[図3]本発明の実施形態に係る有機ELパネル及びその製造方法を説明する説明図である。
[図4]本発明の実施形態に係る有機ELパネルの製造方法を説明する説明図である。
[図5]本発明の実施形態に係る有機ELパネルを説明する説明図である。
[図6]本発明の実施例を説明する説明図(有機EL素子の素子構造)である。
発明を実施するための最良の形態
[0020]
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る有機ELパネルの構造を示す説明図である。本発明の実施形態に係る有機ELパネルは、基板1、第1電極2、絶縁膜3、隔壁4、有機層5、第2電極6、被覆膜7を基本構成として備えるものである。
[0021]
基板1は、ガラス等で形成することができる。基板1を介して光を取り出す場合(ボトムエミッション)には透明部材であることが必要になるが、基板1と逆側に光を取り出す場合(トップエミッション)には、透明部材である必要はない。
[0022]
第1電極2は、基板1上に並列して(ストライプ状に)形成されるもので、基板1を介して光を取り出す場合にはITO等の透明電極が用いられ、基板1と逆側に光を取り出す場合には反射率の高いその他の金属電極が用いられる。
[0023]
絶縁膜3は、第1電極2上の発光部を形成する一部分を露出させて他の部分を覆うことで複数の第1電極2間を電気的に絶縁するものであり、ドットマトリクス状に発光部を配列する場合には、第1電極2上の露出部分が格子状に区画されるように、第1電極2の左右両側部を一部覆って一部は基板1上に一部は第1電極2上に形成される
[0005]
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS [0019]
FIG. 1 is an explanatory diagram for explaining an organic EL panel and a method for manufacturing the same according to an embodiment of the present invention.
[FIG. 2] It is explanatory drawing explaining the organic electroluminescent panel which concerns on embodiment of this invention, and its manufacturing method.
[FIG. 3] It is explanatory drawing explaining the organic electroluminescent panel which concerns on embodiment of this invention, and its manufacturing method.
[FIG. 4] It is explanatory drawing explaining the manufacturing method of the organic electroluminescent panel based on embodiment of this invention.
FIG. 5 is an explanatory diagram illustrating an organic EL panel according to an embodiment of the present invention.
[FIG. 6] It is explanatory drawing (element structure of an organic EL element) explaining the Example of this invention.
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION [0020]
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is an explanatory view showing the structure of an organic EL panel according to an embodiment of the present invention. An organic EL panel according to an embodiment of the present invention includes a substrate 1, a first electrode 2, an insulating film 3, a partition wall 4, an organic layer 5, a second electrode 6, and a coating film 7 as a basic configuration.
[0021]
The substrate 1 can be formed of glass or the like. When light is extracted through the substrate 1 (bottom emission), it is necessary to be a transparent member, but when light is extracted to the opposite side of the substrate 1 (top emission), it is not necessary to be a transparent member. .
[0022]
The first electrode 2 is formed in parallel (in the form of stripes) on the substrate 1. When light is taken out through the substrate 1, a transparent electrode such as ITO is used, When extracting light, other metal electrodes having high reflectivity are used.
