JPWO2007000798A1 - Semiconductor device - Google Patents

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Abstract

ICカードチップ1cは、ICカード機能と、メモリカード機能とを具備している。このICカードチップ1cのメモリカード機能部分を具備するセミフィニッシュドモジュール(SFM)4を用意する。このSFM4は、配線基板4cとその第1主面上に実装された2つの半導体チップ4d,4eと、これらを封止する樹脂封止体4fとを有している。半導体チップ4dには、メモリ回路が形成され、半導体チップ4eには、上記メモリ回路Mの動作を制御するインタフェースコントローラ回路が形成されている。SFM4の上面の一部には、複数の外部端子4aがSFM4の外部に露出された状態で配置されている。The IC card chip 1c has an IC card function and a memory card function. A semi-finished module (SFM) 4 having a memory card function part of the IC card chip 1c is prepared. The SFM 4 includes a wiring board 4c, two semiconductor chips 4d and 4e mounted on the first main surface, and a resin sealing body 4f for sealing them. A memory circuit is formed on the semiconductor chip 4d, and an interface controller circuit for controlling the operation of the memory circuit M is formed on the semiconductor chip 4e. A plurality of external terminals 4 a are arranged on a part of the upper surface of the SFM 4 so as to be exposed to the outside of the SFM 4.

Description

本発明は、半導体装置技術に関し、特に、ICカード等のようなカード型情報媒体に用いる半導体装置に適用して有効な技術に関するものである。   The present invention relates to a semiconductor device technology, and more particularly to a technology effective when applied to a semiconductor device used for a card type information medium such as an IC card.

ICカードやメモリカード等のようなカード型情報媒体は、小型で薄く軽量なため、携帯性、可搬性および利便性に優れ、様々な分野での普及が進められている。   Card-type information media such as IC cards and memory cards are small, thin, and light, and thus are excellent in portability, portability, and convenience, and are widely used in various fields.

ICカードは、キャッシュカードサイズのプラスチック製薄板にICチップを埋め込み、情報を記録可能にしたカード型情報媒体である。ICカードは、認証性および耐タンパー性に優れる等の理由から、例えばクレジットカード、キャッシュカード、ETC(Electronic Toll Collection system)システム用カード、定期券、携帯電話用カードまたは認証カード等、金融、交通、通信、流通および認証等の高いセキュリティ性が要求される分野での普及が進んでいる。このようなICカードについては、例えば特開2001−357376号公報(特許文献1)の図9には、枠カードの開口部にブリッジを設けてSIM(Subscriber Identify Module)型カードを固定した構成が開示されている。   An IC card is a card-type information medium in which an IC chip is embedded in a cash card-sized plastic thin plate so that information can be recorded. IC cards are excellent in authenticity and tamper resistance. For example, credit cards, cash cards, ETC (Electronic Toll Collection system) system cards, commuter passes, mobile phone cards or authentication cards, etc. In the fields where high security such as communication, distribution and authentication is required, the spread is progressing. As for such an IC card, for example, FIG. 9 of Japanese Patent Laid-Open No. 2001-357376 (Patent Document 1) has a configuration in which a SIM (Subscriber Identify Module) type card is fixed by providing a bridge at the opening of the frame card. It is disclosed.

一方、上記メモリカードは、記憶媒体としてフラッシュメモリを採用するカード型情報媒体である。メモリカードは、ICカードよりも小型で、しかも大容量の情報を高速で書き込みおよび読み出しすることが容易であるために、例えばデジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯型音楽プレーヤー、携帯電話等のような可搬性が要求される携帯型情報機器の記録メディアとして普及している。代表的なメモリカード規格には、SD(Secure Digital)メモリカード(SDカード協会で規格化された規格がある)、miniSD、MMC(Multi Media Card、Infine on TechnologiesAGの登録商標である)、RS−MMC(Reduced Size MMC)等がある。このようなメモリカードについては、例えば国際特許公開番号WO 02/099742 A1(特許文献2)に記載があり、セキュリティ性の向上を目的として、フラッシュメモリチップと、セキュリティ処理を実行可能なICカードチップと、これらチップの回路動作を制御するコントローラチップとを備えるメモリカードの構成が開示されている。
特開2001−357376号公報(図9等) 国際特許公開番号WO 02/099742 A1
On the other hand, the memory card is a card type information medium that employs a flash memory as a storage medium. Since a memory card is smaller than an IC card and can easily write and read a large amount of information at a high speed, the memory card is, for example, a digital camera, a notebook personal computer, a portable music player, a cellular phone or the like. It has become widespread as a recording medium for portable information devices that require high portability. Typical memory card standards include SD (Secure Digital) memory cards (standards standardized by the SD Card Association), miniSD, MMC (Multi Media Card, registered trademark of Infineon Technologies AG), RS- There are MMC (Reduced Size MMC). Such a memory card is described in, for example, International Patent Publication No. WO 02/099742 A1 (Patent Document 2). For the purpose of improving security, a flash memory chip and an IC card chip capable of executing security processing are described. And a configuration of a memory card including a controller chip for controlling the circuit operation of these chips.
JP 2001-357376 A (FIG. 9 etc.) International Patent Publication Number WO 02/099742 A1

ところで、本発明者は、ICカードの機能とメモリカードの機能とを融合することで、ICカードの機能の向上を図ることを検討した。その結果、ICカードの機能とメモリカードの機能とを有する機能および信頼性の高いカード型情報媒体を如何にして効率良く提供するかが重要な課題であることを見出した。   By the way, the present inventor studied to improve the function of the IC card by integrating the function of the IC card and the function of the memory card. As a result, it has been found that how to efficiently provide a card type information medium having a function having a function of an IC card and a function of a memory card and a high reliability is an important issue.

本発明の目的は、ICカードの機能とメモリカードの機能とを有する機能および信頼性の高いカード型情報媒体を効率良く提供することのできる技術を提案することにある。   An object of the present invention is to propose a technique capable of efficiently providing a card type information medium having a function having an IC card function and a memory card function and a high reliability.

本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。   The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次のとおりである。   Of the inventions disclosed in the present application, the outline of typical ones will be briefly described as follows.

本発明は、カード型情報媒体のメモリカードの機能を持つ半導体装置において、配線基板と、前記配線基板の主面に実装されたメモリカード機能を持つ半導体チップと、前記半導体チップを封止する樹脂封止体とを備え、前記配線基板の主面の一部には前記半導体チップと電気的に接続される複数の端子が配置されており、前記複数の端子の少なくとも1つの端子の一部は前記樹脂封止体の外に露出されているものである。   The present invention relates to a wiring board, a semiconductor chip having a memory card function mounted on a main surface of the wiring board, and a resin for sealing the semiconductor chip in a semiconductor device having a memory card function of a card type information medium. A plurality of terminals electrically connected to the semiconductor chip are arranged on a part of the main surface of the wiring board, and at least a part of the plurality of terminals is It is exposed outside the resin sealing body.

本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以下のとおりである。   Among the inventions disclosed in the present application, effects obtained by typical ones will be briefly described as follows.

すなわち、ICカードの機能とメモリカードの機能とを有する機能および信頼性の高いカード型情報媒体を効率良く提供することができる。   That is, it is possible to efficiently provide a card type information medium having a function having an IC card function and a memory card function and high reliability.

本発明の一実施の形態である半導体装置を有するICカードの第1主面の全体平面図である。It is a whole top view of the 1st main surface of an IC card which has a semiconductor device which is one embodiment of the present invention. 図1のICカードの第1主面の反対面の第2主面の全体平面図である。It is a whole top view of the 2nd main surface opposite to the 1st main surface of the IC card of FIG. 図1および図2のICカードの側面図である。FIG. 3 is a side view of the IC card of FIGS. 1 and 2. ICカードチップの第2主面の全体平面図である。It is a whole top view of the 2nd main surface of an IC card chip. 図4のICカードチップの内部を第1主面側から透かして見た全体平面図である。FIG. 5 is an overall plan view of the inside of the IC card chip of FIG. 4 as seen through the first main surface side. 図5のX1−X1線の断面図である。It is sectional drawing of the X1-X1 line | wire of FIG. ICカードチップの配線接続の説明図である。It is explanatory drawing of the wiring connection of an IC card chip. ICカードチップの配線基板の第1主面の全体平面図である。It is a whole top view of the 1st main surface of the wiring board of an IC card chip. ICカードチップの樹脂封止体の形成状態の変形例を示すICカードチップの第1主面の全体平面図である。It is a whole top view of the 1st main surface of the IC card chip which shows the modification of the formation state of the resin sealing body of an IC card chip. 図9のICカードチップの側面図である。FIG. 10 is a side view of the IC card chip of FIG. 9. ICカードチップの樹脂封止体の形成状態の変形例を示すICカードチップの第1主面の全体平面図である。It is a whole top view of the 1st main surface of the IC card chip which shows the modification of the formation state of the resin sealing body of an IC card chip. 図11のICカードチップの側面図である。It is a side view of the IC card chip of FIG. 図11のICカードチップを曲げている様子を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows a mode that the IC card chip of FIG. 11 is bent. ICカードチップの樹脂封止体の形成状態の変形例を示すICカードチップの第1主面の全体平面図である。It is a whole top view of the 1st main surface of the IC card chip which shows the modification of the formation state of the resin sealing body of an IC card chip. ICカードチップ内のICチップに形成されたICカードマイコン回路の一例の説明図である。It is explanatory drawing of an example of the IC card microcomputer circuit formed in the IC chip in an IC card chip. ICカードチップ内の半導体装置に形成されたインタフェースコントローラ回路の一例の説明図である。It is explanatory drawing of an example of the interface controller circuit formed in the semiconductor device in an IC card chip. 本発明の一実施の形態である半導体装置を有するICカードチップの製造工程中における配線基板形成用のテープの第1主面側の要部拡大平面図である。It is a principal part enlarged plan view by the side of the 1st main surface of the tape for wiring board formation in the manufacturing process of the IC card chip which has the semiconductor device which is one embodiment of this invention. 図17に続くICカードチップの製造工程中における配線基板形成用のテープの第1主面側の要部拡大平面図である。FIG. 18 is an enlarged plan view of a main part on the first main surface side of the tape for forming a wiring board during the manufacturing process of the IC card chip following FIG. 17. 図18に続くICカードチップの製造工程中における配線基板形成用のテープの第1主面側の要部拡大平面図である。FIG. 19 is an enlarged plan view of a main part on the first main surface side of the wiring board forming tape in the manufacturing process of the IC card chip following FIG. 18. 図19に続くICカードチップの製造工程中における配線基板形成用のテープの第1主面側の要部拡大平面図である。FIG. 20 is an enlarged plan view of the main part of the first main surface side of the wiring board forming tape in the IC card chip manufacturing process following FIG. 19; 図20に続くICカードチップの製造工程中における配線基板形成用のテープの第1主面側の要部拡大平面図である。FIG. 21 is an enlarged plan view of the main part of the first main surface side of the wiring board forming tape in the manufacturing process of the IC card chip following FIG. 20; 本発明の一実施の形態である半導体装置の全体斜視図である。1 is an overall perspective view of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention. 図22の半導体装置を上面から見た平面図である。It is the top view which looked at the semiconductor device of FIG. 22 from the upper surface. 図22の半導体装置を裏面から見た平面図である。It is the top view which looked at the semiconductor device of FIG. 22 from the back surface. 図22の半導体装置の内部を上面側から透かして見た全体平面図である。FIG. 23 is an overall plan view of the inside of the semiconductor device of FIG. 22 as seen through the top surface side. 図25のX2−X2線の断面図である。It is sectional drawing of the X2-X2 line | wire of FIG. 図25の半導体装置の要部拡大平面図である。FIG. 26 is an enlarged plan view of a main part of the semiconductor device of FIG. 25. 図27のX3−X3破線の断面図である。It is sectional drawing of the X3-X3 broken line of FIG. 図22の半導体装置の外部端子の平面図である。FIG. 23 is a plan view of an external terminal of the semiconductor device of FIG. 22. 図22の半導体装置における中継配線を用いた半導体チップ間のワイヤ接続の一例を示す斜視図である。FIG. 23 is a perspective view showing an example of wire connection between semiconductor chips using relay wiring in the semiconductor device of FIG. 22. 図22の半導体装置の半導体チップのワイヤ接続の他の例を示す斜視図である。FIG. 23 is a perspective view showing another example of wire connection of a semiconductor chip of the semiconductor device of FIG. 22. 図31の半導体装置の半導体チップのワイヤ接続例の側面図である。FIG. 32 is a side view of a wire connection example of a semiconductor chip of the semiconductor device of FIG. 31. ボンディングワイヤによるダメージの緩和対策の一例を示す半導体チップの要部断面図である。It is principal part sectional drawing of the semiconductor chip which shows an example of the mitigation countermeasure of the damage by a bonding wire. ボンディングワイヤによるダメージの緩和対策の他の例を示す半導体チップの要部断面図である。It is principal part sectional drawing of the semiconductor chip which shows the other example of the mitigation countermeasure of the damage by a bonding wire. 図27の半導体装置の半導体チップのワイヤ接続のさらに他の例を示す斜視図である。FIG. 28 is a perspective view showing still another example of wire connection of a semiconductor chip of the semiconductor device of FIG. 27. 図35の半導体装置の半導体チップのワイヤ接続例の側面図である。FIG. 36 is a side view of a wire connection example of a semiconductor chip of the semiconductor device of FIG. 35. 図22の半導体装置の製造工程中の配線基板母体の第1主面側の全体平面図である。FIG. 23 is an overall plan view of the first main surface side of the wiring board base body during the manufacturing process of the semiconductor device of FIG. 22; 図37に続く半導体装置の製造工程中の配線基板母体の第1主面側の全体平面図である。FIG. 38 is an overall plan view of the first main surface side of the wiring board mother body during the manufacturing process of the semiconductor device following FIG. 37; 図38に続く半導体装置の製造工程中の配線基板母体の断面図である。FIG. 39 is a cross-sectional view of the wiring board base body during the manufacturing process of the semiconductor device following FIG. 38; 図39に続く半導体装置の製造工程中の配線基板母体の断面図である。FIG. 40 is a cross-sectional view of the wiring board matrix during the manufacturing process of the semiconductor device following FIG. 39; 図40の段階の半導体装置の製造工程中の配線基板母体の要部拡大断面図である。FIG. 41 is an enlarged cross-sectional view of a main part of the wiring board base body in the manufacturing process of the semiconductor device at the stage of FIG. 40; 図41に続く半導体装置の製造工程である封止樹脂注入工程時における封止樹脂を流し込む方向と金型のキャビティ内の空気が外部に抜ける方向を示した配線基板母体の第1主面の全体平面図である。The entire first main surface of the wiring board base body showing the direction in which the sealing resin is poured and the direction in which the air in the cavity of the mold escapes to the outside during the sealing resin injection process, which is the manufacturing process of the semiconductor device subsequent to FIG. It is a top view. 図42の変形例を示す配線基板母体の第1主面の全体平面図である。FIG. 43 is an overall plan view of a first main surface of a wiring board base body showing a modification of FIG. 42. 図41および図42に続く半導体装置の製造工程中の配線基板母体の断面図である。FIG. 43 is a cross-sectional view of the wiring board base body during the manufacturing process of the semiconductor device following FIG. 41 and FIG. 42; 図44に続く半導体装置の製造工程中の配線基板母体の断面図である。FIG. 45 is a cross-sectional view of the wiring board base body during the manufacturing process of the semiconductor device following FIG. 44. 図45に続く半導体装置の製造工程中の配線基板母体の断面図である。FIG. 46 is a cross-sectional view of the wiring board base body during the manufacturing process of the semiconductor device following FIG. 45; 本発明の他の実施の形態である半導体装置を有するICカードチップの第2主面の全体平面図である。It is a whole top view of the 2nd main surface of an IC card chip which has a semiconductor device which is other embodiments of the present invention. 図47のICカードチップの内部を第1主面側から透かして見た全体平面図である。It is the whole top view which looked at the inside of the IC card chip of FIG. 47 through the 1st main surface side. 図48のX4−X4線の断面図である。It is sectional drawing of the X4-X4 line | wire of FIG. 本発明の他の実施の形態である半導体装置を有するICカードチップの第2主面の全体平面図である。It is a whole top view of the 2nd main surface of an IC card chip which has a semiconductor device which is other embodiments of the present invention. 図50のX5−X5線の断面図である。It is sectional drawing of the X5-X5 line | wire of FIG. 本発明の他の実施の形態である半導体装置を有するICカードチップの内部を第1主面側から透かして見た全体平面図である。It is the whole top view which looked at the inside of the IC card chip which has a semiconductor device which is other embodiments of the present invention from the 1st principal surface side. 図52のX6−X6線の断面図である。It is sectional drawing of the X6-X6 line | wire of FIG. ICカードチップの厚さの説明図である。It is explanatory drawing of the thickness of an IC card chip. 図52のICカードチップの厚さの説明図である。FIG. 53 is an explanatory diagram of the thickness of the IC card chip of FIG. 52. 本発明の他の実施の形態である半導体装置の全体斜視図である。It is a whole perspective view of the semiconductor device which is other embodiments of the present invention. 図56の半導体装置を上面から見た平面図である。FIG. 57 is a plan view of the semiconductor device of FIG. 56 viewed from above. 図56の半導体装置を裏面から見た平面図である。FIG. 57 is a plan view of the semiconductor device of FIG. 56 viewed from the back side. 図56の半導体装置の内部を上面側から透かして見た全体平面図である。FIG. 57 is an overall plan view of the inside of the semiconductor device of FIG. 56 as seen through the top surface side. 図59の半導体チップを取り除いた状態で図59の半導体装置の内部を上面側から透かして見た全体平面図である。FIG. 60 is an overall plan view of the inside of the semiconductor device of FIG. 59 viewed from the top side with the semiconductor chip of FIG. 59 removed; 図59の半導体装置の要部拡大平面図である。FIG. 60 is an enlarged plan view of a main part of the semiconductor device of FIG. 59. 図61のX7−X7破線の断面図である。It is sectional drawing of the X7-X7 broken line of FIG. 本発明の他の実施の形態である半導体装置を有するICカードチップの内部を第1主面側から透かして見た全体平面図である。It is the whole top view which looked at the inside of the IC card chip which has a semiconductor device which is other embodiments of the present invention from the 1st principal surface side. 図63のICカードチップの配線基板の第1主面におけるICチップ用の配線の経路を示す全体平面図である。FIG. 64 is an overall plan view showing a route of IC chip wiring on the first main surface of the wiring board of the IC card chip of FIG. 63; 本発明の他の実施の形態である半導体装置を有するICカードチップの内部を第1主面側から透かして見た全体平面図である。It is the whole top view which looked at the inside of the IC card chip which has a semiconductor device which is other embodiments of the present invention from the 1st principal surface side. 図65の半導体装置の全体平面図である。FIG. 66 is an overall plan view of the semiconductor device of FIG. 65. 本発明の他の実施の形態である半導体装置の全体斜視図である。It is a whole perspective view of the semiconductor device which is other embodiments of the present invention. 図67の半導体装置の裏面の一例の全体平面図である。FIG. 68 is an overall plan view of an example of the back surface of the semiconductor device of FIG. 67. 図67の半導体装置の裏面の他の例の全体平面図である。FIG. 68 is an overall plan view of another example of the back surface of the semiconductor device of FIG. 67; 図67の半導体装置の内部を上面側から透かして見た一例の全体平面図である。FIG. 68 is an overall plan view of an example when the inside of the semiconductor device of FIG. 67 is viewed through the top surface side; 図70の半導体装置の要部拡大平面図である。FIG. 71 is an enlarged plan view of a main part of the semiconductor device of FIG. 70. 図71のX8−X8破線の断面図である。It is sectional drawing of the X8-X8 broken line of FIG. 図67の半導体装置の内部を上面側から透かして見た他の例の全体平面図である。FIG. 68 is an overall plan view of another example in which the inside of the semiconductor device of FIG. 67 is viewed through the top surface side. 図73の半導体装置の要部拡大平面図である。FIG. 74 is an essential part enlarged plan view of the semiconductor device of FIG. 73; 図74のX9−X9破線の断面図である。FIG. 75 is a cross sectional view taken along broken line X9-X9 in FIG. 74. 図67の半導体装置を有するICカードチップの内部を第1主面側から透かして見た全体平面図である。FIG. 68 is an overall plan view of the inside of an IC card chip having the semiconductor device of FIG. 67 viewed through the first main surface side. 図76のX10−X10線の断面図である。FIG. 77 is a cross-sectional view taken along line X10-X10 in FIG. 76. 図67の半導体装置の実装状態の一例の断面図である。FIG. 68 is a cross-sectional view of an example of a mounted state of the semiconductor device of FIG. 67. 図67の半導体装置の実装状態の他の例の断面図である。FIG. 68 is a cross-sectional view of another example of the mounting state of the semiconductor device of FIG. 67; 図67の半導体装置の実装状態のさらに他の例の断面図である。FIG. 68 is a cross-sectional view of still another example of the mounted state of the semiconductor device of FIG. 67. 本発明の他の実施の形態である半導体装置を有するICカードチップの内部を第1主面側から透かして見た全体平面図である。It is the whole top view which looked at the inside of the IC card chip which has a semiconductor device which is other embodiments of the present invention from the 1st principal surface side. 図81のX11−X11線の断面図である。It is sectional drawing of the X11-X11 line | wire of FIG. 図81および図82のICカードチップの配線基板の第2主面にソルダーレジストを設けた場合における図81のX11−X11線の断面図である。83 is a cross-sectional view taken along line X11-X11 in FIG. 81 when a solder resist is provided on the second main surface of the wiring board of the IC card chip in FIGS. 81 and 82. FIG. 本発明の他の実施の形態である半導体装置を有するICカードチップの製造工程中における配線基板形成用のテープの第1主面側の要部拡大平面図である。It is a principal part enlarged plan view by the side of the 1st main surface of the tape for wiring board formation in the manufacturing process of the IC card chip which has the semiconductor device which is other embodiment of this invention. 図84に続くICカードチップの製造工程中における配線基板形成用のテープの第1主面側の要部拡大平面図である。FIG. 85 is an essential part enlarged plan view of the first main surface side of the wiring board forming tape in the IC card chip manufacturing process following FIG. 84; 図85に続くICカードチップの製造工程中における配線基板形成用のテープの第1主面側の要部拡大平面図である。FIG. 85 is an essential part enlarged plan view of the first main surface side of the wiring board forming tape in the IC card chip manufacturing process following FIG. 85; 図86に続くICカードチップの製造工程中における配線基板形成用のテープの第1主面側の要部拡大平面図である。FIG. 89 is an essential part enlarged plan view of the first main surface side of the wiring board forming tape in the IC card chip manufacturing process following FIG. 86; 図87に続くICカードチップの製造工程中における配線基板形成用のテープの第1主面側の要部拡大平面図である。FIG. 89 is an essential part enlarged plan view of the first main surface side of the wiring board forming tape in the manufacturing process of the IC card chip following FIG. 87; 図88に続くICカードチップの製造工程中における配線基板形成用のテープの第1主面側の要部拡大平面図である。FIG. 89 is an essential part enlarged plan view of the first main surface side of the tape for forming a wiring board in the IC card chip manufacturing process following FIG. 88; 実装前の半導体装置の断面図である。It is sectional drawing of the semiconductor device before mounting. 実装後の半導体装置の断面図である。It is sectional drawing of the semiconductor device after mounting. 本発明の他の実施の形態である半導体装置を有するICカードチップの内部を第1主面側から透かして見た全体平面図である。It is the whole top view which looked at the inside of the IC card chip which has a semiconductor device which is other embodiments of the present invention from the 1st principal surface side. 図92の半導体装置の全体平面図である。FIG. 93 is an overall plan view of the semiconductor device of FIG. 92.

