JPWO2007046440A1 - Herbicidal composition - Google Patents

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JPWO2007046440A1
JPWO2007046440A1 JP2007541023A JP2007541023A JPWO2007046440A1 JP WO2007046440 A1 JPWO2007046440 A1 JP WO2007046440A1 JP 2007541023 A JP2007541023 A JP 2007541023A JP 2007541023 A JP2007541023 A JP 2007541023A JP WO2007046440 A1 JPWO2007046440 A1 JP WO2007046440A1
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学 佐伯
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    • AHUMAN NECESSITIES
    • A01AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01NPRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N47/00Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom not being member of a ring and having no bond to a carbon or hydrogen atom, e.g. derivatives of carbonic acid
    • A01N47/08Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom not being member of a ring and having no bond to a carbon or hydrogen atom, e.g. derivatives of carbonic acid the carbon atom having one or more single bonds to nitrogen atoms
    • A01N47/28Ureas or thioureas containing the groups >N—CO—N< or >N—CS—N<
    • A01N47/36Ureas or thioureas containing the groups >N—CO—N< or >N—CS—N< containing the group >N—CO—N< directly attached to at least one heterocyclic ring; Thio analogues thereof

Abstract

【課題】新規な除草剤組成物及び除草方法を提供する。【解決手段】【化1】で表される化合物(A)とダイムロン、ジメピペレート及びエスプロカルブの中から選ばれる少なくとも1種の化合物とを含有する除草剤組成物。化合物(A)とダイムロン、ジメピペレート及びエスプロカルブの中から選ばれる少なくとも1種の化合物とを同時に、または時間差を設けて施用する除草方法。【選択図】なしA novel herbicidal composition and herbicidal method are provided. A herbicidal composition comprising a compound (A) represented by: ## STR1 ## and at least one compound selected from Daimlon, dimethylpiperate and esprocarb. A herbicidal method in which the compound (A) and at least one compound selected from Daimlon, dimethylpiperate and esprocarb are applied simultaneously or with a time difference. [Selection figure] None

Description

本発明は作物、特に水稲に対する薬害が軽減された除草剤組成物および除草方法に関するものである。   The present invention relates to a herbicidal composition and a herbicidal method with reduced phytotoxicity to crops, particularly paddy rice.

化合物(A)は水稲用除草剤として特許出願中であり、極めて低薬量で多くの雑草に効果を発現し、通常の植付け条件では水稲に対して高い安全性を有するが、極端な浅植えや漏水条件では水稲に対して薬害を生じる場合がある。
ダイムロン、ジメピペレート及びエスプロカルブは、水稲用除草剤として実用化されている化合物であるが、化合物(A)の水稲に対する薬害を軽減する効果についてはこれまで報告されていない。
ピラゾール環上にジオキサジン環が結合したピラゾールスルホニルウレア類が除草活性を有することは特許文献1に開示されている。しかしながら、特許文献1にはピラゾール環上のジオキサジン環に置換基が結合した、化合物(A)のようなピラゾールスルホニルウレア類に関する具体的な開示はない。
特開平7−118269号公報
Compound (A) is patent-pending as a herbicide for paddy rice, has an extremely low dosage and exhibits an effect on many weeds, and has high safety against paddy rice under normal planting conditions, but extremely shallow planting And under water leakage conditions, it may cause phytotoxicity to paddy rice.
Daimlon, dimepiperate, and esprocarb are compounds that have been put to practical use as herbicides for paddy rice, but the effect of reducing the phytotoxicity of compound (A) on paddy rice has not been reported so far.
Patent Document 1 discloses that pyrazole sulfonylureas having a dioxazine ring bonded to a pyrazole ring have herbicidal activity. However, Patent Document 1 does not specifically disclose pyrazole sulfonylureas such as compound (A) in which a substituent is bonded to a dioxazine ring on a pyrazole ring.
Japanese Unexamined Patent Publication No. 7-118269

現在、水稲用除草剤として数多くの化合物が実用化されているが、既存の薬剤は水稲に薬害を及ぼすことなく、対象雑草のみを選択的に防除するという要求を必ずしも完全に満たすものではない。   At present, many compounds have been put to practical use as herbicides for paddy rice, but existing drugs do not completely satisfy the requirement of selectively controlling only the target weeds without causing phytotoxicity to paddy rice.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、化合物(A)とダイムロン、ジメピペレートまたはエスプロカルブとの混合剤が予想を上回る薬害軽減効果を奏することと、化合物(A)をある種の除草剤と混合すると、相互に拮抗することなく、お互いの殺草スペクトラムを補完することを見いだし、本発明を完成させた。すなわち、本発明は、下記〔1〕および〔2〕記載の除草剤組成物(以下、本発明組成物と称する。)、並びに〔3〕および〔4〕記載の除草方法(以下、本発明方法と称する。)に関するものである。
〔1〕式(1):

Figure 2007046440
〔式中、R1はC1-3アルキル基、C1-3ハロアルキル基、C1-3アルコキシC1-3アルキル基、フェニル基またはピリジル基を表し、
2は水素原子、C1-3アルキル基、C1-3ハロアルキル基、C1-3アルコキシ基またはハロゲン原子を表し、
3、R4、R5およびR6はそれぞれ独立して水素原子、C1-3アルキル基またはC1-3ハロアルキル基を表し、但し、R3、R4、R5およびR6のうち、少なくともひとつはC1-3アルキル基またはC1-3ハロアルキル基を表すか、又はR3とR4とが一緒になって=CHを表し、
XおよびYはそれぞれ独立してC1-3アルキル基、C1-3ハロアルキル基、C1-3アルコキシ基、C1-3ハロアルコキシ基、ハロゲン原子またはジ(C1-3アルキル)アミノ基を表し、
Zは窒素原子またはメチン基を表す。〕で表されるピラゾールスルホニルウレア化合物(A)と、
ダイムロン、ジメピペレート及びエスプロカルブの中から選ばれる少なくとも1種の化合物とを含有する除草剤組成物。
〔2〕前記化合物(A)と、ダイムロン、ジメピペレート及びエスプロカルブの中から選ばれる少なくとも1種の化合物とを含有する水稲用除草剤組成物。
〔3〕前記化合物(A)と、ダイムロン、ジメピペレート及びエスプロカルブの中から選ばれる少なくとも1種の化合物とを同時に、または時間差を設けて施用する除草方法。
〔4〕前記化合物(A)と、ダイムロン、ジメピペレート及びエスプロカルブの中から選ばれる少なくとも1種の化合物とを同時に、または時間差を設けて施用する水田の除草方法。
〔5〕前記化合物(A)と、B群(但し、B群は、ピラゾスルフロンエチル(pyrazosulfuron−ethyl/一般名)、ベンスルフロンメチル(bensulfuron−methyl/一般名)、シノスルフロン(cinosulfuron/一般名)、イマゾスルフロン(imazosulfuron/一般名)、アジムスルフロン(azimsulfuron/一般名)、ハロスルフロンメチル(halosulfuron−methyl/一般名)、シクロスルファムロン(cyclosulfamuron/一般名)、エトキシスルフロン(ethoxysulfuron/一般名)、ピラゾレート(pyrazolate/一般名)、ピラゾキシフェン(pyrazoxyfen/一般名)、ベンゾフェナップ(benzofenap/一般名)、ブロモブチド(bromobutide/一般名)、ナプロアニリド(naproanilide/一般名)、プレチラクロール(pretilachlor/一般名)、ブタクロール(butachlor/一般名)、テニルクロール(thenylchlor/一般名)、CNP(一般名)、クロメトキシニル(chlomethoxynil/一般名)、ビフェノックス(bifenox/一般名)、オキサジアゾン(oxadiazon/一般名)、オキサジアルギル(oxadiargyl/一般名)、ペントキサゾン(pentoxazone/一般名)、カフェンストロール(cafenstrole/一般名)、オキサジクロメホン(oxaziclomefone/一般名)、インダノファン(indanofan/一般名)、ピリミノバックメチル(pyriminobac−methyl/一般名)、シハロホップブチル(cyhalofop−butyl/一般名)、フェントラザミド(fentrazamide/一般名)、メフェナセット(mefenacet/一般名)、ブテナクロール(butenachlor/一般名)、ジチオピル(dithiopyl/一般名)、ベンフレセート(benfuresate/一般名)、ピリブチカルブ(pyributicarb/一般名)、ベンチオカーブ(benthiocarb/一般名)、モリネート(molinate/一般名)、ブタミフォス(butamifos/一般名)、キンクロラック(quinclorac/一般名)、シンメスリン(cinmethylin/一般名)、シメトリン(simetryn/一般名)、ベンスリド(bensulide/一般名)、ジメタメトリン(dimethametryn/一般名)、MCPA(一般名)、MCPB(一般名)、エトベンザニド(etobenzanid/一般名)、クミルロン(cumyluron/一般名)、ベンゾビシクロン(benzobicyclon/一般名)、ピリフタリド(pyriftalid/一般名),ビスピリバック(bispyribac/一般名)、ピラクロニル(pyraclonil/一般名)、アニロホス(anilofos/一般名)、OK−701(試験名)、ペノキススラム(penoxsulam/一般名)、AVH−301(試験名)、KUH−021(試験名)、TH−547(試験名)、ベンタゾン(Bentazone/一般名)、2,4−PA(一般名)、メタミホップ(一般名)、フルセトスルフロン(flucetosulfuron/一般名)、HOK−201(一般名)、メソトリオン(mesotrione/一般名)、プロパニル(propanil/一般名)、キノクラミン(quinoclamine/一般名)およびクロメプロップ(clomeprop)からなる。)から選ばれる少なくとも1種の化合物を含有することを特徴とする除草剤組成物。
〔6〕前記化合物(A)と、前記B群から選ばれる少なくとも1種の化合物とを含有する水稲用除草剤組成物。
〔7〕前記化合物(A)と、前記B群から選ばれる少なくとも1種の化合物とを同時に、または時間差を設けて施用する除草方法。
〔8〕前記化合物(A)と、前記B群から選ばれる少なくとも1種の化合物とを同時に、または時間差で施用する水田の除草方法。As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present invention have demonstrated that the compound (A) and Daimlone, dimepiperate, or esprocarb have a greater phytotoxicity-reducing effect than expected, and the compound (A) It has been found that mixing with certain herbicides complements each other's herbicidal spectrum without antagonizing each other, thus completing the present invention. That is, the present invention relates to a herbicide composition described in the following [1] and [2] (hereinafter referred to as the present composition), and a herbicidal method described in [3] and [4] (hereinafter referred to as the present method). .).
[1] Formula (1):
Figure 2007046440
[Wherein R 1 represents a C 1-3 alkyl group, a C 1-3 haloalkyl group, a C 1-3 alkoxy C 1-3 alkyl group, a phenyl group or a pyridyl group,
R 2 represents a hydrogen atom, a C 1-3 alkyl group, a C 1-3 haloalkyl group, a C 1-3 alkoxy group or a halogen atom,
R 3 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom, a C 1-3 alkyl group or a C 1-3 haloalkyl group, provided that R 3 , R 4 , R 5 and R 6 , At least one represents a C 1-3 alkyl group or a C 1-3 haloalkyl group, or R 3 and R 4 together represent ═CH 2 ,
X and Y are each independently a C 1-3 alkyl group, a C 1-3 haloalkyl group, a C 1-3 alkoxy group, a C 1-3 haloalkoxy group, a halogen atom or a di (C 1-3 alkyl) amino group. Represents
Z represents a nitrogen atom or a methine group. And a pyrazole sulfonylurea compound (A) represented by:
A herbicidal composition containing at least one compound selected from Daimlon, dimethylpiperate, and esprocarb.
[2] A herbicidal composition for paddy rice containing the compound (A) and at least one compound selected from Daimlon, dimethylpiperate, and esprocarb.
[3] A herbicidal method in which the compound (A) and at least one compound selected from Daimlon, dimethylpiperate and esprocarb are applied simultaneously or with a time difference.
[4] A paddy field weeding method, wherein the compound (A) and at least one compound selected from Daimlon, dimethylpiperate and eprocarb are applied simultaneously or with a time difference.
[5] The compound (A), group B (provided that group B is pyrazosulfuron-ethyl / generic name), bensulfuron methyl (bensulfuron-methyl / generic name), sinosulfuron / cynosulfuron / generic name ), Imazosulfuron (generic name), azisulfuron (generic name), halosulfuron methyl (generic name), cyclosulfamuron (generic name), ethoxysulfuron (generic name) ), Pyrazolate (generic name), pyrazoxifene (generic name), benzophenap ( enzofenap / generic name), bromobutide (generic name), naproanilide (generic name / generic name), pretilachlor (general name), butachlor (general name), tenylchlorN (generic name) ), Clomethoxynil (generic name), biphenox (bifenox / generic name), oxadiazone (generic name), oxadialgyl (generic name), pentoxazone (generic name), cfentroro (c / en) Oxadichromemephone (general name), Indano Fan (indanofan / generic name), pyriminobac-methyl / generic name, cyhalohop-butyl (generic name), fentolazamide (fentrazamide / generic name), mefenacet / generic name , Butenachlor (butenachlor / generic name), dithiopyr (dithiopyl / generic name), benfrate (benfurateate / generic name), piributicalb (generic name), benchiocarb (bentocarb / generic name), molinate (Butamifos / generic name), quinchlorac (quincrorac / generic name), cinmesulin (cinm) Ethylin / generic name), cimetrin (simmetryn / generic name), bensulide (bensulide / generic name), dimetamethrin (dimetametrin / generic name), MCPA (generic name), MCPB (generic name), etenzanide / etobanzanid / generic name Cumylron (cumylon / generic name), benzobicyclon (benzobicyclone / generic name), pyriftalide (pyriftalid / generic name), bispyribac (general name), pyraclonil (pyraclonil / generic name), anilofos (generic name) OK-701 (test name), penoxsulam (penoxslam / generic name), AVH-301 (test name), KUH-021 (test name), TH-547 Test name), bentazone (Bentazole / generic name), 2,4-PA (generic name), metamihop (generic name), flucetosulfuron (flucetosulfuron / generic name), HOK-201 (generic name), mesotrione / mesotrione / Common name), propanil (propanil / generic name), quinoclamine (generic name) and chromeprop. A herbicide composition comprising at least one compound selected from
[6] A herbicidal composition for paddy rice containing the compound (A) and at least one compound selected from the group B.
[7] A herbicidal method in which the compound (A) and at least one compound selected from the group B are applied simultaneously or with a time difference.
[8] A method for weeding paddy fields, wherein the compound (A) and at least one compound selected from the group B are applied simultaneously or with a time difference.

本発明によれば、除草剤の有効成分である化合物(A)に起因する作物、特に水稲への薬害が、ダイムロン、ジメピペレート及びエスプロカルブにより軽減され、かつ各種雑草に対する除草効果が低下しない。また、化合物(A)とある種の除草剤との混合物は、拮抗することなく、殺草スペクトラムをお互いに補完し合う。これらのため、本発明に従う実際の施用場面での有用性は極めて高い。   According to the present invention, phytotoxicity to crops, particularly paddy rice, caused by compound (A), which is an active ingredient of a herbicide, is reduced by Daimlon, dimethylpiperate and esprocarb, and the herbicidal effect on various weeds does not decrease. Also, mixtures of compound (A) with certain herbicides complement each other in the herbicidal spectrum without antagonism. For these reasons, the utility in an actual application scene according to the present invention is extremely high.

本明細書において、式中の記号Phはフェニル基を表し、Meはメチル基を表し、Buはブチル基を表す。
化合物(A)は下記の反応式1ないし3に示す方法により製造できる。
〔反応式1〕

Figure 2007046440
〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、X、YおよびZは前記と同様の意味を表す。〕
反応式1は4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(2)を塩基存在下または非存在下、2−フェノキシカルボニルアミノピリミジン(またはトリアジン)(3)と反応させて化合物(1)を製造する方法を示す。
本反応において、(3)は(2)に対して通常0.5ないし10倍モル、好ましくは0.9ないし1.1倍モル使用される。
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンおよび1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン等の有機塩基類、n−ブチルリチウムおよびsec−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリル)アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムt−ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。塩基は(2)に対して通常0ないし10倍モル、好ましくは0ないし2倍モル使用される。
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし200℃、好ましくは0ないし120℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。In the present specification, the symbol Ph in the formula represents a phenyl group, Me represents a methyl group, and Bu represents a butyl group.
Compound (A) can be produced by the methods shown in the following reaction formulas 1 to 3.
[Reaction Formula 1]
Figure 2007046440
[Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , X, Y and Z represent the same meaning as described above. ]
Reaction Formula 1 shows that 4- (5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (2) is added in the presence or absence of a base to 2-phenoxycarbonylaminopyrimidine (or triazine). ) A method for producing compound (1) by reacting with (3) is shown.
In this reaction, (3) is generally used in an amount of 0.5 to 10-fold mol, preferably 0.9 to 1.1-fold mol based on (2).
Bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate and sodium hydride, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, N, N-dimethylaniline, 1 , 8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane and other organic bases, n-butyllithium and sec-butyllithium and other organic lithiums, Examples include organic lithium amides such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide. The base is generally used in an amount of 0 to 10 moles, preferably 0 to 2 moles compared to (2).
This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, and halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane. , Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, and mixed solvents thereof.
The reaction temperature is usually -90 to 200 ° C, preferably 0 to 120 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

〔反応式2〕

Figure 2007046440
〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、X、YおよびZは前記と同様の意味を表す。〕
反応式2は4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホニルカーバメート(4)を塩基存在下または非存在下、2−アミノピリミジン(またはトリアジン)(5)と反応させて化合物(1)を製造する方法を示す。
本反応において、(5)は(4)に対して通常0.5ないし10倍モル、好ましくは0.9ないし1.1倍モル使用される。
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンおよび1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン等の有機塩基類、n−ブチルリチウムおよびsec−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリル)アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムt−ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。塩基は(4)に対して通常0ないし10倍モル、好ましくは0ないし2倍モル使用される。
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし200℃、好ましくは0ないし120℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。[Reaction formula 2]
Figure 2007046440
[Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , X, Y and Z represent the same meaning as described above. ]
Reaction Scheme 2 shows 4- (5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonylcarbamate (4) in the presence or absence of a base, 2-aminopyrimidine (or triazine) ( A method for producing compound (1) by reacting with 5) is shown.
In this reaction, (5) is usually used in an amount of 0.5 to 10-fold mol, preferably 0.9 to 1.1-fold mol based on (4).
Bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate and sodium hydride, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, N, N-dimethylaniline, 1 , 8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane and other organic bases, n-butyllithium and sec-butyllithium and other organic lithiums, Examples include organic lithium amides such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide. The base is usually used in an amount of 0 to 10 moles, preferably 0 to 2 moles compared to (4).
This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, and halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane. , Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, and mixed solvents thereof.
The reaction temperature is usually -90 to 200 ° C, preferably 0 to 120 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

〔反応式3〕

Figure 2007046440
〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、X、YおよびZは前記と同様の意味を表す。〕
反応式3は4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホニルイソシアナート(6)を塩基存在下または非存在下、2−アミノピリミジン(またはトリアジン)(5)と反応させて化合物(1)を製造する方法を示す。
本反応において、(5)は(6)に対して通常0.5ないし10倍モル、好ましくは0.9ないし1.1倍モル使用される。
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンおよび1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン等の有機塩基類、n−ブチルリチウムおよびsec−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリル)アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムt−ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。塩基は(3)に対して通常0ないし10倍モル、好ましくは0ないし2倍モル使用される。
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし200℃、好ましくは0ないし120℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。[Reaction Formula 3]
Figure 2007046440
[Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , X, Y and Z represent the same meaning as described above. ]
Reaction Scheme 3 is a method of preparing 4- (5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonyl isocyanate (6) in the presence or absence of a base, 2-aminopyrimidine (or triazine). A method for producing compound (1) by reacting with (5) is shown.
In this reaction, (5) is usually used in an amount of 0.5 to 10-fold mol, preferably 0.9 to 1.1-fold mol based on (6).
Bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate and sodium hydride, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, N, N-dimethylaniline, 1 , 8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane and other organic bases, n-butyllithium and sec-butyllithium and other organic lithiums, Examples include organic lithium amides such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide. The base is generally used in an amount of 0 to 10 moles, preferably 0 to 2 moles compared to (3).
This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, and halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane. , Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, and mixed solvents thereof.
The reaction temperature is usually -90 to 200 ° C, preferably 0 to 120 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

反応式1で示す方法で用いられる4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(2)は反応式4ないし6に示す方法で製造できる。
また、反応式2ないし3で示す方法で用いられる4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホニルカーバメート(4)および4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホニルイソシアナート(6)は4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(2)を原料として、特開昭59−219281号公報および特開昭55−13266号公報に記載されている方法を参考にして合成できる。
4- (5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (2) used in the method shown in Reaction Formula 1 can be produced by the method shown in Reaction Formulas 4-6.
Further, 4- (5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonylcarbamate (4) and 4- (5H, 6H-1) used in the methods shown in Reaction Schemes 2 to 3 are used. , 4,2-Dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonyl isocyanate (6) is 4- (5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (2) Can be synthesized with reference to the methods described in JP-A-59-219281 and JP-A-55-13266.

〔反応式4〕

Figure 2007046440
〔式中、R1、R2、R3、R4、R5およびR6は前記と同様の意味を表す。〕
反応式4は、5−クロロ−4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(7)を水硫化ナトリウムと反応させて5−メルカプト−4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(8)とし(工程A)、(8)を塩素または次亜塩素酸ナトリウム等の塩素化剤と反応させて4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホニルクロリド(9)とし(工程B)、(9)をアンモニア水または炭酸アンモニウムと反応させて(工程C)、4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(2)を製造する方法を示す。[Reaction Formula 4]
Figure 2007046440
[Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 represent the same meaning as described above. ]
Reaction scheme 4 is a reaction of 5-chloro-4- (5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (7) with sodium hydrosulfide to give 5-mercapto-4- (5H, 6H). -1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (8) (step A), (8) is reacted with a chlorinating agent such as chlorine or sodium hypochlorite to give 4- (5H, 6H- 1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonyl chloride (9) (step B), (9) is reacted with aqueous ammonia or ammonium carbonate (step C), 4- (5H, A method for producing 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (2) is shown.

工程Aの反応において、水硫化ナトリウムは(7)に対して通常1.0ないし10倍モル、好ましくは2ないし5倍モル使用される。
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチル−2−ピロリドン等のアミド類、ジメチルスルホキシドおよびスルホラン等の含硫黄極性溶媒類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし200℃、好ましくは0ないし120℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。
In the reaction of Step A, sodium hydrosulfide is generally used in an amount of 1.0 to 10 times mol, preferably 2 to 5 times mol, of (7).
This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, and halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane. , Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide And amides such as N-methyl-2-pyrrolidone, sulfur-containing polar solvents such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, water, and a mixed solvent thereof.
The reaction temperature is usually -90 to 200 ° C, preferably 0 to 120 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

工程Bの反応において、塩素または次亜塩素酸ナトリウムは(8)に対して通常1ないし100倍モル、好ましくは2ないし10倍モル使用される。
本反応は、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし100℃、好ましくは−10ないし50℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。
In the reaction of Step B, chlorine or sodium hypochlorite is usually used in an amount of 1 to 100 times mol, preferably 2 to 10 times mol for (8).
This reaction can use a solvent as needed. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction, and examples thereof include halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane, water, and a mixed solvent thereof.
The reaction temperature is usually -90 to 100 ° C, preferably -10 to 50 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

工程Cの反応において、アンモニアまたは炭酸アンモニウムは(9)に対して通常1.0ないし100倍モル、好ましくは2ないし5倍モル使用される。
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチル−2−ピロリドン等のアミド類、ジメチルスルホキシドおよびスルホラン等の含硫黄極性溶媒類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし200℃、好ましくは0ないし100℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。
In the reaction of Step C, ammonia or ammonium carbonate is usually used in an amount of 1.0 to 100-fold mol, preferably 2 to 5-fold mol based on (9).
This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, and halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane. , Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide And amides such as N-methyl-2-pyrrolidone, sulfur-containing polar solvents such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, water, and a mixed solvent thereof.
The reaction temperature is usually -90 to 200 ° C, preferably 0 to 100 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

〔反応式5〕

Figure 2007046440
〔式中、R1、R2、R3、R4、R5およびR6は前記と同様の意味を表す。〕
反応式5は、5−ベンジルメルカプト−4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(10)を塩素または次亜塩素酸ナトリウム等の塩素化剤と反応させ、4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホニルクロリド(9)を製造する方法を示す。
本反応において、塩素または次亜塩素酸ナトリウムは(10)に対して通常1ないし100倍モル、好ましくは2ないし10倍モル使用される。
本反応は、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし100℃、好ましくは−10ないし50℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。[Reaction Formula 5]
Figure 2007046440
[Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 represent the same meaning as described above. ]
Reaction scheme 5 is a reaction of 5-benzylmercapto-4- (5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (10) with a chlorinating agent such as chlorine or sodium hypochlorite, A method for producing 4- (5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonyl chloride (9) will be described.
In this reaction, chlorine or sodium hypochlorite is usually used in an amount of 1 to 100 times mol, preferably 2 to 10 times mol, of (10).
This reaction can use a solvent as needed. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction, and examples thereof include halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane, water, and a mixed solvent thereof.
The reaction temperature is usually -90 to 100 ° C, preferably -10 to 50 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

(9)は反応式4の工程Cにより、4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(2)に誘導できる。また、特開平7−118267号公報に記載されている方法を参考にし、(9)と(5)とを反応させることにより(1)を製造することができる。   (9) can be derived into 4- (5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (2) by Step C of Reaction Scheme 4. Further, referring to the method described in JP-A-7-118267, (1) can be produced by reacting (9) and (5).

〔反応式6〕

Figure 2007046440
〔式中、R1、R2、R3、R4、R5およびR6は前記と同様の意味を表す。〕
反応式6は、4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(11)のピラゾール環上5位をn−ブチルリチウム(n−BuLi)またはリチウムジイソプロピルアミド(LDA)等によりリチオ化後、二酸化硫黄と反応させて4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルフィン酸リチウム(12)とし(工程D)、(12)をN−クロロコハク酸イミドと反応させて(工程E)、4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホニルクロリド(9)を製造する方法を示す。[Reaction Formula 6]
Figure 2007046440
[Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 represent the same meaning as described above. ]
In Reaction Scheme 6, 4- (5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (11) is substituted with 5-position of n-butyllithium (n-BuLi) or lithium diisopropylamide (LDA) on the pyrazole ring. ) And the like, and then reacted with sulfur dioxide to give lithium 4- (5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfinate (12) (step D), (12) ) Is reacted with N-chlorosuccinimide (Step E) to produce 4- (5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonyl chloride (9) .

工程Dの1)の反応において、n−ブチルリチウムまたはリチウムジイソプロピルアミドは(11)に対して通常1ないし100倍モル、好ましくは1ないし5倍モル使用される。
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−120ないし100℃、好ましくは−78ないし10℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。
In the reaction of step D 1), n-butyllithium or lithium diisopropylamide is usually used in an amount of 1 to 100-fold mol, preferably 1 to 5-fold mol based on (11).
This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, and mixtures thereof A solvent is mentioned.
The reaction temperature is usually -120 to 100 ° C, preferably -78 to 10 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

工程Dの2)の反応において、二酸化硫黄は(11)に対して通常1.0ないし100倍モル、好ましくは1ないし10倍モル使用される。
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−120ないし100℃、好ましくは−78ないし10℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。
In the reaction of step D 2), sulfur dioxide is usually used in an amount of 1.0 to 100-fold mol, preferably 1 to 10-fold mol based on (11).
This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, and mixtures thereof A solvent is mentioned.
The reaction temperature is usually -120 to 100 ° C, preferably -78 to 10 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

工程Eの反応において、N−クロロコハク酸イミドは(12)に対して通常1.0ないし100倍モル、好ましくは1ないし10倍モル使用される。
本反応に使用される溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし100℃、好ましくは−10ないし50℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。
In the reaction of Step E, N-chlorosuccinimide is usually used in an amount of 1.0 to 100-fold mol, preferably 1 to 10-fold mol based on (12).
The solvent used in this reaction is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane, water, and mixtures thereof A solvent is mentioned.
The reaction temperature is usually -90 to 100 ° C, preferably -10 to 50 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

(9)は反応式4の工程Cにより、4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(2)に誘導できる。   (9) can be derived into 4- (5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (2) by Step C of Reaction Scheme 4.

反応式4ないし6に示す方法で用いられる5−クロロ−4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(7)、5−ベンジルメルカプト−4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(10)および4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(11)は反応式7ないし15に示す方法で製造できる。
〔反応式7〕

Figure 2007046440
〔式中、R1、R2、R3、R4、R5およびR6は前記と同様の意味を表し、X1はハロゲン原子を表し、Lは塩素原子、ベンジルチオ基または水素原子を表す。〕
反応式7は、ピラゾール−4−ヒドロキサム酸(13)を隣接ジハロゲン化アルキル(14)と反応させて4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(7)、(10)または(11)を製造する方法を示す。
本反応において、(14)は(13)に対して通常1.0ないし100倍モル、好ましくは1ないし5倍モル使用される。
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンおよび1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン等の有機塩基類、n−ブチルリチウムおよびsec−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリル)アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムt−ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。塩基は(13)に対して通常0ないし10倍モル、好ましくは0ないし2倍モル使用される。
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチル−2−ピロリドン等のアミド類、ジメチルスルホキシドおよびスルホラン等の含硫黄極性溶媒類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし200℃、好ましくは0ないし100℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。5-Chloro-4- (5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (7), 5-benzylmercapto-4- (5H, 6H) used in the methods shown in Reaction Schemes 4 to 6 -1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (10) and 4- (5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (11) are represented by the reaction schemes 7 to 15. Can be manufactured.
[Reaction Scheme 7]
Figure 2007046440
[Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 and R 6 represent the same meaning as described above, X 1 represents a halogen atom, and L represents a chlorine atom, a benzylthio group or a hydrogen atom. . ]
Scheme 7 shows a reaction of pyrazole-4-hydroxamic acid (13) with an adjacent dihalogenated alkyl (14) to give 4- (5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (7), A method for producing (10) or (11) will be described.
In this reaction, (14) is generally used in an amount of 1.0 to 100-fold mol, preferably 1 to 5-fold mol based on (13).
Examples of the base used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium hydride and other inorganic bases, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, Organic bases such as N, N-dimethylaniline, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, n-butyllithium and sec- Examples thereof include organic lithiums such as butyl lithium, organic lithium amides such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide. The base is usually used in an amount of 0 to 10 moles, preferably 0 to 2 moles compared to (13).
This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, and halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane. , Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide And amides such as N-methyl-2-pyrrolidone, sulfur-containing polar solvents such as dimethyl sulfoxide and sulfolane, water, and a mixed solvent thereof.
The reaction temperature is usually -90 to 200 ° C, preferably 0 to 100 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

〔反応式8〕

Figure 2007046440
〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6およびLは前記と同様の意味を表し、X2はハロゲン原子、C1-3アルキルスルホニルオキシ基またはC1-3ハロアルキルスルホニルオキシ基を表す。〕
反応式8は、ピラゾール−4−カルボン酸クロリド(15)をアルコキシアミン(16)と反応させてピラゾール−4−ヒドロキサム酸エステル(17)とし(工程F)、(17)を塩基と反応させて(工程G)、4−(5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(7)、(10)または(11)を製造する方法を示す。[Reaction Formula 8]
Figure 2007046440
[Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and L represent the same meaning as described above, and X 2 represents a halogen atom, a C 1-3 alkylsulfonyloxy group or a C 1- 3 represents a haloalkylsulfonyloxy group. ]
In Reaction Scheme 8, pyrazole-4-carboxylic acid chloride (15) is reacted with alkoxyamine (16) to give pyrazole-4-hydroxamic acid ester (17) (Step F), and (17) is reacted with a base. (Step G) shows a method for producing 4- (5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (7), (10) or (11).

工程Fの反応において、(16)は(15)に対して通常1ないし100倍モル、好ましくは2ないし5倍モル使用される。
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンおよび1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン等の有機塩基類、n−ブチルリチウムおよびsec−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリル)アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムt−ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。塩基は(15)に対して通常0ないし10倍モル、好ましくは0ないし2倍モル使用される。
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチル−2−ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし200℃、好ましくは0ないし100℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。
In the reaction of Step F, (16) is usually used in an amount of 1 to 100-fold mol, preferably 2 to 5-fold mol based on (15).
Examples of the base used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium hydride and other inorganic bases, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, Organic bases such as N, N-dimethylaniline, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, n-butyllithium and sec- Examples thereof include organic lithiums such as butyl lithium, organic lithium amides such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide. The base is generally used in an amount of 0 to 10 moles, preferably 0 to 2 moles compared to (15).
This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, and halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane. , Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide And amides such as N-methyl-2-pyrrolidone, water, and a mixed solvent thereof.
The reaction temperature is usually -90 to 200 ° C, preferably 0 to 100 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

工程Gの反応において使用される塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンおよび1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン等の有機塩基類、n−ブチルリチウムおよびsec−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリル)アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムt−ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。塩基は(17)に対して通常0ないし10倍モル、好ましくは0ないし2倍モル使用される。
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチル−2−ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし200℃、好ましくは0ないし100℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。
Examples of the base used in the reaction of Step G include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate and sodium hydride, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, N, N-dimethyl. Organic bases such as aniline, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, and organic bases such as n-butyllithium and sec-butyllithium Examples include lithiums, organic lithium amides such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide. The base is generally used in an amount of 0 to 10 moles, preferably 0 to 2 moles compared to (17).
This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, and halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane. , Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide And amides such as N-methyl-2-pyrrolidone, water, and a mixed solvent thereof.
The reaction temperature is usually -90 to 200 ° C, preferably 0 to 100 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

〔反応式9〕

Figure 2007046440
〔式中、R1、R2、R3、R5、R6、X1およびLは前記と同様の意味を表し、R7およびR8はそれぞれ独立して水素原子またはC1-3アルキル基を表す。〕
反応式9は、ピラゾール−4−カルボン酸クロリド(15)をアリルオキシアミン(16a)と反応させてピラゾール−4−ヒドロキサム酸エステル(17a)とし(工程H)、(17a)をハロゲンまたはN−ハロゲン化コハク酸イミドと反応させて4−(5−ハロアルキル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(7a)、(10a)または(11a)とし(工程I)、(7a)、(10a)または(11a)を還元して(工程J)、4−(5−アルキル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(7b)、(10b)または(11b)を製造する方法を示す。[Reaction Formula 9]
Figure 2007046440
[Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 5 , R 6 , X 1 and L represent the same meaning as described above, and R 7 and R 8 each independently represents a hydrogen atom or C 1-3 alkyl. Represents a group. ]
In Reaction Scheme 9, pyrazole-4-carboxylic acid chloride (15) is reacted with allyloxyamine (16a) to give pyrazole-4-hydroxamic acid ester (17a) (step H), and (17a) is halogenated or N- Reacting with a halogenated succinimide to give 4- (5-haloalkyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (7a), (10a) or (11a) (step I); (7a), (10a) or (11a) is reduced (Step J) to give 4- (5-alkyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (7b), (10b) ) Or (11b) is produced.

