JPS6453460U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6453460U JPS6453460U JP14820687U JP14820687U JPS6453460U JP S6453460 U JPS6453460 U JP S6453460U JP 14820687 U JP14820687 U JP 14820687U JP 14820687 U JP14820687 U JP 14820687U JP S6453460 U JPS6453460 U JP S6453460U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- spacer
- valve
- needle valve
- rear end
- tip
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000000446 fuel Substances 0.000 claims description 10
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 10
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 7
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 7
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims 2
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
Landscapes
- Fuel-Injection Apparatus (AREA)
Description
第１図ないし第３図はこの考案の一実施例を示
し、第１図Ａはその閉弁時の状態を示す縦断面図
、第１図Ｂは針弁のリフト量が距離４より大き
く、距離３より小さい状態を示す縦断面図、第
１図Ｃは針弁のリフト量が距離３より大きい状
態を示す縦断面図、第２図、第３図はそれぞれ第
１図Ａの−線、−線に沿う矢視断面図、
第４図は従来の燃料噴射ノズルの一例を示し、第
４図Ａ，Ｂ，Ｃはそれぞれ第１図Ａ，Ｂ，Ｃと同
様の断面図、第５図は針弁のリフト特性を示す図
、第６図は低速回転時における燃料噴射率特性を
示す図である。 １……ノズル本体、２……針弁、２ａ……針弁
本体、２ｂ……プツシユロツド、３……スペーサ
、１１……弁収納孔、１２……燃料溜まり室、１
３……弁座、１４……燃料噴射口、２１……弁部
、２３………凹部、２４……平取り部（通路）、
３１……貫通孔。
し、第１図Ａはその閉弁時の状態を示す縦断面図
、第１図Ｂは針弁のリフト量が距離４より大き
く、距離３より小さい状態を示す縦断面図、第
１図Ｃは針弁のリフト量が距離３より大きい状
態を示す縦断面図、第２図、第３図はそれぞれ第
１図Ａの−線、−線に沿う矢視断面図、
第４図は従来の燃料噴射ノズルの一例を示し、第
４図Ａ，Ｂ，Ｃはそれぞれ第１図Ａ，Ｂ，Ｃと同
様の断面図、第５図は針弁のリフト特性を示す図
、第６図は低速回転時における燃料噴射率特性を
示す図である。 １……ノズル本体、２……針弁、２ａ……針弁
本体、２ｂ……プツシユロツド、３……スペーサ
、１１……弁収納孔、１２……燃料溜まり室、１
３……弁座、１４……燃料噴射口、２１……弁部
、２３………凹部、２４……平取り部（通路）、
３１……貫通孔。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 内部に後端側から先端側へ向かつて弁挿入
孔、燃料溜まり室、弁座および燃料噴射孔が順次
設けられたノズル本体と、このノズル本体の弁挿
入孔に摺動可能に設けられ、前記弁座に対して接
触・離間する弁部が先端部に設けられた針弁とを
備えた燃料噴射ノズルにおいて、前記ノズル本体
の後端部に、このノズル本体と別体に形成され、
前記針弁の後端部が摺動自在にかつ液密に嵌合す
る貫通孔を有するスペーサを固定し、このスペー
サの貫通孔に嵌合する針弁の後端部外周面に、針
弁の軸線方向におけるスペーサの厚さよりも幅が
広く、かつ針弁の弁部が前記弁座に接触している
際に先端縁が前記スペーサの先端面よりも先端側
に位置し、後端縁が前記スペーサの後端面よりも
先端側に位置する凹部を形成し、さらに前記ノズ
ル本体と前記針弁との少なくともいずれか一方に
一端が前記燃料溜まり室に連通し、他端が前記凹
部の先端縁と前記スペーサの先端面との間を介し
て前記凹部に連通する通路を形成したことを特徴
とする燃料噴射ノズル。 (2) 前記スペーサの貫通孔に嵌合する針弁の後
端部が針弁の先端部と別体に形成されていること
を特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項に記
載の燃料噴射ノズル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14820687U JPS6453460U (ja) | 1987-09-30 | 1987-09-30 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14820687U JPS6453460U (ja) | 1987-09-30 | 1987-09-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6453460U true JPS6453460U (ja) | 1989-04-03 |
Family
ID=31419317
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14820687U Pending JPS6453460U (ja) | 1987-09-30 | 1987-09-30 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6453460U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7276730B2 (en) | 1998-12-28 | 2007-10-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device having a pixel matrix circuit that includes a pixel TFT and a storage capacitor |
| US7423291B2 (en) | 1994-04-29 | 2008-09-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and electronic device |
-
1987
- 1987-09-30 JP JP14820687U patent/JPS6453460U/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7423291B2 (en) | 1994-04-29 | 2008-09-09 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and electronic device |
| US7276730B2 (en) | 1998-12-28 | 2007-10-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device having a pixel matrix circuit that includes a pixel TFT and a storage capacitor |