以下の実施の形態においては便宜上その必要があるときは、複数のセクションまたは実施の形態に分割して説明するが、特に明示した場合を除き、それらはお互いに無関係なものではなく、一方は他方の一部または全部の変形例、詳細、補足説明等の関係にある。また、以下の実施の形態において、要素の数等(個数、数値、量、範囲等を含む)に言及する場合、特に明示した場合および原理的に明らかに特定の数に限定される場合等を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも良い。さらに、以下の実施の形態において、その構成要素(要素ステップ等も含む)は、特に明示した場合および原理的に明らかに必須であると考えられる場合等を除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。同様に、以下の実施の形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合および原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似または類似するもの等を含むものとする。このことは、上記数値および範囲についても同様である。また、本実施の形態を説明するための全図において同一機能を有するものは同一の符号を付すようにし、その繰り返しの説明は可能な限り省略するようにしている。以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。   In the following embodiments, when it is necessary for the sake of convenience, the description will be divided into a plurality of sections or embodiments. However, unless otherwise specified, they are not irrelevant to each other. There are some or all of the modifications, details, supplementary explanations, and the like. Further, in the following embodiments, when referring to the number of elements (including the number, numerical value, quantity, range, etc.), especially when clearly indicated and when clearly limited to a specific number in principle, etc. Except, it is not limited to the specific number, and may be more or less than the specific number. Further, in the following embodiments, the constituent elements (including element steps and the like) are not necessarily indispensable unless otherwise specified and apparently essential in principle. Needless to say. Similarly, in the following embodiments, when referring to the shapes, positional relationships, etc. of the components, etc., the shapes are substantially the same unless otherwise specified, or otherwise apparent in principle. And the like are included. The same applies to the above numerical values and ranges. Also, components having the same function are denoted by the same reference symbols throughout the drawings for describing the embodiments, and the repetitive description thereof is omitted as much as possible. Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

(実施の形態1)
図1は本実施の形態1の半導体装置を有するIC(Integrated Circuit)カード1の第1主面の全体平面図、図2は図1のICカード1の第1主面の反対面の第2主面の全体平面図、図3は図1および図2のICカード1の側面図を示している。なお、符号Xは第1方向(ICカード1の長手方向)を示し、符号Yは第1方向に直交する第2方向(ICカード1の幅方向)を示している。
(Embodiment 1)
FIG. 1 is an overall plan view of a first main surface of an IC (Integrated Circuit) card 1 having the semiconductor device of the first embodiment, and FIG. 2 is a second surface opposite to the first main surface of the IC card 1 of FIG. FIG. 3 shows a side view of the IC card 1 of FIGS. 1 and 2. In addition, the code | symbol X shows the 1st direction (longitudinal direction of the IC card 1), and the code | symbol Y has shown the 2nd direction (width direction of the IC card 1) orthogonal to a 1st direction.

ICカード1は、例えばSIM(Subscriber Identity Module)カードまたはUIM(User Identity Module)カードと称する加入者識別モジュール(カード型情報媒体)である。ICカード1の外形は、例えば長方形状に形成されており、その外形寸法は、例えば85.6mm×54mm×0.76mm程度である。   The IC card 1 is a subscriber identity module (card type information medium) called, for example, a SIM (Subscriber Identity Module) card or a UIM (User Identity Module) card. The external shape of the IC card 1 is formed in, for example, a rectangular shape, and the external size is, for example, about 85.6 mm × 54 mm × 0.76 mm.

このICカード1の外形を形成する枠体部1aは、例えばポリ塩化ビニル(PVC)、ポリカーボネート、ポリオレフィン(ポリプロピレン等)、ポリエチレンテレフタレート(poly ethylene terephthalate:PET)、ポリエチレンテレフタレート・グリコール(PET−G)またはABS(アクリルニトリル・ブタジエン・スチレン樹脂)等のようなプラスチックにより形成されている。   For example, polyvinyl chloride (PVC), polycarbonate, polyolefin (polypropylene, etc.), polyethylene terephthalate (polyethylene terephthalate: PET), polyethylene terephthalate glycol (PET-G). Alternatively, it is made of a plastic such as ABS (acrylonitrile / butadiene / styrene resin).

このICカード1の枠体部1aの中央から角部側に離れた位置には、第1主面および第2主面間を貫通する開口部1bが形成されており、その開口部1bには、ICカードチップ(ICカード本体)1cが支持部1dにより枠体部1aに接合され支えられた状態で収まり良く嵌め込まれている。   An opening 1b penetrating between the first main surface and the second main surface is formed at a position away from the center of the frame body portion 1a of the IC card 1 to the corner portion side. The IC card chip (IC card main body) 1c is fitted and well fitted in a state of being supported by being joined to and supported by the frame body portion 1a by the support portion 1d.

このICカードチップ(以下、カードチップという)1cは、セキュリティ処理を実行可能な、いわゆるICカードとしての機能と、ICカードよりも大容量で高い機能を持つ、いわゆるメモリカードとしての機能とを合わせ持つ機能性の高い加入者識別モジュールである。すなわち、カードチップ1cは、例えば電話番号や電話帳のような情報が記憶された携帯電話用カードとして使用できる。また、カードチップ1cは、例えばクレジットカード、キャッシュカード、ETC(Electronic Toll Collection system)システム用カード、定期券または認証カード等、金融、交通、通信、流通および認証等のように、高いセキュリティ性が要求される様々な分野で使用できる。その上、カードチップ1cは、デジタルカメラ、ノート型パーソナルコンピュータ、携帯型音楽プレーヤー、携帯電話等のような可搬性が要求される携帯型情報機器の記録メディアとしても使用可能な構成になっている。   This IC card chip (hereinafter referred to as a card chip) 1c combines a function as a so-called IC card capable of executing security processing and a function as a so-called memory card having a larger capacity and a higher function than the IC card. This is a highly functional subscriber identification module. That is, the card chip 1c can be used as a mobile phone card in which information such as a telephone number and a telephone directory is stored. The card chip 1c has high security such as a credit card, a cash card, an ETC (Electronic Toll Collection system) system card, a commuter pass or an authentication card, such as finance, transportation, communication, distribution and authentication. Can be used in various required fields. In addition, the card chip 1c can be used as a recording medium for portable information devices such as a digital camera, a notebook personal computer, a portable music player, and a mobile phone that require portability. .

カードチップ1cの外形は、SIMカードやUIMカードの外形規格に準拠して、例えば略長方状に形成されており、その前面側の一方の角部はインデックス用に大きく面取されている。カードチップ1cの外形寸法は、例えば21.4mm×12.3mm×0.76mm程度である。カードチップ1cの第2主面には、ICカード機能用のISO準拠の8個の外部接続端子CAと、それ以外のメモリカード機能用の複数の外部接続端子CBとが露出された状態で配置されている。ICカード機能用の外部接続端子CAのうちの外部接続端子CA1は、高電位側の回路電圧(Vcc)供給用端子、外部接続端子CA2は、リセット信号端子、外部接続端子CA3は、クロック信号端子、外部接続端子CA4は、将来利用可能なリザーブ端子である。また、外部接続端子CA5は、基準電位(GND)供給用端子、外部接続端子CA6は、プログラム(書き込み)供給用端子、外部接続端子CA7は、データ入出力信号I/O端子、外部接続端子CA8は、将来利用可能なリザーブ端子である。なお、カードチップ1cはカッターナイフ等のような簡単な切断工具や人手によって支持部1dを切断することで切り出せるようになっている。   The outer shape of the card chip 1c is formed in, for example, a substantially rectangular shape in conformity with the outer shape standard of a SIM card or UIM card, and one corner on the front side thereof is greatly chamfered for an index. The external dimensions of the card chip 1c are, for example, about 21.4 mm × 12.3 mm × 0.76 mm. On the second main surface of the card chip 1c, eight ISO connection external CA terminals for IC card functions and a plurality of external connection terminals CB for other memory card functions are exposed. Has been. Of the external connection terminals CA for IC card function, the external connection terminal CA1 is a terminal for supplying a high potential side circuit voltage (Vcc), the external connection terminal CA2 is a reset signal terminal, and the external connection terminal CA3 is a clock signal terminal. The external connection terminal CA4 is a reserve terminal that can be used in the future. The external connection terminal CA5 is a reference potential (GND) supply terminal, the external connection terminal CA6 is a program (write) supply terminal, the external connection terminal CA7 is a data input / output signal I / O terminal, and an external connection terminal CA8. Is a reserve terminal that can be used in the future. The card chip 1c can be cut out by cutting the support portion 1d with a simple cutting tool such as a cutter knife or manually.

次に、図4は上記カードチップ1cの第2主面の全体平面図、図5は図4のカードチップ1cの内部を第1主面側から透かして見た全体平面図、図6は図5のX1−X1線の断面図、図7はカードチップ1cの配線接続の説明図、図8はカードチップ1cの配線基板2の第1主面の全体平面図をそれぞれ示している。   4 is an overall plan view of the second main surface of the card chip 1c, FIG. 5 is an overall plan view of the inside of the card chip 1c of FIG. 4 as seen through the first main surface side, and FIG. 5 is a sectional view taken along line X1-X1, FIG. 7 is an explanatory diagram of wiring connection of the card chip 1c, and FIG. 8 is an overall plan view of the first main surface of the wiring board 2 of the card chip 1c.

カードチップ1cの配線基板2は、例えば多層(2層)配線構成を有するテープ基板またはプリント配線基板等からなり、その厚さ方向に沿って互いに反対側になる第1主面と第2主面とを有している。配線基板2の絶縁基材2aは、例えばガラスエポキシ樹脂またはポリイミド樹脂により形成されている。また、配線基板2の配線L1,L2、ダイパッドDPおよび上記外部接続端子CA,CBは、例えば銅(Cu)からなり、その露出表面には、例えばニッケル(Ni)下地メッキおよび金(Au)メッキが施されている。また、配線基板2の第1主面上には、ソルダレジストSR1が配線L1,L2を覆うように形成されている。ソルダレジストSR1の一部には、配線L1,L2の一部が露出される開口部が形成されており、その開口部から露出する配線L1,L2部分が電極(接続領域)になっている。この配線基板2の第1主面の配線L1,L2と第2主面の外部接続端子CA,CBとは、絶縁基材2aの第1、第2主面間を貫通するスルーホールTH1内の導体部(例えば銅)を通じて電気的に接続されている。   The wiring board 2 of the card chip 1c is composed of, for example, a tape board or a printed wiring board having a multilayer (two-layer) wiring configuration, and the first main surface and the second main surface that are opposite to each other along the thickness direction. And have. The insulating base material 2a of the wiring board 2 is made of, for example, glass epoxy resin or polyimide resin. Further, the wirings L1 and L2, the die pad DP and the external connection terminals CA and CB of the wiring board 2 are made of, for example, copper (Cu), and the exposed surface thereof has, for example, nickel (Ni) base plating and gold (Au) plating. Is given. A solder resist SR1 is formed on the first main surface of the wiring board 2 so as to cover the wirings L1 and L2. Part of the solder resist SR1 is formed with an opening from which a part of the wirings L1, L2 is exposed, and the part of the wiring L1, L2 exposed from the opening serves as an electrode (connection region). The wirings L1 and L2 on the first main surface of the wiring board 2 and the external connection terminals CA and CB on the second main surface are in the through hole TH1 penetrating between the first and second main surfaces of the insulating base 2a. It is electrically connected through a conductor (for example, copper).

このような配線基板2の第1主面には、ICチップ3と、セミフィニッシュドモジュール(Semi Finished Module:以下、SFMという)4とが実装されている。   An IC chip 3 and a semi-finished module (hereinafter referred to as “SFM”) 4 are mounted on the first main surface of the wiring board 2.

ICチップ3は、例えばシリコン(Si)単結晶を基板とする半導体チップからなり、その主面を上に向けた状態で上記ダイパッドDP上に実装されている。ICチップ3は、上記外部接続端子CAが配置された端部側寄りに配置されている。このICチップ3は、このICチップ3の主面には、例えばICカードマイコン回路が形成されている。このICカードマイコン回路は、セキュリティコントローラとしての機能を有する回路であり、例えば電子決済サービスなどに利用可能なISO/IEC15408の評価・認証機関による認証済み機能を実現している。このICチップ3の主面の複数のボンディングパッド(外部端子、以下、パッドという)は、ボンディングワイヤ(以下、ワイヤという)W1を通じて配線基板2の第1主面の配線L1の上記電極に電気的に接続されている。ワイヤW1は、例えば金(Au)等により形成されている。ワイヤW1の第1ボンディングは、ICチップ3のパッド側で行われ、第2ボンディングは、配線基板2の電極側で行われている。下地に与える衝撃が大きな第2ボンディングを配線基板2側で行うことにより、ICチップ3のワイヤW1による損傷を防止することができるので、カードチップ1Cの歩留まりや信頼性を向上させることができる。   The IC chip 3 is made of a semiconductor chip having, for example, a silicon (Si) single crystal as a substrate, and is mounted on the die pad DP with its main surface facing upward. The IC chip 3 is disposed closer to the end side where the external connection terminal CA is disposed. For example, an IC card microcomputer circuit is formed on the main surface of the IC chip 3. This IC card microcomputer circuit is a circuit having a function as a security controller, and realizes an authenticated function by an evaluation / certification organization of ISO / IEC15408 that can be used for an electronic payment service, for example. A plurality of bonding pads (external terminals, hereinafter referred to as pads) on the main surface of the IC chip 3 are electrically connected to the electrodes of the wiring L1 on the first main surface of the wiring board 2 through bonding wires (hereinafter referred to as wires) W1. It is connected to the. The wire W1 is made of, for example, gold (Au). The first bonding of the wire W1 is performed on the pad side of the IC chip 3, and the second bonding is performed on the electrode side of the wiring board 2. By performing the second bonding with a large impact on the base on the wiring substrate 2 side, damage to the IC chip 3 due to the wire W1 can be prevented, so that the yield and reliability of the card chip 1C can be improved.

上記SFM4は、メモリカード回路が形成されたモジュールである。SFM4の上面の一部には、複数の外部端子4aがSFM4の外部に露出された状態で配置されている。SFM4は、上記複数の外部端子4aを上に向けた状態で、接着剤5によって配線基板2の第1主面上に固定されている。SFM4は、上記外部接続端子CBの配置領域側、すなわち、配線基板2のインデックス用の大きな面取部が形成された端部側寄りに配置されている。また、SFM4は、上記複数の外部端子4aの配置領域がICチップ3の配置側を向くように配置されている。このSFM4の上記複数の外部端子4aは、ワイヤW2を通じて配線基板2の第1主面の配線L2の上記電極に電気的に接続されている。ワイヤW2の第1ボンディングは、配線基板2の電極側で行われ、第2ボンディングは、SFM4の外部端子4a側で行われている(リバースボンディング)。図7に示すように、ワイヤW2の第1ボンディングをSFM4の外部端子4aで行い、第2ボンディングを配線基板2の電極で行うこともできるが、SFM4の外部端子4aと配線基板2の電極との距離が近いので、破線Aで示すように、ワイヤW2がSFM5の一部に接触し(エリアタッチ)、配線断線不良や配線短絡不良等が生じる場合がある。これに対して、ワイヤW2の第1ボンディングを配線基板2の電極側で行い、第2ボンディングをSFM4の外部端子4a側で行う場合、ワイヤW2のループをSFM4から遠ざかるように形成できるので、SFM4の外部端子4aと配線基板2の電極との距離が近くても、エリアタッチを生じることなくワイヤボンディングできる。また、ワイヤW2の第2ボンディングは第1ボンディングに比べると下地に与える衝撃が大きいが、SFM4の外部端子4aはICチップ3のパッドに比べると衝撃に強いので特に問題にならない。なお、SFM4の詳細な説明は後述する。   The SFM 4 is a module in which a memory card circuit is formed. A plurality of external terminals 4 a are arranged on a part of the upper surface of the SFM 4 so as to be exposed to the outside of the SFM 4. The SFM 4 is fixed on the first main surface of the wiring board 2 by the adhesive 5 with the plurality of external terminals 4a facing upward. The SFM 4 is arranged on the side where the external connection terminal CB is arranged, that is, on the end side where the large chamfered portion for the index of the wiring board 2 is formed. The SFM 4 is arranged such that the arrangement area of the plurality of external terminals 4 a faces the arrangement side of the IC chip 3. The plurality of external terminals 4a of the SFM 4 are electrically connected to the electrodes of the wiring L2 on the first main surface of the wiring board 2 through the wires W2. The first bonding of the wire W2 is performed on the electrode side of the wiring board 2, and the second bonding is performed on the external terminal 4a side of the SFM 4 (reverse bonding). As shown in FIG. 7, the first bonding of the wire W2 can be performed by the external terminal 4a of the SFM 4 and the second bonding can be performed by the electrode of the wiring board 2, but the external terminal 4a of the SFM 4 and the electrode of the wiring board 2 Therefore, as shown by the broken line A, the wire W2 may come into contact with a part of the SFM 5 (area touch), and a wiring disconnection failure or a wiring short-circuit failure may occur. On the other hand, when the first bonding of the wire W2 is performed on the electrode side of the wiring substrate 2 and the second bonding is performed on the external terminal 4a side of the SFM 4, the loop of the wire W2 can be formed so as to be away from the SFM 4. Even if the distance between the external terminal 4a and the electrode of the wiring board 2 is short, wire bonding can be performed without causing area touch. Further, the second bonding of the wire W2 has a greater impact on the ground than the first bonding, but the external terminal 4a of the SFM 4 is more resistant to impact than the pad of the IC chip 3, so that there is no particular problem. A detailed description of the SFM 4 will be given later.