工程Hの反応において、(16a)は(15)に対して通常1ないし100倍モル、好ましくは2ないし5倍モル使用される。
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンおよび1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン等の有機塩基類、n−ブチルリチウムおよびsec−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリル)アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムt−ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。塩基は(15)に対して通常0ないし10倍モル、好ましくは0ないし2倍モル使用される。
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチル−2−ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし200℃、好ましくは0ないし100℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。
In the reaction of Step H, (16a) is usually used in an amount of 1 to 100 times mol, preferably 2 to 5 times mol to (15).
Examples of the base used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium hydride and other inorganic bases, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, Organic bases such as N, N-dimethylaniline, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, n-butyllithium and sec- Examples thereof include organic lithiums such as butyl lithium, organic lithium amides such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide. The base is generally used in an amount of 0 to 10 moles, preferably 0 to 2 moles compared to (15).
This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, and halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane. , Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide And amides such as N-methyl-2-pyrrolidone, water, and a mixed solvent thereof.
The reaction temperature is usually -90 to 200 ° C, preferably 0 to 100 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

工程Iの反応において、ハロゲンまたはN−ハロゲノコハク酸イミドは(17a)に対して通常1ないし100倍モル、好ましくは1ないし5倍モル使用される。
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、酢酸メチルまたは酢酸エチル等のカルボン酸エステル類、メタノール、エタノールまたはエチレングリコール等のアルコール類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチル−2−ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし200℃、好ましくは0ないし100℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。
In the reaction of Step I, halogen or N-halogenosuccinimide is generally used in an amount of 1 to 100-fold mol, preferably 1 to 5-fold mol based on (17a).
This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, and halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane. , Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, carboxylic acid esters such as methyl acetate or ethyl acetate, methanol , Alcohols such as ethanol or ethylene glycol, amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone, water, and mixed solvents thereof It is.
The reaction temperature is usually -90 to 200 ° C, preferably 0 to 100 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

工程Jの反応において用いられる還元剤および還元系としては、金属ナトリウム/液体アンモニア、金属リチウム/液体アンモニアおよび金属ナトリウム/t−ブチルアルコール−テトラヒドロフラン混合溶媒等のアルカリ金属を用いる系、亜鉛/酢酸および亜鉛/水酸化カリウム/水等の金属亜鉛を用いる系、水素化トリフェニルスズ、水素化ジフェニルスズ、水素化トリn−ブチルスズ、水素化ジn−ブチルスズ、水素化トリエチルスズおよび水素化トリメチルスズ等の有機スズ水素化物を用いる系、前記有機スズ化合物とアゾビスイソブチロニトリル等の遊離基開始剤を組み合わせた系、トリクロロシラン、トリエチルシランおよびトリメチルシラン等のシラン類を用いる系、水素化アルミニウムリチウム、水素化アルミニウムナトリウム、水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム、水素化ホウ素ナトリウムおよび水素化シアノホウ素ナトリウム等の金属水素錯化合物を用いる系、ジボラン、トリメチルアミン−ボランおよびピリジン−ボラン等のボラン誘導体を用いる系、並びに、水素/パラジウム−炭素および水素/ラネーニッケル等の接触還元系が挙げられる。
還元剤は、(7a)、(10a)または(11a)に対して通常1ないし100倍モル、好ましくは1ないし5倍モル使用される。
本還元反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は上記各還元系に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、酢酸メチルまたは酢酸エチル等のカルボン酸エステル類、メタノール、エタノールまたはエチレングリコール等のアルコール類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチル−2−ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし200℃、好ましくは−78ないし100℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。
Examples of the reducing agent and the reduction system used in the reaction of Step J include a system using an alkali metal such as metallic sodium / liquid ammonia, metallic lithium / liquid ammonia and metallic sodium / t-butyl alcohol-tetrahydrofuran mixed solvent, zinc / acetic acid and Systems using metallic zinc such as zinc / potassium hydroxide / water, such as triphenyltin hydride, diphenyltin hydride, tri-n-butyltin hydride, di-n-butyltin hydride, triethyltin hydride and trimethyltin hydride Systems using organotin hydrides, systems combining the above organotin compounds and free radical initiators such as azobisisobutyronitrile, systems using silanes such as trichlorosilane, triethylsilane and trimethylsilane, lithium aluminum hydride , Aluminum hydride sodium , Systems using metal hydrogen complex compounds such as sodium bis (2-methoxyethoxy) aluminum hydride, sodium borohydride and sodium cyanoborohydride, systems using borane derivatives such as diborane, trimethylamine-borane and pyridine-borane And catalytic reduction systems such as hydrogen / palladium-carbon and hydrogen / Raney nickel.
The reducing agent is usually used in an amount of 1 to 100 times mol, preferably 1 to 5 times mol for (7a), (10a) or (11a).
This reduction reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used as necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inactive to each of the above reducing systems. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, halogen systems such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane. Hydrocarbons, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, carboxylic acid esters such as methyl acetate and ethyl acetate , Alcohols such as methanol, ethanol or ethylene glycol, amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone, water, and mixed solutions thereof And the like.
The reaction temperature is usually -90 to 200 ° C, preferably -78 to 100 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

〔反応式10〕

Figure 2007046440
〔式中、R1、R2、R5、R6、R7、R8、X2およびLは前記と同様の意味を表す。〕
反応式10は、4−(5−ハロアルキル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(7c)、(10c)または(11c)を塩基存在下または非存在下、脱ハロゲン化水素化して、各々対応する4−(5−アルキリデン−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(7d)、(10d)または(11d)とし(工程K)、(7d)、(10d)または(11d)を還元して(工程L)、各々対応する4−(5−アルキル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(7e)、(10e)または(11e)を製造する方法を示す。[Reaction Scheme 10]
Figure 2007046440
[Wherein, R 1 , R 2 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , X 2 and L represent the same meaning as described above. ]
Reaction scheme 10 shows the removal of 4- (5-haloalkyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (7c), (10c) or (11c) in the presence or absence of a base. Hydrogenated to the corresponding 4- (5-alkylidene-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (7d), (10d) or (11d) (step K), Reduction of (7d), (10d) or (11d) (Step L), respectively corresponding 4- (5-alkyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (7e) , (10e) or (11e) will be described.

工程Kの反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンおよび1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン等の有機塩基類、n−ブチルリチウムおよびsec−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリル)アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムt−ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。塩基は(7c)、(10c)または(11c)に対して通常0ないし100倍モル、好ましくは0ないし5倍モル使用される。
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチル−2−ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし200℃、好ましくは0ないし100℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。
Examples of the base used in the reaction of Step K include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium bicarbonate, sodium bicarbonate and sodium hydride, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, Organic bases such as triethylamine, N, N-dimethylaniline, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, n-butyllithium and Examples include organolithiums such as sec-butyllithium, organolithiums such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide. The base is generally used in an amount of 0 to 100-fold mol, preferably 0 to 5-fold mol based on (7c), (10c) or (11c).
This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, and halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane. , Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide And amides such as N-methyl-2-pyrrolidone, water, and a mixed solvent thereof.
The reaction temperature is usually -90 to 200 ° C, preferably 0 to 100 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

工程Lの反応において用いられる還元剤および還元系としては、金属ナトリウム/液体アンモニア、金属リチウム/液体アンモニアおよび金属リチウム/エチルアミン等のアルカリ金属を用いる系、アルミニウム−水銀/ジエチルエーテル−水およびアルミニウム−ニッケル/水酸化ナトリウム/水等の金属アルミニウムを用いる系、水素化ジイソブチルアルミニウム等の水素化アルミニウム化合物を用いる系、トリエチルシラン−トリフルオロ酢酸およびポリメチルヒドロシロキサン/パラジウム−炭素等のヒドロシラン類を用いる系、水素化アルミニウムリチウム、水素化アルミニウムナトリウム、水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム、水素化ホウ素ナトリウムおよび水素化シアノホウ素ナトリウム等の金属水素錯化合物を用いる系、ジボラン、トリメチルアミン−ボランおよびピリジン−ボラン等のボラン誘導体を用いる系、抱水ヒドラジン/空気、抱水ヒドラジン/ヘキサシアノ鉄(III)酸カリウムおよびヒドロキシルアミン−O−スルホン酸/水酸化ナトリウム等の反応系内に発生させたジイミドを用いる系、水素/パラジウム−炭素および水素/ラネーニッケル等の不均一系接触還元系、並びに、水素/クロロトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)、水素/ヒドリドカルボニルトリス(トリフェニルホスフィン)ロジウム(I)、水素/酢酸ロジウム(II)および水素/酢酸ルテニウム(II)等均一系接触還元系が挙げられる。
本還元反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は上記各還元系に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、酢酸メチルまたは酢酸エチル等のカルボン酸エステル類、メタノール、エタノールまたはエチレングリコール等のアルコール類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチル−2−ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし200℃、好ましくは−78ないし100℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。
Examples of the reducing agent and the reduction system used in the reaction of Step L include systems using alkali metals such as metallic sodium / liquid ammonia, metallic lithium / liquid ammonia and metallic lithium / ethylamine, aluminum-mercury / diethyl ether-water, and aluminum- Systems using metal aluminum such as nickel / sodium hydroxide / water, systems using aluminum hydride compounds such as diisobutylaluminum hydride, and hydrosilanes such as triethylsilane-trifluoroacetic acid and polymethylhydrosiloxane / palladium-carbon System, metallic water such as lithium aluminum hydride, sodium aluminum hydride, sodium bis (2-methoxyethoxy) aluminum hydride, sodium borohydride and sodium cyanoborohydride Systems using complex compounds, systems using borane derivatives such as diborane, trimethylamine-borane and pyridine-borane, hydrazine hydrate / air, hydrazine hydrate / potassium hexacyanoferrate (III) and hydroxylamine-O-sulfonic acid / water System using diimide generated in reaction system such as sodium oxide, heterogeneous catalytic reduction system such as hydrogen / palladium-carbon and hydrogen / Raney nickel, and hydrogen / chlorotris (triphenylphosphine) rhodium (I), hydrogen And homogeneous catalytic reduction systems such as / hydridocarbonyltris (triphenylphosphine) rhodium (I), hydrogen / rhodium acetate (II) and hydrogen / ruthenium acetate (II).
This reduction reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used as necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inactive to each of the above reducing systems. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, halogen systems such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane. Hydrocarbons, ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, carboxylic acid esters such as methyl acetate and ethyl acetate , Alcohols such as methanol, ethanol or ethylene glycol, amides such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone, water, and mixed solutions thereof And the like.
The reaction temperature is usually -90 to 200 ° C, preferably -78 to 100 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

〔反応式11〕

Figure 2007046440
〔式中、R1、R2、R3、R5、R6、R7、R8およびLは前記と同様の意味を表す。〕
反応式11は、ピラゾール−4−ヒドロキサム酸エステル(17a)または(17b)を酸(H+)と反応させて4−(5−アルキル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(7b)、(10b)または(11b)を製造する方法を示す。[Reaction Formula 11]
Figure 2007046440
[Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and L represent the same meaning as described above. ]
Scheme 11 shows the reaction of pyrazole-4-hydroxamic acid ester (17a) or (17b) with acid (H +) to give 4- (5-alkyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl. ) Shows a method for producing pyrazole (7b), (10b) or (11b).

本反応に使用される酸としては塩酸、硫酸およびリン酸等の無機酸類、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸またはp−トルエンスルホン酸等の有機酸類が挙げられる。酸は(17a)または(17b)に対して通常0.01ないし100倍モル、好ましくは0.05ないし10倍モル使用される。
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチル−2−ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし200℃、好ましくは0ないし100℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。
Examples of the acid used in this reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and phosphoric acid, and organic acids such as acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid and p-toluenesulfonic acid. The acid is generally used in an amount of 0.01 to 100-fold mol, preferably 0.05 to 10-fold mol based on (17a) or (17b).
This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, and halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane. , Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide And amides such as N-methyl-2-pyrrolidone, water, and a mixed solvent thereof.
The reaction temperature is usually -90 to 200 ° C, preferably 0 to 100 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

〔反応式12〕

Figure 2007046440
〔式中、R3、R5、R6、R7、R8およびX2は前記と同様の意味を表す。〕
反応式12は、ピラゾール−4−ヒドロキサム酸(13)を塩基存在下または非存在下、ハロゲン化アリル(18)と反応させて、反応式9および反応式11で用いられるピラゾール−4−ヒドロキサム酸エステル(17a)を製造する方法を示す。[Reaction Formula 12]
Figure 2007046440
[Wherein R 3 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and X 2 represent the same meaning as described above. ]
Scheme 12 shows the reaction of pyrazole-4-hydroxamic acid (13) with allyl halide (18) in the presence or absence of a base to form pyrazole-4-hydroxamic acid used in Scheme 9 and Scheme 11. The method to manufacture ester (17a) is shown.

本反応において、(18)は(13)に対して通常1ないし100倍モル、好ましくは1ないし5倍モル使用される。
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンおよび1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン等の有機塩基類、n−ブチルリチウムおよびsec−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリル)アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムt−ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。塩基は(13)に対して通常0ないし100倍モル、好ましくは0ないし5倍モル使用される。
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチル−2−ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし200℃、好ましくは0ないし100℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。
In this reaction, (18) is generally used in an amount of 1 to 100-fold mol, preferably 1 to 5-fold mol based on (13).
Examples of the base used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium hydride and other inorganic bases, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, Organic bases such as N, N-dimethylaniline, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, n-butyllithium and sec- Examples thereof include organic lithiums such as butyl lithium, organic lithium amides such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide. The base is generally used in an amount of 0 to 100-fold mol, preferably 0 to 5-fold mol based on (13).
This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, and halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane. , Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide And amides such as N-methyl-2-pyrrolidone, water, and a mixed solvent thereof.
The reaction temperature is usually -90 to 200 ° C, preferably 0 to 100 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

〔反応式13〕

Figure 2007046440
〔式中、R3、R5、R6、R7、R8およびX2は前記と同様の意味を表す。〕
反応式13は、ピラゾール−4−ヒドロキサム酸(13)を塩基存在下または非存在下、ハロヒドリン(19)またはオキシラン(20)と反応させて、反応式11で用いられるピラゾール−4−ヒドロキサム酸エステル(17b)を製造する方法を示す。[Reaction Formula 13]
Figure 2007046440
[Wherein R 3 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and X 2 represent the same meaning as described above. ]
Scheme 13 shows the reaction of pyrazole-4-hydroxamic acid ester used in Scheme 11 by reacting pyrazole-4-hydroxamic acid (13) with halohydrin (19) or oxirane (20) in the presence or absence of a base. The method to manufacture (17b) is shown.

本反応において、(19)または(20)は(13)に対して通常1ないし100倍モル、好ましくは2ないし5倍モル使用される。
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンおよび1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン等の有機塩基類、n−ブチルリチウムおよびsec−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリル)アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムt−ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。塩基は(13)に対して通常0ないし100倍モル、好ましくは0ないし5倍モル使用される。
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチル−2−ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし200℃、好ましくは0ないし100℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。
In this reaction, (19) or (20) is generally used in an amount of 1 to 100-fold mol, preferably 2 to 5-fold mol based on (13).
Examples of the base used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium hydride and other inorganic bases, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, Organic bases such as N, N-dimethylaniline, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, n-butyllithium and sec- Examples thereof include organic lithiums such as butyl lithium, organic lithium amides such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide. The base is generally used in an amount of 0 to 100-fold mol, preferably 0 to 5-fold mol based on (13).
This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, and halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane. , Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide And amides such as N-methyl-2-pyrrolidone, water, and a mixed solvent thereof.
The reaction temperature is usually -90 to 200 ° C, preferably 0 to 100 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

〔反応式14〕

Figure 2007046440
〔式中、R1、R2、R3、R5、R6、R7、R8およびLは前記と同様の意味を表す。〕
反応式14は、ピラゾール−4−ヒドロキサム酸(13)を塩基存在下または非存在下、エピハロヒドリン(21)と反応させて、ピラゾール−4−ヒドロキサム酸エステル(17c)とし(工程L)、(17c)を酸または塩基で処理して、4−(5−ヒドロキシアルキル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(7f)、(10f)または(11f)とし(工程M)、次に、(7f)、(10f)または(11f)をハロゲン化またはアルキルスルホニル化する(工程N)ことにより、各々対応する、4−(5−ハロアルキル(またはアルキルスルホニルオキシアルキル)−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(7c)、(10c)または(11c)を製造する方法を示す。(7c)、(10c)または(11c)は反応式10で使用される。[Reaction Scheme 14]
Figure 2007046440
[Wherein, R 1 , R 2 , R 3 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 and L represent the same meaning as described above. ]
In Reaction Scheme 14, pyrazole-4-hydroxamic acid (13) is reacted with epihalohydrin (21) in the presence or absence of a base to give pyrazole-4-hydroxamic acid ester (17c) (step L), (17c ) With acid or base to give 4- (5-hydroxyalkyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (7f), (10f) or (11f) (Step M ), Then (7f), (10f) or (11f) is halogenated or alkylsulfonylated (Step N) to give the corresponding 4- (5-haloalkyl (or alkylsulfonyloxyalkyl) -5H , 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (7c), (10c) or (11c). (7c), (10c) or (11c) is used in Reaction Scheme 10.

工程Lの反応において、(21)は(13)に対して通常1ないし100倍モル、好ましくは1ないし5倍モル使用される。
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンおよび1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン等の有機塩基類、n−ブチルリチウムおよびsec−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリル)アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムt−ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。塩基は(13)に対して通常0ないし100倍モル、好ましくは0ないし5倍モル使用される。
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチル−2−ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし200℃、好ましくは0ないし100℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。
In the reaction of Step L, (21) is generally used in an amount of 1 to 100-fold mol, preferably 1 to 5-fold mol based on (13).
Examples of the base used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium hydride and other inorganic bases, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, Organic bases such as N, N-dimethylaniline, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, n-butyllithium and sec- Examples thereof include organic lithiums such as butyl lithium, organic lithium amides such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide. The base is generally used in an amount of 0 to 100-fold mol, preferably 0 to 5-fold mol based on (13).
This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, and halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane. , Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide And amides such as N-methyl-2-pyrrolidone, water, and a mixed solvent thereof.
The reaction temperature is usually -90 to 200 ° C, preferably 0 to 100 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

工程Mの反応において使用される酸または塩基としては、塩酸、硫酸およびリン酸等の無機酸類、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸およびp−トルエンスルホン酸等の有機酸類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンおよび1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン等の有機塩基類、n−ブチルリチウムおよびsec−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリル)アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムt−ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。酸または塩基は(17c)に対して通常0ないし100倍モル、好ましくは0ないし5倍モル使用される。
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチル−2−ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし200℃、好ましくは0ないし100℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。
Examples of the acid or base used in the reaction of Step M include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid and p-toluenesulfonic acid, Inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium bicarbonate, sodium bicarbonate and sodium hydride, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, N, N-dimethylaniline, 1, Organic bases such as 8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, organic lithiums such as n-butyllithium and sec-butyllithium, lithium Diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl ) Organic lithium amide such as amide, and sodium methoxide, metal alkoxides such as sodium ethoxide and potassium t- butoxide. The acid or base is generally used in an amount of 0 to 100-fold mol, preferably 0 to 5-fold mol based on (17c).
This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, and halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane. , Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide And amides such as N-methyl-2-pyrrolidone, water, and a mixed solvent thereof.
The reaction temperature is usually -90 to 200 ° C, preferably 0 to 100 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

工程Nの反応において、ハロゲン化剤またはアルキルスルホニル化剤は(7f)、(10f)または(11f)に対して通常1ないし100倍モル、好ましくは1ないし5倍モル使用される。
本反応に使用されるハロゲン化剤としては、塩化水素、臭化水素およびヨウ化水素等のハロゲン化水素酸、三塩化リン、五塩化リン、オキシ塩化リンおよび三臭化リン等のハロゲン化リン、ホスホン酸トリフェニル/塩化ベンジルおよびトリフェニルホスフィン/四塩化炭素等の系、塩化メタンスルホニルおよび塩化p−トルエンスルホニル等のハロゲン化スルホニウム、並びに塩化チオニルおよび臭化チオニル等のハロゲン化チオニルが挙げられる。
本反応に使用されるアルキルスルホニル化剤としては、塩化メタンスルホニルおよび塩化p−トルエンスルホニル等のハロゲン化スルホニウムが挙げられる。
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチル−2−ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし200℃、好ましくは0ないし100℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。
In the reaction of Step N, the halogenating agent or alkylsulfonylating agent is generally used in an amount of 1 to 100-fold mol, preferably 1 to 5-fold mol based on (7f), (10f) or (11f).
Examples of the halogenating agent used in this reaction include hydrogen halide acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide and hydrogen iodide, phosphorus halides such as phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, phosphorus oxychloride and phosphorus tribromide. Systems such as triphenyl phosphonate / benzyl chloride and triphenylphosphine / carbon tetrachloride, sulfonium halides such as methanesulfonyl chloride and p-toluenesulfonyl chloride, and thionyl halides such as thionyl chloride and thionyl bromide. .
Examples of the alkylsulfonylating agent used in this reaction include sulfonium halides such as methanesulfonyl chloride and p-toluenesulfonyl chloride.
This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, and halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane. , Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide And amides such as N-methyl-2-pyrrolidone, water, and a mixed solvent thereof.
The reaction temperature is usually -90 to 200 ° C, preferably 0 to 100 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

〔反応式15〕

Figure 2007046440
反応式15は、ピラゾール−4−カルボン酸クロリド(15)を塩基存在下または非存在下、ヒドロキシアミンと反応させて、反応式7、反応式12ないし14で用いられるピラゾール−4−ヒドロキサム酸(13)を製造する方法を示す。[Reaction Scheme 15]
Figure 2007046440
Reaction Scheme 15 is the reaction of pyrazole-4-carboxylic acid chloride (15) with hydroxyamine in the presence or absence of a base to give pyrazole-4-hydroxamic acid ( 13) shows a method of manufacturing.

本反応において、ヒドロキシルアミンは(15)に対して通常1ないし100倍モル、好ましくは1ないし5倍モル使用される。
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセンおよび1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン等の有機塩基類、n−ブチルリチウムおよびsec−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス(トリメチルシリル)アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムt−ブトキシド等の金属アルコキシド類が挙げられる。塩基は(15)に対して通常0ないし100倍モル、好ましくは0ないし5倍モル使用される。
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび1,2−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドおよびN−メチル−2−ピロリドン等のアミド類、水、並びにこれらの混合溶媒が挙げられる。
反応温度は通常−90ないし200℃、好ましくは0ないし100℃である。
反応時間は通常0.05ないし100時間、好ましくは0.5ないし10時間である。
In this reaction, hydroxylamine is usually used in an amount of 1 to 100 times mol, preferably 1 to 5 times mol, of (15).
Examples of the base used in this reaction include sodium hydroxide, potassium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium hydride and other inorganic bases, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, triethylamine, Organic bases such as N, N-dimethylaniline, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene and 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, n-butyllithium and sec- Examples thereof include organic lithiums such as butyl lithium, organic lithium amides such as lithium diisopropylamide and lithium bis (trimethylsilyl) amide, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide and potassium t-butoxide. The base is generally used in an amount of 0 to 100-fold mol, preferably 0 to 5-fold mol based on (15).
This reaction proceeds even without solvent, but a solvent can be used if necessary. The solvent is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. For example, hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, benzene and toluene, and halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform and 1,2-dichloroethane. , Ethers such as diethyl ether, diisopropyl ether, dioxane and tetrahydrofuran, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, nitriles such as acetonitrile and propionitrile, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide And amides such as N-methyl-2-pyrrolidone, water, and a mixed solvent thereof.
The reaction temperature is usually -90 to 200 ° C, preferably 0 to 100 ° C.
The reaction time is usually 0.05 to 100 hours, preferably 0.5 to 10 hours.

以上の反応によって得られる目的物は、反応終了後、濾取、抽出、洗浄、カラムクロマトグラフィー、再結晶および蒸留等の操作により、単離および精製することができる。   The desired product obtained by the above reaction can be isolated and purified by operations such as filtration, extraction, washing, column chromatography, recrystallization and distillation after completion of the reaction.

以下に化合物の合成例を具体的に述べるが、本発明はこれらによって限定されるものではない。   Examples of the synthesis of the compounds will be specifically described below, but the present invention is not limited thereto.

〔合成例1〕
N−((4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミノカルボニル)−3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(化合物No.1)の合成

Figure 2007046440
アセトニトリル(8ml)に3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(0.64g、2.2mmol)とN−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)カルバミン酸フェニル(0.59g、2.1mmol)を溶解し、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(0.33g、2.2mmol)を加え、室温で1時間撹拌した。水(8ml)を加えた後、ジエチルエーテルで抽出した。得られた水層に12%塩酸を加えてpH1に調整し、ジエチルエーテルで再度抽出した。得られたジエチルエーテル溶液を水および塩化ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をn−ヘキサンで洗浄、乾燥して目的物(0.40g)を得た。融点177−179℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.38(d,J=6.6Hz,3H),3.69−3.72(m,1H),3.96(s,6H),4.13−4.18(m,1H),4.30(s,3H),4.49−4.63(m,1H),5.77(s,1H),7.67(brs,1H),12.91(brs,1H)。[Synthesis Example 1]
N-((4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl) aminocarbonyl) -3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) Synthesis of pyrazole-5-sulfonamide (Compound No. 1)
Figure 2007046440
3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (0.64 g, 2.2 mmol) in acetonitrile (8 ml) ) And phenyl N- (4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl) carbamate (0.59 g, 2.1 mmol) were dissolved in 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (0 .33 g, 2.2 mmol) was added and stirred at room temperature for 1 hour. Water (8 ml) was added and extracted with diethyl ether. The obtained aqueous layer was adjusted to pH 1 by adding 12% hydrochloric acid and extracted again with diethyl ether. The obtained diethyl ether solution was washed successively with water and saturated aqueous sodium chloride solution, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was washed with n-hexane and dried to obtain the desired product (0.40 g). Melting point 177-179 [deg.] C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.38 (d, J = 6.6 Hz, 3H), 3.69-3.72 (m, 1H), 3.96 (s, 6H), 4.13-4.18 (m, 1H), 4.30 (s, 3H), 4.49-4.63 (m, 1H), 5.77 (s, 1H), 7.67. (Brs, 1H), 12.91 (brs, 1H).

〔合成例2〕
N−((4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミノカルボニル)−3−クロロ−4−(5−ヨードメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1−メチルピラゾール−5−スルホンアミド(化合物No.2)の合成

Figure 2007046440
原料に3−クロロ−4−(5−ヨードメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1−メチルピラゾール−5−スルホンアミド(0.090g、0.21mmol)を用い、合成例1と同様にして目的物(0.10g)を得た。融点91−94℃
。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)3.28−3.42(m,2H),3.89−4.05(m,7H),4.04−4.12(m,1H),4.31(s,3H),4.56−4.60(m,1H),5.79(s,1H),7.43(brs,1H),12.93(s,1H)。[Synthesis Example 2]
N-((4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl) aminocarbonyl) -3-chloro-4- (5-iodomethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1-methyl Synthesis of pyrazole-5-sulfonamide (Compound No. 2)
Figure 2007046440
3-Chloro-4- (5-iodomethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1-methylpyrazole-5-sulfonamide (0.090 g, 0.21 mmol) was used as a raw material. The target product (0.10 g) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1. Melting point 91-94 ° C
. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 3.28-3.42 (m, 2H), 3.89-4.05 (m, 7H), 4.04-4.12 ( m, 1H), 4.31 (s, 3H), 4.56-4.60 (m, 1H), 5.79 (s, 1H), 7.43 (brs, 1H), 12.93 (s) , 1H).

〔合成例3〕
N−((4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミノカルボニル)−3−クロロ−4−(5,5−ジメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1−メチルピラゾール−5−スルホンアミド(化合物No.3)の合成

Figure 2007046440
原料に3−クロロ−4−(5,5−ジメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1−メチルピラゾール−5−スルホンアミド(0.47g、1.5mmol)を用い、合成例1と同様にして目的物(0.42g)を得た。融点189−191℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.41(s,6H),3.78(s,2H),3.97(s,6H),4.30(s,3H),5.78(s,1H),7.58(brs,1H),12.92(brs,1H)。[Synthesis Example 3]
N-((4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl) aminocarbonyl) -3-chloro-4- (5,5-dimethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1 -Synthesis of methylpyrazole-5-sulfonamide (Compound No. 3)
Figure 2007046440
3-Chloro-4- (5,5-dimethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1-methylpyrazole-5-sulfonamide (0.47 g, 1.5 mmol) as raw material Was used in the same manner as in Synthesis Example 1 to obtain the desired product (0.42 g). Melting point 189-191 [deg.] C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.41 (s, 6H), 3.78 (s, 2H), 3.97 (s, 6H), 4.30 (s, 3H ), 5.78 (s, 1H), 7.58 (brs, 1H), 12.92 (brs, 1H).

〔合成例4〕
N−((4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミノカルボニル)−3−クロロ−4−(5−ヨードメチル−5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1−メチルピラゾール−5−スルホンアミド(化合物No.4)の合成

Figure 2007046440
原料に3−クロロ−4−(5−ヨードメチル−5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1−メチルピラゾール−5−スルホンアミド(0.21g、0.48mmol)を用い、合成例1と同様にして目的物(0.14g)を得た。融点90−93℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.55(s,3H),3.30−3.49(m,2H),3.81−3.84(m,1H),3.97(s,6H),4.23−4.30(m,4H),5.80(s,1H),7.29(brs,1H),12.93(s,1H)。[Synthesis Example 4]
N-((4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl) aminocarbonyl) -3-chloro-4- (5-iodomethyl-5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) Synthesis of -1-methylpyrazole-5-sulfonamide (Compound No. 4)
Figure 2007046440
3-Chloro-4- (5-iodomethyl-5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1-methylpyrazole-5-sulfonamide (0.21 g,. 48 mmol), and the target product (0.14 g) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1. Melting point 90-93 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.55 (s, 3H), 3.30-3.49 (m, 2H), 3.81-3.84 (m, 1H) 3.97 (s, 6H), 4.23-4.30 (m, 4H), 5.80 (s, 1H), 7.29 (brs, 1H), 12.93 (s, 1H).

〔合成例5〕
N−((4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミノカルボニル)−1,3−ジメチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(化合物No.5)の合成

Figure 2007046440
原料に1,3−ジメチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(0.070g、0.26mmol)を用い、合成例1と同様にして目的物(0.090g)を得た。融点180−182℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.36(d,J=6.6Hz,3H),2.29(s,3H),3.62−3.69(m,1H),3.97(s,6H),4.11−4.16(m,1H),4.27(s,3H),4.49−4.54(m,1H),5.78(s,1H),7.23(brs,1H),12.74(brs,1H)。[Synthesis Example 5]
N-((4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl) aminocarbonyl) -1,3-dimethyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole- Synthesis of 5-sulfonamide (Compound No. 5)
Figure 2007046440
Using 1,3-dimethyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (0.070 g, 0.26 mmol) as a raw material In the same manner as in Example 1, the target product (0.090 g) was obtained. Melting point 180-182 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.36 (d, J = 6.6 Hz, 3H), 2.29 (s, 3H), 3.62-3.69 (m, 1H), 3.97 (s, 6H), 4.11-4.16 (m, 1H), 4.27 (s, 3H), 4.49-4.54 (m, 1H), 5.78 (S, 1H), 7.23 (brs, 1H), 12.74 (brs, 1H).

〔合成例6〕
N−((4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミノカルボニル)−3−クロロ−4−(5−ヨードメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1−メチルピラゾール−5−スルホンアミド(化合物No.6)の合成

Figure 2007046440
原料に4−(5−ヨードメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1,3−ジメチルピラゾール−5−スルホンアミド(0.53g、1.3mmol)を用い、合成例1と同様にして目的物(0.34g)を得た。融点66−69℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)2.34(s,3H),3.36(m,2H),3.92−4.19(m,8H),4.23(s,3H),4.54−4.59(m,1H),5.78(s,1H),7.41(brs,1H),12.64(brs,1H)。[Synthesis Example 6]
N-((4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl) aminocarbonyl) -3-chloro-4- (5-iodomethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1-methyl Synthesis of pyrazole-5-sulfonamide (Compound No. 6)
Figure 2007046440
Synthesis using 4- (5-iodomethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1,3-dimethylpyrazole-5-sulfonamide (0.53 g, 1.3 mmol) as a raw material In the same manner as in Example 1, the desired product (0.34 g) was obtained. Mp 66-69 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 2.34 (s, 3H), 3.36 (m, 2H), 3.92-4.19 (m, 8H), 4.23 (S, 3H), 4.54-4.59 (m, 1H), 5.78 (s, 1H), 7.41 (brs, 1H), 12.64 (brs, 1H).

〔合成例7〕
N−((4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミノカルボニル)−4−(5,5−ジメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1,3−ジメチルピラゾール−5−スルホンアミド(化合物No.7)の合成

Figure 2007046440
原料に4−(5,5−ジメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1,3−ジメチルピラゾール−5−スルホンアミド(0.13g、0.45mmol)を用い、合成例1と同様にして目的物(0.12g)を得た。融点199−201℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.39(s,6H),2.27(s,3H),3.75(s,2H),3.97(s,6H),4.27(s,3H),5.78(s,1H),7.22(brs,1H),12.75(s,1H)。[Synthesis Example 7]
N-((4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl) aminocarbonyl) -4- (5,5-dimethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1,3-dimethyl Synthesis of pyrazole-5-sulfonamide (Compound No. 7)
Figure 2007046440
4- (5,5-Dimethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1,3-dimethylpyrazole-5-sulfonamide (0.13 g, 0.45 mmol) was used as a raw material. The target product (0.12 g) was obtained in the same manner as in Synthesis Example 1. Melting point: 199-201 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.39 (s, 6H), 2.27 (s, 3H), 3.75 (s, 2H), 3.97 (s, 6H) ), 4.27 (s, 3H), 5.78 (s, 1H), 7.22 (brs, 1H), 12.75 (s, 1H).

〔合成例8〕
N−((4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミノカルボニル)−4−(5−ヨードメチル−5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1,3−ジメチルピラゾール−5−スルホンアミド(化合物No.8)の合成

Figure 2007046440
原料に4−(5−ヨードメチル−5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1,3−ジメチルピラゾール−5−スルホンアミド(0.080g、0.19mmol)を用い、合成例1と同様にして目的物(0.050g)を得た。融点133−135℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.63(s,3H),2.29(s,3H),3.31−3.46(m,2H),3.78−3.82(m,1H),3.97(s,6H),4.17−4.27(m,4H),5.79(s,1H),7.40(brs,1H),12.76(brs,1H)。[Synthesis Example 8]
N-((4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl) aminocarbonyl) -4- (5-iodomethyl-5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1,3 -Synthesis of dimethylpyrazole-5-sulfonamide (Compound No. 8)
Figure 2007046440
4- (5-Iodomethyl-5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1,3-dimethylpyrazole-5-sulfonamide (0.080 g, 0.19 mmol) as a raw material Was used in the same manner as in Synthesis Example 1 to obtain the desired product (0.050 g). Mp 133-135 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.63 (s, 3H), 2.29 (s, 3H), 3.31-3.46 (m, 2H), 3.78 -3.82 (m, 1H), 3.97 (s, 6H), 4.17-4.27 (m, 4H), 5.79 (s, 1H), 7.40 (brs, 1H), 12.76 (brs, 1H).

〔合成例9〕
N−((4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミノカルボニル)−1,3−ジメチル−4−(6−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(化合物No.9)の合成

Figure 2007046440
原料に1,3−ジメチル−4−(6−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(0.14g、0.51mmol)を用い、合成例1と同様にして目的物(0.17g)を得た。融点187−189℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.28(d,J=8.0Hz,3H),2.29(s,3H),3.96(s,6H),3.99−4.04(m,2H),4.27(s,3H),4.29−4.33(m,1H),5.78(s,1H),7.26(brs,1H),12.70(brs,1H)。[Synthesis Example 9]
N-((4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl) aminocarbonyl) -1,3-dimethyl-4- (6-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole- Synthesis of 5-sulfonamide (Compound No. 9)
Figure 2007046440
Synthesis using 1,3-dimethyl-4- (6-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (0.14 g, 0.51 mmol) as a raw material In the same manner as in Example 1, the desired product (0.17 g) was obtained. Melting point 187-189 [deg.] C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.28 (d, J = 8.0 Hz, 3H), 2.29 (s, 3H), 3.96 (s, 6H), 3 .99-4.04 (m, 2H), 4.27 (s, 3H), 4.29-4.33 (m, 1H), 5.78 (s, 1H), 7.26 (brs, 1H) ), 12.70 (brs, 1H).