[0023]
The insulating film 3 electrically insulates between the plurality of first electrodes 2 by exposing a part forming the light emitting part on the first electrode 2 and covering the other part, and emits light in a dot matrix shape. When arranging the portions, the left and right side portions of the first electrode 2 are partially covered so that the exposed portions on the first electrode 2 are partitioned in a lattice pattern, and a portion is partially on the substrate 1. Formed on one electrode 2

Claims (7)

有機EL素子からなる発光部を備えた有機ELパネルであって、
基板と、
該基板上に並列して形成された複数の第1電極と、
該第1電極上の前記発光部を形成する一部分を露出させて他の部分を覆うことで前記複数の第1電極間を電気的に絶縁する絶縁膜と、
該絶縁膜上に前記第1電極と交差するように並列して形成され、略逆台形状の断面を有する複数の隔壁と、
少なくとも前記第1電極上に形成された有機層と、
該有機層上に前記第1電極と交差するように並列して形成された第2電極と、
前記基板の一面を含めて、前記第1電極,前記隔壁,前記有機層,及び前記第2電極を被覆する被覆膜とを備え、
前記被覆膜を形成する被覆材は、吸湿剤とアモルファス状の有機材料とからなり、
前記被覆膜は、少なくとも前記隔壁の側面の一部に接触していることを特徴とする有機ELパネル。
An organic EL panel provided with a light emitting unit composed of an organic EL element,
A substrate,
A plurality of first electrodes formed in parallel on the substrate;
An insulating film that electrically insulates between the plurality of first electrodes by exposing a part of the light emitting part on the first electrode and covering the other part;
A plurality of partition walls formed in parallel on the insulating film so as to intersect the first electrode and having a substantially inverted trapezoidal cross section;
An organic layer formed on at least the first electrode;
A second electrode formed in parallel on the organic layer so as to intersect the first electrode;
Including one surface of the substrate, the first electrode, the partition, the organic layer, and a coating film covering the second electrode,
The coating material forming the coating film is composed of a hygroscopic agent and an amorphous organic material,
The organic EL panel, wherein the coating film is in contact with at least a part of a side surface of the partition wall.
前記被覆膜は、前記隔壁の側面全体を覆っていることを特徴とする請求項1に記載の有機ELパネル。   The organic EL panel according to claim 1, wherein the coating film covers the entire side surface of the partition wall. 前記被覆膜は、前記隔壁の側面に接する膜変形部分を有することを特徴とする請求項1又は2に記載された有機ELパネル。   The organic EL panel according to claim 1, wherein the coating film has a film deformation portion that contacts a side surface of the partition wall. 有機EL素子からなる発光部を備えた有機ELパネルであって、
基板と、
該基板上に並列して形成された複数の第1電極と、
該第1電極上の前記発光部を形成する一部分を露出させて他の部分を覆うことで前記複数の第1電極間を電気的に絶縁する絶縁膜と、
該絶縁膜上に前記第1電極と交差するように並列して形成され、略逆台形状の断面を有する複数の隔壁と、
少なくとも前記第1電極上に形成された有機層と、
該有機層上に前記第1電極と交差するように並列して形成された第2電極と、
前記基板の一面を含めて、前記第1電極,前記隔壁,前記有機層,及び前記第2電極を被覆する被覆膜とを備え、
前記被覆膜を形成する被覆材は、吸湿剤とアモルファス状の有機材料とからなり、
前記被覆膜は、前記隔壁の側面全体を覆うように加圧変形された膜変形部分を有し、
前記被覆膜上に前記有機EL素子を封止する封止空間を形成する封止手段を備えることを特徴とする有機ELパネル。
An organic EL panel provided with a light emitting unit composed of an organic EL element,
A substrate,
A plurality of first electrodes formed in parallel on the substrate;
An insulating film that electrically insulates between the plurality of first electrodes by exposing a part of the light emitting part on the first electrode and covering the other part;
A plurality of partition walls formed in parallel on the insulating film so as to intersect the first electrode and having a substantially inverted trapezoidal cross section;
An organic layer formed on at least the first electrode;
A second electrode formed in parallel on the organic layer so as to intersect the first electrode;
Including one surface of the substrate, the first electrode, the partition, the organic layer, and a coating film covering the second electrode,
The coating material forming the coating film is composed of a hygroscopic agent and an amorphous organic material,
The coating film has a film-deformed portion that is pressure-deformed so as to cover the entire side surface of the partition wall,
An organic EL panel comprising sealing means for forming a sealing space for sealing the organic EL element on the coating film.