ここで、カードチップ1cは、その第1、第2主面に対して交差する方向に曲げながら外部処理装置のソケットに挿入したり、そのソケットから抜き出したりする場合がある。その場合に、配線基板2の第1主面の中央に、ICカード機能とメモリカード機能とを持つモジュールまたは半導体チップを配置してしまうとカードチップ1cの曲げに対して不利になる。これに対して、本実施の形態1では、ICカード機能用のICチップ3と、メモリカード機能用のSFM4とに分けて配置することにより、ICチップ3と、SFM4との間に曲げに対して有利な領域を確保することができる。   Here, the card chip 1c may be inserted into or removed from the socket of the external processing device while being bent in a direction intersecting the first and second main surfaces. In that case, if a module or a semiconductor chip having an IC card function and a memory card function is arranged in the center of the first main surface of the wiring board 2, it is disadvantageous for the bending of the card chip 1c. On the other hand, in the first embodiment, the IC chip 3 for the IC card function and the SFM 4 for the memory card function are separately arranged so that the bending between the IC chip 3 and the SFM 4 is prevented. Advantageous area can be secured.

上記ICチップ3、ワイヤW1および電極等は、例えばエポキシ系のポッティング樹脂や紫外線(UV)硬化樹脂等のような樹脂封止体6により封止されている。これにより、ICチップ3及びワイヤW1を含む接続部での信頼性を確保できる。また、本実施の形態1では、その樹脂封止体6の一部により、上記SFM4の外部端子4a、ワイヤW2および電極等も封止されている。これにより、SFM4のワイヤW2を含む接続部分での信頼性を向上させることができるとともに、SFM4の固定状態を強化させることもできる。図9は樹脂封止体6の形成状態の変形例を示すカードチップ1cの第1主面の全体平面図、図10は図9のカードチップ1cの側面図をそれぞれ示している。この図9および図10に示すように、SFM4の全周の側面下部に樹脂封止体6を設けても良い。これにより、SFM4の固定状態をさらに強化させることができる。   The IC chip 3, the wire W1, the electrode, and the like are sealed with a resin sealing body 6 such as an epoxy-based potting resin or an ultraviolet (UV) curable resin. Thereby, the reliability in the connection part including the IC chip 3 and the wire W1 can be ensured. Moreover, in this Embodiment 1, the external terminal 4a of the said SFM4, the wire W2, an electrode, etc. are sealed by a part of the resin sealing body 6. FIG. As a result, the reliability of the connection portion including the wire W2 of the SFM 4 can be improved, and the fixed state of the SFM 4 can be strengthened. FIG. 9 is an overall plan view of the first main surface of the card chip 1c showing a modification of the formation state of the resin sealing body 6, and FIG. 10 is a side view of the card chip 1c of FIG. As shown in FIGS. 9 and 10, a resin sealing body 6 may be provided at the lower part of the side surface of the entire circumference of the SFM 4. Thereby, the fixed state of SFM4 can further be strengthened.

また、上記のようにカードチップ1cを曲げる場合があることを考慮すると、樹脂封止体6は、例えばシリコーンゲル等のように機械的な力に対して弾性能力の高いプラスチック材料により形成することが好ましい。これにより、カードチップ1cを曲げたときに樹脂封止体6に割れや亀裂が生じるのを抑制または防止できる。また、カードチップ1cの曲げを考慮して、図6および図8に示すように、ICチップ3とSFM4との間の樹脂封止体6部分を平面的にも断面的にも他の部分よりも窪ませても良い。図11は脂封止体6の形成状態の変形例を示すカードチップ1cの第1主面の全体平面図、図12は図11のカードチップ1cの側面図、図13は図11のカードチップ1cを曲げている様子を示している。この図11および図12に示すように、樹脂封止体6をICチップ3とSFM4とで完全に分離しても良い。これにより、図11の破線で示すように、ICチップ3とSFM4との間に曲げに有利な領域Bを確保できるので、図13に示すようなカードチップ1cの曲げに対して有利な構造にすることができる。また、図14は樹脂封止体6の形成状態の変形例を示すカードチップ1cの第1主面の全体平面図を示している。樹脂封止体6をICチップ3側とSFM4側とで完全に分離するために、図14に示すように、SFM4の配置を、図8等で示したものに対して180度反転させても良い。すなわち、SFM4は、その複数の外部端子4aが、配線基板2のインデックス用の大きな面取部が形成された端部側を向くように配置されている。これにより、樹脂封止体6をICチップ3側とSFM4側とで完全に分離することができ、図14の破線で示すように、ICチップ3とSFM4との間に曲げに有利な領域Bを確保できるので、カードチップ1cの曲げに対して有利な構造にすることができる。ここで、樹脂封止体6をICチップ3側とSFM4側とで完全に分離した場合、例えばICチップ3側の樹脂封止体6は耐腐食性等のような信頼性の確保を目的とした材料で形成され、SFM4側の樹脂封止体6はSFM4の接着強度の確保を目的とした材料で形成する等、ICチップ3側の樹脂封止体6と、SFM4側の樹脂封止体6とをそれぞれ材料や成分を変えるようにしても良い。   Further, considering that the card chip 1c may be bent as described above, the resin sealing body 6 is formed of a plastic material having a high elastic ability with respect to a mechanical force such as a silicone gel. Is preferred. Thereby, it is possible to suppress or prevent the resin sealing body 6 from being cracked or cracked when the card chip 1c is bent. In consideration of the bending of the card chip 1c, as shown in FIGS. 6 and 8, the resin sealing body 6 part between the IC chip 3 and the SFM 4 is planarly and cross-sectionally more than other parts. Can also be recessed. FIG. 11 is an overall plan view of the first main surface of the card chip 1c showing a modification of the formation state of the grease sealing body 6, FIG. 12 is a side view of the card chip 1c of FIG. 11, and FIG. It shows how 1c is bent. As shown in FIGS. 11 and 12, the resin sealing body 6 may be completely separated by the IC chip 3 and the SFM 4. As a result, as shown by a broken line in FIG. 11, a region B that is advantageous for bending can be secured between the IC chip 3 and the SFM 4, so that the structure advantageous for bending the card chip 1c as shown in FIG. can do. FIG. 14 is an overall plan view of the first main surface of the card chip 1c showing a modification of the formation state of the resin sealing body 6. In order to completely separate the resin sealing body 6 between the IC chip 3 side and the SFM 4 side, as shown in FIG. 14, the SFM 4 arrangement may be reversed 180 degrees with respect to that shown in FIG. good. That is, the SFM 4 is arranged such that the plurality of external terminals 4a face the end side where the large chamfered portion for the index of the wiring board 2 is formed. Thereby, the resin sealing body 6 can be completely separated between the IC chip 3 side and the SFM 4 side, and as shown by a broken line in FIG. 14, a region B advantageous for bending between the IC chip 3 and the SFM 4. Therefore, it is possible to make the structure advantageous for bending the card chip 1c. Here, when the resin sealing body 6 is completely separated on the IC chip 3 side and the SFM 4 side, for example, the resin sealing body 6 on the IC chip 3 side is intended to ensure reliability such as corrosion resistance. The resin sealing body 6 on the IC chip 3 side and the resin sealing body on the SFM 4 side are formed, for example, by forming the resin sealing body 6 on the SFM 4 side with a material intended to ensure the adhesive strength of the SFM 4. 6 and 6 may be changed in materials and components.

このような配線基板2の第1主面側には、図6および図13に示すように、上記ICチップ3およびSFM4等を覆うようにキャップ7が被さっている。キャップ7は、上記ICカード1の枠体部1a等と同一の材料により形成されている。キャップ7と配線基板2とはそれらの間に充填された接着剤8によりしっかりと接合されている。   As shown in FIGS. 6 and 13, the first main surface side of the wiring board 2 is covered with a cap 7 so as to cover the IC chip 3 and the SFM 4. The cap 7 is made of the same material as the frame body 1a of the IC card 1 and the like. The cap 7 and the wiring board 2 are firmly joined by an adhesive 8 filled between them.

次に、図15は、上記ICチップ3に形成されたICカードマイコン回路の一例を示している。ICカードマイコン回路10は、CPU(Central Processing Unit)10a、ワークRAM(Random Access Memory)としてのRAM10b、タイマ10c、EEPROM(Electrically Erasable Programmable Read Only Memory)10d、コプロセッサユニット10e、マスクROM10f、システムコントロールロジック10g、入出力ポート(I/Oポート)10h、データバス10i、アドレスバス10jおよびその他の演算回路等のような集積回路を有している。   Next, FIG. 15 shows an example of an IC card microcomputer circuit formed on the IC chip 3. The IC card microcomputer circuit 10 includes a CPU (Central Processing Unit) 10a, a RAM 10b as a work RAM (Random Access Memory), a timer 10c, an EEPROM (Electrically Erasable Programmable Read Only Memory) 10d, a coprocessor unit 10e, a mask ROM 10f, a system control. It has an integrated circuit such as a logic 10g, an input / output port (I / O port) 10h, a data bus 10i, an address bus 10j, and other arithmetic circuits.

上記マスクROM10fはCPU10aの動作プログラム(暗号化プログラム、復号プログラム、インタフェース制御プログラム等)およびデータを格納するのに利用される。上記RAM10bはCPU10aのワーク領域またはデータの一時記憶領域とされ、例えばSRAM若しくはDRAMからなる。I/Oポート10hにICカードコマンドが供給されると、システムコントロールロジック10gがこれをデコードし、当該コマンドの実行に必要な処理プログラムをCPU10aに実行させる。すなわち、CPU10aは、システムコントロールロジック10gから指示されるアドレスでマスクROM10fをアクセスして命令をフェッチし、フェッチした命令をデコードし、デコード結果に基づいてオペランドフェッチやデータ演算を行う。上記コプロセッサユニット10eはCPU10aの制御に従ってRSAや楕円曲線暗号演算における剰余演算処理などを行う。   The mask ROM 10f is used to store an operation program (encryption program, decryption program, interface control program, etc.) and data of the CPU 10a. The RAM 10b is a work area or a temporary data storage area of the CPU 10a, and is composed of, for example, SRAM or DRAM. When an IC card command is supplied to the I / O port 10h, the system control logic 10g decodes it and causes the CPU 10a to execute a processing program necessary for executing the command. That is, the CPU 10a accesses the mask ROM 10f with an address instructed by the system control logic 10g, fetches an instruction, decodes the fetched instruction, and performs operand fetch and data operation based on the decoding result. The coprocessor unit 10e performs a remainder calculation process in RSA or elliptic curve cryptographic calculation according to the control of the CPU 10a.

I/Oポート10hは1ビットの入出力端子I/Oを有し、データの入出力と外部割り込み信号の入力に兼用される。I/Oポート10hはデータバス10iに結合され、データバス10iには前記CPU10a、RAM10b、タイマ10c、EEPROM10dおよびコプロセッサユニット10e等が電気的に接続される。   The I / O port 10h has a 1-bit input / output terminal I / O, and is used both for data input / output and external interrupt signal input. The I / O port 10h is coupled to a data bus 10i, and the CPU 10a, RAM 10b, timer 10c, EEPROM 10d, coprocessor unit 10e, and the like are electrically connected to the data bus 10i.

システムコントロールロジック10gはICカードマイコン回路10の動作モードの制御および割り込み制御を行い、更に暗号鍵の生成に利用する乱数発生ロジック等を有する。ICカードマイコン回路10はリセット信号/RESによってリセット動作が指示されると、内部が初期化され、CPU10aはEEPROM10dのプログラムの先頭番地から命令実行を開始する。ICカードマイコン回路10はクロック信号CLKに同期して動作する。   The system control logic 10g controls the operation mode and interrupt of the IC card microcomputer circuit 10, and further includes a random number generation logic used for generating an encryption key. When a reset operation is instructed by the reset signal / RES, the IC card microcomputer circuit 10 is initialized, and the CPU 10a starts executing an instruction from the top address of the program in the EEPROM 10d. The IC card microcomputer circuit 10 operates in synchronization with the clock signal CLK.

上記EEPROM10dは、電気的に消去処理及び書込み処理が可能にされ、個人を特定するために用いられるID(Identification)情報や認証証明書などのデータを格納する領域として用いられる。EEPRPM10dに代えてフラッシュメモリあるいは強誘電体メモリなどを採用しても良い。ICカードマイコン回路10は外部とのインタフェースに外部端子を用いる接触インタフェースをサポートする。   The EEPROM 10d is electrically erasable and writable, and is used as an area for storing data such as ID (Identification) information and an authentication certificate used to identify an individual. A flash memory or a ferroelectric memory may be used instead of the EEPROM 10d. The IC card microcomputer circuit 10 supports a contact interface using an external terminal for an interface with the outside.

一方、上記SFM4は、例えばインタフェースコントローラ回路を有している。インタフェースコントローラ回路は、外部からの指示に従った制御態様、あるいは内部であらかじめ決定された設定に従って外部インタフェース動作とメモリインタフェース動作を制御する機能を有している。SFM4が有するインタフェース制御態様は、例えばMMC(Multi Media Card、Infine on TechnologiesAGの登録商標である。RS−MMC(Reduced Size MMC)を含む)態様とされる。インタフェースコントローラ回路の機能は、外部接続端子CBを介して外部とやりとりするコマンドやバスの状態に応ずるメモリカードインタフェース制御態様の認識、認識したメモリカードインタフェース制御態様に応ずるバス幅の切替え、認識したメモリカードインタフェース制御態様に応ずるデータフォーマット変換、パワーオンリセット機能、上記ICチップ3内のICカードマイコン回路10とのインタフェース制御、SFM内の半導体チップ内のメモリ回路とのインタフェース制御、及び電源電圧変換等とされる。   On the other hand, the SFM 4 has, for example, an interface controller circuit. The interface controller circuit has a function of controlling the external interface operation and the memory interface operation in accordance with a control mode according to an instruction from the outside or a setting determined in advance inside. The interface control mode possessed by the SFM 4 is, for example, an MMC mode (Multi Media Card, a registered trademark of Infine on Technologies AG, including RS-MMC (Reduced Size MMC)). The function of the interface controller circuit is to recognize the memory card interface control mode according to the command and bus state exchanged with the outside via the external connection terminal CB, change the bus width according to the recognized memory card interface control mode, and the recognized memory Data format conversion according to card interface control mode, power-on reset function, interface control with IC card microcomputer circuit 10 in IC chip 3, interface control with memory circuit in semiconductor chip in SFM, power supply voltage conversion, etc. It is said.

図16は上記インタフェースコントローラ回路11の一例を示している。なお、図16中のメモリ回路Mは、上記SFM4内の半導体チップに形成されたメモリ回路を示している。   FIG. 16 shows an example of the interface controller circuit 11. Note that a memory circuit M in FIG. 16 is a memory circuit formed on a semiconductor chip in the SFM 4.

インタフェースコントローラ回路11は、ホストインタフェース回路11a、マイクロコンピュータ11b、フラッシュコントローラ11c、バッファコントローラ11d、バッファメモリ11eおよびICカード用インタフェース回路11fを有している。バッファメモリ11eはDRAM(Dynamic RAM)またはSRAM(Static RAM)等から成る。ICカード用インタフェース回路11fにはICカードマイコン回路10が電気的に接続される。マイクロコンピュータ11bはCPU(中央処理装置)11b1、CPU11b1の動作プログラムを保有するプログラムメモリ(PGM)11b2およびCPU11b1のワーク領域に利用されるワークメモリ(WRAM)11b3等を有している。前記SD(Secure Digital)カード(SDカード協会で規格化された規格がある)、MMC(RS−MMCを含む)、HSMMC(High Speed Multi Media Card)インタフェース制御態様の制御プログラムはプログラムメモリ11b2に保有されている。   The interface controller circuit 11 includes a host interface circuit 11a, a microcomputer 11b, a flash controller 11c, a buffer controller 11d, a buffer memory 11e, and an IC card interface circuit 11f. The buffer memory 11e is composed of DRAM (Dynamic RAM) or SRAM (Static RAM). The IC card microcomputer circuit 10 is electrically connected to the IC card interface circuit 11f. The microcomputer 11b has a CPU (central processing unit) 11b1, a program memory (PGM) 11b2 that holds an operation program of the CPU 11b1, a work memory (WRAM) 11b3 used for a work area of the CPU 11b1, and the like. A control program of the SD (Secure Digital) card (there is a standard standardized by the SD card association), MMC (including RS-MMC), and HSMMC (High Speed Multi Media Card) interface control mode is stored in the program memory 11b2. Has been.

ホストインタフェース回路11aは、メモリカードイニシャライズコマンドの発行等を検出すると、割込みによってマイクロコンピュータ11bに対応するインタフェース制御態様の制御プログラムを実行可能にする。マイクロコンピュータ11bはその制御プログラムを実行する事によってホストインタフェース回路11aによる外部インタフェース動作を制御し、フラッシュコントローラ11cによるメモリ回路Mに対するアクセス(書き込み、消去および読み出し動作)とデータ管理を制御し、バッファコントローラ11dによるメモリカード固有のデータフォーマットとメモリに対する共通のデータフォーマットとの間のフォーマット変換を制御する。バッファメモリ11eには、メモリ回路Mから読み出されたデータまたはメモリ回路Mに書き込まれるデータが一時的に保持される。フラッシュコントローラ11cはメモリ回路Mをハードディスク互換のファイルメモリとして動作させ、データをセクタ単位で管理する。なお、フラッシュコントローラ11cは図示を省略するECC回路を備え、メモリ回路Mへのデータ格納に際してECCコードを付加し、読み出しデータに対してECCコードによる選れエラー検出・訂正処理を行う。   When the host interface circuit 11a detects the issuance of a memory card initialize command or the like, the host interface circuit 11a enables an interface control mode control program corresponding to the microcomputer 11b by an interrupt. The microcomputer 11b controls the external interface operation by the host interface circuit 11a by executing the control program, controls the access (write, erase and read operations) and data management to the memory circuit M by the flash controller 11c, and the buffer controller. It controls the format conversion between the data format specific to the memory card according to 11d and the common data format for the memory. The buffer memory 11e temporarily holds data read from the memory circuit M or data written to the memory circuit M. The flash controller 11c operates the memory circuit M as a hard disk compatible file memory and manages data in units of sectors. The flash controller 11c includes an ECC circuit (not shown), adds an ECC code when data is stored in the memory circuit M, and performs selection error detection / correction processing on the read data using the ECC code.

次に、上記枠体部1aを持たないカードチップ1c単体の製造方法の一例を図17〜図21により説明する。なお、図17〜図21はカードチップ1cの製造工程中における配線基板形成用のテープ15の第1主面側の要部拡大平面図を示している。   Next, an example of a method for manufacturing a single card chip 1c that does not have the frame 1a will be described with reference to FIGS. 17 to 21 are enlarged plan views of main parts on the first main surface side of the tape 15 for forming the wiring board during the manufacturing process of the card chip 1c.

図17に示すテープ15は、例えばポリイミド樹脂等により形成された可撓性を有する平面帯状の薄い絶縁材15aをベースとして形成されており、厚さ方向に沿って互いに反対側になる第1主面と第2主面とを有している。テープ15には、その延在方向に沿って複数の上記カードチップ1cの形成領域(破線)が配置されている。テープ15の第1主面において各カードチップ1cの形成領域には、上記配線L1,L2が配置されている。テープ15の第2主面において各カードチップ1cの形成領域には、図4で示したような外部接続端子CA,CBが配置されている。また、テープ15の両長辺の近傍には、テープ15の延在方向に沿って複数のテープ送り孔15bが規則的に並んで配置されている。   The tape 15 shown in FIG. 17 is formed by using, for example, a flexible flat band-shaped thin insulating material 15a formed of polyimide resin or the like as a base, and is a first main body that is opposite to each other along the thickness direction. A surface and a second main surface. A plurality of card chip 1c forming regions (broken lines) are arranged on the tape 15 along the extending direction. In the first main surface of the tape 15, the wirings L <b> 1 and L <b> 2 are arranged in the formation region of each card chip 1 c. External connection terminals CA and CB as shown in FIG. 4 are arranged in the formation region of each card chip 1 c on the second main surface of the tape 15. A plurality of tape feed holes 15 b are regularly arranged in the vicinity of both long sides of the tape 15 along the extending direction of the tape 15.