〔合成例10〕
N−((4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミノカルボニル)−3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(化合物No.1)の合成(その2)
トルエン(100ml)にN−メトキシカルボニル−3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(20.3g、57.5mmol)と2−アミノ−4,6−ジメトキシピリミジン(9.40g、60.6mmol)を加え、減圧下(700mmHg)、副生してくるメタノールを留去しながら4時間加熱還流した。同温度でトルエンを15ml留去した後、撹拌しながら室温まで冷却した。析出した固体を濾取、トルエンで洗浄、乾燥して目的物(24.1g)を得た。融点177−179℃。
[Synthesis Example 10]
N-((4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl) aminocarbonyl) -3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) Synthesis of Pyrazole-5-sulfonamide (Compound No. 1) (Part 2)
Toluene (100 ml) was added N-methoxycarbonyl-3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (20. 3 g, 57.5 mmol) and 2-amino-4,6-dimethoxypyrimidine (9.40 g, 60.6 mmol) were added, and the mixture was heated under reflux for 4 hours while distilling off the by-produced methanol under reduced pressure (700 mmHg). did. After 15 ml of toluene was distilled off at the same temperature, it was cooled to room temperature with stirring. The precipitated solid was collected by filtration, washed with toluene, and dried to obtain the desired product (24.1 g). Melting point 177-179 [deg.] C.

〔合成例11〕
N−((4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミノカルボニル)−3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(化合物No.1)の合成(その3)
2−アミノ−4,6−ジメトキシピリミジン(0.46g、3.0mmol)のアセトニトリル(3ml)溶液に3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホニルイソシアナート(1.0g、3.1mmol)のトルエン(5ml)溶液を加え、室温で3時間撹拌した。析出した固体を濾取、トルエンで洗浄、乾燥して目的物(1.2g)を得た。融点177−179℃。
[Synthesis Example 11]
N-((4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl) aminocarbonyl) -3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) Synthesis of pyrazole-5-sulfonamide (Compound No. 1) (Part 3)
To a solution of 2-amino-4,6-dimethoxypyrimidine (0.46 g, 3.0 mmol) in acetonitrile (3 ml) was added 3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2). -Dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonyl isocyanate (1.0 g, 3.1 mmol) in toluene (5 ml) was added and stirred at room temperature for 3 hours. The precipitated solid was collected by filtration, washed with toluene, and dried to obtain the desired product (1.2 g). Melting point 177-179 [deg.] C.

〔合成例12〕
N−((4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミノカルボニル)−3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(化合物No.1)の合成(その4)
2−アミノ−4,6−ジメトキシピリミジン(1.55g、10.0mmol)のアセトニトリル(15ml)溶液にピリジン(0.16g、2.0mol)とシアン酸ナトリウム(0.72g、11mmol)を加え、撹拌下、40℃にて3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホニルクロリド(3.45g、11.0mmol)を1時間かけて分割投入した。40℃にて、さらに1.5時間撹拌した。室温まで冷却後、水(60ml)を加え、35%塩酸でpH1に調整し、析出した固体を濾取した。得られた固体をメタノールで洗浄、乾燥して目的物(4.70g)を得た。融点177−179℃。
[Synthesis Example 12]
N-((4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl) aminocarbonyl) -3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) Synthesis of pyrazole-5-sulfonamide (Compound No. 1) (Part 4)
To a solution of 2-amino-4,6-dimethoxypyrimidine (1.55 g, 10.0 mmol) in acetonitrile (15 ml), pyridine (0.16 g, 2.0 mol) and sodium cyanate (0.72 g, 11 mmol) were added, With stirring at 40 ° C., 3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonyl chloride (3.45 g, 11 0.0 mmol) was added in portions over 1 hour. The mixture was further stirred at 40 ° C. for 1.5 hours. After cooling to room temperature, water (60 ml) was added, the pH was adjusted to 1 with 35% hydrochloric acid, and the precipitated solid was collected by filtration. The obtained solid was washed with methanol and dried to obtain the desired product (4.70 g). Melting point 177-179 [deg.] C.

〔合成例13〕
N−((4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミノカルボニル)−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(化合物No.10)の合成

Figure 2007046440
原料に1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(0.20g、0.77mmol)を用い、合成例1と同様にして目的物(0.25g)を得た。融点154−157℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.35(d,J=6.3Hz,3H),3.56−3.64(m,1H),4.03−4.13(m,7H),4.34(s,3H),4.44−4.50(m,1H),5.78(s,1H),7.45(brs,1H),7.72(s,1H),12.66Hz(brs,1H)。[Synthesis Example 13]
N-((4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl) aminocarbonyl) -1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5 Synthesis of sulfonamide (Compound No. 10)
Figure 2007046440
Synthesis Example 1 using 1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (0.20 g, 0.77 mmol) as a raw material In the same manner as described above, the desired product (0.25 g) was obtained. Melting point 154-157 [deg.] C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.35 (d, J = 6.3 Hz, 3H), 3.56-3.64 (m, 1H), 4.03-4. 13 (m, 7H), 4.34 (s, 3H), 4.44-4.50 (m, 1H), 5.78 (s, 1H), 7.45 (brs, 1H), 7.72 (S, 1H), 12.66 Hz (brs, 1H).

〔合成例14〕
(化合物No.1)の合成(その2)
アセトニトリル(4ml)に3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホニルクロリド(0.32g、1.0mmol)を溶解し、シアン酸ナトリウム(0.07g、1.1mmol)、2−アミノー4,6−ジメトキシピリミジン(0.16g、1.0mmol)を加え40℃で10分間撹拌した。ピリジン(0.04g、0.5mmol)を3分間で滴下し、40℃で1時間撹拌した。氷冷下塩化メチレン(5ml)を加え12%塩酸を加えてpH1に調整した後分液し、水層を塩化メチレンで抽出した。得られた塩化メチレン溶液を合わせ、塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開液:n−ヘキサン/酢酸エチル=1/2)で精製し、目的物0.37gを得た。融点177−179℃。
[Synthesis Example 14]
Synthesis of (Compound No. 1) (Part 2)
3-Chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonyl chloride (0.32 g, 1.0 mmol) in acetonitrile (4 ml) ), Sodium cyanate (0.07 g, 1.1 mmol) and 2-amino-4,6-dimethoxypyrimidine (0.16 g, 1.0 mmol) were added, and the mixture was stirred at 40 ° C. for 10 minutes. Pyridine (0.04 g, 0.5 mmol) was added dropwise over 3 minutes and stirred at 40 ° C. for 1 hour. Under ice-cooling, methylene chloride (5 ml) was added, 12% hydrochloric acid was added to adjust to pH 1, and the phases were separated. The aqueous layer was extracted with methylene chloride. The obtained methylene chloride solutions were combined, washed with a saturated aqueous solution of sodium chloride, and then dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off, and the obtained residue was purified by silica gel column chromatography (developing solution: n-hexane / ethyl acetate = 1/2) to obtain 0.37 g of the desired product. Melting point 177-179 [deg.] C.

〔合成例15〕
N−((4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)アミノカルボニル)−3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチレン−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(化合物No.21)の合成

Figure 2007046440
アセトニトリル(6ml)に3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチレン−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(0.13g、0.44mmol)とN−(4,6−ジメトキシピリミジン−2−イル)カルバミン酸フェニル(0.13g、0.47mmol)を溶解し、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(0.07g、0.46mmol)を加え、室温で1時間撹拌した。減圧下溶媒を留去し、2規定塩酸を加えた後、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮すると油状物が得られた。この油状物にトルエンとヘキサンの混合溶媒を加え、析出した固体を濾取し、少量のトルエンで洗浄後、減圧乾燥することにより、目的物(0.10g)を得た。白色固体。融点164−167℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)3.95(s,6H),4.32(s,3H),4.35(s,2H),4.42(d,J=2.7Hz、1H),4.78(d,J=2.7Hz、1H),5.80(s,1H),7.32(brs,1H),11.98(brs,1H)。[Synthesis Example 15]
N-((4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl) aminocarbonyl) -3-chloro-1-methyl-4- (5-methylene-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) Synthesis of pyrazole-5-sulfonamide (Compound No. 21)
Figure 2007046440
3-Chloro-1-methyl-4- (5-methylene-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (0.13 g, 0.44 mmol) in acetonitrile (6 ml) ) And phenyl N- (4,6-dimethoxypyrimidin-2-yl) carbamate (0.13 g, 0.47 mmol) are dissolved in 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (0 0.07 g, 0.46 mmol) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. The solvent was evaporated under reduced pressure, 2N hydrochloric acid was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was dried over anhydrous sodium sulfate and concentrated under reduced pressure to obtain an oil. A mixed solvent of toluene and hexane was added to this oily substance, and the precipitated solid was collected by filtration, washed with a small amount of toluene, and dried under reduced pressure to obtain the desired product (0.10 g). White solid. Melting point 164-167 [deg.] C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 3.95 (s, 6H), 4.32 (s, 3H), 4.35 (s, 2H), 4.42 (d, J = 2.7 Hz, 1H), 4.78 (d, J = 2.7 Hz, 1H), 5.80 (s, 1H), 7.32 (brs, 1H), 11.98 (brs, 1H).

〔参考例1〕
(1)(5−ベンジルチオ−3−クロロ−1−メチルピラゾール−4−イル)−N−アリルオキシカルボン酸アミドの合成

Figure 2007046440
アリルオキシアミン塩酸塩(2.3g、21mmol)のテトラヒドロフラン(20ml)懸濁液に、0℃でトリエチルアミン(2.9g、29mmol)を加え、室温で5分間撹拌後、5−ベンジルチオ−3−クロロ−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸クロリド(2.1g、7.0mmol)のテトラヒドロフラン(10ml)溶液を滴下した。室温で1時間撹拌後、水(100ml)を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル溶液を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去して目的物(2.4g)を得た。油状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)3.45(s,3H),4.11(s,2H),4.53(d,J=6.3Hz,2H),5.34−5.45(m,2H),6.00−6.13(m,1H),7.03−7.06(m,2H),7.24−7.28(m,3H),9.14(brs,1H)。[Reference Example 1]
(1) Synthesis of (5-benzylthio-3-chloro-1-methylpyrazol-4-yl) -N-allyloxycarboxylic acid amide
Figure 2007046440
To a suspension of allyloxyamine hydrochloride (2.3 g, 21 mmol) in tetrahydrofuran (20 ml) was added triethylamine (2.9 g, 29 mmol) at 0 ° C., and the mixture was stirred at room temperature for 5 minutes, and then 5-benzylthio-3-chloro. A solution of -1-methylpyrazole-4-carboxylic acid chloride (2.1 g, 7.0 mmol) in tetrahydrofuran (10 ml) was added dropwise. After stirring at room temperature for 1 hour, water (100 ml) was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed with a saturated aqueous sodium chloride solution, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off to obtain the desired product (2.4 g). Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 3.45 (s, 3H), 4.11 (s, 2H), 4.53 (d, J = 6.3 Hz, 2H), 5 .34-5.45 (m, 2H), 6.00-6.13 (m, 1H), 7.03-7.06 (m, 2H), 7.24-7.28 (m, 3H) , 9.14 (brs, 1H).

(2)5−ベンジルチオ−3−クロロ−4−(5−ヨードメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1−メチルピラゾールの合成

Figure 2007046440
(5−ベンジルチオ−3−クロロ−1−メチルピラゾール−4−イル)−N−アリルオキシカルボン酸アミド(2.2g、6.5mmol)のアセトニトリル(70ml)溶液に、0℃でヨウ素(5.0g、20mmol)を加えた。室温で6時間撹拌後、水(150ml)を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル溶液をチオ硫酸ナトリウム飽和水溶液、炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、塩化ナトリウム飽和水溶液および水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去して目的物(3.0g)を得た。油状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)3.25(s,3H),3.34−3.42(m,2H),4.04−4.11(m,3H)4.32−4.40(m,1H),4.58−4.65(m,1H),7.00−7.08(m,2H),7.21−7.27(m,3H)。(2) Synthesis of 5-benzylthio-3-chloro-4- (5-iodomethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1-methylpyrazole
Figure 2007046440
To a solution of (5-benzylthio-3-chloro-1-methylpyrazol-4-yl) -N-allyloxycarboxylic acid amide (2.2 g, 6.5 mmol) in acetonitrile (70 ml) at 0 ° C. with iodine (5. 0 g, 20 mmol) was added. After stirring at room temperature for 6 hours, water (150 ml) was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed successively with saturated aqueous sodium thiosulfate solution, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution, saturated aqueous sodium chloride solution and water, then dried over anhydrous sodium sulfate and evaporated to give the desired product (3.0 g). It was. Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 3.25 (s, 3H), 3.34-3.42 (m, 2H), 4.04-4.11 (m, 3H) 4.32-4.40 (m, 1H), 4.58-4.65 (m, 1H), 7.00-7.08 (m, 2H), 7.21-7.27 (m, 3H) ).

(3)5−ベンジルチオ−3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾールの合成

Figure 2007046440
5−ベンジルチオ−3−クロロ−4−(5−ヨードメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1−メチルピラゾール(2.9g、6.3mmol)のジメチルスルホキシド(40ml)溶液に、水素化ホウ素ナトリウム(0.47g、12mmol)を加えた。60℃で0.5時間撹拌後、6%塩酸(200ml)を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル溶液を塩化ナトリウム飽和水溶液および水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去して目的物(2.0g)を得た。油状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.44(d,J=6.6Hz,3H),3.24(s,3H),3.74−3.85(m,1H),4.04(s,2H),4.22−4.29(m,1H),4.56−4.65(m,1H),6.97−7.06(m,2H),7.19−7.21(m,3H)。(3) Synthesis of 5-benzylthio-3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole
Figure 2007046440
5-Benzylthio-3-chloro-4- (5-iodomethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1-methylpyrazole (2.9 g, 6.3 mmol) in dimethyl sulfoxide (40 ml) ) To the solution was added sodium borohydride (0.47 g, 12 mmol). After stirring at 60 ° C. for 0.5 hour, 6% hydrochloric acid (200 ml) was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed successively with a saturated aqueous sodium chloride solution and water, dried over anhydrous sodium sulfate, and evaporated to give the desired product (2.0 g). Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.44 (d, J = 6.6 Hz, 3H), 3.24 (s, 3H), 3.74-3.85 (m, 1H), 4.04 (s, 2H), 4.22-4.29 (m, 1H), 4.56-4.65 (m, 1H), 6.97-7.06 (m, 2H) , 7.19-7.21 (m, 3H).

(4)3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミドの合成(その1)

Figure 2007046440
5−ベンジルチオ−3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(1.9g、5.6mmol)の塩化メチレン(30ml)溶液に、水(30ml)と35%塩酸(2.3g、22mmol)を加え、激しく撹拌しながら8%次亜塩素酸ナトリウム水溶液(20.5g、22.0mmol)を5℃にて加え、0.5時間撹拌した。窒素を導入して過剰の塩素を追い出した後、水(50ml)を加え、塩化メチレンで抽出した。得られた塩化メチレン溶液を減圧下濃縮後、残渣をテトラヒドロフラン(8ml)に溶解し、0℃にて28%アンモニア水(5ml)を加え、室温で0.25時間撹拌した。水(20ml)を加え、ジエチルエーテルで抽出し、ジエチルエーテル層を廃棄した。得られた水層に35%塩酸を加えて、pH1に調整後、再びジエチルエーテルで抽出した。得られたジエチルエーテル溶液を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去して目的物(0.64g)を得た。融点120−122℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.43(d,J=6.3Hz,3H),3.74−3.80(m,1H),4.13(s,3H),4.21−4.26(m,1H),4.57−4.67(m,1H),6.12(brs,2H)。(4) Synthesis of 3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (Part 1)
Figure 2007046440
5-Benzylthio-3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (1.9 g, 5.6 mmol) in methylene chloride (30 ml) ) To the solution, water (30 ml) and 35% hydrochloric acid (2.3 g, 22 mmol) were added, and 8% aqueous sodium hypochlorite solution (20.5 g, 22.0 mmol) was added at 5 ° C. with vigorous stirring. Stir for 0.5 hour. Nitrogen was introduced to drive off excess chlorine, water (50 ml) was added, and the mixture was extracted with methylene chloride. The obtained methylene chloride solution was concentrated under reduced pressure, the residue was dissolved in tetrahydrofuran (8 ml), 28% aqueous ammonia (5 ml) was added at 0 ° C., and the mixture was stirred at room temperature for 0.25 hr. Water (20 ml) was added and extracted with diethyl ether, and the diethyl ether layer was discarded. The obtained aqueous layer was adjusted to pH 1 by adding 35% hydrochloric acid, and extracted again with diethyl ether. The obtained diethyl ether solution was washed with a saturated aqueous solution of sodium chloride, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off to obtain the desired product (0.64 g). Melting point 120-122 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.43 (d, J = 6.3 Hz, 3H), 3.74-3.80 (m, 1H), 4.13 (s, 3H), 4.21-4.26 (m, 1H), 4.57-4.67 (m, 1H), 6.12 (brs, 2H).

〔参考例2〕
3−クロロ−4−(5−ヨードメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1−メチルピラゾール−5−スルホンアミドの合成

Figure 2007046440
原料に5−ベンジルチオ−3−クロロ−4−(5−ヨードメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1−メチルピラゾール(0.24g、0.52mmol)を用い、参考例1の(4)と同様にして目的物(0.090g)を得た。固体。[Reference Example 2]
Synthesis of 3-chloro-4- (5-iodomethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1-methylpyrazole-5-sulfonamide
Figure 2007046440
5-Benzylthio-3-chloro-4- (5-iodomethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1-methylpyrazole (0.24 g, 0.52 mmol) was used as a raw material, The target product (0.090 g) was obtained in the same manner as in Reference Example 1 (4). solid.

〔参考例3〕
(1)(5−ベンジルチオ−3−クロロ−1−メチルピラゾール−4−イル)−N−(2−メチル−2−プロペニルオキシ)カルボン酸アミドの合成

Figure 2007046440
原料に2−メチル−2−プロペニルオキシアミン塩酸塩(1.2g、9.7mmol)を用い、参考例1の(1)と同様にして目的物(1.8g)を得た。油状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.88(s,3H),3.36(s,3H),4.11(s,2H),4.45(s,2H),5.08(d,J=9.9Hz,2H),7.01−7.06(m,2H),7.22−7.28(m,3H),9.15(brs,1H)。[Reference Example 3]
(1) Synthesis of (5-benzylthio-3-chloro-1-methylpyrazol-4-yl) -N- (2-methyl-2-propenyloxy) carboxylic acid amide
Figure 2007046440
Using 2-methyl-2-propenyloxyamine hydrochloride (1.2 g, 9.7 mmol) as a raw material, the target product (1.8 g) was obtained in the same manner as (1) of Reference Example 1. Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.88 (s, 3H), 3.36 (s, 3H), 4.11 (s, 2H), 4.45 (s, 2H) ), 5.08 (d, J = 9.9 Hz, 2H), 7.01-7.06 (m, 2H), 7.22-7.28 (m, 3H), 9.15 (brs, 1H) ).

(2)5−ベンジルチオ−3−クロロ−4−(5−ヨードメチル−5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1−メチルピラゾールの合成

Figure 2007046440
原料に(5−ベンジルチオ−3−クロロ−1−メチルピラゾール−4−イル)−N−(2−メチル−2−プロペニルオキシ)カルボン酸アミド(1.7g、4.8mmol)を用い、参考例1の(2)と同様にして目的物(2.3g)を得た。油状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.61(s,3H),3.23(s,3H),3.39−3.55(m,2H),3.91−3.95(m,1H),4.11(s,2H),4.25−4.29(m,1H),6.98−7.06(m,2H),7.21−7.28(m,3H)。(2) Synthesis of 5-benzylthio-3-chloro-4- (5-iodomethyl-5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1-methylpyrazole
Figure 2007046440
A reference example using (5-benzylthio-3-chloro-1-methylpyrazol-4-yl) -N- (2-methyl-2-propenyloxy) carboxylic acid amide (1.7 g, 4.8 mmol) as a raw material The target product (2.3 g) was obtained in the same manner as in (2) of 1. Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.61 (s, 3H), 3.23 (s, 3H), 3.39-3.55 (m, 2H), 3.91 -3.95 (m, 1H), 4.11 (s, 2H), 4.25-4.29 (m, 1H), 6.98-7.06 (m, 2H), 7.21-7 .28 (m, 3H).

(3)5−ベンジルチオ−3−クロロ−1−メチル−4−(5,5−ジメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾールの合成

Figure 2007046440
原料に(5−ベンジルチオ−3−クロロ−4−(5−ヨードメチル−5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1−メチルピラゾール(1.7g、3.6mmol)を用い、参考例1の(3)と同様にして目的物(1.3g)を得た。油状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.48(s,6H),3.23(s,3H),3.88(s,2H),4.05(s,2H),6.99−7.06(m,2H),7.21−7.28(m,3H)。(3) Synthesis of 5-benzylthio-3-chloro-1-methyl-4- (5,5-dimethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole
Figure 2007046440
(5-Benzylthio-3-chloro-4- (5-iodomethyl-5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1-methylpyrazole (1.7 g, 3. 6 mmol), and the target product (1.3 g) was obtained in the same manner as (3) in Reference Example 1. Oily substance Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.48 ( s, 6H), 3.23 (s, 3H), 3.88 (s, 2H), 4.05 (s, 2H), 6.99-7.06 (m, 2H), 7.21-7 .28 (m, 3H).

(4)3−クロロ−1−メチル−4−(5,5−ジメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミドの合成

Figure 2007046440
原料に5−ベンジルチオ−3−クロロ−1−メチル−4−(5,5−ジメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(1.2g、3.4mmol)を用い、参考例1の(4)と同様にして目的物(0.47g)を得た。固体。(4) Synthesis of 3-chloro-1-methyl-4- (5,5-dimethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide
Figure 2007046440
5-Benzylthio-3-chloro-1-methyl-4- (5,5-dimethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (1.2 g, 3.4 mmol) was used as a raw material. In the same manner as in (4) of Reference Example 1, the desired product (0.47 g) was obtained. solid.

〔参考例4〕
3−クロロ−4−(5−ヨードメチル−5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1−メチルピラゾール−5−スルホンアミドの合成

Figure 2007046440
原料に5−ベンジルチオ−3−クロロ−4−(5−ヨードメチル−5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1−メチルピラゾール(0.50g、1.0mmol)を用い、参考例1の(4)と同様にして目的物(0.21g)を得た。固体。[Reference Example 4]
Synthesis of 3-chloro-4- (5-iodomethyl-5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1-methylpyrazole-5-sulfonamide
Figure 2007046440
5-Benzylthio-3-chloro-4- (5-iodomethyl-5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1-methylpyrazole (0.50 g, 1.0 mmol) as a raw material ) Was used in the same manner as (4) in Reference Example 1 to obtain the desired product (0.21 g). solid.

〔参考例5〕
(1)(5−ベンジルチオ−1,3−ジメチルピラゾール−4−イル)−N−アリルオキシカルボン酸アミドの合成

Figure 2007046440
原料に5−ベンジルチオ−1,3−ジメチルピラゾール−4−カルボン酸クロリド(1.6g、5.7mmol)を用い、参考例1の(1)と同様にして目的物(1.5g)を得た。油状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)2.50(s,3H),3.34(s,3H),3.92(s,2H),4.48−4.51(m,2H),5.32−5.43(m,2H),6.02−6.11(m,1H),6.96−7.00(m,2H),7.23−7.30(m,3H),9.77(s,1H)。[Reference Example 5]
(1) Synthesis of (5-benzylthio-1,3-dimethylpyrazol-4-yl) -N-allyloxycarboxylic acid amide
Figure 2007046440
Using 5-benzylthio-1,3-dimethylpyrazole-4-carboxylic acid chloride (1.6 g, 5.7 mmol) as a raw material, the target product (1.5 g) was obtained in the same manner as (1) in Reference Example 1. It was. Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 2.50 (s, 3H), 3.34 (s, 3H), 3.92 (s, 2H), 4.48-4.51 (M, 2H), 5.32-5.43 (m, 2H), 6.02-6.11 (m, 1H), 6.96-7.00 (m, 2H), 7.23-7 .30 (m, 3H), 9.77 (s, 1H).

(2)5−ベンジルチオ−4−(5−ヨードメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1,3−ジメチルピラゾールの合成

Figure 2007046440
原料に(5−ベンジルチオ−1,3−ジメチルピラゾール−4−イル)−N−アリルオキシカルボン酸アミド(0.92g、2.9mmol)を用い、参考例1の(2)と同様にして目的物(0.74g)を得た。融点79−81℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)2.37(s,3H),3.29(s,3H),3.36−3.40(m,2H),3.97−4.04(m,3H),4.29−4.34(m,1H),4.53−4.60(m,1H),7.00−7.06(m,2H),7.20−7.28(m,3H)。(2) Synthesis of 5-benzylthio-4- (5-iodomethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1,3-dimethylpyrazole
Figure 2007046440
(5-Benzylthio-1,3-dimethylpyrazol-4-yl) -N-allyloxycarboxylic acid amide (0.92 g, 2.9 mmol) was used as a starting material in the same manner as (2) of Reference Example 1 Product (0.74 g) was obtained. Melting point 79-81 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 2.37 (s, 3H), 3.29 (s, 3H), 3.36-3.40 (m, 2H), 3.97 -4.04 (m, 3H), 4.29-4.34 (m, 1H), 4.53-4.60 (m, 1H), 7.00-7.06 (m, 2H), 7 20-7.28 (m, 3H).

(3)5−ベンジルチオ−1,3−ジメチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾールの合成

Figure 2007046440
原料に5−ベンジルチオ−4−(5−ヨードメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1,3−ジメチルピラゾール(0.71g、1.6mmol)を用い、参考例1の(3)と同様にして目的物(0.19g)を得た。油状物質。(3) Synthesis of 5-benzylthio-1,3-dimethyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole
Figure 2007046440
5-Benzylthio-4- (5-iodomethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1,3-dimethylpyrazole (0.71 g, 1.6 mmol) was used as a raw material, and Reference Example The target product (0.19 g) was obtained in the same manner as in 1 (3). Oily substance.

(4)1,3−ジメチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミドの合成

Figure 2007046440
原料に5−ベンジルチオ−1,3−ジメチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(0.19g、0.6mmol)を用い、参考例1の(4)と同様にして目的物(0.070g)を得た。固体。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.42(s,3H),2.33(s,3H),3.71−3.78(m,1H),4.10(s,3H),4.21−4.25(m,1H),4.60(m,1H),6.15(s,2H)。(4) Synthesis of 1,3-dimethyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide
Figure 2007046440
Reference example using 5-benzylthio-1,3-dimethyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (0.19 g, 0.6 mmol) as a raw material The target product (0.070 g) was obtained in the same manner as (1) (4). solid. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.42 (s, 3H), 2.33 (s, 3H), 3.71-3.78 (m, 1H), 4.10 (S, 3H), 4.21-4.25 (m, 1H), 4.60 (m, 1H), 6.15 (s, 2H).

〔参考例6〕
4−(5−ヨードメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1,3−ジメチルピラゾール−5−スルホンアミドの合成

Figure 2007046440
原料に5−ベンジルチオ−4−(5−ヨードメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1,3−ジメチルピラゾール(0.70g、1.6mmol)を用い、参考例1の(4)と同様にして目的物(0.53g)を得た。固体。[Reference Example 6]
Synthesis of 4- (5-iodomethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1,3-dimethylpyrazole-5-sulfonamide
Figure 2007046440
5-Benzylthio-4- (5-iodomethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1,3-dimethylpyrazole (0.70 g, 1.6 mmol) was used as a raw material, and a reference example The target product (0.53 g) was obtained in the same manner as in (1) (4). solid.

〔参考例7〕
(1)(5−ベンジルチオ−1,3−ジメチルピラゾール−4−イル)−N−(2−メチル−2−プロペニルオキシ)カルボン酸アミドの合成

Figure 2007046440
原料に5−ベンジルチオ−1,3−ジメチルピラゾール−4−カルボン酸クロリド(1.10g、3.9mmol)と2−メチル−2−プロペニルオキシアミン塩酸塩(1.30g、10.5mmol)を用い、参考例1の(1)と同様にして目的物(1.15g)を得た。油状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.89(s,3H),2.51(s,3H),3.33(s,3H),3.91(s,2H),4.42(s,2H),5.06(d,J=11.3Hz,2H),6.95−7.01(m,2H),7.24−7.29(m,3H),9.77(brs,1H)。[Reference Example 7]
(1) Synthesis of (5-benzylthio-1,3-dimethylpyrazol-4-yl) -N- (2-methyl-2-propenyloxy) carboxylic acid amide
Figure 2007046440
5-Benzylthio-1,3-dimethylpyrazole-4-carboxylic acid chloride (1.10 g, 3.9 mmol) and 2-methyl-2-propenyloxyamine hydrochloride (1.30 g, 10.5 mmol) were used as raw materials. In the same manner as in (1) of Reference Example 1, the desired product (1.15 g) was obtained. Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.89 (s, 3H), 2.51 (s, 3H), 3.33 (s, 3H), 3.91 (s, 2H) ), 4.42 (s, 2H), 5.06 (d, J = 11.3 Hz, 2H), 6.95-7.01 (m, 2H), 7.24-7.29 (m, 3H) ), 9.77 (brs, 1H).

(2)5−ベンジルチオ−4−(5−ヨードメチル−5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1,3−ジメチルピラゾールの合成

Figure 2007046440
原料に(5−ベンジルチオ−1,3−ジメチルピラゾール−4−イル)−N−(2−メチル−2−プロペニルオキシ)カルボン酸アミド(0.60g、1.8mmol)を用い、参考例1の(2)と同様にして目的物(0.78g)を得た。油状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)1.60(s,3H),2.37(s,3H),3.27(s,3H),3.39−3.52(m,2H),3.88−3.93(m,1H),4.00(s,2H),4.19−4.24(m,1H),7.00−7.05(m,2H),7.20−7.24(m,3H)。(2) Synthesis of 5-benzylthio-4- (5-iodomethyl-5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1,3-dimethylpyrazole
Figure 2007046440
(5-Benzylthio-1,3-dimethylpyrazol-4-yl) -N- (2-methyl-2-propenyloxy) carboxylic acid amide (0.60 g, 1.8 mmol) was used as a raw material. The target product (0.78 g) was obtained in the same manner as (2). Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) 1.60 (s, 3H), 2.37 (s, 3H), 3.27 (s, 3H), 3.39-3.52 (m, 2H) 3.88-3.93 (m, 1H), 4.00 (s, 2H), 4.19-4.24 (m, 1H), 7.00-7.05 (m, 2H), 7 20-7.24 (m, 3H).

(3)5−ベンジルチオ−1,3−ジメチル−4−(5,5−ジメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾールの合成

Figure 2007046440
原料に5−ベンジルチオ−4−(5−ヨードメチル−5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1,3−ジメチルピラゾール(0.54g、1.2mmol)を用い、参考例1の(3)と同様にして目的物(0.38g)を得た。油状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)1.47(s,6H),2.34(s,3H),3.26(s,3H),3.86(s,2H),4.00(s,2H),6.98−7.05(m,2H),7.21−7.25(m,3H)。(3) Synthesis of 5-benzylthio-1,3-dimethyl-4- (5,5-dimethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole
Figure 2007046440
5-Benzylthio-4- (5-iodomethyl-5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1,3-dimethylpyrazole (0.54 g, 1.2 mmol) was used as a raw material. In the same manner as in (3) of Reference Example 1, the desired product (0.38 g) was obtained. Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) 1.47 (s, 6H), 2.34 (s, 3H), 3.26 (s, 3H), 3.86 (s, 2H), 4.00 (S, 2H), 6.98-7.05 (m, 2H), 7.21-7.25 (m, 3H).

(4)1,3−ジメチル−4−(5,5−ジメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミドの合成

Figure 2007046440
原料に5−ベンジルチオ−1,3−ジメチル−4−(5,5−ジメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(0.34g、1.0mmol)を用い、参考例1の(4)と同様にして目的物(0.13g)を得た。固体。(4) Synthesis of 1,3-dimethyl-4- (5,5-dimethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide
Figure 2007046440
Using 5-benzylthio-1,3-dimethyl-4- (5,5-dimethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (0.34 g, 1.0 mmol) as a raw material, The target product (0.13 g) was obtained in the same manner as in Reference Example 1 (4). solid.

〔参考例8〕
4−(5−ヨードメチル−5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1,3−ジメチルピラゾール−5−スルホンアミドの合成

Figure 2007046440
原料に5−ベンジルチオ−4−(5−ヨードメチル−5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1,3−ジメチルピラゾール(0.20g、0.44mmol)を用い、参考例1の(4)と同様にして目的物(0.080g)を得た。固体。[Reference Example 8]
Synthesis of 4- (5-iodomethyl-5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1,3-dimethylpyrazole-5-sulfonamide
Figure 2007046440
5-Benzylthio-4- (5-iodomethyl-5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1,3-dimethylpyrazole (0.20 g, 0.44 mmol) was used as a raw material. In the same manner as in (4) of Reference Example 1, the desired product (0.080 g) was obtained. solid.

〔参考例9〕
(1)2−(1,3−ジメチル−5−ベンジルチオピラゾール−4−イル)カルボニルアミノオキシ)プロパン酸エチルの合成

Figure 2007046440
5−ベンジルチオ−3−クロロ−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸(1.0g、3.8mmol)の塩化メチレン(20ml)溶液に、2−アミノオキシプロパン酸エチル(0.58g、4.4mmol)とN−エチル−N’−(3−ジメチルアミノプロピル)カルボジイミド塩酸塩(0.83g、4.3mmol)を加え、室温で12時間撹拌した。減圧下、溶媒留去後、水(50ml)を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル溶液を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開液:n−ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製し、目的物0.88gを得た。油状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.30(t,J=8Hz,3H),1.57(d,J=10Hz,3H),2.47(s,3H)),3.28(s,3H),3.40(q,J=8Hz,2H),4.18−4.32(m,2H),4.62−4.71(m,1H),6.91−7.07(m,2H),7.15−7.31(m,3H),10.40(s,1H)。[Reference Example 9]
(1) Synthesis of ethyl 2- (1,3-dimethyl-5-benzylthiopyrazol-4-yl) carbonylaminooxy) propanoate
Figure 2007046440
To a solution of 5-benzylthio-3-chloro-1-methylpyrazole-4-carboxylic acid (1.0 g, 3.8 mmol) in methylene chloride (20 ml) was added ethyl 2-aminooxypropanoate (0.58 g, 4.4 mmol). ) And N-ethyl-N ′-(3-dimethylaminopropyl) carbodiimide hydrochloride (0.83 g, 4.3 mmol) were added, and the mixture was stirred at room temperature for 12 hours. After evaporating the solvent under reduced pressure, water (50 ml) was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed with a saturated aqueous sodium chloride solution, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (developing solution: n-hexane / ethyl acetate = 1/1) to obtain 0.88 g of the desired product. Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.30 (t, J = 8 Hz, 3H), 1.57 (d, J = 10 Hz, 3H), 2.47 (s, 3H) ), 3.28 (s, 3H), 3.40 (q, J = 8 Hz, 2H), 4.18-4.32 (m, 2H), 4.62-4.71 (m, 1H), 6.91-7.07 (m, 2H), 7.15-7.31 (m, 3H), 10.40 (s, 1H).