有機EL素子からなる発光部を備えた有機ELパネルであって、
基板と、
該基板上に並列して形成された複数の第1電極と、
該第1電極上の前記発光部を形成する一部分を露出させて他の部分を覆うことで前記複数の第1電極間を電気的に絶縁する絶縁膜と、
該絶縁膜上に前記第1電極と交差するように並列して形成され、略逆台形状の断面を有する複数の隔壁と、
少なくとも前記第1電極上に形成された有機層と、
該有機層上に前記第1電極と交差するように並列して形成された第2電極と、
前記基板の一面を含めて、前記第1電極,前記隔壁,前記有機層,及び前記第2電極を被覆する被覆膜とを備え、
前記被覆膜を形成する被覆材は、吸湿剤とアモルファス状の有機材料とからなり、
前記被覆膜は、前記隔壁の側面全体を覆うように加圧変形された膜変形部分を有し、
前記被覆膜上に前記有機EL素子を封止する封止層を形成することを特徴とする有機ELパネル。
An organic EL panel provided with a light emitting unit composed of an organic EL element,
A substrate,
A plurality of first electrodes formed in parallel on the substrate;
An insulating film that electrically insulates between the plurality of first electrodes by exposing a part of the light emitting part on the first electrode and covering the other part;
A plurality of partition walls formed in parallel on the insulating film so as to intersect the first electrode and having a substantially inverted trapezoidal cross section;
An organic layer formed on at least the first electrode;
A second electrode formed in parallel on the organic layer so as to intersect the first electrode;
Including one surface of the substrate, the first electrode, the partition, the organic layer, and a coating film covering the second electrode,
The coating material forming the coating film is composed of a hygroscopic agent and an amorphous organic material,
The coating film has a film-deformed portion that is pressure-deformed so as to cover the entire side surface of the partition wall,
An organic EL panel, wherein a sealing layer for sealing the organic EL element is formed on the coating film.
有機EL素子からなる発光部を備えた有機ELパネルの製造方法であって、
基板の一面側に並列した複数の第1電極を形成する第1電極形成工程、
前記第1電極上の前記発光部を形成する一部分を露出させて他の部分を覆うことで前記複数の第1電極間を電気的に絶縁する絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程、
前記絶縁膜上に前記第1電極と交差するように並列して、略逆台形状の断面を有する複数の隔壁を形成する隔壁形成工程、
少なくとも前記第1電極上に有機層を形成する有機層形成工程、
前記有機層上に前記第1電極と交差するように並列して第2電極を形成する第2電極形成工程、
前記基板の一面を含めて、前記第1電極,前記隔壁,前記有機層,及び前記第2電極を被覆する被覆膜を形成する被覆膜形成工程、を有し、
前記被覆膜を形成する被覆材は、吸湿剤とアモルファス状の有機材料とからなり、
前記被覆膜は、少なくとも前記隔壁の側面の一部に接触していることを特徴とする有機ELパネルの製造方法。
A method for manufacturing an organic EL panel including a light emitting unit composed of an organic EL element,
A first electrode forming step of forming a plurality of first electrodes arranged in parallel on one side of the substrate;
An insulating film forming step of forming an insulating film that electrically insulates the plurality of first electrodes by exposing a part of the light emitting portion on the first electrode and covering the other part;
A partition wall forming step of forming a plurality of partition walls having a substantially inverted trapezoidal cross section in parallel so as to intersect the first electrode on the insulating film,
An organic layer forming step of forming an organic layer on at least the first electrode;
A second electrode forming step of forming a second electrode in parallel so as to intersect the first electrode on the organic layer;
A coating film forming step of forming a coating film covering the first electrode, the partition, the organic layer, and the second electrode, including one surface of the substrate;
The coating material forming the coating film is composed of a hygroscopic agent and an amorphous organic material,
The method for manufacturing an organic EL panel, wherein the coating film is in contact with at least a part of a side surface of the partition wall.
前記被覆膜形成工程は、成膜後に、前記被覆材を前記隔壁の側面に接触させるように変形させる膜変形工程を含むことを特徴とする請求項4に記載された有機ELパネルの製造方法。   5. The method of manufacturing an organic EL panel according to claim 4, wherein the coating film forming step includes a film deformation step of deforming the coating material so as to contact a side surface of the partition after film formation. .
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