まず、図18に示すように、テープ15の第1主面上に接着剤5を塗布した後、図19に示すように、テープ15の第1主面上に接着剤5を介してSFM4を接着する。また、テープ15の第1主面上にICチップ3を接着する。接着剤5はICチップ3の接着に用いるものを使用しても良い。続いて、図20に示すように、ICチップ3のパッドとテープ15上の電極とをワイヤW1により接続し、SFM4の外部端子4aとテープ15上の電極とをワイヤW2により接続する。その後、図21に示すように、テープ15の第1主面上に、ポッティング樹脂を塗布することにより、ICチップ3およびSFM4の一部を樹脂封止体6により封止する。その後、テープ15から個々のカードチップ1c部分を切り出し、キャップ7を被せることでカードチップ1cを製造する。このように本実施の形態1では、予め用意されたSFM4をテープ15に実装するだけで良いので、ICカードの機能とメモリカードの機能との両方の機能を具備する機能および信頼性の高いカードチップ1cを効率良く提供することができる。なお、各工程は、テープ15を送りながら各ステージで行う。   First, as shown in FIG. 18, the adhesive 5 is applied on the first main surface of the tape 15, and then the SFM 4 is applied on the first main surface of the tape 15 via the adhesive 5 as shown in FIG. 19. Glue. Further, the IC chip 3 is bonded on the first main surface of the tape 15. The adhesive 5 may be the one used for bonding the IC chip 3. Subsequently, as shown in FIG. 20, the pad of the IC chip 3 and the electrode on the tape 15 are connected by the wire W1, and the external terminal 4a of the SFM 4 and the electrode on the tape 15 are connected by the wire W2. After that, as shown in FIG. 21, a part of the IC chip 3 and the SFM 4 is sealed with the resin sealing body 6 by applying a potting resin on the first main surface of the tape 15. Thereafter, each card chip 1c portion is cut out from the tape 15, and the cap 7 is put on to manufacture the card chip 1c. As described above, in the first embodiment, since the SFM 4 prepared in advance only needs to be mounted on the tape 15, the card having both functions of the IC card and the memory card and a highly reliable card. The chip 1c can be provided efficiently. Each process is performed at each stage while feeding the tape 15.

次に、上記SFM4の構成の一例を説明する。   Next, an example of the configuration of the SFM 4 will be described.

図22はSFM4の全体斜視図、図23は図22のSFM4を上面から見た平面図、図24は図22のSFM4を裏面から見た平面図をそれぞれ示している。   FIG. 22 is an overall perspective view of the SFM 4, FIG. 23 is a plan view of the SFM 4 in FIG. 22 as viewed from above, and FIG. 24 is a plan view of the SFM 4 in FIG.

SFM4は、上記メモリカード機能を1つにまとめて構成されたモジュールである。この状態でメモリカードとしての電気的特性および機能試験が済んでいる。SFM4の外形寸法は、例えば10mm×14mm×0.50(MAX)mm程度である。SFM4の上面側においてSFM4の長手方向の一端部は階段状に欠けており、その部分に複数(ここでは、例えば7個)の外部端子4aが外部に露出された状態でSFM4の幅方向に沿って並んで配置されている。   The SFM 4 is a module configured by combining the memory card functions into one. In this state, electrical characteristics and function tests as a memory card have been completed. The external dimensions of the SFM 4 are, for example, about 10 mm × 14 mm × 0.50 (MAX) mm. One end of the SFM 4 in the longitudinal direction is not stepped on the upper surface side of the SFM 4, and a plurality of (for example, seven) external terminals 4 a are exposed to the outside along the width direction of the SFM 4. Are arranged side by side.

外部端子4aのうちの外部端子4a1は、将来利用可能なリザーブ端子、外部端子4a2は、コマンド(CMD)端子、外部端子4a3は、第1低電位側の回路電圧(Vss1)供給用端子、外部端子4a4は、高電位側の回路電圧(Vdd)供給用端子である。また、外部端子4a5は、クロック信号端子、外部端子4a6は、第2低電位側の回路電圧(Vss2)供給用端子、外部端子4a7は、データ入出力信号I/O端子である。   Of the external terminals 4a, the external terminal 4a1 is a reserve terminal that can be used in the future, the external terminal 4a2 is a command (CMD) terminal, the external terminal 4a3 is a terminal for supplying a circuit voltage (Vss1) on the first low potential side, an external terminal The terminal 4a4 is a high potential side circuit voltage (Vdd) supply terminal. The external terminal 4a5 is a clock signal terminal, the external terminal 4a6 is a second low potential side circuit voltage (Vss2) supply terminal, and the external terminal 4a7 is a data input / output signal I / O terminal.

一方、SFM4の裏面側において、上記外部端子4aの裏側に当たる位置には、複数(ここでは、外部端子4aに合わせて7個)のテスト端子4bが外部に露出された状態でSFM4の幅方向に沿って並んで配置されている。   On the other hand, on the back surface side of the SFM 4, a plurality of test terminals 4 b (here, seven in accordance with the external terminals 4 a) are exposed in the width direction of the SFM 4 at positions corresponding to the back side of the external terminals 4 a. They are arranged side by side.

次に、図25は上記SFM4の内部を上面側から透かして見た全体平面図、図26は図25のX2−X2線の断面図をそれぞれ示している。   Next, FIG. 25 is an overall plan view of the inside of the SFM 4 as seen through the top surface side, and FIG. 26 is a sectional view taken along line X2-X2 of FIG.

SFM4は、配線基板4cと、これに実装された半導体チップ(第1半導体チップ)4dと、その上に積層された半導体チップ(第2半導体チップ)4eと、これら半導体チップ4d,4e等を封止する樹脂封止体4fとを有している。   The SFM 4 encloses the wiring substrate 4c, the semiconductor chip (first semiconductor chip) 4d mounted thereon, the semiconductor chip (second semiconductor chip) 4e stacked thereon, and the semiconductor chips 4d and 4e. And a resin sealing body 4f to be stopped.

SFM4の配線基板4cは、例えば多層(2層)配線構成を有するプリント配線基板等からなり、その厚さ方向に沿って互いに反対側になる第1主面と第2主面とを有している。配線基板4cの絶縁基材4c1は、例えばガラスエポキシ樹脂により形成されている。絶縁基材4c1の材料は、これに限定されるものではなく種々変更可能であり、例えばBTレジンまたはアラミド不織布材等を用いても良い。   The wiring board 4c of the SFM 4 is composed of, for example, a printed wiring board having a multilayer (two-layer) wiring configuration, and has a first main surface and a second main surface that are opposite to each other along the thickness direction. Yes. The insulating base 4c1 of the wiring board 4c is formed of, for example, a glass epoxy resin. The material of the insulating base material 4c1 is not limited to this, and can be variously changed. For example, a BT resin or an aramid nonwoven material may be used.

また、配線基板4cの絶縁基材4c1の第1主面には、上記外部端子4a、配線L3、および中継配線L4が配置されている。また、配線基板4cの絶縁基材4c1の第2主面には、上記テスト端子4bおよび配線L5が配置されている。これら外部端子4a、テスト端子4b、配線L3,L5および中継配線L4は、例えば銅(Cu)からなり、その表面一部には、例えばニッケル(Ni)下地メッキおよび金(Au)メッキが施されている。外部端子4aと配線L3とは一体的にパターニングされている。この配線L3の一部は樹脂封止体4f内に配置されている(ここでは配線L3のうち樹脂封止体4fの外部の部分を外部端子4aとしている)。中継配線L4は孤立パターンで全体が樹脂封止体4fに内包されている。また、テスト端子4bと配線L5とは一体的にパターニングされている。   The external terminal 4a, the wiring L3, and the relay wiring L4 are disposed on the first main surface of the insulating base 4c1 of the wiring board 4c. Further, the test terminal 4b and the wiring L5 are arranged on the second main surface of the insulating base 4c1 of the wiring board 4c. The external terminals 4a, the test terminals 4b, the wirings L3 and L5, and the relay wiring L4 are made of, for example, copper (Cu), and a part of the surface thereof is subjected to, for example, nickel (Ni) base plating and gold (Au) plating. ing. The external terminal 4a and the wiring L3 are integrally patterned. A part of the wiring L3 is disposed in the resin sealing body 4f (here, a portion of the wiring L3 outside the resin sealing body 4f is used as an external terminal 4a). The relay wiring L4 is an isolated pattern and is entirely enclosed in the resin sealing body 4f. The test terminal 4b and the wiring L5 are integrally patterned.

相対的にサイズの大きな上記半導体チップ4dは、例えばシリコン(Si)単結晶等からなる半導体基板を有しており、その主面には、例えば電気的にデータの消去及び書き込み可能なフラッシュメモリ等のような不揮発性のメモリ回路M(図16参照)が形成されている。半導体チップ4dの記憶容量は、他の半導体チップ4eのメモリ部に比べて最も大容量とされている。半導体チップ4dの主面のパッドP1は、例えば金(Au)等により形成されているワイヤW3を通じて上記外部端子4aや中継配線L4に電気的に接続されている。上記半導体チップ4dのメモリ回路Mを構成する複数個のメモリセルは、例えばメモリセルのフローティングゲート等に電子が注入されると閾値電圧が上昇し、また、フローティングゲート等から電子を引き抜くと閾値電圧が低下するようになっている。メモリセルは、データ読み出しのためのワード線電圧に対する閾値電圧の高低に応じた情報を記憶することになる。特に制限されないが、例えばメモリセルトランジスタの閾値電圧が低い状態を消去状態、高い状態を書き込み状態とする。   The relatively large semiconductor chip 4d has a semiconductor substrate made of, for example, silicon (Si) single crystal, and the main surface thereof has, for example, a flash memory that can electrically erase and write data. Such a non-volatile memory circuit M (see FIG. 16) is formed. The storage capacity of the semiconductor chip 4d is the largest compared to the memory portion of the other semiconductor chip 4e. The pad P1 on the main surface of the semiconductor chip 4d is electrically connected to the external terminal 4a and the relay wiring L4 through a wire W3 formed of, for example, gold (Au). In the plurality of memory cells constituting the memory circuit M of the semiconductor chip 4d, the threshold voltage rises when electrons are injected into the floating gate of the memory cell, for example, and when the electrons are extracted from the floating gate or the like, the threshold voltage is increased. Has come to decline. The memory cell stores information corresponding to the level of the threshold voltage with respect to the word line voltage for reading data. Although not particularly limited, for example, a state in which the threshold voltage of the memory cell transistor is low is defined as an erased state, and a state in which the threshold voltage is high is defined as a written state.

半導体チップ4d上の相対的にサイズの小さな上記半導体チップ4eは、例えばシリコン(Si)単結晶等からなる半導体基板を有しており、その主面には、上記インタフェースコントローラ回路11が形成されている。上記半導体チップ4dのメモリ回路Mの動作は、この半導体チップ4eのインタフェースコントローラ回路11に制御される。半導体チップ4eの主面のパッドP2は、例えば金(Au)等により形成されているワイヤW4を通じて上記外部端子4aや中継配線L4に電気的に接続されている。   The relatively small semiconductor chip 4e on the semiconductor chip 4d has a semiconductor substrate made of, for example, silicon (Si) single crystal, and the interface controller circuit 11 is formed on the main surface thereof. Yes. The operation of the memory circuit M of the semiconductor chip 4d is controlled by the interface controller circuit 11 of the semiconductor chip 4e. The pad P2 on the main surface of the semiconductor chip 4e is electrically connected to the external terminal 4a and the relay wiring L4 through a wire W4 formed of, for example, gold (Au).

このような配線L3の一部、中継配線L4の全体、半導体チップ4d,4e、ワイヤW3,W4は、樹脂封止体4fによって封止されている。樹脂封止体4fは、例えばエポキシ樹脂により形成されている。   A part of the wiring L3, the whole relay wiring L4, the semiconductor chips 4d and 4e, and the wires W3 and W4 are sealed with a resin sealing body 4f. The resin sealing body 4f is made of, for example, an epoxy resin.

次に、図27は図25のSFM4の要部拡大平面図、図28は図27のX3−X3破線の断面図、図29は図27のSFM4の外部端子4aの平面図をそれぞれ示している。   27 is an enlarged plan view of the main part of the SFM 4 in FIG. 25, FIG. 28 is a sectional view taken along the broken line X3-X3 in FIG. 27, and FIG. 29 is a plan view of the external terminal 4a of the SFM 4 in FIG. .

配線基板4cの絶縁基材4c1の第1主面および第2主面上には、ソルダレジストSR2が配線L3,L5、中継配線L4の一部を覆うように形成されている。ソルダレジストSR2の一部には、配線L3,L5および中継配線L4の一部が露出される開口部が形成されている。配線L3においてソルダレジストSR2の開口部から露出する部分は、樹脂封止体4fの外部において上記外部端子4aの接続領域E1になっており、樹脂封止体4fの内部において接続領域E2になっている。上記半導体チップ4dのパッドP1は、ワイヤW3を通じて上記配線L3の接続領域E2または中継配線L4の接続領域に電気的に接続されている。また、上記半導体チップ4eのパッドP2は、ワイヤW4を通じて上記配線L3の接続領域E2または中継配線L4の接続領域に電気的に接続されている。ワイヤW3,W4の材料は上記ワイヤW1と同じである。また、配線L5においてソルダレジストSR2の開口部から露出する部分は上記テスト端子4bの接続領域E3になっている。   On the first main surface and the second main surface of the insulating base 4c1 of the wiring board 4c, a solder resist SR2 is formed so as to cover a part of the wirings L3, L5 and the relay wiring L4. An opening is formed in a part of the solder resist SR2 to expose a part of the wirings L3 and L5 and the relay wiring L4. A portion of the wiring L3 exposed from the opening of the solder resist SR2 is a connection region E1 of the external terminal 4a outside the resin sealing body 4f, and a connection region E2 inside the resin sealing body 4f. Yes. The pad P1 of the semiconductor chip 4d is electrically connected to the connection region E2 of the wiring L3 or the connection region of the relay wiring L4 through the wire W3. The pad P2 of the semiconductor chip 4e is electrically connected to the connection region E2 of the wiring L3 or the connection region of the relay wiring L4 through the wire W4. The materials of the wires W3 and W4 are the same as those of the wire W1. Further, a portion exposed from the opening of the solder resist SR2 in the wiring L5 is a connection region E3 of the test terminal 4b.

このような外部端子4aとテスト端子4bとは、配線基板4cの第1主面および第2主面間を貫通するスルーホールTH2内の導体部(例えば銅)を通じてテスト端子4bおよび配線L5と電気的に接続されている。このようにテスト端子4bを配線基板4cの第2主面に設けている理由は、例えば次のとおりである。すなわち、SFM4の小型化の観点からは外部端子4aの幅(第2方向Yの長さ)はワイヤW2の接続に必要最小限な寸法に抑えておきたい。しかし、ワイヤW2の接続に必要な外部端子4aの幅は、テスト用の探針を当てるには小さすぎてテストが難しいという問題がある。そこで、本実施の形態1では、配線基板4cの第1主面の外部端子4aをスルーホールTH2を通じて配線基板4cの第2主面のテスト端子4bに引き出すようにしている。配線基板4cの裏面側は、テスト用の探針を当てるのに必要な大きさのテスト端子4bの寸法を確保できるので、テストを容易に行うことができる。もちろん、テスト端子4bは、通常の外部端子として使用することもできる。   The external terminal 4a and the test terminal 4b are electrically connected to the test terminal 4b and the wiring L5 through a conductor portion (for example, copper) in the through hole TH2 penetrating between the first main surface and the second main surface of the wiring board 4c. Connected. The reason why the test terminal 4b is provided on the second main surface of the wiring board 4c as described above is, for example, as follows. That is, from the viewpoint of downsizing the SFM 4, the width of the external terminal 4 a (the length in the second direction Y) should be kept to a minimum size necessary for the connection of the wire W 2. However, there is a problem that the width of the external terminal 4a necessary for the connection of the wire W2 is too small to apply a test probe and is difficult to test. Therefore, in the first embodiment, the external terminal 4a on the first main surface of the wiring board 4c is drawn out to the test terminal 4b on the second main surface of the wiring board 4c through the through hole TH2. Since the back surface side of the wiring board 4c can secure the dimension of the test terminal 4b having a size necessary for applying a test probe, the test can be easily performed. Of course, the test terminal 4b can also be used as a normal external terminal.

また、複数の外部端子4aのうちの所望の外部端子4aは、その先端部が複数の外部端子4aが配置される第2方向Yに折れ曲がって延在しており、例えば平面L字状に形成されている。すなわち、外部端子4aは、相対的に幅(第2方向Yの長さ)の狭い領域と相対的に幅の広い領域との幅の異なる2つの領域を有するようにパターニングされている。この外部端子4aの第2方向Yの先端側には、上記スルーホールTH2が配置されている。このような構成にしている理由は、例えば次のとおりである。   The desired external terminal 4a among the plurality of external terminals 4a is bent and extends in the second direction Y in which the plurality of external terminals 4a are arranged, for example, formed in a planar L shape. Has been. That is, the external terminal 4a is patterned so as to have two regions having different widths, a region having a relatively narrow width (length in the second direction Y) and a region having a relatively wide width. The through hole TH2 is disposed on the distal end side in the second direction Y of the external terminal 4a. The reason for such a configuration is as follows, for example.

すなわち、上記のように配線基板4cの第1主面の外部端子4aを、配線基板4cの第2主面のテスト端子4bに電気的に接続するには、スルーホールTH2の配置が必要である。しかし、ワイヤW2の接続領域E1にスルーホールTH2が配置されているとワイヤW2の接続不良が生じる場合がある。そこで、ワイヤW2の接続領域E1とスルーホールTH2の配置領域とを分ける必要がある。ここで、図29の下段に示すように、外部端子4aの長さを第1方向Xに延在させて、その延在領域にスルーホールTH2を配置することもできる。しかし、そのようにすると外部端子4aの第1方向Xの長さXAが長くなる分、寸法上厳しいSFM4の第1方向Xの寸法も長くしなければならい。そこで、本実施の形態1では、外部端子4aの先端を、複数の外部端子4aが並んで配置される第2方向Yに延在させて、その延在領域にスルーホールTH2を配置するようにしている。SFM4の第2方向Yは、寸法上の余裕があるので、外部端子4aの先端部を第2方向Yの方向に延在させたからといってSFM4の第2方向Yの寸法を大きくしなければならないということもない。すなわち、SFM4の寸法を増大させることなくスルーホールTH2を配置できる。複数の外部端子4aにおいて、第2方向Yに延在する領域を持つものと持たないものとを交互に配置することも好ましい。   That is, as described above, in order to electrically connect the external terminal 4a on the first main surface of the wiring board 4c to the test terminal 4b on the second main surface of the wiring board 4c, it is necessary to arrange the through hole TH2. . However, if the through hole TH2 is disposed in the connection region E1 of the wire W2, a connection failure of the wire W2 may occur. Therefore, it is necessary to separate the connection area E1 of the wire W2 and the arrangement area of the through hole TH2. Here, as shown in the lower part of FIG. 29, the length of the external terminal 4a can be extended in the first direction X, and the through hole TH2 can be arranged in the extending region. However, if this is done, the length XA of the external terminal 4a in the first direction X becomes longer, and the dimension in the first direction X of the SFM 4 that is strict in terms of dimensions must also be increased. Therefore, in the first embodiment, the tip of the external terminal 4a is extended in the second direction Y in which the plurality of external terminals 4a are arranged side by side, and the through hole TH2 is arranged in the extending region. ing. Since the second direction Y of the SFM 4 has a dimensional margin, the dimension of the second direction Y of the SFM 4 must be increased just because the tip of the external terminal 4a extends in the second direction Y direction. There is no need to be. That is, the through hole TH2 can be arranged without increasing the dimension of the SFM 4. In the plurality of external terminals 4a, it is also preferable to alternately arrange one having a region extending in the second direction Y and one having no region.