(2)(1,3−ジメチル−5−ベンジルチオピラゾール−4−イル)−N−(2−ヒドロキシイソプロポキシ)カルボン酸アミドの合成

Figure 2007046440
水素化リチウムアルミニウム(0.090g、2.4mmol)のジエチルエーテル(20ml)懸濁液に、撹拌下、5℃で、2−(1,3−ジメチル−5−ベンジルチオピラゾール−4−イル)カルボニルアミノオキシ)プロパン酸エチル(0.88g、2.3mmol)のジエチルエーテル(5ml)溶液を滴下した。同温度で2.5時間撹拌後、反応液を氷水(20ml)にあけ、10%塩酸を加えてpH1に調整し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル溶液を水洗、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去して目的物(0.70g)を得た。油状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.29(d,J=8Hz,3H),2.74(s,3H),3.26−3.50(m,1H),3.42(s,3H),3.59−3.72(m,1H),3.94(s,2H),3.96−4.03(m,1H),4.72(brs,1H),6.91−7.02(m,2H),7.20−7.32(m,3H),9.60(brs,1H)。(2) Synthesis of (1,3-dimethyl-5-benzylthiopyrazol-4-yl) -N- (2-hydroxyisopropoxy) carboxylic acid amide
Figure 2007046440
To a suspension of lithium aluminum hydride (0.090 g, 2.4 mmol) in diethyl ether (20 ml) with stirring at 5 ° C., 2- (1,3-dimethyl-5-benzylthiopyrazol-4-yl) A solution of ethyl carbonylaminooxy) propanoate (0.88 g, 2.3 mmol) in diethyl ether (5 ml) was added dropwise. After stirring at the same temperature for 2.5 hours, the reaction solution was poured into ice water (20 ml), adjusted to pH 1 by adding 10% hydrochloric acid, and extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate solution was washed with water, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off to obtain the desired product (0.70 g). Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.29 (d, J = 8 Hz, 3H), 2.74 (s, 3H), 3.26-3.50 (m, 1H) 3.42 (s, 3H), 3.59-3.72 (m, 1H), 3.94 (s, 2H), 3.96-4.03 (m, 1H), 4.72 (brs) , 1H), 6.91-7.02 (m, 2H), 7.20-7.32 (m, 3H), 9.60 (brs, 1H).

(3)5−ベンジルチオ−1,3−ジメチル−4−(6−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾールの合成

Figure 2007046440
(1,3−ジメチル−5−ベンジルチオピラゾール−4−イル)−N−(2−ヒドロキシイソプロポキシ)カルボン酸アミド(0.70g、2.1mmol)の塩化メチレン(5ml)溶液に、塩化チオニル(0.34ml、4.6mmol)を加え、1.5時間還流後、溶媒留去した。得られた残渣をN,N−ジメチルホルムアミド(10ml)に溶解し、5℃にて、55%水素化ナトリウム(0.10g、2.3mmol)を加え、さらに同温度で1時間撹拌した。水(20ml)を加え、酢酸エチルで抽出し、得られた酢酸エチル溶液を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー(展開液:n−ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製して目的物(0.32g)を得た。固体。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.37(d,J=8Hz,3H),2.33(s,3H),3.28(s,3H),3.95−4.05(m,2H),4.08−4.13(m,1H),4.44−4.51(m,1H),6.99−7.06(m,2H),7.09−7.15(m,3H)。(3) Synthesis of 5-benzylthio-1,3-dimethyl-4- (6-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole
Figure 2007046440
To a solution of (1,3-dimethyl-5-benzylthiopyrazol-4-yl) -N- (2-hydroxyisopropoxy) carboxylic acid amide (0.70 g, 2.1 mmol) in methylene chloride (5 ml) was added thionyl chloride. (0.34 ml, 4.6 mmol) was added and the solvent was distilled off after refluxing for 1.5 hours. The obtained residue was dissolved in N, N-dimethylformamide (10 ml), 55% sodium hydride (0.10 g, 2.3 mmol) was added at 5 ° C., and the mixture was further stirred at the same temperature for 1 hour. Water (20 ml) was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed with a saturated aqueous sodium chloride solution, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was purified by silica gel thin layer chromatography (developing solution: n-hexane / ethyl acetate = 1/1) to obtain the desired product (0.32 g). solid. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.37 (d, J = 8 Hz, 3H), 2.33 (s, 3H), 3.28 (s, 3H), 3.95 -4.05 (m, 2H), 4.08-4.13 (m, 1H), 4.44-4.51 (m, 1H), 699-7.06 (m, 2H), 7 .09-7.15 (m, 3H).

(4)1,3−ジメチル−4−(6−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミドの合成

Figure 2007046440
原料に5−ベンジルチオ−1,3−ジメチル−4−(6−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(0.32g、1.0mmol)を用い、参考例1の(4)と同様にして目的物(0.14g)を得た。固体。(4) Synthesis of 1,3-dimethyl-4- (6-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide
Figure 2007046440
Reference example using 5-benzylthio-1,3-dimethyl-4- (6-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (0.32 g, 1.0 mmol) as a raw material The target product (0.14 g) was obtained in the same manner as in (4) of 1. solid.

〔参考例10〕
(1)3,5−ジクロロ−1−メチルピラゾール−4−カルボヒドロキサム酸の合成

Figure 2007046440
ヒドロキシルアミン塩酸塩(106.9g、1.538mol)の水(200ml)溶液に、5ないし15℃にて85%水酸化カリウム(101.5g、1.538mol)の水(200ml)溶液を加え、室温で5分間撹拌した。次に、3ないし8℃にて3,5−ジクロロ−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸クロリド(100.0g、0.5128mol)のテトラヒドロフラン(170ml)溶液を2時間で滴下した。さらに5℃で0.5時間撹拌後、35%塩酸を加えpH3ないし4に調整した。析出した固体を濾取、水洗、乾燥して目的物(94.9g)を得た。融点200−202℃(分解)。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(ジメチルスルホキシド−d6中)3.79(s,3H),9.24(brs,1H),10.83(brs,1H)。[Reference Example 10]
(1) Synthesis of 3,5-dichloro-1-methylpyrazole-4-carbohydroxamic acid
Figure 2007046440
To a solution of hydroxylamine hydrochloride (106.9 g, 1.538 mol) in water (200 ml) at 85 ° C. was added 85% potassium hydroxide (101.5 g, 1.538 mol) in water (200 ml), Stir at room temperature for 5 minutes. Next, a solution of 3,5-dichloro-1-methylpyrazole-4-carboxylic acid chloride (100.0 g, 0.5128 mol) in tetrahydrofuran (170 ml) was added dropwise at 3 to 8 ° C. over 2 hours. Further, after stirring at 5 ° C. for 0.5 hour, 35% hydrochloric acid was added to adjust to pH 3-4. The precipitated solid was collected by filtration, washed with water and dried to obtain the desired product (94.9 g). Melting point 200-202 ° C. (decomposition). Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in dimethyl sulfoxide-d 6 ) 3.79 (s, 3H), 9.24 (brs, 1H), 10.83 (brs, 1H).

(2)N−アリルオキシ−3,5−ジクロロ−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸アミドの合成

Figure 2007046440
炭酸カリウム(15.8g、114mmol)の水(60ml)溶液に、3,5−ジクロロ−1−メチルピラゾール−4−カルボヒドロキサム酸(20.0g、95.2mmol)と臭化アリル(13.8g、114mmol)のトルエン(60ml)溶液を加え、50℃にて3時間撹拌した。室温まで冷却後、35%塩酸を加えてpH1に調整し、析出した固体を濾取、水およびトルエンで順次洗浄後、乾燥して目的物(17.2g)を得た。融点96−97℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)3.84(s,3H),4.51(d,J=6.3Hz,2H),5.30−5.46(m,2H),5.94−6.13(m,1H),8.80(brs,1H)。(2) Synthesis of N-allyloxy-3,5-dichloro-1-methylpyrazole-4-carboxylic acid amide
Figure 2007046440
To a solution of potassium carbonate (15.8 g, 114 mmol) in water (60 ml) was added 3,5-dichloro-1-methylpyrazole-4-carbohydroxamic acid (20.0 g, 95.2 mmol) and allyl bromide (13.8 g). 114 mmol) in toluene (60 ml) was added and stirred at 50 ° C. for 3 hours. After cooling to room temperature, 35% hydrochloric acid was added to adjust to pH 1, and the precipitated solid was collected by filtration, washed successively with water and toluene, and dried to obtain the desired product (17.2 g). Mp 96-97 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 3.84 (s, 3H), 4.51 (d, J = 6.3 Hz, 2H), 5.30-5.46 (m, 2H), 5.94-6.13 (m, 1H), 8.80 (brs, 1H).

(3)3,5−ジクロロ−4−(5−ヨードメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1−メチルピラゾールの合成

Figure 2007046440
N−アリルオキシ−3,5−ジクロロ−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸アミド(40.0g、160mmol)のアセトニトリル(200ml)溶液に、ヨウ素(122g、481mmol)を加え、室温にて4.5時間撹拌した。チオ硫酸ナトリウム飽和水溶液(150ml)を加え、酢酸エチルで抽出し、得られた酢酸エチル溶液を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、塩化ナトリウム飽和水溶液および水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n−ヘキサン/酢酸エチル=5/2)で精製して目的物(54.0g)を得た。油状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)3.37(d,J=6.9Hz,2H),3.83(s,3H),3.99−4.06(m,1H),4.32−4.38(m,1H),4.54−4.62(m,1H)。(3) Synthesis of 3,5-dichloro-4- (5-iodomethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1-methylpyrazole
Figure 2007046440
To a solution of N-allyloxy-3,5-dichloro-1-methylpyrazole-4-carboxylic acid amide (40.0 g, 160 mmol) in acetonitrile (200 ml) was added iodine (122 g, 481 mmol), and 4.5 at room temperature. Stir for hours. A saturated aqueous sodium thiosulfate solution (150 ml) was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed successively with a saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution, a saturated aqueous sodium chloride solution and water, then dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. did. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: n-hexane / ethyl acetate = 5/2) to obtain the desired product (54.0 g). Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 3.37 (d, J = 6.9 Hz, 2H), 3.83 (s, 3H), 3.99-4.06 (m, 1H), 4.32-4.38 (m, 1H), 4.54-4.62 (m, 1H).

(4)3,5−ジクロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾールの合成(その1)

Figure 2007046440
水素化ホウ素ナトリウム(0.30g、7.9mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(15ml)溶液に、3,5−ジクロロ−4−(5−ヨードメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1−メチルピラゾール(2.0g、5.3mmol)を加え、60℃で0.5時間撹拌した。室温まで冷却後、水(10ml)を加え、さらに35%塩酸を加えてpH1に調整し、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル溶液を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、塩化ナトリウム飽和水溶液および水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n−ヘキサン/酢酸エチル=5/2)で精製して目的物(1.1g)を得た。融点50−51℃、沸点142℃/0.3mmHg。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.41(d,J=6.3Hz,3H),3.69−3.76(m,1H),3.82(s,3H),4.20−4.26(m,1H),4.52−4.61(m,1H)。(4) Synthesis of 3,5-dichloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (Part 1)
Figure 2007046440
To a solution of sodium borohydride (0.30 g, 7.9 mmol) in N, N-dimethylformamide (15 ml) was added 3,5-dichloro-4- (5-iodomethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazine. -3-yl) -1-methylpyrazole (2.0 g, 5.3 mmol) was added and stirred at 60 ° C. for 0.5 hour. After cooling to room temperature, water (10 ml) was added, and further 35% hydrochloric acid was added to adjust to pH 1, followed by extraction with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed successively with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, a saturated aqueous solution of sodium chloride and water, then dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: n-hexane / ethyl acetate = 5/2) to obtain the desired product (1.1 g). Melting point 50-51 ° C., boiling point 142 ° C./0.3 mmHg. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.41 (d, J = 6.3 Hz, 3H), 3.69-3.76 (m, 1H), 3.82 (s, 3H), 4.20-4.26 (m, 1H), 4.52-4.61 (m, 1H).

(5)3−クロロ−5−メルカプト−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾールの合成

Figure 2007046440
70%水硫化ナトリウム(4.3g、54mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(38ml)懸濁液に、3,5−ジクロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(3.8g、15mmol)を加え、80℃で5.5時間撹拌した。室温まで冷却後、水(50ml)を加え、不溶物を濾別した。ろ液に35%塩酸を加えてpH1に調整し、析出した固体を濾取、水洗、乾燥して目的物(2.55g)を得た。融点60−64℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.48(d,J=6.3Hz,3H),3.75(s,3H),3.79−3.85(m,1H),4.28−4.32(m,1H),4.64−4.74(m,1H)。(5) Synthesis of 3-chloro-5-mercapto-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole
Figure 2007046440
To a suspension of 70% sodium hydrosulfide (4.3 g, 54 mmol) in N, N-dimethylformamide (38 ml) was added 3,5-dichloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1, 4,2-Dioxazin-3-yl) pyrazole (3.8 g, 15 mmol) was added and stirred at 80 ° C. for 5.5 hours. After cooling to room temperature, water (50 ml) was added and the insoluble material was filtered off. The filtrate was adjusted to pH 1 by adding 35% hydrochloric acid, and the precipitated solid was collected by filtration, washed with water and dried to obtain the desired product (2.55 g). Melting point 60-64 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.48 (d, J = 6.3 Hz, 3H), 3.75 (s, 3H), 3.79-3.85 (m, 1H), 4.28-4.32 (m, 1H), 4.64-4.74 (m, 1H).

(6)3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホニルクロリドの合成

Figure 2007046440
3−クロロ−5−メルカプト−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(2.5g、10mmol)の1,2−ジクロロエタン(50ml)溶液に水(20ml)を加え、氷冷下、激しく撹拌しながら塩素(2.1g、30mmol)を導入した。この間反応温度は20℃まで上昇した。窒素を導入して過剰の塩素を除去した後、1,2−ジクロロエタン層を分離した。得られた1,2−ジクロロエタン溶液を亜硫酸水素ナトリウム飽和水溶液、水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去し、目的物(3.1g)を得た。融点63−68℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.41(d,J=6.3Hz,3H),3.75−3.81(m,1H),4.20(s,3H),4.23−4.28(m,1H),4.54−4.64(m,1H)。(6) Synthesis of 3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonyl chloride
Figure 2007046440
3-chloro-5-mercapto-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (2.5 g, 10 mmol) in 1,2-dichloroethane ( 50 ml) Water (20 ml) was added to the solution, and chlorine (2.1 g, 30 mmol) was introduced with vigorous stirring under ice cooling. During this time, the reaction temperature rose to 20 ° C. After introducing nitrogen to remove excess chlorine, the 1,2-dichloroethane layer was separated. The obtained 1,2-dichloroethane solution was washed successively with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen sulfite and water, dried over anhydrous sodium sulfate, and evaporated to give the desired product (3.1 g). Melting point 63-68 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.41 (d, J = 6.3 Hz, 3H), 3.75-3.81 (m, 1H), 4.20 (s, 3H), 4.23-4.28 (m, 1H), 4.54-4.64 (m, 1H).

(7)3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミドの合成(その2)
3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホニルクロリド(3.1g、9.9mmol)の1,2−ジクロロエタン(30ml)溶液に、氷冷下、激しく撹拌しながら28%アンモニア水(1.5g、24.7mmol)を滴下した。室温で0.5時間撹拌後、水(20ml)と35%塩酸(5.2g、50mmol)を加え、1,2−ジクロロエタンで抽出した。得られた1,2−ジクロロエタン溶液を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去し、目的物(2.8g)を得た。融点120−122℃。
(7) Synthesis of 3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (Part 2)
1,2 of 3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonyl chloride (3.1 g, 9.9 mmol) -To a dichloroethane (30 ml) solution, 28% aqueous ammonia (1.5 g, 24.7 mmol) was added dropwise with ice-cooling and vigorous stirring. After stirring at room temperature for 0.5 hour, water (20 ml) and 35% hydrochloric acid (5.2 g, 50 mmol) were added, and the mixture was extracted with 1,2-dichloroethane. The obtained 1,2-dichloroethane solution was washed with water, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off to obtain the desired product (2.8 g). Melting point 120-122 ° C.

(8)N−メトキシカルボニル−3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミドの合成

Figure 2007046440
3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(3.0g、10mmol)のアセトニトリル(15ml)溶液に、無水炭酸カリウム(1.8g、13mmol)とクロロギ酸メチル(0.96g、10mmol)を加え、1時間加熱還流した。減圧下、溶媒留去して得られた残渣を水(20ml)に溶解し、不要物を濾別後、1,2−ジクロロエタンで抽出した。得られた水層に35%塩酸を加え、pH1に調整し、析出した固体を濾取、水洗、乾燥し、目的物(2.4g)を得た。融点133−134℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.43(d,J=6.6Hz,3H),3.72(s,3H),3.74−3.81(m,1H),4.21−4.30(m,1H),4.25(s,3H),4.56−4.66(m,1H),8.83(brs,1H)。(8) Synthesis of N-methoxycarbonyl-3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide
Figure 2007046440
A solution of 3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (3.0 g, 10 mmol) in acetonitrile (15 ml) To the mixture, anhydrous potassium carbonate (1.8 g, 13 mmol) and methyl chloroformate (0.96 g, 10 mmol) were added, and the mixture was heated to reflux for 1 hour. The residue obtained by distilling off the solvent under reduced pressure was dissolved in water (20 ml), and unnecessary substances were filtered off and extracted with 1,2-dichloroethane. 35% hydrochloric acid was added to the obtained aqueous layer to adjust to pH 1, and the precipitated solid was collected by filtration, washed with water and dried to obtain the desired product (2.4 g). Mp 133-134 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.43 (d, J = 6.6 Hz, 3H), 3.72 (s, 3H), 3.74-3.81 (m, 1H), 4.21-4.30 (m, 1H), 4.25 (s, 3H), 4.56-4.66 (m, 1H), 8.83 (brs, 1H).

〔参考例11〕
(1)3,5−ジクロロ−1−メチル−4−(5−メチレン−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾールの合成

Figure 2007046440
3,5−ジクロロ−4−(5−ヨードメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1−メチルピラゾール(1.5g、4.0mmol)のテトラヒドロフラン(10ml)溶液に、カリウムt−ブトキシド(0.52g、4.6mmol)を加え、室温で0.25時間撹拌した。飽和塩化アンモニウム水溶液(20ml)を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル溶液を水および塩化ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n−ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製して目的物(0.88g)を得た。融点68−70℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)3.84(s,3H),4.42(s,2H),4.45(d,J=1.8Hz,1H),4.85(d,J=1.8Hz,1H)。[Reference Example 11]
(1) Synthesis of 3,5-dichloro-1-methyl-4- (5-methylene-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole
Figure 2007046440
To a solution of 3,5-dichloro-4- (5-iodomethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1-methylpyrazole (1.5 g, 4.0 mmol) in tetrahydrofuran (10 ml) , Potassium t-butoxide (0.52 g, 4.6 mmol) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 0.25 hour. Saturated aqueous ammonium chloride solution (20 ml) was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed successively with water and saturated aqueous sodium chloride solution, dried over anhydrous sodium sulfate and evaporated. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: n-hexane / ethyl acetate = 1/1) to obtain the desired product (0.88 g). Melting point 68-70 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 3.84 (s, 3H), 4.42 (s, 2H), 4.45 (d, J = 1.8 Hz, 1H), 4 .85 (d, J = 1.8 Hz, 1H).

(2)3,5−ジクロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾールの合成(その2) (2) Synthesis of 3,5-dichloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (Part 2)

3,5−ジクロロ−1−メチル−4−(5−メチレン−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(2.8g、11mmol)の酢酸エチル(56ml)溶液に、5%パラジウム−炭素(0.56g)を加え、水素(1気圧)雰囲気下、室温で17時間撹拌した。5%パラジウム−炭素(0.05g)を追加し、上記条件下さらに1時間撹拌し、触媒を濾別した。ろ液から溶媒を留去し、得られた残渣をアルミナカラムクロマトグラフィー(溶離液:クロロホルム)で精製し、目的物(2.6g)を得た。融点50−51℃。   To a solution of 3,5-dichloro-1-methyl-4- (5-methylene-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (2.8 g, 11 mmol) in ethyl acetate (56 ml), 5% Palladium-carbon (0.56 g) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 17 hours under an atmosphere of hydrogen (1 atm). 5% Palladium-carbon (0.05 g) was added, the mixture was further stirred for 1 hour under the above conditions, and the catalyst was filtered off. The solvent was distilled off from the filtrate, and the resulting residue was purified by alumina column chromatography (eluent: chloroform) to obtain the desired product (2.6 g). Mp 50-51 ° C.

〔参考例12〕
3,5−ジクロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾールの合成(その3)
[Reference Example 12]
Synthesis of 3,5-dichloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (Part 3)

N−アリルオキシ−3,5−ジクロロ−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸アミド(0.50g、2.0mmol)のトルエン(5ml)溶液に、トリフルオロメタンスルホン酸(0.10g、1.0mmol)を加え、20時間還流した。得られたトルエン溶液を炭酸カリウム飽和水溶液および水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n−ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製して目的物(0.08g)を得た。融点50−51℃。   A solution of N-allyloxy-3,5-dichloro-1-methylpyrazole-4-carboxylic acid amide (0.50 g, 2.0 mmol) in toluene (5 ml) was added to trifluoromethanesulfonic acid (0.10 g, 1.0 mmol). And refluxed for 20 hours. The obtained toluene solution was washed successively with a saturated aqueous potassium carbonate solution and water, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: n-hexane / ethyl acetate = 1/1) to obtain the desired product (0.08 g). Mp 50-51 ° C.

〔参考例13〕
(1)N−(n−ブチルアミノカルボニル)−3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミドの合成

Figure 2007046440
3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(5.31g、18.0mmol)の1,2−ジクロロエタン(30ml)溶液に、無水炭酸カリウム(3.76g、27.0mmol)とn−ブチルイソシアナート(2.14g、21.6mmol)を加え、1時間加熱還流した。室温まで冷却後、水(25ml)を加え、激しく撹拌した。有機層を分離し、得られた水層に35%塩酸を加え、pH1に調整し、1,2−ジクロロエタンで抽出した。得られた1,2−ジクロロエタン溶液を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣に少量のジイソプロピルエーテルを加え、析出した固体を濾取、水洗、乾燥し、目的物(3.53g)を得た。融点130−133℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)0.89(t,J=7.2Hz,3H),1.20−1.50(m,7H),3.10−3.19(m,2H),3.36−3.83(m,1H),4.16(s,3H),4.15−4.29(m,1H),4.56−4.67(m,1H),6.56(t,1H),9.50−9.92(brs,1H)。[Reference Example 13]
(1) N- (n-butylaminocarbonyl) -3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide Synthesis of
Figure 2007046440
1,2 of 3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (5.31 g, 18.0 mmol) -Anhydrous potassium carbonate (3.76 g, 27.0 mmol) and n-butyl isocyanate (2.14 g, 21.6 mmol) were added to a dichloroethane (30 ml) solution, and the mixture was heated to reflux for 1 hour. After cooling to room temperature, water (25 ml) was added and stirred vigorously. The organic layer was separated, 35% hydrochloric acid was added to the obtained aqueous layer to adjust to pH 1, and the mixture was extracted with 1,2-dichloroethane. The obtained 1,2-dichloroethane solution was washed with water, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. A small amount of diisopropyl ether was added to the obtained residue, and the precipitated solid was collected by filtration, washed with water and dried to obtain the desired product (3.53 g). Mp 130-133 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 0.89 (t, J = 7.2 Hz, 3H), 1.20-1.50 (m, 7H), 3.10-3. 19 (m, 2H), 3.36-3.83 (m, 1H), 4.16 (s, 3H), 4.15-4.29 (m, 1H), 4.56-4.67 ( m, 1H), 6.56 (t, 1H), 9.50-9.92 (brs, 1H).

(2)3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホニルイソシアナートの合成

Figure 2007046440
トルエン(15ml)にN−(n−ブチルアミノカルボニル)−3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(5.0g、13mmol)、ビストリクロロメチルカーボネート(9.4g,32mmol)およびトリエチルアミン(0.1ml)を加え、8時間加熱還流した。溶媒留去して目的物(4.0g)を得た。油状物質。(2) Synthesis of 3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonyl isocyanate
Figure 2007046440
Toluene (15 ml) with N- (n-butylaminocarbonyl) -3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5- Sulfonamide (5.0 g, 13 mmol), bistrichloromethyl carbonate (9.4 g, 32 mmol) and triethylamine (0.1 ml) were added, and the mixture was heated to reflux for 8 hours. The solvent was distilled off to obtain the desired product (4.0 g). Oily substance.

〔参考例14〕
(1)ビス(3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−イル)ジスルフィドの合成

Figure 2007046440
3−クロロ−5−メルカプト−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(1.0g、4.0mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(10ml)溶液に、室温で撹拌しながら、3.5時間にわたり空気を吹き込んだ。析出した固体を濾取、水洗、乾燥して目的物(0.49g)を得た。融点165−167℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.36(d,J=6.3Hz,3H),3.49−3.64(m,1H),3.89(s,3H),4.04−4.18(m,1H),4.32−4.48(m,1H)。[Reference Example 14]
(1) Synthesis of bis (3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazol-5-yl) disulfide
Figure 2007046440
3-chloro-5-mercapto-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (1.0 g, 4.0 mmol) N, N- Air was bubbled through the dimethylformamide (10 ml) solution for 3.5 hours with stirring at room temperature. The precipitated solid was collected by filtration, washed with water, and dried to obtain the desired product (0.49 g). Melting point 165-167 [deg.] C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.36 (d, J = 6.3 Hz, 3H), 3.49-3.64 (m, 1H), 3.89 (s, 3H), 4.04-4.18 (m, 1H), 4.32-4.48 (m, 1H).

(2)3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホニルクロリドの合成(その2)
ビス(3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−イル)ジスルフィド(2.5g、5.1mmol)の1,2−ジクロロエタン(50ml)溶液に水(20ml)を加え、氷冷下、激しく撹拌しながら塩素(2.1g、30mmol)を導入した。この間反応温度は20℃まで上昇した。窒素を導入して過剰の塩素を除去した後、1,2−ジクロロエタン層を分離した。得られた1,2−ジクロロエタン溶液を亜硫酸水素ナトリウム飽和水溶液、水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去し、目的物(3.0g)を得た。融点63−68℃。
(2) Synthesis of 3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonyl chloride (part 2)
Of bis (3-chloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazol-5-yl) disulfide (2.5 g, 5.1 mmol) Water (20 ml) was added to a 1,2-dichloroethane (50 ml) solution, and chlorine (2.1 g, 30 mmol) was introduced with vigorous stirring under ice cooling. During this time, the reaction temperature rose to 20 ° C. After introducing nitrogen to remove excess chlorine, the 1,2-dichloroethane layer was separated. The obtained 1,2-dichloroethane solution was washed successively with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen sulfite and water, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off to obtain the desired product (3.0 g). Melting point 63-68 ° C.

〔参考例15〕
3,5−ジクロロ−4−(5−ヨードメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1−メチルピラゾールの合成(その2)
N−アリルオキシ−3,5−ジクロロ−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸アミド(0.50g、2.0mmol)のアセトニトリル(5ml)溶液に、N−ヨードコハク酸イミド(0.67g、3.0mmol)を加え、室温で15時間撹拌した。亜硫酸水素ナトリウム飽和水溶液(10ml)を加え、酢酸エチルで抽出し、得られた酢酸エチル溶液を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、塩化ナトリウム飽和水溶液および水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n−ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製して目的物(0.60g)を得た。油状物質。
[Reference Example 15]
Synthesis of 3,5-dichloro-4- (5-iodomethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1-methylpyrazole (part 2)
To a solution of N-allyloxy-3,5-dichloro-1-methylpyrazole-4-carboxylic acid amide (0.50 g, 2.0 mmol) in acetonitrile (5 ml) was added N-iodosuccinimide (0.67 g, 3.0 mmol). ) And stirred at room temperature for 15 hours. A saturated aqueous solution of sodium hydrogen sulfite (10 ml) was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The resulting ethyl acetate solution was washed successively with a saturated aqueous solution of sodium bicarbonate, a saturated aqueous solution of sodium chloride and water, then dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. did. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: n-hexane / ethyl acetate = 3/1) to obtain the desired product (0.60 g). Oily substance.

〔参考例16〕
(1)4−(5−ブロモメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−3,5−ジクロロ−1−メチルピラゾールの合成

Figure 2007046440
N−アリルオキシ−3,5−ジクロロ−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸アミド(20.0g、80.0mmol)のアセトニトリル(200ml)溶液に、N−ブロモコハク酸イミド(17.1g、96.0mmol)を加え、室温にて1時間撹拌した。亜硫酸水素ナトリウム飽和水溶液(100ml)を加え、アセトニトリルを留去した。次に、酢酸エチルで抽出し、得られた酢酸エチル溶液を水および塩化ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n−ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製して目的物(18.4g)を得た。融点53−54℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)3.57−3.61(d,J=6.9Hz,2H),3.83(s,3H),4.06−4.11(m,1H),4.29−4.33(m,1H),4.65−4.72(m,1H)。[Reference Example 16]
(1) Synthesis of 4- (5-bromomethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -3,5-dichloro-1-methylpyrazole
Figure 2007046440
To a solution of N-allyloxy-3,5-dichloro-1-methylpyrazole-4-carboxylic acid amide (20.0 g, 80.0 mmol) in acetonitrile (200 ml) was added N-bromosuccinimide (17.1 g, 96.0 mmol). ) And stirred at room temperature for 1 hour. A saturated aqueous solution of sodium hydrogen sulfite (100 ml) was added, and acetonitrile was distilled off. Next, the mixture was extracted with ethyl acetate, and the resulting ethyl acetate solution was washed successively with water and saturated aqueous sodium chloride solution, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: n-hexane / ethyl acetate = 3/1) to obtain the desired product (18.4 g). Mp 53-54 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 3.57-3.61 (d, J = 6.9 Hz, 2H), 3.83 (s, 3H), 4.06-4. 11 (m, 1H), 4.29-4.33 (m, 1H), 4.65-4.72 (m, 1H).

(2)3,5−ジクロロ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾールの合成(その3)
4−(5−ブロモメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−3,5−ジクロロ−1−メチルピラゾール(0.50g、1.5mmol)のN−メチル−2−ピロリドン(5ml)溶液に水素化ホウ素ナトリウム(0.11g、3.0mmol)を加え、60℃で1時間撹拌した。室温まで冷却後、水(5ml)を加え、さらに35%塩酸を加えてpH1に調整し、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル溶液を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、塩化ナトリウム飽和水溶液および水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n−ヘキサン/酢酸エチル=5/2)で精製して目的物(0.31g)を得た。融点50−51℃。
(2) Synthesis of 3,5-dichloro-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (Part 3)
4- (5-Bromomethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -3,5-dichloro-1-methylpyrazole (0.50 g, 1.5 mmol) in N-methyl-2- Sodium borohydride (0.11 g, 3.0 mmol) was added to the pyrrolidone (5 ml) solution, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 1 hour. After cooling to room temperature, water (5 ml) was added, and further 35% hydrochloric acid was added to adjust to pH 1, followed by extraction with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed successively with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, a saturated aqueous solution of sodium chloride and water, then dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: n-hexane / ethyl acetate = 5/2) to obtain the desired product (0.31 g). Mp 50-51 ° C.

〔参考例17〕
(1)5−ベンジルチオ−1−メチルピラゾール−4−カルボヒドロキサム酸の合成

Figure 2007046440
5−ベンジルチオ−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸(15.9g、64.0mmol)のトルエン(100ml)懸濁液に、塩化チオニル(11.4g、95.8mmol)とN,N−ジメチルホルムアミド(0.1g)を加え、4時間、加熱還流した。溶媒留去して得られた残渣をテトラヒドロフラン(40ml)に溶解した。
別途、ヒドロキシルアミン塩酸塩(13.3g、191mmol)の水(40ml)溶液に、5ないし15℃にて85%水酸化カリウム(12.6g、191mmol)の水(40ml)溶液を加え、室温で15分間撹拌した。次に、3ないし15℃にて、上記テトラヒドロフラン溶液を0.25時間で滴下した。さらに3℃で1.5時間撹拌後、35%塩酸(20ml)を加え、pH3ないし4に調整し、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル溶液を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n−ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製して目的物(10.3g)を得た。樹脂状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)3.42(s,3H),3.95(s,2H),6.93−7.01(m,2H),7.20−7.28(m,3H),8.04(s,1H),9.76(brs,1H)。[Reference Example 17]
(1) Synthesis of 5-benzylthio-1-methylpyrazole-4-carbohydroxamic acid
Figure 2007046440
To a suspension of 5-benzylthio-1-methylpyrazole-4-carboxylic acid (15.9 g, 64.0 mmol) in toluene (100 ml) was added thionyl chloride (11.4 g, 95.8 mmol) and N, N-dimethylformamide. (0.1 g) was added and heated to reflux for 4 hours. The residue obtained by distilling off the solvent was dissolved in tetrahydrofuran (40 ml).
Separately, a solution of hydroxylamine hydrochloride (13.3 g, 191 mmol) in water (40 ml) was added with a solution of 85% potassium hydroxide (12.6 g, 191 mmol) in water (40 ml) at 5 to 15 ° C. at room temperature. Stir for 15 minutes. Next, the tetrahydrofuran solution was added dropwise at 3 to 15 ° C. over 0.25 hours. After further stirring at 3 ° C. for 1.5 hours, 35% hydrochloric acid (20 ml) was added to adjust the pH to 3 to 4, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed with water, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The resulting residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: n-hexane / ethyl acetate = 1/1). The target product (10.3 g) was obtained. Resinous material. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 3.42 (s, 3H), 3.95 (s, 2H), 6.93-7.01 (m, 2H), 7.20 -7.28 (m, 3H), 8.04 (s, 1H), 9.76 (brs, 1H).

(2)N−アリルオキシ−5−ベンジルチオ−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸アミドの合成

Figure 2007046440
炭酸カリウム(1.3g、9.4mmol)の水(10ml)溶液に、5−ベンジルチオ−1−メチルピラゾール−4−カルボヒドロキサム酸(2.0g、7.6mmol)と臭化アリル(1.1g、9.1mmol)のトルエン(10ml)溶液を加え、50℃にて4時間撹拌した。室温まで冷却後、35%塩酸を加えてpH1に調整し、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル溶液を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒留去して目的物(1.9g)を得た。油状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)3.42(s,3H),3.95(s,2H),4.49(d,J=6.3Hz,2H),5.33−5.43(m,2H),6.00−6.16(m,1H),6.93−7.00(m,2H),7.21−7.30(m,3H),8.06(s,1H),9.68(brs,1H)。(2) Synthesis of N-allyloxy-5-benzylthio-1-methylpyrazole-4-carboxylic acid amide
Figure 2007046440
To a solution of potassium carbonate (1.3 g, 9.4 mmol) in water (10 ml) was added 5-benzylthio-1-methylpyrazole-4-carbohydroxamic acid (2.0 g, 7.6 mmol) and allyl bromide (1.1 g). , 9.1 mmol) in toluene (10 ml) was added and stirred at 50 ° C. for 4 hours. After cooling to room temperature, 35% hydrochloric acid was added to adjust to pH 1, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed with water, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off to obtain the desired product (1.9 g). Oily substance. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 3.42 (s, 3H), 3.95 (s, 2H), 4.49 (d, J = 6.3 Hz, 2H), 5 .33-5.43 (m, 2H), 6.00-6.16 (m, 1H), 6.93-7.00 (m, 2H), 7.21-7.30 (m, 3H) , 8.06 (s, 1H), 9.68 (brs, 1H).

(3)5−ベンジルチオ−4−(5−ヨードメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1−メチルピラゾールの合成

Figure 2007046440
N−アリルオキシ−5−ベンジルチオ−1−メチルピラゾール−4−カルボン酸アミド(1.8g、5.9mmol)のアセトニトリル(10ml)溶液に、ヨウ素(4.5g、18mmol)を加え、室温にて8時間撹拌した。チオ硫酸ナトリウム飽和水溶液(30ml)を加え、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル溶液を炭酸水素ナトリウム飽和水溶液、塩化ナトリウム飽和水溶液および水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:n−ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精製して目的物(1.7g)を得た。樹脂状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)3.36−3.42(m,5H),3.98−4.05(m,3H),4.31−4.38(m,1H),4.54−4.59(m,1H),6.97−7.02(m,2H),7.20−7.24(m,3H),7.79(s,1H)。(3) Synthesis of 5-benzylthio-4- (5-iodomethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1-methylpyrazole
Figure 2007046440
To a solution of N-allyloxy-5-benzylthio-1-methylpyrazole-4-carboxylic acid amide (1.8 g, 5.9 mmol) in acetonitrile (10 ml) was added iodine (4.5 g, 18 mmol), and 8 at room temperature. Stir for hours. A saturated aqueous sodium thiosulfate solution (30 ml) was added, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed successively with a saturated aqueous solution of sodium hydrogen carbonate, a saturated aqueous solution of sodium chloride and water, then dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off. The obtained residue was purified by silica gel column chromatography (eluent: n-hexane / ethyl acetate = 3/1) to obtain the desired product (1.7 g). Resinous material. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 3.36-3.42 (m, 5H), 3.98-4.05 (m, 3H), 4.31-4.38 ( m, 1H), 4.54-4.59 (m, 1H), 6.97-7.02 (m, 2H), 7.20-7.24 (m, 3H), 7.79 (s, 1H).

(4)5−ベンジルチオ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾールの合成

Figure 2007046440
5−ベンジルチオ−4−(5−ヨードメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1−メチルピラゾール(1.6g、3.7mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(8ml)溶液に、50℃にて、水素化ホウ素ナトリウム(0.21g、5.6mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(5ml)溶液を0.3時間かけて滴下し、さらに、50℃で1時間撹拌した。室温まで冷却後、水(20ml)を加え、さらに35%塩酸を加えてpH1に調整し、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル溶液を6%塩酸および水で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去して目的物(1.1g)を得た。樹脂状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.43(d,J=6.3Hz,3H),3.36(s,3H),3.69−3.77(m,1H),4.04(q,J=12.6Hz,2H),4.21−4.27(m,1H),4.55−4.61(m,1H),6.98−7.03(m,2H),7.19−7.24(m,3H),7.76(s,1H)。(4) Synthesis of 5-benzylthio-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole
Figure 2007046440
5-Benzylthio-4- (5-iodomethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1-methylpyrazole (1.6 g, 3.7 mmol) in N, N-dimethylformamide (8 ml) ) A solution of sodium borohydride (0.21 g, 5.6 mmol) in N, N-dimethylformamide (5 ml) was added dropwise to the solution over 0.3 hours, and further at 50 ° C. for 1 hour. Stir. After cooling to room temperature, water (20 ml) was added, and further 35% hydrochloric acid was added to adjust to pH 1, followed by extraction with ethyl acetate. The obtained ethyl acetate solution was washed successively with 6% hydrochloric acid and water, dried over anhydrous sodium sulfate, and evaporated to give the desired product (1.1 g). Resinous material. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.43 (d, J = 6.3 Hz, 3H), 3.36 (s, 3H), 3.69-3.77 (m, 1H), 4.04 (q, J = 12.6 Hz, 2H), 4.21-4.27 (m, 1H), 4.55-4.61 (m, 1H), 6.98-7. 03 (m, 2H), 7.19-7.24 (m, 3H), 7.76 (s, 1H).

(5)1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミドの合成

Figure 2007046440
5−ベンジルチオ−1−メチル−4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール(1.1g、3.5mmol)の1,2−ジクロロエタン(10ml)溶液に、水(10ml)と35%塩酸(0.1g)を加え、激しく撹拌しながら塩素(2.5g、35mmol)を5℃にて導入した。この間、反応液は19℃まで発熱した。窒素を導入して過剰の塩素を追い出した後、水(20ml)を加え、1,2−ジクロロエタンで抽出した。得られた1,2−ジクロロエタン溶液を減圧下8mlまで濃縮した。この溶液を、別途用意した28%アンモニア水(1ml)を加えた1,2−ジクロロエタン(8ml)溶液に、5℃にて、激しく撹拌しながら滴下し、さらに、室温で0.5時間撹拌した。35%塩酸を加えて、pH1に調整後、1,2−ジクロロエタンで抽出した。得られた1,2−ジクロロエタン溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去して得られた残渣をトルエンで再結晶して目的物(0.43g)を得た。融点97−99℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.43(d,J=6.3Hz,3H),3.70−3.77(m,1H),4.19−4.26(m,4H),4.55−4.62(m,1H),6.49(brs,2H),7.75(s,1H)。(5) Synthesis of 1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide
Figure 2007046440
5-Benzylthio-1-methyl-4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole (1.1 g, 3.5 mmol) in 1,2-dichloroethane (10 ml) Water (10 ml) and 35% hydrochloric acid (0.1 g) were added to the solution, and chlorine (2.5 g, 35 mmol) was introduced at 5 ° C. with vigorous stirring. During this time, the reaction solution exothermed to 19 ° C. Nitrogen was introduced to drive off excess chlorine, water (20 ml) was added, and the mixture was extracted with 1,2-dichloroethane. The resulting 1,2-dichloroethane solution was concentrated to 8 ml under reduced pressure. This solution was added dropwise to a 1,2-dichloroethane (8 ml) solution added with 28% aqueous ammonia (1 ml) separately prepared at 5 ° C. with vigorous stirring, and further stirred at room temperature for 0.5 hours. . 35% hydrochloric acid was added to adjust the pH to 1, followed by extraction with 1,2-dichloroethane. The obtained 1,2-dichloroethane solution was dried over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off, and the resulting residue was recrystallized from toluene to obtain the desired product (0.43 g). Mp 97-99 ° C. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.43 (d, J = 6.3 Hz, 3H), 3.70-3.77 (m, 1H), 4.19-4. 26 (m, 4H), 4.55-4.62 (m, 1H), 6.49 (brs, 2H), 7.75 (s, 1H).

〔参考例18〕
4−(5−メチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)−1−(ピリジル−2−イル)ピラゾール−5−スルホンアミドの合成

Figure 2007046440
原料に5−ベンジルチオ−1−(ピリジル−2−イル)ピラゾール−4−カルボン酸クロリド(3.63g、11.0mmol)を用い、参考例1と同様にして目的物(0.45g)を得た。樹脂状物質。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)1.43(d,J=6.3Hz,3H),3.77−3.83(m,1H),4.22−4.26(m,1H),4.58−4.63(m,1H),6.41(brs,2H),7.42−7.44(m,1H),7.78−7.80(m,1H),7.87(s,1H)7.93−7.98(m,1H),8.48−8.50(m,1H)。[Reference Example 18]
Synthesis of 4- (5-methyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) -1- (pyridyl-2-yl) pyrazole-5-sulfonamide
Figure 2007046440
5-Benzylthio-1- (pyridyl-2-yl) pyrazole-4-carboxylic acid chloride (3.63 g, 11.0 mmol) was used as a raw material in the same manner as in Reference Example 1 to obtain the desired product (0.45 g). It was. Resinous material. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3 ) 1.43 (d, J = 6.3 Hz, 3H), 3.77-3.83 (m, 1H), 4.22-4. 26 (m, 1H), 4.58-4.63 (m, 1H), 6.41 (brs, 2H), 7.42-7.44 (m, 1H), 7.78-7.80 ( m, 1H), 7.87 (s, 1H) 7.93-7.98 (m, 1H), 8.48-8.50 (m, 1H).

〔参考例19〕
3−クロロ−1−メチル−4−(5−メチレン−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミドの合成

Figure 2007046440
3−クロロ−1−メチル−4−(5−ヨードメチル−5H,6H−1,4,2−ジオキサジン−3−イル)ピラゾール−5−スルホンアミド(0.55g、1.3mmol)を1,2−ジメトキシエタン(10ml)に溶解し氷冷下撹拌した。次いで28%ナトリウムメトキシドのメタノール溶液(0.6g、3.1mmol)を0℃でゆっくり加えた後、1時間撹拌した。2規定塩酸を加え反応を停止し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水および塩化ナトリウム飽和水溶液で順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去したところ油状物が得られた。得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液;n−ヘキサン/酢酸エチル=1/1)で精製し、目的物(0.36g)を得た。無色固体。融点116−119℃。プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値δ(ppm)(CDCl3中)4.15(s,3H),4.52(s,2H),4.53(d,J=2.8Hz,1H)、4.93(d,J=2.8Hz,1H)6.03(brs,2H)。[Reference Example 19]
Synthesis of 3-chloro-1-methyl-4- (5-methylene-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide
Figure 2007046440
3-chloro-1-methyl-4- (5-iodomethyl-5H, 6H-1,4,2-dioxazin-3-yl) pyrazole-5-sulfonamide (0.55 g, 1.3 mmol) -Dissolved in dimethoxyethane (10 ml) and stirred under ice cooling. Subsequently, 28% sodium methoxide in methanol (0.6 g, 3.1 mmol) was slowly added at 0 ° C., followed by stirring for 1 hour. 2N hydrochloric acid was added to stop the reaction, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The ethyl acetate layer was washed successively with water and saturated aqueous sodium chloride solution, dried over anhydrous sodium sulfate, and evaporated to give an oil. The obtained oil was purified by silica gel column chromatography (eluent: n-hexane / ethyl acetate = 1/1) to obtain the desired product (0.36 g). Colorless solid. Mp 116-119 ° C. 3. Proton nuclear magnetic resonance chemical shift value δ (ppm) (in CDCl 3) 4.15 (s, 3H), 4.52 (s, 2H), 4.53 (d, J = 2.8 Hz, 1H) 93 (d, J = 2.8 Hz, 1H) 6.03 (brs, 2H).

前記合成例および参考例と同様の方法を用いることにより合成された化合物(A)の構造式と物性値を、前記合成例および参考例に記載された化合物とともに第1表に示す。   The structural formulas and physical properties of the compound (A) synthesized by using the same method as in the synthesis examples and reference examples are shown in Table 1 together with the compounds described in the synthesis examples and reference examples.

Figure 2007046440
Figure 2007046440
Figure 2007046440
Figure 2007046440

化合物(A)と、これと同時に施用するダイムロン、ジメピペレート及びエスプロカルブの中から選ばれる少なくとも1種の化合物との組み合わせとしては、化合物1/ダイムロン、化合物1/ジメピペレート、化合物1/エスプロカルブ、化合物2/ダイムロン、化合物2/ジメピペレート、化合物2/エスプロカルブ、化合物3/ダイムロン、化合物3/ジメピペレート、化合物3/エスプロカルブ、化合物4/ダイムロン、化合物4/ジメピペレート、化合物4/エスプロカルブ、化合物5/ダイムロン、化合物5/ジメピペレート、化合物5/エスプロカルブ、化合物6/ダイムロン、化合物6/ジメピペレート、化合物6/エスプロカルブ、化合物7/ダイムロン、化合物7/ジメピペレート、化合物7/エスプロカルブ、化合物8/ダイムロン、化合物8/ジメピペレート、化合物8/エスプロカルブ、化合物9/ダイムロン、化合物9/ジメピペレート、化合物9/エスプロカルブ、化合物10/ダイムロン、化合物10/ジメピペレート、化合物10/エスプロカルブ、化合物11/ダイムロン、化合物11/ジメピペレート、化合物11/エスプロカルブ、化合物12/ダイムロン、化合物12/ジメピペレート、化合物12/エスプロカルブ、化合物13/ダイムロン、化合物13/ジメピペレート、化合物13/エスプロカルブ、化合物14/ダイムロン、化合物14/ジメピペレート、化合物14/エスプロカルブ、化合物15/ダイムロン、化合物15/ジメピペレート、化合物15/エスプロカルブ、化合物16/ダイムロン、化合物16/ジメピペレート、化合物16/エスプロカルブ、化合物17/ダイムロン、化合物17/ジメピペレート、化合物17/エスプロカルブ、化合物18/ダイムロン、化合物18/ジメピペレート、化合物18/エスプロカルブ、化合物19/ダイムロン、化合物19/ジメピペレート、化合物19/エスプロカルブ、化合物20/ダイムロン、化合物20/ジメピペレート、化合物20/エスプロカルブ、化合物21/ダイムロン、化合物21/ジメピペレート、化合物21/エスプロカルブが挙げられる。また化合物(A)と、これと同時に施用できる除草剤としてはダイムロン、ジメピペレート及びエスプロカルブの中から選ばれる少なくとも1種の化合物以外にも、B群の化合物として第2表記載の化合物が挙げられる。さらに化合物(A)並びにダイムロン、ジメピペレート及びエスプロカルブの中から選ばれる少なくとも1種の化合物を同時に施用するに際して、第2表に記載の化合物を同時に施用することもできる。   As a combination of the compound (A) and at least one compound selected from dimrone, dimepiperate and esprocarb to be applied at the same time, compound 1 / daimlone, compound 1 / dimepiperate, compound 1 / esprocarb, compound 2 / Daimlon, Compound 2 / Dimepiperate, Compound 2 / Esprocarb, Compound 3 / Dimron, Compound 3 / Dimepiperate, Compound 3 / Esprocarb, Compound 4 / Dimron, Compound 4 / Dimepiperate, Compound 4 / Esprocarb, Compound 5 / Dimron, Compound 5 / Dimepiperate, Compound 5 / Esprocarb, Compound 6 / Dimron, Compound 6 / Dimepiperate, Compound 6 / Esprocarb, Compound 7 / Dimron, Compound 7 / Dimepiperate, Compound 7 / Esprocarb, Compound / Daimuron, Compound 8 / Dimepiperate, Compound 8 / Esprocarb, Compound 9 / Dimron, Compound 9 / Dimepiperate, Compound 9 / Esprocarb, Compound 10 / Dimron, Compound 10 / Dimepiperate, Compound 10 / Esprocarb, Compound 11 / Dimron, Compound 11 / Dipipiperate, Compound 11 / Esprocarb, Compound 12 / Dimron, Compound 12 / Dimepiperate, Compound 12 / Esprocarb, Compound 13 / Dimron, Compound 13 / Dipipiperate, Compound 13 / Esprocarb, Compound 14 / Dimron, Compound 14 / Dimepiperate, Compound 14 / Esprocarb, Compound 15 / Dimron, Compound 15 / Dimepiperate, Compound 15 / Esprocarb, Compound 16 / Dimron, Compound 16 / Dimepipe , Compound 16 / Esprocarb, Compound 17 / Dimron, Compound 17 / Dimepiperate, Compound 17 / Esprocarb, Compound 18 / Dimron, Compound 18 / Dimepiperate, Compound 18 / Esprocarb, Compound 19 / Dimron, Compound 19 / Dimepiperate, Compound 19 / Esprocarb, Compound 20 / Dimron, Compound 20 / Dimepiperate, Compound 20 / Esprocarb, Compound 21 / Dimron, Compound 21 / Dimepiperate, Compound 21 / Esprocarb. In addition to the compound (A) and herbicides that can be applied at the same time, in addition to at least one compound selected from diemron, dimethylpiperate and esprocarb, the compounds described in Table 2 can be mentioned as the compounds of Group B. Furthermore, when simultaneously applying the compound (A) and at least one compound selected from Daimlon, dimethylpiperate and esprocarb, the compounds shown in Table 2 can also be applied simultaneously.

本発明において、施用にあたっては、各化合物を個別に施用しても、混合組成物として施用しても良い。各々個別に施用する場合は、全く同時に施用しても、時間的に近接していれば別々に処理しても良く、いずれの場合も本発明方法に含まれる。

Figure 2007046440
Figure 2007046440
In the present invention, in application, each compound may be applied individually or as a mixed composition. When each is applied individually, it may be applied at the same time or may be processed separately as long as they are close in time, and both cases are included in the method of the present invention.
Figure 2007046440
Figure 2007046440