また、複数の外部端子4aのうちの平面が長方形状に形成されているものも、樹脂封止体4fに覆われた配線L3の先端部分が、上記所望の外部端子4aと同様に、第2方向Yに延在されている。その配線L3は、その第2方向Yに延在する領域に配置されたスルーホールTH2を通じて配線基板4cの第2主面のテスト端子4bに電気的に接続されている。ワイヤW3,W4が接触する接続領域E2とスルーホールTH2が配置される接続領域とを分けているのは、上記同様、ワイヤW3,W4の接続不良を防止するためである。配線L3の先端部分を第2方向Yに折り曲げているのは、上記同様、SFM4の寸法を増大させることなくスルーホールTH2を配置するためである。   In addition, in the case where the plane of the plurality of external terminals 4a is formed in a rectangular shape, the end portion of the wiring L3 covered with the resin sealing body 4f is the second in the same manner as the desired external terminal 4a. It extends in the direction Y. The wiring L3 is electrically connected to the test terminal 4b on the second main surface of the wiring board 4c through a through hole TH2 arranged in a region extending in the second direction Y. The reason why the connection region E2 in which the wires W3 and W4 are in contact with the connection region in which the through-hole TH2 is disposed is separated in order to prevent a connection failure between the wires W3 and W4. The reason why the leading end portion of the wiring L3 is bent in the second direction Y is to arrange the through hole TH2 without increasing the dimension of the SFM 4 as described above.

次に、図30〜図36により半導体チップ4d,4eと配線基板4cとのワイヤ接続例について説明する。   Next, an example of wire connection between the semiconductor chips 4d and 4e and the wiring board 4c will be described with reference to FIGS.

まず、図30は中継配線L4を用いた半導体チップ4d,4e間のワイヤ接続例の斜視図を示している。半導体チップ4d,4e間を電気的に接続する場合、半導体チップ4dのパッドP1と半導体チップ4eのパッドP2とをワイヤによって直接接続しても良い。しかし、上記したようにワイヤの第2ボンディングは下地に与える衝撃が大きいので第2ボンディングが行われる半導体チップのパッド下に損傷が生じる場合がある。そこで、本実施の形態1では、ワイヤW3,W4の第1ボンディングを半導体チップ4d,4eのパッドP1,P2で行い、ワイヤW3,W4の第2ボンディングをダメージに強い配線基板4c上の中継配線L4で行う。これにより、半導体チップ4d,4eに損傷を生じることなくワイヤ接続ができるので、SFM4の歩留まりおよび信頼性を向上させることができる。   First, FIG. 30 shows a perspective view of an example of wire connection between the semiconductor chips 4d and 4e using the relay wiring L4. When the semiconductor chips 4d and 4e are electrically connected, the pad P1 of the semiconductor chip 4d and the pad P2 of the semiconductor chip 4e may be directly connected by a wire. However, as described above, since the second bonding of the wire has a large impact on the base, damage may occur under the pads of the semiconductor chip on which the second bonding is performed. Therefore, in the first embodiment, the first bonding of the wires W3 and W4 is performed by the pads P1 and P2 of the semiconductor chips 4d and 4e, and the second bonding of the wires W3 and W4 is performed on the wiring substrate 4c which is resistant to damage. Perform at L4. As a result, wire connection can be performed without causing damage to the semiconductor chips 4d and 4e, so that the yield and reliability of the SFM 4 can be improved.

この場合、ワイヤW3,W4の第2ボンディング部を第1方向Xに並べて配置すると中継配線L4の第1方向Xの長さも長くなり、その結果、寸法上厳しいSFM4の第1方向Xの寸法を長くしなければならなくなる。そこで、本実施の形態1では、ワイヤW3,W4の第2ボンディング部が第2方向Yに並んで配置されるようにする。これにより、中継配線L4の第1方向Xの方向の長さを短く抑えることができるので、SFM4の第1方向Xの寸法増大を招くことなく、中継配線L4を配置することができる。   In this case, if the second bonding portions of the wires W3 and W4 are arranged side by side in the first direction X, the length of the relay wiring L4 in the first direction X is also increased. You have to make it longer. Therefore, in the first embodiment, the second bonding portions of the wires W3 and W4 are arranged side by side in the second direction Y. As a result, the length of the relay wiring L4 in the first direction X can be kept short, so that the relay wiring L4 can be arranged without increasing the dimension of the SFM 4 in the first direction X.

次に、図31および図32は半導体チップ4d,4eと配線基板4cとのワイヤ接続例の斜視図および側面図を示している。ここでは、上側の半導体チップ4eと配線基板4cとを接続するワイヤW4のループを低くするために、敢えて、ワイヤW4の第2ボンディングを半導体チップ4eのパッドP2で行い、ワイヤW4の第1ボンディングを配線基板4cの配線L3または中継配線L4で行うようにしている。この場合、配線基板4cの第1主面からワイヤW4の最も高い位置までの高さh1を低く抑えることができるので、樹脂封止体4fを薄くでき、SFM4の薄型化を推進することができる。その結果、上記キャップ7の天井部を厚くすることができるようになり、キャップ7の割れ等を抑制または防止できる。   Next, FIGS. 31 and 32 show a perspective view and a side view of a wire connection example between the semiconductor chips 4d and 4e and the wiring board 4c. Here, in order to lower the loop of the wire W4 connecting the upper semiconductor chip 4e and the wiring substrate 4c, the second bonding of the wire W4 is intentionally performed by the pad P2 of the semiconductor chip 4e, and the first bonding of the wire W4 is performed. Is performed by the wiring L3 or the relay wiring L4 of the wiring board 4c. In this case, since the height h1 from the first main surface of the wiring board 4c to the highest position of the wire W4 can be kept low, the resin sealing body 4f can be thinned, and the thinning of the SFM 4 can be promoted. . As a result, the ceiling portion of the cap 7 can be thickened, and cracking of the cap 7 can be suppressed or prevented.

ただし、この場合、上記のように半導体チップ4eのパッドP2下がワイヤW4の第2ボンディングによりダメージを受ける場合がある。その対策としては、下記の構成を採用することが好ましい。例えばワイヤW4の接続前に半導体チップ4eのパッドP2に緩衝部材として、例えば金(Au)等からなる金属バンプを形成しておく。また、図33に示すように、パッドP1を最上層の配線18aとその直下の層の配線18bとの積層構成とする。配線18a,18bは、例えばアルミニウム等により形成されている。配線18a,18bを積層することにより、ワイヤW4の第2ボンディングによる衝撃を緩和でき、パッドP2下に損傷が生じるのを抑制または防止できる。この他の対策として、図34に示すように、集積回路素子が形成される活性領域19を、パッドP2下のダメージ領域20から離して配置しても良い。   However, in this case, as described above, the portion below the pad P2 of the semiconductor chip 4e may be damaged by the second bonding of the wire W4. As a countermeasure, it is preferable to adopt the following configuration. For example, before connecting the wire W4, a metal bump made of, for example, gold (Au) or the like is formed as a buffer member on the pad P2 of the semiconductor chip 4e. Further, as shown in FIG. 33, the pad P1 has a laminated structure of the uppermost layer wiring 18a and the lower layer wiring 18b. The wirings 18a and 18b are made of, for example, aluminum. By laminating the wirings 18a and 18b, the impact caused by the second bonding of the wire W4 can be mitigated, and the occurrence of damage under the pad P2 can be suppressed or prevented. As another countermeasure, as shown in FIG. 34, the active region 19 where the integrated circuit element is formed may be arranged away from the damaged region 20 under the pad P2.

なお、下側の半導体チップ4dと配線基板4cとのワイヤW3による接続については、図30で説明したのと同じである。すなわち、ワイヤW3の第1ボンディングを半導体チップ4dのパッドP1で行い、ワイヤW3の第2ボンディングをダメージに強い配線基板4c上の中継配線L4または外部端子4aで行う。   Note that the connection of the lower semiconductor chip 4d and the wiring board 4c by the wire W3 is the same as described in FIG. That is, the first bonding of the wire W3 is performed by the pad P1 of the semiconductor chip 4d, and the second bonding of the wire W3 is performed by the relay wiring L4 or the external terminal 4a on the wiring substrate 4c which is resistant to damage.

次に、図35および図36は半導体チップ4d,4e間のワイヤ接続例の斜視図および側面を示している。ここでは、図31および図32で説明したのと同様の理由から半導体チップ4d,4e間をワイヤW5により直接接続する場合に、ワイヤW5の第1ボンディングを下側の半導体チップ4dのパッドP1で行い、ワイヤW5の第2ボンディングを上側の半導体チップ4eのパッドP2で行っている。この場合、配線基板4cの第1主面からワイヤW5の最も高い位置までの高さh1を低く抑えることができるので、樹脂封止体4fを薄くでき、SFM4の薄型化を推進することができる。ただし、この場合も、ワイヤW5の第2ボンディングによるパッドP2下での損傷の抑制または防止の観点から上記した対策を採ることが好ましい。なお、ワイヤW5は、ワイヤW3,W4と同じ材料のものである。また、半導体チップ4d,4eの電源(高電位側および低電位側)のパッドはワイヤW3,W4を通じて配線基板4cに電気的に接続する。これにより、配線抵抗を低減できる。   Next, FIGS. 35 and 36 show a perspective view and a side view of a wire connection example between the semiconductor chips 4d and 4e. Here, for the same reason as described in FIGS. 31 and 32, when the semiconductor chips 4d and 4e are directly connected by the wire W5, the first bonding of the wire W5 is performed by the pad P1 of the lower semiconductor chip 4d. The second bonding of the wire W5 is performed on the pad P2 of the upper semiconductor chip 4e. In this case, since the height h1 from the first main surface of the wiring board 4c to the highest position of the wire W5 can be kept low, the resin sealing body 4f can be thinned and the SFM 4 can be made thinner. . However, also in this case, it is preferable to take the above-mentioned measures from the viewpoint of suppressing or preventing damage under the pad P2 due to the second bonding of the wire W5. The wire W5 is made of the same material as the wires W3 and W4. Further, the pads on the power supply (high potential side and low potential side) of the semiconductor chips 4d and 4e are electrically connected to the wiring substrate 4c through the wires W3 and W4. Thereby, wiring resistance can be reduced.

次に、SFM4の製造方法の一例を説明する。なお、ここでは、例えば基板に搭載された複数の半導体チップを一括して封止するMAP(Mold Array Package)方式を用いる場合について説明する。   Next, an example of the manufacturing method of SFM4 is demonstrated. Here, for example, a case where a MAP (Mold Array Package) method for collectively sealing a plurality of semiconductor chips mounted on a substrate will be described.

まず、図37に示すように、例えば平面長方形の薄板状の配線基板母体(以下、基板母体という)25を用意する。図37は、基板母体25の第1主面の全体平面図を示している。この基板母体25は、上記配線基板4cの母体である。   First, as shown in FIG. 37, for example, a flat rectangular substrate substrate (hereinafter referred to as a substrate) 25 is prepared. FIG. 37 shows an overall plan view of the first main surface of the substrate matrix 25. The substrate mother body 25 is a mother body of the wiring substrate 4c.

この基板母体25には、例えば2行×3列で合計6個の配線基板4cの形成領域が配置されている。基板母体25の各配線基板4cの形成領域の第1主面には、上記外部端子4a、配線L3および中継配線L4等がパターニングされている。また、基板母体25の各配線基板4cの形成領域の第2主面には、上記テスト端子4bおよび配線L5がパターニングされている。基板母体25の断面構成は上記配線基板4cと同じである。   In the substrate matrix 25, for example, a total of six wiring substrate 4c formation regions are arranged in 2 rows × 3 columns. The external terminals 4a, the wirings L3, the relay wirings L4, and the like are patterned on the first main surface of the substrate base 25 where the wiring boards 4c are formed. In addition, the test terminals 4b and the wirings L5 are patterned on the second main surface of the substrate base 25 where the wiring boards 4c are formed. The cross-sectional configuration of the substrate matrix 25 is the same as that of the wiring substrate 4c.

基板母体25の各配線基板4cの形成領域は、その各々の外部端子4a等の配置領域が、第1方向Xの端部側に位置するように配置されている。すなわち、第1方向Xに沿って配置された2つの配線基板4cの背面同士が接するように配置されている。   The formation regions of the respective wiring boards 4c of the substrate base body 25 are arranged such that the arrangement regions of the respective external terminals 4a and the like are positioned on the end side in the first direction X. That is, the back surfaces of the two wiring boards 4c arranged along the first direction X are arranged so as to contact each other.

続いて、図38に示すように、基板母体25の各配線基板4cの形成領域に、半導体チップ4d,4eを搭載した後、ワイヤW3,W4,W5を接続する。図38はワイヤ接続工程後の基板母体25の第1主面の全体平面図を示している。   Subsequently, as shown in FIG. 38, after the semiconductor chips 4d and 4e are mounted on the formation region of each wiring substrate 4c of the substrate base 25, the wires W3, W4 and W5 are connected. FIG. 38 is an overall plan view of the first main surface of the substrate base body 25 after the wire connection process.

次いで、図39に示すように、基板母体25を成型金型の下型に載置する。図39は、成型金型に載置した段階の基板母体25の断面図を示している。基板母体25の第1主面の上方には、ラミネートフィルム(以下、フィルムという)26を介して上型27が設置されている。フィルム26は、例えばフッ素系の樹脂等のような耐熱性が高く柔軟な絶縁フィルムにより形成されている。基板母体25に対する上型27の対向面には複数の配線基板4cの形成領域を包括するような平面寸法の断面凹状のキャビティ27aが形成されている。フィルム26の平面的な大きさは、成型金型の上型27のキャビティ27aの内壁面をほぼ全体的にカバーできる程度の大きさに形成されている。   Next, as shown in FIG. 39, the substrate matrix 25 is placed on the lower mold of the molding die. FIG. 39 shows a cross-sectional view of the substrate matrix 25 at the stage where it is placed on the molding die. An upper mold 27 is installed above a first main surface of the substrate matrix 25 via a laminate film (hereinafter referred to as a film) 26. The film 26 is formed of a flexible insulating film having high heat resistance such as a fluorine resin. A cavity 27a having a concave cross section having a planar dimension is formed on the surface of the upper mold 27 facing the substrate base 25 so as to cover the formation region of the plurality of wiring boards 4c. The planar size of the film 26 is formed so as to cover almost the entire inner wall surface of the cavity 27a of the upper mold 27 of the molding die.

続いて、図40に示すように、フィルム26を上型27側に真空吸引して上型27のキャビティ27a内に密着させた後、下型と上型27とで基板母体25を挟み込むようにして保持する。このようにして、上型27のキャビティ27aと基板母体25の第1主面とで囲まれる実質的なキャビティ28を形成する。この時、基板母体25の第1主面の外周部は、フィルム26を介して上型27のキャビティ27aの外側外周部に押し付けられ、基板母体25の総厚の数%程度潰された状態とされる。このため、図41に示すように、基板母体25の第1主面の外部端子4a等の配置領域も、最終的に樹脂封止体の外部に露出される領域なので、上型27の外周部により押し付けられる。この際、本実施の形態1では、上型27の外周部の底面と、基板母体25の第1主面との間にフィルム26が介在されるため、上型27から外部端子4a等に加わる力をフィルム26により緩和できる。これにより、外部端子4a等の損傷等を防止できる。   Subsequently, as shown in FIG. 40, after the film 26 is vacuum-sucked to the upper mold 27 side and brought into close contact with the cavity 27a of the upper mold 27, the substrate base 25 is sandwiched between the lower mold and the upper mold 27. Hold. In this way, a substantial cavity 28 surrounded by the cavity 27a of the upper mold 27 and the first main surface of the substrate base 25 is formed. At this time, the outer peripheral portion of the first main surface of the substrate base body 25 is pressed against the outer peripheral portion of the cavity 27a of the upper mold 27 through the film 26, and is in a state of being crushed by about several percent of the total thickness of the substrate base body 25. Is done. For this reason, as shown in FIG. 41, the arrangement area of the external terminals 4a and the like on the first main surface of the substrate base 25 is also an area that is finally exposed to the outside of the resin sealing body. Is pressed by. At this time, in the first embodiment, since the film 26 is interposed between the bottom surface of the outer peripheral portion of the upper mold 27 and the first main surface of the substrate base body 25, the upper mold 27 adds to the external terminals 4a and the like. The force can be relaxed by the film 26. Thereby, damage etc. of the external terminal 4a etc. can be prevented.

その後、キャビティ28内に、例えばエポキシ系樹脂等のような熱硬化性の封止樹脂(モールド樹脂)を流し込む。図42および図43は、封止樹脂を流し込む方向R1,R2とキャビティ27a内の空気が外部に抜ける方向V1,V2を示している。図42では、外部端子4aの配置方向に対して交差する方向に沿って封止樹脂を流し込んでいる。一方、図43では、外部端子4aの配置方向に沿って封止樹脂を流し込んでいる。このようにして、基板母体25の第1主面の複数の配線基板4cの形成領域の半導体チップ4d,4eおよびワイヤW3,W4,W5等を一括して封止する。   Thereafter, a thermosetting sealing resin (mold resin) such as an epoxy resin is poured into the cavity 28. 42 and 43 show directions R1 and R2 in which the sealing resin is poured and directions V1 and V2 in which the air in the cavity 27a escapes to the outside. In FIG. 42, the sealing resin is poured along the direction intersecting the arrangement direction of the external terminals 4a. On the other hand, in FIG. 43, sealing resin is poured along the arrangement direction of the external terminals 4a. In this way, the semiconductor chips 4d and 4e and the wires W3, W4, W5 and the like in the formation region of the plurality of wiring boards 4c on the first main surface of the substrate base body 25 are collectively sealed.

その後、上記封止樹脂のキュアが完了した後、フィルム25に対する真空吸引を止め、フィルム30の張力を利用して、図44に示すように、一括封止体30が形成された基板母体25を上型27から離す。続いて、図45に示すように、一括封止体30の上面を研磨砥石等により10mm程度研磨する。一括封止体30の上面には、上型27との離型性を向上させるための離型ワックス等の成分が吸収され変質しているため、上記キャップ7とSFM4とを接着する接着剤8の接着性が低下する問題がある。この問題はフィルム25を使用しないで一括封止体30を成型する場合に特に問題となる。そこで、上記のように一括封止体30の上面を研磨し変質層を除去する。これにより、SFM4の樹脂封止体4fと接着剤8との接着性を向上させることができる。   Then, after the sealing resin is cured, the vacuum suction to the film 25 is stopped, and the substrate mother body 25 on which the collective sealing body 30 is formed as shown in FIG. Separate from upper mold 27. Subsequently, as shown in FIG. 45, the upper surface of the collective sealing body 30 is polished by about 10 mm with a polishing grindstone or the like. On the upper surface of the collective sealing body 30, a component such as a release wax for improving the releasability from the upper mold 27 is absorbed and deteriorated, and therefore the adhesive 8 that bonds the cap 7 and the SFM 4 together. There is a problem that the adhesiveness of the resin deteriorates. This problem is particularly a problem when the collective sealing body 30 is molded without using the film 25. Therefore, the upper surface of the collective sealing body 30 is polished as described above to remove the deteriorated layer. Thereby, the adhesiveness of the resin sealing body 4f of SFM4 and the adhesive agent 8 can be improved.

その後、基板母体25を裏返し、一括封止体30を粘着テープ等で固定した後、図46に示すように、ダイシングと同じ要領で、基板母体25の第2主面側にダイシングブレード31を当てて基板母体25および一括封止体30を配線基板4c毎に切断する。このようにして同時に複数個のSFM4を製造する。   Thereafter, the substrate base 25 is turned over, and the collective sealing body 30 is fixed with an adhesive tape or the like, and then a dicing blade 31 is applied to the second main surface side of the substrate base 25 in the same manner as dicing as shown in FIG. Then, the substrate base body 25 and the collective sealing body 30 are cut for each wiring board 4c. In this way, a plurality of SFMs 4 are manufactured simultaneously.

(実施の形態2)
本実施の形態2では、カードチップ1cの配線基板2が1層配線構成の場合の一例を説明する。
(Embodiment 2)
In the second embodiment, an example in which the wiring board 2 of the card chip 1c has a one-layer wiring configuration will be described.