化合物(A)と同時に施用できる第2表記載の化合物との具体的な組み合わせを第3表に示す。

〔第3表〕
――――――――――――――――――――――――――――――――――
同時に施用できる化合物の組み合わせ例
――――――――――――――――――――――――――――――――――
化合物1/ピラゾスルフロンエチル、化合物1/ベンスルフロンメチル、化合物1/シノスルフロン、化合物1/イマゾスルフロン、化合物1/アジムスルフロン、化合物1/ハロスルフロンメチル、化合物1/シクロスルファムロン、化合物1/エトキシスルフロン、化合物1/ピラゾレート、化合物1/ピラゾキシフェン、化合物1/ベンゾフェナップ、化合物1/ブロモブチド、化合物1/ナプロアニリド、化合物1/プレチラクロール、化合物1/ブタクロール、化合物1/テニルクロール、化合物1/CNP、化合物1/クロメトキシニル、化合物1/ビフェノックス、化合物1/オキサジアゾン、化合物1/オキサジアルギル、化合物1/ペントキサゾン、化合物1/カフェンストロール、化合物1/オキサジクロメホン、化合物1/インダノファン、化合物1/ピリミノバックメチル、化合物1/シハロホップブチル、化合物1/フェントラザミド、化合物1/メフェナセット、化合物1/ブテナクロール、化合物1/ジチオピル、化合物1/ベンフレセート、化合物1/ピリブチカルブ、化合物1/ベンチオカーブ、化合物1/モリネート、化合物1/ブタミフォス、化合物1/キンクロラック、化合物1/シンメスリン、化合物1/シメトリン、化合物1/ベンスリド、化合物1/ジメタメトリン、化合物1/MCPA、化合物1/MCPB、化合物1/エトベンザニド、化合物1/クミルロン、化合物1/ベンゾビシクロン、化合物1/ピリフタリド、化合物1/ビスピリバック、化合物1/ピラクロニル、化合物1/アニロホス、化合物1/OK−701、化合物1/ペノキススラム、化合物1/AVH−301、化合物1/KUH−021、化合物1/TH−547、化合物1/ベンタゾン、化合物1/2,4−PA、化合物1/メタミホップ、化合物1/フルセトスルフロン、化合物1/HOK−201、化合物1/メソトリオン、化合物1/プロパニル、化合物1/キノクラミン、化合物1/クロメプロップ、
化合物2/ピラゾスルフロンエチル、化合物2/ベンスルフロンメチル、化合物2/シノスルフロン、化合物2/イマゾスルフロン、化合物2/アジムスルフロン、化合物2/ハロスルフロンメチル、化合物2/シクロスルファムロン、化合物2/エトキシスルフロン、化合物2/ピラゾレート、化合物2/ピラゾキシフェン、化合物2/ベンゾフェナップ、化合物2/ブロモブチド、化合物2/ナプロアニリド、化合物2/プレチラクロール、化合物2/ブタクロール、化合物2/テニルクロール、化合物2/CNP、化合物2/クロメトキシニル、化合物2/ビフェノックス、化合物2/オキサジアゾン、化合物2/オキサジアルギル、化合物2/ペントキサゾン、化合物2/カフェンストロール、化合物2/オキサジクロメホン、化合物2/インダノファン、化合物2/ピリミノバックメチル、化合物2/シハロホップブチル、化合物2/フェントラザミド、化合物2/メフェナセット、化合物2/ブテナクロール、化合物2/ジチオピル、化合物2/ベンフレセート、化合物2/ピリブチカルブ、化合物2/ベンチオカーブ、化合物2/モリネート、化合物2/ブタミフォス、化合物2/キンクロラック、化合物2/シンメスリン、化合物2/シメトリン、化合物2/ベンスリド、化合物2/ジメタメトリン、化合物2/MCPA、化合物2/MCPB、化合物2/エトベンザニド、化合物2/クミルロン、化合物2/ベンゾビシクロン、化合物2/ピリフタリド、化合物2/ビスピリバック、化合物2/ピラクロニル、化合物2/アニロホス、化合物2/OK−701、化合物2/ペノキススラム、化合物2/AVH−301、化合物2/KUH−021、化合物2/TH−547、化合物2/ベンタゾン、化合物2/2,4−PA、化合物2/メタミホップ、化合物2/フルセトスルフロン、化合物2/HOK−201、化合物2/メソトリオン、化合物2/プロパニル、化合物2/キノクラミン、化合物2/クロメプロップ、
化合物3/ピラゾスルフロンエチル、化合物3/ベンスルフロンメチル、化合物3/シノスルフロン、化合物3/イマゾスルフロン、化合物3/アジムスルフロン、化合物3/ハロスルフロンメチル、化合物3/シクロスルファムロン、化合物3/エトキシスルフロン、化合物3/ピラゾレート、化合物3/ピラゾキシフェン、化合物3/ベンゾフェナップ、化合物3/ブロモブチド、化合物3/ナプロアニリド、化合物3/プレチラクロール、化合物3/ブタクロール、化合物3/テニルクロール、化合物3/CNP、化合物3/クロメトキシニル、化合物3/ビフェノックス、化合物3/オキサジアゾン、化合物3/オキサジアルギル、化合物3/ペントキサゾン、化合物3/カフェンストロール、化合物3/オキサジクロメホン、化合物3/インダノファン、化合物3/ピリミノバックメチル、化合物3/シハロホップブチル、化合物3/フェントラザミド、化合物3/メフェナセット、化合物3/ブテナクロール、化合物3/ジチオピル、化合物3/ベンフレセート、化合物3/ピリブチカルブ、化合物3/ベンチオカーブ、化合物3/モリネート、化合物3/ブタミフォス、化合物3/キンクロラック、化合物3/シンメスリン、化合物3/シメトリン、化合物3/ベンスリド、化合物3/ジメタメトリン、化合物3/MCPA、化合物3/MCPB、化合物3/エトベンザニド、化合物3/クミルロン、化合物3/ベンゾビシクロン、化合物3/ピリフタリド、化合物3/ビスピリバック、化合物3/ピラクロニル、化合物3/アニロホス、化合物3/OK−701、化合物3/ペノキススラム、化合物3/AVH−301、化合物3/KUH−021、化合物3/TH−547、化合物3/ベンタゾン、化合物3/2,4−PA、化合物3/メタミホップ、化合物3/フルセトスルフロン、化合物3/HOK−201、化合物3/メソトリオン、化合物3/プロパニル、化合物3/キノクラミン、化合物3/クロメプロップ、
化合物4/ピラゾスルフロンエチル、化合物4/ベンスルフロンメチル、化合物4/シノスルフロン、化合物4/イマゾスルフロン、化合物4/アジムスルフロン、化合物4/ハロスルフロンメチル、化合物4/シクロスルファムロン、化合物4/エトキシスルフロン、化合物4/ピラゾレート、化合物4/ピラゾキシフェン、化合物4/ベンゾフェナップ、化合物4/ブロモブチド、化合物4/ナプロアニリド、化合物4/プレチラクロール、化合物4/ブタクロール、化合物4/テニルクロール、化合物4/CNP、化合物4/クロメトキシニル、化合物4/ビフェノックス、化合物4/オキサジアゾン、化合物4/オキサジアルギル、化合物4/ペントキサゾン、化合物4/カフェンストロール、化合物4/オキサジクロメホン、化合物4/インダノファン、化合物4/ピリミノバックメチル、化合物4/シハロホップブチル、化合物4/フェントラザミド、化合物4/メフェナセット、化合物4/ブテナクロール、化合物4/ジチオピル、化合物4/ベンフレセート、化合物4/ピリブチカルブ、化合物4/ベンチオカーブ、化合物4/モリネート、化合物4/ブタミフォス、化合物4/キンクロラック、化合物4/シンメスリン、化合物4/シメトリン、化合物4/ベンスリド、化合物4/ジメタメトリン、化合物4/MCPA、化合物4/MCPB、化合物4/エトベンザニド、化合物4/クミルロン、化合物4/ベンゾビシクロン、化合物4/ピリフタリド、化合物4/ビスピリバック、化合物4/ピラクロニル、化合物4/アニロホス、化合物4/OK−701、化合物4/ペノキススラム、化合物4/AVH−301、化合物4/KUH−021、化合物4/TH−547、化合物4/ベンタゾン、化合物4/2,4−PA、化合物4/メタミホップ、化合物4/フルセトスルフロン、化合物4/HOK−201、化合物4/メソトリオン、化合物4/プロパニル、化合物4/キノクラミン、化合物4/クロメプロップ、
化合物5/ピラゾスルフロンエチル、化合物5/ベンスルフロンメチル、化合物5/シノスルフロン、化合物5/イマゾスルフロン、化合物5/アジムスルフロン、化合物5/ハロスルフロンメチル、化合物5/シクロスルファムロン、化合物5/エトキシスルフロン、化合物5/ピラゾレート、化合物5/ピラゾキシフェン、化合物5/ベンゾフェナップ、化合物5/ブロモブチド、化合物5/ナプロアニリド、化合物5/プレチラクロール、化合物5/ブタクロール、化合物5/テニルクロール、化合物5/CNP、化合物5/クロメトキシニル、化合物5/ビフェノックス、化合物5/オキサジアゾン、化合物5/オキサジアルギル、化合物5/ペントキサゾン、化合物5/カフェンストロール、化合物5/オキサジクロメホン、化合物5/インダノファン、化合物5/ピリミノバックメチル、化合物5/シハロホップブチル、化合物5/フェントラザミド、化合物5/メフェナセット、化合物5/ブテナクロール、化合物5/ジチオピル、化合物5/ベンフレセート、化合物5/ピリブチカルブ、化合物5/ベンチオカーブ、化合物5/モリネート、化合物5/ブタミフォス、化合物5/キンクロラック、化合物5/シンメスリン、化合物5/シメトリン、化合物5/ベンスリド、化合物5/ジメタメトリン、化合物5/MCPA、化合物5/MCPB、化合物5/エトベンザニド、化合物5/クミルロン、化合物5/ベンゾビシクロン、化合物5/ピリフタリド、化合物5/ビスピリバック、化合物5/ピラクロニル、化合物5/アニロホス、化合物5/OK−701、化合物5/ペノキススラム、化合物5/AVH−301、化合物5/KUH−021、化合物5/TH−547、化合物5/ベンタゾン、化合物5/2,4−PA、化合物5/メタミホップ、化合物5/フルセトスルフロン、化合物5/HOK−201、化合物5/メソトリオン、化合物5/プロパニル、化合物5/キノクラミン、化合物5/クロメプロップ、
化合物6/ピラゾスルフロンエチル、化合物6/ベンスルフロンメチル、化合物6/シノスルフロン、化合物6/イマゾスルフロン、化合物6/アジムスルフロン、化合物6/ハロスルフロンメチル、化合物6/シクロスルファムロン、化合物6/エトキシスルフロン、化合物6/ピラゾレート、化合物6/ピラゾキシフェン、化合物6/ベンゾフェナップ、化合物6/ブロモブチド、化合物6/ナプロアニリド、化合物6/プレチラクロール、化合物6/ブタクロール、化合物6/テニルクロール、化合物6/CNP、化合物6/クロメトキシニル、化合物6/ビフェノックス、化合物6/オキサジアゾン、化合物6/オキサジアルギル、化合物6/ペントキサゾン、化合物6/カフェンストロール、化合物6/オキサジクロメホン、化合物6/インダノファン、化合物6/ピリミノバックメチル、化合物6/シハロホップブチル、化合物6/フェントラザミド、化合物6/メフェナセット、化合物6/ブテナクロール、化合物6/ジチオピル、化合物6/ベンフレセート、化合物6/ピリブチカルブ、化合物6/ベンチオカーブ、化合物6/モリネート、化合物6/ブタミフォス、化合物6/キンクロラック、化合物6/シンメスリン、化合物6/シメトリン、化合物6/ベンスリド、化合物6/ジメタメトリン、化合物6/MCPA、化合物6/MCPB、化合物6/エトベンザニド、化合物6/クミルロン、化合物6/ベンゾビシクロン、化合物6/ピリフタリド、化合物6/ビスピリバック、化合物6/ピラクロニル、化合物6/アニロホス、化合物6/OK−701、化合物6/ペノキススラム、化合物6/AVH−301、化合物6/KUH−021、化合物6/TH−547、化合物6/ベンタゾン、化合物6/2,4−PA、化合物6/メタミホップ、化合物6/フルセトスルフロン、化合物6/HOK−201、化合物6/メソトリオン、化合物6/プロパニル、化合物6/キノクラミン、化合物6/クロメプロップ、
化合物7/ピラゾスルフロンエチル、化合物7/ベンスルフロンメチル、化合物7/シノスルフロン、化合物7/イマゾスルフロン、化合物7/アジムスルフロン、化合物7/ハロスルフロンメチル、化合物7/シクロスルファムロン、化合物7/エトキシスルフロン、化合物7/ピラゾレート、化合物7/ピラゾキシフェン、化合物7/ベンゾフェナップ、化合物7/ブロモブチド、化合物7/ナプロアニリド、化合物7/プレチラクロール、化合物7/ブタクロール、化合物7/テニルクロール、化合物7/CNP、化合物7/クロメトキシニル、化合物7/ビフェノックス、化合物7/オキサジアゾン、化合物7/オキサジアルギル、化合物7/ペントキサゾン、化合物7/カフェンストロール、化合物7/オキサジクロメホン、化合物7/インダノファン、化合物7/ピリミノバックメチル、化合物7/シハロホップブチル、化合物7/フェントラザミド、化合物7/メフェナセット、化合物7/ブテナクロール、化合物7/ジチオピル、化合物7/ベンフレセート、化合物7/ピリブチカルブ、化合物7/ベンチオカーブ、化合物7/モリネート、化合物7/ブタミフォス、化合物7/キンクロラック、化合物7/シンメスリン、化合物7/シメトリン、化合物7/ベンスリド、化合物7/ジメタメトリン、化合物7/MCPA、化合物7/MCPB、化合物7/エトベンザニド、化合物7/クミルロン、化合物7/ベンゾビシクロン、化合物7/ピリフタリド、化合物7/ビスピリバック、化合物7/ピラクロニル、化合物7/アニロホス、化合物7/OK−701、化合物7/ペノキススラム、化合物7/AVH−301、化合物7/KUH−021、化合物7/TH−547、化合物7/ベンタゾン、化合物7/2,4−PA、化合物7/メタミホップ、化合物7/フルセトスルフロン、化合物7/HOK−201、化合物7/メソトリオン、化合物7/プロパニル、化合物7/キノクラミン、化合物7/クロメプロップ、
化合物8/ピラゾスルフロンエチル、化合物8/ベンスルフロンメチル、化合物8/シノスルフロン、化合物8/イマゾスルフロン、化合物8/アジムスルフロン、化合物8/ハロスルフロンメチル、化合物8/シクロスルファムロン、化合物8/エトキシスルフロン、化合物8/ピラゾレート、化合物8/ピラゾキシフェン、化合物8/ベンゾフェナップ、化合物8/ブロモブチド、化合物8/ナプロアニリド、化合物8/プレチラクロール、化合物8/ブタクロール、化合物8/テニルクロール、化合物8/CNP、化合物8/クロメトキシニル、化合物8/ビフェノックス、化合物8/オキサジアゾン、化合物8/オキサジアルギル、化合物8/ペントキサゾン、化合物8/カフェンストロール、化合物8/オキサジクロメホン、化合物8/インダノファン、化合物8/ピリミノバックメチル、化合物8/シハロホップブチル、化合物8/フェントラザミド、化合物8/メフェナセット、化合物8/ブテナクロール、化合物8/ジチオピル、化合物8/ベンフレセート、化合物8/ピリブチカルブ、化合物8/ベンチオカーブ、化合物8/モリネート、化合物8/ブタミフォス、化合物8/キンクロラック、化合物8/シンメスリン、化合物8/シメトリン、化合物8/ベンスリド、化合物8/ジメタメトリン、化合物8/MCPA、化合物8/MCPB、化合物8/エトベンザニド、化合物8/クミルロン、化合物8/ベンゾビシクロン、化合物8/ピリフタリド、化合物8/ビスピリバック、化合物8/ピラクロニル、化合物8/アニロホス、化合物8/OK−701、化合物8/ペノキススラム、化合物8/AVH−301、化合物8/KUH−021、化合物8/TH−547、化合物8/ベンタゾン、化合物8/2,4−PA、化合物8/メタミホップ、化合物8/フルセトスルフロン、化合物8/HOK−201、化合物8/メソトリオン、化合物8/プロパニル、化合物8/キノクラミン、化合物8/クロメプロップ、
化合物9/ピラゾスルフロンエチル、化合物9/ベンスルフロンメチル、化合物9/シノスルフロン、化合物9/イマゾスルフロン、化合物9/アジムスルフロン、化合物9/ハロスルフロンメチル、化合物9/シクロスルファムロン、化合物9/エトキシスルフロン、化合物9/ピラゾレート、化合物9/ピラゾキシフェン、化合物9/ベンゾフェナップ、化合物9/ブロモブチド、化合物9/ナプロアニリド、化合物9/プレチラクロール、化合物9/ブタクロール、化合物9/テニルクロール、化合物9/CNP、化合物9/クロメトキシニル、化合物9/ビフェノックス、化合物9/オキサジアゾン、化合物9/オキサジアルギル、化合物9/ペントキサゾン、化合物9/カフェンストロール、化合物9/オキサジクロメホン、化合物9/インダノファン、化合物9/ピリミノバックメチル、化合物9/シハロホップブチル、化合物9/フェントラザミド、化合物9/メフェナセット、化合物9/ブテナクロール、化合物9/ジチオピル、化合物9/ベンフレセート、化合物9/ピリブチカルブ、化合物9/ベンチオカーブ、化合物9/モリネート、化合物9/ブタミフォス、化合物9/キンクロラック、化合物9/シンメスリン、化合物9/シメトリン、化合物9/ベンスリド、化合物9/ジメタメトリン、化合物9/MCPA、化合物9/MCPB、化合物9/エトベンザニド、化合物9/クミルロン、化合物9/ベンゾビシクロン、化合物9/ピリフタリド、化合物9/ビスピリバック、化合物9/ピラクロニル、化合物9/アニロホス、化合物9/OK−701、化合物9/ペノキススラム、化合物9/AVH−301、化合物9/KUH−021、化合物9/TH−547、化合物9/ベンタゾン、化合物9/2,4−PA、化合物9/メタミホップ、化合物9/フルセトスルフロン、化合物9/HOK−201、化合物9/メソトリオン、化合物9/プロパニル、化合物9/キノクラミン、化合物9/クロメプロップ、
化合物10/ピラゾスルフロンエチル、化合物10/ベンスルフロンメチル、化合物10/シノスルフロン、化合物10/イマゾスルフロン、化合物10/アジムスルフロン、化合物10/ハロスルフロンメチル、化合物10/シクロスルファムロン、化合物10/エトキシスルフロン、化合物10/ピラゾレート、化合物10/ピラゾキシフェン、化合物10/ベンゾフェナップ、化合物10/ブロモブチド、化合物10/ナプロアニリド、化合物10/プレチラクロール、化合物10/ブタクロール、化合物10/テニルクロール、化合物10/CNP、化合物10/クロメトキシニル、化合物10/ビフェノックス、化合物10/オキサジアゾン、化合物10/オキサジアルギル、化合物10/ペントキサゾン、化合物10/カフェンストロール、化合物10/オキサジクロメホン、化合物10/インダノファン、化合物10/ピリミノバックメチル、化合物10/シハロホップブチル、化合物10/フェントラザミド、化合物10/メフェナセット、化合物10/ブテナクロール、化合物10/ジチオピル、化合物10/ベンフレセート、化合物10/ピリブチカルブ、化合物10/ベンチオカーブ、化合物10/モリネート、化合物10/ブタミフォス、化合物10/キンクロラック、化合物10/シンメスリン、化合物10/シメトリン、化合物10/ベンスリド、化合物10/ジメタメトリン、化合物10/MCPA、化合物10/MCPB、化合物10/エトベンザニド、化合物10/クミルロン、化合物10/ベンゾビシクロン、化合物10/ピリフタリド、化合物10/ビスピリバック、化合物10/ピラクロニル、化合物10/アニロホス、化合物10/OK−701、化合物10/ペノキススラム、化合物10/AVH−301、化合物10/KUH−021、化合物10/TH−547、化合物10/ベンタゾン、化合物10/2,4−PA、化合物10/メタミホップ、化合物10/フルセトスルフロン、化合物10/HOK−201、化合物10/メソトリオン、化合物10/プロパニル、化合物10/キノクラミン、化合物10/クロメプロップ、
化合物11/ピラゾスルフロンエチル、化合物11/ベンスルフロンメチル、化合物11/シノスルフロン、化合物11/イマゾスルフロン、化合物11/アジムスルフロン、化合物11/ハロスルフロンメチル、化合物11/シクロスルファムロン、化合物11/エトキシスルフロン、化合物11/ピラゾレート、化合物11/ピラゾキシフェン、化合物11/ベンゾフェナップ、化合物11/ブロモブチド、化合物11/ナプロアニリド、化合物11/プレチラクロール、化合物11/ブタクロール、化合物11/テニルクロール、化合物11/CNP、化合物11/クロメトキシニル、化合物11/ビフェノックス、化合物11/オキサジアゾン、化合物11/オキサジアルギル、化合物11/ペントキサゾン、化合物11/カフェンストロール、化合物11/オキサジクロメホン、化合物11/インダノファン、化合物11/ピリミノバックメチル、化合物11/シハロホップブチル、化合物11/フェントラザミド、化合物11/メフェナセット、化合物11/ブテナクロール、化合物11/ジチオピル、化合物11/ベンフレセート、化合物11/ピリブチカルブ、化合物11/ベンチオカーブ、化合物11/モリネート、化合物11/ブタミフォス、化合物11/キンクロラック、化合物11/シンメスリン、化合物11/シメトリン、化合物11/ベンスリド、化合物11/ジメタメトリン、化合物11/MCPA、化合物11/MCPB、化合物11/エトベンザニド、化合物11/クミルロン、化合物11/ベンゾビシクロン、化合物11/ピリフタリド、化合物11/ビスピリバック、化合物11/ピラクロニル、化合物11/アニロホス、化合物11/OK−701、化合物11/ペノキススラム、化合物11/AVH−301、化合物11/KUH−021、化合物11/TH−547、化合物11/ベンタゾン、化合物11/2,4−PA、化合物11/メタミホップ、化合物11/フルセトスルフロン、化合物11/HOK−201、化合物11/メソトリオン、化合物11/プロパニル、化合物11/キノクラミン、化合物11/クロメプロップ、
化合物12/ピラゾスルフロンエチル、化合物12/ベンスルフロンメチル、化合物12/シノスルフロン、化合物12/イマゾスルフロン、化合物12/アジムスルフロン、化合物12/ハロスルフロンメチル、化合物12/シクロスルファムロン、化合物12/エトキシスルフロン、化合物12/ピラゾレート、化合物12/ピラゾキシフェン、化合物12/ベンゾフェナップ、化合物12/ブロモブチド、化合物12/ナプロアニリド、化合物12/プレチラクロール、化合物12/ブタクロール、化合物12/テニルクロール、化合物12/CNP、化合物12/クロメトキシニル、化合物12/ビフェノックス、化合物12/オキサジアゾン、化合物12/オキサジアルギル、化合物12/ペントキサゾン、化合物12/カフェンストロール、化合物12/オキサジクロメホン、化合物12/インダノファン、化合物12/ピリミノバックメチル、化合物12/シハロホップブチル、化合物12/フェントラザミド、化合物12/メフェナセット、化合物12/ブテナクロール、化合物12/ジチオピル、化合物12/ベンフレセート、化合物12/ピリブチカルブ、化合物12/ベンチオカーブ、化合物12/モリネート、化合物12/ブタミフォス、化合物12/キンクロラック、化合物12/シンメスリン、化合物12/シメトリン、化合物12/ベンスリド、化合物12/ジメタメトリン、化合物12/MCPA、化合物12/MCPB、化合物12/エトベンザニド、化合物12/クミルロン、化合物12/ベンゾビシクロン、化合物12/ピリフタリド、化合物12/ビスピリバック、化合物12/ピラクロニル、化合物12/アニロホス、化合物12/OK−701、化合物12/ペノキススラム、化合物12/AVH−301、化合物12/KUH−021、化合物12/TH−547、化合物12/ベンタゾン、化合物12/2,4−PA、化合物12/メタミホップ、化合物12/フルセトスルフロン、化合物12/HOK−201、化合物12/メソトリオン、化合物12/プロパニル、化合物12/キノクラミン、化合物12/クロメプロップ、
化合物13/ピラゾスルフロンエチル、化合物13/ベンスルフロンメチル、化合物13/シノスルフロン、化合物13/イマゾスルフロン、化合物13/アジムスルフロン、化合物13/ハロスルフロンメチル、化合物13/シクロスルファムロン、化合物13/エトキシスルフロン、化合物13/ピラゾレート、化合物13/ピラゾキシフェン、化合物13/ベンゾフェナップ、化合物13/ブロモブチド、化合物13/ナプロアニリド、化合物13/プレチラクロール、化合物13/ブタクロール、化合物13/テニルクロール、化合物13/CNP、化合物13/クロメトキシニル、化合物13/ビフェノックス、化合物13/オキサジアゾン、化合物13/オキサジアルギル、化合物13/ペントキサゾン、化合物13/カフェンストロール、化合物13/オキサジクロメホン、化合物13/インダノファン、化合物13/ピリミノバックメチル、化合物13/シハロホップブチル、化合物13/フェントラザミド、化合物13/メフェナセット、化合物13/ブテナクロール、化合物13/ジチオピル、化合物13/ベンフレセート、化合物13/ピリブチカルブ、化合物13/ベンチオカーブ、化合物13/モリネート、化合物13/ブタミフォス、化合物13/キンクロラック、化合物13/シンメスリン、化合物13/シメトリン、化合物13/ベンスリド、化合物13/ジメタメトリン、化合物13/MCPA、化合物13/MCPB、化合物13/エトベンザニド、化合物13/クミルロン、化合物13/ベンゾビシクロン、化合物13/ピリフタリド、化合物13/ビスピリバック、化合物13/ピラクロニル、化合物13/アニロホス、化合物13/OK−701、化合物13/ペノキススラム、化合物13/AVH−301、化合物13/KUH−021、化合物13/TH−547、化合物13/ベンタゾン、化合物13/2,4−PA、化合物13/メタミホップ、化合物13/フルセトスルフロン、化合物13/HOK−201、化合物13/メソトリオン、化合物13/プロパニル、化合物13/キノクラミン、化合物13/クロメプロップ、化合物14/ピラゾスルフロンエチル、化合物14/ベンスルフロンメチル、化合物14/シノスルフロン、化合物14/イマゾスルフロン、化合物14/アジムスルフロン、化合物14/ハロスルフロンメチル、化合物14/シクロスルファムロン、化合物14/エトキシスルフロン、化合物14/ピラゾレート、化合物14/ピラゾキシフェン、化合物14/ベンゾフェナップ、化合物14/ブロモブチド、化合物14/ナプロアニリド、化合物14/プレチラクロール、化合物14/ブタクロール、化合物14/テニルクロール、化合物14/CNP、化合物14/クロメトキシニル、化合物14/ビフェノックス、化合物14/オキサジアゾン、化合物14/オキサジアルギル、化合物14/ペントキサゾン、化合物14/カフェンストロール、化合物14/オキサジクロメホン、化合物14/インダノファン、化合物14/ピリミノバックメチル、化合物14/シハロホップブチル、化合物14/フェントラザミド、化合物14/メフェナセット、化合物14/ブテナクロール、化合物14/ジチオピル、化合物14/ベンフレセート、化合物14/ピリブチカルブ、化合物14/ベンチオカーブ、化合物14/モリネート、化合物14/ブタミフォス、化合物14/キンクロラック、化合物14/シンメスリン、化合物14/シメトリン、化合物14/ベンスリド、化合物14/ジメタメトリン、化合物14/MCPA、化合物14/MCPB、化合物14/エトベンザニド、化合物14/クミルロン、化合物14/ベンゾビシクロン、化合物14/ピリフタリド、化合物14/ビスピリバック、化合物14/ピラクロニル、化合物14/アニロホス、化合物14/OK−701、化合物14/ペノキススラム、化合物14/AVH−301、化合物14/KUH−021、化合物14/TH−547、化合物14/ベンタゾン、化合物14/2,4−PA、化合物14/メタミホップ、化合物14/フルセトスルフロン、化合物14/HOK−201、化合物14/メソトリオン、化合物14/プロパニル、化合物14/キノクラミン、化合物14/クロメプロップ、
化合物15/ピラゾスルフロンエチル、化合物15/ベンスルフロンメチル、化合物15/シノスルフロン、化合物15/イマゾスルフロン、化合物15/アジムスルフロン、化合物15/ハロスルフロンメチル、化合物15/シクロスルファムロン、化合物15/エトキシスルフロン、化合物15/ピラゾレート、化合物15/ピラゾキシフェン、化合物15/ベンゾフェナップ、化合物15/ブロモブチド、化合物15/ナプロアニリド、化合物15/プレチラクロール、化合物15/ブタクロール、化合物15/テニルクロール、化合物15/CNP、化合物15/クロメトキシニル、化合物15/ビフェノックス、化合物15/オキサジアゾン、化合物15/オキサジアルギル、化合物15/ペントキサゾン、化合物15/カフェンストロール、化合物15/オキサジクロメホン、化合物15/インダノファン、化合物15/ピリミノバックメチル、化合物15/シハロホップブチル、化合物15/フェントラザミド、化合物15/メフェナセット、化合物15/ブテナクロール、化合物15/ジチオピル、化合物15/ベンフレセート、化合物15/ピリブチカルブ、化合物15/ベンチオカーブ、化合物15/モリネート、化合物15/ブタミフォス、化合物15/キンクロラック、化合物15/シンメスリン、化合物15/シメトリン、化合物15/ベンスリド、化合物15/ジメタメトリン、化合物15/MCPA、化合物15/MCPB、化合物15/エトベンザニド、化合物15/クミルロン、化合物15/ベンゾビシクロン、化合物15/ピリフタリド、化合物15/ビスピリバック、化合物15/ピラクロニル、化合物15/アニロホス、化合物15/OK−701、化合物15/ペノキススラム、化合物15/AVH−301、化合物15/KUH−021、化合物15/TH−547、化合物15/ベンタゾン、化合物15/2,4−PA、化合物15/メタミホップ、化合物15/フルセトスルフロン、化合物15/HOK−201、化合物15/メソトリオン、化合物15/プロパニル、化合物15/キノクラミン、化合物15/クロメプロップ、
化合物16/ピラゾスルフロンエチル、化合物16/ベンスルフロンメチル、化合物16/シノスルフロン、化合物16/イマゾスルフロン、化合物16/アジムスルフロン、化合物16/ハロスルフロンメチル、化合物16/シクロスルファムロン、化合物16/エトキシスルフロン、化合物16/ピラゾレート、化合物16/ピラゾキシフェン、化合物16/ベンゾフェナップ、化合物16/ブロモブチド、化合物16/ナプロアニリド、化合物16/プレチラクロール、化合物16/ブタクロール、化合物16/テニルクロール、化合物16/CNP、化合物16/クロメトキシニル、化合物16/ビフェノックス、化合物16/オキサジアゾン、化合物16/オキサジアルギル、化合物16/ペントキサゾン、化合物16/カフェンストロール、化合物16/オキサジクロメホン、化合物16/インダノファン、化合物16/ピリミノバックメチル、化合物16/シハロホップブチル、化合物16/フェントラザミド、化合物16/メフェナセット、化合物16/ブテナクロール、化合物16/ジチオピル、化合物16/ベンフレセート、化合物16/ピリブチカルブ、化合物16/ベンチオカーブ、化合物16/モリネート、化合物16/ブタミフォス、化合物16/キンクロラック、化合物16/シンメスリン、化合物16/シメトリン、化合物16/ベンスリド、化合物16/ジメタメトリン、化合物16/MCPA、化合物16/MCPB、化合物16/エトベンザニド、化合物16/クミルロン、化合物16/ベンゾビシクロン、化合物16/ピリフタリド、化合物16/ビスピリバック、化合物16/ピラクロニル、化合物16/アニロホス、化合物16/OK−701、化合物16/ペノキススラム、化合物16/AVH−301、化合物16/KUH−021、化合物16/TH−547、化合物16/ベンタゾン、化合物16/2,4−PA、化合物16/メタミホップ、化合物16/フルセトスルフロン、化合物16/HOK−201、化合物16/メソトリオン、化合物16/プロパニル、化合物16/キノクラミン、化合物16/クロメプロップ、
化合物17/ピラゾスルフロンエチル、化合物17/ベンスルフロンメチル、化合物17/シノスルフロン、化合物17/イマゾスルフロン、化合物17/アジムスルフロン、化合物17/ハロスルフロンメチル、化合物17/シクロスルファムロン、化合物17/エトキシスルフロン、化合物17/ピラゾレート、化合物17/ピラゾキシフェン、化合物17/ベンゾフェナップ、化合物17/ブロモブチド、化合物17/ナプロアニリド、化合物17/プレチラクロール、化合物17/ブタクロール、化合物17/テニルクロール、化合物17/CNP、化合物17/クロメトキシニル、化合物17/ビフェノックス、化合物17/オキサジアゾン、化合物17/オキサジアルギル、化合物17/ペントキサゾン、化合物17/カフェンストロール、化合物17/オキサジクロメホン、化合物17/インダノファン、化合物17/ピリミノバックメチル、化合物17/シハロホップブチル、化合物17/フェントラザミド、化合物17/メフェナセット、化合物17/ブテナクロール、化合物17/ジチオピル、化合物17/ベンフレセート、化合物17/ピリブチカルブ、化合物17/ベンチオカーブ、化合物17/モリネート、化合物17/ブタミフォス、化合物17/キンクロラック、化合物17/シンメスリン、化合物17/シメトリン、化合物17/ベンスリド、化合物17/ジメタメトリン、化合物17/MCPA、化合物17/MCPB、化合物17/エトベンザニド、化合物17/クミルロン、化合物17/ベンゾビシクロン、化合物17/ピリフタリド、化合物17/ビスピリバック、化合物17/ピラクロニル、化合物17/アニロホス、化合物17/OK−701、化合物17/ペノキススラム、化合物17/AVH−301、化合物17/KUH−021、化合物17/TH−547、化合物17/ベンタゾン、化合物17/2,4−PA、化合物17/メタミホップ、化合物17/フルセトスルフロン、化合物17/HOK−201、化合物17/メソトリオン、化合物17/プロパニル、化合物17/キノクラミン、化合物17/クロメプロップ、
化合物18/ピラゾスルフロンエチル、化合物18/ベンスルフロンメチル、化合物18/シノスルフロン、化合物18/イマゾスルフロン、化合物18/アジムスルフロン、化合物18/ハロスルフロンメチル、化合物18/シクロスルファムロン、化合物18/エトキシスルフロン、化合物18/ピラゾレート、化合物18/ピラゾキシフェン、化合物18/ベンゾフェナップ、化合物18/ブロモブチド、化合物18/ナプロアニリド、化合物18/プレチラクロール、化合物18/ブタクロール、化合物18/テニルクロール、化合物18/CNP、化合物18/クロメトキシニル、化合物18/ビフェノックス、化合物18/オキサジアゾン、化合物18/オキサジアルギル、化合物18/ペントキサゾン、化合物18/カフェンストロール、化合物18/オキサジクロメホン、化合物18/インダノファン、化合物18/ピリミノバックメチル、化合物18/シハロホップブチル、化合物18/フェントラザミド、化合物18/メフェナセット、化合物18/ブテナクロール、化合物18/ジチオピル、化合物18/ベンフレセート、化合物18/ピリブチカルブ、化合物18/ベンチオカーブ、化合物18/モリネート、化合物18/ブタミフォス、化合物18/キンクロラック、化合物18/シンメスリン、化合物18/シメトリン、化合物18/ベンスリド、化合物18/ジメタメトリン、化合物18/MCPA、化合物18/MCPB、化合物18/エトベンザニド、化合物18/クミルロン、化合物18/ベンゾビシクロン、化合物18/ピリフタリド、化合物18/ビスピリバック、化合物18/ピラクロニル、化合物18/アニロホス、化合物18/OK−701、化合物18/ペノキススラム、化合物18/AVH−301、化合物18/KUH−021、化合物18/TH−547、化合物18/ベンタゾン、化合物18/2,4−PA、化合物18/メタミホップ、化合物18/フルセトスルフロン、化合物18/HOK−201、化合物18/メソトリオン、化合物18/プロパニル、化合物18/キノクラミン、化合物18/クロメプロップ、
化合物19/ピラゾスルフロンエチル、化合物19/ベンスルフロンメチル、化合物19/シノスルフロン、化合物19/イマゾスルフロン、化合物19/アジムスルフロン、化合物19/ハロスルフロンメチル、化合物19/シクロスルファムロン、化合物19/エトキシスルフロン、化合物19/ピラゾレート、化合物19/ピラゾキシフェン、化合物19/ベンゾフェナップ、化合物19/ブロモブチド、化合物19/ナプロアニリド、化合物19/プレチラクロール、化合物19/ブタクロール、化合物19/テニルクロール、化合物19/CNP、化合物19/クロメトキシニル、化合物19/ビフェノックス、化合物19/オキサジアゾン、化合物19/オキサジアルギル、化合物19/ペントキサゾン、化合物19/カフェンストロール、化合物19/オキサジクロメホン、化合物19/インダノファン、化合物19/ピリミノバックメチル、化合物19/シハロホップブチル、化合物19/フェントラザミド、化合物19/メフェナセット、化合物19/ブテナクロール、化合物19/ジチオピル、化合物19/ベンフレセート、化合物19/ピリブチカルブ、化合物19/ベンチオカーブ、化合物19/モリネート、化合物19/ブタミフォス、化合物19/キンクロラック、化合物19/シンメスリン、化合物19/シメトリン、化合物19/ベンスリド、化合物19/ジメタメトリン、化合物19/MCPA、化合物19/MCPB、化合物19/エトベンザニド、化合物19/クミルロン、化合物19/ベンゾビシクロン、化合物19/ピリフタリド、化合物19/ビスピリバック、化合物19/ピラクロニル、化合物19/アニロホス、化合物19/OK−701、化合物19/ペノキススラム、化合物19/AVH−301、化合物19/KUH−021、化合物19/TH−547、化合物19/ベンタゾン、化合物19/2,4−PA、化合物19/メタミホップ、化合物19/フルセトスルフロン、化合物19/HOK−201、化合物19/メソトリオン、化合物19/プロパニル、化合物19/キノクラミン、化合物19/クロメプロップ、
化合物20/ピラゾスルフロンエチル、化合物20/ベンスルフロンメチル、化合物20/シノスルフロン、化合物20/イマゾスルフロン、化合物20/アジムスルフロン、化合物20/ハロスルフロンメチル、化合物20/シクロスルファムロン、化合物20/エトキシスルフロン、化合物20/ピラゾレート、化合物20/ピラゾキシフェン、化合物20/ベンゾフェナップ、化合物20/ブロモブチド、化合物20/ナプロアニリド、化合物20/プレチラクロール、化合物20/ブタクロール、化合物20/テニルクロール、化合物20/CNP、化合物20/クロメトキシニル、化合物20/ビフェノックス、化合物20/オキサジアゾン、化合物20/オキサジアルギル、化合物20/ペントキサゾン、化合物20/カフェンストロール、化合物20/オキサジクロメホン、化合物20/インダノファン、化合物20/ピリミノバックメチル、化合物20/シハロホップブチル、化合物20/フェントラザミド、化合物20/メフェナセット、化合物20/ブテナクロール、化合物20/ジチオピル、化合物20/ベンフレセート、化合物20/ピリブチカルブ、化合物20/ベンチオカーブ、化合物20/モリネート、化合物20/ブタミフォス、化合物20/キンクロラック、化合物20/シンメスリン、化合物20/シメトリン、化合物20/ベンスリド、化合物20/ジメタメトリン、化合物20/MCPA、化合物20/MCPB、化合物/20/エトベンザニド、化合物20/クミルロン、化合物20/ベンゾビシクロン、化合物20/ピリフタリド、化合物20/ビスピリバック、化合物20/ピラクロニル、化合物20/アニロホス、化合物20/OK−701、化合物20/ペノキススラム、化合物20/AVH−301、化合物20/KUH−021、化合物20/TH−547、化合物20/ベンタゾン、化合物20/2,4−PA、化合物20/メタミホップ、化合物20/フルセトスルフロン、化合物20/HOK−201、化合物20/メソトリオン、化合物20/プロパニル、化合物20/キノクラミン、化合物20/クロメプロップ
化合物21/ピラゾスルフロンエチル、化合物21/ベンスルフロンメチル、化合物21/シノスルフロン、化合物21/イマゾスルフロン、化合物21/アジムスルフロン、化合物21/ハロスルフロンメチル、化合物21/シクロスルファムロン、化合物21/エトキシスルフロン、化合物21/ピラゾレート、化合物21/ピラゾキシフェン、化合物21/ベンゾフェナップ、化合物21/ブロモブチド、化合物21/ナプロアニリド、化合物21/プレチラクロール、化合物21/ブタクロール、化合物21/テニルクロール、化合物21/CNP、化合物21/クロメトキシニル、化合物21/ビフェノックス、化合物21/オキサジアゾン、化合物21/オキサジアルギル、化合物21/ペントキサゾン、化合物21/カフェンストロール、化合物21/オキサジクロメホン、化合物21/インダノファン、化合物21/ピリミノバックメチル、化合物21/シハロホップブチル、化合物21/フェントラザミド、化合物21/メフェナセット、化合物21/ブテナクロール、化合物21/ジチオピル、化合物21/ベンフレセート、化合物21/ピリブチカルブ、化合物21/ベンチオカーブ、化合物21/モリネート、化合物21/ブタミフォス、化合物21/キンクロラック、化合物21/シンメスリン、化合物21/シメトリン、化合物21/ベンスリド、化合物21/ジメタメトリン、化合物21/MCPA、化合物21/MCPB、化合物21/エトベンザニド、化合物21/クミルロン、化合物21/ベンゾビシクロン、化合物21/ピリフタリド、化合物21/ビスピリバック、化合物21/ピラクロニル、化合物21/アニロホス、化合物21/OK−701、化合物21/ペノキススラム、化合物21/AVH−301、化合物21/KUH−021、化合物21/TH−547、化合物21/ベンタゾン、化合物21/2,4−PA、化合物21/メタミホップ、化合物21/フルセトスルフロン、化合物21/HOK−201、化合物21/メソトリオン、化合物21/プロパニル、化合物21/キノクラミン、化合物21/クロメプロップ
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Specific combinations with the compounds listed in Table 2 that can be applied simultaneously with Compound (A) are shown in Table 3.

[Table 3]
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Examples of combinations of compounds that can be applied simultaneously
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Compound 1 / Pyrazosulfuron ethyl, Compound 1 / Bensulfuron methyl, Compound 1 / Sinosulfuron, Compound 1 / Imazosulfuron, Compound 1 / Azimusulfuron, Compound 1 / Halosulfuron methyl, Compound 1 / Cyclosulfamuron, Compound 1 / Ethoxy Sulfuron, Compound 1 / Pyrazolate, Compound 1 / Pyrazoxifene, Compound 1 / Benzophenap, Compound 1 / Bromobutide, Compound 1 / Naproanilide, Compound 1 / Pretilachlor, Compound 1 / Butachlor, Compound 1 / Tenylchlor, Compound 1 / CNP, Compound 1 / Clomethoxynil, Compound 1 / Bifenox, Compound 1 / Oxadiazone, Compound 1 / Oxadialgyl, Compound 1 / Pentoxazone, Compound 1 / Caffentrol, Compound 1 / Oxadichromone, Compound 1 / indanophan, compound 1 / pyriminobacmethyl, compound 1 / cyhalohop butyl, compound 1 / fentrazamide, compound 1 / mefenacet, compound 1 / butenachlor, compound 1 / dithiopyr, compound 1 / benfresate, compound 1 / pyributycarb Compound 1 / Benio curve, Compound 1 / Molinate, Compound 1 / Buta mifos, Compound 1 / quinclolac, Compound 1 / Symmethrin, Compound 1 / Cymethrin, Compound 1 / Benzulide, Compound 1 / Dimetamethrin, Compound 1 / MCPA, Compound 1 / MCPB Compound 1 / Etobenzanide, Compound 1 / cumyluron, Compound 1 / benzobicyclone, Compound 1 / Pyriphthalide, Compound 1 / Bispyribac, Compound 1 / Pyraclonil, Compound 1 / Anilophos, Compound 1 / OK-701, Compound 1 / Penoxthram, Compound 1 / AVH-301, Compound 1 / KUH-021, Compound 1 / TH-547, Compound 1 / Bentazone, Compound 1 / 2,4-PA, Compound 1 / Metamihop, Compound 1 / Full Cetosulfuron, compound 1 / HOK-201, compound 1 / mesotrione, compound 1 / propanyl, compound 1 / quinoclamin, compound 1 / chromepprop,
Compound 2 / Pyrazosulfuron ethyl, Compound 2 / Bensulfuron methyl, Compound 2 / Sinosulfuron, Compound 2 / Imasosulfuron, Compound 2 / Azylsulfuron, Compound 2 / Halosulfuron methyl, Compound 2 / Cyclosulfamlone, Compound 2 / Ethoxy Sulfuron, Compound 2 / Pyrazolate, Compound 2 / Pyrazoxifene, Compound 2 / Benzofenap, Compound 2 / Bromobutide, Compound 2 / Naproanilide, Compound 2 / Pretilachlor, Compound 2 / Butachlor, Compound 2 / Tenylchlor, Compound 2 / CNP, Compound 2 / Clomethoxynil, Compound 2 / Bifenox, Compound 2 / Oxadiazone, Compound 2 / Oxadiargyl, Compound 2 / Pentoxazone, Compound 2 / Cafentrol, Compound 2 / Oxadiclomephone, Compound 2 / Indanophan, Compound 2 / Pyriminobacmethyl, Compound 2 / Cyhalohop Butyl, Compound 2 / Fentrazamide, Compound 2 / Mefenacet, Compound 2 / Butenachlor, Compound 2 / Dithiopyr, Compound 2 / Benfrecetate, Compound 2 / Pyributicarb Compound 2 / Bencho curve, Compound 2 / Molinate, Compound 2 / Butamifoss, Compound 2 / Quinclorac, Compound 2 / Symmethrin, Compound 2 / Simetrin, Compound 2 / Benzulide, Compound 2 / Dimetamethrin, Compound 2 / MCPA, Compound 2 / MCPB Compound 2 / Etobenzanide, Compound 2 / cumyluron, Compound 2 / benzobicyclone, Compound 2 / pyriphthalide, Compound 2 / bispyribac, Compound 2 / pyracuronyl, Compound 2 / anilophos, Compound 2 / OK-701, Compound 2 / Penox slam, Compound 2 / AVH-301, Compound 2 / KUH-021, Compound 2 / TH-547, Compound 2 / Bentazone, Compound 2 / 2,4-PA, Compound 2 / Metamihop, Compound 2 / Full Cetosulfuron, compound 2 / HOK-201, compound 2 / mesotrione, compound 2 / propanyl, compound 2 / quinoclamin, compound 2 / clomeprop,
Compound 3 / pyrazolsulfuron ethyl, compound 3 / bensulfuron methyl, compound 3 / sinosulfuron, compound 3 / imazosulfuron, compound 3 / azimsulfuron, compound 3 / halosulfuron methyl, compound 3 / cyclosulfamlone, compound 3 / ethoxy Sulfuron, Compound 3 / Pyrazolate, Compound 3 / Pyrazoxifene, Compound 3 / Benzofenap, Compound 3 / Bromobutide, Compound 3 / Naproanilide, Compound 3 / Pretilachlor, Compound 3 / Butachlor, Compound 3 / Tenylchlor, Compound 3 / CNP, Compound 3 / Clomethoxynil, Compound 3 / Bifenox, Compound 3 / Oxadiazone, Compound 3 / Oxadiargyl, Compound 3 / Pentoxazone, Compound 3 / Cafentrol, Compound 3 / Oxadiclomephone, Compound 3 / Indanophan, Compound 3 / Pyriminobacmethyl, Compound 3 / Cyhalohop butyl, Compound 3 / Fentrazamide, Compound 3 / Mefenacet, Compound 3 / Butenachlor, Compound 3 / Dithiopyr, Compound 3 / Benfrecetate, Compound 3 / Pyributicarb Compound 3 / Bencho curve, Compound 3 / Molinate, Compound 3 / Buta mifos, Compound 3 / Quinclorac, Compound 3 / Symmethrin, Compound 3 / Cymethrin, Compound 3 / Benzulide, Compound 3 / Dimetamethrin, Compound 3 / MCPA, Compound 3 / MCPB Compound 3 / Etobenzanide, Compound 3 / cumyluron, Compound 3 / benzobicyclone, Compound 3 / pyriphthalide, Compound 3 / bispyribac, Compound 3 / pyracuronyl, Compound 3 / anilophos, Compound 3 / OK-701, Compound 3 / Penox slam, Compound 3 / AVH-301, Compound 3 / KUH-021, Compound 3 / TH-547, Compound 3 / Bentazone, Compound 3 / 2,4-PA, Compound 3 / Metamihop, Compound 3 / Full Cetosulfuron, compound 3 / HOK-201, compound 3 / mesotrione, compound 3 / propanyl, compound 3 / quinoclamin, compound 3 / chromeprop,
Compound 4 / Pyrazosulfuron ethyl, Compound 4 / Bensulfuron methyl, Compound 4 / Sinosulfuron, Compound 4 / Imasosulfuron, Compound 4 / Azylsulfuron, Compound 4 / Halosulfuron methyl, Compound 4 / Cyclosulfamlone, Compound 4 / Ethoxy Sulfuron, Compound 4 / Pyrazolate, Compound 4 / Pyrazoxifene, Compound 4 / Benzofenap, Compound 4 / Bromobutide, Compound 4 / Naproanilide, Compound 4 / Pretilachlor, Compound 4 / Butachlor, Compound 4 / Tenylchlor, Compound 4 / CNP, Compound 4 / Clomethoxynil, Compound 4 / Bifenox, Compound 4 / Oxadiazone, Compound 4 / Oxadiargyl, Compound 4 / Pentoxazone, Compound 4 / Cafenstrol, Compound 4 / Oxadiclomephone, Compound 4 / Indanophan, Compound 4 / Pyriminobacmethyl, Compound 4 / Cyhalohop butyl, Compound 4 / Fentrazamide, Compound 4 / Mefenacet, Compound 4 / Butenachlor, Compound 4 / Dithiopyr, Compound 4 / Benfrecetate, Compound 4 / Pyributicarb Compound 4 / Bencho curve, Compound 4 / Molinate, Compound 4 / Buta mifos, Compound 4 / Quincrolack, Compound 4 / Symmethrin, Compound 4 / Cymethrin, Compound 4 / Benzulide, Compound 4 / Dimetamethrin, Compound 4 / MCPA, Compound 4 / MCPB Compound 4 / Etobenzanide, Compound 4 / cumyluron, Compound 4 / Benzobicyclone, Compound 4 / Pyriphthalide, Compound 4 / Bispyribac, Compound 4 / Pyraclonil, Compound 4 / Anilophos, Compound 4 / OK-701, Compound 4 / Penox slam, Compound 4 / AVH-301, Compound 4 / KUH-021, Compound 4 / TH-547, Compound 4 / Bentazone, Compound 4 / 2,4-PA, Compound 4 / Metamihop, Compound 4 / Full Cetosulfuron, compound 4 / HOK-201, compound 4 / mesotrione, compound 4 / propanyl, compound 4 / quinoclamin, compound 4 / chromeprop,
Compound 5 / Pyrazosulfuron ethyl, Compound 5 / Bensulfuron methyl, Compound 5 / Sinosulfuron, Compound 5 / Imasosulfuron, Compound 5 / Azylsulfuron, Compound 5 / Halosulfuron methyl, Compound 5 / Cyclosulfamlone, Compound 5 / Ethoxy Sulfuron, Compound 5 / Pyrazolate, Compound 5 / Pyrazoxifene, Compound 5 / Benzofenap, Compound 5 / Bromobutide, Compound 5 / Naproanilide, Compound 5 / Pretilachlor, Compound 5 / Butachlor, Compound 5 / Tenylchlor, Compound 5 / CNP, Compound 5 / Clomethoxynil, Compound 5 / Bifenox, Compound 5 / Oxadiazone, Compound 5 / Oxadialgyl, Compound 5 / Pentoxazone, Compound 5 / Cafentrol, Compound 5 / Oxadiclomephone, Compound 5 / Indanophan, Compound 5 / Pyriminobacmethyl, Compound 5 / Cyhalohop butyl, Compound 5 / Fentrazamide, Compound 5 / Mefenacet, Compound 5 / Butenachlor, Compound 5 / Dithiopyr, Compound 5 / Benfrecetate, Compound 5 / Pyributicarb Compound 5 / Bencho curve, Compound 5 / Molinate, Compound 5 / Buta mifos, Compound 5 / Quinclorac, Compound 5 / Symmethrin, Compound 5 / Cymethrin, Compound 5 / Benzulide, Compound 5 / Dimetamethrin, Compound 5 / MCPA, Compound 5 / MCPB , Compound 5 / Etobenzanide, Compound 5 / cumyluron, Compound 5 / Benzobicyclone, Compound 5 / Pyriphthalide, Compound 5 / Bispyribac, Compound 5 / Pyraclonil, Compound 5 / Anilophos, Compound 5 / OK-701, Compound 5 / Penox slam, Compound 5 / AVH-301, Compound 5 / KUH-021, Compound 5 / TH-547, Compound 5 / Bentazone, Compound 5 / 2,4-PA, Compound 5 / Metamihop, Compound 5 / Full Cetosulfuron, compound 5 / HOK-201, compound 5 / mesotrione, compound 5 / propanyl, compound 5 / quinoclamin, compound 5 / clomeprop,
Compound 6 / Pyrazosulfuron ethyl, Compound 6 / Bensulfuron methyl, Compound 6 / Sinosulfuron, Compound 6 / Imasosulfuron, Compound 6 / Azylsulfuron, Compound 6 / Halosulfuron methyl, Compound 6 / Cyclosulfamlone, Compound 6 / Ethoxy Sulfuron, Compound 6 / Pyrazolate, Compound 6 / Pyrazoxifene, Compound 6 / Benzofenap, Compound 6 / Bromobutide, Compound 6 / Naproanilide, Compound 6 / Pretilachlor, Compound 6 / Butachlor, Compound 6 / Tenylchlor, Compound 6 / CNP, Compound 6 / Clomethoxynil, Compound 6 / Bifenox, Compound 6 / Oxadiazone, Compound 6 / Oxadiargyl, Compound 6 / Pentoxazone, Compound 6 / Caffentrol, Compound 6 / Oxadiclomephone, Compound 6 / Indanophan, Compound 6 / Pyriminobacmethyl, Compound 6 / Cyhalohop butyl, Compound 6 / Fentrazamide, Compound 6 / Mefenacet, Compound 6 / Butenachlor, Compound 6 / Dithiopyr, Compound 6 / Benfrecetate, Compound 6 / Pyributicarb Compound 6 / Bencho curve, Compound 6 / Molinate, Compound 6 / Butamifoss, Compound 6 / Quinchlorac, Compound 6 / Symmethrin, Compound 6 / Cymethrin, Compound 6 / Benzulide, Compound 6 / Dimetamethrin, Compound 6 / MCPA, Compound 6 / MCPB , Compound 6 / Etobenzanide, Compound 6 / cumyluron, Compound 6 / Benzobicyclone, Compound 6 / Pyriphthalide, Compound 6 / Bispyribac, Compound 6 / Pyraclonil, Compound 6 / Anilophos, Compound 6 / OK-701, Compound 6 / penox slam, Compound 6 / AVH-301, Compound 6 / KUH-021, Compound 6 / TH-547, Compound 6 / Bentazone, Compound 6 / 2,4-PA, Compound 6 / Metamihop, Compound 6 / Full Cetosulfuron, compound 6 / HOK-201, compound 6 / mesotrione, compound 6 / propanyl, compound 6 / quinoclamin, compound 6 / clomeprop,
Compound 7 / Pyrazosulfuron ethyl, Compound 7 / Bensulfuron methyl, Compound 7 / Cinosulfuron, Compound 7 / Imasosulfuron, Compound 7 / Azylsulfuron, Compound 7 / Halosulfuron methyl, Compound 7 / Cyclosulfamlone, Compound 7 / Ethoxy Sulfuron, Compound 7 / Pyrazolate, Compound 7 / Pyrazoxifene, Compound 7 / Benzofenap, Compound 7 / Bromobutide, Compound 7 / Naproanilide, Compound 7 / Pretilachlor, Compound 7 / Butachlor, Compound 7 / Tenylchlor, Compound 7 / CNP, Compound 7 / Clomethoxynil, Compound 7 / Bifenox, Compound 7 / Oxadiazone, Compound 7 / Oxadiargyl, Compound 7 / Pentoxazone, Compound 7 / Caffentrol, Compound 7 / Oxadichromene, Compound 7 / Indanophan, Compound 7 / Pyriminobacmethyl, Compound 7 / Cyhalohop butyl, Compound 7 / Fentrazamide, Compound 7 / Mefenacet, Compound 7 / Butenachlor, Compound 7 / Dithiopyr, Compound 7 / Benfrecetate, Compound 7 / Pyributicarb Compound 7 / Bencho curve, Compound 7 / Molinate, Compound 7 / Buta mifos, Compound 7 / Quinclorac, Compound 7 / Symmethrin, Compound 7 / Cymethrin, Compound 7 / Benzulide, Compound 7 / Dimetamethrin, Compound 7 / MCPA, Compound 7 / MCPB , Compound 7 / Etobenzanide, Compound 7 / cumyluron, Compound 7 / Benzobicyclone, Compound 7 / Pyriphthalide, Compound 7 / Bispyribac, Compound 7 / Pyraclonil, Compound 7 / Anilophos, Compound 7 / OK-701, Compound 7 / Penox slam, Compound 7 / AVH-301, Compound 7 / KUH-021, Compound 7 / TH-547, Compound 7 / Bentazone, Compound 7 / 2,4-PA, Compound 7 / Metamihop, Compound 7 / Full Cetosulfuron, compound 7 / HOK-201, compound 7 / mesotrione, compound 7 / propanyl, compound 7 / quinoclamine, compound 7 / clomeprop,
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Compound 10 / Pyrazosulfuron ethyl, Compound 10 / Bensulfuron methyl, Compound 10 / Sinosulfuron, Compound 10 / Imasosulfuron, Compound 10 / Azimsulfuron, Compound 10 / Halosulfuron methyl, Compound 10 / Cyclosulfamlone, Compound 10 / Ethoxy Sulfuron, Compound 10 / Pyrazolate, Compound 10 / Pyrazoxifene, Compound 10 / Benzofenap, Compound 10 / Bromobutide, Compound 10 / Naproanilide, Compound 10 / Pretilachlor, Compound 10 / Butachlor, Compound 10 / Tenylchlor, Compound 10 / CNP, Compound 10 / Clomethoxynil, Compound 10 / Bifenox, Compound 10 / Oxadiazone, Compound 10 / Oxadialgyl, Compound 10 / Pentoxazone, Compound 10 / Kafen Trol, Compound 10 / Oxadiclomephone, Compound 10 / Indanophan, Compound 10 / Pyriminobacmethyl, Compound 10 / Cyhalohopbutyl, Compound 10 / Fentrazamide, Compound 10 / Mefenacet, Compound 10 / Butenachlor, Compound 10 / Dithiopyr, Compound 10 / Benfresate, compound 10 / pyributycarb, compound 10 / bencho curve, compound 10 / molinate, compound 10 / butamifos, compound 10 / quinclolac, compound 10 / simmesrin, compound 10 / cymetrin, compound 10 / benthlide, compound 10 / dimetamethrin, compound 10 / MCPA, compound 10 / MCPB, compound 10 / ethobenzanide, compound 10 / cumyluron, compound 10 / benzobicyclone, compound 10 / pyriphthalide, Product 10 / bispyribac, compound 10 / pyracuronyl, compound 10 / anilophos, compound 10 / OK-701, compound 10 / penoxsulam, compound 10 / AVH-301, compound 10 / KUH-021, compound 10 / TH-547, compound 10 / Bentazone, Compound 10 / 2,4-PA, Compound 10 / Metamihop, Compound 10 / Furcetosulfuron, Compound 10 / HOK-201, Compound 10 / Mesotrione, Compound 10 / propanyl, Compound 10 / Quinoclamine, Compound 10 / Chromprop ,
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Compound 12 / Pyrazosulfuron ethyl, Compound 12 / Bensulfuron methyl, Compound 12 / Cinosulfuron, Compound 12 / Imasosulfuron, Compound 12 / Azylsulfuron, Compound 12 / Halosulfuron methyl, Compound 12 / Cyclosulfamlone, Compound 12 / Ethoxy Sulfuron, Compound 12 / Pyrazolate, Compound 12 / Pyrazoxifene, Compound 12 / Benzofenap, Compound 12 / Bromobutide, Compound 12 / Naproanilide, Compound 12 / Pretilachlor, Compound 12 / Butachlor, Compound 12 / Tenylchlor, Compound 12 / CNP, Compound 12 / Clomethoxynil, Compound 12 / Bifenox, Compound 12 / Oxadiazone, Compound 12 / Oxadiargyl, Compound 12 / Pentoxazone, Compound 12 / Kafen Trol, Compound 12 / oxadichromemephone, Compound 12 / Indanophan, Compound 12 / Pyriminobacmethyl, Compound 12 / Cyhalohopbutyl, Compound 12 / Fentrazamide, Compound 12 / Mefenacet, Compound 12 / Butenachlor, Compound 12 / Dithiopyr, Compound 12 / Benfresate, compound 12 / pyributycarb, compound 12 / bencho curve, compound 12 / molinate, compound 12 / butamifos, compound 12 / quinclolac, compound 12 / simmesrin, compound 12 / cymetrin, compound 12 / benthlide, compound 12 / dimetamethrin, compound 12 / MCPA, Compound 12 / MCPB, Compound 12 / Etobenzanide, Compound 12 / cumyluron, Compound 12 / Benzobicyclone, Compound 12 / Pyriphthalide Product 12 / bispyribac, compound 12 / pyracuronyl, compound 12 / anilophos, compound 12 / OK-701, compound 12 / penoxsulam, compound 12 / AVH-301, compound 12 / KUH-021, compound 12 / TH-547, compound 12 / Bentazone, Compound 12 / 2,4-PA, Compound 12 / Metamihop, Compound 12 / Furcetosulfuron, Compound 12 / HOK-201, Compound 12 / Mesotrione, Compound 12 / propanyl, Compound 12 / Quinoclamine, Compound 12 / Chromprop ,
Compound 13 / Pyrazosulfuron ethyl, Compound 13 / Bensulfuron methyl, Compound 13 / Sinosulfuron, Compound 13 / Imasosulfuron, Compound 13 / Azimsulfuron, Compound 13 / Halosulfuron methyl, Compound 13 / Cyclosulfamlone, Compound 13 / Ethoxy Sulfuron, Compound 13 / Pyrazolate, Compound 13 / Pyrazoxifene, Compound 13 / Benzofenap, Compound 13 / Bromobutide, Compound 13 / Naproanilide, Compound 13 / Pretilachlor, Compound 13 / Butachlor, Compound 13 / Tenylchlor, Compound 13 / CNP, Compound 13 / Clomethoxynil, Compound 13 / Bifenox, Compound 13 / Oxadiazone, Compound 13 / Oxadiargyl, Compound 13 / Pentoxazone, Compound 13 / Kafen Trol, Compound 13 / Oxadiclomephone, Compound 13 / Indanophan, Compound 13 / Pyriminobacmethyl, Compound 13 / Cyhalohopbutyl, Compound 13 / Fentrazamide, Compound 13 / Mefenacet, Compound 13 / Butenachlor, Compound 13 / Dithiopyr, Compound 13 / Benfresate, compound 13 / pyributicarb, compound 13 / bencho curve, compound 13 / molinate, compound 13 / butamifos, compound 13 / quinclolac, compound 13 / simmesrin, compound 13 / cymetrin, compound 13 / benthlide, compound 13 / dimetamethrin, compound 13 / MCPA, Compound 13 / MCPB, Compound 13 / Etobenzanide, Compound 13 / cumyluron, Compound 13 / Benzobicyclone, Compound 13 / Pyriphthalide, Product 13 / bispyribac, compound 13 / pyracuronyl, compound 13 / anilophos, compound 13 / OK-701, compound 13 / penoxsulam, compound 13 / AVH-301, compound 13 / KUH-021, compound 13 / TH-547, compound 13 / Bentazone, Compound 13 / 2,4-PA, Compound 13 / Metamihop, Compound 13 / Furcetosulfuron, Compound 13 / HOK-201, Compound 13 / Mesotrione, Compound 13 / Propanyl, Compound 13 / Quinoclamine, Compound 13 / Chromprop , Compound 14 / Pyrazosulfuron ethyl, Compound 14 / Bensulfuron methyl, Compound 14 / Cinosulfuron, Compound 14 / Imasosulfuron, Compound 14 / Azimsulfuron, Compound 14 / Halosulfuron methyl, Compound 14 / Cyclosulfur Hamron, compound 14 / ethoxysulfuron, compound 14 / pyrazolate, compound 14 / pyrazoxifene, compound 14 / benzophenap, compound 14 / bromobutide, compound 14 / naproanilide, compound 14 / pretilachlor, compound 14 / butachlor, compound 14 / tenyl chlor , Compound 14 / CNP, Compound 14 / Clomethoxynil, Compound 14 / Bifenox, Compound 14 / Oxadiazone, Compound 14 / Oxadialgyl, Compound 14 / Pentoxazone, Compound 14 / Kafenthrol, Compound 14 / Oxadichromene, Compound 14 / Indanophane, Compound 14 / Pyri Minobacmethyl, Compound 14 / Cyhalohop Butyl, Compound 14 / Fentrazamide, Compound 14 / Mefenacet, Compound 14 / Butenac Compound 14 / dithiopyr, compound 14 / benfresate, compound 14 / pyributicalbub, compound 14 / benchocarb, compound 14 / molinate, compound 14 / butamifos, compound 14 / quinclolac, compound 14 / simmesrin, compound 14 / cymetrin, compound 14 / Benzuride, Compound 14 / Dimetamethrin, Compound 14 / MCPA, Compound 14 / MCPB, Compound 14 / Etobenzanide, Compound 14 / Cumilron, Compound 14 / Benzobicyclone, Compound 14 / Pyriphthalide, Compound 14 / Bispyrivac, Compound 14 / Pyraclonil , Compound 14 / anilophos, Compound 14 / OK-701, Compound 14 / Penoxsulam, Compound 14 / AVH-301, Compound 14 / KUH-021, Compound 14 / TH-547, Compound 14 / Bentazone, Compound 14 / 2,4-PA, Compound 14 / Metamihop, Compound 14 / Furcetosulfuron, Compound 14 / HOK-201, Compound 14 / Mesotrione, Compound 14 / Propanyl, Compound 14 / Quinoclamine, Compound 14 / Chrome prop,
Compound 15 / Pyrazosulfuron ethyl, Compound 15 / Bensulfuron methyl, Compound 15 / Cinosulfuron, Compound 15 / Imasosulfuron, Compound 15 / Azylsulfuron, Compound 15 / Halosulfuron methyl, Compound 15 / Cyclosulfamlone, Compound 15 / Ethoxy Sulfuron, Compound 15 / Pyrazolate, Compound 15 / Pyrazoxifene, Compound 15 / Benzofenap, Compound 15 / Bromobutide, Compound 15 / Naproanilide, Compound 15 / Pretilachlor, Compound 15 / Butachlor, Compound 15 / Tenylchlor, Compound 15 / CNP, Compound 15 / Clomethoxynil, Compound 15 / Bifenox, Compound 15 / Oxadiazone, Compound 15 / Oxadiargyl, Compound 15 / Pentoxazone, Compound 15 / Kafen Trol, Compound 15 / oxadichromemephone, Compound 15 / Indanophan, Compound 15 / Pyriminobacmethyl, Compound 15 / Cyhalohopbutyl, Compound 15 / Fentrazamide, Compound 15 / Mefenacet, Compound 15 / Butenachlor, Compound 15 / Dithiopyr, Compound 15 / Benfresate, compound 15 / pyributicarb, compound 15 / bencho curve, compound 15 / molinate, compound 15 / butamifos, compound 15 / quinclolac, compound 15 / cinmesrin, compound 15 / cymetrin, compound 15 / benthlide, compound 15 / dimetamethrin, compound 15 / MCPA, Compound 15 / MCPB, Compound 15 / Etobenzanide, Compound 15 / cumyluron, Compound 15 / Benzobicyclone, Compound 15 / Pyriphthalide Compound 15 / bispyribac, compound 15 / pyracuronyl, compound 15 / anilophos, compound 15 / OK-701, compound 15 / penoxsulam, compound 15 / AVH-301, compound 15 / KUH-021, compound 15 / TH-547, compound 15 / Bentazone, Compound 15 / 2,4-PA, Compound 15 / Metamihop, Compound 15 / Furcetosulfuron, Compound 15 / HOK-201, Compound 15 / Mesotrione, Compound 15 / Propanyl, Compound 15 / Quinoclamine, Compound 15 / Chromprop ,
Compound 16 / Pyrazosulfuron ethyl, Compound 16 / Bensulfuron methyl, Compound 16 / Cinosulfuron, Compound 16 / Imasosulfuron, Compound 16 / Azimsulfuron, Compound 16 / Halosulfuron methyl, Compound 16 / Cyclosulfamlone, Compound 16 / Ethoxy Sulfuron, Compound 16 / Pyrazolate, Compound 16 / Pyrazoxifene, Compound 16 / Benzofenap, Compound 16 / Bromobutide, Compound 16 / Naproanilide, Compound 16 / Pretilachlor, Compound 16 / Butachlor, Compound 16 / Tenylchlor, Compound 16 / CNP, Compound 16 / Clomethoxynil, Compound 16 / Bifenox, Compound 16 / Oxadiazone, Compound 16 / Oxadiargyl, Compound 16 / Pentoxazone, Compound 16 / Kafen Trol, Compound 16 / Oxadiclomephone, Compound 16 / Indanophan, Compound 16 / Pyriminobacmethyl, Compound 16 / Cyhalohopbutyl, Compound 16 / Fentrazamide, Compound 16 / Mefenacet, Compound 16 / Butenachlor, Compound 16 / Dithiopyr, Compound 16 / Benfresate, compound 16 / pyributicarb, compound 16 / bencho curve, compound 16 / molinate, compound 16 / butamifos, compound 16 / quinclolac, compound 16 / simmesrin, compound 16 / cymetrin, compound 16 / benthlide, compound 16 / dimetamethrin, compound 16 / MCPA, Compound 16 / MCPB, Compound 16 / Etobenzanide, Compound 16 / cumyluron, Compound 16 / Benzobicyclone, Compound 16 / Pyriphthalide Compound 16 / Bispyribac, Compound 16 / Pyraclonil, Compound 16 / Anilophos, Compound 16 / OK-701, Compound 16 / Penoxsulam, Compound 16 / AVH-301, Compound 16 / KUH-021, Compound 16 / TH-547, Compound 16 / Bentazone, Compound 16 / 2,4-PA, Compound 16 / Metamihop, Compound 16 / Furcetosulfuron, Compound 16 / HOK-201, Compound 16 / Mesotrione, Compound 16 / propanyl, Compound 16 / Quinoclamine, Compound 16 / Chromprop ,
Compound 17 / Pyrazosulfuron ethyl, Compound 17 / Bensulfuron methyl, Compound 17 / Sinosulfuron, Compound 17 / Imasosulfuron, Compound 17 / Azimsulfuron, Compound 17 / Halosulfuron methyl, Compound 17 / Cyclosulfamlone, Compound 17 / Ethoxy Sulfuron, Compound 17 / Pyrazolate, Compound 17 / Pyrazoxifene, Compound 17 / Benzofenap, Compound 17 / Bromobutide, Compound 17 / Naproanilide, Compound 17 / Pretilachlor, Compound 17 / Butachlor, Compound 17 / Tenylchlor, Compound 17 / CNP, Compound 17 / Clomethoxynil, Compound 17 / Bifenox, Compound 17 / Oxadiazone, Compound 17 / Oxadiargyl, Compound 17 / Pentoxazone, Compound 17 / Kafen Trol, Compound 17 / Oxadichromene, Compound 17 / Indanophan, Compound 17 / Pyriminobacmethyl, Compound 17 / Cyhalohopbutyl, Compound 17 / Fentrazamide, Compound 17 / Mefenacet, Compound 17 / Butenachlor, Compound 17 / Dithiopyr, Compound 17 / Benfresate, compound 17 / pyributicarb, compound 17 / bencho curve, compound 17 / molinate, compound 17 / butamifos, compound 17 / quinclolac, compound 17 / simmesrin, compound 17 / cymetrin, compound 17 / benthlide, compound 17 / dimetamethrin, compound 17 / MCPA, Compound 17 / MCPB, Compound 17 / Etobenzanide, Compound 17 / cumyluron, Compound 17 / Benzobicyclone, Compound 17 / Pyriphthalide, Compound 17 / bispyribac, compound 17 / pyracuronyl, compound 17 / anilophos, compound 17 / OK-701, compound 17 / penoxsulam, compound 17 / AVH-301, compound 17 / KUH-021, compound 17 / TH-547, compound 17 / Bentazone, Compound 17 / 2,4-PA, Compound 17 / Metamihop, Compound 17 / Furcetosulfuron, Compound 17 / HOK-201, Compound 17 / Mesotrione, Compound 17 / propanyl, Compound 17 / Quinoclamine, Compound 17 / Cromepprop ,
Compound 18 / Pyrazosulfuron ethyl, Compound 18 / Bensulfuron methyl, Compound 18 / Cinosulfuron, Compound 18 / Imasosulfuron, Compound 18 / Azimsulfuron, Compound 18 / Halosulfuron methyl, Compound 18 / Cyclosulfamlone, Compound 18 / Ethoxy Sulfuron, Compound 18 / Pyrazolate, Compound 18 / Pyrazoxifene, Compound 18 / Benzofenap, Compound 18 / Bromobutide, Compound 18 / Naproanilide, Compound 18 / Pretilachlor, Compound 18 / Butachlor, Compound 18 / Tenylchlor, Compound 18 / CNP, Compound 18 / Clomethoxynil, Compound 18 / Bifenox, Compound 18 / Oxadiazone, Compound 18 / Oxadialgyl, Compound 18 / Pentoxazone, Compound 18 / Kafen Trol, Compound 18 / Oxadiclomephone, Compound 18 / Indanophan, Compound 18 / Pyriminobacmethyl, Compound 18 / Cyhalohopbutyl, Compound 18 / Fentrazamide, Compound 18 / Mefenacet, Compound 18 / Butenachlor, Compound 18 / Dithiopyr, Compound 18 / Benfresate, compound 18 / pyributicarb, compound 18 / bencho curve, compound 18 / molinate, compound 18 / butamifos, compound 18 / quinclolac, compound 18 / simmesrin, compound 18 / cymetrin, compound 18 / benthlide, compound 18 / dimetamethrin, compound 18 / MCPA, Compound 18 / MCPB, Compound 18 / Etobenzanide, Compound 18 / cumyluron, Compound 18 / Benzobicyclone, Compound 18 / Pyriphthalide Product 18 / bispyribac, compound 18 / pyracuronyl, compound 18 / anilophos, compound 18 / OK-701, compound 18 / penoxsulam, compound 18 / AVH-301, compound 18 / KUH-021, compound 18 / TH-547, compound 18 / Bentazone, Compound 18 / 2,4-PA, Compound 18 / Metamihop, Compound 18 / Furcetosulfuron, Compound 18 / HOK-201, Compound 18 / Mesotrione, Compound 18 / Propanyl, Compound 18 / Quinoclamine, Compound 18 / Chromprop ,
Compound 19 / Pyrazosulfuron ethyl, Compound 19 / Bensulfuron methyl, Compound 19 / Sinosulfuron, Compound 19 / Imasosulfuron, Compound 19 / Azylsulfuron, Compound 19 / Halosulfuron methyl, Compound 19 / Cyclosulfamlone, Compound 19 / Ethoxy Sulfuron, Compound 19 / Pyrazolate, Compound 19 / Pyrazoxifene, Compound 19 / Benzofenap, Compound 19 / Bromobutide, Compound 19 / Naproanilide, Compound 19 / Pretilachlor, Compound 19 / Butachlor, Compound 19 / Tenylchlor, Compound 19 / CNP, Compound 19 / Clomethoxynil, Compound 19 / Bifenox, Compound 19 / Oxadiazone, Compound 19 / Oxadiargyl, Compound 19 / Pentoxazone, Compound 19 / Kafen Trol, compound 19 / oxadichromemephone, compound 19 / indanophan, compound 19 / pyriminobacmethyl, compound 19 / cyhalohop butyl, compound 19 / fentrazamide, compound 19 / mefenacet, compound 19 / butenachlor, compound 19 / dithiopyr, compound 19 / Benfresate, compound 19 / pyributicalbub, compound 19 / bencho curve, compound 19 / molinate, compound 19 / butamifos, compound 19 / quinclolac, compound 19 / simmesrin, compound 19 / cymetrin, compound 19 / benthlide, compound 19 / dimetamethrin, compound 19 / MCPA, Compound 19 / MCPB, Compound 19 / Etobenzanide, Compound 19 / cumyluron, Compound 19 / Benzobicyclone, Compound 19 / Pyriphthalide, Compound 19 / bispyribac, compound 19 / pyracuronyl, compound 19 / anilophos, compound 19 / OK-701, compound 19 / penoxsulam, compound 19 / AVH-301, compound 19 / KUH-021, compound 19 / TH-547, compound 19 / Bentazone, Compound 19 / 2,4-PA, Compound 19 / Metamihop, Compound 19 / Furcetosulfuron, Compound 19 / HOK-201, Compound 19 / Mesotrione, Compound 19 / Propanyl, Compound 19 / Quinoclamine, Compound 19 / Cromepprop ,
Compound 20 / Pyrazosulfuron ethyl, Compound 20 / Bensulfuron methyl, Compound 20 / Cinosulfuron, Compound 20 / Imasosulfuron, Compound 20 / Azimusulfuron, Compound 20 / Halosulfuron methyl, Compound 20 / Cyclosulfamlone, Compound 20 / Ethoxy Sulfuron, Compound 20 / Pyrazolate, Compound 20 / Pyrazoxifene, Compound 20 / Benzofenap, Compound 20 / Bromobutide, Compound 20 / Naproanilide, Compound 20 / Pretilachlor, Compound 20 / Butachlor, Compound 20 / Tenylchlor, Compound 20 / CNP, Compound 20 / Clomethoxynil, Compound 20 / Bifenox, Compound 20 / Oxadiazone, Compound 20 / Oxadiargyl, Compound 20 / Pentoxazone, Compound 20 / Kafen Trol, Compound 20 / Oxadiclomephone, Compound 20 / Indanophan, Compound 20 / Pyriminobacmethyl, Compound 20 / Cyhalohopbutyl, Compound 20 / Fentrazamide, Compound 20 / Mefenacet, Compound 20 / Butenachlor, Compound 20 / Dithiopyr, Compound 20 / Benfresate, compound 20 / pyributicarb, compound 20 / bencho curve, compound 20 / molinate, compound 20 / butamifos, compound 20 / quinclolac, compound 20 / cinmesrin, compound 20 / cymetrin, compound 20 / benthlide, compound 20 / dimetamethrin, compound 20 / MCPA, Compound 20 / MCPB, Compound / 20 / Etobenzanide, Compound 20 / cumyluron, Compound 20 / Benzobicyclone, Compound 20 / Pyriphthalide, Compound 20 / bispyribac, compound 20 / pyracuronyl, compound 20 / anilophos, compound 20 / OK-701, compound 20 / penoxsulam, compound 20 / AVH-301, compound 20 / KUH-021, compound 20 / TH-547, compound 20 / Bentazone, Compound 20 / 2,4-PA, Compound 20 / Metamihop, Compound 20 / Frucetosulfuron, Compound 20 / HOK-201, Compound 20 / Mesotrione, Compound 20 / Propanyl, Compound 20 / Quinoclamine, Compound 20 / Chrome prop
Compound 21 / Pyrazosulfuron ethyl, Compound 21 / Bensulfuron methyl, Compound 21 / Cinosulfuron, Compound 21 / Imasosulfuron, Compound 21 / Azimsulfuron, Compound 21 / Halosulfuron methyl, Compound 21 / Cyclosulfamlone, Compound 21 / Ethoxy Sulfuron, Compound 21 / Pyrazolate, Compound 21 / Pyrazoxifene, Compound 21 / Benzofenap, Compound 21 / Bromobutide, Compound 21 / Naproanilide, Compound 21 / Pretilachlor, Compound 21 / Butachlor, Compound 21 / Tenylchlor, Compound 21 / CNP, Compound 21 / Clomethoxynil, Compound 21 / Bifenox, Compound 21 / Oxadiazone, Compound 21 / Oxadiargyl, Compound 21 / Pentoxazone, Compound 21 / Kafen Trol, Compound 21 / Oxadiclomephone, Compound 21 / Indanophan, Compound 21 / Pyriminobacmethyl, Compound 21 / Cyhalohopbutyl, Compound 21 / Fentrazamide, Compound 21 / Mefenacet, Compound 21 / Butenachlor, Compound 21 / Dithiopyr, Compound 21 / Benfresate, compound 21 / pyributycarb, compound 21 / bencho curve, compound 21 / molinate, compound 21 / butamifos, compound 21 / quinclolac, compound 21 / simmesrin, compound 21 / cymetrin, compound 21 / benthlide, compound 21 / dimetamethrin, compound 21 / MCPA, compound 21 / MCPB, compound 21 / ethobenzanide, compound 21 / cumyluron, compound 21 / benzobicyclone, compound 21 / pyriphthalide, Compound 21 / Bispyribac, Compound 21 / Pyraclonil, Compound 21 / Anilophos, Compound 21 / OK-701, Compound 21 / Penoxsulam, Compound 21 / AVH-301, Compound 21 / KUH-021, Compound 21 / TH-547, Compound 21 / Bentazone, Compound 21 / 2,4-PA, Compound 21 / Metamihop, Compound 21 / Furcetosulfuron, Compound 21 / HOK-201, Compound 21 / Mesotrione, Compound 21 / Propanyl, Compound 21 / Quinoclamine, Compound 21 / Chromprop
―――――――――――――――――――――――――――――――――

本発明では、化合物(A)1質量部当たり、ダイムロン、ジメピペレート及びエスプロカルブの中から選ばれる少なくとも1種の化合物を通常0.001−100質量部、好ましくは0.01−30質量部施用する。
化合物(A)の施用量は、通常1g−10kg/ha、好ましくは10g−1kg/haである。ダイムロン、ジメピペレート及びエスプロカルブの中から選ばれる少なくとも1種の化合物の施用量は、通常1g−10kg/ha、好ましくは10g−3kg/haである。
本発明組成物は、通常適当な固体担体又は液体担体と混合し、更に所望により界面活性剤、浸透剤、展着剤、増粘剤、凍結防止剤、結合剤、固結防止剤、崩壊剤、消泡剤、防腐剤および分解防止剤等を添加して、液剤(soluble concentrate)、乳剤(emulsifiable concentrate)、水和剤(wettable powder)、水溶剤(water soluble powder)、顆粒水和剤(water dispersible granule)、顆粒水溶剤(water soluble granule)、懸濁剤(suspension concentrate)、乳濁剤(concentrated emulsion)、サスポエマルジョン(suspoemulsion)、マイクロエマルジョン(microemulsion)、粉剤(dustable powder)、粒剤(granule)およびゲル剤(gel)等任意の剤型の製剤にて実用に供することができる。また、省力化および安全性向上の観点から、上記任意の剤型の製剤を水溶性包装体に封入して供することもできる。なお必要に応じて、製剤または散布時に複数の他の除草剤、殺虫剤、殺菌剤、植物生長調整剤、肥料等と混合使用することも可能である。
固体担体としては、例えば石英、カオリナイト、パイロフィライト、セリサイト、タルク、ベントナイト、酸性白土、アタパルジャイト、ゼオライトおよび珪藻土等の天然鉱物質類、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム、硫酸ナトリウムおよび塩化カリウム等の無機塩類、合成珪酸ならびに合成珪酸塩が挙げられる。
液体担体としては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコールおよびイソプロパノール等のアルコール類、キシレン、アルキルベンゼンおよびアルキルナフタレン等の芳香族炭化水素類、ブチルセロソルブ等のエーテル類、シクロヘキサノン等のケトン類、γ−ブチロラクトン等のエステル類、N−メチルピロリドンおよびN−オクチルピロリドン等の酸アミド類、大豆油、ナタネ油、綿実油およびヒマシ油等の植物油ならびに水が挙げられる。
これら固体および液体担体は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。
界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステルおよびポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル等のノニオン性界面活性剤、アルキル硫酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物の塩、アルキルナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物の塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸および燐酸塩、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸および燐酸塩、ポリカルボン酸塩およびポリスチレンスルホン酸塩等のアニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩およびアルキル4級アンモニウム塩等のカチオン性界面活性剤ならびにアミノ酸型およびベタイン型等の両性界面活性剤が挙げられる。
これら界面活性剤の含有量は、特に限定されるものではないが、本発明の製剤100質量部に対し、通常0.05〜20質量部の範囲が望ましい。また、これら界面活性剤は、単独で用いても2種以上を併用してもよい。
この際、同時に複数の他の除草剤、殺虫剤、殺菌剤、植物生長調整剤および肥料等と混合使用することも可能である。特に他の除草剤の1種以上を配合することにより、殺草スペクトラムを広げることが可能となり、本発明の効果をより安定なものとすることができる。
In the present invention, at least one compound selected from Daimlon, dimethylpiperate and esprocarb is usually applied in an amount of 0.001 to 100 parts by weight, preferably 0.01 to 30 parts by weight per 1 part by weight of the compound (A).
The application rate of compound (A) is usually 1 g-10 kg / ha, preferably 10 g-1 kg / ha. The application rate of at least one compound selected from Daimlon, Dimepiperate and Esprocarb is usually 1 g-10 kg / ha, preferably 10 g-3 kg / ha.
The composition of the present invention is usually mixed with a suitable solid carrier or liquid carrier, and if necessary, a surfactant, penetrant, spreading agent, thickener, antifreeze agent, binder, anti-caking agent, disintegrant. , Antifoaming agent, preservative, anti-decomposition agent, etc., and added to liquid concentrate, emulsion concentrate, wettable powder, water soluble powder, granule wettable powder (wet powder powder) water dispersible granule, water soluble granule, suspension (concentrated emulsion), emulsion (suspoemulsion), microphone Emulsion (microemulsion), dusts (dustable powder), can be put into practical use in granules (granule) and gels (gel) like any dosage form of the formulation. In addition, from the viewpoint of labor saving and safety improvement, a preparation of any of the above dosage forms can be enclosed in a water-soluble package. If necessary, it can be used in combination with a plurality of other herbicides, insecticides, fungicides, plant growth regulators, fertilizers and the like during preparation or spraying.
Examples of solid carriers include quartz, kaolinite, pyrophyllite, sericite, talc, bentonite, acid clay, attapulgite, zeolite, and diatomaceous earth, and other inorganic minerals such as calcium carbonate, ammonium sulfate, sodium sulfate, and potassium chloride. Examples include salts, synthetic silicic acid and synthetic silicates.
Examples of the liquid carrier include alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol and isopropanol, aromatic hydrocarbons such as xylene, alkylbenzene and alkylnaphthalene, ethers such as butyl cellosolve, ketones such as cyclohexanone, and esters such as γ-butyrolactone. And acid amides such as N-methylpyrrolidone and N-octylpyrrolidone, vegetable oils such as soybean oil, rapeseed oil, cottonseed oil and castor oil, and water.
These solid and liquid carriers may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the surfactant include polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether, polyoxyethylene styryl phenyl ether, polyoxyethylene polyoxypropylene block copolymer, polyoxyethylene fatty acid ester, sorbitan fatty acid ester and polyoxyethylene sorbitan. Nonionic surfactant such as fatty acid ester, alkyl sulfate, alkylbenzene sulfonate, lignin sulfonate, alkyl sulfosuccinate, naphthalene sulfonate, alkyl naphthalene sulfonate, salt of formalin condensate of naphthalene sulfonate, Salt of formalin condensate of alkylnaphthalenesulfonic acid, polyoxyethylene alkylaryl ether sulfate and phosphate, polyoxyethylenes Anionic surfactants such as rylphenyl ether sulfate and phosphate, polycarboxylate and polystyrene sulfonate, cationic surfactants such as alkylamine salt and alkyl quaternary ammonium salt, and amphoteric types such as amino acid type and betaine type Surfactant is mentioned.
Although content of these surfactants is not specifically limited, The range of 0.05-20 mass parts is desirable normally with respect to 100 mass parts of preparations of this invention. These surfactants may be used alone or in combination of two or more.
At this time, a plurality of other herbicides, insecticides, fungicides, plant growth regulators, fertilizers and the like can be used in combination. In particular, by blending one or more other herbicides, it becomes possible to broaden the herbicidal spectrum, and the effects of the present invention can be made more stable.

次に本発明組成物を用いる場合の製剤の配合例を示す。但し本発明の配合例は、これらのみに限定されるものではない。なお、以下の配合例において「部」は質量部を意味する。
〔水和剤(wettable powder)〕
本発明組成物 0.1〜80部
固体担体 5〜98.9部
界面活性剤 1〜10部
その他 0〜 5部
その他として、例えば固結防止剤、分解防止剤等が挙げられる。
〔乳 剤(emulsifiable concentrate)〕
本発明組成物 0.1〜30部
液体担体 45〜95部
界面活性剤 4.9〜15部
その他 0〜10部
その他として、例えば展着剤、分解防止剤等が挙げられる。
〔懸濁剤(suspension concentrate)〕
本発明組成物 0.1〜70部
液体担体 15〜98.89部
界面活性剤 1〜12部
その他 0.01〜30部
その他として、例えば凍結防止剤、増粘剤等が挙げられる。
〔顆粒水和剤(water dispersible granule)〕
本発明組成物 0.1〜90部
固体担体 0〜98.9部
界面活性剤 1〜20部
その他 0〜 10部
その他として、例えば結合剤、分解防止剤等が挙げられる。
〔液 剤(soluble concentrate)〕
本発明組成物 0.01〜70部
液体担体 20〜99.99部
その他 0〜 10部
その他として、例えば凍結防止剤、展着剤等が挙げられる。
〔粒 剤(granule)〕
本発明組成物 0.01〜80部
固体担体 10〜99.99部
その他 0〜10部
その他として、例えば結合剤、分解防止剤等が挙げられる。
〔粉 剤(dustable powder)〕
本発明組成物 0.01〜30部
固体担体 65〜99.99部
その他 0〜5部
その他として、例えばドリフト防止剤、分解防止剤等が挙げられる。
使用に際しては上記製剤を水で1〜10000倍に希釈してまたは希釈せずに、有効成分が1ヘクタール(ha) 当たり0.001〜50kg、好ましくは0.01〜10kgになるように散布する。
Next, formulation examples of preparations when using the composition of the present invention are shown. However, the formulation examples of the present invention are not limited to these. In the following formulation examples, “part” means part by mass.
[Wettable powder]
Composition of the present invention 0.1-80 parts solid carrier 5-98.9 parts Surfactant 1-10 parts Others 0-5 parts Others include, for example, anti-caking agents and decomposition inhibitors.
[Emulsible concentrate]
Composition of the present invention 0.1-30 parts Liquid carrier 45-95 parts Surfactant 4.9-15 parts Others 0-10 parts Others include, for example, spreading agents, decomposition inhibitors and the like.
[Suspension concentrate]
Composition of the present invention 0.1-70 parts Liquid carrier 15-98.89 parts Surfactant 1-12 parts Others 0.01-30 parts Others include, for example, antifreezing agents, thickeners and the like.
[Water dispersible granule]
Composition of the present invention 0.1 to 90 parts Solid carrier 0 to 98.9 parts Surfactant 1 to 20 parts Others 0 to 10 parts Others include, for example, binders and decomposition inhibitors.
[Solution concentrate]
Composition of the present invention 0.01 to 70 parts Liquid carrier 20 to 99.99 parts Others 0 to 10 parts Other examples include antifreezing agents and spreading agents.
[Granule]
Composition of the present invention 0.01 to 80 parts Solid carrier 10 to 99.99 parts Others 0 to 10 parts Others include, for example, binders, decomposition inhibitors and the like.
[Dust Powder]
The composition of the present invention 0.01 to 30 parts Solid support 65 to 99.99 parts Others 0 to 5 parts Other examples include a drift inhibitor and a decomposition inhibitor.
At the time of use, the above-mentioned preparation is diluted with water 1 to 10000 times or without being diluted, and sprayed so that the active ingredient is 0.001 to 50 kg, preferably 0.01 to 10 kg per hectare (ha). .