図47は本実施の形態2のカードチップ1cの第2主面の全体平面図、図48は図47のカードチップ1cの内部を第1主面側から透かして見た全体平面図、図49は図48のX4−X4線の断面図をそれぞれ示している。   47 is an overall plan view of the second main surface of the card chip 1c of the second embodiment, FIG. 48 is an overall plan view of the inside of the card chip 1c of FIG. 47 as seen through the first main surface side, and FIG. Shows cross-sectional views taken along line X4-X4 of FIG.

本実施の形態2では、カードチップ1cの配線基板2が1層配線構成とされている。配線基板2の第2主面の複数の外部接続端子CBは、配線基板2の中央に向かって延在しており、その終端には幅広パターンCBwが形成されている。配線基板2の第1主面には、外部接続端子CAの裏面および外部接続端子CBの幅広パターンCBwの裏面の一部が露出されるスルーホールTH3が形成されている。ICチップ3のパッドに接続されたワイヤW1は、その端部が上記スルーホールTH3を通じて外部接続端子CAに直接接触されることで外部接続端子CAに電気的に接続されている。また、SFM4の外部端子4aに接続されたワイヤW2も、その端部が上記スルーホールTH3を通じて外部接続端子CBの幅広パターンCBwに直接接触されることで外部接続端子CBに電気的に接続されている。これ以外の構成は、前記実施の形態1と同じである。   In the second embodiment, the wiring board 2 of the card chip 1c has a one-layer wiring configuration. The plurality of external connection terminals CB on the second main surface of the wiring board 2 extend toward the center of the wiring board 2, and a wide pattern CBw is formed at the end thereof. The first main surface of the wiring board 2 is formed with a through hole TH3 in which a back surface of the external connection terminal CA and a part of the back surface of the wide pattern CBw of the external connection terminal CB are exposed. The wire W1 connected to the pad of the IC chip 3 is electrically connected to the external connection terminal CA by directly contacting the end of the wire W1 through the through hole TH3. Further, the wire W2 connected to the external terminal 4a of the SFM 4 is also electrically connected to the external connection terminal CB by directly contacting the wide pattern CBw of the external connection terminal CB through the through hole TH3. Yes. Other configurations are the same as those in the first embodiment.

本実施の形態2では、カードチップ1cの配線基板2を1層配線構成としたことにより、配線基板2の第1主面から樹脂封止体6の上面までの高さを低く抑えることができるので、その分、上記キャップ7の天井部を厚くすることができるようになり、キャップ7の割れ等を抑制または防止できる。また、配線基板2を1層配線構成としたことにより、カードチップ1cのコストを低減することができる。   In the second embodiment, the wiring board 2 of the card chip 1c has a single-layer wiring configuration, so that the height from the first main surface of the wiring board 2 to the upper surface of the resin sealing body 6 can be kept low. Therefore, the ceiling part of the cap 7 can be made thicker by that amount, and cracking of the cap 7 can be suppressed or prevented. Moreover, the cost of the card chip 1c can be reduced because the wiring board 2 has a single-layer wiring configuration.

(実施の形態3)
本実施の形態3では、カードチップ1cの配線基板2が1層配線構成の場合の他の一例を説明する。
(Embodiment 3)
In the third embodiment, another example in which the wiring board 2 of the card chip 1c has a one-layer wiring configuration will be described.

図50は本実施の形態3のカードチップ1cの第2主面の全体平面図、図51は図50のX5−X5線の断面図をそれぞれ示している。   50 is an overall plan view of the second main surface of the card chip 1c of the third embodiment, and FIG. 51 is a sectional view taken along line X5-X5 of FIG.

本実施の形態3では、カードチップ1cの配線基板2の第2主面にソルダーレジストSR3が被覆されている。このソルダーレジストSR3の一部には、全ての外部接続端子CAの全体と、全ての外部接続端子CBの一部とが露出されるような開口部35が形成されている。   In the third embodiment, the second main surface of the wiring board 2 of the card chip 1c is covered with the solder resist SR3. An opening 35 is formed in a part of the solder resist SR3 so as to expose all the external connection terminals CA and a part of all the external connection terminals CB.

外部接続端子CBは、細く配線基板2に対する接着面積も小さいので、その接着強度が2層配線構成に比べて低く、外部接続端子CBが剥離する虞がある。そこで、本実施の形態3では、各外部接続端子CBの長手方向の両端部分をソルダーレジストSR3で覆うようにした。これにより、カードチップ1cの外部接続端子CBの剥離を抑制または防止することができる。このため、外部接続端子CBの剥離による短絡不良等の発生率を低減できる。   Since the external connection terminal CB is thin and has a small adhesion area with respect to the wiring board 2, its adhesion strength is lower than that of the two-layer wiring configuration, and the external connection terminal CB may be peeled off. Therefore, in the third embodiment, both end portions in the longitudinal direction of each external connection terminal CB are covered with the solder resist SR3. Thereby, peeling of the external connection terminal CB of the card chip 1c can be suppressed or prevented. For this reason, it is possible to reduce the occurrence rate of short-circuit defects due to peeling of the external connection terminals CB.

(実施の形態4)
本実施の形態4では、カードチップ1cの配線基板2が1層配線構成の場合のさらに他の一例を説明する。
(Embodiment 4)
In the fourth embodiment, another example in which the wiring board 2 of the card chip 1c has a one-layer wiring configuration will be described.

図52は本実施の形態4のカードチップ1cの内部を第1主面側から透かして見た全体平面図、図53は図52のX6−X6線の断面図をそれぞれ示している。   FIG. 52 is an overall plan view of the interior of the card chip 1c according to the fourth embodiment viewed through the first main surface side, and FIG. 53 is a cross-sectional view taken along line X6-X6 of FIG.

本実施の形態4では、配線基板2の第1主面には開口部37a,37bが形成されている。一方の開口部37aの底面からは、配線基板2の第2主面の外部接続端子CAの裏面の一部が露出されている。開口部37aには、上記ICチップ3が上記外部接続端子CA上に接着層5aを介して実装された状態で収まっている。   In the fourth embodiment, openings 37 a and 37 b are formed in the first main surface of the wiring board 2. A part of the back surface of the external connection terminal CA on the second main surface of the wiring board 2 is exposed from the bottom surface of the one opening 37a. The IC chip 3 is accommodated in the opening 37a in a state of being mounted on the external connection terminal CA via the adhesive layer 5a.

他方の開口部37bの底面からは、配線基板2の第2主面の導体パターン38の裏面が露出されている。導体パターン38は、外部接続端子CA,CBと同層に形成されており、外部接続端子CA,CBと同じ金属材料により形成されている。開口部37bには、上記SFM4が上記導体パターン38上に接着層5bを介して実装された状態で収まっている。SFM4は、その複数の外部端子4aの配置部分が配線基板2の大きく面取された角部側の端部を向くように配置されている。   From the bottom surface of the other opening 37b, the back surface of the conductor pattern 38 on the second main surface of the wiring board 2 is exposed. The conductor pattern 38 is formed in the same layer as the external connection terminals CA and CB, and is formed of the same metal material as the external connection terminals CA and CB. The SFM 4 is accommodated in the opening 37b while being mounted on the conductor pattern 38 via the adhesive layer 5b. The SFM 4 is arranged so that the arrangement portion of the plurality of external terminals 4 a faces the end portion on the corner portion side of the wiring board 2 that is largely chamfered.

ここで、図54および図55はカードチップ1cの厚さの説明図を示している。図54は配線基板2の第1主面上にSFM4が実装されている場合を示し、図55は本実施の形態4のように配線層上にSFM4が実装されている場合を示している。カードチップ1cの厚さD1は、例えば0.76mm、配線基板2の厚さD2は、例えば0.15mm、SFM4の厚さは、例えば0.45mm程度である。このため、図54の場合、外部接続端子CBの裏面からSFM4の上面までの高さD3は、例えば0.6mm程度、SFM4の上面からキャップ7内の天井面までの距離D4が、例えば0.01mmとすると、キャップ7の天井部の厚さD5は、例えば0.15mm程度しか確保できない。   Here, FIG. 54 and FIG. 55 are explanatory views of the thickness of the card chip 1c. FIG. 54 shows a case where the SFM 4 is mounted on the first main surface of the wiring board 2, and FIG. 55 shows a case where the SFM 4 is mounted on the wiring layer as in the fourth embodiment. The thickness D1 of the card chip 1c is, for example, 0.76 mm, the thickness D2 of the wiring board 2 is, for example, 0.15 mm, and the thickness of the SFM 4 is, for example, about 0.45 mm. Therefore, in the case of FIG. 54, the height D3 from the back surface of the external connection terminal CB to the upper surface of the SFM 4 is, for example, about 0.6 mm, and the distance D4 from the upper surface of the SFM 4 to the ceiling surface in the cap 7 is, for example, 0. If the thickness is 01 mm, the thickness D5 of the ceiling portion of the cap 7 can be ensured, for example, only about 0.15 mm.

これに対して、図55に示す本実施の形態4の場合、外部接続端子CBの裏面からSFM4の上面までの高さD6を、例えば0.55mm程度まで低くすることができる。このため、キャップ7内の天井面までの距離D4が、例えば0.01mmとすると、キャップ7の天井部の厚さD7を、例えば0.2mm程度にすることができ、図54の場合よりも厚くすることができる。   On the other hand, in the case of the fourth embodiment shown in FIG. 55, the height D6 from the back surface of the external connection terminal CB to the upper surface of the SFM 4 can be reduced to, for example, about 0.55 mm. For this reason, when the distance D4 to the ceiling surface in the cap 7 is, for example, 0.01 mm, the thickness D7 of the ceiling portion of the cap 7 can be set to, for example, about 0.2 mm, which is more than the case of FIG. Can be thicker.

このように本実施の形態4では、ICチップ3およびSFM4を配線基板2の1層目の導体層上に実装したことにより、配線基板2の第1主面から樹脂封止体6およびSFM4の上面までの高さをさらに低くすることができるので、その分、上記キャップ7の天井部を厚くすることができるようになり、キャップ7の割れ等を抑制または防止できる。   As described above, in the fourth embodiment, since the IC chip 3 and the SFM 4 are mounted on the first conductor layer of the wiring board 2, the resin sealing body 6 and the SFM 4 are formed from the first main surface of the wiring board 2. Since the height to the upper surface can be further reduced, the ceiling portion of the cap 7 can be made thicker accordingly, and cracking of the cap 7 can be suppressed or prevented.

(実施の形態5)
本実施の形態5では、上記SFM4の配線基板4cが1層配線構成の場合の他の一例を説明する。
(Embodiment 5)
In the fifth embodiment, another example in which the wiring board 4c of the SFM 4 has a one-layer wiring configuration will be described.

図56は本実施の形態5のSFM4の全体斜視図、図57は図56のSFM4を上面から見た平面図、図58は図56のSFM4を裏面から見た平面図をそれぞれ示している。   56 is an overall perspective view of the SFM 4 of the fifth embodiment, FIG. 57 is a plan view of the SFM 4 of FIG. 56 viewed from the top, and FIG. 58 is a plan view of the SFM 4 of FIG.

本実施の形態5では、SFM4の配線基板4cが1層配線構成とされている。本実施の形態5の場合もSFM4の上面側においてSFM4の長手方向の一端部は階段状に欠けており、その部分に複数(ここでは、例えば7個)の外部端子4aが外部に露出された状態でSFM4の幅方向に沿って並んで配置されている。一方、SFM4の裏面には、複数(ここでは、外部端子4aに合わせて7個)のテスト端子4bが外部に露出された状態でSFM4の幅方向に沿って千鳥状に並んで配置されている。   In the fifth embodiment, the wiring board 4c of the SFM 4 has a one-layer wiring configuration. Also in the case of the fifth embodiment, one end portion in the longitudinal direction of the SFM 4 is not stepped on the upper surface side of the SFM 4, and a plurality of (for example, seven in this case) external terminals 4 a are exposed to the outside. In the state, they are arranged side by side along the width direction of the SFM 4. On the other hand, on the back surface of the SFM 4, a plurality of test terminals 4 b (here, seven in accordance with the external terminals 4 a) are arranged in a staggered manner along the width direction of the SFM 4 with the test terminals 4 b exposed to the outside. .

次に、図59は上記SFM4の内部を上面側から透かして見た全体平面図、図60は図59の半導体チップ4d,4eを取り除いた状態で上記SFM4の内部を上面側から透かして見た全体平面図、図61は図59のSFM4の要部拡大平面図、図62は図61のX7−X7破線の断面図をそれぞれ示している。   Next, FIG. 59 is an overall plan view of the inside of the SFM 4 as seen through the top surface, and FIG. 60 is a view of the inside of the SFM 4 as seen from the top with the semiconductor chips 4d and 4e in FIG. 59 removed. 61 is an overall plan view, FIG. 61 is an enlarged plan view of a main part of the SFM 4 in FIG. 59, and FIG. 62 is a sectional view taken along the broken line X7-X7 in FIG.

本実施の形態5のSFM4の配線基板4cは、例えば1層配線構成を有するプリント配線基板等により形成されている。配線基板4cの第1主面の外部端子4aは、平面長方形状に形成されている。各外部端子4aは、配線L3を通じて配線基板4cの中央に向かって延在しており、その終端には幅広パターンL3wが一体的に形成されている。配線L3および幅広パターンL3wの表面は、上記接続領域E2を除いてソルダーレジストSR2に被覆されている。これにより、半導体チップ4dと配線L3または幅広パターンL3wとが短絡しないようになっている。一方、配線基板2の第2主面には、複数の開口部40が千鳥状に配置されている。各開口部40からは、配線基板2の第1主面の上記幅広パターンL3wの裏面の一部が露出されている。そして、この幅広パターンL3wの露出部分がテスト端子4bとなっている。これ以外は、前記実施の形態1〜4と同じなので説明を省略する。   The wiring board 4c of the SFM 4 of the fifth embodiment is formed by a printed wiring board having a one-layer wiring configuration, for example. The external terminal 4a on the first main surface of the wiring board 4c is formed in a planar rectangular shape. Each external terminal 4a extends toward the center of the wiring board 4c through the wiring L3, and a wide pattern L3w is integrally formed at the end thereof. The surfaces of the wiring L3 and the wide pattern L3w are covered with the solder resist SR2 except for the connection region E2. Thereby, the semiconductor chip 4d and the wiring L3 or the wide pattern L3w are prevented from being short-circuited. On the other hand, a plurality of openings 40 are arranged in a staggered pattern on the second main surface of the wiring board 2. From each opening 40, a part of the back surface of the wide pattern L3w on the first main surface of the wiring board 2 is exposed. The exposed portion of the wide pattern L3w is a test terminal 4b. Since other than this is the same as the first to fourth embodiments, the description thereof is omitted.

本実施の形態5では、SFM4の配線基板4cを1層配線構成としたことにより、SFM4の薄型化を推進できる。このため、上記のようにキャップ7の天井部を厚くすることができるようになり、キャップ7の割れ等を抑制または防止できる。また、配線基板4cを1層配線構成としたことにより、SFM4のコストを低減することができる。   In the fifth embodiment, the thickness of the SFM 4 can be reduced by adopting a single-layer wiring configuration for the wiring board 4c of the SFM 4. For this reason, the ceiling part of the cap 7 can be made thicker as described above, and cracking of the cap 7 can be suppressed or prevented. Moreover, the cost of the SFM 4 can be reduced by adopting a single-layer wiring configuration for the wiring board 4c.

(実施の形態6)
本実施の形態6では、上記ICチップ3とSFM4との配置を逆にする場合の一例を説明する。
(Embodiment 6)
In the sixth embodiment, an example in which the arrangement of the IC chip 3 and the SFM 4 is reversed will be described.

図63は本実施の形態6のカードチップ1cの内部を第1主面側から透かして見た全体平面図、図64は図63のカードチップ1cの配線基板2の第1主面におけるICチップ3用の配線の経路を示す全体平面図をそれぞれ示している。   63 is an overall plan view of the inside of the card chip 1c of the sixth embodiment viewed through the first main surface side, and FIG. 64 is an IC chip on the first main surface of the wiring board 2 of the card chip 1c of FIG. 3 is an overall plan view showing a route of wiring for No. 3.

本実施の形態6のカードチップ1cでは、配線基板2の第1主面上においてICチップ3用の外部接続端子CAの真裏にSFM4が配置され、配線基板2の第1主面上においてSFM4用の外部接続端子CB側にICチップ3が配置されている。   In the card chip 1c according to the sixth embodiment, the SFM 4 is arranged on the first main surface of the wiring board 2 directly behind the external connection terminal CA for the IC chip 3, and the SFM 4 is used on the first main surface of the wiring board 2. The IC chip 3 is disposed on the external connection terminal CB side.

配線基板2としては、例えば前記実施の形態1等で説明した2層配線構成の配線基板が使用されている。配線基板2の第1主面上において、ICチップ3用の外部接続端子CAに接続された配線L1は、配線L1aを通じてICチップ3側に引き出され、配線L1aの終端の電極L1bに電気的に接続されている。そして、ICチップ3のパッドはワイヤW1を通じて電極L1aに電気的に接続されている。配線L1,L1aおよび電極L1aは、例えば銅からなり、配線基板2の第1主面上に一体的にパターニングされている。一方、SFM4の外部端子4aは、ワイヤW2を通じて配線基板2の第1主面上の配線L2に電気的に接続されている。配線L2はスルーホールTH1内の導体部を通じて配線基板2の第2主面の外部接続端子CBに電気的に接続されている。   As the wiring board 2, for example, the wiring board having the two-layer wiring structure described in the first embodiment is used. On the first main surface of the wiring board 2, the wiring L1 connected to the external connection terminal CA for the IC chip 3 is drawn out to the IC chip 3 side through the wiring L1a, and is electrically connected to the terminal electrode L1b of the wiring L1a. It is connected. The pad of the IC chip 3 is electrically connected to the electrode L1a through the wire W1. The wirings L1 and L1a and the electrode L1a are made of copper, for example, and are integrally patterned on the first main surface of the wiring board 2. On the other hand, the external terminal 4a of the SFM 4 is electrically connected to the wiring L2 on the first main surface of the wiring board 2 through the wire W2. The wiring L2 is electrically connected to the external connection terminal CB on the second main surface of the wiring board 2 through the conductor portion in the through hole TH1.

このような本実施の形態6では、以下の効果を得ることができる。すなわち、カードチップ1cにおいてSFM4用の外部接続端子CBの配置領域側は、その角部にインデックス用の大きな面取部が形成されているので、ICチップ3用の外部接続端子CAの配置領域側よりも面積が小さい。このため、SFM4が大面積化した場合、SFM4用の外部接続端子CBの配置領域側にSFM4を配置することが難しくなる場合が考えられる。そこで、本実施の形態6では、配線基板2の第1主面上においてICチップ3用の外部接続端子CAの配置領域側にSFM4を配置した。ICチップ3用の外部接続端子CAの配置領域側は、SFM4用の外部接続端子CBの配置領域側に比べて大きな面積を確保できるので、SFM4の大面積化に対応できる。   In the sixth embodiment as described above, the following effects can be obtained. That is, in the card chip 1c, the arrangement area side of the external connection terminal CB for the SFM4 is formed with a large chamfered portion for index at the corner, so the arrangement area side of the external connection terminal CA for the IC chip 3 is formed. Is smaller than the area. For this reason, when the area of the SFM 4 is increased, it may be difficult to dispose the SFM 4 on the arrangement region side of the external connection terminal CB for the SFM 4. Therefore, in the sixth embodiment, the SFM 4 is arranged on the first main surface of the wiring board 2 on the arrangement region side of the external connection terminal CA for the IC chip 3. Since the arrangement area side of the external connection terminal CA for the IC chip 3 can secure a larger area than the arrangement area side of the external connection terminal CB for the SFM 4, the area of the SFM 4 can be increased.

(実施の形態7)
本実施の形態7では、上記ICチップ3とSFM4との配置を逆にする場合の他の一例を説明する。
(Embodiment 7)
In the seventh embodiment, another example in which the arrangement of the IC chip 3 and the SFM 4 is reversed will be described.

図65は本実施の形態7のカードチップ1cの内部を第1主面側から透かして見た全体平面図、図66は図65のSFM4の全体平面図をそれぞれ簡単化して示している。   FIG. 65 is an overall plan view of the inside of the card chip 1c of the seventh embodiment viewed through the first main surface side, and FIG. 66 is a simplified overall plan view of the SFM 4 of FIG.

本実施の形態7のカードチップ1cでは、前記実施の形態6と同様に、配線基板2の第1主面上においてICチップ3用の外部接続端子CAの真裏にSFM4が配置され、配線基板2の第1主面上においてSFM4用の外部接続端子CB側にICチップ3が配置されている。前記実施の形態6と異なるのは、本実施の形態7のSFM4の配線基板4cには、ICチップ3とカードチップ1cの第2主面の外部接続端子CAとを電気的に接続するための電源用または信号用あるいはその両方の配線経路が形成されていることである。   In the card chip 1c of the seventh embodiment, the SFM 4 is arranged on the first main surface of the wiring board 2 directly behind the external connection terminal CA for the IC chip 3 in the same manner as in the sixth embodiment. On the first main surface, the IC chip 3 is arranged on the external connection terminal CB side for SFM4. The difference from the sixth embodiment is that the IC chip 3 and the external connection terminal CA on the second main surface of the card chip 1c are electrically connected to the wiring board 4c of the SFM 4 of the seventh embodiment. That is, wiring paths for power supply and / or signal are formed.

すなわち、ICチップ3のパッドはワイヤW1を通じてSFM4の外部端子4aiに電気的に接続されている。外部端子4aiの構成は前記外部端子4aと同じであるが、この外部端子4aiは、SFM4の配線基板4cの第1主面上に形成された配線L3iを通じて配線基板4cの第2主面の外部端子4giに電気的に接続されている。外部端子4giの構成は、上記テスト端子4bと同じである。この外部端子4giは、カードチップ1cの配線基板2の第1主面上の上記配線L1に電気的に接続され、さらに上記スルーホールTH1内の導体部を通じて配線基板2の第2主面の外部接続端子CAに電気的に接続されている。なお、この外部端子4aiにはテスト端子4bを接続しなくても良い。   That is, the pad of the IC chip 3 is electrically connected to the external terminal 4ai of the SFM 4 through the wire W1. The configuration of the external terminal 4ai is the same as that of the external terminal 4a, but the external terminal 4ai is external to the second main surface of the wiring board 4c through the wiring L3i formed on the first main surface of the wiring board 4c of the SFM4. It is electrically connected to the terminal 4gi. The configuration of the external terminal 4gi is the same as that of the test terminal 4b. The external terminal 4gi is electrically connected to the wiring L1 on the first main surface of the wiring board 2 of the card chip 1c, and further outside the second main surface of the wiring board 2 through the conductor portion in the through hole TH1. It is electrically connected to the connection terminal CA. Note that the test terminal 4b may not be connected to the external terminal 4ai.

SFM4には、ICチップ3用の全ての外部接続端子CAに接続される配線経路(外部端子4ai,4giおよび配線L3i)を形成しても良いし、一部の外部接続端子CAに接続される配線経路を形成しても良い。SFM4の配線基板4cに一部の外部接続端子CA用の配線経路を設ける場合は、他の外部接続端子CA用の配線経路は、前記実施の形態6で説明したように、カードチップ1cの配線基板2に設ければ良い。以上のような構成以外は、前記実施の形態1〜5で説明したのと同じである。   A wiring path (external terminals 4ai and 4gi and wiring L3i) connected to all the external connection terminals CA for the IC chip 3 may be formed in the SFM 4 or connected to some external connection terminals CA. A wiring path may be formed. When providing wiring paths for some external connection terminals CA on the wiring board 4c of the SFM 4, the wiring paths for other external connection terminals CA are the wiring of the card chip 1c as described in the sixth embodiment. It may be provided on the substrate 2. The configuration other than the above is the same as that described in the first to fifth embodiments.

このような本実施の形態7では、前記実施の形態6と同様に、SFM4の大面積化に対応できる。また、前記実施の形態6に比べて、ICチップ3から外部接続端子CAまでの配線長を短くできる(配線L3iの長さを短くできる上、ワイヤW1の長さも短くできる)ので、配線抵抗や寄生容量を低減でき、ICチップ3の動作性能および信頼性を確保することができる。また、前記実施の形態6に比べて、ICチップ3用の配線経路の引き回しを容易にすることができる。   In this seventh embodiment, as in the sixth embodiment, it is possible to cope with an increase in the area of the SFM 4. Further, compared to the sixth embodiment, the wiring length from the IC chip 3 to the external connection terminal CA can be shortened (the length of the wiring L3i can be shortened and the length of the wire W1 can be shortened). The parasitic capacitance can be reduced, and the operation performance and reliability of the IC chip 3 can be ensured. In addition, the wiring route for the IC chip 3 can be easily routed compared to the sixth embodiment.

(実施の形態8)
本実施の形態8では、上記SFM4の他の一例を説明する。
(Embodiment 8)
In the eighth embodiment, another example of the SFM 4 will be described.

図67は本実施の形態8のSFM4の全体斜視図、図68はSFM4の配線基板4cが2層配線構成の場合におけるSFM4の裏面の平面図、図69はSFM4の配線基板4cが1層配線構成の場合におけるSFM4の裏面の平面図をそれぞれ示している。   67 is an overall perspective view of the SFM 4 of the eighth embodiment, FIG. 68 is a plan view of the back surface of the SFM 4 when the wiring board 4c of the SFM 4 has a two-layer wiring configuration, and FIG. 69 is a one-layer wiring of the wiring board 4c of the SFM 4. The top view of the back surface of SFM4 in the case of a structure is shown, respectively.

本実施の形態8では、SFM4の上面には外部端子が配置されておらず、SFM4の裏面(配線基板4cの第2主面)の一端側に複数の外部端子4aが露出された状態で配置されている。図68では、複数の外部端子4aがSFM4の裏面の一端の辺に沿って直線状に並んで配置されている。図69では、複数の外部端子4aがSFM4の裏面の一端の辺に沿って千鳥状に並んで配置されている。   In the eighth embodiment, no external terminals are arranged on the upper surface of the SFM 4, and a plurality of external terminals 4 a are exposed on one end side of the back surface (second main surface of the wiring board 4 c) of the SFM 4. Has been. In FIG. 68, the plurality of external terminals 4a are arranged in a straight line along one edge of the back surface of the SFM 4. In FIG. 69, a plurality of external terminals 4a are arranged in a staggered manner along one edge of the back surface of the SFM 4.

次に、図70は配線基板4cが2層配線構成の場合の本実施の形態8のSFM4の内部を上面側から透かして見た全体平面図、図71は図70のSFM4の要部拡大平面図、図72は図71のX8−X8破線の断面図をそれぞれ示している。   Next, FIG. 70 is an overall plan view of the inside of the SFM 4 according to the eighth embodiment viewed through the top surface side when the wiring board 4c has a two-layer wiring configuration, and FIG. 71 is an enlarged plan view of the main part of the SFM 4 in FIG. 72 and 72 show cross-sectional views taken along the broken line X8-X8 in FIG.

この場合のSFM4の構成は、前記実施の形態1の図22〜図28で説明したのとほぼ同じである。異なるのは、前記実施の形態1で外部端子4aに相当していた配線L3部分が樹脂封止体4fにより覆われ、前記実施の形態1でテスト端子4bとしていた部分が、本実施の形態8では、テスト用および通常の回路動作用の外部端子4aになっていることである。   The configuration of the SFM 4 in this case is almost the same as that described in FIGS. 22 to 28 of the first embodiment. The difference is that the wiring L3 portion corresponding to the external terminal 4a in the first embodiment is covered with the resin sealing body 4f, and the portion used as the test terminal 4b in the first embodiment is the eighth embodiment. Then, it is the external terminal 4a for testing and normal circuit operation.

次に、図73は配線基板4cが1層配線構成の場合の本実施の形態8のSFM4の内部を上面側から透かして見た全体平面図、図74は図73のSFM4の要部拡大平面図、図75は図74のX9−X9破線の断面図をそれぞれ示している。   Next, FIG. 73 is an overall plan view of the inside of the SFM 4 according to the eighth embodiment when the wiring board 4c has a single-layer wiring configuration as seen through the top surface side, and FIG. FIG. 75 and FIG. 75 respectively show sectional views taken along the broken line X9-X9 in FIG.

この場合のSFM4の構成は、実施の形態5の図56〜図62で説明したのとほぼ同じである。異なるのは、前記実施の形態5で外部端子4aに相当していた配線L3および幅広パターンL3w部分が樹脂封止体4fにより覆われ、前記実施の形態5でテスト端子4bとしていた部分が、本実施の形態8では、テスト用および通常の回路動作用の外部端子4aになっていることである。また、その外部端子4aがSFM4の裏面の第1方向Xの一端側に寄って配置されていることである。   The configuration of the SFM 4 in this case is almost the same as that described in FIGS. 56 to 62 of the fifth embodiment. The difference is that the portion of the wiring L3 and the wide pattern L3w corresponding to the external terminal 4a in the fifth embodiment is covered with the resin sealing body 4f, and the portion used as the test terminal 4b in the fifth embodiment is In the eighth embodiment, the external terminal 4a is used for testing and normal circuit operation. Further, the external terminal 4a is arranged close to one end side in the first direction X on the back surface of the SFM 4.

次に、本実施の形態8のSFM4の実装例を説明する。図76は上記SFM4を有するカードチップ1cの内部を第1主面側から透かして見た全体平面図、図77は図76のX10−X10線の断面図をそれぞれ示している。   Next, a mounting example of the SFM 4 according to the eighth embodiment will be described. 76 is an overall plan view of the inside of the card chip 1c having the SFM 4 as seen through the first main surface side, and FIG. 77 is a sectional view taken along line X10-X10 in FIG.

このカードチップ1cの配線基板2は、前記実施の形態1の図4〜図6等で説明したのと同様の2層配線構成の配線基板とされている。ICチップ3およびSFM4の配置も前記実施の形態1で説明したのと同じである。   The wiring board 2 of the card chip 1c is a wiring board having a two-layer wiring structure similar to that described in the first embodiment with reference to FIGS. The arrangement of the IC chip 3 and the SFM 4 is the same as that described in the first embodiment.

本実施の形態8のSFM4は、その裏面(配線基板4cの第2主面)を配線基板2の第1主面に向けた状態で配線基板2の第1主面上に実装されている。SFM4の裏面の外部端子4aは、導体部45を通じて配線基板2の配線L2の電極に電気的に接続されている。導体部45は、例えば銀(Ag)ペーストや鉛(Pb)ボール等により形成されている。   The SFM 4 of the eighth embodiment is mounted on the first main surface of the wiring board 2 with its back surface (second main surface of the wiring board 4c) facing the first main surface of the wiring board 2. The external terminal 4a on the back surface of the SFM 4 is electrically connected to the electrode of the wiring L2 of the wiring board 2 through the conductor portion 45. The conductor 45 is made of, for example, silver (Ag) paste, lead (Pb) ball, or the like.

次に、図78〜図80は、SFM4の実装状態例の断面図である。図78には、SFM4が接着剤46により配線基板2に固定されている例が示されている。接着剤46は、SFM4の裏面(配線基板4cの第2主面)の上記外部端子4aが配置されている端部とは反対側の端部側において、SFM4の裏面と配線基板2の第1主面との間に介在されている。   Next, FIGS. 78 to 80 are cross-sectional views of examples of mounting states of the SFM 4. FIG. 78 shows an example in which the SFM 4 is fixed to the wiring board 2 with the adhesive 46. The adhesive 46 is formed on the back surface of the SFM 4 and the first surface of the wiring board 2 on the side of the back surface of the SFM 4 (the second main surface of the wiring board 4c) opposite to the end where the external terminals 4a are disposed. It is interposed between the main surface.

また、図79には、SFM4がICチップ3を封止する樹脂封止体6により固定されている例が示されている。樹脂封止体6は、SFM4の外周側面下部に被覆されているとともに、SFM4の裏面と配線基板2の第1主面との対向面間に充填されている。これにより、SFM4の固定強度を向上させることができる。   FIG. 79 shows an example in which the SFM 4 is fixed by a resin sealing body 6 that seals the IC chip 3. The resin sealing body 6 is coated on the lower part of the outer peripheral side surface of the SFM 4 and is filled between the opposing surfaces of the back surface of the SFM 4 and the first main surface of the wiring board 2. Thereby, the fixed strength of SFM4 can be improved.

また、図80には、SFM4が導体部47により配線基板2に固定されている例が示されている。この場合、SFM4の裏面には、固定用の導体パターン48が形成されている。この導体パターン48は、例えば銅(Cu)からなり、配線基板4cの第2主面に配線を形成する際に同時にパターニングされている。ただし、この導体パターン48は、SFM4の回路とは電気的に分離されている。一方、配線基板2の第1主面において、上記導体パターン48が対向する位置には、固定用の導体パターン49が形成されている。この導体パターン49は、例えば銅(Cu)からなり、配線基板2の第1主面に配線を形成する際に同時にパターニングされている。ただし、この導体パターン49も回路とは電気的に分離されている。上記導体部47は、上記導体パターン48,49の間に介在されている。この導体部47は、上記導体部45と同時に形成されたもので、例えば銀(Ag)ペーストや鉛(Pb)ボール等により形成されている。このようにSFM4と配線基板2とを導体部47により接合することにより、SFM4の固定強度をさらに向上させることができる。   FIG. 80 shows an example in which the SFM 4 is fixed to the wiring board 2 by the conductor portion 47. In this case, a fixing conductor pattern 48 is formed on the back surface of the SFM 4. The conductor pattern 48 is made of, for example, copper (Cu), and is patterned at the same time when the wiring is formed on the second main surface of the wiring board 4c. However, the conductor pattern 48 is electrically separated from the circuit of the SFM 4. On the other hand, a fixing conductor pattern 49 is formed on the first main surface of the wiring board 2 at a position where the conductor pattern 48 faces. The conductor pattern 49 is made of, for example, copper (Cu), and is patterned at the same time when the wiring is formed on the first main surface of the wiring board 2. However, this conductor pattern 49 is also electrically separated from the circuit. The conductor portion 47 is interposed between the conductor patterns 48 and 49. The conductor portion 47 is formed at the same time as the conductor portion 45, and is formed of, for example, a silver (Ag) paste or a lead (Pb) ball. In this way, by bonding the SFM 4 and the wiring board 2 by the conductor portion 47, the fixing strength of the SFM 4 can be further improved.

本実施の形態8においても、機能および信頼性の高いカードチップ1cを効率よく提供できる。   Also in the eighth embodiment, the card chip 1c having high function and reliability can be efficiently provided.

(実施の形態9)
本実施の形態9では、前記実施の形態8のSFM4を実装するカードチップ1cの配線基板2が1層配線構成の場合の一例を説明する。
(Embodiment 9)
In the ninth embodiment, an example in which the wiring board 2 of the card chip 1c on which the SFM 4 of the eighth embodiment is mounted has a one-layer wiring configuration will be described.

図81は本実施の形態9のカードチップ1cの内部を第1主面側から透かして見た全体平面図、図82は図81のX11−X11線の断面図をそれぞれ示している。   81 is an overall plan view of the inside of the card chip 1c of the ninth embodiment viewed through the first main surface side, and FIG. 82 is a sectional view taken along line X11-X11 in FIG.

このカードチップ1cの配線基板2は、前記実施の形態2の図47〜図49等で説明したのと同様の1層配線構成の配線基板とされている。ICチップ3およびSFM4の配置も前記実施の形態2で説明したのと同じである。   The wiring board 2 of the card chip 1c is a wiring board having a single-layer wiring structure similar to that described in FIGS. 47 to 49 of the second embodiment. The arrangement of the IC chip 3 and the SFM 4 is the same as that described in the second embodiment.

本実施の形態9のSFM4は、その裏面(配線基板4cの第2主面)を配線基板2の第1主面に向けた状態で配線基板2の第1主面上に実装されている。SFM4の裏面の外部端子4aは、配線基板2のスルーホールTH3内の導体部45を通じて配線基板2の幅広パターンCBwおよび外部接続端子CBに電気的に接続されている。導体部45は、例えば銀(Ag)ペーストや鉛(Pb)ボール等により形成されている。本実施の形態9においても前記実施の形態2と同様の効果を得ることができる。   The SFM 4 of the ninth embodiment is mounted on the first main surface of the wiring board 2 with its back surface (second main surface of the wiring board 4c) facing the first main surface of the wiring board 2. The external terminal 4a on the back surface of the SFM 4 is electrically connected to the wide pattern CBw and the external connection terminal CB of the wiring board 2 through the conductor portion 45 in the through hole TH3 of the wiring board 2. The conductor 45 is made of, for example, silver (Ag) paste, lead (Pb) ball, or the like. In the ninth embodiment, the same effect as in the second embodiment can be obtained.

また、図83は図81および図82のカードチップ1cの配線基板2の第2主面にソルダーレジストSR3を設けた場合における図81のX11−X11線の断面図を示している。この例は、前記実施の形態3で説明したのと同じである。すなわち、各外部接続端子CBの長手方向の両端部分がソルダーレジストSR3により覆われている。これにより、前記実施の形態3と同様に、カードチップ1cの外部接続端子CBの剥離を抑制または防止することができるので、外部接続端子CBの剥離による短絡不良の発生率を低減できる。   83 shows a cross-sectional view taken along the line X11-X11 in FIG. 81 when the solder resist SR3 is provided on the second main surface of the wiring board 2 of the card chip 1c in FIGS. 81 and 82. This example is the same as that described in the third embodiment. That is, both end portions in the longitudinal direction of each external connection terminal CB are covered with the solder resist SR3. As a result, as in the third embodiment, it is possible to suppress or prevent the peeling of the external connection terminal CB of the card chip 1c, and thus it is possible to reduce the occurrence rate of short circuit failure due to the peeling of the external connection terminal CB.

次に、本実施の形態9のカードチップ1cの製造方法の一例を図84〜図89により説明する。なお、図84〜図89はカードチップ1cの製造工程中における配線基板形成用のテープ15の第1主面側の要部拡大平面図を示している。   Next, an example of a method for manufacturing the card chip 1c according to the ninth embodiment will be described with reference to FIGS. 84 to 89 show enlarged views of main parts on the first main surface side of the tape 15 for forming the wiring board during the manufacturing process of the card chip 1c.

図84に示すテープ15は、例えばポリイミド樹脂等により形成された可撓性を有する平面帯状の薄い絶縁材15aをベースとして形成されており、厚さ方向に沿って互いに反対側になる第1主面と第2主面とを有している。テープ15には、その延在方向に沿って複数の上記カードチップ1cの形成領域(破線)が配置されている。このテープ15の第2主面において各カードチップ1cの形成領域には、図81等で示した外部接続端子CA,CBが配置されている。また、このテープ15の第1主面において各カードチップ1cの形成領域には、スルーホールTH3が形成されている。このスルーホールTH3からは上記外部接続端子CA,CBの裏面の一部が露出されている。   The tape 15 shown in FIG. 84 is formed using, for example, a flexible flat band-shaped thin insulating material 15a formed of, for example, polyimide resin or the like as a base, and is a first main body that is opposite to each other along the thickness direction. A surface and a second main surface. A plurality of card chip 1c forming regions (broken lines) are arranged on the tape 15 along the extending direction. In the second main surface of the tape 15, the external connection terminals CA and CB shown in FIG. 81 and the like are arranged in the formation area of each card chip 1c. Further, a through hole TH3 is formed in the formation region of each card chip 1c on the first main surface of the tape 15. A part of the back surface of the external connection terminals CA and CB is exposed from the through hole TH3.

まず、図85に示すように、テープ15の第1主面上に接着剤5を塗布した後、図86に示すように、SFM4実装領域側のスルーホールTH3内に、例えば銀ペーストまたは鉛(Pb)ボールのような導体部45を充填する。続いて、図87に示すように、テープ15の第1主面上にSFM4を実装する。この時、SFM4の外部端子4aと上記導体部45を充填したスルーホールTH3との位置を合わせた状態で、SFM4の裏面をテープ15の第1主面に押し付けて接着剤5によりテープ15に接着するとともに、SFM4の外部端子4aと、テープ15側の導体部45とを接合する。接着剤5はICチップ3の接着に用いるものを使用しても良い。   First, as shown in FIG. 85, after applying the adhesive 5 on the first main surface of the tape 15, as shown in FIG. 86, silver paste or lead (for example) is placed in the through hole TH3 on the SFM4 mounting region side. Pb) A conductor 45 such as a ball is filled. Subsequently, as shown in FIG. 87, the SFM 4 is mounted on the first main surface of the tape 15. At this time, with the position of the external terminal 4a of the SFM 4 and the through hole TH3 filled with the conductor portion 45 aligned, the back surface of the SFM 4 is pressed against the first main surface of the tape 15 and adhered to the tape 15 with the adhesive 5 At the same time, the external terminal 4a of the SFM 4 and the conductor portion 45 on the tape 15 side are joined. The adhesive 5 may be the one used for bonding the IC chip 3.