製剤例
次に具体的に化合物を有効成分とする農薬製剤例を示すがこれらのみに限定されるものではない。なお、以下の配合例において「部」は質量部を意味する。
〔配合例1〕水和剤(wettable powder)
化合物(A) 10部
ダイムロン 10部
パイロフィライト 74部
ソルポール5039 4部
(非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混合物:東邦化学工業(株)商品名)
カープレックス#80D 2部
(合成含水珪酸:塩野義製薬(株)商品名)
以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
Formulation Examples Next, specific examples of agrochemical formulations containing the compound as an active ingredient are shown, but the invention is not limited thereto. In the following formulation examples, “part” means part by mass.
[Formulation 1] wettable powder
Compound (A) 10 parts Daimlon 10 parts Pyrophyllite 74 parts Solpol 5039 4 parts (mixture of nonionic surfactant and anionic surfactant: Toho Chemical Industries, Ltd. trade name)
Carplex # 80D 2 parts (Synthetic hydrous silicic acid: Shionogi & Co., Ltd. trade name)
The above is uniformly mixed and ground to obtain a wettable powder.

〔配合例2〕乳 剤(emulsifiable concentrate)
化合物(A) 2部
ダイムロン 3部
キシレン 75部
N−メチルピロリドン 15部
ソルポール2680 5部
(非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混合物:東邦化学工業(株)商品名)
以上を均一に混合して乳剤とする。
[Formulation Example 2] Milk (emulsible concentrate)
Compound (A) 2 parts Daimlon 3 parts xylene 75 parts N-methylpyrrolidone 15 parts Solpol 2680 5 parts (mixture of nonionic surfactant and anionic surfactant: Toho Chemical Co., Ltd. trade name)
The above is uniformly mixed to obtain an emulsion.

〔配合例3〕懸濁剤(suspension concentrate)
化合物(A) 15部
ダイムロン 10部
アグリゾールS−710 10部
(非イオン性界面活性剤:花王(株)商品名)
ルノックス1000C 0.5部
(アニオン性界面活性剤:東邦化学工業(株)商品名)
キサンタンガム 0.2部
水 64.3部
以上を均一に混合した後、湿式粉砕して懸濁剤とする。
[Composition Example 3] Suspension concentrate
Compound (A) 15 parts Daimlon 10 parts Agrisol S-710 10 parts (Nonionic surfactant: trade name of Kao Corporation)
Lnox 1000C 0.5 part (anionic surfactant: Toho Chemical Co., Ltd. trade name)
Xanthan gum 0.2 parts Water 64.3 parts After uniformly mixing the above, wet pulverize to make a suspension.

〔配合例4〕顆粒水和剤(water dispersible granule)
化合物(A) 25部
ダイムロン 50部
ハイテノールNE−15 5部
(アニオン性界面活性剤:第一工業製薬(株)商品名)
バニレックスN 10部
(アニオン性界面活性剤:日本製紙(株)商品名)
カープレックス#80D 10部
(合成含水珪酸:塩野義製薬(株)商品名)
以上を均一に混合粉砕した後、少量の水を加えて攪拌混合し、押出式造粒機で造粒し、乾燥して顆粒水和剤とする。
[Formulation Example 4] Granule wettable powder (water dispersible granule)
Compound (A) 25 parts Daimlon 50 parts Hytenol NE-15 5 parts (anionic surfactant: trade name of Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.)
Vanillex N 10 parts (anionic surfactant: Nippon Paper Industries Co., Ltd. trade name)
Carplex # 80D 10 parts (Synthetic hydrous silicic acid: Shionogi Pharmaceutical Co., Ltd. trade name)
After uniformly mixing and pulverizing the above, a small amount of water is added, stirred and mixed, granulated with an extrusion granulator, and dried to obtain a granulated wettable powder.

〔配合例5〕粒 剤(granule)
化合物(A) 3部
ダイムロン 2部
ベントナイト 50部
タルク 45部
以上を均一に混合粉砕した後、少量の水を加えて攪拌混合し、押出式造粒機で造粒し、乾燥して粒剤とする。
[Formulation Example 5] Granule
Compound (A) 3 parts Daimlon 2 parts Bentonite 50 parts Talc 45 parts After uniformly mixing and pulverizing the above, a small amount of water is added, stirred and mixed, granulated with an extrusion granulator, dried and granulated. To do.

〔配合例6〕粉 剤(dustable powder)
化合物(A) 1部
ダイムロン 2部
カープレックス#80D 0.5部
(合成含水珪酸:塩野義製薬(株)商品名)
カオリナイト 95部
リン酸ジイソプロピル 1.5部
以上を均一に混合粉砕して粉剤とする。
[Composition Example 6] dust (powder powder)
Compound (A) 1 part Daimlon 2 parts Carplex # 80D 0.5 part (synthetic hydrous silicic acid: Shionogi & Co., Ltd. trade name)
Kaolinite 95 parts Diisopropyl phosphate 1.5 parts or more uniformly mixed and pulverized to obtain a powder.

〔配合例7〕水和剤(wettable powder)
化合物(A) 10部
ジメピペレート 10部
パイロフィライト 74部
ソルポール5039 4部
(非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混合物:東邦化学工業(株)商品名)
カープレックス#80D 2部
(合成含水珪酸:塩野義製薬(株)商品名)
以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
[Formulation Example 7] wettable powder
Compound (A) 10 parts dimethylpiperate 10 parts pyrophyllite 74 parts Solpol 5039 4 parts (mixture of nonionic surfactant and anionic surfactant: Toho Chemical Industries, Ltd. trade name)
Carplex # 80D 2 parts (Synthetic hydrous silicic acid: Shionogi & Co., Ltd. trade name)
The above is uniformly mixed and ground to obtain a wettable powder.

〔配合例8〕乳 剤(emulsifiable concentrate)
化合物(A) 2部
ジメピペレート 3部
キシレン 75部
N−メチルピロリドン 15部
ソルポール2680 5部
(非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混合物:東邦化学工業(株)商品名)
以上を均一に混合して乳剤とする。
[Formulation Example 8] Milk (emulsible concentrate)
Compound (A) 2 parts dimethylpiperate 3 parts xylene 75 parts N-methylpyrrolidone 15 parts Solpol 2680 5 parts (mixture of nonionic surfactant and anionic surfactant: Toho Chemical Co., Ltd. trade name)
The above is uniformly mixed to obtain an emulsion.

〔配合例9〕懸濁剤(suspension concentrate)
化合物(A) 15部
ジメピペレート 10部
アグリゾールS−710 10部
(非イオン性界面活性剤:花王(株)商品名)
ルノックス1000C 0.5部
(アニオン性界面活性剤:東邦化学工業(株)商品名)
キサンタンガム 0.2部
水 64.3部
以上を均一に混合した後、湿式粉砕して懸濁剤とする。
[Formulation Example 9] Suspension concentrate
Compound (A) 15 parts Dimepiperate 10 parts Agrisol S-710 10 parts (Nonionic surfactant: trade name of Kao Corporation)
Lnox 1000C 0.5 part (anionic surfactant: Toho Chemical Co., Ltd. trade name)
Xanthan gum 0.2 parts Water 64.3 parts After uniformly mixing the above, wet pulverize to make a suspension.

〔配合例10〕顆粒水和剤(water dispersible granule)
化合物(A) 25部
ジメピペレート 50部
ハイテノールNE−15 5部
(アニオン性界面活性剤:第一工業製薬(株)商品名)
バニレックスN 10部
(アニオン性界面活性剤:日本製紙(株)商品名)
カープレックス#80D 40部
(合成含水珪酸:塩野義製薬(株)商品名)
以上を均一に混合粉砕した後、少量の水を加えて攪拌混合し、押出式造粒機で造粒し、乾燥して顆粒水和剤とする。
[Composition Example 10] Granular wettable powder (water dispersible granule)
Compound (A) 25 parts Dimepiperate 50 parts Hytenol NE-15 5 parts (anionic surfactant: trade name of Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.)
Vanillex N 10 parts (anionic surfactant: Nippon Paper Industries Co., Ltd. trade name)
Carplex # 80D 40 parts (Synthetic hydrous silicic acid: Shionogi Pharmaceutical Co., Ltd. trade name)
After uniformly mixing and pulverizing the above, a small amount of water is added, stirred and mixed, granulated with an extrusion granulator, and dried to obtain a granulated wettable powder.

〔配合例11〕粒 剤(granule)
化合物(A) 3部
ジメピペレート 2部
ベントナイト 50部
タルク 45部
以上を均一に混合粉砕した後、少量の水を加えて攪拌混合し、押出式造粒機で造粒し、乾燥して粒剤とする。
[Formulation Example 11] Granule
Compound (A) 3 parts dimethylpiperate 2 parts bentonite 50 parts talc 45 parts After uniformly mixing and pulverizing the above, a small amount of water is added, stirred and mixed, granulated with an extrusion granulator, dried and granulated. To do.

〔配合例12〕粉 剤(dustable powder)
化合物(A) 1部
ジメピペレート 2部
カープレックス#80D 0.5部
(合成含水珪酸:塩野義製薬(株)商品名)
カオリナイト 95部
リン酸ジイソプロピル 1.5部
以上を均一に混合粉砕して粉剤とする。
[Composition Example 12] Dust (dustable powder)
Compound (A) 1 part dimethylpiperate 2 parts Carplex # 80D 0.5 part (synthetic hydrous silicic acid: Shionogi Pharmaceutical Co., Ltd. trade name)
Kaolinite 95 parts Diisopropyl phosphate 1.5 parts or more uniformly mixed and pulverized to obtain a powder.

〔配合例13〕水和剤(wettable powder)
化合物(A) 10部
エスプロカルブ 10部
パイロフィライト 74部
ソルポール5039 4部
(非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混合物:東邦化学工業(株)商品名)
カープレックス#80D 2部
(合成含水珪酸:塩野義製薬(株)商品名)
以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
[Formulation 13] wettable powder
Compound (A) 10 parts Esprocarb 10 parts pyrophyllite 74 parts Solpol 5039 4 parts (mixture of nonionic surfactant and anionic surfactant: Toho Chemical Industries, Ltd. trade name)
Carplex # 80D 2 parts (Synthetic hydrous silicic acid: Shionogi & Co., Ltd. trade name)
The above is uniformly mixed and ground to obtain a wettable powder.

〔配合例14〕乳 剤(emulsifiable concentrate)
化合物(A) 2部
エスプロカルブ 3部
キシレン 75部
N−メチルピロリドン 15部
ソルポール2680 5部
(非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混合物:東邦化学工業(株)商品名)
以上を均一に混合して乳剤とする。
[Formulation 14] dairy (emulsible concentrate)
Compound (A) 2 parts Esprocarb 3 parts xylene 75 parts N-methylpyrrolidone 15 parts Solpol 2680 5 parts (mixture of nonionic surfactant and anionic surfactant: Toho Chemical Co., Ltd. trade name)
The above is uniformly mixed to obtain an emulsion.

〔配合例15〕懸濁剤(suspension concentrate)
化合物(A) 15部
エスプロカルブ 10部
アグリゾールS−710 10部
(非イオン性界面活性剤:花王(株)商品名)
ルノックス1000C 0.5部
(アニオン性界面活性剤:東邦化学工業(株)商品名)
キサンタンガム 0.2部
水 64.3部
以上を均一に混合した後、湿式粉砕して懸濁剤とする。
[Formulation Example 15] Suspension concentrate
Compound (A) 15 parts Esprocarb 10 parts Agrisol S-710 10 parts (Nonionic surfactant: Kao Corporation trade name)
Lnox 1000C 0.5 part (anionic surfactant: Toho Chemical Co., Ltd. trade name)
Xanthan gum 0.2 parts Water 64.3 parts After uniformly mixing the above, wet pulverize to make a suspension.

〔配合例16〕顆粒水和剤(water dispersible granule)
化合物(A) 25部
エスプロカルブ 50部
ハイテノールNE−15 5部
(アニオン性界面活性剤:第一工業製薬(株)商品名)
バニレックスN 10部
(アニオン性界面活性剤:日本製紙(株)商品名)
カープレックス#80D 40部
(合成含水珪酸:塩野義製薬(株)商品名)
以上を均一に混合粉砕した後、少量の水を加えて攪拌混合し、押出式造粒機で造粒し、乾燥して顆粒水和剤とする。
[Composition Example 16] Granule wettable powder (water dispersible granule)
Compound (A) 25 parts Esprocarb 50 parts Hytenol NE-15 5 parts (anionic surfactant: Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., trade name)
Vanillex N 10 parts (anionic surfactant: Nippon Paper Industries Co., Ltd. trade name)
Carplex # 80D 40 parts (Synthetic hydrous silicic acid: Shionogi Pharmaceutical Co., Ltd. trade name)
After uniformly mixing and pulverizing the above, a small amount of water is added, stirred and mixed, granulated with an extrusion granulator, and dried to obtain a granulated wettable powder.

〔配合例17〕粒 剤(granule)
化合物(A) 3部
エスプロカルブ 2部
ベントナイト 50部
タルク 45部
以上を均一に混合粉砕した後、少量の水を加えて攪拌混合し、押出式造粒機で造粒し、乾燥して粒剤とする。
[Formulation Example 17] Granule
Compound (A) 3 parts Esprocarb 2 parts Bentonite 50 parts Talc 45 parts After uniformly mixing and pulverizing the above, a small amount of water is added, stirred and mixed, granulated with an extrusion granulator, dried and granulated. To do.

〔配合例18〕粉 剤(dustable powder)
化合物(A) 1部
エスプロカルブ 2部
カープレックス#80D 0.5部
(合成含水珪酸:塩野義製薬(株)商品名)
カオリナイト 95部
リン酸ジイソプロピル 1.5部
以上を均一に混合粉砕して粉剤とする。
[Formulation Example 18] dust powder (dustable powder)
Compound (A) 1 part Esprocarb 2 parts Carplex # 80D 0.5 part (synthetic hydrous silicic acid: Shionogi & Co., Ltd. trade name)
Kaolinite 95 parts Diisopropyl phosphate 1.5 parts or more uniformly mixed and pulverized to obtain a powder.

本発明組成物の除草剤としての有用性を以下の試験例において具体的に説明する。
それぞれの試験例の薬害軽減効果又は除草効果は、以下の判定基準に従い調査した。

判定基準
5・・・殺草率90%以上(ほとんど完全枯死)
4・・・殺草率70%以上90%未満
3・・・殺草率40%以上70%未満
2・・・殺草率20%以上40%未満
1・・・殺草率5%以上20%未満
0・・・殺草率5%以下(ほとんど効力なし)

〔試験例1〕漏水条件における薬害試験
底に穴を開けた1/10000アールのプラスチック製ポットに沖積土を入れた後、水を入れて混和し、4cmの湛水条件とした。上記ポットに2.5葉期のイネ苗を移植し、移植後9日目に配合例に準じて調製した水和剤を用いて、供試薬剤の所定濃度の懸濁液を滴下処理した。漏水操作はプラスチック製バットにポットを入れてバット内の水を排水することで行い、薬剤処理後3日間連続で2cm/日の漏水をかけた。薬剤処理後28日目にイネに対する薬害を上記の判定基準に従って調査した。その結果、化合物(A)+ダイムロン、化合物(A)+ジメピペレート、化合物(A)+エスプロカルブのいずれも、化合物(A)だけの場合に比べて、イネに対する薬害軽減効果を示した。
The usefulness of the composition of the present invention as a herbicide will be specifically described in the following test examples.
The phytotoxicity reduction effect or the herbicidal effect of each test example was investigated according to the following criteria.

Judgment criteria 5 ... 90% or more of herbicide rate (almost completely dead)
4 ... Herbicidal rate 70% or more and less than 90% 3 ... Herbicidal rate 40% or more and less than 70% 2 ... Herbicidal rate 20% or more and less than 40% 1 ... Herbicidal rate 5% or more and less than 20% 0. ..Harvicide rate 5% or less (almost no effect)

[Test Example 1] Chemical damage test under water leakage condition After alluvial soil was put into a 1 / 10,000 are plastic pot with a hole in the bottom, water was added and mixed to make a 4 cm flood condition. A 2.5-leaf rice seedling was transplanted into the pot, and a suspension of a predetermined concentration of the reagent was dropped using a wettable powder prepared according to the formulation example on the 9th day after transplanting. The water leakage operation was performed by placing a pot in a plastic vat and draining the water in the vat, and water leakage of 2 cm / day was applied for 3 consecutive days after the chemical treatment. On the 28th day after the drug treatment, the phytotoxicity to rice was investigated according to the above criteria. As a result, all of the compound (A) + Dimron, the compound (A) + dimethylpiperate, and the compound (A) + esprocarb showed a phytotoxicity-reducing effect on rice compared to the case of the compound (A) alone.

〔試験例2〕置き苗および漏水条件における薬害試験
置き苗条件は、1/10000アールのプラスチック製ポットに沖積土を入れた後、水を入れて混和し、4cmの湛水条件とした。上記ポットに2.5葉期のイネ苗を、根を露出させたまま田面に固定した。一方、漏水条件は、試験例1と同様の条件で2.5葉期のイネ苗を移植した。両条件ともに、移植後6日目に配合例に準じて調製した水和剤を用いて、供試薬剤の所定濃度の懸濁液を滴下処理した。薬剤処理後24日目にイネに対する薬害を上記の判定基準に従って調査した。その結果、化合物(A)+ダイムロン、化合物(A)+ジメピペレート、化合物(A)+エスプロカルブのいずれも、化合物(A)だけの場合に比べて、イネに対する薬害軽減効果を示した。
[Test Example 2] Phylogenetic test under standing seedlings and water leakage conditions The standing seedling conditions were as follows: alluvial soil was put into a 1/10000 are plastic pot, and then mixed with water to make a 4 cm flood condition. A 2.5-leaf rice seedling was fixed to the paddy with the roots exposed in the pot. On the other hand, the water leakage conditions were the same as in Test Example 1, and transplanted rice seedlings at the 2.5 leaf stage. Under both conditions, a suspension of a predetermined concentration of the reagent reagent was dropped using a wettable powder prepared according to the formulation example on the sixth day after transplantation. On the 24th day after the drug treatment, the phytotoxicity to rice was investigated according to the above criteria. As a result, all of the compound (A) + Dimron, the compound (A) + dimethylpiperate, and the compound (A) + esprocarb showed a phytotoxicity-reducing effect on rice compared to the case of the compound (A) alone.

〔試験例3〕湛水条件における雑草発生前処理による除草効果試験
1/10000アールのプラスチック製ポットに沖積土を入れた後、水を入れて混和し、4cmの湛水条件とした。ノビエ、イヌホタルイ、コナギ、キカシグサ、アゼナの種子を播種し、播種後2日目に配合例に準じて調製した水和剤を用いて、供試薬剤の所定濃度の懸濁液を滴下処理した。薬剤処理後38日目に各種雑草に対する除草効果を上記の判定基準に従って調査した。その結果、化合物(A)+ダイムロン、化合物(A)+ジメピペレート、化合物(A)+エスプロカルブのいずれも、化合物(A)だけの場合に比べて、除草効果の低下が見られなかった。
[Test Example 3] Herbicidal effect test by pretreatment of weed generation under flooded conditions After alluvial soil was put into a 1/10000 are plastic pot, water was added and mixed to make a 4 cm flooded condition. The seeds of Novier, Inuhotarui, Konagi, Staghorna, and Azena were sown, and a suspension of a predetermined concentration of the reagent was dropped using a wettable powder prepared according to the formulation example on the second day after sowing. On the 38th day after the drug treatment, the herbicidal effect on various weeds was investigated according to the above criteria. As a result, the compound (A) + Dimron, the compound (A) + dimethylpiperate, and the compound (A) + esprocarb did not show a decrease in herbicidal effect compared to the case of the compound (A) alone.

〔試験例4〕湛水条件における雑草発生後処理による除草効果試験
1/10000アールのプラスチック製ポットに沖積土を入れた後、イヌホタルイの種子を播種し、水田表土で覆土した後、ノビエ、コナギ、キカシグサ、アゼナの種子を播種し、水を入れて4cmの湛水条件とした。播種後14日目に配合例に準じて調製した水和剤を用いて、供試薬剤の所定濃度の懸濁液を滴下処理した。薬剤処理後38日目に各種雑草に対する除草効果を上記の判定基準に従って調査した。その結果、化合物(A)+ダイムロン、化合物(A)+ジメピペレート、化合物(A)+エスプロカルブのいずれも、化合物(A)だけの場合に比べて、除草効果の低下が見られなかった。
[Test Example 4] Herbicidal effect test by post-weed treatment in submerged conditions After placing alluvial soil in a 1 / 10,000 are plastic pot, seeded with dog firefly seeds, covered with paddy topsoil, nobies, kogi , Seeds of Kakashigusa and Azena were sown, and water was added to make a 4 cm submerged condition. On the 14th day after sowing, a suspension of a predetermined concentration of the reagent was dropped using a wettable powder prepared according to the formulation example. On the 38th day after the drug treatment, the herbicidal effect on various weeds was investigated according to the above criteria. As a result, the compound (A) + Dimron, the compound (A) + dimethylpiperate, and the compound (A) + esprocarb did not show a decrease in herbicidal effect compared to the case of the compound (A) alone.

〔試験例5〕イネ置き苗条件における薬害試験
1/10000アールのプラスチック製ポットに沖積土を入れた後、水を入れて混和し、4cmの湛水条件とした。上記ポットに2.5葉期のイネ苗を、根を露出させたまま田面に固定した。移植6日目に配合例に準じて調製した水和剤を用いて、供試薬剤の所定濃度の懸濁液を滴下処理した。薬剤処理後24日目にイネに対する薬害を上記の判定基準に従って調査した。結果を第4表に示す。

Figure 2007046440
[Test Example 5] Chemical damage test under rice seedling conditions After alluvial soil was put into a 1/10000 are plastic pot, water was added and mixed to make a 4 cm flood condition. A 2.5-leaf rice seedling was fixed to the paddy with the roots exposed in the pot. On the sixth day of transplantation, a suspension having a predetermined concentration of the reagent reagent was dropped using a wettable powder prepared according to the formulation example. On the 24th day after the drug treatment, the phytotoxicity to rice was investigated according to the above criteria. The results are shown in Table 4.
Figure 2007046440

〔試験例6〕湛水条件におけるアゼガヤ発生後処理による除草効果試験
1/10000アールのプラスチック製ポットに沖積土を入れた後、アゼガヤ種子を播種し、温室内で育成した。20日間育成した後、湛水深が2cmとなるよう水を加え、配合例に準じて調製した水和剤を用いて、供試薬剤の所定濃度の懸濁液を滴下処理した。薬剤処理後20日目にアゼガヤに対する除草効果を上記の判定基準に従って調査した。結果を第5表に示す。
[Test Example 6] Herbicidal effect test by treatment after generation of Azegaya under flooded conditions After alluvial soil was put into a 1/10000 are plastic pot, Azegaya seeds were sown and grown in a greenhouse. After growing for 20 days, water was added so that the water depth was 2 cm, and a suspension having a predetermined concentration of the reagent was dropped using a wettable powder prepared according to the formulation example. On the 20th day after the drug treatment, the herbicidal effect against Azegaya was investigated according to the above criteria. The results are shown in Table 5.

〔試験例7〕湛水条件におけるノビエ発生後処理による除草効果試験
1/10000アールのプラスチック製ポットに沖積土を入れた後、ノビエ種子を播種し、温室内で育成した。14日間育成した後、湛水深が4cmとなるよう水を加え、その翌日に配合例に準じて調製した水和剤を用いて、供試薬剤の所定濃度の懸濁液を滴下処理した。薬剤処理後21日目にノビエに対する除草効果を上記の判定基準に従って調査した。結果を第5表に示す。
[Test Example 7] Herbicidal effect test by treatment after generation of nobies in flooded conditions After placing alluvial soil in a 1/10000 are plastic pot, seeds of nobies were sown and grown in a greenhouse. After growing for 14 days, water was added so that the flooding depth was 4 cm, and the suspension of a predetermined concentration of the reagent was dripped using the wettable powder prepared according to the formulation example the next day. On the 21st day after the drug treatment, the herbicidal effect against nobies was investigated according to the above criteria. The results are shown in Table 5.

〔試験例8〕湛水条件におけるイヌホタルイ発生前処理による除草効果試験
1/10000アールのプラスチック製ポットに沖積土を入れた後、水を入れて混和し、4cmの湛水条件とした。そのポットにイヌホタルイ種子(秋田県本庄市産)を播種し、播種1日目に配合例に準じて調製した水和剤を用いて、供試薬剤の所定濃度の懸濁液を滴下処理した。薬剤処理後21日目にノビエに対する除草効果を上記の判定基準に従って調査した。結果を第5表に示す。

Figure 2007046440
Figure 2007046440
Figure 2007046440
[Test Example 8] Herbicidal effect test by pre-treatment of firefly firefly under submerged conditions After alluvial soil was put into a 1/10000 are plastic pot, water was added and mixed to obtain a submerged condition of 4 cm. The pot was seeded with Inuta firefly seeds (Honjo City, Akita Prefecture), and a suspension of a predetermined concentration of the reagent was dropped using a wettable powder prepared according to the formulation example on the first day of sowing. On the 21st day after the drug treatment, the herbicidal effect against nobies was investigated according to the above criteria. The results are shown in Table 5.
Figure 2007046440
Figure 2007046440
Figure 2007046440

〔試験例9〕茎葉処理による除草効果試験
1/10000アールのプラスチック製ポットに沖積土を入れた後、水を入れて混和し、4cmの湛水条件とした。そのポットにノビエ種子を播種し、さらにミズガヤツリ塊茎を置床し、温室内で育成した。14日間育成後、田面水を抜き取り、配合例に準じて調製した水和剤を所定の薬量になるように水で希釈し、茎葉部へ小型スプレーで均一に処理した。薬剤処理後21日目に両植物に対する除草効果を上記の判定基準に従って調査した。結果を第6表に示す。

Figure 2007046440
[Test Example 9] Herbicidal effect test by foliar treatment After alluvial soil was put into a 1/10000 are plastic pot, water was added and mixed to make a 4 cm flood condition. Nobies seeds were sown in the pot, and a pods were placed and grown in a greenhouse. After growing for 14 days, the surface water was extracted, and the wettable powder prepared according to the formulation example was diluted with water to a predetermined dosage, and uniformly treated with a small spray on the foliage. On the 21st day after drug treatment, the herbicidal effect on both plants was investigated according to the above criteria. The results are shown in Table 6.
Figure 2007046440

以上の結果から明らかなように、本発明組成物は、例えば、水田用の除草剤として有用である。   As is clear from the above results, the composition of the present invention is useful, for example, as a herbicide for paddy fields.

Claims (8)

式(1):
Figure 2007046440
〔式中、R1はC1-3アルキル基、C1-3ハロアルキル基、C1-3アルコキシC1-3アルキル基、フェニル基またはピリジル基を表し、
2は水素原子、C1-3アルキル基、C1-3ハロアルキル基、C1-3アルコキシ基またはハロゲン原子を表し、
3、R4、R5およびR6はそれぞれ独立して水素原子、C1-3アルキル基またはC1-3ハロアルキル基を表し、但し、R3、R4、R5およびR6のうち、少なくともひとつはC1-3アルキル基またはC1-3ハロアルキル基を表すか、又はR3とR4とが一緒になって=CHを表し、
XおよびYはそれぞれ独立してC1-3アルキル基、C1-3ハロアルキル基、C1-3アルコキシ基、C1-3ハロアルコキシ基、ハロゲン原子またはジ(C1-3アルキル)アミノ基を表し、
Zは窒素原子またはメチン基を表す。〕で表されるピラゾールスルホニルウレア化合物(A)と、
ダイムロン、ジメピペレート及びエスプロカルブの中から選ばれる少なくとも1種の化合物とを含有する除草剤組成物。
Formula (1):
Figure 2007046440
[Wherein R 1 represents a C 1-3 alkyl group, a C 1-3 haloalkyl group, a C 1-3 alkoxy C 1-3 alkyl group, a phenyl group or a pyridyl group,
R 2 represents a hydrogen atom, a C 1-3 alkyl group, a C 1-3 haloalkyl group, a C 1-3 alkoxy group or a halogen atom,
R 3 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represents a hydrogen atom, a C 1-3 alkyl group or a C 1-3 haloalkyl group, provided that R 3 , R 4 , R 5 and R 6 , At least one represents a C 1-3 alkyl group or a C 1-3 haloalkyl group, or R 3 and R 4 together represent ═CH 2 ,
X and Y are each independently a C 1-3 alkyl group, a C 1-3 haloalkyl group, a C 1-3 alkoxy group, a C 1-3 haloalkoxy group, a halogen atom or a di (C 1-3 alkyl) amino group. Represents
Z represents a nitrogen atom or a methine group. And a pyrazole sulfonylurea compound (A) represented by:
A herbicidal composition containing at least one compound selected from Daimlon, dimethylpiperate, and esprocarb.
前記化合物(A)と、ダイムロン、ジメピペレート及びエスプロカルブの中から選ばれる少なくとも1種の化合物とを含有する水稲用除草剤組成物。 A herbicide composition for paddy rice containing the compound (A) and at least one compound selected from Daimlon, dimethylpiperate, and esprocarb. 前記化合物(A)と、ダイムロン、ジメピペレート及びエスプロカルブの中から選ばれる少なくとも1種の化合物とを同時に、または時間差を設けて施用する除草方法。 A herbicidal method in which the compound (A) and at least one compound selected from Daimlon, dimethylpiperate and esprocarb are applied simultaneously or with a time difference. 前記化合物(A)と、ダイムロン、ジメピペレート及びエスプロカルブの中から選ばれる少なくとも1種の化合物とを同時に、または時間差を設けて施用する水田の除草方法。 A paddy field weeding method comprising applying the compound (A) and at least one compound selected from Daimlon, dimethylpiperate and esprocarb simultaneously or with a time difference. 前記化合物(A)と、B群(但し、B群は、ピラゾスルフロンエチル(pyrazosulfuron−ethyl/一般名)、ベンスルフロンメチル(bensulfuron−methyl/一般名)、シノスルフロン(cinosulfuron/一般名)、イマゾスルフロン(imazosulfuron/一般名)、アジムスルフロン(azimsulfuron/一般名)、ハロスルフロンメチル(halosulfuron−methyl/一般名)、シクロスルファムロン(cyclosulfamuron/一般名)、エトキシスルフロン(ethoxysulfuron/一般名)、ピラゾレート(pyrazolate/一般名)、ピラゾキシフェン(pyrazoxyfen/一般名)、ベンゾフェナップ(benzofenap/一般名)、ブロモブチド(bromobutide/一般名)、ナプロアニリド(naproanilide/一般名)、プレチラクロール(pretilachlor/一般名)、ブタクロール(butachlor/一般名)、テニルクロール(thenylchlor/一般名)、CNP(一般名)、クロメトキシニル(chlomethoxynil/一般名)、ビフェノックス(bifenox/一般名)、オキサジアゾン(oxadiazon/一般名)、オキサジアルギル(oxadiargyl/一般名)、ペントキサゾン(pentoxazone/一般名)、カフェンストロール(cafenstrole/一般名)、オキサジクロメホン(oxaziclomefone/一般名)、インダノファン(indanofan/一般名)、ピリミノバックメチル(pyriminobac−methyl/一般名)、シハロホップブチル(cyhalofop−butyl/一般名)、フェントラザミド(fentrazamide/一般名)、メフェナセット(mefenacet/一般名)、ブテナクロール(butenachlor/一般名)、ジチオピル(dithiopyl/一般名)、ベンフレセート(benfuresate/一般名)、ピリブチカルブ(pyributicarb/一般名)、ベンチオカーブ(benthiocarb/一般名)、モリネート(molinate/一般名)、ブタミフォス(butamifos/一般名)、キンクロラック(quinclorac/一般名)、シンメスリン(cinmethylin/一般名)、シメトリン(simetryn/一般名)、ベンスリド(bensulide/一般名)、ジメタメトリン(dimethametryn/一般名)、MCPA(一般名)、MCPB(一般名)、エトベンザニド(etobenzanid/一般名)、クミルロン(cumyluron/一般名)、ベンゾビシクロン(benzobicyclon/一般名)、ピリフタリド(pyriftalid/一般名),ビスピリバック(bispyribac/一般名)、ピラクロニル(pyraclonil/一般名)、アニロホス(anilofos/一般名)、OK−701(試験名)、ペノキススラム(penoxsulam/一般名)、AVH−301(試験名)、KUH−021(試験名)、TH−547(試験名)、ベンタゾン(Bentazone/一般名)、2,4−PA(一般名)、メタミホップ(一般名)、フルセトスルフロン(flucetosulfuron/一般名)、HOK−201(一般名)、メソトリオン(mesotrione/一般名)、プロパニル(propanil/一般名)、キノクラミン(quinoclamine/一般名)およびクロメプロップ(clomeprop)からなる。)から選ばれる少なくとも1種の化合物を含有することを特徴とする除草剤組成物。 The compound (A), group B (provided that group B is pyrazosulfuron-ethyl / generic name), bensulfuron methyl (bensulfuron-methyl / generic name), sinosulfuron (cynosulfuron / generic name), imazosulfuron (Imazosulfuron / generic name), azisulfuron (generic name), halosulfuron methyl (halosulfuron-methyl / generic name), cyclosulfamuron / generic name, ethoxysulfuron / generic name, ethoxysulfuron / generic name (Pyrazolate / generic name), pyrazoxifene (pyrazoxyphen / generic name), benzophenap (ben offenap / generic name), bromobutide (generic name), naproanilide (generic name / generic name), pretilachlor (general name), butachlor (general name), tenylchlor (general name), C name ), Clomethoxynil (generic name), biphenox (bifenox / generic name), oxadiazone (generic name), oxadialgyl (generic name), pentoxazone (generic name), cfentroro (c / en) Oxadichromemephone (generic name), indanophan indanofan / generic name, pyriminobac-methyl / generic name, cyhalofop-butyl / generic name, fentolazamide / genfenacet / generic name, butenachlor butenachlor / generic name), dithiopyr (dithiopyl / generic name), benfrecetate (benfuresate / generic name), pilibutycarb (pyributicarb / generic name), bencho curve (bentiocarb / generic name), molinate (molinate / genotype / butafos) (Generic name), quinchlorac (quinclorac / generic name), cinmethrin (cinmeth) ylin / generic name), cimetrin (simetryn / generic name), bensulide (bensulide / generic name), dimetamethrin (dimamemetrin / generic name), MCPA (generic name), MCPB (generic name), etobenzanid / generic name Cumyluron (cumylon / generic name), benzobicyclon (benzobicyclone / generic name), pyriftalide (pyriftalid / generic name), bispyribac (bispyribac / generic name), pyraclonil (pyraclonil / generic name), anilofos (generic name) OK-701 (test name), penox slum (penoxslam / generic name), AVH-301 (test name), KUH-021 (test name), TH-547 (test) ), Bentazone (Bentazone / generic name), 2,4-PA (generic name), metamihop (generic name), flucetosulfuron (generic name), HOK-201 (generic name), mesotrione (generic name) ), Propanil (generic name), quinoclamine (generic name) and chromeprop. A herbicide composition comprising at least one compound selected from: 前記化合物(A)と、前記B群から選ばれる少なくとも1種の化合物とを含有する水稲用除草剤組成物。 A herbicide composition for paddy rice containing the compound (A) and at least one compound selected from the group B. 前記化合物(A)と、前記B群から選ばれる少なくとも1種の化合物とを同時に、または時間差を設けて施用する除草方法。 A herbicidal method in which the compound (A) and at least one compound selected from the group B are applied simultaneously or with a time difference. 前記化合物(A)と、前記B群から選ばれる少なくとも1種の化合物とを同時に、または時間差を設けて施用する水田の除草方法。 A method for weeding paddy fields, wherein the compound (A) and at least one compound selected from the group B are applied simultaneously or with a time difference.
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