続いて、図88に示すように、ICチップ3をテープ15の第1主面上に実装した後、ICチップ3のパッドと外部接続端子CAとをスルーホールTH3を通じてワイヤW1により接続する。その後、図89に示すように、テープ15の第1主面上に、ポッティング樹脂等を塗布することにより、ICチップ3を樹脂封止体6により封止する。その後、テープ15から個々のカードチップ1c部分を切り出し、キャップ7を被せることでカードチップ1cを製造する。   Subsequently, as shown in FIG. 88, after the IC chip 3 is mounted on the first main surface of the tape 15, the pad of the IC chip 3 and the external connection terminal CA are connected by the wire W1 through the through hole TH3. Thereafter, as shown in FIG. 89, the IC chip 3 is sealed with the resin sealing body 6 by applying a potting resin or the like on the first main surface of the tape 15. Thereafter, each card chip 1c portion is cut out from the tape 15, and the cap 7 is put on to manufacture the card chip 1c.

なお、上記の例では、SFM4の実装工程において、スルーホールTH3内に導体部45を充填しておく場合について説明したが、これに限定されるものではない。図90は、実装前のSFM4の断面図を示している。SFM4の外部端子4aには、例えば鉛(Pb)ボール等からなる導体部45が予め接合されている。このSFM4の外部端子4aに接合された導体部45を、図91に示すように、スルーホールTH3を通じて外部接続端子CBに接合するようにしても良い。   In the above example, the case where the conductor portion 45 is filled in the through hole TH3 in the mounting process of the SFM 4 has been described. However, the present invention is not limited to this. FIG. 90 shows a cross-sectional view of the SFM 4 before mounting. A conductor portion 45 made of, for example, a lead (Pb) ball or the like is joined to the external terminal 4a of the SFM 4 in advance. The conductor portion 45 joined to the external terminal 4a of the SFM 4 may be joined to the external connection terminal CB through the through hole TH3 as shown in FIG.

このように本実施の形態9においても、予め用意されたSFM4をテープ15に実装するだけで良いので、ICカードの機能とメモリカードの機能との両方の機能を具備する、機能および信頼性の高いカードチップ1cを効率良く提供することができる。なお、各工程は、テープ15を送りながら各ステージで行う。   As described above, also in the ninth embodiment, since it is only necessary to mount the SFM 4 prepared in advance on the tape 15, both functions of the IC card and the function of the memory card are provided. A high card chip 1c can be provided efficiently. Each process is performed at each stage while feeding the tape 15.

(実施の形態10)
本実施の形態10では、前記実施の形態8のSFM4を用いたカードチップ1cにおいて、ICチップ3とSFM4との配置を逆にする場合の一例を説明する。
(Embodiment 10)
In the tenth embodiment, an example in which the arrangement of the IC chip 3 and the SFM 4 is reversed in the card chip 1c using the SFM 4 of the eighth embodiment will be described.

図92は本実施の形態10のカードチップ1cの内部を第1主面側から透かして見た全体平面図、図93は図92のSFM4の全体平面図をそれぞれ簡単化して示している。   FIG. 92 is an overall plan view of the inside of the card chip 1c according to the tenth embodiment viewed through the first main surface side, and FIG. 93 is a simplified overall plan view of the SFM 4 in FIG.

本実施の形態10のカードチップ1cでは、前記実施の形態6,7と同様に、配線基板2の第1主面上においてICチップ3用の外部接続端子CAの真裏にSFM4が配置され、配線基板2の第1主面上においてSFM4用の外部接続端子CB側にICチップ3が配置されている。本実施の形態10のSFM4の配線基板4cには、ICチップ3とカードチップ1cの第2主面の外部接続端子CAとを電気的に接続するための電源用または信号用あるいはその両方の配線経路が形成されている。   In the card chip 1c of the tenth embodiment, the SFM 4 is arranged on the first main surface of the wiring board 2 directly behind the external connection terminal CA for the IC chip 3 in the same manner as in the sixth and seventh embodiments. On the first main surface of the substrate 2, the IC chip 3 is disposed on the side of the external connection terminal CB for SFM4. Wiring for power supply and / or signal for electrically connecting IC chip 3 and external connection terminal CA on the second main surface of card chip 1c is provided on wiring board 4c of SFM 4 of the tenth embodiment. A path is formed.

すなわち、ICチップ3のパッドはワイヤW1を通じて、カードチップ1cの配線基板2の第1主面上の配線L7に電気的に接続されている。この配線L7は、SFM4の裏面の外部端子4aiに電気的に接続されている。外部端子4aiの構成は前記実施の形態8等で説明した外部端子4aと同じであるが、この外部端子4aiは、SFM4の配線基板4cの第1主面上に形成された配線L3iを通じて配線基板4cの第2主面の外部端子4giに電気的に接続されている。外部端子4giの構成は、上記外部端子4aiと同じである。この外部端子4giは、カードチップ1cの配線基板2の第1主面上の上記配線L1に電気的に接続され、さらに上記スルーホールTH1内の導体部を通じて配線基板2の第2主面の外部接続端子CAに電気的に接続されている。   That is, the pad of the IC chip 3 is electrically connected to the wiring L7 on the first main surface of the wiring board 2 of the card chip 1c through the wire W1. The wiring L7 is electrically connected to the external terminal 4ai on the back surface of the SFM 4. The configuration of the external terminal 4ai is the same as that of the external terminal 4a described in the eighth embodiment, etc., but this external terminal 4ai is connected to the wiring board through the wiring L3i formed on the first main surface of the wiring board 4c of the SFM4. 4c is electrically connected to the external terminal 4gi on the second main surface. The configuration of the external terminal 4gi is the same as that of the external terminal 4ai. The external terminal 4gi is electrically connected to the wiring L1 on the first main surface of the wiring board 2 of the card chip 1c, and further outside the second main surface of the wiring board 2 through the conductor portion in the through hole TH1. It is electrically connected to the connection terminal CA.

本実施の形態10の場合もSFM4には、ICチップ3用の全ての外部接続端子CAに接続される配線経路(外部端子4ai,4giおよび配線L3i)を形成しても良いし、一部の外部接続端子CAに接続される配線経路を形成しても良い。SFM4の配線基板4cに一部の外部接続端子CA用の配線経路を設ける場合は、他の外部接続端子CA用の配線経路は、前記実施の形態6で説明したように、カードチップ1cの配線基板2に設ければ良い。以上のような構成以外は、前記実施の形態8,9で説明したのと同じである。   Also in the case of the tenth embodiment, wiring paths (external terminals 4ai and 4gi and wiring L3i) connected to all the external connection terminals CA for the IC chip 3 may be formed in the SFM 4, or a part of them may be formed. A wiring path connected to the external connection terminal CA may be formed. When providing wiring paths for some external connection terminals CA on the wiring board 4c of the SFM 4, the wiring paths for other external connection terminals CA are the wiring of the card chip 1c as described in the sixth embodiment. It may be provided on the substrate 2. The configuration other than the above is the same as described in the eighth and ninth embodiments.

このような本実施の形態10では、前記実施の形態6と同様に、SFM4の大面積化に対応できる。また、前記実施の形態6に比べて、ICチップ3から外部接続端子CAまでの配線長を短くできる(配線L3iの長さを短くできる上、ワイヤW1の長さも短くできる)ので、配線抵抗や寄生容量を低減でき、ICチップ3の動作性能および信頼性を確保することができる。また、前記実施の形態6に比べて、ICチップ3用の配線経路の引き回しを容易にすることができる。   In this tenth embodiment, as in the sixth embodiment, it is possible to cope with an increase in the area of the SFM 4. Further, compared to the sixth embodiment, the wiring length from the IC chip 3 to the external connection terminal CA can be shortened (the length of the wiring L3i can be shortened and the length of the wire W1 can be shortened). The parasitic capacitance can be reduced, and the operation performance and reliability of the IC chip 3 can be ensured. In addition, the wiring route for the IC chip 3 can be easily routed compared to the sixth embodiment.

以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。   As mentioned above, the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiment. However, the present invention is not limited to the embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明をその背景となった利用分野であるSIMカードに適用した場合について説明したが、それに限定されるものではなく種々適用可能であり、例えば他のICカードにも適用できる。   In the above description, the case where the invention made mainly by the present inventor is applied to the SIM card, which is the field of use behind the present invention, has been described. However, the present invention is not limited to this and can be applied in various ways. It can also be applied to cards.

本発明の半導体装置は、カード型情報媒体に用いる半導体装置の製造業に適用できる。   The semiconductor device of the present invention can be applied to the manufacturing industry of semiconductor devices used for card type information media.

Claims (17)

(a)厚さ方向に沿って互いに反対側となる第1面および第2面を有する配線基板と、
(b)前記配線基板の第1面に実装され、メモリ回路およびその動作を制御する制御回路を有する半導体チップと、
(c)前記半導体チップを封止するように前記配線基板の第1面に被覆された樹脂封止体とを備え、
前記配線基板の第1面の一部には前記半導体チップと電気的に接続される複数の端子が配置されており、前記複数の端子の少なくとも1つの端子の一部は前記樹脂封止体の外に露出されていることを特徴とする半導体装置。
(A) a wiring board having a first surface and a second surface opposite to each other along the thickness direction;
(B) a semiconductor chip mounted on the first surface of the wiring board and having a memory circuit and a control circuit for controlling its operation;
(C) a resin sealing body coated on the first surface of the wiring board so as to seal the semiconductor chip;
A plurality of terminals electrically connected to the semiconductor chip are disposed on a part of the first surface of the wiring board, and at least a part of the plurality of terminals is formed of the resin sealing body. A semiconductor device which is exposed to the outside.
請求項1記載の半導体装置において、前記複数の端子の少なくとも1つの端子は、前記配線基板に形成された接続孔を通じて、前記配線基板の第2面に配置されたテスト用の端子に電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。   2. The semiconductor device according to claim 1, wherein at least one terminal of the plurality of terminals is electrically connected to a test terminal disposed on the second surface of the wiring board through a connection hole formed in the wiring board. A semiconductor device which is connected. 請求項1記載の半導体装置において、前記複数の端子の少なくとも1つの端子の一部は、前記配線基板に形成された接続孔を通じて、前記配線基板の第2面に露出されており、その露出部分がテスト用の端子とされていることを特徴とする半導体装置。   2. The semiconductor device according to claim 1, wherein a part of at least one of the plurality of terminals is exposed on a second surface of the wiring board through a connection hole formed in the wiring board, and the exposed portion thereof. Is a terminal for testing. 請求項1記載の半導体装置において、前記複数の端子の少なくとも1つの端子は、幅の異なる領域を有することを特徴とする半導体装置。   2. The semiconductor device according to claim 1, wherein at least one terminal of the plurality of terminals has regions having different widths. 請求項4記載の半導体装置において、前記幅の異なる領域を有する端子は、前記配線基板に形成され、前記端子の一部に配置された接続孔を通じて、前記配線基板の第2面に配置されたテスト用の端子に電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。   5. The semiconductor device according to claim 4, wherein the terminals having the regions having different widths are formed on the wiring board, and are arranged on the second surface of the wiring board through connection holes arranged in a part of the terminals. A semiconductor device, wherein the semiconductor device is electrically connected to a test terminal. 請求項5記載の半導体装置において、前記端子の前記接続孔の配置領域以外にボンディングワイヤが接続されることを特徴とする半導体装置。   6. The semiconductor device according to claim 5, wherein a bonding wire is connected to a region other than an arrangement region of the connection hole of the terminal. 請求項1記載の半導体装置において、
前記半導体チップは、前記メモリ回路が形成された第1半導体チップと、前記制御回路が形成された第2半導体チップとを、前記第1半導体チップ上に前記第2半導体チップが積層された状態で有しており、
前記第1半導体チップの所望の端子と、前記第2半導体チップの所望の端子とが、それぞれボンディングワイヤを介して前記配線基板の第1面の同一の配線に電気的に接続される接続構成を有することを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
The semiconductor chip includes a first semiconductor chip in which the memory circuit is formed and a second semiconductor chip in which the control circuit is formed in a state where the second semiconductor chip is stacked on the first semiconductor chip. Have
A connection configuration in which a desired terminal of the first semiconductor chip and a desired terminal of the second semiconductor chip are electrically connected to the same wiring on the first surface of the wiring board via bonding wires, respectively. A semiconductor device comprising:
請求項1記載の半導体装置において、
前記半導体チップは、前記メモリ回路が形成された第1半導体チップと、前記制御回路が形成された第2半導体チップとを、前記第1半導体チップ上に前記第2半導体チップが積層された状態で有しており、
前記第2半導体チップの所望の端子はボンディングワイヤを通じて前記第1半導体チップの所望の端子と電気的に接続され、前記第1半導体チップの前記所望の端子はボンディングワイヤを通じて前記配線基板の第1面の前記複数の端子のうちの所望の端子に電気的に接続される接続構成を有することを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
The semiconductor chip includes a first semiconductor chip in which the memory circuit is formed and a second semiconductor chip in which the control circuit is formed in a state where the second semiconductor chip is stacked on the first semiconductor chip. Have
The desired terminal of the second semiconductor chip is electrically connected to the desired terminal of the first semiconductor chip through a bonding wire, and the desired terminal of the first semiconductor chip is connected to the first surface of the wiring board through the bonding wire. A semiconductor device having a connection configuration electrically connected to a desired terminal among the plurality of terminals.
請求項1記載の半導体装置において、前記配線基板の第1面の前記複数の端子は、前記メモリ回路と前記制御回路とで形成されるメモリカード回路用の端子のみとされていることを特徴とする半導体装置。   2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the plurality of terminals on the first surface of the wiring board are only terminals for a memory card circuit formed by the memory circuit and the control circuit. Semiconductor device. 請求項1記載の半導体装置において、前記配線基板の第1面の前記複数の端子の中には、ICカード回路用の外部端子に電気的に接続される端子が配置されていることを特徴とする半導体装置。   2. The semiconductor device according to claim 1, wherein a terminal electrically connected to an external terminal for an IC card circuit is disposed among the plurality of terminals on the first surface of the wiring board. Semiconductor device. (a)厚さ方向に沿って互いに反対側となる第1面および第2面を有する配線基板と、
(b)前記配線基板の第1面に実装され、メモリ回路およびその動作を制御する制御回路を有する半導体チップと、
(c)前記半導体チップを封止するように前記配線基板の第1面に被覆された樹脂封止体とを備え、
前記配線基板の第2面には前記半導体チップと電気的に接続される複数の端子が前記配線基板の第2面の片側外周に沿うように配置されていることを特徴とする半導体装置。
(A) a wiring board having a first surface and a second surface opposite to each other along the thickness direction;
(B) a semiconductor chip mounted on the first surface of the wiring board and having a memory circuit and a control circuit for controlling its operation;
(C) a resin sealing body coated on the first surface of the wiring board so as to seal the semiconductor chip;
A semiconductor device, wherein a plurality of terminals electrically connected to the semiconductor chip are arranged on the second surface of the wiring board so as to extend along one outer periphery of the second surface of the wiring board.
請求項11記載の半導体装置において、
前記半導体チップは、前記メモリ回路が形成された第1半導体チップと、前記制御回路が形成された第2半導体チップとを、前記第1半導体チップ上に前記第2半導体チップが積層された状態で有しており、
前記第1半導体チップの所望の端子と、前記第2半導体チップの所望の端子とが、それぞれボンディングワイヤを介して前記配線基板の第1面に配置された同一の配線に電気的に接続される接続構成を有することを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 11.
The semiconductor chip includes a first semiconductor chip in which the memory circuit is formed and a second semiconductor chip in which the control circuit is formed in a state where the second semiconductor chip is stacked on the first semiconductor chip. Have
The desired terminal of the first semiconductor chip and the desired terminal of the second semiconductor chip are electrically connected to the same wiring arranged on the first surface of the wiring board via bonding wires, respectively. A semiconductor device having a connection structure.
請求項11記載の半導体装置において、
前記半導体チップは、前記メモリ回路が形成された第1半導体チップと、前記制御回路が形成された第2半導体チップとを、前記第1半導体チップ上に前記第2半導体チップが積層された状態で有しており、
前記第2半導体チップの所望の端子はボンディングワイヤを通じて前記第1半導体チップの所望の端子と電気的に接続され、前記第1半導体チップの前記所望の端子はボンディングワイヤを通じて前記配線基板の第1面の所望の端子に電気的に接続される接続構成を有することを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 11.
The semiconductor chip includes a first semiconductor chip in which the memory circuit is formed and a second semiconductor chip in which the control circuit is formed in a state where the second semiconductor chip is stacked on the first semiconductor chip. Have
The desired terminal of the second semiconductor chip is electrically connected to the desired terminal of the first semiconductor chip through a bonding wire, and the desired terminal of the first semiconductor chip is connected to the first surface of the wiring board through the bonding wire. A semiconductor device having a connection structure electrically connected to a desired terminal.
請求項11記載の半導体装置において、前記配線基板の第2面の前記複数の端子は、前記メモリ回路と前記制御回路とで形成されるメモリカード回路用の端子のみとされていることを特徴とする半導体装置。   12. The semiconductor device according to claim 11, wherein the plurality of terminals on the second surface of the wiring board are only terminals for a memory card circuit formed by the memory circuit and the control circuit. Semiconductor device. 請求項11記載の半導体装置において、前記配線基板の第2面の前記複数の端子の中には、ICカード回路用の外部端子に電気的に接続される端子が配置されていることを特徴とする半導体装置。   12. The semiconductor device according to claim 11, wherein a terminal electrically connected to an external terminal for an IC card circuit is disposed among the plurality of terminals on the second surface of the wiring board. Semiconductor device. (a)厚さ方向に沿って互いに反対側となる第1面および第2面を有する配線基板と、
(b)前記配線基板の第1面に実装され、メモリ回路およびその動作を制御する制御回路を有する半導体チップと、
(c)前記半導体チップを封止するように前記配線基板の第1面に被覆された樹脂封止体とを備え、
前記配線基板の第2面には前記半導体チップと電気的に接続される複数の端子が配置されており、
前記配線基板の第2面の前記複数の端子の中には、ICカード回路用の外部端子に電気的に接続される端子が配置されていることを特徴とする半導体装置。
(A) a wiring board having a first surface and a second surface opposite to each other along the thickness direction;
(B) a semiconductor chip mounted on the first surface of the wiring board and having a memory circuit and a control circuit for controlling its operation;
(C) a resin sealing body coated on the first surface of the wiring board so as to seal the semiconductor chip;
A plurality of terminals electrically connected to the semiconductor chip are arranged on the second surface of the wiring board,
Among the plurality of terminals on the second surface of the wiring board, a terminal electrically connected to an external terminal for an IC card circuit is disposed.
請求項16記載の半導体装置において、
前記半導体チップは、前記メモリ回路が形成された第1半導体チップと、前記制御回路が形成された第2半導体チップとを、前記第1半導体チップ上に前記第2半導体チップが積層された状態で有しており、
前記第1、第2半導体チップの端子は、ボンディングワイヤを通じて、前記配線基板の第1面に配置された複数の端子と電気的に接続される接続構成を有しており、
前記配線基板の第1面の前記複数の端子は、前記配線基板に形成された接続孔を通じて、前記配線基板の第2面の前記複数の端子に電気的に接続されていることを特徴とする半導体装置。
The semiconductor device according to claim 16.
The semiconductor chip includes a first semiconductor chip in which the memory circuit is formed and a second semiconductor chip in which the control circuit is formed in a state where the second semiconductor chip is stacked on the first semiconductor chip. Have
The terminals of the first and second semiconductor chips have a connection structure that is electrically connected to a plurality of terminals disposed on the first surface of the wiring board through bonding wires,
The plurality of terminals on the first surface of the wiring board are electrically connected to the plurality of terminals on the second surface of the wiring board through connection holes formed in the wiring board. Semiconductor device.
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